JP3549566B2 - フェノール類の製造方法 - Google Patents
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- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 title claims description 26
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 17
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 37
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 22
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 claims description 20
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 150000002941 palladium compounds Chemical class 0.000 claims description 17
- 150000003284 rhodium compounds Chemical class 0.000 claims description 17
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 claims description 14
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 14
- 150000003682 vanadium compounds Chemical class 0.000 claims description 12
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 9
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 claims description 8
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 7
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 7
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- RCJVRSBWZCNNQT-UHFFFAOYSA-N dichloridooxygen Chemical compound ClOCl RCJVRSBWZCNNQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 claims 1
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 12
- 238000010711 phenol synthesis reaction Methods 0.000 description 11
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- ZHXZNKNQUHUIGN-UHFFFAOYSA-N chloro hypochlorite;vanadium Chemical compound [V].ClOCl ZHXZNKNQUHUIGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- -1 vanadyl chloride Chemical compound 0.000 description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 5
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N cumene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1 RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 1H-indene Chemical compound C1=CC=C2CC=CC2=C1 YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical compound CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021550 Vanadium Chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N [1,10]phenanthroline Chemical compound C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1 DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 2
- 239000011964 heteropoly acid Substances 0.000 description 2
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 2
- RPESBQCJGHJMTK-UHFFFAOYSA-I pentachlorovanadium Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[V+5] RPESBQCJGHJMTK-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- SONJTKJMTWTJCT-UHFFFAOYSA-K rhodium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Rh+3] SONJTKJMTWTJCT-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- NRKQBMOGOKEWPX-UHFFFAOYSA-N vanadyl nitrate Chemical compound [O-][N+](=O)O[V](=O)(O[N+]([O-])=O)O[N+]([O-])=O NRKQBMOGOKEWPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101150003085 Pdcl gene Proteins 0.000 description 1
- AZFUOHYXCLYSQJ-UHFFFAOYSA-N [V+5].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O Chemical compound [V+5].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O AZFUOHYXCLYSQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000000571 coke Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- UOPIRNHVGHLLDZ-UHFFFAOYSA-L dichlororhodium Chemical compound Cl[Rh]Cl UOPIRNHVGHLLDZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N diphenylmethane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CC1=CC=CC=C1 CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 229910021432 inorganic complex Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- QLOKAVKWGPPUCM-UHFFFAOYSA-N oxovanadium;dihydrochloride Chemical compound Cl.Cl.[V]=O QLOKAVKWGPPUCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHZSLLSDZFAPFH-UHFFFAOYSA-L palladium(2+);difluoride Chemical compound F[Pd]F BHZSLLSDZFAPFH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NXJCBFBQEVOTOW-UHFFFAOYSA-L palladium(2+);dihydroxide Chemical compound O[Pd]O NXJCBFBQEVOTOW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RFLFDJSIZCCYIP-UHFFFAOYSA-L palladium(2+);sulfate Chemical compound [Pd+2].[O-]S([O-])(=O)=O RFLFDJSIZCCYIP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L palladium(ii) acetate Chemical compound [Pd+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- JKDRQYIYVJVOPF-FDGPNNRMSA-L palladium(ii) acetylacetonate Chemical compound [Pd+2].C\C([O-])=C\C(C)=O.C\C([O-])=C\C(C)=O JKDRQYIYVJVOPF-FDGPNNRMSA-L 0.000 description 1
- INIOZDBICVTGEO-UHFFFAOYSA-L palladium(ii) bromide Chemical compound Br[Pd]Br INIOZDBICVTGEO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GPNDARIEYHPYAY-UHFFFAOYSA-N palladium(ii) nitrate Chemical compound [Pd+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O GPNDARIEYHPYAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOUWOGOTHLRRLS-UHFFFAOYSA-N palladium;phosphane Chemical compound P.[Pd] ZOUWOGOTHLRRLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- NRUVOKMCGYWODZ-UHFFFAOYSA-N sulfanylidenepalladium Chemical compound [Pd]=S NRUVOKMCGYWODZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 1
- VLOPEOIIELCUML-UHFFFAOYSA-L vanadium(2+);sulfate Chemical compound [V+2].[O-]S([O-])(=O)=O VLOPEOIIELCUML-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- HQYCOEXWFMFWLR-UHFFFAOYSA-K vanadium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[V+3] HQYCOEXWFMFWLR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- UUUGYDOQQLOJQA-UHFFFAOYSA-L vanadyl sulfate Chemical compound [V+2]=O.[O-]S([O-])(=O)=O UUUGYDOQQLOJQA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000352 vanadyl sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940041260 vanadyl sulfate Drugs 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Description
【発明の技術分野】
本発明は、フェノール類の製造方法に関し、さらに詳しくは芳香族化合物を分子状酸素と一酸化炭素とを含むガスによって直接酸化することによりフェノール類を製造するための方法に関する。
【0002】
【発明の技術的背景】
フェノール、ビスフェノール、アルキルフェノールなどのフェノール類は、合成樹脂あるいは農薬など各種化学工業製品の中間原料として極めて重要な物質であり、なかでもフェノールの需要は特に大きい。
【0003】
このようなフェノール類は、従来一般的に、キュメン法により生産されている。しかしながらキュメン法は、酸化工程、分解工程などの多段工程からなり設備コスト面で問題があり、また反応によりフェノールと等モルのアセトンが副生し、このアセトンの利用先確保の問題などが内在している。
【0004】
このためフェノール類を製造するに際しては、できるだけ単純化された工程からなり、かつ副生物の少ないプロセスで行なわれることが望まれている。そしてこのような方法の一つとして、ベンゼンなどの芳香族化合物を直接酸化させてフェノール類を得る方法が提案されている。
【0005】
たとえば特開平3−261735号公報には、パラジウム(Pd)系触媒の存在下に、ベンゼンを酸素(O2 )含有ガスによって酸化する方法が提案されている。また特開平4−244039号公報には、銅(Cu)イオンおよびパラジウム(Pd)の存在下に、液相酸化法によって、ベンゼンを一酸化炭素(CO)を含んでいてもよい分子状酸素によって酸化する方法が提案されている。さらに特開平5−4935号公報には、周期律表第VIII族の貴金属と、周期律表第IIIa、IVa、Va、VIa、VIIa、IIb、IVbおよびVb族から選ばれる卑金属酸化物とを含む触媒の存在下に、芳香族化合物と、酸素含有ガスおよび水素ガスとを反応させてフェノール類を製造する方法が提案されている。
【0006】
これらの方法によれば、芳香族化合物を直接酸化することによりフェノール類を製造することができるので、キュメン法に比べて工程が単純化されているとともに、アセトンを副生しないという利点がある。
【0007】
しかしながら上記のような従来の直接酸化法では、フェノール類の収率が低いという大きな問題点があって、フェノール類の生成活性の向上が望まれている。
本発明者らは、このような芳香族化合物の直接酸化法によるフェノール類の製造方法について鋭意研究したところ、パラジウム化合物および/またはロジウム化合物と、バナジウム化合物とを担体に担持させてなる触媒の存在下に、分子状酸素と一酸化炭素とを含むガスを用いて酸化することにより、高い収率でフェノール類が得られることを見出して本発明を完成するに至った。
【0008】
【発明の目的】
本発明は、簡素化された工程からなるとともに、アセトンを副生するなどの問題などがなく、しかも高い収率でフェノール類を製造することができるようなフェノール類の製造方法を提供することを目的としている。
【0009】
【発明の概要】
本発明に係るフェノール類の製造方法は、
(i) パラジウム化合物および/またはロジウム化合物と、
(ii)バナジウム化合物とを、
担体に担持してなる触媒の存在下に、
芳香族化合物を、分子状酸素と一酸化炭素とを含むガスにより酸化することを特徴としている。
【0010】
上記の(i) パラジウム化合物および/またはロジウム化合物は、担体1gに対して0.005〜0.5ミリモルの量で担持されていることが好ましい。
この(i) パラジウム化合物またはロジウム化合物は、パラジウムまたはロジウムの無機塩または有機塩であることが好ましく、パラジウムまたはロジウムの塩化物であることが好ましい。
【0011】
また(ii)バナジウム化合物は、(i) パラジウム化合物および/またはロジウム化合物に対するモル比で1〜100の量で担持されていることが好ましい。
(ii)バナジウム化合物は、2〜4価のバナジウム塩化物または2〜4価のバナジウムオキシ塩化物であることが好ましい。
【0012】
また上記の担体は、シリカ、アルミナ、シリカ−アルミナ、酸化ニオブ、酸化チタンおよび酸化ジルコニウムからなる群から選ばれる少なくとも1種であることが好ましい。
【0013】
【発明の具体的説明】
以下本発明に係るフェノール類の製造方法について説明するが、まず本発明で用いられる触媒について説明する。
【0014】
触 媒
本発明で用いられる触媒は、
(i) パラジウム化合物および/またはロジウム化合物と、
(ii)バナジウム化合物とを、
担体に担持することにより形成されている。
【0015】
このような(i) パラジウム化合物またはロジウム化合物としては、具体的に、
パラジウムまたはロジウムの無機塩または有機塩が挙げられるが、より具体的には、パラジウム化合物として、
塩化パラジウム(PdCl2 )、フッ化パラジウム(PdF2 )、臭化パラジウム(PdBr2 )、沃化パラジウム(PdI2 )などの塩化物、
硫酸パラジウム(PdSO4 )、
硝酸パラジウム(Pd(NO3)2)、
硫化パラジウム(PdS)、
酢酸パラジウム、
水酸化パラジウム、
テトラアンミンジクロロパラジウム[Pd(NH3)4]Cl2・H2Oなどの無機錯体、
Pd(PPh3)4、PdCl2 (PPh3)2、[(CH3)2PdPPh3]、
[Pd(PPh3)2(オレフィン)]などのパラジウムホスフィン錯体、ヘテロポリ酸塩、
[Pd(CO)Cl2]2 、[Pd(CO)2Cl]2 などのパラジウムカルボニル錯体、
パラジウムジイソニトリル錯体、
[CH3PdOCOCH3]などのパラジウムアルキル錯体、
[Pd(η3−C3H5)2]などのパラジウムアリル錯体、
パラジウムアリール錯体、
パラジウムアセチルアセトナートなどのパラジウムアシル錯体などが挙げられる。
【0016】
またロジウム化合物としては、上記の化合物のパラジウムをロジウムに置き換えた化合物が挙げられる。
これらのうち、パラジウムまたはロジウムの塩化物、硫酸塩、硝酸塩、ヘテロポリ酸塩などの無機塩、酢酸塩などの有機塩が好ましく、特に塩化パラジウム、塩化ロジウムなどの塩化物が好ましく用いられる。
【0017】
本発明では、パラジウム化合物またはロジウム化合物を単独で用いてもよく、パラジウム化合物とロジウム化合物とを組み合わせて用いてもよい。
本発明で用いられる(ii)バナジウム化合物としては、2〜4価のバナジウム化合物が上げられ、たとえば、
塩化バナジウム、塩化バナジル、硫酸バナジウム、硫酸バナジル、硝酸バナジウム、硝酸バナジルなどが挙げられる。
【0018】
これらのうち2〜4価バナジウムの塩化物またはオキシ塩化物が好ましく用いられる。
担体としては、シリカ、アルミナ、シリカ−アルミナ、酸化ニオブ、酸化チタン、酸化ジルコニウムなどの触媒の担体として知られている化合物を広く用いることができる。これらを組合わせて用いることもできる。このような担体は、10〜500m2/g好ましくは100〜400m2/gの比表面積を有していることが望ましい。
【0019】
これらのうちでも、担体としてシリカを用いることが好ましい。
本発明で用いられる触媒では、
上記のような(i) パラジウム化合物および/またはロジウム化合物は、0.005〜0.5ミリモル/g−担体、好ましくは0.01〜0.3ミリモル/g−担体の量で担体に担持されていることが望ましい。
【0020】
また(ii)バナジウム化合物は、(i) パラジウム化合物および/またはロジウム化合物の合計量に対するモル比で1〜100、好ましくは5〜80の量で担体に担持されていることが望ましい。
【0021】
上記のような触媒は、担体に成分(i) および(ii)を従来公知の方法によって担持させることにより調製することができる。たとえば担体に、触媒成分(i) および(ii)の水溶液を含浸させる方法などにより調製することができ、より具体的には、触媒成分(i) および(ii)を希塩酸あるいは希硫酸などに溶解し、得られた溶液に担体を浸漬して、担体に触媒成分を担持し、次いでこの担体を乾燥および/または焼成することにより調製することができる。担体に触媒成分(i) および(ii)を担持させる際には、触媒成分(i) および(ii)を同時に担持させてもよく、あるいは順次担持させてもよい。
【0022】
上記のような触媒は、芳香族化合物からフェノール類を高い収率で製造することができる。
このようにして調製される触媒では、活性成分である(i) パラジウム化合物および/またはロジウム化合物が、担体上に高度に分散されているとともに、さらにその周辺に活性成分である(ii)バナジウム化合物が分散されていると考えられる。なお一般的に、活性成分(i) および(ii)の担持量(濃度)が低い場合には、活性成分は高度に分散されてはいるが活性サイトが少なく充分な触媒活性を発現することができず、一方活性成分の担持量が多い場合には、金属の凝集により活性成分の表面積が低下して、見掛けの活性が低下してしまうことがある。
【0023】
酸化反応
本発明では、上記のような触媒の存在下に、芳香族化合物を分子状酸素と一酸化炭素とを含むガスにより酸化する。
【0024】
本発明で酸化反応に使用される芳香族化合物としては、たとえば、
ベンゼン、トルエン、キシレンおよびアニソールなどの単環式芳香族化合物、
ジフェニル、ジフェニルメタン、ジフェニルエーテルなどの非縮合多環式芳香族化合物、
ナフタレン、インデンなどの縮合多環式芳香族化合物などが挙げられる。
【0025】
これのうち特にベンゼンが好ましく用いられる。
反応に供される分子状酸素は、酸素ガスあるいは空気などの酸素含有ガスなどが挙げられる。
【0026】
また一酸化炭素(CO)としては、純粋な一酸化炭素が好ましいが、水性ガス、発生炉ガス、コークス炉ガスなどから得られる一酸化炭素含有ガスを用いることもできる。
【0027】
これら分子状酸素および一酸化炭素は、窒素、ヘリウム、アルゴン、二酸化炭素などの不活性ガスで希釈して用いることもできる。
分子状酸素は、反応系において、芳香族化合物1モルに対して0.005〜0.5モルの量で存在していることが好ましい。
【0028】
一酸化炭素の酸素に対する使用割合は、特に制限されないが、CO/O2 モル比で通常0.1〜10、経済的見地から0.1〜5であることが好ましい。
分子状酸素および一酸化炭素は、反応器に予め混合されて供給されてもよく、また別々に供給されてもよい。
【0029】
上記のような酸化反応は、液相あるいは気相で行なうことができるが、液相で行なうことが好ましい。この酸化反応を液相で行なう際には、原料である芳香族化合物自体を溶媒としてもよく、必要に応じて他の溶媒を用いることもできる。このような溶媒としては、ペンタン、シクロヘキサンなどの飽和炭化水素類、アセトニトリルなどのニトリル類、メチルエーテル、エチルエーテルなどのエーテル類、アセトアミド、N,N−ジメチルアセトアミドなどのアミド類、ギ酸、酢酸、プロピオン酸などの有機酸などの有機溶媒、さらには水が挙げられる。これらは2種以上組み合わせて用いることもできる。
【0030】
また上記のような酸化反応を液相で行なう際には、通常酸性下に行なわれ、酢酸、塩酸、リン酸、硫酸、硝酸、ギ酸などの酸の共存下に行なうことができる。
また酸化反応は、1,10−フェナントロリンの共存下に行なうこともできる。
【0031】
1,10−フェナントロリンは、芳香族化合物1モルに対して0.001〜0.1モルの量で用いることができる。
本発明では、酸化反応は、反応温度が80〜250℃好ましくは100〜200℃で、また圧力が常圧〜100kg/cm2G好ましくは常圧〜50kg/cm2Gで行われることが望ましい。
【0032】
上記のような反応は、バッチ式、連続式、半連続式などのいずれの方式で行ってもよい。
【0033】
【発明の効果】
本発明のフェノール類の製造方法によれば、芳香族化合物を直接酸化して高い収率でフェノール類を得ることができる。
【0034】
【実施例】
次に本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【0035】
【実施例1】
塩化パラジウム(PdCl2)1ミリモルと、オキシ塩化バナジウム(VOCl2)50ミリモルとを1N塩酸溶液50mlに溶解し、この溶液にシリカ(FUJI−DAVISON製、比表面積200m2/g)20gを加えた。この溶液を湯浴上で蒸発乾固後、得られた固体を常温で2時間真空乾燥して触媒を得た。
【0036】
還流冷却器を装備した高圧バッチ反応装置中に、反応溶液としてのベンゼン80mlと、酢酸20mlとを装入して混合し、さらに上記のように調製された触媒3gを加え、不活性ガス(窒素ガス)で圧力を30kg/cm2Gに加圧した後、一酸化炭素(CO)および酸素(O2 )をそれぞれ50cc/分の量で導入しながら反応温度130℃で、1時間反応させた。
【0037】
このようにして得られた反応生成物をガスクロマトグラフイーで分析した。結果を表1に示す。
【0038】
【実施例2】
実施例1において、オキシ塩化バナジウムを塩化バナジウム(VCl3)に代えた以外は、実施例1と同様にしてフェノールの合成反応を行った。結果を表1に示す。
【0039】
【実施例3】
実施例1において、塩化パラジウムを塩化ロジウム(RhCl2)に代えた以外は、実施例1と同様にしてフェノールの合成反応を行った。結果を表1に示す。
【0040】
【実施例4】
実施例3において、オキシ塩化バナジウムを塩化バナジウム(VCl3)に代えた以外は、実施例3と同様にしてフェノールの合成反応を行った。結果を表1に示す。
【0041】
【比較例1】
実施例1において、オキシ塩化バナジウムを加えなかった以外は、実施例1と同様にしてフェノールの合成反応を行った。結果を表1に示す。
【0042】
【比較例2】
実施例3において、オキシ塩化バナジウムを加えなかった以外は、実施例3と同様にしてフェノールの合成反応を行った。結果を表1に示す。
【0043】
【表1】
【0044】
【実施例5】
実施例1において、シリカを酸化チタンに代えた以外は、実施例1と同様にしてフェノールの合成反応を行った。結果を表2に示す。
【0045】
【実施例6】
実施例1において、シリカをアルミナに代えた以外は、実施例1と同様にしてフェノールの合成反応を行った。結果を表2に示す。
【0046】
【実施例7】
実施例1において、シリカを酸化ジルコニウムに代えた以外は、実施例1と同様にしてフェノールの合成反応を行った。結果を表2に示す。
【0047】
【表2】
【0048】
【実施例8】
塩化パラジウム1ミリモル、塩化ロジウム1ミリモルおよびオキシ塩化バナジウム10ミリモルを1N塩酸溶液50mlに溶解し、この溶液にシリカ(FUJI−DAVISON製)20gを加えた。湯浴上で蒸発乾固後、2時間常温にて真空乾燥して触媒を調製した。
【0049】
このようにして得られた触媒を用いた以外は、実施例1と同様にしてフェノールの合成反応を行った。結果を表3に示す。
【0050】
【実施例9】
実施例8において、オキシ塩化バナジウムを30ミリモルの量で用いた以外は、実施例8と同様にしてフェノールの合成反応を行った。結果を表3に示す。
【0051】
【実施例10】
実施例8において、オキシ塩化バナジウムを60ミリモルの量で用いた以外は、実施例8と同様にしてフェノールの合成反応を行った。結果を表3に示す。
【0052】
【比較例3】
実施例8において、オキシ塩化バナジウムを用いなかった以外は、実施例8と同様にしてフェノールの合成反応を行った。結果を表3に示す。
【0053】
【表3】
【0054】
【比較例4】
実施例1において、COに代えてH2 を用いた以外は、実施例1と同様にしてフェノールの合成反応を行った。
【0055】
フェノールの生成活性は、0.1ミリモル/g−cat・hであった。
Claims (7)
- (i) パラジウム化合物および/またはロジウム化合物と、
(ii)バナジウム化合物とを、
担体に担持してなる触媒の存在下に、
芳香族化合物を、分子状酸素と一酸化炭素とを含むガスにより酸化することを特徴とするフェノール類の製造方法。 - (i) パラジウム化合物および/またはロジウム化合物が、担体1gに対して0.005〜0.5ミリモルの量で担持されていることを特徴とする請求項1に記載のフェノール類の製造方法。
- (ii)バナジウム化合物が、(i) パラジウム化合物および/またはロジウム化合物に対するモル比で1〜100の量で担体に担持されていることを特徴とする請求項1に記載のフェノール類の製造方法。
- (i) パラジウム化合物またはロジウム化合物が、パラジウムまたはロジウムの無機塩または有機塩であることを特徴とする請求項1に記載のフェノール類の製造方法。
- パラジウムまたはロジウムの無機塩が、パラジウムまたはロジウムの塩化物であることを特徴とする請求項4に記載のフェノール類の製造方法。
- (ii)バナジウム化合物が、2〜4価バナジウムの塩化物または2〜4価バナジウムのオキシ塩化物であることを特徴とする請求項1に記載のフェノール類の製造方法。
- 担体が、シリカ、アルミナ、シリカ−アルミナ、酸化ニオブ、酸化チタンおよび酸化ジルコニウムからなる群から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項1に記載のフェノール類の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02857294A JP3549566B2 (ja) | 1994-02-25 | 1994-02-25 | フェノール類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02857294A JP3549566B2 (ja) | 1994-02-25 | 1994-02-25 | フェノール類の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07238042A JPH07238042A (ja) | 1995-09-12 |
| JP3549566B2 true JP3549566B2 (ja) | 2004-08-04 |
Family
ID=12252339
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP02857294A Expired - Fee Related JP3549566B2 (ja) | 1994-02-25 | 1994-02-25 | フェノール類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3549566B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5962752A (en) * | 1997-07-31 | 1999-10-05 | Sun Company, Inc. | Leached alumina vanadyl catalysts for hydroxylation of aromatics using molecular oxygen as the terminal oxidant without coreductant |
| US5952532A (en) * | 1997-07-31 | 1999-09-14 | Sunoco, Inc. | Hydroxylation of aromatics using molecular oxygen as the terminal oxidant without coreductant |
| US5981424A (en) * | 1997-07-31 | 1999-11-09 | Sunoco, Inc. (R&M) | Catalysts for hydroxylation and ammination of aromatics using molecular oxygen as the terminal oxidant without coreductant |
| JP4586193B2 (ja) * | 2005-03-09 | 2010-11-24 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | フェノールの製造方法 |
-
1994
- 1994-02-25 JP JP02857294A patent/JP3549566B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07238042A (ja) | 1995-09-12 |
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|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040318 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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