JP3557041B2 - Manufacturing method of reflector antenna - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、たとえば人工衛星などの宇宙航行体に搭載するのに好適なグリッドリフレクタアンテナや周波数選択アンテナなどのリフレクタアンテナの製法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来より、アンテナシステムにおいては、図8に示すように前面および後面鏡を構成する第1および第2のリフレクタ1、2を指向方向に積層して配設し、これら第1および第2のリフレクタ1、2に対応して第1および第2の給電部3、4を対向配置する構成のものが知られている。このような図8に示されるリフレクタを有するアンテナをリフレクタアンテナと呼ぶ。
【0003】
上記第1および第2のリフレクタ1、2にはその反射面に金属パタ−ン(グリッドライン)1a,2aが互いに直交して設けられ、図9に示すように第1および第2の給電部3、4からの放射されるラインに平行なV偏波およびH偏波をそれぞれ選択的に反射して自由空間に放射する。
【0004】
第1の給電部3から放射されるV偏波は、第1のリフレクタ1の金属パタ−ン1aにほぼ平行な電界成分を有し、この第1の金属パタ−ン1aで反射される。第2の給電部4から放射されるH偏波は、第1のリフレクタ1の金属パタ−ン1aと直交する電界成分(すなわち、第2のリフレクタ2の金属パタ−ン2aとほぼ平行な電界成分)を有し、第1のリフレクタ1を透過して第2の金属パタ−ン2aで反射される。
【0005】
ところで、このようなリフレクタを製造する方法としては、特公平5−57762号公報や特公平5−557641号公報に開示されているものが知られている。すなわち、これらの公報には、導電性膜をリフレクタ本体の絶縁基板製の表皮材に形成して、この導電性膜上に液状の感光性レジストを塗布する。つぎに、この導電性膜上の感光性レジストにレ−ザ光を照射して露光し、さらに現像を施して光を照射しない部分を除去し、露出した上記導電性膜をエッチング処理して所望の金属パタ−ンを形成するようにしている。
【0006】
ところで、上記製造方法では、感光性レジストを表皮材に塗布して露光、現像処理を施さなければならないことにより、そのリフレクタの製作に大形の暗室設備が必要となるために、リフレクタの大口径化に制約を受けるということがあった。このようなことは、とくに最近の宇宙開発の分野で要求されるリフレクタの大口径化を計る場合に、重大な課題の一つとなる。
【0007】
そして、大面積の露光によるパタ−ン形成では、レンズ収差のためにリフレクタが大口径化するほど、リフレクタの周辺部における、転写される像の歪みが大きくなる。故に、パタ−ン形成の精度が落ちてしまう。さらには、同じ曲率を持つリフレクタで考えると、大面積になるほど、光の照射方向へのリフレクタの湾曲のため、露光光学系の焦点深度が一定のときには、転写された像がぼけてしまう。故に、パタ−ン形成の精度が落ちてしまう。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
このように、従来のリフレクタの製造方法では金属パタ−ンを形成するために大形の暗室設備などが必要となるため、リフレクタの大口径化の促進が困難であるということがあった。
【0009】
また、リフレクタの大口径化の伴い、パタ−ン(グリッド)の形成精度が落ちてしまうという問題もあった。
この発明は上記事情に基づきなされたのもので、その目的とするところは、大形の暗室設備などを用いずに大口径化が計れるようにし、さらに大口径化した際にも正確なグリッドラインの形成を可能にしたリフレクタアンテナの製法を提供することにある。
【0011】
【課題を解撤するための手段】
請求項1の発明は、曲面形状の絶縁基板に導電パタ−ンが形成されるリフレクタアンテナの製法において、
上記絶縁基板にレ−ザ光によって溝を所定のパタ−ンに形成する第1の工程と、
レ−ザ光によって帯電した上記溝の表面にこの表面と逆の電荷を帯電した金属を付着させる第2の工程と、
上記溝に付着された金属を核として無電解メッキにより上記溝に上記導電パタ−ンとなる金属線を設ける第3の工程と
を具備したことを特徴とする。
【0012】
請求項2の発明は、曲面形状の絶縁基板に導電パタ−ンが形成されるリフレクタアンテナの製法において、
上記絶縁基板に溝を所定のパタ−ンに形成する第1の工程と、
上記溝に上記導電パタ−ンとなる金属線を設ける第2の工程と
を具備したことを特徴とする。
【0013】
請求項3の発明は、請求項1の発明において、レ−ザ光は紫外光であることを特徴とする。
請求項4の発明は、請求項1または請求項2の発明において、導電パタ−ンは銅を含むことを特徴とする。
【0015】
請求項1の発明によれば、所定のパタ−ンで形成された絶縁基板の溝に無電解メッキによって金属を設けて導電パタ−ンを形成するため、導電パタ−ンを形成するのに露光、現像処理をするための暗室が不要となり、それによってリフレクタの大口径化が容易となり、さらには露光光学系による転写像のぼけを防ぐことができ、それによって精密なパタ−ン形成が可能となる。
【0016】
請求項2の発明によれば、絶縁基板にレ−ザ光によって所定のパタ−ンで形成された溝に、金属線を設けて導電パタ−ンを形成するため、導電パタ−ンを形成するのに露光、現像処理をするための暗室が不要となり、それによってリフレクタの大口径化が容易となる。
【0017】
請求項3の発明によれば、短波長によるレ−ザ光の加工であるので、波長の短さに起因してエッジ部の丸みが抑制された導電パタ−ンが形成できる。
請求項4の発明によれば、耐腐蝕性に優れ、安価で、電気導電度の高い導電パタ−ンが形成できる。
【0018】
【発明の実施形態】
以下、この発明の実施形態を図面を参照して説明する。
図1乃至図5はこの発明の第1の実施形態で、図1は第1の実施形態の方法によって製造されたリフレクタアンテナに用いられるリフレクタ11を示す。このリフレクタ11はリフレクタ本体12を有する。このリフレクタ本体12は、コア13の非鏡面側となる下面に第1接着層14によって第1スキン層15が設けられ、鏡面側となる上面に第2接着層16によって絶縁基板17が設けられている。この絶縁基板17の上面は保護膜18によって被覆されている。
【0019】
上記絶縁基板17は、ポリイミドやエポキシなどの高分子膜が放物面や双曲面などの曲面形状に形成されてなり、強度補強のためカプトンなどで覆われている場合もある。また、その上面には所定方向に沿う溝19が所定間隔、つまり所定のパタ−ンで形成されている。この溝19にはたとえばCuなどの金属21が設けられ、この金属21によってリフレクタ11の導電パタ−ンを形成している。
【0020】
上記リフレクタ11の製法を図2乃至図5を参照して説明する。まず、図4にステップ1(以下ステップはSとする)で示すように曲面形状の上記絶縁基板17を成形する。ついで、上記絶縁基板17の上面に図5(a)に示すように溝19を所定のパタ−ンで形成する。この工程をS2とする。
【0021】
図2は上記絶縁基板17に溝19を形成するためのレ−ザ加工装置25を示す。このレ−ザ加工装置25は側面形状がL字状をなした装置本体26を有する。この装置本体26の水平部上面には曲面形状に形成された上記絶縁基板17が供給載置される保持台27が設けられている。この保持台27は上記装置本体26に内蔵された第1の駆動部28aによってXY方向に駆動されるようになっている。
【0022】
上記保持台27の上方には集光レンズ29aとスリット29bを有する加工光学系29(この実施形態ではテレセントリック光学系)が配置されている。この加工光学系29は上記装置本体26の垂直部に内装された第2の駆動部28bによって上下方向に駆動されるようになっている。上記第1の駆動部28aと第2の駆動部28bとは制御部30からの制御信号によって駆動されるようになっている。
【0023】
上記加工光学系29にはレ−ザ発振器31から発振出力されたレ−ザ光Lが反射ミラ−32で反射して入射する。加工光学系29に入射したレ−ザ光Lは上記スリット29bで成形されることで、強度分布が図3(b)に示すガウシアン分布の状態から図3(a)に示すように均一化される。
【0024】
ここでは、紫外光を発するレ−ザとしてエキシマレ−ザ、3倍高調波(THG)YAGレ−ザまたは4倍高調波(FHG)YAGレ−ザなどの波長が200〜300nmのものを用いている。
【0025】
上記スリット29bによって強度分布が均一化されたレ−ザ光Lは集光レンズ28aで集光されて上記保持台27上の絶縁基板17を照射加工する。したがって、上記保持台27を第1の駆動部28aによってXY方向に駆動するとともに、上記加工光学系29を第2の駆動部28bにより絶縁基板17の上面と一定の距離を維持するようZ方向に駆動しながらレ−ザ光Lを照射する。それによって、上記絶縁基板17にはレ−ザ光Lの強度分布に応じて図3(c)に示すように断面矩形状の上記溝19を形成することができる。上記溝19は断面が完全なる矩形状とはいえないまでも、アンテナパタ−ンの形成には影響はほとんどない程度のものである。
【0026】
高分子膜からなる絶縁基板17にレ−ザ光Lによって溝19を加工すると、この溝19の表面の電位が正に帯電するから{Appl.Phys.Vol.60,No21 p2697〜2699(1992)参照}、この溝19の表面に図5(b)に示すように負の電位に帯電した金属、たとえばPd(パラジウム)を含む金属塩を含む溶液中に絶縁基板17を浸漬することで、前期金属を析出させて成膜し金属膜33となる。この工程を図4にS3で示す。
【0027】
つぎに、上記金属膜33を核として溝19に無電解メッキを行う。この無電解メッキはたとえば特開平1−2811792号公報に示されているような電界を経ずにメッキを行う方法である。つまり、金属膜33が形成された絶縁基板17を金属塩を含む溶液から引き上げた後に、み無電解メッキ液中に浸漬する。無電解メッキ液としては、ホルマリン、硫酸銅およびその他の液体が混合された第1の液体と、カセイソ−ダ、シアン化ナトリウムおよびその他の液体が混合された第2の液体とを所定の割合で混合したものが用いられる。
【0028】
それによって、上記溝19の金属膜33には図5(c)に示すように上記金属21としてのCuが堆積するから、このCuが導電パタ−ン34となる。この工程を図4にS4で示す。
【0029】
無電解メッキによって形成された導電パタ−ン34の表面は図5(c)に示すように不規則な凹凸状になっているため、電波の反射方向が定まらない。そこで、無電解メッキによって導電パタ−ン34を形成したならば、無電解メッキ液から引き上げ、乾燥後に絶縁基板17を再度、装置本体26の保持台27上に載置し、溝19に形成された導電パタ−ン34を形成した金属21を溶融させることができるエネルギのレ−ザ光Lを各溝19に沿って走査し照射する。レ−ザ光の照射径は、導電パタ−ン34の幅(この場合では約0.2mm)である。それによって、導電パタ−ン34の表面が平坦化され、電波の反射方向を定めることができる。この工程を図4にS5で示す。
【0030】
このようにして絶縁基板17を形成したならば、この絶縁基板17をリフレクタ本体12の上面に第2接着層16によって接着し、ついでこの上面を保護膜18によって被覆することで、リフレクタ11となる。この組立て工程を図4にS6で示す。
【0031】
このようなリフレクタ11によれば、レ−ザ光Lによって絶縁基板17に加工された溝19に無電解メッキで導電パタ−ン34を形成することができる。無電解メッキは露光、現像処理を伴わないため絶縁基板17全体を光にさらさないための大規模な暗室が不要となり、さらには露光工学系による転写像のぼけを防ぐことができ、精密なパタ−ン形成ができるので、上記リフレクタ11の大口径化が容易となる。
【0032】
しかも、無電解メッキによって形成される導電パタ−ン34は切れ目(継ぎ目)のない形状とすることができるから、その形状精度を向上させることができる。つまり、従来は絶縁基板17の上面に、導電パタ−ンが形成された複数のタイルを貼り合わせるということが行われていたが、その場合には導電パタ−ンに継ぎ目が生じるため、形状精度が低下するということがあった。
【0033】
しかしながら、上述したこの発明の方法によれば、継ぎ目の生じることのない導電パタ−ン34を形成できるから、その形状精度を向上させることもできる。図6と図7はこの発明の第2の実施形態を示す。図6はこの第2の実施形態の方法によって作られたリフレクタ41を示す。なお、第1の実施形態のリフレクタ11と同一部分には同一記号を付して説明を省略する。つまり、この実施形態のリフレクタ41は、第1の実施形態と同様の材料によって所定の曲面形状に形成された絶縁基板17をリフレクタ本体12のコア13の上面に第2接着層16およびスキン層40を介して固定する。
【0034】
ついで、このリフレクタ本体12を、図2に示すレ−ザ加工装置26の保持台27に保持し、その上面に所定のパタ−ンで溝19を形成したならば、この溝19に、たとえばCuなどの導電性の金属線42を挿入し、接着固定する。ここで、接着固定には接着剤を用いてもよいが、絶縁基板17自体が接着性を持つ材料をここでは用いている。それによって、上記金属線42が導電パタ−ン43を形成する。導電パタ−ン43を形成したならば、絶縁基板17の上面を保護膜18で被覆することで、リフレクタ41が形成される。なお、溝19の形成はレ−ザによることが精度面からいっても好ましいが、絶縁基板17の成形時に金型などで同時に成形したり、切削加工で形成してもよい。
【0035】
このようなリフレクタ41によれば、レ−ザ光Lによって絶縁基板17に加工された溝19に、金属線42を挿入固定することで、導電パタ−ン43を形成することができる。金属線42の長さは、溝19の長さだけある方が継ぎ目がなく好ましい。また、挿入はっ装置または人が行う。そのため、導電パタ−ン43を形成するために、露光や現像処理を伴わないから、暗室が不要となり、リフレクタ41の大口径化が容易となる。ここで、金属線42については、保護膜18に面した反射面が絶縁基板17と同様に湾曲してその結果、リフレクタ41の表面が滑らかなのが好ましく、そうでない場合には、第1の実施形態と同じく、導電パタ−ン43の形成後に、レ−ザ光Lによって、導電パタ−ン43の平面を平坦化することが好ましい。電波の反射方向を定めるためである。
【0036】
また、リフレクタ本体12を組み立ててから絶縁基板17に溝19を加工するようにしている。サンドイッチ構造の上記リフレクタ本体12の組み立ては、通常、オ−トクレ−ブ成形されるため、そのときに絶縁基板17が熱影響を受けて変形するということがある。しかしながら、リフレクタ本体12を組み立ててから絶縁基板17に溝19を形成しているため、上記溝19の寸法精度(グリッド精度)が低下するのを防止できる。
【0037】
さらに、上記溝19には金属線42を継ぎ目なく設けることができるから、導電パタ−ン43の形状精度を向上させることができる。
この発明は上記各実施形態に限定されず、種々変形可能である。たとえば、第1の実施形態において無電解メッキされる金属はCuに限られず、他の金属であってもよく、要は無電解メッキが可能で、導電性を備えていればよい。
また、第2の実施形態において溝に設けられる金属線もCuに限定されず、第1の実施形態と同様、他の金属であってもよい。
【0039】
【発明の効果】
請求項1の発明によれば、レ−ザ光によって所定のパタ−ンで形成された絶縁基板の溝に無電解メッキによって金属を設けて導電パタ−ンを形成するようにした。
【0040】
また、請求項2の発明によれば、絶縁基板に所定のパタ−ンで形成された溝に、金属線を設けて導電パタ−ンを形成するようにした。
そのため、請求項1と請求項2の発明によれば、導電パタ−ンを形成するのに暗室での露光、現像処理を行わずにすむから、大口径のリフレクタの製造が容易となる。しかも、継ぎ目のない導電パタ−ンを形成できるから、グリッドの形状精度の向上が計れる。
【0041】
さらに、請求項2の発明によれば、リフレクタをエッチング液等の液体に浸漬せずに導電パタ−ンを形成できるから、エッチング液によるリフレクタ部材の材質の劣化を招くということもない。
【0042】
請求項3の発明によれば、短波長によるレ−ザ光の加工であるので、波長の短さに起因してエッジ部の丸みが抑制された導電パタ−ンが形成できる。
請求項4の発明によれば、耐腐蝕性に優れ、安価で、電気導電度の高い導電パタ−ンが形成できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の第1の実施形態のリフレクタの一部を示す拡大断面図。
【図2】同じく絶縁基板に溝を加工する加工装置の概略的構成図。
【図3】(a)は同じくスリットで成形される前のレ−ザ光の強度分布の説明図、(b)は同じく成形された後のレ−ザ光の強度分布の説明図、(c)は同じく絶縁基板に形成された溝の断面図。
【図4】同じくリフレクタの製造工程図。
【図5】同じくリフレクタの各製造工程の説明図。
【図6】この発明の第2の実施形態のリフレクタの一部を示す拡大断面図。
【図7】同じくリフレクタの製造工程図。
【図8】一般的なリフレクタの概略的構成図。
【図9】同じくリフレクタと給電部との配置関係の説明図。
【符号の説明】
17…絶縁基板
19…溝
21…金属
33…金属膜
34…導電パタ−ン
42…金属線。[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
This invention relates to, for example, the reflector antenna manufacturing method, such as a suitable grid reflector antenna or frequency selection antenna to be mounted on the space vehicle such as an artificial satellite.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, in an antenna system, as shown in FIG. 8, first and
[0003]
The first and
[0004]
The V-polarized wave radiated from the first
[0005]
By the way, as a method of manufacturing such a reflector, those disclosed in Japanese Patent Publication No. Hei 5-57762 and Japanese Patent Publication No. Hei 5-557641 are known. That is, in these publications, a conductive film is formed on a skin material made of an insulating substrate of a reflector main body, and a liquid photosensitive resist is applied on the conductive film. Next, the photosensitive resist on the conductive film is irradiated with laser light to be exposed, and further developed to remove portions not irradiated with the light, and the exposed conductive film is etched by a desired method. Metal pattern is formed.
[0006]
By the way, in the above manufacturing method, since a photosensitive resist must be applied to a skin material and exposed and developed, large-sized dark room equipment is required for manufacturing the reflector. In some cases was restricted. Such a problem is one of the serious problems particularly when measuring a large-diameter reflector required in the field of recent space development.
[0007]
In pattern formation by exposure of a large area, as the diameter of the reflector increases due to lens aberration, the distortion of the transferred image in the peripheral portion of the reflector increases. Therefore, the accuracy of pattern formation is reduced. Further, in the case of a reflector having the same curvature, as the area becomes larger, the transferred image becomes blurred when the depth of focus of the exposure optical system is constant due to the curvature of the reflector in the light irradiation direction. Therefore, the accuracy of pattern formation is reduced.
[0008]
[Problems to be solved by the invention]
As described above, in the conventional reflector manufacturing method, a large-sized dark room facility or the like is required in order to form a metal pattern, so that it may be difficult to increase the diameter of the reflector.
[0009]
Further, with the increase in the diameter of the reflector, there is another problem that the pattern (grid) formation accuracy is reduced.
The present invention has been made based on the above circumstances, and an object of the present invention is to make it possible to measure a large diameter without using a large-sized dark room facility, and to form an accurate grid line even when the diameter is further increased. It is to provide a reflector antenna manufacturing method that enables.
[0011]
[Means for resolving the problem]
According to a first aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a reflector antenna in which a conductive pattern is formed on a curved insulating substrate.
A first step of forming grooves in a predetermined pattern on the insulating substrate by laser light;
A second step of depositing a metal charged with a charge opposite to the surface on the surface of the groove charged by the laser light;
And a third step of providing a metal wire serving as the conductive pattern in the groove by electroless plating using the metal attached to the groove as a nucleus.
[0012]
According to a second aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a reflector antenna in which a conductive pattern is formed on a curved insulating substrate.
A first step of forming grooves in the insulating substrate in a predetermined pattern;
A second step of providing a metal wire serving as the conductive pattern in the groove.
[0013]
According to a third aspect of the present invention, in the first aspect of the invention, the laser light is ultraviolet light.
According to a fourth aspect of the present invention, in the first or second aspect , the conductive pattern contains copper.
[0015]
According to the first aspect of the present invention, since a metal is provided by electroless plating in a groove of an insulating substrate formed with a predetermined pattern to form a conductive pattern, exposure is performed to form a conductive pattern. This eliminates the need for a dark room for development processing, which makes it easy to increase the diameter of the reflector, and furthermore prevents blurring of the transferred image due to the exposure optical system, thereby enabling precise pattern formation. Become.
[0016]
According to the second aspect of the present invention, a conductive pattern is formed by providing a metal wire in a groove formed in a predetermined pattern by laser light on an insulating substrate to form a conductive pattern. However, a dark room for performing exposure and development processing is not required, thereby making it easy to increase the diameter of the reflector.
[0017]
According to the third aspect of the present invention, since the laser light is processed with a short wavelength, it is possible to form a conductive pattern in which the roundness of the edge portion is suppressed due to the short wavelength.
According to the fourth aspect of the present invention, a conductive pattern having excellent corrosion resistance, low cost, and high electrical conductivity can be formed.
[0018]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIGS. 1 to 5 show a first embodiment of the present invention. FIG. 1 shows a reflector 11 used for a reflector antenna manufactured by the method of the first embodiment. This reflector 11 has a reflector
[0019]
The insulating
[0020]
The manufacturing method of the reflector 11 will be described with reference to FIGS. First, the insulating
[0021]
FIG. 2 shows a
[0022]
A processing optical system 29 (in this embodiment, a telecentric optical system) having a condenser lens 29a and a
[0023]
The laser light L oscillated and output from the
[0024]
Here, a laser having a wavelength of 200 to 300 nm, such as an excimer laser, a third harmonic (THG) YAG laser or a fourth harmonic (FHG) YAG laser, is used as a laser that emits ultraviolet light. I have.
[0025]
The laser light L whose intensity distribution has been made uniform by the
[0026]
When the
[0027]
Next, electroless plating is performed on the
[0028]
As a result, Cu as the
[0029]
Since the surface of the
[0030]
After the insulating
[0031]
According to such a reflector 11, the
[0032]
In addition, since the
[0033]
However, according to the method of the present invention described above, since the
[0034]
Next, when the reflector
[0035]
According to such a
[0036]
Further, the
[0037]
Further, since the
The present invention is not limited to the above embodiments and can be variously modified. For example, the metal to be electrolessly plated in the first embodiment is not limited to Cu, but may be another metal. In short, it is only necessary that the metal can be electrolessly plated and have conductivity.
Further, the metal wire provided in the groove in the second embodiment is not limited to Cu, and may be another metal as in the first embodiment.
[0039]
【The invention's effect】
According to the first aspect of the present invention, a conductive pattern is formed by providing a metal by electroless plating in a groove of an insulating substrate formed in a predetermined pattern by laser light.
[0040]
According to the second aspect of the present invention, a conductive pattern is formed by providing a metal wire in a groove formed in a predetermined pattern on an insulating substrate.
Therefore, according to the first and second aspects of the present invention, it is not necessary to perform exposure and development processing in a dark room to form a conductive pattern, so that a large-diameter reflector can be easily manufactured. Moreover, since a seamless conductive pattern can be formed, the accuracy of the grid shape can be improved.
[0041]
Further, according to the second aspect of the present invention, since the conductive pattern can be formed without immersing the reflector in a liquid such as an etchant, the material of the reflector member is not deteriorated by the etchant.
[0042]
According to the third aspect of the present invention, since the laser light is processed with a short wavelength, it is possible to form a conductive pattern in which the roundness of the edge portion is suppressed due to the short wavelength.
According to the fourth aspect of the present invention, a conductive pattern having excellent corrosion resistance, low cost, and high electrical conductivity can be formed.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is an enlarged sectional view showing a part of a reflector according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a schematic configuration diagram of a processing apparatus for processing a groove in the insulating substrate.
3A is an explanatory view of the laser light intensity distribution before being formed by the slit, FIG. 3B is an explanatory view of the laser light intensity distribution after the same is formed, and FIG. () Is a sectional view of a groove formed in the insulating substrate.
FIG. 4 is a manufacturing process diagram of the reflector.
FIG. 5 is an explanatory view of each manufacturing step of the reflector.
FIG. 6 is an enlarged sectional view showing a part of a reflector according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 7 is a manufacturing process diagram of the reflector.
FIG. 8 is a schematic configuration diagram of a general reflector.
FIG. 9 is an explanatory diagram of an arrangement relationship between a reflector and a power supply unit.
[Explanation of symbols]
17 ... insulating
Claims (4)
上記絶縁基板にレ−ザ光によって溝を所定のパタ−ンに形成する第1の工程と、
レ−ザ光によって帯電した上記溝の表面にこの表面と逆の電荷を帯電した金属を付着させる第2の工程と、
上記溝に付着された金属を核として無電解メッキにより上記溝に上記導電パタ−ンとなる金属線を設ける第3の工程と
を具備したことを特徴とするリフレクタアンテナの製法。In a method of manufacturing a reflector antenna in which a conductive pattern is formed on a curved insulating substrate,
A first step of forming grooves in a predetermined pattern on the insulating substrate by laser light;
A second step of depositing a metal charged with a charge opposite to the surface on the surface of the groove charged by the laser light;
A third step of providing a metal wire serving as the conductive pattern in the groove by electroless plating using the metal attached to the groove as a nucleus, and a third step of manufacturing the reflector antenna.
上記絶縁基板に溝を所定のパタ−ンに形成する第1の工程と、
上記溝に上記導電パタ−ンとなる金属線を設ける第2の工程と
を具備したことを特徴とするリフレクタアンテナの製法。In a method of manufacturing a reflector antenna in which a conductive pattern is formed on a curved insulating substrate,
A first step of forming grooves in the insulating substrate in a predetermined pattern;
A second step of providing a metal wire serving as the conductive pattern in the groove. 2. A method of manufacturing a reflector antenna, comprising:
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