JP3596082B2 - Low-temperature storage tank vaporization promotion structure - Google Patents
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- 238000009834 vaporization Methods 0.000 title claims description 17
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 title claims description 17
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 43
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 32
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 claims description 9
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 8
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 5
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 4
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 4
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000003949 liquefied natural gas Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Filling Or Discharging Of Gas Storage Vessels (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】
本発明は、外槽内に内槽が所定の断熱空間を有して内設されて成る低温貯槽における残液気化促進構造に関し、開放点検時の残液の排出を短時間にできるようにしたものである。
【0002】
【従来の技術】
液化天然ガスや液化プロパンガス等の低温液化ガスを貯蔵する低温貯槽として、図5に示すようなものがある。これは、基礎スラブ11上に、外槽12が設けられると共に、この外槽12内に内槽13が断熱空間(保冷空間14)を有して設けられ、保冷空間14内には粒状断熱材が充填されて構成される。
【0003】
貯槽からの低温貯液の取り出しは、内外槽の側板12A,13Aを貫通して貯槽内と外部とを連通する排出パイプ15を介して行うが、この排出パイプ15の配設位置は設備安全の観点から貯槽側部に規制されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、低温貯槽に限るものではないが貯槽は所定期間使用に供された後安全確認のために内部点検(疲労の程度を調べ必要に応じて補修)を行う必要があるが、このような内部点検の際には当然のことながら貯液を全て取り出して開放しなければならない。
【0005】
貯槽からの貯液の取り出しは、前述のごとく貯槽側部に設けられた排出パイプ15を介して行うが、この排出パイプ15の配設位置の関係から貯槽底部に排出不能の残液16が不可避的に生じ、これら残液16は気化させて取り出すしか他に方法がない。ところが、低温貯槽は内部を保冷するべく構成されているものであるために内部温度が上昇せず、従って残液の気化は極めて遅い。このため、気化を促進するために貯槽内部に加熱した窒素ガスやメタンガスを送り込むことが行われるが、そのための装置を仮設しなければならないと共に、容量の大きい貯槽内を高温のガスで満たすことは容易ではなく、また、ガスと残液の液面での熱交換は効率が悪いために残液の気化を効率的に促進することはできないものであった。
【0006】
その結果、貯液の種類やその残液の量にもよるが、残液を全て気化させて貯槽を空にするのに長い時間を要し、特に沸点の高い貯液の場合には数カ月を要することも希ではなく、その間はもちろん貯槽を使用することができないため、貯槽の稼働効率が悪化し、経済的損失が極めて大きいという問題があった。
【0007】
本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであって、貯槽開放時において貯槽内に残存する貯液の気化を促進し、貯槽の迅速な開放を可能として貯槽の稼働効率の悪化を防ぐことのできる低温貯槽の残液気化促進構造を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成する低温貯槽の残液気化促進構造は、外槽内に内槽が所定の断熱空間を有して内設されて成る低温貯槽において、所定長さの直線状の管路部材が継ぎ目に隙間を有して接合されて前記隙間を通気口として形成された熱媒体用管路が、前記断熱空間の内部にその底面に沿って敷設されると共に、前記熱媒体用管路への供給口が前記外槽外に突設され、該供給口が前記低温貯槽の外部に設けられた熱媒体加熱供給装置と接続されて当該熱媒体加熱供給装置により加熱された熱媒体が前記熱媒体用管路を介して前記断熱空間に供給されるように構成されていることを特徴とする。
【0011】
【作用】
上記構成によれば、低温貯槽の外部に設けられた熱媒体加熱供給装置によって加熱した媒体を供給口から熱媒体用管路内に送り込むことにより、加熱された熱媒体が断熱空間を介して貯槽内の残液を加熱し、その気化を促進する。また、その熱媒体用管路は、断熱空間内の空気を不活性ガスに置換するパージの際に兼用利用できる。
【0013】
【発明の実施例】
以下添付図面を参照して本発明の実施例について説明する。
ここでは、まず、本発明の参考例について説明する。
図1は本発明に係る低温貯槽の残液気化促進構造の参考例を備えた低温貯槽の断面図である。
【0014】
図示低温貯槽1は、基礎スラブ10の上面に外槽20が設けられ、その外槽20内に内槽30が設けられて構成されている。
【0015】
内槽30は、基礎スラブ10の上面に敷設された断熱コンクリート製の保冷基盤40上に設けられ、その側板31及び天板32と外槽20の側板21及び天板22との間には、断熱空間として必要な間隔の保冷空間50が形成されている。この保冷空間50内には、図示しないが粒状断熱材が充填されている。
【0016】
貯槽側部には、排出パイプ60が内外槽20,30の側板21,31及び保冷空間50を貫通して貯槽内部(内槽20内部)と外部とを連通して配設されている。その貯槽内部側の端部は内底面33側に屈曲されているが、内底面33との間には隙間を有し、低温貯槽1を開放すべく貯液を排出する際にはこの隙間分の貯液が排出不能として残存する(残液2が生ずる)。
【0017】
保冷基盤40内には、その表面に近い(浅い)部位に、熱媒体用管路としての加熱管70が埋設されている。加熱管70は、保冷基盤40内の全域を巡り、その両端の供給口71と排出口72(図は一方のみ表れる)は外槽20の外まで配設されている。供給口71及び排出口72にはそれぞれバルブ73,74が設けられ、通常はこのバルブ73,74によって閉塞されている。
【0018】
而して、上記構成の低温貯槽1では、内部点検等の際には排出パイプ60を介して貯液を排出した後の残液2を下記のごとくして完全に気化させて開放する。
【0019】
即ち、熱媒体加熱供給装置80を貯槽近傍に仮設すると共に、この熱媒体加熱供給装置80と加熱管70の供給口71及び排出口72を接続し、この熱媒体加熱供給装置80によって、加熱した熱媒体を供給口71から加熱管70内に供給し、加熱管70を通って保冷基盤40内を巡った熱媒体を排出口72から回収して加熱循環させる。これにより、加熱管70内を通る熱媒体が保冷基盤40を加熱し、この保冷基盤40が残液2を加熱してその気化を促進するものである。熱媒体としては、水(水蒸気を含む)又は不活性ガス等を用いることができる。
【0020】
なお、上記参考例は、加熱管70を保冷基盤40内に埋設して構成したものであるが、図2に示すように内槽30内の内底面33に沿って加熱管70を敷設配設しても良い。本構成によれば保冷基盤40内に埋設する構成に比較して施工が簡単となり、既設の貯槽にも容易に追加設置できる。図中前述の参考例と同機能の部位には同符号を付してある。
【0021】
図3は、本発明に係る低温貯槽の残液気化促進構造の一実施例を備えた低温貯槽の断面図である。図中前述の参考例と同機能の部位には同符号を付す。図示実施例は、保冷空間40の下部に、当該保冷空間40の周方向に沿って加熱管90を配設したものである。
【0022】
加熱管90は、図4に当該部位の概略平面図を示すように、所定長さの直線状の鋼管91が、継ぎ目に通気口としての隙間92を有して多角形状に結合されて構成され、その内の一カ所に貯槽外部と連通する供給口93が接続されている。
【0023】
本構成では、前述の参考例と同様に、熱媒体加熱供給装置80を貯槽近傍に仮設すると共に、この熱媒体加熱供給装置80と加熱管90の供給口93を接続し、この熱媒体加熱供給装置80によって加熱した熱媒体を供給口93から加熱管90内に供給する。これにより、加熱管90内に供給された熱媒体が隙間93から保冷空間50内に充填供給され、内槽30をその外側から加熱して残液2の気化を促進する。熱媒体としては、保冷空間50内に水分が入ると後の使用上好ましくないために乾燥した不活性ガスを用いる。
【0024】
なお、本構成の加熱管90は、当該低温貯槽1の使用開始時において保冷空間50内の酸素を含む空気を窒素ガス等によってパージする際にも、利用することができる。
【0025】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明に係る低温貯槽の残液気化促進構造によれば、低温貯槽の外部に設けられた熱媒体加熱供給装置によって加熱した媒体を供給口から熱媒体用管路内に送り込むことにより、加熱された熱媒体が断熱空間を介して貯槽内の残液を加熱し、その気化を促進する。このため、残液を短期間で気化させることができ、貯槽を迅速に開放させることができる。その結果、内部点検に要する期間を短縮させて貯槽の稼働効率を向上させることができるものである。また、熱媒体用管路は、断熱空間内の空気を不活性ガスに置換するパージの際に兼用利用できるため、合理的である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る低温貯槽の残液気化促進構造の参考例を備えた低温貯槽の断面図である。
【図2】他の参考例を備えた低温貯槽の断面図である。
【図3】本発明に係る低温貯槽の残液気化促進構造の一実施例を備えた低温貯槽の断面図である。
【図4】その加熱管の配置を示す概略平面図である。
【図5】従来例としての低温貯槽の断面図である。
【符号の説明】
1 低温貯槽
20 外槽
30 内槽
40 保冷基盤(基盤)
50 断熱空間(保冷空間)
70 加熱管(熱媒体用管路)
71 供給口
72 排出口
80 熱媒体加熱供給装置
90 加熱管(熱媒体用管路)
92 隙間(通気口)
93 供給口[0001]
[Industrial applications]
The present invention relates to a residual liquid vaporization promoting structure in a low-temperature storage tank in which an inner tank is provided inside a outer tank having a predetermined heat-insulating space. Things.
[0002]
[Prior art]
As a low-temperature storage tank for storing a low-temperature liquefied gas such as liquefied natural gas or liquefied propane gas, there is a low-temperature storage tank as shown in FIG. This is because the outer tub 12 is provided on the base slab 11, the inner tub 13 is provided in the outer tub 12 with the heat insulating space (cooling space 14), and the granular heat insulating material is Is filled.
[0003]
The removal of the low-temperature liquid storage from the storage tank is performed via a discharge pipe 15 that penetrates the side plates 12A and 13A of the inner and outer tanks and communicates between the inside and the outside of the storage tank. From the viewpoint, it is restricted to the storage tank side.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
By the way, it is not limited to low-temperature storage tanks, but after storage tanks have been used for a predetermined period of time, it is necessary to perform internal inspection (check the degree of fatigue and repair if necessary) for safety confirmation. At the time of inspection, of course, all the liquid must be taken out and opened.
[0005]
The removal of the liquid from the storage tank is performed through the discharge pipe 15 provided on the side of the storage tank as described above. However, due to the arrangement position of the discharge pipe 15, the residual liquid 16 that cannot be discharged to the bottom of the storage tank is inevitable. These residual liquids 16 are vaporized and taken out. However, since the low-temperature storage tank is configured to keep the inside cool, the internal temperature does not rise, and therefore, the evaporation of the residual liquid is extremely slow. For this reason, heated nitrogen gas or methane gas is sent into the storage tank to promote vaporization.However, a device for that purpose must be temporarily installed, and it is not possible to fill a large capacity storage tank with high-temperature gas. It is not easy, and the heat exchange between the gas and the residual liquid at the liquid level is inefficient, so that the vaporization of the residual liquid cannot be efficiently promoted.
[0006]
As a result, depending on the type of liquid storage and the amount of residual liquid, it takes a long time to evaporate all residual liquid and empty the storage tank, and especially for high boiling liquid storage, several months. This is not uncommon, and during that time, the storage tank cannot be used, so that the operation efficiency of the storage tank deteriorates and the economic loss is extremely large.
[0007]
The present invention has been made in view of the above problems, and promotes the vaporization of a liquid remaining in a storage tank when the storage tank is opened, enables the storage tank to be quickly opened, and prevents deterioration of the operation efficiency of the storage tank. It is an object of the present invention to provide a residual liquid vaporization promoting structure for a low-temperature storage tank that can be used.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
The low-temperature storage tank vaporization promoting structure for achieving the above object is a low-temperature storage tank in which an inner tank is provided inside a outer tank having a predetermined heat insulating space, and a linear pipe member having a predetermined length is provided. A heat medium pipe joined with a gap at the seam and formed with the gap as a vent is laid along the bottom surface inside the heat insulating space, and is connected to the heat medium pipe. A supply port protrudes out of the outer tank, and the supply port is connected to a heating medium heating / supplying device provided outside the low-temperature storage tank, and the heating medium heated by the heating medium heating / supplying device is the heating medium. It is characterized in that it is configured to be supplied to the heat-insulated space through a service pipe.
[0011]
[Action]
According to the above construction, by feeding the medium heated by the heat medium heating supply device provided outside the low-temperature storage chamber from the supply port to the heat medium pipe passage, pressurized heated heat medium through the adiabatic space To heat the residual liquid in the storage tank to promote its vaporization. Further, the heat medium pipe can also be used for purging in which air in the heat insulating space is replaced with an inert gas.
[0013]
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
Here, first, a reference example of the present invention will be described.
FIG. 1 is a cross-sectional view of a low-temperature storage tank provided with a reference example of a residual liquid vaporization promoting structure of a low-temperature storage tank according to the present invention.
[0014]
The illustrated low-
[0015]
The
[0016]
A
[0017]
In the
[0018]
Thus, in the low-
[0019]
That is, the heating medium heating / supplying
[0020]
In the above-described reference example, the
[0021]
FIG. 3 is a cross-sectional view of a low-temperature storage tank provided with an embodiment of the residual liquid vaporization promoting structure of the low-temperature storage tank according to the present invention. In the drawing, parts having the same functions as those of the above-described reference example are denoted by the same reference numerals. In the illustrated embodiment, a
[0022]
As shown in a schematic plan view of the portion in FIG. 4, the
[0023]
In the present configuration, similarly to the above-described reference example, the heating medium heating and supplying
[0024]
In addition, the
[0025]
【The invention's effect】
As described above, according to the residual liquid vaporization promoting structure of the low-temperature storage tank according to the present invention, the medium heated by the heat medium heating / supplying device provided outside the low-temperature storage tank is supplied from the supply port into the heat medium pipe. by feeding pressurized heated heat medium through the adiabatic space heating the residual liquid in the storage tank, to promote the vaporization. For this reason, the residual liquid can be vaporized in a short time, and the storage tank can be quickly opened. As a result, the period required for the internal inspection can be shortened, and the operation efficiency of the storage tank can be improved. Further, the heat medium pipe is rational because it can be used for purging in which air in the heat insulating space is replaced with an inert gas.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view of a low-temperature storage tank provided with a reference example of a residual liquid vaporization promoting structure of a low-temperature storage tank according to the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view of a low-temperature storage tank provided with another reference example.
FIG. 3 is a cross-sectional view of a low-temperature storage tank provided with one embodiment of the residual liquid vaporization promoting structure of the low-temperature storage tank according to the present invention .
FIG. 4 is a schematic plan view showing the arrangement of the heating tubes.
FIG. 5 is a sectional view of a low-temperature storage tank as a conventional example.
[Explanation of symbols]
1 Low-
50 Insulated space (cooled space)
70 Heating pipe (pipe for heat medium)
71
92 gap (vent)
93 Supply port
Claims (1)
所定長さの直線状の管路部材が継ぎ目に隙間を有して接合されて前記隙間を通気口として形成された熱媒体用管路が、前記断熱空間の内部にその底面に沿って敷設されると共に、前記熱媒体用管路への供給口が前記外槽外に突設され、該供給口が前記低温貯槽の外部に設けられた熱媒体加熱供給装置と接続されて当該熱媒体加熱供給装置により加熱された熱媒体が前記熱媒体用管路を介して前記断熱空間に供給されるように構成されていることを特徴とする低温貯槽の残液気化促進構造。In a low-temperature storage tank in which an inner tank is provided inside the outer tank with a predetermined heat insulating space,
A heat medium pipe formed by joining a linear pipe member of a predetermined length with a gap at a seam and forming the gap as a vent is laid along the bottom surface inside the heat insulating space. In addition, a supply port to the heat medium pipe is protruded outside the outer tank, and the supply port is connected to a heat medium heating / supply device provided outside the low temperature storage tank to supply the heat medium heat. A residual liquid vaporization promoting structure for a low-temperature storage tank, wherein the heat medium heated by the device is supplied to the heat-insulated space through the heat medium pipe.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9139295A JP3596082B2 (en) | 1995-03-24 | 1995-03-24 | Low-temperature storage tank vaporization promotion structure |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9139295A JP3596082B2 (en) | 1995-03-24 | 1995-03-24 | Low-temperature storage tank vaporization promotion structure |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08261396A JPH08261396A (en) | 1996-10-11 |
| JP3596082B2 true JP3596082B2 (en) | 2004-12-02 |
Family
ID=14025120
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9139295A Expired - Fee Related JP3596082B2 (en) | 1995-03-24 | 1995-03-24 | Low-temperature storage tank vaporization promotion structure |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3596082B2 (en) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6225539B2 (en) * | 2013-07-24 | 2017-11-08 | 株式会社Ihi | Opening the cryogenic tank |
| JP6409311B2 (en) * | 2014-04-15 | 2018-10-24 | 株式会社Ihi | Method for discharging residual liquid from liquefied gas tank |
| CN106015932B (en) * | 2016-07-18 | 2018-07-17 | 江苏兰宇保温科技有限公司 | The heat preservation endothecium structure of low-temperature storage tank with leakage tracking function |
| KR102083474B1 (en) * | 2018-05-03 | 2020-03-02 | 삼성중공업 주식회사 | Structure for liquefied gas storage tank |
-
1995
- 1995-03-24 JP JP9139295A patent/JP3596082B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08261396A (en) | 1996-10-11 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040127 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040129 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040329 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040603 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040630 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040817 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040830 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080917 Year of fee payment: 4 |
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| S531 | Written request for registration of change of domicile |
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