JP3567582B2 - シクロヘキサンの液相酸化方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はシクロヘキサンの液相酸化方法に係わり、更に詳細には該シクロヘキサンの液相酸化に於いて、使用する酸化器の大きさ（高さや直径）、更には酸化器内に配設されるガス導入管の形状や配設位置に関わりなく安全性に優れ、かつ所望とする酸化生成物の選択率に優れたシクロヘキサンの液相酸化方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来シクロヘキサンを酸素含有ガスで酸化し、シクロヘキシルハイドロパーオキサイド、シクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールを製造する方法に於いては、通常酸素濃度約２容量％〜約３０容量％の酸素含有ガスを使用して、高温、高圧下、通常反応温度約１００℃〜約１７０℃、圧力約７ｋｇ／ｃｍ２ 〜約３０ｋｇ／ｃｍ２ の条件で実施されており、通常転化率２〜６％で選択率ができる限り高くなるよう、酸素含有ガスの吹込み速度、吹込み量等の吹込み条件、或いは酸素含有ガスが反応帯域でシクロヘキサンと接触する気泡形状を特定化する等の種々の方法が提案されている。
【０００３】
例えば特公昭４０−５６９７号公報には、シクロヘキサン中に酸素含有ガスを導入する方法として、酸素含有ガスをシクロヘキサン中に孔径１〜１０ｍｍの小孔よりレイノルズ数３０００〜１５０００の流速で泡出することを特徴とするシクロヘキサンの酸化方法が開示されている。また特公昭３８−１５３７６号公報には、シクロヘキサン中への酸素含有ガスの導入方法として、直径６ｍｍもしくはそれ以上の気泡の形で液相を通過させる方法が開示されている。更に特開昭６０−７５４４０号公報にはシクロヘキサン中に酸素含有ガスを導入する方法として、酸素含有ガスを各ガス導入管のノズル開口から０．０１〜１ｍ／秒の流出速度で、各ノズル開口当たり０．００１〜１０リットル／秒の量でシクロヘキサン中に導入する方法が開示されている。
【０００４】
しかしながら、周知の如くこれらシクロヘキサンの酸化工程は各社により、その設備の規模、酸化器の構造（高さ、直径、酸素含有ガス吹込みノズルの位置、ノズルの孔径、孔数等）等が異なるため、例え上記開示条件を満たす場合であっても、操業が容易かつ安全で、しかも高い選択率効果を発揮するとは言えない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
かかる状況下に鑑み、本発明者等は複数の吹出孔を有するガス導入管を持つシクロヘキサンの酸化器に於いて、高さ、直径、酸素含有ガス吹出孔の位置、孔径、孔数等に関わりなく、操業が容易かつ安全で一義的に所望とする酸化生成物の選択率を向上せしめ得る操業因子を見出すべく鋭意検討した結果、シクロヘキサン中に酸素含有ガスを特定条件で吹出し、かつ酸化器より排出される排ガス中の酸素濃度を特定範囲になるよう調節する場合には、酸化器の形状に関わりなく、安全性に優れ、かつ高い選択率で所望とする酸化生成物が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
即ち本発明は、酸化器内に配設された複数の吹出孔を有するガス導入管より酸素含有ガスを吹込みシクロヘキサンを液相酸化しシクロヘキシルハイドロパーオキサイド、シクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールを製造する方法に於いて、ガス導入管の各吹出孔からのガス吹込み速度が２ｍ／秒〜１５０ｍ／秒、該酸化器より排出されるガス中の酸素濃度が０．４容量％〜３容量％となる如く酸素含有ガスを吹込むことを特徴とするシクロヘキサンの液相酸化方法を提供するにある。
【０００７】
【発明の実施の形態】
以下本発明方法を更に詳細に説明する。
本発明は原料としてシクロヘキサンを用い、これに酸素含有ガスを接触し、液相酸化反応せしめ酸化生成物としてシクロヘキシルハイドロパーオキサイド、シクロヘキサノン、シクロヘキサノールを得ることを目的とするものである。
この酸化反応は反応率（転化率）が高くなると収率が下がり、アジピン酸、グルタール酸、琥珀酸等の高級酸化物である副生成物が多くなるので、転化率は通常３〜７％，好ましくは４〜６％程度を目処として操業を行う。
【０００８】
酸化反応に用いる酸素含有ガスは通常酸素濃度約２〜約３０容量％であり、反応は温度約１００〜約１７０℃、圧力約７〜約３０ｋｇ／ｃｍ２ の条件で実施される。
また、酸化反応に供する酸化器としては直立型、水平型のいずれでもよく、これを単独で用いても数基を直列に接続して用いてもよいが、通常直立型酸化器を複数直列に接続して用いるのが有利である。更に該酸化器内は複数段のトレーが配設されているものであってもよい。
【０００９】
また本発明の実施に於いて適用する酸化器は、酸化器内に形成される液相内に酸素含有ガス導入管が１段或いは多段に配設されており、該ガス導入管には酸素含有ガスをシクロヘキサン中に導入するための複数の吹出孔が付設されている。液相中への均一なガスの吹込み、並びに操業の容易性の点では均等に配設され複数の吹出孔を有するガス導入管を多段に配設された酸化器の適用が推奨される。
【００１０】
酸化器内に於いてガス導入管より液相中に吹込まれた酸素含有ガスは気泡となって反応帯域中に均一に分散され、液相中を気泡相互の集合が無い状態で上昇することが好ましい。かかる状態はガス導入管の吹込孔を液相中の横断面に均等間隔で複数配置した構成とし、より高い効果を望む場合には前記構成を持つとともに更にガス導入管の吹込孔を反応帯の液相中の全容積に略均等間隔で多段に配置した構成とすればよく、各ガス吹込孔からの酸素含有ガスの吹込み速度は約２〜約１５０ｍ／秒、好ましくは約５〜約５０ｍ／秒の範囲内で実施すればよい。ガス導入管の吹込孔は下向きに酸素含有ガスを導入する構造であってもよいし、上向きであってもよい。
【００１１】
本発明方法の特徴は酸化器内に複数の吹出孔を有する多段ガス導入管を用い、該ガス導入管の各吹出孔からのガス吹込み速度が約２ｍ／秒〜約１５０ｍ／秒で、該酸化器より排出されるガス中の酸素濃度が約０．４容量％〜約３容量％、好ましくは約０．５容量％〜約２容量％、より好ましくは約０．７容量％〜約１．５容量％となる如く酸素含有ガスを吹込みシクロヘキサンの液相酸化を行うにある。
かかる方法の場合には、酸化器の形状、大きさ、また酸素含有ガスを導入する吹出孔の孔径に関係なく、酸化器より排出されるガス中の酸素濃度（本発明に於いて排出されるガス中の酸素濃度とは、排出ガス中の窒素、酸素、一酸化炭素および二酸化炭素を総量としこれに占める分子状酸素の体積分率をいう）を約０．４容量％〜約３容量％の範囲になる如く酸素ガスの吹込速度、吹込量を調製することにより、通常所望とするシクロヘキシルハイドロパーオキサイド、シクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールよりなる酸化生成物を転化率４〜６％の範囲で、高選択率で得ることができる。
本発明に於いてガスの吹出速度が約２ｍ／秒よりも遅い場合には、操業過程においてガスの吹出孔に重合物が付着し閉塞が生じる場合がある。閉塞を回避する目的で孔径を大きくすることも考えられるが、この場合には気泡が大きくなり、爆燃が生じ、かつこれが伝播する可能性がある等、安全性に問題が生じる場合があり好ましくない。
他方吹出速度が約１５０ｍ／秒よりも速い場合には供給される酸素含有ガスの圧縮圧力が高くなり、エネルギー損失が大きく製造コストの増加につながり、好ましくない。
また酸化器より排出されるガス中の酸素濃度が約０．４容量％未満の場合には所望とする高い選択率のものが得られず、一方約３容量％を越える場合には酸化生成物の選択率は一定値となり、実質的にそれ以上の増加傾向は認められず、酸素が有効に利用されないため、酸素含有ガスのロスとなる。また、反応が不安定となる可能性が高く、その場合容易に酸素の排ガス中への吹き抜けが起こりシクロヘキサンの爆発雰囲気を形成する場合がある。
【００１２】
【発明の効果】
以上詳述した本発明方法によれば、酸化器の形状、大きさ、酸素含有ガス導入管の吹込孔の孔径の大小にかかわらず、単に各ガス導入管の吹込孔からの酸素含有ガス吹出速度を約２〜約１５０ｍ／秒とし、酸化器より排出されるガス中の酸素濃度を約０．４容量％〜約３容量の範囲内になるよう、酸素ガスの吹き込速度及び吹込み量を調整するという極めて簡単な方法を採用するのみで、安全にかつシクロヘキサンから所望とする酸化生成物を高選択率で製造することを可能としたものであり、その産業上の価値は頗る大なるものである。
【００１３】
【実施例】
以下、本発明方法を実施例により更に詳細に説明する。
実施例１
図１示すような底部に、直径０．１ｍｍの吹込孔３個が等間隔で下向きに穿たれた環状の酸素含有ガス導入管２を配設した高さ５００ｍｍ、直径５０ｍｍのＳＵＳ製円筒容器を酸化器１として用い、該酸化器１の底部導管３よりオクチル酸コバルトを０．１４ｐｐｍ溶解したシクロヘキサンを１０５ｇ／時間で供給し、同時に８容量％の酸素含有ガス（残部は窒素）を酸素含有ガス導入管２より１６リットル／時間（標準状態換算）で供給し（各吹込孔よりのガス吹込み速度は２７ｍ／秒）、反応器上部に設置した液状反応混合物取出管４により排ガスおよび液状反応混合物を取出し（液深１３０ｍｍ；酸化器下部よりの高さ）、冷却器５により冷却した後、分離器６により排ガスと酸化反応生成物に分離し、導出管７より排出される排ガス中の酸素濃度並びに導出管８より導出された酸化反応生成物の組成を測定し、各排ガス中の酸素濃度に於けるシクロヘキサン転化率を５％に換算した時のシクロヘキサン酸化生成物の選択率を求めた。その結果排ガス中の酸素濃度は１．０容量％であり、シクロヘキサン酸化生成物の選択率は８０．１モル％であった。
【００１４】
比較例１
実施例１と同じ酸化器を用い、導管３よりのシクロヘキサンの供給量を４１２ｇ／時間、導入管２よりの酸素含有ガス供給量を５３リットル／時間（標準状態換算）、各吹込孔よりのガス吹込み速度は８５ｍ／秒、液状反応混合物取出管４の取出し位置（液深）を酸化器下部より４８０ｍｍとして酸化反応を行い、導出管７より排出される排ガス中の酸素濃度並びに導出管８より導出された酸化反応生成物の組成を測定し、各排ガス中の酸素濃度に於けるシクロヘキサン転化率を５％に換算した時のシクロヘキサン酸化生成物の選択率を求めた。その結果排ガス中の酸素濃度は０．２容量％であり、シクロヘキサン酸化生成物の選択率は７２．０モル％であった。
【００１５】
実施例２
図２示すような底部並びに中央部に、直径０．６ｍｍの吹込孔８個が等間隔で下向きに穿たれた環状の酸素含有ガス導入管２（Ａ）、（Ｂ）を配設した高さ１６００ｍｍ、直径６００ｍｍのＳＵＳ製円筒容器を酸化器１として用い、該酸化器１の底部導管３よりオクチル酸コバルト０．２重量％溶解したシクロヘキサンを１７ｃｃ／時間、導管９よりシクロヘキサン１９５ｋｇ／時間を供給し、同時に２１容量％の酸素含有ガス（空気）を導入管２（Ａ）、（Ｂ）よりガス吹込み速度が１０ｍ／秒〜１６ｍ／秒で供給し、反応器上部に設置した液状反応混合物取出管４により排ガスおよび液状反応混合物を取り出し、冷却器５により冷却した後、分離器６により排ガスと酸化反応生成物に分離し、各導出管７、８より導出した。
【００１６】
この実験に於いて導管２（Ａ）、（Ｂ）よりの酸素含有ガスの供給量を８〜１２Ｎｍ３ ／時間の範囲内で変動させることにより酸化条件を変え、導出管７より排出される排ガス中の酸素濃度並びに導出管８より導出された酸化反応生成物の組成を測定し、各排ガス中の酸素濃度に於けるシクロヘキサン転化率を４％に換算した時のシクロヘキサン酸化生成物の選択率を求めた。その結果を図３に示す。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例１で用いたシクロヘキサンの酸化器の概略図を示す。
【図２】実施例２で用いたシクロヘキサンの酸化器の概略図を示す。
【図３】シクロヘキサン転化率を一定にしたときの排ガス酸素濃度（容量％）とシクロヘキサン酸化生成物の選択率（モル％）の関係を示す図である。
【符号の説明】
１：酸化器
２：酸素含有ガス導入管
２（Ａ）：酸素含有ガス導入管
２（Ｂ）：酸素含有ガス導入管
３：オクチル酸コバルト含有シクロヘキサン供給用底部導管
４：液状反応混合物取出管
５：冷却器
６：分離器
７：排ガス導出管
８：酸化反応生成物
９：シクロヘキサン供給用底部導管
【発明の属する技術分野】
本発明はシクロヘキサンの液相酸化方法に係わり、更に詳細には該シクロヘキサンの液相酸化に於いて、使用する酸化器の大きさ（高さや直径）、更には酸化器内に配設されるガス導入管の形状や配設位置に関わりなく安全性に優れ、かつ所望とする酸化生成物の選択率に優れたシクロヘキサンの液相酸化方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来シクロヘキサンを酸素含有ガスで酸化し、シクロヘキシルハイドロパーオキサイド、シクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールを製造する方法に於いては、通常酸素濃度約２容量％〜約３０容量％の酸素含有ガスを使用して、高温、高圧下、通常反応温度約１００℃〜約１７０℃、圧力約７ｋｇ／ｃｍ２ 〜約３０ｋｇ／ｃｍ２ の条件で実施されており、通常転化率２〜６％で選択率ができる限り高くなるよう、酸素含有ガスの吹込み速度、吹込み量等の吹込み条件、或いは酸素含有ガスが反応帯域でシクロヘキサンと接触する気泡形状を特定化する等の種々の方法が提案されている。
【０００３】
例えば特公昭４０−５６９７号公報には、シクロヘキサン中に酸素含有ガスを導入する方法として、酸素含有ガスをシクロヘキサン中に孔径１〜１０ｍｍの小孔よりレイノルズ数３０００〜１５０００の流速で泡出することを特徴とするシクロヘキサンの酸化方法が開示されている。また特公昭３８−１５３７６号公報には、シクロヘキサン中への酸素含有ガスの導入方法として、直径６ｍｍもしくはそれ以上の気泡の形で液相を通過させる方法が開示されている。更に特開昭６０−７５４４０号公報にはシクロヘキサン中に酸素含有ガスを導入する方法として、酸素含有ガスを各ガス導入管のノズル開口から０．０１〜１ｍ／秒の流出速度で、各ノズル開口当たり０．００１〜１０リットル／秒の量でシクロヘキサン中に導入する方法が開示されている。
【０００４】
しかしながら、周知の如くこれらシクロヘキサンの酸化工程は各社により、その設備の規模、酸化器の構造（高さ、直径、酸素含有ガス吹込みノズルの位置、ノズルの孔径、孔数等）等が異なるため、例え上記開示条件を満たす場合であっても、操業が容易かつ安全で、しかも高い選択率効果を発揮するとは言えない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
かかる状況下に鑑み、本発明者等は複数の吹出孔を有するガス導入管を持つシクロヘキサンの酸化器に於いて、高さ、直径、酸素含有ガス吹出孔の位置、孔径、孔数等に関わりなく、操業が容易かつ安全で一義的に所望とする酸化生成物の選択率を向上せしめ得る操業因子を見出すべく鋭意検討した結果、シクロヘキサン中に酸素含有ガスを特定条件で吹出し、かつ酸化器より排出される排ガス中の酸素濃度を特定範囲になるよう調節する場合には、酸化器の形状に関わりなく、安全性に優れ、かつ高い選択率で所望とする酸化生成物が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
即ち本発明は、酸化器内に配設された複数の吹出孔を有するガス導入管より酸素含有ガスを吹込みシクロヘキサンを液相酸化しシクロヘキシルハイドロパーオキサイド、シクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールを製造する方法に於いて、ガス導入管の各吹出孔からのガス吹込み速度が２ｍ／秒〜１５０ｍ／秒、該酸化器より排出されるガス中の酸素濃度が０．４容量％〜３容量％となる如く酸素含有ガスを吹込むことを特徴とするシクロヘキサンの液相酸化方法を提供するにある。
【０００７】
【発明の実施の形態】
以下本発明方法を更に詳細に説明する。
本発明は原料としてシクロヘキサンを用い、これに酸素含有ガスを接触し、液相酸化反応せしめ酸化生成物としてシクロヘキシルハイドロパーオキサイド、シクロヘキサノン、シクロヘキサノールを得ることを目的とするものである。
この酸化反応は反応率（転化率）が高くなると収率が下がり、アジピン酸、グルタール酸、琥珀酸等の高級酸化物である副生成物が多くなるので、転化率は通常３〜７％，好ましくは４〜６％程度を目処として操業を行う。
【０００８】
酸化反応に用いる酸素含有ガスは通常酸素濃度約２〜約３０容量％であり、反応は温度約１００〜約１７０℃、圧力約７〜約３０ｋｇ／ｃｍ２ の条件で実施される。
また、酸化反応に供する酸化器としては直立型、水平型のいずれでもよく、これを単独で用いても数基を直列に接続して用いてもよいが、通常直立型酸化器を複数直列に接続して用いるのが有利である。更に該酸化器内は複数段のトレーが配設されているものであってもよい。
【０００９】
また本発明の実施に於いて適用する酸化器は、酸化器内に形成される液相内に酸素含有ガス導入管が１段或いは多段に配設されており、該ガス導入管には酸素含有ガスをシクロヘキサン中に導入するための複数の吹出孔が付設されている。液相中への均一なガスの吹込み、並びに操業の容易性の点では均等に配設され複数の吹出孔を有するガス導入管を多段に配設された酸化器の適用が推奨される。
【００１０】
酸化器内に於いてガス導入管より液相中に吹込まれた酸素含有ガスは気泡となって反応帯域中に均一に分散され、液相中を気泡相互の集合が無い状態で上昇することが好ましい。かかる状態はガス導入管の吹込孔を液相中の横断面に均等間隔で複数配置した構成とし、より高い効果を望む場合には前記構成を持つとともに更にガス導入管の吹込孔を反応帯の液相中の全容積に略均等間隔で多段に配置した構成とすればよく、各ガス吹込孔からの酸素含有ガスの吹込み速度は約２〜約１５０ｍ／秒、好ましくは約５〜約５０ｍ／秒の範囲内で実施すればよい。ガス導入管の吹込孔は下向きに酸素含有ガスを導入する構造であってもよいし、上向きであってもよい。
【００１１】
本発明方法の特徴は酸化器内に複数の吹出孔を有する多段ガス導入管を用い、該ガス導入管の各吹出孔からのガス吹込み速度が約２ｍ／秒〜約１５０ｍ／秒で、該酸化器より排出されるガス中の酸素濃度が約０．４容量％〜約３容量％、好ましくは約０．５容量％〜約２容量％、より好ましくは約０．７容量％〜約１．５容量％となる如く酸素含有ガスを吹込みシクロヘキサンの液相酸化を行うにある。
かかる方法の場合には、酸化器の形状、大きさ、また酸素含有ガスを導入する吹出孔の孔径に関係なく、酸化器より排出されるガス中の酸素濃度（本発明に於いて排出されるガス中の酸素濃度とは、排出ガス中の窒素、酸素、一酸化炭素および二酸化炭素を総量としこれに占める分子状酸素の体積分率をいう）を約０．４容量％〜約３容量％の範囲になる如く酸素ガスの吹込速度、吹込量を調製することにより、通常所望とするシクロヘキシルハイドロパーオキサイド、シクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールよりなる酸化生成物を転化率４〜６％の範囲で、高選択率で得ることができる。
本発明に於いてガスの吹出速度が約２ｍ／秒よりも遅い場合には、操業過程においてガスの吹出孔に重合物が付着し閉塞が生じる場合がある。閉塞を回避する目的で孔径を大きくすることも考えられるが、この場合には気泡が大きくなり、爆燃が生じ、かつこれが伝播する可能性がある等、安全性に問題が生じる場合があり好ましくない。
他方吹出速度が約１５０ｍ／秒よりも速い場合には供給される酸素含有ガスの圧縮圧力が高くなり、エネルギー損失が大きく製造コストの増加につながり、好ましくない。
また酸化器より排出されるガス中の酸素濃度が約０．４容量％未満の場合には所望とする高い選択率のものが得られず、一方約３容量％を越える場合には酸化生成物の選択率は一定値となり、実質的にそれ以上の増加傾向は認められず、酸素が有効に利用されないため、酸素含有ガスのロスとなる。また、反応が不安定となる可能性が高く、その場合容易に酸素の排ガス中への吹き抜けが起こりシクロヘキサンの爆発雰囲気を形成する場合がある。
【００１２】
【発明の効果】
以上詳述した本発明方法によれば、酸化器の形状、大きさ、酸素含有ガス導入管の吹込孔の孔径の大小にかかわらず、単に各ガス導入管の吹込孔からの酸素含有ガス吹出速度を約２〜約１５０ｍ／秒とし、酸化器より排出されるガス中の酸素濃度を約０．４容量％〜約３容量の範囲内になるよう、酸素ガスの吹き込速度及び吹込み量を調整するという極めて簡単な方法を採用するのみで、安全にかつシクロヘキサンから所望とする酸化生成物を高選択率で製造することを可能としたものであり、その産業上の価値は頗る大なるものである。
【００１３】
【実施例】
以下、本発明方法を実施例により更に詳細に説明する。
実施例１
図１示すような底部に、直径０．１ｍｍの吹込孔３個が等間隔で下向きに穿たれた環状の酸素含有ガス導入管２を配設した高さ５００ｍｍ、直径５０ｍｍのＳＵＳ製円筒容器を酸化器１として用い、該酸化器１の底部導管３よりオクチル酸コバルトを０．１４ｐｐｍ溶解したシクロヘキサンを１０５ｇ／時間で供給し、同時に８容量％の酸素含有ガス（残部は窒素）を酸素含有ガス導入管２より１６リットル／時間（標準状態換算）で供給し（各吹込孔よりのガス吹込み速度は２７ｍ／秒）、反応器上部に設置した液状反応混合物取出管４により排ガスおよび液状反応混合物を取出し（液深１３０ｍｍ；酸化器下部よりの高さ）、冷却器５により冷却した後、分離器６により排ガスと酸化反応生成物に分離し、導出管７より排出される排ガス中の酸素濃度並びに導出管８より導出された酸化反応生成物の組成を測定し、各排ガス中の酸素濃度に於けるシクロヘキサン転化率を５％に換算した時のシクロヘキサン酸化生成物の選択率を求めた。その結果排ガス中の酸素濃度は１．０容量％であり、シクロヘキサン酸化生成物の選択率は８０．１モル％であった。
【００１４】
比較例１
実施例１と同じ酸化器を用い、導管３よりのシクロヘキサンの供給量を４１２ｇ／時間、導入管２よりの酸素含有ガス供給量を５３リットル／時間（標準状態換算）、各吹込孔よりのガス吹込み速度は８５ｍ／秒、液状反応混合物取出管４の取出し位置（液深）を酸化器下部より４８０ｍｍとして酸化反応を行い、導出管７より排出される排ガス中の酸素濃度並びに導出管８より導出された酸化反応生成物の組成を測定し、各排ガス中の酸素濃度に於けるシクロヘキサン転化率を５％に換算した時のシクロヘキサン酸化生成物の選択率を求めた。その結果排ガス中の酸素濃度は０．２容量％であり、シクロヘキサン酸化生成物の選択率は７２．０モル％であった。
【００１５】
実施例２
図２示すような底部並びに中央部に、直径０．６ｍｍの吹込孔８個が等間隔で下向きに穿たれた環状の酸素含有ガス導入管２（Ａ）、（Ｂ）を配設した高さ１６００ｍｍ、直径６００ｍｍのＳＵＳ製円筒容器を酸化器１として用い、該酸化器１の底部導管３よりオクチル酸コバルト０．２重量％溶解したシクロヘキサンを１７ｃｃ／時間、導管９よりシクロヘキサン１９５ｋｇ／時間を供給し、同時に２１容量％の酸素含有ガス（空気）を導入管２（Ａ）、（Ｂ）よりガス吹込み速度が１０ｍ／秒〜１６ｍ／秒で供給し、反応器上部に設置した液状反応混合物取出管４により排ガスおよび液状反応混合物を取り出し、冷却器５により冷却した後、分離器６により排ガスと酸化反応生成物に分離し、各導出管７、８より導出した。
【００１６】
この実験に於いて導管２（Ａ）、（Ｂ）よりの酸素含有ガスの供給量を８〜１２Ｎｍ３ ／時間の範囲内で変動させることにより酸化条件を変え、導出管７より排出される排ガス中の酸素濃度並びに導出管８より導出された酸化反応生成物の組成を測定し、各排ガス中の酸素濃度に於けるシクロヘキサン転化率を４％に換算した時のシクロヘキサン酸化生成物の選択率を求めた。その結果を図３に示す。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例１で用いたシクロヘキサンの酸化器の概略図を示す。
【図２】実施例２で用いたシクロヘキサンの酸化器の概略図を示す。
【図３】シクロヘキサン転化率を一定にしたときの排ガス酸素濃度（容量％）とシクロヘキサン酸化生成物の選択率（モル％）の関係を示す図である。
【符号の説明】
１：酸化器
２：酸素含有ガス導入管
２（Ａ）：酸素含有ガス導入管
２（Ｂ）：酸素含有ガス導入管
３：オクチル酸コバルト含有シクロヘキサン供給用底部導管
４：液状反応混合物取出管
５：冷却器
６：分離器
７：排ガス導出管
８：酸化反応生成物
９：シクロヘキサン供給用底部導管
Claims (3)
- 酸化器内に配設された複数の吹出孔を有するガス導入管より酸素含有ガスを吹込みシクロヘキサンを液相酸化しシクロヘキシルハイドロパーオキサイド、シクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールを製造する方法に於いて、ガス導入管の各吹出孔からのガス吹込み速度が２ｍ／秒〜１５０ｍ／秒、該酸化器より排出されるガス中の酸素濃度が０．４容量％〜３容量％となる如く酸素含有ガスを吹き込むことを特徴とするシクロヘキサンの液相酸化方法。
- ガス噴出速度が５ｍ／秒〜５０ｍ／秒であることを特徴とする請求項１記載のシクロヘキサンの液相酸化方法。
- 排出されるガス中の酸素濃度が０．７容量％〜１．５容量％であることを特徴とする請求項１記載のシクロヘキサンの液相酸化方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01074696A JP3567582B2 (ja) | 1996-01-25 | 1996-01-25 | シクロヘキサンの液相酸化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01074696A JP3567582B2 (ja) | 1996-01-25 | 1996-01-25 | シクロヘキサンの液相酸化方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09202742A JPH09202742A (ja) | 1997-08-05 |
| JP3567582B2 true JP3567582B2 (ja) | 2004-09-22 |
Family
ID=11758881
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP01074696A Expired - Fee Related JP3567582B2 (ja) | 1996-01-25 | 1996-01-25 | シクロヘキサンの液相酸化方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3567582B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI269788B (en) | 1999-12-14 | 2007-01-01 | Daicel Chem | Process for preparing ketone, alcohol and hydroperoxide |
| JP2001233809A (ja) * | 1999-12-14 | 2001-08-28 | Sumitomo Chem Co Ltd | 炭化水素類の酸化方法 |
| JP2006069977A (ja) * | 2004-09-03 | 2006-03-16 | Sumitomo Chemical Co Ltd | シクロアルカノール及び／又はシクロアルカノンの製造方法 |
| JP2008280328A (ja) * | 2007-04-13 | 2008-11-20 | Sumitomo Chemical Co Ltd | シクロアルカノール及び／又はシクロアルカノンの製造方法 |
| US7592493B2 (en) * | 2007-06-27 | 2009-09-22 | H R D Corporation | High shear process for cyclohexanol production |
| US8088953B2 (en) * | 2007-06-27 | 2012-01-03 | H R D Corporation | High shear oxidation of cyclohexane |
| JP5526555B2 (ja) * | 2009-02-12 | 2014-06-18 | 住友化学株式会社 | シクロアルカノール及び／又はシクロアルカノンの製造方法 |
-
1996
- 1996-01-25 JP JP01074696A patent/JP3567582B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09202742A (ja) | 1997-08-05 |
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