JP3608214B2 - 異方導電性シートの製造方法 - Google Patents
異方導電性シートの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3608214B2 JP3608214B2 JP00755794A JP755794A JP3608214B2 JP 3608214 B2 JP3608214 B2 JP 3608214B2 JP 00755794 A JP00755794 A JP 00755794A JP 755794 A JP755794 A JP 755794A JP 3608214 B2 JP3608214 B2 JP 3608214B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sheet
- conductive particles
- plating
- insulating coating
- conductive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 15
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 74
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 33
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 30
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 30
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 27
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 claims description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 18
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 6
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 claims description 4
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 14
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 12
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 7
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 7
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 5
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 5
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 5
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 5
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002940 palladium Chemical class 0.000 description 2
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFRNDJFRRKMHTL-UHFFFAOYSA-N [3-octanoyloxy-2,2-bis(octanoyloxymethyl)propyl] octanoate Chemical compound CCCCCCCC(=O)OCC(COC(=O)CCCCCCC)(COC(=O)CCCCCCC)COC(=O)CCCCCCC CFRNDJFRRKMHTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009775 high-speed stirring Methods 0.000 description 1
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010944 silver (metal) Substances 0.000 description 1
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007751 thermal spraying Methods 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Combinations Of Printed Boards (AREA)
- Non-Insulated Conductors (AREA)
- Manufacturing Of Electrical Connectors (AREA)
Description
【産業上の利用分野】
本発明は、高密度電極の電気的接続や検査に有用な、導電性粒子が表裏又は一方の面に露出した異方導電性シートの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
ゴム又は合成樹脂からなるシートの厚さ方向にのみ導電性である異方導電性シートは、例えばプリント配線板等の回路板同士やこれらと半導体チップ等の電子部品との、高密度電極の電気的接続や検査に用いられている。これらは、加圧又は加熱加圧による接触により対向電極間に導電性を得るもので、導電体が表裏又は一方の面に露出又は突出するものが一般的である。このような異方導電性シートの導電体としては、導電性繊維や導電性金属粒子等の導電性粒子をシートの厚さ方向に埋め込んだものや、シートに貫通孔を設け、めっき等により導電体を形成したものが知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
異方導電性シートの導電体が前者の導電性粒子の場合には、最近の電極の高密度化に対応出来ないことによる分解能の不足や、信頼性が不十分である欠点を持っている。この理由は、シート中に分散された導電性粒子が高濃度で存在するときは、面方向に接触して隣接電極間の絶縁性が無くなり、低濃度のときは接触点が減少するため、厚さ方向の導電性が不足するためである。また、シートからの導電性粒子の露出部の高さや面積が十分に制御出来ないために、導電性にばらつきを生じ、加えて、導電性粒子がシートから突出した構成品を繰り返し検査に使用すると、シートから導電性粒子が脱落してしまう等によって、やはり信頼性が不十分である。
【0004】
後者の場合、シートにレーザ光等で微細な貫通孔を設け、そこに例えばめっきにより導電体を形成するために、工程が複雑であり、大面積の製品が得難いことなどから、高分解品は得られるものの製造コストが高く、高価で実用化し難い欠点を持っている。
本発明は上記の課題を解決するためになされたもので、高密度電極の電気的接続や検査に有用な異方導電性シートの安価な製造法を提供するものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明は、(a)均一粒径の導電性粒子の表面にめっき触媒を含有する絶縁性被覆を施す工程、(b)該絶縁性被覆を施した導電性粒子を絶縁材料中に分散させ、該絶縁材料の厚さが導電性粒子の粒径と同等以下のシート状物を形成する工程、(c)該シート状物を加熱加圧して絶縁性被覆をシート状物の表面から露出させる工程及び(d)該シート状物の露出部に無電解めっきする工程からなる異方導電性シートの製造方法に関する。本発明に用いる粒子は、図1〜2に示すように、均一粒径の導電性粒子1の表面にめっき触媒を含有する絶縁性の材料からなる絶縁性被覆2を施したものである。ここに、均一粒径とは中心粒径の±20%可能ならば±10%以下の粒径範囲を持つものがよい。この範囲の狭い方がシートからの突出高さを均一に出来、安定した接触抵抗が得られるので好ましい。
【0006】
中心粒径は2〜5000μm程度が好ましく、5〜100μmにすれば更に好ましく、10〜80μmにすれば特に好ましい。これらは所望の分解能に応じて選択する。即ち、導電性粒子の粒径を隣接する電極や配線パターン間距離の最小幅よりも小さくすることが、ショートを防止し、配線の細線化に対応する上で必要である。また、粒径が小さ過ぎるとシート厚みの減少により強度が不足し、取り扱いがやりにくくなる。
導電性粒子1は、導電性を有する各種の金属や合金、酸化物等が採用できる。導電性と耐腐食性を加味して好ましく用いられる材料としてはNi、Cu、Al、Sn、Zn、Au、Pd、Ag、Co、Pb等の粒子である。粒形はほぼ球状が好ましいが、表面に多数の突起を設ける等の任意の形でよい。
【0007】
また、導電性粒子1は、図2に示すような核材3の表面に金属薄層4を設けた構成のものが、均一粒径の球状品が容易に入手可能なことから好ましい。核材3が有機物の例としては、ポリスチレン、ナイロン、各種ゴム類等の高分子類があり、これらは架橋体であると耐溶剤性が向上するので、例えばシート原材料中に溶剤が含有される場合に溶出がなく、シートの特性に影響が少ないことから好ましい。核材3が高分子類のような変形可能な粒子であると、製造時の加熱加圧により、シートからの突出部を扁平化することや弾力性を付与することも可能であり、電極への接触面積の増大による信頼性の向上に有効である。
核材3はガラス、セラミック、シリカ等の無機物の粒子でも良く、この場合は高分子の核材に比べて更に耐熱性の向上が可能となる。
【0008】
金属薄層4は導電性を有する各種の金属や合金、酸化物等が採用できる。これらは前記した導電性粒子と同様な材質のものが適用可能であり、これらは単層又は複層の構成とすることも出来る。金属薄層4の形成手段としては、蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、溶射法、めっき法等の一般的方法でよいが、無電解めっき法が均一厚みの被覆層が得られることから好ましい。
図1〜2に示すように、導電性粒子1の表面に、絶縁性材料にめっき触媒を混合した絶縁性被覆2を形成する。該絶縁性被覆2は、熱などによる硬化性材料でもよく、また加熱加圧下で熱軟化性を示す材料でもよいが、後者であるとシートから露出し易く好ましい。熱軟化性の目安として弾性率や硬度等の一般的な指標や、例えば融点やガラス転移温度及び軟化点等の熱的変態点を目安とすることができる。
【0009】
めっき触媒としては、パラジウム、白金、金又はこれらの塩類が適用出来る。これらの中で金属パラジウム、パラジウム塩類又は金属パラジウムとパラジウム塩類との混和物が析出性及び経済性の点から好ましい。めっき触媒の添加量としては、絶縁性材料に対し1〜20重量%が好ましく、3〜10重量%がより好ましい。添加量が少ないとめっきの析出性が低下し、多いと面方向の絶縁性が低下する。
絶縁性被覆2は、粒子状で存在しても良く、単層又は複層の構成とすることもできる。複層の構成の場合は強度保持性、耐溶剤性、接着性、柔軟性、耐熱性、耐めっき液性の機能を分担することも可能なため好適である。絶縁性被覆2の形成手段に制限はなく、例えば溶剤乾燥法、噴霧法、高速撹拌法、スプレードライヤー法等がある。
【0010】
次に図3に示すように、導電性粒子1の表面に絶縁性被覆2を施した粒子を絶縁材料5中に分散させ、絶縁材料5の厚さが導電性粒子1の粒径と同等以下の粒子が単層で存在するシート状物を形成する。分散方法としては、絶縁材料5と導電性粒子1との層を別途形成後に一体化することも出来る。
この場合の絶縁材料としては、ポリエチレン、ポリプロピレン等の熱可塑性樹脂でもよいが、エポキシ樹脂、ポリイミド等の熱、光、電子線等のエネルギーによる硬化性絶縁材料が、耐熱性、耐湿性及び機械的特性に優れることから好ましく適用できる。本発明は加熱加圧下での製造法であるため、エポキシ樹脂類と潜在性硬化剤の系や、アクリルやウレタン、エポキシ樹脂類と光活性化剤との組み合わせ系が比較的低温下で反応し易いことから、より好ましい。
【0011】
シート中に占める導電性粒子の割合は、2〜70体積%が好ましく用いられ、5〜50体積%が更に好ましく、10〜40体積%が特に好ましい。添加量が過多であっても、導電性粒子表面が絶縁性被覆を有するので隣接電極の絶縁性が低下し難く、添加量が少ないと、接続すべき電極上の導電性粒子数が減少するため信頼性が低下することから、添加量は、シートの機械的強度の許される限り比較的過多に設定できる。
シート状物とするに際しては、図3のように基材を用いずに例えばロール間で圧延したり、溶融押し出し等で形成できる。また、図4のように基材6上に形成することも出来る。基材6としては、セパレータのような剥離可能な基材でも、又は配線基板を基材としても良い。このように、基材6上に形成すると、シート化時に溶剤揮散による体積収縮が利用でき、絶縁材料の厚さが導電性粒子の粒径と同等以下の、例えば連続したシート状物が簡単に得られる。剥離可能な基材は後述する絶縁材料の凝集力が上昇した後、必要に応じて除去できる。
【0012】
また、基材6として例えば検査用回路を有する配線板を用い、その上にシートを形成すると当該シート付回路板が簡単に得られる。この場合、導電性粒子は回路上で接触が得られるので、シートの一方の面に露出又は突出させてもよい。
上記により得た絶縁材料の厚さが導電性粒子の粒径と同等以下のシート状物を加熱加圧し、絶縁性被覆をシートから露出させる。このとき、絶縁性被覆が熱軟化性であり、加熱加圧時にゴムロール等の可撓性材料間に前記シートを挾んで行うことが好ましい。
加熱加圧の条件は、前記絶縁性被覆の熱軟化点以上の温度とすることで、絶縁性被覆を軟化溶融させ、その後絶縁材料の硬化を進める。即ち、この工程でシート表面の絶縁性被覆2を露出し、絶縁材料5の硬化又は硬化反応の進行や冷却による固化等により、凝集力の向上した状態で導電性粒子をシート中に固定することが出来る。この際、硬化を伴う場合は最終的な硬化ではなく、一部反応を進めた状態であとから硬化してもよい。
【0013】
加熱加圧下において、可撓性材料との接触面においては樹脂層が溶融し、導電性粒子が露出するが、隣接方向は熱量が不十分なため樹脂層が溶融し難いので、絶縁性の低下が少なく、より高分解能が可能となる。
加熱加圧下において、可撓性材料との接触面においては絶縁材料が低粘度化して粒子頂部から排除され、絶縁性被覆が露出する。このとき、粒子頂部の絶縁性被覆2が流動排除され導電層が露出しても、例えば置換めっきによりめっきが可能である。隣接方向は熱量が不十分なため樹脂層が溶融し難いので絶縁性の低下が少なく、より高分解能が可能となる。
【0014】
その後、図5のように絶縁性被覆2の露出部7をめっきする。めっき方法としては、めっき触媒によりめっき液との接触部のみに金属の析出が可能な無電解めっき方法が好ましい。めっき金属としては前述の導電性粒子の種類と同様なものが適用可能であり、これらの多層構成とすることも可能である。例えば析出速度の速いCu、Ni等の下地層を得てから、Au等で置換めっきしても良い。
図6は露出部のめっき方法の他の例であり、めっき触媒を粒状で存在させ、この部分をめっき核8としてめっきを成長させて針上突起9としたものである。この場合、電極表面に酸化層が存在しても、これを突き破って導電性を得ることが出来る。
【0015】
【作用】
本発明によれば、めっき触媒を含有する絶縁性被覆を施した均一粒径の導電性粒子からなる粒子を絶縁材料中に分散させ、絶縁材料の厚さが導電性粒子の粒径と同等以下のシート状物を形成する工程により、導電性粒子が単層状に存在し、絶縁性被覆がシート面から露出した構成とする。次にこの絶縁性被覆にめっきすることにより、シートの厚さ方向にめっきされた導電性金属がシート面から突出し、シートの面方向にはめっき触媒の露出がないのでめっきされず、絶縁性の低下がないので、より高分解能が可能となる。
【0016】
【実施例】
次に実施例を説明するが、本発明はこれによって限定されるものではない。
実施例1
図2における核材3として平均粒径30μmの架橋ポリスチレン粒子(ガラス転移点160℃)を用い、表面を塩化パラジウム系の活性化処理を行った後、無電解Niめっき液を用いて90℃でNiめっきを行い、更にAuめっき液を用いて70℃で置換めっきを行って金属薄層4を被覆し、導電性粒子1を得た。このときNi/Auの厚さは0.2/0.02μm(導電性粒子1の中心粒径は30.4μm、変動範囲は±0.5μm以内)であった。次に、絶縁性被覆2の材料として、ゴム変性エポキシ樹脂中に塩化パラジウム混合エポキシ樹脂であるPEC−8(日立化成工業(株)製の商品名)10重量部を添加混合し、これをメチルエチルケトンに溶解(不揮発分15重量%)したものを用意した。この材料を前記導電性粒子1中で撹拌後、スプレードライヤーで70℃で乾燥して、めっき触媒を含有する絶縁性被覆を表面に被覆した均一粒径の導電性粒子を得た。
【0017】
絶縁材料として、ゴム変性可撓性エポキシ樹脂、マイクロカプセル型潜在性硬化剤(活性化温度120℃)及びトルエン溶剤を主成分(不揮発分50%)とする接着剤に、前記粒子を20体積%添加してロール間隔40μmで形成した後、100℃で10分乾燥し、厚さ20μmの接着剤(純水で100℃10時間抽出後の抽出水のNaイオン、Clイオンが各10ppm以下)を基材のテトラフルオロエチレンフイルム(セパレータ、厚さ50μm)の上に形成した。溶剤乾燥による体積収縮により、粒子径よりも薄いシートが作成可能であった。
上記シートを、150℃に加熱したシリコーンゴムロール(100mmφの鉄ロール上にゴム硬度70のゴムを厚さ2mmで形成したもの)間の圧力2kg/cm2で速度0.1m/分で通過させ、シート面から絶縁性被覆を露出させた。マイクロカプセル型潜在性硬化剤の作用で速硬化が可能であり、エポキシ樹脂の有する可撓性によりシート状として取り扱いが容易であった。
【0018】
このシートを無電解銅めっき液CC−41(日立化成工業(株)製の商品名)に50℃で5分間浸漬し、異方導電性シートを得た。この場合の突出高さは5μmであった。
評価
FPC(フレキシブルプリント回路板、回路及び隣接回路間距離が各々50μm)の間に、上記の各実施例で得られた異方導電性シートを2mm幅で挾み、FPCの回路を位置合わせし、その部分を1kg/cm2で加圧した状態で、接続抵抗をFPCの対向回路間で、また絶縁性を隣接回路間抵抗により測定した。測定に用いたFPCの幅は20mmであり、回路数は200本である。その結果、シートの接続抵抗は0.13Ω、また絶縁抵抗は109Ω以上であり、良好な異方導電性を示した。
【0019】
【発明の効果】
本発明によれば、高分解能で信頼性に優れ、工程が簡単な異方導電性シートの安価な製造方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の製造法における粒子の構造を示す断面模式図である。
【図2】本発明の製造法における粒子の構造を示す断面模式図である。
【図3】本発明の製造法におけるシート状物の形成方法を説明する図である。
【図4】本発明の製造法におけるシート状物の形成方法を説明する図である。
【図5】本発明の製造法における絶縁性被覆へのめっき状態を説明する図である。
【図6】本発明の製造法における絶縁性被覆へのめっき状態を説明する図である。
【符号の説明】
1…導電性粒子、2…絶縁性被覆、3…核材、4…金属薄層、5…絶縁材料、6…基材、7…露出部、8…めっき核、9…針状突起
Claims (1)
- (a)均一粒径の導電性粒子の表面にめっき触媒を含有する絶縁性被覆を施す工程、(b)該絶縁性被覆を施した導電性粒子を絶縁材料中に分散させ、該絶縁材料の厚さが導電性粒子の粒径と同等以下のシート状物を形成する工程、(c)該シート状物を加熱加圧して絶縁性被覆をシート状物の表面から露出させる工程及び(d)該シート状物の露出部に無電解めっきする工程からなることを特徴とする異方導電性シートの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00755794A JP3608214B2 (ja) | 1994-01-27 | 1994-01-27 | 異方導電性シートの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00755794A JP3608214B2 (ja) | 1994-01-27 | 1994-01-27 | 異方導電性シートの製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004242883A Division JP4020111B2 (ja) | 2004-08-23 | 2004-08-23 | めっき層付き積層粒子の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07220540A JPH07220540A (ja) | 1995-08-18 |
| JP3608214B2 true JP3608214B2 (ja) | 2005-01-05 |
Family
ID=11669111
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP00755794A Expired - Fee Related JP3608214B2 (ja) | 1994-01-27 | 1994-01-27 | 異方導電性シートの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3608214B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018118880A1 (en) * | 2016-12-21 | 2018-06-28 | 3M Innovative Properties Company | Conductive particles, articles, and methods |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100437838C (zh) * | 2003-07-07 | 2008-11-26 | 积水化学工业株式会社 | 包覆导电性粒子、各向异性导电材料以及导电连接结构体 |
| JP4387175B2 (ja) * | 2003-07-07 | 2009-12-16 | 積水化学工業株式会社 | 被覆導電性粒子、異方性導電材料及び導電接続構造体 |
| JP2006066729A (ja) * | 2004-08-27 | 2006-03-09 | Toshiba Corp | 回路基板モジュールとその製造方法 |
| JP4631889B2 (ja) * | 2007-09-03 | 2011-02-16 | 日立化成工業株式会社 | 接続部材および該接続部材を用いた電極の接続構造並びに接続方法 |
| WO2024042764A1 (ja) * | 2022-08-26 | 2024-02-29 | ナミックス株式会社 | 導電性ペースト、電極、電子部品及び電子機器 |
-
1994
- 1994-01-27 JP JP00755794A patent/JP3608214B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018118880A1 (en) * | 2016-12-21 | 2018-06-28 | 3M Innovative Properties Company | Conductive particles, articles, and methods |
| US10964441B2 (en) | 2016-12-21 | 2021-03-30 | 3M Innovative Properties Company | Conductive particles, articles, and methods |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07220540A (ja) | 1995-08-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3678547B2 (ja) | 多層異方導電性接着剤およびその製造方法 | |
| EP0242025B1 (en) | Anisotropic-electroconductive adhesive composition, method for connecting circuits using the same, and connected circuit structure thus obtained | |
| US7410698B2 (en) | Conductive particle with protrusions and anisotropic conductive material therefrom | |
| JP4860163B2 (ja) | 導電性微粒子の製造方法 | |
| JP4991666B2 (ja) | 導電性粒子、異方性導電材料及び接続構造体 | |
| KR20010102308A (ko) | 도전성 무전해 도포 분체와 그 제조 방법 및 도포 분체등으로 구성된 도전성 재료 | |
| JP2006228474A (ja) | 導電性微粒子及び異方性導電材料 | |
| JP2546262B2 (ja) | 回路の接続部材およびその製造方法 | |
| JP4612242B2 (ja) | 導電性接着剤およびそれを用いたicチップの実装方法 | |
| JP3608214B2 (ja) | 異方導電性シートの製造方法 | |
| JP4718926B2 (ja) | 導電性微粒子、及び、異方性導電材料 | |
| JP4936678B2 (ja) | 導電性粒子及び異方性導電材料 | |
| KR101090106B1 (ko) | 전기 전도성 입자 및 그 제조 방법 | |
| JP4020111B2 (ja) | めっき層付き積層粒子の製造方法 | |
| JPH06333965A (ja) | 異方導電性接着剤シート | |
| JP3608213B2 (ja) | 異方導電性シートの製造法 | |
| JP3578223B2 (ja) | 異方導電性シートの製法 | |
| JP5529901B2 (ja) | 導電性粒子及び異方性導電材料 | |
| JP4135694B2 (ja) | 異方導電性シートの製造法 | |
| JP5091416B2 (ja) | 導電性微粒子、導電性微粒子の製造方法、及び、異方性導電材料 | |
| JP3914206B2 (ja) | 導電性微粒子及び異方性導電材料 | |
| JP5323147B2 (ja) | 導電性微粒子及び異方性導電材料 | |
| JPH08249922A (ja) | 被覆粒子 | |
| JP2001068832A (ja) | 配線板とその製造方法 | |
| JP4739999B2 (ja) | 異方性導電材料の製造方法、及び、異方性導電材料 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040624 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040823 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20040823 |
|
| RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20040823 |
|
| RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20040825 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040921 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20041004 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071022 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081022 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091022 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091022 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101022 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111022 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121022 Year of fee payment: 8 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |