JP3595591B2 - Semiconductor integrated circuit - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 52
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 24
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 14
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 21
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 13
- 101150003408 ADK2 gene Proteins 0.000 description 4
- 102100025057 Adenylate kinase 2, mitochondrial Human genes 0.000 description 4
- 101100019564 Homo sapiens AK2 gene Proteins 0.000 description 4
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 4
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 101100113633 Arabidopsis thaliana CKL9 gene Proteins 0.000 description 3
- 101150065716 adk1 gene Proteins 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
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- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
- For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】
本発明は、半導体集積回路において、半導体チップ製造時にテスティングバーンインを行う際に内部信号によるタイミングマージンを小さくすることができるようにするための回路に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、製造した半導体チップをテストする際に、該半導体チップを通常27℃〜80℃でテストするのに対して、120℃という悪条件下でテストするバーンインを行っていた。しかし、該バーンインを行っているときの半導体チップの動作状態であるバーンイン状態をモニタせずにバーンインを行っていた。
【0003】
そこで、半導体チップの上記バーンイン状態をモニタしながら該半導体チップのテストを行うテスティングバーンイン装置が、近年になって使用されるようになった。図8は、従来のダイナミック動作型RAM(以下DRAMと呼ぶ)の主に行デコーダに関する信号の流れの例を示した概略のブロック図である。ここでは、図8において、行デコーダに対してメモリセルに書き込み動作を行わせる場合の各部の動作及び信号の流れを例にして従来例を説明する。なお、列デコーダに対してメモリセルに書き込み動作を行わせる場合、列デコーダは、センスアンプを介してメモリセルに書き込み動作を行う以外は行デコーダの場合と動作原理は同じであるので説明を省略する。
【0004】
図8において、複数のアドレス入力端子A0〜An(nは0及び正の整数)から入力されたアドレスを指定する信号はそれぞれアドレスバッファ1に入力され、該アドレスバッファ1は、列デコーダ2及び行デコーダ3に対して上記各アドレス入力端子A0〜Anより入力された信号からメモリセル4のアドレスのワードラインとビットラインを示す信号を出力し、行デコーダ3は、RX発生回路6から入力され、メモリセル4のワードラインを活性化させるための信号であるイネーブル信号RX(以下RX信号と呼ぶ)が入力されるとアドレスバッファ1から入力された信号が示すワードラインを活性化させる。なお、上記列デコーダ2はセンスアンプ5を介してメモリセル4にビットラインを示す信号を出力する。
【0005】
上記RX発生回路6には、上記RX信号を活性化させるための信号であるRXT信号を出力するRASバッファ7が接続されており、該RASバッファ7には、上記RXT信号を活性化させるための信号であるRXTF信号を出力するRXTF発生回路8が接続されている。該RXTF発生回路8は、RXTF信号を活性化させるために必要な信号であり、メモリセル4の活性化させるワードラインのブロックを選択するワードラインブロック選択信号XA(以下XA信号と呼ぶ)を出力する行アドレスバッファ9に接続されており、該行アドレスバッファ9は上記アドレスバッファ1に接続されている。
【0006】
上記アドレスバッファ1に入力された信号からメモリセル4におけるアドレスの行に関するデータが、アドレスバッファ1から行アドレスバッファ9に入力され、該行アドレスバッファ9から上記XA信号がRXTF発生回路7に出力され、該RXTF発生回路7は、RASバッファ7に上記RXTF信号を出力する。上記RASバッファ7は、外部入力端子/exRASを介して、メモリセル4への書き込み動作を開始したいタイミングに外部回路から送られてくる行アドレスストローブ信号(以下/exRAS信号と呼ぶ)と、上記RXTF信号とからRX発生回路6に対して上記RXT信号を出力する。
【0007】
また、外部入力端子/exWEを介して、指定アドレスのメモリセルを書き込み動作にセットするためのライト信号(以下/exWE信号と呼ぶ)が「H」から「L」に切り換わって外部回路からWEバッファ10に入力される。該WEバッファ10は、入力された上記/exWE信号が「H」から「L」に切り換わると、入力バッファ11に対して書き込みを許可するために入力バッファ11に対する制御信号であるWDE信号を「L」から「H」に切り換えて出力すると共に、出力バッファ12に対して読み出しを禁止するために出力バッファ12に対する制御信号であるDBR信号を「H」から「L」に切り換えて出力する。
【0008】
書き込み許可の信号が入力された入力バッファ11は、外部入出力端子DQ1〜DQm(mは自然数)を介して外部回路からメモリセル4に書き込むための信号情報をセンスアンプ5に出力し、該信号情報を上記列デコーダ2及び行デコーダ3からの信号で指定されたアドレスのメモリセルに書き込まれる。
【0009】
ここで、上記RASバッファ7のRXT信号を出力するプロセスをもう少し詳細に説明する。図9は上記RASバッファ7の回路例であり、図9において、RASバッファ7は4つのインバータ回路50,51,52,53と1つのNAND回路54からなり、インバータ回路50,51,52が同じ方向に直列に接続され、インバータ回路50の入力は上記/exRAS端子に接続されており、/exRAS端子から入力された/exRAS信号は、インバータ回路51を介してインバータ回路52の出力から上記NAND回路54の一方の入力に入力され、該信号をintRAS信号とする。NAND回路54の他方の入力にはRXTF発生回路8が接続されており、上記RXTF信号が入力される。上記NAND回路54はインバータ回路53を介してRX発生回路6に接続されている。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
図10の(a)は、上記図9で示した回路におけるタイミングチャート図であり、図10の(b)は、図8で示したDRAMの製造検査を行う際に使用されるテスティングバーンイン装置を接続した場合の上記図9で示した回路におけるタイミングチャート図である。上記図10の(a)及び(b)を比較して、図10(a)に対して図10(b)の波形になまりが生じていることが分かる。このように、上記テスティングバーンイン装置は多数の半導体デバイスを同時に測定するため、半導体デバイスを装着したデバイスボードにおける配線の長短の差や、各々の半導体デバイスによる容量、及びテスティングバーンイン装置のスキュー、例えば現状のバーンイン装置でスキューが1nsとするとテスティングバーンイン装置では10ns〜20nsとなることにより、半導体チップの動作特性を測定する際に該特性を示す波形になまりが生じる。
【0011】
上記のように、テスティングバーンイン装置を使用すると、半導体チップの動作特性を測定する、例えば図8における外部入力端子/exWEを介して外部からライトイネーブル信号/exWE(以下/exWE信号と呼ぶ)による書き込み命令の上記/exRAS信号に対する先行時間tRWLを測定するなどの際に該特性を示す波形になまりが生じ、半導体チップにおける半導体集積回路のデバイスのしきい値等によって上記tRWLが大きくなるというように、半導体チップにおける内部信号によるタイミングマージンをテストする際に、マージンを小さくして正確な動作特性を測定することができないという問題があった。
【0012】
本発明は、上記のような問題を解決するためになされたものであり、半導体チップを製造するときにテスティングバーンイン装置を用いて行われる半導体チップのテストにおいて、半導体チップの内部信号によるタイミングマージンを小さくして正確な動作特性を測定することができる半導体集積回路を得るものである。
【0013】
【課題を解決するための手段】
本発明は、第1外部端子からの外部入力信号の2値の状態変更に対応して2値の状態を変更する第1内部信号を生成して出力する第1内部信号出力手段を備え、該第1内部信号出力手段から出力された第1内部信号が所定のタイミングマージン内であるときにおける、第2外部端子からの外部入力信号と上記第1外部端子からの上記外部入力信号とのタイミングマージンがチェックされる半導体チップの半導体集積回路において、上記第2外部端子からの入力信号の2値の状態変更時に2値の状態を変更する第2内部信号を生成して上記第1内部信号出力手段に出力する第2内部信号出力手段と、少なくとも1つの外部端子からなる第3外部端子に所定の信号が入力されると、2値の状態を変更して該所定の信号が入力されたことを示す第3内部信号を生成して上記第1内部信号出力手段に出力する第3内部信号出力手段とを備えた半導体集積回路を提供するものである。
【0014】
本願の特許請求の範囲の請求項2に記載の発明において、上記請求項1の第1内部信号出力手段は、上記第2内部信号の状態変更に対する第1内部信号の状態変更を行うタイミングを選択する手段を備えたことを特徴とする。
【0015】
本願の特許請求の範囲の請求項3に記載の発明において、上記請求項2のタイミングを選択する手段は、異なった遅延時間に設定された複数の遅延回路にそれぞれヒューズを直列に接続してなり、上記第2内部信号が、該各遅延回路の入力に入力され、選択しない遅延回路の該ヒューズを切断して所望の遅延回路を選択することにより、上記第1内部信号出力手段に対して、該選択された遅延回路を介して第2外部端子から入力された第2外部信号の状態変更に対して第1内部信号の状態変更を行うタイミングを設定することを特徴とする。
【0016】
本願の特許請求の範囲の請求項4に記載の発明において、上記請求項1の第3内部信号は、上記第3外部端子の各外部端子において、所定の信号が入力された外部端子を識別する識別信号であることを特徴とする。
【0017】
本願の特許請求の範囲の請求項5に記載の発明において、上記請求項4の第1内部信号出力手段は、上記識別信号に対応して、上記第2内部信号の状態変更に対する第1内部信号の状態変更を行うタイミングを可変する手段を備えたことを特徴とする。
【0018】
本願の特許請求の範囲の請求項6に記載の発明において、上記請求項5のタイミングを可変する手段は、異なった遅延時間に設定された複数の遅延回路からなり、上記第2内部信号が、該各遅延回路の入力に入力されると共に、上記第1内部信号出力手段は、上記識別信号に対応して上記各遅延回路を選択し、該選択した遅延回路を介して第2外部端子から入力された第2外部信号の状態変更に対する第1内部信号の状態変更を行うタイミングを変えることを特徴とする。
【0019】
本願の特許請求の範囲の請求項7に記載の発明において、上記請求項6の第1内部信号出力手段は、各遅延回路を選択する手段として、各遅延回路にそれぞれスイッチング手段を備え、上記識別信号に対応するスイッチング手段をスイッチングすることにより、上記識別信号に対応した遅延回路を選択することを特徴とする。
【0020】
【作用】
特許請求の範囲の請求項1に記載の半導体集積回路は、第2内部信号出力手段で、上記第2外部端子から入力される信号の2値の状態変更時に2値の状態を変更する第2内部信号を生成して上記第1内部信号出力手段に出力し、第3内部信号出力手段で、少なくとも1つの外部端子からなる第3外部端子に所定の信号が入力されると、2値の状態を変更して該所定の信号が入力されたことを示す第3内部信号を生成して上記第1内部信号出力手段に出力し、上記第1外部信号の状態変更がない場合においても、上記第1内部信号出力手段で、該第2内部信号出力手段から出力される第2内部信号の状態変更と、上記第3内部信号出力手段から出力される第3内部信号の状態変更とに対応して状態を変更する2値の第1内部信号を生成して出力する。
【0021】
特許請求の範囲の請求項2に記載の半導体集積回路においては、請求項1に記載の第1内部信号出力手段は、上記タイミングを選択する手段により、第2内部信号の状態変更に対する第1内部信号の状態変更を行うタイミングを選択する。
【0022】
特許請求の範囲の請求項3に記載の半導体集積回路においては、請求項2に記載のタイミングを選択する手段で、上記第2内部信号が上記各遅延回路の入力に入力され、選択しない遅延回路の該ヒューズを切断して所望の遅延回路を選択することにより、上記第1内部信号出力手段に対して、該選択された遅延回路を介して第2外部端子から入力された第2外部信号の状態変更に対して第1内部信号の状態変更を行うタイミングを設定する。
【0023】
特許請求の範囲の請求項4に記載の半導体集積回路においては、請求項1に記載の第3内部信号により、上記第1内部信号出力手段は、上記第3外部端子の各外部端子において、所定の信号が入力された外部端子を識別する。
【0024】
特許請求の範囲の請求項5に記載の半導体集積回路においては、請求項4に記載の第1内部信号出力手段は、タイミングを可変する手段により、上記識別信号である第3内部信号に対応して、第2内部信号の状態変更に対する第1内部信号の状態変更を行うタイミングを可変する。
【0025】
特許請求の範囲の請求項6に記載の半導体集積回路においては、請求項5に記載のタイミングを可変する手段により、上記第1内部信号出力手段は、上記識別信号に対応して上記各遅延回路を選択し、該選択した遅延回路を介して第2外部端子から入力された第2外部信号の状態変更に対する第1内部信号の状態変更を行うタイミングを変える。
【0026】
特許請求の範囲の請求項7に記載の半導体集積回路においては、請求項6に記載の第1内部信号出力手段が、各遅延回路を選択する手段として、各遅延回路にそれぞれスイッチング手段を備え、該スイッチング手段により、上記識別信号に対応した遅延回路を選択する。
【0027】
【実施例】
次に、図面に示す実施例に基づき、本発明について詳細に説明する。
実施例1.
図1は、本発明の第1実施例の半導体集積回路を使用したDRAMの主に行デコーダに関する信号の流れの例を示した概略のブロック図であり、最初に図1を用いて本発明の第1実施例の回路を使用するDRAMの行デコーダに対してメモリセルに書き込み動作を行わせる場合の各部の動作及び信号の流れの概略を説明する。なお、図1において、従来例の上記図8と同じものは同じ符号で示し、ここでは、図8との相違点のみ説明すると共に、列デコーダに対してメモリセルに書き込み動作を行わせる場合、列デコーダは、センスアンプを介してメモリセルに書き込み動作を行う以外は行デコーダの場合と動作原理は同じであるので説明を省略する。
【0028】
図1における図8との相違点は、アドレス入力端子A0〜Anの何れかからアドレスバッファ1にアドレスを指定する信号が入力されたことを示すADK信号を出力するアドレスキー回路30Aを備え、RASバッファは、更に該ADK信号及びWEバッファ10から出力されるWDE信号が入力され、外部からの信号である/exRAS信号、RXTF発生回路8から入力されるRXTF信号、上記ADK信号及び上記WDE信号から、上記RXT信号の2値の状態を切り換えて出力することからRASバッファ7Aとし、これに伴ってDRAM20を20Aにしたことにある。
【0029】
図1において、アドレス入力端子A0〜Anから入力されたアドレスを指定する信号はそれぞれアドレスバッファ1に入力され、該アドレスバッファ1は、列デコーダ2、行デコーダ3及びアドレスキー回路30Aに対して上記各アドレス入力端子A0〜Anより入力された信号からメモリセル4のアドレスのワードラインとビットラインを示す信号を出力する。アドレスキー回路30Aはアドレスバッファ1から入力された該信号からアドレスバッファ1にアドレスを指定する信号が入力されたか否かを検出し、アドレスバッファ1にアドレスを指定する信号が入力されたことを検出している間、RASバッファ7AにADK信号を「L」から「H」に切り換えて出力する。
【0030】
また、外部入力端子/exWEを介して、指定アドレスのメモリセルを書き込み動作にセットするための/exWE信号が「H」から「L」に切り換わって外部回路からWEバッファ10に入力されると、該WEバッファ10は、上記/exWE信号が入力されると、入力バッファ11に対して書き込みを許可するために入力バッファ11に対する制御信号であるWDE信号を「L」から「H」に切り換えて、RASバッファ7A及び入力バッファ11に出力する。RASバッファ7Aは、上記/exRAS信号及び上記RXTF信号に加えて上記ADK信号及びWDE信号から上記RXT信号の2値の状態を変えてRX発生回路6に出力する。
【0031】
ここで、上記RASバッファ7AのRXT信号を出力するプロセスをもう少し詳細に説明する。図2は上記RASバッファ7Aの回路例を示した図である。なお、図2において、図9と同じものは同じ符号で示している。RASバッファ7Aは、図9のインバータ回路53及びNAND回路54と、更に6つのインバータ回路60,61,62,64,66,67と、2つのNAND回路63,65と、pチャンネル型MOSトランジスタ(以下pMOSトランジスタと呼ぶ)68と、nチャンネル型MOSトランジスタ(以下nMOSトランジスタと呼ぶ)69とからなる。
【0032】
インバータ回路60,61,62が同じ方向に直列に接続されて遅延回路を形成し、インバータ回路60の入力は上記/exRAS端子に接続されており、該日入力端子/exRASからインバータ回路60の入力に入力された/exRAS信号は、インバータ回路60の出力からインバータ回路61を介してインバータ回路62の入力に、更にインバータ回路62の出力から上記NAND回路63の一方の入力に入力される。
【0033】
また、上記インバータ回路60の出力と上記インバータ回路61の入力との接続部には、上記nMOSトランジスタ69のドレインが接続され、該nMOSトランジスタ69のソースは上記NAND回路63の他方の入力に接続され、該接続部には、更に上記pMOSトランジスタ68のソースが接続されている。nMOSトランジスタ69のゲートにはpMOSトランジスタ68のゲートが接続され、pMOSトランジスタ68のドレインは接地されている。
【0034】
上記インバータ回路66及び67が同じ方向に直列に接続されて遅延回路を形成し、該インバータ回路66の入力には上記NAND回路65の出力が接続され、インバータ回路67の出力が上記pMOSトランジスタ68及びnMOSトランジスタ69の両ゲートの接続部に接続されている。NAND回路65の一方の入力はWEバッファ10に接続されており、上記WDE信号が入力される。また、NAND回路65の他方の入力はアドレスキー回路30Aに接続されており、上記ADK信号が入力される。
【0035】
上記NAND回路63の出力はインバータ回路64を介して上記NAND回路54の一方の入力に接続され、インバータ回路64の出力から出力されてNAND回路54の一方の入力に入力される信号をintRAS信号とする。NAND回路54の他方の入力は上記RXTF発生回路8に接続されており、上記RXTF信号が入力される。上記NAND回路54はインバータ回路53を介してRX発生回路6に接続され、該インバータ回路53の出力からは、上記RXT信号がRX発生回路6に出力される。
【0036】
なお、上記第1実施例において、外部入力端子/exRASが第1外部端子、/exRAS信号が第1外部信号をなし、RASバッファ7Aにおけるインバータ回路60,61,62,64,66,67、NAND回路63,65、pMOSトランジスタ68、nMOSトランジスタ69で第1内部信号出力手段をなし、intRAS信号が第1内部信号をなす。また、外部入力端子/exWEが第2外部端子、/exWE信号が第2外部信号をなし、WEバッファ10が第2内部信号出力手段をなし、WDE信号が第2内部信号をなす。更に、アドレス入力端子A0〜Anが第3外部端子を形成し、アドレスキー回路30Aが第3内部信号出力手段をなし、ADK信号が第3内部信号をなす。また、上記第3内部信号出力手段は、厳密に言えばアドレスバッファ1を含む。
【0037】
図3は、上記図2で示した回路におけるタイミングチャート図であり、図2及び図3を用いて図2で示した回路の動作を説明する。図2及び図3において、/exWE信号が「H」のときWEバッファ10から出力されるWDE信号が「L」であり、アドレスバッファ1にアドレスを指定する信号が入力されておらず上記アドレスキー回路30Aから出力されるADK信号が「L」である場合、pMOSトランジスタ68及びnMOSトランジスタ69の両ゲートには「H」の信号が入力されており、pMOSトランジスタ68はオフし、nMOSトランジスタ69はオンする。
【0038】
これにより、NAND回路63の他方の入力にはnMOSトランジスタ69のドレイン及びソースを介してインバータ回路60の出力が接続され、/exRAS信号が「H」のときには、NAND回路63の一方の入力にはインバータ回路62から「L」、NAND回路63の他方の入力にはnMOSトランジスタ69を介してインバータ回路60から「L」の信号が入力され、intRAS信号は「L」となる。
【0039】
このとき、/exRAS信号が「H」から「L」に切り換わると、intRAS信号は「L」から「H」に切り換わり、更に、アドレスバッファ1にアドレスを指定する信号が入力されて、上記RXTF回路8から出力されるRXTF信号が「L」から「H」に切り換わると、上記NAND回路54の両方の入力が「H」となり、RXT信号が「H」に切り換わってRX発生回路6に出力される。なお、上記において、アドレスバッファ1にアドレスを指定する信号が入力されたときに、上記ADK信号は「L」から「H」に切り換わる。
【0040】
ここで、書き込み動作に切り換えるために/exWE信号が「H」から「L」に切り換わると、WEバッファ10はWDE信号を「L」から「H」に切り換えて出力してRASバッファ7AのNAND回路65の入力に入力され、NAND回路65の両入力には「H」の信号が入力され、インバータ回路67の出力は「H」から「L」に切り換わる。これにより、nMOSトランジスタ69はオフしてpMOSトランジスタ68がオンし、NAND回路63の他方の入力はpMOSトランジスタ68を介して接地されて「L」となり、intRAS信号は「H」から「L」に切り換わり、RXT信号が「H」から「L」に切り換わる。
【0041】
上記のように、本発明における第1実施例の回路によると、従来、/exRAS信号の2値の状態が切り換わることにより、RASバッファにおけるintRAS信号の2値の状態が切り換わっていたのに対して、外部から入力される/exWE信号から形成されるWDE信号と、アドレス入力端子A0〜Anの何れかからアドレスバッファ1にアドレスを指定する外部からの信号が入力されたことを示すADK信号とから、/exRAS信号の2値の状態が切り換わらなくてもintRAS信号の2値の状態を切り換えることができ、intRAS信号が、外部信号である/exRAS信号の立ち上がりよりも前に立ち下げることができる。
【0042】
このことから、テスティングバーンイン装置を使用してテストを行う際に、/exRAS信号の立ち上がりポイントをintRAS信号の立ち下がりポイントまで早くすることができることから、従来よりも/exRAS信号の立ち上がりポイントを早くすることができ、tRWLを厳しい条件で測定することができる。
【0043】
また、上記第1実施例において、RASバッファ7Aのインバータ回路66及び67の直列回路で形成された遅延回路の遅延時間を選択して設定する手段を設けてもよく、RASバッファ7A内の第1内部信号出力手段に遅延回路の遅延時間を選択して設定する手段を設けて本発明の第1実施例における変形例とする。図4は、上記第1実施例の変形例を示したRASバッファ7Aの回路例を示した図である。なお、図4において図9及び図2と同じものは同じ符号で示しており、ここでは図2との相違点のみ説明する。
【0044】
図4における図2との相違点は、図2のインバータ回路66、67及びNAND回路65の直列回路以外に、異なった偶数の自然数だけインバータ回路を同じ方向に直列に接続して形成された各遅延回路の入力をそれぞれ対応するNAND回路の出力に接続し、更に各遅延回路の出力にそれぞれポリビット線等からなるヒューズを接続した各直列回路における、該各ヒューズの非接続側をそれぞれ接続し、更に各NAND回路の一方の入力をそれぞれ接続すると共に、各NAND回路の他方の入力もまたそれぞれ接続して、NAND回路、遅延回路及びヒューズの各直列回路を並列に接続し、該並列回路の出力側をpMOSトランジスタ68及びnMOSトランジスタ69の各ゲートを接続した接続部に接続したことにある。
【0045】
図4において、NAND回路65の出力にインバータ回路66の入力を、該インバータ回路66の出力にインバータ回路67の入力を接続した直列回路において、更にインバータ回路67の出力にヒューズ95の一端を接続して第1直列回路をなす。NAND回路80の出力にインバータ回路81の入力を、該インバータ回路81の出力にインバータ回路82の入力を、該インバータ回路82の出力にインバータ回路83の入力を、該インバータ回路83の出力にインバータ回路84の入力を接続した直列回路において、更にインバータ回路84の出力にヒューズ96の一端を接続して第2直列回路をなす。
【0046】
また、NAND回路85の出力にインバータ回路86の入力を、該インバータ回路86の出力にインバータ回路87の入力を、該インバータ回路87の出力にインバータ回路88の入力を、該インバータ回路88の出力にインバータ回路89の入力を、該インバータ回路89の出力にインバータ回路90の入力を、該インバータ回路90の出力にインバータ回路91の入力を接続した直列回路において、更にインバータ回路91の出力にヒューズ97の一端を接続して第3直列回路をなす。
【0047】
上記第1、第2及び第3直列回路の各ヒューズ95,96,97の他端はそれぞれ接続され、該接続部は上記pMOSトランジスタ68及びnMOSトランジスタ69の両ゲートを接続した接続部に接続される。また、各NAND回路65,80,85の一方の入力はそれぞれ接続され、該接続部にWEバッファ10が接続されてWDE信号が入力される。更に、各NAND回路65,80,85の他方の入力もそれぞれ接続され、該接続部にアドレスキー回路30Aが接続されてADK信号が入力される。
【0048】
上記のような構成において、インバータ回路を信号が通過すると該信号に時間の遅延が生じ、1段のインバータ回路を信号が通過することにより該信号の遅延時間が1nsだとすると、2段のインバータ回路では通過する信号を2ns遅延させることができ、4段のインバータ回路では通過する信号を4ns遅延させることができ、同様に6段のインバータ回路では通過する信号を6ns遅延させることができる。このことから、上記第1、第2及び第3直列回路はそれぞれ異なった遅延時間が生じる遅延回路を備える。
【0049】
ここで、上記各ヒューズ90,91,92はポリビット線によって作られており、上記第1、第2及び第3直列回路の内、選択する直列回路以外のヒューズを上記DRAM製造時にレーザーカッターでカットして遅延時間を選択することができる。なお、図4で示した回路におけるタイミングチャート図は、図3で示したタイミングチャート図において、WDE信号が「L」から「H」に切り換わってからintRAS信号が「H」から「L」に切り換わる時間がヒューズをカットすることにより選択した遅延回路の遅延時間によって変わる以外は同じであるので省略する。
【0050】
上記のように、選択しない直列回路のヒューズをレーザーカッターでカットすることにより、選択された直列回路、例えば第2直列回路を選択したとすると、第1実施例における図3のタイミングチャート図で示すWDE信号が「L」から「H」に切り換わってからintRAS信号が「H」から「L」に切り換わるまでの時間がインバータ回路81,82,83,84の直列回路で形成された遅延回路の遅延時間によって決まり、すなわち/exRAS信号を「L」から「H」に切り換えるタイミングが決まることから、上記tRWLのタイミングマージンを調整することができる。
【0051】
なお、本第1実施例の変形例においては、3種類の異なった遅延時間を有する遅延回路を備えた場合を例にして説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、インバータ回路を直列に接続してなる遅延回路において、インバータ回路の数が正の異なった偶数であればいくつでもよく、上記第1内部信号出力手段は、該インバータ回路の数の種類だけ遅延回路を形成する直列回路を備えることができる。
【0052】
実施例2.
次に、図5は、本発明の第2実施例の半導体集積回路を使用したDRAMの主に行デコーダに関する信号の流れの例を示した概略のブロック図であり、図5を用いて本発明の第2実施例の回路を使用するDRAMの行デコーダに対してメモリセルに書き込み動作を行わせる場合の各部の動作及び信号の流れの概略を説明する。なお、図5において、図1及び図8と同じものは同じ符号で示し、ここでは、図1との相違点のみ説明すると共に、上記第1実施例と同様に、列デコーダに対してメモリセルに書き込み動作を行わせる場合、列デコーダは、センスアンプを介してメモリセルに書き込み動作を行う以外は行デコーダの場合と動作原理は同じであるので説明を省略する。
【0053】
図5における図1との相違点は、図1のアドレスキー回路30Aがアドレス入力端子A0〜Anの何れかからアドレスバッファ1にアドレスを指定する信号が入力されたことを示すADK信号を出力するのに対して、図5のアドレスキー回路30Bは、アドレス入力端子A0〜Anの内どの入力端子にアドレスを指定する信号が入力されたかを示すために、アドレス入力端子A0〜Anに対応したアドレスキー信号ADK0〜ADKn(以下ADK0〜ADKn信号と呼ぶ)をそれぞれRASバッファに出力することにある。これに伴って図1のRASバッファ7Aを7Bとし、図1のDRAM20Aを20Bにしたことにある。
【0054】
図6は、アドレス入力端子がA0〜A2の3つの場合における上記RASバッファ7Bの回路例を示した図である。なお、図6においては、上記第1実施例の変形例と比較するために、図4と同様に3種類の異なった遅延時間を有する遅延回路を備えた場合を例にして説明するが、本第2実施例においては、図5で示したアドレス入力端子A0〜Anの端子の数だけアドレスキー信号ADK0〜ADKnが存在するため、上記第1内部信号出力手段は、アドレス入力端子A0〜Anの端子の数だけ該インバータ回路の数の種類の遅延回路を形成する直列回路を備えることができるものである。また、図6において、図2及び図4と同じものは同じ符号で示しており、ここでは図4との相違点のみ説明する。
【0055】
図6における図4との相違点は、図4のヒューズ95〜97の代わりにnMOSトランジスタ100,101,102を使用し、該nMOSトランジスタ100〜102の何れかをオンさせて遅延回路を選択し、遅延時間を可変することができるようにしたことにある。
図6において、NAND回路65の出力にインバータ回路66の入力を、該インバータ回路66の出力にインバータ回路67の入力を接続した直列回路において、更にインバータ回路67の出力にnMOSトランジスタ100のドレインが接続され、該nMOSトランジスタ100のゲートはNAND回路65の一方の入力に接続され、該接続部はアドレスキー回路30Bに接続されて第1直列回路をなす。
【0056】
次に、NAND回路80の出力にインバータ回路81,82,83,84を同じ方向に直列に接続した直列回路において、更にインバータ回路84の出力にnMOSトランジスタ101のドレインが接続され、該nMOSトランジスタ101のゲートはNAND回路80の一方の入力に接続され、該接続部はアドレスキー回路30Bに接続されて第2直列回路をなす。
【0057】
NAND回路85の出力にインバータ回路86,87,88,89,90,91を同じ方向に直列に接続した直列回路において、更にインバータ回路91の出力にnMOSトランジスタ102のドレインが接続され、該nMOSトランジスタ102のゲートはNAND回路85の一方の入力に接続され、該接続部はアドレスキー回路30Bに接続されて第3直列回路をなす。
【0058】
上記第1、第2及び第3直列回路の各nMOSトランジスタ100〜102のソースがそれぞれ接続され、該接続部は上記pMOSトランジスタ68及びnMOSトランジスタ69の両ゲートを接続した接続部に接続される。また、各NAND回路65,80,85の他方の入力はそれぞれ接続され、該接続部にWEバッファ10が接続されてWDE信号が入力される。
【0059】
また、NAND回路65の入力とnMOSトランジスタ100のゲートとの接続部には、アドレスキー回路30Bから、アドレス入力端子A0にアドレスを指定する信号が入力されたか否かを示す信号であるADK0信号が、NAND回路80の入力とnMOSトランジスタ101のゲートとの接続部には、アドレスキー回路30Bから、アドレス入力端子A1にアドレスを指定する信号が入力されたか否かを示す信号であるADK1信号が、NAND回路85の入力とnMOSトランジスタ102のゲートとの接続部には、アドレスキー回路30Bから、アドレス入力端子A2にアドレスを指定する信号が入力されたか否かを示す信号であるADK2信号が入力されている。
【0060】
更に、NAND回路63の一方の入力とpMOSトランジスタ68のソースとnMOSトランジスタ69のソースとの接続部にはnMOSトランジスタ103のソースが接続され、該nMOSトランジスタ103のドレインは直流電源の+側端子+DCに接続されている。また、nMOSトランジスタ103のゲートは3入力NOR回路104の出力に接続されており、該3入力NOR回路104の3つの入力はアドレスキー回路30Bに接続されていると共に、ADK0信号、ADK1信号及びADK2信号が、上記3入力NOR回路104の3つの入力にそれぞれ対応して入力される。
【0061】
図7は、上記図6で示した回路におけるタイミングチャート図であり、図6及び図7を用いて図6で示した回路の動作を説明する。図6及び図7において、/exWE信号が「H」のときWEバッファ10から出力されるWDE信号が「L」であり、アドレスバッファ1にアドレスを指定する信号が入力されておらず上記アドレスキー回路30Bから出力されるADK0〜ADK2信号が「L」である場合、nMOSトランジスタ100〜102はオフし、このとき3入力NOR回路104の出力は「H」となってnMOSトランジスタ103がオンする。
【0062】
このことから、pMOSトランジスタ68のソースとnMOSトランジスタ69のソースが接続されたNAND回路63の入力には、nMOSトランジスタ103を介して直流電源の+側端子である+DCから「H」の信号が入力され、/exRAS信号が「H」のときには、NAND回路63の他方の入力にはインバータ回路62から「L」の信号が入力され、intRAS信号は「L」となる。
【0063】
このとき、/exRAS信号が「H」から「L」に切り換わると、intRAS信号は「L」から「H」に切り換わり、更に、例えばアドレス入力端子A0からアドレスバッファ1にアドレスを指定する信号が入力されると、上記RXTF回路8から出力されるRXTF信号が「L」から「H」に切り換わり、上記NAND回路54の両方の入力が「H」となり、「H」に切り換わったRXT信号がRX発生回路6に出力される。
【0064】
なお、上記において、アドレス入力端子A0からアドレスバッファ1にアドレスを指定する信号が入力されると、上記ADK0信号は「L」から「H」に切り換わってnMOSトランジスタ100がオンし、3入力NOR回路104の出力は「L」となってnMOSトランジスタ103がオフすると共に、pMOSトランジスタ68及びnMOSトランジスタ69の両ゲートが接続されている接続部は、nMOSトランジスタ100のドレイン及びソースを介してインバータ回路67の出力が接続される。このとき、ADK1信号及びADK2信号は「L」のままである。
【0065】
ここで、更に、書き込み動作に切り換えるために/exWE信号が「H」から「L」に切り換わると、WEバッファ10はWDE信号を「L」から「H」に切り換えて出力して、RASバッファ7BのNAND回路65、80及び85の入力に入力され、NAND回路65の一方の入力には上記のように「H」のADK0信号が入力されているため、NAND回路65の両入力には「H」の信号がそれぞれ入力され、インバータ回路67の出力は「H」から「L」に切り換わる。これにより、nMOSトランジスタ69はオフしてpMOSトランジスタ68がオンし、NAND回路63の他方の入力はpMOSトランジスタ68を介して接地されて「L」となり、intRAS信号は「H」から「L」に切り換わり、RXT信号が「H」から「L」に切り換わる。
【0066】
上記のように、本発明における第2実施例の回路によると、従来、/exRAS信号の2値の状態が切り換わることにより、RASバッファのintRAS信号の2値の状態が切り換わっていたのに対して、外部から入力される/exWE信号から形成されるWDE信号と、アドレス入力端子A0〜Anの何れかからアドレスバッファ1にアドレスを指定する外部からの信号が入力されると、アドレスキー回路30Bから出力される、該信号が入力されたアドレス入力端子に対応したADK0〜ADKn信号とから、/exRAS信号の2値の状態が切り換わらなくてもintRAS信号の2値の状態を切り換えることができる。
【0067】
更に、ADK0〜ADKn信号に対応してそれぞれ異なった遅延時間を有する遅延回路が選択されることから、アドレス入力端子A0〜Anの内どの入力端子にアドレスを指定する信号が入力されたかによって、WDE信号が「L」から「H」に切り換わってから、intRAS信号が「H」から「L」に切り換わるまでの遅延時間を変えることができ、すなわち、上記tRWLのタイミングマージンを調整することができる。
【0068】
上記実施例においては、DRAMを例にして説明したが、このほかに半導体集積回路における内部回路の信号のタイミングマージンをチェックする場合に適用することができる。このように本発明は、様々な変形例が考えられ、上記実施例に限定されるものではなく、本発明の範囲は、特許請求の範囲によって定められるべきものであることは言うまでもない。
【0069】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明は、半導体チップにおける半導体集積回路において、テスティングバーンイン装置又は精度の良くないテスト装置を使用してテスティングバーンインを行う場合に、該装置から入力されるテスト信号になまりが生じて、該テスト信号に関する上記半導体集積回路の内部信号においてなまりが生じるときにおいても、内部信号のタイミングマージンを小さくしてテストすることができ、半導体チップにおける半導体集積回路の正確な動作特性を測定することができる。このことから、タイミングマージンを小さくして厳しい条件でのテストを行うことができるため、半導体チップを製造する際に不良品を良品と判定して製造することがなくなると共に、良品を不良品と判定することもなくすことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例における半導体集積回路を使用したDRAMの主に行デコーダに関する信号の流れの例を示した概略のブロック図である。
【図2】図1で示したRASバッファ7Aの回路例を示した図である。
【図3】図2で示した回路におけるタイミングチャート図である。
【図4】図1で示したRASバッファ7Aの回路の他の例を示した図である。
【図5】本発明の第2実施例における半導体集積回路を使用したDRAMの主に行デコーダに関する信号の流れの例を示した概略のブロック図である。
【図6】図5で示したRASバッファ7Bの回路例を示した図である。
【図7】図6で示した回路におけるタイミングチャート図である。
【図8】従来のDRAMの主に行デコーダに関する信号の流れの例を示した概略のブロック図である。
【図9】図8で示したRASバッファ7の回路例を示した図である。
【図10】図9で示した回路におけるタイミングチャート図である。
【符号の説明】
1 アドレスバッファ、3 行デコーダ、4 メモリセル、6 RX発生回路、7,7A,7B RASバッファ、8 RXTF発生回路、9 アドレスバッファ、10 WEバッファ、20,20A,20B DRAM、30A,30Bアドレスキー回路、/exRAS,/exWE,A0〜An 外部入力端子[0001]
[Industrial applications]
BACKGROUND OF THE
[0002]
[Prior art]
Conventionally, when testing a manufactured semiconductor chip, the semiconductor chip is usually tested at 27 ° C. to 80 ° C., whereas burn-in is performed under a bad condition of 120 ° C. However, burn-in has been performed without monitoring the burn-in state, which is the operating state of the semiconductor chip during the burn-in.
[0003]
Therefore, a testing burn-in apparatus for testing a semiconductor chip while monitoring the burn-in state of the semiconductor chip has recently been used. FIG. 8 is a schematic block diagram showing an example of a signal flow mainly concerning a row decoder of a conventional dynamic operation type RAM (hereinafter referred to as DRAM). Here, in FIG. 8, a conventional example will be described by taking as an example the operation of each unit and the flow of signals when a row decoder performs a write operation on a memory cell. When a column decoder performs a write operation on a memory cell, the operation principle of the column decoder is the same as that of a row decoder except that the column decoder performs a write operation on the memory cell via a sense amplifier. I do.
[0004]
In FIG. 8, signals designating addresses input from a plurality of address input terminals A0 to An (n is 0 and a positive integer) are respectively input to an
[0005]
An
[0006]
Data relating to the row of the address in the
[0007]
Further, a write signal (hereinafter, referred to as an / exWE signal) for setting a memory cell at a specified address for a write operation is switched from “H” to “L” via an external input terminal / exWE, and the external circuit WE outputs the signal. Input to the
[0008]
The
[0009]
Here, the process of outputting the RXT signal of the
[0010]
[Problems to be solved by the invention]
FIG. 10A is a timing chart of the circuit shown in FIG. 9, and FIG. 10B is a testing burn-in device used for performing the manufacturing inspection of the DRAM shown in FIG. FIG. 10 is a timing chart for the circuit shown in FIG. By comparing FIGS. 10A and 10B, it can be seen that the waveform of FIG. 10B is rounded with respect to FIG. 10A. As described above, since the above-described testing burn-in apparatus measures a large number of semiconductor devices at the same time, the difference in the length of wiring on a device board on which the semiconductor devices are mounted, the capacity of each semiconductor device, and the skew of the testing burn-in apparatus, For example, if the skew is 1 ns in the current burn-in device, the skew is 10 ns to 20 ns in the testing burn-in device, so that when measuring the operating characteristics of the semiconductor chip, the waveform showing the characteristics becomes blunt.
[0011]
As described above, when the testing burn-in device is used, the operating characteristics of the semiconductor chip are measured, for example, by a write enable signal / exWE (hereinafter, referred to as an / exWE signal) externally via an external input terminal / exWE in FIG. For example, when the leading time tRWL of the write command with respect to the / exRAS signal is measured, the waveform indicating the characteristic becomes rounded, and the tRWL increases due to the threshold value of the device of the semiconductor integrated circuit in the semiconductor chip. However, when testing a timing margin of an internal signal in a semiconductor chip, there is a problem that it is not possible to measure an accurate operating characteristic by reducing the margin.
[0012]
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-described problems, and has been made in consideration of a timing margin due to an internal signal of a semiconductor chip in a test of the semiconductor chip performed by using a testing burn-in apparatus when manufacturing the semiconductor chip. And a semiconductor integrated circuit capable of accurately measuring operating characteristics.
[0013]
[Means for Solving the Problems]
The present invention includes a first internal signal output means for generating and outputting a first internal signal for changing a binary state in response to a binary state change of an external input signal from a first external terminal, A timing margin between an external input signal from a second external terminal and the external input signal from the first external terminal when the first internal signal output from the first internal signal output means is within a predetermined timing margin; In the semiconductor integrated circuit of the semiconductor chip, the second internal signal for changing the binary state of the input signal from the second external terminal is changed to generate the first internal signal output means. When a predetermined signal is input to a second internal signal output means for outputting a predetermined signal to a third external terminal including at least one external terminal, the binary state is changed and the predetermined signal is input. 3rd shown It generates a strobe signal is to provide a semiconductor integrated circuit having a third internal signal output means for outputting to said first internal signal outputting means.
[0014]
In the invention described in
[0015]
In the invention according to
[0016]
In the invention according to
[0017]
In the invention according to
[0018]
In the invention according to
[0019]
In the invention described in
[0020]
[Action]
The semiconductor integrated circuit according to
[0021]
In the semiconductor integrated circuit according to a second aspect of the present invention, the first internal signal output means according to the first aspect is configured such that the first internal signal output means receives the first internal signal with respect to a change in the state of the second internal signal by the means for selecting the timing. Select the timing to change the signal state.
[0022]
According to a third aspect of the present invention, in the semiconductor integrated circuit according to the second aspect, the second internal signal is input to an input of each of the delay circuits and is not selected. By cutting the fuse and selecting a desired delay circuit, the first internal signal output means is connected to the second external signal input from the second external terminal via the selected delay circuit. The timing for changing the state of the first internal signal in response to the state change is set.
[0023]
According to a fourth aspect of the present invention, in the semiconductor integrated circuit according to the first aspect, the third internal signal causes the first internal signal output means to output a predetermined signal at each of the third external terminals. Identifies the external terminal to which the signal has been input.
[0024]
In the semiconductor integrated circuit according to the fifth aspect of the present invention, the first internal signal output means according to the fourth aspect corresponds to the third internal signal which is the identification signal by means for changing timing. Thus, the timing at which the state of the first internal signal is changed in response to the state change of the second internal signal is varied.
[0025]
In the semiconductor integrated circuit according to a sixth aspect of the present invention, the first internal signal output unit is configured to change the timing of each of the delay circuits in accordance with the identification signal. And changes the timing of changing the state of the first internal signal with respect to the state change of the second external signal input from the second external terminal via the selected delay circuit.
[0026]
In a semiconductor integrated circuit according to a seventh aspect of the present invention, the first internal signal output means according to the sixth aspect includes switching means in each of the delay circuits as means for selecting each of the delay circuits, The switching means selects a delay circuit corresponding to the identification signal.
[0027]
【Example】
Next, the present invention will be described in detail based on embodiments shown in the drawings.
FIG. 1 is a schematic block diagram showing an example of a signal flow mainly concerning a row decoder of a DRAM using a semiconductor integrated circuit according to a first embodiment of the present invention. First, FIG. An outline of the operation of each unit and the flow of signals when a write operation is performed on a memory cell for a row decoder of a DRAM using the circuit of the first embodiment will be described. In FIG. 1, the same components as those in FIG. 8 of the conventional example are denoted by the same reference numerals. Here, only the differences from FIG. 8 will be described, and when a column decoder performs a write operation on a memory cell, The operation principle of the column decoder is the same as that of the row decoder except that the column decoder performs a write operation on the memory cell via the sense amplifier, and thus the description is omitted.
[0028]
1 differs from FIG. 8 in that an address
[0029]
In FIG. 1, signals designating addresses inputted from address input terminals A0 to An are respectively inputted to an
[0030]
Also, when the / exWE signal for setting the memory cell at the designated address to the write operation is switched from "H" to "L" via the external input terminal / exWE and input to the
[0031]
Here, the process of outputting the RXT signal of the
[0032]
The
[0033]
The connection between the output of the
[0034]
The
[0035]
An output of the
[0036]
In the first embodiment, the external input terminal / exRAS is the first external terminal, the / exRAS signal is the first external signal, and the
[0037]
FIG. 3 is a timing chart of the circuit shown in FIG. 2, and the operation of the circuit shown in FIG. 2 will be described with reference to FIGS. 2 and 3, when the / exWE signal is "H", the WDE signal output from the
[0038]
As a result, the output of the
[0039]
At this time, when the / exRAS signal switches from "H" to "L", the intRAS signal switches from "L" to "H", and further, a signal designating an address is input to the
[0040]
Here, when the / exWE signal switches from "H" to "L" in order to switch to the write operation, the
[0041]
As described above, according to the circuit of the first embodiment of the present invention, the binary state of the intRAS signal in the RAS buffer has been switched by the conventional switching of the binary state of the / exRAS signal. On the other hand, a WDE signal formed from an externally input / exWE signal and an ADK signal indicating that an external signal designating an address has been input to the
[0042]
From this, when performing a test using the testing burn-in device, the rising point of the / exRAS signal can be made earlier to the falling point of the intRAS signal. And tRWL can be measured under severe conditions.
[0043]
In the first embodiment, a means for selecting and setting the delay time of the delay circuit formed by the serial circuit of the
[0044]
The difference between FIG. 4 and FIG. 2 is that, in addition to the series circuit of the
[0045]
In FIG. 4, in a series circuit in which the input of the
[0046]
The input of the
[0047]
The other ends of the
[0048]
In the above configuration, if a signal passes through the inverter circuit, a time delay occurs in the signal. If the signal passes through the one-stage inverter circuit and the delay time of the signal is 1 ns, the two-stage inverter circuit A passing signal can be delayed by 2 ns, and a four-stage inverter circuit can delay a passing signal by 4 ns. Similarly, a six-stage inverter circuit can delay a passing signal by 6 ns. For this reason, the first, second, and third series circuits each include a delay circuit that generates a different delay time.
[0049]
Here, each of the
[0050]
As described above, if the selected serial circuit, for example, the second serial circuit is selected by cutting the fuse of the unselected serial circuit with a laser cutter, the timing chart of FIG. 3 in the first embodiment is shown. A delay circuit formed by a series circuit of
[0051]
In the modification of the first embodiment, a case has been described as an example in which three types of delay circuits having different delay times are provided. However, the present invention is not limited to this. Are connected in series, any number of inverter circuits may be used as long as the number of inverter circuits is positive and different, and the first internal signal output means forms delay circuits of the same number as the number of inverter circuits. A series circuit can be provided.
[0052]
Next, FIG. 5 is a schematic block diagram showing an example of a signal flow mainly concerning a row decoder of a DRAM using a semiconductor integrated circuit according to a second embodiment of the present invention. The operation of each section and the flow of signals when a write operation is performed on a memory cell to a row decoder of a DRAM using the circuit of the second embodiment will be described. In FIG. 5, the same components as those in FIGS. 1 and 8 are denoted by the same reference numerals, and only the differences from FIG. 1 will be described. When the write operation is performed by the column decoder, the operation principle is the same as that of the row decoder except that the column decoder performs the write operation on the memory cell via the sense amplifier, and therefore the description is omitted.
[0053]
5 differs from FIG. 1 in that the address
[0054]
FIG. 6 is a diagram showing a circuit example of the
[0055]
6 is different from FIG. 4 in that
6, in the series circuit in which the input of the
[0056]
Next, in a series circuit in which
[0057]
In a series circuit in which
[0058]
The sources of the
[0059]
At the connection between the input of the
[0060]
Further, the source of the
[0061]
FIG. 7 is a timing chart of the circuit shown in FIG. 6, and the operation of the circuit shown in FIG. 6 will be described with reference to FIGS. In FIGS. 6 and 7, when the / exWE signal is "H", the WDE signal output from the
[0062]
From this, the signal of “H” is input to the input of the
[0063]
At this time, when the / exRAS signal switches from "H" to "L", the intRAS signal switches from "L" to "H", and further, for example, a signal for specifying an address from the address input terminal A0 to the
[0064]
In the above, when a signal designating an address is input from the address input terminal A0 to the
[0065]
Here, when the / exWE signal switches from "H" to "L" in order to switch to the write operation, the
[0066]
As described above, according to the circuit of the second embodiment of the present invention, the binary state of the intRAS signal of the RAS buffer has been switched by switching the binary state of the / exRAS signal. On the other hand, when a WDE signal formed from an externally input / exWE signal and an external signal designating an address to the
[0067]
Further, since delay circuits having different delay times are selected in accordance with the signals ADK0 to ADKn, the WDE depends on which of the address input terminals A0 to An receives the signal designating the address. The delay time from when the signal switches from “L” to “H” to when the intRAS signal switches from “H” to “L” can be changed, that is, the timing margin of the tRWL can be adjusted. it can.
[0068]
In the above embodiment, the DRAM has been described as an example. However, the present invention can be applied to a case where a timing margin of a signal of an internal circuit in a semiconductor integrated circuit is checked. As described above, the present invention can be variously modified and is not limited to the above-described embodiments. It goes without saying that the scope of the present invention should be determined by the appended claims.
[0069]
【The invention's effect】
As is apparent from the above description, in the present invention, when a testing burn-in is performed using a testing burn-in device or an inaccurate test device in a semiconductor integrated circuit in a semiconductor chip, an input from the device is performed. Even when the test signal is distorted and the internal signal related to the test signal is distorted in the internal signal of the semiconductor integrated circuit, the test can be performed with a small timing margin of the internal signal. Operating characteristics can be measured. From this, it is possible to perform a test under severe conditions with a small timing margin, so that it is not necessary to determine a defective product as a non-defective product when manufacturing a semiconductor chip, and to determine a non-defective product as a defective product. Without having to do it.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic block diagram showing an example of a signal flow mainly concerning a row decoder of a DRAM using a semiconductor integrated circuit according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a diagram showing a circuit example of a
FIG. 3 is a timing chart of the circuit shown in FIG. 2;
FIG. 4 is a diagram showing another example of the circuit of the
FIG. 5 is a schematic block diagram showing an example of a signal flow mainly related to a row decoder of a DRAM using a semiconductor integrated circuit according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a diagram illustrating a circuit example of the
FIG. 7 is a timing chart of the circuit shown in FIG. 6;
FIG. 8 is a schematic block diagram showing an example of a signal flow mainly related to a row decoder of a conventional DRAM.
9 is a diagram showing a circuit example of the
FIG. 10 is a timing chart of the circuit shown in FIG. 9;
[Explanation of symbols]
1 address buffer, 3 row decoder, 4 memory cells, 6 RX generation circuit, 7, 7A, 7B RAS buffer, 8 RXTF generation circuit, 9 address buffer, 10 WE buffer, 20, 20A, 20B DRAM, 30A, 30B address key Circuit, / exRAS, / exWE, A0-An External input terminal
Claims (7)
該第1内部信号出力手段から出力された第1内部信号が所定のタイミングマージン内であるときにおける、第2外部端子から入力される2値の第2外部信号と上記第1外部端子から入力される第1外部信号とのタイミングマージンがチェックされる半導体チップの半導体集積回路において、
上記第2外部端子から入力される第2外部信号の状態変更時に2値の状態を変更する第2内部信号を生成して上記第1内部信号出力手段に出力する第2内部信号出力手段と、
少なくとも1つの外部端子からなる第3外部端子に所定の信号が入力されると、2値の状態を変更して該所定の信号が入力されたことを示す第3内部信号を生成して上記第1内部信号出力手段に出力する第3内部信号出力手段とを備え、
上記第1内部信号出力手段は、更に、上記第1外部信号の状態変更がない場合においても、該第2内部信号出力手段から出力される第2内部信号の状態変更と、上記第3内部信号出力手段から出力される第3内部信号の状態変更とに対応して上記第1内部信号の状態を変更して出力することを特徴とする半導体集積回路。First internal signal output means for generating and outputting a first internal signal for changing a binary state in response to a state change of a binary first external signal input from a first external terminal;
When the first internal signal output from the first internal signal output means is within a predetermined timing margin, the binary second external signal input from the second external terminal and the binary external signal input from the first external terminal are input. In a semiconductor integrated circuit of a semiconductor chip in which a timing margin with a first external signal is checked,
A second internal signal output means for generating a second internal signal for changing a binary state when the state of the second external signal input from the second external terminal is changed and outputting the second internal signal to the first internal signal output means;
When a predetermined signal is input to a third external terminal including at least one external terminal, a binary state is changed to generate a third internal signal indicating that the predetermined signal has been input, and the third internal signal is generated. And third internal signal output means for outputting to the internal signal output means.
The first internal signal output means further comprises: a state change of the second internal signal output from the second internal signal output means even when there is no change in the state of the first external signal; A semiconductor integrated circuit, wherein the state of the first internal signal is changed and output in response to a change in the state of a third internal signal output from an output means.
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| Publication Number | Publication Date |
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| JPH08221999A JPH08221999A (en) | 1996-08-30 |
| JP3595591B2 true JP3595591B2 (en) | 2004-12-02 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3595591B2 (en) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100308067B1 (en) * | 1998-06-29 | 2001-10-19 | 박종섭 | How to control row address strobe path |
-
1995
- 1995-02-13 JP JP2404995A patent/JP3595591B2/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08221999A (en) | 1996-08-30 |
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| A977 | Report on retrieval |
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|
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| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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