Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP3639764B2 - 基板搬送装置 - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP3639764B2 - 基板搬送装置 - Google Patents

基板搬送装置 Download PDF

Info

Publication number
JP3639764B2
JP3639764B2 JP2000023618A JP2000023618A JP3639764B2 JP 3639764 B2 JP3639764 B2 JP 3639764B2 JP 2000023618 A JP2000023618 A JP 2000023618A JP 2000023618 A JP2000023618 A JP 2000023618A JP 3639764 B2 JP3639764 B2 JP 3639764B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
arm
length
end effector
tip
robot hand
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2000023618A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2001217296A (ja
Inventor
耕作 才野
雄洋 小曳
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tazmo Co Ltd
Original Assignee
Tazmo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tazmo Co Ltd filed Critical Tazmo Co Ltd
Priority to JP2000023618A priority Critical patent/JP3639764B2/ja
Priority to US09/689,422 priority patent/US6514032B1/en
Publication of JP2001217296A publication Critical patent/JP2001217296A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3639764B2 publication Critical patent/JP3639764B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B25HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
    • B25JMANIPULATORS; CHAMBERS PROVIDED WITH MANIPULATION DEVICES
    • B25J9/00Program-controlled manipulators
    • B25J9/02Program-controlled manipulators characterised by movement of the arms, e.g. cartesian coordinate type
    • B25J9/04Program-controlled manipulators characterised by movement of the arms, e.g. cartesian coordinate type by rotating at least one arm, excluding the head movement itself, e.g. cylindrical coordinate type or polar coordinate type
    • B25J9/041Cylindrical coordinate type
    • B25J9/042Cylindrical coordinate type comprising an articulated arm
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G49/00Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
    • B65G49/05Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
    • B65G49/06Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
    • B65G49/067Sheet handling, means, e.g. manipulators, devices for turning or tilting sheet glass
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P72/00Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
    • H10P72/30Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations
    • H10P72/38Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations with angular orientation of workpieces
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P72/00Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
    • H10P72/70Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping
    • H10P72/76Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping using mechanical means, e.g. clamps or pinches
    • H10P72/7602Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping using mechanical means, e.g. clamps or pinches the wafers being placed on a robot blade or gripped by a gripper for conveyance
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G2249/00Aspects relating to conveying systems for the manufacture of fragile sheets
    • B65G2249/02Controlled or contamination-free environments or clean space conditions
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T74/00Machine element or mechanism
    • Y10T74/20Control lever and linkage systems
    • Y10T74/20207Multiple controlling elements for single controlled element
    • Y10T74/20305Robotic arm

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Robotics (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Manipulator (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、シリコン(Si)ウェーハ、フォトマスク用ガラス角基板、液晶用ガラス角基板等のワークを搬送する基板搬送装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
この種のワークを搬送する従来のロボットハンドを用いた基板搬送装置を図6に示す。この基板搬送装置は、駆動源を内蔵するベース部1と、このベース部1上に設けられたロボットハンド2を備え、ロボットハンド2は、第1アーム3、第2アーム4、第3アーム5、及びワークWを載置するためのエンドエフェクタ(End-effector)6を含む3−リンクによって構成される。このような基板搬送装置は、米国特許 No.5064340号明細書に示されるように、各アームの長さ比が一意的に1:2:1とされている(a=c,b=2a)。
【0003】
そして、図7に示すように、ワークWを含むエンドエフェクタ部7が直線運動を呈する際、第2アームを長手方向に均等に2分割する中点14が、エンドエフェクタの回転軸15と第1アームの回転軸13とを結ぶ直線に常に一致するように動作する。また、ワークWを含むエンドエフェクタ部7が直線運動を呈するように、各アーム及びエンドエフェクタの回転速度比は、1:2:2:1になるように制御される。なお、回転軸13を中心とする旋回軌道及びアームの直線状態の二点鎖線で示している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
近年、生産性向上のため、基板搬送装置が搭載される基板処理装置は、設置面積の縮小化(省スペース化)が強く求められるようになってきた。このため、基板処理装置を構成する当該基板搬送装置も処理装置内に占める面積に制約を受ける。すなわち、基板搬送装置において、必要な機能を必要最小限の占有面積で達成することが一つの大きな課題となってきた。
【0005】
ところで、上記のようにロボットハンドが3−リンクによって構成される基板搬送装置の占有面積は、アーム旋回時に要する最小回転半径により決定される。従来の基板搬送装置は、図7に示すように、第1アーム3、第2アーム4、第3アーム5の長さ比が一意的に1:2:1とされているため、アーム旋回時に要する最小回転半径は、ロボットハンド伸縮時の第1アームの回転角θ(θは第1アームと基板搬送方向とのなす角度)に対して以下に示す計算式によって理論的に算定することができる。
【0006】
ここで、ワークを含むエンドエフェクタ部が直線運動を呈するように各アーム及びエンドエフェクタの回転速度比は、1:2:2:1に制御され、よって第1アーム3と第3アーム5は、第1アーム3の回転角θに依らず、互いに常に平行であることを前提とした。まず、旋回半径は、ロボットハンドが縮んだ時の第1アーム回転角θの範囲により、第1アームの回転軸を中心とした第2アーム先端部側面の旋回軌道円半径R1、同軸を中心とした第3アーム先端部側面の旋回軌道円半径R2、及び、同軸を中心としたワーク先端側面の旋回軌道円半径R3に領域区分される。各旋回軌道円半径(以下、旋回半径という)は、図7に基づき以下の計算式で表される。
【0007】
【数1】
Figure 0003639764
【0008】
ここに、第1アームの長さ:a
第2アームの長さ:b=2a
第3アームの長さ:c=a
エンドエフェクタの長さ:e(const.)
アームの幅:w(const.)
円形薄型ワークの直径:d(const.)
とした。
【0009】
なお、上記第1式は、図7の一部を詳細に示した図8において、斜線を付した三角形に注目して、その一辺OAの線分長をxとし、次のようにして求められる。
【0010】
【数2】
Figure 0003639764
【0011】
上式を使って算定される半径R1、R2、R3のうち、最も値の大きいものが、ロボットハンド縮み時の第1アーム回転角時の旋回半径Rとなり、次式によって示される。
R=MAX(R1(θ),R2(θ),R3(θ))
上式の最小値Rminが最終的に求むべき最小回転半径となる。
【0012】
例えば、図9(図7と同等、寸法を記入)に示した従来技術の一例では、各θにおける旋回半径Rは、図10(横軸:第1回転アームの回転角度、縦軸:旋回半径)に示すグラフのようになる。このとき、曲線Rの最小値Rmin=249.696mm(θ=72.946deg)が、図9に示す従来技術の一例における最小回転半径となる。
【0013】
上述のように第1アーム、第2アーム、第3アームの長さ比を1:2:1とした従来技術では、旋回半径が理論的に上記の最小値Rminよりさらに小さい値を得ることは不可能であった。
【0014】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたもので、各アームの長さ比の最適化を図ることにより、アームの旋回半径が従来よりもさらに小さい値となり、また、同等の設置面積であれば従来よりも長い搬送距離を実現し、もって基板処理装置の設置面積の縮小化に寄与することのできる基板搬送装置を提供することを目的とする。
【0015】
【課題を解決するための手段及び効果】
上記目的を達成するために請求項1の発明は、シリコンウェーハ、フォトマスク用ガラス角基板、液晶用ガラス角基板等の略平板状ワークをロボットハンドを用いて搬送する基板搬送装置であって、前記ロボットハンドが、ベースに回転自在に支持された第1アーム、この第1アームの先端部に回転自在に支持された第2アーム、この第2アームの先端部に回転自在に支持された第3アーム、及びこの第3アームの先端部に回転自在に支持され、前記略平板状ワークを載置するエンドエフェクタを含むリンクにより形成され、第1アームの回転速度と第2アームの回転速度と第3アームの回転速度とエンドエフェクタの回転速度の比がそれぞれ各軸回りに1:2:2:1で同期して回転制御されることにより、エンドエフェクタに載置した略平板状ワークが該ワークを面内に含む水平面と第1アーム回転軸との交点を含む水平面上の直線に沿って移動するように伸縮駆動され、
前記ロボットハンドが縮長位置で第1アームの回転軸を中心軸として旋回駆動する際に、略平板状ワークを面内に含む水平面上に投影されるロボットハンドの旋回軌跡円の直径が、ワークの平面形状が略円形の場合は、その半径とエンドエフェクタの長さと第3アームの1/2幅の各長さを和算した値に等しくなるように構成され、かつ、前記第1アームの先端縁、前記第2アーム先端縁、前記第3アーム先端縁、及び前記エンドエフェクタに載置されたワークの先端縁が、前記第1アームの回転軸を中心とする同一の円に内接するように配され、前記第1アームの長さと前記第3アームの長さの和が、前記第2アームの長さに等しく、前記第1アームの長さが前記第3アームの長さよりも大きくなるように各アームが形成されているものである。
【0016】
上記構成によれば、同一搬送距離の従来装置よりもさらに小さい最小回転半径が可能となり、また、同等の設置面積であれば従来よりも長い搬送距離を実現することが可能となり、もって基板処理装置の設置面積の縮小化に寄与することができる。
【0017】
請求項2の発明は、シリコンウェーハ、フォトマスク用ガラス角基板、液晶用ガラス角基板等の略平板状ワークをロボットハンドを用いて搬送する基板搬送装置であって、前記ロボットハンドが、ベースに回転自在に支持された第1アーム、この第1アームの先端部に回転自在に支持された第2アーム、この第2アームの先端部に回転自在に支持された第3アーム、及びこの第3アームの先端部に回転自在に支持され、前記略平板状ワークを載置するエンドエフェクタを含むリンクにより形成され、第1アームの回転速度と第2アームの回転速度と第3アームの回転速度とエンドエフェクタの回転速度の比がそれぞれ各軸回りに1:2:2:1で同期して回転制御されることにより、エンドエフェクタに載置した略平板状ワークが該ワークを面内に含む水平面と第1アーム回転軸との交点を含む水平面上の直線に沿って移動するように伸縮駆動され、前記ロボットハンドが縮長位置で第1アームの回転軸を中心軸として旋回駆動する際に、略平板状ワークを面内に含む水平面上に投影されるロボットハンドの旋回軌跡円の直径が、ワークの平面形状が略円形の場合は、その半径とエンドエフェクタの長さと第3アームの1/2幅の各長さを和算した値に等しくなるように構成され、かつ、前記第1アームの先端縁、前記第2アームの先端縁、第3アームの先端縁、及び前記エンドエフェクタに載置されたワークの先端縁が、前記第1アームの回転軸を中心とする同一の円に内接するように、各アームの長さ比が設定され、前記各アームの長さ比が、近似的に、1:(√5+1)/2:(√5−1)/2(≒1:1.618:0.618)を成しているものである。
【0018】
上記構成においては、最小回転半径の理論的最小値を提供することが可能となる。特に、第1アームの長さと第3アームの長さの和が第2アームの長さに等しく、第1アームの長さが第3アームの長さよりも大きくなるように各アームを形成されている基板搬送装置における最小回転半径の理論的最小値を提供することが可能となる。
【0019】
請求項3の発明は、シリコンウェーハ、フォトマスク用ガラス角基板、液晶用ガラス角基板等の略平板状ワークをロボットハンドを用いて搬送する基板搬送装置であって、前記ロボットハンドが、ベースに回転自在に支持された第1アーム、この第1アームの先端部に回転自在に支持された第2アーム、この第2アームの先端部に回転自在に支持された第3アーム、及びこの第3アームの先端部に回転自在に支持され、前記略平板状ワークを載置するエンドエフェクタを含むリンクにより形成され、第1アームの回転速度と第2アームの回転速度と第3アームの回転速度とエンドエフェクタの回転速度の比がそれぞれ各軸回りに1:2:2:1で同期して回転制御されることにより、エンドエフェクタに載置した略平板状ワークが該ワークを面内に含む水平面と第1アーム回転軸との交点を含む水平面上の直線に沿って移動するように伸縮駆動され、前記ロボットハンドが縮長位置で第1アームの回転軸を中心軸として旋回駆動する際に、略平板状ワークを面内に含む水平面上に投影されるロボットハンドの旋回軌跡円の直径が、ワークの平面形状が略円形の場合は、その半径とエンドエフェクタの長さと第3アームの1/2幅の各長さを和算した値に等しくなるように構成され、かつ、前記第1アームの先端縁、前記第2アームの先端縁、第3アームの先端縁、及び前記エンドエフェクタに載置されたワークの先端縁が、前記第1アームの回転軸を中心とする同一の円に内接するように、各アームの長さ比が設定され、前記各アームの長さ比が、近似的に、第2アームの長さを黄金分割した長さのうちの、長い方を第1アームの長さとし、短い方を第3アームの長さとしたものである。
【0020】
上記構成においては、請求項2と同等の作用、効果が得られる。
【0021】
【発明の実施の形態】
本発明の一実施形態による基板搬送装置について図面を参照して説明する。図1において、基板搬送装置は、駆動源を内蔵するベース部1と、このベース部1上に設けられたロボットハンド2を備え、ロボットハンド2は、第1アーム3、第2アーム4、第3アーム5、及びワークWを載置するためのエンドエフェクタ6を含む3−リンクによって構成される。第1アーム3、第2アーム4、及び第3アーム5の各長さの関係が従来のものとは相違し、アーム伸縮時の回転半径が最小となり得るように、第1アーム3の長さと第3アーム5の長さの和が第2アーム4の長さに等しく、第1アーム3の長さが第3アーム5の長さよりも大きく形成されている。これにより、以下に説明するように、ロボットハンドのアームが所定角度に縮んだ状態で回転半径が最小となり得る。
【0022】
図2は、当該基板搬送装置における最小回転半径時のロボットハンドの状態(実線)及び回転軸13を中心とする旋回軌道(二点鎖線)及びアームの直線状態(二点鎖線)を示している。この基板搬送装置は、第1アーム3の先端部側面8と、第2アーム4の先端部側面9と、第3アームの先端部側面10と、ワークの先端部側面11とが、第1アーム3の回転軸13を中心とする同一の軌道円12に内接するように、各アームの長さ比が算定されている。その軌道円12の半径が当該基板搬送装置における最小回転半径となる。
【0023】
以下に、この基板搬送装置において得られる最小回転半径Rminと、これを実現する各アームの長さ比と、第1アーム3の回転角θの計算方法を述べる。なお、ワークを含むエンドエフェクタ部が直線運動を呈するよう各アーム及びエンドエフェクタの回転速度比は1:2:2:1に制御され、よって第1アーム3と第3アーム5は回転角θに依らず互いに、常に平行であることを前提とした。
【0024】
いま、第1アームの長さ:A
第2アームの長さ:B
第3アームの長さ:C
エンドエフェクタの長さ:D(const.)
アームの幅:w(const.)
円形薄型ワークの直径:d(const.)
とする。
【0025】
まず、第2アーム4の長さは、第1アーム3の長さと第3アーム5の長さの和に等しいから、
B=A+C …(1式)
次に、最小回転半径Rminは、第1アームの先端8と第1アームの回転軸13を結ぶ線分の長さに等しいことから、
Rmin=A+w/2 …(2式)
また、最小回転半径Rminは上記とは別法にて、第3アームの先端10と第1アームの回転軸13を結ぶ線分の長さに等しいことから、
Rmin=A・cosθ+B・cosθ+C・cosθ+w/2 …(3式)
さらに、最小回転半径Rminは、ワークの先端11と第1アームの回転軸13を結ぶ線分の長さに等しいことから、
Rmin=D+d/2−(A・cosθ+B・cosθ+C・cosθ) …(4式)
また、図2の一部を詳細に示した図3において、斜線を付した三角形に注目すると、この三角形は角EOFを頂角とする二等辺三角形であり、その等辺OE又はOFの線分長はAであることから、幾何学的に
A・cosθ=C/2 …(5式)
となる。
【0026】
上記の第1アームの長さAと第2アームの長さBと第3アームの長さCと最小回転半径Rminと第1アームの回転角θをそれぞれ変数とした5つの連立方程式を解くと(ここに、第1アームの長さを「1」とする)、各アームの長さ比は、A:B:C=1:(√5+1)/2:(√5−1)/2(≒1:1.618:0.618)となり、
第1アームの回転角θは、
θ=72°
となる。
【0027】
なお、上記アームの長さ比については、特に、
A:C=B:A
A:C=(A+C):A
が成立する。これは広く一般に知られる「黄金分割」による分割比に等しい。従って、第2アームに対する第1アームと第3アームの長さ比は、第2アームの長さを「黄金分割」した長さの内の、長い方を第1アームの長さとし、短い方を第3アームの長さとしたものとすればよい。
【0028】
また、最小回転半径Rminは、エンドエフェクタの長さDとアームの幅wと円形薄型ワークの直径dによって決まり、
Rmin=(2D+w+d)/4
となる。
【0029】
次に、本発明が従来技術よりも最小回転半径において有効であることを述べるため、搬送距離とエンドエフェクタの長さを、図9に示した従来技術の一例と等しくした場合で、各アームの長さ比に本発明を適用した一例を図4に示す。この例では、最小回転半径Rminは240mmとなり、図9に示した従来技術と比較して約10mmの縮小化が図れる。
【0030】
さらに、図5に、最小回転半径が同じ場合で、搬送距離を従来技術(a)と本発明適用例(b)とを比較して示す。同図から分かるように、本発明では、従来技術よりも約56mm搬送距離が伸長可能となる。
【0031】
本発明は上記実施形態の構成に限られず、その要旨を逸脱しない限り、種々変更可能である。例えば、アームの長さ比は、前記の値に近似した値を含み、第1アームと第2アームと第3アームの長さ比を、1:1.6:0.6もしくは1:1.5:0.5等としてもよい。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施形態による基板搬送装置の斜視図。
【図2】 上記基板搬送装置の平面図。
【図3】 上記の一部を詳細に示した図。
【図4】 上記基板搬送装置に寸法を記入した平面図。
【図5】 (a)は従来技術による基板搬送装置を示す図、(b)は本発明による基板搬送装置の優位性を説明するための図。
【図6】 従来技術による基板搬送装置の斜視図。
【図7】 従来の基板搬送装置の平面図。
【図8】 上記の一部を詳細に示した図。
【図9】 従来の基板搬送装置に寸法を記入した平面図。
【図10】 同基板搬送装置において第1アームの回転角に対する旋回半径の変化を示したグラフ。
【符号の説明】
2 ロボットハンド
3 第1アーム
4 第2アーム
5 第3アーム
6 エンドエフェクタ
W ワーク

Claims (3)

  1. シリコンウェーハ、フォトマスク用ガラス角基板、液晶用ガラス角基板等の略平板状ワークをロボットハンドを用いて搬送する基板搬送装置であって、
    前記ロボットハンドが、ベースに回転自在に支持された第1アーム、この第1アームの先端部に回転自在に支持された第2アーム、この第2アームの先端部に回転自在に支持された第3アーム、及びこの第3アームの先端部に回転自在に支持され、前記略平板状ワークを載置するエンドエフェクタを含むリンクにより形成され、第1アームの回転速度と第2アームの回転速度と第3アームの回転速度とエンドエフェクタの回転速度の比がそれぞれ各軸回りに1:2:2:1で同期して回転制御されることにより、エンドエフェクタに載置した略平板状ワークが該ワークを面内に含む水平面と第1アーム回転軸との交点を含む水平面上の直線に沿って移動するように伸縮駆動され、
    前記ロボットハンドが縮長位置で第1アームの回転軸を中心軸として旋回駆動する際に、略平板状ワークを面内に含む水平面上に投影されるロボットハンドの旋回軌跡円の直径が、ワークの平面形状が略円形の場合は、その半径とエンドエフェクタの長さと第3アームの1/2幅の各長さを和算した値に等しくなるように構成され、かつ、前記第1アームの先端縁、前記第2アーム先端縁、前記第3アーム先端縁、及び前記エンドエフェクタに載置されたワークの先端縁が、前記第1アームの回転軸を中心とする同一の円に内接するように配され、前記第1アームの長さと前記第3アームの長さの和が、前記第2アームの長さに等しく、前記第1アームの長さが前記第3アームの長さよりも大きくなるように各アームが形成されていることを特徴とする基板搬送装置。
  2. シリコンウェーハ、フォトマスク用ガラス角基板、液晶用ガラス角基板等の略平板状ワークをロボットハンドを用いて搬送する基板搬送装置であって、
    前記ロボットハンドが、ベースに回転自在に支持された第1アーム、この第1アームの先端部に回転自在に支持された第2アーム、この第2アームの先端部に回転自在に支持された第3アーム、及びこの第3アームの先端部に回転自在に支持され、前記略平板状ワークを載置するエンドエフェクタを含むリンクにより形成され、第1アームの回転速度と第2アームの回転速度と第3アームの回転速度とエンドエフェクタの回転速度の比がそれぞれ各軸回りに1:2:2:1で同期して回転制御されることにより、エンドエフェクタに載置した略平板状ワークが該ワークを面内に含む水平面と第1アーム回転軸との交点を含む水平面上の直線に沿って移動するように伸縮駆動され、
    前記ロボットハンドが縮長位置で第1アームの回転軸を中心軸として旋回駆動する際に、略平板状ワークを面内に含む水平面上に投影されるロボットハンドの旋回軌跡円の直径が、ワークの平面形状が略円形の場合は、その半径とエンドエフェクタの長さと第3アームの1/2幅の各長さを和算した値に等しくなるように構成され、かつ、前記第1アームの先端縁、前記第2アームの先端縁、第3アームの先端縁、及び前記エンドエフェクタに載置されたワークの先端縁が、前記第1アームの回転軸を中心とする同一の円に内接するように、各アームの長さ比が設定され、
    前記各アームの長さ比が、近似的に、1:(√5+1)/2:(√5−1)/2(≒1:1.618:0.618)を成していることを特徴とする基板搬送装置。
  3. シリコンウェーハ、フォトマスク用ガラス角基板、液晶用ガラス角基板等の略平板状ワークをロボットハンドを用いて搬送する基板搬送装置であって、
    前記ロボットハンドが、ベースに回転自在に支持された第1アーム、この第1アームの先端部に回転自在に支持された第2アーム、この第2アームの先端部に回転自在に支持された第3アーム、及びこの第3アームの先端部に回転自在に支持され、前記略平板状ワークを載置するエンドエフェクタを含むリンクにより形成され、第1アームの回転速度と第2アームの回転速度と第3アームの回転速度とエンドエフェクタの回転速度の比がそれぞれ各軸回りに1:2:2:1で同期して回転制御されることにより、エンドエフェクタに載置した略平板状ワークが該ワークを面内に含む水平面と第1アーム回転軸との交点を含む水平面上の直線に沿って移動するように伸縮駆動され、
    前記ロボットハンドが縮長位置で第1アームの回転軸を中心軸として旋回駆動する際に、略平板状ワークを面内に含む水平面上に投影されるロボットハンドの旋回軌跡円の直径が、ワークの平面形状が略円形の場合は、その半径とエンドエフェクタの長さと第3アームの1/2幅の各長さを和算した値に等しくなるように構成され、かつ、前記第1アームの先端縁、前記第2アームの先端縁、第3アームの先端縁、及び前記エンドエフェクタに載置されたワークの先端縁が、前記第1アームの回転軸を中心とする同一の円に内接するように、各アームの長さ比が設定され、
    前記各アームの長さ比が、近似的に、第2アームの長さを黄金分割した長さのうちの、長い方を第1アームの長さとし、短い方を第3アームの長さとしたことを特徴とする基板搬送装置。
JP2000023618A 2000-02-01 2000-02-01 基板搬送装置 Expired - Fee Related JP3639764B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000023618A JP3639764B2 (ja) 2000-02-01 2000-02-01 基板搬送装置
US09/689,422 US6514032B1 (en) 2000-02-01 2000-10-12 Substrate transfer system

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000023618A JP3639764B2 (ja) 2000-02-01 2000-02-01 基板搬送装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2001217296A JP2001217296A (ja) 2001-08-10
JP3639764B2 true JP3639764B2 (ja) 2005-04-20

Family

ID=18549745

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000023618A Expired - Fee Related JP3639764B2 (ja) 2000-02-01 2000-02-01 基板搬送装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US6514032B1 (ja)
JP (1) JP3639764B2 (ja)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7641247B2 (en) 2002-12-17 2010-01-05 Applied Materials, Inc. End effector assembly for supporting a substrate
US20050223837A1 (en) 2003-11-10 2005-10-13 Blueshift Technologies, Inc. Methods and systems for driving robotic components of a semiconductor handling system
US10086511B2 (en) 2003-11-10 2018-10-02 Brooks Automation, Inc. Semiconductor manufacturing systems
US7458763B2 (en) * 2003-11-10 2008-12-02 Blueshift Technologies, Inc. Mid-entry load lock for semiconductor handling system
US20070269297A1 (en) 2003-11-10 2007-11-22 Meulen Peter V D Semiconductor wafer handling and transport
US20060159525A1 (en) * 2005-01-03 2006-07-20 Ramzy Moumneh Grout injecting/structure anchoring system
WO2007112454A2 (en) * 2006-03-28 2007-10-04 Stratusys Inc. Apparatus and method for processing substrates using one or more vacuum transfer chamber units
TWI398335B (zh) * 2006-11-27 2013-06-11 日本電產三協股份有限公司 Workpiece conveying system
US9076829B2 (en) * 2011-08-08 2015-07-07 Applied Materials, Inc. Robot systems, apparatus, and methods adapted to transport substrates in electronic device manufacturing
KR102214943B1 (ko) * 2013-01-18 2021-02-10 퍼시몬 테크놀로지스 코포레이션 상이한 링크 길이를 가지는 아암이 구비되는 로봇
US10224232B2 (en) 2013-01-18 2019-03-05 Persimmon Technologies Corporation Robot having two arms with unequal link lengths
US9149936B2 (en) 2013-01-18 2015-10-06 Persimmon Technologies, Corp. Robot having arm with unequal link lengths
WO2016127160A1 (en) * 2015-02-06 2016-08-11 Persimmon Technologies, Corp. Robot having arm with unequal link lengths
CN114367970B (zh) 2015-03-12 2024-04-05 柿子技术公司 具有从动末端执行器运动的机器人
TWI588927B (zh) * 2015-08-11 2017-06-21 亞智科技股份有限公司 移轉基板裝置、製程設備與取放基板的方法
KR102394121B1 (ko) * 2021-10-08 2022-05-04 (주) 티로보틱스 기판 이송 로봇을 챔버 내에서 주행하기 위한 주행 로봇

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR970004947B1 (ko) 1987-09-10 1997-04-10 도오교오 에레구토론 가부시끼가이샤 핸들링장치
US5064340A (en) * 1989-01-20 1991-11-12 Genmark Automation Precision arm mechanism
US5007784A (en) 1989-01-20 1991-04-16 Genmark Automation Dual end effector robotic arm
IT1251017B (it) 1991-05-21 1995-04-28 Ugo Crippa Meccanismo per compiere traiettorie prefissate assimilabili ad ellittiche
DE69131427T2 (de) 1991-05-28 1999-11-25 Kabushiki Kaisha Toshiba, Kawasaki Arbeitsvorrichtung
US5443354A (en) 1992-07-20 1995-08-22 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Hazardous materials emergency response mobile robot
JP2739413B2 (ja) 1993-05-26 1998-04-15 ローツェ株式会社 基板搬送用スカラ型ロボット
JP3413730B2 (ja) 1994-04-21 2003-06-09 ソニー株式会社 水平多関節ロボット
JP3204115B2 (ja) 1996-01-25 2001-09-04 ダイキン工業株式会社 ワーク搬送ロボット
US5771748A (en) 1996-01-26 1998-06-30 Genmark Automation Highly stable Z axis drive
US5839322A (en) 1996-01-26 1998-11-24 Genmark Automation Robotic arm rotation controller
US5775170A (en) 1996-01-26 1998-07-07 Genmark Automation Robotic arm motor stabilizer
US5789890A (en) 1996-03-22 1998-08-04 Genmark Automation Robot having multiple degrees of freedom
US6121743A (en) * 1996-03-22 2000-09-19 Genmark Automation, Inc. Dual robotic arm end effectors having independent yaw motion
JPH09285982A (ja) 1996-04-19 1997-11-04 Metsukusu:Kk 薄型ワーク搬送装置
JP2000042953A (ja) 1998-07-29 2000-02-15 Janome Sewing Mach Co Ltd 水平多関節ロボット

Also Published As

Publication number Publication date
US6514032B1 (en) 2003-02-04
JP2001217296A (ja) 2001-08-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3639764B2 (ja) 基板搬送装置
KR101574357B1 (ko) 산업용 로보트
US5064340A (en) Precision arm mechanism
US5746565A (en) Robotic wafer handler
US6669434B2 (en) Double arm substrate transport unit
KR100617504B1 (ko) 반송장치
JP2002166376A (ja) 基板搬送用ロボット
US20020048505A1 (en) Articulated robot
TWI581929B (zh) Substrate transfer robot and its operation method
JPWO2009034795A1 (ja) 基板搬送ロボット、真空処理装置
US20240042595A1 (en) Dual robot including splayed end effectors and systems and methods including same
US20010011876A1 (en) Substrate transfer system
JP2004130459A (ja) 搬送アーム
US7591625B2 (en) Carrying mechanism, a carrying device and a vacuum processing apparatus
JP3539537B2 (ja) 多関節ロボット
JP2010199478A (ja) ウェーハの偏心補正方法及びウェーハ搬送装置
JP2002299413A (ja) ロボット装置及び処理装置
JP2002172571A (ja) ダブルアームおよびそれを備えたロボット
US11735466B2 (en) Asymmetric dual end effector robot arm
JPH1133948A (ja) 搬送ロボット及びその使用方法
JP3278798B2 (ja) 円加工装置
JPH09201735A (ja) 移載装置
WO1999052686A1 (en) Substrate prealigner
JPH0744473Y2 (ja) ワーク取扱ロボット
JP2000150615A (ja) 搬送装置

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20040323

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040407

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20041222

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20050117

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080121

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090121

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100121

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110121

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120121

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120121

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130121

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140121

Year of fee payment: 9

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees