JP3610065B2 - Silver halide color photographic light-sensitive material - Google Patents
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Landscapes
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Description
本発明は、ハロゲン化銀写真感光材料に関する。更に詳しくは、高感度で保存性の優れたハロゲン化銀写真感光材料に関するものである。 The present invention relates to a silver halide photographic light-sensitive material. More specifically, the present invention relates to a silver halide photographic material having high sensitivity and excellent storage stability.
ハロゲン化銀写真感光材料は、主に支持体上に感光性のハロゲン化銀粒子を含んだ分散媒を含んでいる。ハロゲン化銀感光材料の感度を高めるために膨大な研究が行われてきた。ハロゲン化銀感光材料の感度を高くするためには、ハロゲン化銀粒子固有の感度を高めることが非常に重要であり、ハロゲン化銀粒子ハロゲン化銀固有の感度を高めるために様々な方法が用いられている。例えば、イオウ、金および第VIII族金属化合物などの化学増感剤による高感度化、イオウ、金および第VIII族金属化合物などの化学増感剤とそれらの増感効果を促進させる添加剤との組み合わせによる高感度化、およびハロゲン化銀乳剤種により増感効果をもつ添加剤の添加による高感度化などが行われている。これらに関しては、例えば非特許文献1及び2並びに特許文献1〜8に記載されている。さらに、ハロゲン化銀粒子を還元増加する方法も感度を高める手段として用いられている。ハロゲン化銀粒子の還元増感に関しては例えば特許文献9〜13に記載されており、還元剤の使用方法に関しては、例えば特許文献14〜16に記載されている。また、最近になって特許文献17〜22に記載されたような、電子供与基と脱離基からなる有機電子供与化合物を用いた増感技術が報告されている。この方法は、これまでにない新しい増感技術であり高感度化に有効である。ただし、この化合物を用いると高感度化はするものの効果は十分とは言えず、また同時に被り(Dmin)が高くなるという欠点があること、潜像保存性が悪化することなどがわかり改善が強く要望されていた。またこれらの化合物を用いると感材に圧力と熱が同時にかかった際にカブリが上昇するという問題も生じることがわかった。 The silver halide photographic light-sensitive material mainly contains a dispersion medium containing photosensitive silver halide grains on a support. Enormous research has been conducted to increase the sensitivity of silver halide light-sensitive materials. In order to increase the sensitivity of silver halide photosensitive materials, it is very important to increase the sensitivity inherent to silver halide grains. Various methods are used to increase the sensitivity inherent to silver halide grains. It has been. For example, high sensitivity by chemical sensitizers such as sulfur, gold and group VIII metal compounds, chemical sensitizers such as sulfur, gold and group VIII metal compounds and additives that promote their sensitization effect Higher sensitivity is achieved by combination, and higher sensitivity is achieved by adding an additive having a sensitizing effect depending on the type of silver halide emulsion. These are described, for example, in Non-Patent Documents 1 and 2 and Patent Documents 1-8. Further, a method of increasing the reduction of silver halide grains is also used as a means for increasing sensitivity. The reduction sensitization of silver halide grains is described in, for example, Patent Documents 9 to 13, and the method of using a reducing agent is described in, for example, Patent Documents 14 to 16. Recently, a sensitization technique using an organic electron donating compound comprising an electron donating group and a leaving group as described in Patent Documents 17 to 22 has been reported. This method is an unprecedented new sensitization technique and is effective in increasing sensitivity. However, using this compound increases sensitivity, but the effect is not sufficient, and at the same time it has the disadvantage that the covering (Dmin) becomes high, and the latent image preservability deteriorates, so the improvement is strong. It was requested. Further, it has been found that when these compounds are used, the fog rises when pressure and heat are simultaneously applied to the photosensitive material.
また最近、特許文献23には、酸化現像主薬と反応しないヘテロ原子を最低3個有する化合物をハロゲン化銀写真感光材料に含有させることにより、粒状性を悪化させずにを感度増加を行なう技術について開示されている。しかしながら、本公開公報記載の方法により感度の増加は見られるが、この技術だけではその効果は十分ではなくさらなる感度増加方法が望まれていた。 Recently, Patent Document 23 discloses a technique for increasing the sensitivity without deteriorating graininess by incorporating a compound having at least three heteroatoms that do not react with the oxidized developing agent into a silver halide photographic material. It is disclosed. However, although the sensitivity is increased by the method described in this publication, the effect is not sufficient only by this technique, and a further sensitivity increasing method has been desired.
より大きな効果を得るために検討を続けた結果、一般式(M)または一般式(C)の化合物を用い好ましく感度を増加させる方法を見出した。詳細なメカニズムについては不明だが、膜中の銀イオン濃度を変化させることなく、乳剤粒子の表面に吸着する性質を有することが有利であり、特許文献23に記載されている例示化合物より一般式(M)または一般式(C)の化合物を用いる方がこの点で有効であるためと推定している。しかしながら今日の感光材料に求められる感度への要求は大きく、これらの技術を用いてもなお、その効果は十分とは言い切れず、さらなる感度増加の方法が望まれていた。
本発明は上記従来技術の有する課題を解決することを課題とするものであり、高感度でかつ保存性の優れたハロゲン化銀写真感光材料を提供することを課題とする。 The object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art, and to provide a silver halide photographic material having high sensitivity and excellent storage stability.
本発明の課題は、下記手段によって達成することが出来た。
(1)支持体上に、それぞれ少なくとも1層のイエローカプラーを含有する青感性ハロゲン化銀乳剤層、マゼンタカプラーを含有する緑感性ハロゲン化銀乳剤層、シアンカプラーを含有する赤感性ハロゲン化銀乳剤層、及び非感光性層を有するハロゲン化銀カラー写真感光材料であって、少なくとも1層にタイプAおよびタイプ1〜4の化合物群から選ばれる化合物を含み、かつ、少なくとも1層に紫外線吸収剤とビニルポリマーとを含有する微粒子分散物を含有することを特徴とするハロゲン化銀カラー写真感光材料。
(タイプA)
X−Yで表される化合物においてXは還元性基を、Yは脱離基を表し、Xで表される還元性基が1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続くX−Y結合の開裂反応を伴ってYを脱離してXラジカルを生成し、そこからさらにもう1電子を放出し得る化合物。
(タイプ1)
1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続く結合開裂反応を伴って、さらに2電子以上の電子を放出し得る化合物。
(タイプ2)
1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続く炭素−炭素結合開裂反応を伴って、さらにもう1電子を放出し得る化合物で、かつ同じ分子内にハロゲン化銀への吸着性基を2つ以上有する化合物。
(タイプ3)
1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続く結合形成過程を経た後に、さらに1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物。
(タイプ4)
1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続く分子内の環開裂反応を経た後に、さらに1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物。
The object of the present invention can be achieved by the following means.
(1) A blue-sensitive silver halide emulsion layer containing at least one yellow coupler, a green-sensitive silver halide emulsion layer containing a magenta coupler, and a red-sensitive silver halide emulsion containing a cyan coupler on the support. layer, and a silver halide color photographic material have a non-photosensitive layer comprises a compound selected from the compound group of the type a and type 1-4 in at least one layer, and an ultraviolet absorbent in at least one layer the silver halide color photographic light-sensitive material characterized that you contain fine particles dispersion containing the agent and a vinyl polymer.
(Type A)
In the compound represented by XY, X represents a reducing group, Y represents a leaving group, and a one-electron oxidant formed by one-electron oxidation of the reducing group represented by X is followed by XY A compound capable of releasing Y by releasing Y with a bond cleavage reaction and releasing another electron therefrom.
(Type 1)
A compound in which a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation can further emit two or more electrons with a subsequent bond cleavage reaction.
(Type 2)
The one-electron oxidant produced by one-electron oxidation is a compound capable of releasing another electron with a subsequent carbon-carbon bond cleavage reaction, and 2 adsorbing groups to silver halide are present in the same molecule. A compound having two or more.
(Type 3)
A compound capable of emitting one or more electrons after a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation undergoes a subsequent bond formation process.
(Type 4)
A compound capable of emitting one or more electrons after a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation undergoes a subsequent intramolecular ring-cleaving reaction.
(2)タイプAおよびタイプ1〜4の化合物群から選ばれる化合物が、一般式(A)および一般式(1−1)〜(4−2)の化合物群から選ばれる化合物であることを特徴とする(1)に記載のハロゲン化銀カラー写真感光材料。 (2) The compound selected from the compound group of type A and types 1 to 4 is a compound selected from the compound group of general formula (A) and general formulas (1-1) to (4-2) The silver halide color photographic light-sensitive material according to (1).
一般式(A)
一般式(A)においてRED0は還元性基を表し、L0は脱離基を表し、R0およびR1は水素原子または置換基を表す。RED0とR0、およびR0とR1とは互いに結合して環構造を形成していてもよい。 In the general formula (A), RED 0 represents a reducing group, L 0 represents a leaving group, and R 0 and R 1 represent a hydrogen atom or a substituent. RED 0 and R 0 , and R 0 and R 1 may be bonded to each other to form a ring structure.
一般式(1−1)〜一般式(4−2)
一般式(1−1)においてRED11は還元性基を表し、L11は脱離基を表し、R112は水素原子または置換基を表す。R111は炭素原子(C)およびRED11と共に、5員もしくは6員の芳香族環(芳香族ヘテロ環を含む)のテトラヒドロ体、ヘキサヒドロ体、もしくはオクタヒドロ体に相当する環状構造を形成し得る非金属原子団を表す。 In the general formula (1-1), RED 11 represents a reducing group, L 11 represents a leaving group, and R 112 represents a hydrogen atom or a substituent. R 111 together with carbon atom (C) and RED 11 can form a cyclic structure corresponding to a tetrahydro, hexahydro or octahydro form of a 5- or 6-membered aromatic ring (including aromatic heterocycle). Represents a metal atomic group.
一般式(1−2)においてRED12およびL12は、それぞれ一般式(1−1)のRED11およびL11と同義の基を表す。R121およびR122は、それぞれに水素原子または炭素原子に置換可能な置換基を表し、これは一般式(1−1)のR112と同義の基である。ED12は電子供与性基を表す。一般式(1−2)においてR121とRED12、R121とR122、またはED12とRED12とは、互いに結合して環状構造を形成していてもよい。 In the general formula (1-2), RED 12 and L 12 each represent a group having the same meaning as RED 11 and L 11 in the general formula (1-1). R 121 and R 122 each represent a hydrogen atom or a substituent that can be substituted with a carbon atom, and this is the same group as R 112 in formula (1-1). ED 12 represents an electron donating group. In the general formula (1-2), R 121 and RED 12 , R 121 and R 122 , or ED 12 and RED 12 may be bonded to each other to form a cyclic structure.
一般式(2)においてRED2は一般式(1−2)のRED12と同義の基を表す。L2はカルボキシ基またはその塩を表し、R21、R22は水素原子または置換基を表す。RED2とR21とは互いに結合して環構造を形成していてもよい。但し一般式(2)で表される化合物は、分子内にハロゲン化銀への吸着促進基を2つ以上有する化合物である。 In the general formula (2), RED 2 represents a group having the same meaning as RED 12 in the general formula (1-2). L 2 represents a carboxy group or a salt thereof, and R 21 and R 22 represent a hydrogen atom or a substituent. RED 2 and R 21 may be bonded to each other to form a ring structure. However, the compound represented by the general formula (2) is a compound having two or more adsorption promoting groups for silver halide in the molecule.
一般式(3)においてRED3は一般式(1−2)のRED12と同義の基を表す。Y3は、RED3が1電子酸化されて生成する1電子酸化体と反応して、新たな結合を形成しうる炭素−炭素2重結合部位または炭素−炭素3重結合部位を含む反応性基を表す。L3はRED3とY3とを連結する連結基を表す。 In the general formula (3), RED 3 represents a group having the same meaning as RED 12 in the general formula (1-2). Y 3 is a reactive group containing a carbon-carbon double bond site or a carbon-carbon triple bond site capable of reacting with a one-electron oxidant formed by one-electron oxidation of RED 3 to form a new bond. Represents. L 3 represents a linking group that links RED 3 and Y 3 .
一般式(4−1)および一般式(4−2)においてRED41およびRED42は、それぞれ一般式(1−2)のRED12と同義の基を表す。R40〜R44およびR45〜R49は、それぞれ水素原子または置換基を表す。一般式(4−2)においてZ42は−CR420R421−、−NR423−、または−O−を表す。ここにR420、R421は、それぞれ水素原子または置換基を表し、R423は水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基を表す。 In General Formula (4-1) and General Formula (4-2), RED 41 and RED 42 each represent a group having the same meaning as RED 12 in General Formula (1-2). R 40 to R 44 and R 45 to R 49 each represent a hydrogen atom or a substituent. Z 42 in the general formula (4-2) -CR 420 R 421 - , - NR 423 -, or an -O-. Here, R 420 and R 421 each represent a hydrogen atom or a substituent, and R 423 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group.
(3)前記のタイプAおよびタイプ1〜4の化合物群から選ばれる化合物が、分子内に吸着性基または増感色素の部分構造を有することを特徴とする(1)または(2)に記載のハロゲン化銀カラー写真感光材料。 (3) The compound selected from the compound group of type A and types 1 to 4 described above has a partial structure of an adsorptive group or a sensitizing dye in the molecule (1) or (2) Silver halide color photographic light-sensitive material.
(4)前記ビニルポリマーが形成モノマーとしてアクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、ビニルエステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、オレフィン類およびビニルエーテル類から選ばれるモノマーを含むことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1に記載のハロゲン化銀カラー写真感光材料。 (4) The vinyl polymer contains a monomer selected from acrylic acid esters, methacrylic acid esters, vinyl esters, acrylamides, methacrylamides, olefins and vinyl ethers as a forming monomer. The silver halide color photographic material according to any one of 1 to 3.
(5)前記ビニルポリマーが2種以上のモノマーからなる共重合体であり、該モノマーの少なくとも1種が解離性基を有することを特徴とする(1)〜(4)のいずれか1に記載のハロゲン化銀カラー写真感光材料。 (5) The vinyl polymer is a copolymer composed of two or more monomers, and at least one of the monomers has a dissociable group, (1) to (4), Silver halide color photographic light-sensitive material.
(6)前記モノマーの解離性基がスルホン酸であることを特徴とする(5)に記載のハロゲン化銀カラー写真感光材料。 (6) The silver halide color photographic light-sensitive material as described in (5), wherein the dissociable group of the monomer is sulfonic acid.
(7)前記共重合体中の解離性基を有するモノマーの割合が、ビニルポリマーに対して0.1〜3.0mmol/gであることを特徴とする(5)または(6)に記載のハロゲン化銀カラー写真感光材料。
(8)前記ビニルポリマーの平均分子量が3000から50000であることを特徴とする(1)〜(7)のいずれか1に記載のハロゲン化銀カラー写真感光材料。
(9)前記紫外線吸収剤とビニルポリマーを含有する微粒子分散物が、ビニルポリマーと紫外線吸収剤とを含有する有機溶媒相に水を投入するか、もしくは水中に前記有機溶媒相を投入することにより乳化させて製造されるものであることを特徴とする(1)〜(8)のいずれか1に記載のハロゲン化銀カラー写真感光材料。
(10)前記いずれかの感光性ハロゲン化銀乳剤層に含まれるハロゲン化銀粒子の全投影面積の50%以上が下記(a)ないし(d)を満たすことを特徴とする(1)〜(9)に記載のハロゲン化銀カラー写真感光材料。
(a)平行な主平面が(111)面
(b)アスペクト比が2以上
(c)転位線を1粒子当たり少なくとも10本以上含む
(d)塩化銀含有率が10モル%未満の沃臭化銀または塩沃臭化銀よりなる平板状ハ
ロゲン化銀粒子
(11)前記いずれかの感光性ハロゲン化銀乳剤層に含まれるハロゲン化銀粒子の全投影面積の50%以上が下記の(a)、(d)および(e)を満たすことを特徴とする(1)〜(9)のいずれか1に記載のハロゲン化銀カラー写真感光材料。
(a)平行な主平面が(111)面
(d)塩化銀含有率が10モル%未満の沃臭化銀または塩沃臭化銀よりなる平板状ハ
ロゲン化銀粒子
(e)六角形ハロゲン化銀粒子の頂点部および/または側面部および/または主平面
部に1粒子当たり少なくとも1個のエピタキシャル接合を有する
(12)前記のハロゲン化銀カラー写真感光材料が下記化合物(B)を含有することを特徴とする(1)〜(11)のいずれか1に記載のハロゲン化銀カラー写真感光材料。
化合物(B):ヘテロ原子を少なくとも3個有する化合物であり、該化合物を含有しない場合に比較して感光材料の写真感度が増加する化合物
ここで、写真感度が増加するとは、本願明細書の実施例1に記載する現像処理工程及び処理液で処理したときに写真感度が増加することをいう。
(13)前記感光性ハロゲン化銀乳剤層の少なくとも1層に含まれるハロゲン化銀粒子が還元増感を施されていることを特徴とする(1)〜(12)のいずれか1に記載のハロゲン化銀カラー写真感光材料。
(14)前記感光性ハロゲン化銀乳剤層の少なくとも1層に含まれるハロゲン化銀粒子が、Mg、Ca、Sr、Ba、Al、Sc、Y、La、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ga、Ru、Rh、Pd、Re、Os、Ir、Pt、Au、Cd、Hg、Tl、In、Sn、PbおよびBiからなる群から選択される金属のイオン少なくとも1種を粒子内部に含有することを特徴とする(1)〜(13)のいずれか1に記載のハロゲン化銀カラー写真感光材料。
(7) The ratio of the monomer having a dissociable group in the copolymer is 0.1 to 3.0 mmol / g with respect to the vinyl polymer, (5) or (6) Silver halide color photographic material.
(8) The silver halide color photographic light-sensitive material as described in any one of (1) to (7), wherein the vinyl polymer has an average molecular weight of 3,000 to 50,000.
(9) The fine particle dispersion containing the ultraviolet absorber and the vinyl polymer is charged with water in the organic solvent phase containing the vinyl polymer and the ultraviolet absorber, or by introducing the organic solvent phase into water. The silver halide color photographic light-sensitive material as described in any one of (1) to (8), which is produced by emulsification.
(10) 50% or more of the total projected area of silver halide grains contained in any one of the light-sensitive silver halide emulsion layers satisfies the following (a) to (d): The silver halide color photographic light-sensitive material as described in 9).
(A) Parallel main plane is (111) plane
(B) The aspect ratio is 2 or more
(C) including at least 10 dislocation lines per particle
(D) A plate-shaped substrate made of silver iodobromide or silver chloroiodobromide having a silver chloride content of less than 10 mol%
Silver halide grains
(11) 50% or more of the total projected area of the silver halide grains contained in any one of the light-sensitive silver halide emulsion layers satisfies the following (a), (d) and (e): The silver halide color photographic light-sensitive material according to any one of (1) to (9).
(A) Parallel main plane is (111) plane
(D) A plate-shaped substrate made of silver iodobromide or silver chloroiodobromide having a silver chloride content of less than 10 mol%
Silver halide grains
(E) Vertex and / or side surface and / or main plane of hexagonal silver halide grain
Have at least one epitaxial junction per particle in the part
(12) The silver halide color photographic light-sensitive material as described in any one of (1) to (11), wherein the silver halide color photographic light-sensitive material contains the following compound (B).
Compound (B): a compound having at least three heteroatoms, and a photographic sensitivity of the photosensitive material is increased as compared with the case where the compound is not contained
Here, the increase in photographic sensitivity means that the photographic sensitivity increases when processed with the development processing step and processing solution described in Example 1 of the present specification.
(13) The silver halide grains contained in at least one of the light-sensitive silver halide emulsion layers are subjected to reduction sensitization, (1) to (12), Silver halide color photographic material.
(14) The silver halide grains contained in at least one of the photosensitive silver halide emulsion layers are Mg, Ca, Sr, Ba, Al, Sc, Y, La, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Particles of at least one metal ion selected from the group consisting of Cu, Zn, Ga, Ru, Rh, Pd, Re, Os, Ir, Pt, Au, Cd, Hg, Tl, In, Sn, Pb and Bi The silver halide color photographic light-sensitive material as described in any one of (1) to (13), which is contained inside.
以下、本発明について更に詳細に説明する。
本発明で用いられるタイプAまたはタイプ1〜4の化合物の中から選ばれる化合物について説明する。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
A compound selected from type A or type 1-4 compounds used in the present invention will be described.
(タイプA)
X−Yで表される化合物においてXは還元性基を、Yは脱離基を表し、Xで表される還元性基が1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続くX−Y結合の開裂反応を伴ってYを脱離してXラジカルを生成し、そこからさらにもう1電子を放出し得る化合物。
(Type A)
In the compound represented by XY, X represents a reducing group, Y represents a leaving group, and a one-electron oxidant formed by one-electron oxidation of the reducing group represented by X is followed by XY A compound capable of releasing Y by releasing Y with a bond cleavage reaction and releasing another electron therefrom.
(タイプ1)
1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続く結合開裂反応を伴って、さらに2電子以上の電子を放出し得る化合物。
(Type 1)
A compound in which a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation can further emit two or more electrons with a subsequent bond cleavage reaction.
(タイプ2)
1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続く炭素−炭素結合開裂反応を伴って、さらにもう1電子を放出し得る化合物で、かつ同じ分子内にハロゲン化銀への吸着性基を2つ以上有する化合物。
(Type 2)
The one-electron oxidant produced by one-electron oxidation is a compound capable of releasing another electron with a subsequent carbon-carbon bond cleavage reaction, and 2 adsorbing groups to silver halide are present in the same molecule. A compound having two or more.
(タイプ3)
1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続く結合形成過程を経た後に、さらに1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物。
(Type 3)
A compound capable of emitting one or more electrons after a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation undergoes a subsequent bond formation process.
(タイプ4)
1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続く分子内の環開裂反応を経た後に、さらに1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物。
(Type 4)
A compound capable of emitting one or more electrons after a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation undergoes a subsequent intramolecular ring-cleaving reaction.
本発明の上記タイプAおよびタイプ1〜4の化合物のうち好ましいものは、以下の一般式(A)および一般式(1−1)〜(4−2)で表される。即ち、本発明の上記タイプAの化合物のうち好ましいものは、以下の一般式(A)で表され、上記タイプ1の化合物のうち好ましいものは、以下の一般式(1−1)および(1−2)で表され、上記タイプ2の化合物のうち好ましいものは、以下の一般式(2)で表され、上記タイプ3の化合物のうち好ましいものは、以下の一般式(3)で表され、上記タイプ4の化合物のうち好ましいものは、以下の一般式(4−1)および(4−2)で表される。 Among the compounds of type A and types 1 to 4 of the present invention, preferred are represented by the following general formula (A) and general formulas (1-1) to (4-2). That is, among the above-mentioned type A compounds of the present invention, preferred compounds are represented by the following general formula (A), and among the above-mentioned type 1 compounds, preferred compounds are represented by the following general formulas (1-1) and (1). -2), among the compounds of type 2 described above, preferable ones are represented by the following general formula (2), and among the compounds of type 3 described above, preferable ones are represented by the following general formula (3). Preferred among the compounds of type 4 are represented by the following general formulas (4-1) and (4-2).
一般式(A)
一般式(A)においてRED0は還元性基を表し、L0は脱離基を表し、R0およびR1は水素原子または置換基を表す。RED0とR0、およびR0とR1とは互いに結合して環構造を形成していてもよい。 In the general formula (A), RED 0 represents a reducing group, L 0 represents a leaving group, and R 0 and R 1 represent a hydrogen atom or a substituent. RED 0 and R 0 , and R 0 and R 1 may be bonded to each other to form a ring structure.
一般式(1−1)〜一般式(4−2)
一般式(1−1)においてRED11は還元性基を表し、L11は脱離基を表し、R112は水素原子または置換基を表す。R111は炭素原子(C)およびRED11と共に、5員もしくは6員の芳香族環(芳香族ヘテロ環を含む)のテトラヒドロ体、ヘキサヒドロ体、もしくはオクタヒドロ体に相当する環状構造を形成し得る非金属原子団を表す。 In the general formula (1-1), RED 11 represents a reducing group, L 11 represents a leaving group, and R 112 represents a hydrogen atom or a substituent. R 111 together with carbon atom (C) and RED 11 can form a cyclic structure corresponding to a tetrahydro, hexahydro or octahydro form of a 5- or 6-membered aromatic ring (including aromatic heterocycle). Represents a metal atomic group.
一般式(1−2)においてRED12およびL12は、それぞれ一般式(1−1)のRED11およびL11と同義の基を表す。R121およびR122は、それぞれに水素原子または炭素原子に置換可能な置換基を表し、これは一般式(1−1)のR112と同義の基である。ED12は電子供与性基を表す。一般式(1−2)においてR121とRED12、R121とR122、またはED12とRED12とは、互いに結合して環状構造を形成していてもよい。 In the general formula (1-2), RED 12 and L 12 each represent a group having the same meaning as RED 11 and L 11 in the general formula (1-1). R 121 and R 122 each represent a hydrogen atom or a substituent that can be substituted with a carbon atom, and this is the same group as R 112 in formula (1-1). ED 12 represents an electron donating group. In the general formula (1-2), R 121 and RED 12 , R 121 and R 122 , or ED 12 and RED 12 may be bonded to each other to form a cyclic structure.
一般式(2)においてRED2は一般式(1−2)のRED12と同義の基を表す。L2はカルボキシ基またはその塩を表し、R21、R22は水素原子または置換基を表す。RED2とR21とは互いに結合して環構造を形成していてもよい。但し一般式(2)で表される化合物は、分子内にハロゲン化銀への吸着促進基を2つ以上有する化合物である。 In the general formula (2), RED 2 represents a group having the same meaning as RED 12 in the general formula (1-2). L 2 represents a carboxy group or a salt thereof, and R 21 and R 22 represent a hydrogen atom or a substituent. RED 2 and R 21 may be bonded to each other to form a ring structure. However, the compound represented by the general formula (2) is a compound having two or more adsorption promoting groups for silver halide in the molecule.
一般式(3)においてRED3は一般式(1−2)のRED12と同義の基を表す。Y3は、RED3が1電子酸化されて生成する1電子酸化体と反応して、新たな結合を形成しうる炭素−炭素2重結合部位または炭素−炭素3重結合部位を含む反応性基を表す。L3はRED3とY3とを連結する連結基を表す。 In the general formula (3), RED 3 represents a group having the same meaning as RED 12 in the general formula (1-2). Y 3 is a reactive group containing a carbon-carbon double bond site or a carbon-carbon triple bond site capable of reacting with a one-electron oxidant formed by one-electron oxidation of RED 3 to form a new bond. Represents. L 3 represents a linking group that links RED 3 and Y 3 .
一般式(4−1)および一般式(4−2)においてRED41およびRED42は、それぞれ一般式(1−2)のRED12と同義の基を表す。R40〜R44およびR45〜R49は、それぞれ水素原子または置換基を表す。一般式(4−2)においてZ42は−CR420R421−、−NR423−、または−O−を表す。ここにR420、R421は、それぞれ水素原子または置換基を表し、R423は水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基を表す。 In General Formula (4-1) and General Formula (4-2), RED 41 and RED 42 each represent a group having the same meaning as RED 12 in General Formula (1-2). R 40 to R 44 and R 45 to R 49 each represent a hydrogen atom or a substituent. Z 42 in the general formula (4-2) -CR 420 R 421 - , - NR 423 -, or an -O-. Here, R 420 and R 421 each represent a hydrogen atom or a substituent, and R 423 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group.
上記タイプA、タイプ1、タイプ3、タイプ4の化合物のうち好ましいものは、「分子内にハロゲン化銀への吸着性基を有する化合物」であるか、または「分子内に、分光増感色素の部分構造を有する化合物」である。より好ましくは「分子内にハロゲン化銀への吸着性基を有する化合物」である。 Preferred among the compounds of type A, type 1, type 3, and type 4 are “compounds having an adsorbing group for silver halide in the molecule” or “spectral sensitizing dyes in the molecule”. A compound having a partial structure of More preferred is a “compound having an adsorptive group to silver halide in the molecule”.
また同様に上記一般式(A)および一般式(1−1)〜一般式(4−2)の化合物のうち好ましいものは、「分子内にハロゲン化銀への吸着性基を有する化合物」であるか、または「分子内に、分光増感色素の部分構造を有する化合物」である。より好ましくは「分子内にハロゲン化銀への吸着性基を有する化合物」である。 Similarly, among the compounds of the above general formula (A) and general formula (1-1) to general formula (4-2), “a compound having an adsorptive group to silver halide in the molecule” is preferable. Or “a compound having a partial structure of a spectral sensitizing dye in the molecule”. More preferred is a “compound having an adsorptive group to silver halide in the molecule”.
先ずタイプ1〜4の化合物について説明する。
タイプ1の化合物において「結合開裂反応」とは具体的に炭素−炭素もしくは炭素−ケイ素結合の開裂を意味し、炭素−水素結合の開裂がこれに付随してもよい。タイプ1の化合物は1電子酸化されて1電子酸化体となった後に、初めて結合開裂反応を伴って、さらに2電子以上(好ましくは3電子以上)の電子を放出し得る化合物である。言いかえればさらに2電子以上(好ましくは3電子以上)酸化され得る化合物である。
First, the compounds of types 1 to 4 will be described.
In the type 1 compound, “bond cleavage reaction” specifically means cleavage of a carbon-carbon or carbon-silicon bond, which may be accompanied by cleavage of a carbon-hydrogen bond. A type 1 compound is a compound capable of emitting two or more (preferably three or more) electrons for the first time after a one-electron oxidation to form a one-electron oxidant with a bond cleavage reaction. In other words, it is a compound that can be further oxidized by 2 electrons or more (preferably 3 electrons or more).
タイプ1の化合物のうち好ましい化合物は一般式(1−1)または一般式(1−2)で表されるが、これら化合物は一般式(1−1)または一般式(1−2)の、RED11またはRED12で表される還元性基が1電子酸化された後、自発的にL11またはL12を結合開裂反応により離脱することで、即ちC(炭素原子)−L11結合またはC(炭素原子)−L12結合が開裂することで、これに伴いさらに電子を2つ以上、好ましくは3つ以上放出し得る化合物である。 Among the compounds of type 1, preferred compounds are represented by general formula (1-1) or general formula (1-2), and these compounds are those represented by general formula (1-1) or general formula (1-2). After the reducing group represented by RED 11 or RED 12 is oxidized by one electron, L 11 or L 12 is released spontaneously by bond cleavage reaction, that is, C (carbon atom) -L 11 bond or C This is a compound capable of releasing two or more, preferably three or more electrons, along with the cleavage of the (carbon atom) -L 12 bond.
以下、先ず一般式(1−1)で表される化合物について詳しく説明する。
一般式(1−1)においてRED11で表される1電子酸化され得る還元性基は、後述するR111と結合して特定の環形成をし得る基であり、具体的には次の1価基から環形成をするのに適切な箇所の水素原子1個を除いた2価基が挙げられる。例えば、アルキルアミノ基、アリールアミノ基(アニリノ基、ナフチルアミノ基等)、ヘテロ環アミノ基(ベンズチアゾリルアミノ基、ピロリルアミノ基等)、アルキルチオ基、アリールチオ基(フェニルチオ基等)、ヘテロ環チオ基、アルコキシ基、アリールオキシ基(フェノキシ基等)、ヘテロ環オキシ基、アリール基(フェニル基、ナフチル基、アントラニル基等)、芳香族または非芳香族のヘテロ環基(ここにヘテロ環の具体例としては、例えばテトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環、テトラヒドロキノキサリン環、テトラヒドロキナゾリン環、インドリン環、インドール環、インダゾール環、カルバゾール環、フェノキサジン環、フェノチアジン環、ベンゾチアゾリン環、ピロール環、イミダゾール環、チアゾリン環、ピペリジン環、ピロリジン環、モルホリン環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾイミダゾリン環、ベンゾオキサゾリン環、3,4-メチレンジオキシフェニル環等が挙げられる)である(以後、便宜上RED11は1価基名として記述する)。これらは置換基を有していてもよい。
Hereinafter, the compound represented by formula (1-1) will be described in detail below.
The reducing group capable of being one-electron oxidized represented by RED 11 in the general formula (1-1) is a group capable of forming a specific ring by bonding to R 111 described later. Examples thereof include a divalent group obtained by removing one hydrogen atom from a suitable group for ring formation. For example, alkylamino group, arylamino group (anilino group, naphthylamino group etc.), heterocyclic amino group (benzthiazolylamino group, pyrrolylamino group etc.), alkylthio group, arylthio group (phenylthio group etc.), heterocyclic thiol Group, alkoxy group, aryloxy group (phenoxy group, etc.), heterocyclic oxy group, aryl group (phenyl group, naphthyl group, anthranyl group, etc.), aromatic or non-aromatic heterocyclic group Examples include tetrahydroquinoline ring, tetrahydroisoquinoline ring, tetrahydroquinoxaline ring, tetrahydroquinazoline ring, indoline ring, indole ring, indazole ring, carbazole ring, phenoxazine ring, phenothiazine ring, benzothiazoline ring, pyrrole ring, imidazole ring, Thiazoline ring, piperidy Ring describing the pyrrolidine ring, a morpholine ring, a benzimidazole ring, benzimidazoline ring, benzo-oxazoline ring, a 3,4-methylenedioxyphenyl ring, and the like) (hereinafter, for convenience RED 11 as monovalent Name ). These may have a substituent.
置換基としては、例えばハロゲン原子、アルキル基(アラルキル基、シクロアルキル基、活性メチン基等を含む)、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基(置換する位置は問わない)、4級化された窒素原子を含むヘテロ環基(例えばピリジニオ基、イミダゾリオ基、キノリニオ基、イソキノリニオ基)、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、カルボキシ基またはその塩、スルホニルカルバモイル基、アシルカルバモイル基、スルファモイルカルバモイル基、カルバゾイル基、オキサリル基、オキサモイル基、シアノ基、チオカルバモイル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基(エチレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基単位を繰り返し含む基を含む)、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、(アルコキシもしくはアリールオキシ)カルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルホニルオキシ基、アミノ基、(アルキル,アリール,またはヘテロ環)アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、イミド基、(アルコキシもしくはアリールオキシ)カルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、セミカルバジド基、チオセミカルバジド基、ヒドラジノ基、アンモニオ基、オキサモイルアミノ基、(アルキルもしくはアリール)スルホニルウレイド基、アシルウレイド基、アシルスルファモイルアミノ基、ニトロ基、メルカプト基、(アルキル、アリール、またはヘテロ環)チオ基、(アルキルまたはアリール)スルホニル基、(アルキルまたはアリール)スルフィニル基、スルホ基またはその塩、スルファモイル基、アシルスルファモイル基、スルホニルスルファモイル基またはその塩、リン酸アミドもしくはリン酸エステル構造を含む基、等が挙げられる。これら置換基は、これら置換基でさらに置換されていてもよい。 Examples of the substituent include a halogen atom, an alkyl group (including an aralkyl group, a cycloalkyl group, and an active methine group), an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group (regardless of the position of substitution), quaternary A substituted nitrogen atom-containing heterocyclic group (e.g., pyridinio group, imidazolio group, quinolinio group, isoquinolinio group), acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, carboxy group or salt thereof, sulfonylcarbamoyl group, Acyl carbamoyl group, sulfamoyl carbamoyl group, carbazoyl group, oxalyl group, oxamoyl group, cyano group, thiocarbamoyl group, hydroxy group, alkoxy group (including groups containing repeating ethyleneoxy group or propyleneoxy group units), aryloxy Group, heterocyclic o Si group, acyloxy group, (alkoxy or aryloxy) carbonyloxy group, carbamoyloxy group, sulfonyloxy group, amino group, (alkyl, aryl, or heterocyclic) amino group, acylamino group, sulfonamide group, ureido group, thioureido Group, imide group, (alkoxy or aryloxy) carbonylamino group, sulfamoylamino group, semicarbazide group, thiosemicarbazide group, hydrazino group, ammonio group, oxamoylamino group, (alkyl or aryl) sulfonylureido group, acylureido group , Acylsulfamoylamino group, nitro group, mercapto group, (alkyl, aryl, or heterocyclic) thio group, (alkyl or aryl) sulfonyl group, (alkyl or aryl) sulfinyl group, sulfo group or Salts, sulfamoyl group, sulfonylsulfamoyl group or a salt thereof, phosphoric acid amide or a group containing a phosphoric acid ester structure and so forth. These substituents may be further substituted with these substituents.
一般式(1−1)においてL11は、RED11で表される還元性基が1電子酸化された後に初めて結合開裂により脱離し得る脱離基を表し、具体的にはカルボキシ基もしくはその塩、またはシリル基を表す。 L 11 in the general formula (1-1) represents a leaving group which leaves by the first bond cleavage after the reducing group represented by RED 11 is one-electron oxidation, specifically the carboxy group or a salt thereof Or a silyl group.
L11がカルボキシ基の塩を表すとき、塩を形成するカウンターイオンとしては具体的にアルカリ金属イオン(Li+、Na+、K+、Cs+等)、アルカリ土類金属イオン(Mg2+、Ca2+、Ba2+等)、重金属イオン(Ag+、Fe2+/3+等)、アンモニウムイオン、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。L11がシリル基を表す時、シリル基とは具体的にトリアルキルシリル基、アリールジアルキルシリル基、トリアリールシリル基などを表し、ここにアルキル基とはメチル、エチル、ベンジル、t−ブチル基等が、またアリール基とはフェニル基などが挙げられる。 When L 11 represents a salt of a carboxy group, the counter ions forming the salt are specifically alkali metal ions (Li + , Na + , K + , Cs + etc.), alkaline earth metal ions (Mg 2+ , Ca 2+ , Ba 2+ etc.), heavy metal ions (Ag + , Fe 2 + / 3 + etc.), ammonium ions, phosphonium ions and the like. When L 11 represents a silyl group, the silyl group specifically represents a trialkylsilyl group, an aryldialkylsilyl group, a triarylsilyl group, etc., where the alkyl group is a methyl, ethyl, benzyl, t-butyl group. And the aryl group includes a phenyl group.
一般式(1−1)においてR112は水素原子または炭素原子に置換可能な置換基を表す。R112が炭素原子に置換可能な置換基を表す時、ここに置換基とは具体的に、RED11が置換基を有する時の置換基の例と同じものが挙げられる。但しR112がL11と同じ基を表すことはない。 In the general formula (1-1), R 112 represents a hydrogen atom or a substituent that can be substituted with a carbon atom. When R 112 represents a substituent substitutable on a carbon atom, the substituent is specifically the same as the example of the substituent when RED 11 has a substituent. However, R 112 does not represent the same group as L 11 .
一般式(1−1)においてR111は炭素原子(C)およびRED11と共に、特定の5員もしくは6員の環状構造を形成し得る非金属原子団を表す。ここにR111が形成する特定の5員もしくは6員の環状構造とは、5員もしくは6員の芳香族環(芳香族ヘテロ環を含む)のテトラヒドロ体、ヘキサヒドロ体もしくはオクタヒドロ体に相当する環構造を意味する。ここにヒドロ体とは、芳香族環(芳香族ヘテロ環を含む)に内在する炭素−炭素2重結合(または炭素−窒素2重結合)が部分的に水素化された環構造を意味し、テトラヒドロ体とは2つの炭素−炭素2重結合(または炭素−窒素2重結合)が水素化された構造を意味し、ヘキサヒドロ体とは3つの炭素−炭素2重結合(または炭素−窒素2重結合)が水素化された構造を意味し、オクタヒドロ体とは4つの炭素−炭素2重結合(または炭素−窒素2重結合)が水素化された構造を意味する。水素化されることで芳香族環は、部分的に水素化された非芳香族の環構造となる。 In the general formula (1-1), R 111 represents a nonmetallic atomic group capable of forming a specific 5-membered or 6-membered cyclic structure together with the carbon atom (C) and RED 11 . The specific 5- or 6-membered cyclic structure formed by R 111 is a ring corresponding to a tetrahydro, hexahydro or octahydro form of a 5- or 6-membered aromatic ring (including aromatic heterocycle). Means structure. Here, the hydro form means a ring structure in which a carbon-carbon double bond (or carbon-nitrogen double bond) inherent in an aromatic ring (including an aromatic heterocycle) is partially hydrogenated, The tetrahydro form means a structure in which two carbon-carbon double bonds (or carbon-nitrogen double bonds) are hydrogenated, and the hexahydro form means three carbon-carbon double bonds (or carbon-nitrogen double bonds). (Bond) means a hydrogenated structure, and the octahydro form means a structure in which four carbon-carbon double bonds (or carbon-nitrogen double bonds) are hydrogenated. By being hydrogenated, the aromatic ring becomes a partially hydrogenated non-aromatic ring structure.
具体的には、単環の5員環の場合の例としてはピロール環、イミダゾール環、チアゾール環、ピラゾール環、オキサゾール環等の芳香族環のテトラヒドロ体に相当する、ピロリジン環、イミダゾリジン環、チアゾリジン環、ピラゾリジン環およびオキサゾリジン環等が挙げられる。6員環の単環の場合の例としてはピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環等の芳香族環のテトラヒドロ体もしくはヘキサヒドロ体が挙げられ、例えばピペリジン環、テトラヒドロピリジン環、テトラヒドロピリミジン環、ピペラジン環等が挙げられる。6員環の縮合環の場合の例としてはナフタレン環、キノリン環、イソキノリン環、キナゾリン環、キノキサリン環等の芳香族環のテトラヒドロ体に相当する、テトラリン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環、テトラヒドロキナゾリン環、およびテトラヒドロキノキサリン環等が挙げられる。3環性化合物の場合の例としてはカルバゾール環のテトラヒドロ体のテトラヒドロカルバゾール環やフェナントリジン環のオクタヒドロ体であるオクタヒドロフェナントリジン環等が挙げられる。 Specifically, as an example of a monocyclic 5-membered ring, a pyrrolidine ring, an imidazolidine ring, which corresponds to a tetrahydro form of an aromatic ring such as a pyrrole ring, an imidazole ring, a thiazole ring, a pyrazole ring, or an oxazole ring, Examples include a thiazolidine ring, a pyrazolidine ring, an oxazolidine ring, and the like. Examples of 6-membered monocycles include tetrahydro or hexahydro forms of aromatic rings such as pyridine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring, such as piperidine ring, tetrahydropyridine ring, tetrahydropyrimidine ring, And piperazine ring. Examples of 6-membered condensed rings include tetrahydro rings, tetrahydroquinoline rings, tetrahydroisoquinoline rings, tetrahydroisoquinoline rings, quinoline rings, isoquinoline rings, quinazoline rings, quinazoline rings, and other aromatic ring tetrahydro compounds. Examples thereof include a quinazoline ring and a tetrahydroquinoxaline ring. Examples of the tricyclic compound include a tetrahydrocarbazole ring of a tetrahydro form of a carbazole ring and an octahydrophenanthridine ring which is an octahydro form of a phenanthridine ring.
これらの環構造はさらに置換されていてもよく、その置換基の例としてはRED11が有していてもよい置換基について説明したものと同じものが挙げられる。これらの環構造の置換基どおしがさらに連結して環を形成していてもよく、ここに新たに形成される環は非芳香族の炭素環またはヘテロ環である。 These ring structures may be further substituted, and examples of the substituent include the same as those described for the substituent that RED 11 may have. The substituents of these ring structures may be further connected to form a ring, and the newly formed ring is a non-aromatic carbocycle or heterocycle.
次に本発明の一般式(1−1)で表される化合物の好ましい範囲を説明する。
一般式(1−1)においてL11は、好ましくはカルボキシ基またはその塩である。塩のカウンターイオンとして好ましくはアルカリ金属イオンまたはアンモニウムイオンであり、アルカリ金属イオン(特にLi+、Na+、K+イオン)が最も好ましい。
Next, the preferable range of the compound represented by the general formula (1-1) of the present invention will be described.
In the general formula (1-1), L 11 is preferably a carboxy group or a salt thereof. The salt counter ions are preferably alkali metal ions or ammonium ions, and alkali metal ions (particularly Li + , Na + , K + ions) are most preferred.
一般式(1−1)においてRED11は、好ましくはアルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、アリール基、芳香族または非芳香族のヘテロ環基であり、このうちヘテロ環基に関してはテトラヒドロキノリニル基、テトラヒドロキノキサリニル基、テトラヒドロキナゾリニル基、インドリル基、インドレニル基、カルバゾリル基、フェノキサジニル基、フェノチアジニル基、ベンゾチアゾリニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、チアゾリジニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾイミダゾリニル基、3,4-メチレンジオキシフェニル-1-イル基などが好ましい。さらに好ましくはアリールアミノ基(特にアニリノ基)、アリール基(特にフェニル基)である。 In the general formula (1-1), RED 11 is preferably an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic amino group, an aryl group, an aromatic or non-aromatic heterocyclic group. Tetrahydroquinolinyl group, tetrahydroquinoxalinyl group, tetrahydroquinazolinyl group, indolyl group, indolenyl group, carbazolyl group, phenoxazinyl group, phenothiazinyl group, benzothiazolinyl group, pyrrolyl group, imidazolyl group, thiazolidinyl group, A benzoimidazolyl group, a benzoimidazolinyl group, a 3,4-methylenedioxyphenyl-1-yl group and the like are preferable. More preferred are an arylamino group (particularly anilino group) and an aryl group (particularly a phenyl group).
ここでRED11がアリール基を表す時、アリール基は少なくとも1つの電子供与性基(電子供与性基の数は、好ましくは4つ以下であり、より好ましくは1〜3つ)を有していることが好ましい。ここに電子供与性基とは即ち、ヒドロキシ基、アルコキシ基、メルカプト基、スルホンアミド基、アシルアミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、活性メチン基、電子過剰な芳香族ヘテロ環基(例えばインドリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ベンズイミダゾリル基、チアゾリル基、ベンズチアゾリル基、インダゾリル基など)、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基(ピロリジニル基、インドリニル基、ピペリジニル基、ピペラジニル基、モルホリノ基など)である。ここで活性メチン基とは2つの電子求引性基で置換されたメチン基を意味し、ここに電子求引性基とはアシル基、アルコシキカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基、イミノ基を意味する。ここで2つの電子求引性基は互いに結合して環状構造をとっていてもよい。 Here, when RED 11 represents an aryl group, the aryl group has at least one electron-donating group (the number of electron-donating groups is preferably 4 or less, more preferably 1 to 3). Preferably it is. Here, the electron donating group means a hydroxy group, an alkoxy group, a mercapto group, a sulfonamide group, an acylamino group, an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic amino group, an active methine group, an electron-rich aromatic heterocyclic ring. A group (for example, indolyl group, pyrrolyl group, imidazolyl group, benzimidazolyl group, thiazolyl group, benzthiazolyl group, indazolyl group, etc.), a non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group substituted with a nitrogen atom (pyrrolidinyl group, indolinyl group, piperidinyl group, A piperazinyl group, a morpholino group, etc.). Here, the active methine group means a methine group substituted with two electron-withdrawing groups, and the electron-withdrawing group means an acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, alkyl group. A sulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfamoyl group, a trifluoromethyl group, a cyano group, a nitro group, and an imino group are meant. Here, the two electron withdrawing groups may be bonded to each other to form a cyclic structure.
RED11がアリール基を表す時、そのアリール基の置換基としてより好ましくはアルキルアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、メルカプト基、スルホンアミド基、活性メチン基、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基であり、さらに好ましくはアルキルアミノ基、ヒドロキシ基、活性メチン基、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基であり、最も好ましくはアルキルアミノ基、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基である。 When RED 11 represents an aryl group, the substituent of the aryl group is more preferably an alkylamino group, a hydroxy group, an alkoxy group, a mercapto group, a sulfonamide group, an active methine group, a non-aromatic nitrogen-containing group that is substituted with a nitrogen atom A heterocyclic group, more preferably an alkylamino group, a hydroxy group, an active methine group, and a non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group substituted with a nitrogen atom, most preferably an alkylamino group and a non-aromatic group substituted with a nitrogen atom Group nitrogen-containing heterocyclic group.
一般式(1−1)においてR112は好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基(フェニル基など)、アルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基、ベンジルオキシ基など)、ヒドロキシ基、アルキルチオ基(メチルチオ基、ブチルチオ基など)、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、フェニル基、アルキルアミノ基である。 In the general formula (1-1), R 112 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group (such as a phenyl group), an alkoxy group (such as a methoxy group, an ethoxy group, or a benzyloxy group), a hydroxy group, an alkylthio group (a methylthio group). , A butylthio group and the like), an amino group, an alkylamino group, an arylamino group, and a heterocyclic amino group, and more preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a phenyl group, and an alkylamino group.
一般式(1−1)においてR111は好ましくは、炭素原子(C)およびRED11と共に、以下の特定の5員もしくは6員の環状構造を形成し得る非金属原子団である。即ち、単環の5員環の芳香族環であるピロール環、イミダゾール環のテトラヒドロ体に相当するピロリジン環、イミダゾリジン環など。単環の6員環の芳香族環であるピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環のテトラヒドロ体もしくはヘキサヒドロ体。例えば、ピペリジン環、テトラヒドロピリジン環、テトラヒドロピリミジン環、ピペラジン環など。縮合環の6員環の芳香族環であるナフタレン環、キノリン環、イソキノリン環、キナゾリン環、キノキサリン環のテトラヒドロ体に相当する、テトラリン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環、テトラヒドロキナゾリン環,およびテトラヒドロキノキサリン環など。3環性の芳香族環であるカルバゾール環のテトラヒドロ体であるテトラヒドロカルバゾール環や、フェナントリジン環のオクタヒドロ体であるオクタヒドロフェナントリジン環などが挙げられる。 In the general formula (1-1), R 111 is preferably a nonmetallic atomic group capable of forming the following specific 5-membered or 6-membered cyclic structure together with the carbon atom (C) and RED 11 . That is, a pyrrole ring, which is a monocyclic 5-membered aromatic ring, a pyrrolidine ring corresponding to a tetrahydro form of an imidazole ring, an imidazolidine ring, and the like. A tetrahydro or hexahydro form of a pyridine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring, which is a monocyclic 6-membered aromatic ring. For example, piperidine ring, tetrahydropyridine ring, tetrahydropyrimidine ring, piperazine ring and the like. Corresponding to the tetrahydro form of the condensed 6-membered aromatic rings naphthalene ring, quinoline ring, isoquinoline ring, quinazoline ring, quinoxaline ring, tetralin ring, tetrahydroquinoline ring, tetrahydroisoquinoline ring, tetrahydroquinazoline ring, and tetrahydro Quinoxaline ring etc. Examples thereof include a tetrahydrocarbazole ring which is a tetrahydro form of a carbazole ring which is a tricyclic aromatic ring and an octahydrophenanthridine ring which is an octahydro form of a phenanthridine ring.
R111が形成する環状構造としてさらに好ましくは、ピロリジン環、イミダゾリジン環、ピペリジン環、テトラヒドロピリジン環、テトラヒドロピリミジン環、ピペラジン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロキナゾリン環、テトラヒドロキノキサリン環、テトラヒドロカルバゾール環であり、特に好ましくは、ピロリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロキナゾリン環、テトラヒドロキノキサリン環、テトラヒドロカルバゾール環であり、最も好ましくはピロリジン環、ピペリジン環、テトラヒドロキノリン環である。 More preferably, the cyclic structure formed by R 111 is a pyrrolidine ring, an imidazolidine ring, a piperidine ring, a tetrahydropyridine ring, a tetrahydropyrimidine ring, a piperazine ring, a tetrahydroquinoline ring, a tetrahydroquinazoline ring, a tetrahydroquinoxaline ring, or a tetrahydrocarbazole ring. Particularly preferred are pyrrolidine ring, piperidine ring, piperazine ring, tetrahydroquinoline ring, tetrahydroquinazoline ring, tetrahydroquinoxaline ring and tetrahydrocarbazole ring, and most preferred are pyrrolidine ring, piperidine ring and tetrahydroquinoline ring.
次に一般式(1−2)について詳しく説明する。
一般式(1−2)においてRED12、L12は、それぞれ一般式(1−1)のRED11、L11に同義の基であり、その好ましい範囲もまた同じである。但し、RED12は下記の環状構造を形成する場合以外は1価基であり、具体的にはRED11で記載した1価基名の基が挙げられる。R121およびR122は一般式(1−1)のR112に同義の基であり、その好ましい範囲もまた同じである。ED12は電子供与性基を表す。R121とRED12、R121とR122、またはED12とRED12とは、互いに結合して環状構造を形成していてもよい。
Next, the general formula (1-2) will be described in detail.
In the general formula (1-2), RED 12 and L 12 are groups having the same meanings as RED 11 and L 11 in the general formula (1-1), respectively, and preferred ranges thereof are also the same. However, RED 12 is a monovalent group except for the case where the following cyclic structure is formed, and specific examples include groups having the monovalent group name described in RED 11 . R 121 and R 122 are groups having the same meaning as R 112 in the general formula (1-1), and preferred ranges thereof are also the same. ED 12 represents an electron donating group. R 121 and RED 12 , R 121 and R 122 , or ED 12 and RED 12 may be bonded to each other to form a cyclic structure.
一般式(1−2)においてED12で表される電子供与性基とは、ヒドロキシ基、アルコキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルホンアミド基、アシルアミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、活性メチン基、電子過剰な芳香族ヘテロ環基(例えばインドリル基、ピロリル基、インダゾリル基)、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基(ピロリジニル基、ピペリジニル基、インドリニル基、ピペラジニル基、モルホリノ基など)、およびこれら電子供与性基で置換されたアリール基(例えばp-ヒドロキシフェニル基、p-ジアルキルアミノフェニル基、o,p-ジアルコキシフェニル基、4-ヒドロキシナフチル基など)である。ここで活性メチン基とは、RED11がアリール基を表すときの置換基として説明したものに同じである。 The electron donating group represented by ED 12 in the general formula (1-2) is a hydroxy group, an alkoxy group, a mercapto group, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, a sulfonamide group, an acylamino group, an alkylamino group. Group, arylamino group, heterocyclic amino group, active methine group, electron-rich aromatic heterocyclic group (for example, indolyl group, pyrrolyl group, indazolyl group), non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group substituted with nitrogen atom (pyrrolidinyl) Groups, piperidinyl groups, indolinyl groups, piperazinyl groups, morpholino groups, etc.), and aryl groups substituted with these electron donating groups (for example, p-hydroxyphenyl group, p-dialkylaminophenyl group, o, p-dialkoxyphenyl) Group, 4-hydroxynaphthyl group, etc.). Here, the active methine group is the same as that described as the substituent when RED 11 represents an aryl group.
ED12として好ましくはヒドロキシ基、アルコキシ基、メルカプト基、スルホンアミド基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、活性メチン基、電子過剰な芳香族ヘテロ環基、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基、およびこれら電子供与性基で置換されたフェニル基であり、さらにヒドロキシ基、メルカプト基、スルホンアミド基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、活性メチン基、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基、およびこれら電子供与性基で置換されたフェニル基(例えばp-ヒドロキシフェニル基、p-ジアルキルアミノフェニル基、o,p-ジアルコキシフェニル基等)が好ましい。 ED 12 is preferably a hydroxy group, an alkoxy group, a mercapto group, a sulfonamide group, an alkylamino group, an arylamino group, an active methine group, an electron-rich aromatic heterocyclic group, or a non-aromatic nitrogen-containing heterocycle substituted with a nitrogen atom. A cyclic group, and a phenyl group substituted with these electron-donating groups, and further includes a hydroxy group, a mercapto group, a sulfonamide group, an alkylamino group, an arylamino group, an active methine group, and a non-aromatic group substituted with a nitrogen atom. A nitrogen heterocyclic group and a phenyl group substituted with these electron donating groups (for example, p-hydroxyphenyl group, p-dialkylaminophenyl group, o, p-dialkoxyphenyl group, etc.) are preferable.
一般式(1−2)においてR122とRED12、R122とR121、またはED12とRED12とは、互いに結合して環状構造を形成していてもよい。ここで形成される環状構造とは、非芳香族の炭素環もしくはヘテロ環であって、5員〜7員環の単環または縮合環で、置換もしくは無置換の環状構造である。 In the general formula (1-2), R 122 and RED 12 , R 122 and R 121 , or ED 12 and RED 12 may be bonded to each other to form a cyclic structure. The cyclic structure formed here is a non-aromatic carbocyclic or heterocyclic ring, which is a 5-membered to 7-membered monocyclic or condensed ring, and is a substituted or unsubstituted cyclic structure.
R122とRED12とが環構造を形成するとき、その具体例としてはピロリジン環、ピロリン環、イミダゾリジン環、イミダゾリン環、チアゾリジン環、チアゾリン環、ピラゾリジン環、ピラゾリン環、オキサゾリジン環、オキサゾリン環、インダン環、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環、テトラヒドロピリジン環、テトラヒドロピリミジン環、インドリン環、テトラリン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環、テトラヒドロキノキサリン環、テトラヒドロ-1,4-オキサジン環、2,3-ジヒドロベンゾ-1,4-オキサジン環、テトラヒドロ-1,4-チアジン環、2,3-ジヒドロベンゾ-1,4-チアジン環、2,3-ジヒドロベンゾフラン環、2,3-ジヒドロベンゾチオフェン環等が挙げられる。 When R 122 and RED 12 form a ring structure, specific examples thereof include pyrrolidine ring, pyrroline ring, imidazolidine ring, imidazoline ring, thiazolidine ring, thiazoline ring, pyrazolidine ring, pyrazoline ring, oxazolidine ring, oxazoline ring, Indane ring, piperidine ring, piperazine ring, morpholine ring, tetrahydropyridine ring, tetrahydropyrimidine ring, indoline ring, tetralin ring, tetrahydroquinoline ring, tetrahydroisoquinoline ring, tetrahydroquinoxaline ring, tetrahydro-1,4-oxazine ring, 2,3 -Dihydrobenzo-1,4-oxazine ring, tetrahydro-1,4-thiazine ring, 2,3-dihydrobenzo-1,4-thiazine ring, 2,3-dihydrobenzofuran ring, 2,3-dihydrobenzothiophene ring Etc.
ED12とRED12とが環構造を形成するとき、ED12は好ましくはアミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基を表し、形成される環構造の具体例としては、テトラヒドロピラジン環、ピペラジン環、テトラヒドロキノキサリン環、テトラヒドロイソキノリン環などが挙げられる。 When ED 12 and RED 12 form a ring structure, ED 12 preferably represents an amino group, an alkylamino group, or an arylamino group, and specific examples of the formed ring structure include a tetrahydropyrazine ring, a piperazine ring, A tetrahydroquinoxaline ring, a tetrahydroisoquinoline ring, etc. are mentioned.
R122とR121とが環構造を形成するとき、その具体例としてはシクロヘキサン環、シクロペンタン環などが挙げられる。 When R 122 and R 121 form a ring structure, specific examples thereof include a cyclohexane ring and a cyclopentane ring.
本発明の一般式(1−1)で表される化合物のうちさらに好ましいものは、以下の一般式(10)〜(12)で、また一般式(1−2)で表される化合物のうちさらに好ましいものは、以下の一般式(13)および(14)で表される。
一般式(10)〜(14)において、L100、L101、L102、L103、L104は一般式(1−1)のL11に同義の基であり、その好ましい範囲もまた同じである。R1100とR1101、R1110とR1111、R1120とR1121、R1130とR1131、R1140とR1141は、それぞれ一般式(1−2)のR121とR122に同義の基であり、その好ましい範囲もまた同じである。ED13、ED14はそれぞれ一般式(1−2)のED12と同義の基を表し、その好ましい範囲もまた同じである。 In the general formulas (10) to (14), L 100 , L 101 , L 102 , L 103 , and L 104 are groups having the same meaning as L 11 in the general formula (1-1), and preferred ranges thereof are also the same. is there. R 1100 and R 1101 , R 1110 and R 1111 , R 1120 and R 1121 , R 1130 and R 1131 , R 1140 and R 1141 are groups having the same meaning as R 121 and R 122 in the general formula (1-2), respectively. The preferred range is also the same. ED 13 and ED 14 each represent a group having the same meaning as ED 12 of the general formula (1-2), and preferred ranges thereof are also the same.
X10、X11、X12、X13、X14はそれぞれベンゼン環に置換可能な置換基を表し、m10、m11、m12、m13、m14はそれぞれ0〜3の整数を表し、これらが複数の時、複数のX10、X11、X12、X13、X14は同じでも異なっていてもよい。Y12およびY14はアミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、窒素原子で置換する非芳香族の含窒素ヘテロ環基(ピロリル基、ピペリジニル基、インドリニル基、ピペラジノ基、モルホリノ基など)、ヒドロキシ基、アルコキシ基を表す。 X 10 , X 11 , X 12 , X 13 , and X 14 each represent a substituent that can be substituted on the benzene ring, and m 10 , m 11 , m 12 , m 13 , and m 14 each represent an integer of 0 to 3. When there are a plurality of these, the plurality of X 10 , X 11 , X 12 , X 13 and X 14 may be the same or different. Y 12 and Y 14 are amino group, alkylamino group, arylamino group, non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group substituted with nitrogen atom (pyrrolyl group, piperidinyl group, indolinyl group, piperazino group, morpholino group, etc.), hydroxy Group represents an alkoxy group.
Z10、Z11、Z12は、特定の環構造を形成しうる非金属原子団を表す。Z10が形成する特定の環構造とは、5員または6員の、単環もしくは縮合環の、含窒素芳香族ヘテロ環のテトラヒドロ体もしくはヘキサヒドロ体にあたる環構造で、具体的にはピロリジン環、イミダゾリジン環、チアゾリジン環、ピラゾリジン環、ピペリジン環、テトラヒドロピリジン環、テトラヒドロピリミジン環、ピペラジン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環、テトラヒドロキナゾリン環、テトラヒドロキノキサリン環、などが例として挙げられる。Z11が形成する特定の環構造とは、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロキノキサリン環である。Z12が形成する特定の環構造とは、テトラリン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環である。 Z 10 , Z 11 , and Z 12 represent nonmetallic atomic groups that can form a specific ring structure. The specific ring structure formed by Z 10 is a ring structure corresponding to a tetrahydro or hexahydro form of a 5-membered or 6-membered monocyclic or condensed ring nitrogen-containing aromatic heterocycle, specifically, a pyrrolidine ring, Examples include imidazolidine ring, thiazolidine ring, pyrazolidine ring, piperidine ring, tetrahydropyridine ring, tetrahydropyrimidine ring, piperazine ring, tetrahydroquinoline ring, tetrahydroisoquinoline ring, tetrahydroquinazoline ring, tetrahydroquinoxaline ring and the like. The specific ring structure formed by Z 11 is a tetrahydroquinoline ring or a tetrahydroquinoxaline ring. The specific ring structure formed by Z 12 is a tetralin ring, a tetrahydroquinoline ring, or a tetrahydroisoquinoline ring.
RN11、RN13はそれぞれ水素原子、または窒素原子に置換可能な置換基である。置換基としては具体的に、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、アシル基であり、好ましくはアルキル基、アリール基である。 R N11 and R N13 are each a hydrogen atom or a substituent that can be substituted with a nitrogen atom. Specific examples of the substituent include an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, and an acyl group, preferably an alkyl group and an aryl group.
X10、X11、X12、X13、X14で表されるベンゼン環に置換可能な置換基としては、一般式(1−1)のRED11が有していてもよい置換基の例と同じものが具体例として挙げられる。好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、複素環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、シアノ基、アルコキシ基(エチレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基単位を繰り返し含む基を含む)、(アルキル,アリール,またはヘテロ環)アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、イミド基、(アルコキシもしくはアリールオキシ)カルボニルアミノ基、ニトロ基、(アルキル,アリール,またはヘテロ環)チオ基、(アルキルまたはアリール)スルホニル基、スルファモイル基等である。 Examples of the substituent that can be substituted on the benzene ring represented by X 10 , X 11 , X 12 , X 13 , and X 14 are examples of the substituent that RED 11 of the general formula (1-1) may have. The same thing as is given as a specific example. Preferably, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, a cyano group, an alkoxy group (a group repeatedly containing an ethyleneoxy group or a propyleneoxy group unit). (Including), (alkyl, aryl, or heterocyclic) amino group, acylamino group, sulfonamide group, ureido group, thioureido group, imide group, (alkoxy or aryloxy) carbonylamino group, nitro group, (alkyl, aryl, or Heterocycle) thio group, (alkyl or aryl) sulfonyl group, sulfamoyl group and the like.
m10、m11、m12、m13、m14は好ましくは0〜2であり、さらに好ましくは0または1である。 m 10 , m 11 , m 12 , m 13 and m 14 are preferably 0 to 2, more preferably 0 or 1.
Y12およびY14は好ましくはアルキルアミノ基、アリールアミノ基、窒素原子で置換する非芳香族の含窒素ヘテロ環基、ヒドロキシ基、アルコキシ基であり、さらに好ましくはアルキルアミノ基、窒素原子で置換する5〜6員の非芳香族含窒素ヘテロ環基、ヒドロキシ基であり、最も好ましくはアルキルアミノ基(特にジアルキルアミノ基)または窒素原子で置換する5〜6員の非芳香族含窒素ヘテロ環基である。 Y 12 and Y 14 are preferably an alkylamino group, an arylamino group, a non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group substituted with a nitrogen atom, a hydroxy group or an alkoxy group, more preferably an alkylamino group or a nitrogen atom. A 5- to 6-membered non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group, which is a hydroxy group, most preferably an alkylamino group (particularly a dialkylamino group) or a nitrogen atom. It is a group.
一般式(13)においてR1131とX13、R1131とRN13、R1130とX13、またはR1130とRN13とが結合して、環状構造を形成していてもよい。また一般式(14)においてR1141とX14、R1141とR1140、ED14とX14、またはR1140とX14とが結合して、環状構造を形成していてもよい。ここで形成される環状構造とは、非芳香族の炭素環もしくはヘテロ環であって、5員〜7員環の単環または縮合環で、置換もしくは無置換の環状構造である。 In the general formula (13), R 1131 and X 13 , R 1131 and R N13 , R 1130 and X 13 , or R 1130 and R N13 may be bonded to form a cyclic structure. In the general formula (14), R 1141 and X 14 , R 1141 and R 1140 , ED 14 and X 14 , or R 1140 and X 14 may be bonded to form a cyclic structure. The cyclic structure formed here is a non-aromatic carbocyclic or heterocyclic ring, which is a 5-membered to 7-membered monocyclic or condensed ring, and is a substituted or unsubstituted cyclic structure.
一般式(13)においてR1131とX13とが結合して環状構造を形成する場合、およびR1131とRN13とが結合して環状構造を形成する場合は、環構造を形成しない場合と同様に、一般式(13)で表される化合物の好ましい例である。 In the general formula (13), when R 1131 and X 13 are bonded to form a cyclic structure, and R 1131 and RN 13 are bonded to form a cyclic structure, the same as when no ring structure is formed. Further, preferred examples of the compound represented by the general formula (13).
一般式(13)においてR1131とX13とで形成される環構造としては具体的に、インドリン環(この場合、R1131は単結合を表すことになる)、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロキノキサリン環、2,3-ジヒドロベンゾ-1,4-オキサジン環、2,3-ジヒドロベンゾ-1,4-チアジン環、などが挙げられる。特に好ましくはインドリン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロキノキサリン環である。 Specific examples of the ring structure formed by R 1131 and X 13 in the general formula (13) include an indoline ring (in this case, R 1131 represents a single bond), a tetrahydroquinoline ring, a tetrahydroquinoxaline ring, Examples include 2,3-dihydrobenzo-1,4-oxazine ring, 2,3-dihydrobenzo-1,4-thiazine ring, and the like. Particularly preferred are an indoline ring, a tetrahydroquinoline ring and a tetrahydroquinoxaline ring.
一般式(13)においてR1131とRN13とで形成される環構造としては具体的に、ピロリジン環、ピロリン環、イミダゾリジン環、イミダゾリン環、チアゾリジン環、チアゾリン環、ピラゾリジン環、ピラゾリン環、オキサゾリジン環、オキサゾリン環、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環、テトラヒドロピリジン環、テトラヒドロピリミジン環、インドリン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環、テトラヒドロキノキサリン環、テトラヒドロ-1,4-オキサジン環、2,3-ジヒドロベンゾ-1,4-オキサジン環、テトラヒドロ-1,4-チアジン環、2,3-ジヒドロベンゾ-1,4-チアジン環、2,3-ジヒドロベンゾフラン環、2,3-ジヒドロベンゾチオフェン環、等が挙げられる。特に好ましくはピロリジン環、ピペリジン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロキノキサリン環である。 Specific examples of the ring structure formed by R 1131 and R N13 in the general formula (13) include pyrrolidine ring, pyrroline ring, imidazolidine ring, imidazoline ring, thiazolidine ring, thiazoline ring, pyrazolidine ring, pyrazoline ring, oxazolidine Ring, oxazoline ring, piperidine ring, piperazine ring, morpholine ring, tetrahydropyridine ring, tetrahydropyrimidine ring, indoline ring, tetrahydroquinoline ring, tetrahydroisoquinoline ring, tetrahydroquinoxaline ring, tetrahydro-1,4-oxazine ring, 2,3- Dihydrobenzo-1,4-oxazine ring, tetrahydro-1,4-thiazine ring, 2,3-dihydrobenzo-1,4-thiazine ring, 2,3-dihydrobenzofuran ring, 2,3-dihydrobenzothiophene ring, Etc. Particularly preferred are pyrrolidine ring, piperidine ring, tetrahydroquinoline ring and tetrahydroquinoxaline ring.
一般式(14)においてR1141とX14とが結合して環状構造を形成する場合、およびED14とX14とが結合して環状構造を形成する場合は、環構造を形成しない場合と同様に、一般式(14)で表される化合物の好ましい例である。一般式(14)においてR1141とX14とが結合して形成する環状構造としては、インダン環、テトラリン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環、インドリン環などが挙げられる。ED14とX14とが結合して形成する環状構造としては、テトラヒドロイソキノリン環、テトラヒドロシンノリン環などが挙げられる。 In the general formula (14), when R 1141 and X 14 are combined to form a cyclic structure, and when ED 14 and X 14 are combined to form a cyclic structure, the same as when no ring structure is formed Further, preferred examples of the compound represented by the general formula (14). Examples of the cyclic structure formed by combining R 1141 and X 14 in the general formula (14) include an indane ring, a tetralin ring, a tetrahydroquinoline ring, a tetrahydroisoquinoline ring, and an indoline ring. Examples of the cyclic structure formed by combining ED 14 and X 14 include a tetrahydroisoquinoline ring and a tetrahydrocinnoline ring.
次にタイプ2の化合物について説明する。
タイプ2の化合物は1電子酸化されて1電子酸化体となった後に、初めて炭素−炭素結合開裂反応を伴なってさらにもう1電子を放出し、言いかえればさらに1電子酸化され得る化合物である。ここに結合開裂反応とは炭素−炭素結合の開裂を意味し、炭素−水素結合の開裂がこれに付随してもよい。
Next, the type 2 compound will be described.
A compound of type 2 is a compound that can be oxidized one more electron for the first time after one-electron oxidation to form a one-electron oxidant, accompanied by a carbon-carbon bond cleavage reaction. . Here, the bond cleavage reaction means the cleavage of a carbon-carbon bond, and the cleavage of a carbon-hydrogen bond may accompany this.
タイプ2の化合物のうち好ましい化合物は一般式(2)で表されるが、ここにRED2で表される還元性基が1電子酸化された後、自発的にL2を結合開裂反応により離脱することで、即ちC(炭素原子)−L2結合が開裂することで、これに伴いさらに電子を1つ放出し得る化合物である。 A preferred compound of type 2 is represented by the general formula (2). Here, after the reducing group represented by RED 2 is oxidized by one electron, L 2 spontaneously leaves by bond cleavage reaction. In other words, it is a compound capable of releasing one more electron in association with the cleavage of the C (carbon atom) -L 2 bond.
但しタイプ2の化合物は分子内にハロゲン化銀への吸着性基を2つ以上(好ましくは2〜6つ、より好ましくは2〜4つ)有する化合物である。より好ましくは2つ以上のメルカプト基で置換された含窒素ヘテロ環基を吸着性基として有する化合物である。吸着性基については後述する。 However, the type 2 compound is a compound having 2 or more (preferably 2 to 6, more preferably 2 to 4) adsorptive groups to silver halide in the molecule. More preferred is a compound having a nitrogen-containing heterocyclic group substituted with two or more mercapto groups as an adsorptive group. The adsorptive group will be described later.
一般式(2)においてRED2は一般式(1−2)のRED12と同義の基を表し、その好ましい範囲も同じである。L2はカルボキシ基またはその塩を表し、塩を形成するカウンターイオンについては一般式(1−1)のL11について説明したのと同じであり、その好ましい範囲も同じである。R21、R22は水素原子または置換基を表し、これらは一般式(1−1)のR112と同義の基であり、その好ましい範囲も同じである。RED2とR21とは互いに結合して環構造を形成していてもよい。 In the general formula (2), RED 2 represents a group having the same meaning as RED 12 in the general formula (1-2), and the preferred range thereof is also the same. L 2 represents a carboxy group or a salt thereof, and the counter ion forming the salt is the same as described for L 11 in the general formula (1-1), and the preferred range is also the same. R 21 and R 22 represent a hydrogen atom or a substituent, and these are groups having the same meaning as R 112 in the general formula (1-1), and their preferred ranges are also the same. RED 2 and R 21 may be bonded to each other to form a ring structure.
ここで形成される環構造とは、非芳香族の5〜7員の炭素環またはヘテロ環で、単環であっても縮合環であってもよく、置換基を有していてもよい。環構造の具体例としては、例えばインドリン環、2,3−ジヒドロベンゾチオフェン環、2,3−ジヒドロベンゾフラン環、1,2−ジヒドロピリジン環、1,4−ジヒドロピリジン環、ベンゾ−α−ピラン環、ベンゾチアゾリン環、ベンゾオキサゾリン環、ベンゾイミダゾリン環、1,2−ジヒドロキノリン環、1,2−ジヒドロキナゾリン環、1,2−ジヒドロキノキサリン環、クロマン環、イソクロマン環などが挙げられる。好ましくは、インドリン環、2,3−ジヒドロベンゾチオフェン環、1,2−ジヒドロピリジン環、ベンゾチアゾリン環、ベンゾオキサゾリン環、ベンゾイミダゾリン環、1,2−ジヒドロキノリン環、1,2−ジヒドロキナゾリン環、1,2−ジヒドロキノキサリン環などが挙げられ、インドリン環、ベンゾチアゾリン環、ベンゾイミダゾリン環、1,2−ジヒドロキノリン環がより好ましく、インドリン環が特に好ましい。 The ring structure formed here is a non-aromatic 5- to 7-membered carbocyclic or heterocyclic ring, which may be a single ring or a condensed ring, and may have a substituent. Specific examples of the ring structure include, for example, indoline ring, 2,3-dihydrobenzothiophene ring, 2,3-dihydrobenzofuran ring, 1,2-dihydropyridine ring, 1,4-dihydropyridine ring, benzo-α-pyran ring, Examples include a benzothiazoline ring, a benzoxazoline ring, a benzimidazoline ring, a 1,2-dihydroquinoline ring, a 1,2-dihydroquinazoline ring, a 1,2-dihydroquinoxaline ring, a chroman ring, and an isochroman ring. Preferably, an indoline ring, 2,3-dihydrobenzothiophene ring, 1,2-dihydropyridine ring, benzothiazoline ring, benzoxazoline ring, benzimidazoline ring, 1,2-dihydroquinoline ring, 1,2-dihydroquinazoline ring, 1,2-dihydroquinoxaline ring and the like. Indoline ring, benzothiazoline ring, benzimidazoline ring and 1,2-dihydroquinoline ring are more preferable, and indoline ring is particularly preferable.
次にタイプ3の化合物について説明する。
タイプ3の化合物は1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続く結合形成過程を経た後に、さらに1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得ることを特徴とする化合物であり、ここに結合形成過程とは炭素−炭素、炭素−窒素、炭素−硫黄、炭素−酸素などの原子間結合の形成を意味する。
Next, the compound of type 3 will be described.
A compound of type 3 is a compound characterized in that a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation can emit one or more electrons after passing through a subsequent bond formation process. The formation process means formation of interatomic bonds such as carbon-carbon, carbon-nitrogen, carbon-sulfur, and carbon-oxygen.
タイプ3の化合物は好ましくは、1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続いて分子内に共存する炭素−炭素2重結合部位または炭素−炭素3重結合部位と反応して結合を形成した後に、さらに1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得ることを特徴とする化合物である。 The compound of type 3 is preferably a one-electron oxidant formed by one-electron oxidation and subsequently reacts with a carbon-carbon double bond site or a carbon-carbon triple bond site present in the molecule to form a bond. After that, the compound is characterized in that it can further emit one electron or more electrons.
タイプ3の化合物が1電子酸化されて生成する1電子酸化体とはカチオンラジカル種であるが、そこからプロトンの脱離を伴って中性のラジカル種となる場合も在り得る。この1電子酸化体(カチオンラジカル種もしくはラジカル種)が、同じ分子内に共存する炭素−炭素2重結合部位または炭素−炭素3重結合部位に、一般に「付加環化反応」と呼ばれる形式の化学反応を起し、炭素−炭素、炭素−窒素、炭素−硫黄、炭素−酸素などの原子間結合を形成して、分子内に新たな環構造を形成する。その際同時に、もしくはその後に、さらに1電子もしくはそれ以上の電子が放出される点にタイプ3の化合物の特徴がある。 A one-electron oxidant produced by one-electron oxidation of a type 3 compound is a cation radical species, but it may be a neutral radical species with the elimination of protons therefrom. This one-electron oxidant (cation radical species or radical species) forms a chemistry generally called “cycloaddition reaction” at the carbon-carbon double bond site or carbon-carbon triple bond site that coexists in the same molecule. A reaction is caused to form an interatomic bond such as carbon-carbon, carbon-nitrogen, carbon-sulfur, carbon-oxygen, and a new ring structure is formed in the molecule. At this time, one or more electrons are emitted at the same time or after that, which is a characteristic of the type 3 compound.
さらに詳細に述べるとタイプ3の化合物は、1電子酸化された後にこの付加環化反応により新たに環構造を有するラジカル種を生成するが、このラジカル種から直接もしくはプロトンの脱離を伴って、さらに2電子目の電子が放出され、酸化される特徴を有している。 In more detail, the compound of type 3 generates a radical species having a new ring structure by this cycloaddition reaction after one-electron oxidation, but directly or with elimination of a proton from this radical species, Further, the second electron is emitted and oxidized.
タイプ3の化合物にはさらに、そうして生成した2電子酸化体がその後、ある場合には加水分解反応を受けた後に、またある場合には直接、プロトンの移動に伴なう互変異性化反応を起して、そこからさらに1電子以上、通常2電子以上の電子を放出し、酸化される能力を有しているものが含まれる。あるいはまたこうした互変異性化反応を経由せずに、直接その2電子酸化体から、さらに1電子以上、通常2電子以上の電子を放出し、酸化される能力を有しているものが含まれる。 Type 3 compounds further have tautomerization of the two-electron oxidant so produced, after undergoing a hydrolysis reaction in some cases and directly in some cases with proton transfer. Those having the ability to cause a reaction, further emit electrons of 1 electron or more, and usually 2 electrons or more therefrom, and be oxidized are included. Alternatively, those having the ability to emit one or more electrons, usually two or more electrons, from the two-electron oxidant directly without going through such a tautomerization reaction and to be oxidized are included. .
タイプ3の化合物は好ましくは、一般式(3)で表される。
一般式(3)においてRED3は、一般式(1−2)のRED12と同義の基を表す。
RED3として好ましくは、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、またはヒドロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、メチル基およびアミノ基からなる群から選択される基で置換されたアリール基もしくはヘテロ環基である。
The compound of type 3 is preferably represented by the general formula (3).
In the general formula (3), RED 3 represents a group having the same meaning as RED 12 in the general formula (1-2).
RED 3 is preferably an arylamino group, a heterocyclic amino group, or an aryl group or heterocyclic group substituted with a group selected from the group consisting of a hydroxy group, a mercapto group, an alkylthio group, a methyl group, and an amino group .
RED3がアリールアミノ基を表すとき、例えばアニリノ基、ナフチルアミノ基などが挙げられる。ヘテロ環アミノ基のヘテロ環は、芳香族または非芳香族の、単環または縮合環のヘテロ環であり、少なくとも一つの芳香族環を部分構造として含んでいるのが好ましい。ここで芳香族環を部分構造として含むとは、1)ヘテロ環自体が芳香族環である、2)ヘテロ環に芳香族環が縮環している、3)ヘテロ環に芳香族環が置換している、のいずれであってもよいが、1)または2)が好ましい。ここにアミノ基は該ヘテロ環に部分構造として含まれる芳香族環上に直接置換されている。該ヘテロ環としては例えばピロール環、インドール環、インドリン環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾイミダゾリン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾチアゾリン環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾオキサゾリン環、キノリン環、テトラヒドロキノリン環、キノキサリン環、テトラヒドロキノキサリン環、キナゾリン環、テトラヒドロキナゾリン環、ピリジン環、イソキノリン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、2,3−ジヒドロベンゾチオフェン環、フラン環、ベンゾフラン環、2,3−ジヒドロベンゾフラン環、カルバゾール環、フェノチアジン環、フェノキサジン環、フェナジン環等が挙げられる。 When RED 3 represents an arylamino group, examples include an anilino group and a naphthylamino group. The heterocyclic ring of the heterocyclic amino group is an aromatic or non-aromatic monocyclic or condensed heterocyclic ring, and preferably contains at least one aromatic ring as a partial structure. Here, including an aromatic ring as a partial structure means 1) the hetero ring itself is an aromatic ring, 2) the aromatic ring is condensed to the hetero ring, and 3) the aromatic ring is substituted for the hetero ring. However, 1) or 2) is preferable. Here, the amino group is directly substituted on the aromatic ring contained as a partial structure in the heterocycle. Examples of the heterocycle include a pyrrole ring, an indole ring, an indoline ring, an imidazole ring, a benzimidazole ring, a benzimidazoline ring, a thiazole ring, a benzothiazole ring, a benzothiazoline ring, an oxazole ring, a benzoxazole ring, a benzoxazoline ring, and a quinoline ring. , Tetrahydroquinoline ring, quinoxaline ring, tetrahydroquinoxaline ring, quinazoline ring, tetrahydroquinazoline ring, pyridine ring, isoquinoline ring, thiophene ring, benzothiophene ring, 2,3-dihydrobenzothiophene ring, furan ring, benzofuran ring, 2,3 -Dihydrobenzofuran ring, carbazole ring, phenothiazine ring, phenoxazine ring, phenazine ring and the like.
RED3がアリールアミノ基またはヘテロ環アミノ基を表すとき、ここにアリールアミノ基のアミノ基、およびヘテロ環アミノ基のアミノ基は、さらに任意の置換基で置換されていてもよく、この置換基によって、該アリール基または該ヘテロ環基とさらに環構造を形成していてもよい。この様な例としては、例えば、インドリン環、テトラヒドロキノリン環、カルバゾール環などが挙げられる。 When RED 3 represents an arylamino group or a heterocyclic amino group, the amino group of the arylamino group and the amino group of the heterocyclic amino group may be further substituted with an arbitrary substituent. May further form a ring structure with the aryl group or the heterocyclic group. Examples of such include an indoline ring, a tetrahydroquinoline ring, a carbazole ring, and the like.
RED3がヒドロキシ基、メルカプト基、メチル基、アルキルチオ基またはアミノ基などで置換されたアリール基またはヘテロ環基を表すとき、ここにアリール基とはフェニル基、ナフチル基などが挙げられ、ヘテロ環基のヘテロ環としては、「ヘテロ環アミノ基のヘテロ環」について説明したのと同じものが挙げられる。またここでメチル基は任意の置換基を有していてもよく、さらにこの置換基によってアリール基またはヘテロ環基と環構造を形成していてもよい。この様な環構造としては、例えばテトラリン環、インダン環などが挙げられる。一方アミノ基も、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基を置換基として有していてもよく、さらにこれら置換基によってアリール基またはヘテロ環基と環構造を形成していてもよい。この様な環構造としては、例えばテトラヒドロキノリン環、インドリン環、カルバゾール環等が挙げられる。 When RED 3 represents an aryl group or a heterocyclic group substituted with a hydroxy group, a mercapto group, a methyl group, an alkylthio group or an amino group, the aryl group includes a phenyl group, a naphthyl group, etc. Examples of the heterocyclic ring include the same groups as those described for the “heterocyclic heterocyclic group”. Here, the methyl group may have an arbitrary substituent, and this substituent may form a ring structure with the aryl group or heterocyclic group. Examples of such a ring structure include a tetralin ring and an indane ring. On the other hand, the amino group may have an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group as a substituent, and these substituents may form a ring structure with the aryl group or the heterocyclic group. Examples of such a ring structure include a tetrahydroquinoline ring, an indoline ring, and a carbazole ring.
RED3は、好ましくはアリールアミノ基、あるいはヒドロキシ基、メルカプト基、メチル基またはアミノ基で置換されたアリール基またはヘテロ環基であり、さらに好ましくはアリールアミノ基、あるいはメルカプト基、メチル基またはアミノ基で置換されたアリール基またはヘテロ環基である。RED3は特に好ましくはアリールアミノ基、あるいはメチル基またはアミノ基で置換されたアリール基またはヘテロ環基である。 RED 3 is preferably an arylamino group, or an aryl group or heterocyclic group substituted with a hydroxy group, mercapto group, methyl group or amino group, more preferably an arylamino group, mercapto group, methyl group or amino group. An aryl group or a heterocyclic group substituted with a group. RED 3 is particularly preferably an arylamino group, or an aryl group or heterocyclic group substituted with a methyl group or an amino group.
アリールアミノ基としてはアニリノ基、ナフチルアミノ基が好ましく、特にアニリノ基が好ましい。アニリノ基の置換基としては、クロル原子、アルキル基、アルコキシ基、アシルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、ウレイド基、スルホンアミド基、アルコシキカルボニル基、シアノ基、アルキルもしくはアリールスルホニル基、ヘテロ環基などが好ましい。 As the arylamino group, an anilino group and a naphthylamino group are preferable, and an anilino group is particularly preferable. Examples of the substituent of the anilino group include a chloro atom, an alkyl group, an alkoxy group, an acylamino group, a sulfamoyl group, a carbamoyl group, a ureido group, a sulfonamide group, an alkoxycarbonyl group, a cyano group, an alkyl or arylsulfonyl group, and a heterocyclic group. Etc. are preferable.
ヒドロキシ基で置換されたアリール基もしくはヘテロ環基として好ましくは、例えばヒドロキシフェニル基、5−ヒドロキシインドリン環基、6−ヒドロキシ−1,2,3,4−テトラヒドロキノリン環基などが挙げられ、中でもヒドロキシフェニル基が特に好ましい。 Preferred examples of the aryl group or heterocyclic group substituted with a hydroxy group include a hydroxyphenyl group, a 5-hydroxyindoline ring group, and a 6-hydroxy-1,2,3,4-tetrahydroquinoline ring group. A hydroxyphenyl group is particularly preferred.
メルカプト基で置換されたアリール基もしくはヘテロ環基として好ましくは、例えば、メルカプトフェニル基、5−メルカプトインドリン環基、6−メルカプト−1,2,3,4−テトラヒドロキノリン環基などが挙げられ、中でもメルカプトフェニル基が特に好ましい。 The aryl group or heterocyclic group substituted with a mercapto group is preferably a mercaptophenyl group, a 5-mercaptoindoline ring group, a 6-mercapto-1,2,3,4-tetrahydroquinoline ring group, and the like. Of these, a mercaptophenyl group is particularly preferred.
メチル基で置換されたアリール基もしくはヘテロ環基として好ましくは、例えばメチルフェニル基、エチルフェニル基、イソプロピルフェニル基、3−メチルインドール環基、3−イソプロピルインドール環基、5−メチルインドール環基、5−メチルインドリン環基、6−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロキノリン環基、6−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロキノキサリン環基等が挙げられる。 The aryl group or heterocyclic group substituted with a methyl group is preferably a methylphenyl group, an ethylphenyl group, an isopropylphenyl group, a 3-methylindole ring group, a 3-isopropylindole ring group, a 5-methylindole ring group, Examples include 5-methylindoline ring group, 6-methyl-1,2,3,4-tetrahydroquinoline ring group, 6-methyl-1,2,3,4-tetrahydroquinoxaline ring group and the like.
アミノ基で置換されたアリール基もしくはヘテロ環基として好ましくは、例えば、メチルアミノフェニル基、オクチルアミノフェニル基、ドデシルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、ベンジルアミノフェニル基、フェニルアミノフェニル基、メチルアミノナフチル基、5−メチルアミノテトラリン、1−ブチルアミノ−3,4−メチレンジオキシフェニル基、3−メチルアミノピロール環基、3−エチルアミノインドール環基、5−ベンジルアミノインドリン環基、2−アミノイミダゾール環基、2−メチルアミノチアゾール環基、6−フェニルアミノベンゾチアゾール環基などが挙げられる。これらのうちさらに好ましくはアルキルアミノ基またはフェニルアミノ基で置換されたフェニル基であり、特に好ましくはアルキルアミノ基で置換されたフェニル基である。 The aryl group or heterocyclic group substituted with an amino group is preferably, for example, methylaminophenyl group, octylaminophenyl group, dodecylaminophenyl group, dimethylaminophenyl group, benzylaminophenyl group, phenylaminophenyl group, methylamino Naphthyl group, 5-methylaminotetralin, 1-butylamino-3,4-methylenedioxyphenyl group, 3-methylaminopyrrole ring group, 3-ethylaminoindole ring group, 5-benzylaminoindoline ring group, 2- Examples thereof include an aminoimidazole ring group, a 2-methylaminothiazole ring group, and a 6-phenylaminobenzothiazole ring group. Of these, a phenyl group substituted with an alkylamino group or a phenylamino group is more preferred, and a phenyl group substituted with an alkylamino group is particularly preferred.
ヒドロキシ基、メルカプト基、メチル基またはアミノ基で置換されたアリール基またはヘテロ環基が有する置換基としては、クロル原子、アルキル基、アルコキシ基、アシルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、ウレイド基、スルホンアミド基、アルコシキカルボニル基、シアノ基、アルキルもしくはアリールスルホニル基、ヘテロ環基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基などが好ましい。 The aryl group or heterocyclic group substituted with a hydroxy group, mercapto group, methyl group or amino group includes chloro atom, alkyl group, alkoxy group, acylamino group, sulfamoyl group, carbamoyl group, ureido group, sulfone. Amide group, alkoxycarbonyl group, cyano group, alkyl or arylsulfonyl group, heterocyclic group, alkylamino group, arylamino group and the like are preferable.
一般式(3)においてY3で表される反応性基とは、具体的には炭素−炭素2重結合部位または炭素−炭素3重結合部位を少なくとも1つ含む有機基を表す。該炭素−炭素2重結合または炭素−炭素3重結合は置換基を有していてもよく、置換基としては、一般式(1−1)のRED11が有していてもよい置換基として説明したものと同じものが挙げられる。好ましくは、アルキル基、アリール基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アシル基、シアノ基、電子供与性基などである。ここに電子供与性基とは、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、スルホンアミド基、アシルアミノ基、活性メチン基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、およびこれらの基を置換基に有するアリール基である。ここで活性メチン基とは、2つの電子求引性基で置換されたメチン基を意味し、ここに電子求引性基とはアシル基、アルコシキカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基、イミノ基を意味する。ここで2つの電子求引性基は互いに結合して環状構造をとっていてもよい。 In the general formula (3), the reactive group represented by Y 3 specifically represents an organic group containing at least one carbon-carbon double bond site or carbon-carbon triple bond site. The carbon-carbon double bond or carbon-carbon triple bond may have a substituent, and as the substituent, the RED 11 of the general formula (1-1) may have a substituent. The same ones as described. Preferred are an alkyl group, an aryl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, an acyl group, a cyano group, and an electron donating group. Here, the electron donating group is an alkoxy group, hydroxy group, amino group, alkylamino group, arylamino group, heterocyclic amino group, sulfonamido group, acylamino group, active methine group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group. And an aryl group having these groups as substituents. Here, the active methine group means a methine group substituted with two electron-withdrawing groups, and the electron-withdrawing group here means an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, An alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfamoyl group, a trifluoromethyl group, a cyano group, a nitro group, and an imino group are meant. Here, the two electron withdrawing groups may be bonded to each other to form a cyclic structure.
Y3が炭素−炭素2重結合部位を表すとき、その置換基としてより好ましくは、アルキル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、電子供与基などであり、ここに電子供与性基として好ましくは、アルコキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、スルホンアミド基、アシルアミノ基、活性メチン基、メルカプト基、アルキルチオ基、およびこれら電子供与性基を置換基に有するフェニル基である。また置換基としてアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルアミノ基などが互いに結合して炭素−炭素2重結合を含む環構造を形成する場合も好ましく、具体的には、例えば2,3−ジヒドロ−γ−ピラン環基、シクロヘキセン環基、1−チア−2−シクロヘキセン−3−イル基、テトラヒドロピリジン環基などが挙げられる。 When Y 3 represents a carbon-carbon double bond site, the substituent is more preferably an alkyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, an electron donating group, etc., and the electron donating group is preferably an alkoxy group. Group, amino group, alkylamino group, arylamino group, heterocyclic amino group, sulfonamido group, acylamino group, active methine group, mercapto group, alkylthio group, and phenyl group having these electron donating groups as substituents. . In addition, it is also preferable that an alkyl group, an alkoxy group, an alkylthio group, an alkylamino group, or the like as a substituent is bonded to each other to form a ring structure containing a carbon-carbon double bond. Specifically, for example, 2,3-dihydro -Γ-pyran ring group, cyclohexene ring group, 1-thia-2-cyclohexen-3-yl group, tetrahydropyridine ring group and the like can be mentioned.
Y3が炭素−炭素2重結合部位を含む有機基を表す時、その置換基が互いに結合して環状構造を形成していてもよい。ここに形成される環状構造は、非芳香族の、5員〜7員の炭素環もしくはヘテロ環である。Y3が炭素−炭素3重結合部位を表すとき、その置換基としては水素原子、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、電子供与基などが好ましく、ここに電子供与性基として好ましくは、アルコキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、スルホンアミド基、アシルアミノ基、活性メチン基、メルカプト基、アルキルチオ基、およびこれら電子供与性基を置換基に有するフェニル基である。 When Y 3 represents an organic group containing a carbon-carbon double bond site, the substituents may be bonded to each other to form a cyclic structure. The cyclic structure formed here is a non-aromatic 5- to 7-membered carbocyclic or heterocyclic ring. When Y 3 represents a carbon-carbon triple bond site, the substituent is preferably a hydrogen atom, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, an electron donating group, etc., and the electron donating group is preferably an alkoxy group, amino Groups, alkylamino groups, arylamino groups, heterocyclic amino groups, sulfonamido groups, acylamino groups, active methine groups, mercapto groups, alkylthio groups, and phenyl groups having these electron donating groups as substituents.
一般式(3)においてY3で表される反応性基としてより好ましくは、炭素−炭素2重結合を含む有機基である。 In the general formula (3), the reactive group represented by Y 3 is more preferably an organic group containing a carbon-carbon double bond.
一般式(3)においてL3は、RED3とY3とを連結する連結基を表し、具体的には単結合、アルキレン基、アリーレン基、ヘテロ環基、−O−、−S−、−NRN−、−C(=O)−、−SO2−、−SO−、−P(=O)−の各基の単独、またはこれらの基の組み合わせからなる基を表す。ここにRNは水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基を表す。L3で表される連結基は置換基を有していてもよい。置換基としては、一般式(1−1)のRED11が有していてもよい置換基として説明したものと同じものが挙げられる。 In the general formula (3), L 3 represents a linking group for connecting RED 3 and Y 3 , specifically, a single bond, an alkylene group, an arylene group, a heterocyclic group, —O—, —S—, — NR N —, —C (═O) —, —SO 2 —, —SO—, —P (═O) — each independently represents a group consisting of a combination of these groups. Here, RN represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. The linking group represented by L 3 may have a substituent. Examples of the substituent include the same as those described as the substituent that RED 11 of the general formula (1-1) may have.
一般式(3)のL3で表される基は、一般式(3)のRED3が酸化されて生成するカチオンラジカル種、またはそこからプロトンの脱離を伴って生成するラジカル種と、一般式(3)のY3で表される反応性基とが反応して結合形成する際、これに関わる原子団が、L3を含めて3〜7員の環状構造を形成しうることが好ましい。 The group represented by L 3 in the general formula (3) includes a cation radical species generated by oxidation of RED 3 in the general formula (3), or a radical species generated from the release of a proton therefrom, When the reactive group represented by Y 3 in the formula (3) reacts to form a bond, it is preferable that the atomic group involved in this can form a 3- to 7-membered cyclic structure including L 3. .
L3の好ましい例としては、単結合、アルキレン基、アリーレン基(特にフェニレン基)、−C(=O)−基、−O−基、−NH−基、−N(アルキル基)−基、およびこれらの基の組み合わせからなる2価の連結基が挙げられる。 Preferred examples of L 3 include a single bond, an alkylene group, an arylene group (particularly a phenylene group), a —C (═O) — group, a —O— group, a —NH— group, a —N (alkyl group) — group, And a divalent linking group comprising a combination of these groups.
一般式(3)で表される化合物のうち、好ましい化合物は、以下の一般式(I)〜(IV)によって表される。
一般式(I)〜(IV)においてA100、A200、A300、A400はアリール基またはヘテロ環基を表し、その好ましい範囲は一般式(3)のRED3の好ましい範囲と同じである。L301、L302、L303、L304は連結基を表し、これは一般式(3)のL3と同義の基を表し、その好ましい範囲もまた同じである。Y100、Y200、Y300、Y400は反応性基を表し、これは一般式(3)のY3と同義の基を表し、その好ましい範囲もまた同じである。R3100、R3110、R3200、R3210、R3310は水素原子または置換基を表す。R3100、R3110は好ましくは水素原子、アルキル基またはアリール基である。R3200、R3310は好ましくは水素原子である。R3210は好ましくは置換基であり、置換基として好ましくはアルキル基またはアリール基である。R3110はA100と、R3210はA200と、R3310はA300と、それぞれ結合して環構造を形成していてもよい。ここに形成される環構造として好ましくは、テトラリン環、インダン環、テトラヒドロキノリン環、インドリン環などである。X400はヒドロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基を表し、好ましくはヒドロキシ基、メルカプト基で、より好ましくはメルカプト基である。 In the general formulas (I) to (IV), A 100 , A 200 , A 300 , and A 400 represent an aryl group or a heterocyclic group, and the preferred range thereof is the same as the preferred range of RED 3 in the general formula (3). . L 301 , L 302 , L 303 and L 304 each represent a linking group, which represents a group having the same meaning as L 3 in the general formula (3), and the preferred range thereof is also the same. Y 100 , Y 200 , Y 300 , and Y 400 represent a reactive group, which represents a group having the same meaning as Y 3 in the general formula (3), and its preferred range is also the same. R 3100 , R 3110 , R 3200 , R 3210 and R 3310 each represents a hydrogen atom or a substituent. R 3100 and R 3110 are preferably a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group. R 3200 and R 3310 are preferably a hydrogen atom. R 3210 is preferably a substituent, and the substituent is preferably an alkyl group or an aryl group. R 3110 may be bonded to A 100 , R 3210 may be bonded to A 200 , and R 3310 may be bonded to A 300 to form a ring structure. The ring structure formed here is preferably a tetralin ring, an indane ring, a tetrahydroquinoline ring, an indoline ring or the like. X 400 represents a hydroxy group, a mercapto group, or an alkylthio group, preferably a hydroxy group or a mercapto group, and more preferably a mercapto group.
ここで一般式(I)〜(IV)と一般式(3)との関係を説明すると、一般式(I)のA100はメチル基:−CH(R3110)(R3100)で置換されたアリール基またはヘテロ環基を表し、一般式(II)のA200はアミノ基:−N(R3210)(R3200)で置換されたアリール基もしくはヘテロ環基を表し、一般式(IV)のA400はX400で表されるヒドロキシ基、メルカプト基、またはアルキルチオ基で置換されたアリール基もしくはヘテロ環基を表し、一般式(III)のA300−N(R3310)−で表される基は同様にアリールアミノ基またはヘテロ環アミノ基を表す。 Here, the relationship between the general formulas (I) to (IV) and the general formula (3) will be explained. A 100 in the general formula (I) is substituted with a methyl group: —CH (R 3110 ) (R 3100 ). Represents an aryl group or a heterocyclic group, and A 200 in the general formula (II) represents an aryl group or a heterocyclic group substituted with an amino group: —N (R 3210 ) (R 3200 ); A 400 represents an aryl group or heterocyclic group substituted with a hydroxy group, a mercapto group, or an alkylthio group represented by X 400 , and is represented by A 300 —N (R 3310 ) — in the general formula (III). The group likewise represents an arylamino group or a heterocyclic amino group.
一般式(I)〜(IV)のうち、より好ましい化合物は、一般式(I)、(II)、(IV)で表される化合物である。 Among the general formulas (I) to (IV), more preferable compounds are compounds represented by the general formulas (I), (II), and (IV).
次にタイプ4の化合物について説明する。
タイプ4の化合物は還元性基の置換した環構造を有する化合物であり、該還元性基が1電子酸化された後、環構造の開裂反応を伴ってさらに1電子もしくはそれ以上の電子を放出しうる化合物である。
Next, the type 4 compound will be described.
A compound of type 4 is a compound having a ring structure substituted with a reducing group, and after the reducing group is oxidized by one electron, one or more electrons are emitted along with the ring structure cleavage reaction. Compound.
タイプ4の化合物は1電子酸化を受けた後に環構造が開裂する。ここで言う環の開裂反応は、下記のスキームで表される形式のものを指す。
上記のスキーム中、化合物aはタイプ4の化合物を表す。化合物a中、Dは還元性基を表し、X、Yは環構造中の1電子酸化後に開裂する結合を形成している原子を表す。まず化合物aが1電子酸化されて1電子酸化体bを生成する。ここからD-Xの単結合が2重結合になると同時にX-Yの結合が切断され開環体cが生成する。あるいはまた1電子酸化体bからプロトンの脱離を伴ってラジカル中間体dが生成し、ここから同様に開環体eを生成する経路をとる場合もある。このように生成した開環体cまたはeから、引き続きさらに1つ以上の電子が放出される点に本発明の化合物の特徴がある。 In the above scheme, compound a represents a type 4 compound. In the compound a, D represents a reducing group, and X and Y represent atoms that form a bond that is cleaved after one-electron oxidation in the ring structure. First, one-electron oxidation of the compound a generates a one-electron oxidant b. From this, the single bond of D—X becomes a double bond, and at the same time, the bond of X—Y is cleaved to produce ring-opened product c. Alternatively, a radical intermediate d may be generated from the one-electron oxidant b with proton desorption, and a ring opening e may be similarly generated therefrom. The compound of the present invention is characterized in that one or more electrons are subsequently released from the ring-opened product c or e thus produced.
タイプ4の化合物が有する環構造とは、3〜7員環の炭素環またはヘテロ環であり、単環もしくは縮環の、飽和もしくは不飽和の非芳香族の環を表す。好ましくは飽和の環構造であり、より好ましくは3員環あるいは4員環である。好ましい環構造としてはシクロプロパン環、シクロブタン環、オキシラン環、オキセタン環、アジリジン環、アゼチジン環、エピスルフィド環、チエタン環が挙げられる。より好ましくはシクロプロパン環、シクロブタン環、オキシラン環、オキセタン環、アゼチジン環であり、特に好ましくはシクロプロパン環、シクロブタン環、アゼチジン環である。環構造は置換基を有していても良い。 The ring structure possessed by the type 4 compound is a 3- to 7-membered carbocyclic or heterocyclic ring, and represents a monocyclic or condensed, saturated or unsaturated non-aromatic ring. A saturated ring structure is preferable, and a 3-membered ring or 4-membered ring is more preferable. Preferred examples of the ring structure include a cyclopropane ring, a cyclobutane ring, an oxirane ring, an oxetane ring, an aziridine ring, an azetidine ring, an episulfide ring, and a thietane ring. More preferred are cyclopropane ring, cyclobutane ring, oxirane ring, oxetane ring and azetidine ring, and particularly preferred are cyclopropane ring, cyclobutane ring and azetidine ring. The ring structure may have a substituent.
タイプ4の化合物は好ましくは一般式(4−1)または(4−2)で表される。 The compound of type 4 is preferably represented by the general formula (4-1) or (4-2).
一般式(4−1)および一般式(4−2)においてRED41およびRED42は、それぞれ一般式(1−2)のRED12と同義の基を表し、その好ましい範囲もまた同じである。R40〜R44およびR45〜R49は、それぞれ水素原子または置換基を表す。置換基としてはRED12が有していてもよい置換基と同じものが挙げられる。一般式(4−2)においてZ42は、−CR420R421−、−NR423−、または−O−を表す。ここにR420、R421は、それぞれ水素原子または置換基を表し、R423は水素原子、アルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。 In the general formula (4-1) and the general formula (4-2), RED 41 and RED 42 each represent a group having the same meaning as RED 12 in the general formula (1-2), and the preferred ranges thereof are also the same. R 40 to R 44 and R 45 to R 49 each represent a hydrogen atom or a substituent. Examples of the substituent include the same substituents that RED 12 may have. Z 42 in the general formula (4-2), -CR 420 R 421 -, - NR 423 -, or an -O-. Here, R 420 and R 421 each represent a hydrogen atom or a substituent, and R 423 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group.
一般式(4−1)においてR40は、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、カルバモイル基、シアノ基、スルファモイル基を表し、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、カルバモイル基であり、特に好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基である。 In the general formula (4-1), R 40 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an amino group, an alkylamino group, an arylamino group, or a heterocyclic amino group. Group, alkoxycarbonyl group, acyl group, carbamoyl group, cyano group, sulfamoyl group, more preferably hydrogen atom, alkyl group, aryl group, heterocyclic group, alkoxy group, alkoxycarbonyl group, acyl group, carbamoyl group Particularly preferred are a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxycarbonyl group and a carbamoyl group.
R41〜R44は、これらのうち少なくとも1つがドナー性基である場合と、R41とR42、あるいはR43とR44がともに電子求引性基である場合が好ましい。より好ましくはR41〜R44の少なくとも1つがドナー性基である場合である。さらに好ましくはR41〜R44の少なくとも1つがドナー性基であり且つ、R41〜R44の中でドナー性基でない基が水素原子またはアルキル基である場合である。 R 41 to R 44 are preferably a case where at least one of them is a donor group and a case where R 41 and R 42 , or R 43 and R 44 are both electron withdrawing groups. More preferably, at least one of R 41 to R 44 is a donor group. More preferably, at least one of R 41 to R 44 is a donor group, and a group that is not a donor group among R 41 to R 44 is a hydrogen atom or an alkyl group.
ここで言うドナー性基とは、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、メルカプト基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、活性メチン基、あるいはRED41およびRED42として好ましい基の群から選ばれる基である。ドナー性基として好ましくはアルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、窒素原子を環内に1つ持つ5員環の芳香族ヘテロ環基(単環でも縮環でもよい)、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基、少なくとも1つの電子供与性基で置換されたフェニル基(ここでは電子供与性基はヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、または窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基を表す)が用いられる。より好ましくはアルキルアミノ基、アリールアミノ基、窒素原子を環内に1つ持つ5員環の芳香族ヘテロ環基(ここでは芳香族ヘテロ環はインドール環、ピロール環、カルバゾール環を表す)、電子供与性基で置換されたフェニル基(ここでは特に3つ以上のアルコキシ基で置換されたフェニル基、ヒドロキシ基またはアルキルアミノ基またはアリールアミノ基で置換されたフェニル基を表す)が用いられる。特に好ましくはアリールアミノ基、窒素原子を環内に1つ持つ5員環の芳香族ヘテロ環基(ここでは3−インドリル基を表す)、電子供与性基で置換されたフェニル基(ここでは特にトリアルコキシフェニル基、アルキルアミノ基またはアリールアミノ基で置換されたフェニル基を表す)が用いられる。電子求引性基は、既に活性メチン基についての説明の中で説明したものと同じである。 The donor group referred to here is a group selected from the group of hydroxy groups, alkoxy groups, aryloxy groups, mercapto groups, acylamino groups, sulfonylamino groups, active methine groups, or groups preferred as RED 41 and RED 42. . The donor group is preferably an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic amino group, a 5-membered aromatic heterocyclic group having one nitrogen atom in the ring (which may be monocyclic or condensed), and a nitrogen atom. Non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group to be substituted, phenyl group substituted with at least one electron-donating group (here, the electron-donating group is a hydroxy group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group, an alkylamino group, an aryl group) An amino group, a heterocyclic amino group, or a non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group substituted with a nitrogen atom). More preferably, an alkylamino group, an arylamino group, a 5-membered aromatic heterocyclic group having one nitrogen atom in the ring (herein, the aromatic heterocyclic ring represents an indole ring, a pyrrole ring, or a carbazole ring), an electron A phenyl group substituted with a donating group (here, specifically, a phenyl group substituted with three or more alkoxy groups, a phenyl group substituted with a hydroxy group, an alkylamino group, or an arylamino group) is used. Particularly preferably, an arylamino group, a 5-membered aromatic heterocyclic group having one nitrogen atom in the ring (in this case, represents a 3-indolyl group), a phenyl group substituted with an electron-donating group (here, particularly Represents a phenyl group substituted with a trialkoxyphenyl group, an alkylamino group or an arylamino group). The electron withdrawing group is the same as that already described in the description of the active methine group.
一般式(4−2)においてR45の好ましい範囲は、上述の一般式(4−1)のR40のそれと同じである。 In the general formula (4-2), a preferable range of R 45 is the same as that of R 40 in the general formula (4-1).
R46〜R49として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、メルカプト基、アリールチオ基、アルキルチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミノ基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基である。特に好ましいR46〜R49は、Z42が−CR420R421−で表される基の場合には水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基であり、Z42が−NR423−を表す場合には水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基であり、Z42が−O−を表す場合には水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基である。 R 46 to R 49 are preferably a hydrogen atom, alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, heterocyclic group, hydroxy group, alkoxy group, amino group, alkylamino group, arylamino group, heterocyclic amino group, mercapto Group, arylthio group, alkylthio group, acylamino group, sulfoneamino group, more preferably hydrogen atom, alkyl group, aryl group, heterocyclic group, alkoxy group, alkylamino group, arylamino group, heterocyclic amino group . Particularly preferred R 46 to R 49 are a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkylamino group, an arylamino group when Z 42 is a group represented by —CR 420 R 421 —, Z 42 is -NR 423 - hydrogen atoms to represent a alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a hydrogen atom when Z 42 represents -O-, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group It is.
Z42として好ましくは−CR420R421−または−NR423−であり、より好ましくは−NR423−である。 Z 42 is preferably —CR 420 R 421 — or —NR 423 —, more preferably —NR 423 —.
R420、R421は好ましくは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アミノ基、メルカプト基、アシルアミノ基、スルホンアミノ基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アミノ基である。R423は好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、芳香族ヘテロ環基を表し、より好ましくはメチル基、エチル基、イソプロピル基、t−ブチル基、t-アミル基、ベンジル基、ジフェニルメチル基、アリル基、フェニル基、ナフチル基、2−ピリジル基、4−ピリジル基、2−チアゾリル基である。 R 420 and R 421 are preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a hydroxy group, an alkoxy group, an amino group, a mercapto group, an acylamino group, a sulfonamino group, and more A hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, and an amino group are preferable. R423 preferably represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or an aromatic heterocyclic group, more preferably a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, a t-amyl group, a benzyl group or a diphenylmethyl group. Allyl group, phenyl group, naphthyl group, 2-pyridyl group, 4-pyridyl group, 2-thiazolyl group.
R40〜R49およびR420、R421、R423の各基が置換基である場合にはそれぞれ総炭素数が40以下のものが好ましく、より好ましくは総炭素数30以下で、特に好ましくは総炭素数15以下である。またこれらの置換基は互いに結合して、あるいは分子中の他の部位(RED41、RED42あるいはZ42)と結合して環を形成していても良い。 When each of R 40 to R 49 and R 420 , R 421 and R 423 is a substituent, the total number of carbon atoms is preferably 40 or less, more preferably 30 or less, and particularly preferably The total carbon number is 15 or less. In addition, these substituents may be bonded to each other or may be bonded to other sites in the molecule (RED 41 , RED 42 or Z 42 ) to form a ring.
本発明のタイプ1、3、4の化合物は、「分子内にハロゲン化銀への吸着性基を有する化合物」であるか、または「分子内に、分光増感色素の部分構造を有する化合物」であることが好ましい。タイプ2の化合物は、「分子内にハロゲン化銀への吸着性基を2つ以上有する化合物」である。 The compounds of types 1, 3, and 4 of the present invention are “compounds having an adsorptive group to silver halide in the molecule” or “compounds having a partial structure of a spectral sensitizing dye in the molecule”. It is preferable that A type 2 compound is a “compound having two or more adsorptive groups to silver halide in the molecule”.
本発明のタイプ1〜4の化合物においてハロゲン化銀への吸着性基とは、ハロゲン化銀に直接吸着する基、またはハロゲン化銀への吸着を促進する基であり、具体的には、メルカプト基(またはその塩)、チオン基(−C(=S)−)、窒素原子、硫黄原子、セレン原子およびテルル原子から選ばれる少なくとも1つの原子を含むヘテロ環基、スルフィド基、カチオン性基、またはエチニル基である。 In the compounds of types 1 to 4 of the present invention, the adsorptive group to silver halide is a group that directly adsorbs to silver halide or a group that promotes adsorption to silver halide. Specifically, mercapto A heterocyclic group containing at least one atom selected from a group (or a salt thereof), a thione group (—C (═S) —), a nitrogen atom, a sulfur atom, a selenium atom and a tellurium atom, a sulfide group, a cationic group, Or an ethynyl group.
但し、本発明のタイプ2の化合物においては、吸着性基としてスルフィド基は含まれない。 However, the type 2 compound of the present invention does not contain a sulfide group as an adsorptive group.
吸着性基としてメルカプト基(またはその塩)とは、メルカプト基(またはその塩)そのものを意味すると同時に、より好ましくは、少なくとも1つのメルカプト基(またはその塩)の置換したヘテロ環基またはアリール基またはアルキル基を表す。ここにヘテロ環基は、5員〜7員の、単環もしくは縮合環の、芳香族または非芳香族のヘテロ環基で、例えばイミダゾール環基、チアゾール環基、オキサゾール環基、ベンズイミダゾール環基、ベンズチアゾール環基、ベンズオキサゾール環基、トリアゾール環基、チアジアゾール環基、オキサジアゾール環基、テトラゾール環基、プリン環基、ピリジン環基、キノリン環基、イソキノリン環基、ピリミジン環基、トリアジン環基等が挙げられる。また4級化された窒素原子を含むヘテロ環基でもよく、この場合、置換したメルカプト基が解離してメソイオンとなっていてもよく、この様なヘテロ環基の例としてはイミダゾリウム環基、ピラゾリウム環基、チアゾリウム環基、トリアゾリウム環基、テトラゾリウム環基、チアジアゾリウム環基、ピリジニウム環基、ピリミジニウム環基、トリアジニウム環基などが挙げられ、中でもトリアゾリウム環基(例えば1,2,4−トリアゾリウム−3−チオレート環基)が好ましい。アリール基としてはフェニル基またはナフチル基が挙げられる。アルキル基としては炭素数1〜30の直鎖または分岐または環状のアルキル基が挙げられる。メルカプト基が塩を形成するとき、対イオンとしてはアルカリ金属、アルカリ土類金属、重金属などのカチオン(Li+、Na+、K+、Mg2+、Ag+、Zn2+等)、アンモニウムイオン、4級化された窒素原子を含むヘテロ環基、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。 The mercapto group (or salt thereof) as the adsorptive group means the mercapto group (or salt thereof) itself, and more preferably a heterocyclic group or aryl group substituted with at least one mercapto group (or salt thereof). Or represents an alkyl group. Here, the heterocyclic group is a 5-membered to 7-membered monocyclic or condensed aromatic or non-aromatic heterocyclic group such as an imidazole ring group, a thiazole ring group, an oxazole ring group, or a benzimidazole ring group. , Benzthiazole ring group, benzoxazole ring group, triazole ring group, thiadiazole ring group, oxadiazole ring group, tetrazole ring group, purine ring group, pyridine ring group, quinoline ring group, isoquinoline ring group, pyrimidine ring group, triazine A cyclic group etc. are mentioned. Further, it may be a heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom. In this case, the substituted mercapto group may be dissociated into a meso ion. Examples of such a heterocyclic group include an imidazolium ring group, Examples include a pyrazolium ring group, a thiazolium ring group, a triazolium ring group, a tetrazolium ring group, a thiadiazolium ring group, a pyridinium ring group, a pyrimidinium ring group, and a triazinium ring group. Triazolium-3-thiolate ring group) is preferable. Examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group. Examples of the alkyl group include linear, branched or cyclic alkyl groups having 1 to 30 carbon atoms. When the mercapto group forms a salt, the counter ion includes a cation such as alkali metal, alkaline earth metal, heavy metal (Li + , Na + , K + , Mg 2+ , Ag + , Zn 2+, etc.), ammonium ion Examples thereof include a heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom, a phosphonium ion, and the like.
吸着性基としてのメルカプト基はさらにまた、互変異性化してチオン基となっていてもよく、具体的にはチオアミド基(ここでは−C(=S)−NH−基)、および該チオアミド基の部分構造を含む基、すなわち、鎖状もしくは環状のチオアミド基、チオウレイド基、チオウレタン基、またはジチオカルバミン酸エステル基などが挙げられる。ここで環状の例としてはチアゾリジン−2−チオン基、オキサゾリジン−2−チオン基、2−チオヒダントイン基、ローダニン基、イソローダニン基、チオバルビツール酸基、2−チオキソ−オキサゾリジン−4−オン基などが挙げられる。 Further, the mercapto group as the adsorptive group may be tautomerized into a thione group, specifically, a thioamide group (here, —C (═S) —NH— group), and the thioamide group. A group having a partial structure of, ie, a chain or cyclic thioamide group, a thioureido group, a thiourethane group, or a dithiocarbamate group. Examples of cyclic groups include thiazolidine-2-thione group, oxazolidine-2-thione group, 2-thiohydantoin group, rhodanine group, isorhodanine group, thiobarbituric acid group, 2-thioxo-oxazolidine-4-one group Is mentioned.
吸着性基としてチオン基とは、上述のメルカプト基が互変異性化してチオン基となった場合を含め、メルカプト基に互変異性化できない(チオン基のα位に水素原子を持たない)、鎖状もしくは環状のチオアミド基、チオウレイド基、チオウレタン基、またはジチオカルバミン酸エステル基も含まれる。 The thione group as an adsorptive group cannot be tautomerized to a mercapto group (including a hydrogen atom at the α-position of the thione group), including the case where the mercapto group described above is tautomerized into a thione group. A chain or cyclic thioamide group, thioureido group, thiourethane group, or dithiocarbamate group is also included.
吸着性基として窒素原子、硫黄原子、セレン原子およびテルル原子から選ばれる少なくとも1つの原子を含むヘテロ環基とは、イミノ銀(>NAg)を形成しうる−NH−基をヘテロ環の部分構造として有する含窒素ヘテロ環基、または配位結合で銀イオンに配位し得る、“−S−”基または“−Se−”基または“−Te−”基または“=N−”基をヘテロ環の部分構造として有するヘテロ環基で、前者の例としてはベンゾトリアゾール基、トリアゾール基、インダゾール基、ピラゾール基、テトラゾール基、ベンズイミダゾール基、イミダゾール基、プリン基などが、後者の例としてはチオフェン基、チアゾール基、オキサゾール基、ベンゾチアゾール基、ベンゾオキサゾール基、チアジアゾール基、オキサジアゾール基、トリアジン基、セレノアゾール基、ベンズセレノアゾール基、テルルアゾール基、ベンズテルルアゾール基などが挙げられる。好ましくは前者である。 A heterocyclic group containing at least one atom selected from a nitrogen atom, a sulfur atom, a selenium atom and a tellurium atom as the adsorptive group is a -NH- group capable of forming imino silver (> NAg) and a partial structure of the heterocyclic ring A nitrogen-containing heterocyclic group, or a “—S—” group, a “—Se—” group, a “—Te—” group, or a “═N—” group that can coordinate to a silver ion via a coordination bond. A heterocyclic group having a ring partial structure. Examples of the former include benzotriazole group, triazole group, indazole group, pyrazole group, tetrazole group, benzimidazole group, imidazole group, and purine group, and examples of the latter include thiophene. Group, thiazole group, oxazole group, benzothiazole group, benzoxazole group, thiadiazole group, oxadiazole group, triazine group, Renoazoru group, benz seleno azole group, tellurium azole group, such as benz tellurium azole group. The former is preferred.
吸着性基としてスルフィド基とは、“−S−”の部分構造を有する基すべてが挙げられるが、好ましくはアルキル(またはアルキレン)−S−アルキル(またはアルキレン)、アリール(またはアリーレン)−S−アルキル(またはアルキレン)、アリール(またはアリーレン)−S−アリール(またはアリーレン)の部分構造を有する基である。さらにこれらのスルフィド基は、環状構造を形成していてもよく、また−S−S−基となっていてもよい。環状構造を形成する場合の具体例としてはチオラン環、1,3−ジチオラン環または1,2−ジチオラン環、チアン環、ジチアン環、テトラヒドロ−1,4−チアジン環などを含む基が挙げられる。スルフィド基として特に好ましくはアルキル(またはアルキレン)−S−アルキル(またはアルキレン)の部分構造を有する基である。 The sulfide group as the adsorptive group includes all groups having a partial structure of “—S—”, preferably alkyl (or alkylene) -S-alkyl (or alkylene), aryl (or arylene) -S—. A group having a partial structure of alkyl (or alkylene), aryl (or arylene) -S-aryl (or arylene). Furthermore, these sulfide groups may form a cyclic structure or may be an -S-S- group. Specific examples in the case of forming a cyclic structure include groups containing a thiolane ring, a 1,3-dithiolane ring or a 1,2-dithiolane ring, a thiane ring, a dithiane ring, a tetrahydro-1,4-thiazine ring and the like. Particularly preferred as the sulfide group is a group having a partial structure of alkyl (or alkylene) -S-alkyl (or alkylene).
吸着性基としてカチオン性基とは、4級化された窒素原子を含む基を意味し、具体的にはアンモニオ基または4級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基を含む基である。ここにアンモニオ基とは、トリアルキルアンモニオ基、ジアルキルアリールアンモニオ基、アルキルジアリールアンモニオ基などで、例えばベンジルジメチルアンモニオ基、トリヘキシルアンモニオ基、フェニルジエチルアンモニオ基などが挙げられる。4級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基とは、例えばピリジニオ基、キノリニオ基、イソキノリニオ基、イミダゾリオ基などが挙げられる。好ましくはピリジニオ基およびイミダゾリオ基であり、特に好ましくはピリジニオ基である。これら4級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基は任意の置換基を有していてもよいが、ピリジニオ基およびイミダゾリオ基の場合、置換基として好ましくはアルキル基、アリール基、アシルアミノ基、クロル原子、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基などが挙げられ、ピリジニオ基の場合、置換基として特に好ましくはフェニル基である。 The cationic group as the adsorptive group means a group containing a quaternized nitrogen atom, specifically, an ammonio group or a group containing a nitrogen-containing heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom. . Here, the ammonio group is a trialkylammonio group, a dialkylarylammonio group, an alkyldiarylammonio group or the like, and examples thereof include a benzyldimethylammonio group, a trihexylammonio group, and a phenyldiethylammonio group. Examples of the nitrogen-containing heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom include a pyridinio group, a quinolinio group, an isoquinolinio group, an imidazolio group, and the like. A pyridinio group and an imidazolio group are preferable, and a pyridinio group is particularly preferable. These nitrogen-containing heterocyclic groups containing a quaternized nitrogen atom may have an arbitrary substituent, but in the case of a pyridinio group and an imidazolio group, the substituent is preferably an alkyl group, an aryl group, an acylamino group , A chloro atom, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, and the like. In the case of a pyridinio group, a phenyl group is particularly preferable as a substituent.
吸着性基としてエチニル基とは、−C≡CH基を意味し、水素原子は置換されていてもよい。
上記の吸着性基は任意の置換基を有していてもよい。
なお吸着性基の具体例としては、さらに特開平11−95355号の明細書p4〜p7に記載されているものが挙げられる。
An ethynyl group as an adsorptive group means a —C≡CH group, and a hydrogen atom may be substituted.
The above adsorptive group may have an arbitrary substituent.
Specific examples of the adsorptive group further include those described in the specifications p4 to p7 of JP-A No. 11-95355.
吸着性基として好ましいものは、メルカプト置換含窒素ヘテロ環基(例えば2−メルカプトチアジアゾール基、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール基、5−メルカプトテトラゾール基、2−メルカプト−1,3,4−オキサジアゾール基、2−メルカプトベンズチアゾール基、1,5−ジメチル−1,2,4−トリアゾリウム−3−チオレート基など)、ジメルカプト置換ヘテロ環基(例えば2,4−ジメルカプトピリミジン基、2,4−ジメルカプトトリアジン基、3,5−ジメルカプト−1,2,4−トリアゾール基、2,5−ジメルカプト−1,3−チアゾール基など)、またはイミノ銀(>NAg)を形成しうる−NH−基をヘテロ環の部分構造として有する含窒素ヘテロ環基(例えばベンゾトリアゾール基、ベンズイミダゾール基、インダゾール基など)である。吸着性基は、一般式(A)〜(F)のどこに置換されていてもよいが、一般式(A)〜(D)においては、RED11、RED12、RED2、RED3に、一般式(E)、(F)においては、RED41、R41、RED42、R46〜R48に置換されていることが好ましく、さらに、一般式(A)〜(F)全て、RED11〜RED42に置換されていることがより好ましい。 Preferred as the adsorptive group are mercapto-substituted nitrogen-containing heterocyclic groups (for example, 2-mercaptothiadiazole group, 3-mercapto-1,2,4-triazole group, 5-mercaptotetrazole group, 2-mercapto-1,3, 4-oxadiazole group, 2-mercaptobenzthiazole group, 1,5-dimethyl-1,2,4-triazolium-3-thiolate group, etc.), dimercapto-substituted heterocyclic group (for example, 2,4-dimercaptopyrimidine group) 2,4-dimercaptotriazine group, 3,5-dimercapto-1,2,4-triazole group, 2,5-dimercapto-1,3-thiazole group), or imino silver (> NAg) A nitrogen-containing heterocyclic group having a -NH- group as a heterocyclic partial structure (for example, benzotriazole group, benzimidazole) Group, an indazole group). The adsorptive group may be substituted anywhere in the general formulas (A) to (F), but in the general formulas (A) to (D), RED 11 , RED 12 , RED 2 , RED 3 In the formulas (E) and (F), RED 41 , R 41 , RED 42 , R 46 to R 48 are preferably substituted, and all of the general formulas (A) to (F) are represented by RED 11 to More preferably, RED 42 is substituted.
分光増感色素の部分構造とは、分光増感色素の発色団を含む基であり、分光増感色素化合物から任意の水素原子または置換基を除いた残基である。分光増感色素の部分構造は、一般式(A)〜(F)のどこに置換されていてもよいが、一般式(A)〜(D)においては、RED11、RED12、RED2、RED3に、一般式(E)、(F)においては、RED41、R41、RED42、R46〜R48に置換されていることが好ましく、さらに、一般式(A)〜(F)全て、RED11〜RED42に置換されていることがより好ましい。好ましい分光増感色素は、典型的にカラー増感技法で用いられる分光増感色素であり、例えばシアニン色素類、複合シアニン色素類、メロシアニン色素類、複合メロシアニン色素類、同極のシアニン色素類、スチリル色素類、ヘミシアニン色素類を含む。代表的な分光増感色素は、リサーチディスクロージャー、アイテム36544、1994年9月に開示されている。前記リサーチディスクロージャー、もしくはF.M.HamerのThe Cyanine dyes and Related Compounds (Interscience Publishers, New yprk, 1964)に記載される手順によって当業者は、これらの色素を合成することができる。さらに特開平11−95355号(US特許6,054,260号)の明細書p7〜p14に記載された色素類が全てそのまま当てはまる。 The partial structure of the spectral sensitizing dye is a group containing the chromophore of the spectral sensitizing dye, and is a residue obtained by removing any hydrogen atom or substituent from the spectral sensitizing dye compound. The partial structure of the spectral sensitizing dye may be substituted anywhere in the general formulas (A) to (F), but in the general formulas (A) to (D), RED 11 , RED 12 , RED 2 , RED 3 , in general formulas (E) and (F), RED 41 , R 41 , RED 42 and R 46 to R 48 are preferably substituted, and all of general formulas (A) to (F) are preferably substituted. More preferably, RED 11 to RED 42 are substituted. Preferred spectral sensitizing dyes are spectral sensitizing dyes typically used in color sensitization techniques such as cyanine dyes, complex cyanine dyes, merocyanine dyes, complex merocyanine dyes, homopolar cyanine dyes, Includes styryl dyes and hemicyanine dyes. Exemplary spectral sensitizing dyes are disclosed in Research Disclosure, Item 36544, September 1994. Those skilled in the art can synthesize these dyes by the procedures described in the Research Disclosure, or FMHamer's The Cyanine dyes and Related Compounds (Interscience Publishers, New yprk, 1964). Further, all the dyes described in the specifications p7 to p14 of JP-A No. 11-95355 (US Pat. No. 6,054,260) are applied as they are.
本発明のタイプ1〜4の化合物は、その総炭素数が10〜60の範囲のものが好ましい。より好ましくは10〜50、さらに好ましくは11〜40であり、特に好ましくは12〜30である。 The compounds of types 1 to 4 of the present invention preferably have a total carbon number of 10 to 60. More preferably, it is 10-50, More preferably, it is 11-40, Most preferably, it is 12-30.
本発明のタイプ1〜4の化合物は、これを用いたハロゲン化銀写真感光材料が露光されることを引き金に1電子酸化され、引き続く反応の後、さらに1電子、あるいはタイプによっては2電子以上の電子が放出され、酸化されるが、その1電子目の酸化電位は、約1.4V以下が好ましく、さらには1.0V以下が好ましい。この酸化電位は好ましくは0Vより高く、より好ましくは0.3Vより高い。従って酸化電位は好ましくは約0〜約1.4V、より好ましくは約0.3〜約1.0Vの範囲である。 The compounds of types 1 to 4 of the present invention are subjected to 1-electron oxidation triggered by exposure of the silver halide photographic light-sensitive material using the compound, and after the subsequent reaction, further 1 electron, or 2 electrons or more depending on the type. Electrons are emitted and oxidized, and the oxidation potential of the first electron is preferably about 1.4 V or less, and more preferably 1.0 V or less. This oxidation potential is preferably higher than 0V, more preferably higher than 0.3V. Accordingly, the oxidation potential is preferably in the range of about 0 to about 1.4V, more preferably about 0.3 to about 1.0V.
ここに酸化電位はサイクリックボルタンメトリーの技法で測定でき、具体的には試料をアセトニトリル:水(0.1Mの過塩素酸リチウムを含む)=80%:20%(容量%)の溶液に溶解し、10分間窒素ガスを通気した後、ガラス状のカーボンディスクを動作電極に用い、プラチナ線を対電極に用い、そしてカロメル電極(SCE)を参照電極に用いて、25℃で、0.1V/秒の電位走査速度で測定したものである。サイクリックボルタンメトリー波のピーク電位の時に酸化電位対SCEをとる。 Here, the oxidation potential can be measured by a cyclic voltammetry technique. Specifically, a sample is dissolved in a solution of acetonitrile: water (including 0.1 M lithium perchlorate) = 80%: 20% (volume%). After bubbling nitrogen gas for 10 minutes, a glassy carbon disk was used as the working electrode, a platinum wire was used as the counter electrode, and a calomel electrode (SCE) was used as the reference electrode at 25 ° C. and 0.1 V / Measured at a potential scanning speed of seconds. The oxidation potential versus SCE is taken at the peak potential of the cyclic voltammetry wave.
本発明のタイプ1〜4の化合物が1電子酸化され、引き続く反応の後、さらに1電子を放出する化合物である場合には、この後段の酸化電位は好ましくは−0.5V〜−2Vであり、より好ましくは−0.7V〜2Vであり、さらに好ましくは−0.9V〜−1.6Vである。 In the case where the compounds of types 1 to 4 of the present invention are one-electron oxidized and further emit one electron after the subsequent reaction, the subsequent oxidation potential is preferably −0.5 V to −2 V. More preferably, it is -0.7V-2V, More preferably, it is -0.9V--1.6V.
本発明のタイプ1〜4の化合物が1電子酸化され、引き続く反応の後、さらに2電子以上の電子を放出し、酸化される化合物である場合には、この後段の酸化電位については特に制限はない。2電子目の酸化電位と3電子目以降の酸化電位が明確に区別できない点で、これらを実際に正確に測定し区別することは困難な場合が多いためである。 In the case where the compound of types 1 to 4 of the present invention is a compound that is oxidized by one electron and emits two or more electrons after the subsequent reaction and is oxidized, there is no particular limitation on the oxidation potential of this latter stage. Absent. This is because the oxidation potential of the second electron and the oxidation potential of the third and subsequent electrons cannot be clearly distinguished, and it is often difficult to accurately measure and distinguish these actually.
以下に本発明のタイプ1〜4の化合物の具体例を列挙するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
本発明のタイプ1〜4の化合物は、それぞれ願2001−234075号、特願2001−234048号、特願2001−250679号において、詳細に説明した化合物と同じものである。これら特許出願明細書に記載した具体的化合物例もまた、本発明のタイプ1〜4の化合物の具体例として挙げることができる。 The compounds of types 1 to 4 of the present invention are the same as those described in detail in Japanese Patent Application Nos. 2001-234075, 2001-234048, and 2001-250679, respectively. Specific compound examples described in these patent application specifications can also be given as specific examples of the compounds of types 1 to 4 of the present invention.
次にタイプAの化合物について説明する。
タイプAの化合物はX−Yで表され、ここにXは還元性基を、Yは脱離基を表し、Xで表される還元性基が1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続くX−Y結合の開裂反応を伴ってYを脱離してXラジカルを生成し、そこからさらにもう1電子を放出し得る化合物である。この様なタイプAの化合物が酸化された時の反応は、以下の式で表すことができる。
The compound of type A is represented by XY, where X represents a reducing group, Y represents a leaving group, and a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation of the reducing group represented by X is This is a compound capable of releasing X by further elimination of Y with subsequent XY bond cleavage reaction to generate an X radical, from which another electron is emitted. The reaction when such a type A compound is oxidized can be expressed by the following formula.
タイプAの化合物は、好ましくはその酸化電位が0〜1.4Vであり、より好ましくは0.3〜1.0Vである。また上記反応式において生成するラジカルX・の酸化電位は−0.7V〜−2.0Vであることが好ましく、−0.9V〜−1.6Vがより好ましい。
タイプAの化合物は、好ましくは一般式(A)で表される。
The compound of type A preferably has an oxidation potential of 0 to 1.4V, more preferably 0.3 to 1.0V. The oxidation potential of the radical X · generated in the above reaction formula is preferably −0.7 V to −2.0 V, more preferably −0.9 V to −1.6 V.
The compound of type A is preferably represented by the general formula (A).
一般式(A)においてRED0は還元性基を表し、L0は脱離基を表し、R0およびR1は水素原子または置換基を表す。RED0とR0、およびR0とR1とは互いに結合して環構造を形成していてもよい。 In the general formula (A), RED 0 represents a reducing group, L 0 represents a leaving group, and R 0 and R 1 represent a hydrogen atom or a substituent. RED 0 and R 0 , and R 0 and R 1 may be bonded to each other to form a ring structure.
RED0は一般式(1−2)のRED12と同義の基を表し、その好ましい範囲も同じである。R0およびR1は一般式(2)のR21およびR22と同義の基であり、その好ましい範囲も同じである。但しR0およびR1が、水素原子を除いて、L0と同義の基を表すことはない。RED0とR0とは互いに結合して環構造を形成していてもよく、ここに環構造の例としては、一般式(2)のRED2とR21が連結して環構造を形成する場合と同じ例が挙げられ、その好ましい範囲も同じである。R0とR1とが互いに結合して形成される環構造の例としては、シクロペンタン環やテトラヒドロフラン環などが挙げられる。 RED 0 represents a group having the same meaning as RED 12 in formula (1-2), and the preferred range thereof is also the same. R 0 and R 1 are the same groups as R 21 and R 22 in the general formula (2), and their preferred ranges are also the same. However, R 0 and R 1 do not represent the same group as L 0 except for a hydrogen atom. RED 0 and R 0 may be bonded to each other to form a ring structure. As an example of the ring structure, RED 2 and R 21 in the general formula (2) are linked to form a ring structure. The same example as the case is mentioned, The preferable range is also the same. Examples of the ring structure formed by combining R 0 and R 1 with each other include a cyclopentane ring and a tetrahydrofuran ring.
一般式(A)においてL0で表される脱離基とは、カルボキシ基もしくはその塩、シリル基、スタニル基、ゲルミル基、トリアリールホウ素原子アニオン、−C(R0)(R1)−RED0基、または水素原子を表す。このうちカルボキシ基もしくはその塩、およびシリル基については、一般式(1−1)のL11と同義であり、その好ましい範囲も同じである。 In the general formula (A), the leaving group represented by L 0 is a carboxy group or a salt thereof, a silyl group, a stannyl group, a germyl group, a triaryl boron atom anion, —C (R 0 ) (R 1 ) — RED represents 0 group or hydrogen atom. Among these, a carboxy group or a salt thereof, and a silyl group have the same meaning as L 11 in the general formula (1-1), and a preferred range thereof is also the same.
スタニル基として好ましくはトリアルキルスタニル基で、ゲルミル基として好ましくはトリアルキルゲルミル基で、トリアリールホウ素原子アニオンとして好ましくはトリフェニルホウ素原子アニオンでここにフェニル基は置換基を有していてもよい。L0が“−C(R0)(R1)−RED0基”を表す時、一般式(A)で表される化合物は、−C(R0)(R1)−RED0基どうしが結合したビス型の化合物を意味する。 The stannyl group is preferably a trialkylstannyl group, the germyl group is preferably a trialkylgermyl group, and the triarylboron atom anion is preferably a triphenylboron atom anion, where the phenyl group has a substituent. Also good. When L 0 represents “—C (R 0 ) (R 1 ) —RED 0 group”, the compound represented by the general formula (A) is a group of —C (R 0 ) (R 1 ) —RED 0 groups. Means a bis-type compound in which is bound.
一般式(A)においてL0で表される脱離基として好ましくは、カルボキシ基もしくはその塩、シリル基、−C(R0)(R1)−RED0基、であり、さらに好ましくはカルボキシ基もしくはその塩、および水素原子である。 The leaving group represented by L 0 in the general formula (A) is preferably a carboxy group or a salt thereof, a silyl group, a —C (R 0 ) (R 1 ) -RED 0 group, and more preferably a carboxy group. A group or a salt thereof, and a hydrogen atom.
L0が水素原子を表す時、一般式(A)で表される化合物は、分子内に塩基部位を有していることが好ましい。この塩基の作用により、一般式(A)で表される化合物が酸化された後、L0で表される水素原子が脱プロトン化されて、“RED0(R0)(R1)C”で表されるラジカルを与え、ここから1電子が放出されるのである。 When L 0 represents a hydrogen atom, the compound represented by the general formula (A) preferably has a base moiety in the molecule. By the action of this base, after the compound represented by the general formula (A) is oxidized, the hydrogen atom represented by L 0 is deprotonated, and “RED 0 (R 0 ) (R 1 ) C” A radical represented by is given, and one electron is emitted therefrom.
ここに塩基とは、具体的に約1〜約10のpKaを示す酸の共役塩基である。例えば含窒素ヘテロ環類(ピリジン類、イミダゾール類、ベンツイミダゾール類、チアゾール類など)、アニリン類、トリアルキルアミン類、アミノ基、炭素酸類(活性メチレンアニオンなど)、チオ酢酸アニオン、カルボキシレート(−COO-)、サルフェート(−SO3 -)、またはアミンオキシド(>N+(O-)−)などが挙げられる。好ましくは約1〜約8のpKaを示す酸の共役塩基であり、カルボキシレート、サルフェート、またはアミンオキシドがより好ましく、カルボキシレートが特に好ましい。これらの塩基がアニオンを有する時、対カチオンを有していてもよく、その例としてはL0がカルボキシ基もしくはその塩を表す時の、塩を形成するカウンターイオンとして説明したものと同じである。 Here, the base is specifically a conjugate base of an acid having a pKa of about 1 to about 10. For example, nitrogen-containing heterocycles (pyridines, imidazoles, benzimidazoles, thiazoles, etc.), anilines, trialkylamines, amino groups, carbon acids (active methylene anions, etc.), thioacetic acid anions, carboxylates (- COO − ), sulfate (—SO 3 − ), amine oxide (> N + (O − ) −) and the like. Preferably, it is a conjugate base of an acid exhibiting a pKa of about 1 to about 8, more preferably carboxylate, sulfate or amine oxide, particularly preferably carboxylate. When these bases have an anion, they may have a counter cation, and examples thereof are the same as those described as counter ions for forming a salt when L 0 represents a carboxy group or a salt thereof. .
これら塩基部位が結合する位置としては、一般式(A)のRED0、R0、R1の何れでもよいが、好ましくはR1であり、例えば塩基がカルボキシレートを表す時の好ましいR1基の例としては、−(CH2)3−COO-、−(CH2)2−COO-、−CH2−COO-などの基が挙げられる。 The position to which these base sites are bonded may be any of RED 0 , R 0 , R 1 in the general formula (A), preferably R 1 , for example, a preferable R 1 group when the base represents a carboxylate. Examples thereof include groups such as — (CH 2 ) 3 —COO − , — (CH 2 ) 2 —COO − and —CH 2 —COO − .
一般式(A)で表される化合物は、「分子内にハロゲン化銀への吸着性基を有する化合物」であるか、または「分子内に、分光増感色素の部分構造を有する化合物」であることが好ましい。より好ましくは「分子内にハロゲン化銀への吸着性基を有する化合物」である。 The compound represented by the general formula (A) is “a compound having an adsorptive group to silver halide in the molecule” or “a compound having a partial structure of a spectral sensitizing dye in the molecule”. Preferably there is. More preferred is a “compound having an adsorptive group to silver halide in the molecule”.
一般式(A)で表される化合物が有するハロゲン化銀への吸着性基としては、本発明のタイプ1〜4の化合物が有していてもよい吸着性基と同じものがその例として挙げられるが、さらに加えて、セレノオキソ基(−C=Se−)、テルルオキソ基(−C=Te−)、セレノ基(−Se−)、テルロ基(−Te−)、または活性メチン基が挙げられる。ここでセレノオキソ基(−C=Se−)およびテルルオキソ基(−C=Te−)とは、チオン基(−C=S−)を有する化合物のSeもしくはTe誘導体であり、チオン基について説明した様に、セレノアミド基(−C=Se−NH−)またはテルルアミド基(−C=Te−NH−)を含む基であってもよい。セレノ基(−Se−)およびテルロ基(−Te−)とは、これもまたスルフィド基(−S−)を有する化合物のSeもしくはTe誘導体であり、スルフィド基を有する化合物のSeもしくはTe置換体がそのままその例として挙げられる。活性メチン基とは、2つの電子求引性基で置換されたメチン基を意味し、ここに電子求引性基とはアシル基、アルコシキカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基、イミノ基を意味する。ここで2つの電子求引性基は互いに結合して環状構造をとっていてもよい。 Examples of the adsorptive group to the silver halide of the compound represented by the general formula (A) include the same adsorptive groups that the compounds of types 1 to 4 of the present invention may have. In addition, a selenooxo group (—C═Se—), a tellurium oxo group (—C═Te—), a seleno group (—Se—), a tellurium group (—Te—), or an active methine group may be mentioned. . Here, the selenooxo group (—C═Se—) and the tellurium oxo group (—C═Te—) are Se or Te derivatives of a compound having a thione group (—C═S—), as described for the thione group. In addition, a group containing a selenamide group (—C═Se—NH—) or a telluramide group (—C═Te—NH—) may be used. The seleno group (—Se—) and tellurium group (—Te—) are also Se or Te derivatives of compounds having a sulfide group (—S—), and are Se or Te substitutes of compounds having a sulfide group. Is given as an example. The active methine group means a methine group substituted with two electron-withdrawing groups, and the electron-withdrawing group is an acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, alkylsulfonyl group. Group, arylsulfonyl group, sulfamoyl group, trifluoromethyl group, cyano group, nitro group, imino group. Here, the two electron withdrawing groups may be bonded to each other to form a cyclic structure.
一般式(A)で表される化合物が有する吸着促進基として好ましくは、メルカプト基(またはその塩)、チオン基(−C=S−)、窒素原子、硫黄原子、セレン原子およびテルル原子から選ばれる少なくとも1つの原子を含むヘテロ環基、スルフィド基であり、さらに好ましくは、メルカプト置換含窒素ヘテロ環基、ジメルカプト置換ヘテロ環基、またはイミノ銀(>NAg)を形成しうる−NH−基をヘテロ環の部分構造として有する含窒素ヘテロ環基であり、これらはタイプ1〜4の化合物が有していてもよい吸着性基の好ましい範囲について説明したものと同じである。吸着性基は、一般式(A)のどこに置換されていてもよいが、好ましくはRED0、またはR0に、より好ましくは、RED0に置換されていることが好ましい。 The adsorption promoting group possessed by the compound represented by the general formula (A) is preferably selected from a mercapto group (or a salt thereof), a thione group (—C═S—), a nitrogen atom, a sulfur atom, a selenium atom and a tellurium atom. A heterocyclic group containing at least one atom, a sulfide group, and more preferably a —NH— group capable of forming a mercapto-substituted nitrogen-containing heterocyclic group, a dimercapto-substituted heterocyclic group, or an imino silver (> NAg). These are nitrogen-containing heterocyclic groups having a heterocyclic partial structure, and these are the same as those described for the preferred range of the adsorptive group that the compounds of types 1 to 4 may have. The adsorptive group may be substituted anywhere in the general formula (A), but is preferably substituted with RED 0 or R 0 , more preferably with RED 0 .
一般式(A)で表される化合物が有していてもよい分光増感色素の部分構造とは、本発明のタイプ1〜4の化合物が有していてもよい分光増感色素の部分構造と同じである。 The partial structure of the spectral sensitizing dye that the compound represented by formula (A) may have is the partial structure of the spectral sensitizing dye that the compounds of types 1 to 4 of the present invention may have. Is the same.
以下に一般式(A)で表される化合物の具体例を挙げるが、これらに限定されるものではない。
一般式(A)で表される化合物の具体例としては、さらに特開平9-211769号(p28〜p32の表Eおよび表Fに記載の化合物PMT-1〜S-37)、特開平9-211774号、特開平11-95355号(化合物INV 1〜36)、特表2001-500996号(化合物1〜74,80〜87,92〜122)、米国特許5,747,235号、米国特許5,747,236号、欧州特許786692A1号(化合物INV 1〜35)、欧州特許893732A1号、米国特許6,054,260号、米国特許5,994,051号などの特許に記載の「1光子2電子増感剤」または「脱プロトン化電子供与増感剤」と称される化合物の例が、そのまま挙げられる。 As specific examples of the compound represented by the general formula (A), JP-A-9-211769 (compounds PMT-1 to S-37 described in Tables E and F on p28 to p32), JP-A-9- No. 211774, JP-A-11-95355 (Compound INV 1-36), JP-T 2001-500996 (Compounds 1-74, 80-87, 92-122), US Patent 5,747,235, US Patent 5,747,236, European Patent 786692A1 (compound INV 1-35), European Patent 893732A1, US Patent 6,054,260, US Patent 5,994,051, etc. "One-Photon Two-Electron Sensitizer" or "Deprotonated Electron Donor Sensitizer" Examples of compounds referred to as are mentioned as they are.
本発明のタイプAまたはタイプ1〜4の化合物は、乳剤調製時、感材製造工程中のいかなる場合にも使用しても良い。例えば粒子形成時、脱塩工程、化学増感時、塗布前などである。またこれらの工程中の複数回に分けて添加することも出来る。添加位置として好ましくは、粒子形成終了時から脱塩工程の前、化学増感時(化学増感開始直前から終了直後)、塗布前であり、より好ましくは化学増感時、塗布前である。 The type A or type 1-4 compounds of the present invention may be used at any time during the preparation of the emulsion and during the light-sensitive material production process. For example, at the time of particle formation, desalting step, chemical sensitization, and before coating. Moreover, it can also add in several steps in these processes. The addition position is preferably from the end of particle formation to before the desalting step, at the time of chemical sensitization (from immediately before the start of chemical sensitization to immediately after the end), and before application, more preferably at the time of chemical sensitization and before application.
本発明のタイプAまたはタイプ1〜4の化合物は、水、メタノール、エタノールなどの水可溶性溶媒またはこれらの混合溶媒に溶解して添加することが好ましい。水に溶解する場合、pHを高くまたは低くした方が溶解度が上がる化合物については、pHを高くまたは低くして溶解し、これを添加しても良い。 The compound of type A or types 1 to 4 of the present invention is preferably added after being dissolved in water, a water-soluble solvent such as methanol or ethanol, or a mixed solvent thereof. When the compound is dissolved in water, the compound having higher solubility when the pH is increased or decreased may be dissolved at a higher or lower pH and added.
本発明のタイプAまたはタイプ1〜4の化合物は、乳剤層中に使用するのが好ましいが、乳剤層と共に保護層や中間層に添加しておき、塗布時に拡散させてもよい。本発明の化合物の添加時期は増感色素の前後を問わず、それぞれ好ましくはハロゲン化銀1モル当り、1×10-9〜5×10-2モル、更に好ましくは1×10-8〜2×10-3モルの割合でハロゲン化銀乳剤層に含有する。 The type A or type 1-4 compound of the present invention is preferably used in the emulsion layer, but may be added to the protective layer or intermediate layer together with the emulsion layer and diffused during coating. The timing of addition of the compound of the present invention is preferably 1 × 10 −9 to 5 × 10 −2 mol, more preferably 1 × 10 −8 to 2 mol per 1 mol of silver halide, regardless of before and after the sensitizing dye. X10 -3 mol in a silver halide emulsion layer.
次に、本発明のヘテロ原子を最低3個有する化合物(化合物(B))について述べる。ここでヘテロ原子とは炭素又は水素以外のいずれの原子をも包含するが、窒素、イオウ、リン、酸素が好ましい。
本発明の化合物(B)が複素環である場合には、ヘテロ原子は環系の構成部分に3個以上存在する、あるいは少なくとも1個のヘテロ原子が環系の構成部分に存在し、環系に対して外部、少なくとも1つの非共役単結合により環系から分離した位置、又は環系のさらなる置換基の一部分に少なくとも2個以上のヘテロ原子が存在することを意味する。
Next, the compound (compound (B)) having at least 3 heteroatoms of the present invention will be described. Here, the hetero atom includes any atom other than carbon or hydrogen, but nitrogen, sulfur, phosphorus and oxygen are preferable.
When the compound (B) of the present invention is a heterocyclic ring, three or more heteroatoms are present in the ring system component, or at least one heteroatom is present in the ring system component. On the other hand, it means that there are at least two or more heteroatoms present at a position separated from the ring system by at least one non-conjugated single bond, or at a part of a further substituent of the ring system.
本発明において感光材料の写真感度が増加するとは、S0.2が0.02以上増加することを示し、0.03以上増加することが好ましく、0.04以上増加することがより好ましい。S0.2とは、実施例1に記載の現像処理方法にて現像した感光材料においてかぶり+0.2の濃度を与える露光量の逆数の対数値を示す。この値がヘテロ原子を少なくとも3個以上有する化合物を含有しない場合に比較して含有する場合に0.02以上高いことを示す。 In the present invention, an increase in photographic sensitivity of the light-sensitive material indicates that S 0.2 increases by 0.02 or more, preferably increases by 0.03 or more, and more preferably increases by 0.04 or more. The S 0.2, indicating the logarithm of the reciprocal of the exposure giving a density of fog + 0.2 in the light-sensitive material was developed by developing the method described in Example 1. This value is 0.02 or more higher when it is contained than when it does not contain a compound having at least 3 heteroatoms.
本発明の化合物(B)は、感光材料中のハロゲン化銀感光性層、非感光性層のいずれに用いてもよいが、ハロゲン化銀感光性層に用いることが好ましい。
ハロゲン化銀感光性層に用いる場合、感光性層が感度の異なる複数の層に分かれている場合、どの感度の層に用いてもよいが、高感度層に用いることが好ましい。
非感光性層に用いる場合には赤感性層と緑感性層又は緑感性層と青感性層の間に位置する中間層に用いることが好ましい。
The compound (B) of the present invention may be used for either the silver halide photosensitive layer or the non-photosensitive layer in the photosensitive material, but is preferably used for the silver halide photosensitive layer.
When used for a silver halide photosensitive layer, when the photosensitive layer is divided into a plurality of layers having different sensitivities, it may be used for any sensitive layer, but is preferably used for a highly sensitive layer.
When used for a non-photosensitive layer, it is preferably used for an intermediate layer located between a red-sensitive layer and a green-sensitive layer or between a green-sensitive layer and a blue-sensitive layer.
化合物(B)を感光材料中に添加する方法に特に規定はないが、高沸点有機溶媒等とともに乳化分散する方法、固体分散、メタノールなどの有機溶媒に溶解して塗布液に添加する方法、ハロゲン化銀乳剤の調製時に添加する方法などがあるが、乳化分散により感材に導入することが好ましい。 The method for adding the compound (B) to the light-sensitive material is not particularly limited, but a method of emulsifying and dispersing together with a high boiling point organic solvent, a solid dispersion, a method of dissolving in an organic solvent such as methanol and adding to a coating solution, a halogen Although there is a method of adding at the time of preparation of a silver halide emulsion, it is preferably introduced into a light-sensitive material by emulsification dispersion.
化合物(B)をそのままの形で感材に導入する方法も好ましいが、現像主薬酸化体と反応してヘテロ原子を最低3個有する化合物の残基を放出する化合物を感材に導入する方法も好ましく、該化合物も化合物(B)の範囲に含まれる。 A method of introducing the compound (B) into the light-sensitive material as it is is also preferable, but a method of introducing a compound that reacts with an oxidized developer to release a residue of a compound having at least three heteroatoms is also introduced into the light-sensitive material. Preferably, the compound is also included in the range of the compound (B).
化合物(B)の添加量に特に制限はないが、0.1〜1000mg/m2が好ましく、1〜500mg/m2がより好ましく、5〜100mg/m2が特に好ましい。
感光性ハロゲン化銀乳剤層に用いる場合は、同一層中の銀1モル当たり1×10-4〜1×10-1モルが好ましく、1×10-3〜5×10-2モルがより好ましい。
There is no particular limitation on the addition amount of compound (B), preferably from 0.1 to 1000 mg / m 2, more preferably 1~500mg / m 2, 5~100mg / m 2 is particularly preferred.
When used in a light-sensitive silver halide emulsion layer, 1 × 10 −4 to 1 × 10 −1 mol is preferable, and 1 × 10 −3 to 5 × 10 −2 mol is more preferable per mol of silver in the same layer. .
以下に、本発明の化合物(B)の化合物例を挙げるが、これらに限定されるわけではない。
一般式(M)もしくは一般式(C)で表される化合物について述べる。
一般式(M)中、R1は、水素原子または、置換基を表す。Zは、窒素原子を2から4個含む5員のアゾール環を形成するのに必要な非金属原子群を表し、該アゾール環は、置換基(縮合環を含む)を有してもよい。Xは、水素原子、若しくは置換基を表す。 In general formula (M), R 1 represents a hydrogen atom or a substituent. Z represents a group of nonmetallic atoms necessary to form a 5-membered azole ring containing 2 to 4 nitrogen atoms, and the azole ring may have a substituent (including a condensed ring). X represents a hydrogen atom or a substituent.
一般式(C)中、Zaは、−NH−または、−CH(R3)−を表し、Zb及びZcは、それぞれ−C(R4)=、または、−N=を表す。R1、R2及びR3は、それぞれハメットの置換基定数σp値が0.2以上、1.0以下の電子吸引性基を表す。R4は、水素原子又は、置換基を表す。ただし、式中に2つのR4が存在する場合には、それらは同じであっても異なっていてもよい。Xは、水素原子、若しくは置換基を表す。 In General Formula (C), Za represents —NH— or —CH (R 3 ) —, and Zb and Zc represent —C (R 4 ) ═ or —N═, respectively. R 1 , R 2 and R 3 each represent an electron-withdrawing group having a Hammett's substituent constant σp value of 0.2 or more and 1.0 or less. R 4 represents a hydrogen atom or a substituent. However, when two R < 4 > exists in a formula, they may be same or different. X represents a hydrogen atom or a substituent.
以下、本化合物について詳細に説明する。式(M)で表される骨格のうち好ましい骨格は、1H-ピラゾロ[1,5-b][1,2,4]トリアゾール、1H−ピラゾロ[5,1−c][1,2,4]トリアゾールであり、それぞれ式(M−1)及び式(M−2)で表される。
式中、R11、R12は、置換基を表し、Xは、水素原子若しくは、置換基を表す。 In the formula, R 11 and R 12 represent a substituent, and X represents a hydrogen atom or a substituent.
式(M−1)若しくは(M−2)における置換基R11、R12、Xについて詳しく説明する。
R11は、例えば、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子、弗素原子)、アルキル基(炭素数1〜60。例えば、メチル、エチル、プロピル、iso−ブチル、t−ブチル、t−オクチル、1−エチルヘキシル、ノニル、シクロヘキシル、ウンデシル、ペンタデシル、n−ヘキサデシル、3−デカンアミドプロピル)、アルケニル基(炭素数2〜60。例えば、ビニル、アリル、オレイル)、シクロアルキル基(炭素数5〜60。例えば、シクロペンチル、シクロヘキシル、4−t−ブチルシクロヘキシル、1−インダニル、シクロドデシル)、アリール基(炭素数6〜60。例えば、フェニル、p−トリル、ナフチル)、アシルアミノ基(炭素数2〜60。例えば、アセチルアミノ、n−ブタンアミド、オクタノイルアミノ、2−ヘキシルデカンアミド、2−(2’,4’−ジ−t−アミルフェノキシ)ブタンアミド、ベンゾイルアミノ、ニコチンアミド)、スルホンアミド基(炭素数1〜60。例えば、メタンスルホンアミド、オクタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド)、ウレイド基(炭素数2〜60。例えば、デシルアミノカルボニルアミノ、ジ−n−オクチルアミノカルボニルアミノ)、ウレタン基(炭素数2〜60。例えば、ドデシルオキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、2−エチルヘキシルオキシカルボニルアミノ)、アルコキシ基(炭素数1〜60。例えば、メトキシ、エトキシ、ブトキシ、n−オクチロキシ、ヘキサデシロキシ、メトキシエトキシ)、アリールオキシ基(炭素数6〜60。例えば、フェノキシ、2,4−ジ−t−アミルフェノキシ、4−t−オクチルフェノキシ、ナフトキシ)、アルキルチオ基(炭素数1〜60。例えば、メチルチオ、エチルチオ、ブチルチオ、ヘキサデシルチオ)、アリールチオ基(炭素数6〜60。例えば、フェニルチオ、4−トデシルオキシフェニルチオ)、アシル基(炭素数1〜60。例えば、アセチル、ベンゾイル、ブタノイル、ドデカノイル)、スルホニル基(炭素数1〜60。例えば、メタンスルホニル、ブタンスルホニル、トルエンスルホニル)、シアノ基、カルバモイル基(炭素数1〜60。例えば、N,N−ジシクロヘキシルカルバモイル)、スルファモイル基(炭素数0〜60。例えば、N,N−ジメチルスルファモイル)、ヒドロキシ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、アルキルアミノ基(炭素数1〜60。例えば、メチルアミノ、ジエチルアミノ、オクチルアミノ、オクタデシルアミノ)、アリールアミノ基(炭素数6〜60。例えば、フェニルアミノ、ナフチルアミノ、N−メチル−N−フェニルアミノ)、複素環基(炭素数0〜60。好ましくは、環構成のヘテロ原子として窒素原子、酸素原子、イオウ原子から選択されるものであって、ヘテロ原子以外に炭素原子をも環構成原子として含むものがさらに好ましく、環員数3〜8、より好ましくは5〜6であり、例えば、後述するXの項で例示する基)、アシルオキシ基(炭素1〜60。例えば、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、ミリストイルオキシ、ベンゾイルオキシ)などが挙げられる。
The substituents R 11 , R 12 and X in the formula (M-1) or (M-2) will be described in detail.
R 11 is, for example, a halogen atom (for example, chlorine atom, bromine atom, fluorine atom), an alkyl group (having 1 to 60 carbon atoms. For example, methyl, ethyl, propyl, iso-butyl, t-butyl, t-octyl, 1 -Ethylhexyl, nonyl, cyclohexyl, undecyl, pentadecyl, n-hexadecyl, 3-decanamidopropyl), alkenyl group (2 to 60 carbon atoms, for example, vinyl, allyl, oleyl), cycloalkyl group (5 to 60 carbon atoms). For example, cyclopentyl, cyclohexyl, 4-t-butylcyclohexyl, 1-indanyl, cyclododecyl), aryl group (6 to 60 carbon atoms, for example, phenyl, p-tolyl, naphthyl), acylamino group (2 to 60 carbon atoms). For example, acetylamino, n-butanamide, octanoylamino, 2-hexyl Decanamide, 2- (2 ′, 4′-di-t-amylphenoxy) butanamide, benzoylamino, nicotinamide), sulfonamide group (C1-C60. For example, methanesulfonamide, octanesulfonamide, benzenesulfonamide) ), Ureido groups (2 to 60 carbon atoms, such as decylaminocarbonylamino, di-n-octylaminocarbonylamino), urethane groups (2 to 60 carbon atoms, such as dodecyloxycarbonylamino, phenoxycarbonylamino, 2- Ethylhexyloxycarbonylamino), alkoxy group (C1-C60. For example, methoxy, ethoxy, butoxy, n-octyloxy, hexadecyloxy, methoxyethoxy), aryloxy group (C6-C60. For example, phenoxy, 2 , 4-Di-t-Ami Phenoxy, 4-t-octylphenoxy, naphthoxy), alkylthio group (1 to 60 carbon atoms, for example, methylthio, ethylthio, butylthio, hexadecylthio), arylthio group (6 to 60 carbon atoms, for example, phenylthio, 4-todecyloxy) Phenylthio), acyl group (having 1 to 60 carbon atoms, for example, acetyl, benzoyl, butanoyl, dodecanoyl), sulfonyl group (having 1 to 60 carbon atoms, for example, methanesulfonyl, butanesulfonyl, toluenesulfonyl), cyano group, carbamoyl group (C1-C60. For example, N, N-dicyclohexylcarbamoyl), sulfamoyl group (C0-60, for example, N, N-dimethylsulfamoyl), hydroxy group, sulfo group, carboxyl group, nitro group, Alkylamino group (having 1 to 60 carbon atoms) . For example, methylamino, diethylamino, octylamino, octadecylamino), arylamino group (carbon number 6 to 60. For example, phenylamino, naphthylamino, N-methyl-N-phenylamino), heterocyclic group (carbon number 0 to 60. Preferably, the hetero atom having a ring structure is selected from a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom, and more preferably includes a carbon atom in addition to the hetero atom as the ring atom. 8, More preferably, it is 5-6, for example, the group illustrated by the term of X mentioned later), an acyloxy group (carbon 1-60. For example, formyloxy, acetyloxy, myristoyloxy, benzoyloxy) etc. are mentioned. .
上記の中でアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アシルアミノ基、ウレイド基、ウレタン基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシル基、スルホニル基、シアノ基、カルバモイル基、スルファモイル基は置換基を有するものも含み、この置換基としては、例えばアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アシルアミノ基、ウレイド基、ウレタン基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシル基、スルホニル基、シアノ基、カルバモイル基、スルファモイル基が挙げられる。 Among them, alkyl group, cycloalkyl group, aryl group, acylamino group, ureido group, urethane group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, acyl group, sulfonyl group, cyano group, carbamoyl group, sulfamoyl group Includes those having a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an acylamino group, a ureido group, a urethane group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, and an acyl group. Sulfonyl group, cyano group, carbamoyl group, sulfamoyl group.
これらの置換基のうち、好ましいR11としては、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基が挙げられ、より好ましくは、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基である。特に好ましくは、分岐のアルキル基である。 Among these substituents, preferable R 11 includes an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, and an aryloxy group, and more preferably an alkyl group, an alkoxy group, and an aryloxy group. Particularly preferred is a branched alkyl group.
R12は、R11について例示した置換基が挙げられ、好ましい置換基として、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基である。
より好ましくは、アルキル基、置換アリール基であり、もっとも好ましい基は、置換アリール基であり、一般式(M−3)、(M−4)で表される化合物が好ましい。
More preferred are an alkyl group and a substituted aryl group, and the most preferred group is a substituted aryl group, and compounds represented by general formulas (M-3) and (M-4) are preferred.
式中、R11、Xは、一般式(M-1)、(M−2)と同義であり、R13は、置換基を表す。R13の置換基としては、先にR11として列挙した置換基が挙げられる。置換基として好ましくは、置換アリール基、置換もしくは無置換のアルキル基が挙げられる。この場合の置換基としては、先にR11とし列挙した置換基が挙げられる。 In formula, R <11> , X is synonymous with general formula (M-1) and (M-2), and R < 13 > represents a substituent. Examples of the substituent for R 13 include the substituents enumerated above as R 11 . Preferred examples of the substituent include a substituted aryl group and a substituted or unsubstituted alkyl group. Examples of the substituent in this case include the substituents enumerated above as R 11 .
Xは、水素原子若しくは置換基を表し、置換基としては、先にR11とし列挙した置換基が挙げられる。Xの置換基として好ましくは、アルキル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基若しくは、現像主薬の酸化体との反応で離脱する基を表し、該基としては、ハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素等)、アルコキシ基(エトキシ、メトキシカルボニルメトキシ、カルボキシプロピルオキシ、メタンスルホニルエトキシ、パーフルオロプロポキシ等)、アリールオキシ基(4−カルボキシフェノキシ、4−(4−ヒドロキシフェニルスルホニル)フェノキシ、4−メタンスルホニル−3−カルボキシフェノキシ、2−メタンスルホニル−4−アセチルスルファモイルフェノキシ等)、アシルオキシ基(アセトキシ、ベンゾイルオキシ等)、スルホニルオキシ基(メタンスルホニルオキシ、ベンゼンスルホニルオキシ等)、アシルアミノ基(ヘプタフルオロブチリルアミノ等)、スルホンアミド基(メタンスルホンアミド等)、アルコキシカルボニルオキシ基(エトキシカルボニルオキシ等)、カルバモイルオキシ基(ジエチルカルバモイルオキシ、ピペリジノカルボニルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ等)、アルキルチオ基(2−カルボキシエチルチオ等)、アリールチオ基(2−オクチルオキシ−5−t−オクチルフェニルチオ、2−(2,4−ジ−t−アミルフェノキシ)ブチリルアミノフェニルチオ等)、複素環チオ基(1−フェニルテトラゾリルチオ、2−ベンズイミダゾリルチオ等)、複素環オキシ基(2−ピリジルオキシ、5−ニトロ−2−ピリジルオキシ等)、5員もしくは6員の含窒素複素環基(1−トリアゾリル、1−イミダゾリル、1−ピラゾリル、5−クロロ−1−テトラゾリル、1−ベンゾトリアゾリル、2−フェニルカルバモイル−1−イミダゾリル、5,5−ジメチルヒダントイン−3−イル、1−ベンジルヒダントイン−3−イル、5,5−ジメチルオキサゾリジン−2,4−ジオン−3−イル、プリン等)、アゾ基(4−メトキシフェニルアゾ、4−ピバロイルアミノフェニルアゾ等)等を挙げることができる。 X represents a hydrogen atom or a substituent, and examples of the substituent include those listed above as R 11 . The substituent for X is preferably an alkyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, or a group that is released by reaction with an oxidized form of a developing agent, and the group includes a halogen atom (fluorine, chlorine, bromine, etc.), Alkoxy groups (ethoxy, methoxycarbonylmethoxy, carboxypropyloxy, methanesulfonylethoxy, perfluoropropoxy, etc.), aryloxy groups (4-carboxyphenoxy, 4- (4-hydroxyphenylsulfonyl) phenoxy, 4-methanesulfonyl-3- Carboxyphenoxy, 2-methanesulfonyl-4-acetylsulfamoylphenoxy, etc.), acyloxy groups (acetoxy, benzoyloxy, etc.), sulfonyloxy groups (methanesulfonyloxy, benzenesulfonyloxy, etc.), acylamino groups (f) Tafluorobutyrylamino etc.), sulfonamide groups (methanesulfonamide etc.), alkoxycarbonyloxy groups (ethoxycarbonyloxy etc.), carbamoyloxy groups (diethylcarbamoyloxy, piperidinocarbonyloxy, morpholinocarbonyloxy etc.), alkylthio Groups (such as 2-carboxyethylthio), arylthio groups (such as 2-octyloxy-5-t-octylphenylthio, 2- (2,4-di-t-amylphenoxy) butyrylaminophenylthio), heterocyclic rings Thio group (1-phenyltetrazolylthio, 2-benzimidazolylthio, etc.), heterocyclic oxy group (2-pyridyloxy, 5-nitro-2-pyridyloxy, etc.), 5-membered or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic group (1-triazolyl, 1-imidazolyl, 1-pyrazolyl, 5 Chloro-1-tetrazolyl, 1-benzotriazolyl, 2-phenylcarbamoyl-1-imidazolyl, 5,5-dimethylhydantoin-3-yl, 1-benzylhydantoin-3-yl, 5,5-dimethyloxazolidine-2 , 4-dione-3-yl, purine, etc.) and azo groups (4-methoxyphenylazo, 4-pivaloylaminophenylazo, etc.).
Xの置換基として好ましくは、アルキル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルもしくは、アリールチオ基、カップリング活性に窒素原子で結合する5員若しくは、6員の含窒素ヘテロ環基であり、特に好ましくは、アルキル基、カルバモイル基、ハロゲン原子、置換アリールオキシ基、置換アリールチオ基、アルキルチオ基または、1−ピラゾリル基である。 As the substituent for X, an alkyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, a halogen atom, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkyl or arylthio group, a 5-membered or 6-membered atom bound to a coupling activity with a nitrogen atom A nitrogen-containing heterocyclic group, particularly preferably an alkyl group, a carbamoyl group, a halogen atom, a substituted aryloxy group, a substituted arylthio group, an alkylthio group, or a 1-pyrazolyl group.
前記一般式(M−1)、(M−2)で表される、本発明に好ましく使用される化合物は、R11、R12を介して二量体以上の多量体を形成してもよく、また、高分子鎖に結合していてもよい。本発明において、好ましくは、一般式(M-1)であり、更に一般式(M−3)がより好ましい。 The compounds represented by the general formulas (M-1) and (M-2) and preferably used in the present invention may form a dimer or higher multimer via R 11 and R 12. Further, it may be bonded to a polymer chain. In the present invention, the general formula (M-1) is preferable, and the general formula (M-3) is more preferable.
次に、一般式(C)について説明する。本発明の一般式(C)において具体的には、下記一般式(C3)〜(C10)で表わされる。
式中、R1〜R4、及びXは、一般式(C)におけるそれぞれと同義である。 In formula, R < 1 > -R < 4 > and X are synonymous with each in general formula (C).
本発明において、一般式(C3)、(C4)、(C5)、(C8)で表される化合物が好ましく、特に(C4)で表される化合物が好ましい。 In the present invention, compounds represented by the general formulas (C3), (C4), (C5), and (C8) are preferable, and a compound represented by (C4) is particularly preferable.
一般式(C)において、R1、R2及びR3で表わされる置換基は、ハメットの置換基定数σp値が、0.20以上1.0以下の電子吸引性基である。好ましくは、σp値が、0.2以上0.8以下の電子吸引性基である。ハメット則は、ベンゼン誘導体の反応又は平衡に及ぼす置換基の影響を定量的に論ずるために1935年にL.P.Hammetにより提唱された経験則であるが、これは今日広く妥当性が認められている。ハメット則により求められた置換基定数にはσp値がとσm値があり、これらの値は多くの一般的な成書に記載あるが、例えば、J.A.Dean編「Lange’s Handbook of Chemistry」第12版、1979年(McGaw-Hill)や「化学の領域増刊」、122号、96〜103頁、1979年(南江堂) Chemical Review,91巻、165頁〜195頁、1991年に詳しい。 In the general formula (C), the substituent represented by R 1 , R 2 and R 3 is an electron-withdrawing group having a Hammett's substituent constant σp value of 0.20 or more and 1.0 or less. Preferably, it is an electron withdrawing group having a σp value of 0.2 or more and 0.8 or less. Hammett's rule was established in 1935 by L.L. to quantitatively discuss the effect of substituents on the reaction or equilibrium of benzene derivatives. P. A rule of thumb advocated by Hammet, which is widely accepted today. Substituent constants obtained by Hammett's rule include a σp value and a σm value, and these values are described in many general books. A. Dean ed. "Lange's Handbook of Chemistry" 12th edition, 1979 (McGaw-Hill) and "Chemical area special edition", 122, 96-103, 1979 (Nanedo) Chemical Review, 91, 165-195 Page, detailed in 1991.
本発明においてR1、R2及びR3は、ハメットの置換基定数値によって規定されるが、これらの成書に記載の文献既知の値がある置換基にのみ限定されるという意味ではなくその値が文献未知であってもハメット則に基づいて測定した場合にその範囲に含まれる限り包含される事は勿論である。 In the present invention, R 1 , R 2 and R 3 are defined by Hammett's substituent constant value, but it is not meant to be limited only to substituents having known values described in these documents. Of course, even if the value is unknown, it is included as long as it is included in the range when measured based on the Hammett rule.
σp値が0.2以上1.0以下の電子吸引性基である具体例として、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、シアノ基、ニトロ基、ジアルキルホスホノ基、ジアリールホスホノ基、ジアリールホスフィニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、等が挙げられる。これらの置換基のうち更に置換基を有する事が可能な基は、後述するR4で挙げるような置換基を更に有していてもよい。 Specific examples of electron withdrawing groups having a σp value of 0.2 or more and 1.0 or less include acyl groups, alkoxycarbonyl groups, aryloxycarbonyl groups, carbamoyl groups, cyano groups, nitro groups, dialkylphosphono groups, diarylphosphones Group, diarylphosphinyl group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, and the like. Among these substituents, the group that can further have a substituent may further have a substituent as described in R 4 described later.
R1、R2及びR3として好ましくは、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、シアノ基,スルホニル基であり、より好ましくは、シアノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基である。
R1とR2の組み合わせとして好ましくは、R1がシアノ基で、R2がアルコキシカルボニル基の時である。
R 1 , R 2 and R 3 are preferably an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, a cyano group or a sulfonyl group, and more preferably a cyano group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group or an aryl group. An oxycarbonyl group and a carbamoyl group.
The combination of R 1 and R 2 is preferably when R 1 is a cyano group and R 2 is an alkoxycarbonyl group.
R4は、水素原子もしくは置換基を表し、置換基としては、上記のR11に列挙した置換基が挙げられる。
R4の好ましい置換基としては、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルアミノ基、が挙げられ、より好ましくは、アルキル基、置換アリール基であり、もっとも好ましい基は、置換アリール基である。この場合の置換基として、上記に挙げた置換基が挙げられる。
Xは、一般式(M)と同じである。
R 4 represents a hydrogen atom or a substituent, and examples of the substituent include the substituents listed in R 11 above.
Preferred substituents for R 4 include alkyl groups, aryl groups, heterocyclic groups, alkoxy groups, aryloxy groups, and acylamino groups. More preferred are alkyl groups and substituted aryl groups, and the most preferred groups are , A substituted aryl group. Examples of the substituent in this case include the substituents listed above.
X is the same as in the general formula (M).
以下に本発明に好ましく使用されるカプラーの具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
本発明の一般式(M)、一般式(C)で表される化合物は、例えば、特開昭61−65245号、特開昭61−65246号、特開昭61−147254号、特開平8−122984号等に記載の合成方法にて容易に合成出来る。本発明の一般式(M)、一般式(C)で表される化合物の感光材料への添加量は、化合物Bについてのものと同義である。 The compounds represented by the general formula (M) and general formula (C) of the present invention are, for example, JP-A 61-65245, JP-A 61-65246, JP-A 61-147254, and JP-A-8. It can be easily synthesized by the synthesis method described in No. -122984. The amount of the compound represented by formulas (M) and (C) of the present invention added to the photosensitive material is the same as that for compound B.
本発明で使用するビニルポリマーは従来公知の化合物が使用できる。ビニルポリマーは水分散(自己乳化)型、水溶性型の何れも使用することができるが、微粒子の製造の容易さや分散安定性などの点で水分散型が好ましい。 Conventionally known compounds can be used as the vinyl polymer used in the present invention. As the vinyl polymer, either a water-dispersed (self-emulsifying) type or a water-soluble type can be used, but the water-dispersed type is preferable from the viewpoints of easy production of fine particles and dispersion stability.
前記ビニルポリマーは、スルホン酸を解離性基とすることが好ましい。ポリエチレンオキシ鎖などの非イオン性分散性基と組み合わせて使用する事もできる。 The vinyl polymer preferably has a sulfonic acid as a dissociable group. It can also be used in combination with a nonionic dispersible group such as a polyethyleneoxy chain.
ビニルポリマーを形成するモノマーとしては、アクリル酸エステル類、具体的にはメチルアクリレート、エチルアクリレート、n−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、n−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、sec−ブチルアクリレート、tert−ブチルアクリレート、アミルアクリレート、ヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、オクチルアクリレート、tert−オクチルアクリレート、2−クロロエチルアクリレート、2−ブロモエチルアクリレート、4−クロロブチルアクリレート、シアノエチルアクリレート、2−アセトキシエチルアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、2−クロロシクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェニルアクリレート、5−ヒドロキシペンチルアクリレート、2,2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、3−メトキシブチルアクリレート、2−エトキシエチルアクリレート、2−ブトキシエチルアクリレート、2−(2−メトキシエトキシ)エチルアクリレート、2−(2−ブトキシエトキシ)エチルアクリレート、グリシジルアクリレート、1−ブロモ−2−メトキシエチルアクリレート、1,1−ジクロロ−2−エトキシエチルアクリレート、2,2,2−テトラフルオロエチルアクリレート、1H,1H,2H,2H−パーフルオロデシルアクリレート等が挙げられる。メタクリル酸エステル類、具体的には、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、n−プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、n−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、sec−ブチルメタクリレート、tert−ブチルメタクリレート、アミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、クロロベンジルメタクリレート、オクチルメタクリレート、ステアリルメタクリレート、2−(3−フェニルプロピルオキシ)エチルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、フェニルメタクリレート、クレジルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、トリエチレングリコールモノメタクリレート、ジプロピレングリコールモノメタクリレート、2−メトキシエチルメタクリレート、3−メトキシブチルメタクリレート、2−エトキシエチルメタクリレート、2−iso−プロポキシエチルメタクリレート、2−ブトキシエチルメタクリレート、2−(2−メトキシエトキシ)エチルメタクリレート、2−(2−エトキシエトキシ)エチルメタクリレート、2−(2−ブトキシエトキシ)エチルメタクリレート、2−アセトキシエチルメタクリレート、2−アセトアセトキシエチルメタクリレート、アリルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、2,2,2−テトラフルオロエチルメタクリレート、1H,1H,2H,2H−パーフルオロデシルメタクリレートなどを挙げることができる。 Monomers that form vinyl polymers include acrylic esters, specifically methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, isopropyl acrylate, n-butyl acrylate, isobutyl acrylate, sec-butyl acrylate, tert-butyl acrylate, Amyl acrylate, hexyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, octyl acrylate, tert-octyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, 2-bromoethyl acrylate, 4-chlorobutyl acrylate, cyanoethyl acrylate, 2-acetoxyethyl acrylate, benzyl acrylate, methoxy Benzyl acrylate, 2-chlorocyclohexyl acrylate, cyclohexyl acrylate Furfuryl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, phenyl acrylate, 5-hydroxypentyl acrylate, 2,2-dimethyl-3-hydroxypropyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, 3-methoxybutyl acrylate, 2-ethoxyethyl acrylate, 2- Butoxyethyl acrylate, 2- (2-methoxyethoxy) ethyl acrylate, 2- (2-butoxyethoxy) ethyl acrylate, glycidyl acrylate, 1-bromo-2-methoxyethyl acrylate, 1,1-dichloro-2-ethoxyethyl acrylate 2,2,2-tetrafluoroethyl acrylate, 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorodecyl acrylate and the like. Methacrylic acid esters, specifically, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, sec-butyl methacrylate, tert-butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate , Benzyl methacrylate, chlorobenzyl methacrylate, octyl methacrylate, stearyl methacrylate, 2- (3-phenylpropyloxy) ethyl methacrylate, furfuryl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, phenyl methacrylate, cresyl methacrylate, naphthyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate 4-Hido Xylbutyl methacrylate, triethylene glycol monomethacrylate, dipropylene glycol monomethacrylate, 2-methoxyethyl methacrylate, 3-methoxybutyl methacrylate, 2-ethoxyethyl methacrylate, 2-iso-propoxyethyl methacrylate, 2-butoxyethyl methacrylate, 2- (2-methoxyethoxy) ethyl methacrylate, 2- (2-ethoxyethoxy) ethyl methacrylate, 2- (2-butoxyethoxy) ethyl methacrylate, 2-acetoxyethyl methacrylate, 2-acetoacetoxyethyl methacrylate, allyl methacrylate, glycidyl methacrylate, 2,2,2-tetrafluoroethyl methacrylate, 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorodecyl methacrylate Or the like can be mentioned over door.
ビニルエステル類、具体例としては、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルカプロエート、ビニルクロロアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルフェニルアセテート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニルなど、 Vinyl esters, such as vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl isobutyrate, vinyl caproate, vinyl chloroacetate, vinyl methoxyacetate, vinyl phenyl acetate, vinyl benzoate, vinyl salicylate, etc. ,
アクリルアミド類、例えば、アクリルアミド、メチルアクリルアミド、エチルアクリルアミド、プロピルアクリルアミド、ブチルアクリルアミド、tert−ブチルアクリルアミド、tert−オクチルアクリルアミド、シクロヘキシルアクリルアミド、ベンジルアクリルアミド、ヒドロキシメチルアクリルアミド、メトキシメチルアクリルアミド、ブトキシメチルアクリルアミド、メトキシエチルアクリルアミド、フェニルアクリルアミド、ジメチルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、β−シアノエチルアクリルアミド、N−(2−アセトアセトキシエチル)アクリルアミド、ジアセトンアクリルアミドなど、
メタクリルアミド類、例えば、メタクリルアミド、メチルメタクリルアミド、エチルメタクリルアミド、プロピルメタクリルアミド、ブチルメタクリルアミド、tert−ブチルメタクリルアミド、シクロヘキシルメタクリルアミド、ベンジルメタクリルアミド、ヒドロキシメチルメタクリルアミド、メトキシエチルメタクリルアミド、フェニルメタクリルアミド、ジメチルメタクリルアミド、β−シアノエチルメタクリルアミド、N−(2−アセトアセトキシエチル)メタクリルアミドなど、
Acrylamides such as acrylamide, methyl acrylamide, ethyl acrylamide, propyl acrylamide, butyl acrylamide, tert-butyl acrylamide, tert-octyl acrylamide, cyclohexyl acrylamide, benzyl acrylamide, hydroxymethyl acrylamide, methoxymethyl acrylamide, butoxymethyl acrylamide, methoxyethyl acrylamide , Phenylacrylamide, dimethylacrylamide, diethylacrylamide, β-cyanoethylacrylamide, N- (2-acetoacetoxyethyl) acrylamide, diacetoneacrylamide, etc.
Methacrylamide, for example, methacrylamide, methyl methacrylamide, ethyl methacrylamide, propyl methacrylamide, butyl methacrylamide, tert-butyl methacrylamide, cyclohexyl methacrylamide, benzyl methacrylamide, hydroxymethyl methacrylamide, methoxyethyl methacrylamide, phenyl Methacrylamide, dimethylmethacrylamide, β-cyanoethylmethacrylamide, N- (2-acetoacetoxyethyl) methacrylamide,
オレフィン類、例えば、ジシクロペンタジエン、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、イソプレン、クロロプレン、ブタジエン、2,3−ジメチルブタジエン等、スチレン類、例えば、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、クロルメチルスチレン、メトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロルスチレン、ジクロルスチレン、ブロムスチレン、ビニル安息香酸メチルエステルなど、 Olefins such as dicyclopentadiene, ethylene, propylene, 1-butene, 1-pentene, vinyl chloride, vinylidene chloride, isoprene, chloroprene, butadiene, 2,3-dimethylbutadiene, styrenes such as styrene, methylstyrene , Dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, isopropyl styrene, chloromethyl styrene, methoxy styrene, acetoxy styrene, chloro styrene, dichloro styrene, bromo styrene, vinyl benzoic acid methyl ester, etc.
ビニルエーテル類、例えば、メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテルなど、 Vinyl ethers such as methyl vinyl ether, butyl vinyl ether, hexyl vinyl ether, methoxyethyl vinyl ether,
その他モノマーとして、クロトン酸ブチル、クロトン酸ヘキシル、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジブチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジメチル、フマル酸ジブチル、メチルビニルケトン、フェニルビニルケトン、メトキシエチルビニルケトン、N−ビニルオキサゾリドン、N−ビニルピロリドン、ビニリデンクロライド、メチレンマロンニトリル、ビニリデン、ジフェニル−2−アクリロイルオキシエチルホスフェート、ジフェニル−2−メタクリロイルオキシエチルホスフェート、ジブチル−2−アクリロイルオキシエチルホスフェート、ジオクチル−2−メタクリロイルオキシエチルホスフェートなどを挙げることができる。 Other monomers include butyl crotonate, hexyl crotonate, dimethyl itaconate, dibutyl itaconate, diethyl maleate, dimethyl maleate, dibutyl maleate, diethyl fumarate, dimethyl fumarate, dibutyl fumarate, methyl vinyl ketone, phenyl vinyl Ketone, methoxyethyl vinyl ketone, N-vinyloxazolidone, N-vinylpyrrolidone, vinylidene chloride, methylenemalonnitrile, vinylidene, diphenyl-2-acryloyloxyethyl phosphate, diphenyl-2-methacryloyloxyethyl phosphate, dibutyl-2-acryloyloxy Examples thereof include ethyl phosphate and dioctyl-2-methacryloyloxyethyl phosphate.
スルホン酸モノマーとしては、スチレンスルホン酸、ビニルスルホン酸、アクリロイルオキシアルカンスルホン酸(例えば、アクリロイルオキシメタンスルホン酸、アクリロイルオキシエタンスルホン酸、アクリロイルオキシプロパンスルホン酸など)、メタクリロイルオキシアルカンスルホン酸(例えば、メタクリロイルオキシメタンスルホン酸、メタクリロイルオキシエタンスルホン酸、メタクリロイルオキシプロパンスルホン酸など)、アクリルアミドアルカンスルホン酸(例えば、2−アクリルアミド−2−メチルエタンスルホン酸、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、2−アクリルアミド−2−メチルブタンスルホン酸など)、メタクリルアミドアルカンスルホン酸(例えば、2−メタクルリアミド−2−メチルエタンスルホン酸、2−メタクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、2−メタクリルアミド−2−メチルブタンスルホン酸など)などが挙げられる。なかでも好ましいのは、スチレンスルホン酸、ビニルスルホン酸、アクリルアミドアルキルスルホン酸、メタクリルアミドアルキルスルホン酸であり、更に好ましくは、スチレンスルホン酸、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、2−アクリルアミド−2−メチルブタンスルホン酸である。 Examples of the sulfonic acid monomer include styrene sulfonic acid, vinyl sulfonic acid, acryloyloxyalkanesulfonic acid (for example, acryloyloxymethanesulfonic acid, acryloyloxyethanesulfonic acid, acryloyloxypropanesulfonic acid, etc.), methacryloyloxyalkanesulfonic acid (for example, Methacryloyloxymethanesulfonic acid, methacryloyloxyethanesulfonic acid, methacryloyloxypropanesulfonic acid, etc.), acrylamide alkanesulfonic acid (for example, 2-acrylamido-2-methylethanesulfonic acid, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid, 2 -Acrylamide-2-methylbutanesulfonic acid, etc.), methacrylamide alkanesulfonic acid (eg 2-methacrylamido-2-methyl) Ethanesulfonic acid, 2-methacrylamide-2-methylpropanesulfonic acid, 2-methacrylamide-2-methylbutanesulfonic acid). Among these, styrene sulfonic acid, vinyl sulfonic acid, acrylamide alkyl sulfonic acid, and methacrylamide alkyl sulfonic acid are preferable, and styrene sulfonic acid, 2-acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid, and 2-acrylamide- are more preferable. 2-methylbutanesulfonic acid.
非イオン性分散性基を含有するモノマーとしては、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテルとカルボン酸モノマーとのエステル、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテルとスルホン酸モノマーとのエステル、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテルとリン酸モノマーとのエステル、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテルとイソシアネート基含有モノマーから形成されるビニル基含有ウレタン、ポリビニルアルコール構造を含有するマクロモノマーなどが挙げられる。ポリエチレングリコールモノアルキルエーテルのエチレンオキシ部の繰り返し数は8から50が好ましく、10から30が更に好ましい。ポリエチレングリコールモノアルキルエーテルのアルキル基は炭素数1から20が好ましく、1から12が更に好ましい。 Monomers containing nonionic dispersible groups include esters of polyethylene glycol monoalkyl ether and carboxylic acid monomers, esters of polyethylene glycol monoalkyl ether and sulfonic acid monomers, and polyethylene glycol monoalkyl ether and phosphoric acid monomers. Examples thereof include a vinyl group-containing urethane formed from an ester, a polyethylene glycol monoalkyl ether and an isocyanate group-containing monomer, and a macromonomer containing a polyvinyl alcohol structure. The number of ethyleneoxy moiety repeats in the polyethylene glycol monoalkyl ether is preferably 8 to 50, more preferably 10 to 30. The alkyl group of the polyethylene glycol monoalkyl ether preferably has 1 to 20 carbon atoms, and more preferably 1 to 12 carbon atoms.
本発明の重合体に使用されるモノマー(例えば、上記のモノマー)は、種々の目的(例えば、Tg調節や溶解性改良、分散物安定性)に応じて、2種以上のモノマーを互いにコモノマーとして使用しても良い。 Monomers (for example, the above-mentioned monomers) used in the polymer of the present invention may be composed of two or more monomers as comonomers according to various purposes (for example, Tg adjustment, solubility improvement, and dispersion stability). May be used.
解離性基を有するモノマーを用いる場合、解離性基の含有量が少ない場合には、ビニルポリマーの自己乳化性が小さく、含有量が多い場合には水溶性が高くなり紫外線吸収剤の分散には不適となる。解離性基の含有量は0.1〜3.0mmol/gが好ましく、0.2〜2.0mmol/gが更に好ましい。解離性基はアルカリ金属(例えば、Na、Kなど)又はアンモニウムイオンの塩であってもよい。 When using a monomer having a dissociable group, when the content of the dissociable group is small, the self-emulsifying property of the vinyl polymer is small, and when the content is large, the water solubility becomes high and the UV absorber is dispersed. It becomes inappropriate. The content of the dissociable group is preferably from 0.1 to 3.0 mmol / g, more preferably from 0.2 to 2.0 mmol / g. The dissociable group may be an alkali metal (for example, Na, K, etc.) or a salt of ammonium ion.
本発明に用いられる重合体の具体例の一部を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。以下の比例は質量比を表わす。
具体例 ポリマー種
P-1) エチルメタクリレート−スチレンスルホン酸共重合体(90:10)
P-2) イソプロピルメタクリレート−スチレンスルホン酸共重合体(85:15)
P-3) n−ブチルアクリレート−スチレン−スチレンスルホン酸共重合体(80:5:15)
P-4) イソブチルメタクリレート−スチレンスルホン酸共重合体(85:15)
P-5) イソブチルアクリレート−トリエチレングリコールモノメタクリレート−スチレンスルホン酸共重合体(80:10:10)
P-6) エチルアクリレート−1H,1H,2H,2H−パーフルオロデシルメタクリレート−スチレンスルホン酸共重合体(83:10:7)
P-7) n−ブチルアクリレート−2−ブトキシエチルメタクリレート−スチレンスルホン酸共重合体(70:21.5:8.5)
P-8) エチルメタクリレート−2−アクリルアミド−2−メチルエタンスルホン酸共重合体(90:10)
P-9) エチルアクリレート−2−ブトキシエチルメタクリレート−2−アクリルアミド−2−メチルエタンスルホン酸共重合体(70:20:10)
P-10) イソブチルメタクリレート−2−アクリルアミド−2−メチルエタンスルホン酸共重合体(92:8)
P-11) イソブチルアクリレート−エチルメタクリレート−2−アクリルアミド−2−メチルエタンスルホン酸共重合体(70:20:10)
P-12) エチルアクリレート−イソプロピルメタクリレート−2−アクリルアミド−2−メチルエタンスルホン酸共重合体(60:30:10)
P-13) n−ブチルメタクリレート−2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸共重合体(90:10)
P-14) エチルメタクリレート−2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸共重合体(93.7:6.3)
P-15) エチルメタクリレート−2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ナトリウム共重合体(94.2:5.8)
P-16) エチルアクリレート−イソプロピルメタクリレート−2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸共重合体(63:30:7)
P-17) エチルメタクリレート−イソプロピルメタクリレート−2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ナトリウム共重合体(60:32.3:7.7)
P-18) tert−ブチルアクリレート−テトラヒドロフルフリルアクリレート−2−メチルプロパンスルホン酸共重合体(50:40:10)
P-19) イソプロピルアクリレート−1H,1H,2H,2H−パーフルオロデシルメタクリレート−2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸共重合体(60:30:10)
P-20) イソプロピルアクリレート−ポリエチレングリコールモノメチルエーテル(エチレンオキシ鎖繰り返し数23)のメタクリル酸エステル−2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸共重合体(60:30:10)
P-21) イソブチルアクリレート−N−ビニルピロリドン−2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸共重合体(60:30:10)
P-22) エチルメタクリレート−2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ソーダ共重合体(90.4:9.6)
P-23) イソプロピルメタクリレート−2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ソーダ共重合体(98:12)
P-24) イソブチルメタクリレート−2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ソーダ共重合体(90.4:9.6)
P-25) エチルメタクリレート−tert−ブチルメタクリレート−2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ソーダ共重合体(50:35:15)
P-26) ビニルピロリドン−イソブチルメタクリレート−2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ソーダ共重合体(50:35:15)
P-27) n−ブチルメタクリレート−2−メタクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸共重合体(90:10)
P-28) n−ブチルアクリレート−イソプロピルメタクリレート−2−メタクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸共重合体(60:30:10)
P-29) イソブチルアクリレート−ヒドロキシメチルアクリルアミド−2−メタクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸共重合体(80:10:10)
P-30) エチルアクリレート−イソプロピルメタクリレート−ビニルスルホン酸共重合体(60:30:10)
P-31) ヘキシルメタクリレート−メチルメタクリレート−ビニルスルホン酸共重合体(40:45:15)
P-32) エチルアクリレート−イソプロピルメタクリレート−ビニルスルホン酸共重合体(60:30:10)
P-33) エチルメタクリレート−2−アクリルアミド−2−メチルブタンスルホン酸共重合体(90:10)
P-34) イソプロピルメタクリレート−2−アクリルアミド−2−メチルブタンスルホン酸共重合体(90:10)
P-35) エチルアクリレート−イソプロピルメタクリレート−2−アクリルアミド−2−メチルブタンスルホン酸共重合体(60:30:10)
P-36) エチルアクリレート−イソプロピルメタクリレート−2−アクリルアミド−2−メチルブタンスルホン酸共重合体(60:30:10)
P-37) エチルメタクリレート−2−アクリルアミド−2−メチルブタンスルホン酸ソーダ共重合体(90.4:9.6)
P-38) sec−プロピルメタクリレート−2−アクリルアミド−2−メチルブタンスルホン酸ソーダ共重合体(98:12)
P-39) イソブチルメタクリレート−2−アクリルアミド−2−メチルブタンスルホン酸ソーダ共重合体(90.4:9.6)
P-40) エチルメタクリレート−イソプロピルメタクリレート−2−アクリルアミド−2−メチルブタンスルホン酸ソーダ共重合体(50:35:15)
P-41) エチルメタクリレート−2−メタクリルアミド−2−メチルブタンスルホン酸共重合体(90:10)
Some specific examples of the polymer used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto. The following proportionality represents the mass ratio.
Specific example Polymer type
P-1) Ethyl methacrylate-styrene sulfonic acid copolymer (90:10)
P-2) Isopropyl methacrylate-styrene sulfonic acid copolymer (85:15)
P-3) n-Butyl acrylate-styrene-styrene sulfonic acid copolymer (80: 5: 15)
P-4) Isobutyl methacrylate-styrene sulfonic acid copolymer (85:15)
P-5) Isobutyl acrylate-triethylene glycol monomethacrylate-styrene sulfonic acid copolymer (80:10:10)
P-6) Ethyl acrylate-1H, 1H, 2H, 2H-perfluorodecyl methacrylate-styrene sulfonic acid copolymer (83: 10: 7)
P-7) n-Butyl acrylate-2-butoxyethyl methacrylate-styrene sulfonic acid copolymer (70: 21.5: 8.5)
P-8) Ethyl methacrylate-2-acrylamido-2-methylethanesulfonic acid copolymer (90:10)
P-9) Ethyl acrylate-2-butoxyethyl methacrylate-2-acrylamido-2-methylethanesulfonic acid copolymer (70:20:10)
P-10) Isobutyl methacrylate-2-acrylamido-2-methylethanesulfonic acid copolymer (92: 8)
P-11) Isobutyl acrylate-ethyl methacrylate-2-acrylamido-2-methylethanesulfonic acid copolymer (70:20:10)
P-12) Ethyl acrylate-isopropyl methacrylate-2-acrylamido-2-methylethanesulfonic acid copolymer (60:30:10)
P-13) n-Butylmethacrylate-2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid copolymer (90:10)
P-14) Ethyl methacrylate-2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid copolymer (93.7: 6.3)
P-15) Ethyl methacrylate-2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid sodium copolymer (94.2: 5.8)
P-16) Ethyl acrylate-isopropyl methacrylate-2-acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid copolymer (63: 30: 7)
P-17) Ethyl methacrylate-isopropyl methacrylate-2-acrylamido-2-methylpropane sulfonate sodium copolymer (60: 32.3: 7.7)
P-18) tert-Butyl acrylate-tetrahydrofurfuryl acrylate-2-methylpropane sulfonic acid copolymer (50:40:10)
P-19) Isopropyl acrylate-1H, 1H, 2H, 2H-perfluorodecyl methacrylate-2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid copolymer (60:30:10)
P-20) Methacrylic acid ester-2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid copolymer of isopropyl acrylate-polyethylene glycol monomethyl ether (ethyleneoxy chain repeat number 23) (60:30:10)
P-21) Isobutyl acrylate-N-vinylpyrrolidone-2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid copolymer (60:30:10)
P-22) Ethyl methacrylate-2-acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid soda copolymer (90.4: 9.6)
P-23) Isopropyl methacrylate-2-acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid soda copolymer (98:12)
P-24) Isobutyl methacrylate-2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid soda copolymer (90.4: 9.6)
P-25) Ethyl methacrylate-tert-butyl methacrylate-2-acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid soda copolymer (50:35:15)
P-26) Vinylpyrrolidone-isobutylmethacrylate-2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid soda copolymer (50:35:15)
P-27) n-Butylmethacrylate-2-methacrylamide-2-methylpropanesulfonic acid copolymer (90:10)
P-28) n-Butyl acrylate-Isopropyl methacrylate-2-methacrylamide-2-methylpropanesulfonic acid copolymer (60:30:10)
P-29) Isobutyl acrylate-hydroxymethylacrylamide-2-methacrylamide-2-methylpropanesulfonic acid copolymer (80:10:10)
P-30) Ethyl acrylate-isopropyl methacrylate-vinyl sulfonic acid copolymer (60:30:10)
P-31) Hexyl methacrylate-methyl methacrylate-vinyl sulfonic acid copolymer (40:45:15)
P-32) Ethyl acrylate-isopropyl methacrylate-vinyl sulfonic acid copolymer (60:30:10)
P-33) Ethyl methacrylate-2-acrylamido-2-methylbutanesulfonic acid copolymer (90:10)
P-34) Isopropyl methacrylate-2-acrylamido-2-methylbutanesulfonic acid copolymer (90:10)
P-35) Ethyl acrylate-isopropyl methacrylate-2-acrylamido-2-methylbutanesulfonic acid copolymer (60:30:10)
P-36) Ethyl acrylate-isopropyl methacrylate-2-acrylamido-2-methylbutanesulfonic acid copolymer (60:30:10)
P-37) Ethyl methacrylate-2-acrylamido-2-methylbutanesulfonic acid soda copolymer (90.4: 9.6)
P-38) sec-propyl methacrylate-2-acrylamido-2-methylbutanesulfonic acid soda copolymer (98:12)
P-39) Isobutyl methacrylate-2-acrylamido-2-methylbutane sulfonate copolymer (90.4: 9.6)
P-40) Ethyl methacrylate-isopropyl methacrylate-2-acrylamido-2-methylbutane sulfonate copolymer (50:35:15)
P-41) Ethyl methacrylate-2-methacrylamide-2-methylbutanesulfonic acid copolymer (90:10)
ビニルポリマーの分子量(Mw)は、1000から100000であり、3000から50000が好ましい。分子量が1000より小さい場合、安定な分散物を得るのが難しくなる傾向にあり、100000より大きい場合、有機溶剤への溶解性が悪くなったり、有機溶媒溶液の粘度が増加して分散し難くなる傾向にあるので好ましくない。 The molecular weight (Mw) of the vinyl polymer is 1,000 to 100,000, and preferably 3,000 to 50,000. When the molecular weight is less than 1000, it tends to be difficult to obtain a stable dispersion. When the molecular weight is more than 100,000, the solubility in an organic solvent is deteriorated, or the viscosity of the organic solvent solution is increased and it is difficult to disperse. It is not preferable because it is in a tendency.
紫外線吸収剤含有微粒子分散物の製造方法について述べる。
本発明の紫外線吸収剤含有微粒子分散物は、紫外線吸収剤と前記ビニルポリマーとを含む紫外線吸収剤含有微粒子を水系媒体(少なくとも水を含有する水性液)に分散することにより製造される。具体的には、共乳化分散法などが挙げられる。
A method for producing the ultraviolet absorbent-containing fine particle dispersion will be described.
The ultraviolet absorbent-containing fine particle dispersion of the present invention is produced by dispersing ultraviolet absorbent-containing fine particles containing an ultraviolet absorbent and the vinyl polymer in an aqueous medium (an aqueous liquid containing at least water). Specific examples include a co-emulsification dispersion method.
ここで、前記共乳化分散法について説明する。
この方法の第一の例は、有機溶剤に前記紫外線吸収剤と、前記自己乳化性ビニルポリマーとを溶解したビニルポリマー紫外線吸収剤溶液を調製する第一の工程と、前記ビニルポリマー紫外線吸収剤溶液と、少なくとも水を含む液とを混合して紫外線吸収剤含有微粒子分散物を調製する第二の工程とを含む。
Here, the co-emulsification dispersion method will be described.
The first example of this method is a first step of preparing a vinyl polymer UV absorber solution in which the UV absorber and the self-emulsifiable vinyl polymer are dissolved in an organic solvent, and the vinyl polymer UV absorber solution. And a second step of preparing an ultraviolet absorbent-containing fine particle dispersion by mixing at least water-containing liquid.
この方法の第二の例は、有機溶剤に前記紫外線吸収剤を溶解した紫外線吸収剤溶液を調製する第一の工程と、前記自己乳化性ビニルポリマーを溶解したビニルポリマー溶液を調製する第二の工程と、前記紫外線吸収剤溶液と前記ビニルポリマー溶液と少なくとも水を含む液とを混合して紫外線吸収剤含有微粒子分散物を調製する第三の工程とを含む。 A second example of this method includes a first step of preparing an ultraviolet absorber solution in which the ultraviolet absorber is dissolved in an organic solvent, and a second step of preparing a vinyl polymer solution in which the self-emulsifiable vinyl polymer is dissolved. And a third step of preparing an ultraviolet absorbent-containing fine particle dispersion by mixing the ultraviolet absorbent solution, the vinyl polymer solution and a liquid containing at least water.
この方法の第三の例は、有機溶剤に前記紫外線吸収剤を溶解した紫外線吸収剤溶液を調製し、この紫外線吸収剤溶液と少なくとも水を含む液とを混合して紫外線吸収剤微粒子分散液を調製する第一の工程と、前記自己乳化性ビニルポリマーを溶解したビニルポリマー溶液を調製し、このビニルポリマー溶液と少なくとも水を含む液とを混合してビニルポリマー微粒子分散液を作製する第二の工程と、前記紫外線吸収剤微粒子分散液と前記ビニルポリマー微粒子分散液とを混合して紫外線吸収剤含有微粒子分散物を調製する第三の工程とを含む。 A third example of this method is to prepare an ultraviolet absorbent solution in which the ultraviolet absorbent is dissolved in an organic solvent, and mix the ultraviolet absorbent solution with a liquid containing at least water to obtain an ultraviolet absorbent fine particle dispersion. A first step of preparing a vinyl polymer solution in which the self-emulsifiable vinyl polymer is dissolved, and a vinyl polymer fine particle dispersion is prepared by mixing the vinyl polymer solution and a liquid containing at least water. And a third step of preparing the ultraviolet absorbent-containing fine particle dispersion by mixing the ultraviolet absorbent fine particle dispersion and the vinyl polymer fine particle dispersion.
この方法の第四の例は、有機溶剤に前記自己乳化性ビニルポリマーを溶解したビニルポリマー溶液を調製する第一の工程と、前記紫外線吸収剤を溶解した紫外線吸収剤溶液を調製し、この紫外線吸収剤溶液と少なくとも水を含む液とを混合して紫外線吸収剤微粒子分散液を調製する第二の工程と、前記ビニルポリマー溶液と前記紫外線吸収剤微粒子分散液とを混合し紫外線吸収剤含有微粒子分散物を調製する第三の工程とを含む。 A fourth example of this method is a first step of preparing a vinyl polymer solution in which the self-emulsifiable vinyl polymer is dissolved in an organic solvent, and an ultraviolet absorber solution in which the ultraviolet absorber is dissolved. A second step of preparing an ultraviolet absorbent fine particle dispersion by mixing an absorbent solution and a liquid containing at least water, and mixing the vinyl polymer solution and the ultraviolet absorbent fine particle dispersion to obtain an ultraviolet absorbent-containing fine particle. And a third step of preparing the dispersion.
前記紫外線吸収剤含有微粒子分散物において、前記自己乳化性ビニルポリマーの使用量としては、前記紫外線吸収剤100質量部に対し、10〜1000質量部が好ましく、20〜400質量部がより好ましい。 In the ultraviolet absorbent-containing fine particle dispersion, the use amount of the self-emulsifying vinyl polymer is preferably 10 to 1000 parts by mass, and more preferably 20 to 400 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the ultraviolet absorbent.
前記自己乳化性ビニルポリマーの使用量が、10質量部未満であると、微細で安定な分散がし難くなる傾向があり、1000質量部を超えると、紫外線吸収剤含有微粒子分散物中の前記紫外線吸収剤の割合が少なくなり、配合設計上の余裕がなくなる傾向がある。 If the amount of the self-emulsifying vinyl polymer used is less than 10 parts by mass, fine and stable dispersion tends to be difficult, and if it exceeds 1000 parts by mass, the ultraviolet rays in the ultraviolet absorbent-containing fine particle dispersion There is a tendency that the proportion of the absorbent is reduced, and there is no room for formulation design.
前記紫外線吸収剤含有微粒子分散物の平均粒径としては、1〜500nmが好ましく、10〜100nmがより好ましい。前記平均粒径は、遠心分離、濾過等により調整することができる。
紫外線吸収剤の添加量は0.02〜2.0g/m2が好ましく、0.2〜1.0g/m2がより好ましい。
The average particle diameter of the ultraviolet absorbent-containing fine particle dispersion is preferably 1 to 500 nm, and more preferably 10 to 100 nm. The average particle diameter can be adjusted by centrifugation, filtration, or the like.
The addition amount of the ultraviolet absorber is preferably from 0.02~2.0g / m 2, 0.2~1.0g / m 2 is more preferable.
−有機溶剤−
前記紫外線吸収剤含有微粒子分散物を製造する際に用いる有機溶剤としては、特に制限はなく、前記紫外線吸収剤や前記ビニルポリマーの溶解性に基づいて適宜選択することができ、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン等のケトン系溶剤、メタノール、エタノール、2−プロパノール、1−プロパノール、1−ブタノール、tert−ブタノール等のアルコール系溶剤、クロロホルム、塩化メチレン等の塩素系溶剤、ベンゼン、トルエン等の芳香族系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピルなどのエステル系溶剤、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル等のグリコールエーテル系溶剤、などが挙げられる。
-Organic solvent-
The organic solvent used in producing the ultraviolet absorbent-containing fine particle dispersion is not particularly limited and can be appropriately selected based on the solubility of the ultraviolet absorbent and the vinyl polymer. For example, acetone, methyl ethyl ketone , Ketone solvents such as diethyl ketone, alcohol solvents such as methanol, ethanol, 2-propanol, 1-propanol, 1-butanol and tert-butanol, chlorine solvents such as chloroform and methylene chloride, and fragrances such as benzene and toluene Group solvents, ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate and isopropyl acetate, ether solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran and dioxane, glycol ether solvents such as ethylene glycol monomethyl ether and ethylene glycol dimethyl ether, etc. And the like.
これらの有機溶剤は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
前記有機溶剤の使用量としては、本発明の効果を害しない範囲内であれば特に制限はないが、前記自己乳化性ビニルポリマー100質量部に対し、10〜2000質量部が好ましく、100〜1000質量部がより好ましい。
These organic solvents may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
The amount of the organic solvent used is not particularly limited as long as it does not impair the effects of the present invention, but is preferably 10 to 2000 parts by mass, and 100 to 1000 parts per 100 parts by mass of the self-emulsifiable vinyl polymer. Part by mass is more preferable.
前記有機溶剤の使用量が、10質量部未満であると、紫外線吸収剤含有微粒子の微細で安定な分散がし難くなる傾向があり、2000質量部を超えると、前記有機溶剤を除去するための脱溶媒と濃縮の工程が必須になり、かつ配合設計上の余裕がなくなる傾向がある。 If the amount of the organic solvent used is less than 10 parts by mass, fine and stable dispersion of the ultraviolet absorber-containing fine particles tends to be difficult, and if it exceeds 2000 parts by mass, the organic solvent is removed. Desolvation and concentration steps are essential, and there is a tendency that there is no room for formulation design.
前記有機溶剤は、前記有機溶剤の水に対する溶解度が10%以下である場合、あるいは、前記有機溶剤の蒸気圧が水より大きい場合には、紫外線吸収剤含有微粒子分散物の安定性の点で除去されるのが好ましい。
前記有機溶剤の除去は、常圧〜減圧条件で10℃〜100℃で行うことができ、常圧条件で40〜100℃あるいは減圧条件で10〜50℃で行うのが好ましい。
The organic solvent is removed from the viewpoint of stability of the ultraviolet absorbent-containing fine particle dispersion when the solubility of the organic solvent in water is 10% or less, or when the vapor pressure of the organic solvent is higher than water. Preferably it is done.
The removal of the organic solvent can be performed at 10 to 100 ° C. under normal pressure to reduced pressure conditions, and preferably 40 to 100 ° C. under normal pressure conditions or 10 to 50 ° C. under reduced pressure conditions.
−添加剤−
本発明の紫外線吸収剤含有微粒子分散物は、本発明の効果を害しない範囲内において、目的に応じて適宜選択した添加剤を含んでいてもよい。
前記添加剤としては、例えば、中和剤、分散剤、分散安定剤などが挙げられる。
-Additives-
The ultraviolet absorbent-containing fine particle dispersion of the present invention may contain an additive appropriately selected according to the purpose within a range not impairing the effects of the present invention.
Examples of the additive include a neutralizer, a dispersant, and a dispersion stabilizer.
前記中和剤は、前記自己乳化性ビニルポリマーが未中和の解離性基を有する場合に、紫外線吸収剤含有微粒子分散物のpH調節、自己乳化性調節、分散安定性付与等の点で好適に使用することができる。
前記中和剤としては、有機塩基、無機アルカリなどが挙げられる。
When the self-emulsifiable vinyl polymer has an unneutralized dissociable group, the neutralizing agent is suitable in terms of pH adjustment, self-emulsification adjustment, dispersion stability imparting, etc. of the ultraviolet absorbent-containing fine particle dispersion. Can be used for
Examples of the neutralizing agent include organic bases and inorganic alkalis.
前記有機塩基としては、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン、ジメチルエタノールアミンなどが挙げられる。
前記無機アルカリとしては、アルカリ金属の水酸化物(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化カリウムなど)、炭酸塩(例えば、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウムなど)、アンモニアなどが挙げられる。
Examples of the organic base include triethanolamine, diethanolamine, N-methyldiethanolamine, and dimethylethanolamine.
Examples of the inorganic alkali include alkali metal hydroxides (for example, sodium hydroxide, lithium hydroxide, and potassium hydroxide), carbonates (for example, sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, and the like), ammonia, and the like.
前記中和剤は、紫外線吸収剤含有微粒子分散物における分散安定性を向上させる観点からは、pH4.5〜10.0となるよう添加するのが好ましく、pH6.0〜10.0となるよう添加するのがより好ましい。 From the viewpoint of improving the dispersion stability in the ultraviolet absorbent-containing fine particle dispersion, the neutralizing agent is preferably added so as to have a pH of 4.5 to 10.0, so that the pH becomes 6.0 to 10.0. It is more preferable to add.
前記分散剤、分散安定剤は、前記自己乳化性ビニルポリマー分散物、前記自己乳化性ビニルポリマー溶液、紫外線吸収剤溶液、少なくとも水を含む溶液等のいずれに添加してもよいが、前記自己乳化性ビニルポリマー及び/又は紫外線吸収剤微粒子分散液を調製する前工程の、前記自己乳化性ビニルポリマー、紫外線吸収剤溶液、水を含む溶液に添加するのが好ましい。 The dispersing agent and dispersion stabilizer may be added to any of the self-emulsifying vinyl polymer dispersion, the self-emulsifying vinyl polymer solution, an ultraviolet absorber solution, a solution containing at least water, and the like. It is preferable to add to the solution containing the self-emulsifiable vinyl polymer, the ultraviolet absorbent solution, and water in the previous step of preparing the fine vinyl polymer and / or ultraviolet absorbent fine particle dispersion.
前記分散剤、分散安定剤としては、カチオン、アニオン、ノニオン系の各種界面活性剤、水溶性又は水分散性の低分子化合物、オリゴマー等、が挙げられる。前記分散剤、分散安定剤の添加量としては、前記紫外線吸収剤と前記自己乳化性ビニルポリマーとの合計に対し、0〜100質量%であり、0〜20質量%が好ましい。 Examples of the dispersant and dispersion stabilizer include cation, anion, and nonionic surfactants, water-soluble or water-dispersible low molecular compounds, oligomers, and the like. As addition amount of the said dispersing agent and a dispersion stabilizer, it is 0-100 mass% with respect to the sum total of the said ultraviolet absorber and the said self-emulsifiable vinyl polymer, and 0-20 mass% is preferable.
本発明のハロゲン化銀カラー写真感光材料に使用しうるハロゲン化銀乳剤は、臭化銀、塩化銀、沃臭化銀、沃塩臭化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀等が好ましい。ハロゲン化銀粒子の形態としては、八面体、立方体、十四面体の如き正常晶でも良いが、平板状粒子がより好ましい。 Silver halide emulsions that can be used in the silver halide color photographic light-sensitive material of the present invention include silver bromide, silver chloride, silver iodobromide, silver iodochlorobromide, silver chlorobromide, silver chloroiodobromide and the like. preferable. The form of the silver halide grains may be normal crystals such as octahedrons, cubes, and tetradecahedrons, but tabular grains are more preferred.
まず本発明の感光材料に使用しうる第1の乳剤であるハロゲン化銀粒子が平行な主平面が(111)面である塩化銀含有率が10モル%未満の沃臭化銀または塩沃臭化銀よりなる平板状ハロゲン化銀粒子について説明する。
この乳剤は対向する(111)主平面と該主平面を連結する側面からなる。平板粒子乳剤は沃臭化銀もしくは塩沃臭化銀より成る。塩化銀を含んでも良いが、好ましくは塩化銀含率は8モル%以下、より好ましくは3モル%以下もしくは、0モル%である。沃化銀含有率については、40モル%以下、好ましくは20モル%以下である。
First, silver iodobromide or chloroiodoodor having a silver chloride content of less than 10 mol%, in which the silver halide grains as the first emulsion that can be used in the light-sensitive material of the present invention are parallel (111) planes. The tabular silver halide grains made of silver halide will be described.
This emulsion consists of opposing (111) main planes and side faces connecting the main planes. The tabular grain emulsion is composed of silver iodobromide or silver chloroiodobromide. Although silver chloride may be contained, the silver chloride content is preferably 8 mol% or less, more preferably 3 mol% or less, or 0 mol%. The silver iodide content is 40 mol% or less, preferably 20 mol% or less.
沃化銀含有率に拘わらず、粒子間の沃化銀含量の分布の変動係数は20%以下が好ましく、特に10%以下が好ましい。
沃化銀分布について粒子内で構造を有していることが好ましい。この場合、沃化銀分布の構造は2重構造、3重構造、4重構造さらにはそれ以上の構造があり得る。また、粒子内部で沃化銀含有量が連続的に変化していても良い。
Regardless of the silver iodide content, the variation coefficient of the distribution of silver iodide content among grains is preferably 20% or less, and particularly preferably 10% or less.
The silver iodide distribution preferably has a structure within the grain. In this case, the structure of silver iodide distribution can be a double structure, a triple structure, a quadruple structure, or even more. Further, the silver iodide content may vary continuously within the grain.
全投影面積の50%以上がアスペクト比2以上の粒子で占められることが好ましい。ここで平板粒子の投影面積ならびにアスペクト比は参照用のラテックス球とともにシャドーをかけたカーボンレプリカ法による電子顕微鏡写真から測定することができる。平板粒子は主平面に対して垂直方向から見た時に、通常6角形、3角形もしくは円形状の形態をしているが、該投影面積と等しい面積の円の直径を厚みで割った値がアスペクト比である。平板粒子の形状は6角形の比率が高い程好ましく、また、6角形の各隣接する辺の長さの比は1:2以下であることが好ましい。 It is preferable that 50% or more of the total projected area is occupied by grains having an aspect ratio of 2 or more. Here, the projected area and aspect ratio of the tabular grains can be measured from electron micrographs obtained by the carbon replica method in which shadows are applied together with reference latex spheres. Tabular grains are usually hexagonal, triangular, or circular when viewed from the direction perpendicular to the main plane. The value obtained by dividing the diameter of a circle having an area equal to the projected area by the thickness is the aspect ratio. Is the ratio. The shape of the tabular grains is preferably as the hexagonal ratio is high, and the ratio of the lengths of adjacent sides of the hexagon is preferably 1: 2 or less.
平板粒子は、投影面積径で0.1μm以上20.0μm以下が好ましく、0.2μm以上10.0μm以下がさらに好ましい。投影面積径とは、ハロゲン化銀粒子の投影面積と等しい面積の円の直径である。また、平板粒子の厚みは、0.01μm以上0.5μm以下が好ましく、さらに好ましくは0.02μm以上0.4μm以下である。平板粒子の厚みとは二つの主平面の間隔である。球相当径では0.1μm以上5.0μm以下が好ましく、0.2μm以上3μm以下がさらに好ましい。球相当径とは、個々の粒子の体積と等しい体積を有する球の直径である。また、アスペクト比は、1以上100以下が好ましく、2以上50以下がさらに好ましい。アスペクト比とは粒子の投影面積径をその粒子の厚みで割った値である。 The tabular grains preferably have a projected area diameter of 0.1 to 20.0 μm, more preferably 0.2 to 10.0 μm. The projected area diameter is the diameter of a circle having an area equal to the projected area of the silver halide grains. The thickness of the tabular grain is preferably 0.01 μm or more and 0.5 μm or less, more preferably 0.02 μm or more and 0.4 μm or less. The thickness of the tabular grain is the distance between the two main planes. The equivalent sphere diameter is preferably 0.1 μm or more and 5.0 μm or less, and more preferably 0.2 μm or more and 3 μm or less. The equivalent sphere diameter is the diameter of a sphere having a volume equal to the volume of each particle. The aspect ratio is preferably 1 or more and 100 or less, more preferably 2 or more and 50 or less. The aspect ratio is a value obtained by dividing the projected area diameter of a grain by the thickness of the grain.
本発明のハロゲン化銀粒子は単分散性であることが好ましい。本発明の全ハロゲン化銀粒子の球相当径の変動係数は30%以下、好ましくは25%以下である。また、平板状粒子の場合は投影面積径の変動係数も重要であり、本発明の全ハロゲン化銀粒子の投影面積径の変動係数は30%以下であることが好ましく、より好ましくは25%以下であり、更に好ましくは20%以下である。また、平板状粒子の厚みの変動係数は、30%以下が好ましく、より好ましくは25%以下であり、更に好ましくは20%以下である。投影面積径の変動係数とは個々のハロゲン化銀粒子の投影面積径の分布の標準偏差を平均投影面積径で割った値であり、また、厚みの変動係数とは、個々のハロゲン化銀平板状粒子の厚みの分布の標準偏差を平均厚みで割った値である。 The silver halide grains of the present invention are preferably monodispersed. The variation coefficient of the sphere equivalent diameter of all silver halide grains of the present invention is 30% or less, preferably 25% or less. In the case of tabular grains, the variation coefficient of projected area diameter is also important, and the variation coefficient of projected area diameter of all silver halide grains of the present invention is preferably 30% or less, more preferably 25% or less. More preferably, it is 20% or less. Further, the variation coefficient of the thickness of the tabular grains is preferably 30% or less, more preferably 25% or less, and still more preferably 20% or less. The variation coefficient of the projected area diameter is a value obtained by dividing the standard deviation of the distribution of the projected area diameter of each silver halide grain by the average projected area diameter, and the variation coefficient of the thickness is the individual silver halide flat plate. It is a value obtained by dividing the standard deviation of the distribution of the thickness of the shaped particles by the average thickness.
本発明の平板粒子の双晶面間隔は米国特許第5,219,720号に記載のように0.012μm以下にしたり、特開平5−249585号に記載のように(111)主平面間距離/双晶面間隔を15以上にしても良く、目的に応じて選んで良い。 The tabular grain spacing of the tabular grains of the present invention is 0.012 μm or less as described in US Pat. No. 5,219,720, or the distance between (111) principal planes as described in JP-A-5-249585. / The twin plane spacing may be 15 or more, and may be selected according to the purpose.
アスペクト比が高い程、著しい効果が得られるので、平板粒子乳剤は全投影面積の50%以上が好ましくはアスペクト比5以上の粒子で占められる。さらに好ましくはアスペクト比8以上である。アスペクト比があまり大きくなりすぎると、前述した粒子サイズ分布の変動係数が大きくなる方向になるために、通常アスペクト比は50以下が好ましい。 Since the higher the aspect ratio, the more remarkable the effect can be obtained, the tabular grain emulsion is preferably occupied by grains having an aspect ratio of 5 or more at 50% or more of the total projected area. More preferably, the aspect ratio is 8 or more. If the aspect ratio becomes too large, the above-mentioned variation coefficient of the particle size distribution tends to increase. Therefore, the aspect ratio is usually preferably 50 or less.
平板粒子の転位線は、例えばJ.F.Hamilton,Phot.Sci.Eng.,11、57、(1967)やT.Shiozawa,J.Soc.Phot.Sci.Japan,35、213、(1972)に記載の、低温での透過型電子顕微鏡を用いた直接的な方法により観察することができる。すなわち乳剤から粒子に転位線が発生するほどの圧力をかけないよう注意して取り出したハロゲン化銀粒子を電子顕微鏡観察用のメッシュにのせ、電子線による損傷(プリントアウト等)を防ぐように試料を冷却した状態で透過法により観察を行う。この時粒子の厚みが厚い程、電子線が透過しにくくなるので高圧型(0.25μmの厚さの粒子に対して200kV以上)の電子顕微鏡を用いた方がより鮮明に観察することができる。このような方法により得られた粒子の写真より、主平面に対して垂直方向から見た場合の各粒子についての転位線の位置および数を求めることができる。 The dislocation lines of tabular grains are described in, for example, J. F. Hamilton, Photo. Sci. Eng. 11, 57, (1967) and T.W. Shiozawa, J. et al. Soc. Photo. Sci. It can be observed by a direct method using a transmission electron microscope at a low temperature described in Japan, 35, 213, (1972). In other words, the silver halide grains taken out carefully so as not to apply a pressure that causes dislocation lines to the grains from the emulsion are placed on a mesh for electron microscope observation to prevent damage (printout, etc.) due to electron beams. Observation is performed by a transmission method in a state where the tube is cooled. At this time, the thicker the particle, the more difficult it is to transmit the electron beam. Therefore, it is possible to observe more clearly using a high-pressure type electron microscope (200 kV or more for a particle having a thickness of 0.25 μm). . From the photograph of the particles obtained by such a method, the position and the number of dislocation lines for each particle when viewed from the direction perpendicular to the main plane can be obtained.
転位線の数は、好ましくは1粒子当り平均10本以上である。より好ましくは1粒子当り平均20本以上である。転位線が密集して存在する場合、または転位線が互いに交わって観察される場合には、1粒子当りの転位線の数は明確には数えることができない場合がある。しかしながら、これらの場合においても、おおよそ10本、20本、30本という程度には数えることが可能であり、明らかに、数本しか存在しない場合とは区別できる。転位線の数の1粒子当りの平均数については100粒子以上について転位線の数を数えて、数平均として求める。 The number of dislocation lines is preferably an average of 10 or more per particle. More preferably, the average number is 20 or more per particle. When dislocation lines are densely present, or when dislocation lines are observed crossing each other, the number of dislocation lines per grain may not be clearly counted. However, even in these cases, it can be counted to the order of approximately 10, 20, or 30, and clearly, it can be distinguished from the case where there are only a few. The average number of dislocation lines per particle is obtained as a number average by counting the number of dislocation lines for 100 grains or more.
転位線は、例えば平板粒子の外周近傍に導入することができる。この場合転位は外周にほぼ垂直であり、平板状粒子の中心から辺(外周)までの距離の長さのx%の位置から始まり外周に至るように転位線が発生している。このxの値は好ましくは10以上100未満であり、より好ましくは30以上99未満であり、最も好ましくは50以上98未満である。この時、この転位線の開始する位置を結んでつくられる形状は粒子形と相似に近いが、完全な相似形ではなく、ゆがむことがある。この型の転位数は粒子の中心領域には見られない。転位線の方向は結晶学的におおよそ(211)方向であるがしばしば蛇行しており、また互いに交わっていることもある。 Dislocation lines can be introduced, for example, in the vicinity of the outer periphery of the tabular grain. In this case, the dislocations are substantially perpendicular to the outer periphery, and dislocation lines are generated starting from the position of x% of the distance from the center of the tabular grain to the side (outer periphery) and reaching the outer periphery. The value of x is preferably 10 or more and less than 100, more preferably 30 or more and less than 99, and most preferably 50 or more and less than 98. At this time, the shape formed by connecting the positions where the dislocation lines start is similar to the particle shape, but is not completely similar and may be distorted. This type of dislocation number is not found in the central region of the grain. The direction of dislocation lines is crystallographically approximately (211) but is often serpentine and sometimes intersects.
また平板粒子の外周上の全域に渡ってほぼ均一に転位線を有していても、外周上の局所的な位置に転位線を有していてもよい。すなわち六角形平板ハロゲン化銀粒子を例にとると、6つの頂点の近傍のみに転位線が限定されていてもよいし、そのうちの1つの頂点近傍のみに転位線が限定されていてもよい。逆に6つの頂点近傍を除く辺のみに転位線が限定されていることも可能である。 Moreover, even if it has a dislocation line substantially uniformly over the whole region on the outer periphery of a tabular grain, it may have a dislocation line at a local position on the outer periphery. That is, taking hexagonal tabular silver halide grains as an example, the dislocation lines may be limited only to the vicinity of six vertices, or the dislocation lines may be limited to only one of the vertices. Conversely, it is possible that the dislocation line is limited to only the sides excluding the vicinity of the six vertices.
また平板粒子の平行な2つの主平面の中心を含む領域に渡って転位線が形成されていてもよい。主平面の全域に渡って転位線が形成されている場合には転位線の方向は主平面に垂直な方向から見ると結晶学的におおよそ(211)方向の場合もあるが(110)方向またはランダムに形成されている場合もあり、さらに各転位線の長さもランダムであり、主平面上に短い線として観察される場合と、長い線として辺(外周)まで到達して観察される場合がある。転位線は直線のこともあれば蛇行していることも多い。また、多くの場合互いに交わっている。 Further, dislocation lines may be formed over a region including the centers of two parallel main planes of the tabular grains. When dislocation lines are formed over the entire main plane, the direction of the dislocation lines may be approximately (211) in terms of crystallography when viewed from the direction perpendicular to the main plane. It may be formed randomly, and the length of each dislocation line is also random, and it may be observed as a short line on the main plane, or it may be observed as reaching a side (periphery) as a long line. is there. Dislocation lines are often straight or meandering. They often cross each other.
転位線の位置は以上のように外周上または主平面上または局所的な位置に限定されていても良いし、これらが組み合わされて、形成されていても良い。すなわち、外周上と主平面上に同時に存在していても良い。 As described above, the position of the dislocation line may be limited to the outer periphery, the main plane, or a local position, or may be formed by combining them. That is, it may exist simultaneously on the outer periphery and the main plane.
この平板粒子乳剤の粒子表面のヨウ化銀含有量は、好ましくは10モル%以下で、特に好ましくは5モル%以下である。本発明の粒子表面のヨウ化銀含有量はXPS(X−ray Photoelectron Spectroscopy)を用いて測定される。ハロゲン化銀粒子表面付近のヨウ化銀含量の分析に使用されるXPS法の原理に関しては、相原らの、「電子の分光」(共立ライブラリ−16、共立出版発行,昭和53年)を参考にすることができる。XPSの標準的な測定法は、励起X線としてMg−Kαを使用し、適当な試料形態としたハロゲン化銀から放出される沃素(I)と銀(Ag)の光電子(通常はI−3d5/2、Ag−3d5/2)の強度を観測する方法である。沃素の含量を求めるには、沃素の含量が既知である数種類の標準試料を用いて沃素(I)と銀(Ag)の光電子の強度比(強度(I)/強度(Ag))の検量線を作成し、この検量線からもとめることができる。ハロゲン化銀乳剤ではハロゲン化銀粒子表面に吸着したゼラチンを蛋白質分解酵素などで分解、除去した後にXPSの測定をおこなわなければならない。粒子表面のヨウ化銀含有量が10モル%以下の平板粒子乳剤とは、1つの乳剤に含まれる乳剤粒子を、XPSで分析したときにヨウ化銀含量が10モル%以下であるものをさす。この場合、明瞭に2種以上の乳剤が混合されているときには、遠心分離法、濾別法など適当な前処理を施した上で同一種類の乳剤につき分析を行なう必要がある。 The silver iodide content on the surface of the tabular grain emulsion is preferably 10 mol% or less, particularly preferably 5 mol% or less. The silver iodide content on the surface of the grain of the present invention is measured using XPS (X-ray Photoelectron Spectroscopy). Regarding the principle of the XPS method used to analyze the silver iodide content near the surface of silver halide grains, refer to Aihara et al., “Electron Spectroscopy” (Kyoritsu Library-16, published by Kyoritsu Shuppan, Showa 53). can do. The standard XPS measurement method uses Mg-Kα as the excitation X-ray, and iodine (I) and silver (Ag) photoelectrons (usually I-3d5) emitted from silver halide in an appropriate sample form. / 2, Ag-3d5 / 2). To determine the iodine content, several standard samples with known iodine content are used, and a calibration curve of the intensity ratio (intensity (I) / intensity (Ag)) of the photoelectrons of iodine (I) and silver (Ag) is used. Can be obtained and obtained from this calibration curve. In a silver halide emulsion, the XPS measurement must be performed after degrading and removing gelatin adsorbed on the surface of the silver halide grains with a proteolytic enzyme or the like. A tabular grain emulsion having a silver iodide content of 10 mol% or less on the grain surface means an emulsion grain having a silver iodide content of 10 mol% or less when analyzed by XPS of the emulsion grains contained in one emulsion. . In this case, when two or more types of emulsions are clearly mixed, it is necessary to perform analysis on the same type of emulsion after appropriate pretreatment such as centrifugation and filtration.
本発明の平板粒子乳剤の構造は例えば臭化銀/沃臭化銀/臭化銀からなる3重構造粒子ならびにそれ以上の高次構造も好ましい。構造間の沃化銀含有率の境界は明確なものであっても、連続的になだらかに変化しているものであっても、いずれでも良い。通常、粉末X線回折法を用いた沃化銀含有量の測定では沃化銀含有量の異なる明確な2山を示す様なことはなく、高沃化銀含有率の方向にすそをひいたようなX線回折プロフィールを示す。 As the structure of the tabular grain emulsion of the present invention, for example, a triple structure grain composed of silver bromide / silver iodobromide / silver bromide and a higher order structure higher than that are preferable. The boundary of the silver iodide content between the structures may be clear, or may change continuously and gently. Usually, the measurement of silver iodide content using a powder X-ray diffraction method does not show two distinct peaks with different silver iodide contents, but lies in the direction of high silver iodide content. Such an X-ray diffraction profile is shown.
表面よりも内側の層の沃化銀含有率が表面の沃化銀含有率よりも高いことが好ましく、表面よりも内側の層の沃化銀含有率は好ましくは3モル%以上、より好ましくは5モル%以上である。 The silver iodide content of the layer inside the surface is preferably higher than the silver iodide content of the surface, and the silver iodide content of the layer inside the surface is preferably 3 mol% or more, more preferably 5 mol% or more.
次に、本発明の感光材料に使用しうる第2の乳剤である平行な主平面が(111)面であり、最小の長さを有する辺の長さに対する最大の長さを有する辺の長さの比が2以下である六角形ハロゲン化銀粒子の頂点部、および/または側面部、および/または主平面部に1粒子当り少なくとも一個以上のエピタキシャル接合を有する粒子について説明する。エピタキシャル接合した粒子とは、ハロゲン化銀粒子本体の他に該粒子と接合した結晶部(すなわち、エピタキシャル部)を持つ粒子であり、接合した結晶部は通常ハロゲン化銀粒子本体から突出している。接合した結晶部(エピタキシャル部)の粒子全銀量に対する割合は2%以上30%以下が好ましく、5%以上15%以下がより好ましい。エピタキシャル部は粒子本体のどの部分に存在しても良いが、粒子主平面部、粒子側面部、粒子頂点部が好ましい。エピタキシャルの個数は、少なくとも一つ以上が好ましい。また、エピタキシャル部の組成は、AgCl、AgBrCl、AgBrClI、AgBrI、AgI、AgSCN等が好ましい。エピタキシャル部が存在する場合、粒子内部には転位線が存在しても良いが、存在しなくても良い。 Next, the parallel main plane which is the second emulsion that can be used in the light-sensitive material of the present invention is the (111) plane, and the length of the side having the maximum length with respect to the length of the side having the minimum length. A grain having at least one epitaxial junction per grain at the apex and / or side and / or main plane of hexagonal silver halide grains having a thickness ratio of 2 or less will be described. An epitaxially bonded grain is a grain having a crystal part (that is, an epitaxial part) joined to the grain in addition to the silver halide grain body, and the joined crystal part usually protrudes from the silver halide grain body. The ratio of the bonded crystal part (epitaxial part) to the total silver amount of the grain is preferably 2% or more and 30% or less, and more preferably 5% or more and 15% or less. The epitaxial part may exist in any part of the grain body, but the grain main plane part, grain side part, and grain apex part are preferred. The number of epitaxials is preferably at least one. The composition of the epitaxial portion is preferably AgCl, AgBrCl, AgBrClI, AgBrI, AgI, AgSCN, or the like. When the epitaxial portion exists, dislocation lines may exist inside the grain, but it does not have to exist.
次に、本発明の感光材料に使用しうる第1の乳剤および第2の乳剤ハロゲン化銀粒子の調製方法について説明する。
本発明の感光材料に使用しうる乳剤の調製工程としては、(a)基盤粒子形成工程と、それに引き続く粒子形成工程((b)工程)から成る。基本的に(a)工程に引き続き(b)工程を行うことがより好ましいが、(a)工程のみでもよい。(b)工程は、(b1)転位導入工程、(b2)頂点部転位限定導入工程、または(b3)エピタキシャル接合工程、のいずれでも良く、少なくとも一つでもよければ、二つ以上組み合わせても良い。
Next, a method for preparing the first emulsion and the second emulsion silver halide grains that can be used in the light-sensitive material of the present invention will be described.
The emulsion preparation process that can be used in the light-sensitive material of the present invention comprises (a) a base grain formation process and a subsequent grain formation process (process (b)). Basically, it is more preferable to perform the step (b) following the step (a), but only the step (a) may be performed. The step (b) may be any of (b1) dislocation introduction step, (b2) apex dislocation limited introduction step, or (b3) epitaxial junction step, and at least one or two or more may be combined. .
まず、(a)基盤粒子形成工程について説明する。基盤部は、粒子形成に使用した全銀量に対して少なくとも50%以上が好ましく、さらに好ましくは60%以上である。また、基盤部の銀量に対するヨードの平均含有率は0mol%以上30%mol以下が好ましく、0mol%以上15mol%以下がさらに好ましい。また、基盤部は必要に応じてコアシェル構造を取っても良い。この際、基盤部のコア部は基盤部の全銀量に対して50%以上70%以下であることが好ましく、コア部の平均ヨード組成は0mol%以上30mol%以下が好ましく、0mol%以上15mol%以下が更に好ましい。シェル部のヨード組成は0mol%以上3mol%以下が好ましい。 First, (a) the base particle forming step will be described. The base portion is preferably at least 50% or more, more preferably 60% or more, based on the total silver amount used for grain formation. Moreover, the average content of iodine with respect to the amount of silver in the base portion is preferably 0 mol% or more and 30% mol or less, and more preferably 0 mol% or more and 15 mol% or less. The base portion may have a core-shell structure as necessary. At this time, the core part of the base part is preferably 50% or more and 70% or less with respect to the total silver amount of the base part, and the average iodine composition of the core part is preferably 0 mol% or more and 30 mol% or less, and 0 mol% or more and 15 mol or less. % Or less is more preferable. The iodine composition of the shell part is preferably 0 mol% or more and 3 mol% or less.
ハロゲン化銀乳剤の調製方法としては、ハロゲン化銀核を形成した後、更にハロゲン化銀粒子を成長させて所望のサイズの粒子を得る方法が一般的であり、本発明も同様であることに変りはない。また、平板状粒子の形成に関しては、少なくとも核形成、熟成、成長の工程が含まれる。この工程は、米国特許第4,945,037号に詳細に記載されている。以下に、核形成、熟成、成長、各工程について説明する。 As a method for preparing a silver halide emulsion, a method in which after forming silver halide nuclei and further growing silver halide grains to obtain grains of a desired size, the present invention is also the same. There is no change. Further, the formation of tabular grains includes at least nucleation, ripening, and growth steps. This process is described in detail in US Pat. No. 4,945,037. Hereinafter, nucleation, ripening, growth, and each process will be described.
1.核形成工程
平板粒子の核形成は、一般には保護コロイドの水溶液を保持する反応容器に、銀塩水溶液とハロゲン化アルカリ水溶液を添加して行われるダブルジェット法、あるいはハロゲン化アルカリを含む保護コロイド溶液に銀塩水溶液を添加するシングルジェット法が用いられる。また、必要に応じて銀塩を含む保護コロイド溶液にハロゲン化アルカリ水溶液を添加する方法も用いることができる。さらに、必要に応じて特開昭2−44335号に開示されている混合器に保護コロイド溶液と銀塩溶液とハロゲン化アルカリ水溶液を添加し、ただちにそれを反応容器に移すことによって平板粒子の核形成を行うこともできる。また、米国特許第5,104,786号に開示されているように、ハロゲン化アルカリと保護コロイド溶液を含む水溶液をパイプに通しそこに銀塩水溶液を添加することにより核形成を行うこともできる。
1. Nucleation Step Tabular grain nucleation is generally performed by adding a silver salt aqueous solution and an alkali halide aqueous solution to a reaction vessel holding an aqueous solution of a protective colloid, or a protective colloid solution containing an alkali halide. A single jet method is used in which a silver salt aqueous solution is added. Moreover, the method of adding aqueous alkali halide solution to the protective colloid solution containing a silver salt as needed can also be used. Furthermore, if necessary, a protective colloid solution, a silver salt solution, and an alkali halide aqueous solution are added to a mixer disclosed in JP-A-2-44335, and immediately transferred to a reaction vessel, whereby the core of tabular grains is obtained. Formation can also be performed. Further, as disclosed in US Pat. No. 5,104,786, nucleation can be performed by passing an aqueous solution containing an alkali halide and a protective colloid solution through a pipe and adding an aqueous silver salt solution thereto. .
保護コロイドとしては、ゼラチンが用いられるが、ゼラチン以外の天然高分子や合成高分子も同様に用いられる。ゼラチンの種類としては、アルカリ処理ゼラチン、ゼラチン分子中のメチオニン基を過酸化水素等で酸化した酸化処理ゼラチン(メチオニン含量40μmol/g以下)、本発明で使用しうるアミノ基修飾ゼラチン(例えば、フタル化ゼラチン、トリメリット化ゼラチン、コハク化ゼラチン、マレイン化ゼラチン、エステル化ゼラチン)、および低分子量ゼラチン(分子量:3000〜4万)が用いられる。酸化処理ゼラチンに関しては、特公平5−12696号を、アミノ基修飾ゼラチンに関しては、特開平8−82883号、同11−143002号の記載を参考に出来る。また、必要に応じて特開平11−237704号に記載されている パギー法によって測定された分子量分布において、分子量28万以上の成分を30%以上含む石灰処理骨ゼラチンを用いても良い。また、例えば、欧州特許第758758号、および米国特許第5,733,718号に記載されている澱粉を用いても良い。その他、天然高分子は特公平7−111550号、リサーチ・ディスクロージャー誌第176巻、No.17643(1978年12月)のIX項に記載されている。 Gelatin is used as the protective colloid, but natural polymers and synthetic polymers other than gelatin can be used as well. The types of gelatin include alkali-treated gelatin, oxidized gelatin obtained by oxidizing methionine groups in gelatin molecules with hydrogen peroxide or the like (methionine content 40 μmol / g or less), amino group-modified gelatin (for example, phthalate) that can be used in the present invention. Gelatinized gelatin, trimellitated gelatin, succinated gelatin, maleated gelatin, esterified gelatin) and low molecular weight gelatin (molecular weight: 3000 to 40,000) are used. Japanese Patent Publication No. 5-12696 can be referred to for the oxidized gelatin, and Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 8-82883 and 11-143002 can be referred to for the amino group-modified gelatin. Moreover, you may use the lime processing bone gelatin which contains 30% or more of components of molecular weight 280,000 or more in the molecular weight distribution measured by the paggy method described in Unexamined-Japanese-Patent No. 11-237704 as needed. Further, for example, starches described in European Patent No. 758758 and US Pat. No. 5,733,718 may be used. In addition, natural polymers are described in Japanese Patent Publication No. 7-111550, Research Disclosure Magazine Vol. 176, No. 17643 (December 1978), section IX.
核形成における、過剰ハロゲン塩は、Cl-、Br-、I-が好ましく、これらは単独でも良く、複数で存在しても良い。トータルのハロゲン塩濃度は、3×10-5mol/リットル以上0.1mol/リットル以下、好ましくは3×10-4mol/リットル以上0.01mol/リットル以下である(以下、リットルを「L」とも表記する。)。 In the nucleation, the excess halogen salt is preferably Cl − , Br − , or I − , and these may be used alone or in plural. The total halogen salt concentration is 3 × 10 −5 mol / liter or more and 0.1 mol / liter or less, preferably 3 × 10 −4 mol / liter or more and 0.01 mol / liter or less (hereinafter, the liter is also expressed as “L”). To do.)
核形成時に添加されるハロゲン化物溶液中のハロゲン組成は、Br-、Cl-、I-が好ましく、これらは単独でも良く、複数で存在しても良い。特開平10−293372号に記載されているように塩素含有量が核形成に使用した銀量に対して10モル%以上であるような核形成を用いても良く、この際Cl-の濃度はトータルのハロゲン塩濃度に対して、10mol%以上100mol%以下が好ましく、20mol%以上80mol%以下がさらに好ましい。 The halogen composition in the halide solution added at the time of nucleation is preferably Br − , Cl − , or I − , and these may be used alone or in plural. May be used nucleation such that the chlorine content as described is 10 mol% or more of the amount of silver used in nucleation in JP-A-10-293372, this time Cl - concentrations The total halogen salt concentration is preferably 10 mol% or more and 100 mol% or less, more preferably 20 mol% or more and 80 mol% or less.
核形成時に添加されるハロゲン化物溶液に該保護コロイドを溶解させても良いし、ハロゲン化物溶液とは別に該ゼラチン溶液を核形成時に同時に添加しても良い。
核形成時の温度は、5〜60℃が好ましいが、平均粒径が0.5μm以下の微粒子平板粒子を作る場合は5〜48℃がより好ましい。
分散媒のpHは、アミノ基修飾ゼラチンを用いる場合は、4以上8以下が好ましいが、それ以外のゼラチンを用いる場合は2以上8以下が好ましい。
The protective colloid may be dissolved in the halide solution added at the time of nucleation, or the gelatin solution may be added at the same time as the nucleation separately from the halide solution.
The temperature during nucleation is preferably from 5 to 60 ° C, but more preferably from 5 to 48 ° C when producing fine tabular grains having an average particle size of 0.5 µm or less.
The pH of the dispersion medium is preferably 4 or more and 8 or less when amino group-modified gelatin is used, but preferably 2 or more and 8 or less when other gelatin is used.
2.熟成工程
1.における核形成では、平板粒子以外の微粒子(特に、八面体および一重双晶粒子)が形成される。次に述べる成長過程に入る前に平板粒子以外の粒子を消滅せしめ、平板粒子となるべき形状でかつ単分散性の良い核を得る必要がある。これを可能とするために、核形成に引き続いてオストワルド熟成を行うことがよく知られている。
2. Aging process In the nucleation, fine particles other than tabular grains (especially octahedral and single twin grains) are formed. Before entering the growth process described below, it is necessary to eliminate grains other than tabular grains to obtain nuclei having a shape to be tabular grains and having good monodispersity. In order to make this possible, it is well known to perform Ostwald ripening following nucleation.
核形成後直ちにpBrを調節した後、温度を上昇させ六角平板粒子比率が最高となるまで熟成を行う。この時に、保護コロイド溶液を追添加しても良い。その際の分散媒溶液に対する保護コロイドの濃度は、10質量%以下であることが好ましい。この時使用する追添加保護コロイドは、上述したアルカリ処理ゼラチン、本発明で使用しうるアミノ基修飾ゼラチン、酸化処理ゼラチン、低分子量ゼラチン、天然高分子、または合成高分子が用いられる。また、必要に応じて特開平11−237704号に記載されているパギー法によって測定された分子量分布において、分子量28万以上の成分を30%以上含む石灰処理骨ゼラチンを用いても良い。また、例えば、欧州特許第758758号、および米国特許第5,733,718号に記載されている澱粉を用いても良い。 Immediately after nucleation, pBr is adjusted, and then the temperature is increased and ripening is performed until the hexagonal tabular grain ratio reaches the maximum. At this time, a protective colloid solution may be additionally added. In this case, the concentration of the protective colloid with respect to the dispersion medium solution is preferably 10% by mass or less. As the additional protective colloid used at this time, the above-mentioned alkali-treated gelatin, amino group-modified gelatin, oxidized gelatin, low molecular weight gelatin, natural polymer, or synthetic polymer that can be used in the present invention are used. Moreover, you may use the lime processing bone gelatin which contains 30% or more of components of molecular weight 280,000 or more in the molecular weight distribution measured by the paggy method described in Unexamined-Japanese-Patent No. 11-237704 as needed. Further, for example, starches described in European Patent No. 758758 and US Pat. No. 5,733,718 may be used.
熟成の温度は、40〜80℃、好ましくは50〜80℃であり、pBrは1.2〜3.0である。また、pHはアミノ基修飾ゼラチンが存在する場合は4以上8以下が好ましいが、それ以外のゼラチンの場合は2以上8以下が好ましい。 The aging temperature is 40 to 80 ° C., preferably 50 to 80 ° C., and the pBr is 1.2 to 3.0. The pH is preferably 4 or more and 8 or less when amino group-modified gelatin is present, but is preferably 2 or more and 8 or less for other gelatins.
また、この時平板粒子以外の粒子を速やかに消失せしめるために、ハロゲン化銀溶剤を添加しても良い。この場合のハロゲン化銀溶剤の濃度としては、0.3mol/L以下が好ましく、0.2mol/L以下がより好ましい。
このように熟成して、ほぼ100%平板状粒子のみとする。
At this time, a silver halide solvent may be added so that grains other than the tabular grains disappear quickly. In this case, the concentration of the silver halide solvent is preferably 0.3 mol / L or less, and more preferably 0.2 mol / L or less.
Aging in this way leaves almost 100% tabular grains only.
熟成が終わった後、次の成長過程でハロゲン化銀溶剤が不要の場合は次のようにしてハロゲン化銀溶剤を除去する。 After the ripening, if the silver halide solvent is unnecessary in the next growth process, the silver halide solvent is removed as follows.
(i) NH3のようなアルカリ性ハロゲン化銀溶剤の場合は、HNO3のようなAg+との溶解度積の大きな酸を加えて無効化する。
(ii) チオエーテル系ハロゲン化銀溶剤の場合は、特開昭60-136736号に記載のごとくH2O2等の酸化剤を添加して無効化する。
(i) In the case of an alkaline silver halide solvent such as NH 3 , an acid having a large solubility product with Ag + such as HNO 3 is added to be invalidated.
(ii) In the case of a thioether-based silver halide solvent, it is invalidated by adding an oxidizing agent such as H 2 O 2 as described in JP-A-60-136736.
本発明の感光材料に使用しうる乳剤の製造方法において、熟成工程の終了とは、主平面が6角形または3角形の平板状粒子であって、双晶面を少なくとも2面有するもの以外の粒子(レギュラーおよび一重双晶粒子)が消失した時点をいう。主平面が6角形または3角形の平板状粒子であって、双晶面を少なくとも2面有するもの以外の粒子の消失は、粒子のレプリカのTEM像を観察することにより確認することができる。 In the method for producing an emulsion that can be used in the light-sensitive material of the present invention, the completion of the ripening step means grains other than tabular grains having a hexagonal or triangular main plane and having at least two twin planes. The time when (regular and single twin particles) disappeared. The disappearance of grains other than tabular grains having a hexagonal or triangular main plane and having at least two twin planes can be confirmed by observing a TEM image of a replica of the grains.
熟成工程において、必要に応じて特開平11−174606号記載の過熟成工程を設けても良い。過熟成工程とは、六角平板粒子比率が最高となるまで熟成(熟成工程)した後、更に平板状粒子自身をオストワルド熟成させることで、異方成長スピードの遅い平板状粒子を消去する工程である。熟成工程で得られた平板状粒子数を100とした場合、該過熟成工程により、平板状粒子数を90以下にまで減少させることが好ましく、更に60以上、80以下まで減少させることがより好ましい。 In the ripening step, an over-ripening step described in JP-A-11-174606 may be provided as necessary. The over-ripening step is a step of erasing tabular grains having a slow anisotropic growth speed by further aging the tabular grains themselves after ripening (ripening step) until the hexagonal tabular grain ratio reaches the maximum. . When the number of tabular grains obtained in the aging step is 100, the number of tabular grains is preferably reduced to 90 or less, more preferably 60 or more and 80 or less by the over-ripening step. .
本発明の感光材料に使用しうる乳剤の製造方法において、過熟成工程におけるpBr、温度等の条件は、熟成工程と同じに設定することができる。また、過熟成工程においては、ハロゲン化銀溶剤についても熟成工程と同様に添加することができ、その種類、濃度等も熟成工程のものと同じに設定することができる。 In the method for producing an emulsion that can be used in the light-sensitive material of the present invention, conditions such as pBr and temperature in the overripening step can be set to be the same as those in the ripening step. In the overripening step, the silver halide solvent can be added in the same manner as in the ripening step, and the type, concentration, etc. can be set to be the same as those in the ripening step.
3.成長工程
熟成工程に続く結晶成長期のpBrは1.4〜3.5に保つことが好ましい。成長工程に入る前の分散媒溶液中の保護コロイド濃度が低い場合(1質量%以下)に、保護コロイドを追添加する場合がある。さらに、成長工程中に保護コロイドを追添加する場合がある。追添加の時期は成長工程中のどの時期でも良い。分散媒溶液中の保護コロイド濃度は、1〜10質量%にすることが好ましい。この時使用する保護コロイドは、上述したアルカリ処理ゼラチン、本発明で使用しうるアミノ基修飾ゼラチン、酸化処理ゼラチン、天然高分子、または合成高分子が用いられる。また、必要に応じて特開平11−237704号に記載されているパギー法によって測定された分子量分布において、分子量28万以上の成分を30%以上含む石灰処理骨ゼラチンを用いても良い。また、例えば、欧州特許第758758号、および米国特許第5,733,718号に記載されている澱粉を用いても良い。成長時のpHはアミノ基修飾ゼラチンが存在する場合は4〜8以下が好ましく、それ以外は2〜8が好ましい。結晶成長期におけるAg+、およびハロゲンイオンの添加速度は、結晶臨界成長速度の20〜100%、好ましくは30〜100%の結晶成長速度になるようにする事が好ましい。この場合、結晶成長とともに銀イオンおよびハロゲンイオンの添加速度を増加させていくが、その場合、特公昭48-36890号、同52-16364号記載のように、銀塩およびハロゲン塩水溶液の添加速度を上昇させても良く、水溶液の濃度を増加させても良い。
3. Growth Process It is preferable to keep pBr in the crystal growth period following the ripening process at 1.4 to 3.5. When the concentration of the protective colloid in the dispersion medium solution before entering the growth process is low (1% by mass or less), the protective colloid may be additionally added. In addition, protective colloids may be added during the growth process. The timing of additional addition may be any time during the growth process. The protective colloid concentration in the dispersion medium solution is preferably 1 to 10% by mass. As the protective colloid used at this time, the aforementioned alkali-treated gelatin, amino group-modified gelatin, oxidized gelatin, natural polymer, or synthetic polymer that can be used in the present invention are used. Moreover, you may use the lime processing bone gelatin which contains 30% or more of components of molecular weight 280,000 or more in the molecular weight distribution measured by the paggy method described in Unexamined-Japanese-Patent No. 11-237704 as needed. Further, for example, starches described in European Patent No. 758758 and US Pat. No. 5,733,718 may be used. The pH during growth is preferably 4 to 8 or less when amino group-modified gelatin is present, and 2 to 8 is preferable otherwise. The addition rate of Ag + and halogen ions in the crystal growth period is preferably 20 to 100%, preferably 30 to 100% of the crystal critical growth rate. In this case, the addition rate of silver ions and halogen ions is increased with crystal growth. In this case, the addition rate of silver salt and halogen salt aqueous solution as described in Japanese Patent Publication Nos. 48-36890 and 52-16364. The concentration of the aqueous solution may be increased.
銀塩水溶液とハロゲン塩水溶液を同時に添加するダブルジェット法で行う際、ヨードの不均一による成長転位の導入を防ぐ為、反応容器の攪拌を良くすることや、添加溶液の濃度を希釈することが好ましい。 When performing the double jet method in which a silver salt aqueous solution and a halogen salt aqueous solution are added simultaneously, in order to prevent the introduction of growth dislocation due to heterogeneous iodine, it is possible to improve the stirring of the reaction vessel and dilute the concentration of the added solution. preferable.
銀塩水溶液とハロゲン塩水溶液の添加と同時に反応容器外で調製したAgI微粒子乳剤を添加する方法は更に好ましい。この際、成長の温度は、50℃以上90℃以下が好ましく、60℃以上85℃以下が更に好ましい。また、添加するAgI微粒子乳剤は、あらかじめ調製したものでも良く、連続的に調製しながら添加しても良い。この際の調製方法は特開平10−43570号を参考に出来る。 A method of adding an AgI fine grain emulsion prepared outside the reaction vessel simultaneously with the addition of the silver salt aqueous solution and the halogen salt aqueous solution is further preferred. At this time, the growth temperature is preferably 50 ° C. or higher and 90 ° C. or lower, and more preferably 60 ° C. or higher and 85 ° C. or lower. The AgI fine grain emulsion to be added may be prepared in advance or may be added while continuously preparing. JP-A-10-43570 can be referred to for the preparation method in this case.
添加するAgI乳剤の平均粒子サイズは0.01μm以上0.1μm以下、好ましくは0.02μm以上0.08μm以下である。基盤粒子のヨード組成は、添加するAgI乳剤の量により変化させることが出来る。 The average grain size of the added AgI emulsion is 0.01 μm or more and 0.1 μm or less, preferably 0.02 μm or more and 0.08 μm or less. The iodine composition of the base grains can be changed depending on the amount of AgI emulsion to be added.
また、銀塩水溶液とハロゲン塩水溶液の添加の代わりに、ヨウ臭化銀微粒子を添加しても良い。この際、微粒子のヨード量を所望する基盤粒子のヨード量と等しくすることで、所望のヨード組成の基盤粒子が得られる。ヨウ臭化銀微粒子はあらかじめ調製したものでも良いが、連続的に調製しながら添加する方が好ましい。添加するヨウ臭化銀微粒子サイズは、0.005μm以上0.05μm以下、好ましくは0.01μm以上0.03μm以下である。成長時の温度は60℃以上90℃以下、好ましくは70℃以上85℃以下である。
さらに、上記イオン添加法、AgI微粒子添加法、AgBrI微粒子添加法を組み合わせても良い。
Further, silver iodobromide fine particles may be added in place of the addition of the silver salt aqueous solution and the halogen salt aqueous solution. At this time, the base particles having a desired iodine composition can be obtained by making the iodine amount of the fine particles equal to the iodine amount of the desired base particles. The silver iodobromide fine particles may be prepared in advance, but it is preferable to add them while preparing them continuously. The size of the silver iodobromide fine particles to be added is 0.005 μm or more and 0.05 μm or less, preferably 0.01 μm or more and 0.03 μm or less. The temperature during growth is 60 ° C. or higher and 90 ° C. or lower, preferably 70 ° C. or higher and 85 ° C. or lower.
Further, the above ion addition method, AgI fine particle addition method, and AgBrI fine particle addition method may be combined.
本発明において、平板粒子は好ましくは転位線を有するが、圧力減感の低減のため基盤部には転位線が存在しないことが好ましい。平板粒子の転位線は、例えば、J. F. Hamilton, Phot. Sci. Eng., 11, 57(1967)、T. Shiozawa, J. Soc. Phot. Sci. Japan, 35, 213(1972)に記載の、低温での透過型電子顕微鏡を用いた直接的な方法により観察することができる。すなわち乳剤から粒子に転位線が発生するほどの圧力をかけないよう注意して取り出したハロゲン化銀粒子を電子顕微鏡観察用のメッシュにのせ、電子線による損傷(プリントアウト等)を防ぐように試料を冷却した状態で透過法により観察を行う。この時粒子の厚みが厚い程、電子線が透過しにくくなるので高圧型(0.25μmの厚さの粒子に対して200kV以上)の電子顕微鏡を用いた方がより鮮明に観察することができる。このような方法により得られた粒子の写真より、主平面に対して垂直方向から見た場合の各粒子についての転位線の位置および数を求めることができる。 In the present invention, the tabular grains preferably have dislocation lines, but it is preferable that no dislocation lines exist in the base portion in order to reduce pressure desensitization. Dislocation lines of tabular grains are described in, for example, JF Hamilton, Phot. Sci. Eng., 11, 57 (1967), T. Shiozawa, J. Soc. Phot. Sci. Japan, 35, 213 (1972). It can be observed by a direct method using a transmission electron microscope at a low temperature. In other words, the silver halide grains taken out carefully so as not to apply a pressure that causes dislocation lines to the grains from the emulsion are placed on a mesh for electron microscope observation to prevent damage (printout, etc.) due to electron beams. Observation is performed by a transmission method in a state where the tube is cooled. At this time, the thicker the particle, the more difficult it is to transmit the electron beam. Therefore, it is possible to observe more clearly using a high-pressure type electron microscope (200 kV or more for a particle having a thickness of 0.25 μm). . From the photograph of the particles obtained by such a method, the position and the number of dislocation lines for each particle when viewed from the direction perpendicular to the main plane can be obtained.
次に、(b)工程について説明する。
まず、(b1)工程について説明する。(b1)工程は第1シェル工程と第2シェル工程から成る。上述した基盤に第1シェルを設ける。第1シェルの比率は好ましくは全銀量に対して1%以上30%以下であって、その平均沃化銀含有率20モル%以上100モル%以下である。より好ましくは第1シェルの比率は全銀量に対して1%以上20%以下であって、その平均沃化銀含有率25モル%以上100モル%以下である。基盤への第1シェルの成長は基本的には硝酸銀水溶液と沃化物と臭化物を含むハロゲン水溶液をダブルジェット法で添加する。もしくは硝酸銀水溶液と沃化物を含むハロゲン水溶液をダブルジェット法で添加する。もしくは沃化物を含むハロゲン水溶液をシングルジェット法で添加する。
Next, step (b) will be described.
First, step (b1) will be described. The step (b1) includes a first shell step and a second shell step. A first shell is provided on the base described above. The ratio of the first shell is preferably 1% or more and 30% or less with respect to the total silver amount, and the average silver iodide content thereof is 20 mol% or more and 100 mol% or less. More preferably, the ratio of the first shell is 1% or more and 20% or less with respect to the total silver amount, and the average silver iodide content thereof is 25 mol% or more and 100 mol% or less. For the growth of the first shell on the substrate, a silver nitrate aqueous solution and a halogen aqueous solution containing iodide and bromide are basically added by the double jet method. Alternatively, an aqueous silver nitrate solution and an aqueous halogen solution containing iodide are added by the double jet method. Alternatively, an aqueous halogen solution containing iodide is added by the single jet method.
以上のいずれの方法でも、それらの組み合わせでも良い。第1シェルの平均沃化銀含有率から明らかなように、第1シェル形成時には沃臭化銀混晶の他に沃化銀が析出しえる。いずれの場合でも通常は、次の第2シェルの形成時に、沃化銀は消失し、すべて沃臭化銀混晶に変化する。 Any of the above methods may be used in combination. As is apparent from the average silver iodide content of the first shell, silver iodide can be precipitated in addition to the silver iodobromide mixed crystal when the first shell is formed. In either case, normally, silver iodide disappears and all changes to a silver iodobromide mixed crystal when the next second shell is formed.
第1シェルの形成の好ましい方法として沃臭化銀もしくは沃化銀微粒子乳剤を添加して熟成し溶解する方法がある。さらに、好ましい方法として沃化銀微粒子乳剤を添加して、その後硝酸銀水溶液の添加もしくは硝酸銀水溶液とハロゲン水溶液を添加する方法がある。この場合、沃化銀微粒子乳剤の溶解は、硝酸銀水溶液の添加により促進されるが、添加した沃化銀微粒子乳剤の銀量を用いて第1シェルとし、沃化銀含有率100モル%とする。そして添加した硝酸銀水溶液を第2シェルとして計算する。沃化銀微粒子乳剤は急激に添加されることが好ましい。 As a preferred method for forming the first shell, there is a method in which a silver iodobromide or silver iodide fine grain emulsion is added, ripened and dissolved. Further, as a preferred method, there is a method of adding a silver iodide fine grain emulsion and then adding a silver nitrate aqueous solution or a silver nitrate aqueous solution and a halogen aqueous solution. In this case, dissolution of the silver iodide fine grain emulsion is promoted by the addition of an aqueous silver nitrate solution. The silver content of the added silver iodide fine grain emulsion is used as the first shell, and the silver iodide content is 100 mol%. . Then, the added silver nitrate aqueous solution is calculated as the second shell. The silver iodide fine grain emulsion is preferably added rapidly.
沃化銀微粒子乳剤を急激に添加するとは、好ましくは10分以内に沃化銀微粒子乳剤を添加することをいう。より好ましくは7分以内に添加することをいう。この条件は添加する系の温度、pBr、pH、ゼラチン等の保護コロイド剤の種類、濃度、ハロゲン化銀溶剤の有無、種類、濃度等により変化しうるが、上述したように短い方が好ましい。添加する時には実質的に硝酸銀等の銀塩水溶液の添加は行なわれない方が好ましい。添加時の系の温度は40℃以上90℃以下が好ましく、50℃以上80℃以下が特に好ましい。 The rapid addition of the silver iodide fine grain emulsion means that the silver iodide fine grain emulsion is preferably added within 10 minutes. More preferably, it means adding within 7 minutes. This condition may vary depending on the temperature of the system to be added, pBr, pH, type and concentration of protective colloid agent such as gelatin, presence / absence, type and concentration of silver halide solvent, but as described above, shorter one is preferable. When adding, it is preferable that substantially no silver salt aqueous solution such as silver nitrate is added. The temperature of the system at the time of addition is preferably 40 ° C. or higher and 90 ° C. or lower, and particularly preferably 50 ° C. or higher and 80 ° C. or lower.
沃化銀微粒子乳剤は実質的に沃化銀であれば良く、混晶となり得る限りにおいて臭化銀および/または塩化銀を含有していても良い。好ましくは100%沃化銀である。沃化銀はその結晶構造においてβ体、γ体ならびに米国特許第4,672,026号に記載されているようにα体もしくはα体類似構造があり得る。本発明においては、その結晶構造の制限は特にはないが、β体とγ体の混合物さらに好ましくはβ体が用いられる。沃化銀微粒子乳剤は米国特許第5,004,679号等に記載の添加する直前に形成したものでも良いし、通常の水洗工程を経たものでもいずれでも良いが、本発明においては好ましくは通常の水洗工程を経たものが用いられる。沃化銀微粒子乳剤は、米国特許第4,672,026号等に記載の方法で容易に形成できうる。粒子形成時のpI値を一定にして粒子形成を行う、銀塩水溶液と沃化物塩水溶液のダブルジェット添加法が好ましい。ここでpIは系のI-イオン濃度の逆数の対数である。温度、pI、pH、ゼラチン等の保護コロイド剤の種類、濃度、ハロゲン化銀溶剤の有無、種類、濃度等に特に制限はないが、粒子のサイズは0.1μm以下、より好ましくは0.07μm以下が本発明に都合が良い。微粒子であるために粒子形状は完全には特定できないが粒子サイズの分布の変動係数は25%以下が好ましい。特に20%以下の場合には、本発明の効果が著しい。ここで沃化銀微粒子乳剤のサイズおよびサイズ分布は、沃化銀微粒子を電子顕微鏡観察用のメッシュにのせ、カーボンレプリカ法ではなく直接、透過法によって観察して求める。これは粒子サイズが小さいために、カーボンレプリカ法による観察では測定誤差が大きくなるためである。粒子サイズは観察された粒子と等しい投影面積を有する円の直径と定義する。粒子サイズの分布についても、この等しい投影面積円直径を用いて求める。本発明において最も有効な沃化銀微粒子は粒子サイズが0.06μm以下0.02μm以上であり、粒子サイズ分布の変動係数が18%以下である。 The silver iodide fine grain emulsion may be substantially silver iodide, and may contain silver bromide and / or silver chloride as long as it can form a mixed crystal. 100% silver iodide is preferred. Silver iodide may have β-form, γ-form and α-form or α-form-like structure as described in US Pat. No. 4,672,026 in crystal structure. In the present invention, the crystal structure is not particularly limited, but a mixture of β-form and γ-form, more preferably β-form is used. The silver iodide fine grain emulsion may be formed immediately before the addition described in US Pat. No. 5,004,679 or the like, and may be any one subjected to a normal water washing step. What passed through the water washing process of this is used. The silver iodide fine grain emulsion can be easily formed by the method described in US Pat. No. 4,672,026. A double jet addition method of a silver salt aqueous solution and an iodide salt aqueous solution, in which the pI value at the time of grain formation is kept constant, is preferred. Where pI is the logarithm of the reciprocal of the I − ion concentration of the system. The type, concentration, presence / absence of silver halide solvent, type, concentration, etc. of the protective colloid agent such as temperature, pI, pH, and gelatin are not particularly limited, but the grain size is 0.1 μm or less, more preferably 0.07 μm. The following is convenient for the present invention. The particle shape cannot be completely specified because it is a fine particle, but the variation coefficient of the particle size distribution is preferably 25% or less. In particular, when it is 20% or less, the effect of the present invention is remarkable. Here, the size and size distribution of the silver iodide fine grain emulsion are obtained by placing the silver iodide fine grains on a mesh for observation with an electron microscope and directly observing them by a transmission method instead of the carbon replica method. This is because the measurement error becomes large in the observation by the carbon replica method because the particle size is small. The particle size is defined as the diameter of a circle having a projected area equal to the observed particle. The particle size distribution is also determined by using this equivalent projected area circle diameter. The silver iodide fine particles most effective in the present invention have a grain size of 0.06 μm or less and 0.02 μm or more, and a grain size distribution variation coefficient of 18% or less.
沃化銀微粒子乳剤は上述の粒子形成後、好ましくは米国特許第2,614,929号等に記載の通常の水洗およびpH、pI、ゼラチン等の保護コロイド剤の濃度調整ならびに含有沃化銀の濃度調整が行われる。pHは5以上7以下が好ましい。pI値は沃化銀の溶解度が最低になるpI値もしくはその値よりも高いpI値に設定することが好ましい。保護コロイド剤としては、平均分子量10万程度の通常のゼラチンが好ましく用いられる。平均分子量2万以下の低分子量ゼラチンも好ましく用いられる。また上記の分子量の異なるゼラチンを混合して用いると都合が良い場合がある。乳剤1kgあたりのゼラチン量は好ましくは10g以上100g以下である。より好ましくは20g以上80g以下である。乳剤1kgあたりの銀原子換算の銀量は好ましくは10g以上100g以下である。より好ましくは20g以上80g以下である。ゼラチン量および/または銀量は沃化銀微粒子乳剤を急激に添加するのに適した値を選択することが好ましい。 The silver iodide fine grain emulsion is preferably prepared after the above-described grain formation, by usual water washing described in U.S. Pat. No. 2,614,929, etc., concentration adjustment of protective colloid agents such as pH, pI, gelatin and the like. Density adjustment is performed. The pH is preferably 5 or more and 7 or less. The pI value is preferably set to a pI value at which the solubility of silver iodide is minimized or a pI value higher than that value. As the protective colloid agent, ordinary gelatin having an average molecular weight of about 100,000 is preferably used. Low molecular weight gelatin having an average molecular weight of 20,000 or less is also preferably used. It may be convenient to use a mixture of gelatins having different molecular weights. The amount of gelatin per kg of emulsion is preferably 10 g or more and 100 g or less. More preferably, it is 20 g or more and 80 g or less. The silver amount in terms of silver atom per kg of the emulsion is preferably 10 g or more and 100 g or less. More preferably, it is 20 g or more and 80 g or less. The amount of gelatin and / or silver is preferably selected to be a value suitable for rapidly adding a silver iodide fine grain emulsion.
沃化銀微粒子乳剤は、通常あらかじめ溶解して添加するが、添加時には系の撹拌効率を十分に高める必要がある。好ましくは撹拌回転数は、通常よりも高めに設定される。撹拌時の泡の発生を防じるために消泡剤の添加は効果的である。具体的には、米国特許第5,275,929号の実施例等に記述されている消泡剤が用いられる。 The silver iodide fine grain emulsion is usually dissolved before being added, but it is necessary to sufficiently increase the stirring efficiency of the system at the time of addition. Preferably, the stirring rotation speed is set higher than usual. The addition of an antifoaming agent is effective to prevent the generation of bubbles during stirring. Specifically, antifoaming agents described in Examples of US Pat. No. 5,275,929 are used.
第1シェル形成のさらに好ましい方法として、従来の沃化物イオン供給法(フリーな沃化物イオンを添加する方法)のかわりに米国特許第5、496、694号に記載の沃化物イオン放出剤を用いて、沃化物イオンを急激に生成せしめながら沃化銀を含むハロゲン化銀相を形成することができる。 As a more preferable method for forming the first shell, an iodide ion releasing agent described in US Pat. No. 5,496,694 is used in place of the conventional iodide ion supply method (method of adding free iodide ions). Thus, a silver halide phase containing silver iodide can be formed while rapidly generating iodide ions.
沃化物イオン放出剤は沃化物イオン放出調節剤(塩基および/または求核試薬)との反応により沃化物イオンを放出するが、この際に用いる求核試薬としては好ましくは以下の化学種が挙げられる。例えば、水酸化物イオン、亜硫酸イオン、ヒドロキシルアミン、チオ硫酸イオン、メタ重亜硫酸イオン、ヒドロキサム酸類、オキシム類、ジヒドムキシベンゼン類、メルカプタン類、スルフィン酸塩、カルボン酸塩、アンモニア、アミン類、アルコール類、尿素類、チオ尿素類、フェノール類、ヒドラジン類、ヒドラジド類、セミカルバジド類、ホスフィン類、スルフィド類が挙げられる。 The iodide ion releasing agent releases iodide ions by reaction with an iodide ion release regulator (base and / or nucleophile). Preferred examples of the nucleophilic reagent used in this case include the following chemical species. It is done. For example, hydroxide ion, sulfite ion, hydroxylamine, thiosulfate ion, metabisulfite ion, hydroxamic acids, oximes, dihydroxybenzenes, mercaptans, sulfinate, carboxylate, ammonia, amines, Examples include alcohols, ureas, thioureas, phenols, hydrazines, hydrazides, semicarbazides, phosphines, and sulfides.
塩基や求核試薬の濃度、添加方法、また反応液の温度をコントロールすることにより沃化物イオンの放出速度、タイミングをコントロールすることができる。塩基として好ましくは水酸化アルカリが挙げられる。 The release rate and timing of iodide ions can be controlled by controlling the concentration of the base and the nucleophilic reagent, the addition method, and the temperature of the reaction solution. The base is preferably an alkali hydroxide.
沃化物イオンを急激に生成せしめるのに用いる沃化物イオン放出剤及び沃化物イオン放出調節剤の好ましい濃度範囲は1×10-7〜20Mであり、より好ましくは1×10-5〜10M、さらに好ましくは1×10-4〜5M、特に好ましくは1×10-3〜2Mである。 The preferred concentration range of the iodide ion releasing agent and the iodide ion release controlling agent used to rapidly generate iodide ions is 1 × 10 −7 to 20M, more preferably 1 × 10 −5 to 10M, It is preferably 1 × 10 −4 to 5M, particularly preferably 1 × 10 −3 to 2M.
濃度が20Mを上回ると、分子量の大きい沃化物イオン放出剤及び沃化物イオン放出剤の添加量が粒子形成容器の容量に対して多くなり過ぎるため好ましくない。
また、1×10-7Mを下回ると沃化物イオン放出反応速度が遅くなり、沃化物イオン放出剤を急激に生成せしめるのが困難になるため好ましくない。
When the concentration exceeds 20M, the amount of the iodide ion releasing agent having a large molecular weight and the amount of the iodide ion releasing agent added is excessively large with respect to the capacity of the particle forming container.
On the other hand, if it is less than 1 × 10 −7 M, the iodide ion releasing reaction rate becomes slow, and it becomes difficult to rapidly produce an iodide ion releasing agent, which is not preferable.
好ましい温度範囲は30〜80℃であり、より好ましくは35〜75℃、特に好ましくは35〜60℃である。
温度が80℃を上回る高温では一般に沃化物イオン放出反応速度が極めて速くなり、また30℃を下回る低温では一般に沃化物イオン放出反応速度が極めて遅くなるため、それぞれ使用条件が限られ好ましくない。
A preferable temperature range is 30 to 80 ° C, more preferably 35 to 75 ° C, and particularly preferably 35 to 60 ° C.
When the temperature is higher than 80 ° C., the iodide ion release reaction rate is generally extremely high, and when the temperature is lower than 30 ° C., the iodide ion release reaction rate is generally extremely low.
沃化物イオンの放出の際に塩基を用いる場合、液pHの変化を用いても良い。この時、沃化物イオンの放出速度、タイミングをコントロールするのに好ましいpHの範囲は2〜12であり、より好ましくは3〜11、特に好ましくは5〜10、最も好ましくは調節後のpHが7.5〜10.0である。pH7の中性条件下でも水のイオン積により定まる水酸化物イオンが調節剤として作用する。
また、求核試薬と塩基を併用しても良く、この時もpHを上記の範囲でコントロールし、沃化物イオンの放出速度、タイミングをコントロールしても良い。
When a base is used in releasing iodide ions, a change in solution pH may be used. At this time, the pH range preferable for controlling the release rate and timing of iodide ions is 2 to 12, more preferably 3 to 11, particularly preferably 5 to 10, and most preferably adjusted pH is 7. .5 to 10.0. Even under neutral conditions at pH 7, hydroxide ions determined by the ionic product of water act as regulators.
Further, a nucleophile and a base may be used in combination, and at this time, the pH may be controlled within the above range to control the release rate and timing of iodide ions.
沃化物イオン放出剤から沃素原子を沃化物イオンの形で放出させる場合、全沃素原子を放出させても良いし、一部は分解せずに残っていても良い。
上述した基盤および第1シェルを有する平板粒子上に第2シェルを設ける。第2シェルの比率は好ましくは全銀量に対して10モル%以上40モル%以下であって、その平均沃化銀含有率が0モル%以上5モル%以下である。より好ましくは第2シェルの比率は全銀量に対して15モル%以上30モル%以下であって、その平均沃化銀含有率が0モル%以上3モル%以下である。基盤および第1シェルを有する平板粒子上への第2シェルの成長は該平板粒子のアスペクト比を上げる方向でも下げる方向でも良い。基本的には硝酸銀水溶液と臭化物を含むハロゲン水溶液をダブルジェット法で添加することにより第2シェルの成長は行なわれる。もしくは臭化物を含むハロゲン水溶液を添加した後、硝酸銀水溶液をシングルジェット法で添加しても良い。系の温度、pH、ゼラチン等の保護コロイド剤の種類、濃度、ハロゲン化銀溶剤の有無、種類、濃度等は広範に変化しうる。pBrについては、本発明においては該層の形成終了時のpBrが該層の形成初期時のpBrよりも高くなることが好ましい。好ましくは該層の形成初期のpBrが2.9以下であり該層の形成終了時のpBrが1.7以上である。さらに好ましくは該層の形成初期のpBrが2.5以下であり該層の形成終了時のpBrが1.9以上である。最も好ましくは該層の形成初期のpBrが2.3以下1以上である。最も好ましくは該層の終了時のpBrが2.1以上4.5以下である。
When iodine atoms are released from the iodide ion releasing agent in the form of iodide ions, all iodine atoms may be released or a part of them may remain without being decomposed.
The second shell is provided on the tabular grain having the base and the first shell described above. The ratio of the second shell is preferably 10 mol% or more and 40 mol% or less with respect to the total silver amount, and the average silver iodide content thereof is 0 mol% or more and 5 mol% or less. More preferably, the ratio of the second shell is 15 mol% or more and 30 mol% or less with respect to the total silver amount, and the average silver iodide content thereof is 0 mol% or more and 3 mol% or less. The growth of the second shell on the tabular grains having the base and the first shell may be in the direction of increasing or decreasing the aspect ratio of the tabular grains. Basically, the second shell is grown by adding an aqueous silver nitrate solution and an aqueous halogen solution containing bromide by the double jet method. Alternatively, after adding an aqueous halogen solution containing bromide, an aqueous silver nitrate solution may be added by a single jet method. The system temperature, pH, type and concentration of protective colloid agent such as gelatin, presence or absence of silver halide solvent, type and concentration can vary widely. As for pBr, in the present invention, it is preferable that pBr at the end of formation of the layer is higher than pBr at the initial stage of formation of the layer. Preferably, pBr at the initial stage of formation of the layer is 2.9 or less, and pBr at the end of formation of the layer is 1.7 or more. More preferably, the pBr at the initial stage of formation of the layer is 2.5 or less, and the pBr at the end of the formation of the layer is 1.9 or more. Most preferably, the pBr at the initial stage of formation of the layer is 2.3 or less and 1 or more. Most preferably, the pBr at the end of the layer is from 2.1 to 4.5.
(b1)工程の部分には転位線が存在することが好ましい。転位線は平板粒子の側面部近傍に存在することが好ましい。側面部近傍とは、平板粒子の六辺の外周部(側面部)とその内側部分、すなわち(b1)工程で成長させた部分のことである。側面部に存在する転位線は1粒子当り平均10本以上が好ましい。より好ましくは1粒子当り平均20本以上である。転位線が密集して存在する場合、または転位線が互いに交わって観察される場合には、1粒子当りの転位線の数は明確には数えることができない場合がある。しかしながら、これらの場合においても、おおよそ10本、20本、30本という程度には数えることが可能であり、明らかに数本しか存在しない場合とは区別できる。転位線の数の1粒子当りの平均数については100粒子以上について転位線の数を数えて、数平均として求める。 It is preferable that a dislocation line exists in the part of (b1) process. The dislocation lines are preferably present in the vicinity of the side surface portion of the tabular grain. The vicinity of the side surface portion refers to the outer peripheral portion (side surface portion) of the six sides of the tabular grain and the inner portion thereof, that is, the portion grown in the step (b1). The average number of dislocation lines present on the side surface is preferably 10 or more per particle. More preferably, the average number is 20 or more per particle. When dislocation lines are densely present, or when dislocation lines are observed crossing each other, the number of dislocation lines per grain may not be clearly counted. However, even in these cases, it can be counted to the order of approximately 10, 20, or 30, and it can be clearly distinguished from the case where there are only a few. The average number of dislocation lines per particle is obtained as a number average by counting the number of dislocation lines for 100 grains or more.
本発明の感光材料に使用しうる平板粒子は粒子間の転位線量分布が均一であることが望ましい。本発明の感光材料に使用しうる乳剤は1粒子当たり10本以上の転位線を含むハロゲン化銀粒子が全粒子の100ないし50%(個数)を占めることが好ましく、より好ましくは100ないし70%を、特に好ましくは100ないし90%を占める。
50%を下回ると粒子間の均質性の点で好ましくない。
The tabular grains that can be used in the light-sensitive material of the present invention desirably have a uniform dislocation dose distribution between the grains. In the emulsion which can be used in the light-sensitive material of the present invention, silver halide grains containing 10 or more dislocation lines per grain preferably occupy 100 to 50% (number) of all grains, more preferably 100 to 70%. Particularly preferably 100 to 90%.
If it is less than 50%, it is not preferable in terms of homogeneity between particles.
本発明において転位線を含む粒子の割合及び転位線の本数を求める場合は、少なくとも100粒子について転位線を直接観察して求めることが好ましく、より好ましくは200粒子以上、特に好ましくは300粒子以上について観察して求める。 In the present invention, when determining the ratio of dislocation lines and the number of dislocation lines, it is preferable to directly observe the dislocation lines for at least 100 particles, more preferably 200 particles or more, and particularly preferably 300 particles or more. Observe by observing.
次に、(b2)工程について説明する。
一つ目の態様としては、頂点近傍のみをヨウ化物イオンにより溶解する方法、二つ目の態様としては、銀塩溶液とヨウ化物塩溶液を同時に添加する方法、三つ目の態様としては、ハロゲン化銀溶剤を用いて頂点近傍のみを実質的に溶解する方法、四つ目の態様としてはハロゲン変換を介する方法がある。
Next, step (b2) will be described.
As a first aspect, a method of dissolving only the vicinity of the apex with iodide ions, as a second aspect, a method of simultaneously adding a silver salt solution and an iodide salt solution, as a third aspect, There is a method of substantially dissolving only the vicinity of the apex using a silver halide solvent, and a fourth embodiment is a method via halogen conversion.
一つ目の態様であるヨウ化物イオンにより溶解する方法について説明する。 A method of dissolving with iodide ions according to the first embodiment will be described.
基盤粒子にヨウ化物イオンを添加することで基盤粒子の各頂点部近傍が溶解して丸みを帯びる。続けて、硝酸銀溶液と臭化物溶液、または、硝酸銀溶液と臭化物溶液とヨウ化物溶液の混合液を同時に添加すると粒子は更に成長して頂点近傍に転位が導入される。この方法に関しては、特開平4−149541号、および特開平9−189974号を参考に出来る。 By adding iodide ions to the base particles, the vicinity of each vertex of the base particles is dissolved and rounded. Subsequently, when a silver nitrate solution and a bromide solution, or a mixed solution of a silver nitrate solution, a bromide solution, and an iodide solution are added simultaneously, the grains further grow and dislocations are introduced near the apex. Regarding this method, JP-A-4-149541 and JP-A-9-189974 can be referred to.
本態様において添加されるヨウ化物イオンの総量は、該ヨウ化物イオン総モル数を基盤粒子の総銀量モル数で除した値に100を掛けた値をI2(モル%)とした時、基盤粒子のヨウ化銀含有率I1(モル%)に対して、(I2−I1)が0以上8以下を満たすことが本発明に従う効果的な溶解を得る上で好ましく、より好ましくは0以上4以下である。 The total amount of iodide ions added in this embodiment is calculated by multiplying the total number of moles of iodide ions by the total number of moles of silver in the base particles and multiplying the value by 100 as I 2 (mol%). In order to obtain effective dissolution according to the present invention, it is preferable that (I 2 -I 1 ) satisfy 0 or more and 8 or less with respect to the silver iodide content I 1 (mol%) of the base grain, more preferably 0 or more and 4 or less.
本態様において添加されるヨウ化物イオンの濃度は低い方が好ましく、具体的には0.2モル/L以下の濃度であることが好ましく、更に好ましくは0.1モル/L。
また、ヨウ化物イオン添加時のpAgは8.0以上が好ましく、更に好ましくは8.5以上である。
In this embodiment, the concentration of iodide ions added is preferably low, specifically, preferably 0.2 mol / L or less, and more preferably 0.1 mol / L.
Further, the pAg at the time of addition of iodide ions is preferably 8.0 or more, and more preferably 8.5 or more.
基盤粒子へのヨウ化物イオンの添加による該基盤粒子の頂点部溶解に引き続き、硝酸銀溶液の単独添加、または、硝酸銀溶液と臭化物溶液、もしくは、硝酸銀溶液と臭化物溶液とヨウ化物溶液の混合液を同時に添加して粒子を更に成長させ頂点近傍に転位を導入させる。 Following dissolution of the apex of the base particles by addition of iodide ions to the base particles, a silver nitrate solution alone or a mixed solution of silver nitrate solution and bromide solution or silver nitrate solution, bromide solution and iodide solution is simultaneously added. Addition further grows the grains and introduces dislocations near the apex.
二つ目の態様である銀塩溶液とヨウ化物塩溶液との同時添加による方法について説明する。基盤粒子に対して銀塩溶液とヨウ化物塩溶液を急速に添加することで粒子の頂点部にヨウ化銀もしくはヨウ化銀含率の高いハロゲン化銀をエピタキシャル生成させることが出来る。この際、銀塩溶液とヨウ化物塩溶液の好ましい添加速度は0.2分〜0.5分であり、更に好ましくは0.5分から2分である。この方法に関しては、特開平4−149541号に詳細に記載されているので、参考にすることが出来る。 A method of simultaneous addition of a silver salt solution and an iodide salt solution, which is the second embodiment, will be described. By rapidly adding a silver salt solution and an iodide salt solution to the base grain, silver iodide or silver halide having a high silver iodide content can be epitaxially formed at the top of the grain. At this time, the preferable addition rate of the silver salt solution and the iodide salt solution is 0.2 to 0.5 minutes, and more preferably 0.5 to 2 minutes. Since this method is described in detail in JP-A-4-149541, it can be referred to.
基盤粒子へのヨウ化物イオンの添加による該基盤粒子の頂点部溶解に引き続き、硝酸銀溶液の単独添加、または、硝酸銀溶液と臭化物溶液、もしくは、硝酸銀溶液と臭化物溶液とヨウ化物溶液の混合液を同時に添加して粒子を更に成長させ頂点近傍に転位を導入させる。 Following dissolution of the apex of the base particles by addition of iodide ions to the base particles, a silver nitrate solution alone or a mixed solution of silver nitrate solution and bromide solution or silver nitrate solution, bromide solution and iodide solution is simultaneously added. Addition further grows the grains and introduces dislocations near the apex.
三つ目の態様であるハロゲン化銀溶剤を用いる方法について説明する。
基盤粒子を含む分散媒にハロゲン化銀溶剤を加えた後、銀塩溶液とヨウ化物塩溶液を同時添加すると、ハロゲン化銀溶剤により溶解した基盤粒子の頂点部にヨウ化銀もしくはヨウ化銀含率の高いハロゲン化銀が優先的に成長することになる。この際、銀塩溶液およびヨウ化物塩溶液は急速に添加する必要はない。この方法に関しては、特開平4−149541号に詳細に記載されているので、これを参考に出来る。
A method using a silver halide solvent which is the third embodiment will be described.
When a silver halide solvent is added to the dispersion medium containing the base grains and then a silver salt solution and an iodide salt solution are added at the same time, silver iodide or silver iodide is contained at the apex of the base grains dissolved by the silver halide solvent. High-rate silver halide will preferentially grow. At this time, the silver salt solution and the iodide salt solution do not need to be added rapidly. Since this method is described in detail in JP-A-4-149541, it can be referred to.
基盤粒子へのヨウ化物イオンの添加による該基盤粒子の頂点部溶解に引き続き、硝酸銀溶液の単独添加、または、硝酸銀溶液と臭化物溶液、もしくは、硝酸銀溶液と臭化物溶液とヨウ化物溶液の混合液を同時に添加して粒子を更に成長させ頂点近傍に転位を導入させる。 Following dissolution of the apex of the base particles by addition of iodide ions to the base particles, a silver nitrate solution alone or a mixed solution of silver nitrate solution and bromide solution or silver nitrate solution, bromide solution and iodide solution is simultaneously added. Addition further grows the grains and introduces dislocations near the apex.
次に、四つ目の態様であるハロゲン変換を介する方法について説明する。
基盤粒子にエピタキシャル成長部位指示剤(以下、サイトダイレクターと呼ぶ)、例えば特開昭58−108526号記載の増感色素や、水溶性ヨウ化物を添加することで基盤粒子の頂点部に塩化銀のエピタキシャルを形成した後ヨウ化物イオンを添加することで塩化銀をヨウ化銀もしくはヨウ化銀含率の高いハロゲン化銀へハロゲン変換する方法である。サイトダイレクターは増感色素、水溶性チオシアン酸イオン、および水溶性ヨウ化物イオンが使用できるが、沃化物イオンが好ましい。ヨウ化物イオンは基盤粒子に対して0.0005〜1モル%、好ましくは0.001〜0.5モル%が好ましい。最適な量の沃化物イオンを添加した後、銀塩溶液と塩化物塩溶液の同時添加すると塩化銀のエピタキシャルを基盤粒子の頂点部に形成できる。
Next, a method through halogen conversion which is the fourth embodiment will be described.
By adding an epitaxial growth site indicator (hereinafter referred to as a site director), for example, a sensitizing dye described in JP-A-58-108526, or a water-soluble iodide to the base grain, silver chloride is added to the top part of the base grain. In this method, silver chloride is converted to silver iodide or silver halide having a high silver iodide content by adding iodide ions after the formation of the epitaxial layer. As the site director, sensitizing dyes, water-soluble thiocyanate ions, and water-soluble iodide ions can be used, but iodide ions are preferred. Iodide ion is 0.0005 to 1 mol%, preferably 0.001 to 0.5 mol%, based on the base particles. When an optimum amount of iodide ions is added and then a silver salt solution and a chloride salt solution are added simultaneously, a silver chloride epitaxial layer can be formed at the apex of the base grain.
塩化銀のヨウ化物イオンによるハロゲン変換について説明する。溶解度の大きいハロゲン化銀は溶解度のより小さいハロゲン化銀を形成し得るハロゲンイオンを添加することにより、溶解度のより小さいハロゲン化銀に変換される。この過程はハロゲン変換と呼ばれ、例えば米国特許第4,142,900号に記載されている。基盤の頂点部にエピタキシャル成長した塩化銀をヨウ化物イオンにより選択的にハロゲン変換することで基盤粒子頂点部にヨウ化銀相を形成させる。詳細は、特開平4−149541号に記載されている。 The halogen conversion by the iodide ion of silver chloride will be described. A silver halide having a high solubility is converted to a silver halide having a low solubility by adding a halogen ion capable of forming a silver halide having a low solubility. This process is called halogen conversion and is described, for example, in US Pat. No. 4,142,900. Silver chloride epitaxially grown on the top of the base is selectively halogen-converted with iodide ions to form a silver iodide phase on the top of the base grain. Details are described in JP-A-4-149541.
基盤粒子の頂点部にエピタキシャル成長した塩化銀をヨウ化物イオンの添加によるヨウ化銀相へのハロゲン変換に引き続き、硝酸銀溶液の単独添加、または、硝酸銀溶液と臭化物溶液、もしくは、硝酸銀溶液と臭化物溶液とヨウ化物溶液の混合液を同時に添加して粒子を更に成長させ頂点近傍に転位を導入させる。 Following the halogen conversion of silver chloride epitaxially grown on the top of the base grain to the silver iodide phase by addition of iodide ions, silver nitrate solution alone, or silver nitrate solution and bromide solution, or silver nitrate solution and bromide solution The mixed solution of iodide solution is simultaneously added to further grow the grains and introduce dislocations near the apex.
(b2)工程の部分には転位線が存在することが好ましい。転位線は平板粒子の頂点部近傍に存在することが好ましい。頂点部近傍とは、粒子の中心と各頂点を結ぶ直線の中心からx%の位置の点から、各頂点を作る辺に垂線を下した時に、その垂線とその辺とで囲まれた三次元の部分のことである。このxの値は好ましくは50以上100未満、さらに好ましくは75以上100未満である。側面部に存在する転位線は1粒子当り平均10本以上が好ましい。より好ましくは1粒子当り平均20本以上である。転位線が密集して存在する場合、または転位線が互いに交わって観察される場合には、1粒子当りの転位線の数は明確には数えることができない場合がある。しかしながら、これらの場合においても、おおよそ10本、20本、30本という程度には数えることが可能であり、明らかに数本しか存在しない場合とは区別できる。転位線の数の1粒子当りの平均数については100粒子以上について転位線の数を数えて、数平均として求める。 It is preferable that dislocation lines exist in the step (b2). The dislocation line is preferably present in the vicinity of the apex of the tabular grain. The vicinity of the vertex is a three-dimensional area surrounded by the perpendicular and the side when a perpendicular is drawn from the point at the position of x% from the center of the straight line connecting the center of the particle to each vertex. It is a part of. The value of x is preferably 50 or more and less than 100, more preferably 75 or more and less than 100. The average number of dislocation lines present on the side surface is preferably 10 or more per particle. More preferably, the average number is 20 or more per particle. When dislocation lines are densely present, or when dislocation lines are observed crossing each other, the number of dislocation lines per grain may not be clearly counted. However, even in these cases, it can be counted to the order of approximately 10, 20, or 30, and it can be clearly distinguished from the case where there are only a few. The average number of dislocation lines per particle is obtained as a number average by counting the number of dislocation lines for 100 grains or more.
本発明の感光材料に使用しうる平板粒子は粒子間の転位線量分布が均一であることが望ましい。本発明の感光材料に使用しうる乳剤は1粒子当たり10本以上の転位線を含むハロゲン化銀粒子が全粒子の100ないし50%(個数)を占めることが好ましく、より好ましくは100ないし70%を、特に好ましくは100ないし90%を占める。
50%を下回ると粒子間の均質性の点で好ましくない。
The tabular grains that can be used in the light-sensitive material of the present invention desirably have a uniform dislocation dose distribution between the grains. In the emulsion which can be used in the light-sensitive material of the present invention, silver halide grains containing 10 or more dislocation lines per grain preferably occupy 100 to 50% (number) of all grains, more preferably 100 to 70%. Particularly preferably 100 to 90%.
If it is less than 50%, it is not preferable in terms of homogeneity between particles.
本発明において転位線を含む粒子の割合及び転位線の本数を求める場合は、少なくとも100粒子について転位線を直接観察して求めることが好ましく、より好ましくは200粒子以上、特に好ましくは300粒子以上について観察して求める。 In the present invention, when determining the ratio of dislocation lines and the number of dislocation lines, it is preferable to directly observe the dislocation lines for at least 100 particles, more preferably 200 particles or more, and particularly preferably 300 particles or more. Observe by observing.
次に、(b3)工程について説明する。
基盤粒子へのハロゲン化銀のエピタキシャル形成に関しては、米国特許第4435501号に記載されているように、基盤粒子表面に吸着したヨウ化物イオン、アミノアザインデン、もしくは分光増感色素等のサイトダイレクターによって銀塩エピタキシャルが選択された部位、例えば基盤粒子の側面、もしくは頂点に形成できることが示されている。また、特開平8−69069号には極薄平板粒子基盤の選択された部位に銀塩エピタキシャルを形成させ、このエピタキシャル相を最適な化学増感することで高感化を達成している。
Next, the step (b3) will be described.
Regarding the epitaxial formation of silver halide on the base grain, as described in US Pat. No. 4,435,501, a site director such as iodide ion, aminoazaindene, or spectral sensitizing dye adsorbed on the base grain surface is used. Shows that silver salt epitaxial can be formed at a selected site, for example, at the side surface or the apex of the base particle. JP-A-8-69069 achieves high sensitization by forming silver salt epitaxials at selected sites of an ultrathin tabular grain base and optimally sensitizing this epitaxial phase.
本発明においても、これらの方法を用いて本発明の基盤粒子を高感化することは非常に好ましい。サイトダイレクターは、アミノアザインデン、もしくは分光増感色素を用いても良いし、ヨウ化物イオン、もしくはチオシアン酸イオンを用いることができ、目的に応じて使い分けることも出来るし、組み合わせても良い。 Also in the present invention, it is very preferable to enhance the sensitivity of the base particles of the present invention using these methods. As the site director, aminoazaindene or spectral sensitizing dyes may be used, iodide ions or thiocyanate ions may be used, and they may be used properly according to the purpose or may be combined.
増感色素量、ヨウ化物イオン、およびチオシアン酸イオンの添加量を変化させることで、銀塩エピタキシャルの形成部位を、基盤粒子の側面、あるいは頂点に限定させることが出来る。添加するヨウ化物イオンの量は、基盤粒子の銀量に対して0.0005〜1.0モル%、好ましくは、0.001〜0.5モル%である。また、チオシアン酸イオンの量は、基盤粒子の銀量に対して、0.01〜0.2モル%、好ましくは、0.02〜0.1モル%である。これらサイトダイレクター添加後に、銀塩溶液とハロゲン塩溶液を添加して銀塩エピタキシャルを形成する。この際の、温度は、40〜70℃が好ましく、45〜60℃が更に好ましい。また、この際のpAgは7.5以下が好ましく、6.5以下が更に好ましい。サイトダイレクターを用いることで、基盤粒子の頂点部、もしくは側面部に銀塩のエピタキシャルが形成される。こうして得た乳剤を、特開平8−69069号のようにエピタキシャル相に選択的に化学増感を施して高感化させても良いが、銀塩エピタキシャル形成に引き続き、銀塩溶液とハロゲン塩溶液を同時添加して更に成長させても良い。この際添加するハロゲン塩水溶液は、臭化物塩溶液、もしくは、臭化物塩溶液とヨウ化物塩溶液との混合液が好ましい。またこの際の温度は、40〜80℃が好ましく、45〜70℃が更に好ましい。また、この際のpAgは5.5以上9.5以下が好ましく、6.0以上9.0以下が好ましい。 By changing the addition amount of the sensitizing dye amount, iodide ion, and thiocyanate ion, the silver salt epitaxial formation site can be limited to the side surface or apex of the base particle. The amount of iodide ion to be added is 0.0005 to 1.0 mol%, preferably 0.001 to 0.5 mol%, based on the silver amount of the base particles. The amount of thiocyanate ion is 0.01 to 0.2 mol%, preferably 0.02 to 0.1 mol%, based on the silver amount of the base particles. After the addition of these site directors, a silver salt solution and a halogen salt solution are added to form a silver salt epitaxial. In this case, the temperature is preferably 40 to 70 ° C, more preferably 45 to 60 ° C. In this case, the pAg is preferably 7.5 or less, and more preferably 6.5 or less. By using a site director, a silver salt epitaxial layer is formed at the apex or side of the base particle. The emulsion thus obtained may be sensitized by selectively chemically sensitizing the epitaxial phase as disclosed in JP-A-8-69069. However, following the silver salt epitaxial formation, a silver salt solution and a halogen salt solution are added. Further growth may be performed by simultaneous addition. The halogen salt aqueous solution added at this time is preferably a bromide salt solution or a mixed solution of a bromide salt solution and an iodide salt solution. Moreover, the temperature in this case is preferably 40 to 80 ° C, and more preferably 45 to 70 ° C. In this case, the pAg is preferably 5.5 or more and 9.5 or less, and more preferably 6.0 or more and 9.0 or less.
(b3)工程において形成されるエピタキシャルは、基本的に(a)工程で形成した基盤粒子の外部に基盤粒子とは異なるハロゲン組成が形成されていることを特徴とする。エピタキシャルの組成は、AgCl、AgBrCl、AgBrClI、AgBrI、AgI、AgSCN等が好ましい。また、エピタキシャル層に特開平8−69069号に記載されているような「ドーパント(金属錯体)」を導入することはさらに好ましい。エピタキシャル成長の位置は、基盤粒子の頂点部、側面部、主平面部の少なくとも一部分でも良く、複数の個所にまたがっても良い。頂点部のみ、もしくは、側面部のみ、もしくは、頂点部と側面部の形態を取ることが好ましい。 The epitaxial formed in the step (b3) is basically characterized in that a halogen composition different from the base particles is formed outside the base particles formed in the step (a). The epitaxial composition is preferably AgCl, AgBrCl, AgBrClI, AgBrI, AgI, AgSCN, or the like. It is further preferable to introduce a “dopant (metal complex)” as described in JP-A-8-69069 into the epitaxial layer. The position of the epitaxial growth may be at least a part of the top, side, and main plane portions of the base particle, and may extend over a plurality of locations. It is preferable to take the form of only the apex part, only the side part, or the apex part and the side part.
(b3)工程の部分には転位線が存在しなくても良いが、転位線が存在することはさらに好ましい。転位線は基盤粒子とエピタキシャル成長部との接合部、もしくはエピタキシャル部に存在することが好ましい。接合部、もしくはエピタキシャル部に存在する転位線は1粒子当り平均10本以上が好ましい。より好ましくは1粒子当り平均20本以上である。転位線が密集して存在する場合、または転位線が互いに交わって観察される場合には、1粒子当りの転位線の数は明確には数えることができない場合がある。しかしながら、これらの場合においても、おおよそ10本、20本、30本という程度には数えることが可能であり、明らかに数本しか存在しない場合とは区別できる。転位線の数の1粒子当りの平均数については100粒子以上について転位線の数を数えて、数平均として求める。 (B3) Although dislocation lines do not have to exist in the part of the step, it is more preferable that dislocation lines exist. The dislocation lines are preferably present at the junction between the base particle and the epitaxial growth portion or at the epitaxial portion. The average number of dislocation lines present in the junction or epitaxial part is preferably 10 or more per grain. More preferably, the average number is 20 or more per particle. When dislocation lines are densely present, or when dislocation lines are observed crossing each other, the number of dislocation lines per grain may not be clearly counted. However, even in these cases, it can be counted to the order of approximately 10, 20, or 30, and it can be clearly distinguished from the case where there are only a few. The average number of dislocation lines per particle is obtained as a number average by counting the number of dislocation lines for 100 grains or more.
エピタキシャル部の形成時に6シアノ金属錯体がドープされているのが好ましい。6シアノ金属錯体のうち、鉄、ルテニウム、オスミウム、コバルト、ロジウム、イリジウム又はクロムを含有するものが好ましい。金属錯体の添加量は、ハロゲン化銀1モル当たり10-9乃至10-2モルの範囲であることが好ましく、ハロゲン化銀1モル当たり10-8乃至10-4モルの範囲であることがさらに好ましい。金属錯体は、水または有機溶媒に溶かして添加することができる。有機溶媒は水と混和性を有することが好ましい。有機溶媒の例には、アルコール類、エーテル類、グリコール類、ケトン類、エステル類、及びアミド類が含まれる。 It is preferable that a 6-cyano metal complex is doped during the formation of the epitaxial portion. Among the 6 cyano metal complexes, those containing iron, ruthenium, osmium, cobalt, rhodium, iridium or chromium are preferred. The addition amount of the metal complex is preferably in the range of 10 −9 to 10 −2 mol per mol of silver halide, and more preferably in the range of 10 −8 to 10 −4 mol per mol of silver halide. preferable. The metal complex can be added by dissolving in water or an organic solvent. The organic solvent is preferably miscible with water. Examples of the organic solvent include alcohols, ethers, glycols, ketones, esters, and amides.
本発明の感光材料に使用しうる平板粒子は粒子間の転位線量分布が均一であることが望ましい。本発明の感光材料に使用しうる乳剤は1粒子当たり10本以上の転位線を含むハロゲン化銀粒子が全粒子の100ないし50%(個数)を占めることが好ましく、より好ましくは100ないし70%を、特に好ましくは100ないし90%を占める。
50%を下回ると粒子間の均質性の点で好ましくない。
The tabular grains that can be used in the light-sensitive material of the present invention desirably have a uniform dislocation dose distribution between the grains. In the emulsion which can be used in the light-sensitive material of the present invention, silver halide grains containing 10 or more dislocation lines per grain preferably occupy 100 to 50% (number) of all grains, more preferably 100 to 70%. Particularly preferably 100 to 90%.
If it is less than 50%, it is not preferable in terms of homogeneity between particles.
本発明において転位線を含む粒子の割合及び転位線の本数を求める場合は、少なくとも100粒子について転位線を直接観察して求めることが好ましく、より好ましくは200粒子以上、特に好ましくは300粒子以上について観察して求める。 In the present invention, when determining the ratio of dislocation lines and the number of dislocation lines, it is preferable to directly observe the dislocation lines for at least 100 particles, more preferably 200 particles or more, and particularly preferably 300 particles or more. Observe by observing.
本発明の感光材料に使用しうる乳剤の調製時に用いられる保護コロイドとして、及びその他の親水性コロイド層のバインターとしては、ゼラチンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水性コロイドも用いることができる。 As a protective colloid used in the preparation of an emulsion that can be used in the light-sensitive material of the present invention and as a binder for other hydrophilic colloid layers, gelatin is advantageous, but other hydrophilic colloids are also used. Can do.
例えば、ゼラチン誘導体、ゼラチンと他の高分子とのグラフトポリマー、アルブミン、カゼインのような蛋白質;ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、セルロース硫酸エステル類のようなセルロース誘導体、アルギン酸ソーダ、澱粉誘導体のような糖誘導体;ポリビニルアルコール、ポリビニルアルコール部分アセタール、ポリ−N−ビニルピロリドン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリビニルイミダゾール、ポリビニルピラゾールのような単一あるいは共重合体の如き多種の合成親水性高分子物質を用いることができる。 For example, gelatin derivatives, graft polymers of gelatin and other polymers, proteins such as albumin and casein; cellulose derivatives such as hydroxyethyl cellulose, carboxymethyl cellulose and cellulose sulfates, sugar derivatives such as sodium alginate and starch derivatives Various synthetic hydrophilic polymers such as polyvinyl alcohol, polyvinyl alcohol partial acetal, poly-N-vinyl pyrrolidone, polyacrylic acid, polymethacrylic acid, polyacrylamide, polyvinyl imidazole, polyvinylpyrazole, or a single or copolymer Substances can be used.
本発明の感光材料に使用しうる乳剤は脱塩のために水洗し、新しく用意した保護コロイドに分散にすることが好ましい。保護コロイドとしては、ゼラチンが用いられるが、ゼラチン以外の天然高分子や合成高分子も同様に用いられる。ゼラチンの種類としては、アルカリ処理ゼラチン、ゼラチン分子中のメチオニン基を過酸化水素等で酸化した酸化処理ゼラチン(メチオニン含量40μmol/g以下)、本発明で使用しうるアミノ基修飾ゼラチン(例えば、フタル化ゼラチン、トリメリット化ゼラチン、コハク化ゼラチン、マレイン化ゼラチン、エステル化ゼラチン)が用いられる。また、必要に応じて特開平11−237704号に記載されている パギー法によって測定された分子量分布において、分子量28万以上の成分を30%以上含む石灰処理骨ゼラチンを用いても良い。また、例えば、欧州特許第758758号、および米国特許第5,733,718号に記載されている澱粉を用いても良い。その他、天然高分子は特公平7−111550号、リサーチ・ディスクロージャー誌第176巻、No.17643(1978年12月)のIX項に記載されている。水洗の温度は目的に応じて選べるが、5℃〜50℃の範囲で選ぶことが好ましい。水洗時のpHも目的に応じて選べるが2〜10の間で選ぶことが好ましい。さらに好ましくは3〜8の範囲である。水洗時のpAgも目的に応じて選べるが5〜10の間で選ぶことが好ましい。水洗の方法としてヌードル水洗法、半透膜を用いた透析法、遠心分離法、凝析沈降法、イオン交換法、限外濾過法のなかから選んで用いることができる。凝析沈降法の場合には硫酸塩を用いる方法、有機溶剤を用いる方法、水溶性ポリマーを用いる方法、ゼラチン誘導体を用いる方法などから選ぶことができる。 The emulsion which can be used in the light-sensitive material of the present invention is preferably washed with water for desalting and dispersed in a newly prepared protective colloid. Gelatin is used as the protective colloid, but natural polymers and synthetic polymers other than gelatin can be used as well. The types of gelatin include alkali-treated gelatin, oxidized gelatin obtained by oxidizing methionine groups in gelatin molecules with hydrogen peroxide or the like (methionine content 40 μmol / g or less), amino group-modified gelatin (for example, phthalate) that can be used in the present invention. Gelatinized, trimellitated gelatin, succinylated gelatin, maleated gelatin, esterified gelatin). Moreover, you may use the lime processing bone gelatin which contains 30% or more of components of molecular weight 280,000 or more in the molecular weight distribution measured by the paggy method described in Unexamined-Japanese-Patent No. 11-237704 as needed. Further, for example, starches described in European Patent No. 758758 and US Pat. No. 5,733,718 may be used. In addition, natural polymers are described in Japanese Patent Publication No. 7-111550, Research Disclosure Magazine Vol. 176, No. 17643 (December 1978), section IX. The temperature for washing with water can be selected according to the purpose, but is preferably selected within the range of 5 ° C to 50 ° C. The pH at the time of washing with water can be selected according to the purpose, but is preferably selected between 2 and 10. More preferably, it is the range of 3-8. Although pAg at the time of water washing can also be selected according to the objective, it is preferable to select between 5-10. The washing method can be selected from a noodle washing method, a dialysis method using a semipermeable membrane, a centrifugal separation method, a coagulation sedimentation method, an ion exchange method, and an ultrafiltration method. In the case of the coagulation sedimentation method, a method using a sulfate, a method using an organic solvent, a method using a water-soluble polymer, a method using a gelatin derivative and the like can be selected.
本発明の粒子形成時において、例えば、特開平5−173268号、同5−173269号、同5−173270号、同5−173271号、同6−202258号、同7−175147号に記載されたポリアルキレンオキサイドブロックコポリマー、または、例えば、特許第3089578号に記載されたポリアルキレンオキサイドコポリマーが存在させても良い。該化合物が存在する時期は粒子調製中のどの時期でも良いが、粒子形成の早い段階で用いるとその効果が大きい。 At the time of grain formation of the present invention, it was described in, for example, JP-A-5-173268, JP-A-5-173269, JP-A-5-173270, JP-A-5-173271, JP-A-6-202258, and JP-A-7-175147. A polyalkylene oxide block copolymer or a polyalkylene oxide copolymer described, for example, in US Pat. No. 3,089,578 may be present. The time when the compound is present may be any time during the preparation of the particles, but the effect is great when used at an early stage of particle formation.
本発明の感光材料に使用しうる第3の乳剤のハロゲン化銀粒子が平行な主平面が(100)面塩化銀含有率が10モル%未満の沃臭化銀または塩沃臭化銀よりなる平板状ハロゲン化銀粒子について以下説明する。 The main plane in which the silver halide grains of the third emulsion usable in the light-sensitive material of the present invention are parallel is made of silver iodobromide or silver chloroiodobromide having a (100) plane silver chloride content of less than 10 mol%. The tabular silver halide grains will be described below.
本発明の感光材料に使用しうる{100}平板状粒子は全投影面積の50〜100%、好ましくは70〜100%、より好ましくは90〜100%が主平面が{100}面である平均アスペクト比が2以上の平板状粒子からなる。粒子厚みは0.01〜0.10μm、好ましくは0.02〜0.08μm、より好ましくは0.03〜0.07μmであり、アスペクト比は2〜100、好ましくは3〜50、より好ましくは5〜30である。粒子厚みの変動係数(「分布の標準偏差/平均粒子厚み」の100分率、以下COV.と記す)は30%以下、好ましくは25%以下、より好ましくは20%以下である。このCOV.が小さいほど、粒子厚みの単分散度が高いことを示している。 The {100} tabular grains that can be used in the light-sensitive material of the present invention have an average of 50 to 100%, preferably 70 to 100%, more preferably 90 to 100% of the total projected area of which the main plane is the {100} plane. It consists of tabular grains having an aspect ratio of 2 or more. The particle thickness is 0.01 to 0.10 μm, preferably 0.02 to 0.08 μm, more preferably 0.03 to 0.07 μm, and the aspect ratio is 2 to 100, preferably 3 to 50, more preferably 5 to 30. The variation coefficient of the particle thickness (100% of “standard deviation of distribution / average particle thickness”, hereinafter referred to as COV.) Is 30% or less, preferably 25% or less, more preferably 20% or less. The smaller the COV., The higher the monodispersity of the particle thickness.
平板状粒子の投影面積径ならびに厚みは、レプリカ法による透過電子顕微鏡(TEM)写真を撮影して個々の粒子の投影面積径と厚みを求める。この場合、厚みはレプリカの影(シャドー)の長さから算出する。本発明におけるCOV.の測定は、少なくとも600個以上の粒子について測定した結果である。 The projected area diameter and thickness of the tabular grains are determined by taking a transmission electron microscope (TEM) photograph by a replica method and calculating the projected area diameter and thickness of each grain. In this case, the thickness is calculated from the length of the shadow of the replica. The measurement of COV. In the present invention is the result of measuring at least 600 particles.
本発明の感光材料に使用しうる{100}平板状粒子の組成は塩化銀含有率10モル%未満の塩沃臭化銀あるいは沃臭化銀である。また、その他の銀塩、例えばロダン銀、硫化銀、セレン化銀、テルル化銀、炭酸銀、リン酸銀、有機酸銀等が別粒子として、あるいはハロゲン化銀粒子の一部分として含まれていても良い。 The composition of {100} tabular grains that can be used in the light-sensitive material of the present invention is silver chloroiodobromide or silver iodobromide having a silver chloride content of less than 10 mol%. Further, other silver salts such as rhodan silver, silver sulfide, silver selenide, silver telluride, silver carbonate, silver phosphate, organic acid silver, etc. are contained as separate grains or as a part of silver halide grains. Also good.
AgX結晶中のハロゲン組成を調べる方法としては、X線回折法が知られている。X線回折法については基礎分析化学講座24「X線回折」等に詳しく記載されている。標準的には、CuのKβ線を線源としてAgX(420)面の回折角度を粉末法により求める。 As a method for examining the halogen composition in the AgX crystal, the X-ray diffraction method is known. The X-ray diffraction method is described in detail in Basic Analytical Chemistry Course 24 “X-ray diffraction” and the like. Typically, the diffraction angle of the AgX (420) plane is determined by a powder method using Cu Kβ rays as a radiation source.
回折核2θが求まるとブラッグの式から格子定数aが以下のように求まる。
2 d sinθ =λ
d = a /( h2 + k2 + l2 )1/2
ここで、2θは( h k l )面の回折角、λはX線の波長、dは( h k l )面の面間隔である。ハロゲン化銀固溶体のハロゲン組成と格子定数aの関係は既に知られているので(例えば、T. H. James編 「The Theory of Photographic Process. 4th Ed.」Macmillian New Yorkに記載されている)、格子定数が分かるとハロゲン組成が決定できる。
When the diffraction nucleus 2θ is obtained, the lattice constant a is obtained from the Bragg equation as follows.
2 d sinθ = λ
d = a / (h 2 + k 2 + l 2 ) 1/2
Here, 2θ is the diffraction angle of the (hkl) plane, λ is the wavelength of the X-ray, and d is the surface spacing of the (hkl) plane. Since the relationship between the halogen composition of silver halide solid solutions and the lattice constant a is already known (for example, described in TH James “The Theory of Photographic Process. 4th Ed.” Macmillian New York), the lattice constant is Knowing that, the halogen composition can be determined.
本発明の感光材料に使用しうる{100}平板状粒子のハロゲン組成構造は、どのようなものでも良い。例えばコアとシェルのハロゲン組成の異なる(コア/シェル)2構造を有する粒子やコアと2つ以上のシェルを有する多重構造の粒子が例として挙げられる。コアの組成としては臭化銀が好ましいがこれに限られるものではない。また、シェルの組成はコアよりも沃化銀含有率が高い方が好ましい。 Any halogen composition structure of {100} tabular grains that can be used in the light-sensitive material of the present invention may be used. For example, grains having a (core / shell) 2 structure in which the halogen composition of the core and the shell are different, and grains having a multiple structure having a core and two or more shells can be mentioned. The composition of the core is preferably silver bromide, but is not limited thereto. The shell composition preferably has a higher silver iodide content than the core.
本発明の感光材料に使用しうる{100}平板状粒子は、平均沃化銀含有率2.3モル以上、かつ表面の平均沃化銀含有率は8モ%以上であることが好ましい。また、沃化銀含有率の粒子間の変動係数は20%未満であることがより好ましい。表面沃化銀含有率は先述したXPSを用いて測定することができる。 The {100} tabular grains that can be used in the light-sensitive material of the present invention preferably have an average silver iodide content of 2.3 mol or more and a surface average silver iodide content of 8 mol% or more. Further, the coefficient of variation of silver iodide content between grains is more preferably less than 20%. The surface silver iodide content can be measured using the XPS described above.
本発明の感光材料に使用しうる{100}平板状粒子を形状で分類すると、次の6つを挙げることができる。(1)主平面の形状が直角平行四辺形である粒子。(2)該直角平行四辺形の4つの角の内、1個以上、好ましくは1〜4個が非等価的に欠落した粒子。即ち〔(最大欠落部の面積)/最少欠落部の面積=K1が2〜∞の粒子)〕、(3)該4つの角が等価的に欠落した粒子(該K1が2より小の粒子)、(4)該欠落部の側面の面積の5〜100%、好ましくは20〜100%が{111}面である粒子。(5)主平面を構成する4つの辺の内の少なくとも相対する2つの辺が外側に凸の曲線である粒子、(6)該直角平行四辺形の4つの角のうちの1つ以上、好ましくは1〜4個が直角平行四辺形状に欠落した粒子。これらは電子顕微鏡を用いた観察により確認できる。 When {100} tabular grains that can be used in the light-sensitive material of the present invention are classified by shape, the following six can be listed. (1) Particles whose main plane is a right-angled parallelogram. (2) Particles in which one or more, preferably 1 to 4 of the four corners of the right-angled parallelogram are missing non-equivalently. That is, [(the area of the largest missing portion) / the area of the smallest missing portion = particles having K1 of 2 to ∞)], (3) particles in which the four corners are equivalently missing (particles having K1 smaller than 2) (4) Particles in which 5 to 100%, preferably 20 to 100%, of the area of the side surface of the missing portion is the {111} plane. (5) Particles in which at least two opposite sides of the four sides constituting the main plane are curved outwardly convex, (6) one or more of the four corners of the right-angled parallelogram, preferably Is a particle in which 1 to 4 particles are missing in a right-angled parallelogram shape. These can be confirmed by observation using an electron microscope.
本発明の感光材料に使用しうる{100}平板状粒子の表面の晶癖に占める{100}面比率は、80%以上、好ましくは90%以上であるが、それについては粒子の電子顕微鏡写真を用いて統計的に見積もることができる。乳剤中のAgX粒子における{100}平板比率が100%にほぼ近い場合には、以下の方法にて上記見積もりを確認することもできる。その方法とは、日本化学会紙1984、No.6、942pに記載してある方法であり、一定量の該{100}平板状粒子にベンゾチアシアニン色素を量を変えて40℃で17時間吸着させ、625nmでの光吸収より単位乳剤あたりの全粒子の表面積の総和(S)及び{100}面の面積の総和(S1)を求め、これらの値をもとに、式:S1/S×100(%)よって{100}面比率を算出する方法である。 The {100} plane ratio in the crystal habit of the surface of {100} tabular grains that can be used in the light-sensitive material of the present invention is 80% or more, preferably 90% or more. Can be used for statistical estimation. When the {100} tabular ratio of AgX grains in the emulsion is almost 100%, the above estimation can be confirmed by the following method. The method is described in Japanese Chemical Society paper 1984, No. 6, 942p. The amount of the benzothiocyanine dye is changed to a certain amount of the {100} tabular grains at 40 ° C. for 17 hours. The total surface area of all grains per unit emulsion (S) and the total area of {100} planes (S1) are determined by light absorption at 625 nm. Based on these values, the formula: S1 / S This is a method of calculating the {100} plane ratio by × 100 (%).
本発明の感光材料に使用しうる{100}平板状粒子の平均球相当直径は好ましくは0.35μm未満である。粒子サイズの見積もりはレプリカ法によって、投影面積と厚みの測定により求めることができる。 The average sphere equivalent diameter of {100} tabular grains that can be used in the light-sensitive material of the present invention is preferably less than 0.35 μm. The estimation of the particle size can be obtained by measuring the projected area and thickness by the replica method.
本発明感光材料に使用しうる第4の乳剤のハロゲン化銀粒子が平行な主平面が(111)面あるいは(100)面でありアスペクト比が2以上であって、少なくとも80モル%以上の塩化銀を含有する平板状粒子について以下説明する。 The main plane in which the silver halide grains of the fourth emulsion that can be used in the light-sensitive material of the present invention are parallel is the (111) plane or the (100) plane, the aspect ratio is 2 or more, and the chloride is at least 80 mol% or more. The tabular grains containing silver will be described below.
高塩化銀で(111)粒子を製造するためには特別の工夫が必要である。Weyの米国特許第4,399,215号でアンモニアを用いて高塩化銀平板粒子を製造する方法を用いてもよい。Maskaskyの米国特許第5,061,617号明細書でチオシアン酸塩を用いて高塩化銀平板粒子を製造する方法を用いてもよい。以下に示した高塩化銀粒子において(111)面を外表面とする粒子を形成するために粒子形成時に添加剤(晶相制御剤)を添加する方法を用いてもよい。以下に示す。 In order to produce (111) grains with high silver chloride, special measures are required. A method for producing high silver chloride tabular grains using ammonia in US Pat. No. 4,399,215 to Wey may be used. A method for producing high silver chloride tabular grains using thiocyanate in US Pat. No. 5,061,617 of Maskasky may be used. In order to form grains having the (111) face as the outer surface in the high silver chloride grains shown below, a method of adding an additive (crystal phase controlling agent) at the grain formation may be used. It is shown below.
特許番号 晶相制御剤 発明者
米国特許第4,400,463号 アザインデン類+ マスカスキー
チオエーテルペプタイザ−
米国特許第4,783,398号 2−4−ジチアゾリジノン 御舩等
米国特許第4,713,323号 アミノピラゾロピリミジン マスカスキー
米国特許第4,983,508号 ビスピリジニウム塩 石黒等
米国特許第5,185,239号 トリアミノピリミジン マスカスキー
米国特許第5,178,997号 7−アザインドール系化合物 マスカスキー
米国特許第5,178,998号 キサンチン マスカスキー
特開昭64−70741号 色素 西川等
特開平3−212639号 アミノチオエーテル 石黒
特開平4−283742号 チオ尿素誘導体 石黒
特開平4−335632号 トリアゾリウム塩 石黒
特開平2−32号 ビスピリジニウム塩 石黒等
特開平8−227117号 モノピリジニウム塩 大関等
Patent Number Crystal Phase Control Agent Inventor US Pat. No. 4,400,463 Azaindenes + Muscasky
Thioether peptizer
U.S. Pat. No. 4,783,398 2-4-dithiazolidinone Gyoto etc. U.S. Pat. No. 4,713,323 Aminopyrazolopyrimidine Muscasky U.S. Pat. No. 4,983,508 Bispyridinium salt Ishiguro et al. U.S. Pat. No. 5 No. 5,185,239 Triaminopyrimidine Muscasky US Pat. No. 5,178,997 7-azaindole compounds Muscasky US Pat. No. 5,178,998 Xanthine Muscasky JP-A 64-70741 Dye Nishikawa et al. Special Kaihei 3-212439 Aminothioether Ishiguro JP 4-283742 Thiourea derivative Ishiguro JP 4-335632 Triazolium salt Ishiguro JP 2-32 Bispyridinium salt Ishiguro etc. JP 8-227117 Monopyridinium salt Ozeki etc.
(111)平板粒子形成に関しては、前記表中に記載されているように種々の晶相制御剤を用いる方法が知られているが、特開平2−32号に記載された化合物(化合物例1〜42)が好ましく、特開平8−227117号に記載されている晶相制御剤1〜29が特に好ましい。しかしながら、本発明はこれらに限定されるものではない。 Regarding the formation of (111) tabular grains, methods using various crystal phase controlling agents are known as described in the above table, but the compounds described in JP-A-2-32 (Compound Example 1) are known. To 42) are preferred, and the crystal phase control agents 1 to 29 described in JP-A-8-227117 are particularly preferred. However, the present invention is not limited to these.
(111)平板粒子はふたつの平行な双晶面を形成することにより得られる。双晶面の形成は温度、分散媒(ゼラチン)、ハロゲン濃度等により左右されるのでこれらの適当な条件を設定しなければならない。晶相制御剤を核形成時に存在させる場合にはゼラチン濃度は0.1%〜10%が好ましい。塩化物濃度は0.01モル/L以上、好ましくは0.03モル/L以上である。 (111) tabular grains are obtained by forming two parallel twin planes. Since the formation of twin planes depends on temperature, dispersion medium (gelatin), halogen concentration, etc., these appropriate conditions must be set. When the crystal phase controlling agent is present during nucleation, the gelatin concentration is preferably 0.1% to 10%. The chloride concentration is 0.01 mol / L or more, preferably 0.03 mol / L or more.
また、粒子を単分散化するためには、核形成に際して晶相制御剤を用いないのが好ましいことが特開平8−184931号に開示されている。晶相制御剤を核形成時に用いない場合にはゼラチン濃度は0.03%〜10%、好ましくは0.05%〜1.0%である。塩化物濃度は0.001モル/L〜1モル/L、好ましくは0.003モル/L〜0.1モル/Lである。核形成温度は2℃〜90℃まで任意の温度を選べるが5℃〜80℃が好ましく、特に5℃〜40℃が好ましい。 In order to monodisperse the particles, it is disclosed in JP-A-8-184931 that it is preferable not to use a crystal phase controlling agent in nucleation. When the crystal phase controlling agent is not used during nucleation, the gelatin concentration is 0.03% to 10%, preferably 0.05% to 1.0%. The chloride concentration is 0.001 mol / L to 1 mol / L, preferably 0.003 mol / L to 0.1 mol / L. The nucleation temperature may be any temperature from 2 ° C. to 90 ° C., but is preferably 5 ° C. to 80 ° C., particularly preferably 5 ° C. to 40 ° C.
最初の核形成段階で平板粒子の核が形成されるが、核形成直後には反応容器内には平板粒子以外の核も多数含まれる。そのため、核形成後、熟成を行い、平板粒子のみを残存させ他を消滅させる技術が必要となる。通常のオストワルド熟成を行うと、平板粒子核も溶解消滅するため、平板粒子核が減少し、結果として得られる平板粒子のサイズが増大してしまう。これを防止するために、晶相制御剤を添加する。特にフタル化ゼラチンを併用することで、晶相制御剤の効果を高め、平板粒子の溶解を防止できる。熟成中のpAgは特に重要であり、銀塩化銀電極に対して60〜130mVが好ましい。 Tabular grain nuclei are formed in the initial nucleation stage, but immediately after the nucleation, the reaction vessel contains many nuclei other than tabular grains. Therefore, a technique for aging after nucleation, leaving only tabular grains and extinguishing others is required. When normal Ostwald ripening is performed, tabular grain nuclei also dissolve and disappear, so that the number of tabular grain nuclei decreases and the resulting tabular grain size increases. In order to prevent this, a crystal phase controlling agent is added. In particular, by using phthalated gelatin in combination, the effect of the crystal phase controlling agent can be enhanced and dissolution of tabular grains can be prevented. The pAg during aging is particularly important, and is preferably 60 to 130 mV with respect to the silver-silver chloride electrode.
次に、形成した核を物理熟成及び銀塩とハロゲン化物の添加により、晶相制御剤存在下に成長させる。この際には、塩化物濃度は5モル/L以下、好ましくは0.05〜1モル/Lである。粒子成長時の温度は10℃〜90℃の範囲で選択できるが、30℃〜80℃の範囲が好ましい。 Next, the formed nucleus is grown in the presence of a crystal phase control agent by physical ripening and addition of a silver salt and a halide. In this case, the chloride concentration is 5 mol / L or less, preferably 0.05 to 1 mol / L. The temperature during grain growth can be selected in the range of 10 ° C to 90 ° C, but the range of 30 ° C to 80 ° C is preferable.
晶相制御剤の全使用量は完成乳剤中のハロゲン化銀1モルあたり、6×10-5モル以上、特に3×10-4モル〜6×10-2モルが好ましい。晶相制御剤の添加時期としては、ハロゲン化銀粒子の核形成時から物理熟成、粒子成長途中のどの時期でもよい。添加後より(111)面が形成を開始する。晶相制御剤は予め反応容器内に添加してもよいが、小サイズ平板粒子形成する場合には、粒子成長とともに反応容器内に添加し、その濃度を増大させるのが好ましい。 The total amount of the crystal phase controlling agent used is preferably 6 × 10 −5 mol or more, particularly 3 × 10 −4 mol to 6 × 10 −2 mol, per mol of silver halide in the finished emulsion. The timing of adding the crystal phase controlling agent may be any time from the nucleation of silver halide grains to physical ripening and grain growth. Formation of the (111) plane starts after the addition. The crystal phase controlling agent may be added to the reaction vessel in advance, but when forming small-sized tabular grains, it is preferable to add the crystal phase controlling agent to the reaction vessel together with the grain growth to increase the concentration.
核形成時に使用した分散媒量が成長にとって不足の場合には添加により補う必要がある。成長には10g/L〜100g/Lのゼラチンが存在するのが好ましい。補うゼラチンとしてはフタル化ゼラチンあるいはトリメリットゼラチンが好ましい。
粒子形成時のpHは任意であるが中性から酸性領域が好ましい。
When the amount of the dispersion medium used at the time of nucleation is insufficient for growth, it is necessary to compensate by addition. Preferably 10 g / L to 100 g / L of gelatin is present for growth. As supplementary gelatin, phthalated gelatin or trimellit gelatin is preferable.
The pH at the time of particle formation is arbitrary, but a neutral to acidic region is preferable.
次に(100)平板粒子について説明する。(100)平板粒子は(100)面を主平面とした平板状粒子である。該主平面の形状は、直角平行四辺形形状または、該直角平行四辺形のある一つの角が欠落した3〜5角形形状(欠落した形状とは、その角を頂点とし、その角をなす辺によって形成される直角三角形部分)、または該欠落部分が2つ以上4つ以下存在する4〜8角形形状等がある。 Next, (100) tabular grains will be described. The (100) tabular grains are tabular grains having the (100) plane as the main plane. The shape of the main plane is a right-angled parallelogram shape, or a 3-5 pentagon shape where one corner of the right-angled parallelogram is missing (the missing shape is the side that forms the corner with the corner as the apex. Or a 4-8 octagonal shape in which two or more and four or less missing portions exist.
欠落した部分を補った直角平行四辺形形状を、補充四辺形とすると、該直角平行四辺形および該補充四辺形の隣接辺比率(長辺の長さ/短辺の長さ)は1〜6、好ましくは1〜4、より好ましくは1〜2である。 When a right-angled parallelogram shape that compensates for the missing portion is a supplementary quadrilateral, the adjacent side ratio (long side length / short side length) of the right-angled parallelogram and the supplemental quadrilateral is 1 to 6. , Preferably 1 to 4, more preferably 1 to 2.
(100)主平面を有する平板状ハロゲン化銀乳剤粒子の形成法としては、ゼラチン水溶液のような分散媒中に銀塩水溶液とハロゲン化物塩水溶液を攪拌しながら添加、混合することにより行うが、この時、例えば、特開平6−301129号、同6−347929号、同9−34045号、同9−96881号では、ヨウ化銀またはヨウ化物イオンを、あるいは、臭化銀または臭化物イオンを存在させ、塩化銀との結晶格子の大きさの違いから核に歪みを生じさせ、螺旋転位の様な異方成長性を付与する結晶欠陥を導入する方法が開示されている。該螺旋転位が導入されると、低過飽和条件ではその面での2次元核の形成が律速ではなくなるため、この面での結晶化が進み、螺旋転位を導入することによって平板状の粒子が形成される。ここで低過飽和条件とは臨界添加時の好ましくは35%以下、より好ましくは2〜20%を示す。該結晶欠陥が螺旋転位であると確定されたわけでは無いが、転位の導入された方向、あるいは粒子に異方成長性が付与される事から螺旋転位である可能性が高いと考えられている。平板粒子をより薄くする為には、導入された該転位保持が好ましい事が特開平8−122954号、同9−189977号に開示されている。 (100) As a method of forming tabular silver halide emulsion grains having a main plane, an aqueous silver salt solution and an aqueous halide salt solution are added and mixed in a dispersion medium such as an aqueous gelatin solution while stirring. At this time, for example, in JP-A-6-301129, 6-347929, 9-34045 and 9-96881, silver iodide or iodide ion, or silver bromide or bromide ion is present. And a method of introducing a crystal defect that imparts anisotropic growth such as a screw dislocation by causing distortion in the nucleus due to the difference in the size of the crystal lattice from silver chloride. When the screw dislocation is introduced, the formation of two-dimensional nuclei on the surface is not rate-determining under low supersaturation conditions, so that crystallization proceeds on this surface, and tabular grains are formed by introducing the screw dislocation. Is done. Here, the low supersaturation condition is preferably 35% or less, more preferably 2 to 20% at the time of critical addition. Although the crystal defect is not determined to be a screw dislocation, it is considered that there is a high possibility that the crystal defect is a screw dislocation because the direction in which the dislocation is introduced or the anisotropic growth property is imparted to the particles. In order to make the tabular grains thinner, it is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. Hei 8-122954 and Hei 9-189777 that the introduced dislocations are preferably retained.
また、特開平6−347928号ではイミダゾール類、3,5−ジアミノトリアゾール類を用いたり、特開平8−339044号ではポリビニルアルコール類を用いるなどして、(100)面形成促進剤を添加して(100)平板粒子を形成する方法が開示されている。しかしながら、本発明はこれらに限定されるものではない。 In addition, in JP-A-6-347928, imidazoles and 3,5-diaminotriazoles are used, and in JP-A-8-339044, polyvinyl alcohols are used to add a (100) surface formation accelerator. A method of forming (100) tabular grains is disclosed. However, the present invention is not limited to these.
高塩化銀粒子とは塩化銀含有量が80モル%以上の粒子をいうが、95モル%以上が塩化銀であることが好ましい。本発明の感光材料に使用しうる粒子はコア部とコア部を取り巻くシェル部よりなる、いわゆるコア/シェル構造をしていることが好ましい。コア部は90モル%以上が塩化銀であることが好ましい。コア部はさらに、ハロゲン組成の異なる二つ以上の部分からなっていてもよい。シェル部は全粒子体積の50%以下であることが好ましく、20%以下であることが特に好ましい。シェル部はヨウ塩化銀もしくは沃臭塩化銀であることが好ましい。シェル部は0.5モル%から13モル%のヨードを含有することが好ましく、1モル%から13モル%で含有することが特に好ましい。ヨウ化銀の全粒子中の含有量は5モル%以下が好ましく、1モル%以下が特に好ましい。
臭化銀含有率もコア部よりもシェル部が高いことが好ましい。臭化銀含有率は20モル%以下が好ましく、5モル%以下が特に好ましい。
High silver chloride grains mean grains having a silver chloride content of 80 mol% or more, and preferably 95 mol% or more is silver chloride. The particles that can be used in the light-sensitive material of the present invention preferably have a so-called core / shell structure comprising a core portion and a shell portion surrounding the core portion. It is preferable that 90 mol% or more of the core portion is silver chloride. The core part may further comprise two or more parts having different halogen compositions. The shell portion is preferably 50% or less, particularly preferably 20% or less of the total particle volume. The shell portion is preferably silver iodochloride or silver iodobromochloride. The shell part preferably contains 0.5 mol% to 13 mol% of iodine, particularly preferably 1 mol% to 13 mol%. The content of silver iodide in all grains is preferably 5 mol% or less, particularly preferably 1 mol% or less.
The silver bromide content is preferably higher in the shell part than in the core part. The silver bromide content is preferably 20 mol% or less, particularly preferably 5 mol% or less.
ハロゲン化銀粒子の平均粒子サイズ(体積換算球相当直径)に特に制限はないが、好ましくは0.1μm〜0.8μm、特に好ましくは0.1μm〜0.6μmである。
ハロゲン化銀の平板粒子は、投影面積径は好ましくは0.2〜1.0μmである。ここでハロゲン化銀粒子の投影面積径とは、電子顕微鏡写真における粒子の投影面積に等しい面積の円の直径を云う。また、厚みは0.2μm以下、好ましくは0.1μm以下、特に好ましくは0.06μm以下である。本発明において全ハロゲン化銀粒子の投影面積の50%以上が、平均アスペクト比(その直径/厚みの比)2以上であり、好ましくは5以上20以下である。
The average grain size (equivalent volume equivalent sphere diameter) of silver halide grains is not particularly limited, but is preferably 0.1 μm to 0.8 μm, particularly preferably 0.1 μm to 0.6 μm.
The tabular grain of silver halide preferably has a projected area diameter of 0.2 to 1.0 μm. Here, the projected area diameter of silver halide grains refers to the diameter of a circle having an area equal to the projected area of grains in an electron micrograph. The thickness is 0.2 μm or less, preferably 0.1 μm or less, particularly preferably 0.06 μm or less. In the present invention, 50% or more of the projected area of all the silver halide grains is 2 or more in average aspect ratio (diameter / thickness ratio), preferably 5 or more and 20 or less.
一般に平板粒子は、2つの平行な面を有する平板状であり、したがって本発明における「厚み」とは平板粒子を構成する2つの平行な面の距離で表される。
本発明の感光材料に使用しうるハロゲン化銀粒子の粒子サイズの分布は、多分散でも単分散でもよいが、単分散であることがより好ましい。特に全投影面積の50%以上を占める平板粒子の投影面積径の変動係数が20%以下が好ましい。理想的には0%である。
In general, a tabular grain has a tabular shape having two parallel planes. Therefore, the “thickness” in the present invention is represented by a distance between two parallel planes constituting the tabular grain.
The grain size distribution of silver halide grains that can be used in the light-sensitive material of the present invention may be polydispersed or monodispersed, but is more preferably monodispersed. In particular, the variation coefficient of the projected area diameter of tabular grains occupying 50% or more of the total projected area is preferably 20% or less. Ideally 0%.
晶相制御剤が粒子形成後も粒子表面に存在すると、増感色素の吸着や現像に影響を与える。そのため、晶相制御剤は粒子形成後に除去することが好ましい。ただし、晶相制御剤を除去した場合、高塩化銀(111)平板粒子は、通常の条件では(111)面を維持するのが困難である。したがって、増感色素等写真的に有用な化合物で置換して粒子形態を保持することが好ましい。この方法については、特開平9−80656号、特開平9−106026号、米国特許第5,221,602号明細書、同第5,286,452号、同第5,298,387号、同第5,298,388号、同第5,176,992号等に記載されている。 If the crystal phase controlling agent is present on the particle surface even after the formation of the particles, the adsorption of the sensitizing dye and the development are affected. Therefore, it is preferable to remove the crystal phase controlling agent after forming the particles. However, when the crystal phase controlling agent is removed, it is difficult for the high silver chloride (111) tabular grains to maintain the (111) plane under normal conditions. Therefore, it is preferable to maintain the particle form by substituting with a photographically useful compound such as a sensitizing dye. About this method, JP-A-9-80656, JP-A-9-106026, US Pat. No. 5,221,602, US Pat. No. 5,286,452, US Pat. No. 5,298,387, US Pat. No. 5,298,388, No. 5,176,992, and the like.
上記方法により晶相制御剤は粒子から脱着するが、脱着した晶相制御剤を水洗により乳剤外へ除去するのが好ましい。水洗温度としては、保護コロイドとして通常用いられるゼラチンが凝固しない温度で行うことができる。水洗方法としては、フロキュレーション法や限外ろ過法等の種々の公知技術を用いることができる。水洗温度は40℃以上が好ましい。
また、晶相制御剤は低pHで粒子より脱着が促進される。従って、水洗工程のpHは粒子が過度に凝集しない限りの低いpHが好ましい。
Although the crystal phase controlling agent is desorbed from the grains by the above method, it is preferable to remove the desorbed crystal phase controlling agent from the emulsion by washing with water. The washing temperature may be a temperature at which gelatin normally used as a protective colloid does not coagulate. As the water washing method, various known techniques such as a flocculation method and an ultrafiltration method can be used. The washing temperature is preferably 40 ° C. or higher.
In addition, the crystal phase controlling agent is more desorbed than the particles at a low pH. Therefore, the pH of the water washing step is preferably a low pH as long as the particles do not aggregate excessively.
以下に、本発明の感光材料に使用しうる乳剤全般に関わる内容について説明する。
本発明で好ましく用いられる還元増感とは、ハロゲン化銀に対して還元増感剤を添加する方法、銀熟成と呼ばれるpAg1〜7の低pAg雰囲気下でハロゲン化銀粒子を成長あるいは熟成させる方法、高pH熟成と呼ばれるpH8〜11の高pHの雰囲気下で成長あるいは熟成させる方法のいずれかを選ぶこともできる。また、これらのうち2つ以上の方法を併用することもできる。
The contents relating to all the emulsions that can be used in the light-sensitive material of the present invention will be described below.
The reduction sensitization preferably used in the present invention is a method of adding a reduction sensitizer to silver halide, a method of growing or ripening silver halide grains in a low pAg atmosphere of pAg 1 to 7 called silver ripening. Any of the methods of growing or aging in a high pH atmosphere of pH 8 to 11 called high pH aging can also be selected. Also, two or more of these methods can be used in combination.
特に、還元増感剤を添加する方法は還元増感のレベルを微妙に調節できる点で好ましい方法である。
還元増感剤として第一錫塩、アスコルビン酸およびその誘導体、ハイドロキノンおよびその誘導体、カテコールおよびその誘導体、ヒドロキシルアミンおよびその誘導体、アミンおよびポリアミン類、ヒドラジンおよびその誘導体、パラフェニレンジアミンおよびその誘導体、ホルムアミジンスルフィン酸(二酸化チオ尿素)、シラン化合物、ボラン化合物を挙げることができる。本発明の還元増感にはこれら還元増感剤を選んで用いることができ、また2種以上の化合物を併用することもできる。還元増感の方法に関しては米国特許第2,518,698号、同第3,201,254号、同第3,411,917号、同第3,779,777号、同第3,930,867号に開示された方法や、還元剤の使用方法に関しては、特公昭57−33572、同58−1410、特開昭57−179835に開示された方法を使用することができる。還元増感剤としてカテコールおよびその誘導体、ヒドロキシルアミンおよびその誘導体、ホルムアミジンスルフィン酸(二酸化チオ尿素)、が好ましい化合物である。還元増感剤の添加量は乳剤製造条件に依存するので添加量を選ぶ必要があるが、ハロゲン化銀1モル当り10-7〜10-1モルの範囲が適当である。
還元増感剤は水あるいはアルコール類、グリコール類、ケトン類、エステル類、アミド類などの溶媒に溶かし粒子成長中に添加される。
In particular, the method of adding a reduction sensitizer is a preferable method in that the level of reduction sensitization can be finely adjusted.
As a reduction sensitizer, stannous salt, ascorbic acid and derivatives thereof, hydroquinone and derivatives thereof, catechol and derivatives thereof, hydroxylamine and derivatives thereof, amines and polyamines, hydrazine and derivatives thereof, paraphenylenediamine and derivatives thereof, form Examples include amidine sulfinic acid (thiourea dioxide), silane compounds, and borane compounds. These reduction sensitizers can be selected and used in the reduction sensitization of the present invention, and two or more compounds can be used in combination. Regarding the method of reduction sensitization, U.S. Pat. Nos. 2,518,698, 3,201,254, 3,411,917, 3,779,777, 3,930, Regarding the method disclosed in No. 867 and the method of using a reducing agent, the methods disclosed in JP-B-57-33572, JP-A-58-1410 and JP-A-57-179835 can be used. Catechol and its derivatives, hydroxylamine and its derivatives, and formamidine sulfinic acid (thiourea dioxide) are preferred compounds as reduction sensitizers. Since the addition amount of the reduction sensitizer depends on the emulsion production conditions, it is necessary to select the addition amount, but a range of 10 −7 to 10 −1 mol per mol of silver halide is appropriate.
The reduction sensitizer is dissolved in water or a solvent such as alcohols, glycols, ketones, esters and amides and added during particle growth.
本発明で用いることができるハロゲン化銀溶剤としては、米国特許第3,271,157号、同第3,531,289号、同3,574,628号、特開昭54−1019号、同54−158917号等に記載された(a)有機チオエーテル類、特開昭53−82408号、同55−77737号、同55−2982号等に記載された(b)チオ尿素誘導体、特開昭53−144319号に記載された(c)酸素または硫黄原子と窒素原子とにはさまれたチオカルボニル基を有するハロゲン化銀溶剤、特開昭54−100717号に記載された(d)イミダゾール類、(e)アンモニア、(f)チオシアネート等があげられる。 Examples of the silver halide solvent that can be used in the present invention include U.S. Pat. Nos. 3,271,157, 3,531,289, 3,574,628, and JP-A-54-1019. (B) thiourea derivatives described in JP-A-53-82408, JP-A-55-77737, JP-A-55-2982, etc. (C) a silver halide solvent having a thiocarbonyl group sandwiched between an oxygen or sulfur atom and a nitrogen atom, as described in JP-A No. 53-144319, and (d) imidazoles as described in JP-A No. 54-1000071 (E) ammonia, (f) thiocyanate and the like.
特に好ましい溶剤としては、チオシアネート、アンモニアおよびテトラメチルチオ尿素がある。また用いられる溶剤の量は種類によっても異なるが、例えばチオシアネートの場合、好ましい量はハロゲン化銀1モル当り1×10-4モル以上1×10-2モル以下である。 Particularly preferred solvents include thiocyanate, ammonia and tetramethylthiourea. The amount of the solvent used varies depending on the type. For example, in the case of thiocyanate, a preferable amount is 1 × 10 −4 mol or more and 1 × 10 −2 mol or less per mol of silver halide.
本発明の感光材料に使用しうる乳剤の調製時、例えば粒子形成時、脱塩工程、化学増感時、塗布前に金属イオンの塩を存在させることは目的に応じて好ましい。粒子にドープする場合には粒子形成時、粒子表面の修飾あるいは化学増感剤として用いる時は粒子形成後、化学増感終了前に添加することが好ましい。先述したように、粒子全体にドープする場合と粒子のコアー部のみ、あるいはシェル部のみ、あるいはエピタキシャル部のみにドープする方法も選べる。例えば、Mg、Ca、Sr、Ba、Al、Sc、Y、La、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ga、Ru、Rh、Pd、Re、Os、Ir、Pt、Au、Cd、Hg、Tl、In、Sn、Pb、Biを用いることができる。これらの金属はアンモニウム塩、酢酸塩、硝酸塩、硫酸塩、燐酸塩、水酸化物あるいは6配位錯塩、4配位錯塩など粒子形成時に溶解させることができる塩の形であれば添加できる。例えば、CdBr2、CdCl2、Cd(NO3)2、Pb(NO3)2、Pb(CH3COO)2、K4[Fe(CN)6]、(NH4)4[Fe(CN)6]、K2IrCl6、(NH4)3RhCl6、K4Ru(CN)6があげられる。配位化合物のリガンドとしてハロ、アコ、シアノ、シアネート、チオシアネート、ニトロシル、チオニトロシル、オキソ、カルボニルのなかから選ぶことができる。これらは金属化合物を1種類のみ用いてもよいが2種あるいは3種以上を組み合せて用いてよい。 Depending on the purpose, it is preferable that a metal ion salt is present at the time of preparation of an emulsion that can be used in the light-sensitive material of the present invention, for example, during grain formation, desalting step, chemical sensitization, and before coating. When the particles are doped, it is preferably added after the formation of the particles, before the completion of the chemical sensitization after the formation of the particles when used as a particle sensitizer or a chemical sensitizer. As described above, it is possible to select a method of doping the whole particle and a method of doping only the core part of the particle, only the shell part, or only the epitaxial part. For example, Mg, Ca, Sr, Ba, Al, Sc, Y, La, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Ga, Ru, Rh, Pd, Re, Os, Ir, Pt, Au, Cd, Hg, Tl, In, Sn, Pb, and Bi can be used. These metals can be added in the form of a salt that can be dissolved during particle formation, such as ammonium salt, acetate salt, nitrate salt, sulfate salt, phosphate salt, hydroxide, hexacoordinated complex salt, and tetracoordinated complex salt. For example, CdBr 2, CdCl 2, Cd (NO 3) 2, Pb (NO 3) 2, Pb (CH 3 COO) 2, K 4 [Fe (CN) 6], (NH 4) 4 [Fe (CN) 6], K 2 IrCl 6, (NH 4) 3 RhCl 6, K 4 Ru (CN) 6 and the like. The ligand of the coordination compound can be selected from halo, aco, cyano, cyanate, thiocyanate, nitrosyl, thionitrosyl, oxo and carbonyl. These may use only one kind of metal compound, but may be used in combination of two or more kinds.
金属化合物は水またはメタノール、アセトンのような適当な有機溶媒に溶かして添加するのが好ましい。溶液を安定化するためにハロゲン化水素水溶液(例えば、HCl、HBr)あるいはハロゲン化アルカリ(例えば、KCl、NaCl、KBr、NaBr)を添加する方法を用いることができる。また必要に応じ酸・アルカリなどを加えてもよい。金属化合物は粒子形成前の反応容器に添加しても粒子形成の途中で加えることもできる。また水溶性銀塩(例えば、AgNO3)あるいはハロゲン化アルカリ水溶液(例えば、NaCl、KBr、KI)に添加しハロゲン化銀粒子形成中連続して添加することもできる。さらに水溶性銀塩、ハロゲン化アルカリとは独立の溶液を用意し粒子形成中の適切な時期に連続して添加してもよい。さらに種々の添加方法を組み合せるのも好ましい。 The metal compound is preferably added after being dissolved in water or a suitable organic solvent such as methanol or acetone. In order to stabilize the solution, a method of adding an aqueous hydrogen halide solution (for example, HCl, HBr) or an alkali halide (for example, KCl, NaCl, KBr, NaBr) can be used. Moreover, you may add an acid, an alkali, etc. as needed. The metal compound can be added to the reaction vessel before particle formation or can be added during particle formation. Further, it can be added to a water-soluble silver salt (eg, AgNO 3 ) or an alkali halide aqueous solution (eg, NaCl, KBr, KI) and continuously added during the formation of silver halide grains. Further, a solution independent of the water-soluble silver salt and alkali halide may be prepared and added continuously at an appropriate time during grain formation. It is also preferable to combine various addition methods.
米国特許第3,772,031号に記載されているようなカルコゲン化合物を乳剤調製中に添加する方法も有用な場合がある。S、Se、Te以外にもシアン塩、チオシアン塩、セレノシアン酸、炭酸塩、リン酸塩、酢酸塩を存在させてもよい。 A method of adding a chalcogen compound during preparation of an emulsion as described in US Pat. No. 3,772,031 may be useful. In addition to S, Se, and Te, cyanate, thiocyanate, selenocyanic acid, carbonate, phosphate, and acetate may be present.
本発明の感光材料に使用しうるハロゲン化銀粒子は硫黄増感、セレン増感およびテルル増感等のカルコゲン増感、金増感およびパラジウム増感等の貴金属増感、並びに還元増感の少なくとも1つをハロゲン化銀乳剤の製造工程の任意の工程で施こすことができる。2種以上の増感法を組み合せることは好ましい。どの工程で化学増感するかによって種々のタイプの乳剤を調製することができる。粒子の内部に化学増感核をうめ込むタイプ、粒子表面から浅い位置にうめ込むタイプ、あるいは表面に化学増感核を作るタイプがある。本発明の感光材料に使用しうる乳剤は目的に応じて化学増感核の場所を選ぶことができるが、一般に好ましいのは表面近傍に少なくとも一種の化学増感核を作った場合である。 The silver halide grains that can be used in the light-sensitive material of the present invention are sulfur sensitization, chalcogen sensitization such as selenium sensitization and tellurium sensitization, noble metal sensitization such as gold sensitization and palladium sensitization, and reduction sensitization. One can be applied in any step of the silver halide emulsion production process. It is preferable to combine two or more sensitization methods. Various types of emulsions can be prepared depending on the step of chemical sensitization. There are types that embed chemical sensitization nuclei inside the particles, types that embed in a shallow position from the particle surface, or types that make chemical sensitization nuclei on the surface. In the emulsion which can be used in the light-sensitive material of the present invention, the location of chemical sensitization nuclei can be selected according to the purpose, but generally preferred is the case where at least one chemical sensitization nucleus is formed in the vicinity of the surface.
本発明で好ましく実施しうる化学増感の一つはカルコゲン増感と貴金属増感の単独又は組合せであり、ジェームス(T.H.James)著、ザ・フォトグラフィック・プロセス、第4版、マクミラン社刊、1977年、(T.H.James、The Theory of the Photographic Process,4th ed,Macmillan,1977)67−76頁に記載されるように活性ゼラチンを用いて行うことができるし、またリサーチ・ディスクロージャー、120巻、1974年4月、12008;リサーチ・ディスクロージャー、34巻、1975年6月、13452、米国特許第2,642,361号、同第3,297,446号、同第3,772,031号、同第3,857,711、同第3,901,714号、同第4,266,018号、および同第3,904,415号、並びに英国特許第1,315,755号に記載されるようにpAg 5〜10、pH5〜8および温度30〜80℃において硫黄、セレン、テルル、金、白金、パラジウム、イリジウムまたはこれら増感剤の複数の組合せとすることができる。貴金属増感においては、金、白金、パラジウム、イリジウム等の貴金属塩を用いることができ、中でも特に金増感、パラジウム増感および両者の併用が好ましい。 One chemical sensitization that can be preferably carried out in the present invention is chalcogen sensitization and noble metal sensitization, either alone or in combination, by TH James, The Photographic Process, 4th Edition, Macmillan. 1977, (TH James, The Theory of the Photographic Process, 4th ed, Macmillan, 1977), pages 67-76, and can also be performed using active gelatin. Disclosure, 120, April 1974, 12008; Research Disclosure, Volume 34, June 1975, 13452, U.S. Pat. Nos. 2,642,361, 3,297,446, 3, No. 772,031, No. 3,857,711, No. 3,90 714, 4,266,018 and 3,904,415, and British Patent 1,315,755, pAg 5-10, pH 5-8 and temperature 30 At ˜80 ° C., sulfur, selenium, tellurium, gold, platinum, palladium, iridium or a combination of these sensitizers can be used. In the noble metal sensitization, noble metal salts such as gold, platinum, palladium, iridium and the like can be used, and gold sensitization, palladium sensitization and the combined use of both are particularly preferable.
パラジウム化合物はパラジウム2価塩または4価の塩を意味する。好ましいパラジウム化合物は、R2PdX6またはR2PdX4で表わされる。ここでRは水素原子、アルカリ金属原子またはアンモニウム基を表わす。Xはハロゲン原子を表わし塩素、臭素または沃素原子を表わす。 The palladium compound means a palladium divalent salt or a tetravalent salt. Preferred palladium compounds are represented by R 2 PdX 6 or R 2 PdX 4 . Here, R represents a hydrogen atom, an alkali metal atom or an ammonium group. X represents a halogen atom and represents a chlorine, bromine or iodine atom.
具体的には、K2PdCl4、(NH4)2PdCl6、Na2PdCl4、(NH4)2PdCl4、Li2PdCl4、Na2PdCl6またはK2PdBr4が好ましい。金化合物およびパラジウム化合物はチオシアン酸塩あるいはセレノシアン酸塩と併用することが好ましい。 Specifically, K 2 PdCl 4 , (NH 4 ) 2 PdCl 6 , Na 2 PdCl 4 , (NH 4 ) 2 PdCl 4 , Li 2 PdCl 4 , Na 2 PdCl 6 or K 2 PdBr 4 is preferable. Gold compounds and palladium compounds are preferably used in combination with thiocyanate or selenocyanate.
有用な化学増感助剤には、アザインデン、アザピリダジン、アザピリミジンのごとき、化学増感の過程でカブリを抑制し、且つ感度を増大するものとして知られた化合物が用いられる。化学増感助剤改質剤の例は、米国特許第2,131,038号、同第3,411,914号、同第3,554,757号、特開昭58−126526号および前述ダフィン著「写真乳剤化学」、138〜143頁に記載されている。 Useful chemical sensitization aids include compounds known to suppress fog and increase sensitivity during the process of chemical sensitization, such as azaindene, azapyridazine, and azapyrimidine. Examples of chemical sensitization aid modifiers are disclosed in U.S. Pat. Nos. 2,131,038, 3,411,914, 3,554,757, JP-A-58-126526, and the above-mentioned daffine. It is described in the book “photographic emulsion chemistry”, pp. 138-143.
本発明の感光材料に使用しうる乳剤の製造工程中に銀に対する酸化剤を用いることが好ましい。銀に対する酸化剤とは、金属銀に作用して銀イオンに変換せしめる作用を有する化合物をいう。特にハロゲン化銀粒子の形成過程および化学増感過程において副生するきわめて微小な銀粒子を、銀イオンに変換せしめる化合物が有効である。ここで生成する銀イオンは、例えば、ハロゲン化銀、硫化銀、セレン化銀のような水に難溶の銀塩を形成してもよく、又、硝酸銀のような水に易溶の銀塩を形成してもよい。銀に対する酸化剤は、無機物であっても、有機物であってもよい。無機の酸化剤としては、例えば、オゾン、過酸化水素およびその付加物(例えば、NaBO2・H2O2・3H2O、2NaCO3・3H2O2、Na4P2O7・2H2O2、2Na2SO4・H2O2・2H2O)、ペルオキシ酸塩(例えば、K2S2O8、K2C2O6、K2P2O8)、ペルオキシ錯体化合物(例えば、K2[Ti(O2)C2O4]・3H2O、4K2SO4・Ti(O2)OH・SO4・2H2O、Na3[VO(O2)(C2H4)2]・6H2O)、過マンガン酸塩(例えば、KMnO4)、クロム酸塩(例えば、K2Cr2O7)のような酸素酸塩、沃素や臭素のようなハロゲン元素、過ハロゲン酸塩(例えば、過沃素酸カリウム)、高原子価の金属の塩(例えば、ヘキサシアノ第二鉄酸カリウム)およびチオスルフォン酸塩がある。 It is preferable to use an oxidizing agent for silver during the production process of the emulsion that can be used in the light-sensitive material of the present invention. The oxidizing agent for silver refers to a compound having an action of acting on metallic silver and converting it into silver ions. Particularly effective are compounds capable of converting extremely fine silver grains by-produced in the process of forming silver halide grains and chemical sensitization into silver ions. The silver ions generated here may form, for example, a silver salt that is hardly soluble in water such as silver halide, silver sulfide, or silver selenide, or a silver salt that is easily soluble in water such as silver nitrate. May be formed. The oxidizing agent for silver may be an inorganic substance or an organic substance. Examples of the inorganic oxidizing agent include ozone, hydrogen peroxide and adducts thereof (for example, NaBO 2 .H 2 O 2 .3H 2 O, 2NaCO 3 .3H 2 O 2 , Na 4 P 2 O 7 .2H 2). O 2, 2Na 2 SO 4 · H 2 O 2 · 2H 2 O), peroxy acid salt (e.g., K 2 S 2 O 8, K 2 C 2 O 6, K 2 P 2 O 8), peroxy complex compound ( For example, K 2 [Ti (O 2 ) C 2 O 4] · 3H 2 O, 4K 2 SO 4 · Ti (O 2) OH · SO 4 · 2H 2 O, Na 3 [VO (O 2) (C 2 H 4 ) 2 ] · 6H 2 O), permanganate (eg, KMnO 4 ), oxyacid salts such as chromate (eg, K 2 Cr 2 O 7 ), halogen elements such as iodine and bromine Perhalogenates (eg potassium periodate), high valent metal salts (eg potassium hexacyanoferric acid) and thio There is a sulfonate.
また、有機の酸化剤としては、p−キノンのようなキノン類、過酢酸や過安息香酸のような有機過酸化物、活性ハロゲンを放出する化合物(例えば、N−ブロムサクシンイミド、クロラミンT、クロラミンB)が例として挙げられる。 Examples of organic oxidizing agents include quinones such as p-quinone, organic peroxides such as peracetic acid and perbenzoic acid, and compounds that release active halogens (for example, N-bromosuccinimide, chloramine T, An example is chloramine B).
本発明の好ましい酸化剤は、オゾン、過酸化水素およびその付加物、ハロゲン元素、チオスルフォン酸塩の無機酸化剤及びキノン類の有機酸化剤である。前述の還元増感と銀に対する酸化剤を併用するのは好ましい態様である。酸化剤を用いたのち還元増感を施こす方法、その逆方法あるいは両者を同時に共存させる方法のなかから選んで用いることができる。これらの方法は粒子形成工程でも化学増感工程でも選んで用いることができる。 Preferred oxidizing agents of the present invention are ozone, hydrogen peroxide and its adducts, halogen elements, thiosulfonate inorganic oxidizing agents, and quinone organic oxidizing agents. It is a preferred embodiment to use the aforementioned reduction sensitization in combination with an oxidizing agent for silver. The method can be selected from a method of applying reduction sensitization after using an oxidizing agent, a reverse method thereof, or a method of simultaneously coexisting both. These methods can be selected and used in either the particle formation step or the chemical sensitization step.
本発明に用いられる写真乳剤には、感光材料の製造工程、保存中あるいは写真処理中のかぶりを防止し、あるいは写真性能を安定化させる目的で、種々の化合物を含有させることができる。すなわちチアゾール類、例えば、ベンゾチアゾリウム塩、ニトロイミダゾール類、ニトロベンズイミダゾール類、クロロベンズイミダゾール類、ブロモベンズイミダゾール類、メルカプトチアゾール類、メルカプトベンゾチアゾール類、メルカプトベンズイミダゾール類、メルカプトチアジアゾール類、アミノトリアゾール類、ベンゾトリアゾール類、ニトロベンゾトリアゾール類、メルカプトテトラゾール類(特に1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール);メルカプトピリミジン類;メルカプトトリアジン類;例えば、オキサドリンチオンのようなチオケト化合物;アザインデン類、例えば、トリアザインデン類、テトラアザインデン類(特に4−ヒドロキシ置換(1,3,3a,7)チトラアザインデン類)、ペンタアザインデン類のようなかぶり防止剤または安定剤として知られた、多くの化合物を加えることができる。例えば、米国特許第3,954,474号、同第3,982,947号、特公昭52−28660号に記載されたものを用いることができる。好ましい化合物の一つに特開昭63−212932号に記載された化合物がある。かぶり防止剤および安定剤は粒子形成前、粒子形成中、粒子形成後、水洗工程、水洗後の分散時、化学増感前、化学増感中、化学増感後、塗布前のいろいろな時期に目的に応じて添加することができる。乳剤調製中に添加して本来のかぶり防止および安定化効果を発現する以外に、粒子の晶壁を制御する、粒子サイズを小さくする、粒子の溶解性を減少させる、化学増感を制御する、色素の配列を制御するなど多目的に用いることができる。 The photographic emulsion used in the present invention may contain various compounds for the purpose of preventing fogging during the production process, storage or photographic processing of the light-sensitive material, or stabilizing the photographic performance. That is, thiazoles such as benzothiazolium salts, nitroimidazoles, nitrobenzimidazoles, chlorobenzimidazoles, bromobenzimidazoles, mercaptothiazoles, mercaptobenzothiazoles, mercaptobenzimidazoles, mercaptothiadiazoles, amino Triazoles, benzotriazoles, nitrobenzotriazoles, mercaptotetrazoles (especially 1-phenyl-5-mercaptotetrazole); mercaptopyrimidines; mercaptotriazines; for example, thioketo compounds such as oxadrine thione; , Triazaindenes, tetraazaindenes (especially 4-hydroxy substituted (1,3,3a, 7) chitraazaindenes), pentaazaindene Known as antifoggants or stabilizers, such as, it can be added to many compounds. For example, those described in US Pat. Nos. 3,954,474, 3,982,947, and Japanese Patent Publication No. 52-28660 can be used. One preferred compound is a compound described in JP-A-63-212932. Antifoggants and stabilizers are used at various times before particle formation, during particle formation, after particle formation, water washing process, dispersion after water washing, chemical sensitization, during chemical sensitization, after chemical sensitization, and before coating. It can be added depending on the purpose. In addition to the original antifogging and stabilizing effect added during emulsion preparation, control the crystal wall of grains, reduce grain size, reduce grain solubility, control chemical sensitization, It can be used for various purposes such as controlling the arrangement of dyes.
本発明に用いられる写真乳剤は、メチン色素類その他によって分光増感されることが本発明の効果を発揮するのに好ましい。用いられる色素には、シアニン色素、メロシアニン色素、複合シアニン色素、複合メロシアニン色素、ホロポーラーシアニン色素、ヘミシアニン色素、スチリル色素およびヘミオキソノール色素が包含される。特に有用な色素は、シアニン色素、メロシアニン色素、および複合メロシアニン色素に属する色素である。これらの色素類には、塩基性複素環核としてシアニン色素類に通常利用される核のいずれをも適用できる。すなわち、例えば、ピロリン核、オキサゾリン核、チオゾリン核、ピロール核、オキサゾール核、チアゾール核、セレナゾール核、イミダゾール核、テトラゾール核、ピリジン核;これらの核に脂環式炭化水素環が融合した核;及びこれらの核に芳香族炭化水素環が融合した核、即ち、例えば、インドレニン核、ベンゾインドレニン核、インドール核、ベンゾオキサドール核、ナフトオキサゾール核、ベンゾチアゾール核、ナフトチアゾール核、ベンゾセレナゾール核、ベンゾイミダゾール核、キノリン核が適用できる。これらの核は炭素原子上に置換基を有していてもよい。 The photographic emulsion used in the present invention is preferably spectrally sensitized with methine dyes or the like in order to exhibit the effects of the present invention. The dyes used include cyanine dyes, merocyanine dyes, complex cyanine dyes, complex merocyanine dyes, holopolar cyanine dyes, hemicyanine dyes, styryl dyes and hemioxonol dyes. Particularly useful dyes are those belonging to cyanine dyes, merocyanine dyes, and complex merocyanine dyes. Any of nuclei usually used for cyanine dyes as basic heterocyclic nuclei can be applied to these dyes. That is, for example, pyrroline nucleus, oxazoline nucleus, thiozoline nucleus, pyrrole nucleus, oxazole nucleus, thiazole nucleus, selenazole nucleus, imidazole nucleus, tetrazole nucleus, pyridine nucleus; a nucleus in which an alicyclic hydrocarbon ring is fused to these nuclei; and Nuclei in which aromatic hydrocarbon rings are fused to these nuclei, for example, indolenine nucleus, benzoindolenine nucleus, indole nucleus, benzoxador nucleus, naphthoxazole nucleus, benzothiazole nucleus, naphthothiazole nucleus, benzoselenazole Nuclei, benzimidazole nuclei and quinoline nuclei are applicable. These nuclei may have a substituent on the carbon atom.
メロシアニン色素または複合メロシアニン色素にはケトメチレン構造を有する核として、例えば、ピラゾリン−5−オン核、チオヒダントイン核、2−チオオキサゾリジン−2,4−ジオン核、チアゾリジン−2,4−ジオン核、ローダニン核、チオバルビツール酸核の5〜6員複素環核を適用することができる。 The merocyanine dye or the complex merocyanine dye has a ketomethylene structure as a nucleus, for example, pyrazolin-5-one nucleus, thiohydantoin nucleus, 2-thiooxazolidine-2,4-dione nucleus, thiazolidine-2,4-dione nucleus, rhodanine A 5- or 6-membered heterocyclic nucleus of a nucleus or a thiobarbituric acid nucleus can be applied.
これらの増感色素は単独に用いてもよいが、それらの組合せを用いてもよく、増感色素の組合せは特に、強色増感の目的でしばしば用いられる。その代表例は米国特許第2,688,545号、同第2,977,229号、同第3,397,060号、同第3,522,052号、同第3,527,641号、同第3,617,293号、同第3,628,964号、同第3,666,480号、同第3,672,898号、同第3,679,428号、同第3,703,377号、同第3,769,301号、同第3,814,609号、同第3,837,862号、同第4,026,707号、英国特許第1,344,281号、同第1,507,803号、特公昭43−4936号、同53−12375号、特開昭52−110618号、同52−109925号に記載されている。
増感色素とともに、それ自身分光増感作用をもたない色素あるいは可視光を実質的に吸収しない物質であって、強色増感を示す物質を乳剤中に含んでもよい。
These sensitizing dyes may be used alone or in combination. The combination of sensitizing dyes is often used for the purpose of supersensitization. Typical examples thereof are U.S. Pat. Nos. 2,688,545, 2,977,229, 3,397,060, 3,522,052, 3,527,641, 3,617,293, 3,628,964, 3,666,480, 3,672,898, 3,679,428, 3,703 377, 3,769,301, 3,814,609, 3,837,862, 4,026,707, British Patent 1,344,281, No. 1,507,803, Japanese Patent Publication Nos. 43-4936, 53-12375, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 52-110618, and 52-109925.
Along with the sensitizing dye, the emulsion itself may contain a dye having no spectral sensitizing action or a substance that does not substantially absorb visible light and exhibits supersensitization.
増感色素を乳剤中に添加する時期は、これまで有用であると知られている乳剤調製の如何なる段階であってもよい。もっとも普通には化学増感の完了後塗布前までの時期に行なわれるが、米国特許第3,628,969号、および同第4,225,666号に記載されているように化学増感剤と同時期に添加し分光増感を化学増感と同時に行なうことも、特開昭58−113928号に記載されているように化学増感に先立って行なうことも出来、またハロゲン化銀粒子沈澱生成の完了前に添加し分光増感を開始することも出来る。更にまた米国特許第4,225,666号に教示されているようにこれらの前記化合物を分けて添加すること、即ちこれらの化合物の一部を化学増感に先立って添加し、残部を化学増感の後で添加することも可能であり、米国特許第4,183,756号に開示されている方法を始めとしてハロゲン化銀粒子形成中のどの時期であってもよい。
添加量は、ハロゲン化銀1モル当り、4×10-6〜8×10-3モルで用いることができる。
The timing when the sensitizing dye is added to the emulsion may be at any stage of emulsion preparation that has been known to be useful so far. Most commonly, it is carried out after completion of chemical sensitization and before application, but as described in US Pat. Nos. 3,628,969 and 4,225,666, chemical sensitizers are used. Spectral sensitization can be performed simultaneously with chemical sensitization, or prior to chemical sensitization as described in JP-A No. 58-113928, and silver halide grains can be precipitated. Spectral sensitization can be started by adding before completion of the production. Further, as taught in U.S. Pat. No. 4,225,666, these compounds are added separately, i.e. some of these compounds are added prior to chemical sensitization and the remainder is chemically enhanced. It can be added after the sensitization, and may be any time during the formation of silver halide grains, including the method disclosed in US Pat. No. 4,183,756.
The addition amount can be 4 × 10 −6 to 8 × 10 −3 mol per mol of silver halide.
本発明の感光材料は、支持体上に少なくとも1層の感光性層が設けられていればよい。典型的な例としては、支持体上に、実質的に感色性は同じであるが感光度の異なる複数のハロゲン化銀乳剤層から成る感光性層を少なくとも1つ有するハロゲン化銀写真感光材料である。該感光性層は青色光、緑色光、および赤色光の何れかに感色性を有する単位感光性層であり、多層ハロゲン化銀カラー写真感光材料においては、一般に単位感光性層の配列が、支持体側から順に赤感色性層、緑感色性層、青感色性の順に設置される。しかし、目的に応じて上記設置順が逆であっても、また同一感色性層中に異なる感光性層が挟まれたような設置順をもとり得る。上記のハロゲン化銀感光性層の間および最上層、最下層には非感光性層を設けてもよい。これらには、後述のカプラー、DIR化合物、混色防止剤等が含まれていてもよい。各単位感光性層を構成する複数のハロゲン化銀乳剤層は、DE 1,121,470あるいはGB 923,045に記載されているように高感度乳剤層、低感度乳剤層の2層を、支持体に向かって順次感光度が低くなる様に配列するのが好ましい。また、特開昭57-112751、同62-200350、同62-206541、62-206543に記載されているように支持体より離れた側に低感度乳剤層、支持体に近い側に高感度乳剤層を設置してもよい。 In the light-sensitive material of the present invention, it is sufficient that at least one light-sensitive layer is provided on a support. A typical example is a silver halide photographic light-sensitive material having at least one photosensitive layer comprising a plurality of silver halide emulsion layers having substantially the same color sensitivity but different sensitivity on a support. It is. The photosensitive layer is a unit photosensitive layer having color sensitivity to any of blue light, green light, and red light.In a multilayer silver halide color photographic light-sensitive material, the arrangement of unit photosensitive layers is generally The red color-sensitive layer, the green color-sensitive layer, and the blue color-sensitive layer are installed in this order from the support side. However, depending on the purpose, the installation order may be reversed, or the installation order may be such that different photosensitive layers are sandwiched in the same color-sensitive layer. A non-photosensitive layer may be provided between the above-described silver halide photosensitive layers and as the uppermost layer and the lowermost layer. These may contain couplers, DIR compounds, color mixing inhibitors and the like described later. A plurality of silver halide emulsion layers constituting each unit photosensitive layer are sequentially exposed to a support, two layers of a high-sensitivity emulsion layer and a low-sensitivity emulsion layer as described in DE 1,121,470 or GB 923,045. It is preferable to arrange so that the degree is low. In addition, as described in JP-A-57-112751, 62-200350, 62-206541, 62-206543, a low-sensitivity emulsion layer is provided on the side away from the support, and a high-sensitivity emulsion is provided on the side close to the support. Layers may be installed.
具体例として支持体から最も遠い側から、低感度青感光性層(BL)/高感度青感光性層(BH)/高感度緑感光性層(GH)/低感度緑感光性層(GL)/高感度赤感光性層(RH)/低感度赤感光性層(RL)の順、またはBH/BL/GL/GH/RH/RLの順、またはBH/BL/GH/GL/RL/RHの順等に設置することができる。 As a specific example, from the side farthest from the support, low sensitivity blue photosensitive layer (BL) / high sensitivity blue photosensitive layer (BH) / high sensitivity green photosensitive layer (GH) / low sensitivity green photosensitive layer (GL) / High-sensitivity red photosensitive layer (RH) / Low-sensitivity red photosensitive layer (RL) or BH / BL / GL / GH / RH / RL or BH / BL / GH / GL / RL / RH It can be installed in the order of.
また特公昭55-34932公報に記載されているように、支持体から最も遠い側から青感光性層/GH/RH/GL/RLの順に配列することもできる。また特開昭56-25738、同62-63936に記載されているように、支持体から最も遠い側から青感光性層/GL/RL/GH/RHの順に配列することもできる。 Further, as described in Japanese Patent Publication No. 55-34932, it can be arranged in the order of blue-sensitive layer / GH / RH / GL / RL from the side farthest from the support. Further, as described in JP-A-56-25738 and JP-A-62-63936, they can be arranged in the order of blue-sensitive layer / GL / RL / GH / RH from the side farthest from the support.
また特公昭49-15495に記載されているように上層を最も感光度の高いハロゲン化銀乳剤層、中層をそれよりも低い感光度のハロゲン化銀乳剤層、下層を中層よりも更に感光度の低いハロゲン化銀乳剤層を配置し、支持体に向かって感光度が順次低められた感光度の異なる3層から構成される配列が挙げられる。このような感光度の異なる3層から構成される場合でも、特開昭59-202464に記載されているように、同一感色性層中において支持体より離れた側から中感度乳剤層/高感度乳剤層/低感度乳剤層の順に配置されてもよい。 In addition, as described in JP-B-49-15495, the upper layer is a silver halide emulsion layer having the highest sensitivity, the middle layer is a silver halide emulsion layer having a lower sensitivity, and the lower layer is more sensitive than the middle layer. Examples include an arrangement composed of three layers having different sensitivities in which a low silver halide emulsion layer is arranged and the sensitivities are gradually lowered toward the support. Even in the case of being composed of three layers having different sensitivities, as described in JP-A-59-202464, in the same color-sensitive layer, the medium-sensitive emulsion layer / high They may be arranged in the order of sensitive emulsion layer / low sensitive emulsion layer.
その他、高感度乳剤層/低感度乳剤層/中感度乳剤層、あるいは低感度乳剤層/中感度乳剤層/高感度乳剤層の順に配置されていてもよい。また、4層以上の場合にも、上記の如く配列を変えてよい。
色再現性を改良するために、US 4,663,271、同 4,705,744、同 4,707,436、特開昭62-160448、同63-89850の明細書に記載の、BL,GL,RLなどの主感光層と分光感度分布が異なる重層効果のドナー層(CL)を主感光層に隣接もしくは近接して配置することが好ましい。
In addition, they may be arranged in the order of high sensitivity emulsion layer / low sensitivity emulsion layer / medium sensitivity emulsion layer, or low sensitivity emulsion layer / medium sensitivity emulsion layer / high sensitivity emulsion layer. Further, the arrangement may be changed as described above even when there are four or more layers.
In order to improve color reproducibility, main sensitivity layers such as BL, GL, RL and spectral sensitivity distribution described in US 4,663,271, 4,705,744, 4,707,436, JP-A-62-160448, 63-89850 It is preferable to dispose a donor layer (CL) having different multi-layer effects adjacent to or close to the main photosensitive layer.
本発明に用いられる好ましいハロゲン化銀は約30モル%以下のヨウ化銀を含む、ヨウ臭化銀、ヨウ塩化銀、もしくはヨウ塩臭化銀である。特に好ましいのは約2モル%から約10モル%までのヨウ化銀を含むヨウ臭化銀もしくはヨウ塩臭化銀である。 A preferred silver halide used in the present invention is silver iodobromide, silver iodochloride or silver iodochlorobromide containing about 30 mol% or less of silver iodide. Particularly preferred is silver iodobromide or silver iodochlorobromide containing from about 2 mol% to about 10 mol% of silver iodide.
写真乳剤中のハロゲン化銀粒子は、立方体、八面体、十四面体のような規則的な結晶を有するもの、球状、板状のような変則的な結晶形を有するもの、双晶面などの結晶欠陥を有するもの、あるいはそれらの複合形でもよい。
ハロゲン化銀の粒径は、約0.2μm以下の微粒子でも投影面積直径が約10μmに至るまでの大サイズ粒子でもよく、多分散乳剤でも単分散乳剤でもよい。
Silver halide grains in photographic emulsions have regular crystals such as cubes, octahedrons, tetradecahedrons, irregular crystal shapes such as spheres and plates, twin planes, etc. Those having crystal defects of the above or a composite form thereof may be used.
The grain size of the silver halide may be fine grains having a diameter of about 0.2 μm or less or large grains having a projected area diameter of about 10 μm, and may be a polydisperse emulsion or a monodisperse emulsion.
本発明に使用できるハロゲン化銀写真乳剤は、例えばリサーチ・ディスクロージャー(以下、RDと略す)No.17643 (1978年12月), 22〜23頁, “I. 乳剤製造(Emulsion preparation and types)”、および同No.18716(1979年11月),648頁、同No.307105(1989年11月),863〜865頁、およびグラフキデ著「写真の物理と化学」,ポールモンテル社刊(P.Glafkides, Chimie et Phisique Photographiques, Paul Montel, 1967)、ダフィン著「写真乳剤化学」,フォーカルプレス社刊(G.F. Duffin, Photographic Emulsion Chemistry,Focal Press, 1966)、ゼリクマンら著「写真乳剤の製造と塗布」、フォーカルプレス社刊(V. L. Zelikman, et al., Making and Coating Photographic Emulsion, Focal Press, 1964)などに記載された方法を用いて調製することができる。 The silver halide photographic emulsion that can be used in the present invention is, for example, Research Disclosure (hereinafter abbreviated as RD) No. 17643 (December 1978), pages 22 to 23, “I. Emulsion preparation and types”. No. 18716 (November 1979), page 648, No. 307105 (November 1989), pages 863 to 865, and “The Physics and Chemistry of Photography”, published by Paul Monter (P. Glafkides, Chimie et Phisique Photographiques, Paul Montel, 1967), "Emulsion Chemistry" by Duffin, published by Focal Press (GF Duffin, Photographic Emulsion Chemistry, Focal Press, 1966), "Manufacture and coating of photographic emulsion" , Published by Focal Press (VL Zelikman, et al., Making and Coating Photographic Emulsion, Focal Press, 1964) and the like.
US 3,574,628、同 3,655,394およびGB 1,413,748に記載された単分散乳剤も好ましい。
また、アスペクト比が約3以上であるような平板状粒子も本発明に使用できる。平板状粒子は、ガトフ著、フォトグラフィック・サイエンス・アンド・エンジニアリング(Gutoff, Photographic Science and Engineering)、第14巻 248〜 257頁(1970年);US 4,434,226、同 4,414,310、同 4,433,048、同 4,439,520およびGB 2,112,157に記載の方法により簡単に調製することができる。
Also preferred are monodisperse emulsions described in US 3,574,628, 3,655,394 and GB 1,413,748.
Tabular grains having an aspect ratio of about 3 or more can also be used in the present invention. Tabular grains are described in Gatoff, Photographic Science and Engineering, Vol. 14, 248-257 (1970); US 4,434,226, 4,414,310, 4,433,048, 4,439,520 and GB. It can be easily prepared by the method described in 2,112,157.
結晶構造は一様なものでも、内部と外部とが異質なハロゲン組成からなるものでもよく、層状構造をなしていてもよい。エピタキシャル接合によって組成の異なるハロゲン化銀が接合されていてもよく、例えばロダン銀、酸化鉛などのハロゲン化銀以外の化合物と接合されていてもよい。また種々の結晶形の粒子の混合物を用いてもよい。 The crystal structure may be uniform, the inside and outside may be composed of different halogen compositions, or a layered structure may be formed. Silver halides having different compositions may be bonded by epitaxial bonding, and may be bonded to a compound other than silver halide, such as rhodium silver or lead oxide. A mixture of particles having various crystal forms may be used.
上記の乳剤は潜像を主として表面に形成する表面潜像型でも、粒子内部に形成する内部潜像型でも表面と内部のいずれにも潜像を有する型のいずれでもよいが、ネガ型の乳剤であることが必要である。内部潜像型のうち、特開昭63-264740に記載のコア/シェル型内部潜像型乳剤であってもよく、この調製方法は特開昭59-133542に記載されている。この乳剤のシェルの厚みは現像処理等によって異なるが、3〜40nmが好ましく、5〜20nmが特に好ましい。 The above emulsion may be either a surface latent image type in which a latent image is mainly formed on the surface, an internal latent image type in which the latent image is formed inside the grain, or a type having a latent image on both the surface and the inside. It is necessary to be. Among the internal latent image types, a core / shell type internal latent image type emulsion described in JP-A-63-264740 may be used, and this preparation method is described in JP-A-59-133542. Although the thickness of the shell of this emulsion varies depending on the development processing or the like, it is preferably 3 to 40 nm, particularly preferably 5 to 20 nm.
ハロゲン化銀乳剤は、通常、物理熟成、化学熟成および分光増感を行ったものを使用する。このような工程で使用される添加剤はRDNo.17643、同No.18716および同No.307105 に記載されており、その該当箇所を後掲の表にまとめた。 As the silver halide emulsion, those subjected to physical ripening, chemical ripening and spectral sensitization are usually used. Additives used in such a process are described in RD No. 17643, No. 18716 and No. 307105, and the corresponding parts are summarized in the following table.
本発明の感光材料には、感光性ハロゲン化銀乳剤の粒子サイズ、粒子サイズ分布、ハロゲン組成、粒子の形状、感度の少なくとも1つの特性の異なる2種類以上の乳剤を、同一層中に混合して使用することができる。 In the light-sensitive material of the present invention, two or more types of emulsions having at least one characteristic different in grain size, grain size distribution, halogen composition, grain shape, and sensitivity of the photosensitive silver halide emulsion are mixed in the same layer. Can be used.
US 4,082,553に記載の粒子表面をかぶらせたハロゲン化銀粒子、US 4,626,498、特開昭 59-214852に記載の粒子内部をかぶらせたハロゲン化銀粒子、コロイド銀を感光性ハロゲン化銀乳剤層および/または実質的に非感光性の親水性コロイド層に適用することが好ましい。粒子内部または表面をかぶらせたハロゲン化銀粒子とは、感光材料の未露光部および露光部を問わず、一様に(非像様に)現像が可能となるハロゲン化銀粒子のことをいい、その調製法は、US 4,626,498、特開昭59-214852に記載されている。粒子内部がかぶらされたコア/シェル型ハロゲン化銀粒子の内部核を形成するハロゲン化銀は、ハロゲン組成が異なっていてもよい。粒子内部または表面をかぶらせたハロゲン化銀としては、塩化銀、塩臭化銀、沃臭化銀、塩沃臭化銀のいずれをも用いることができる。これらのかぶらされたハロゲン化銀粒子の平均粒子サイズとしては0.01〜0.75μm、特に0.05〜0.6μmが好ましい。また、粒子形状は規則的な粒子でもよく、多分散乳剤でもよいが、単分散性(ハロゲン化銀粒子の質量または粒子数の少なくとも95%が平均粒子径の±40%以内の粒子径を有するもの)であることが好ましい。 US Pat. No. 4,082,553 fogged silver halide grains, US Pat. No. 4,626,498, JP 59-214852, fogged silver halide grains, colloidal silver photosensitive silver halide emulsion layer and It is preferred to apply to / or a substantially light-insensitive hydrophilic colloid layer. The silver halide grains fogged inside or on the surface of the grains are silver halide grains that can be developed uniformly (non-imagewise) regardless of the unexposed and exposed areas of the photosensitive material. The preparation method thereof is described in US Pat. No. 4,626,498 and JP-A-59-214852. The silver halide forming the inner core of the core / shell type silver halide grain in which the inside of the grain is fogged may have a different halogen composition. Any silver chloride, silver chlorobromide, silver iodobromide, or silver chloroiodobromide can be used as the silver halide fogged inside or on the surface of the grain. The average grain size of these fogged silver halide grains is preferably 0.01 to 0.75 μm, particularly preferably 0.05 to 0.6 μm. The grain shape may be a regular grain or a polydisperse emulsion, but it is monodisperse (at least 95% of the silver halide grain mass or number of grains has a grain size within ± 40% of the average grain size). Are preferred).
本発明には、非感光性微粒子ハロゲン化銀を使用することが好ましい。非感光性微粒子ハロゲン化銀とは、色素画像を得るための像様露光時においては感光せずに、その現像処理において実質的に現像されないハロゲン化銀微粒子であり、あらかじめカブラされていないほうが好ましい。微粒子ハロゲン化銀は、臭化銀の含有率が0〜100モル%であり、必要に応じて塩化銀および/または沃化銀を含有してもよい。好ましくは沃化銀を0.5〜10モル%含有するものである。微粒子ハロゲン化銀は、平均粒径(投影面積の円相当直径の平均値)が0.01〜0.5μmが好ましく、0.02〜0.2μmがより好ましい。 In the present invention, it is preferable to use a non-photosensitive fine grain silver halide. The non-photosensitive fine grain silver halide is a silver halide fine grain which is not exposed during imagewise exposure for obtaining a dye image and is not substantially developed in the developing process, and is preferably not fogged in advance. . The fine grain silver halide has a silver bromide content of 0 to 100 mol%, and may contain silver chloride and / or silver iodide as necessary. Preferably, it contains 0.5 to 10 mol% of silver iodide. The fine grain silver halide preferably has an average particle size (average value of equivalent circle diameter of projected area) of 0.01 to 0.5 μm, more preferably 0.02 to 0.2 μm.
微粒子ハロゲン化銀は、通常の感光性ハロゲン化銀と同様の方法で調製できる。ハロゲン化銀粒子の表面は、光学的に増感される必要はなく、また分光増感も不要である。ただし、これを塗布液に添加するのに先立ち、あらかじめトリアゾール系、アザインデン系、ベンゾチアゾリウム系、もしくはメルカプト系化合物または亜鉛化合物などの公知の安定剤を添加しておくことが好ましい。この微粒子ハロゲン化銀粒子含有層に、コロイド銀を含有させることができる。
本発明の感光材料の塗布銀量は、6.0g/m2以下が好ましく、4.5g/m2以下が最も好ましい。
The fine grain silver halide can be prepared by the same method as that for ordinary photosensitive silver halide. The surface of the silver halide grains does not need to be optically sensitized and does not require spectral sensitization. However, prior to adding this to the coating solution, it is preferable to add a known stabilizer such as triazole, azaindene, benzothiazolium, mercapto compound or zinc compound in advance. This fine grain silver halide grain-containing layer can contain colloidal silver.
Coated silver amount of the light-sensitive material of the present invention is preferably 6.0 g / m 2 or less, 4.5 g / m 2 or less is most preferred.
本発明に使用できる写真用添加剤もRDに記載されており、下記の表に関連する記載箇所を示した。
添加剤の種類 RD17643 RD18716 RD307105
1.化学増感剤 23頁 648 頁右欄 866頁
2.感度上昇剤 648 頁右欄
3.分光増感剤、 23〜24頁 648 頁右欄 866 〜868 頁
強色増感剤 〜649 頁右欄
4.増 白 剤 24頁 647 頁右欄 868頁
5.光吸収剤、 25 〜26頁 649 頁右欄 873頁
フィルター 〜650 頁左欄
染料、紫外
線吸収剤
6.バインダー 26頁 651 頁左欄 873 〜874 頁
7.可塑剤、 27頁 650 頁右欄 876頁
潤滑剤
8.塗布助剤、 26 〜27頁 650 頁右欄 875 〜876 頁
表面活性剤
9.スタチツク 27頁 650 頁右欄 876 〜877 頁
防止剤
10.マット剤 878 〜879 頁
Photographic additives that can be used in the present invention are also described in the RD, and the description locations related to the following table are shown.
Type of additive RD17643 RD18716 RD307105
1. Chemical sensitizer, page 23, page 648, right column, page 8662. Sensitivity increasing agent Page 648, right column 3. Spectral sensitizer, pages 23 to 24, page 648, right column, pages 866 to 868, supersensitizer-page 649, right column 4. Brightener 24 pages 647 pages right column 868 pages 5. 5. Light absorber, 25-26 pages, 649, right column, page 873 Filters, -page, left page, 650 Dyes, ultraviolet absorbers Binder page 26 page 651 left column page 873-874 page 7. Plasticizer, page 27, page 650, right column, page 876 Lubricant 8. Coating aid, page 26-27, page 650, right column, page 875-876, surface active agent 9. Static page 27 page 650 right column pages 876-877 inhibitor
Ten. Matte 878-879 pages
本発明の感光材料には種々の色素形成カプラーを使用することができるが、以下のカプラーが特に好ましい。
イエローカプラー: EP 502,424A の式(I),(II)で表わされるカプラー; EP 513,496A の式(1),(2) で表わされるカプラー (特に18頁のY-28); EP 568,037Aのクレーム1の式(I) で表わされるカプラー; US 5,066,576のカラム1の45〜55行の一般式(I) で表わされるカプラー; 特開平4-274425の段落0008の一般式(I) で表わされるカプラー; EP 498,381A1の40頁のクレーム1に記載のカプラー(特に18頁のD-35); EP 447,969A1 の4頁の式(Y) で表わされるカプラー(特にY-1(17頁),Y-54(41 頁)); US 4,476,219のカラム7の36〜58行の式(II)〜(IV)で表わされるカプラー(特にII-17,19( カラム17),II-24(カラム19))。
Various dye-forming couplers can be used in the light-sensitive material of the present invention, and the following couplers are particularly preferable.
Yellow couplers: couplers represented by formulas (I) and (II) of EP 502,424A; couplers represented by formulas (1) and (2) of EP 513,496A (especially Y-28 on page 18); EP 568,037A A coupler represented by formula (I) in claim 1; a coupler represented by general formula (I) in lines 45 to 55 of column 1 of US 5,066,576; represented by general formula (I) in paragraph 0008 of JP-A-4-74425 Couplers according to claim 1 on page 40 of EP 498,381A1 (especially D-35 on page 18); couplers represented by formula (Y) on page 4 of EP 447,969A1 (especially Y-1 (page 17), Y-54 (page 41)); couplers represented by formulas (II) to (IV) in columns 7 to 58 of US Pat. No. 4,476,219 (particularly II-17, 19 (column 17), II-24 (column 19 )).
マゼンタカプラー; 特開平3-39737(L-57(11 頁右下),L-68(12 頁右下),L-77(13 頁右下); EP 456,257 の A-4 -63(134頁), A-4 -73,-75(139頁); EP 486,965 のM-4,-6(26 頁),M-7(27頁); EP 571,959AのM-45(19 頁);特開平5-204106の(M-1)(6 頁);特開平4-362631の段落0237のM-22。 Magenta coupler; JP-A-3-9737 (L-57 (lower right of page 11), L-68 (lower right of page 12), L-77 (lower right of page 13); EP 456,257, A-4 -63 (page 134) ), A-4 -73, -75 (page 139); EP 486,965, M-4, -6 (page 26), M-7 (page 27); EP 571, 959A, M-45 (page 19); (M-1) of Kaihei 5-204106 (page 6); M-22 of paragraph 0237 of JP-A-4-362631.
シアンカプラー: 特開平4-204843のCX-1,3,4,5,11,12,14,15(14 〜16頁); 特開平4-43345 のC-7,10(35 頁),34,35(37頁),(I-1),(I-17)(42 〜43頁); 特開平6-67385 の請求項1の一般式(Ia)または(Ib)で表わされるカプラー。 Cyan coupler: CX-1,3,4,5,11,12,14,15 (pages 14-16) of JP-A-4-204843; C-7,10 (page 35) of JP-A-4-43345, 34 35 (page 37), (I-1), (I-17) (pages 42 to 43); a coupler represented by the general formula (Ia) or (Ib) of claim 1 of JP-A-6-67385.
ポリマーカプラー: 特開平2-44345 のP-1,P-5(11頁)。
発色色素が適度な拡散性を有するカプラーとしては、US 4,366,237、GB 2,125,570、EP 96,873B、DE 3,234,533に記載のものが好ましい。
Polymer coupler: P-1, P-5 (page 11) of JP-A-2-44345.
As couplers in which the coloring dye has an appropriate diffusibility, those described in US 4,366,237, GB 2,125,570, EP 96,873B, DE 3,234,533 are preferable.
発色色素の不要吸収を補正するためのカプラーは、EP 456,257A1の5 頁に記載の式(CI),(CII),(CIII),(CIV) で表わされるイエローカラードシアンカプラー(特に84頁のYC-86)、該EPに記載のイエローカラードマゼンタカプラーExM-7(202 頁) 、 EX-1(249 頁) 、 EX-7(251 頁) 、US 4,833,069に記載のマゼンタカラードシアンカプラーCC-9 (カラム8)、CC-13(カラム10) 、US 4,837,136の(2)(カラム8)、WO92/11575のクレーム1の式(A) で表わされる無色のマスキングカプラー(特に36〜45頁の例示化合物)が好ましい。 A coupler for correcting unwanted absorption of the coloring dye is a yellow colored cyan coupler represented by the formula (CI), (CII), (CIII), (CIV) described on page 5 of EP 456,257A1 (especially on page 84). YC-86), yellow colored magenta coupler ExM-7 described in the EP, page 202, EX-1 (page 249), EX-7 (page 251), magenta colored cyan coupler CC-9 described in US 4,833,069 (Column 8), CC-13 (Column 10), US 4,837,136 (2) (Column 8), colorless masking coupler represented by the formula (A) of claim 1 of WO92 / 11575 (particularly examples on pages 36 to 45) Compound) is preferred.
写真性有用基を放出するカプラーとしては、以下のものが挙げられる。現像抑制剤放出化合物:EP 378,236A1の11頁に記載の式(I),(II),(III),(IV) で表わされる化合物(特にT-101(30頁),T-104(31頁),T-113(36頁),T-131(45頁),T-144(51頁),T-158(58頁)), EP 436,938A2の 7頁に記載の式(I) で表わされる化合物(特にD-49(51 頁))、EP 568,037A の式(1) で表わされる化合物(特に(23)(11 頁))、EP 440,195A2の5 〜6 頁に記載の式(I),(II),(III)で表わされる化合物(特に29頁のI-(1) );漂白促進剤放出化合物:EP 310,125A2の5 頁の式(I),(I')で表わされる化合物(特に61頁の(60),(61)) 及び特開平6-59411 の請求項1の式(I) で表わされる化合物(特に(7)(7 頁); リガンド放出化合物:US 4,555,478のクレーム1に記載のLIG-X で表わされる化合物(特にカラム12の21〜41行目の化合物) ;ロイコ色素放出化合物:US 4,749,641のカラム3〜8の化合物1〜6;蛍光色素放出化合物:US 4,774,181のクレーム1のCOUP-DYEで表わされる化合物(特にカラム7〜10の化合物1〜11);現像促進剤又はカブラセ剤放出化合物:US 4,656,123のカラム3の式(1) 、(2) 、(3) で表わされる化合物(特にカラム25の(I-22)) 及びEP 450,637A2の75頁36〜38行目のExZK-2; 離脱して初めて色素となる基を放出する化合物: US 4,857,447のクレーム1の式(I) で表わされる化合物(特にカラム25〜36のY-1 〜Y-19) 。 Examples of couplers that release a photographically useful group include the following. Development inhibitor releasing compounds: compounds represented by formulas (I), (II), (III), (IV) described on page 11 of EP 378,236A1 (especially T-101 (page 30), T-104 (31) Page), T-113 (page 36), T-131 (page 45), T-144 (page 51), T-158 (page 58)), EP 436, 938A2 A compound represented by formula (1) of EP 568,037A (especially (23) (page 11)), a formula described on pages 5-6 of EP 440,195A2 ( Compounds represented by I), (II), (III) (especially I- (1) on page 29); Bleach accelerator releasing compounds: represented by formulas (I), (I ') on page 5 of EP 310,125A2 Compounds (especially (60), (61) on page 61) and compounds of formula (I) in claim 1 of JP-A-6-59411 (especially (7) (page 7); ligand releasing compounds: US 4,555,478) A compound represented by LIG-X according to claim 1 (particularly, a compound in columns 21 to 41 of column 12); a leuco dye-releasing compound: compounds 1 to 6 in columns 3 to 8 of US 4,749,641; a fluorescent dye-releasing compound: US 4,774,181 clay 1 compound represented by COUP-DYE (especially compounds 1 to 11 in columns 7 to 10); development accelerator or fogging agent releasing compound: in formula (1), (2) and (3) of column 3 of US 4,656,123 The compounds represented (especially (I-22) in column 25) and ExZK-2 at page 75, lines 36 to 38 of EP 450,637A2; a compound which only releases a group which becomes a dye upon release: according to claim 1 of US 4,857,447 Compounds represented by formula (I) (especially Y-1 to Y-19 in columns 25 to 36).
カプラー以外の添加剤としては、以下のものが好ましい。
油溶性有機化合物の分散媒: 特開昭62-215272 のP-3, 5, 16, 19, 25, 30, 42, 49, 54, 55, 66, 81, 85, 86, 93(140〜144頁); 油溶性有機化合物の含浸用ラテックス: US 4,199,363に記載のラテックス; 現像主薬酸化体スカベンジャー: US 4,978,606のカラム2の54〜62行の式(I) で表わされる化合物(特にI-,(1),(2),(6),(12) (カラム4〜5)、US 4,923,787のカラム2の5〜10行の式(特に化合物1(カラム3); ステイン防止剤: EP 298321Aの4頁30〜33行の式(I) 〜(III),特にI-47,72,III-1,27(24 〜48頁); 褪色防止剤: EP 298321AのA-6,7,20,21,23,24,25,26,30,37,40,42,48,63,90,92,94,164(69 〜118 頁), US5,122,444のカラム25〜38のII-1〜III-23, 特にIII-10, EP 471347Aの8 〜12頁のI-1 〜III-4,特にII-2, US 5,139,931のカラム32〜40のA-1 〜48, 特にA-39,42; 発色増強剤または混色防止剤の使用量を低減させる素材: EP 411324Aの5 〜24頁のI-1 〜II-15,特にI-46; ホルマリンスカベンジャー: EP 477932Aの24〜29頁のSCV-1 〜28, 特にSCV-8; 硬膜剤: 特開平1-214845の17頁のH-1,4,6,8,14, US 4,618,573のカラム13〜23の式(VII) 〜(XII) で表わされる化合物(H-1〜54),特開平2-214852の8頁右下の式(6) で表わされる化合物(H-1〜76),特にH-14, US 3,325,287のクレーム1に記載の化合物; 現像抑制剤プレカーサー: 特開昭62-168139 のP-24,37,39(6〜7 頁); US 5,019,492 のクレーム1に記載の化合物,特にカラム7の28,29; 防腐剤、防黴剤: US 4,923,790のカラム3 〜15のI-1 〜III-43, 特にII-1,9,10,18,III-25; 安定剤、かぶり防止剤: US 4,923,793のカラム6 〜16のI-1 〜(14), 特にI-1,60,(2),(13), US 4,952,483 のカラム25〜32の化合物1〜65, 特に36: 化学増感剤: トリフェニルホスフィン セレニド, 特開平5-40324 の化合物50; 染料: 特開平3-156450の15〜18頁のa-1 〜b-20, 特にa-1,12,18,27,35,36,b-5,27 〜29頁のV-1 〜23, 特にV-1, EP 445627A の33〜55頁のF-I-1 〜F-II-43,特にF-I-11,F-II-8, EP 457153A の17〜28頁のIII-1 〜36, 特にIII-1,3, WO 88/04794の8〜26のDye-1 〜124 の微結晶分散体, EP 319999Aの6〜11頁の化合物1〜22, 特に化合物1, EP 519306A の式(1) ないし(3) で表わされる化合物D-1 〜87(3〜28頁),US 4,268,622の式(I) で表わされる化合物1〜22 (カラム3〜10), US 4,923,788 の式(I) で表わされる化合物(1) 〜(31) (カラム2〜9); UV吸収剤: 特開昭46-3335 の式(1) で表わされる化合物(18b) 〜(18r),101 〜427(6〜9頁),EP 520938Aの式(I) で表わされる化合物(3) 〜(66)(10 〜44頁) 及び式(III) で表わされる化合物HBT-1 〜10(14 頁), EP 521823A の式(1) で表わされる化合物(1) 〜(31) (カラム2〜9)。
As additives other than couplers, the following are preferable.
Oil-soluble organic compound dispersion medium: JP-A 62-215272, P-3, 5, 16, 19, 25, 30, 42, 49, 54, 55, 66, 81, 85, 86, 93 (140-144) Latex for impregnation of oil-soluble organic compound: Latex described in US 4,199,363; Oxidant scavenger for developing agent: Compound (especially I-, (columns 54-62) of column 2, US 4,978,606 1), (2), (6), (12) (columns 4-5), US Pat. No. 4,923,787, column 2, line 5-10 (especially compound 1 (column 3); stain inhibitor: 4 of EP 298321A Pages 30-33, formulas (I)-(III), especially I-47,72, III-1,27 (pages 24-48); antifading agent: EP 298321A A-6, 7, 20, 21 , 23,24,25,26,30,37,40,42,48,63,90,92,94,164 (pages 69-118), US5,122,444, columns 25-38 II-1 to III-23, Especially III-10, EP 471347A, pages 8-12, I-1 to III-4, especially II-2, US 5,139,931, columns 32 to 40, A-1 to 48, especially A-39,42; Or a material that reduces the amount of color mixing inhibitor used: EP 411324A, pages 5 to 24, I-1 to II-15, especially I-4 6; Formalin Scavenger: EP 477932A, pages 24 to 29, SCV-1 to 28, in particular SCV-8; Hardener: JP 17,14845, page 17, H-1,4,6,8,14, US Compounds (H-1 to 54) represented by formulas (VII) to (XII) in columns 13 to 23 of 4,618,573, compounds represented by formula (6) at the lower right of page 8 of JP-A-2-148852 -76), in particular compounds according to claim 1 of H-14, US 3,325,287; Development inhibitor precursors: P-24,37,39 (pages 6-7) of JP 62-168139; claim 1 of US 5,019,492 Compounds 28, 29 of column 7; preservatives, fungicides: US Pat. No. 4,923,790, columns 3 to 15, I-1 to III-43, especially II-1,9,10,18, III-25 Stabilizer, antifoggant: US Pat. No. 4,923,793, columns 6-16, I-1 to (14), especially I-1,60, (2), (13), US Pat. 65, in particular 36: chemical sensitizer: triphenylphosphine selenide, compound 50 of JP 5-40324; dye: a-1 to b-20 on page 15-18 of JP 3-156450, in particular a-1, 12,18,27,35,36, b-5,27 -29 V-1 to 23, especially V-1, EP 445627A, pages 33 to 55, FI-1 to F-II-43, especially FI-11, F-II-8, EP 457153A, pages 17 to 28, III -1 to 36, especially III-1,3, WO 88/04794, 8 to 26, Dye-1 to 124, microcrystalline dispersion, EP 319999A, pages 6 to 11, compounds 1 to 22, especially compound 1, EP Compounds D-1 to 87 represented by formulas (1) to (3) of 519306A (pages 3 to 28), compounds 1 to 22 represented by formula (I) of US 4,268,622 (columns 3 to 10), US 4,923,788 Compounds (1) to (31) represented by formula (I) (columns 2 to 9); UV absorbers: Compounds (18b) to (18r), 101 represented by formula (1) in JP-A-46-3335 To 427 (pages 6 to 9), compounds (3) to (66) (pages 10 to 44) represented by formula (I) of EP 520938A and compounds HBT-1 to 10 (page 14) represented by formula (III) ), Compounds (1) to (31) represented by formula (1) of EP 521823A (columns 2 to 9).
本発明は、一般用もしくは映画用のカラーネガフィルム、スライド用もしくはテレビ用のカラー反転フィルム、カラーペーパー、カラーポジフィルムおよびカラー反転ペーパーのような種々のカラー感光材料に適用することができる。また、特公平2-32615 、実公平3-39784 に記載されているレンズ付きフイルムユニット用に好適である。 The present invention can be applied to various color light-sensitive materials such as color negative films for general use or movies, color reversal films for slides or television, color papers, color positive films and color reversal papers. Further, it is suitable for the lens-fitted photo film unit described in JP-B-2-32615 and JP-B-3-39784.
本発明に使用できる適当な支持体は、例えば、前述のRD.No.17643 の28頁、同No.18716の 647頁右欄から 648頁左欄、および同No.307105 の 879頁に記載されている。 Suitable supports that can be used in the present invention are described in, for example, RD. No. 17643, page 28, RD. No. 18716, page 647, right column to page 648, left column, and 307. ing.
本発明の感光材料は、乳剤層を有する側の全親水性コロイド層の膜厚の総和が28μm以下であることが好ましく、23μm以下がより好ましく、18μm以下が更に好ましく、16μm以下が特に好ましい。また膜膨潤速度T1/2は30秒以下が好ましく、20秒以下がより好ましい。T1/2は、発色現像液で30℃、3分15秒処理した時に到達する最大膨潤膜厚の90%を飽和膜厚としたとき、膜厚がその1/2 に到達するまでの時間と定義する。膜厚は、25℃相対湿度55%調湿下(2日)で測定した膜厚を意味し、T1/2は、エー・グリーン(A.Green)らのフォトグラフィック・サイエンス・アンド・エンジニアリング (Photogr.Sci.Eng.),19卷、2,124 〜129 頁に記載の型のスエロメーター(膨潤計)を使用することにより測定できる。T1/2は、バインダーとしてのゼラチンに硬膜剤を加えること、あるいは塗布後の経時条件を変えることによって調整することができる。また、膨潤率は150〜400%が好ましい。膨潤率とは、さきに述べた条件下での最大膨潤膜厚から、式:(最大膨潤膜厚−膜厚)/膜厚 により計算できる。 In the light-sensitive material of the present invention, the total thickness of all hydrophilic colloid layers on the side having an emulsion layer is preferably 28 μm or less, more preferably 23 μm or less, still more preferably 18 μm or less, and particularly preferably 16 μm or less. The membrane swelling speed T 1/2 is preferably 30 seconds or less, and more preferably 20 seconds or less. T 1/2 is the time until the film thickness reaches 1/2 when 90% of the maximum swollen film thickness reached when processed with color developer at 30 ° C for 3 minutes and 15 seconds is the saturated film thickness. It is defined as The film thickness means the film thickness measured at 25 ° C and 55% relative humidity (2 days), and T 1/2 is photographic science and engineering by A.Green et al. (Photogr. Sci. Eng.), 19 卷, 2, 124-129. T 1/2 can be adjusted by adding a hardener to gelatin as a binder or changing the aging conditions after coating. The swelling rate is preferably 150 to 400%. The swelling ratio can be calculated from the maximum swollen film thickness under the conditions described above by the formula: (maximum swollen film thickness-film thickness) / film thickness.
本発明の感光材料は、乳剤層を有する側の反対側に、乾燥膜厚の総和が2μm〜20μmの親水性コロイド層(バック層と称す)を設けることが好ましい。このバック層には、前述の光吸収剤、フィルター染料、紫外線吸収剤、スタチック防止剤、硬膜剤、バインダー、可塑剤、潤滑剤、塗布助剤、表面活性剤を含有させることが好ましい。このバック層の膨潤率は150〜500%が好ましい。 In the light-sensitive material of the present invention, a hydrophilic colloid layer (referred to as a back layer) having a total dry film thickness of 2 to 20 μm is preferably provided on the side opposite to the side having the emulsion layer. This back layer preferably contains the aforementioned light absorber, filter dye, ultraviolet absorber, antistatic agent, hardener, binder, plasticizer, lubricant, coating aid, and surfactant. The swelling rate of this back layer is preferably 150 to 500%.
本発明の感光材料は、前述のRD.No.17643の28〜29頁、同No.18716の651左欄〜右欄、および同No.307105の880〜881頁に記載された通常の方法によって現像処理することができる。 The light-sensitive material of the present invention is prepared by the usual methods described in the above-mentioned RD. No. 17643, pages 28 to 29, RD. No. 18716, 651, left column to right column, and RD. No. 307105, pages 880 to 881. It can be developed.
次に、本発明に使用されるカラーネガフイルム用の処理液について説明する。
本発明に使用される発色現像液には、特開平4-121739の第9頁右上欄1行〜第11頁左下欄4行に記載の化合物を使用することができる。特に迅速な処理を行う場合の発色現像主薬としては、2−メチル−4−〔N−エチル−N−(2−ヒドロキシエチル)アミノ〕アニリン、2−メチル−4−〔N−エチル−N−(3−ヒドロキシプロピル)アミノ〕アニリン、2−メチル−4−〔N−エチル−N−(4−ヒドロキシブチル)アミノ〕アニリンが好ましい。
Next, the color negative film processing solution used in the present invention will be described.
As the color developer used in the present invention, compounds described in JP-A-4-21739, page 9, upper right column, line 1 to page 11, lower left column, line 4 can be used. In particular, as a color developing agent for rapid processing, 2-methyl-4- [N-ethyl-N- (2-hydroxyethyl) amino] aniline, 2-methyl-4- [N-ethyl-N- (3-Hydroxypropyl) amino] aniline and 2-methyl-4- [N-ethyl-N- (4-hydroxybutyl) amino] aniline are preferred.
これらの発色現像主薬は発色現像液1L(以下、「L」とも表記する。)あたり0.01〜0.08モルの範囲で使用することが好ましく、特には0.015〜0.06モル、更には0.02〜0.05モルの範囲で使用することが好ましい。また発色現像液の補充液には、この濃度の1.1〜3倍の発色現像主薬を含有させておくことが好ましく、特に1.3〜2.5倍を含有させておくことが好ましい。 These color developing agents are preferably used in an amount of 0.01 to 0.08 mol, particularly 0.015 to 0.06 mol, more preferably 0.02 to 0.05 mol, per liter of color developer (hereinafter also referred to as “L”). Is preferably used. The color developer replenisher preferably contains 1.1 to 3 times the color developing agent of this concentration, and more preferably 1.3 to 2.5 times.
発色現像液の保恒剤としては、ヒドロキシルアミンが広範に使用できるが、より高い保恒性が必要な場合は、アルキル基やヒドロキシアルキル基、スルホアルキル基、カルボキシアルキル基などの置換基を有するヒドロキシルアミン誘導体が好ましく、具体的にはN,N−ジ(スルホエチル)ヒドロキルアミン、モノメチルヒドロキシルアミン、ジメチルヒドロキシルアミン、モノエチルヒドロキシルアミン、ジエチルヒドロキルアミン、N,N−ジ(カルボキシエチル)ヒドロキルアミンが好ましい。上記の中でも、特にN,N−ジ(スルホエチル)ヒドロキルアミンが好ましい。これらはヒドロキシルアミンと併用してもよいが、好ましくはヒドロキシルアミンの代わりに、1種または2種以上使用することが好ましい。 Hydroxylamine can be widely used as a color developer preservative, but if higher preservability is required, it has a substituent such as an alkyl group, a hydroxyalkyl group, a sulfoalkyl group, or a carboxyalkyl group. Hydroxylamine derivatives are preferred, specifically N, N-di (sulfoethyl) hydroxylamine, monomethylhydroxylamine, dimethylhydroxylamine, monoethylhydroxylamine, diethylhydroxylamine, N, N-di (carboxyethyl) hydroxylamine preferable. Among the above, N, N-di (sulfoethyl) hydroxylamine is particularly preferable. These may be used in combination with hydroxylamine, but it is preferable to use one or more in place of hydroxylamine.
保恒剤は1Lあたり0.02〜0.2モルの範囲で使用することが好ましく、特に0.03〜0.15モル、更には0.04〜0.1モルの範囲で使用することが好ましい。また補充液においては、発色現像主薬の場合と同様に、母液(処理タンク液)の1.1〜3倍の濃度で保恒剤を含有させておくことが好ましい。 The preservative is preferably used in the range of 0.02 to 0.2 mol per liter, particularly preferably 0.03 to 0.15 mol, more preferably 0.04 to 0.1 mol. In the replenisher, it is preferable to contain a preservative at a concentration 1.1 to 3 times that of the mother liquor (processing tank solution), as in the case of the color developing agent.
発色現像液には、発色現像主薬の酸化物のタール化防止剤として亜硫酸塩が使用される。亜硫酸塩は1Lあたり0.01〜0.05モルの範囲で使用するのが好ましく、特には0.02〜0.04モルの範囲が好ましい。補充液においては、これらの1.1〜3倍の濃度で使用することが好ましい。 In the color developer, sulfite is used as an anti-tarring agent for the oxide of the color developing agent. The sulfite is preferably used in the range of 0.01 to 0.05 mol per liter, particularly preferably in the range of 0.02 to 0.04 mol. In the replenisher, it is preferably used at a concentration 1.1 to 3 times these.
また、発色現像液のpHは9.8〜11.0の範囲が好ましいが、特には10.0〜10.5が好ましく、また補充液においては、これらの値から0.1〜1.0の範囲で高い値に設定しておくことが好ましい。このようなpHを安定して維持するには、炭酸塩、リン酸塩、スルホサリチル酸塩、ホウ酸塩などの公知の緩衝剤が使用される。 The pH of the color developer is preferably in the range of 9.8 to 11.0, particularly preferably 10.0 to 10.5, and the replenisher should be set to a high value in the range of 0.1 to 1.0 from these values. preferable. In order to stably maintain such pH, known buffering agents such as carbonate, phosphate, sulfosalicylate, and borate are used.
発色現像液の補充量は、感光材料1m2あたり80〜1300mLが好ましいが、環境汚濁負荷の低減の観点から、より少ない方が好ましく、具体的には80〜600mL、更には80〜400mLが好ましい。 The replenishment amount of the color developer is preferably 80 to 1300 mL per 1 m 2 of the light-sensitive material, but is preferably smaller from the viewpoint of reducing the environmental pollution load, specifically 80 to 600 mL, more preferably 80 to 400 mL. .
発色現像液中の臭化物イオン濃度は、通常、1Lあたり0.01〜0.06モルであるが、感度を保持しつつカブリを抑制してディスクリミネーションを向上させ、かつ、粒状性を良化させる目的からは、1Lあたり0.015〜0.03モルに設定することが好ましい。臭化物イオン濃度をこのような範囲に設定する場合に、補充液には下記の式で算出した臭化物イオンを含有させればよい。ただし、Cが負になる時は、補充液には臭化物イオンを含有させないことが好ましい。
C=A−W/V
C:発色現像補充液中の臭化物イオン濃度(モル/L)
A:目標とする発色現像液中の臭化物イオン濃度(モル/L)
W:1m2の感光材料を発色現像した場合に、感光材料から発色現像液に溶出す
る臭化物イオンの量(モル)
V:1m2の感光材料に対する発色現像補充液の補充量(L)
The bromide ion concentration in the color developer is usually 0.01 to 0.06 mol per liter, but for the purpose of suppressing fog and improving discrimination while maintaining sensitivity, and improving graininess. It is preferably set to 0.015 to 0.03 mol per liter. When the bromide ion concentration is set in such a range, the replenisher may contain bromide ions calculated by the following formula. However, when C becomes negative, it is preferable that the replenisher does not contain bromide ions.
C = A-W / V
C: Concentration of bromide ion in color developer replenisher (mol / L)
A: Bromide ion concentration in target color developer (mol / L)
W: The amount (mole) of bromide ions eluted from the light-sensitive material to the color developer when the light-sensitive material of 1 m 2 is color-developed.
V: Replenishment amount of color developer replenisher for 1m 2 photosensitive material (L)
また、補充量を低減した場合や、高い臭化物イオン濃度に設定した場合、感度を高める方法として、1−フェニル−3−ピラゾリドンや1−フェニル−2−メチル−2−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドンに代表されるピラゾリドン類や3,6−ジチア−1,8−オクタンジオールに代表されるチオエーテル化合物などの現像促進剤を使用することも好ましい。 In addition, when the replenishment amount is reduced or when a high bromide ion concentration is set, as a method for increasing the sensitivity, 1-phenyl-3-pyrazolidone or 1-phenyl-2-methyl-2-hydroxymethyl-3-pyrazolidone is used. It is also preferable to use development accelerators such as thioether compounds typified by pyrazolidones represented by representatives and 3,6-dithia-1,8-octanediol.
本発明における漂白能を有する処理液には、特開平4-125558の第4頁左下欄16行〜第7頁左下欄6行に記載された化合物や処理条件を適用することができる。
漂白剤は酸化還元電位が 150mV以上のものが好ましいが、その具体例としては特開平5-72694 、同5-173312に記載のものが好ましく、特に1,3−ジアミノプロパン四酢酸、特開平5-173312号第7頁の具体例1の化合物の第二鉄錯塩が好ましい。
The compounds and processing conditions described in JP-A-4-125558, page 4, lower left column, line 16 to page 7, lower left column, line 6 can be applied to the processing solution having bleaching ability in the present invention.
The bleaching agent preferably has an oxidation-reduction potential of 150 mV or more, and specific examples thereof are those described in JP-A-5-72694 and JP-A-5-173112, particularly 1,3-diaminopropanetetraacetic acid, JP-A-5 A ferric complex salt of the compound of Example 1 on page 7 of No. 173312 is preferred.
また、漂白剤の生分解性を向上させるには、特開平4-251845、同4-268552、EP 588,289、同 591,934、特開平6-208213に記載の化合物第二鉄錯塩を漂白剤として使用することが好ましい。これらの漂白剤の濃度は、漂白能を有する液1Lあたり0.05〜0.3モルが好ましく、特に環境への排出量を低減する目的から、0.1モル〜0.15モルで設計することが好ましい。また、漂白能を有する液が漂白液の場合は、1Lあたり0.2モル〜1モルの臭化物を含有させることが好ましく、特に0.3〜 0.8モルを含有させることが好ましい。 Further, in order to improve the biodegradability of the bleaching agent, the compound ferric complex salt described in JP-A-4-25145, JP-A-4-268552, EP 588,289, 591,934, JP-A-6-208213 is used as a bleaching agent. It is preferable. The concentration of these bleaching agents is preferably 0.05 to 0.3 mol per liter of the solution having bleaching ability, and is preferably designed to be 0.1 to 0.15 mol for the purpose of reducing the discharge amount to the environment. Moreover, when the liquid which has bleaching ability is a bleaching liquid, it is preferable to contain 0.2-1 mol of bromide per liter, and it is preferable to contain 0.3-0.8 mol especially.
漂白能を有する液の補充液には、基本的に以下の式で算出される各成分の濃度を含有させる。これにより、母液中の濃度を一定に維持することができる。
CR=CT×(V1+V2)/V1+CP
CR :補充液中の成分の濃度
CT :母液(処理タンク液)中の成分の濃度
CP :処理中に消費された成分の濃度
V1 :1m2の感光材料に対する漂白能を有する補充液の補充量(mL)
V2 :1m2の感光材料による前浴からの持ち込み量(mL)
The replenisher of the solution having bleaching ability basically contains the concentration of each component calculated by the following formula. Thereby, the concentration in the mother liquor can be kept constant.
CR = CT × (V1 + V2) / V1 + CP
CR: Concentration of component in replenisher CT: Concentration of component in mother liquor (processing tank solution) CP: Concentration of component consumed during processing V1: Replenishment amount of replenisher having bleaching ability for 1 m 2 photosensitive material (ML)
V2: Amount brought in from the previous bath by 1m 2 photosensitive material (mL)
その他、漂白液にはpH緩衝剤を含有させることが好ましく、特にコハク酸、マレイン酸、マロン酸、グルタル酸、アジピン酸など、臭気の少ないジカルボン酸を含有させることが好ましい。また、特開昭53-95630、RDNo.17129、US 3,893,858に記載の公知の漂白促進剤を使用することも好ましい。
漂白液には、感光材料1m2あたり50〜1000mLの漂白補充液を補充することが好ましく、特には80〜500mL、さらには100〜300mLの補充をすることが好ましい。さらに漂白液にはエアレーションを行なうことが好ましい。
In addition, it is preferable to contain a pH buffer in the bleaching solution, and it is particularly preferable to contain a dicarboxylic acid with little odor such as succinic acid, maleic acid, malonic acid, glutaric acid, and adipic acid. It is also preferable to use a known bleach accelerator described in JP-A-53-95630, RD No. 17129, US 3,893,858.
The bleaching solution is preferably replenished with 50 to 1000 mL of bleach replenisher per 1 m 2 of the light-sensitive material, particularly preferably 80 to 500 mL, more preferably 100 to 300 mL. Further, it is preferable to aerate the bleaching solution.
定着能を有する処理液については、特開平4-125558の第7頁左下欄10行〜第8頁右下欄19行に記載の化合物や処理条件を適用することができる。
特に、定着速度と保恒性を向上させるために、特開平6-301169の一般式(I)と(II)で表される化合物を、単独あるいは併用して定着能を有する処理液に含有させることが好ましい。またp−トルエンスルフィン酸塩をはじめ、特開平1-224762に記載のスルフィン酸を使用することも、保恒性の向上の上で好ましい。
漂白能を有する液や定着能を有する液には、脱銀性の向上の観点からカチオンとしてアンモニウムを用いることが好ましいが、環境汚染低減の目的からは、アンモニウムを減少或いはゼロにする方が好ましい。
For the processing solution having fixing ability, the compounds and processing conditions described in JP-A-4-125558, page 7, lower left column, line 10 to page 8, lower right column, line 19 can be applied.
In particular, in order to improve the fixing speed and the preservability, the compounds represented by general formulas (I) and (II) of JP-A-6-301169 are incorporated into a processing solution having fixing ability alone or in combination. It is preferable. Use of sulfinic acid described in JP-A-1-224762 as well as p-toluenesulfinate is also preferable in terms of improving the preservability.
It is preferable to use ammonium as a cation from the viewpoint of improving the desilvering property in a solution having bleaching ability or a fixing ability, but it is preferable to reduce or eliminate ammonium for the purpose of reducing environmental pollution. .
漂白、漂白定着、定着工程においては、特開平1-309059に記載のジェット撹拌を行なうことが特に好ましい。 In the bleaching, bleach-fixing, and fixing steps, it is particularly preferable to perform jet stirring described in JP-A-1-309059.
漂白定着また定着工程における補充液の補充量は、感光材料1m2あたり100〜1000mLであり、好ましくは150〜700mL、特に好ましくは200〜600mLである。
漂白定着や定着工程には、各種の銀回収装置をインラインやオフラインで設置して銀を回収することが好ましい。インラインで設置することにより、液中の銀濃度を低減して処理できる結果、補充量を減少させることができる。また、オフラインで銀回収して残液を補充液として再利用することも好ましい。
The replenishing amount of the replenishing solution in the bleach-fixing or fixing step is 100 to 1000 mL, preferably 150 to 700 mL, particularly preferably 200 to 600 mL, per 1 m 2 of the light-sensitive material.
In the bleach-fixing or fixing step, it is preferable to collect various silver recovery devices in-line or offline to recover silver. By installing in-line, the amount of replenishment can be reduced as a result of processing with reduced silver concentration in the liquid. It is also preferable to recover silver offline and reuse the remaining liquid as a replenisher.
漂白定着工程や定着工程は複数の処理タンクで構成することができ、各タンクはカスケード配管して多段向流方式にすることが好ましい。現像機の大きさとのバランスから、一般には2タンクカスケード構成が効率的であり、前段のタンクと後段のタンクにおける処理時間の比は、0.5:1〜1:0.5の範囲にすることが好ましく、特には0.8:1〜1:0.8の範囲が好ましい。 The bleach-fixing step and the fixing step can be composed of a plurality of processing tanks, and it is preferable that each tank is cascade-pipe to be a multistage countercurrent system. From the balance with the size of the developing machine, a two-tank cascade configuration is generally efficient, and it is preferable that the ratio of the processing time in the front tank and the rear tank is in the range of 0.5: 1 to 1: 0.5. The range of 0.8: 1 to 1: 0.8 is particularly preferable.
漂白定着液や定着液には、保恒性の向上の観点から金属錯体になっていない遊離のキレート剤を存在させることが好ましいが、これらのキレート剤としては、漂白液に関して記載した生分解性キレート剤を使用することが好ましい。 In the bleach-fixing solution and the fixing solution, it is preferable that a free chelating agent that is not a metal complex is present from the viewpoint of improving the preservability, but as these chelating agents, the biodegradability described for the bleaching solution is used. It is preferred to use a chelating agent.
水洗および安定化工程に関しては、上記の特開平4-125558、第12頁右下欄6行〜第13頁右下欄第16行に記載の内容を好ましく適用することができる。特に、安定液にはホルムアルデヒドに代わってEP 504,609、同 519,190に記載のアゾリルメチルアミン類や特開平4-362943に記載のN−メチロールアゾール類を使用することや、マゼンタカプラーを二当量化してホルムアルデヒドなどの画像安定化剤を含まない界面活性剤の液にすることが、作業環境の保全の観点から好ましい。
また、感光材料に塗布された磁気記録層へのゴミの付着を軽減するには、特開平6-289559に記載の安定液が好ましく使用できる。
Regarding the water washing and stabilization process, the contents described in JP-A-4-125558, page 12, lower right column, line 6 to page 13, lower right column, line 16 can be preferably applied. In particular, in place of formaldehyde, azolylmethylamines described in EP 504,609 and 519,190 and N-methylolazoles described in JP-A-4-362943 are used in place of formaldehyde, or a magenta coupler is converted into two equivalents. It is preferable to use a surfactant solution that does not contain an image stabilizer such as formaldehyde from the viewpoint of maintaining the working environment.
In order to reduce the adhesion of dust to the magnetic recording layer applied to the photosensitive material, a stabilizer described in JP-A-6-289559 can be preferably used.
水洗および安定液の補充量は、感光材料1m2あたり80〜1000mLが好ましく、特には100〜500mL、さらには150〜300mLが、水洗または安定化機能の確保と環境保全のための廃液減少の両面から好ましい範囲である。このような補充量で行なう処理においては、バクテリアや黴の繁殖防止のために、チアベンダゾール、1,2−ベンゾイソチアゾリン−3オン、5−クロロ−2−メチルイソチアゾリン−3−オンのような公知の防黴剤やゲンタマイシンのような抗生物質、イオン交換樹脂等によって脱イオン処理した水を用いることが好ましい。脱イオン水と防菌剤や抗生物質は、併用することがより効果的である。 The amount of washing and replenishment of the stabilizing solution is preferably 80 to 1000 mL per 1 m 2 of the light-sensitive material, particularly 100 to 500 mL, and more preferably 150 to 300 mL, both for ensuring washing function and stabilizing waste and reducing waste for environmental conservation. To a preferable range. In such a replenishing amount, known methods such as thiabendazole, 1,2-benzisothiazolin-3-one, 5-chloro-2-methylisothiazolin-3-one are used to prevent the growth of bacteria and sputum. It is preferable to use water deionized with an antifungal agent, an antibiotic such as gentamicin, an ion exchange resin or the like. It is more effective to use deionized water together with antibacterial agents and antibiotics.
また、水洗または安定液タンク内の液は、特開平3-46652、同3-53246、同-355542、同3-121448、同3-126030に記載の逆浸透膜処理を行なって補充量を減少させることも好ましく、この場合の逆浸透膜は、低圧逆浸透膜であることが好ましい。 In addition, the amount of replenishment of the water in the water washing or stabilizing liquid tank is reduced by performing reverse osmosis membrane treatment described in JP-A-3-46652, 3-53246, 3-355542, 3-121448, and 3-12030. The reverse osmosis membrane in this case is preferably a low pressure reverse osmosis membrane.
本発明における処理においては、発明協会公開技報、公技番号94-4992に開示された処理液の蒸発補正を実施することが特に好ましい。特に第2頁の(式−1)に基づいて、現像機設置環境の温度及び湿度情報を用いて補正する方法が好ましい。蒸発補正に使用する水は、水洗の補充タンクから採取することが好ましく、その場合は水洗補充水として脱イオン水を用いることが好ましい。 In the processing in the present invention, it is particularly preferable to carry out the evaporation correction of the processing liquid disclosed in JIII Journal of Technical Disclosure No. 94-4992. In particular, a method of correcting using the temperature and humidity information of the developing machine installation environment based on (Formula-1) on the second page is preferable. The water used for evaporation correction is preferably collected from a replenishment tank for washing, in which case deionized water is preferably used as the washing replenishment water.
本発明に用いられる処理剤としては、上記公開技報の第3頁右欄15行から第4頁左欄32行に記載のものが好ましい。また、これに用いる現像機としては、第3頁右欄の第22行から28行に記載のフイルムプロセサーが好ましい。 As the treating agent used in the present invention, those described in the third page, right column, line 15 to page 4, left column, line 32 of the above-mentioned published technical report are preferable. Further, as the developing machine used for this, the film processor described in lines 22 to 28 in the right column on page 3 is preferable.
本発明を実施するに好ましい処理剤、自動現像機、蒸発補正方式の具体例については、上記の公開技報の第5頁右欄11行から第7頁右欄最終行までに記載されている。 Specific examples of a processing agent, an automatic processor, and an evaporation correction method that are preferable for carrying out the present invention are described from the fifth page, right column, line 11 to the seventh page, right column, last line of the above published technical bulletin. .
本発明に使用される処理剤の供給形態は、使用液状態の濃度または濃縮された形の液剤、あるいは顆粒、粉末、錠剤、ペースト状、乳液など、いかなる形態でもよい。このような処理剤の例として、特開昭63-17453には低酸素透過性の容器に収納した液剤、特開平4-19655 、同4-230748には真空包装した粉末あるいは顆粒、同4-221951には水溶性ポリマーを含有させた顆粒、特開昭51-61837、特開平6-102628には錠剤、特表昭57-500485 にはペースト状の処理剤が開示されており、いずれも好ましく使用できるが、使用時の簡便性の面から、予め使用状態の濃度で調製してある液体を使用することが好ましい。 The treatment agent used in the present invention may be supplied in any form, such as a solution in the concentration or concentrated form of the working solution, or granules, powders, tablets, pastes, and emulsions. Examples of such treatment agents include a liquid agent stored in a low oxygen permeable container in JP-A-63-17453, powders or granules in vacuum packaging in JP-A-4-19655 and 4-230748, 4- 221951 discloses a granule containing a water-soluble polymer, JP-A-51-61837, JP-A-6-102628 discloses a tablet, JP-T-57-500485 discloses a paste-like treatment agent, both of which are preferred. Although it can be used, it is preferable to use a liquid prepared in advance at a concentration in the state of use from the viewpoint of convenience during use.
これらの処理剤を収納する容器には、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニール、ポリエチレンテレフタレート、ナイロンなどが、単独あるいは複合材料として使用される。これらは要求される酸素透過性のレベルに合わせて選択される。発色現像液などの酸化されやすい液に対しては、低酸素透過性の素材が好ましく、具体的にはポリエチレンテレフタレートやポリエチレンとナイロンの複合材料が好ましい。これらの材料は 500〜1500μmの厚さで、容器に使用され、酸素透過性を20mL/m2・24hrs・atm以下にすることが好ましい。 In a container for storing these treatment agents, polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polyethylene terephthalate, nylon, or the like is used alone or as a composite material. These are selected according to the required level of oxygen permeability. For an easily oxidized liquid such as a color developer, a low oxygen permeable material is preferable, and specifically, polyethylene terephthalate or a composite material of polyethylene and nylon is preferable. These materials have a thickness of 500 to 1500 μm, are used for containers, and preferably have an oxygen permeability of 20 mL / m 2 · 24 hrs · atm or less.
次に本発明に使用されるカラー反転フィルム用の処理液について説明する。
カラー反転フィルム用の処理については、アズテック有限会社発行の公知技術第6号(1991年4月1日)第1頁5行〜第10頁5行、及び第15頁8行〜第24頁2行に詳細に記載されており、その内容はいずれも好ましく適用することができる。
Next, the processing liquid for the color reversal film used in the present invention will be described.
Regarding processing for color reversal film, publicly known technology No. 6 (April 1, 1991) published by Aztec Co., Ltd., page 1, line 5 to page 10, line 5, and page 15, line 8 to page 24, page 2 The contents are described in detail in the lines, and any of the contents can be preferably applied.
カラー反転フィルムの処理においては、画像安定化剤は調整浴か最終浴に含有される。このような画像安定化剤としては、ホルマリンのほかにホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウム、N−メチロールアゾール類があげられるが、作業環境の観点からホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムかN−メチロールアゾール類が好ましく、N−メチロールアゾール類としては、特にN−メチロールトリアゾールが好ましい。また、カラーネガフイルムの処理において記載した発色現像液、漂白液、定着液、水洗水などに関する内容は、カラー反転フィルムの処理にも好ましく適用できる。 In color reversal film processing, image stabilizers are included in the conditioning bath or the final bath. Examples of such image stabilizers include formaldehyde sodium bisulfite and N-methylol azoles in addition to formalin. From the viewpoint of the working environment, sodium formaldehyde bisulfite or N-methylol azoles are preferred, and N-methylol is preferred. As the azole, N-methyloltriazole is particularly preferable. The contents relating to the color developer, bleaching solution, fixing solution, washing water and the like described in the processing of the color negative film can be preferably applied to the processing of the color reversal film.
上記の内容を含む好ましいカラー反転フィルムの処理剤として、イーストマンコダック社のE−6処理剤及び富士写真フイルム(株)のCR−56処理剤をあげることができる。 Examples of preferable processing agents for color reversal films including the above contents include East-6 Kodak E-6 processing agent and Fuji Photo Film Co., Ltd. CR-56 processing agent.
次に、本発明に好ましく用いられる磁気記録層について説明する。
磁気記録層とは、磁性体粒子をバインダー中に分散した水性もしくは有機溶媒系塗布液を支持体上に塗設したものである。
本発明で用いられる磁性体粒子は、γFe2O3などの強磁性酸化鉄、Co被着γFe2O3、Co被着マグネタイト、Co含有マグネタイト、強磁性二酸化クロム、強磁性金属、強磁性合金、六方晶系のBaフェライト、Srフェライト、Pbフェライト、Caフェライトなどを使用できる。Co被着γFe2O3などのCo被着強磁性酸化鉄が好ましい。形状としては針状、米粒状、球状、立方体状、板状等いずれでもよい。比表面積ではSBETで20m2/g以上が好ましく、30m2/g以上が特に好ましい。強磁性体の飽和磁化(σs)は、好ましくは3.0×104〜3.0×105A/mであり、特に好ましくは4.0×104〜2.5×105mA/mである。強磁性体粒子を、シリカおよび/またはアルミナや有機素材による表面処理を施してもよい。さらに、磁性体粒子は特開平6-161032に記載された如くその表面にシランカップリング剤又はチタンカップリング剤で処理されてもよい。又特開平4-259911、同5-81652号に記載の表面に無機、有機物を被覆した磁性体粒子も使用できる。
Next, the magnetic recording layer preferably used in the present invention will be described.
The magnetic recording layer is obtained by coating a support with an aqueous or organic solvent-based coating liquid in which magnetic particles are dispersed in a binder.
Magnetic particles used in the present invention include ferromagnetic iron oxide such as γFe 2 O 3, Co deposited γFe 2 O 3, Co coated magnetite, Co containing magnetite, ferromagnetic chromium dioxide, ferromagnetic metal, ferromagnetic alloy Hexagonal Ba ferrite, Sr ferrite, Pb ferrite, Ca ferrite, etc. can be used. Co-coated ferromagnetic iron oxides such as Co-coated γFe 2 O 3 are preferred. The shape may be any of needle shape, rice grain shape, spherical shape, cubic shape, plate shape and the like. Preferably at least 20 m 2 / g in S BET is the specific surface area, and particularly preferably equal to or greater than 30 m 2 / g. The saturation magnetization (σs) of the ferromagnetic material is preferably 3.0 × 10 4 to 3.0 × 10 5 A / m, and particularly preferably 4.0 × 10 4 to 2.5 × 10 5 mA / m. The ferromagnetic particles may be subjected to a surface treatment with silica and / or alumina or an organic material. Further, the magnetic particles may be treated on the surface with a silane coupling agent or a titanium coupling agent as described in JP-A-6-61032. Further, magnetic particles having a surface coated with inorganic or organic substances as described in JP-A-4-259911 and 5-81652 can also be used.
磁性体粒子に用いられるバインダーは、特開平4-219569に記載の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、放射線硬化性樹脂、反応型樹脂、酸、アルカリ又は生分解性ポリマー、天然物重合体(セルロース誘導体,糖誘導体など)およびそれらの混合物を使用することができる。上記の樹脂のTgは-40℃〜300℃、質量平均分子量は0.2万〜100万である。例えばビニル系共重合体、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルローストリプロピオネートなどのセルロース誘導体、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂を挙げることができ、ゼラチンも好ましい。特にセルロースジ(トリ)アセテートが好ましい。バインダーは、エポキシ系、アジリジン系、イソシアネート系の架橋剤を添加して硬化処理することができる。イソシアネート系の架橋剤としては、トリレンジイソシアネート、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、などのイソシアネート類、これらのイソシアネート類とポリアルコールとの反応生成物(例えば、トリレンジイソシアナート3molとトリメチロールプロパン1molの反応生成物)、及びこれらのイソシアネート類の縮合により生成したポリイソシアネートなどがあげられ、例えば特開平6-59357に記載されている。 The binder used for the magnetic particles is a thermoplastic resin, a thermosetting resin, a radiation curable resin, a reactive resin, an acid, an alkali or a biodegradable polymer, a natural product polymer (cellulose) described in JP-A-4-19569. Derivatives, sugar derivatives, etc.) and mixtures thereof. The resin has a Tg of -40 ° C to 300 ° C and a mass average molecular weight of 20,000 to 1,000,000. Examples include vinyl copolymers, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose acetate propionate, cellulose derivatives such as cellulose acetate butyrate, cellulose tripropionate, acrylic resins, and polyvinyl acetal resins, and gelatin is also preferable. Cellulose di (tri) acetate is particularly preferable. The binder can be cured by adding an epoxy-based, aziridine-based, or isocyanate-based crosslinking agent. Examples of isocyanate-based crosslinking agents include tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, and the like, and reaction products of these isocyanates with polyalcohol (for example, tolylene diene). Reaction products of 3 mol of isocyanate and 1 mol of trimethylolpropane), polyisocyanates formed by condensation of these isocyanates, and the like, for example, are described in JP-A-6-59357.
前述の磁性体を上記バインダ−中に分散する方法は、特開平6-35092に記載されている方法のように、ニーダー、ピン型ミル、アニュラー型ミルなどが好ましく併用も好ましい。特開平5-088283に記載の分散剤や、その他の公知の分散剤が使用できる。磁気記録層の厚みは0.1μm〜10μm、好ましくは0.2μm〜5μm、より好ましくは0.3μm〜3μmである。磁性体粒子とバインダーの質量比は好ましくは0.5:100〜60:100からなり、より好ましくは1:100〜30:100である。磁性体粒子の塗布量は0.005〜3g/m2、好ましくは0.01〜2g/m2、さらに好ましくは0.02〜0.5g/m2である。磁気記録層の透過イエロー濃度は、0.01〜0.50が好ましく、0.03〜0.20がより好ましく、0.04〜0.15が特に好ましい。磁気記録層は、写真用支持体の裏面に塗布又は印刷によって全面またはストライプ状に設けることができる。磁気記録層を塗布する方法としてはエアードクター、ブレード、エアナイフ、スクイズ、含浸、リバースロール、トランスファーロール、グラビヤ、キス、キャスト、スプレイ、ディップ、バー、エクストリュージョン等が利用でき、特開平5-341436等に記載の塗布液が好ましい。 As a method for dispersing the above-mentioned magnetic substance in the binder, a kneader, a pin type mill, an annular type mill, etc. are preferable, as in the method described in JP-A-6-35092. Dispersants described in JP-A-5-088283 and other known dispersants can be used. The thickness of the magnetic recording layer is 0.1 μm to 10 μm, preferably 0.2 μm to 5 μm, more preferably 0.3 μm to 3 μm. The mass ratio of the magnetic particles to the binder is preferably 0.5: 100 to 60: 100, more preferably 1: 100 to 30: 100. The coating amount of the magnetic particles is 0.005 to 3 g / m 2 , preferably 0.01 to 2 g / m 2 , more preferably 0.02 to 0.5 g / m 2 . The transmission yellow density of the magnetic recording layer is preferably 0.01 to 0.50, more preferably 0.03 to 0.20, and particularly preferably 0.04 to 0.15. The magnetic recording layer can be provided on the entire surface or in a stripe shape on the back surface of the photographic support by coating or printing. As a method for applying the magnetic recording layer, an air doctor, blade, air knife, squeeze, impregnation, reverse roll, transfer roll, gravure, kiss, cast, spray, dip, bar, extraction, etc. can be used. The coating solution described in 341436 and the like is preferable.
磁気記録層に、潤滑性向上、カール調節、帯電防止、接着防止、ヘッド研磨などの機能を合せ持たせてもよいし、別の機能性層を設けて、これらの機能を付与させてもよく、粒子の少なくとも1種以上がモース硬度が5以上の非球形無機粒子の研磨剤が好ましい。非球形無機粒子の組成としては、酸化アルミニウム、酸化クロム、二酸化珪素、二酸化チタン、シリコンカーバイト等の酸化物、炭化珪素、炭化チタン等の炭化物、ダイアモンド等の微粉末が好ましい。これらの研磨剤は、その表面をシランカップリング剤又はチタンカップリング剤で処理されてもよい。これらの粒子は磁気記録層に添加してもよく、また磁気記録層上にオーバーコート(例えば保護層,潤滑剤層など)しても良い。この時使用するバインダーは前述のものが使用でき、好ましくは磁気記録層のバインダーと同じものがよい。磁気記録層を有する感材については、US 5,336,589、同 5,250,404、同 5,229,259、同 5,215,874、EP 466,130に記載されている。 The magnetic recording layer may have functions such as lubricity improvement, curl adjustment, antistatic, adhesion prevention, head polishing, etc., or another functional layer may be provided to give these functions. An abrasive of non-spherical inorganic particles in which at least one kind of particles has a Mohs hardness of 5 or more is preferable. As the composition of the non-spherical inorganic particles, oxides such as aluminum oxide, chromium oxide, silicon dioxide, titanium dioxide, and silicon carbide, carbides such as silicon carbide and titanium carbide, and fine powders such as diamond are preferable. The surface of these abrasives may be treated with a silane coupling agent or a titanium coupling agent. These particles may be added to the magnetic recording layer, or may be overcoated (for example, a protective layer, a lubricant layer, etc.) on the magnetic recording layer. As the binder used at this time, the above-mentioned binders can be used, and the same binder as that for the magnetic recording layer is preferable. Photosensitive materials having a magnetic recording layer are described in US 5,336,589, 5,250,404, 5,229,259, 5,215,874, and EP 466,130.
次に本発明に用いられるポリエステル支持体について記すが、後述する感材、処理、カートリッジ及び実施例なども含め詳細については、公開技報、公技番号94-6023(発明協会;1994.3.15.)に記載されている。本発明に用いられるポリエステルはジオールと芳香族ジカルボン酸を必須成分として形成され、芳香族ジカルボン酸として2,6−、1,5−、1,4−、及び2,7−ナフタレンジカルボン酸、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、ジオールとしてジエチレングリコール、トリエチレングリコール、シクロヘキサンジメタノール、ビスフェノールA、ビスフェノールが挙げられる。この重合ポリマーとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリシクロヘキサンジメタノールテレフタレート等のホモポリマーを挙げることができる。特に好ましいのは2,6−ナフタレンジカルボン酸を50モル%〜 100モル%含むポリエステルである。中でも特に好ましいのはポリエチレン 2,6−ナフタレートである。平均分子量の範囲は約 5,000ないし200,000である。本発明のポリエステルのTgは50℃以上であり、さらに90℃以上が好ましい。 Next, the polyester support used in the present invention will be described, but for details including photosensitive materials, processing, cartridges and examples described later, published technical bulletin, public technical number 94-6023 (Invention Association; 1994.3.15. )It is described in. The polyester used in the present invention is formed with diol and aromatic dicarboxylic acid as essential components, and 2,6-, 1,5-, 1,4- and 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, terephthalic as aromatic dicarboxylic acid Examples of the acid, isophthalic acid, phthalic acid, and diol include diethylene glycol, triethylene glycol, cyclohexanedimethanol, bisphenol A, and bisphenol. Examples of this polymer include homopolymers such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, and polycyclohexanedimethanol terephthalate. Particularly preferred is a polyester containing 50 mol% to 100 mol% of 2,6-naphthalenedicarboxylic acid. Of these, polyethylene 2,6-naphthalate is particularly preferred. The average molecular weight range is about 5,000 to 200,000. The Tg of the polyester of the present invention is 50 ° C. or higher, more preferably 90 ° C. or higher.
次にポリエステル支持体は、巻き癖をつきにくくするために熱処理温度は40℃以上Tg未満、より好ましくはTg−20℃以上Tg未満で熱処理を行う。熱処理はこの温度範囲内の一定温度で実施してもよく、冷却しながら熱処理してもよい。この熱処理時間は、0.1時間以上1500時間以下、さらに好ましくは0.5時間以上200時間以下である。支持体の熱処理は、ロール状で実施してもよく、またウェブ状で搬送しながら実施してもよい。表面に凹凸を付与し(例えばSnO2や Sb2O5等の導電性無機微粒子を塗布する)、面状改良を図ってもよい。又端部にローレットを付与し端部のみ少し高くすることで巻芯部の切り口写りを防止するなどの工夫を行うことが望ましい。これらの熱処理は支持体製膜後、表面処理後、バック層塗布後(帯電防止剤、滑り剤等)、下塗り塗布後のどこの段階で実施してもよい。好ましいのは帯電防止剤塗布後である。 Next, the polyester support is heat-treated at a heat treatment temperature of 40 ° C. or more and less than Tg, more preferably Tg−20 ° C. or more and less than Tg, in order to make it difficult to cause curl. The heat treatment may be performed at a constant temperature within this temperature range, or may be performed while cooling. This heat treatment time is 0.1 hours to 1500 hours, more preferably 0.5 hours to 200 hours. The heat treatment of the support may be performed in a roll shape or may be performed while being conveyed in a web shape. The surface may be improved by providing irregularities on the surface (for example, applying conductive inorganic fine particles such as SnO 2 and Sb 2 O 5 ). It is also desirable to devise measures such as preventing knurling of the core part by imparting knurls to the end part and slightly raising only the end part. These heat treatments may be carried out at any stage after forming the support, after the surface treatment, after applying the back layer (antistatic agent, slip agent, etc.) and after applying the undercoat. Preferred is after application of the antistatic agent.
このポリエステルには紫外線吸収剤を練り込んでも良い。又ライトパイピング防止のため、三菱化成製のDiaresin、日本化薬製のKayaset等ポリエステル用として市販されている染料または顔料を練り込むことにより目的を達成することが可能である。 This polyester may be kneaded with an ultraviolet absorber. In order to prevent light piping, the purpose can be achieved by kneading commercially available dyes or pigments for polyester such as Mitsubishi Kasei's Diaresin and Nippon Kayaku's Kayaset.
次に、本発明では支持体と感材構成層を接着させるために、表面処理することが好ましい。薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理、オゾン酸化処理、などの表面活性化処理が挙げられる。表面処理の中でも好ましいのは、紫外線照射処理、火焔処理、コロナ処理、グロー処理である。 Next, in the present invention, it is preferable to perform a surface treatment in order to adhere the support and the light-sensitive material constituting layer. Examples of the surface activation treatment include chemical treatment, mechanical treatment, corona discharge treatment, flame treatment, ultraviolet treatment, high frequency treatment, glow discharge treatment, active plasma treatment, laser treatment, mixed acid treatment, and ozone oxidation treatment. Among the surface treatments, ultraviolet irradiation treatment, flame treatment, corona treatment, and glow treatment are preferable.
次に下塗法について述べると、単層でもよく2層以上でもよい。下塗層用バインダーとしては、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ブタジエン、メタクリル酸、アクリル酸、イタコン酸、無水マレイン酸などの中から選ばれた単量体を出発原料とする共重合体を始めとして、ポリエチレンイミン、エポキシ樹脂、グラフト化ゼラチン、ニトロセルロース、ゼラチンが挙げられる。支持体を膨潤させる化合物としてレゾルシンとp−クロルフェノールがある。下塗層にはゼラチン硬化剤としてはクロム塩(クロム明ばんなど)、アルデヒド類(ホルムアルデヒド、グルタールアルデヒドなど)、イソシアネート類、活性ハロゲン化合物(2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−S−トリアジンなど)、エピクロルヒドリン樹脂、活性ビニルスルホン化合物などを挙げることができる。SiO2、TiO2、無機物微粒子又はポリメチルメタクリレート共重合体微粒子(0.01〜10μm)をマット剤として含有させてもよい。 Next, regarding the undercoating method, a single layer or two or more layers may be used. As a binder for the undercoat layer, starting from a copolymer starting from a monomer selected from vinyl chloride, vinylidene chloride, butadiene, methacrylic acid, acrylic acid, itaconic acid, maleic anhydride, etc. Examples include polyethyleneimine, epoxy resin, grafted gelatin, nitrocellulose, and gelatin. Examples of compounds that swell the support include resorcin and p-chlorophenol. As the gelatin hardener for the undercoat layer, chromium salts (such as chromium alum), aldehydes (formaldehyde, glutaraldehyde, etc.), isocyanates, active halogen compounds (2,4-dichloro-6-hydroxy-S-triazine) Etc.), epichlorohydrin resins, active vinyl sulfone compounds and the like. SiO 2 , TiO 2 , inorganic fine particles or polymethyl methacrylate copolymer fine particles (0.01 to 10 μm) may be contained as a matting agent.
また本発明においては、帯電防止剤が好ましく用いられる。それらの帯電防止剤としては、カルボン酸及びカルボン酸塩、スルホン酸塩を含む高分子、カチオン性高分子、イオン性界面活性剤化合物を挙げることができる。 In the present invention, an antistatic agent is preferably used. Examples of these antistatic agents include carboxylic acids, carboxylates, polymers containing sulfonates, cationic polymers, and ionic surfactant compounds.
帯電防止剤として最も好ましいものは、ZnO、TiO2、SnO2、Al2O3、In2O3、SiO2、MgO、BaO、MoO3、V2O5の中から選ばれた少くとも1種の体積抵抗率が107Ω・cm以下、より好ましくは105Ω・cm以下である粒子サイズ0.001〜1.0μm結晶性の金属酸化物あるいはこれらの複合酸化物(Sb,P,B,In,S,Si,C など)の微粒子、更にはゾル状の金属酸化物あるいはこれらの複合酸化物の微粒子である。感材への含有量としては、5〜500mg/m2が好ましく特に好ましくは10〜350mg/m2である。導電性の結晶性酸化物又はその複合酸化物とバインダーの量の比は1/300〜100/1が好ましく、より好ましくは1/100〜100/5である。 Most preferred as the antistatic agent is at least one selected from ZnO, TiO 2 , SnO 2 , Al 2 O 3 , In 2 O 3 , SiO 2 , MgO, BaO, MoO 3 , V 2 O 5. The volume resistivity of the seed is 10 7 Ω · cm or less, more preferably 10 5 Ω · cm or less. The particle size is 0.001 to 1.0 μm Crystalline metal oxide or a composite oxide thereof (Sb, P, B, In , S, Si, C, etc.), and also sol-like metal oxides or composite oxides thereof. The addition amount to the photographic material, 5 to 500 mg / m 2 is preferably particularly preferably 10 to 350 mg / m 2. The ratio of the amount of the conductive crystalline oxide or its composite oxide to the binder is preferably 1/300 to 100/1, more preferably 1/100 to 100/5.
本発明の感材には滑り性がある事が好ましい。滑り剤含有層は感光層面、バック面ともに用いることが好ましい。好ましい滑り性としては動摩擦係数で0.25以下0.01以上である。この時の測定は直径 5mmのステンレス球に対し、60cm/分で搬送した時の値を表す(25℃、60%RH)。この評価において相手材として感光層面に置き換えてももほぼ同レベルの値となる。 The light-sensitive material of the present invention preferably has slipperiness. The slip agent-containing layer is preferably used for both the photosensitive layer surface and the back surface. A preferable slip property is a dynamic friction coefficient of 0.25 or less and 0.01 or more. The measurement at this time represents the value when transported at 60 cm / min against a stainless steel ball with a diameter of 5 mm (25 ° C, 60% RH). In this evaluation, even if the counterpart material is replaced with the photosensitive layer surface, the value is almost the same.
本発明に使用可能な滑り剤としては、ポリオルガノシロキサン、高級脂肪酸アミド、高級脂肪酸金属塩、高級脂肪酸と高級アルコールのエステル等であり、ポリオルガノシロキサンとしては、ポリジメチルシロキサン、ポリジエチルシロキサン、ポリスチリルメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサン等を用いることができる。添加層としては乳剤層の最外層やバック層が好ましい。特にポリジメチルシロキサンや長鎖アルキル基を有するエステルが好ましい。 Examples of slip agents that can be used in the present invention include polyorganosiloxanes, higher fatty acid amides, higher fatty acid metal salts, esters of higher fatty acids and higher alcohols, and examples of polyorganosiloxanes include polydimethylsiloxane, polydiethylsiloxane, Styrylmethylsiloxane, polymethylphenylsiloxane, and the like can be used. As the additive layer, the outermost layer of the emulsion layer or the back layer is preferable. In particular, polydimethylsiloxane and esters having a long chain alkyl group are preferred.
本発明の感材にはマット剤が有る事が好ましい。マット剤としては乳剤面、バック面とどちらでもよいが、乳剤側の最外層に添加するのが特に好ましい。マット剤は処理液可溶性でも処理液不溶性でもよく、好ましくは両者を併用することである。例えばポリメチルメタクリレート、ポリ(メチルメタクリレート/メタクリル酸=9/1又は5/5(モル比))、ポリスチレン粒子などが好ましい。粒径としては0.8〜10μmが好ましく、その粒径分布も狭いほうが好ましく、平均粒径の0.9〜1.1倍の間に全粒子数の90%以上が含有されることが好ましい。又マット性を高めるために0.8μm以下の微粒子を同時に添加することも好ましく例えばポリメチルメタクリレート(0.2μm)、ポリ(メチルメタクリレート/メタクリル酸=9/1(モル比)、0.3μm))、ポリスチレン粒子(0.25μm)、コロイダルシリカ(0.03μm)が挙げられる。 The light-sensitive material of the present invention preferably contains a matting agent. The matting agent may be either the emulsion surface or the back surface, but is particularly preferably added to the outermost layer on the emulsion side. The matting agent may be soluble in the processing solution or insoluble in the processing solution, and is preferably a combination of both. For example, polymethyl methacrylate, poly (methyl methacrylate / methacrylic acid = 9/1 or 5/5 (molar ratio)), polystyrene particles and the like are preferable. The particle size is preferably 0.8 to 10 μm, the particle size distribution is preferably narrow, and 90% or more of the total number of particles is preferably contained between 0.9 and 1.1 times the average particle size. It is also preferable to add fine particles of 0.8 μm or less at the same time in order to improve matting properties, for example, polymethyl methacrylate (0.2 μm), poly (methyl methacrylate / methacrylic acid = 9/1 (molar ratio), 0.3 μm)), polystyrene Examples thereof include particles (0.25 μm) and colloidal silica (0.03 μm).
次に本発明で用いられるフィルムパトローネについて記す。本発明で使用されるパトローネの主材料は金属でも合成プラスチックでもよい。
好ましいプラスチック材料はポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリフェニルエーテルなどである。更に本発明のパトローネは、各種の帯電防止剤を含有してもよくカーボンブラック、金属酸化物粒子、ノニオン、アニオン、カチオン及びベタイン系界面活性剤又はポリマー等を好ましく用いることが出来る。これらの帯電防止されたパトローネは特開平1-312537、同1-312538に記載されている。特に25℃、25%RHでの抵抗が1012Ω以下が好ましい。通常プラスチックパトローネは、遮光性を付与するためにカーボンブラックや顔料などを練り込んだプラスチックを使って製作される。パトローネのサイズは現在135サイズのままでもよいし、カメラの小型化には、現在の 135サイズの25mmのカートリッジの径を22mm以下とすることも有効である。パトローネのケースの容積は、30cm3以下好ましくは25cm3以下とすることが好ましい。パトローネおよびパトローネケースに使用されるプラスチックの質量は5g〜15gが好ましい。
Next, the film cartridge used in the present invention will be described. The main material of the cartridge used in the present invention may be metal or synthetic plastic.
Preferred plastic materials are polystyrene, polyethylene, polypropylene, polyphenyl ether and the like. Furthermore, the cartridge of the present invention may contain various antistatic agents, and carbon black, metal oxide particles, nonions, anions, cations and betaine surfactants or polymers can be preferably used. These antistatic cartridges are described in JP-A Nos. 1-312537 and 1-312538. In particular, the resistance at 25 ° C. and 25% RH is preferably 10 12 Ω or less. Usually, plastic patrone is manufactured using a plastic kneaded with carbon black or pigment to provide light shielding. The patrone size may be the same as the current 135 size. To reduce the size of the camera, it is also effective to reduce the diameter of the current 135 size 25 mm cartridge to 22 mm or less. The volume of the cartridge case is 30 cm 3 or less, preferably 25 cm 3 or less. The mass of the plastic used for the cartridge and the cartridge case is preferably 5 to 15 g.
更に本発明で用いられる、スプールを回転してフィルムを送り出すパトローネでもよい。またフィルム先端がパトローネ本体内に収納され、スプール軸をフィルム送り出し方向に回転させることによってフィルム先端をパトローネのポート部から外部に送り出す構造でもよい。これらはUS 4,834,306、同 5,226,613に開示されている。本発明に用いられる写真フィルムは現像前のいわゆる生フイルムでもよいし、現像処理された写真フィルムでもよい。又、生フイルムと現像済みの写真フィルムが同じ新パトローネに収納されていてもよいし、異なるパトローネでもよい。 Further, a cartridge that feeds a film by rotating a spool may be used in the present invention. Alternatively, the film leading end may be housed in the cartridge main body, and the film leading end may be sent out from the port portion of the cartridge by rotating the spool shaft in the film feeding direction. These are disclosed in US 4,834,306 and 5,226,613. The photographic film used in the present invention may be a so-called raw film before development, or may be a developed photographic film. Further, the raw film and the developed photographic film may be stored in the same new cartridge, or may be different cartridges.
本発明のカラー写真感光材料は、アドバンスト・フォト・システム(以下、APシステムという)用ネガフイルムとしても好適であり、富士写真フイルム(株)(以下、富士フイルムという)製NEXIA A 、NEXIA F 、NEXIA H (順にISO 200/100/400 )のようにフィルムをAPシステムフォーマットに加工し、専用カートリッジに収納したものを挙げることができる。これらのAPシステム用カートリッジフイルムは、富士フイルム製エピオンシリーズ(エピオン300Z等)等のAPシステム用カメラに装填して用いられる。また、本発明のカラー写真感光材料は、富士フイルム製フジカラー写ルンですスーパースリムのようなレンズ付きフィルムにも好適である。 The color photographic light-sensitive material of the present invention is also suitable as a negative film for an advanced photo system (hereinafter referred to as AP system), manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. (hereinafter referred to as Fuji Film), NEXIA A, NEXIA F, A film that has been processed into an AP system format such as NEXIA H (in order ISO 200/100/400) and stored in a dedicated cartridge can be listed. These AP system cartridge films are used by being loaded into an AP system camera such as the Fuji Film Epion series (Epion 300Z, etc.). The color photographic light-sensitive material of the present invention is also suitable for a lens-equipped film such as a super slim, which is a Fuji color photorun made by Fuji Film.
これらにより撮影されたフィルムは、ミニラボシステムでは次のような工程を経てプリントされる。
(1)受付(露光済みカートリッジフイルムをお客様からお預かり)
(2)デタッチ工程(カートリッジから、フィルムを現像工程用の中間カートリッジに移す)
(3)フィルム現像
(4)リアタッチ工程(現像済みのネガフイルムを、もとのカートリッジに戻す)
(5)プリント(C/H/P3タイプのプリントとインデックスプリントをカラーペーパー〔好ましくは富士フイルム製SUPER FA8 〕に連続自動プリント)
(6)照合・出荷(カートリッジとインデックスプリントをIDナンバーで照合し、プリントとともに出荷)
The film photographed by these is printed through the following process in the minilab system.
(1) Reception (taking the exposed cartridge film from the customer)
(2) Detach process (transfer film from cartridge to intermediate cartridge for development process)
(3) Film development
(4) Rear touch process (return the developed negative film back to the original cartridge)
(5) Print (C / H / P3 type prints and index prints are automatically printed on color paper (preferably Fujifilm SUPER FA8))
(6) Verification / shipment (Cartridge and index print are verified by ID number and shipped together with the print)
これらのシステムとしては、富士フイルムミニラボチャンピオンスーパーFA-298/FA-278/FA-258/FA-238 及び富士フイルムデジタルラボシステム フロンティアが好ましい。ミニラボチャンピオンのフイルムプロセサーとしてはFP922AL/FP562B/FP562B,AL/FP362B/FP362B,AL が挙げられ、推奨処理薬品はフジカラージャストイットCN-16L及びCN-16Qである。プリンタープロセサーとしては、PP3008AR/PP3008A/PP1828AR/PP1828A/PP1258AR/PP1258A/PP728AR/PP728A が挙げられ、推奨処理薬品はフジカラージャストイットCP-47L及びCP-40FAII である。フロンティアシステムでは、スキャナー&イメージプロセサー SP-1000及びレーザープリンター&ペーパープロセサー LP-1000P もしくはレーザープリンター LP-1000W が用いられる。デタッチ工程で用いるデタッチャー、リアタッチ工程で用いるリアタッチャーは、それぞれ富士フイルムのDT200/DT100 及びAT200/AT100 が好ましい。 As these systems, FUJIFILM Minilab Champion Super FA-298 / FA-278 / FA-258 / FA-238 and FUJIFILM Digital Lab System Frontier are preferred. FP922AL / FP562B / FP562B, AL / FP362B / FP362B, AL are listed as minilab champion film processors. Fuji Color Just It CN-16L and CN-16Q are recommended treatment chemicals. Examples of printer processors include PP3008AR / PP3008A / PP1828AR / PP1828A / PP1258AR / PP1258A / PP728AR / PP728A, and recommended processing chemicals are Fujicolor Justit CP-47L and CP-40FAII. In the frontier system, the Scanner & Image Processor SP-1000 and Laser Printer & Paper Processor LP-1000P or Laser Printer LP-1000W are used. The detacher used in the detaching step and the rear toucher used in the rear touching step are preferably DT200 / DT100 and AT200 / AT100 made by FUJIFILM respectively.
APシステムは、富士フイルムのデジタルイメージワークステーションAladdin 1000を中心とするフォトジョイシステムにより楽しむこともできる。例えば、Aladdin 1000に現像済みAPシステムカートリッジフイルムを直接装填したり、ネガフイルム、ポジフイルム、プリントの画像情報を、35mmフイルムスキャナーFE-550やフラットヘッドスキャナーPE-550を用いて入力し、得られたデジタル画像データを容易に加工・編集することができる。そのデータは、光定着型感熱カラープリント方式によるデジタルカラープリンターNC-550ALやレーザー露光熱現像転写方式のピクトログラフィー3000によって、又はフイルムレコーダーを通して既存のラボ機器によりプリントとして出力することができる。また、Aladdin 1000は、デジタル情報を直接フロッピーディスクやZip ディスクに、もしくはCDライターを介してCD-Rに出力することもできる。 The AP system can also be enjoyed with a photo joy system centered on Fujifilm's digital image workstation Aladdin 1000. For example, you can directly load developed AP system cartridge film into Aladdin 1000 or input image information of negative film, positive film, and print using 35mm film scanner FE-550 or flat head scanner PE-550. Digital image data can be easily processed and edited. The data can be output as a print by a digital color printer NC-550AL using a light fixing type thermal color printing system, a pictography 3000 using a laser exposure thermal development transfer system, or by an existing laboratory equipment through a film recorder. The Aladdin 1000 can also output digital information directly to a floppy disk or Zip disk, or to a CD-R via a CD writer.
一方、家庭では、現像済みAPシステムカートリッジフイルムを富士フイルム製フォトプレイヤーAP-1に装填するだけでTVで写真を楽しむことができるし、富士フイルム製フォトスキャナーAS-1に装填すれば、パソコンに画像情報を高速で連続的に取り込むこともできる。また、フィルム、プリント又は立体物をパソコンに入力するには、富士フイルム製フォトビジョンFV-10/FV-5が利用できる。更に、フロッピーディスク、Zip ディスク、CD-Rもしくはハードディスクに記録された画像情報は、富士フイルムのアプリケーションソフトフォトファクトリーを用いてパソコン上で様々に加工して楽しむことができる。パソコンから高画質なプリントを出力するには、光定着型感熱カラープリント方式の富士フイルム製デジタルカラープリンターNC-2/NC-2Dが好適である。 On the other hand, at home, you can enjoy photos on a TV simply by loading the developed AP system cartridge film into the Fujifilm photo player AP-1, or you can load it into a PC if you load it into the Fujifilm photo scanner AS-1. Image information can also be captured continuously at high speed. In addition, Fujifilm's Photo Vision FV-10 / FV-5 can be used to input film, prints or three-dimensional objects into a personal computer. In addition, image information recorded on floppy disks, Zip disks, CD-Rs or hard disks can be processed and enjoyed on a personal computer in various ways using Fujifilm's application software Photo Factory. In order to output high-quality prints from a personal computer, Fujifilm's digital color printer NC-2 / NC-2D with a light fixing type thermal color printing method is suitable.
現像済みのAPシステムカートリッジフイルムを収納するには、フジカラーポケットアルバムAP-5ポップL 、AP-1ポップL 、 AP-1 ポップKG又はカートリッジファイル16が好ましい。 To store the developed AP system cartridge film, Fuji Color Pocket Album AP-5 Pop L, AP-1 Pop L, AP-1 Pop KG or Cartridge File 16 is preferred.
[実施例]
以下に本発明の実施例を示す。但し、本発明はこの実施例に限定されるものではない。
(実施例1)
以下の製法によりハロゲン化銀乳剤Em−A1を調製した。
(Em−A1)
フタル化率97%のフタル化した分子量15000の低分子量ゼラチン36.7g,KBr31.7gを含む水溶液42.2Lを35℃に保ち激しく攪拌した。AgNO3,316.7gを含む水溶液1583ミリリットル(以下、ミリリットルを「mL」とも表記する。)とKBr,221.5g,分子量15000の低分子量ゼラチン52.7gを含む水溶液1583mLをダブルジェット法で1分間に渡り添加した。添加終了後、直ちにKBr52.8gを加えて,AgNO3,398.2gを含む水溶液2485mLとKBr,291.1gを含む水溶液2581mLをダブルジェット法で2分間に渡り添加した。添加終了後、直ちにKBr,47.8gを添加した。その後、43℃に昇温し、充分熟成した。熟成終了後、フタル化率97%のフタル化した分子量100000のゼラチン923gとKBr,79.2gを添加し、AgNO3,5103gを含む水溶液15947mLとKBr水溶液をダブルジェット法で最終流量が初期流量の1.4倍になるように流量加速して12分間に渡り添加した。この時、銀電位を飽和カロメル電極に対して−60mVに保った。水洗した後、ゼラチンを加えpH,5.7、pAg,8.8、乳剤1kg当たりの銀換算の質量131.8g,ゼラチン質量64.1gに調整し、種乳剤とした。
[Example]
Examples of the present invention are shown below. However, the present invention is not limited to this example.
(Example 1)
Silver halide emulsion Em-A1 was prepared by the following production method.
(Em-A1)
42.2 L of an aqueous solution containing 36.7 g of phthalated low molecular weight gelatin having a phthalation rate of 97% and a molecular weight of 15,000 and 31.7 g of KBr was kept at 35 ° C. and stirred vigorously. 1583 ml of an aqueous solution containing 316.7 g of AgNO 3 (hereinafter, milliliter is also referred to as “mL”) and 1583 ml of an aqueous solution containing 52.7 g of low molecular weight gelatin having a KBr of 221.5 g and a molecular weight of 15000 are obtained by a double jet method. Added over a minute. Immediately after the addition, 52.8 g of KBr was added, and 2485 mL of an aqueous solution containing 398.2 g of AgNO 3 and 2581 mL of an aqueous solution containing 291.1 g of KBr were added over 2 minutes by the double jet method. Immediately after the addition, 47.8 g of KBr was added. Then, it heated up to 43 degreeC and fully matured. After completion of aging, 923 g of phthalated gelatin having a phthalation rate of 97% and a molecular weight of 100,000 were added and KBr, 79.2 g, and 15947 mL of an aqueous solution containing 5103 g of AgNO 3 and an aqueous KBr solution were added to the initial flow rate by the double jet method. The flow rate was accelerated to 1.4 times and added over 12 minutes. At this time, the silver potential was kept at −60 mV with respect to the saturated calomel electrode. After washing with water, gelatin was added to adjust the pH to 5.7, pAg, 8.8, 131.8 g of silver equivalent per 1 kg of emulsion, and 64.1 g of gelatin mass to obtain a seed emulsion.
フタル化率97%のフタル化ゼラチン46g,KBr1.7gを含む水溶液1211mLを75℃に保ち激しく攪拌した。前述した種乳剤を9.9g加えた後、変成シリコンオイル(日本ユニカー株式会社製品,L7602)を0.3g添加した。H2SO4を添加してpHを5.5に調整した後、AgNO3,7.0gを含む水溶液67.6mLとKBr水溶液をダブルジェット法で最終流量が初期流量の5.1倍になるように流量加速して6分間に渡り添加した。この時、銀電位を飽和カロメル電極に対して−20mVに保った。ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム,2mgと二酸化チオ尿素2mgを添加した後、AgNO3,144.5gを含む水溶液,410mLとKIを7mol%含むKBrとKIの混合水溶液をダブルジェット法で最終流量が初期流量の3.7倍になるように流量加速して56分間に渡り添加した。この時、銀電位を飽和カロメル電極に対して−45mVに保った。AgNO3,45.6gを含む水溶液121.3mLとKBr水溶液をダブルジェット法で22分間に渡り添加した。この時、銀電位を飽和カロメル電極に対して+20mVに保った。82℃に昇温し、KBrを添加して銀電位を−80mVに調整した後、0.037μmの粒子サイズのAgI微粒子乳剤をKI質量換算で6.33g添加した。添加終了後、直ちに,AgNO3,66.4gを含む水溶液206.2mLを16分間に渡り添加した。添加初期の5分間はKBr水溶液で銀電位を−80mVに保った。水洗した後、PAGI法に従って測定した際に分子量28万以上の成分を30%含むゼラチンを添加し40℃でpH,5.8、pAg,8.7に調整した。化合物11および12を添加した後、60℃に昇温した。増感色素11および12を添加した後に、チオシアン酸カリウム、塩化金酸、チオ硫酸ナトリウム、N,N−ジメチルセレノウレアを添加し最適に化学増感した。化学増感終了時に化合物13および化合物14を添加した。ここで,最適に化学増感するとは,増感色素ならびに各化合物をハロゲン化銀1molあたり10-1から10-8molの添加量範囲から選択したことを意味する。
得られた粒子を液体窒素で冷却しながら透過電子顕微鏡で観察した結果、粒子周辺部には一粒子当たり10本以上の転位線が観察された。 As a result of observing the obtained particles with a transmission electron microscope while cooling with liquid nitrogen, 10 or more dislocation lines per particle were observed in the periphery of the particles.
(Em−A2〜Em−A16)
化学増感時に表2に記載したように本発明のタイプAまたはタイプ1〜4の中から選ばれる化合物をハロゲン化銀1molあたり1×10-4mol添加した以外は、Em−A1と同様にして乳剤Em−A2〜Em−A16を得た。
(Em-A2 to Em-A16)
Except that 1 × 10 −4 mol of a compound selected from type A or types 1 to 4 of the present invention was added per 1 mol of silver halide as shown in Table 2 at the time of chemical sensitization, it was the same as Em-A1. Thus, emulsions Em-A2 to Em-A16 were obtained.
(Em−B)(低感度青感性層用乳剤)
低分子量ゼラチン0.96g、KBr,0.9gを含む水溶液1192mLを40℃に保ち、激しく攪拌した。AgNO3,1.49gを含む水溶液37.5mLとKBrを1.5g含む水溶液37.5mLをダブルジェット法で30秒間に渡り添加した。KBrを1.2g添加した後、75℃に昇温し熟成した。充分熟成した後、アミノ基をトリメリット酸で化学修飾した分子量100000のトリメリット化ゼラチン,30gを添加し、pHを7に調整した。二酸化チオ尿素6mgを添加した。AgNO3,29gを含む水溶液116mLとKBr水溶液をダブルジェット法で最終流量が初期流量の3倍になるように流量加速して添加した。この時、銀電位を飽和カロメル電極に対して−20mVに保った。AgNO3,110.2gを含む水溶液440.6mLとKBr水溶液をダブルジェット法で最終流量が初期流量の5.1倍になるように流量加速して30分間に渡り添加した。この時、Em−A1の調製で使用したAgI微粒子乳剤をヨウ化銀含有率が15.8mol%になるように同時に流量加速して添加し、かつ銀電位を飽和カロメル電極に対して0mVに保った。AgNO3,24.1gを含む水溶液96.5mLとKBr水溶液をダブルジェット法で3分間に渡り添加した。この時、銀電位を0mVに保った。エチルチオスルホン酸ナトリウム,26mgを添加した後、55℃に降温し、KBr水溶液を添加し銀電位を−90mVに調整した。前述したAgI微粒子乳剤をKI質量換算で8.5g添加した。添加終了後、直ちにAgNO3,57gを含む水溶液228mLを5分間に渡り添加した。この時、添加終了時の電位が+20mVになるようにKBr水溶液で調整した。Em−A1とほぼ同様に水洗し、化学増感した。
(Em-B) (Emulsion for low sensitivity blue-sensitive layer)
1192 mL of an aqueous solution containing 0.96 g of low molecular weight gelatin and KBr, 0.9 g was kept at 40 ° C. and stirred vigorously. 37.5 mL of an aqueous solution containing 1.49 g of AgNO 3 and 37.5 mL of an aqueous solution containing 1.5 g of KBr were added over 30 seconds by the double jet method. After adding 1.2 g of KBr, the mixture was heated to 75 ° C. and aged. After sufficiently ripening, 30 g of trimellitated gelatin having a molecular weight of 100000 having a chemically modified amino group with trimellitic acid was added to adjust the pH to 7. 6 mg of thiourea dioxide was added. 116 mL of an aqueous solution containing 29 g of AgNO 3 and an aqueous KBr solution were added at a flow rate acceleration by a double jet method so that the final flow rate was three times the initial flow rate. At this time, the silver potential was kept at −20 mV with respect to the saturated calomel electrode. 440.6 mL of an aqueous solution containing 110.2 g of AgNO 3 and an aqueous KBr solution were added over 30 minutes while accelerating the flow rate so that the final flow rate was 5.1 times the initial flow rate by the double jet method. At this time, the AgI fine grain emulsion used in the preparation of Em-A1 was simultaneously added at a flow rate acceleration so that the silver iodide content was 15.8 mol%, and the silver potential was kept at 0 mV with respect to the saturated calomel electrode. It was. 96.5 mL of an aqueous solution containing 24.1 g of AgNO 3 and an aqueous KBr solution were added over 3 minutes by the double jet method. At this time, the silver potential was kept at 0 mV. After adding 26 mg of sodium ethylthiosulfonate, the temperature was lowered to 55 ° C., and an aqueous KBr solution was added to adjust the silver potential to −90 mV. 8.5 g of the aforementioned AgI fine grain emulsion was added in terms of KI mass. Immediately after the addition, 228 mL of an aqueous solution containing 57 g of AgNO 3 was added over 5 minutes. At this time, it adjusted with KBr aqueous solution so that the electric potential at the time of completion | finish of addition might be + 20mV. It was washed with water in the same manner as Em-A1, and chemically sensitized.
(Em−C)(低感度青感性層用乳剤)
1g当たり35μmolのメチオニンを含有する分子量100000のフタル化率97%のフタル化ゼラチン1.02g,KBr0.97gを含む水溶液1192mLを35℃に保ち、激しく攪拌した。AgNO3,4.47gを含む水溶液,42mLとKBr,3.16g含む水溶液,42mLをダブルジェット法で9秒間に渡り添加した。KBrを2.6g添加した後、66℃に昇温し、充分熟成した。熟成終了後、Em−Bの調製で使用した分子量100000のトリメリット化ゼラチン41.2gとNaCl,18.5gを添加した。pHを7.2に調整した後、ジメチルアミンボラン,8mgを添加した。AgNO3,26gを含む水溶液203mLとKBr水溶液をダブルジェット法で最終流量が初期流量の3.8倍になるように添加した。この時、銀電位を飽和カロメル電極に対して−30mVに保った。AgNO3,110.2gを含む水溶液440.6mLとKBr水溶液をダブルジェット法で最終流量が初期流量の5.1倍になるように流量加速して24分間に渡り添加した。この時、Em−A1の調製で使用したAgI微粒子乳剤をヨウ化銀含有率が2.3mol%になるように同時に流量加速して添加し、かつ銀電位を飽和カロメル電極に対して−20mVに保った。1Nのチオシアン酸カリウム水溶液10.7mLを添加した後、AgNO3,24.1gを含む水溶液153.5mLとKBr水溶液をダブルジェット法で2分30秒間に渡り添加した。この時、銀電位を10mVに保った。KBr水溶液を添加して銀電位を−70mVに調整した。前述したAgI微粒子乳剤をKI質量換算で6.4g添加した。添加終了後、直ちにAgNO3,57gを含む水溶液404mLを45分間に渡り添加した。この時、添加終了時の電位が−30mVになるようにKBr水溶液で調整した。Em−A1とほぼ同様に水洗し、化学増感した。
(Em-C) (low-sensitivity blue-sensitive emulsion)
1192 mL of an aqueous solution containing 1.02 g of phthalated gelatin having a molecular weight of 100,000 and a phthalation rate of 97% containing 35 μmol of methionine per gram and 0.97 g of KBr was maintained at 35 ° C. and stirred vigorously. An aqueous solution containing AgNO 3 , 4.47 g, 42 mL and KBr, an aqueous solution containing 3.16 g, and 42 mL were added over 9 seconds by the double jet method. After adding 2.6 g of KBr, the temperature was raised to 66 ° C. and fully aged. After completion of aging, 41.2 g of trimellitated gelatin having a molecular weight of 100,000 used in the preparation of Em-B and NaCl, 18.5 g were added. After adjusting the pH to 7.2, 8 mg of dimethylamine borane was added. 203 mL of an aqueous solution containing 26 g of AgNO 3 and an aqueous KBr solution were added by a double jet method so that the final flow rate was 3.8 times the initial flow rate. At this time, the silver potential was kept at −30 mV with respect to the saturated calomel electrode. 440.6 mL of an aqueous solution containing 110.2 g of AgNO 3 and an aqueous KBr solution were added over 24 minutes while accelerating the flow rate so that the final flow rate was 5.1 times the initial flow rate by the double jet method. At this time, the AgI fine grain emulsion used in the preparation of Em-A1 was added at an accelerated flow rate so that the silver iodide content was 2.3 mol%, and the silver potential was -20 mV to the saturated calomel electrode. Kept. After adding 10.7 mL of 1N aqueous potassium thiocyanate solution, 153.5 mL of an aqueous solution containing 24.1 g of AgNO 3 and an aqueous KBr solution were added over 2 minutes and 30 seconds by the double jet method. At this time, the silver potential was kept at 10 mV. An aqueous KBr solution was added to adjust the silver potential to -70 mV. 6.4 g of the aforementioned AgI fine grain emulsion was added in terms of KI mass. Immediately after the addition, 404 mL of an aqueous solution containing 57 g of AgNO 3 was added over 45 minutes. At this time, it adjusted with KBr aqueous solution so that the electric potential at the time of completion | finish of addition might be -30mV. It was washed with water in the same manner as Em-A1, and chemically sensitized.
(Em−D)(低感度青感性層乳剤)
Em−Cの調製において核形成時のAgNO3添加量を2.0倍に変更した。そして、最終のAgNO3,57gを含む水溶液404mLの添加終了時の電位が+90mVになるようにKBr水溶液で調整するように変更した。それ以外はEm−Cとほぼ同様にして調製した。
(Em-D) (Low-sensitivity blue-sensitive emulsion)
In the preparation of Em-C, the amount of AgNO 3 added during nucleation was changed to 2.0 times. Then, the addition at the end of the potential of the aqueous solution 404mL, including the final AgNO 3, 57 g was changed to adjust an aqueous KBr solution to be + 90 mV. Otherwise, it was prepared in substantially the same manner as Em-C.
(Em−E)(480〜550nmに分光感度ピークを有するマゼンタ発色層) (赤感性層に重層効果を与える層)
分子量15000の低分子量ゼラチン,0.71g,KBr,0.92g,Em−A1の調製で使用した変成シリコンオイル0.2gを含む水溶液1200mLを39℃に保ち、pHを1.8に調整し激しく攪拌した。AgNO3,0.45gを含む水溶液と1.5mol%のKIを含むKBr水溶液をダブルジェット法で17秒間に渡り添加した。この時、KBrの過剰濃度を一定に保った。56℃に昇温し熟成した。充分熟成した後、1g当たり35μmolのメチオニンを含有する分子量100000のフタル化率97%のフタル化ゼラチン20gを添加した。pHを5.9に調整した後、KBr,2.9gを添加した。AgNO3,28.8gを含む水溶液288mLとKBr水溶液をダブルジェット法で53分間に渡り添加した。この時、Em−A1の調製で使用したAgI微粒子乳剤をヨウ化銀含有率が4.1mol%になるように同時に添加し、かつ銀電位を飽和カロメル電極に対して−60mVに保った。KBr,2.5gを添加した後、AgNO3,87.7gを含む水溶液とKBr水溶液をダブルジェット法で最終流量が初期流量の1.2倍になるように流量加速して63分間に渡り添加した。この時、上述のAgI微粒子乳剤をヨウ化銀含有率が10.5mol%になるように同時に流量加速して添加し、かつ銀電位を−70mVに保った。二酸化チオ尿素,1mgを添加した後、AgNO3,41.8gを含む水溶液132mLとKBr水溶液をダブルジェット法で25分間に渡り添加した。添加終了時の電位を+20mVになるようにKBr水溶液の添加を調整した。ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム,2mgを添加した後、pHを7.3に調整した。KBrを添加して銀電位を−70mVに調整した後、上述のAgI微粒子乳剤をKI質量換算で5.73g添加した。添加終了後、直ちにAgNO3,66.4gを含む水溶液609mLを10分間に渡り添加した。添加初期の6分間はKBr水溶液で銀電位を−70mVに保った。水洗した後、ゼラチンを添加し40℃でpH6.5,pAg,8.2に調整した。化合物11および12を添加した後、56℃に昇温した。上述したAgI微粒子乳剤を銀1molに対して0.0004mol添加した後、増感色素13および14を添加した。チオシアン酸カリウム、塩化金酸、チオ硫酸ナトリウム、N,N−ジメチルセレノウレアを添加し最適に化学増感した。化学増感終了時に化合物13および14を添加した。
1200 mL of an aqueous solution containing 0.2 g of modified silicone oil used in the preparation of low molecular weight gelatin having a molecular weight of 15000, 0.71 g, KBr, 0.92 g, and Em-A1 is maintained at 39 ° C., and the pH is adjusted to 1.8 vigorously. Stir. An aqueous solution containing 0.45 g of AgNO 3 and an aqueous KBr solution containing 1.5 mol% KI were added over 17 seconds by the double jet method. At this time, the excessive concentration of KBr was kept constant. The temperature was raised to 56 ° C. and aging was performed. After fully ripening, 20 g of phthalated gelatin having a molecular weight of 100,000 and a phthalation rate of 97% containing 35 μmol of methionine per gram was added. After adjusting the pH to 5.9, KBr, 2.9 g was added. 288 mL of an aqueous solution containing 28.8 g of AgNO 3 and an aqueous KBr solution were added over 53 minutes by the double jet method. At this time, the AgI fine grain emulsion used in the preparation of Em-A1 was simultaneously added so that the silver iodide content was 4.1 mol%, and the silver potential was kept at −60 mV with respect to the saturated calomel electrode. After adding KBr, 2.5 g, an aqueous solution containing 87.7 g of AgNO 3 and an aqueous KBr solution are accelerated over a period of 63 minutes by the double jet method so that the final flow rate is 1.2 times the initial flow rate. did. At this time, the above-mentioned AgI fine grain emulsion was added at the same time with the flow rate accelerated so that the silver iodide content was 10.5 mol%, and the silver potential was kept at -70 mV. After adding 1 mg of thiourea dioxide, 132 mL of an aqueous solution containing 41.8 g of AgNO 3 and an aqueous KBr solution were added over 25 minutes by the double jet method. The addition of the aqueous KBr solution was adjusted so that the potential at the end of the addition was +20 mV. After adding 2 mg of sodium benzenethiosulfonate, the pH was adjusted to 7.3. After KBr was added to adjust the silver potential to -70 mV, 5.73 g of the above AgI fine grain emulsion was added in terms of KI mass. Immediately after the addition, 609 mL of an aqueous solution containing 66.4 g of AgNO 3 was added over 10 minutes. During the initial 6 minutes of addition, the silver potential was kept at -70 mV with an aqueous KBr solution. After washing with water, gelatin was added and adjusted to pH 6.5, pAg, 8.2 at 40 ° C. After adding compounds 11 and 12, the temperature was raised to 56 ° C. After adding 0.0004 mol of the above AgI fine grain emulsion to 1 mol of silver, sensitizing dyes 13 and 14 were added. Potassium thiocyanate, chloroauric acid, sodium thiosulfate, and N, N-dimethylselenourea were added for optimum chemical sensitization. Compounds 13 and 14 were added at the end of chemical sensitization.
(Em−F)(中感度緑感性層用乳剤)
Em−Eの調製において核形成時のAgNO3添加量を3.1倍に変更した以外はEm−Eとほぼ同様にして調製した。但しEm−Eの増感色素を増感色素15、16および17に変更した。
Em-E was prepared in substantially the same manner as Em-E, except that the amount of AgNO 3 added during nucleation was changed to 3.1 times. However, the sensitizing dye of Em-E was changed to sensitizing dyes 15, 16 and 17.
(Em−G)(低感度緑感性層用乳剤)
分子量15000の低分子量ゼラチン0.70g,KBr,0.9g,KI,0.175g,Em−A1の調製で使用した変成シリコンオイル0.2gを含む水溶液1200mLを33℃に保ち,pHを1.8に調製し激しく攪拌した。AgNO3,1.8gを含む水溶液と3.2mol%のKIを含むKBr水溶液をダブルジェット法で9秒間に渡り添加した。この時、KBrの過剰濃度を一定に保った。69℃に昇温し熟成した。熟成終了後、1g当たり35μmolのメチオニンを含有する分子量100000のアミノ基をトリメリット酸で化学修飾したトリメリット化ゼラチン27.8gを添加した。pHを6.3に調整した後、KBr,2.9gを添加した。AgNO3,27.58gを含む水溶液270mLとKBr水溶液をダブルジェット法で37分間に渡り添加した。この時、分子量15000の低分子量ゼラチン水溶液とAgNO3水溶液とKI水溶液を特開平10−43570号に記載の磁気カップリング誘導型攪拌機を有する別のチャンバ−内で添加前直前混合して調製した粒子サイズ0.008μmのAgI微粒子乳剤をヨウ化銀含有率が4.1mol%になるように同時に添加し、かつ銀電位を飽和カロメル電極に対して−60mVに保った。KBr,2.6gを添加した後、AgNO3,87.7gを含む水溶液とKBr水溶液をダブルジェット法で最終流量が初期流量の3.1倍になるように流量加速して49分間に渡り添加した。この時、上述の添加前直前混合して調製したAgI微粒子乳剤をヨウ化銀含有率が7.9mol%になるように同時に流量加速し、かつ銀電位を−70mVに保った。二酸化チオ尿素,1mgを添加した後、AgNO3,41.8gを含む水溶液132mLとKBr水溶液をダブルジェット法で20分間に渡り添加した。添加終了時の電位を+20mVになるようにKBr水溶液の添加を調整した。78℃に昇温し、pHを9.1に調整した後、KBrを添加して電位を−60mVにした。Em−A1の調製で使用したAgI微粒子乳剤をKI質量換算で5.73g添加した。添加終了後、直ちにAgNO3,66.4gを含む水溶液321mLを4分間に渡り添加した。添加初期の2分間はKBr水溶液で銀電位を−60mVに保った。Em−Fとほぼ同様に水洗し、化学増感した。
(Em-G) (Low-sensitivity green sensitive layer emulsion)
1,200 mL of an aqueous solution containing 0.70 g of low molecular weight gelatin having a molecular weight of 15000, KBr, 0.9 g, KI, 0.175 g, and 0.2 g of modified silicone oil used in the preparation of Em-A1 was maintained at 33 ° C., and the pH was adjusted to 1. 8 and stirred vigorously. An aqueous solution containing 1.8 g of AgNO 3 and an aqueous KBr solution containing 3.2 mol% KI were added over 9 seconds by the double jet method. At this time, the excessive concentration of KBr was kept constant. The temperature was raised to 69 ° C. and aging was performed. After completion of ripening, 27.8 g of trimellitated gelatin obtained by chemically modifying an amino group having a molecular weight of 100,000 containing 35 μmol of methionine per gram with trimellitic acid was added. After adjusting the pH to 6.3, KBr, 2.9 g was added. 270 mL of an aqueous solution containing 27.58 g of AgNO 3 and an aqueous KBr solution were added over 37 minutes by the double jet method. At this time, particles prepared by mixing a low molecular weight gelatin aqueous solution having a molecular weight of 15000, an AgNO 3 aqueous solution and a KI aqueous solution immediately before addition in another chamber having a magnetic coupling induction stirrer described in JP-A-10-43570 An AgI fine grain emulsion having a size of 0.008 μm was simultaneously added so that the silver iodide content was 4.1 mol%, and the silver potential was kept at −60 mV to the saturated calomel electrode. After adding KBr, 2.6 g, an aqueous solution containing 87.7 g of AgNO 3 and an aqueous KBr solution are accelerated over a period of 49 minutes by the double jet method so that the final flow rate is 3.1 times the initial flow rate. did. At this time, the AgI fine grain emulsion prepared by mixing immediately before the above addition was simultaneously accelerated so that the silver iodide content was 7.9 mol%, and the silver potential was kept at -70 mV. After adding 1 mg of thiourea dioxide, 132 mL of an aqueous solution containing 41.8 g of AgNO 3 and an aqueous KBr solution were added over 20 minutes by the double jet method. The addition of the aqueous KBr solution was adjusted so that the potential at the end of the addition was +20 mV. After raising the temperature to 78 ° C. and adjusting the pH to 9.1, KBr was added to bring the potential to −60 mV. 5.73 g of the AgI fine grain emulsion used in the preparation of Em-A1 was added in terms of KI mass. Immediately after the addition, 321 mL of an aqueous solution containing 66.4 g of AgNO 3 was added over 4 minutes. The silver potential was kept at −60 mV with an aqueous KBr solution for 2 minutes at the beginning of the addition. It was washed with water in the same manner as Em-F and chemically sensitized.
(Em−H)(低感度緑感性層用乳剤)
イオン交換した分子量100000のゼラチン17.8g,KBr,6.2g,KI,0.46gを含む水溶液を45℃に保ち激しく攪拌した。AgNO3,11.85gを含む水溶液とKBrを3.8g含む水溶液をダブルジェット法で47秒間に渡り添加した。63℃に昇温後、イオン交換した分子量100000のゼラチン24.1gを添加し、熟成した。充分熟成した後、AgNO3,133.4gを含む水溶液とKBr水溶液をダブルジェット法で最終流量が初期流量の2.6倍になるように20分間に渡って添加した。この時、銀電位を飽和カロメル電極に対して+40mVに保った。また添加開始10分後にK2IrCl6を0.1mg添加した。NaClを7g添加した後、AgNO3を45.6g含む水溶液とKBr水溶液をダブルジェット法で12分間に渡って添加した。この時、銀電位を+90mVに保った。また添加開始から6分間に渡って黄血塩を29mg含む水溶液100mLを添加した。KBrを14.4g添加した後、Em−A1の調製で使用したAgI微粒子乳剤をKI質量換算で6.3g添加した。添加終了後、直ちにAgNO3,42.7gを含む水溶液とKBr水溶液をダブルジェット法で11分間に渡り添加した。この時、銀電位を+90mVに保った。Em−Fとほぼ同様に水洗し、化学増感した。
(Em-H) (Low-sensitivity green sensitive layer emulsion)
An aqueous solution containing 17.8 g of ion-exchanged gelatin having a molecular weight of 100,000, KBr, 6.2 g, KI, and 0.46 g was kept at 45 ° C. and stirred vigorously. An aqueous solution containing 11.85 g of AgNO 3 and an aqueous solution containing 3.8 g of KBr were added over 47 seconds by the double jet method. After raising the temperature to 63 ° C., 24.1 g of ion-exchanged gelatin having a molecular weight of 100,000 was added and aged. After fully aging, an aqueous solution containing 133.4 g of AgNO 3 and an aqueous KBr solution were added over 20 minutes so that the final flow rate was 2.6 times the initial flow rate by the double jet method. At this time, the silver potential was kept at +40 mV with respect to the saturated calomel electrode. In addition, 0.1 mg of K 2 IrCl 6 was added 10 minutes after the start of the addition. After adding 7 g of NaCl, an aqueous solution containing 45.6 g of AgNO 3 and an aqueous KBr solution were added over 12 minutes by the double jet method. At this time, the silver potential was kept at +90 mV. Further, 100 mL of an aqueous solution containing 29 mg of yellow blood salt was added over 6 minutes from the start of addition. After the addition of 14.4 g of KBr, 6.3 g of the AgI fine grain emulsion used in the preparation of Em-A1 was added in terms of KI mass. Immediately after the addition, an aqueous solution containing 42.7 g of AgNO 3 and an aqueous KBr solution were added over 11 minutes by the double jet method. At this time, the silver potential was kept at +90 mV. It was washed with water in the same manner as Em-F and chemically sensitized.
(Em−I)(低感度緑感性層用乳剤)
Em−Hの調製において核形成時の温度を38℃に変更した以外はほぼ同様にして調製した。
(Em-I) (Emulsion for low sensitivity green sensitive layer)
Em-H was prepared in substantially the same manner except that the temperature during nucleation was changed to 38 ° C.
(Em−J)(高感度赤感性層用乳剤)
フタル化率97%の分子量100000のフタル化ゼラチン,0.38g、KBr,0.99gを含む水溶液1200mLを60℃に保ち、pHを2に調整し激しく攪拌した。AgNO3,1.96gを含む水溶液とKBr,1.97g,KI,0.172gを含む水溶液をダブルジェット法で30秒間に渡り添加した。熟成終了後、1g当たり35μmolのメチオニンを含有する分子量100000のアミノ基をトリメリット酸で化学修飾したトリメリット化ゼラチン12.8gを添加した。pHを5.9に調整した後、KBr,2.99g,NaCl6.2gを添加した。AgNO3,27.3gを含む水溶液60.7mLとKBr水溶液をダブルジェット法で35分間に渡り添加した。この時、銀電位を飽和カロメル電極に対して−50mVに保った。AgNO3,65.6gを含む水溶液とKBr水溶液をダブルジェット法で最終流量が初期流量の2.1倍になるように流量加速して37分間に渡り添加した。この時、Em−A1の調製で使用したAgI微粒子乳剤をヨウ化銀含有量が6.5mol%になるように同時に流量加速して添加し、かつ銀電位を−50mVに保った。二酸化チオ尿素,1.5mgを添加した後、AgNO3,41.8gを含む水溶液132mLとKBr水溶液をダブルジェット法で13分間に渡り添加した。添加終了時の銀電位を+40mVになるようにKBr水溶液の添加を調整した。ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム,2mgを添加した後、KBrを添加して銀電位を−100mVに調整した。上述のAgI微粒子乳剤をKI質量換算で6.2g添加した。添加終了後、直ちにAgNO3,88.5gを含む水溶液300mLを8分間に渡り添加した。添加終了時の電位が+60mVになるようにKBr水溶液の添加で調整した。水洗した後、ゼラチンを添加し40℃でpH6.5,pAg,8.2に調整した。化合物11および12を添加した後、61℃に昇温した。増感色素18、19、20および21を添加した後、K2IrCl6、チオシアン酸カリウム、塩化金酸、チオ硫酸ナトリウム、N,N−ジメチルセレノウレアを添加し最適に化学増感した。化学増感終了時に化合物13および14を添加した。
1200 mL of an aqueous solution containing phthalated gelatin having a phthalation rate of 97% and a molecular weight of 100,000, 0.38 g and KBr, 0.99 g was kept at 60 ° C., pH was adjusted to 2, and vigorously stirred. An aqueous solution containing 1.96 g of AgNO 3 and an aqueous solution containing KBr, 1.97 g, KI, and 0.172 g were added over 30 seconds by the double jet method. After completion of ripening, 12.8 g of trimellitated gelatin obtained by chemically modifying an amino group having a molecular weight of 100,000 containing 35 μmol of methionine per gram with trimellitic acid was added. After adjusting the pH to 5.9, KBr, 2.99 g and NaCl 6.2 g were added. 60.7 mL of an aqueous solution containing 27.3 g of AgNO 3 and an aqueous KBr solution were added over 35 minutes by the double jet method. At this time, the silver potential was kept at −50 mV with respect to the saturated calomel electrode. An aqueous solution containing 65.6 g of AgNO 3 and an aqueous KBr solution were added over 37 minutes while accelerating the flow rate so that the final flow rate was 2.1 times the initial flow rate by the double jet method. At this time, the AgI fine grain emulsion used in the preparation of Em-A1 was simultaneously added at a flow rate acceleration so that the silver iodide content was 6.5 mol%, and the silver potential was kept at -50 mV. After adding 1.5 mg of thiourea dioxide, 132 mL of an aqueous solution containing 41.8 g of AgNO 3 and an aqueous KBr solution were added over 13 minutes by the double jet method. The addition of the aqueous KBr solution was adjusted so that the silver potential at the end of the addition was +40 mV. After adding 2 mg of sodium benzenethiosulfonate, KBr was added to adjust the silver potential to -100 mV. 6.2 g of the above-mentioned AgI fine grain emulsion was added in terms of KI mass. Immediately after the addition, 300 mL of an aqueous solution containing 88.5 g of AgNO 3 was added over 8 minutes. Adjustment was made by adding an aqueous KBr solution so that the potential at the end of the addition was +60 mV. After washing with water, gelatin was added and adjusted to pH 6.5, pAg, 8.2 at 40 ° C. After adding compounds 11 and 12, the temperature was raised to 61 ° C. After adding sensitizing dyes 18, 19, 20 and 21, K 2 IrCl 6 , potassium thiocyanate, chloroauric acid, sodium thiosulfate, and N, N-dimethylselenourea were added for optimum chemical sensitization. Compounds 13 and 14 were added at the end of chemical sensitization.
(Em−K)(中感度赤感性層用乳剤)
分子量15000の低分子量ゼラチン4.9g、KBr,5.3gを含む水溶液1200mLを60℃に保ち激しく攪拌した。AgNO3,8.75gを含む水溶液27mLとKBr,6.45gを含む水溶液36mLを1分間に渡りダブルジェット法で添加した。77℃に昇温した後、AgNO3,6.9gを含む水溶液21mLを2.5分間に渡り添加した。NH4NO3,26g,1N,NaOH,56mLを順次、添加した後、熟成した。熟成終了後pHを4.8に調製した。AgNO3,141gを含む水溶液438mLとKBrを102.6g含む水溶液458mLをダブルジェット法で最終流量が初期流量の4倍になるように添加した。55℃に降温した後、AgNO3,7.1gを含む水溶液240mLとKIを6.46g含む水溶液をダブルジェット法で5分間に渡り添加した。KBrを7.1g添加した後、ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム,4mgとK2IrCl6,0.05mg添加した。AgNO3,57.2gを含む水溶液177mLとKBr,40.2gを含む水溶液,223mLを8分間に渡ってダブルジェット法で添加した。Em−Jとほぼ同様に水洗し、化学増感した。
(Em-K) (Emulsion for medium sensitivity red sensitive layer)
1200 mL of an aqueous solution containing 4.9 g of low molecular weight gelatin having a molecular weight of 15000 and 5.3 g of KBr was kept at 60 ° C. and stirred vigorously. 27 mL of an aqueous solution containing 8.75 g of AgNO 3 and 36 mL of an aqueous solution containing 6.45 g of KBr were added by a double jet method over 1 minute. After raising the temperature to 77 ° C., 21 mL of an aqueous solution containing 6.9 g of AgNO 3 was added over 2.5 minutes. NH 4 NO 3 , 26 g, 1N, NaOH, and 56 mL were sequentially added, followed by aging. After completion of aging, the pH was adjusted to 4.8. 438 mL of an aqueous solution containing 141 g of AgNO 3 and 458 mL of an aqueous solution containing 102.6 g of KBr were added by a double jet method so that the final flow rate was four times the initial flow rate. After the temperature was lowered to 55 ° C., 240 mL of an aqueous solution containing 7.1 g of AgNO 3 and an aqueous solution containing 6.46 g of KI were added over 5 minutes by the double jet method. After adding 7.1 g of KBr, 4 mg of sodium benzenethiosulfonate and 0.05 mg of K 2 IrCl 6 were added. 177 mL of an aqueous solution containing 57.2 g of AgNO 3 and 223 mL of an aqueous solution containing 40.2 g of KBr were added by the double jet method over 8 minutes. Washed with water and chemically sensitized in substantially the same manner as Em-J.
(Em−L)(中感度赤感性層用乳剤)
Em−Kの調製において核形成時の温度を42℃に変更した以外は,ほぼ同様にして調製した。
(Em-L) (Emulsion for medium sensitivity red sensitive layer)
Em-K was prepared in substantially the same manner except that the temperature during nucleation was changed to 42 ° C.
(Em−M、N、O)(低感度赤感性層用乳剤)
Em−HまたはEm−Iとほぼ同様にして調製した。但し化学増感はEm−J1とほぼ同様の方法で行った。
(Em-M, N, O) (Low-sensitivity red-sensitive emulsion)
Prepared in substantially the same manner as Em-H or Em-I. However, chemical sensitization was carried out in substantially the same manner as Em-J1.
(Em−P)(高感度緑感性層用乳剤)
Em−Jに対して、増感色素を15、16および17に変更して化学増感を最適に行ってEm-Pを得た。
(Em-P) (Emulsion for high sensitivity green sensitive layer)
For Em-J, the sensitizing dye was changed to 15, 16 and 17, and chemical sensitization was optimally performed to obtain Em-P.
このようにして得られたハロゲン化銀乳剤Em-A1〜Pの特性を(表1)に示す。
また、本発明の乳化物の調製処方の概略を以下に示す。
10%のゼラチン溶液に、カプラーを酢酸エチルに溶解した溶液、高沸点有機溶媒、および界面活性剤を添加し、混合したホモジナイザー(日本精機)を用いて乳化し、乳化物を得る。
Moreover, the outline of preparation formulation of the emulsion of this invention is shown below.
A 10% gelatin solution containing a coupler dissolved in ethyl acetate, a high-boiling organic solvent, and a surfactant are added and emulsified using a mixed homogenizer (Nippon Seiki) to obtain an emulsion.
1)支持体
本実施例で用いた支持体は、下記の方法により作成した。
ポリエチレン−2,6−ナフタレートポリマー100質量部と紫外線吸収剤としてTinuvin P.326(チバ・ガイギーCiba−Geigy社製)2質量部とを乾燥した後、300℃にて溶融後、T型ダイから押し出し、140℃で3.3倍の縦延伸を行い、続いて130℃で3.3倍の横延伸を行い、さらに250℃で6秒間熱固定して厚さ90μmのPEN(ポリエチレンナフタレート)フィルムを得た。なお、このPENフィルムにはブルー染料、マゼンタ染料及びイエロー染料(公開技法:公技番号94−6023号記載のI−1、I−4、I−6、I−24、I−26、I−27、II−5)を適当量添加した。さらに、直径20cmのステンレス巻き芯に巻き付けて、110℃、48時間の熱履歴を与え、巻き癖のつきにくい支持体とした。
1) Support The support used in this example was prepared by the following method.
100 parts by mass of polyethylene-2,6-naphthalate polymer and Tinuvin P.I. 326 (manufactured by Ciba-Geigy Ciba-Geigy) was dried, melted at 300 ° C., extruded from a T-shaped die, and stretched 3.3 times at 140 ° C., followed by 130 ° C. The film was stretched by 3.3 times and further heat-fixed at 250 ° C. for 6 seconds to obtain a PEN (polyethylene naphthalate) film having a thickness of 90 μm. The PEN film has a blue dye, a magenta dye, and a yellow dye (public techniques: I-1, I-4, I-6, I-24, I-26, I- 27, II-5) was added in an appropriate amount. Further, it was wound around a stainless steel core having a diameter of 20 cm to give a thermal history of 110 ° C. and 48 hours, thereby providing a support that is difficult to curl.
2)下塗層の塗設
上記支持体は、その両面にコロナ放電処理、UV放電処理、さらにグロー放電処理をした後、それぞれの面にゼラチン0.1g/m2、ソウジウムα−スルホジ−2−エチルヘキシルサクシネート0.01g/m2、サリチル酸0.04g/m2、p−クロロフェノール0.2g/m2、(CH2=CHSO2CH2CH2NHCO)2CH20.012g/m2、ポリアミド−エピクロルヒドリン重縮合物0.02g/m2の下塗液を塗布して(10mL/m2、バーコーター使用)、下塗層を延伸時高温面側に設けた。乾燥は115℃、6分実施した(乾燥ゾーンのローラーや搬送装置はすべて115℃となっている)。
2) Coating of undercoat layer The above support was subjected to corona discharge treatment, UV discharge treatment, and glow discharge treatment on both sides, and then gelatin 0.1 g / m 2 and sodium α-sulfodi-2 on each side. - ethylhexyl succinate 0.01 g / m 2, salicylic acid 0.04g / m 2, p- chlorophenol 0.2g / m 2, (CH 2 = CHSO 2 CH 2 CH 2 NHCO) 2 CH 2 0.012g / m 2. An undercoat solution of polyamide-epichlorohydrin polycondensate 0.02 g / m 2 was applied (10 mL / m 2 , using a bar coater), and an undercoat layer was provided on the high temperature side during stretching. Drying was carried out at 115 ° C. for 6 minutes (all rollers and transport devices in the drying zone were at 115 ° C.).
3)バック層の塗設
下塗後の上記支持体の片方の面にバック層として下記組成の帯電防止層、磁気記録層さらに滑り層を塗設した。
3−1)帯電防止層の塗設
平均粒径0.005μmの酸化スズ−酸化アンチモン複合物の比抵抗は5Ω・cmの微粒子粉末の分散物(2次凝集粒子径約0.08μm)を0.2g/m2、ゼラチン0.05g/m2、(CH2=CHSO2CH2CH2NHCO)2CH2 0.02g/m2、ポリ(重合度10)オキシエチレン−p−ノニルフェノール 0.005g/m2及びレゾルシンと塗布した。
3) Coating of Back Layer An antistatic layer having the following composition, a magnetic recording layer, and a sliding layer were coated as a back layer on one side of the support after the undercoating.
3-1) Coating of antistatic layer The specific resistance of the tin oxide-antimony oxide composite having an average particle diameter of 0.005 μm is 0 of a dispersion of fine powder of 5 Ω · cm (secondary aggregated particle diameter of about 0.08 μm) .2g / m 2, gelatin 0.05g / m 2, (CH 2 = CHSO 2 CH 2 CH 2 NHCO) 2 CH 2 0.02g / m 2, poly (polymerization degree 10) oxyethylene -p- nonylphenol 0. 005 g / m 2 and resorcin.
3−2)磁気記録層の塗設
3−ポリ(重合度15)オキシエチレン−プロピルオキシトリメトキシシラン(15質量%)で被覆処理されたコバルト−γ−酸化鉄(比表面積43m2/g、長軸0.14μm、単軸0.03μm、飽和磁化89Am2/kg、Fe+2/Fe+3=6/94、表面は酸化アルミ酸化珪素で酸化鉄の2質量%で処理されている)0.06g/m2をジアセチルセルロース1.2g/m2(酸化鉄の分散はオープンニーダーとサンドミルで実施した)、硬化剤としてC2H5C(CH2OCONH−C6H3(CH3)NCO)30.3g/m2を、溶媒としてアセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンを用いてバーコーターで塗布し、膜厚1.2μmの磁気記録層を得た。マット剤としてシリカ粒子(0.3μm)と3−ポリ(重合度15)オキシエチレン−プロピルオキシトリメトキシシラン(15質量%)で処理被覆された研磨剤の酸化アルミ(0.15μm)をそれぞれ10mg/m2となるように添加した。乾燥は115℃、6分実施した(乾燥ゾーンのローラーや搬送装置はすべて115℃)。X−ライト(ブルーフィルター)での磁気記録層のDBの色濃度増加分は約0.1、また磁気記録層の飽和磁化モーメントは4.2Am2/kg、保磁力7.3×104A/m、角形比は65%であった。
3-2) Coating of magnetic recording layer 3-Cobalt-γ-iron oxide coated with poly (degree of polymerization 15) oxyethylene-propyloxytrimethoxysilane (15% by mass) (specific surface area 43 m 2 / g, (Major axis 0.14μm, uniaxial 0.03μm, saturation magnetization 89Am 2 / kg, Fe +2 / Fe +3 = 6/94, the surface is treated with aluminum oxide and 2% by mass of iron oxide) 0.06 g / m 2 of diacetyl cellulose 1.2 g / m 2 (dispersion of iron oxide was carried out with an open kneader and a sand mill), C 2 H 5 C (CH 2 OCONH-C 6 H 3 (CH 3 ) NCO) 3 0.3 g / m 2 was applied with a bar coater using acetone, methyl ethyl ketone, and cyclohexanone as a solvent to obtain a magnetic recording layer having a thickness of 1.2 μm. 10 mg each of abrasive aluminum oxide (0.15 μm) treated with silica particles (0.3 μm) and 3-poly (degree of polymerization 15) oxyethylene-propyloxytrimethoxysilane (15% by mass) as a matting agent / M 2 was added. Drying was performed at 115 ° C. for 6 minutes (all rollers and transporting devices in the drying zone were 115 ° C.). X- light (blue filter) saturation magnetization moment of about 0.1, and the magnetic recording layer is color density increment of D B of the magnetic recording layer of the 4.2Am 2 / kg, a coercive force 7.3 × 10 4 A / m, the squareness ratio was 65%.
3−3)滑り層の調製
ジアセチルセルロース(25mg/m2)、C6H13CH(OH)C10H20COOC40H81(化合物a,6mg/m2)/C50H101O(CH2CH2O)16H(化合物b,9mg/m2)混合物を塗布した。なお、この混合物は、キシレン/プロピレンモノメチルエーテル(1/1)中で105℃で溶融し、常温のプロピレンモノメチルエーテル(10倍量)に注加分散して作製した後、アセトン中で分散物(平均粒径0.01μm)にしてから添加した。マット剤としてシリカ粒子(0.3μm)と研磨剤の3−ポリ(重合度15)オキシエチレンプロピルオキシトリメトキシシラン(15質量%)で被覆された酸化アルミ(0.15μm)をそれぞれ15mg/m2となるように添加した。乾燥は115℃、6分行った(乾燥ゾーンのローラーや搬送装置はすべて115℃)。滑り層は、動摩擦係数0.06(5mmφのステンレス硬球、荷重100g、スピード6cm/分)、静摩擦係数0.07(クリップ法)、また後述する乳剤面と滑り層の動摩擦係数も0.12と優れた特性であった。
3-3) Preparation of sliding layer Diacetylcellulose (25 mg / m 2 ), C 6 H 13 CH (OH) C 10 H 20 COOC 40 H 81 (Compound a, 6 mg / m 2 ) / C 50 H 101 O (CH 2 CH 2 O) 16 H (compound b, 9 mg / m 2 ) mixture was applied. This mixture was prepared by melting at 105 ° C. in xylene / propylene monomethyl ether (1/1) and pouring and dispersing in propylene monomethyl ether at room temperature (10 times the amount). The average particle size was 0.01 μm) and then added. 15 mg / m each of aluminum particles (0.15 μm) coated with silica particles (0.3 μm) and 3-poly (polymerization degree 15) oxyethylenepropyloxytrimethoxysilane (15% by mass) as a matting agent It added so that it might become 2 . Drying was performed at 115 ° C. for 6 minutes (all rollers and transport devices in the drying zone were 115 ° C.). The sliding layer has a dynamic friction coefficient of 0.06 (5 mmφ stainless hard balls, load of 100 g, speed of 6 cm / min), static friction coefficient of 0.07 (clipping method), and the dynamic friction coefficient of the emulsion surface and the sliding layer described later is 0.12. Excellent characteristics.
4)感光層の塗設
次に、前記で得られたバック層の支持体に対して反対側に、下記の組成の各層を重層塗布し、カラーネガ感光材料である試料を作成した。試料は(表3)、(表4)、および(表5)に示すような乳剤、乳化物およびカプラーを使用して作成した。乳剤、カプラー、高沸点有機溶媒、界面活性剤は等量置き換えした。また複数を用いる場合はその合計が等量置き換えになるように置き換えた。具体的には、2つの場合は1/3づつ、3つの場合は1/3づつ置き換えた。
4) Coating of photosensitive layer Next, on the opposite side to the support of the back layer obtained above, each layer having the following composition was applied in layers to prepare a sample which is a color negative photosensitive material. Samples were made using emulsions, emulsions and couplers as shown in (Table 3), (Table 4), and (Table 5). Emulsions, couplers, high boiling point organic solvents and surfactants were replaced in equal amounts. Moreover, when using two or more, it replaced so that the sum might be equivalent replacement. Specifically, two cases were replaced by 1/3, and three cases were replaced by 1/3.
(感光層の組成)
各層に使用する素材の主なものは下記のように分類されている;
ExC:シアンカプラー UV :紫外線吸収剤
ExM:マゼンタカプラー HBS:高沸点有機溶剤
ExY:イエローカプラー H :ゼラチン硬化剤
(具体的な化合物は以下の記載で、記号の次に数値が付けられ、後ろに化学式が挙げられている)
各成分に対応する数字は、g/m2単位で表した塗布量を示し、ハロゲン化銀については銀換算の塗布量を示す。
(Composition of photosensitive layer)
The main materials used in each layer are classified as follows:
ExC: Cyan coupler UV: UV absorber ExM: Magenta coupler HBS: High boiling point organic solvent ExY: Yellow coupler H: Gelatin hardener The chemical formula is mentioned)
The number corresponding to each component indicates the coating amount expressed in g / m 2 unit, and for silver halide, the coating amount in terms of silver.
第1層(第1ハレーション防止層)
黒色コロイド銀 銀 0.150
0.07μmの表面かぶらせAgBrI(2) 銀 0.01
ゼラチン 0.90
ExC−1 0.002
ExC−3 0.002
Cpd−2 0.001
HBS−1 0.004
HBS−2 0.002
First layer (first antihalation layer)
Black colloidal silver Silver 0.150
0.07 μm surface fogging AgBrI (2) Silver 0.01
Gelatin 0.90
ExC-1 0.002
ExC-3 0.002
Cpd-2 0.001
HBS-1 0.004
HBS-2 0.002
第2層(第2ハレーション防止層)
黒色コロイド銀 銀 0.069
ゼラチン 0.400
ExM−1 0.055
ExF−1 2.0×10-3
HBS−1 0.079
固体分散染料 ExF−2 0.018
固体分散染料 ExF−3 0.024
Second layer (second antihalation layer)
Black colloidal silver Silver 0.069
Gelatin 0.400
ExM-1 0.055
ExF-1 2.0 × 10 −3
HBS-1 0.079
Solid disperse dye ExF-2 0.018
Solid disperse dye ExF-3 0.024
第3層(中間層)
0.07μmのAgBrI(2) 0.020
ExC−2 0.022
Cpd−1 0.050
UV−1 0.06
UV−2 0.04
UV−3 0.06
UV−4 0.008
ポリエチルアクリレートラテックス 0.085
HBS−1 0.500
HBS−4 0.500
ゼラチン 0.354
Third layer (intermediate layer)
0.07 μm AgBrI (2) 0.020
ExC-2 0.022
Cpd-1 0.050
UV-1 0.06
UV-2 0.04
UV-3 0.06
UV-4 0.008
Polyethyl acrylate latex 0.085
HBS-1 0.500
HBS-4 0.500
Gelatin 0.354
第4層(低感度赤感乳剤層)
Em−M 銀 0.060
Em−N 銀 0.105
Em−O 銀 0.156
ExC−1 0.111
ExC−3 0.047
ExC−4 0.079
ExC−5 0.013
ExC−6 0.005
ExC−8 0.020
Cpd−2 0.025
Cpd−4 0.025
HBS−1 0.17
ゼラチン 0.84
4th layer (low sensitivity red sensitive emulsion layer)
Em-M Silver 0.060
Em-N Silver 0.105
Em-O Silver 0.156
ExC-1 0.111
ExC-3 0.047
ExC-4 0.079
ExC-5 0.013
ExC-6 0.005
ExC-8 0.020
Cpd-2 0.025
Cpd-4 0.025
HBS-1 0.17
Gelatin 0.84
第5層(中感度赤感乳剤層)
Em−K 銀 0.24
Em−L 銀 0.65
ExC−1 0.18
ExC−2 0.024
ExC−3 0.020
ExC−4 0.14
ExC−5 0.016
ExC−6 0.009
ExC−8 0.035
Cpd−2 0.036
Cpd−4 0.028
HBS−1 0.19
ゼラチン 1.23
5th layer (medium sensitivity red emulsion layer)
Em-K Silver 0.24
Em-L Silver 0.65
ExC-1 0.18
ExC-2 0.024
ExC-3 0.020
ExC-4 0.14
ExC-5 0.016
ExC-6 0.009
ExC-8 0.035
Cpd-2 0.036
Cpd-4 0.028
HBS-1 0.19
Gelatin 1.23
第6層(高感度赤感乳剤層)
Em−J 銀 1.60
ExC−1 0.19
ExC−3 0.09
ExC−6 0.049
ExC−8 0.040
Cpd−2 0.043
Cpd−4 0.077
HBS−1 0.25
HBS−2 0.12
ゼラチン 2.00
6th layer (high-sensitivity red-sensitive emulsion layer)
Em-J Silver 1.60
ExC-1 0.19
ExC-3 0.09
ExC-6 0.049
ExC-8 0.040
Cpd-2 0.043
Cpd-4 0.077
HBS-1 0.25
HBS-2 0.12
Gelatin 2.00
第7層(中間層)
Cpd−1 0.089
固体分散染料ExF−4 0.030
HBS−1 0.050
ポリエチルアクリレートラテックス 0.83
ゼラチン 0.84
7th layer (intermediate layer)
Cpd-1 0.089
Solid disperse dye ExF-4 0.030
HBS-1 0.050
Polyethyl acrylate latex 0.83
Gelatin 0.84
第8層(重層効果ドナー層(赤感層へ重層効果を与える層))
Em−E 銀 0.510
Cpd−4 0.030
ExM−2 0.090
ExM−3 0.033
ExY−1 0.033
ExG−1 0.007
ExC−8 0.005
HBS−1 0.089
HBS−3 0.004
ゼラチン 0.55
Eighth layer (Multilayer effect donor layer (layer that gives a multilayer effect to the red-sensitive layer))
Em-E Silver 0.510
Cpd-4 0.030
ExM-2 0.090
ExM-3 0.033
ExY-1 0.033
ExG-1 0.007
ExC-8 0.005
HBS-1 0.089
HBS-3 0.004
Gelatin 0.55
第9層(低感度緑感乳剤層)
Em−G 銀 0.36
Em−H 銀 0.24
Em−I 銀 0.32
ExM−2 0.37
ExM−3 0.043
ExG−1 0.005
ExC−8 0.005
HBS−1 0.28
HBS−3 0.01
HBS−4 0.27
ゼラチン 1.30
9th layer (low sensitivity green emulsion layer)
Em-G Silver 0.36
Em-H Silver 0.24
Em-I Silver 0.32
ExM-2 0.37
ExM-3 0.043
ExG-1 0.005
ExC-8 0.005
HBS-1 0.28
HBS-3 0.01
HBS-4 0.27
Gelatin 1.30
第10層(中感度緑感乳剤層)
Em−F 銀 0.24
Em−G 銀 0.20
ExC−6 0.011
ExM−2 0.031
ExM−3 0.026
ExY−1 0.005
ExM−4 0.028
ExG−1 0.005
ExC−8 0.010
HBS−1 0.064
HBS−3 2.1×10-3
ゼラチン 0.43
10th layer (medium sensitive green sensitive emulsion layer)
Em-F Silver 0.24
Em-G Silver 0.20
ExC-6 0.011
ExM-2 0.031
ExM-3 0.026
ExY-1 0.005
ExM-4 0.028
ExG-1 0.005
ExC-8 0.010
HBS-1 0.064
HBS-3 2.1 × 10 -3
Gelatin 0.43
第11層(高感度緑感乳剤層)
Em−P 銀 1.100
ExC−6 0.004
ExM−1 0.016
ExM−3 0.036
ExM−4 0.020
ExM−5 0.004
ExY−5 0.008
ExM−2 0.013
ExC−8 0.010
Cpd−4 0.007
HBS−1 0.18
ポリエチルアクリレートラテックス 0.099
ゼラチン 1.11
11th layer (high sensitivity green emulsion layer)
Em-P Silver 1.100
ExC-6 0.004
ExM-1 0.016
ExM-3 0.036
ExM-4 0.020
ExM-5 0.004
ExY-5 0.008
ExM-2 0.013
ExC-8 0.010
Cpd-4 0.007
HBS-1 0.18
Polyethyl acrylate latex 0.099
Gelatin 1.11
第12層(イエローフィルター層)
黄色コロイド銀 銀 0.047
Cpd−1 0.16
固体分散染料ExF−5 0.010
固体分散染料ExF−6 0.010
HBS−1 0.082
ゼラチン 1.057
12th layer (yellow filter layer)
Yellow colloidal silver Silver 0.047
Cpd-1 0.16
Solid disperse dye ExF-5 0.010
Solid disperse dye ExF-6 0.010
HBS-1 0.082
Gelatin 1.057
第13層(低感度青感乳剤層)
Em−B 銀 0.19
Em−C 銀 0.23
Em−D 銀 0.05
ExC−1 0.045
ExC−8 0.010
ExY−1 0.032
ExY−2 0.71
ExY−3 0.10
ExY−4 0.005
Cpd−2 0.10
Cpd−3 4.0×10-3
HBS−1 0.26
ゼラチン 1.47
13th layer (low sensitivity blue-sensitive emulsion layer)
Em-B Silver 0.19
Em-C Silver 0.23
Em-D Silver 0.05
ExC-1 0.045
ExC-8 0.010
ExY-1 0.032
ExY-2 0.71
ExY-3 0.10
ExY-4 0.005
Cpd-2 0.10
Cpd-3 4.0 × 10 −3
HBS-1 0.26
Gelatin 1.47
第14層(高感度青感乳剤層)
Em−A1 銀 0.85
ExC−1 0.016
ExC−8 0.010
ExY−2 0.30
ExY−3 0.05
ExY−6 0.065
Cpd−2 0.075
Cpd−3 1.0×10-3
HBS−1 0.12
ゼラチン 0.98
14th layer (high sensitivity blue-sensitive emulsion layer)
Em-A1 Silver 0.85
ExC-1 0.016
ExC-8 0.010
ExY-2 0.30
ExY-3 0.05
ExY-6 0.065
Cpd-2 0.075
Cpd-3 1.0 × 10 −3
HBS-1 0.12
Gelatin 0.98
第15層(第1保護層)
0.07μmのAgBrI(2) 銀 0.30
UV−1 0.21
UV−2 0.13
UV−3 0.20
UV−4 0.025
F−18 0.009
F−19 0.005
HBS−1 0.12
HBS−4 5.0×10-2
ゼラチン 3.0
15th layer (first protective layer)
0.07 μm AgBrI (2) Silver 0.30
UV-1 0.21
UV-2 0.13
UV-3 0.20
UV-4 0.025
F-18 0.009
F-19 0.005
HBS-1 0.12
HBS-4 5.0 × 10 -2
Gelatin 3.0
第16層(第2保護層)
H−1 0.40
B−1(直径1.7μm) 5.0×10-2
B−2(直径1.7μm) 0.15
B−3 0.05
S−1 0.20
ゼラチン 0.75
16th layer (second protective layer)
H-1 0.40
B-1 (diameter 1.7 μm) 5.0 × 10 −2
B-2 (diameter 1.7 μm) 0.15
B-3 0.05
S-1 0.20
Gelatin 0.75
更に、各層に適宜、保存性、処理性、圧力耐性、防黴・防菌性、B−4ないしB−6、F−1ないしF−18及び、鉄塩、鉛塩、金塩、白金塩、パラジウム塩、イリジウム塩、ルテニウム塩、ロジウム塩が含有されている。また、第8層の塗布液にハロゲン化銀1モル当たり8.5×10-3グラム、第11層に7.9×10-3グラムのカルシウムを硝酸カルシウム水溶液で添加し、試料を作製した。更に帯電防止性を良くするためにW−1、W−6、W−7、W−8を少なくとも1種含有しており、塗布性を良くするためW−2、W−5を少なくとも1種含有している。 Furthermore, storage stability, processability, pressure resistance, antifungal and antibacterial properties, B-4 to B-6, F-1 to F-18, and iron salts, lead salts, gold salts, platinum salts, as appropriate for each layer , Palladium salts, iridium salts, ruthenium salts and rhodium salts. Further, 8.5 × 10 −3 gram per mole of silver halide was added to the eighth layer coating solution and 7.9 × 10 −3 gram calcium was added to the eleventh layer with a calcium nitrate aqueous solution to prepare a sample. . Further, at least one of W-1, W-6, W-7, and W-8 is contained for improving antistatic properties, and at least one of W-2 and W-5 is used for improving coating properties. Contains.
有機固体分散染料の分散物の調製
下記、ExF−3を次の方法で分散した。即ち、水21.7mL及び5%水溶液のp−オクチルフェノキシエトキシエトキシエタンスルホン酸ソーダ3mL並びに5%水溶液のp−オクチルフェノキシポリオキシエチレンエーテル(重合度10)0.5gとを700mLのポットミルに入れ、染料ExF−3を5.0gと酸化ジルコニウムビーズ(直径1mm)500mLを添加して内容物を2時間分散した。この分散には中央工機製のBO型振動ボールミルを用いた。分散後、内容物を取り出し、12.5%ゼラチン水溶液8gに添加し、ビーズを濾過して除き、染料のゼラチン分散物を得た。染料微粒子の平均粒径は0.44μmであった。
Preparation of dispersion of organic solid disperse dye The following ExF-3 was dispersed by the following method. That is, 21.7 mL of water and 3 mL of 5% aqueous p-octylphenoxyethoxyethoxyethane sulfonate and 0.5 g of 5% aqueous p-octylphenoxypolyoxyethylene ether (degree of polymerization 10) were placed in a 700 mL pot mill. Then, 5.0 g of dye ExF-3 and 500 mL of zirconium oxide beads (diameter 1 mm) were added, and the contents were dispersed for 2 hours. A BO-type vibrating ball mill manufactured by Chuo Koki was used for this dispersion. After dispersion, the contents were taken out and added to 8 g of a 12.5% gelatin aqueous solution, and the beads were removed by filtration to obtain a gelatin dispersion of the dye. The average particle diameter of the dye fine particles was 0.44 μm.
同様にして、ExF−4の固体分散物を得た。染料微粒子の平均粒径は0.45μmであった。ExF−2は欧州特許出願公開(EP)第549,489A号明細書の実施例1に記載の微小析出(Microprecipitation)分散方法により分散した。平均粒径は0.06μmであった。 Similarly, a solid dispersion of ExF-4 was obtained. The average particle size of the dye fine particles was 0.45 μm. ExF-2 was dispersed by the microprecipitation dispersion method described in Example 1 of EP 549,489A. The average particle size was 0.06 μm.
ExF−6の固体分散物を以下の方法で分散した。
水を18%含むExF−6のウェットケーキ2800gに4000gの水及びW−2の3%溶液を376g加えて攪拌し、ExF−6の濃度32%のスラリーとした。次にアイメックス(株)製ウルトラビスコミル(UVM−2)に平均粒径0.5mmのジルコニアビーズを1700mL充填し、スラリーを通して周速約10m/sec、吐出量0.5リットル/minで8時間粉砕した。
A solid dispersion of ExF-6 was dispersed by the following method.
To 2800 g of ExF-6 wet cake containing 18% of water, 376 g of 4000 g of water and a 3% solution of W-2 was added and stirred to obtain a slurry of ExF-6 having a concentration of 32%. Next, 1700 mL of zirconia beads having an average particle diameter of 0.5 mm was filled in Ultraviscomil (UVM-2) manufactured by Imex Co., Ltd., and the peripheral speed was about 10 m / sec through the slurry, and the discharge rate was 0.5 l / min for 8 hours. Crushed.
上記各層の形成に用いた化合物は、以下に示すとおりである。
試料101〜116は第14層の乳剤を表2のように変える以外は同様にして作製した。試料117〜147は第14層に表2に示したように本発明の化合物(B)をハロゲン化銀1molあたり1×10-2molになる量を乳化分散して添加した。 Samples 101 to 116 were prepared in the same manner except that the emulsion of the 14th layer was changed as shown in Table 2. In Samples 117 to 147, as shown in Table 2, the compound (B) of the present invention was added to the 14th layer by emulsifying and dispersing in an amount of 1 × 10 −2 mol per 1 mol of silver halide.
試料の評価法は以下の通り。富士フイルム(株)製ゼラチンフィルターSC−39(カットオフ波長が390nmである長波長光透過フィルター)と連続ウェッジを通して1/100秒間露光した。現像は富士写真フイルム社製自動現像機FP−360Bを用いて以下により行った。尚、漂白浴のオーバーフロー液を後浴へ流さず、全て廃液タンクへ排出する様に改造を行った。このFP−360Bは発明協会公開技法94−4992号に記載の蒸発補正手段を搭載している。 The sample evaluation method is as follows. The film was exposed for 1/100 second through a gelatin filter SC-39 (long wavelength light transmission filter having a cut-off wavelength of 390 nm) and a continuous wedge manufactured by FUJIFILM Corporation. Development was performed as follows using an automatic processor FP-360B manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. In addition, the overflow solution of the bleaching bath was remodeled so as not to flow to the rear bath but to discharge all to the waste liquid tank. This FP-360B is equipped with an evaporation correction means described in Japanese Society of Invention and Innovation technique 94-4992.
処理工程及び処理液組成を以下に示す。
(処理工程)
工程 処理時間 処理温度 補充量* タンク容量
発色現像 3分 5秒 37.8 ℃ 20 mL 11.5L
漂 白 50秒 38.0 ℃ 5 mL 5L
定着 (1) 50秒 38.0 ℃ − 5L
定着 (2) 50秒 38.0 ℃ 8 mL 5L
水 洗 30秒 38.0 ℃ 17 mL 3L
安定 (1) 20秒 38.0 ℃ − 3L
安定 (2) 20秒 38.0 ℃ 15 mL 3L
乾 燥 1分30秒 60.0 ℃
The treatment process and the treatment liquid composition are shown below.
(Processing process)
Process Processing time Processing temperature Replenishment amount * Tank capacity Color development 3 minutes 5 seconds 37.8 ℃ 20 mL 11.5 L
Whitening 50 seconds 38.0 ℃ 5 mL 5L
Fixing (1) 50 seconds 38.0 ℃ -5L
Fixing (2) 50 seconds 38.0 ℃ 8 mL 5L
Washing with water 30 seconds 38.0 ℃ 17 mL 3L
Stable (1) 20 seconds 38.0 ℃ -3L
Stable (2) 20 seconds 38.0 ℃ 15 mL 3L
Dry 1 min 30 sec 60.0 ° C
*補充量は感光材料35mm幅1.1m当たり(24Ex.1本相当)
安定液及び定着液は(2)から(1)への向流方式であり、水洗水のオーバーフロー液は全て定着浴(2)へ導入した。尚、現像液の漂白工程への持ち込み量、漂白液の定着工程への持ち込み量、及び定着液の水洗工程への持ち込み量は感光材料35mm幅1.1m当たりそれぞれ2.5mL、2.0mL、2.0mLであった。また、クロスオーバーの時間はいずれも6秒であり、この時間は前工程の処理時間に包含される。
上記処理機の開口面積は発色現像液で100cm2、漂白液で120cm2、その他の処理液は約100cm2であった。
* Replenishment amount per photosensitive material 35mm width 1.1m (equivalent to 24Ex. 1)
The stabilizing solution and the fixing solution were counter-current from (2) to (1), and all the overflow solution of the washing water was introduced into the fixing bath (2). The amount of developer brought into the bleaching step, the amount of bleaching solution brought into the fixing step, and the amount of fixing solution brought into the water washing step were 2.5 mL and 2.0 mL for a photosensitive material 35 mm width 1.1 m, respectively. 2.0 mL. In addition, the crossover time is 6 seconds, and this time is included in the processing time of the previous process.
Open area 100 cm 2 in the color developing solution in the processing machine, 120 cm 2 in the bleaching solution, the other processing solutions was about 100 cm 2.
以下に処理液の組成を示す。
(発色現像液) タンク液(g) 補充液(g)
ジエチレントリアミン五酢酸 3.0 3.0
カテコール−3,5−ジスルホン酸
ジナトリウム 0.3 0.3
亜硫酸ナトリウム 3.9 5.3
炭酸カリウム 39.0 39.0
ジナトリウム−N,N−ビス(2−スル
ホナートエチル)ヒドロキシルアミン 1.5 2.0
臭化カリウム 1.3 0.3
沃化カリウム 1.3mg −
4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,
3a,7−テトラザインデン 0.05 −
ヒドロキシルアミン硫酸塩 2.4 3.3
2−メチル−4−〔N−エチル−N−
(β−ヒドロキシエチル)アミノ〕
アニリン硫酸塩 4.5 6.5
水を加えて 1.0L 1.0L
pH(水酸化カリウムと硫酸にて調整) 10.05 10.18
The composition of the treatment liquid is shown below.
(Color developer) Tank solution (g) Replenisher (g)
Diethylenetriaminepentaacetic acid 3.0 3.0
Catechol-3,5-disulfonic acid disodium 0.3 0.3
Sodium sulfite 3.9 5.3
Potassium carbonate 39.0 39.0
Disodium-N, N-bis (2-sulfonateethyl) hydroxylamine 1.5 2.0
Potassium bromide 1.3 0.3
Potassium iodide 1.3mg −
4-hydroxy-6-methyl-1,3
3a, 7-tetrazaindene 0.05-
Hydroxylamine sulfate 2.4 3.3
2-Methyl-4- [N-ethyl-N-
(Β-hydroxyethyl) amino]
Aniline sulfate 4.5 6.5
Add water 1.0L 1.0L
pH (adjusted with potassium hydroxide and sulfuric acid) 10.05 10.18
(漂白液) タンク液(g) 補充液(g)
1,3−ジアミノプロパン四酢酸第二
鉄アンモニウム一水塩 113 170
臭化アンモニウム 70 105
硝酸アンモニウム 14 21
コハク酸 34 51
マレイン酸 28 42
水を加えて 1.0L 1.0L
pH〔アンモニア水で調整〕 4.6 4.0
(Bleaching solution) Tank solution (g) Replenisher solution (g)
1,3-diaminopropanetetraacetic acid ferric ammonium monohydrate 113 170
Ammonium bromide 70 105
Ammonium nitrate 14 21
Succinic acid 34 51
Maleic acid 28 42
Add water 1.0L 1.0L
pH [adjusted with aqueous ammonia] 4.6 4.0
(定着(1)タンク液)
上記漂白タンク液と下記定着タンク液の5対95(容量比)混合液
(pH6.8)
(Fixing (1) Tank liquid)
5:95 (volume ratio) mixture of the above bleach tank solution and the following fixing tank solution (pH 6.8)
(定着(2)) タンク液(g) 補充液(g)
チオ硫酸アンモニウム水溶液 240mL 720 mL
(750g/L)
イミダゾール 7 21
メタンチオスルホン酸アンモニウム 5 15
メタンスルフィン酸アンモニウム 10 30
エチレンジアミン四酢酸 13 39
水を加えて 1.0L 1.0L
pH〔アンモニア水、酢酸で調整〕 7.4 7.45
(Fixing (2)) Tank liquid (g) Replenisher (g)
Ammonium thiosulfate aqueous solution 240 mL 720 mL
(750g / L)
Imidazole 7 21
Ammonium methanethiosulfonate 5 15
Ammonium methanesulfinate 10 30
Ethylenediaminetetraacetic acid 13 39
Add water 1.0L 1.0L
pH [adjusted with aqueous ammonia and acetic acid] 7.4 7.45
(水洗水)
水道水をH型強酸性カチオン交換樹脂(ロームアンドハース社製アンバーライトIR−120B)と、OH型強塩基性アニオン交換樹脂(同アンバーライトIR−400)を充填した混床式カラムに通水してカルシウム及びマグネシウムイオン濃度を3mg/L以下に処理し、続いて二塩化イソシアヌール酸ナトリウム20mg/Lと硫酸ナトリウム150mg/Lを添加した。この液のpHは6.5〜7.5の範囲にあった。
(Washing water)
Tap water is passed through a mixed bed column packed with H-type strongly acidic cation exchange resin (Amberlite IR-120B manufactured by Rohm and Haas) and OH-type strongly basic anion exchange resin (Amberlite IR-400). Then, the calcium and magnesium ion concentrations were adjusted to 3 mg / L or less, and then sodium isocyanurate dichloride 20 mg / L and sodium sulfate 150 mg / L were added. The pH of this solution was in the range of 6.5 to 7.5.
(安定液) タンク液、補充液共通 (単位g)
p−トルエンスルフィン酸ナトリウム 0.03
ポリオキシエチレン−p−モノノニルフェニルエーテル 0.2
(平均重合度10)
1,2−ベンゾイソチアゾリン−3−オン・ナトリウム 0.10
エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 0.05
1,2,4−トリアゾール 1.3
1,4−ビス(1,2,4−トリアゾール−1−
イルメチル)ピペラジン 0.75
水を加えて 1.0L
pH 8.5
(Stabilizer) Tank fluid and replenisher common (Unit: g)
Sodium p-toluenesulfinate 0.03
Polyoxyethylene-p-monononylphenyl ether 0.2
(Average polymerization degree 10)
1,2-Benzisothiazoline-3-one sodium 0.10
Ethylenediaminetetraacetic acid disodium salt 0.05
1,2,4-triazole 1.3
1,4-bis (1,2,4-triazole-1-
Ilmethyl) piperazine 0.75
Add water and add 1.0L
pH 8.5
試料101〜147に対して前記処理を施した。処理済の試料をイエロー濃度測定することにより写真性能の評価を行った。感度はイエロー濃度の最低濃度+0.1の濃度を与える露光量の逆数の対数値で比較し、試料101の結果に対する差で求めた。この値が大きいほど高感度であり好ましい。 The said process was performed with respect to the samples 101-147. Photographic performance was evaluated by measuring the yellow density of the processed sample. The sensitivity was determined by comparing the logarithmic value of the reciprocal of the exposure amount giving the minimum density of yellow density +0.1, and the difference with the sample 101 result. Higher values are preferable because of higher sensitivity.
潜像保存性の評価は以下のように行った。
試料を上記の方法で露光後、40℃60%RHの強制劣化条件下に2週間保存した後、上記の方法で現像処理した。イエロー濃度の最低濃度+0.5の濃度を与える露光量の逆数の対数値を求めた。
この結果を強制劣化条件下に保存しなかった場合の結果に対する差を求めて評価した。この数値が0に近いほど露光後の保存による性能変化が小さく好ましい。
Evaluation of the latent image storage stability was performed as follows.
The sample was exposed by the above method, stored for 2 weeks under a forced deterioration condition of 40 ° C. and 60% RH, and then developed by the above method. The logarithmic value of the reciprocal of the exposure amount giving the lowest density of yellow density +0.5 was obtained.
This result was evaluated by obtaining a difference with respect to the result when not stored under forced deterioration conditions. The closer this value is to 0, the smaller the performance change due to storage after exposure.
得られた結果を表2に示した。
表2より、タイプAまたはタイプ1〜4から選択される化合物および化合物Bを含有する感材は高感度で潜像保存性に優れており好ましいことがわかる。
From Table 2, it can be seen that a light-sensitive material containing a compound selected from type A or types 1 to 4 and compound B has high sensitivity and is excellent in latent image preservability.
(実施例2)
(自己乳化性ビニルポリマー(P-15)の調製)
2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ナトリウム4.6部、エチルメタクリレート75.4部、イソプロピルアルコール70部、水30部からな混合液(A)を調製した。
(Example 2)
(Preparation of self-emulsifying vinyl polymer (P-15))
A mixed solution (A) was prepared from 4.6 parts of sodium 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonate, 75.4 parts of ethyl methacrylate, 70 parts of isopropyl alcohol and 30 parts of water.
次に、イソプロピルアルコール30部、ジメチル 2,2’−アゾビスイソブチレート0.4部をフラスコに仕込み、窒素シール下に攪拌しながら、80℃まで昇温させた後、前記混合液(A)を2時間かけて滴下し、滴下終了後、ジメチル 2,2’−アゾビスイソブチレート0.2部のイソプロピルアルコール30部の溶液を加え、更に同温度で5時間反応させた。得られたポリマーの溶液を減圧濃縮し、固形分35質量%の目的の自己乳化性ビニルポリマーを125部得た。 Next, 30 parts of isopropyl alcohol and 0.4 part of dimethyl 2,2′-azobisisobutyrate were placed in a flask, and the mixture was heated to 80 ° C. with stirring under a nitrogen seal. ) Was added dropwise over 2 hours, and after completion of the dropwise addition, a solution of 0.2 part of dimethyl 2,2′-azobisisobutyrate in 30 parts of isopropyl alcohol was added, and the mixture was further reacted at the same temperature for 5 hours. The resulting polymer solution was concentrated under reduced pressure to obtain 125 parts of the desired self-emulsifying vinyl polymer having a solid content of 35% by mass.
(紫外線吸収剤含有微粒子分散物UVPV-1の調製)
上記で得た自己乳化性ビニルポリマー溶液51.4部、イソプロピルアルコール20部、UV−1 3.35部、UV−3 3.19部、UV−2 2.07部、UV−4 0.40部の混合液を調整した。この混合液を80℃まで昇温させた後、攪拌しながら、水300部を添加した。この液を減圧下40℃で濃縮し、固形分14.5%の紫外線吸収剤含有微粒子分散物を調製した。分散物は青白みのある乳白色で、粒径は150nm、pHは6.70であった。
(Preparation of UVPV-1 containing UV absorber-containing fine particle dispersion)
51.4 parts of the self-emulsifiable vinyl polymer solution obtained above, 20 parts of isopropyl alcohol, 3.35 parts of UV-1 3.19 parts of UV-3, 2.07 parts of UV-2, 0.44 of UV-4 Part of the mixture was prepared. The mixture was heated to 80 ° C., and then 300 parts of water was added with stirring. This liquid was concentrated at 40 ° C. under reduced pressure to prepare a UV absorbent-containing fine particle dispersion having a solid content of 14.5%. The dispersion was milky white with paleness, the particle size was 150 nm, and the pH was 6.70.
実施例1の試料118の第15層のUV−1〜UV−4は高沸点有機溶媒HBS−1、HBS−2と共乳化した分散物として添加した。これを上記のUVPV−1を用いて紫外線吸収剤の添加量が試料118と同じになるように添加して試料201を作製した。このとき試料118と乾燥膜厚が同じになるようにゼラチン塗布量を調節した。 The UV-1 to UV-4 of the 15th layer of the sample 118 of Example 1 was added as a dispersion co-emulsified with the high-boiling organic solvents HBS-1 and HBS-2. This was added using the above UVPV-1 so that the addition amount of the ultraviolet absorber was the same as that of the sample 118, thereby preparing a sample 201. At this time, the gelatin coating amount was adjusted so that the dry film thickness was the same as that of the sample 118.
同様にして試料122、143、145に対して第15層にUVPV−1を用いた試料を作製し、それぞれ試料202、203、204とした。
また、支持体を実施例1に記載したもの(ア)から(イ)に変更し試料205〜212を作製した。
Similarly, samples using UVPV-1 as the fifteenth layer for samples 122, 143, and 145 were prepared and used as samples 202, 203, and 204, respectively.
Moreover, the support body was changed from (a) described in Example 1 to (b), and samples 205 to 212 were produced.
(ア)実施例1に記載のバック層に磁気記録層を有するポリエチレンナフタレートフィルム
(イ)三酢酸セルロースフィルム
これらの試料を下記の方法で圧力熱経時カブリの評価を行った。試料を35mm×35mmに裁断した後、25℃65%RHの条件下24時間調湿した。これらを21枚重ねて、この上に500gのおもりを乗せて60℃60%RHの強制劣化条件下72時間保存した。この重ねた21枚の試料うち中央の3枚を実施例1に記載の方法で現像処理した。
(A) Polyethylene naphthalate film having a magnetic recording layer on the back layer described in Example 1 (a) Cellulose triacetate film The pressure and heat aging fogging of these samples was evaluated by the following method. The sample was cut to 35 mm × 35 mm and then conditioned for 24 hours under conditions of 25 ° C. and 65% RH. 21 sheets of these were stacked, and a 500 g weight was placed thereon and stored for 72 hours under a forced deterioration condition of 60 ° C. and 60% RH. Of the 21 stacked samples, three in the center were developed by the method described in Example 1.
試料の中心部のイエロー濃度測定を行い3枚の結果の平均値を求めた。この結果と強制劣化条件下に保存しなかった場合との差を求め圧力熱経時カブリの評価をおこなった。結果を表3に示した。尚評価は試料118の結果に対する相対値で示した。 The yellow density at the center of the sample was measured, and the average value of the three results was obtained. The difference between this result and the case where it was not stored under forced deterioration conditions was determined, and the evaluation of fogging under pressure and heat was performed. The results are shown in Table 3. The evaluation was shown as a relative value to the result of the sample 118.
表3より、ビニルポリマーと紫外線吸収剤とを含有する有機溶媒相に水を投入することにより乳化させて製造された紫外線吸収剤含有微粒子分散物を用いた本発明の試料201〜204、209〜212は圧力熱経時カブリが小さく好ましいことがわかる。また、支持体に(イ)を用いた場合より(ア)を用いた場合の方がこの効果が顕著であることがわかる。
Claims (14)
(タイプA)
X−Yで表される化合物においてXは還元性基を、Yは脱離基を表し、Xで表される還元性基が1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続くX−Y結合の開裂反応を伴ってYを脱離してXラジカルを生成し、そこからさらにもう1電子を放出し得る化合物。
(タイプ1)
1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続く結合開裂反応を伴って、さらに2電子以上の電子を放出し得る化合物。
(タイプ2)
1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続く炭素−炭素結合開裂反応を伴って、さらにもう1電子を放出し得る化合物で、かつ同じ分子内にハロゲン化銀への吸着性基を2つ以上有する化合物。
(タイプ3)
1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続く結合形成過程を経た後に、さらに1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物。
(タイプ4)
1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続く分子内の環開裂反応を経た後に、さらに1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物。 A blue-sensitive silver halide emulsion layer containing at least one yellow coupler, a green-sensitive silver halide emulsion layer containing a magenta coupler, a red-sensitive silver halide emulsion layer containing a cyan coupler, and a silver halide color photographic material have a non-photosensitive layer comprises a compound selected from the compound group of the type a and type 1-4 in at least one layer, and a UV absorber in at least one layer vinyl the silver halide color photographic light-sensitive material characterized that you containing fine particle dispersion containing the polymer.
(Type A)
In the compound represented by XY, X represents a reducing group, Y represents a leaving group, and a one-electron oxidant formed by one-electron oxidation of the reducing group represented by X is followed by XY A compound capable of releasing Y by releasing Y with a bond cleavage reaction and releasing another electron therefrom.
(Type 1)
A compound in which a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation can further emit two or more electrons with a subsequent bond cleavage reaction.
(Type 2)
The one-electron oxidant produced by one-electron oxidation is a compound capable of releasing another electron with a subsequent carbon-carbon bond cleavage reaction, and 2 adsorbing groups to silver halide are present in the same molecule. A compound having two or more.
(Type 3)
A compound capable of emitting one or more electrons after a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation undergoes a subsequent bond formation process.
(Type 4)
A compound capable of emitting one or more electrons after a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation undergoes a subsequent intramolecular ring-cleaving reaction.
一般式(1−2)においてRED RED in general formula (1-2) 1212 およびLAnd L 1212 は、それぞれ一般式(1−1)のREDAre respectively RED of the general formula (1-1) 1111 およびLAnd L 1111 と同義の基を表す。RRepresents a group having the same meaning as R 121121 およびRAnd R 122122 は、それぞれに水素原子または炭素原子に置換可能な置換基を表し、これは一般式(1−1)のREach represents a hydrogen atom or a substituent substitutable on a carbon atom, and this represents R in the general formula (1-1) 112112 と同義の基である。EDIs synonymous with ED 1212 は電子供与性基を表す。一般式(1−2)においてRRepresents an electron donating group. In the general formula (1-2), R 121121 とREDAnd RED 1212 、R, R 121121 とRAnd R 122122 、またはEDOr ED 1212 とREDAnd RED 1212 とは、互いに結合して環状構造を形成していてもよい。And may be bonded to each other to form a cyclic structure.
一般式(2)においてRED RED in general formula (2) 22 は一般式(1−2)のREDIs RED of general formula (1-2) 1212 と同義の基を表す。LRepresents a group having the same meaning as L 22 はカルボキシ基またはその塩を表し、RRepresents a carboxy group or a salt thereof, R 21twenty one 、R, R 22twenty two は水素原子または置換基を表す。REDRepresents a hydrogen atom or a substituent. RED 22 とRAnd R 21twenty one とは互いに結合して環構造を形成していてもよい。但し一般式(2)で表される化合物は、分子内にハロゲン化銀への吸着促進基を2つ以上有する化合物である。And may be bonded to each other to form a ring structure. However, the compound represented by the general formula (2) is a compound having two or more adsorption promoting groups for silver halide in the molecule.
一般式(3)においてRED RED in general formula (3) 3Three は一般式(1−2)のREDIs RED of general formula (1-2) 1212 と同義の基を表す。YRepresents a group having the same meaning as Y 3Three は、REDRED 3Three が1電子酸化されて生成する1電子酸化体と反応して、新たな結合を形成しうる炭素−炭素2重結合部位または炭素−炭素3重結合部位を含む反応性基を表す。LRepresents a reactive group containing a carbon-carbon double bond site or a carbon-carbon triple bond site capable of reacting with a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation to form a new bond. L 3Three はREDIs RED 3Three とYAnd Y 3Three とを連結する連結基を表す。Represents a linking group for linking.
一般式(4−1)および一般式(4−2)においてRED RED in general formula (4-1) and general formula (4-2) 4141 およびREDAnd RED 4242 は、それぞれ一般式(1−2)のREDAre respectively RED of general formula (1-2) 1212 と同義の基を表す。RRepresents a group having the same meaning as R 4040 〜R~ R 4444 およびRAnd R 4545 〜R~ R 4949 は、それぞれ水素原子または置換基を表す。一般式(4−2)においてZEach represents a hydrogen atom or a substituent. In general formula (4-2), Z 4242 は−CRIs -CR 420420 RR 421421 −、−NR-, -NR 423423 −、または−O−を表す。ここにR-Represents-or -O-. R here 420420 、R, R 421421 は、それぞれ水素原子または置換基を表し、REach represents a hydrogen atom or a substituent, and R 423423 は水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基を表す。Represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group.
(a)平行な主平面が(111)面 (A) Parallel main plane is (111) plane
(b)アスペクト比が2以上 (B) The aspect ratio is 2 or more
(c)転位線を1粒子当たり少なくとも10本以上含む (C) including at least 10 dislocation lines per particle
(d)塩化銀含有率が10モル%未満の沃臭化銀または塩沃臭化銀よりなる平板状ハ (D) A plate-shaped substrate made of silver iodobromide or silver chloroiodobromide having a silver chloride content of less than 10 mol%
ロゲン化銀粒子 Silver halide grains
(a)平行な主平面が(111)面 (A) Parallel main plane is (111) plane
(d)塩化銀含有率が10モル%未満の沃臭化銀または塩沃臭化銀よりなる平板状ハ (D) A plate-shaped substrate made of silver iodobromide or silver chloroiodobromide having a silver chloride content of less than 10 mol%
ロゲン化銀粒子 Silver halide grains
(e)六角形ハロゲン化銀粒子の頂点部および/または側面部および/または主平面 (E) Vertex and / or side surface and / or main plane of hexagonal silver halide grain
部に1粒子当たり少なくとも1個のエピタキシャル接合を有する Have at least one epitaxial junction per particle in the part
化合物(B):環系の構造部分にヘテロ原子を少なくとも3個有する複素環化合物であり、該化合物を含有しない場合に比較して感光材料の写真感度が増加する化合物
ここで、写真感度が増加するとは、下記現像処理工程及び処理液で処理したときに写真感度が増加することをいう。
(処理工程)
工程 処理時間 処理温度 補充量* タンク容量
発色現像 3分 5秒 37.8 ℃ 20 mL 11.5L
漂 白 50秒 38.0 ℃ 5 mL 5L
定着 (1) 50秒 38.0 ℃ − 5L
定着 (2) 50秒 38.0 ℃ 8 mL 5L
水 洗 30秒 38.0 ℃ 17 mL 3L
安定 (1) 20秒 38.0 ℃ − 3L
安定 (2) 20秒 38.0 ℃ 15 mL 3L
乾 燥 1分30秒 60.0 ℃
*補充量は感光材料35mm幅1.1m当たり(24Ex.1本相当)
安定液及び定着液は(2)から(1)への向流方式であり、水洗水のオーバーフロー液は全て定着浴(2)へ導入した。尚、現像液の漂白工程への持ち込み量、漂白液の定着工程への持ち込み量、及び定着液の水洗工程への持ち込み量は感光材料35mm幅1.1m当たりそれぞれ2.5mL、2.0mL、2.0mLである。また、クロスオーバーの時間はいずれも6秒であり、この時間は前工程の処理時間に包含される。
上記処理機の開口面積は発色現像液で100cm2、漂白液で120cm2、その他の処理液は約100cm2である。
(発色現像液) タンク液(g) 補充液(g)
ジエチレントリアミン五酢酸 3.0 3.0
カテコール−3,5−ジスルホン酸
ジナトリウム 0.3 0.3
亜硫酸ナトリウム 3.9 5.3
炭酸カリウム 39.0 39.0
ジナトリウム−N,N−ビス(2−スル
ホナートエチル)ヒドロキシルアミン 1.5 2.0
臭化カリウム 1.3 0.3
沃化カリウム 1.3mg −
4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,
3a,7−テトラザインデン 0.05 −
ヒドロキシルアミン硫酸塩 2.4 3.3
2−メチル−4−〔N−エチル−N−
(β−ヒドロキシエチル)アミノ〕
アニリン硫酸塩 4.5 6.5
水を加えて 1.0L 1.0L
pH(水酸化カリウムと硫酸にて調整) 10.05 10.18
(漂白液) タンク液(g) 補充液(g)
1,3−ジアミノプロパン四酢酸第二
鉄アンモニウム一水塩 113 170
臭化アンモニウム 70 105
硝酸アンモニウム 14 21
コハク酸 34 51
マレイン酸 28 42
水を加えて 1.0L 1.0L
pH〔アンモニア水で調整〕 4.6 4.0
(定着(1)タンク液)
上記漂白タンク液と下記定着タンク液の5対95(容量比)混合液
(pH6.8)
(定着(2)) タンク液(g) 補充液(g)
チオ硫酸アンモニウム水溶液 240mL 720 mL
(750g/L)
イミダゾール 7 21
メタンチオスルホン酸アンモニウム 5 15
メタンスルフィン酸アンモニウム 10 30
エチレンジアミン四酢酸 13 39
水を加えて 1.0L 1.0L
pH〔アンモニア水、酢酸で調整〕 7.4 7.45
(水洗水)
水道水をH型強酸性カチオン交換樹脂(ロームアンドハース社製アンバーライトIR−120B)と、OH型強塩基性アニオン交換樹脂(同アンバーライトIR−400)を充填した混床式カラムに通水してカルシウム及びマグネシウムイオン濃度を3mg/L以下に処理し、続いて二塩化イソシアヌール酸ナトリウム20mg/Lと硫酸ナトリウム150mg/Lを添加した。この液のpHは6.5〜7.5の範囲にあった。
(安定液) タンク液、補充液共通 (単位g)
p−トルエンスルフィン酸ナトリウム 0.03
ポリオキシエチレン−p−モノノニルフェニルエーテル 0.2
(平均重合度10)
1,2−ベンゾイソチアゾリン−3−オン・ナトリウム 0.10
エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 0.05
1,2,4−トリアゾール 1.3
1,4−ビス(1,2,4−トリアゾール−1−
イルメチル)ピペラジン 0.75
水を加えて 1.0L
pH 8.5 The silver halide color photographic light-sensitive material according to any one of claims 1 to 11, wherein the silver halide color photographic light-sensitive material contains the following compound (B).
Compound (B): a heterocyclic compound having at least three heteroatoms in the ring system structure part , and a compound in which the photographic sensitivity of the photosensitive material is increased as compared with the case where the compound is not contained. This means that the photographic sensitivity increases when processed with the following development processing steps and processing solutions.
(Processing process)
Process Processing time Processing temperature Replenishment amount * Tank capacity Color development 3 minutes 5 seconds 37.8 ℃ 20 mL 11.5 L
Whitening 50 seconds 38.0 ℃ 5 mL 5L
Fixing (1) 50 seconds 38.0 ℃ -5L
Fixing (2) 50 seconds 38.0 ℃ 8 mL 5L
Washing with water 30 seconds 38.0 ℃ 17 mL 3L
Stable (1) 20 seconds 38.0 ℃ -3L
Stable (2) 20 seconds 38.0 ℃ 15 mL 3L
Dry 1 min 30 sec 60.0 ° C
* Replenishment amount per photosensitive material 35mm width 1.1m (equivalent to 24Ex. 1)
The stabilizing solution and the fixing solution were a countercurrent system from (2) to (1), and all the overflow solution of the washing water was introduced into the fixing bath (2). The amount of developer brought into the bleaching step, the amount of bleaching solution brought into the fixing step, and the amount of fixing solution brought into the water washing step were 2.5 mL and 2.0 mL, respectively, per photosensitive material 35 mm width 1.1 m, 2.0 mL. In addition, the crossover time is 6 seconds, and this time is included in the processing time of the previous process.
100 cm 2 in the color developing solution open area of the processing machine, 120 cm 2, the other processing solutions in the bleaching solution is about 100 cm 2.
(Color developer) Tank solution (g) Replenisher (g)
Diethylenetriaminepentaacetic acid 3.0 3.0
Catechol-3,5-disulfonic acid disodium 0.3 0.3
Sodium sulfite 3.9 5.3
Potassium carbonate 39.0 39.0
Disodium-N, N-bis (2-sulfonateethyl) hydroxylamine 1.5 2.0
Potassium bromide 1.3 0.3
Potassium iodide 1.3mg −
4-hydroxy-6-methyl-1,3
3a, 7-tetrazaindene 0.05-
Hydroxylamine sulfate 2.4 3.3
2-Methyl-4- [N-ethyl-N-
(Β-hydroxyethyl) amino]
Aniline sulfate 4.5 6.5
Add water 1.0L 1.0L
pH (adjusted with potassium hydroxide and sulfuric acid) 10.05 10.18
(Bleaching solution) Tank solution (g) Replenisher solution (g)
1,3-diaminopropanetetraacetic acid ferric ammonium monohydrate 113 170
Ammonium bromide 70 105
Ammonium nitrate 14 21
Succinic acid 34 51
Maleic acid 28 42
Add water 1.0L 1.0L
pH [adjusted with aqueous ammonia] 4.6 4.0
(Fixing (1) Tank liquid)
5:95 (volume ratio) mixture of the above bleach tank solution and the following fixing tank solution (pH 6.8)
(Fixing (2)) Tank liquid (g) Replenisher (g)
Ammonium thiosulfate aqueous solution 240 mL 720 mL
(750g / L)
Imidazole 7 21
Ammonium methanethiosulfonate 5 15
Ammonium methanesulfinate 10 30
Ethylenediaminetetraacetic acid 13 39
Add water 1.0L 1.0L
pH [adjusted with aqueous ammonia and acetic acid] 7.4 7.45
(Washing water)
Tap water is passed through a mixed bed column packed with H-type strongly acidic cation exchange resin (Amberlite IR-120B manufactured by Rohm and Haas) and OH-type strongly basic anion exchange resin (Amberlite IR-400). Then, the calcium and magnesium ion concentrations were adjusted to 3 mg / L or less, and then sodium isocyanurate dichloride 20 mg / L and sodium sulfate 150 mg / L were added. The pH of this solution was in the range of 6.5 to 7.5.
(Stabilizer) Tank fluid and replenisher common (Unit: g)
Sodium p-toluenesulfinate 0.03
Polyoxyethylene-p-monononylphenyl ether 0.2
(Average polymerization degree 10)
1,2-Benzisothiazoline-3-one sodium 0.10
Ethylenediaminetetraacetic acid disodium salt 0.05
1,2,4-triazole 1.3
1,4-bis (1,2,4-triazole-1-
Ilmethyl) piperazine 0.75
Add water and add 1.0L
pH 8.5
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