Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP3608638B2 - 極性ビニルモノマー由来のブロックを含む選択的に水素添加された対称線状ブロックコポリマーおよびそれらの製造法 - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP3608638B2 - 極性ビニルモノマー由来のブロックを含む選択的に水素添加された対称線状ブロックコポリマーおよびそれらの製造法 - Google Patents

極性ビニルモノマー由来のブロックを含む選択的に水素添加された対称線状ブロックコポリマーおよびそれらの製造法 Download PDF

Info

Publication number
JP3608638B2
JP3608638B2 JP11932696A JP11932696A JP3608638B2 JP 3608638 B2 JP3608638 B2 JP 3608638B2 JP 11932696 A JP11932696 A JP 11932696A JP 11932696 A JP11932696 A JP 11932696A JP 3608638 B2 JP3608638 B2 JP 3608638B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
block
poly
block copolymer
polar vinyl
mainly
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP11932696A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH08311134A (ja
Inventor
フイリツプ・デユボワ
ロベール・ジエローム
フレデリツク・ヘンドリツク・フアン・デル・ステーン
ユデイス・ヨハンナ・ベレンデイーナ・ウアルホフ
ユイ−ソン・ユ
Original Assignee
シエル・インターナシヨナル・リサーチ・マートスハツペイ・ベー・ヴエー
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by シエル・インターナシヨナル・リサーチ・マートスハツペイ・ベー・ヴエー filed Critical シエル・インターナシヨナル・リサーチ・マートスハツペイ・ベー・ヴエー
Publication of JPH08311134A publication Critical patent/JPH08311134A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3608638B2 publication Critical patent/JP3608638B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Graft Or Block Polymers (AREA)
  • Polymerization Catalysts (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、共役ジエン、モノビニル芳香族および/または極性ビニルモノマー由来のブロックを含む選択的に水素添加された対称線状ブロックコポリマーならびにそれらの製造法に関する。
【0002】
特に、本発明は、低級アルキルアクリレートもしくはメタクリレートエステル、2−もしくは4−ビニルピリジン、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シス−4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、エンド−シス−ビシクロ(2,2,1)−5−ヘプテン−2,3−ジカルボン酸もしくはそれらの混合物のエステルまたは無水物などの極性ビニルモノマー由来のブロック、ならびに共役ジエンおよび任意によりモノビニル芳香族由来の内部ブロックを含む水素添加された対称線状ブロックコポリマー、ならびに改善されたジリチオ(dilithio)開始剤を使用するそれらの製造法に関する。
【0003】
【従来の技術】
今日まで、例えば、米国特許No.3,652,516;3,734,973;3,663,634;3,694,516;3,668,263;3,903,168;3,954,894;4,039,593;4,172,100;4,182,818;4,960,842;欧州特許出願No.0316857;0413294;0599671ならびに Macromolecules 5, 453−8 (1969); R. P. Foss ら, Macromolecules 12, 344−6 (1979); C. W. Kamienskiら, Curr. Appl. Sci. Med. Technol. 315−25 (1985); R. P. Fossら, Moacromolecules 10, 287−291 (1977)および Macromolecules 12, 1210−1216 (1979); Polymer 23, 1953−9 (1982); T. E. long ら, J. Polym. Sci. Part A. Polym. Chem. vol. 27, 4001−4012 (1989) から公知であるように、モノビニル芳香族および/または共役ジエンモノマーをアニオン重合してブロックコポリマーを得るためのジリチウムオルガノ化合物の製造に対していくつかの提案が成された。
【0004】
望ましい狭い分子量分布を示さなければならない対称線状ブロックコポリマーの製造に対してジリチオ開始剤の使用が開示されているが、今日まで、いくつかの実際的な理由により、該ジ開始剤(diinitiators)の使用による実際の商業的重合方法は開発されていない。
【0005】
一般に、提案されたほとんどの方法においては、アミンまたはエーテルなどの極性化合物を使用しなければならないことが認められていたが、その場合、ポリ(共役ジエン)ブロックのビニル含量が高くなり過ぎ、そのようなブロックコポリマーは、良好な低温性能を必要とする最終用途に使用できない。
【0006】
より現代的な精巧な(sophisticated)最終用途に必要である、線状対称ブロックコポリマーの所望の狭い分子量分布は、一定した確かな品質で達成することができなかった。
【0007】
他方、当業者であれば、極性ビニルモノマー由来の末端ブロックならびに共役ジエンおよび任意によりモノビニル芳香族由来の内部ブロックを含む対称線状ブロックコポリマーは、最初に合成された中間体である2種のリビングジブロックまたはトリブロックコポリマーのカップリングにより製造することができないことが理解される。というのは、活性リチウム原子は、常に、ポリ(極性ビニルモノマー)ブロックに結合し、該ブロックは、実際的な理由により、ポリ(共役ジエン)および/またはポリ(モノビニル芳香族)ブロックで構成される生長している鎖に末端キャッピング剤(end capping agent)が導入された後の最終工程でのみ生成することができるからである。
【0008】
さらに、当業者であれば、極性ビニルモノマー由来の末端ブロックならびに共役ジエンおよび任意によりモノビニル芳香族炭化水素由来の内部ブロックを含む対称線状ブロックコポリマーは、単官能性リチウム開始剤を使用して、各々のモノマーの続く重合により製造することはできないことが理解される。
【0009】
【発明が解決使用とする課題】
精巧な最終用途の現代的要件を満たすことができ、従って、著しく改善された物理的特性を示さなければならない線状対称ブロックコポリマーに対する依然として存在する必要性に鑑みて、本発明の目的の一つは、該線状対称ブロックコポリマーを提供することであり、別の目的は、該ブロックコポリマーの製造法を提供することであったことは理解されよう。
【0010】
【課題を解決するための手段】
そこで、さらに研究および実験を行った結果、目的とする狭い分子量分布(Mw/Mn≦1.20、好ましくは≦1.10)を有するこれらの対称ブロックコポリマーが驚くべきことに見い出された。
【0011】
従って、本発明は、式C−A−B−A−CまたはC−B−C(Bブロックはポリ(主に共役ジエン)ブロックを表し、任意により、選択的に水素添加されていてもよく、前駆体コポリマーのビニル含量は、最初に存在した共役ジエンに対して20〜45モル%であり、Aブロックはポリ(主にモノビニル芳香族)ブロックを表し、Cブロックはポリ(主に極性ビニル化合物)ブロックを表し、全ブロックコポリマーの重量に対して≦30重量%、好ましくは≦15重量%、より好ましくは3〜9重量%の束縛重量画分(bound weight fraction)を表し、全線状ブロックコポリマーの分子量分布は≦1.20、好ましくは≦1.10である。)の対称線状ブロックコポリマーに関する。
【0012】
好ましくは、式CA−B−ACまたはCBCの対称線状ブロックコポリマーのBブロックを、残留不飽和度(RU)が≦20%、好ましくは≦5%になるまで選択的に水素添加しておく。
【0013】
先に規定した線状対称ブロックコポリマーが選択的に水素添加されている場合は、引張強さ、破断時の永久ひずみ、300%伸び率におけるモジュラス(modulus at 300% elongation)および温度挙動(temperature behaviour)が、ポリ(主に共役ジエン)ブロック、非末端ポリ(主に極性ビニルモノマー)ブロックおよび任意によりポリ(主にモノビニル芳香族)ブロックを含む対称線状ブロックコポリマーの対応する特性と比較して、驚くほど改善されることがわかった。
【0014】
本明細書全般にわたって使用する「ポリ(主に共役ジエン)、ポリ(主に極性ビニルモノマー)およびポリ(主にモノビニル芳香族)ブロック」は、指示するモノマーが実質的に純粋であるか、あるいは、少量の構造的に関連するモノマー(例えば、ブタジエンを含むイソプレンまたはその逆)、または、少量の構造的に異なるモノマー、好ましくは他のブロックセグメントで生じるのと同一の単数又は複数のコモノマーと混合していてもよい(すなわち、該ブロックの全モノマーの15モル%未満、好ましくは5モル%未満の量で含む)ことを意味する。
【0015】
【発明の実施の形態】
ブロックBを構成するモノマー混合物の適する例としては、イソプレンまたはブタジエンと、任意少量の、スチレン、α−メチルスチレン、p−ビニルトルエン、m−ビニルトルエン、o−ビニルトルエン、4−エチルスチレン、3−エチルスチレン、2−エチルスチレン、4−t−ブチルスチレン、2,4−ジメチルスチレン、ブタジエンもしくはイソプレン、2−エチル−1,3−ブタジエン、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエンおよび1,3−ペンタジエンまたはそれらの混合物から選択されるモノマーとの混合物が挙げられる。
【0016】
任意によるブロックAを構成するモノマー混合物の適する例としては、スチレンと、任意少量の、α−メチルスチレン、p−ビニルトルエン、m−ビニルトルエン、o−ビニルトルエン、4−エチルスチレン、3−エチルスチレン、2−エチルスチレン、4−t−ブチルスチレン、2,4−ジメチルスチレン、2または4−ビニルピリジン、ブタジエン、イソプレン、2−エチル−1,3−ブタジエン、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエンおよび1,3−ペンタジエンまたはそれらの混合物からなる群から選択されるモノマーとの混合物が挙げられる。
【0017】
好ましくは、ブロックAを構成するモノマーは、大部分のスチレンおよび先に規定した構造的に関連する少量のモノマー、好ましくはα−メチルスチレンの混合物であり、一方、ブロックBを構成するモノマーは、ブタジエン、イソプレンおよびそれらの混合物から選択される。
【0018】
ブロックCを構成するモノマー混合物の適する例としては、アクリル酸またはメタクリル酸の低級アルキル(C〜C)エステル(例えば、t−ブチルメタクリレート、メチルアクリレート、メチルメタクリレートなど)、あるいは、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シス−4−シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸、エンドシス−ビシクロ(2,2,1)−5−ヘプテン−2,3−ジカルボン酸もしくはそれらの混合物のエステルまたは無水物、2−または4−ビニルピリジンから選択される主要成分の混合物が挙げられる。
【0019】
特に本発明は、選択的に水素添加された線状対称ブロックコポリマーであって、各ブロックが実質的に純粋な単一モノマーに由来するコポリマーに関する。
【0020】
より好ましくは、選択的に水素添加されたポリ(ブタジエン)もしくはポリ(イソプレン)ブロック、ポリ(スチレン)ブロックおよび/または、加水分解可能なエステル基を有するポリ(アクリレート)もしくはポリ(メタクリレート)ブロックを有するブロックコポリマーである。
【0021】
最も好ましくは、選択的に水素添加されたポリ(ブタジエン)ブロック、ポリ(スチレン)ブロックおよび/またはポリ(t−ブチルアクリレート)ブロックもしくはポリ(t−ブチルメタクリレート)ブロックを有するブロックコポリマーである。該ブロックコポリマーは、従来の熱可塑性エラストマーA−B−Aよりも30%大きい引張強さ(30MPaより大きい)を示す。該新規ブロックコポリマーの温度挙動も、通常のA−B−Aをベースとするポリマーと比較して改善される。メチルアクリレート、メチルメタクリレート、t−ブチルアクリレートおよびt−ブチルメタクリレートから選択される極性ビニルモノマーの含量が約8重量%であるC−A−B−A−Cブロックコポリマーの使用温度は、従来のA−B−Aトリブロックコポリマーより20〜30度高い温度まで上昇する。
【0022】
A−B−Aの破断時の永久ひずみは、短いPMMAブロックを有するC−A−B−A−Cブロックコポリマーにおいて改善されることが分かった(25%から20%以下に減少)。300%伸び率におけるモジュラスは、10MPaまで増加することが分かった。
【0023】
これらの対称線状ブロックコポリマーの適するポリ(主に極性ビニルモノマー)ブロックのみかけ分子量(apparent molecular weights)は、全ブロックコポリマーの分子量が80,000〜180,000であるのに対して、3000〜5000、好ましくは3500〜5500である。
【0024】
本発明の別の特徴は、先に規定した対称線状ブロックコポリマーC−A−B−A−CまたはC−B−C(Bブロックは選択的に水素添加されており、加水分解可能な基を有するアクリレートまたはメタクリレート、好ましくはt−ブチルアクリレートまたはt−ブチルメタクリレート由来のCブロックは、完全に、または部分的に加水分解されている。)によって形成される。
【0025】
特に、該加水分解されたC−A−B−A−Cブロックコポリマー(ブロックCは、最初に存在したエステル基の量の10%以上まで加水分解されている。)は、改善された機械的性質を有することが分かった。例えば、引張強さは、比較的低い酸の含量でかなり高められ、酸の含量をさらに増加させると減少する。
【0026】
理解されるように、先に規定した著しく改善された物理的性質は、ブロックコポリマーを開示する先行文献であって、欧州特許出願No.0564,910 A2、0480,336 A2、0486,335 A2および英国特許No.1,332,165に記載されているような単官能性リチウム開始剤を使用するか、欧州特許出願No.0298667A2、0599671A2および米国特許No.4,104,331に開示されているような、必要な狭い分子量分布を提供することができない二官能性リチウム開始剤を使用することにより製造される少なくとも一種のポリ(極性ビニルモノマー)ブロックを開示する先行文献によって、当業者が確かに予想することができるものではなかった。
【0027】
本発明の別の態様は、先に規定した特徴的な微細構造を有する、すぐ前の水素添加されていない中間体ブロックコポリマーによって形成されることは理解されよう。
【0028】
本発明の別の態様は、先に規定した線状対称ブロックコポリマーの製造法によって形成される。該方法は、
(a)−20〜60℃の範囲の温度、非極性(apolar)炭化水素の主要溶媒中、任意により第三級アミンの存在下で、2当量のモノオルガノリチウム開始剤を1,3−ジイソプロペニルベンゼンと反応させる工程;
(b)任意により炭素数1〜15のアルコキシリチウムまたはリチウムエーテルアルコキシドと混合した、全溶媒体積に対して高々10体積%、好ましくは≦8体積%の量のエーテル活性剤、および先に規定した主として共役ジエンモノマーを工程(a)のジリチオ開始剤溶液に充填して、本質的に重合を完了させる工程;
(c)末端キャッピング試薬の導入およびエーテル活性剤の添加の後、主にモノビニル芳香族モノマーまたは主に極性ビニルモノマーを充填して、本質的に重合を完了させる工程;
(d)任意により末端キャッピング試薬およびエーテル活性剤の導入ならびに主に極性ビニルモノマーを充填して、本質的に重合を完了させる工程;
(e)リビングブロックコポリマーの停止反応後、任意により、得られたブロックコポリマーのポリ(共役ジエン)中間ブロック(midblock)を選択的に水素添加する工程;
(f)および、任意により、末端のポリ(極性ビニルモノマー)ブロックを加水分解する工程
を含む。
【0029】
当業者であれば理解されるように、該工程(a)、(b)、(c)および(d)は、好ましくは、不活性ガス雰囲気下、好ましくは窒素ガス下で行う。
【0030】
反応工程(b)、(c)および(d)で使用することができるエーテルの例としては、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、1,2−ジエトキシプロパン、ジオキサン、トリエチレングリコールエーテル、1,2−ジメトキシペンゼン、1,2,3−トリメトキシベンゼン、1,2,4−トリメトキシベンゼン、1,2,3−トリエトキシベンゼン、1,2,3−トリブトキシベンゼン、1,2,4−トリエトキシベンゼンまたはそれらの混合物が挙げられる。好ましいエーテルは、ジオキサン、1,2−ジエトキシプロパン、ジエチルエーテルおよびテトラヒドロフランである。
【0031】
工程(a)で使用するモノ−オルガノリチウム開始剤としては、多種類のアリール、アラルキル、シクロアルキルまたはアルキルリチウム化合物を使用することができる。より好ましくは、低級アルキルリチウム開始剤を使用し、最も好ましくは、t−ブチルリチウムまたはsec−ブチルリチウムを使用する。
【0032】
非極性(apolar)炭化水素の主要溶媒は、好ましくは、炭素数5〜8、より好ましくは5または6のシクロアルカンから選択されることが分かった。また、該シクロアルカンの混合物または支配的量の該シクロアルカンおよび少量の炭素数5〜8の脂肪族炭化水素の混合物を使用することもできるが、実質的に純粋なシクロペンタンの使用が最も好ましいことが分かった。
【0033】
工程(a)で任意により使用されるアルコキシリチウム化合物は、好ましくは3〜6個の炭素原子、最も好ましくは4個の炭素原子を有する。最も好ましくは、t−ブトキシリチウムを使用する。
【0034】
アルコキシリチウムまたはリチウムエーテルアルコキシド化合物は、既に存在するリチウム1当量に対して0〜5モル当量の濃度で添加する。
【0035】
工程(b)で任意により使用される適するリチウムエーテルアルコキシドは、一般式R(ORLi(Rは、炭素数1〜6の直鎖または分岐した低級アルキル基、アリールアルキル基またはアルキルアリール基を表し、Rは、炭素数2〜4の直鎖または分岐したアルキレン基を表し、mは1、2または3である。)に従うものである。好ましくは、該リチウムエーテルアルコキシドは、メトキシエトキシリチウムエタノレートまたはメトキシリチウムエタノレートから選択される。
【0036】
工程(b)、(c)および(d)の反応器媒体で使用するエーテル活性剤の量は、高々10体積%、好ましくは≦8体積%である。
【0037】
任意により使用する第三級アミンは、使用される場合は、ブチルリチウムに対して、0.1〜10、好ましくは0.5〜2のモル比で使用する。
【0038】
理解されるように、好ましい方法の実施態様によれば、工程(a)、(b)、(c)、(d)、(e)および(f)の主要溶媒が一種でかつ同じであるが、これは、厳密には必要でない。
【0039】
任意による水素添加工程(e)は、通常、普通のA−B−Aポリマーの選択的水素添加に使用される、自体公知の方法によって行うことができ、該方法は、例えば、欧州特許No.0186910、0316982、0358382、0368419、0401897および0467429、ならびに欧州特許出願No.0301,665、0471,415、0460,725、0532,099および0549,063に開示されている。
【0040】
好ましい実施態様によれば、工程(d)で得られるリビングポリマーは、水素またはその同位体によって停止され、直後に、チタンジ(シクロペンタジエニル)触媒によつて水素添加される。
【0041】
ポリ(メタクリレートエステル)またはポリ(アクリレートエステル)ブロックの任意による加水分解は、当業界の周知の方法によって行うことができ、好ましくは、130〜150°の温度で、不活性ガス、好ましくは窒素下、ポリマーの重量に対して1〜3重量%の濃度のメタンスルホン酸またはp−トルエンスルホン酸などの触媒量の強スルホン酸の存在下で行う。残留エステル含量が≦10モル%までの加水分解は、中央ブロック構造に影響を及ぼさないことが分かった。
【0042】
本発明を下記実施例により説明するが、本発明の範囲は、これらの特定の態様に限定されるものではない。
【0043】
【実施例】
実施例1
BuLiと1,3−ジイソプロペニルベンゼンとの反応
200mlの脱水シクロヘキサンを含む攪拌容器に、0.68g(6ミリモル)のトリエチルアミンを添加した。次いで、6ミリモルのt−ブチルリチウム(t−BuLi)(1.2モルのヘキサン溶液5ml)および0.48g(3ミリモル)の1,3−ジイソプロペニルベンゼンを0℃で添加した。反応を1時間続けると、1,3−ビス(1−リチオ、1−メチル−3,3−ジメチルブチル)ベンゼンが得られた。
【0044】
実施例2
1,3−ビス(1−リチオ、1−メチル−3,3−ジメチルブチル)ベンゼンによる高ビニルSBSブロックコポリマーの合成
1lの脱水シクロヘキサンを充填した反応器に2、3滴の1,3−ビス(1−リチオ、1−メチル−3,3−ジメチルブチル)ベンゼンを添加して、溶液の滴定を行った。その後、反応器に7.5体積%のジエチルエーテル、次いで、0.6ミリモルのジ開始剤(diinitiator)を含む、36gのブタジエンおよび40mlの実施例1の溶液を室温で充填した。温度を40℃に上げて、重合を40℃で10時間続けた。
【0045】
分析用のサンプルを採取すると、ポリブタジエンは下記特徴を示すことが示された。ピークMw:65000g/モル、Mw/Mn=1.06、ビニル含量:44%
次いで、19gのスチレンを反応器に添加し、重合を40℃で2時間続けた。その溶液に1mlのメタノールを添加して重合を停止した。回収したトリブロックコポリマーを安定化させると、次の特徴を示した。ピークMw:100000g/モル、Mw/Mn=1.07。サンプルをオゾン分解にかけると、ピークMwが18000g/モルであるPSが残った。
【0046】
ソルベントキャスティングしたサンプルの引張強さは31.5MPaであり、破断時の伸びは1000%であり、300%伸び率のモジュラスは4.9MPaであり、永久ひずみは25%であった。
【0047】
実施例3〜5
1,3−ビス(1−リチオ、1−メチル−3,3−ジメチルブチル)ベンゼンによる高ビニルSBSブロックコポリマーの合成
他の同様のSBSトリブロックコポリマーを実施例2に従って合成したが、ジエチルエーテルはTHF、t−ブチルメチルエーテルおよびDEPで置き換えた。ブロックコポリマーの特徴は、表Iに示した。
【0048】
【表1】
Figure 0003608638
【0049】
実施例6〜8
PMMA−SBS−PMMAブロックコポリマーの合成
リビングLi−SBS−Liトリブロックコポリマーの溶液を実施例2の方法を使用して合成した。スチレン重合完了後、ジフェニルエチレンの0.5モルのシクロヘキサン溶液12mlを添加した。末端キャッピング反応を室温で30分続けた。次いで、赤色溶液を0℃に冷却し、1lの脱水テトラヒドロフランを添加し、溶液を−78℃に冷却した。この温度で、4.8gのメチルメタクリレートを導入すると、無色透明の溶液が得られた。重合を30分続けた後、1mlのメタノールを導入して重合を停止した。回収したポリマーを酸化防止剤で安定化すると、表IIに示す特徴を示した。
【0050】
【表2】
Figure 0003608638
【0051】
実施例9〜12
PTBMA−SBS−PTBMAブロックコポリマーの合成
MMAをTBMA(t−ブチルメタクリレート)で置き換えた他は実施例6〜8に記載の方法と同様にして、これらのブロックコポリマーを合成した。これらのブロックコポリマーの特徴を表 IIIに示す。
【0052】
【表3】
Figure 0003608638
【0053】
実施例13〜16
水素添加したPMMA−SBS−PMMAブロックコポリマーおよび水素添加したPTBMA−SBS−PTBMAブロックコポリマーの合成
実施例6〜8に従って得たリビングLi−PMMA−SBS−PMMA−Liブロックコポリマーの溶液および実施例9で得たリビングLi−PTBMA−SBS−PTBMA−Liブロックコポリマーの溶液を各々、メタノールおよび水素ガスで処理し、停止させたブロックコポリマー溶液を次いで、アルミニウム/コバルト、アルミニウム/ニッケルおよびチタンジシクロペンタジエニルから選択される一般に公知のいくつかの水素添加触媒を使用して、実質的に水素添加した(RU≦5%)。得られたブロックコポリマーの特徴を表IVに示し、構造的に関連する市販のブロックコポリマーグレードと比較した。
【0054】
【表4】
Figure 0003608638
【0055】
KRATON G−1654 (商標)、ポリ(スチレン)−ポリ(エチレン−ブチレン)−ポリスチレンブロックコポリマーを含むブロックコポリマーグレードであり、ポリ(エチレン−ブチレン)ブロックのエチレン性残留不飽和度は1%未満である。

Claims (2)

  1. 式:
    C−A−B−A−CまたはC−B−C
    [式中、Aブロックはポリ(主にモノビニル芳香族)ブロックを表し、Bブロックは選択的に水素添加されたポリ(主に共役ジエン)ブロックを表し、Cブロックはポリ(主に極性ビニル化合物)ブロックを表し且つ該Cブロックは全ブロックコポリマーの重量に対して≦30重量%の束縛重量画分(bound weight fraction)を表す。]
    で示される対称線状ブロックコポリマーにおいて、
    上記Bブロックの前駆体コポリマーのビニル含量は、最初に存在した共役ジエンに対して20〜45モル%の範囲であり、全線状ブロックコポリマーの分子量分布は≦1.20であることを特徴とする、前記対称線状ブロックコポリマー。
  2. 請求項1に記載の対称線状ブロックコポリマーの製造方法であって、
    (a)−20〜60℃の範囲の温度、非極性炭化水素の主要溶媒中、任意により第三級アミンの存在下で、2当量のモノオルガノリチウム開始剤を1,3−ジイソプロペニルベンゼンと反応させる工程;
    (b)全溶媒体積に対して高々10体積%の量で、任意により炭素数1〜15のアルコキシリチウムまたはリチウムエーテルアルコキシドと混合したエーテル活性剤、および先に規定した主として共役ジエンモノマーを工程(a)のジリチオ開始剤溶液に充填して、本質的に重合を完了させる工程;
    (c)末端キャッピング試薬の導入およびエーテル活性剤の添加の後、主にモノビニル芳香族モノマーまたは主に極性ビニルモノマーを充填して、本質的に重合を完了させる工程;
    (d)任意により末端キャッピング試薬およびエーテル活性剤の導入ならびに主に極性ビニルモノマーを充填して、本質的に重合を完了させる工程;
    (e)リビングブロックコポリマーの停止反応後、得られたブロックコポリマーのポリ(共役ジエン)中間ブロックを選択的に水素添加する工程;
    (f)および、任意により、末端のポリ(極性ビニルモノマー)ブロックを加水分解する工程
    を含む方法。
JP11932696A 1995-05-16 1996-05-14 極性ビニルモノマー由来のブロックを含む選択的に水素添加された対称線状ブロックコポリマーおよびそれらの製造法 Expired - Fee Related JP3608638B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP95303270 1995-05-16
NL95303270.3 1995-05-16

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH08311134A JPH08311134A (ja) 1996-11-26
JP3608638B2 true JP3608638B2 (ja) 2005-01-12

Family

ID=8221196

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11932696A Expired - Fee Related JP3608638B2 (ja) 1995-05-16 1996-05-14 極性ビニルモノマー由来のブロックを含む選択的に水素添加された対称線状ブロックコポリマーおよびそれらの製造法

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP3608638B2 (ja)
DE (1) DE69614447T2 (ja)
TW (1) TW376389B (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002523609A (ja) * 1998-08-27 2002-07-30 シエル・インターナシヨナル・リサーチ・マートスハツペイ・ベー・ヴエー ディスポーザブル用の高剥離強度高定着力ホットメルト接着剤組成物

Also Published As

Publication number Publication date
DE69614447D1 (de) 2001-09-20
JPH08311134A (ja) 1996-11-26
DE69614447T2 (de) 2002-05-16
TW376389B (en) 1999-12-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI306101B (en) Process for making a coupled block copolymer composition and the resulting composition
EP1474458B1 (en) Novel block copolymers and method for making same
US5476904A (en) Thermoplastic elastomers having improved heat resistance comprising conjugated diene/methyl methacrylate block copolymers
JP3599743B2 (ja) 星形に分岐したアクリラート及びメタクリラートのポリマー
EP0832158B1 (en) Gels made from triblock copolymers
US5278245A (en) Thermoplastic elastomers
JP3758703B2 (ja) 工業的に用いうる二官能性陰イオン重合開始剤の製造方法およびその使用
CN112759730A (zh) 一类胺基多功能化sebs热塑性弹性体及其制备方法
KR101748915B1 (ko) 신규 음이온 중합 개시제 및 이를 이용한 공역디엔계 공중합체의 제조방법
JPH0667970B2 (ja) 陰イオン重合用のアミン含有開始剤システム
JPS5871909A (ja) 共役ジエン又はビニル置換芳香族炭化水素及びアクリルエステルのブロツク共重合体及びその製造方法
JPH03177408A (ja) テーパーブロックコポリマーおよびその製造方法
JPH0228605B2 (ja)
CN1066160C (zh) 一种生产非对称放射状聚合物的方法
US5750055A (en) Process for the preparation of industrially applicable difunctional anionic polymerization initiators and their use
EP0682041B1 (en) Process for the preparation of industrially applicable difunctional anionic polymerization initiators and their use
JP3608638B2 (ja) 極性ビニルモノマー由来のブロックを含む選択的に水素添加された対称線状ブロックコポリマーおよびそれらの製造法
EP0743330B1 (en) Selectively hydrogenated symmetrical linear block copolymers
EP0455191A2 (en) Block copolymers containing poly(1,3-conjugated dienes) and poly(vinylphenols), silyl protected poly(vinylphenols) or poly(metal phenolates)
JP2769500B2 (ja) 新規の両親媒性エラストマーブロック共重合体およびその製法
TW202313820A (zh) 共軛二烯系接枝聚合物及其製造方法、潤滑油添加劑、黏度指數提升劑、摩擦抑制劑、以及油組成物
EP0690075A1 (en) Process for the preparation of industrially applicable difunctional anionic polymerization initiators and their use
JP7805947B2 (ja) ブロック共重合体の製造方法
US8153727B2 (en) Block copolymer, resin composition comprising same, and process for producing the resin composition
JP2023006131A (ja) 共役ジエン系グラフト重合体からなる粘度指数向上剤、及び油組成物

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20040614

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20040622

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040809

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20040914

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20041006

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071022

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081022

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091022

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091022

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101022

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111022

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121022

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121022

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131022

Year of fee payment: 9

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees