JP3635103B2 - 全て置換されたシクロポリシロキサン及び有機ケイ素ポリマーを製造するためのそれらの使用 - Google Patents
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- 229920001558 organosilicon polymer Polymers 0.000 title description 10
- -1 5-bicyclo [2.2.1] heptenyl group Chemical group 0.000 claims description 70
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 59
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 32
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 25
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 25
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 22
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 21
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 claims description 19
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N cyclopentadiene Chemical compound C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical compound Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 10
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 claims description 8
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 claims description 7
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 7
- SJYNFBVQFBRSIB-UHFFFAOYSA-N norbornadiene Chemical compound C1=CC2C=CC1C2 SJYNFBVQFBRSIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims description 7
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- KAJRUHJCBCZULP-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohepta-1,3-dien-1-ylcyclohepta-1,3-diene Chemical compound C1CCC=CC=C1C1=CC=CCCC1 KAJRUHJCBCZULP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- UTBCLIMIBBSDLG-UHFFFAOYSA-N C12=CC=CCC2C2CC2C2C1C2 Chemical compound C12=CC=CCC2C2CC2C2C1C2 UTBCLIMIBBSDLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 150000003509 tertiary alcohols Chemical class 0.000 claims description 5
- ZWUBFMWIQJSEQS-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(ethenyl)cyclohexane Chemical compound C=CC1(C=C)CCCCC1 ZWUBFMWIQJSEQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- IKAACYWAXDLDPM-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,4a,5-hexahydronaphthalene Chemical compound C1=CCC2CCCCC2=C1 IKAACYWAXDLDPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- PRJNEUBECVAVAG-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(ethenyl)benzene Chemical compound C=CC1=CC=CC(C=C)=C1 PRJNEUBECVAVAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- IBVPVTPPYGGAEL-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(prop-1-en-2-yl)benzene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC(C(C)=C)=C1 IBVPVTPPYGGAEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- WEERVPDNCOGWJF-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(ethenyl)benzene Chemical compound C=CC1=CC=C(C=C)C=C1 WEERVPDNCOGWJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- ZENYUPUKNXGVDY-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(prop-1-en-2-yl)benzene Chemical compound CC(=C)C1=CC=C(C(C)=C)C=C1 ZENYUPUKNXGVDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoxyprop-1-ene Chemical compound C=CCOCC=C ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- INYHZQLKOKTDAI-UHFFFAOYSA-N 5-ethenylbicyclo[2.2.1]hept-2-ene Chemical compound C1C2C(C=C)CC1C=C2 INYHZQLKOKTDAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000002846 norbornadienes Chemical class 0.000 claims description 4
- 238000005698 Diels-Alder reaction Methods 0.000 claims description 3
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 claims description 2
- 150000003333 secondary alcohols Chemical class 0.000 claims description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 125000003518 norbornenyl group Chemical class C12(C=CC(CC1)C2)* 0.000 claims 3
- 241000219495 Betulaceae Species 0.000 claims 2
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 claims 1
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 26
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 23
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 18
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 18
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 14
- RSNQKPMXXVDJFG-UHFFFAOYSA-N tetrasiloxane Chemical compound [SiH3]O[SiH2]O[SiH2]O[SiH3] RSNQKPMXXVDJFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 10
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 10
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 10
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 8
- ZQTYRTSKQFQYPQ-UHFFFAOYSA-N trisiloxane Chemical compound [SiH3]O[SiH2]O[SiH3] ZQTYRTSKQFQYPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 7
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- WZJUBBHODHNQPW-UHFFFAOYSA-N 2,4,6,8-tetramethyl-1,3,5,7,2$l^{3},4$l^{3},6$l^{3},8$l^{3}-tetraoxatetrasilocane Chemical compound C[Si]1O[Si](C)O[Si](C)O[Si](C)O1 WZJUBBHODHNQPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- JJRDHFIVAPVZJN-UHFFFAOYSA-N cyclotrisiloxane Chemical class O1[SiH2]O[SiH2]O[SiH2]1 JJRDHFIVAPVZJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 5
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical class [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 4
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 4
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 4
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 4
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 3
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 3
- VLQZJOLYNOGECD-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-trimethyl-1,3,5,2,4,6-trioxatrisilinane Chemical compound C[SiH]1O[SiH](C)O[SiH](C)O1 VLQZJOLYNOGECD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UASBJDLCXQQZFL-UHFFFAOYSA-N 2-bicyclo[2.2.1]hept-1-enylmethyl(dichloro)silane Chemical compound C12=C(CC(CC1)C2)C[SiH](Cl)Cl UASBJDLCXQQZFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FRDAATYAJDYRNW-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-3-pentanol Chemical compound CCC(C)(O)CC FRDAATYAJDYRNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000023 Kugelrohr distillation Methods 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 239000012267 brine Substances 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 2
- UCQHUEOREKHIBP-UHFFFAOYSA-N heptacyclo[9.6.1.14,7.113,16.02,10.03,8.012,17]icosa-5,14-diene Chemical compound C1C(C23)C4C(C=C5)CC5C4C1C3CC1C2C2C=CC1C2 UCQHUEOREKHIBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- SSDSCDGVMJFTEQ-UHFFFAOYSA-N octadecyl 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)CCC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 SSDSCDGVMJFTEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- JYVLIDXNZAXMDK-UHFFFAOYSA-N pentan-2-ol Chemical compound CCCC(C)O JYVLIDXNZAXMDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AQIXEPGDORPWBJ-UHFFFAOYSA-N pentan-3-ol Chemical compound CCC(O)CC AQIXEPGDORPWBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L platinum dichloride Chemical compound Cl[Pt]Cl CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 2
- 150000004291 polyenes Chemical class 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 2
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- DGZQEAKNZXNTNL-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-4-butan-2-ylbenzene Chemical class CCC(C)C1=CC=C(Br)C=C1 DGZQEAKNZXNTNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FOHNTMRACRPKES-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6,8-heptamethyl-1,3,5,7,9,2,4,6,8,10-pentaoxapentasilecane Chemical compound C[SiH]1O[SiH2]O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 FOHNTMRACRPKES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANZPUCVQARFCDW-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexamethyl-1,3,5,7,2,4,6,8-tetraoxatetrasilocane Chemical compound C[Si]1(C)O[SiH2]O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 ANZPUCVQARFCDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAKUVHZFBNPFNP-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6-pentamethyl-1,3,5,7,2,4,6,8-tetraoxatetrasilocane Chemical compound C[SiH]1O[SiH2]O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 ZAKUVHZFBNPFNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUNGSQUVTIDKNU-UHFFFAOYSA-N 2,4,6,8,10-pentamethyl-1,3,5,7,9,2$l^{3},4$l^{3},6$l^{3},8$l^{3},10$l^{3}-pentaoxapentasilecane Chemical compound C[Si]1O[Si](C)O[Si](C)O[Si](C)O[Si](C)O1 PUNGSQUVTIDKNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOJCPAMHGPVAEW-UHFFFAOYSA-N 2,4,6,8-tetraethyl-1,3,5,7,2,4,6,8-tetraoxatetrasilocane Chemical compound CC[SiH]1O[SiH](CC)O[SiH](CC)O[SiH](CC)O1 KOJCPAMHGPVAEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQHTUIVVRYJZTG-UHFFFAOYSA-N 2,4,6,8-tetraoctyl-1,3,5,7,2,4,6,8-tetraoxatetrasilocane Chemical compound CCCCCCCC[SiH]1O[SiH](CCCCCCCC)O[SiH](CCCCCCCC)O[SiH](CCCCCCCC)O1 CQHTUIVVRYJZTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PETHNZOQMCNPNF-UHFFFAOYSA-N 2-[(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)-bis(1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-4-yl)methoxy]carbonylhexanoic acid Chemical compound C1C(C)(C)N(C)C(C)(C)CC1C(C=1C=C(C(O)=C(C=1)C(C)(C)C)C(C)(C)C)(OC(=O)C(C(O)=O)CCCC)C1CC(C)(C)N(C)C(C)(C)C1 PETHNZOQMCNPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSXVEPNJUHWQHW-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutan-2-ol Chemical compound CCC(C)(C)O MSXVEPNJUHWQHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKIRHOWVQWCYBT-UHFFFAOYSA-N 3-ethylpentan-3-ol Chemical compound CCC(O)(CC)CC XKIRHOWVQWCYBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004114 Ammonium polyphosphate Substances 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- JGXOJOFNPZKGMX-UHFFFAOYSA-N C1CC2(CC1C=C2)[SiH]3O[SiH2]O[SiH2]O3 Chemical compound C1CC2(CC1C=C2)[SiH]3O[SiH2]O[SiH2]O3 JGXOJOFNPZKGMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N N,N,N',N'-tetramethylethylenediamine Chemical compound CN(C)CCN(C)C KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJLARPLSJYOZTN-UHFFFAOYSA-N O1[SiH](C=2C=CC=CC=2)O[SiH](C=2C=CC=CC=2)O[SiH](C=2C=CC=CC=2)O[SiH]1C1=CC=CC=C1 Chemical compound O1[SiH](C=2C=CC=CC=2)O[SiH](C=2C=CC=CC=2)O[SiH](C=2C=CC=CC=2)O[SiH]1C1=CC=CC=C1 HJLARPLSJYOZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- NSWGBUVHSQEDRN-UHFFFAOYSA-L acetonitrile;platinum(2+);dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Pt+2].CC#N.CC#N NSWGBUVHSQEDRN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 235000019826 ammonium polyphosphate Nutrition 0.000 description 1
- 229920001276 ammonium polyphosphate Polymers 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- WAJRCRIROYMRKA-UHFFFAOYSA-L benzonitrile;platinum(2+);dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Pt+2].N#CC1=CC=CC=C1.N#CC1=CC=CC=C1 WAJRCRIROYMRKA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- QXJJQWWVWRCVQT-UHFFFAOYSA-K calcium;sodium;phosphate Chemical compound [Na+].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O QXJJQWWVWRCVQT-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 125000002837 carbocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 229920006037 cross link polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000001047 cyclobutenyl group Chemical group C1(=CCC1)* 0.000 description 1
- YAJIVAPCZRKADM-UHFFFAOYSA-L cycloocta-1,3-diene;platinum(2+);dichloride Chemical compound Cl[Pt]Cl.C1CCC=CC=CC1 YAJIVAPCZRKADM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- DDJSWKLBKSLAAZ-UHFFFAOYSA-N cyclotetrasiloxane Chemical compound O1[SiH2]O[SiH2]O[SiH2]O[SiH2]1 DDJSWKLBKSLAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- UWGIJJRGSGDBFJ-UHFFFAOYSA-N dichloromethylsilane Chemical compound [SiH3]C(Cl)Cl UWGIJJRGSGDBFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005690 diesters Chemical class 0.000 description 1
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical class C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
- 239000008393 encapsulating agent Substances 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 239000005337 ground glass Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- VUNCWTMEJYMOOR-UHFFFAOYSA-N hexachlorocyclopentadiene Chemical class ClC1=C(Cl)C(Cl)(Cl)C(Cl)=C1Cl VUNCWTMEJYMOOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTDJPCNNEPUOOQ-UHFFFAOYSA-N hexamethylcyclotrisiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 HTDJPCNNEPUOOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- GKTNLYAAZKKMTQ-UHFFFAOYSA-N n-[bis(dimethylamino)phosphinimyl]-n-methylmethanamine Chemical compound CN(C)P(=N)(N(C)C)N(C)C GKTNLYAAZKKMTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 150000002848 norbornenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- JQMVGTOAKFLMOU-UHFFFAOYSA-N pentaoxane Chemical compound C1OOOOO1 JQMVGTOAKFLMOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- DFOXKPDFWGNLJU-UHFFFAOYSA-N pinacolyl alcohol Chemical compound CC(O)C(C)(C)C DFOXKPDFWGNLJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004382 potting Methods 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000003303 reheating Methods 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 229940116351 sebacate Drugs 0.000 description 1
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-L sebacate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCCCCCCCC([O-])=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 1
- 239000010455 vermiculite Substances 0.000 description 1
- 229910052902 vermiculite Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019354 vermiculite Nutrition 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 239000010456 wollastonite Substances 0.000 description 1
- 229910052882 wollastonite Inorganic materials 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/20—Purification, separation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/48—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which at least two but not all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
- C08G77/50—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which at least two but not all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms by carbon linkages
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
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- H05K3/285—Permanent coating compositions
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Description
【産業上の利用分野】
本発明は環式ポリシロキサンからの有機ケイ素ポリマー及びプレポリマーの製造に関する。本発明はさらに環式ポリシロキサンの製造に関する。
【0002】
レイブフリード(Leibfried) が米国特許第4,900,779号、4,902,731号及び5,013,809号において、並びにバード(Bard)及びバーニアー(Burnier) が米国特許第5,008,360号及び5,068,303号において、炭素−対−ケイ素結合を通じて連結され、交互に結合している多環式炭化水素残基及び環式ポリシロキサンまたはシロキシシラン残基を含んでなる架橋された有機ケイ素ポリマー及び架橋可能な有機ケイ素ポリマーを記述している。
【0003】
環式トリシロキサンは米国特許第5,013,809号(レイブフリード)及びリサーチディスクロージャー(Research Disclosure)326103(1991年6月)において有機ケイ素ポリマー及びプレポリマーの製造における使用のために開示されてるが、これらの環式トリシロキサンはケイ素に結合した2以上の水素原子を持つことが要求される。シクロトリシロキサンは容易に入手できずそして不安定であるので、4以上のケイ素原子を含む環式シロキサンのみがこれらのポリマー及びプレポリマーの製造において使用される。また、全てのケイ素原子に結合した水素原子及びメチル基を持った環式トリシロキサンは貯蔵−安定性ではない。
【0004】
本発明の有機ケイ素架橋ポリマーまたは架橋可能なプレポリマーはハイドロシレーション(Hydrosilation)反応によって製造され、そしてそれらが次の反応生成物であることを特徴とする:
(a)式:
【化5】
(式中、Rは飽和の、置換された若しくは非置換のアルキル若しくはアルコキシ基または置換された若しくは非置換のアリール若しくはアリールオキシ基であり、R'はハイドロシレーションに反応性の少なくとも1つの非芳香性炭素−炭素二重結合を有する置換されたまたは非置換の炭化水素基であり、そしてnは3、または「3及び4」、並びに
(b)(1)環式ポリシロキサン及び(2)テトラヘドラルシロキシシランより成る群から選択される少なくとも2つの≡SiH基を有する少なくとも1つの有機ケイ素化合物。
【0005】
反応混合物は所望により第3成分として(c)ハイドロシレーションに反応性の少なくとも2つの非芳香性炭素−炭素二重結合を有する少なくとも1つの炭化水素ポリエンを含むことができる。
【0006】
また、本発明にしたがい、全て置換された環式ポリシロキサンを製造するための方法が開示され、そして全て置換された環式ポリシロキサン、他の有機ケイ素化合物、及び、所望により多環式ポリエンからプレポリマー及びポリマーを製造する方法が開示される。
【0007】
本発明の有機ケイ素ポリマーは、全て置換された環式ポリシロキサン無しでつくられたポリマーと比較して剪断弾性率及び熱膨張係数が改善される。本発明はまた貯蔵−安定性の環式ポリシロキサンの簡単な製造方法を提供する。
【0008】
本発明の有機ケイ素ポリマー及びプレポリマーの製造において成分(a)として使用される全て置換された環式ポリシロキサンは次の一般式:
【化6】
(式中、R及びR'は以下に定義され、n=3、または「3及び4」である。)を有する。表記「3及び4」は環式トリシロキサン(n=3)及び環式テトラシロキサン(n=4)の混合物が使用されることを意味する。
【0009】
全て置換された環式ポリシロキサンは最初に式:
Cl2HSiR
(式中、Rは飽和の、置換された若しくは非置換のアルキル若しくはアルコキシ基または置換された若しくは非置換のアリール若しくはアリールオキシ基である。)を有するジクロロシランを、ハイドロシレーションに反応性である少なくとも2つの非芳香性炭素−炭素二重結合を有する置換されたまたは非置換の炭化水素ポリエンと反応することによって製造される。アルキル基は好ましくは1〜10個の炭素のアルキル基であり、アリール基は好ましくは6〜10個の炭素のアリール基である。ジクロロシランのアルキル若しくはアリール基、または炭化水素ポリエンは続くハイドロシレーション反応を妨害しないいずれの置換基で置換されていてもよい。適切な炭化水素ポリエンの例はシクロペンタジエンオリゴマー(例えばジシクロペンタジエン、トリシクロペンタジエン及びテトラシクロペンタジエン)、ビシクロヘプタジエン(ノルボルナジエンとしても知られている)及びシクロペンタジエンとのそのディールスアルダーオリゴマー(例えば、ジメタノヘキサヒドロナフタレン)、ノルボルネンダイマー、ヘキサヒドロナフタレン、並びにこれらのいずれかの置換誘導体(例えば、メチルジシクロペンタジエン)のような多環式ポリエンを含む。例えばジビニルベンゼン及びジビニルシクロヘキサンのような単一の炭素環式環、またはイソプレンのような非環式ポリエンを含むもののような他の炭化水素ポリエンも使用できる。好ましい炭化水素ポリエンはジシクロペンタジエン(DCPD)及びノルボルナジエンである。
【0010】
ジクロロシランと炭化水素ポリエンとの反応はハイドロシレーション触媒の存在下に行われる。ハイドロシレーション触媒は、有機ケイ素ポリマー及びプレポリマーの製造に関係して以下に議論する化合物を含む。この反応において、炭化水素ポリエンの炭素−炭素二重結合の1つはジクロロシランの≡SiH基と反応し、残った二重結合は反応しない。
【0011】
このハイドロシレーション反応の生成物は炭化水素ポリエンから誘導されるRCl2SiR'であり、式中R'はハイドロシレーションにおいて反応性である少なくとも1つの非芳香性炭素−炭素二重結合を有する置換されたまたは非置換の炭化水素基である。RCl2SiR'は次に本発明の環式ポリシロキサンを製造するための3つの方法の1つによって環化される:(1)例えばエーテルまたはメチルエチルケトン中での直接加水分解、(2)第2または第3アルコールとの反応及び(3)金属酸化物による酸化。
【0012】
R'がジシクロペンタジエンから誘導されているRCl2SiR'化合物を環化するためには方法(1)が好ましい。
【0013】
方法(2)での使用のために適切な第3アルコールは、例えば2−メチルブタン−2−オール、3−メチルペンタン−3−オール、3−エチルペンタン−3−オール及びt−ブチルアルコールを含む。適切な第2アルコールは、例えば2−プロパノール、2−ブタノール、2−ペンタノール、3−ペンタノール及び3,3−ジメチルブタン−2−オールを含む。第3アルコールが好ましい。t−ブチルアルコールが最も好ましい。
【0014】
方法(3)における使用のために好ましい金属酸化物は例えばZnO、MgO及びCuOを含む。酸化亜鉛が最も好ましい。R'がノルボルナジエンから誘導されるRCl2SiR'化合物及びRがアルコキシまたはアリールオキシ基である化合物のためにZnOとの反応が好ましい。
【0015】
全て置換されている環式ポリシロキサンの製造は、純粋な環式トリシロキサンを例として使用して次のように要約できる。
【0016】
RSiHCl2 + 炭化水素ポリエン = RCl2SiR'→
【化7】
(式中、Rは飽和の、置換された若しくは非置換のアルキル若しくはアルコキシ基または置換された若しくは非置換のアリール若しくはアリールオキシ基であり、R'はハイドロシレーションに反応性の少なくとも1つの非芳香性の炭素−炭素二重結合を有する置換されたまたは非置換の炭化水素基である。)。
【0017】
純粋な環式トリシロキサンは標準の加工技術によって得ることができる。しかし、式:
【化8】
(式中、R及びR'は上記と同じである。)を有する環式テトラシロキサン10%〜40%も典型的に環式ポリシロキサン反応生成物中に存在する。存在する環式テトラシロキサンの量は使用される合成方法、反応条件及び溶媒に依存し並びに分子内のR及びR'基の大きさに依存する。例えば、R'がジシクロペンタジエンから誘導されるときは、RCl2SiR'がメチルエチルケトン中で加水分解されるときよりもRCl2SiR'がt−ブチルアルコールと反応するときに、より小さい百分率の環式テトラシロキサンが存在する。RCl2 SiR'がZnOと反応するときは、R'がノルボルナジエンから誘導されるときよりもR'がジシクロペンタジエンから誘導されるときにより小さい百分率の環式テトラシロキサンが得られる。環式トリシロキサンと環式テトラシロキサンとの混合物も本発明のポリマー及びプレポリマーの製造において使用できる。
【0018】
ケイ素に結合した2以上の水素原子を持ついずれの環式ポリシロキサンまたはテトラヘドラルシロキシシランも本発明の有機ポリマーまたはプレポリマーの製造において成分(b)として使用できる。環式ポリシロキサンは次の一般式を有する:
【化9】
(式中、R2は水素、飽和の、置換された若しくは非置換のアルキル若しくはアルコキシ基、置換された若しくは非置換のアリール若しくはアリールオキシ基であり、nは2〜20の整数であり、そして分子中のケイ素原子の少なくとも2つについてR2は水素である。)。
【0019】
適切な環式ポリシロキサン化合物は米国特許第4,900,779号、4,902,731号、5,013,809号、5,077,134号、5,008,360号、5,068,303号、及び5,025,048号において記述されるものを含む。式(I)の反応体の例は、例えば、トリメチルシクロトリシロキサン、テトラオクチルシクロ−テトラシロキサン、及びヘキサメチルシクロテトラシロキサン;テトラ−及びペンタメチルシクロテトラシロキサン;テトラ−、ペンタ−、ヘキサ−、及びヘプタメチルシクロペンタシロキサン;テトラ−、ペンタ−、及びヘキサ−メチルシクロヘキサシロキサン、テトラエチルシクロテトラシロキサン並びにテトラフェニルシクロテトラシロキサンを含む。
【0020】
好ましい環式ポリシロキサンはメチルヒドロシクロシロキサン、例えば、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン;1,3,5,7,9−ペンタメチルシクロペンタシロキサン及び1,3,5,6,9,11−ヘキサメチルシクロヘキサシロキサン、又はこれらの混合物である。ほとんどの場合には、いくつかのこれらの種の混合物が使用され、nは広く変化できる。「メチルヒドロシクロシロキサン」の言及はそのような混合物に関する意図である。
【0021】
テトラヘドラルシロキシシランは構造式:
【化10】
(式中、R2は上に定義した通りであり、分子中で少なくとも2つのケイ素原子上で水素である。)によって示される。
【0022】
式(II)の反応体の例は、例えばテトラキスジメチルシロキシシラン、テトラキスジフェニルシロキシシラン、及びテトラキスジエチルシロキシシランを含む。テトラキスジメチルシロキシシランが最も良く知られており、そしてこの群の中で好ましい種である。
【0023】
本発明のポリマーおよびプレポリマーの製造において所望の成分(c)として使用されることができる炭化水素ポリエンは、ハイドロシレーションに反応性である少なくとも2つの非芳香性炭素−炭素二重結合を有する炭化水素ポリエンである。好ましくはポリエンは二重結合が化合物の環内にある多環式ポリエンである。適切な化合物は例えば、シクロペンタジエンオリゴマー(例えば、ジシクロペンタジエン、トリシクロペンタジエン及びテトラシクロペンタジエン)、ノルボルナジエンダイマー、ビシクロヘプタジエン(すなわち、ノルボルナジエン)及びシクロペンタジエンとのそのディールス−アルダーオリゴマー(例えば、ジメタノヘキサヒドロナフタレン)、並びにこれらのいずれかの置換誘導体、例えばメチルジシクロペンタジエンである。好ましいのはジシクロペンタジエン及びトリシクロペンタジエンのようなシクロペンタジエンオリゴマーであり、ジシクロペンタジエンが最も好ましい。2以上の炭化水素ポリエンが組み合わせて使用できる。
【0024】
他の炭化水素化合物も使用できる。例えば、米国特許第5,008,360号に記述されている1つの態様によれば、炭化水素成分は、ハイドロシレーションにおいて高度に反応性である少なくとも2つの非芳香性炭素−炭素二重結合を有する少なくとも1つの低分子量(典型的には1,000未満の分子量、好ましくは50以下の分子量を有する)のポリエンを含んでなる。ポリエンは他の反応性により乏しい(非反応性を含む)二重結合を含むことができるが、それらの二重結合が高度に反応性の二重結合の反応性を妨害しないことを条件とする。ただ2つの高度に反応性の二重結合を有する化合物が好ましい。炭素−炭素二重結合は、張力多環式脂肪環構造、またはシクロブテン環内の2つの橋頭部の隣の線状炭素部分上のアルファ、ベータまたはガンマ位内のいずれにあってもよい。5−ビニル−2−ノルボルネン、o−,m−またはp−ジイソプロペニルベンゼン、o−,m−またはp−ジビニルベンゼン、ジアリルエーテル、ジアリルベンゼン、ジメタノヘキサヒドロナフタレン及びトリシクロペンタジエンの対称(symmetrical)異性体が例として含まれる。
【0025】
本発明の有機ケイ素ポリマー及びプレポリマーを形成するための反応は、米国特許第4,900,779号、4,902,731号、5,013,809号、5,077,134号、5,008,360号、5,068,303号、5,025,048号、及び4,877,820号に記述されている。
【0026】
成分(a)及び(b)、または(a)、(b)及び(c)がポリマーまたはプレポリマーを製造するために使用されるときは、全ての成分を触媒の存在下に反応させることができる。替わりに、成分(b)の少なくとも2つの≡SiH基を有するケイ素化合物、及び(c)の炭化水素ポリエンが触媒の存在下に反応して中間生成物を形成し、そして中間生成物が次に(a)の全て置換された環式ポリシロキサンと追加の触媒の存在下に反応する。替わりに(a)の全て置換された環式ポリシロキサン及び(b)の少なくとも2つの≡SiH基を有するケイ素化合物が触媒の存在下に反応して中間生成物を形成し、そして中間生成物が次に(c)の炭化水素ポリエンと追加の触媒の存在下に反応する。本発明のポリマー及びプレポリマーを形成するための反応は熱的に、またはハイドロシレーション触媒若しくは過酸化物またはアゾ化合物のような遊離ラジカル発生剤の添加によって促進されることができる。ハイドロシレーション触媒はVIII族元素の金属塩及び錯体を含む。好ましいハイドロシレーション触媒は、例えばビス(アセトニトリル)二塩化白金、ビス(ベンゾニトリル)二塩化白金、炭素上の白金、二塩化白金、白金−ジビニル錯体、シクロオクタジエン二塩化白金、ジシクロペンタジエン二塩化白金、塩化白金酸のような白金を含む。白金触媒はモノマーの重量基準で0. 0005%〜0.05%、好ましくは0. 002%〜0. 05%、最も好ましくは0. 005%〜0. 01%の量で存在する。
【0027】
ポリマーを製造するための反応体、反応体濃度及び反応条件の選択によって、広い範囲の特性及び物理的形態を示すポリマーを製造することが可能である。したがって、粘着性の固体、エラストマー材料、及び強靭なガラス状ポリマーを製造することが可能であることが分かった。
【0028】
一般に、全て置換された環式ポリシロキサンまたはそれらと炭化水素ポリエンとの混合物中の炭素−炭素二重結合の有機ケイ素化合物中の≡SiH基に対する比は0. 5:1〜1. 3:1、好ましくは0. 7:1〜1. 1:1、最も好ましくは0. 95:1〜1.05:1の範囲にある。
【0029】
プレポリマーは様々な期間において室温で安定であり、例えば100°〜250℃のような適切な温度に再加熱すると硬化する。さらに反応を促進するために頻繁に追加の触媒がプレポリマーに硬化に先立って加えられる。
【0030】
本発明のポリマー及びプレポリマーを製造するとき、反応速度及びそれに随伴する粘度増加は、N, N, N',N' −テトラメチルエチレンジアミン、ジエチレントリアミンまたはリサーチディスクロージャー326103(1991年6月)「ケイ素炭素樹脂系のためのリンを基本とした触媒遅延剤」に記述されているもののようなリン化合物のような少量の硬化速度遅延剤[錯化剤(complexing agent)の使用によって制御されることができる。欧州特許出願479,310[バブコック(Babcock )ら]に記述されているように、硬化速度遅延剤も貯蔵安定性を維持するため及びプレポリマーの粘度分布(profile )を制御するために有用である。
【0031】
安定剤(抗酸化剤)も貯蔵安定剤及び熱酸化安定性を維持するために有用である。適切な安定剤は、例えばビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニル)−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ブチル−プロパンジオエート[米国、ニューヨーク州、ホーソン(Hawthorne )のチバ−ガイギー社(Ciba-Geigy Corp.)からTINUVIN(商標)として入手できる]、または米国コネチカット州ミドルベリー(Middlebury)のユニロイヤル化学社(Uniroyal Chemical Co. )からNAUGARD(商標)として入手できるオクタデシル3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナメート[オクタデシル3−(3',5'−ジ−tert−ブチル−4'−ヒドロキシフェニル)プロピオネートとしても知られている)及びチバ−ガイギー社からTINUVIN(商標)765として入手できるビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニルセバケート)の組合せを含む。安定剤及びそれらの使用は米国特許番号第5,025,048号及び第5,118,735号に記述されている。
【0032】
本発明の有機ケイ素ポリマーを含む組成物の靭性を改善するためにエラストマーを加えることができる。いかなるエラストマーも靭性を付与するために加えることができるが、炭化水素エラストマーが本発明における使用に好ましい。好ましいものは分子量5500〜7000を有するエチレン−プロピレン−エチリデンノルボルネンポリマーである。エラストマーは一般に全組成物の0.5〜20重量%、好ましくは3〜12重量%の量で使用される。エラストマーはモノマーまたはプレポリマーに加えることができる。エラストマーの使用は米国特許第5,147,958号及び欧州特許出願482,404号[バーナム(Barnum)及びブラディ(Brady )]、並びにリサーチディスクロージャー33082(1991年10月)の「炭化水素エラストマーを含有する有機ケイ素組成物」に記述されている。
【0033】
1以上の難燃剤も本発明の組成物に加えることができる。難燃剤は好ましくはリン含有化合物及びハロゲン含有化合物より成る群から選択される少なくとも1員を含んで成る。模範的なものはポリリン酸アンモニウム、ホスファゼン(phosphazene)、ホスフィンオキサイド、リン酸エステル、元素赤リン、ブロム化アルキル、ブロム化ジフェニルオキサイド、ブロム化ポリスチレン、ブロム化ビスフェノールA類及びヘキサクロロシクロペンタジエン誘導体である。難燃剤の使用は公開された欧州特許出願第556,844号[バブコック(Babcock)ら]に記述されている。
【0034】
充填剤も本発明の組成物に加えることができる。典型的な充填剤は、例えばカーボンブラック、ひる石、雲母、ウォラストナイト、炭酸カルシウム、砂、ガラス球、ガラスビーズ、粉砕ガラス、廃ガラス、溶融シリカ、ヒュームドシリカ、合成シリカ、ガラス繊維及びガラスフレークを含む。他の有用な充填剤は米国特許第4,900,779号、4,902,731号、5,008,360号及び5,068,303号に記述されている繊維強化材を含む。
【0035】
本発明のポリマー及びプレポリマーは優秀な電気絶縁特性及び湿気に対する耐性を有する。従って、それらは複合材料、接着剤、封入剤、注封材料、及び塗料のような電子用途に良く適している。それらは高い剪断弾性率、低い熱膨張係数及び中程度のガラス転移温度を必要とする用途、例えば印刷回路板及び高性能複合材料の製造に特に有用である。
【0036】
本明細書中の全ての部及び百分率は他に注記しない限り重量による。
【0037】
【実施例1】
本実施例は、メチルエチルケトン中においてR'−置換ジクロロシランの加水分解後に環化が起こる、全て置換されたシクロトリシロキサンの製造を記述する。
【0038】
ジシクロペンタジエン(DCPD)(200g、1.52モル)及び白金−ジビニル錯体[ハルスアメリカン(Huls American)により供給されるビニル末端ポリジメチルシロキサン/トルエン溶液]2.332μL(2.06μL=10ppm/g樹脂、30ppm)を、冷却器及び滴下ロートを備えた3つ首500mL丸底フラスコに加えた。ジクロロメチルシラン(177.4g、1.54モル)を電磁撹拌機で撹拌しながら室温において滴下ロートを通して滴下して加えた。発熱反応(2℃上昇)が観察された。添加後、温度は45〜50℃に上昇し、この温度を3時間維持した。この反応混合物を室温に冷却した。混合物の真空蒸留をクゲルロー(Kugelrohr)装置を使用して実行した。生成物のメチル(2,3−ジヒドロ−2−ジシクロペンタジエニル)−ジクロロシラン(312.3g、82.8%)を80℃〜100℃、1mmHgの真空において集めた。
【0039】
メチルエチルケトン(MEK)の水溶液(MEK150mL中、水7g)を冷却器及び滴下ロートを備えた三つ首フラスコ内に仕込んだ。メチル(2,3−ジヒドロ−2−ジシクロペンタジエニル)−ジクロロシラン(40g、0.16モル)を滴下ロートを通して加えた。添加後、溶液を2時間還流した。残渣をエーテルに溶解し、そして飽和炭酸水素ナトリウム溶液(100mL)及び蒸留水(150mL×4)で洗浄した。溶液を無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。溶媒を次に真空中で、最初ロトバップ(Rotovap)次にクゲルロー蒸留装置により80℃において1mmHgの真空下に蒸発させた。全て置換された環式トリシロキサン(1,3,5−トリス(2,3−ジヒドロ−2−ジシクロペンタジエニル)−1,3,5−トリメチルシクロトリ−シロキサン)及び相当する全て置換された環式テトラシロキサンの混合物を96%(30.0g)の収率で得た。生成物は無色の粘稠な油で、静置(on standing)すると白色の固体に変わった。環式トリシロキサンの環式テトラシロキサンに対する比率は54/46モル%であった。
【0040】
【実施例2】
本実施例は、水性エーテル中においてR'−置換ジクロロシランの加水分解後に環化が起こる、全て置換されたシクロトリシロキサンの製造を記述する。
【0041】
実施例1に記述したように製造したメチル(2,3−ジヒドロ−2−ジシクロペンタジエニル)−ジクロロシラン(38.0g、0.15モル)を滴下ロートを通してエーテルの水溶液(エーテル150mL中、水8mL)に加えた。添加後、溶液を4時間還流した。溶液を室温に冷却し、そして蒸留水(100mL)、飽和炭酸水素ナトリウム溶液(100mL)及び蒸留水(100mL×4)で順次洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。溶媒を真空中で蒸発させた。生成物は無色の粘稠な油で、静置すると白色の固体に変わった。全て置換された環式トリシロキサン(1,3,5−トリメチルシクロトリシロキサン)及び相当する全て置換された環式テトラシロキサンの混合物を95%(28.0g)の収率で得た。環式トリシロキサンの環式テトラシロキサンに対する比率は90/10モル%であった。
【0042】
【実施例3】
本実施例は、R'−置換ジクロロシランとt−ブチルアルコールとの反応後に環化が起こる、全て置換されたシクロトリシロキサンの製造を記述する。
【0043】
ヘキサン中120mL中のt−ブチルアルコール32.0g(0.44モル)の溶液を冷却器及び滴下ロートを備えた3つ首フラスコに加えた。実施例1に記述したように製造したメチル(2,3−ジヒドロ−2−ジシクロペンタジエニル)−ジクロロシラン(50g、0.20モル)を滴下ロートを通して加えた。外部氷浴により及び添加速度によって反応温度を15℃より低く制御した。溶液を飽和炭酸水素ナトリウム溶液(100mL)及び蒸留水(100mL×5)で洗浄し、そして無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。溶媒を真空中で、ロト(roto)エバポレーター及びクゲルロー蒸留装置を順次使用して真空下に蒸発させた。全て置換された環式トリシロキサン(1,3,5−トリス(2,3−ジヒドロ−2−ジシクロペンタジエニル)−1,3,5−トリメチルシクロトリ−シロキサン)及び相当する全て置換されたシクロテトラシロキサンの混合物を75%(28.8g)の収率で得た。生成物は白色の固体であった。環式トリシロキサンの環式テトラシロキサンに対する比率は65/35モル%であった。
【0044】
【実施例4】
本実施例は、酢酸エチル中においてR'−置換ジクロロシランとZnOとの反応後に環化が起こる、全て置換されたシクロトリシロキサンの製造を記述する。
【0045】
ジシクロペンタジエンの替わりにノルボルナジエンを使用して、実施例1に記述した方法によりビシクロ〔2.2.1〕ヘプテニルメチルジクロロシランを製造した。ビシクロ〔2.2.1〕ヘプテニルメチルジクロロシラン(30.0g、0.12モル)を室温において窒素雰囲気下に酸化亜鉛11.9g(0.145モル)と酢酸エチル100mLとの混合物へ撹拌しながら滴下して加えた。この混合物を加熱して4時間還流した。この混合物を室温に冷却し、マンビレ社(Manville Corp.)により供給されているCELITE(商標)フィルターを通して白色固体をろ別した。有機溶液をブライン(1×100mL)、飽和炭酸水素ナトリウム溶液(1×100mL)及びブライン(3×100mL)それぞれで洗浄した。溶液を次に無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、真空下に溶媒を蒸発させた。全て置換された環式トリシロキサン(1,3,5−トリメチル−1,3,5−トリキス〔5−ビシクロ(2.2.1)ヘプテニル〕シクロトリシロキサン)及び相当する全て置換された環式テトラシロキサンの混合物を81%(18.5g)の収率で得た。生成物は粘稠な液体で、静置すると白色の固体に変わった。環式トリシロキサンの環式テトラシロキサンに対する比率は60/40モル%であった。
【0046】
【比較実施例1】
本実施例は、全て置換された環式ポリシロキサンを使用しない、多環式ポリエン及びメチルヒドロシクロシロキサンからプレポリマー及び硬化されたポリマーの製造を記述する。
【0047】
ジシクロペンタジエン(11.0g)、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン(ハルスアメリカン)10.4g、及び白金−ジビニル錯体〔ハルスアメリカンPC072、白金0.56%(35ppm)を含むキシレン溶液〕0.15mLを丸底1首フラスコに加えた。混合物の70℃への加熱は発熱反応及び有機ケイ素プレポリマーの形成を生じた。このプレポリマーにPC072(75ppm)を分割して加え、続いてジエチレントリアミン硬化速度遅延剤(DETA)(トルエン中5%、20ppm)を加えた。溶媒を真空下に蒸発させた。触媒されたプレポリマーを次に型に注入した。試料を170℃で1時間硬化し、240℃で4時間、後硬化した。硬化した試料は無色でヘイジー(hazy)な固体であった。ポリマーの剪断弾性率G'は8.80×109ダイン/cm2であり、レオメトリックスメカニカル分光光度計モデルRMS−605を使用して動的機械的分析によって決定した。ポリマーの熱膨張係数(CTE)は60℃〜100℃の間で95.8ppm/℃であり、デュポンTMAアナライザーモデル220(表1参照)を使用した熱的機械的分析(TMA)によって決定した。
【0048】
【実施例5】
本実施例はプレポリマーの製造について記述し、多環式ポリエンが最初に触媒の存在下にメチルヒドロシクロシロキサンと反応し、反応生成物が次に全て置換されている環式ポリシロキサンと追加の触媒の存在下に反応する。
【0049】
ジシクロペンタジエン(6.1g)、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン10.95g、及び白金−ジビニル錯体〔ハルスアメリカンPC075、白金0.56%(35ppm)を含むビニル末端ポリジメチルシロキサン/トルエン溶液〕0.12mLを丸底1首フラスコに加えた。混合物の70℃への加熱は発熱反応及び有機ケイ素プレポリマーの形成を生じた。このプレポリマーにトルエン20mL中の1,3,5−トリス(2,3−ジヒドロ−2−ジシクロペンタジエニル)−1,3,5−トリメチルシクロトリシロキサン(17.4g)を、続いて白金触媒0.65mL(計110ppm)を加えた。溶液を真空下に蒸発させ、触媒されたプレポリマーを型に注入した。試料を170℃で1時間硬化し、240℃で4時間、後硬化した。硬化した試料は無色でヘイジーな固体であった。ポリマーの剪断弾性率G'は動的機械的分析により1.10×1010ダイン/cm2であった。ポリマーのCTEは60℃〜100℃の間で91.6ppm/℃であった(TMA)(表1参照)。
【0050】
【比較実施例2】
本実施例は、全て置換された環式ポリシロキサンを使用しない、ジシクロペンタジエン及びメチルヒドロシクロシロキサンからのプレポリマー及び硬化されたポリマーの製造を記述する。
【0051】
ジシクロペンタジエン(11.0g)、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン(ハルスアメリカン)10.0g、及び白金−ジビニル錯体〔ハルスアメリカンPC072、白金0.56%(35ppm)を含むキシレン溶液〕0.13mLを丸底1首フラスコに加えた。混合物の70℃への加熱は発熱反応及び有機ケイ素プレポリマーの形成を生じた。このプレポリマーにPC072(70ppm)を分割して加え、続いてジエチレントリアミン硬化速度遅延剤(DETA)(トルエン中5%、20ppm)を加えた。溶媒を真空下に蒸発させ、触媒されたプレポリマーを次に型に注入した。試料を170℃で1時間硬化し、240℃で4時間、後硬化した。硬化した試料は無色でヘイジーな固体であった。ポリマーの剪断弾性率G'は動的機械的分析により8.20×109ダイン/cm2であった。ポリマーの熱膨張係数(CTE)は60℃〜100℃の間で102ppm/℃であった(TMA)(表1参照)。
【0052】
【実施例6】
本実施例は成分全てが同時に加えられる、プレポリマー及び硬化されたポリマーの製造を記述する。
【0053】
ジシクロペンタジエン(40g)、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン7.5g、1,3,5−トリス(2,3−ジヒドロ−2−ジシクロペンタジエニル)−1,3,5−トリメチルシクロトリシロキサン11.6g、及び白金−ジビニル錯体〔ハルスアメリカンPC075、白金0.56%(35ppm)を含むビニル末端ポリジメチルシロキサン/トルエン溶液〕0.14mLを丸底1首フラスコに加えた。混合物の70℃への加熱は発熱反応及び有機ケイ素プレポリマーの形成を生じた。同じ白金触媒(0.33mL、100ppm)をプレポリマーに加えた。溶媒を真空下に蒸発させ、触媒されたプレポリマーを型に注入した。試料を170℃で1時間硬化し、240℃で4時間、後硬化した。硬化した試料は無色でヘイジーな固体であった。ポリマーの剪断弾性率G'は動的機械的分析により1.11×1010ダイン/cm2であった。ポリマーのCTEは60℃〜100℃の間で97.9ppm/℃であった(TMA)(表1参照)。
【0054】
比較実施例1及び2及び実施例5及び6からのデータを次の表に要約する。データは、全て置換された環式ポリシロキサンからつくった硬化されたポリマーについてそれら無しでつくったポリマーと比較して剪断弾性率G'が増加し、そして熱膨張係数(CTE)が減少していることを示している。
【0055】
【表1】
Claims (9)
- (1)ジクロロシランCl2HSiX 3 (式中、X 3 はアルキル若しくはアルコキシ基またはアリール若しくはアリールオキシ基である)と、シクロペンタジエンオリゴマー、ノルボルナジエンダイマー、ビシクロヘプタジエン及びシクロペンタジエンとのそのディールス−アルダーオリゴマー、メチルジシクロペンタジエン、5−ビニル−2−ノルボルネン、o−,m−またはp−ジイソプロペニルベンゼン、o−,m−またはp−ジビニルベンゼン、ジビニルシクロヘキサン、イソプレン、ジアリルエーテル、ジアリルベンゼン、ジメタノヘキサヒドロナフタレン、トリシクロペンタジエンの対称(symmetrical)異性体、ノルボルネンダイマー並びにヘキサヒドロナフタレンからなる群から選ばれる少なくとも1種の炭化水素ポリエンとをハイドロシレーション触媒の存在下に反応させてX 3 Cl2SiX 4 を生成すること(式中、X 4 は前記炭化水素ポリエンから誘導される炭化水素基である)、そして次に、
(2)X 3 Cl2SiX 4 を環化して式:
(式中、X 3 及びX 4 は前記のとおりであり、そしてnは3、または「3及び4」である。)を有する環式ポリシロキサンを生成させること
を特徴とする、環式ポリシロキサンの製造方法であって、
X 3 Cl2SiX 4 が第3または第2アルコールと反応することによって環化されることをさらに特徴とする、方法。 - アルコールがt−ブチルアルコールであることをさらに特徴とする、請求項3記載の方法。
- アルコールが第3アルコールであり、X 3 が1〜10個の炭素のアルキル基であり、X 4 がジヒドロジシクロペンタジエニル基であることをさらに特徴とする、請求項3記載の方法。
- アルコールが第3アルコールであり、X 3 が1〜10個の炭素のアルキル基であり、X 4 が5−ビシクロ〔2.2.1〕ヘプテニル基であることをさらに特徴とする、請求項3記載の方法。
- (1)ジクロロシランCl2HSiX 3 (式中、X 3 はアルキル若しくはアルコキシ基またはアリール若しくはアリールオキシ基である)と、シクロペンタジエンオリゴマー、ノルボルナジエンダイマー、ビシクロヘプタジエン及びシクロペンタジエンとのそのディールス−アルダーオリゴマー、メチルジシクロペンタジエン、5−ビニル−2−ノルボルネン、o−,m−またはp−ジイソプロペニルベンゼン、o−,m−またはp−ジビニルベンゼン、ジビニルシクロヘキサン、イソプレン、ジアリルエーテル、ジアリルベンゼン、ジメタノヘキサヒドロナフタレン、トリシクロペンタジエンの対称(symmetrical)異性体、ノルボルネンダイマー並びにヘキサヒドロナフタレンからなる群から選ばれる少なくとも1種の炭化水素ポリエンとをハイドロシレーション触媒の存在下に反応させてX 3 Cl2SiX 4 を生成すること(式中、X 4 は前記炭化水素ポリエンから誘導される炭化水素基である)、そして次に、
(2)X 3 Cl2SiX 4 を環化して式:
(式中、X 3 及びX 4 は前記のとおりであり、そしてnは3、または「3及び4」である。)を有する環式ポリシロキサンを生成させること
を特徴とする、環式ポリシロキサンの製造方法であって、
X 3 Cl2SiX 4 が金属酸化物と反応することによって環化されることをさらに特徴とする、方法。 - 金属酸化物が、酸化亜鉛、酸化マグネシウム及び酸化銅より成る群から選択されることをさらに特徴とする、請求項7記載の方法。
- (1)ジクロロシランCl2HSiX 5 (式中、X 5 は6〜10個の炭素のアリール基である)と、シクロペンタジエンオリゴマー、ノルボルナジエンダイマー、ビシクロヘプタジエン及びシクロペンタジエンとのそのディールス−アルダーオリゴマー、メチルジシクロペンタジエン、5−ビニル−2−ノルボルネン、o−,m−またはp−ジイソプロペニルベンゼン、o−,m−またはp−ジビニルベンゼン、ジビニルシクロヘキサン、イソプレン、ジアリルエーテル、ジアリルベンゼン、ジメタノヘキサヒドロナフタレン、トリシクロペンタジエンの対称(symmetrical)異性体、ノルボルネンダイマー並びにヘキサヒドロナフタレンからなる群から選ばれる少なくとも1種の炭化水素ポリエンとをハイドロシレーション触媒の存在下に反応させてX 5 Cl2SiX 4 を生成すること(式中、X 4 は前記炭化水素ポリエンから誘導される炭化水素基である)、そして次に、
(2)X 5 Cl2SiX 4 を環化して式:
(式中、X 5 及びX 4 は前記のとおりであり、そしてnは3、または「3及び4」である。)を有する環式ポリシロキサンを生成させること
を特徴とする、環式ポリシロキサンの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US049097 | 1993-04-19 | ||
| US08/049,097 US5334688A (en) | 1993-04-19 | 1993-04-19 | Fully substituted cyclopolysiloxanes and their use for making organosilicon polymers |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07149771A JPH07149771A (ja) | 1995-06-13 |
| JP3635103B2 true JP3635103B2 (ja) | 2005-04-06 |
Family
ID=21958029
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08059994A Expired - Fee Related JP3635103B2 (ja) | 1993-04-19 | 1994-04-19 | 全て置換されたシクロポリシロキサン及び有機ケイ素ポリマーを製造するためのそれらの使用 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (3) | US5334688A (ja) |
| EP (1) | EP0621281B1 (ja) |
| JP (1) | JP3635103B2 (ja) |
| KR (1) | KR100294767B1 (ja) |
| DE (1) | DE69428734T2 (ja) |
Families Citing this family (41)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07309950A (ja) * | 1994-05-17 | 1995-11-28 | Toray Dow Corning Silicone Co Ltd | 有機ケイ素重合体およびその製造方法 |
| JPH0848882A (ja) * | 1994-05-18 | 1996-02-20 | General Electric Co <Ge> | アルキルポリシロキサン |
| JPH07331177A (ja) * | 1994-05-31 | 1995-12-19 | Toray Dow Corning Silicone Co Ltd | 剥離性硬化皮膜形成性シリコーン組成物 |
| US5539137A (en) * | 1995-06-07 | 1996-07-23 | General Electic Company | Aryl substituted silicone fluids having high refractive indices and method for making |
| GB9703552D0 (en) * | 1997-02-20 | 1997-04-09 | Dow Corning | Polymerisation of cyclosiloxanes in the presence of fillers |
| JP4603635B2 (ja) * | 1998-05-12 | 2010-12-22 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | ジハロシランからオルガノシロキサンを製造する方法 |
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| US6572923B2 (en) | 2001-01-12 | 2003-06-03 | The Boc Group, Inc. | Asymmetric organocyclosiloxanes and their use for making organosilicon polymer low-k dielectric film |
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1993
- 1993-04-19 US US08/049,097 patent/US5334688A/en not_active Expired - Lifetime
-
1994
- 1994-04-14 DE DE69428734T patent/DE69428734T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1994-04-14 EP EP94105785A patent/EP0621281B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-04-18 US US08/228,639 patent/US5373077A/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-04-18 US US08/228,640 patent/US5412055A/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-04-18 KR KR1019940008051A patent/KR100294767B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1994-04-19 JP JP08059994A patent/JP3635103B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69428734T2 (de) | 2002-05-08 |
| US5334688A (en) | 1994-08-02 |
| EP0621281A3 (en) | 1995-09-13 |
| DE69428734D1 (de) | 2001-11-29 |
| US5373077A (en) | 1994-12-13 |
| EP0621281B1 (en) | 2001-10-24 |
| JPH07149771A (ja) | 1995-06-13 |
| US5412055A (en) | 1995-05-02 |
| KR100294767B1 (ko) | 2001-11-30 |
| EP0621281A2 (en) | 1994-10-26 |
| HK1012635A1 (en) | 1999-08-06 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040312 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040610 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040824 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20041122 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20041217 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20041228 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090107 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100107 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110107 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110107 Year of fee payment: 6 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110107 Year of fee payment: 6 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120107 Year of fee payment: 7 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |