JP3535637B2 - シス−３，３，５−トリメチルシクロヘキサノールの製造方法 - Google Patents
シス−３，３，５−トリメチルシクロヘキサノールの製造方法Info
- Publication number
- JP3535637B2 JP3535637B2 JP31163795A JP31163795A JP3535637B2 JP 3535637 B2 JP3535637 B2 JP 3535637B2 JP 31163795 A JP31163795 A JP 31163795A JP 31163795 A JP31163795 A JP 31163795A JP 3535637 B2 JP3535637 B2 JP 3535637B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- trimethylcyclohexanol
- cis
- reaction
- catalyst
- acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、シス−３，３，５
−トリメチルシクロヘキサノールの製造方法に関する。
さらに詳しくは、３，３，５−トリメチルシクロヘキサ
ノン（別名、ジヒドロイソホロン）または３，３，５−
トリメチルシクロヘキセノン（別名、イソホロン）を接
触水添反応し、ついで酸の存在下に３，３，５−トリメ
チルシクロヘキサノールのトランス体を選択的に除去
し、シス体の存在比をさらに高めるシス−３，３，５−
トリメチルシクロヘキサノールの製造方法に関する。
−トリメチルシクロヘキサノールの製造方法に関する。
さらに詳しくは、３，３，５−トリメチルシクロヘキサ
ノン（別名、ジヒドロイソホロン）または３，３，５−
トリメチルシクロヘキセノン（別名、イソホロン）を接
触水添反応し、ついで酸の存在下に３，３，５−トリメ
チルシクロヘキサノールのトランス体を選択的に除去
し、シス体の存在比をさらに高めるシス−３，３，５−
トリメチルシクロヘキサノールの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】シス−３，３，５−トリメチルシクロヘ
キサノールは、原料物質として、例えば医薬品等の合成
中間体として有用な物質である。近年３，３，５−トリ
メチルシクロヘキサノールのシス体およびトランス体の
中でもシス体に対する要望が強い。イソホロンを接触水
添して３，３，５−トリメチルシクロヘキサノールを得
る方法は従来から知られている。例えば、特公昭４７−
４１３４７号公報等に開示されている。得られた生成物
はシス体とトランス体との混合物である。また、トラン
ス体からシス体への異性化反応については、ナトリウム
金属と加熱する方法（Chem,Ber,92,1130■1134(195
9))、アルミニウムイソプロボキシド触媒を用いる方法
(J.Org.Chem,26,3504■3506(1061))、アルカリ金属水酸
化物およびラネー系触媒の存在下に３，３，５−トリメ
チルシクロヘキサノールを生成させ、そのまま反応条件
を保持してトランス体からシス体への異性化反応を進め
る方法（特開昭６２−１１１９４０号公報）等が報告さ
れている。
キサノールは、原料物質として、例えば医薬品等の合成
中間体として有用な物質である。近年３，３，５−トリ
メチルシクロヘキサノールのシス体およびトランス体の
中でもシス体に対する要望が強い。イソホロンを接触水
添して３，３，５−トリメチルシクロヘキサノールを得
る方法は従来から知られている。例えば、特公昭４７−
４１３４７号公報等に開示されている。得られた生成物
はシス体とトランス体との混合物である。また、トラン
ス体からシス体への異性化反応については、ナトリウム
金属と加熱する方法（Chem,Ber,92,1130■1134(195
9))、アルミニウムイソプロボキシド触媒を用いる方法
(J.Org.Chem,26,3504■3506(1061))、アルカリ金属水酸
化物およびラネー系触媒の存在下に３，３，５−トリメ
チルシクロヘキサノールを生成させ、そのまま反応条件
を保持してトランス体からシス体への異性化反応を進め
る方法（特開昭６２−１１１９４０号公報）等が報告さ
れている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
方法は一般的にシス選択性が低く、あるいは操作が繁雑
であり、好ましい方法とは言えないものであった。本発
明は、シス選択性が高く、好収率、好純度にシス−３，
３，５−トリメチルシクロヘキサノールを得る方法の提
供を目的とする。
方法は一般的にシス選択性が低く、あるいは操作が繁雑
であり、好ましい方法とは言えないものであった。本発
明は、シス選択性が高く、好収率、好純度にシス−３，
３，５−トリメチルシクロヘキサノールを得る方法の提
供を目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、下記ａおよび
ｂの工程からなることを特徴とするシス−３，３，５−
トリメチルシクロヘキサノールの製造方法を提供する。 a． ３，３，５−トリメチルシクロヘキサノンまたは
３，３，５−トリメチルシクロヘキセノンを接触還元用
触媒の存在下に接触水添反応させて得られた反応混合物
を、同条件下に反応を継続してシス体リッチの３，３，
５−トリメチルシクロヘキサノールを得る工程、 ｂ． 酸触媒の存在下に、３，３，５−トリメチルシク
ロヘキサノールのトランス体を選択的に除去し、シス体
の存在比をさらに高める工程。
ｂの工程からなることを特徴とするシス−３，３，５−
トリメチルシクロヘキサノールの製造方法を提供する。 a． ３，３，５−トリメチルシクロヘキサノンまたは
３，３，５−トリメチルシクロヘキセノンを接触還元用
触媒の存在下に接触水添反応させて得られた反応混合物
を、同条件下に反応を継続してシス体リッチの３，３，
５−トリメチルシクロヘキサノールを得る工程、 ｂ． 酸触媒の存在下に、３，３，５−トリメチルシク
ロヘキサノールのトランス体を選択的に除去し、シス体
の存在比をさらに高める工程。
【０００５】
【発明の実施の形態】本発明は、イソホロンあるいはジ
ヒドロイソホロンの接触水添反応に引き続き同条件下で
トランス体からシス体への異性化反応を進めてシス体リ
ッチの３，３，５−トリメチルシクロヘキサノールを得
（ａ工程）、ついで酸触媒の存在下にトランス体を選択
的に除去し、シス体の存在比を高める（ｂ工程）もので
ある。接触水添反応の終了有無は、水素の吸収有無で判
断される。本発明で使用される接触還元用触媒として
は、ルテニウム−カーボン、ルテニウム−アルミナ等の
ルテニウム系触媒が好適である。触媒使用量は、イソホ
ロンあるいはジヒドロイソホロンに対し一般に１〜５重
量％が好適である。接触水添反応時における水素分圧
は、５〜１００ｋｇ／ｃｍ2、好ましくは５〜３０ｋｇ
／ｃｍ2である。水素分圧の大小は、接触水添反応ある
いは引き続く異性化反応の遅速に影響するので上記範囲
から適宜選択することが必要である。反応温度は０〜３
００℃、好ましくは８０〜１８０℃である。上記範囲よ
りも低い温度では反応速度が遅く、高い温度では脱離反
応等の副反応が生ずる等の理由により好ましくない。
ヒドロイソホロンの接触水添反応に引き続き同条件下で
トランス体からシス体への異性化反応を進めてシス体リ
ッチの３，３，５−トリメチルシクロヘキサノールを得
（ａ工程）、ついで酸触媒の存在下にトランス体を選択
的に除去し、シス体の存在比を高める（ｂ工程）もので
ある。接触水添反応の終了有無は、水素の吸収有無で判
断される。本発明で使用される接触還元用触媒として
は、ルテニウム−カーボン、ルテニウム−アルミナ等の
ルテニウム系触媒が好適である。触媒使用量は、イソホ
ロンあるいはジヒドロイソホロンに対し一般に１〜５重
量％が好適である。接触水添反応時における水素分圧
は、５〜１００ｋｇ／ｃｍ2、好ましくは５〜３０ｋｇ
／ｃｍ2である。水素分圧の大小は、接触水添反応ある
いは引き続く異性化反応の遅速に影響するので上記範囲
から適宜選択することが必要である。反応温度は０〜３
００℃、好ましくは８０〜１８０℃である。上記範囲よ
りも低い温度では反応速度が遅く、高い温度では脱離反
応等の副反応が生ずる等の理由により好ましくない。
【０００６】接触水添反応および引き続く選択除去反応
においては、溶媒の使用を特に必要とはしない。しかし
ながら、反応容器からの反応生成物の取り出し、あるい
は触媒の濾別を実施するためには、溶媒を使用すること
が好ましい。溶媒としては、トルエン、キシレン等が好
ましく例示される。その使用量は、出発原料に対し２０
〜２００重量％の範囲が好ましい。本発明においては、
上記接触水添反応、引き続く異性化反応（ａ工程）に加
えて、酸触媒の存在下に、３，３，５−トリメチルシク
ロヘキサノールのトランス体からシス体への選択除去反
応（ｂ工程）を実施する。接触水添反応と引き続く異性
化反応を行うａ工程のみでは、トランス体に対するシス
体の比率は、特開昭６２−１１９４０号公報に報告され
ている方法の場合には、最高８７重量％程度である。こ
のため精密蒸留等の複雑な精製操作を実施する必要があ
る。しかし３，３，５−トリメチルシクロヘキサノール
は固体であり、蒸留中に固化するなどの問題が発生し易
い。本発明は選択除去反応（ｂ）工程を実施することに
より、シス体比率を高め、精製操作を容易簡便ならしめ
ると共に、出発原料からの収率を高めようとするもので
ある。本発明においては、ａ工程で使用する触媒の種類
を選択することにより、ａ工程終了後のシス体比率をよ
り一層高めることもできる。
においては、溶媒の使用を特に必要とはしない。しかし
ながら、反応容器からの反応生成物の取り出し、あるい
は触媒の濾別を実施するためには、溶媒を使用すること
が好ましい。溶媒としては、トルエン、キシレン等が好
ましく例示される。その使用量は、出発原料に対し２０
〜２００重量％の範囲が好ましい。本発明においては、
上記接触水添反応、引き続く異性化反応（ａ工程）に加
えて、酸触媒の存在下に、３，３，５−トリメチルシク
ロヘキサノールのトランス体からシス体への選択除去反
応（ｂ工程）を実施する。接触水添反応と引き続く異性
化反応を行うａ工程のみでは、トランス体に対するシス
体の比率は、特開昭６２−１１９４０号公報に報告され
ている方法の場合には、最高８７重量％程度である。こ
のため精密蒸留等の複雑な精製操作を実施する必要があ
る。しかし３，３，５−トリメチルシクロヘキサノール
は固体であり、蒸留中に固化するなどの問題が発生し易
い。本発明は選択除去反応（ｂ）工程を実施することに
より、シス体比率を高め、精製操作を容易簡便ならしめ
ると共に、出発原料からの収率を高めようとするもので
ある。本発明においては、ａ工程で使用する触媒の種類
を選択することにより、ａ工程終了後のシス体比率をよ
り一層高めることもできる。
【０００７】好ましく使用される酸触媒としては、塩
酸、硫酸、リン酸、ｐ−トルエンスルホン酸およびカチ
オン交換樹脂等が例示される。酸触媒使用量はイソホロ
ンあるいはジヒドロイソホロンに対し１〜１００重量
％、好ましくは２〜２０重量％である。この使用量は、
用いる酸触媒の種類により適宜選択される。弱酸の場合
使用量が少ないと反応が遅く、強酸の場合使用量が多い
と脱水反応のトランス選択性が悪くなり好ましくない。
反応溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、シ
クロヘキサン等の炭化水素系溶媒が好ましく、使用量は
原料に対して２０〜２００重量％が好適である。反応温
度は５０〜１５０℃、特に溶媒の還流温度が好ましく、
さらには反応で生成する水を共沸しながら行うと反応速
度が向上するので好ましい。得られた生成物は、従来周
知の分離、精製手段を用いることにより、純品を得るこ
とができる。例えば、濾過、蒸留、再結晶等である。
酸、硫酸、リン酸、ｐ−トルエンスルホン酸およびカチ
オン交換樹脂等が例示される。酸触媒使用量はイソホロ
ンあるいはジヒドロイソホロンに対し１〜１００重量
％、好ましくは２〜２０重量％である。この使用量は、
用いる酸触媒の種類により適宜選択される。弱酸の場合
使用量が少ないと反応が遅く、強酸の場合使用量が多い
と脱水反応のトランス選択性が悪くなり好ましくない。
反応溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、シ
クロヘキサン等の炭化水素系溶媒が好ましく、使用量は
原料に対して２０〜２００重量％が好適である。反応温
度は５０〜１５０℃、特に溶媒の還流温度が好ましく、
さらには反応で生成する水を共沸しながら行うと反応速
度が向上するので好ましい。得られた生成物は、従来周
知の分離、精製手段を用いることにより、純品を得るこ
とができる。例えば、濾過、蒸留、再結晶等である。
【０００８】
【実施例】以下本発明を実施例に基づいてより詳細に説
明する。
明する。
【０００９】
【実施例１】容量１リットルのオートクレーブに３，
３，５−トリメチルシクロヘキサノン３００ｇ（２．１
４モル）と５％ルテニウム−カーボン（Ｒｕ−Ｃ）３ｇ
を入れ、水素分圧１０ｋｇ／ｃｍ2、５℃／ｍｉｎで昇
温を開始し、１５０℃に到達した時点から５時間で水素
の吸収は止まった。引き続き３時間同条件で保持し、異
性化を行った。約４０℃に冷却後、オートクレーブ内に
トルエン１００ｇを入れ、反応生成物のオートクレーブ
からの取り出し、触媒の濾別を実施し、濾液４００ｇを
得た。反応生成物をガスクロマトグラフで測定したとこ
ろシス体／トランス体の比率は９１．７／８．３であっ
た。次に上記の濾液４００ｇにｐ−トルエンスルホン酸
１５ｇを加え、共沸条件下に５時間加熱還流を行った。
トランス体の３，３，５−トリメチルシクロヘキサノー
ルは、シス体とトランス体の合計量に対し０．６重量％
であった。ついで反応液を濃度５重量％のソーダ灰水溶
液２００ｇ中に注入した。分液操作の後、有機層を濃度
１０重量％の塩水で洗浄し、エバポレーターで濃縮し
た。得られた濃縮液（２９０ｇ）を減圧蒸留して、シス
−３，３，５−トリメチルシクロヘキサノール２００ｇ
（収率６７重量％）を得た。
３，５−トリメチルシクロヘキサノン３００ｇ（２．１
４モル）と５％ルテニウム−カーボン（Ｒｕ−Ｃ）３ｇ
を入れ、水素分圧１０ｋｇ／ｃｍ2、５℃／ｍｉｎで昇
温を開始し、１５０℃に到達した時点から５時間で水素
の吸収は止まった。引き続き３時間同条件で保持し、異
性化を行った。約４０℃に冷却後、オートクレーブ内に
トルエン１００ｇを入れ、反応生成物のオートクレーブ
からの取り出し、触媒の濾別を実施し、濾液４００ｇを
得た。反応生成物をガスクロマトグラフで測定したとこ
ろシス体／トランス体の比率は９１．７／８．３であっ
た。次に上記の濾液４００ｇにｐ−トルエンスルホン酸
１５ｇを加え、共沸条件下に５時間加熱還流を行った。
トランス体の３，３，５−トリメチルシクロヘキサノー
ルは、シス体とトランス体の合計量に対し０．６重量％
であった。ついで反応液を濃度５重量％のソーダ灰水溶
液２００ｇ中に注入した。分液操作の後、有機層を濃度
１０重量％の塩水で洗浄し、エバポレーターで濃縮し
た。得られた濃縮液（２９０ｇ）を減圧蒸留して、シス
−３，３，５−トリメチルシクロヘキサノール２００ｇ
（収率６７重量％）を得た。
【００１０】
【実施例２】容量１リットルのオートクレーブに３，
３，５−トリメチルシクロヘキセノン３００ｇ（２．１
７モル）と５％ルテニウム−カーボン（Ｒｕ−Ｃ）３ｇ
を入れ、水素分圧１０ｋｇ／ｃｍ2、５℃／ｍｉｎで昇
温を開始し、１５０℃に到達した時点から５時間で水素
の吸収は止まった。引き続き３時間同条件で保持し、異
性化を行った。約４０℃に冷却後、オートクレーブ内に
トルエン１００ｇを入れ、反応生成物のオートクレーブ
からの取り出し、触媒の濾別を実施し、濾液４００ｇを
得た。反応生成物をガスクロマトグラフで測定したとこ
ろシス体／トランス体の比率は９２．３／７．７であっ
た。次に上記の濾液４００ｇに濃硫酸１０ｇを加え、共
沸条件下に３時間加熱還流を行った。トランス体の３，
３，５−トリメチルシクロヘキサノールは、シス体とト
ランス体の合計量に対し０．７重量％であった。ついで
反応液をソーダ灰水溶液２００ｇ中に注入した。分液操
作の後、有機層を濃度１０重量％の塩水で洗浄し、エバ
ポレーターで濃縮した。得られた濃縮液（２８５ｇ）を
減圧蒸留して、シス−３，３，５−トリメチルシクロヘ
キサノール１８０ｇ（収率６０重量％）を得た。
３，５−トリメチルシクロヘキセノン３００ｇ（２．１
７モル）と５％ルテニウム−カーボン（Ｒｕ−Ｃ）３ｇ
を入れ、水素分圧１０ｋｇ／ｃｍ2、５℃／ｍｉｎで昇
温を開始し、１５０℃に到達した時点から５時間で水素
の吸収は止まった。引き続き３時間同条件で保持し、異
性化を行った。約４０℃に冷却後、オートクレーブ内に
トルエン１００ｇを入れ、反応生成物のオートクレーブ
からの取り出し、触媒の濾別を実施し、濾液４００ｇを
得た。反応生成物をガスクロマトグラフで測定したとこ
ろシス体／トランス体の比率は９２．３／７．７であっ
た。次に上記の濾液４００ｇに濃硫酸１０ｇを加え、共
沸条件下に３時間加熱還流を行った。トランス体の３，
３，５−トリメチルシクロヘキサノールは、シス体とト
ランス体の合計量に対し０．７重量％であった。ついで
反応液をソーダ灰水溶液２００ｇ中に注入した。分液操
作の後、有機層を濃度１０重量％の塩水で洗浄し、エバ
ポレーターで濃縮した。得られた濃縮液（２８５ｇ）を
減圧蒸留して、シス−３，３，５−トリメチルシクロヘ
キサノール１８０ｇ（収率６０重量％）を得た。
【００１１】
【発明の効果】本発明によれば、シス体比率の高い３，
３，５−トリメチルシクロヘキサノールを容易に得るこ
とができる製造方法が提供される。本発明の方法によれ
ば、簡便な精製操作により、シス−３，３，５−トリメ
チルシクロヘキサノールを好収率で得ることのできる製
造方法が提供される。
３，５−トリメチルシクロヘキサノールを容易に得るこ
とができる製造方法が提供される。本発明の方法によれ
ば、簡便な精製操作により、シス−３，３，５−トリメ
チルシクロヘキサノールを好収率で得ることのできる製
造方法が提供される。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ
// Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００
(56)参考文献 特開 昭62−111940（ＪＰ，Ａ)
特開 昭48−4449（ＪＰ，Ａ)
特公 昭47−11744（ＪＰ，Ｂ１)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C07C 29/145
B01J 23/46 301
B01J 31/02 103
C07C 29/88
C07C 35/08
C07B 61/00 300
ＢＥＩＬＳＴＥＩＮ（ＳＴＮ)
ＣＡ（ＳＴＮ)
ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (3)
- 【請求項１】 下記ａおよびｂの工程からなることを特
徴とするシス−３，３，５−トリメチルシクロヘキサノ
ールの製造方法、 a． ３，３，５−トリメチルシクロヘキサノンまたは
３，３，５−トリメチルシクロヘキセノンを接触還元用
触媒の存在下に接触水添反応させて得られた反応混合物
を、同条件下に反応を継続してシス体リッチの３，３，
５−トリメチルシクロヘキサノールを得る工程、 ｂ． 酸触媒の存在下に、３，３，５−トリメチルシク
ロヘキサノールのトランス体を選択的に除去し、シス体
の存在比をさらに高める工程。 - 【請求項２】 接触還元用触媒が、ルテニウム系触媒で
ある請求項１記載のシス−３，３，５−トリメチルシク
ロヘキサノールの製造方法。 - 【請求項３】 酸触媒が、塩酸、硫酸、リン酸、ｐ−ト
ルエンスルホン酸およびカチオン交換樹脂から選ばれた
少なくとも一種である請求項１記載のシス−３，３，５
−トリメチルシクロヘキサノールの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31163795A JP3535637B2 (ja) | 1995-11-06 | 1995-11-06 | シス−３，３，５−トリメチルシクロヘキサノールの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31163795A JP3535637B2 (ja) | 1995-11-06 | 1995-11-06 | シス−３，３，５−トリメチルシクロヘキサノールの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09124528A JPH09124528A (ja) | 1997-05-13 |
| JP3535637B2 true JP3535637B2 (ja) | 2004-06-07 |
Family
ID=18019671
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31163795A Expired - Fee Related JP3535637B2 (ja) | 1995-11-06 | 1995-11-06 | シス−３，３，５−トリメチルシクロヘキサノールの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3535637B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10160009A1 (de) * | 2001-12-06 | 2003-06-18 | Haarmann & Reimer Gmbh | Verfahren zur Herstellung von 3,3,5-Trimethylcyclohexanol |
| HRP20150617T1 (hr) * | 2011-03-10 | 2015-07-03 | Zach System S.P.A. | Asimetriäśni postupak redukcije |
| CN110878003B (zh) * | 2019-09-11 | 2023-03-28 | 安徽圣诺贝化学科技有限公司 | 异佛尔醇及异佛尔醇与香芹酮联产新方法 |
-
1995
- 1995-11-06 JP JP31163795A patent/JP3535637B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09124528A (ja) | 1997-05-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN102388009B (zh) | 生产1,6-己二醇的方法 | |
| JP5161977B2 (ja) | ローズオキシドの製造方法 | |
| CN101137608B (zh) | 环己酮的制备方法 | |
| Wang et al. | Knoevenagel condensation catalyzed by USY zeolite | |
| JPH069482A (ja) | シクロヘキサノンの精製法 | |
| JPH01316330A (ja) | シクロヘキサノールおよび／またはシクロヘキサノンの製造方法 | |
| US4695660A (en) | Method of producing cyclohexyl compounds | |
| JP3535637B2 (ja) | シス−３，３，５−トリメチルシクロヘキサノールの製造方法 | |
| JP3059695B2 (ja) | シクロヘキサン酸化生成物の洗浄水から二酸を製造する方法 | |
| EP1182184B1 (en) | Process for producing tetrafluoro benzenecarbaldehydes and tetrafluoro benzenemethanols | |
| CN104761434A (zh) | 环己醇 | |
| JP2738093B2 (ja) | 第３級ブチルベンズアルデヒド異性体混合物の製造方法 | |
| JP4826709B2 (ja) | 精製アルコールの製造方法 | |
| JP2002069032A (ja) | トランス−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸の精製方法 | |
| MXPA04007730A (es) | Procedimiento para la obtencion de ciclohexanol a partir de benceno. | |
| US4088703A (en) | Recovery of phenol values from purification residues | |
| EP0053847A1 (en) | Process for the preparation of cyclohexanol and/or cyclohexanone | |
| CN112898133B (zh) | 一种反式酮类中间体的制备方法 | |
| EP4148034B1 (en) | PROCESS FOR MANUFACTURING 1,4-DIMETHYLNAPHTALENE | |
| JP3191333B2 (ja) | ３，４−ジヒドロクマリンの製造方法 | |
| JPH04253935A (ja) | ２−（４−クロルフエニル）−３−メチル酪酸の製法 | |
| JP3177420B2 (ja) | ４−メトキシ−２，２’，６’−トリメチルジフェニルアミンの製造方法 | |
| JP4288451B2 (ja) | １，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン−２−オールの製造方法 | |
| JPS63152338A (ja) | シクロヘキサノンカルボン酸類の製造方法 | |
| JP3177350B2 (ja) | ジノニルジフェニルアミンの製造法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040309 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040312 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080319 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090319 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090319 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100319 Year of fee payment: 6 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |