JP3545559B2 - 処理液供給装置 - Google Patents
処理液供給装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3545559B2 JP3545559B2 JP35611996A JP35611996A JP3545559B2 JP 3545559 B2 JP3545559 B2 JP 3545559B2 JP 35611996 A JP35611996 A JP 35611996A JP 35611996 A JP35611996 A JP 35611996A JP 3545559 B2 JP3545559 B2 JP 3545559B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- deaeration
- tank
- developer
- liquid
- degassing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は，被処理基板に処理液を供給して所定の処理を施す装置に，当該処理液を供給するための処理液供給装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えば，半導体製造プロセスおけるいわゆる現像処理工程においては，通常，次のプロセスが行われている。まず，所定のパターンが露光されたレジスト膜を有する被処理基板，例えば半導体ウェハ（以下，「ウェハ」と称する。）を，スピンチャックと呼ばれる回転載置台の上に保持させる。次いで，スピンチャックを回転させると共に，ウェハの中心上方の位置にて，適宜の吐出部材，例えばノズルから現像液を吐出させる。その結果，該現像液が遠心力によりウェハの表面上で均一に拡散し，塗布されることにより所望の現像処理が行われている。
【０００３】
現像処理装置に現像液を供給する現像液供給装置は，例えば現像液を蓄えているメインタンク，メインタンクから供給される現像液を貯留する中間タンク，現像液を所定の流量に調整する流量調節器，現像液中の不純物を除去するフィルタ，現像液を所定の温度に調整する温度調節手段等が，パイプ等の移送経路を通じて順次接続される構成となっている。そして，処理時には，中間タンク内に所定のガスを導入し，該タンク内の圧力雰囲気を所定の圧力に加圧することにより，現像液をノズルから吐出させる構成となっている。
【０００４】
中間タンク内の現像液が，所定の下限レベルにまで達した時には，中間タンク内へのガスの導入を停止すると共に，例えば液面上方に備えられている排気口から排気管を介して真空引きし，所定の減圧雰囲気の下で，メインタンクから現像液を供給して，所定の上限レベルにまで補充している。そして，補充終了後も，処理が開始されるまでの所定の時間は，そのまま真空引きが継続され，現像液中に溶け込んでいるガス，例えばＯ２，Ｎ２等を脱気している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら，液面上方から真空引きし，脱気する場合には，脱気量はタンクの断面積，すなわち液面の表面積の広狭によって左右されてしまう。例えば，効率よく脱気するためには，高さに対して径をできる限り大きくすればよいが，この場合には，当該装置の大型化を招くと共に，現像液の安定供給を図ることが困難となる等の問題が生じてしまう。従って，従来の現像液供給装置では，効率の良い脱気に限界がある。
【０００６】
本発明は，従来の処理液供給装置が有する上記のような問題点に鑑みてなされたものであり，処理液中に脱気部材を浸漬し，この脱気部材を介して脱気することにより，効率の良い脱気が可能な，新規かつ改良された処理液供給装置を提供することを目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため，まず本発明は，被処理基板に処理液を供給して所定の処理を施す装置に処理液を供給するための装置であって，処理液を貯留するタンクと，タンク内に設けられてこのタンク内の処理液に浸漬する脱気部材とを有し，この脱気部材の本体は，液体は通過させず気体のみを通過させる気液分離材からなり，さらに脱気部材は，本体内に中空部を形成して中空構造を維持する中空維持部材を備え，当該中空部は，タンク外に設けられた排気手段に排気経路を通じて接続されている。
【０００８】
かかる構成によれば，処理液の脱気は，処理液中に浸漬された脱気部材によって行うため，脱気面積が拡大すると共に，脱気部材の浸漬量を増やすことにより，容易に脱気効率を向上させることができる。また，脱気部材の本体は，液体を通さないで通気性のみを有する材料，例えばＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン），ＰＦＡ（ポリフルオロアルコキシ），ＦＥＰ（４フッ化エチレン・６フッ化プロピレン）等に所定の加工を施した材料から成ると共に，その内部に中空部を形成した構成であるため，脱気部材本体の全表面から均一に，かつ効率よく脱気を行うことができる。さらに，脱気部材の本体内には，例えば螺旋状の線材や合成樹脂性のスペーサ等から成る中空維持部材が備えられているため，中空部内を所定の減圧雰囲気にまで真空引きしても，中空部が潰れることがなく，効率の良い脱気を行うことができる。
【０００９】
脱気部材の本体は，可撓性を有するチューブ形状であってもよい。脱気部材の本体を，適宜，任意の形態にすることができるため，脱気部材の本体を容易にタンク内に設置することができると共に，脱気面積の拡大も容易に行うことができるからである。
【００１０】
脱気部材は，螺旋状に成形されていてもよい。脱気部材の中心，すなわち例えばタンクの中心に適宜空間を創出することができるため，例えばフロートセンサ等の液面レベルセンサの設置が容易となるからである。
【００１１】
脱気部材は，液体は通過させず気体のみを通過させる気液分離材によって内部に中空部を形成した略シート状の本体を，所定の間隔を維持しつつ曲げて成形され，さらに脱気部材は，中空部を確保する中空維持部材と，間隔を維持する間隔維持部材とを備え，中空部は，タンク外に設けられた排気手段に排気経路を通じて接続されていてもよい。
【００１２】
かかる構成によれば，脱気部材は，略シート状の本体を所定の間隔を維持しつつ，例えば螺旋状に巻くことにより形成しているため，脱気面積の拡大を極めて容易に行うことができる。また，このように脱気部材の本体を，螺旋状に巻くことにより，適宜空間を創出することができるため，例えばフロートセンサ等の液面レベルセンサの設置が容易となる。さらに，中空部内には，中空維持部材，例えばメッシュ状の線材が備えられているため，真空引きによっても中空部が潰れることがない。また，脱気部材の本体を，例えば所定の間隔を維持しながら略つづら折り状に曲げて成形しても良く，この場合にも脱気面積を容易に拡大することができる。なお，当該脱気部材を形成する略シート状の本体は，先に説明した，例えばＰＴＦＥ，ＰＦＡ，ＦＥＰ等に所定の加工を施した材料から成形することができる。
【００１３】
そして請求項１に記載の発明によれば，被処理基板に処理液を供給して所定の処理を施す装置に処理液を供給するための装置であって，処理液を貯留するタンクと，タンク内に設けられてこのタンク内の処理液に浸漬する複数の脱気部材を有し，各脱気部材の本体は，液体は通過させず気体のみを通過させる気液分離材からなり，さらに各脱気部材は，各々本体内に中空部を形成して中空構造を維持する中空維持部材を備え，当該中空部は，タンク外に設けられた排気手段に排気経路を通じて接続されており，各脱気部材は，その頂上部が各々タンク内で異なった高さとなるように，タンク内に配置されていることを特徴としている。
【００１４】
かかる構成によれば，各脱気部材は，その頂上部が各々タンク内で異なった高さとなるように取り付けられているため，液面レベルが変化した場合，例えばタンク内に処理液を補充後，未使用時のように，処理液が例えば所定の上限レベルにまで満たされている場合だけでなく，処理液を吐出し液面レベルが下がった場合でも，常時液中から効率の良い脱気を行うことができる。なお，当該発明においては，各脱気部材の頂上部の高さのみが異なる構成であればよく，例えば一の脱気部材の頂上部よりも下方の部分が，他の脱気部材の頂上部よりも下方に位置するように，重複して配置される構成であっても良い。また，各脱気部材は，請求項１〜４に記載の発明で説明したように，例えばチューブ状の脱気部材や，螺旋状の脱気部材，またはこれらの組み合わせとすることができる。
【００１５】
そして，請求項２に記載の発明によれば，タンク内の処理液の液面レベルを検出する液面センサと，この液面センサによって得られる液面レベルに基づいて，各脱気部材の中空部と排気手段との間の排気経路の開閉を制御する制御装置とを備えたことを特徴としている。従って，処理液を吐出し，所定の上限レベルよりも液面レベルが下がった場合でも，例えばフロートセンサなどの液面センサにより処理液の液面を測定し，その液面に応じて各脱気部材からの排気を制御しているため，常時，自動的に液中にある脱気部材のみから効率的な脱気を行うことができる。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下に添付図面を参照しながら，本発明にかかる処理液供給装置を現像液供給装置に適用した，実施の形態について詳細に説明する。なお，以下の説明において，略同一の機能及び構成を有する構成要素については，同一番号を付することにより，重複説明を省略することにする。
【００１７】
まず，基本となる現像液供給装置を，現像処理装置に適用した例を挙げて説明する。図１は，例えばウェハＷに対して洗浄処理，レジストの定着性を高めるアドヒージョン処理，レジスト液の塗布処理，これらの処理後に実施される適宜の加熱処理，および該加熱処理後にウェハＷを所定温度にまで冷ます冷却処理，および露光後の現像処理や加熱処理などの処理を個別に行う各種処理装置を１つのシステムとしてまとめた塗布現像処理システム１００の概観を示している。そして，本実施の形態にかかる現像液供給装置は，現像処理装置１２８，１２９としてこの塗布現像処理システム１００にユニットとして組み込まれている。
【００１８】
この塗布現像処理システム１００は，１ロット分のウェハＷ，例えば２５枚のウェハＷを収納する収納体であるカセットＣを整列して複数載置する載置部１０２と，この載置部１０２に載置されたカセットＣ内のウェハＷを取り出して，メイン搬送アーム１０４へと搬送する搬送機構１０６とを備えている。また，搬送機構１０６は、カセットＣの整列方向に沿って設けられている搬送路１０８上を移動自在になっている。そして，ウェハＷに対して所定の処理を行う各種の処理装置は，２つのメイン搬送アーム１０４，１１０の各搬送路１１２，１１４を挟んだ両側に配置されている。
【００１９】
さらに，カセットＣから取り出されたウェハＷの表面を洗浄するため，ウェハＷを回転させながらブラシ洗浄するブラシ洗浄装置１１６，ウェハＷに対して高圧ジェット洗浄する水洗洗浄装置１１８，ウェハＷの表面を疎水化処理してレジストの定着性を向上させるアドヒージョン処理装置１２０，ウェハＷを所定温度に冷却する冷却処理装置１２２，回転するウェハＷの表面にレジスト液を塗布するレジスト液塗布装置１２４，レジスト液塗布後のウェハＷを加熱したり，露光後のウェハＷを加熱する加熱処理装置１２６，露光後のウェハＷを回転させながらその表面に現像液を供給して現像処理する現像処理装置１２８，１２９が配置されている。そして，これら各処理装置は，ある程度集約化されており，適当な処理装置群にまとめることで，設置スペースの縮小，並びに処理効率の向上が図られている。また，これら各種処理装置に対するウェハＷの搬入出は，２つのメイン搬送アーム１０４，１１０によって行われている。また，これら各処理装置等は，ケーシング１３０内に配置されている。そして，本実施の形態にかかる現像液供給装置は，現像処理装置１２８，１２９に適用されている。
【００２０】
次に，現像処理装置１２８，１２９について説明する。ただし，現像処理装置１２８と１２９は同一の構成のため，以下では現像処理装置１２８を主として説明する。図２に示したように，現像処理装置１２８のケーシング１２８ａ内のウェハＷを収容する処理容器１３２の中には，ウェハＷを真空によって水平状態に吸着保持するスピンチャック１３４が備えられており，このスピンチャック１３４は，処理容器１３２の下方に装備されているパルスモータなどの駆動機構１３６によって回転自在である。また，駆動機構１３６は，制御器１３８（図３を参照。）により制御されると共に，この制御器１３８は，駆動機構１３６内に設けられている不図示のエンコーダから発振されるパルスの波形を一周期分ごとにカウントする。従って，制御器１３８に所定の数値を設定することによって，スピンチャック１３４の回転数を任意に制御することができる。
【００２１】
また，処理容器１３２内の雰囲気は、処理容器１３２の底部中心から、外部に設置されている真空ポンプなどの排気手段（図示せず。）によって排気される。さらに，処理液となる現像液やリンス液となる純水は，スピンチャック１３４の外方から，処理容器１３２の底部に設けられた排液管１４０を通じて，処理容器１３２の下方に設置されているドレインタンク１４２へと排出される。
【００２２】
また，現像処理装置１２８においては，ウェハＷに吐出される現像液は現像液吐出ノズルＮ１から，またリンス液はリンス液吐出ノズルＮ２から、それぞれ別々に吐出される構成となっている。さらに，現像液吐出ノズルＮ１及びリンス液吐出ノズルＮ２は，それぞれに対応するノズルホルダ１４４，１４６によって保持されていると共に，これらノズルホルダ１４４，１４６は，ケーシング１２８ａ側壁の一対のレール１４８に水平移動自在なように取り付けられている。そして，ノズルホルダ１４４，１４６内には，不図示の駆動機構が設けられており，この駆動機構は制御器１３８（図３を参照。）によって制御されている。従って，制御器１３８からの制御信号によって駆動機構が所定の回転をすることにより，ノズルホルダ１４４，１４６はレール１４８に沿って所定の平行移動を行う構成となっている。なお，図２に示した現像液吐出ノズルＮ１は，ウェハＷの中心上方に位置する所定の吐出位置に配置され，またリンス液吐出ノズルＮ２は，ケーシング１２８ａの側壁付近の所定の待機位置に配置されている場合を表したものである。
【００２３】
次に，現像処理装置１２８の現像液吐出ノズルＮ１への現像液の供給構成について説明する。現像液吐出ノズルＮ１には，現像液を現像液吐出ノズルにＮ１に供給する移送管１５０が接続されている。さらに，この移送管１５０には，図３に示したように，現像液の供給及び停止を行うバルブ１５２，現像液を所定の温度，例えば２３℃に調整する熱交換器１５４，現像液中に混入した不純物を除去するフィルタ１５６，現像液の流量を調整する流量調節器１５８が介挿されている。そして，流量調節器１５８を介した移送管１５０は，分岐管１６０，１６２に接続されていると共に，この分岐管１６０，１６２は，それぞれに対応するバルブ１６４，１６６を介して，各々に対応する現像液を蓄えるための中間タンク１６８，１７０に接続されている。また，バルブ１５２，１６４，１６６は，制御器１３８からの制御信号により，その開閉が制御される構成となっている。
【００２４】
そして，中間タンク１６８，１７０には，それぞれに対応する分岐管１７２，１７４が接続されていると共に，これら分岐管１７２，１７４は，各々に対応するバルブ１７６，１７８を介して供給管１８０に接続されている。さらに，この供給管１８０には，中間タンク１６８，１７０に現像液を補充する，当該装置外部に備えられた処理液供給源１８２が接続されている。また，中間タンク１６８，１７０には，それぞれに対応する分岐管１８４，１８６が接続されていると共に，この分岐管１８４，１８６には，各々に対応するバルブ１８８，１９０を介してガス供給管２００が接続されている。そして，このガス供給管２００には，タンク１６８，１７０内を所定の圧力雰囲気にまで加圧するするための不活性ガス，例えばＮ２を供給するガス供給源１８６が接続されている。なお，バルブ１７６，１７８，１８８，１９０は，制御器１３８からの制御信号によって，それぞれの開閉が調整される構成となっている。
【００２５】
また，中間タンク１６８，１７０の略中心には，それぞれに対応する略棒状の液面レベルセンサ２０４，２０６が縦方向に配置されている。この液面レベルセンサ２０４，２０６は，例えばフロートセンサや光学センサなどから構成されており，それぞれに対応する中間タンク１６８，１７０内に蓄えられている現像液の液面を検出し，その測定結果を常時，制御器１３８に伝達している。さらに，中間タンク１６８，１７０内の上壁面には，それぞれに対応する圧力センサ２０８，２１０が配置されている。この圧力センサ２０８，２１０は，それぞれに対応する中間タンク１６８，１７０内の圧力を検出して，その測定結果を常時，制御器１３８に伝達している。また，中間タンク１６８，１７０には，それぞれに対応する上限レベルＨと下限レベルＬとが設定されている。この上限レベルＨと下限レベルＬとの間は，例えば中間タンク１６８から現像液の吐出が行われている間に，中間タンク１７０において現像液の補充が可能であると共に，現像液の補充後，所定の脱気を行い，かつ中間タンク１７０内を所定の圧力雰囲気にまで加圧して，現像液の吐出準備を行うことができる範囲で設定されている。さらに，下限レベルＬは，例えば中間タンク１６８から中間タンク１７０への切り替えが何らかの原因により行えなかった場合でも，少なくとも１ロット分以上のウェハＷの処理を行うことができように設定されている。
【００２６】
また，中間タンク１６８，１７０内には，それぞれに対応する，本実施の形態を構成する脱気部材２１２，２１４が設けられている。なお，脱気部材２１２，２１４は，略同一の構成であるため，ここでは脱気部材２１２についてのみ説明する。この脱気部材２１２は，図４に示したように，液体を通さないで通気性のみを有する材料，例えばＰＴＦＥ，ＰＦＡ，ＦＥＰ等に所定の加工を施した材料から成ると共に，その内部に中空部２１６を形成した可撓性を有するチューブ形状となっている。また，中空部２１６内には，脱気の際の真空引きによって脱気部材２１２が潰れることを防止すると共に，脱気部材２１２を所定の形状に維持するための，螺旋状の線材２１８が設けられている。
【００２７】
さらに，脱気部材２１２は，中間タンク１６８に収容された場合には，図５に示したように，例えば液面レベルセンサ２０４を中心として，螺旋状に配置されている。さらにまた，脱気部材２１２は，図３に示したように，脱気部材２１２の頂上部が上限レベルＨよりも下方に配置されていると共に，脱気部材２１２の下部が中間タンク１６８の底部付近に位置するように設置されている。従って，後述するように，特に上限レベルＨにまで現像液を補充した場合には，現像液中における脱気部材２１２の表面積，すなわち脱気面積が非常に大きくなるため，現像液中から非常に効率的に脱気することが可能となる。さらに，脱気部材２１２の中心には，所定の空間が創出されるため，容易に液面レベルセンサ２０４を配置することができる。
【００２８】
そして，脱気部材２１２には，分岐管２２０が接続されていると共に，この分岐管２２０は，バルブ２２２を介して排気管２２４に接続されている。また，中間タンク１７０内に設けられている脱気部材２１４には，分岐管２２６が接続されていると共に，この分岐管２２６は，バルブ２２８を介して排気管２２４に接続されている。そして，分岐管２２０，２２６が接続されている排気管２２４は，真空ポンプなどから成る真空引き機構２３０に接続されている。また，バルブ２２２，２２８は，制御器１３８からの制御信号により，各々開閉が制御される構成となっている。
【００２９】
現像処理装置１２８，１２９の主要部は，以上のように構成されている。次に，図２，３を参照しながら，現像処理装置１２８，１２９への現像液の供給構成及び現像液の供給制御について説明する。なお，以下の説明では，現像処理装置１２８を主として説明する。まず，図３に示した，例えば中間タンク１６８への現像液の補充及び現像液の吐出準備について説明すると，真空引き機構２３０を作動させると共に，バルブ２２２を開放し，脱気部材２１２により中間タンク１６８内を所定の圧力雰囲気にまで減圧する。なお，バルブ１６４は，現像液吐出時まで閉じられている。
【００３０】
次いで，脱気部材２１２による中間タンク１６８内の真空引きを継続したまま，バルブ１７６を開放し，現像液供給源１８２から中間タンク１６８内に現像液を補充する。そして，現像液を所定の上限レベルＨにまで補充した後，バルブ１７６を閉じて現像液の補充を停止すると共に，さらに所定時間，現像液中に浸漬した脱気部材２１２によって，現像液中のから直接脱気を行う。なお，この脱気時間，すなわち脱気量は，本実施の形態を実施する装置や現像液の種類に応じてあらかじめ実験的に求めておき，その結果に基づいて設定されることが望ましい。
【００３１】
そして，所定の現像液の脱気を行った後，バルブ２２２を閉じると共に，バルブ１８８を開放してガス供給源２０２から所定の不活性ガス，例えばＮ２を中間タンク１６８内に供給する。しかる後，中間タンク１６８内が所定の圧力雰囲気にまで加圧され，現像液の吐出準備が完了する。なお，中間タンク１６８内の圧力雰囲気は，圧力センサ２０８によって常時検出されている。従って，圧力センサ２０８から制御器１３８へ伝達される測定値に基づいて，バルブ１７６，１８８，２２２の開閉が調整されているため，中間タンク１６８内は常時所望の圧力雰囲気に制御されている。
【００３２】
また，中間タンク１７０においても中間タンク１６８と同様の構成で，現像液の補充及び吐出準備が行われている。すなわち，真空引き機構２３０を作動させると共に，バルブ２２８を開放し，脱気部材２１４により中間タンク１７０内を所定の圧力雰囲気にまで減圧する。そして，中間タンク１７０内の真空引きを継続したまま，バルブ１７８を開放し，現像液供給源１８２から中間タンク１７０内に現像液を補充する。所定の上限レベルＨにまで現像液を補充した後，バルブ１７８を閉じて現像液の補充を停止すると共に，さらに所定時間，現像液中に配置されている脱気部材２１４によって真空引きを継続し，現像液の脱気を行う。
【００３３】
そして，所定の脱気を行った後，バルブ２２８を閉じると共に，バルブ１９０を開放してガス供給源２０２から所定の不活性ガス，例えばＮ２を中間タンク１７０内に供給し，中間タンク１７０内を所定の圧力雰囲気にまで加圧し，現像液の吐出準備が完了する。なお，中間タンク１７０内の圧力雰囲気は，中間タンク１６８と同様に，圧力センサ２１０によって常時検出しており，この測定値に基づいて制御器１３８がバルブ１７８，１９０，２２８の開閉を制御している。従って，中間タンク１７０内は，常時所望の圧力雰囲気に制御されている。なお，バルブ１６６は，現像液吐出時まで閉じられている。
【００３４】
次に，現像液の吐出構成について説明する。まず，図２に示した現像処理装置１２８の処理容器１３２内のスピンチャック１３４上にウェハＷが載置されると，真空によって吸着保持される。次いで，スピンチャック１３４が回転し，所定の回転数に維持されると共に，所定の現像液を供給する現像液吐出ノズルＮ１がノズルホルダ１４４と共にウェハＷ上の所定の吐出位置に移動する。
【００３５】
そして，例えば現像液の吐出準備が完了した中間タンク１６８から現像液を吐出する場合には，まずバルブ１６４が開放される。そして，ウェハＷ上に現像液を吐出する現像処理時には，バルブ１５２を開放することにより，中間タンク１６８内に蓄えられている現像液が，分岐管１６０及びバルブ１６４を通過して移送管１５０内に導かれ，さらに移送管１５０に介在している流量調節器１５８，フィルタ１５６，熱交換器１５４を通過して所望の状態に整えられた後，バルブ１５２を介して現像液吐出ノズルＮ１に供給される。そして，現像液は，この現像液吐出ノズルＮ１よりウェハＷ上に吐出される。また，ウェハＷ上に所定量の現像液が吐出された後は，バルブ１５２が閉じられる。
【００３６】
次いで，現像液が吐出されたウェハＷは，そのまま回転が継続され，現像液がウェハＷの全表面に均一に塗布された段階で，その回転が停止される。そして，このウェハＷは，そのまま所定時間，静止したまま放置され，現像が行われる。次いで，再びスピンチャック１３４が回転を開始されると共に，リンス液吐出ノズルＮ２が，ノズルホルダ１４６と共にウェハＷ上の所定の吐出位置に移動する。そして，制御器１３８の制御により，ウェハＷに塗布された現像液を洗い流す，例えば超純水から成るリンス液が，不図示のリンス液供給源からリンス液吐出ノズルＮ２に供給され，このリンス液供給ノズルＮ２から所定時間または所定量のリンス液が，ウェハＷ上に吐出され，現像液が洗い流される。また，スピンチャック１３４の回転は，リンス液の吐出終了後も継続して行われ，その遠心力によりウェハＷ上に残留したリンス液が弾きとばされると共に，ウェハＷの乾燥が行われる。
【００３７】
次いで，所定時間経過後，制御器１３８の制御信号によりスピンチャック１３４の回転，すなわちウェハＷの回転が停止され，ウェハＷは次の処理工程のため搬送される。そして再び，現像処理装置１２８内へ未処理のウェハＷが搬送され，上記と同様の現像処理が行われる。
【００３８】
このように，現像処理装置１２８においては，ウェハＷの処理が順次行われていくため，この現像処理に伴って，例えば中間タンク１６８内に蓄えられていた現像液は，次第に減少していく。そして，液面レベルセンサ２０４により，中間タンク１６８内の現像液の液面が下限レベルＬに近づいた場合には，ウェハＷへの現像液の吐出を行っていない時間内に，制御器１３８の制御によりバルブ１６４を閉じる。次いで，所定の間隔をおいて制御器１３８の制御によりバルブ１６６を開放し，現像液の吐出準備の整っている中間タンク１７０に切り替える構成となっている。従って，現像処理の中断を伴うことなく，中間タンク１６８から中間タンク１７０への切り替え，またはこの逆の切り替えを行うことができる。
【００３９】
そして，現像処理装置１２８への現像液の吐出は，以後，上記のごとく切り替えられた中間タンク１７０により行われる。また，この中間タンク１７０から現像液を吐出している間に，例えば現像液が下限レベルＬとなった中間タンク１６８に対して，前述した構成で現像液が上限レベルＨまで補充されると共に，現像液の脱気が行われる。さらに，現像液の脱気を行った後，中間タンク１６８内に不活性ガスを導入して，中間タンク１６８内を所定の圧力雰囲気にまで加圧し，現像液の吐出準備が完了する。そして，中間タンク１７０内の現像液が，例えば下限レベルＬ付近に達した場合には，上記のごとく中間タンク１６８への切り替えが行われる。
【００４０】
以上説明したように，現像処理装置１２８においては，中間タンク１６８，１７０に蓄えられている現像液中に浸漬するように，それぞれに対応する脱気部材２１２，２１４が配置される構成であるため，現像液の液中から効率よく脱気を行うことができる。また，脱気部材２１２，２１４は，可撓性を有するチューブ形状であるため，各種形状に成形することができ，例えば上記のように螺旋状に成形することにより，液面レベルセンサ２０４，２０６の設置が容易である。さらに，脱気部材２１２，２１４の中空部には，中空維持部材が設けられているため，脱気に伴う真空引きによっても脱気部材２１２，２１４が潰れることがない。
【００４１】
次に，他の現像液供給装置について説明する。なお，以下の説明において，中間タンク１６８，１７０は，略同一の構成であるため，ここでは中間タンク１６８を例に挙げて説明する。中間タンク１６８内には，図６に示した脱気部材３００が設置されている。この脱気部材３００は，図７に示したように，先の現像液供給装置において説明した，液体を通さないで通気性のみを有する材料，例えばＰＴＦＥ，ＰＦＡ，ＦＥＰ等に所定の加工を施した可撓性を有する略シート状の材料から成ると共に，このシート状の材料をお互いに張り合わせて形成した本体部３０２内に，中空部３０４を形成している。また，中空部３０４内には，真空引きによって中空部３０４が潰れることを防止すると共に，脱気部材３００を所定の形状に維持するための，略メッシュ状の線材３０６が設けられている。さらに，本体部３０２の所定の端部には，分岐管２０２が接続されていると共に，この分岐管２０２は，中空部３０４と連通している。そして，この本体部３０２を，所定の間隔を維持しながら螺旋状に巻くことにより，脱気部材３００が形成される。また，本体部３０２を螺旋状に巻いた際には，所定の間隔を維持するためのスペーサ３０８が所定の間隔をもって介挿される。
【００４２】
そして，上記のようにして形成された脱気部材３００を，中間タンク１６８内に設置する場合には，脱気部材３００の頂上部が，上限レベルＨよりも下方に位置するとと共に，脱気部材３００の底辺部は，中間タンク１６８の底面部付近に位置するように配置されている。従って，中間タンク１６８内に現像液が上限レベルＨにまで補充された後，現像液の脱気を行う場合には，脱気部材３００全体が現像液中に浸漬されることとなり，現像液中のみから効率良く脱気することができる。
【００４３】
また，脱気部材３００は，本体部３０２が略シート状であると共に，螺旋状に形成されているため，極めて容易に脱気部材３００の表面積を広げることができ，均一で効率のよい脱気が可能となる。さらに，脱気部材３００を螺旋状に成形することにより，脱気部材３００の中心に所定の空間を創出することができるため，中間タンク１６８内に脱気部材３００を設置した場合でも，液面レベルセンサ２０４の設置が容易である。
【００４４】
次に，実施の形態にかかる現像液供給装置について説明する。なお，以下の説明において，中間タンク１６８，１７０は，略同一の構成であるため，ここでは中間タンク１６８を例に挙げて説明する。中間タンク１６８には，前述したように所定の上限レベルＨ及び下限レベルＬが設定されていると共に，さらに上限レベルＨと下限レベルＬとの間の所定の位置には，図８に示したように中間レベルＭが設定されている。
【００４５】
そして，中間タンク１６８内の上限レベルＨと中間レベルＭとの間，中間レベルＭと下限レベルＬとの間，および下限レベルＬと中間タンク１６８の底部との間には，それぞれに対応する上部脱気部材４００ａ，中部脱気部材４００ｂ及び下部脱気部材４００ｃが，お互いに独立して設置されている。従って，これら上部脱気部材４００ａ，中部脱気部材４００ｂ及び下部脱気部材４００ｃは，お互いに高さが重ならないように配置されている。
【００４６】
また，上部脱気部材４００ａ，中部脱気部材４００ｂ及び下部脱気部材４００ｃは，第１の実施の形態において説明した脱気部材２１２と，略同一に構成したものが使用されている。従って，上部脱気部材４００ａ，中部脱気部材４００ｂ及び下部脱気部材４００ｃの中心に空間を創出することができるため，液面レベルセンサ２０４の設置が容易である。
【００４７】
また，上部脱気部材４００ａ，中部脱気部材４００ｂ及び下部脱気部材４００ｃには，それぞれに対応する分岐管４０２，４０４，４０６が接続されている。さらに，これら分岐管４０２，４０４，４０６は，それぞれに対応するバルブ４０８，４１０，４１２を介して，排気管２２４に接続されていると共に，排気管２２４は真空引き機構２３０に接続されている。また，バルブ４０８，４１０，４１２は，制御器１３８の制御により各々独立して開閉が制御されると共に，この制御は，液面レベルセンサ２０４によって検出される現像液の液面レベルに基づいて自動的に行われる構成となっている。
【００４８】
そして，中間タンク１６８内に，例えば上限レベルＨにまで現像液が補充された後，現像液の脱気を行う場合には，バルブ４０８，４１０，４１２が全て開放され，上部脱気部材４００ａ，中部脱気部材４００ｂ及び下部脱気部材４００ｃの全てから脱気が行われる。また，中間タンク１６８から現像液の吐出が行われた後，現像処理工程間の現像液の吐出が行われていない時に，現像液の脱気を行う場合には，以下のようにバルブ４０８，４１０，４１２の開閉が制御される。すなわち，液面レベルセンサ２０４により，例えば現像液の液面レベルが上限レベルＨと中間レベルＭとの間にあることを検知した場合には，この液面レベルセンサ２０４の検出信号を基づいて，制御器１３８の制御によりバルブ４０８が閉じられたまま，バルブ４１０，４１２が開放される。従って，現像液の脱気は，現像液中に完全に浸漬している中部脱気部材４００ｂ及び下部脱気部材４００ｃのみによって行われ，上部脱気部材４００ａからは行われない。また，例えば現像液の液面レベルが中間レベルＭと下限レベルＬとの間にある場合には，制御器１３８によりバルブ４１２のみが開放され，下部脱気部材４００ｃのみから脱気が行われる。このように，当該実施の形態にかかる現像液供給装置における現像液の脱気は，常に現像液中のみから行われる構成であるため，現像液の脱気を非常に効率よく脱気を行うことができる。
【００４９】
以上，本発明の好適な実施の形態について，添付図面を参照しながら説明したが，本発明はかかる構成に限定されない。特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇において，当業者であれば，各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり，それら変更例及び修正例についても本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【００５０】
先に示した例において，脱気部材２１２，２１４及び３００の形状を螺旋状に成形した例を挙げて説明したが，本発明はかかる構成に限定されるものではなく，本発明を適用する装置に応じて，または処理液の種類に応じて，いかなる形状に成形した場合でも効率的な脱気が可能である。また，脱気部材２１２，２１４及び３００のように，脱気部材を，例えば螺旋状に巻く際には，必要とされる脱気量やタンクの形状等を勘案して，適宜任意の巻き数を設定することができる。
【００５１】
また，上記の実施の形態において，上部脱気部材４００ａ，中部脱気部材４００ｂ及び下部脱気部材４００ｃを，脱気部材２１２，２１４と略同一の形状に成形した例を挙げて説明したが，本発明はかかる構成に限定されるものではない。例えば，先に説明した脱気部材３００と略同一に成形した脱気部材を，上部脱気部材４００ａ，中部脱気部材４００ｂ及び下部脱気部材４００ｃに変えて配置した構成としても良く，またこれに限定されず，いかなる形状に成形された脱気部材を設置した構成としても実施可能である。さらに，脱気部材４００は，上部脱気部材４００ａ，中部脱気部材４００ｂ及び下部脱気部材４００ｃから構成されている例を挙げて説明したが，少なくとも２つ以上の脱気部材から構成されていれば，本実施の形態は実施可能である。
【００５２】
また，既述の実施の形態において，本発明を現像処理装置１２８，１２９に適用することにより，具体化した例について説明したが，本発明はかかる構成に限定されるものではなく，各種塗布装置に対しても適用が可能であると共に，また被処理基板としては，ウェハだけではなく，例えばＬＣＤ用ガラス基板であっても実施可能である。
【００５３】
【発明の効果】
以上説明したように，本発明によれば，タンク内に蓄えられる処理液の液中に浸漬するようにして，脱気部材が設置される構成となっている。従って，処理液中から直接脱気が可能であると共に，容易に脱気面積の拡大ができるため，非常に効率的な脱気が可能となる。また，脱気部材を，例えば可撓性を有するチューブ形状とし，例えば螺旋状に成形してタンク内に設置することにより，脱気面積の拡大が容易となると共に，脱気部材の中心に空間が創出されるため，液面レベルセンサの設置を妨げることがない。さらに，脱気部材の本体を略シート状とすると共に，例えば螺旋状に巻くことにより，脱気面積の拡大を極めて容易に行うことができ，かつ脱気部材の中心に空間が創出されるため，液面レベルセンサの設置も容易となる。さらにまた，複数の脱気部材を，各々の頂上部が異なった高さとなるようにタンク内に設置することにより，常時処理液中に浸漬している脱気部材から効率の良い脱気が可能となる。この場合，各脱気部材による脱気の制御を，タンク内の液面レベルセンサによって検出される液面レベルに基づいて自動的に行う構成とすることで，円滑な脱気を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明を適用可能な現像処理装置を組み込んだ塗布現像処理システムの概略的な斜視図である。
【図２】図１に示した塗布現像処理システムにおける現像処理装置の概略的な断面図である。
【図３】図１に示した塗布現像処理システムにおける現像処理装置に現像液を供給する現像液供給装置の概略的な説明図である。
【図４】図３に示した脱気部材の概略的な断面図である。
【図５】図３に示した脱気部材の概略的な斜視図である。
【図６】本発明に用いることができる他の脱気部材の概略的な斜視図である。
【図７】図６に示した脱気部材の構成を説明するための概略的な斜視図である。
【図８】本発明に用いることができる他の脱気部材の概略的な説明図である。
【符号の説明】
１００ 塗布現像処理システム
１２８，１２９ 現像処理装置
１３２ 処理容器
１３８ 制御器
１６８，１７０ 中間タンク
１８２ 現像液供給源
２０２ ガス供給源
２０４，２０６ 液面レベルセンサ
２１２，２１４，３００，４００ 脱気部材
２１６，３０４ 中空部
２１８，３０６ 線材
２２０，２２６ 分岐管
２３０ 真空引き機構
３０２ 本体部
３０８ スペーサ
Ｎ１ 現像液吐出ノズル
Ｗ ウェハ
【発明の属する技術分野】
本発明は，被処理基板に処理液を供給して所定の処理を施す装置に，当該処理液を供給するための処理液供給装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えば，半導体製造プロセスおけるいわゆる現像処理工程においては，通常，次のプロセスが行われている。まず，所定のパターンが露光されたレジスト膜を有する被処理基板，例えば半導体ウェハ（以下，「ウェハ」と称する。）を，スピンチャックと呼ばれる回転載置台の上に保持させる。次いで，スピンチャックを回転させると共に，ウェハの中心上方の位置にて，適宜の吐出部材，例えばノズルから現像液を吐出させる。その結果，該現像液が遠心力によりウェハの表面上で均一に拡散し，塗布されることにより所望の現像処理が行われている。
【０００３】
現像処理装置に現像液を供給する現像液供給装置は，例えば現像液を蓄えているメインタンク，メインタンクから供給される現像液を貯留する中間タンク，現像液を所定の流量に調整する流量調節器，現像液中の不純物を除去するフィルタ，現像液を所定の温度に調整する温度調節手段等が，パイプ等の移送経路を通じて順次接続される構成となっている。そして，処理時には，中間タンク内に所定のガスを導入し，該タンク内の圧力雰囲気を所定の圧力に加圧することにより，現像液をノズルから吐出させる構成となっている。
【０００４】
中間タンク内の現像液が，所定の下限レベルにまで達した時には，中間タンク内へのガスの導入を停止すると共に，例えば液面上方に備えられている排気口から排気管を介して真空引きし，所定の減圧雰囲気の下で，メインタンクから現像液を供給して，所定の上限レベルにまで補充している。そして，補充終了後も，処理が開始されるまでの所定の時間は，そのまま真空引きが継続され，現像液中に溶け込んでいるガス，例えばＯ２，Ｎ２等を脱気している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら，液面上方から真空引きし，脱気する場合には，脱気量はタンクの断面積，すなわち液面の表面積の広狭によって左右されてしまう。例えば，効率よく脱気するためには，高さに対して径をできる限り大きくすればよいが，この場合には，当該装置の大型化を招くと共に，現像液の安定供給を図ることが困難となる等の問題が生じてしまう。従って，従来の現像液供給装置では，効率の良い脱気に限界がある。
【０００６】
本発明は，従来の処理液供給装置が有する上記のような問題点に鑑みてなされたものであり，処理液中に脱気部材を浸漬し，この脱気部材を介して脱気することにより，効率の良い脱気が可能な，新規かつ改良された処理液供給装置を提供することを目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため，まず本発明は，被処理基板に処理液を供給して所定の処理を施す装置に処理液を供給するための装置であって，処理液を貯留するタンクと，タンク内に設けられてこのタンク内の処理液に浸漬する脱気部材とを有し，この脱気部材の本体は，液体は通過させず気体のみを通過させる気液分離材からなり，さらに脱気部材は，本体内に中空部を形成して中空構造を維持する中空維持部材を備え，当該中空部は，タンク外に設けられた排気手段に排気経路を通じて接続されている。
【０００８】
かかる構成によれば，処理液の脱気は，処理液中に浸漬された脱気部材によって行うため，脱気面積が拡大すると共に，脱気部材の浸漬量を増やすことにより，容易に脱気効率を向上させることができる。また，脱気部材の本体は，液体を通さないで通気性のみを有する材料，例えばＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン），ＰＦＡ（ポリフルオロアルコキシ），ＦＥＰ（４フッ化エチレン・６フッ化プロピレン）等に所定の加工を施した材料から成ると共に，その内部に中空部を形成した構成であるため，脱気部材本体の全表面から均一に，かつ効率よく脱気を行うことができる。さらに，脱気部材の本体内には，例えば螺旋状の線材や合成樹脂性のスペーサ等から成る中空維持部材が備えられているため，中空部内を所定の減圧雰囲気にまで真空引きしても，中空部が潰れることがなく，効率の良い脱気を行うことができる。
【０００９】
脱気部材の本体は，可撓性を有するチューブ形状であってもよい。脱気部材の本体を，適宜，任意の形態にすることができるため，脱気部材の本体を容易にタンク内に設置することができると共に，脱気面積の拡大も容易に行うことができるからである。
【００１０】
脱気部材は，螺旋状に成形されていてもよい。脱気部材の中心，すなわち例えばタンクの中心に適宜空間を創出することができるため，例えばフロートセンサ等の液面レベルセンサの設置が容易となるからである。
【００１１】
脱気部材は，液体は通過させず気体のみを通過させる気液分離材によって内部に中空部を形成した略シート状の本体を，所定の間隔を維持しつつ曲げて成形され，さらに脱気部材は，中空部を確保する中空維持部材と，間隔を維持する間隔維持部材とを備え，中空部は，タンク外に設けられた排気手段に排気経路を通じて接続されていてもよい。
【００１２】
かかる構成によれば，脱気部材は，略シート状の本体を所定の間隔を維持しつつ，例えば螺旋状に巻くことにより形成しているため，脱気面積の拡大を極めて容易に行うことができる。また，このように脱気部材の本体を，螺旋状に巻くことにより，適宜空間を創出することができるため，例えばフロートセンサ等の液面レベルセンサの設置が容易となる。さらに，中空部内には，中空維持部材，例えばメッシュ状の線材が備えられているため，真空引きによっても中空部が潰れることがない。また，脱気部材の本体を，例えば所定の間隔を維持しながら略つづら折り状に曲げて成形しても良く，この場合にも脱気面積を容易に拡大することができる。なお，当該脱気部材を形成する略シート状の本体は，先に説明した，例えばＰＴＦＥ，ＰＦＡ，ＦＥＰ等に所定の加工を施した材料から成形することができる。
【００１３】
そして請求項１に記載の発明によれば，被処理基板に処理液を供給して所定の処理を施す装置に処理液を供給するための装置であって，処理液を貯留するタンクと，タンク内に設けられてこのタンク内の処理液に浸漬する複数の脱気部材を有し，各脱気部材の本体は，液体は通過させず気体のみを通過させる気液分離材からなり，さらに各脱気部材は，各々本体内に中空部を形成して中空構造を維持する中空維持部材を備え，当該中空部は，タンク外に設けられた排気手段に排気経路を通じて接続されており，各脱気部材は，その頂上部が各々タンク内で異なった高さとなるように，タンク内に配置されていることを特徴としている。
【００１４】
かかる構成によれば，各脱気部材は，その頂上部が各々タンク内で異なった高さとなるように取り付けられているため，液面レベルが変化した場合，例えばタンク内に処理液を補充後，未使用時のように，処理液が例えば所定の上限レベルにまで満たされている場合だけでなく，処理液を吐出し液面レベルが下がった場合でも，常時液中から効率の良い脱気を行うことができる。なお，当該発明においては，各脱気部材の頂上部の高さのみが異なる構成であればよく，例えば一の脱気部材の頂上部よりも下方の部分が，他の脱気部材の頂上部よりも下方に位置するように，重複して配置される構成であっても良い。また，各脱気部材は，請求項１〜４に記載の発明で説明したように，例えばチューブ状の脱気部材や，螺旋状の脱気部材，またはこれらの組み合わせとすることができる。
【００１５】
そして，請求項２に記載の発明によれば，タンク内の処理液の液面レベルを検出する液面センサと，この液面センサによって得られる液面レベルに基づいて，各脱気部材の中空部と排気手段との間の排気経路の開閉を制御する制御装置とを備えたことを特徴としている。従って，処理液を吐出し，所定の上限レベルよりも液面レベルが下がった場合でも，例えばフロートセンサなどの液面センサにより処理液の液面を測定し，その液面に応じて各脱気部材からの排気を制御しているため，常時，自動的に液中にある脱気部材のみから効率的な脱気を行うことができる。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下に添付図面を参照しながら，本発明にかかる処理液供給装置を現像液供給装置に適用した，実施の形態について詳細に説明する。なお，以下の説明において，略同一の機能及び構成を有する構成要素については，同一番号を付することにより，重複説明を省略することにする。
【００１７】
まず，基本となる現像液供給装置を，現像処理装置に適用した例を挙げて説明する。図１は，例えばウェハＷに対して洗浄処理，レジストの定着性を高めるアドヒージョン処理，レジスト液の塗布処理，これらの処理後に実施される適宜の加熱処理，および該加熱処理後にウェハＷを所定温度にまで冷ます冷却処理，および露光後の現像処理や加熱処理などの処理を個別に行う各種処理装置を１つのシステムとしてまとめた塗布現像処理システム１００の概観を示している。そして，本実施の形態にかかる現像液供給装置は，現像処理装置１２８，１２９としてこの塗布現像処理システム１００にユニットとして組み込まれている。
【００１８】
この塗布現像処理システム１００は，１ロット分のウェハＷ，例えば２５枚のウェハＷを収納する収納体であるカセットＣを整列して複数載置する載置部１０２と，この載置部１０２に載置されたカセットＣ内のウェハＷを取り出して，メイン搬送アーム１０４へと搬送する搬送機構１０６とを備えている。また，搬送機構１０６は、カセットＣの整列方向に沿って設けられている搬送路１０８上を移動自在になっている。そして，ウェハＷに対して所定の処理を行う各種の処理装置は，２つのメイン搬送アーム１０４，１１０の各搬送路１１２，１１４を挟んだ両側に配置されている。
【００１９】
さらに，カセットＣから取り出されたウェハＷの表面を洗浄するため，ウェハＷを回転させながらブラシ洗浄するブラシ洗浄装置１１６，ウェハＷに対して高圧ジェット洗浄する水洗洗浄装置１１８，ウェハＷの表面を疎水化処理してレジストの定着性を向上させるアドヒージョン処理装置１２０，ウェハＷを所定温度に冷却する冷却処理装置１２２，回転するウェハＷの表面にレジスト液を塗布するレジスト液塗布装置１２４，レジスト液塗布後のウェハＷを加熱したり，露光後のウェハＷを加熱する加熱処理装置１２６，露光後のウェハＷを回転させながらその表面に現像液を供給して現像処理する現像処理装置１２８，１２９が配置されている。そして，これら各処理装置は，ある程度集約化されており，適当な処理装置群にまとめることで，設置スペースの縮小，並びに処理効率の向上が図られている。また，これら各種処理装置に対するウェハＷの搬入出は，２つのメイン搬送アーム１０４，１１０によって行われている。また，これら各処理装置等は，ケーシング１３０内に配置されている。そして，本実施の形態にかかる現像液供給装置は，現像処理装置１２８，１２９に適用されている。
【００２０】
次に，現像処理装置１２８，１２９について説明する。ただし，現像処理装置１２８と１２９は同一の構成のため，以下では現像処理装置１２８を主として説明する。図２に示したように，現像処理装置１２８のケーシング１２８ａ内のウェハＷを収容する処理容器１３２の中には，ウェハＷを真空によって水平状態に吸着保持するスピンチャック１３４が備えられており，このスピンチャック１３４は，処理容器１３２の下方に装備されているパルスモータなどの駆動機構１３６によって回転自在である。また，駆動機構１３６は，制御器１３８（図３を参照。）により制御されると共に，この制御器１３８は，駆動機構１３６内に設けられている不図示のエンコーダから発振されるパルスの波形を一周期分ごとにカウントする。従って，制御器１３８に所定の数値を設定することによって，スピンチャック１３４の回転数を任意に制御することができる。
【００２１】
また，処理容器１３２内の雰囲気は、処理容器１３２の底部中心から、外部に設置されている真空ポンプなどの排気手段（図示せず。）によって排気される。さらに，処理液となる現像液やリンス液となる純水は，スピンチャック１３４の外方から，処理容器１３２の底部に設けられた排液管１４０を通じて，処理容器１３２の下方に設置されているドレインタンク１４２へと排出される。
【００２２】
また，現像処理装置１２８においては，ウェハＷに吐出される現像液は現像液吐出ノズルＮ１から，またリンス液はリンス液吐出ノズルＮ２から、それぞれ別々に吐出される構成となっている。さらに，現像液吐出ノズルＮ１及びリンス液吐出ノズルＮ２は，それぞれに対応するノズルホルダ１４４，１４６によって保持されていると共に，これらノズルホルダ１４４，１４６は，ケーシング１２８ａ側壁の一対のレール１４８に水平移動自在なように取り付けられている。そして，ノズルホルダ１４４，１４６内には，不図示の駆動機構が設けられており，この駆動機構は制御器１３８（図３を参照。）によって制御されている。従って，制御器１３８からの制御信号によって駆動機構が所定の回転をすることにより，ノズルホルダ１４４，１４６はレール１４８に沿って所定の平行移動を行う構成となっている。なお，図２に示した現像液吐出ノズルＮ１は，ウェハＷの中心上方に位置する所定の吐出位置に配置され，またリンス液吐出ノズルＮ２は，ケーシング１２８ａの側壁付近の所定の待機位置に配置されている場合を表したものである。
【００２３】
次に，現像処理装置１２８の現像液吐出ノズルＮ１への現像液の供給構成について説明する。現像液吐出ノズルＮ１には，現像液を現像液吐出ノズルにＮ１に供給する移送管１５０が接続されている。さらに，この移送管１５０には，図３に示したように，現像液の供給及び停止を行うバルブ１５２，現像液を所定の温度，例えば２３℃に調整する熱交換器１５４，現像液中に混入した不純物を除去するフィルタ１５６，現像液の流量を調整する流量調節器１５８が介挿されている。そして，流量調節器１５８を介した移送管１５０は，分岐管１６０，１６２に接続されていると共に，この分岐管１６０，１６２は，それぞれに対応するバルブ１６４，１６６を介して，各々に対応する現像液を蓄えるための中間タンク１６８，１７０に接続されている。また，バルブ１５２，１６４，１６６は，制御器１３８からの制御信号により，その開閉が制御される構成となっている。
【００２４】
そして，中間タンク１６８，１７０には，それぞれに対応する分岐管１７２，１７４が接続されていると共に，これら分岐管１７２，１７４は，各々に対応するバルブ１７６，１７８を介して供給管１８０に接続されている。さらに，この供給管１８０には，中間タンク１６８，１７０に現像液を補充する，当該装置外部に備えられた処理液供給源１８２が接続されている。また，中間タンク１６８，１７０には，それぞれに対応する分岐管１８４，１８６が接続されていると共に，この分岐管１８４，１８６には，各々に対応するバルブ１８８，１９０を介してガス供給管２００が接続されている。そして，このガス供給管２００には，タンク１６８，１７０内を所定の圧力雰囲気にまで加圧するするための不活性ガス，例えばＮ２を供給するガス供給源１８６が接続されている。なお，バルブ１７６，１７８，１８８，１９０は，制御器１３８からの制御信号によって，それぞれの開閉が調整される構成となっている。
【００２５】
また，中間タンク１６８，１７０の略中心には，それぞれに対応する略棒状の液面レベルセンサ２０４，２０６が縦方向に配置されている。この液面レベルセンサ２０４，２０６は，例えばフロートセンサや光学センサなどから構成されており，それぞれに対応する中間タンク１６８，１７０内に蓄えられている現像液の液面を検出し，その測定結果を常時，制御器１３８に伝達している。さらに，中間タンク１６８，１７０内の上壁面には，それぞれに対応する圧力センサ２０８，２１０が配置されている。この圧力センサ２０８，２１０は，それぞれに対応する中間タンク１６８，１７０内の圧力を検出して，その測定結果を常時，制御器１３８に伝達している。また，中間タンク１６８，１７０には，それぞれに対応する上限レベルＨと下限レベルＬとが設定されている。この上限レベルＨと下限レベルＬとの間は，例えば中間タンク１６８から現像液の吐出が行われている間に，中間タンク１７０において現像液の補充が可能であると共に，現像液の補充後，所定の脱気を行い，かつ中間タンク１７０内を所定の圧力雰囲気にまで加圧して，現像液の吐出準備を行うことができる範囲で設定されている。さらに，下限レベルＬは，例えば中間タンク１６８から中間タンク１７０への切り替えが何らかの原因により行えなかった場合でも，少なくとも１ロット分以上のウェハＷの処理を行うことができように設定されている。
【００２６】
また，中間タンク１６８，１７０内には，それぞれに対応する，本実施の形態を構成する脱気部材２１２，２１４が設けられている。なお，脱気部材２１２，２１４は，略同一の構成であるため，ここでは脱気部材２１２についてのみ説明する。この脱気部材２１２は，図４に示したように，液体を通さないで通気性のみを有する材料，例えばＰＴＦＥ，ＰＦＡ，ＦＥＰ等に所定の加工を施した材料から成ると共に，その内部に中空部２１６を形成した可撓性を有するチューブ形状となっている。また，中空部２１６内には，脱気の際の真空引きによって脱気部材２１２が潰れることを防止すると共に，脱気部材２１２を所定の形状に維持するための，螺旋状の線材２１８が設けられている。
【００２７】
さらに，脱気部材２１２は，中間タンク１６８に収容された場合には，図５に示したように，例えば液面レベルセンサ２０４を中心として，螺旋状に配置されている。さらにまた，脱気部材２１２は，図３に示したように，脱気部材２１２の頂上部が上限レベルＨよりも下方に配置されていると共に，脱気部材２１２の下部が中間タンク１６８の底部付近に位置するように設置されている。従って，後述するように，特に上限レベルＨにまで現像液を補充した場合には，現像液中における脱気部材２１２の表面積，すなわち脱気面積が非常に大きくなるため，現像液中から非常に効率的に脱気することが可能となる。さらに，脱気部材２１２の中心には，所定の空間が創出されるため，容易に液面レベルセンサ２０４を配置することができる。
【００２８】
そして，脱気部材２１２には，分岐管２２０が接続されていると共に，この分岐管２２０は，バルブ２２２を介して排気管２２４に接続されている。また，中間タンク１７０内に設けられている脱気部材２１４には，分岐管２２６が接続されていると共に，この分岐管２２６は，バルブ２２８を介して排気管２２４に接続されている。そして，分岐管２２０，２２６が接続されている排気管２２４は，真空ポンプなどから成る真空引き機構２３０に接続されている。また，バルブ２２２，２２８は，制御器１３８からの制御信号により，各々開閉が制御される構成となっている。
【００２９】
現像処理装置１２８，１２９の主要部は，以上のように構成されている。次に，図２，３を参照しながら，現像処理装置１２８，１２９への現像液の供給構成及び現像液の供給制御について説明する。なお，以下の説明では，現像処理装置１２８を主として説明する。まず，図３に示した，例えば中間タンク１６８への現像液の補充及び現像液の吐出準備について説明すると，真空引き機構２３０を作動させると共に，バルブ２２２を開放し，脱気部材２１２により中間タンク１６８内を所定の圧力雰囲気にまで減圧する。なお，バルブ１６４は，現像液吐出時まで閉じられている。
【００３０】
次いで，脱気部材２１２による中間タンク１６８内の真空引きを継続したまま，バルブ１７６を開放し，現像液供給源１８２から中間タンク１６８内に現像液を補充する。そして，現像液を所定の上限レベルＨにまで補充した後，バルブ１７６を閉じて現像液の補充を停止すると共に，さらに所定時間，現像液中に浸漬した脱気部材２１２によって，現像液中のから直接脱気を行う。なお，この脱気時間，すなわち脱気量は，本実施の形態を実施する装置や現像液の種類に応じてあらかじめ実験的に求めておき，その結果に基づいて設定されることが望ましい。
【００３１】
そして，所定の現像液の脱気を行った後，バルブ２２２を閉じると共に，バルブ１８８を開放してガス供給源２０２から所定の不活性ガス，例えばＮ２を中間タンク１６８内に供給する。しかる後，中間タンク１６８内が所定の圧力雰囲気にまで加圧され，現像液の吐出準備が完了する。なお，中間タンク１６８内の圧力雰囲気は，圧力センサ２０８によって常時検出されている。従って，圧力センサ２０８から制御器１３８へ伝達される測定値に基づいて，バルブ１７６，１８８，２２２の開閉が調整されているため，中間タンク１６８内は常時所望の圧力雰囲気に制御されている。
【００３２】
また，中間タンク１７０においても中間タンク１６８と同様の構成で，現像液の補充及び吐出準備が行われている。すなわち，真空引き機構２３０を作動させると共に，バルブ２２８を開放し，脱気部材２１４により中間タンク１７０内を所定の圧力雰囲気にまで減圧する。そして，中間タンク１７０内の真空引きを継続したまま，バルブ１７８を開放し，現像液供給源１８２から中間タンク１７０内に現像液を補充する。所定の上限レベルＨにまで現像液を補充した後，バルブ１７８を閉じて現像液の補充を停止すると共に，さらに所定時間，現像液中に配置されている脱気部材２１４によって真空引きを継続し，現像液の脱気を行う。
【００３３】
そして，所定の脱気を行った後，バルブ２２８を閉じると共に，バルブ１９０を開放してガス供給源２０２から所定の不活性ガス，例えばＮ２を中間タンク１７０内に供給し，中間タンク１７０内を所定の圧力雰囲気にまで加圧し，現像液の吐出準備が完了する。なお，中間タンク１７０内の圧力雰囲気は，中間タンク１６８と同様に，圧力センサ２１０によって常時検出しており，この測定値に基づいて制御器１３８がバルブ１７８，１９０，２２８の開閉を制御している。従って，中間タンク１７０内は，常時所望の圧力雰囲気に制御されている。なお，バルブ１６６は，現像液吐出時まで閉じられている。
【００３４】
次に，現像液の吐出構成について説明する。まず，図２に示した現像処理装置１２８の処理容器１３２内のスピンチャック１３４上にウェハＷが載置されると，真空によって吸着保持される。次いで，スピンチャック１３４が回転し，所定の回転数に維持されると共に，所定の現像液を供給する現像液吐出ノズルＮ１がノズルホルダ１４４と共にウェハＷ上の所定の吐出位置に移動する。
【００３５】
そして，例えば現像液の吐出準備が完了した中間タンク１６８から現像液を吐出する場合には，まずバルブ１６４が開放される。そして，ウェハＷ上に現像液を吐出する現像処理時には，バルブ１５２を開放することにより，中間タンク１６８内に蓄えられている現像液が，分岐管１６０及びバルブ１６４を通過して移送管１５０内に導かれ，さらに移送管１５０に介在している流量調節器１５８，フィルタ１５６，熱交換器１５４を通過して所望の状態に整えられた後，バルブ１５２を介して現像液吐出ノズルＮ１に供給される。そして，現像液は，この現像液吐出ノズルＮ１よりウェハＷ上に吐出される。また，ウェハＷ上に所定量の現像液が吐出された後は，バルブ１５２が閉じられる。
【００３６】
次いで，現像液が吐出されたウェハＷは，そのまま回転が継続され，現像液がウェハＷの全表面に均一に塗布された段階で，その回転が停止される。そして，このウェハＷは，そのまま所定時間，静止したまま放置され，現像が行われる。次いで，再びスピンチャック１３４が回転を開始されると共に，リンス液吐出ノズルＮ２が，ノズルホルダ１４６と共にウェハＷ上の所定の吐出位置に移動する。そして，制御器１３８の制御により，ウェハＷに塗布された現像液を洗い流す，例えば超純水から成るリンス液が，不図示のリンス液供給源からリンス液吐出ノズルＮ２に供給され，このリンス液供給ノズルＮ２から所定時間または所定量のリンス液が，ウェハＷ上に吐出され，現像液が洗い流される。また，スピンチャック１３４の回転は，リンス液の吐出終了後も継続して行われ，その遠心力によりウェハＷ上に残留したリンス液が弾きとばされると共に，ウェハＷの乾燥が行われる。
【００３７】
次いで，所定時間経過後，制御器１３８の制御信号によりスピンチャック１３４の回転，すなわちウェハＷの回転が停止され，ウェハＷは次の処理工程のため搬送される。そして再び，現像処理装置１２８内へ未処理のウェハＷが搬送され，上記と同様の現像処理が行われる。
【００３８】
このように，現像処理装置１２８においては，ウェハＷの処理が順次行われていくため，この現像処理に伴って，例えば中間タンク１６８内に蓄えられていた現像液は，次第に減少していく。そして，液面レベルセンサ２０４により，中間タンク１６８内の現像液の液面が下限レベルＬに近づいた場合には，ウェハＷへの現像液の吐出を行っていない時間内に，制御器１３８の制御によりバルブ１６４を閉じる。次いで，所定の間隔をおいて制御器１３８の制御によりバルブ１６６を開放し，現像液の吐出準備の整っている中間タンク１７０に切り替える構成となっている。従って，現像処理の中断を伴うことなく，中間タンク１６８から中間タンク１７０への切り替え，またはこの逆の切り替えを行うことができる。
【００３９】
そして，現像処理装置１２８への現像液の吐出は，以後，上記のごとく切り替えられた中間タンク１７０により行われる。また，この中間タンク１７０から現像液を吐出している間に，例えば現像液が下限レベルＬとなった中間タンク１６８に対して，前述した構成で現像液が上限レベルＨまで補充されると共に，現像液の脱気が行われる。さらに，現像液の脱気を行った後，中間タンク１６８内に不活性ガスを導入して，中間タンク１６８内を所定の圧力雰囲気にまで加圧し，現像液の吐出準備が完了する。そして，中間タンク１７０内の現像液が，例えば下限レベルＬ付近に達した場合には，上記のごとく中間タンク１６８への切り替えが行われる。
【００４０】
以上説明したように，現像処理装置１２８においては，中間タンク１６８，１７０に蓄えられている現像液中に浸漬するように，それぞれに対応する脱気部材２１２，２１４が配置される構成であるため，現像液の液中から効率よく脱気を行うことができる。また，脱気部材２１２，２１４は，可撓性を有するチューブ形状であるため，各種形状に成形することができ，例えば上記のように螺旋状に成形することにより，液面レベルセンサ２０４，２０６の設置が容易である。さらに，脱気部材２１２，２１４の中空部には，中空維持部材が設けられているため，脱気に伴う真空引きによっても脱気部材２１２，２１４が潰れることがない。
【００４１】
次に，他の現像液供給装置について説明する。なお，以下の説明において，中間タンク１６８，１７０は，略同一の構成であるため，ここでは中間タンク１６８を例に挙げて説明する。中間タンク１６８内には，図６に示した脱気部材３００が設置されている。この脱気部材３００は，図７に示したように，先の現像液供給装置において説明した，液体を通さないで通気性のみを有する材料，例えばＰＴＦＥ，ＰＦＡ，ＦＥＰ等に所定の加工を施した可撓性を有する略シート状の材料から成ると共に，このシート状の材料をお互いに張り合わせて形成した本体部３０２内に，中空部３０４を形成している。また，中空部３０４内には，真空引きによって中空部３０４が潰れることを防止すると共に，脱気部材３００を所定の形状に維持するための，略メッシュ状の線材３０６が設けられている。さらに，本体部３０２の所定の端部には，分岐管２０２が接続されていると共に，この分岐管２０２は，中空部３０４と連通している。そして，この本体部３０２を，所定の間隔を維持しながら螺旋状に巻くことにより，脱気部材３００が形成される。また，本体部３０２を螺旋状に巻いた際には，所定の間隔を維持するためのスペーサ３０８が所定の間隔をもって介挿される。
【００４２】
そして，上記のようにして形成された脱気部材３００を，中間タンク１６８内に設置する場合には，脱気部材３００の頂上部が，上限レベルＨよりも下方に位置するとと共に，脱気部材３００の底辺部は，中間タンク１６８の底面部付近に位置するように配置されている。従って，中間タンク１６８内に現像液が上限レベルＨにまで補充された後，現像液の脱気を行う場合には，脱気部材３００全体が現像液中に浸漬されることとなり，現像液中のみから効率良く脱気することができる。
【００４３】
また，脱気部材３００は，本体部３０２が略シート状であると共に，螺旋状に形成されているため，極めて容易に脱気部材３００の表面積を広げることができ，均一で効率のよい脱気が可能となる。さらに，脱気部材３００を螺旋状に成形することにより，脱気部材３００の中心に所定の空間を創出することができるため，中間タンク１６８内に脱気部材３００を設置した場合でも，液面レベルセンサ２０４の設置が容易である。
【００４４】
次に，実施の形態にかかる現像液供給装置について説明する。なお，以下の説明において，中間タンク１６８，１７０は，略同一の構成であるため，ここでは中間タンク１６８を例に挙げて説明する。中間タンク１６８には，前述したように所定の上限レベルＨ及び下限レベルＬが設定されていると共に，さらに上限レベルＨと下限レベルＬとの間の所定の位置には，図８に示したように中間レベルＭが設定されている。
【００４５】
そして，中間タンク１６８内の上限レベルＨと中間レベルＭとの間，中間レベルＭと下限レベルＬとの間，および下限レベルＬと中間タンク１６８の底部との間には，それぞれに対応する上部脱気部材４００ａ，中部脱気部材４００ｂ及び下部脱気部材４００ｃが，お互いに独立して設置されている。従って，これら上部脱気部材４００ａ，中部脱気部材４００ｂ及び下部脱気部材４００ｃは，お互いに高さが重ならないように配置されている。
【００４６】
また，上部脱気部材４００ａ，中部脱気部材４００ｂ及び下部脱気部材４００ｃは，第１の実施の形態において説明した脱気部材２１２と，略同一に構成したものが使用されている。従って，上部脱気部材４００ａ，中部脱気部材４００ｂ及び下部脱気部材４００ｃの中心に空間を創出することができるため，液面レベルセンサ２０４の設置が容易である。
【００４７】
また，上部脱気部材４００ａ，中部脱気部材４００ｂ及び下部脱気部材４００ｃには，それぞれに対応する分岐管４０２，４０４，４０６が接続されている。さらに，これら分岐管４０２，４０４，４０６は，それぞれに対応するバルブ４０８，４１０，４１２を介して，排気管２２４に接続されていると共に，排気管２２４は真空引き機構２３０に接続されている。また，バルブ４０８，４１０，４１２は，制御器１３８の制御により各々独立して開閉が制御されると共に，この制御は，液面レベルセンサ２０４によって検出される現像液の液面レベルに基づいて自動的に行われる構成となっている。
【００４８】
そして，中間タンク１６８内に，例えば上限レベルＨにまで現像液が補充された後，現像液の脱気を行う場合には，バルブ４０８，４１０，４１２が全て開放され，上部脱気部材４００ａ，中部脱気部材４００ｂ及び下部脱気部材４００ｃの全てから脱気が行われる。また，中間タンク１６８から現像液の吐出が行われた後，現像処理工程間の現像液の吐出が行われていない時に，現像液の脱気を行う場合には，以下のようにバルブ４０８，４１０，４１２の開閉が制御される。すなわち，液面レベルセンサ２０４により，例えば現像液の液面レベルが上限レベルＨと中間レベルＭとの間にあることを検知した場合には，この液面レベルセンサ２０４の検出信号を基づいて，制御器１３８の制御によりバルブ４０８が閉じられたまま，バルブ４１０，４１２が開放される。従って，現像液の脱気は，現像液中に完全に浸漬している中部脱気部材４００ｂ及び下部脱気部材４００ｃのみによって行われ，上部脱気部材４００ａからは行われない。また，例えば現像液の液面レベルが中間レベルＭと下限レベルＬとの間にある場合には，制御器１３８によりバルブ４１２のみが開放され，下部脱気部材４００ｃのみから脱気が行われる。このように，当該実施の形態にかかる現像液供給装置における現像液の脱気は，常に現像液中のみから行われる構成であるため，現像液の脱気を非常に効率よく脱気を行うことができる。
【００４９】
以上，本発明の好適な実施の形態について，添付図面を参照しながら説明したが，本発明はかかる構成に限定されない。特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇において，当業者であれば，各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり，それら変更例及び修正例についても本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【００５０】
先に示した例において，脱気部材２１２，２１４及び３００の形状を螺旋状に成形した例を挙げて説明したが，本発明はかかる構成に限定されるものではなく，本発明を適用する装置に応じて，または処理液の種類に応じて，いかなる形状に成形した場合でも効率的な脱気が可能である。また，脱気部材２１２，２１４及び３００のように，脱気部材を，例えば螺旋状に巻く際には，必要とされる脱気量やタンクの形状等を勘案して，適宜任意の巻き数を設定することができる。
【００５１】
また，上記の実施の形態において，上部脱気部材４００ａ，中部脱気部材４００ｂ及び下部脱気部材４００ｃを，脱気部材２１２，２１４と略同一の形状に成形した例を挙げて説明したが，本発明はかかる構成に限定されるものではない。例えば，先に説明した脱気部材３００と略同一に成形した脱気部材を，上部脱気部材４００ａ，中部脱気部材４００ｂ及び下部脱気部材４００ｃに変えて配置した構成としても良く，またこれに限定されず，いかなる形状に成形された脱気部材を設置した構成としても実施可能である。さらに，脱気部材４００は，上部脱気部材４００ａ，中部脱気部材４００ｂ及び下部脱気部材４００ｃから構成されている例を挙げて説明したが，少なくとも２つ以上の脱気部材から構成されていれば，本実施の形態は実施可能である。
【００５２】
また，既述の実施の形態において，本発明を現像処理装置１２８，１２９に適用することにより，具体化した例について説明したが，本発明はかかる構成に限定されるものではなく，各種塗布装置に対しても適用が可能であると共に，また被処理基板としては，ウェハだけではなく，例えばＬＣＤ用ガラス基板であっても実施可能である。
【００５３】
【発明の効果】
以上説明したように，本発明によれば，タンク内に蓄えられる処理液の液中に浸漬するようにして，脱気部材が設置される構成となっている。従って，処理液中から直接脱気が可能であると共に，容易に脱気面積の拡大ができるため，非常に効率的な脱気が可能となる。また，脱気部材を，例えば可撓性を有するチューブ形状とし，例えば螺旋状に成形してタンク内に設置することにより，脱気面積の拡大が容易となると共に，脱気部材の中心に空間が創出されるため，液面レベルセンサの設置を妨げることがない。さらに，脱気部材の本体を略シート状とすると共に，例えば螺旋状に巻くことにより，脱気面積の拡大を極めて容易に行うことができ，かつ脱気部材の中心に空間が創出されるため，液面レベルセンサの設置も容易となる。さらにまた，複数の脱気部材を，各々の頂上部が異なった高さとなるようにタンク内に設置することにより，常時処理液中に浸漬している脱気部材から効率の良い脱気が可能となる。この場合，各脱気部材による脱気の制御を，タンク内の液面レベルセンサによって検出される液面レベルに基づいて自動的に行う構成とすることで，円滑な脱気を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明を適用可能な現像処理装置を組み込んだ塗布現像処理システムの概略的な斜視図である。
【図２】図１に示した塗布現像処理システムにおける現像処理装置の概略的な断面図である。
【図３】図１に示した塗布現像処理システムにおける現像処理装置に現像液を供給する現像液供給装置の概略的な説明図である。
【図４】図３に示した脱気部材の概略的な断面図である。
【図５】図３に示した脱気部材の概略的な斜視図である。
【図６】本発明に用いることができる他の脱気部材の概略的な斜視図である。
【図７】図６に示した脱気部材の構成を説明するための概略的な斜視図である。
【図８】本発明に用いることができる他の脱気部材の概略的な説明図である。
【符号の説明】
１００ 塗布現像処理システム
１２８，１２９ 現像処理装置
１３２ 処理容器
１３８ 制御器
１６８，１７０ 中間タンク
１８２ 現像液供給源
２０２ ガス供給源
２０４，２０６ 液面レベルセンサ
２１２，２１４，３００，４００ 脱気部材
２１６，３０４ 中空部
２１８，３０６ 線材
２２０，２２６ 分岐管
２３０ 真空引き機構
３０２ 本体部
３０８ スペーサ
Ｎ１ 現像液吐出ノズル
Ｗ ウェハ
Claims (2)
- 被処理基板に処理液を供給して所定の処理を施す装置に前記処理液を供給するための装置であって，
前記処理液を貯留するタンクと，
前記タンク内に設けられてこのタンク内の処理液に浸漬する複数の脱気部材を有し，
各脱気部材の本体は，液体は通過させず気体のみを通過させる気液分離材からなり，
さらに各脱気部材は，各々本体内に中空部を形成して中空構造を維持する中空維持部材を備え，当該中空部は，タンク外に設けられた排気手段に排気経路を通じて接続されており，
各脱気部材は，その頂上部が各々タンク内で異なった高さとなるように，タンク内に配置されていることを特徴とする，処理液供給装置。 - タンク内の処理液の液面レベルを検出する液面センサと，
この液面センサによって得られる液面レベルに基づいて，各脱気部材の中空部と排気手段との間の排気経路の開閉を制御する制御装置とを備えたことを特徴とする，請求項１に記載の処理液供給装置。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35611996A JP3545559B2 (ja) | 1996-12-25 | 1996-12-25 | 処理液供給装置 |
| TW86118925A TW382749B (en) | 1996-12-24 | 1997-12-15 | Liquid supplying device |
| US08/991,783 US6015066A (en) | 1996-12-24 | 1997-12-16 | Liquid supplying device |
| EP19970122366 EP0851301B1 (en) | 1996-12-24 | 1997-12-18 | Developing liquid supplying device |
| DE69707097T DE69707097T2 (de) | 1996-12-24 | 1997-12-18 | Entwicklungsflüssigkeitsversorgungsvorrichtung |
| SG1997004570A SG67461A1 (en) | 1996-12-24 | 1997-12-19 | Liquid supplying device |
| KR1019970073699A KR100539187B1 (ko) | 1996-12-24 | 1997-12-24 | 처리액공급기구및처리액공급방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35611996A JP3545559B2 (ja) | 1996-12-25 | 1996-12-25 | 処理液供給装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10189433A JPH10189433A (ja) | 1998-07-21 |
| JP3545559B2 true JP3545559B2 (ja) | 2004-07-21 |
Family
ID=18447434
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35611996A Expired - Fee Related JP3545559B2 (ja) | 1996-12-24 | 1996-12-25 | 処理液供給装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3545559B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5142464B2 (ja) * | 2005-11-21 | 2013-02-13 | 三菱化学エンジニアリング株式会社 | フォトレジスト供給装置 |
| KR101041861B1 (ko) | 2008-12-29 | 2011-06-15 | 주식회사 케이씨텍 | 현상액 도포장치 |
| JP5999073B2 (ja) * | 2013-11-20 | 2016-09-28 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理液供給装置、処理液供給方法及び記憶媒体 |
-
1996
- 1996-12-25 JP JP35611996A patent/JP3545559B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH10189433A (ja) | 1998-07-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR102640367B1 (ko) | 기판 처리 방법 및 열처리 장치 | |
| US5672212A (en) | Rotational megasonic cleaner/etcher for wafers | |
| TW406330B (en) | Apparatus for and method of cleaning object to be processed | |
| KR100539187B1 (ko) | 처리액공급기구및처리액공급방법 | |
| JP5588418B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
| JP2002151376A (ja) | 現像処理方法及び現像処理装置 | |
| US20080230101A1 (en) | Substrate treating apparatus | |
| US6384894B2 (en) | Developing method and developing unit | |
| JP2021002653A (ja) | 液供給ユニット、そしてこれを有する基板処理装置及び方法 | |
| JP3545559B2 (ja) | 処理液供給装置 | |
| CN1965388A (zh) | 用于干燥衬底的设备和方法 | |
| JP3113810B2 (ja) | レジスト処理装置およびレジスト処理方法 | |
| JP4025146B2 (ja) | 処理液用タンク及び処理装置 | |
| JPH09162156A (ja) | 処理方法及び処理装置 | |
| JP5484136B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| JP2003147582A (ja) | 連続湿式処理方法及び装置並びに液シール方法及び装置 | |
| JP3647585B2 (ja) | 処理液供給機構及び処理液供給方法 | |
| JP2009141021A (ja) | 洗浄装置、及び乾燥装置 | |
| JP3283251B2 (ja) | レジスト処理装置 | |
| JP3891776B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| KR102723413B1 (ko) | 기판처리장치 및 기판처리방법 | |
| US20240194502A1 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
| JP7846979B2 (ja) | 表面処理装置 | |
| US20240100572A1 (en) | Apparatus for treating substrate and method for treating a substrate | |
| US20260029720A1 (en) | Liquid supply unit and substrate processing apparatus including the same |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20031202 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040106 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040303 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040406 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040408 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100416 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130416 Year of fee payment: 9 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |