JP3539864B2 - Substrate cleaning device - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、洗浄ブラシ等の洗浄具を基板に接触させつつ洗浄を行う基板洗浄装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用基板等の基板の表面を洗浄するために基板洗浄装置が用いられている。基板洗浄装置では、基板の処理過程で基板の表面に付着する微粒子を純水等の洗浄液や洗浄ブラシで除去する。
【0003】
通常、ブラシ洗浄方式の基板洗浄装置では、基板を回転させつつ純水等の洗浄液を基板の表面に供給し、洗浄ブラシを自転させるかあるいは洗浄ブラシの回転を行わずに洗浄ブラシを基板に押しつけて洗浄ブラシを基板の中心部から外周部まで走査させる。これにより、基板の表面の全体が洗浄ブラシおよび洗浄液で洗浄される。
【0004】
図5は従来の基板洗浄装置の主要部の構成を示す模式図である。図5において、基板洗浄装置は、洗浄ブラシ51を保持するブラシ保持部材50がエアシリンダ52のロッド53の先端に取り付けられ、エアシリンダ52の動作により上下方向に移動可能に形成されている。
【0005】
エアシリンダ52にはエア供給管路54が接続されており、洗浄ブラシ51が基板の表面を押圧する荷重はエア供給管路54を通して供給される圧縮空気の空気圧により調整される。また、基板洗浄装置には、基板に接触する洗浄ブラシ51の荷重を検出するために、ロードセル10、ロードセルアンプ55、A/D変換器56、制御部57および表示部58が設けられている。
【0006】
ロードセル10はブラシ保持部材50が下降した際に、ブラシ保持部材50の垂下部50cの先端が当接するように配置されており、垂下部50cから受ける荷重をアナログ信号(検出信号)に変換して出力する。ロードセルアンプ55は、ロードセル10から出力された検出信号を増幅する。A/D変換器56はロードセルアンプ55で増幅されたアナログの検出信号をデジタル信号に変換して制御部57に出力する。
【0007】
制御部57は、ロードセル10からのデジタル化された検出信号に基づいて洗浄ブラシ51の荷重を算出し、表示部58に表示させる。表示部58は、洗浄ブラシ51の荷重の値を表示する。これにより、作業者は洗浄ブラシ51の荷重を確認することができる。
【0008】
また、基板の洗浄時に洗浄ブラシ51の荷重を正確に表示部58に表示させるために、予めロードセルアンプ55の出力調整が行われる。
【0009】
ロードセルアンプ55の出力調整時には、洗浄ブラシ51の下方に荷重計測器60を設置して洗浄ブラシ51の下降時における荷重を測定する。同時に、洗浄ブラシ51の荷重をロードセル10により検出し、検出した洗浄ブラシ51の荷重を表示部58に表示させる。そして、荷重計測器60による洗浄ブラシ51の荷重の実測値と表示部58に表示された洗浄ブラシ51の荷重値とを比較し、両者の値が等しくなるようにロードセルアンプ55の出力を調整する。以下、このロードセルアンプ55の出力調整動作を具体的に説明する。
【0010】
図6はロードセルの出力特性図である。図6の横軸X4はブラシ保持部材50の垂下部50cによってロードセル10に加えられる荷重を示し、縦軸はその時のロードセル10の出力電圧を示す。また、図6上端の横軸X5はロードセル10に印加される荷重に対応する洗浄ブラシ51の荷重の実測値を示している。
【0011】
洗浄ブラシ51を下降させると、洗浄ブラシ51の先端が荷重計測器60を押圧するとともに、ブラシ保持部材50の垂下部50cの先端がロードセル10を押圧する。この場合、洗浄ブラシ51と荷重計測器60との位置関係と、ブラシ保持部材50の垂下部50cの先端とロードセル10との位置関係が等しければ、洗浄ブラシ51が荷重計測器60に与える荷重と、ブラシアーム51の垂下部50cがロードセル10に与える荷重とは等しくなるが、実際には両者は異なる場合が多い。このため、ロードセル10は、ブラシ保持部材50の垂下部50cの先端から印加される荷重に応じて図6に示す出力特性に基づく出力電圧を有する検出信号をロードセルアンプ55に出力する。
【0012】
図7はロードセルアンプにおける出力電圧調整の説明図である。ロードセルアンプ55では、ロードセル10の出力特性に基づいて、洗浄ブラシ51のブラシ荷重が0gの場合にロードセルアンプ55からの出力電圧が1Vとなり、洗浄ブラシ51のブラシ荷重が200gの場合にロードセルアンプ55からの出力電圧が5Vとなる増幅率をロードセル10からの検出信号に与えるような増幅特性Aが設定されている。そして、ロードセル10からの検出信号は増幅特性Aに従って増幅される。
【0013】
例えば、ロードセル10からの検出信号の出力電圧がV1の場合、ロードセルアンプ55からの出力信号の出力電圧はV11に増幅されて出力される。このロードセルアンプ55からの出力信号はA/D変換器56においてアナログ信号からデジタル信号に変換された後制御部57に出力され、この出力信号に基づいて荷重値が算出される。そして、算出された荷重値が洗浄ブラシ51の荷重として表示部58に表示される。
【0014】
この場合、表示部58に表示された洗浄ブラシ51の荷重と、荷重計測器60により計測された洗浄ブラシ51の荷重とは異なっている。そこで、作業者は、ロードセルアンプ55のオフセット調整部を調整してロードセル10からの検出信号にオフセットXを与え、表示部58に表示された洗浄ブラシ51の荷重と荷重計測器60により計測された洗浄ブラシ51の荷重とを一致させる。これにより、ロードセルアンプ55の出力調整が終了する。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記の基板洗浄装置では、ロードセルアンプ55の出力電圧調整時において、表示部58にロードセルアンプ55の出力電圧に基づくブラシ荷重が表示できない場合があった。
【0016】
例えば、図6および図7に示すように、ロードセル10からの検出信号がV2のような場合には、ロードセルアンプ55から1V以下の出力電圧V22を有する増幅信号として出力される。このため、制御部57において、出力電圧が1V以下の増幅信号に基づいて荷重を算出すると、荷重は負の値となり、この結果、表示部58にはブラシ荷重が表示されないことになる。このため、作業者はこの時点でのブラシ荷重を確認することができないため、ロードセルアンプ55の出力電圧のオフセット調整を行うことが困難となる。
【0017】
また、図6に示すように、ロードセル10の出力特性は線形領域R1のみならず、非線形領域R2を含んでいる。これに対し、ロードセルアンプ55ではロードセル10の出力特性が線形であると仮定して増幅特性Aを設定している。このため、洗浄ブラシ51のブラシ荷重の検出にロードセル10の出力特性Aの非線形領域R2が使用されている場合には、ロードセルアンプ55からの出力値と、ロードセル10による検出値とに誤差が生じ、ブラシ荷重の検出精度が低下するおそれがある。
【0018】
本発明の目的は、洗浄ブラシの荷重検出を精度よくかつ確実に行うことが可能な基板洗浄装置を提供することである。
【0019】
【課題を解決するための手段および発明の効果】
第1の発明に係る基板洗浄装置は、基板の洗浄を行う基板洗浄装置であって、基板を保持する基板保持手段と、基板保持手段を回転駆動する駆動手段と、基板保持手段に保持された基板の表面に接触して押圧可能に設けられた洗浄具と、洗浄具が基板に与える荷重に対応する検出信号を出力する検出手段と、検出手段から出力された検出信号を増幅する増幅手段と、増幅手段からの出力信号に基づいて洗浄具が基板に与える荷重を算出する算出手段と、算出手段により算出された荷重および増幅手段からの出力信号の値を表示する表示手段とを備えたものである。
【0020】
第1の発明に係る基板洗浄装置においては、作業者は、洗浄具が基板に与える荷重を表示手段に表示された荷重値から確認できることに加えて、増幅手段からの出力信号を直接確認することが可能となる。それにより、検出手段からの検出信号が不所望の値となって洗浄具が基板に与える荷重が表示手段で確認できない場合でも、増幅手段からの出力信号を確認することにより、オフセット調整部により検出手段に所定のオフセットを与える調整作業を行うことができる。その結果、オフセット調整を確実に行うことができ、洗浄具が基板に与える荷重を正確に検出することができる。
【0021】
また、表示手段に表示された増幅手段からの出力信号を確認することにより、検出手段が有する検出特性の良好な領域を利用して洗浄具が基板に与える荷重を検出するように検出手段を調整することができる。これにより、洗浄具が基板に与える荷重の検出を高精度で行うことができる。
【0022】
第2の発明に係る基板洗浄装置は、第1の発明に係る基板洗浄装置の構成において、検出手段が、検出信号をアナログ信号として出力し、アナログ信号をデジタル信号に変換して算出手段に出力する信号変換手段をさらに備えたものである。
【0023】
この場合、信号変換手段は、アナログの検出信号をデジタル信号に変換し、表示手段がデジタル信号に変換された検出信号に基づいて洗浄具が基板に与える荷重を表示することによって、作業者が洗浄具の荷重を容易に確認することができる。
第3の発明に係る基板洗浄装置は、第1または第2の発明に係る基板洗浄装置の構成において、検出手段が非線形領域を含む出力特性で検出信号を出力するとともに、増幅手段が検出信号の出力特性が線形特性であるとの仮定に基づき設定された増幅特性にしたがって増幅するものである。
この場合、検出手段が非線形領域を含む出力特性で出力した検出信号が増幅手段により検出信号が線形特性であるとの仮定に基づいて増幅出力された出力信号と、算出手段により算出された荷重が表示手段に表示される。
それにより、検出手段が非線形領域または線形領域のいずれの出力特性を利用して荷重の検出を行っていることがわかる。その結果、洗浄具が基板に与える荷重の検出を高精度で行うことができる。
【0024】
【発明の実施の形態】
図1は本発明の実施例による基板洗浄装置の主要部の構成を示す模式図である。基板洗浄装置は、基板Wを水平姿勢で保持する基板保持部7と、基板保持部7を回転駆動するモータ8と、鉛直方向に延びるアーム軸2の上端に水平方向に形成されたブラシアーム1とを備える。
【0025】
アーム軸2は、その下端に駆動機構(図示せず)が接続されており、駆動機構の動作により上下方向に移動可能かつ鉛直方向の軸の回りに回動可能に形成されている。このアーム軸2の上下動および回転動作に伴ってブラシアーム1が上下移動および回動動作を行う。
【0026】
ブラシアーム1の内部にはブラシ保持部材3が設けられている。ブラシ保持部材3は、シャフト部3aと水平部3bと垂下部3cとからなるコの字状に形成されている。シャフト部3aの下端には洗浄ブラシ4が取付けられている。また、ブラシ保持部材3のシャフト部3aは、ブラシアーム1に設けられたベアリング(図示せず)により上下移動自在に支持されている。これにより、ブラシ保持部材3はブラシアーム1に対して相対的に上下方向に移動自在に支持される。
【0027】
さらに、ブラシ保持部材3の水平部3bの上端には、エアシリンダ5のロッド6が連結されている。また、エアシリンダ5はブラシアーム1に固定されている。
【0028】
また、ブラシ保持部材3の垂下部3cの下方にはロードセル10が配置されている。エアシリンダ5のロッド6が伸長すると、ブラシ保持部材3が下降し、洗浄ブラシ4が基板Wの表面に当接して押圧する。同時に、ブラシ保持部材3の垂下部3cの下端がロードセル10に接触して押圧する。
【0029】
ロードセル10は、ブラシ保持部材3の垂下部3cにより押圧され、その押圧力(荷重)を検出し、アナログの検出信号を出力する。ロードセル10の出力側にはロードセルアンプ11、A/D変換器12、制御部13および表示部14が設けられている。
【0030】
ロードセルアンプ11はロードセル10から出力される検出信号を受け取り、オフセットを与えるとともに増幅して出力する。A/D変換器12はロードセルアンプ11から出力される増幅信号をアナログ信号からデジタル信号に変換して出力する。
【0031】
制御部13は、A/D変換器12から出力された増幅信号を受け取る。そして、増幅信号に基づいて洗浄ブラシ4が基板Wに与える荷重値を算出し、ロードセルアンプ11から出力される増幅信号とともに表示部14に出力する。
【0032】
表示部14は増幅信号および算出された荷重値に基づいてロードセル10の検出信号に基づくロードセルアンプ11からの増幅信号の値および洗浄ブラシ4の荷重を表示する。図2は表示部14の表示画面を示す模式図である。図2に示すように、表示部14ではロードセル10が検出したアナログの検出信号に基づいてロードセルアンプ11が増幅した増幅信号の値をデジタル化して表示するロードセルアナログ値の欄20および洗浄ブラシ4の荷重を表示するブラシ荷重計算値の欄21が設けられている。
【0033】
また、制御部13は、外部から入力される洗浄ブラシ4の荷重の制御情報に基づいてエアシリンダ5へ供給する圧縮空気19の空気圧の制御信号を生成して出力する。D/A変換器15は制御部13からの制御信号をデジタル信号からアナログ信号に変換し、電空レギュレータ16に出力する。
【0034】
エアシリンダ5に接続されるエア供給管路18には電空レギュレータ16,17が設けられている。電空レギュレータ16はD/A変換器15からの制御信号に基づいてエア供給管路18を通過する圧縮空気19の空気圧を調整する。これにより、エアシリンダ5のロッド6の伸長力が調整され、洗浄ブラシ4の荷重が所定の値に調整される。
【0035】
本実施例においては、基板保持部7が本発明の基板保持手段に相当し、モータ8が駆動手段に相当し、洗浄ブラシ4が洗浄具に相当し、ロードセル10が検出手段に相当し、ロードセルアンプ11が増幅手段に相当し、制御部13が制御手段および算出手段に相当し、表示部14が表示手段に相当し、A/D変換器12が信号変換手段に相当する。
【0036】
次に、上記構成を有する基板洗浄装置におけるロードセルアンプ11の出力調整動作について説明する。
【0037】
ロードセルアンプ11の出力調整時には、洗浄ブラシ4の下方に荷重計測器60(図5参照)を設置して洗浄ブラシ4の下降時における荷重を測定する。同時に、洗浄ブラシ4の荷重をロードセル10により検出し、検出した洗浄ブラシ4の荷重を表示部14に表示させる。そして、荷重計測器60による洗浄ブラシ4の荷重の実測値と表示部14に表示された洗浄ブラシ4の荷重値とを比較し、両者の値が等しくなるようにロードセルアンプ11の出力を調整する。以下、このロードセルアンプ11の出力調整動作を具体的に説明する。
【0038】
図3はロードセルの出力特性図である。図3の横軸X1はブラシ保持部材3の垂下部3cによってロードセル10に加えられる荷重を示し、縦軸はその時のロードセル10の出力電圧を示す。また、図3上端の横軸X2はロードセル10に印加される荷重に対応する洗浄ブラシ4の荷重の実測値を示している。
【0039】
洗浄ブラシ4を下降させると、洗浄ブラシ4の先端が荷重計測器60を押圧するとともに、ブラシ保持部材3の垂下部3cの先端がロードセル10を押圧する。ロードセル10は、ブラシ保持部材3の垂下部3cの先端から印加される荷重に応じて図3に示す出力特性に基づく出力電圧を有する検出信号をロードセルアンプ11に出力する。
【0040】
図4はロードセルアンプにおける出力電圧調整の説明図である。ロードセルアンプ11では、ロードセル10の線形の出力特性に基づいて、洗浄ブラシ4のブラシ荷重が0gの場合にロードセルアンプ11からの出力電圧が1Vとなり、洗浄ブラシ4のブラシ荷重が200gの場合にロードセルアンプ11からの出力電圧が5Vとなる増幅率をロードセル10からの検出信号に与えるようなブラシ荷重の増加に対応した線形の増幅特性Aが設定されている。そして、ロードセル10からの検出信号は増幅特性Aに従って増幅される。
【0041】
例えば、図3および図4において、ロードセル10からの検出信号の出力電圧がVaの場合、ロードセルアンプ11からの出力信号の出力電圧はVa1に増幅されて出力される。このロードセルアンプ11からの出力信号はA/D変換器12においてアナログ信号からデジタル信号に変換された後、制御部13に出力され、この出力信号に基づいて荷重値が算出される。そして、算出された荷重値が洗浄ブラシ4の荷重として表示部14に表示される。
【0042】
しかしながら、上記の例では、ロードセルアンプ11からの出力信号の電圧Va1は、1V以下であるため、この出力電圧Va1に基づいて荷重を算出すると負の荷重値となる。これは、制御部13ではロードセルアンプ11からの出力信号の出力電圧が1Vのときに荷重値が0gとなるように荷重値を算出するからである。このため、図2の表示部14のブラシ荷重計算値の欄21には荷重値が表示されない。
【0043】
一方、ロードセル10の検出信号は、ロードセルアンプ11、A/D変換器12および制御部13を通して表示部14のロードセルアナログ値の欄20に表示される。このため、作業者は、このロードセルアナログ値の欄20を参照してロードセル10に印加された荷重の値を把握することができる。それによって、作業者はブラシ荷重の計算値が表示されない場合であっても、ロードセルアンプ11のオフセット調整部を用いてロードセル11からの検出信号にオフセットを与えることができる。
【0044】
なお、ロードセルアンプ11の出力電圧が1V以上となる場合、例えばロードセル10の出力電圧がVbでロードセルアンプ11の出力電圧がVb1の場合には、表示部14のブラシ荷重計算値の欄21に検出した洗浄ブラシ4の荷重値が表示される。この場合、表示部14に表示された洗浄ブラシ4の荷重値と、荷重計測器60により計測された洗浄ブラシ4の荷重とは異なっている。そこで、作業者は、ロードセルアンプ11のオフセット調整部を調整してロードセル10からの検出信号にオフセットXを与え、ロードセルアンプ11の出力電圧Vb2に基づいて表示部14に表示された洗浄ブラシ4の荷重と荷重計測器60により計測された洗浄ブラシ4の荷重とを一致させる。これにより、ロードセルアンプ55の出力調整が終了する。
【0045】
このように、表示部14にロードセルアナログ値の欄20を設けることにより、ロードセル10からの検出信号の値が小さくてロードセルアンプ11からの出力信号の出力電圧が1V未満となる場合であって、作業者がロードセル10から出力される検出信号の大きさを確認してロードセルアンプ11のオフセット調整を適切に行うことができる。
【0046】
さらに、表示部14のロードセルアナログ値の欄20にロードセル10の検出信号の値が表示されることにより、作業者は、現在ロードセル10の出力特性のどの領域を利用して荷重の検出が行われているかを確認することができる。
【0047】
例えば、図3において、ロードセル10に印加される荷重と洗浄ブラシ4が基板(または荷重計測器60)に与える実際の荷重との関係が図3の横軸X1とX2の関係となる場合には、ロードセル10では出力特性の非線形領域R2を利用して荷重の検出を行っていることを確認することができる。この場合には、非線形領域の特性に基づくロードセル10からの検出信号と、ロードセル10の出力特性が線形特性であるとの仮定に基づいて増幅特性を設定したロードセルアンプ11での増幅信号との間に誤差が生じ易い。
【0048】
そこで、作業者は、ロードセル10とブラシ保持部材3の垂下部3cとの位置関係を調整し、ロードセル10に印加される荷重と洗浄ブラシ4が基板(荷重計測器60)に与える実際の荷重との関係が図3の横軸X1とX3の関係となるように調整することができる。そして、この場合には、ロードセル10の出力特性の直線領域R1を利用して荷重の検出を行うことができるので、検出精度を向上することができる。
【0049】
さらに、表示部14のロードセルアナログ値の欄20にロードセル10の検出信号に基づくロードセルアンプ11からの増幅信号の値が表示されることにより、作業者がロードセル10の故障の発生を容易に確認することができる。
【0050】
なお、上記実施例においては、ロードセルアンプ11の出力側にA/D変換器12を配置しているが、このA/D変換器12を省略することも可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は本発明の実施例による基板洗浄装置の主要部の構成を示す模式図である。
【図2】表示部の表示画面を示す模式図である。
【図3】ロードセルの出力特性図である。
【図4】ロードセルアンプにおける出力電圧調整の説明図である。
【図5】従来の基板洗浄装置の主要部の構成を示す模式図である。
【図6】ロードセルの出力特性図である。
【図7】ロードセルアンプにおける出力電圧調整の説明図である。
【符号の説明】
1 ブラシアーム
3 ブラシ保持部材
4 洗浄ブラシ
5 エアシリンダ
10 ロードセル
11 ロードセルアンプ
12 A/D変換器
13 制御部
14 表示部
20 ロードセルアナログ値の欄
21 ブラシ荷重計算値の欄[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a substrate cleaning apparatus that performs cleaning while bringing a cleaning tool such as a cleaning brush into contact with a substrate.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art A substrate cleaning apparatus is used for cleaning a surface of a substrate such as a semiconductor wafer, a glass substrate for a liquid crystal display device, and a substrate for a photomask. In the substrate cleaning apparatus, fine particles adhering to the surface of the substrate during the processing of the substrate are removed with a cleaning liquid such as pure water or a cleaning brush.
[0003]
Usually, in a brush cleaning type substrate cleaning apparatus, a cleaning liquid such as pure water is supplied to the surface of the substrate while rotating the substrate, and the cleaning brush is rotated on its own or the cleaning brush is pressed against the substrate without rotating the cleaning brush. Then, the cleaning brush is scanned from the center to the outer periphery of the substrate. Thus, the entire surface of the substrate is cleaned with the cleaning brush and the cleaning liquid.
[0004]
FIG. 5 is a schematic view showing a configuration of a main part of a conventional substrate cleaning apparatus. In FIG. 5, the substrate cleaning apparatus has a
[0005]
An
[0006]
The
[0007]
The control unit 57 calculates the load of the
[0008]
In addition, in order to accurately display the load of the
[0009]
When the output of the
[0010]
FIG. 6 is an output characteristic diagram of the load cell. The horizontal axis X4 in FIG. 6 indicates the load applied to the
[0011]
When the
[0012]
FIG. 7 is an explanatory diagram of the output voltage adjustment in the load cell amplifier. In the
[0013]
For example, when the output voltage of the detection signal from the
[0014]
In this case, the load of the
[0015]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the above-described substrate cleaning apparatus, the brush load based on the output voltage of the
[0016]
For example, as shown in FIGS. 6 and 7, when the detection signal from the
[0017]
As shown in FIG. 6, the output characteristics of the
[0018]
An object of the present invention is to provide a substrate cleaning apparatus capable of accurately and reliably detecting a load of a cleaning brush.
[0019]
Means for Solving the Problems and Effects of the Invention
A substrate cleaning apparatus according to a first aspect of the present invention is a substrate cleaning apparatus for cleaning a substrate, wherein the substrate is held by the substrate holding means for holding the substrate, a driving means for rotating the substrate holding means, and a substrate holding means. A cleaning tool provided in contact with the surface of the substrate so as to be able to be pressed, a detection unit that outputs a detection signal corresponding to a load applied to the substrate by the cleaning tool, and an amplification unit that amplifies the detection signal output from the detection unit. Calculating means for calculating the load applied to the substrate by the cleaning tool based on the output signal from the amplifying means, and display means for displaying the load calculated by the calculating means and the value of the output signal from the amplifying means. It is.
[0020]
In the substrate cleaning apparatus according to the first invention, work artisan, the cleaning tool in addition to being able to confirm from the displayed load value on the display means a load applied to the substrate, to check the output signal from the amplifying means directly Becomes possible. Thus, even when the detection signal from the detection means has an undesired value and the load applied to the substrate by the cleaning tool cannot be confirmed by the display means, the output signal from the amplification means is confirmed by the offset adjustment unit. An adjusting operation for giving a predetermined offset to the means can be performed. As a result, the offset adjustment can be reliably performed, and the load applied to the substrate by the cleaning tool can be accurately detected.
[0021]
Also, by checking the output signal from the amplifying means displayed on the display means, the detecting means is adjusted so as to detect the load applied to the substrate by the cleaning tool by utilizing the area having good detection characteristics of the detecting means. can do. Thus, the load applied to the substrate by the cleaning tool can be detected with high accuracy .
[0022]
In the substrate cleaning apparatus according to a second aspect, in the configuration of the substrate cleaning apparatus according to the first aspect, the detection unit outputs the detection signal as an analog signal, converts the analog signal into a digital signal, and outputs the digital signal to the calculation unit. And a signal conversion means for performing the conversion.
[0023]
In this case, the signal conversion means converts the analog detection signal into a digital signal, and the display means displays the load applied to the substrate by the cleaning tool based on the detection signal converted into the digital signal, so that the operator can perform cleaning. The load of the tool can be easily confirmed.
In the substrate cleaning apparatus according to a third aspect, in the configuration of the substrate cleaning apparatus according to the first or second aspect, the detection unit outputs a detection signal with an output characteristic including a non-linear region, and the amplification unit outputs the detection signal. Amplification is performed according to amplification characteristics set based on the assumption that the output characteristics are linear characteristics.
In this case, the detection signal output by the detection unit with the output characteristic including the non-linear region is amplified by the amplification unit based on the assumption that the detection signal has a linear characteristic, and the load calculated by the calculation unit is calculated. It is displayed on the display means.
This indicates that the detection means detects the load using the output characteristics in either the nonlinear region or the linear region. As a result, the load applied to the substrate by the cleaning tool can be detected with high accuracy.
[0024]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
FIG. 1 is a schematic diagram showing a configuration of a main part of a substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention. The substrate cleaning apparatus includes a substrate holding unit 7 for holding a substrate W in a horizontal posture, a
[0025]
A drive mechanism (not shown) is connected to the lower end of the
[0026]
A
[0027]
Further, a
[0028]
Further, a
[0029]
The
[0030]
The load cell amplifier 11 receives the detection signal output from the
[0031]
The
[0032]
The
[0033]
Further, the
[0034]
[0035]
In this embodiment, the substrate holding unit 7 corresponds to the substrate holding unit of the present invention, the
[0036]
Next, the output adjustment operation of the load cell amplifier 11 in the substrate cleaning apparatus having the above configuration will be described.
[0037]
When adjusting the output of the load cell amplifier 11, a load measuring device 60 (see FIG. 5) is installed below the cleaning brush 4 to measure the load when the cleaning brush 4 is lowered. At the same time, the load of the cleaning brush 4 is detected by the
[0038]
FIG. 3 is an output characteristic diagram of the load cell. The horizontal axis X1 in FIG. 3 indicates the load applied to the
[0039]
When the cleaning brush 4 is lowered, the tip of the cleaning brush 4 presses the
[0040]
FIG. 4 is an explanatory diagram of the output voltage adjustment in the load cell amplifier. In the load cell amplifier 11, based on the linear output characteristics of the
[0041]
For example, in FIGS. 3 and 4, when the output voltage of the detection signal from the
[0042]
However, in the above example, since the voltage Va1 of the output signal from the load cell amplifier 11 is 1 V or less, if the load is calculated based on the output voltage Va1, the load value will be a negative load value. This is because the
[0043]
On the other hand, the detection signal of the
[0044]
When the output voltage of the load cell amplifier 11 is 1 V or more, for example, when the output voltage of the
[0045]
By providing the
[0046]
Further, by displaying the value of the detection signal of the
[0047]
For example, in FIG. 3, when the relationship between the load applied to the
[0048]
Therefore, the operator adjusts the positional relationship between the
[0049]
Further, the value of the amplified signal from the load cell amplifier 11 based on the detection signal of the
[0050]
Although the A /
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic diagram showing a configuration of a main part of a substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a schematic diagram showing a display screen of a display unit.
FIG. 3 is an output characteristic diagram of a load cell.
FIG. 4 is an explanatory diagram of output voltage adjustment in a load cell amplifier.
FIG. 5 is a schematic diagram showing a configuration of a main part of a conventional substrate cleaning apparatus.
FIG. 6 is an output characteristic diagram of a load cell.
FIG. 7 is an explanatory diagram of output voltage adjustment in a load cell amplifier.
[Explanation of symbols]
REFERENCE SIGNS LIST 1
Claims (3)
基板を保持する基板保持手段と、
前記基板保持手段を回転駆動する駆動手段と、
前記基板保持手段に保持された基板の表面に接触して押圧可能に設けられた洗浄具と、
前記洗浄具が基板に与える荷重に対応する検出信号を出力する検出手段と、
前記検出手段から出力された前記検出信号を仮定に基づき設定された増幅特性にしたがって増幅するとともに、前記検出手段にオフセットを与えるオフセット調整部を有する増幅手段と、
前記増幅手段からの出力信号に基づいて前記洗浄具が基板に与える荷重を算出する算出手段と、
前記算出手段により算出された荷重および前記増幅手段からの出力信号の値を表示する表示手段とを備えたことを特徴とする基板洗浄装置。A substrate cleaning apparatus for cleaning a substrate,
Substrate holding means for holding a substrate,
Driving means for driving the substrate holding means to rotate,
A cleaning tool provided so as to be able to contact and press the surface of the substrate held by the substrate holding means,
Detecting means for outputting a detection signal corresponding to a load applied to the substrate by the cleaning tool,
Amplifying means having an offset adjusting unit that amplifies the detection signal output from the detecting means according to an amplification characteristic set based on an assumption and gives an offset to the detecting means ,
Calculation means for calculating a load applied to the substrate by the cleaning tool based on an output signal from the amplification means,
Display means for displaying the load calculated by the calculation means and the value of the output signal from the amplification means.
前記アナログ信号をデジタル信号に変換して前記算出手段に出力する信号変換手段をさらに備えたことを特徴とする請求項1記載の基板洗浄装置。The detection means outputs the detection signal as an analog signal,
2. The substrate cleaning apparatus according to claim 1 , further comprising a signal conversion unit that converts the analog signal into a digital signal and outputs the digital signal to the calculation unit.
Priority Applications (1)
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| JP10304898A JP3539864B2 (en) | 1998-04-14 | 1998-04-14 | Substrate cleaning device |
Applications Claiming Priority (1)
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| JP10304898A JP3539864B2 (en) | 1998-04-14 | 1998-04-14 | Substrate cleaning device |
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|---|---|
| JPH11297655A JPH11297655A (en) | 1999-10-29 |
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Family Applications (1)
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| JP10304898A Expired - Fee Related JP3539864B2 (en) | 1998-04-14 | 1998-04-14 | Substrate cleaning device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3539864B2 (en) |
-
1998
- 1998-04-14 JP JP10304898A patent/JP3539864B2/en not_active Expired - Fee Related
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| JPH11297655A (en) | 1999-10-29 |
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