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JP3685998B2 - Curable resin composition and insulator comprising the same - Google Patents
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JP3685998B2 - Curable resin composition and insulator comprising the same - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、硬化性樹脂組成物及びこれからなる絶縁体に関する。さらに詳しくは各種電気機器、電子部品若しくは半導体素子等に使用される回路基板用オーバーコート材料又は層間絶縁材料として好適な硬化性樹脂組成物及びこれからなる絶縁体に関する。
【0002】
【従来の技術】
絶縁材料として、エポキシ樹脂系組成物やポリイミド系樹脂等が有する耐湿性、高周波領域での誘電特性等の欠点、ポリオレフィン系樹脂やポリフェニレンエーテル系樹脂等が有する耐熱性、耐溶剤性等の欠点を解決するため、例えば、ノルボルネン型モノマーとエチレンの共重合体を、硫黄架橋、有機化酸化物架橋、電子線架橋又は放射線架橋させる例(特開昭62−34924号公報)や、プロパギル基若しくはアリル基で置換されたポリフェニレンエーテル、二重結合を含むポリフェニレンエーテル並びに不飽和カルボン酸又はその酸無水物変性ポリフェニレンエーテル等を使用する例(特開平1−69628号公報、特開平1−69629号公報、特開平1−113425号公報、特開平1−113426号公報、特開平1−239017号公報等)等が知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、前者では、誘電率が3.7以上と高いためオーバーコート材料や層間絶縁材料等の絶縁材料への応用には問題がある。
また、後者では、硬化官能基としてアリル基、オレフィン性不飽和基又は不飽和カルボン酸を使用していることから硬化反応性、特に酸素中(空気中)での硬化反応性が劣り、耐熱衝撃性が不足する。
すなわち、本発明の目的は、耐熱衝撃性及び誘電特性に優れた絶縁体を生産し得る硬化性樹脂組成物を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意検討した結果、本発明に到達した。すなわち、本発明の硬化性樹脂組成物の特徴は、架橋性官能基を分子中に少なくとも2個有する樹脂(A)、及び該(A)と同種類の架橋性官能基を分子中に少なくとも2個有する低分子化合物(B)を含有してなり、(A)の重量平均分子量が3,000〜1,000,000であり、(B)の重量平均分子量が170〜3,000であり、硬化後の誘電率が3.5以下である点にある。
【0005】
【発明の実施の形態】
(A)が有する架橋性官能基としては、例えば、エポキシ基、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、アリル基、プロペニル基、第1級アミノ基、第2級アミノ基、ニトリル基、カルボキシル基、水酸基及びイソシアネート基等が使用できる。
エポキシ基としては、グリシジル基、シクロヘキセニルモノオキサイド基等が挙げられる。
(メタ)アクリロイルはメタクリル基及びアクリロイル基を意味し、第1級アミノ基は−NH2を意味する。
【0006】
第2級アミノ基としては、N−アルキルアミノ基を意味し、アルキル基としては、炭素数1〜4のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基及びイソブチル基等が挙げられる。
これら架橋性官能基のうち、電気特性の観点から、エポキシ基、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、アリル基、プロペニル基及びニトリル基が好ましく、耐熱性の観点から、エポキシ基、(メタ)アクリロイル基がさらに好ましく、グリシジル基及びシクロへキセニルオキサイド基が特に好ましい。
【0007】
(A)の架橋性官能基の数は、少なくとも2個であり、好ましくは2〜5,000個、さらに好ましくは3〜3,000個、特に好ましくは5〜1,000個、さらに特に好ましくは7〜500個、最も好ましくは10〜200個である。(A)の重量平均分子量は、3,000〜1,000,000であり、好ましくは30,000〜600,000であり、さらに好ましくは50,000〜400,000である。重量平均分子量が3,000未満であると樹脂強度が弱くなる傾向があり、1,000,000を超えると硬化性樹脂組成物のフィルム化等の樹脂加工が困難になる傾向がある。
なお、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(以下、GPCと略記する。)により測定されるもので以下Mwと略する。
【0008】
(A)は、▲1▼架橋性官能基をもった単量体を(共)重合する方法、又は▲2▼架橋性官能基を有する樹脂に架橋性官能基をもった単量体を反応させて架橋性官能基を変換する方法等により容易に製造できる。
架橋性官能基をもった単量体としては、架橋性官能基を少なくとも2個もったものであれば制限はなく、エポキシ基、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、アリル基、プロペニル基、第1級アミノ基、第2級アミノ基、ニトリル基、カルボキシル基、水酸基及びイソシアネート基からなる群より選ばれた少なくとも1種の官能基を有する単量体等が使用できる。
【0009】
例えば、架橋性官能基として、エポキシ基のみをもった単量体(a)、(メタ)アクリロイル基のみをもった単量体(b)、ビニル基のみをもった単量体(c)、アリル基のみをもった単量体(d)、プロペニル基のみをもった単量体(e)、第1級アミノ基をもった単量体(f)、第2級アミノ基をもった単量体(g)、カルボキシル基のみを持った単量体(h)、水酸基のみを持った単量体(i)、イソシアネート基のみを持った単量体(j)、ニトリル基とビニル基とをもつ単量体(k)、ニトリル基と(メタ)アクリロイル基とをもつ単量体(m)、水酸基と(メタ)アクリロイル基とをもつ単量体(n)、エポキシ基と(メタ)アクリロイル基とをもつ単量体(o)、エポキシ基とビニル基とをもつ単量体(p)、(メタ)アクリロイル基とビニル基とをもつ単量体(q)、(メタ)アクリロイル基とイソシアネート基とをもつ単量体(r)、(メタ)アクリロイル基とカルボキシル基とをもつ単量体(s)、(メタ)アクリロイル基とアリル基とをもつ単量体(t)、(メタ)アクリロイル基とプロペニル基とをもつ単量体(u)、第2級アミノ基とアリル基をもった単量体(v)、及び第2級アミノ基とプロペニル基をもった単量体(w)等が用いられる。
【0010】
架橋性官能基としてエポキシ基のみをもった単量体(a)としては、分子中にエポキシ基を2〜7個又はそれ以上有するポリエポキシド等が使用でき、例えば、(a1)グリシジルエーテル型ポリエポキシド、(a2)グリシジルエステル型ポリエポキシド、(a3)グリシジルアミン型ポリエポキシド、及び(a4)脂環式ポリエポキシド等が用いられる。
【0011】
(a1)グリシジルエーテル型ポリエポキシドとしては、例えば、以下の(a11)〜(a14)等が使用できる。
(a11)2価フェノール(炭素数6〜30)のジグリシジルエーテル
例えば、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールBジグリシジルエーテル、ビスフェノールADジグリシジルエーテル、ビスフェノールSジグリシジルエーテル、ハロゲン化ビスフェノールAジグリシジルエーテル、テトラクロロビスフェノールAジグリシジルエーテル、カテキンジグリシジルエーテル、レゾルシノールジグリシジルエーテル、ハイドロキノンジグリシジルエーテル、1,5−ジヒドロキシナフタレンジグリシジルエーテル、ジヒドロキシビフェニルジグリシジルエーテル、オクタクロロ−4,4’−ジヒドロキシビフェニルジグリシジルエーテル、テトラメチルビフェニルジグリシジルエーテル、9,9’−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フロオレンジグリシジルエーテル及びビスフェノールA2モルとエピクロロヒドリン3モルの反応から得られるジグリシジルエーテル等が挙げられる。
【0012】
(a12)多価フェノール{炭素数6〜50又はそれ以上で、Mw110〜5,000の3価〜6価又はそれ以上}のポリグリシジルエーテル
例えば、ピロガロールトリグリシジルエーテル、ジヒドロキシナフチルクレゾールトリグリシジルエーテル、トリス(ヒドロキシフェニル)メタントリグリシジルエーテル、ジナフチルトリオールトリグリシジルエーテル、テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタンテトラグリシジルエーテル、トリスメチル−tert−ブチル−ブチルヒドロキシメタントリグリシジルエーテル、4,4’−オキシビス(1,4−フェニルエチル)テトラクレゾールグリシジルエーテル、4,4’−オキシビス(1,4−フェニルエチル)フェニルグリシジルエーテル及びビス(ジヒドロキシナフタレン)テトラグリシジルエーテル等が挙げられる。
【0013】
(a13)2価アルコール(炭素数2〜100又はそれ以上、Mw62〜5,000)[炭素数2〜6又はそれ以上のアルキレングリコール又は2価フェノール(炭素数6〜24)のアルキレンオキシド(炭素数2〜4)(以下、炭素数2〜4のアルキレンオキサイドをAOと略記する。)1〜90モル付加物]のジグリシジルエーテル
例えば、エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、テトラメチレングリコールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコール(Mw150〜4,000)ジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコール(Mw180〜5,000)ジグリシジルエーテル、ポリテトラメチレングリコール(Mw200〜5,000)ジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル並びにビスフェノールAのエチレンオキシド(以下、エチレンオキシドをEOと略記する。)及び/又はプロピレンオキシド(以下、プロピレンオキシドをPOと略記する。)(1〜20モル)付加物のジグリシジルエーテル等が挙げられる。
【0014】
(a14)3価〜7価又はそれ以上の多価アルコール(炭素数3〜50又はそれ以上で、Mw76〜10,000)のポリグリシジルエーテル
例えば、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、ソルビトールヘキサグリシジルエーテル及びポリ(重合度2〜5)グリセリンポリグリシジルエーテル等が挙げられる。
【0015】
(a2)グリシジルエステル型ポリエポキシドとしては、例えば、以下の(a21)〜(a22)等が使用できる。
(a21)2価〜6価又はそれ以上の芳香族ポリカルボン酸(炭素数6〜20又はそれ以上)のポリグリシジルエステル
例えば、フタル酸ジグリシジルエステル、イソフタル酸ジグリシジルエステル、テレフタル酸ジグリシジルエステル及びトリメリット酸トリグリシジルエステル等が挙げられる。
(a22)2価〜6価又はそれ以上の脂肪族又は脂環式ポリカルボン酸(炭素数6〜20又はそれ以上)のポリグリシジルエステル
例えば、(a21)の芳香核水添加物、ダイマー酸ジグリシジルエステル、ジグリシジルオキサレート、ジグリシジルマレート、ジグリシジルスクシネート、ジグリシジルグルタレート、ジグリシジルアジペート、ジグリシジルピメレート及びトリカルバリル酸トリグリシジルエステル等が挙げられる。
【0016】
(a3)グリシジルアミン型ポリエポキシドとしては、例えば、以下の(a31)〜(a34)等が使用できる。
(a31)2〜10個又はそれ以上のグリシジル基を有するポリグリシジル芳香族アミン(芳香族アミンの炭素数6〜20又はそれ以上)
例えば、N,N−ジグリシジルアニリン、N,N−ジグリシジルトルイジン、N,N,N’,N’−テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、N,N,N’,N’−テトラグリシジルジアミノジフェニルスルホン、N,N,N’,N’−テトラグリシジルジエチルジフェニルメタン及びN,N,O−トリグリシジルアミノフェノール等が挙げられる。
【0017】
(a32)2〜10個又はそれ以上のグリシジル基を有するポリグリシジル脂肪族もしくは芳香脂肪族アミン(脂肪族もしくは芳香脂肪族アミンの炭素数6〜20又はそれ以上)
例えば、N,N,N’,N’−テトラグリシジルキシリレンジアミン及びN,N,N’,N’−テトラグリシジルヘキサメチレンジアミン等が挙げられる。
(a33)2〜10個又はそれ以上のグリシジル基を有するポリグリシジル脂環式アミン(脂環式アミンの炭素数6〜20又はそれ以上)
例えば、N,N,N’,N’−テトラグリシジルキシリレンジアミンの水添化合物等が挙げられる。
(a34)2〜10個又はそれ以上のグリシジル基を有するポリグリシジル複素環式アミン(複素環式アミンの炭素数6〜20又はそれ以上)
例えば、トリスグリシジルメラミン等が挙げられる。
【0018】
(a4)脂環式ポリエポキシドとしては、例えば、炭素数6〜50又はそれ以上で、Mw98〜5,000、エポキシ基の数2〜4又はそれ以上の脂環式エポキシド等が使用できる。
例えば、ビニルシクロヘキセンジオキシド、リモネンジオキシド、ジシクロペンタジエンジオキシド、ビス(2,3−エポキシシクロペンチル)エーテル、エチレングリコールビスエポキシジシクロペンチルエーテル、3,4エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル3’、4’−エポキシ−6’−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、ビス(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル)アジペート及びビス(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル)ブチルアミン等が挙げられる。
【0019】
架橋性官能基として(メタ)アクリロイル基のみをもった単量体(b)としては、(b1)2価フェノール(炭素数6〜30)のジグリシジルエーテル、(b2)多価フェノール{炭素数6〜50又はそれ以上で、Mw110〜5,000の3価〜6価又はそれ以上}のポリ(メタ)アクリレート、(b3)2価アルコール(炭素数2〜100又はそれ以上、Mw62〜5,000)[炭素数2〜6又はそれ以上のアルキレングリコール又は2価フェノール(炭素数6〜24)のAO1〜90モル付加物]のジ(メタ)アクリレート、及び(b4)3価〜7価又はそれ以上の多価アルコール(炭素数3〜50又はそれ以上で、Mw76〜10,000)のポリ(メタ)アクリレート等が用いられる。
【0020】
(b1)2価フェノールの(メタ)アクリレート
例えば、ビスフェノールFジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールBジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールADジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールSジ(メタ)アクリレート、ハロゲン化ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート(例えば、テトラクロロビスフェノールAジ(メタ)アクリレート等)、カテキンジ(メタ)アクリレート、レゾルシノールジ(メタ)アクリレート、ハイドロキノンジ(メタ)アクリレート、1,5−ジヒドロキシナフタレンジ(メタ)アクリレート、ジヒドロキシビフェニルジ(メタ)アクリレート、オクタクロロ−4,4’−ジヒドロキシビフェニルジ(メタ)アクリレート、テトラメチルビフェニルジ(メタ)アクリレート及び9,9’−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フロオレンジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
【0021】
(b2)多価フェノールのポリ(メタ)アクリレート
例えば、ピロガロールトリ(メタ)アクリレート、ジヒドロキシナフチルクレゾールトリ(メタ)アクリレート、トリス(ヒドロキシフェニル)メタントリ(メタ)アクリレート、ジナフチルトリオールトリ(メタ)アクリレート、テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタンテトラ(メタ)アクリレート、トリスメチル−tert−ブチル−ブチルヒドロキシメタントリ(メタ)アクリレート、4,4’−オキシビス(1,4−フェニルエチル)テトラクレゾール(メタ)アクリレート、4,4’−オキシビス(1,4−フェニルエチル)フェニル(メタ)アクリレート及びビス(ジヒドロキシナフタレン)テトラ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
【0022】
(b3)2価アルコールの(メタ)アクリレート
例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール(Mw150〜4,000)ジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール(Mw180〜5,000)ジ(メタ)アクリレート、ポリテトラメチレングリコール(Mw200〜5,000)ジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート並びにビスフェノールAのEO及び/又はPO(1〜20モル)付加物のジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
【0023】
(b4)3価〜7価又はそれ以上の多価アルコールのポリ(メタ)アクリレート例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ソルビトールヘキサ(メタ)アクリレート及びポリ(重合度2〜5)グリセリンポリ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
【0024】
架橋性官能基としてビニル基のみをもった単量体(c)としては、炭素数4〜20の炭化水素化合物、例えば、ブタジエン、ジビニルベンゼン、ジビニルトルエン、ジビニルキシレン、ジビニルケトン、トリビニルベンゼン及びメトキシブタジエン等が挙げられ、これらの他、ジビニルサルファイド、ジビニルスルフォン及びジビニルスルフォキシド等も使用できる。
【0025】
架橋性官能基としてアリル基のみをもった単量体(d)としては、(d1)2価フェノール(炭素数6〜30)のジアリルエーテル、(d2)多価フェノール{炭素数6〜50又はそれ以上で、Mw110〜5,000の3価〜6価又はそれ以上}のポリアリルエーテル、(d3)2価アルコール(炭素数2〜100又はそれ以上、Mw62〜5,000)[炭素数2〜6又はそれ以上のアルキレングリコール又は2価フェノール(炭素数6〜24)のAO1〜90モル付加物]のジアリルエーテル、(d4)3価〜7価又はそれ以上の多価アルコール(炭素数3〜50又はそれ以上で、Mw76〜10,000)のポリアリルエーテル、(d5)2価〜6価又はそれ以上の芳香族ポリカルボン酸(炭素数6〜20又はそれ以上)のポリアリルエステル、及び(d6)2価〜6価又はそれ以上の脂肪族又は脂環式ポリカルボン酸(炭素数6〜20又はそれ以上)のポリアリルエステル等が用いられる。
【0026】
(d1)2価フェノールのジアリルエーテル
例えば、ビスフェノールFジアリルエーテル、ビスフェノールAジアリルエーテル、ビスフェノールBジアリルエーテル、ビスフェノールADジアリルエーテル、ビスフェノールSジアリルエーテル、ハロゲン化ビスフェノールAジアリルエーテル、テトラクロロビスフェノールAジアリルエーテル、カテキンジアリルエーテル、レゾルシノールジアリルエーテル、ハイドロキノンジアリルエーテル、1,5−ジヒドロキシナフタレンジアリルエーテル、ジヒドロキシビフェニルジアリルエーテル、オクタクロロ−4,4’−ジヒドロキシビフェニルジアリルエーテル、テトラメチルビフェニルジアリルエーテル及び9,9’−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フロオレンジアリルエーテル等が挙げられる。
【0027】
(d2)多価フェノールのポリアリルエーテル
例えば、ピロガロールトリアリルエーテル、ジヒドロキシナフチルクレゾールトリアリルエーテル、トリス(ヒドロキシフェニル)メタントリアリルエーテル、ジナフチルトリオールトリアリルエーテル、テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタンテトラアリルエーテル、トリスメチル−tert−ブチル−ブチルヒドロキシメタントリアリルエーテル、4,4’−オキシビス(1,4−フェニルエチル)テトラクレゾールアリルエーテル、4,4’−オキシビス(1,4−フェニルエチル)フェニルアリルエーテル及びビス(ジヒドロキシナフタレン)テトラアリルエーテル等が挙げられる。
【0028】
(d3)2価アルコールのジアリルエーテル
例えば、エチレングリコールジアリルエーテル、プロピレングリコールジアリルエーテル、テトラメチレングリコールジアリルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジアリルエーテル、ポリエチレングリコール(Mw150〜4,000)ジアリルエーテル、ポリプロピレングリコール(Mw180〜5,000)ジアリルエーテル、ポリテトラメチレングリコール(Mw200〜5,000)ジアリルエーテル、ネオペンチルグリコールジアリルエーテル並びにビスフェノールAのEO及び/又はPO(1〜20モル)付加物のジアリルエーテル等が挙げられる。
【0029】
(d4)3価〜7価又はそれ以上の多価アルコールのポリアリルエーテル
例えば、トリメチロールプロパントリアリルエーテル、グリセリントリアリルエーテル、ペンタエリスリトールテトラアリルエーテル、ソルビトールヘキサアリルエーテル及びポリ(重合度2〜5)グリセリンポリアリルエーテル等が挙げられる。
【0030】
(d5)芳香族ポリカルボン酸のポリアリルエステル
例えば、フタル酸ジアリルエステル、イソフタル酸ジアリルエステル、テレフタル酸ジアリルエステル及びトリメリット酸トリアリルエステル等が挙げられる。
(d6)脂肪族又は脂環式ポリカルボン酸のポリアリルエステル
例えば、(d5)の芳香核水添加物、ダイマー酸ジアリルエステル、ジアリルオキサレート、ジアリルマレート、ジアリルスクシネート、ジアリルグルタレート、ジアリルアジペート、ジアリルピメレート及びトリカルバリル酸トリアリルエステル等が挙げられる。
【0031】
架橋性官能基としてプロペニル基のみをもった単量体(e)としては、(e1)2価フェノール(炭素数6〜30)のジプロペニルエーテル、(e2)多価フェノール{炭素数6〜50又はそれ以上で、Mw110〜5,000の3価〜6価又はそれ以上}のポリプロペニルエーテル、(e3)2価アルコール(炭素数2〜100又はそれ以上、Mw62〜5,000)[炭素数2〜6又はそれ以上のアルキレングリコール又は2価フェノール(炭素数6〜24)のAO1〜90モル付加物]のジプロペニルエーテル、(e4)3価〜7価又はそれ以上の多価アルコール(炭素数3〜50又はそれ以上で、Mw76〜10,000)のポリプロペニルエーテル、(e5)2価〜6価又はそれ以上の芳香族ポリカルボン酸(炭素数6〜20又はそれ以上)のポリプロペニルエステル、及び(e6)2価〜6価又はそれ以上の脂肪族又は脂環式ポリカルボン酸(炭素数6〜20又はそれ以上)のポリプロペニルエステル等が用いられる。
【0032】
(e1)2価フェノールのジプロペニルエーテル
例えば、ビスフェノールFジプロペニルエーテル、ビスフェノールAジプロペニルエーテル、ビスフェノールBジプロペニルエーテル、ビスフェノールADジプロペニルエーテル、ビスフェノールSジプロペニルエーテル、ハロゲン化ビスフェノールAジプロペニルエーテル、テトラクロロビスフェノールAジプロペニルエーテル、カテキンジプロペニルエーテル、レゾルシノールジプロペニルエーテル、ハイドロキノンジプロペニルエーテル、1,5−ジヒドロキシナフタレンジプロペニルエーテル、ジヒドロキシビフェニルジプロペニルエーテル、オクタクロロ−4,4’−ジヒドロキシビフェニルジプロペニルエーテル、テトラメチルビフェニルジプロペニルエーテル及び9,9’−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フロオレンジプロペニルエーテル等が挙げられる。
【0033】
(e2)多価フェノールのポリプロペニルエーテル
例えば、ピロガロールトリプロペニルエーテル、ジヒドロキシナフチルクレゾールトリプロペニルエーテル、トリス(ヒドロキシフェニル)メタントリプロペニルエーテル、ジナフチルトリオールトリプロペニルエーテル、テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタンテトラプロペニルエーテル、トリスメチル−tert−ブチル−ブチルヒドロキシメタントリプロペニルエーテル、4,4’−オキシビス(1,4−フェニルエチル)テトラクレゾールプロペニルエーテル、4,4’−オキシビス(1,4−フェニルエチル)フェニルプロペニルエーテル及びビス(ジヒドロキシナフタレン)テトラプロペニルエーテル等が挙げられる。
【0034】
(e3)2価アルコールのジプロペニルエーテル
例えば、エチレングリコールジプロペニルエーテル、プロピレングリコールジプロペニルエーテル、テトラメチレングリコールジプロペニルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジプロペニルエーテル、ポリエチレングリコール(Mw150〜4,000)ジプロペニルエーテル、ポリプロピレングリコール(Mw180〜5,000)ジプロペニルエーテル、ポリテトラメチレングリコール(Mw200〜5,000)ジプロペニルエーテル、ネオペンチルグリコールジプロペニルエーテル並びにビスフェノールAのEO及び/又はPO(1〜20モル)付加物のジプロペニルエーテル等が挙げられる。
【0035】
(e4)3価〜7価又はそれ以上の多価アルコールのポリプロペニルエーテル
例えば、トリメチロールプロパントリプロペニルエーテル、グリセリントリプロペニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラプロペニルエーテル、ソルビトールヘキサプロペニルエーテル及びポリ(重合度2〜5)グリセリンポリプロペニルエーテル等が挙げられる。
【0036】
(e5)芳香族ポリカルボン酸のポリプロペニルエステル
例えば、フタル酸ジプロペニルエステル、イソフタル酸ジプロペニルエステル、テレフタル酸ジプロペニルエステル及びトリメリット酸トリプロペニルエステル等が挙げられる。
(e6)脂肪族又は脂環式ポリカルボン酸のポリプロペニルエステル
例えば、(d5)の芳香核水添加物、ダイマー酸ジプロペニルエステル、ジプロペニルオキサレート、ジプロペニルマレート、ジプロペニルスクシネート、ジプロペニルグルタレート、ジプロペニルアジペート、ジプロペニルピメレート及びトリカルバリル酸トリプロペニルエステル等が挙げられる。
【0037】
架橋性官能基として第1級アミノ基をもった単量体(f)としては、(f1)脂肪族ポリアミン(炭素数2〜18、アミノ基数2〜7)、(f2)脂環式ポリアミン(炭素数4〜15、アミノ基数2〜3)、(f3)ポリアミドポリアミン、及び(f4)ポリエーテルポリアミン等が用いられる。
【0038】
(f1)脂肪族ポリアミンとしては、炭素数2〜6のアルキレンジアミン、ポリアルキレン(炭素数2〜6)ポリアミン、上記のポリアミンのアルキル(炭素数1〜4)又はヒドロキシアルキル(炭素数2〜4)置換体、脂環又は複素環含有脂肪族ポリアミン(炭素数5〜18)及び芳香環含有脂肪族ポリアミン(炭素数8〜15)等が使用できる。
アルキレンジアミンとしては、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、トリメチレンジアミン、テトラメチレンジアミン及びヘキサメチレンジアミン等が挙げられる。
ポリアルキレンポリアミンとしては、ジエチレントリアミン、イミノビスプロピルアミン、ビス(ヘキサメチレン)トリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン及びペンタエチレンヘキサミン等が挙げられる。
【0039】
ポリアミンのアルキル又はヒドロキシアルキル置換体としては、ジアルキル(炭素数1〜3)アミノプロピルアミン、トリメチルヘキサメチレンジアミン、アミノエチルエタノールアミン及びメチルイミノビスプロピルアミン等が挙げられる。
脂環又は複素環含有脂肪族ポリアミンとしては、3,9−ビス(3−アミノプロピル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン等が挙げられる。
芳香環含有脂肪族ポリアミンとしては、キシリレンジアミン及びテトラクロル−p−キシリレンジアミン等が挙げられる。
【0040】
(f2)脂環式ポリアミンとしては、例えば、1,3−ジアミノシクロヘキサン、イソホロンジアミン、メンセンジアミン及び4,4’−メチレンジシクロヘキサンジアミン(水添メチレンジアニリン)等が挙げられる。
(f3)ポリアミドポリアミンとしては、例えば、ジカルボン酸(ダイマー酸等)と過剰の(酸1モル当り2モル以上の)ポリアミン(上記アルキレンジアミン、ポリアルキレンポリアミン等)との縮合により得られるMw80〜2,000のポリアミドポリアミン等が用いられる。
具体的には、例えば市販のトーマイド(富士化成社製)、バーサミド(ヘンケル白水社製)、ラーカーマイド(大日本インキ社製)、サンマイド(三和化学社製)及びポリマイド(三洋化成工業社製)等が挙げられる。
【0041】
(f4)ポリエーテルポリアミンとしては、例えば、ポリエーテルポリオール(2〜6価、Mw90〜2,000)[例えば、ポリアルキレン(炭素数2〜8)グリコール等]のシアノエチル化物の水素化物等が挙げられる。
【0042】
架橋性官能基として第2級アミノ基をもった単量体(g)としては、(f)の第一級アミノ基(−NH2基)が−NH−R(Rは炭素数1〜4のアルキル基)に置き換わったものが使用でき、例えば、ジ(メチルアミノ)エチレン、ジ(エチルアミノ)ヘキサン及び1,3−ジ(メチルアミノ)シクロヘキサン等が挙げられる。
【0043】
架橋性官能基としてカルボキシル基のみを持った単量体(h)としては、(h1)2価〜6価又はそれ以上の芳香族ポリカルボン酸(炭素数6〜20又はそれ以上)、及び(h2)2価〜6価又はそれ以上の脂肪族又は脂環式ポリカルボン酸(炭素数6〜20又はそれ以上)等が用いられる。
(h1)芳香族ポリカルボン酸
例えば、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ハイミック酸及びトリメリット酸等が挙げられる。
(h2)脂肪族又は脂環式ポリカルボン酸
例えば、(h1)の芳香核水添加物、ダイマー酸、シュウ酸、マレイン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、トリカルバリル酸及びドデセニルコハク酸等が挙げられる。
【0044】
架橋性官能基として水酸基のみを持った単量体(i)としては、(i1)炭素数6〜30の2価フェノール、(i2)多価フェノール(炭素数6〜50又はそれ以上で、Mw110〜5,000の3価〜6価又はそれ以上)、(i3)2価アルコール(炭素数2〜100又はそれ以上、Mw62〜5,000)[炭素数2〜6又はそれ以上のアルキレングリコール又は2価フェノール(炭素数6〜24)のAO1〜90モル付加物]、及び(i4)3価〜7価又はそれ以上の多価アルコール(炭素数3〜50又はそれ以上で、Mw76〜10,000)等が用いられる。
【0045】
(i1)2価フェノールとしては、例えば、ビスフェノールF、ビスフェノールA、ビスフェノールB、ビスフェノールAD、ビスフェノールS、ハロゲン化ビスフェノールA(例えば、テトラクロロビスフェノールA等)、カテキン、レゾルシノール、ハイドロキノン、1,5−ジヒドロキシナフタレン、ジヒドロキシビフェニル、オクタクロロ−4,4’−ジヒドロキシビフェニル、テトラメチルビフェニル及び9,9’−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フロオレン等が挙げられる。
【0046】
(i2)多価フェノールとしては、例えば、ピロガロール、ジヒドロキシナフチルクレゾール、トリス(ヒドロキシフェニル)メタン、ジナフチルトリオール、テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、トリスメチル−tert−ブチル−ブチルヒドロキシメタン、4,4’−オキシビス(1,4−フェニルエチル)テトラクレゾール、4,4’−オキシビス(1,4−フェニルエチル)フェニル及びビス(ジヒドロキシナフタレン)等が挙げられる。
【0047】
(i3)2価アルコールとしては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、ポリエチレングリコール(Mw150〜4,000)、ポリプロピレングリコール(Mw180〜5,000)、ポリテトラメチレングリコール(Mw200〜5,000)、ネオペンチルグリコール並びにビスフェノールAのEO及び/又はPO(1〜20モル)付加物等が挙げられる。
【0048】
(i4)多価アルコールとしては、例えば、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、ソルビトール及びポリ(重合度2〜5)グリセリン等が挙げられる。
【0049】
架橋性官能基としてイソシアネート基のみを持った単量体(j)としては、(j1)炭素数(NCO基中の炭素を除く。以下同様である。)6〜20の芳香族ポリイソシアネート、(j2)炭素数2〜18の脂肪族ポリイソシアネート、(j3)炭素数4〜15の脂環式ポリイソシアネート、(j4)炭素数8〜15の芳香脂肪族ポリイソシアネート、及び(j5)上記ポリイソシアネートの変性物(ウレタン基、カルボジイミド基、アロファネート基、ウレア基、ビューレット基、ウレトジオン基、ウレトイミン基、イソシアヌレート基、オキサゾリドン基含有変性物等)等が用いられる。
【0050】
(j1)芳香族ポリイソシアネートとしては、例えば、1,3−若しくは1,4−フェニレンジイソシアネート、2,4−若しくは2,6−トリレンジイソシアネート(TDI)、粗製TDI、2,4’−若しくは4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、4,4’−ジイソシアナトビフェニル、3,3’−ジメチル−4,4’−ジイソシアナトビフェニル、3,3’−ジメチル−4,4’−ジイソシアナトジフェニルメタン、粗製MDI[粗製ジアミノフェニルメタン〔ホルムアルデヒドと芳香族アミン(アニリン)又はその混合物との縮合生成物;ジアミノジフェニルメタンと少量(例えば5〜20質量%)の3官能以上のポリアミンとの混合物〕のホスゲン化物:ポリアリルポリイソシアネート(PAPI)]、1,5−ナフチレンジイソシアネート、4,4’,4”−トリフェニルメタントリイソシアネート及びm−及びp−イソシアナトフェニルスルホニルイソシアネート等が挙げられる。
【0051】
(j2)脂肪族ポリイソシアネートとしては、例えば、エチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、ドデカメチレンジイソシアネート、1,6,11−ウンデカントリイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、2,6−ジイソシアナトメチルカプロエート、ビス(2−イソシアナトエチル)フマレート、ビス(2−イソシアナトエチル)カーボネート及び2−イソシアナトエチル−2,6−ジイソシアナトヘキサノエート等が挙げられる。
【0052】
(j3)脂環式ポリイソシアネートとしては、例えば、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、ジシクロヘキシルメタン−4,4’−ジイソシアネート(水添MDI)、シクロヘキシレンジイソシアネート、メチルシクロヘキシレンジイソシアネート(水添TDI)、ビス(2−イソシアナトエチル)−4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボキシレート及び2,5−若しくは2,6−ノルボルナンジイソシアネート等が挙げられる。
(j4)芳香脂肪族ポリイソシアネートとしては、例えば、m−若しくはp−キシリレンジイソシアネート(XDI)及びα,α,α’,α’−テトラメチルキシリレンジイソシアネート(TMXDI)等が挙げられる。
【0053】
(j5)上記ポリイソシアネートの変性物としては、例えば、変性MDI(ウレタン変性MDI、カルボジイミド変性MDI、トリヒドロカルビルホスフェート変性MDI)、ウレタン変性TDI、ビウレット変性HDI、イソシアヌレート変性HDI、イソシアヌレート変性IPDI等のポリイソシアネートの変性物及びこれらの2種以上の混合物[例えば変性MDIとウレタン変性TDI(イソシアネート含有プレポリマー)との併用]等が挙げられる。
該ウレタン変性ポリイソシアネート[過剰のポリイソシアネート(TDI、MDI等)とポリオールとを反応させて得られる遊離イソシアネート含有プレポリマー]の製造に用いるポリオールとしては、当量が30〜200のポリオールが使用でき、例えば、グリコール(エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール及びジプロピレングリコール等)、トリオール(トリメチロールプロパン及びグリセリン等)、高官能ポリオール(ペンタエリスリトール及びソルビトール等)並びにこれらのAO(EO及び/又はPO1〜20モル)付加物等が挙げられる。
【0054】
架橋性官能基としてニトリル基とビニル基とをもつ単量体(k)としては、例えば、シアノブテン及びシアノスチレン等が挙げられる。
架橋性官能基としてニトリル基と(メタ)アクリロイル基とをもつ単量体(m)としては、例えば、(メタ)アクリロニトリル及びシアノエチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
【0055】
架橋性官能基として水酸基と(メタ)アクリロイル基とをもつ単量体(n)としては、ポリアルキレン(炭素数2〜8)グリコール鎖を有するモノ(メタ)アクリレート(Mw300〜3,000)が使用でき、例えば、ポリエチレングリコール(Mw300)モノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール(Mw500)モノ(メタ)アクリレート、エチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、グリセリンモノ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンモノ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールモノ(メタ)アクリレート及びポリグリセリン(重合度上記と同じ)モノ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
【0056】
架橋性官能基としてエポキシ基と(メタ)アクリロイル基とをもつ単量体(o)としては、例えば、グリシジル(メタ)アクリレート及び3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
架橋性官能基としてエポキシ基とビニル基とをもつ単量体(p)としては、例えば、ビニルシクロヘキセンモノオキサイド及びブタジエンモノオキサイド等が挙げられる。
架橋性官能基として(メタ)アクリロイル基とビニル基とをもつ単量体(q)としては、例えば、ビニルメタクリレート及びビニルオキシエチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
【0057】
架橋性官能基として(メタ)アクリロイル基とイソシアネート基とをもつ単量体(r)としては、例えば、2−(メタ)アクリロイルエチルイソシアネート及び(メタ)アクリロイルプロピルイソシアネート等が挙げられる。
架橋性官能基として(メタ)アクリロイル基とカルボキシル基とをもつ単量体(s)としては、例えば、(メタ)アクリレート、マレイン酸及び無水マレイン酸等が挙げられる。
架橋性官能基として(メタ)アクリロイル基とアリル基とをもつ単量体(t)としては、例えば、アリルメタクリレート及びアリルオキシエチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
架橋性官能基として(メタ)アクリロイル基とプロペニル基とをもつ単量体(u)としては、例えば、プロペニルメタクリレート及びプロペニルエチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
【0058】
架橋性官能基として第2級アミノ基とアリル基をもった単量体(v)としては、(f)の第一級アミノ基(−NH2基)の少なくとも一部が−NH−R(Rはアリル基)に置き換わったものが使用でき、例えば、ジ(アリルアミノ)エチレン、ジ(アリルアミノ)ヘキサン及び1,3−ジ(アリルアミノ)シクロヘキサン等が挙げられる。
【0059】
架橋性官能基として第2級アミノ基とプロペニル基をもった単量体(w)としては、(f)の第一級アミノ基(−NH2基)の少なくとも一部が−NH−R(Rはプロペニル基)に置き換わったものが使用でき、例えば、ジ(プロペニルアミノ)エチレン、ジ(プロペニルアミノ)ヘキサン及び1,3−ジ(プロペニルアミノ)シクロヘキサン等が挙げられる。
【0060】
これらの架橋性官能基をもつ単量体のうち、(n)、(o)、(p)、(q)、(s)、(t)及び(u)が好ましく、さらに好ましくは(n)、(o)、(p)及び(s)、特に好ましくは(n)及び(o)である。
これらの単量体は、それぞれ単独で、2種以上を組み合わせて、及び/又は他の共重合できる単量体と共に使用することができる。
【0061】
これらの2種以上を組み合わせる場合、共重合できる単量体の組合せは以下の通りである。
(a)と共重合できる単量体としては、(f)、(g)、(h)、(i)、(j)、(n)、(o)、(p)、(r)、(s)、(v)及び(w)等が用いられる。
(b)と共重合できる単量体としては、(c)、(d)、(e)、(k)、(m)、(n)、(o)、(p)、(q)、(r)、(s)、(t)、(u)、(v)及び(w)等が用いられる。
【0062】
(c)と共重合できる単量体としては、(b)、(d)、(e)、(k)、(m)、(n)、(o)、(p)、(q)、(r)、(s)、(t)、(u)、(v)及び(w)等が用いられる。
(d)と共重合できる単量体としては、(b)、(c)、(e)、(k)、(m)、(n)、(o)、(p)、(q)、(r)、(s)、(t)、(u)、(v)及び(w)等が使用できる。
(e)と共重合できる単量体としては、(b)、(c)、(d)、(k)、(m)、(n)、(o)、(p)、(q)、(r)、(s)、(t)、(u)、(v)及び(w)等が用いられる。
【0063】
(f)と共重合できる単量体としては、(a)、(g)、(h)、(i)、(j)、(n)、(o)、(p)、(r)、(s)、(v)及び(w)等が用いられる。
(g)と共重合できる単量体としては、(a)、(f)、(h)、(i)、(j)、(n)、(o)、(p)、(r)、(s)、(v)及び(w)等が用いられる。
(h)と共重合できる単量体としては、(a)、(f)、(g)、(i)、(j)、(n)、(o)、(p)、(r)、(s)、(v)及び(w)等が用いられる。
【0064】
(i)と共重合できる単量体としては、(a)、(f)、(g)、(h)、(j)、(n)、(o)、(p)、(r)、(s)、(v)及び(w)等が用いられる。
(j)と共重合できる単量体としては、(a)、(f)、(g)、(h)、(i)、(n)、(o)、(p)、(s)、(v)及び(w)等が用いられる。
(k)と共重合できる単量体としては、(b)、(c)、(d)、(e)、(m)、(n)、(o)、(p)、(q)、(r)、(s)、(t)、(u)、(v)及び(w)等が用いられる。
【0065】
(m)と共重合できる単量体としては、(b)、(c)、(d)、(e)、(k)、(n)、(o)、(p)、(q)、(r)、(s)、(t)、(u)、(v)及び(w)等が用いられる。
(n)と共重合できる単量体としては、(a)、(b)、(c)、(d)、(e)、(f)、(g)、(h)、(i)、(j)、(k)、(m)、(o)、(p)、(q)、(r)、(s)、(t)、(u)、(v)及び(w)等が用いられる。
【0066】
(o)と共重合できる単量体としては、(a)、(b)、(c)、(d)、(e)、(f)、(g)、(h)、(i)、(j)、(k)、(m)、(n)、(p)、(q)、(r)、(s)、(t)、(u)、(v)及び(w)等が用いられる。
(p)と共重合できる単量体としては、(a)、(b)、(c)、(d)、(e)、(f)、(g)、(h)、(i)、(j)、(k)、(m)、(n)、(o)、(q)、(r)、(s)、(t)、(u)、(v)及び(w)等が用いられる。
【0067】
(q)と共重合できる単量体としては、(b)、(c)、(d)、(e)、(k)、(m)、(n)、(o)、(p)、(r)、(s)、(t)、(u)、(v)及び(w)等が用いられる。
(r)と共重合できる単量体としては、(a)、(b)、(c)、(d)、(e)、(f)、(g)、(h)、(i)、(j)、(k)、(m)、(n)、(o)、(p)、(q)、(s)、(t)、(u)、(v)及び(w)等が用いられる。
【0068】
(s)と共重合できる単量体としては、(a)、(b)、(c)、(d)、(e)、(f)、(g)、(h)、(i)、(j)、(k)、(m)、(n)、(o)、(p)、(q)、(r)、(t)、(u)、(v)及び(w)等が用いられる。
(t)と共重合できる単量体としては、(b)、(c)、(d)、(e)、(k)、(m)、(n)、(o)、(p)、(q)、(r)、(s)、(u)、(v)及び(w)等が用いられる。
(u)と共重合できる単量体としては、(b)、(c)、(d)、(e)、(k)、(m)、(n)、(o)、(p)、(q)、(r)、(s)、(t)、(v)及び(w)等が用いられる。
【0069】
(v)と共重合できる単量体としては、(a)、(b)、(c)、(d)、(e)、(f)、(g)、(h)、(i)、(j)、(k)、(m)、(n)、(o)、(p)、(q)、(r)、(s)、(t)、(u)及び(w)等が用いられる。
(w)と共重合できる単量体としては、(a)、(b)、(c)、(d)、(e)、(f)、(g)、(h)、(i)、(j)、(k)、(m)、(n)、(o)、(p)、(q)、(r)、(s)、(t)、(u)及び(v)等が用いられる。
【0070】
他の共重合できる単量体としては、以下の(aa)〜(ww)等が使用できる。
(a)と共重合できる単量体(aa)としては、炭素数4〜24の炭化水素オキシド(aa1)、炭化水素(炭素数3〜21)のモノグリシジルエーテル(aa2)、炭素数1〜18の脂肪族カルボン酸(aa3)、炭素数7〜18の芳香族カルボン酸(aa4)、炭素数1〜18のアルコール(aa5)、炭素数6〜18のフェーノール(aa6)、炭素数1〜18の脂肪族アミン(aa7)、及び炭素数6〜18の芳香族アミン(aa8)等が用いられる。
【0071】
(aa1)炭化水素オキシドとしては、例えば、EO、PO、ブテンオキシド、炭素数5〜18のα−オレフィンオキシド(例えば、ペンタンオキシド、デセンオキシド及びオクタデセンオキシド等)及びスチレンオキシド等が挙げられる。
(aa2)炭化水素(炭素数4〜21)のモノグリシジルエーテルとしては、例えば、メチルグリシジルエーテル、プロピルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、2−エチルヘキシルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル及びオクタデシルグリシジルエーテル等が挙げられる。
【0072】
(aa3)脂肪族カルボン酸としては、例えば、酢酸、ブタン酸、2−エチルヘキサン酸、ウンデカン酸及びオクタデカン酸等が挙げられる。
(aa4)芳香族カルボン酸としては、例えば、安息香酸、p−メチル安息香酸及びナフタレンカルボン酸等が挙げられる。
(aa5)アルコールとしては、例えば、メタノール、イソプロパノール、ブタノール、2−エチルヘキサノール、テトラデシルアルコール、オクタデシルアルコール及びベンジルアルコール等が挙げられる。
(aa6)フェーノールとしては、例えば、フェノール、o−、m−若しくはp−クレゾール及びp−エチルフェノール等が挙げられる。
【0073】
(aa7)脂肪族アミンとしては、例えば、メチルアミン、ジメチルアミン、メチルブチルアミン、ウンデシルアミン、デカリルアミン及びオクタデシルアミン等が挙げられる。
(aa8)芳香族アミンとしては、例えば、アニリン、p−メチルアニリン、p−ウンデシルアニリン、m−メトキシアニリン及びナフチルアミン等が挙げられる。
【0074】
(b)と共重合できる単量体(bb)としては、炭素数〜20のオレフィン(bb1)、炭素数8〜18の重合性不飽和二重結合をもつ芳香族化合物(bb2)、炭素数5〜22の(メタ)アクリル酸アルキルエステル(bb3)及び炭素数4〜20の重合性脂肪酸エステル(bb4)等が用いられる。
(bb1)オレフィンとしては、例えば、エチレン、プロピレン、ブテン、1−オクテン、1−デセン、1−エイコセン、6−メチル−1,4:5,8−ジメタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オクタヒドロナフタレン、ノルボルネン、ジシクロペンタジエン及び5−エチリデン−2−ノルボルネン等が挙げられる。
【0075】
(bb2)重合性不飽和二重結合を有する芳香族化合物としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、o−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−デシルスチレン、p−クロロスチレン及びジビニルベンゼン等が挙げられる。
(bb3)(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ウンデシル(メタ)アクリレート及びオクタデシル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
(bb4)重合性脂肪酸エステルとしては、例えば、酢酸ビニル、プロパン酸ビニル、オクタデカン酸ビニル、酢酸アリル、ブタン酸アリル、酢酸プロペニル及びヘキサン酸プロペニル等が挙げられる。
【0076】
(c)と共重合できる単量体(cc)としては、(bb1)、(bb2)、(bb3)及び(bb4)等が用いられる。
(d)と共重合できる単量体(dd)としては、(bb1)、(bb2)、(bb3)及び(bb4)等が使用できる。
(e)と共重合できる単量体(ee)としては、(bb1)、(bb2)、(bb3)及び(bb4)等が用いられる。
(f)と共重合できる単量体(ff)としては、(aa1)、(aa2)、(aa3)、(aa4)、(aa5)、(aa6)、(aa7)及び(aa8)等が用いられる。
【0077】
(g)と共重合できる単量体(gg)としては、(aa1)、(aa2)、(aa3)、(aa4)、(aa5)、(aa6)、(aa7)及び(aa8)等が用いられる。
(h)と共重合できる単量体(hh)としては、(aa1)、(aa2)、(aa3)、(aa4)、(aa5)、(aa6)、(aa7)及び(aa8)等が用いられる。
(i)と共重合できる単量体(ii)としては、(aa1)、(aa2)、(aa3)、(aa4)、(aa5)、(aa6)、(aa7)及び(aa8)等が用いられる。
【0078】
(j)と共重合できる単量体(jj)としては、(aa1)、(aa2)、(aa3)、(aa4)、(aa5)、(aa6)、(aa7)及び(aa8)等が用いられる。
(k)と共重合できる単量体(kk)としては、(bb1)、(bb2)、(bb3)及び(bb4)等が用いられる。
(m)と共重合できる単量体(mm)としては、(bb1)、(bb2)、(bb3)及び(bb4)等が用いられる。
(n)と共重合できる単量体(nn)としては、(aa1)、(aa2)、(aa3)、(aa4)、(aa5)、(aa6)、(aa7)、(aa8)、(bb1)、(bb2)、(bb3)及び(bb4)等が用いられる。
【0079】
(o)と共重合できる単量体(oo)としては、(aa1)、(aa2)、(aa3)、(aa4)、(aa5)、(aa6)、(aa7)、(aa8)、(bb1)、(bb2)、(bb3)及び(bb4)等が用いられる。
(p)と共重合できる単量体(pp)としては、(aa1)、(aa2)、(aa3)、(aa4)、(aa5)、(aa6)、(aa7)、(aa8)、(bb1)、(bb2)、(bb3)及び(bb4)等が用いられる。
(q)と共重合できる単量体(qq)としては、(bb1)、(bb2)、(bb3)及び(bb4)等が用いられる。
【0080】
(r)と共重合できる単量体(qq)としては、(aa1)、(aa2)、(aa3)、(aa4)、(aa5)、(aa6)、(aa7)、(aa8)、(bb1)、(bb2)、(bb3)及び(bb4)等が用いられる。
(s)と共重合できる単量体(ss)としては、(aa1)、(aa2)、(aa3)、(aa4)、(aa5)、(aa6)、(aa7)、(aa8)、(bb1)、(bb2)、(bb3)及び(bb4)等が用いられる。
(t)と共重合できる単量体(tt)としては、(bb1)、(bb2)、(bb3)及び(bb4)等が用いられる。
【0081】
(u)と共重合できる単量体(uu)としては、(bb1)、(bb2)、(bb3)及び(bb4)等が用いられる。
(v)と共重合できる単量体(vv)としては、(aa1)、(aa2)、(aa3)、(aa4)、(aa5)、(aa6)、(aa7)、(aa8)、(bb1)、(bb2)、(bb3)及び(bb4)等が用いられる。
(w)と共重合できる単量体(ww)としては、(aa1)、(aa2)、(aa3)、(aa4)、(aa5)、(aa6)、(aa7)、(aa8)、(bb1)、(bb2)、(bb3)及び(bb4)等が用いられる。
【0082】
これら他の共重合できる単量体のうち、耐熱性、電気特性及び樹脂強度の観点から、(nn)、(oo)、(pp)、(qq)、(ss)、(tt)及び(uu)が好ましく、さらに好ましくは(nn)、(oo)、(pp)、(qq)及び(ss)、特に好ましくは(nn)及び(oo)、最も好ましくはスチレン、エチレン、プロピレン、6−メチル−1,4:5,8−オクタヒドロナフタレン、ノルボルネン、ジシクロペンタジエン及び5−エチリデン−2−ノルボルネンである。
これらの他の共重合できる単量体は、それぞれ単独で、2種以上を組み合わせて使用することができる。
【0083】
他の共重合できる単量体を使用する場合、他の共重合できる単量体の使用量は、特に限定はないが、耐熱性及び樹脂強度の観点から、全使用単量体の重量に基づいて、20〜80重量%が好ましく、さらに好ましくは35〜70重量%、特に好ましくは50〜60重量%である。
【0084】
▲1▼架橋性官能基をもった単量体を(共)重合する方法としては、特に限定はなく通常の方法が適用でき、例えば、必要により窒素で置換された反応容器内に、架橋性官能基をもった単量体及び必要によりこれと共重合できる単量体を滴下した後、適当な時間熟成させる方法等が適用できる。
反応温度は、通常0〜180℃、好ましくは60〜150℃である。また、熟成時間は、通常0〜50時間、好ましくは4〜15時間である。
また、2種以上の単量体を使用する場合は、重合形式はブロック型でもランダム型でもかまわない。
【0085】
重合には、溶剤を使用することができ、溶剤としては反応を阻害せず単量体及び生成する樹脂を溶解するものであれば特に制限はなく、例えば、芳香族溶剤(例えば、トルエン及びキシレン等)、ケトン溶剤(例えば、アセトン、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトン等)、エーテル溶剤(例えば、ジエチルエーテル、ジオキサン及びテトラヒドロフラン等)及びハロゲン溶剤(例えば、クロロホルム、四塩化炭素及びジクロロメタン等)等が用いられる。
溶剤を使用する場合、溶剤の使用量は、単量体の全重量に基づいて、20〜100重量%が好ましく、さらに好ましくは25〜80重量%、特に好ましくは30〜60重量%である。
【0086】
また、反応開始剤(C)を使用することができ、(C)としては特に限定はなく通常の反応に使用するものが用いられ、架橋性官能基の種類に応じて、ラジカル反応開始触媒(C1)、カチオン重合開始触媒(C2)、エステル化触媒(C3)、アミド化触媒(C4)、エポキシ開環触媒(C5)及びイソシアネート反応触媒(C6)等が用いられる。
ラジカル反応開始触媒(C1)としては、熱ラジカル反応開始触媒(C11)及び光ラジカル反応開始触媒(C12)等が使用できる。
熱ラジカル反応開始触媒(C11)としては、保存安定性の観点から10時間半減期温度が80℃以上のものが好ましく、さらに好ましくは120℃以上のものであり、過酸化物及びアゾ化合物等が用いられる。
【0087】
過酸化物としては、例えば、t−ブチルパーオキシアセテート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、ジクミルパーオキシド、t−ブチルクミルパーオキシド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキシン−3、クメンハイドロパーオキシド、ベンゾイルパーオキサイド、ビス(t−ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン、ジ−t−ブチルパーオキシド、2,5−ジメチル−2,5−ビス(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルクミルパーオキサイド、P−メンタンヒドロパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ビス(t−ブチルパーオキシ)ヘキシン−3及びジクミルパーオキシド等が挙げられる。
【0088】
アゾ化合物としては、例えば、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル及び1,1’−アゾビス(1−シクロヘキサンカルボニトリル)等が挙げられる。
光ラジカル反応開始触媒(C12)としては、例えば、ベンゾインアルキルエーテル、ベンジルジメチルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、ベンゾフェノン、メチルベンゾイルフォーメート及びイソプロピルチオキサントン等が挙げられる。
【0089】
また、これらの光ラジカル反応開始触媒(C12)とともに増感剤を使用することができ、ニトロ化合物(例えば、アントラキノン、1,2−ナフトキノン、1,4−ナフトキノン,ベンズアントロン、p,p’−テトラメチルジアミノベンゾフェノン、クロラニル等のカルボニル化合物、ニトロベンゼン、p−ジニトロベンゼン及び2−ニトロフルオレン等)、芳香族炭化水素(例えば、アントラセン及びクリセン等)、硫黄化合物(例えば、ジフェニルジスルフィド等)及び窒素化合物(例えば、ニトロアニリン、2−クロロ−4−ニトロアニリン、5−ニトロ−2−アミノトルエン及びテトラシアノエチレン等)等が挙げられる。
【0090】
カチオン重合触媒(C2)としては、熱カチオン重合触媒(C21)及び光カチオン重合触媒(C22)等が使用できる。
熱カチオン重合触媒(C21)としては、オニウム塩系触媒(例えば、トリアリールスルホニウム塩及びジアリールヨードニウム塩等)等が使用でき、例えば、サンエイドSIシリーズ(商品名、三新化学工業社製)等が挙げられる。
【0091】
光カチオン重合触媒(C22)としては、例えば、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムホスフェート、p−(フェニルチオ)フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、p−(フェニルチオ)フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、4−クロロフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、4−クロロフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス[4−(ジフェニルスルフォニオ)フェニル]スルフィドビスヘキサフルオロフォスフェート、ビス[4−(ジフェニルスルフォニオ)フェニル]スルフィドビスヘキサフルオロアンチモネート、(2,4−シクロペンタジエン−1−イル)[(1−メチルエチル)ベンゼン]−Fe−ヘキサフルオロホスフェート及びジアリルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート等が挙げられる。
これらは、市場から容易に入手することができ、例えば、SP−150、SP−170(旭電化(株)製商品名)、イルガキュアー261(チバ・ガイギー社製商品名)、UVR−6974、UVR−6990(ユニオンカーバイド社製商品名)、CI−2855(日本曹達社製商品名)及びCD−1012(サートマー社製商品名)等が挙げられる。
【0092】
エステル化触媒(C3)及びアミド化触媒(C4)としては、例えば、酸触媒(塩酸、硫酸、燐酸、メタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸及びトリフルオロボラン等)、アルカリ(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデセン−7(DBU、サンアプロ社製、登録商標)等)、及び金属錯体(例えば、テトラプロピルチタン等)等が挙げられる。
【0093】
エポキシ開環触媒(C5)としては、例えば、イミダゾール触媒(2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール及び1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール等)、第3級アミン(ベンジルメチルアミン、2−(ジメチルアミノメチル)フェノール、2,4,6−トリス(ジアミノメチル)フェノール、トリエチルアミン及びDBU等)、及びオニウム塩(三新化学工業(株)社製、サンエイドSIシリーズ等)等が挙げられる。
【0094】
イソシアネート反応触媒(C6)としては、有機金属化合物(例えば、トリメチルチンラウレート、トリメチルチンヒドロキサイド、ジメチルチンジラウレート、ジブチルチンジアセテート、ジブチルチンジラウレート、スタナスオクトエート、ジブチルチンマレエート、オレイン酸鉛、2−エチルヘキサン酸鉛、ナフテン酸鉛、オクテン酸鉛、オクタン酸ビスマス、ナフテン酸ビスマス、ナフテン酸コバルト及びフェニル水銀プロピオン酸塩等)、並びに3級アミン(例えば、DBU、N−メチルモルホリン、N−エチルモルホリン、メチルジブチルアミン、トリエチルアミン、並びにこれらの炭酸塩及び炭素数1〜8の有機酸塩(ギ酸塩等)等)等が挙げられる。
これらの反応開始剤(C)は、1種でも2種以上の混合物としてでも使用できる。
反応開始剤(C)を使用する場合、(C)の使用量は、単量体の合計重量に基づいて、0.001〜3.0重量%が好ましく、さらに好ましくは0.01〜2.0重量%、特に好ましくは0.05〜1.0重量%である。
【0095】
また、樹脂(A)中に少なくとも2個の架橋性官能基を残すために、重合禁止剤を使用することができ、重合禁止剤としては特に限定はなく通常の反応に使用するものが用いられ、例えば、ジフェニルヒドラジル、トリ−p−ニトルフェニルメチル、N−(3−N−オキシアニリノ−1,3−ジメチルブチリデン)アニリンオキシド、p−ベンゾキノン、p−tert−ブチルカテコール、ニトロベンゼン、ピクリン酸、ジチオベンゾイルジスルフィド及び塩化銅(II)等が挙げられる。
重合禁止剤を使用する場合、重合禁止剤の使用量は、単量体の合計重量に基づいて、0.1〜5.0重量%が好ましく、さらに好ましくは0.1〜2.0重量%、特に好ましくは0.5〜1.0である。
【0096】
▲2▼架橋性官能基を有する樹脂に架橋性官能基をもった単量体を反応させて架橋性官能基を変換する方法としては、特に限定はなく通常の方法が適用でき、例えば、▲1▼の方法で製造した架橋性官能基を少なくとも2個もった樹脂に架橋性官能基をもった単量体を滴下した後、適当な時間熟成させる方法が適用できる。
反応温度、熟成時間、溶剤、反応開始剤及び重合禁止剤については、▲1▼の方法と同様である。
【0097】
また、樹脂中の架橋性官能基すべてと反応させてもよく、その一部とのみ反応させてもよい。その一部と反応させるには架橋性官能基をもった単量体の使用量を制限することにより容易に達成できる。
例えば、(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチル(20〜80重量部)とスチレン(80〜20重量部)とを共重合させて得られた樹脂に、(メタ)アクリル酸をエステル化反応により、架橋性官能基を水酸基から(メタ)アクリロイル基に変換することができる。
【0098】
なお、▲1▼の方法で製造した樹脂に代えて、架橋性官能基をもたない樹脂に架橋性官能基をもった単量体をグラフト反応により導入することもできる。
例えば、窒素で置換された反応容器内にプロピレンが30モル部、5−エチリデン−2−ノルボルネンが70モル部と溶剤を仕込み、遷移金属化合物(例えばチタン化合物)/アルミニウム化合物系触媒等を用いて付加共重合して共重合体を得た後、この重合体にグリシジル(メタ)アクリレート、ビニルシクロヘキセンモノオキサイド、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート等の架橋官能基をもったモノマーをグラフトさせることにより架橋性官能基を導入することができる。
【0099】
低分子化合物(B)のMwは、170〜3,000であり、本発明の樹脂組成物の硬化後の強度及びその粘度の観点から、好ましくは200〜1,500である。
(B)の架橋官能基としては、(A)と同種類であり、好ましいものも同じである。
(B)の架橋性官能基の数は、少なくとも2個であり、好ましくは2〜5,000個、さらに好ましくは3〜3,000個、特に好ましくは5〜1,000個、さらに特に好ましくは7〜500個、最も好ましくは10〜200個である。(B)としては、例えば、(a)〜(w)の他、架橋性官能基を1個有する単量体として、(aa1)〜(aa8)及び(bb1)〜(bb4)等が使用でき、これらの他に以下のモノエポキシド(x)、ポリエポキシド(y)及び硬化剤(z)等が使用できる。
【00100】
モノエポキシド(x)としては、モノカルボン酸(炭素数3〜30)のグリシジルエステル(x1)及びシクロヘキセンモノオキサイド基含有化合物(x2)が用いられる。
モノカルボン酸のグリシジルエステル(x1)としては、例えば、グリシジル(メタ)アクリレート、エピハロヒドリン(例えば、エピクロルヒドリン、エピブロモヒドリン等)及び水酸基含有オキシド(例えば、グリシドール等)等が挙げられる。
【00101】
シクロヘキセンモノオキサイド基含有化合物(x2)としては、例えば、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシメチルシクロヘキサンカルボキシレート及び3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシ−6’−メチルシクロヘキサンカルボキシレート等が挙げられる。
【0102】
ポリエポキシド(y)としては、ビニルシクロヘキセンジオキシド、ビス(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル)アジペート、フェノール若しくはクレゾールノボラック樹脂(Mw400〜3,000)のグリシジルエーテル、リモネンフェノールノボラック樹脂(Mw400〜3,000)のグリシジルエーテル、フェノールとグリオキザール、グルタールアルデヒド若しくはホルムアルデヒドの縮合反応によつて得られるポリフェノール(Mw400〜3,000)のポリグリシジルエーテル、レゾルシンとアセトンの縮合反応によって得られるMw400〜3,000のポリフェノールのポリグリシジルエーテル、グリシジル(メタ)アクリレートの(共)重合体(重合度は例えば2〜10)、エポキシ当量130〜1,000のエポキシ化ポリブタジエン(Mw170〜3,000)、及びエポキシ化大豆油(Mw170〜3,000)等が挙げられる。
【0103】
硬化剤(z)としては、(h)、(aa3)又は(aa4)の酸無水物等が挙げられる。
これらの低分子化合物(B)のうち、(a)、(b)、(c)、(d)、(e)、(m)、(n)、(o)、(p)、(q)、(r)、(s)、(t)、(u)、(h)、(aa3)及び(aa4)が好ましく、さらに好ましくは(a)、(b)、(n)、(o)、(p)及び(s)、特に好ましくは(a)、(b)、(n)及び(o)である。
【0104】
モノエポキシド(x)、ポリエポキシド(y)及び硬化剤(z)等を使用する場合、これらの使用重量は、特に限定はないが、耐熱性及び樹脂強度の観点から、全使用単量体の重量に基づいて、20〜80重量%が好ましく、さらに好ましくは30〜70重量%、特に好ましくは40〜60重量%である。
(A)と(B)との使用重量比(A:B)は、10〜95:5〜90が好ましく、さらに好ましくは20〜90:10〜80、特に好ましくは30〜80:20〜70である。
【0105】
本発明の硬化性樹脂組成物には、反応開始剤(C)を使用することができる。(C)は、本発明の硬化性樹脂組成物の使用直前に添加してもよく、硬化性樹脂組成物の製造時に添加してもよい。
(C)を使用する場合、(C)の使用量((A)調製時に使用したものを含まない。)は、(A)と(B)との合計重量に基づいて、0.001〜10重量%が好ましく、さらに好ましくは0.01〜8重量%、特に好ましくは0.05〜5重量%、最も好ましくは0.1〜2重量%である。
【0106】
本発明の硬化性樹脂組成物には、他の添加剤(D)、他の樹脂(E)、ゴム(F)及びフィラー(G)等を含有させることができる。
他の添加剤(D)としては、例えば、フェノール系老化防止剤、リン系老化防止剤、難燃剤、フェノール系熱劣化防止剤、ベンゾフェノン系紫外線安定剤及び帯電防止剤等が挙げられる。
(D)を使用する場合、(D)の使用量は、(A)と(B)との合計重量に基づいて、0.001〜3.0重量%が好ましく、さらに好ましくは0.01〜2.0重量%、特に好ましくは0.05〜1.0重量%である。
【0107】
他の樹脂(E)としては、例えば、ABS樹脂、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリフェニレンオキサイド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリフェニレンサルファイド、ポリイミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン及びポリアリレート等が挙げられる。
(E)を使用する場合、(E)の使用量は、(A)と(B)との合計重量に基づいて、1〜45重量%が好ましく、さらに好ましくは5〜40重量%、特に好ましくは10〜30重量%である。
【0108】
ゴム(F)としては、例えば、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、スチレン/イソプレンゴム、ニトリルゴム、クロロプレンゴム及びエチレン−プロピレンゴム等が挙げられる。
(F)を使用する場合、(F)の使用量は、(A)と(B)との合計重量に基づいて、1〜40重量%が好ましく、さらに好ましくは5〜30重量%、特に好ましくは8〜25重量%である。
【0109】
フィラー(G)としては、例えば、シリカ、アルミナ、炭酸カルシウム、硫酸バリウム及び酸化チタン等が挙げられる。
(G)を使用する場合、(G)の使用量は、(A)と(B)との合計重量に基づいて、1〜50重量%が好ましく、さらに好ましくは5〜40重量%、特に好ましくは8〜30重量%である。
【0110】
さらに本発明の硬化性樹脂組成物は、溶剤を含有させることができる。
溶剤としては、(A)の重合の際に使用できる溶剤と同じものが使用できる。(A)の重合の際に溶剤を除去せずそのまま本発明の硬化性樹脂組成物としてもよく、(A)の重合の際に溶剤を除去した後、本発明の硬化性樹脂組成物の製造時に(A)の重合に使用したと同種又は異種の溶剤を添加してもよく、(B)と溶剤を混合して(A)と混合してもよい。
溶剤を使用する場合、溶剤の使用量は、(A)(溶剤を含まない重量)と(B)との合計重量に基づいて、5〜90重量%が好ましく、さらに好ましくは10〜80重量%、特に好ましくは30〜70重量%である。
【0111】
本発明の硬化性樹脂組成物は、(A)と(B)及び必要に応じて(C)〜(G)を通常の方法で均一に混合することにより容易に製造でき、例えば、以下の(1)〜(3)の方法によって製造できる。
(1)(A)と(B)とを配合してから必要に応じて(C)〜(G)及び/又は溶剤を混合する方法。
(2)(A)と必要に応じて(C)〜(G)及び/又は溶剤とを配合してから、(B)を混合する方法。
(3)(A)及び(B)と必要に応じて(C)〜(G)及び/又は溶剤とを同時に混合する方法
【0112】
本発明の硬化性樹脂組成物の硬化後の誘電率(JIS K6911(1995年)5.14に準拠。)は、1GHzにおいて3.5以下であり、好ましくは2〜3.5である。誘電率が3.5を超えると電子部品の集積回路に応用した場合、信号の遅延が生じ回路の高性能化が困難な傾向がある。また、誘電率が2以上であると、硬化性樹脂組成物内に気泡を分散させなくてもよく、樹脂強度が低下しない。
【0113】
この誘電率を調整する手法としては、(A)の製造原料となる単量体の種類により調整する方法、例えば、エチレン、プロピレン、ブタジエン、イソプレン、炭素数4以上の(メタ)アクリル酸エステル及びスチレン等の全単量体に対する使用割合を多くすると誘電率は低くなる傾向にあり、(メタ)アクリル酸及びアクリロニトリル等の使用量を多くすると誘電率を高くなる傾向がある。
例えば、誘電率が2〜3.5となる組成としては、スチレン/グリシジル(メタ)アクリレート=10〜55/90〜45質量部と4−メチルシクロヘキサン−1、2−ジカルボン酸無水物との量論比(当量比)混合物等が挙げられる。
また、本発明の硬化性樹脂組成物の硬化後の煮沸吸水率(JIS K7209(2000年)6.3B法に準拠)は、3.00〜0.001%が好ましく、さらに好ましくは2.50〜0.005%、特に好ましくは2.00〜0.01%である。
【0114】
本発明の硬化性樹脂組成物の形態としては、例えば、液状(溶液状を含む)及びフィルム状(板状及びシート状を含む)のいずれでもよく、フィルム厚みは、1〜100μmが好ましく、さらに好ましくは5〜50μmであり、特に好ましくは15〜50μmである。
フィルム状にするには、液状の本発明の硬化性樹脂組成物を通常の成型方法、例えば、カーテンコーター、ナイフコーター、スプレーガン、ロールコーター、スピンコーター、ディスペンサー、バーコーター及びスクリーン印刷機等を用いて支持体又は基材等に塗布する方法、又はディッピング法や射出成型法等によりフィルム状とすることができる。
フィルム状の場合でも加熱(熱プレス等)により軟化し、基材等の微小部分(凹凸部分等)への入り込み性も良好であり、加工性に優れる。
支持体を使用する場合は支持体上のフィルムを基材等に転写して使用でき、基材等を使用する場合はそのまま使用できる。
塗布後は、溶剤等を乾燥させる目的で、加熱する事が好ましい。加熱条件としては、例えば、温度:10〜150℃(好ましくは20〜120℃)、時間:1〜60分(好ましくは2〜40分)である。
【0115】
支持体としては、例えば、PET(ポリエチレンテレフタレート)、ポリエチレン、ポリプロピレン及びこれらの変性体等が使用できる。
基材としては、導電(銅、金、銀及びアルミニウム等)回路を有する各種プリント配線板等が使用でき、例えば、基板製造用樹脂(エポキシ樹脂、ビスマレイミドトリアジン樹脂(BT)及びポリアミド樹脂等)を不織布(ガラス繊維不織布、アラミド繊維不織布等)等に含浸、あるいは基板製造用樹脂にガラス繊維を添加する等して硬化させたものの上に銅回路を接着させたもの(例えば、BT基板、ガラスエポキシ基板、紙フェノール基板及び紙エポキシ基板等)等が使用できる。
【0116】
本発明の硬化性樹脂組成物は、加熱硬化することにより、絶縁体として使用することができ、オーバーコート材料、層間絶縁材料及びプリント回路基板等として好適であり、特にオーバーコート材料及び層間絶縁材料として好適である。
そして、電子素子(半導体素子、発光ダイオード及び各種メモリー等)、ハイブリッドIC、MCM、電気配線回路基板若しくは表示部品等のオーバコート材料又は層間絶縁材料として最適である。
加熱硬化の条件としては、80〜250℃(好ましくは120〜200℃)で、0.1〜15時間(好ましくは0.2〜12時間)等である。
【0117】
本発明の組成物を絶縁体として使用する方法としては、例えば、層間絶縁材料として用いる場合、基材に本発明の液状の組成物を塗布するか、又は本発明のフィルム状の組成物を張り合わせた後、熱プレスし、必要に応じて穴開け等(粗化、導電回路形成等)の加工を行い、さらに基材を張り合わせ、この操作を繰り返し、最後に加熱硬化することにより多層化する方法等が挙げられる。
また、本発明の組成物を多層基板の基板材の一部として使用する場合、基材に本発明の液状の組成物を塗布するか、又は本発明のフィルム状の組成物を張り合わせた後、熱プレスし、必要に応じて穴開け等の加工を行い、この操作を繰り返し、最後に加熱硬化することにより多層化する方法等が挙げられる。
なお、基材を用いずそのままプリント配線基板として使用することもできる。
【0118】
電子回路の多層回路基板等の層間絶縁材料として用いられる場合、一つの層間絶縁層は一層又は多層からなってもよく、その膜厚は1〜100μmが好ましく、さらに好ましくは15〜50μmである。
熱プレスの条件としては、温度25〜180℃(好ましくは50〜150℃)、圧力0.01MPa〜10MPa(好ましくは0.1〜1MPa)、時間1〜1200秒(好ましくは10〜300秒)等が好ましい。
多層基板の層間を導通するための穴(ビアホール及びスルホール等)は、通常の方法で作成でき、例えば、レーザー(炭酸ガス、YAG及びエキシマ等)及びドリル等を用いる方法等が使用できる。
粗化は、通常の方法で行うことができ、例えば、特公平6−49852号公報に記載の方法等が使用できる。
導電回路は、通常の方法により形成でき、例えば、スパッタ法及び無電解法等が使用できる。
【0119】
本発明の硬化性樹脂組成物から得られる絶縁体は、体積抵抗(JIS K6011(1995年)に準拠)が1015〜1017Ω/cmであり、従来用いられている絶縁材料であるエポキシ樹脂やポリイミド樹脂に比べて、電気絶縁性に優れている。
また、酸化剤処理、無電解銅メッキにより形成した銅との密着性も良好であり、ピール強度(JIS C6481(1995年)5.7に準拠)は、0.8kgf/cm以上を示す。
一方、耐熱性は従来の絶縁体と同等であり300℃のハンダに1分間接触させても、パターンのダレ、くずれ及びふくれ等の異常は認められず、また、各種溶剤に対する耐クラック性等も極めて良好である。
また、本発明における絶縁材料は、JIS K 6911(1995年)5.32に定める手法により測定する10%耐硫酸性、10%耐塩酸性、10%耐硝酸性及び10%耐水酸化ナトリウム性に優れる。
従って、本発明の硬化性樹脂組成物は、電子回路の高速化、高密度化にとって大きなメリットを有する。
【実施例】
以下、実施例により本発明をさらに説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。以下、部は質量部を、%は質量%を表す。
合成例1
窒素で置換された反応容器内にメチルエチルケトンを50部を仕込み、80℃に昇温し、別の窒素置換された容器内で均一溶解させたグリシジルメタクリレート200部、スチレン200部、メチルエチルケトン200部及びアゾビスイソブチロニトリル1.5部からなる混合物を反応容器内に4時間かけて滴下した。滴下終了後、100℃で4時間熟成させて、スチレン/グリシジルメタクリレート=50部/50部の樹脂(A1)の溶液を得た。
(A1)のMwは160,000、GPCによる数平均分子量(以下Mnと略する。)は53,000、エポキシ当量は284であり、Mnとエポキシ当量とから(A1)の架橋性官能基(エポキシ基)の数は187であった。
(A1)をメチルエチルケトンを用い、固形分が40%になるように調製して、樹脂溶液(A11)を得た。
【0120】
合成例2
以下の重合実験は窒素で置換されたグローブボックス内で行った。
攪拌装置及び温度制御装置付きの4つ口フラスコにトルエン100部を仕込み、攪拌しながら30℃に温調し、次いで、塩化ジエチルアルミニウムのヘキサン溶液(触媒濃度0.2mmol/ml)5重量部、オキシ3塩化バナジウムのヘキサン溶液(触媒濃度0.02mmol/ml)5重量部、5−エチリデン−2−ノルボルネン50部及び1−ヘキセン50部を仕込み、30℃で120分間重合した。
この共重合溶液を3000部のイソプロパノール中に攪拌しながら滴下し、沈殿を生じさせ、この沈殿物を減圧乾燥機内で、100℃、10mmHgの減圧下で溶媒を留去させて、樹脂(A2)70部を得た。
(A2)のMwは、98,000であった。
【0121】
(A2)100部とグリシジルメタクリレート20部及び2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン(日本油脂(株)製、商品名:パーヘキサ25B)7.0部を室温でドライブレンドした後、シリンダー温度260℃、スクリュー回転数230rpmの条件で2軸押出機により押出して樹脂(A3)を得た。
(A3)のMwは117,000、Mnは29,000、エポキシ当量は850であり、Mnとエポキシ当量とから(A3)の架橋性官能基(エポキシ基)の数は138であった。
(A3)を固形分が40%になるようにしてトルエンに溶解し、樹脂溶液(A33)を得た。
【0122】
合成例3
6−メチル−1,4:5,8−ジメタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オクタヒドロナフタレン(MTD)を公知の方法にて開環重合して製造した環状オレフィン樹脂(Mw28,000)100部とグリシジルメタクリレート20部及び2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン(日本油脂(株)製、商品名:パーヘキサ25B)7.0部を室温でドライブレンドした後、シリンダー温度260℃、スクリュー回転数230rpmの条件で2軸押出機により押出し、樹脂(A4)を得た。
(A4)のMwは33,000、Mnは8,400、エポキシ当量は840であり、Mnとエポキシ当量とから(A4)の架橋性官能基(エポキシ基)の数は10であった。
(A4)を固形分が40%となるようにトルエンに溶解し、樹脂溶液(A44)を得た。
【0123】
合成例4
窒素で置換された反応容器内にメチルエチルケトンを50部を仕込み、80℃に昇温し、別の窒素置換された容器内で均一溶解させたヒドロキシエチルメタクリレート200部、スチレン200部、メチルエチルケトン200部及びアゾビスイソブチロニトリル1.5部からなる混合物を反応容器内に4時間かけて滴下した。
滴下終了後、100℃で4時間熟成させ、樹脂(A5)のメチルエチルケトン溶液を得た。
樹脂(A5)のメチルエチルケトン溶液100部にアクリル酸30部を加え、溶媒(メチルエチルケトン)を追加しながら、減圧下、100℃で4時間エステル化反応させ、樹脂(A6)のメチルエチルケトン溶液を得た。
(A6)のMwは160,000、Mnは45,000、NMRより分析したアクリロイル基の当量は、610であり、Mnとアクリロイル基当量とから(A6)の架橋性官能基(アクリロイル基)の数は74であった。
(A6)を固形分が40%となるようにメチルエチルケトンを追加して調整し、樹脂溶液(A66)を得た。
【0124】
合成例5
合成例4で得た樹脂(A5)のメチルエチルケトン溶液100部にメタクリル酸30部を加え、メチルエチルケトンを追加しながら、減圧下、100℃で4時間反応させ、樹脂(A7)のメチルエチルケトン溶液を得た。
(A7)のMwは160,000、Mnは45,000、NMRより分析したメタクリロイル基の当量は、625であり、Mnとメタクリロイル基当量とから(A7)の架橋性官能基(メタクロイル基)の数は72であった。
(A7)を固形分が40%となるようにメチルエチルケトンを追加して調整し、樹脂溶液(A77)を得た。
【0125】
実施例1
樹脂溶液(A11)175部に、レゾルシノールジグリシジルエーテルを30部、2−エチル−4−メチルイミダゾールを6部加えて攪拌混合した。
これを50μm厚みのPETフィルム上(257mm×364mm)にナイフコーター(康井精機製;ナイフコーターSNC−300)を用いて塗布し、60℃で30分乾燥させ、溶媒を除去し、PETフィルム上に本発明の硬化性樹脂組成物▲1▼を調製した。硬化性樹脂組成物▲1▼の厚みを測定したところ47±2μmであった。
【0126】
硬化性樹脂組成物▲1▼をBT基板(三菱ガス化学工業(株)製、CCL−830、100mm×100mm、裏表両面のそれぞれ半分の銅箔をエッチングにより除去したもの)に接触させて120℃、5分、0.4kgfの条件で熱プレスした後、PETフィルムを剥がし180℃で3時間加熱硬化させて評価用サンプル▲1▼を得た。
評価用サンプル▲1▼を用いて、−55℃を30分継続後、125℃を30分継続させ(温度上昇速度、温度下降速度はいずれも100℃/min)、これを繰り返す熱サイクルテストを行ったところ、1000サイクル後でも割れ、ふくれ、剥がれの不良は見られなかった。
また、JIS K6911(1995年)5.14に準拠して測定した1GHzにおける硬化性樹脂組成物▲1▼の硬化後の誘電率は2.9であった。
【0127】
参考例3
樹脂溶液(A33)175部に、レゾルシノールジグリシジルエーテルを30部、2−エチル−4−メチルイミダゾールを6部加えて攪拌混合した。
これを50μm厚みのPETフィルム(257mm×364mm)上にナイフコーター(康井精機製;ナイフコーターSNC−300)を用いて塗布し、60℃で30分乾燥させ、溶媒を除去し、PETフィルム上に本発明の硬化性樹脂組成物(2)を調整した。硬化性樹脂組成物(2)の厚みを測定したところ47±2μmであった。
【0128】
硬化性樹脂組成物▲2▼を用いて、実施例1と同様にして評価用サンプル▲2▼を得た。
評価用サンプル▲2▼を用いて、実施例1と同様にして熱サイクルテストを行ったところ、1000サイクル後でも割れ、ふくれ、剥がれの不良は見られなかった。
また、実施例1と同様にして測定した硬化性樹脂組成物▲2▼の硬化後の誘電率は2.5であった。
【0129】
参考例4
樹脂溶液(A44)175部に、レゾルシノールジグリシジルエーテルを30部、2−エチル−4−メチルイミダゾールを6部加えて攪拌混合した。
これを50μm厚みのPETフィルム(257mm×364mm)上にナイフコーター(康井精機製;ナイフコーターSNC−300)を用いて塗布し、60℃で30分乾燥させ、溶媒を除去し、PETフィルム上に本発明の硬化性樹脂組成物(3)を調整した。硬化性樹脂組成物(3)の厚みを測定したところ47±2μmであった。
【0130】
硬化性樹脂組成物▲3▼を用いて、実施例1と同様にして評価用サンプル▲3▼を得た。
評価用サンプル▲3▼を用いて、実施例1と同様にして熱サイクルテストを行ったところ、1000サイクル後でも割れ、ふくれ、剥がれの不良は見られなかった。
また、実施例1と同様にして測定した硬化性樹脂組成物▲3▼の硬化後の誘電率は2.7であった。
【0131】
参考例1
樹脂溶液(A66)175部に、エチレングリコールジアクリレートを30部、ジクミルパーオキサイドを5部加えて攪拌混合した。
これを50μm厚みのPETフィルム(257mm×364mm)上にナイフコーター(康井精機製;ナイフコーターSNC−300)を用いて塗布し、60℃で30分乾燥させ、溶媒を除去し、PETフィルム上に本発明の硬化性樹脂組成物(4)を調整した。硬化性樹脂組成物(4)の厚みを測定したところ47±2μmであった。
【0132】
硬化性樹脂組成物▲4▼を用いて、実施例1と同様にして評価用サンプル▲4▼を得た。
評価用サンプル▲4▼を用いて、実施例1と同様にして熱サイクルテストを行ったところ、1000サイクル後でも割れ、ふくれ、剥がれの不良は見られなかった。
また、実施例1と同様にして測定した硬化性樹脂組成物▲4▼の硬化後の誘電率は2.9であった。
【0133】
参考例2
樹脂溶液(A77)175部に、エチレングリコールジアクリレートを30部、ジクミルパーオキサイドを5部加えて攪拌混合した。
これを50μm厚みのPETフィルム(257mm×364mm)上にナイフコーター(康井精機製;ナイフコーターSNC−300)を用いて塗布し、60℃で30分乾燥させ、溶媒を除去し、PETフィルム上に本発明の硬化性樹脂組成物(5)を調整した。硬化性樹脂組成物(5)の厚みを測定したところ47±2μmであった。
【0134】
硬化性樹脂組成物▲5▼を用いて、実施例1と同様にして評価用サンプル▲5▼を得た。
この評価用サンプル▲5▼を用いて、実施例1と同様にして熱サイクルテストを行ったところ、1000サイクル後でも割れ、ふくれ、剥がれの不良は見られなかった。
また、実施例1と同様にして測定した硬化性樹脂組成物▲5▼の硬化後の誘電率は2.9であった。
【0135】
比較例1
エピコート828(油化シェルエポキシ(株)製商品名;ビスフェノールA型エポキシ樹脂)100部に85部の4−メチルシクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸を添加して撹拌混合し、ナイフコーター(康井精機製;ナイフコーターSNC−300)を用いてBT基板(三菱ガス化学工業(株)製、CCL−830、100mm×100mm、裏表両面のそれぞれ半分の銅箔をエッチングにより除去したもの)上に62±2μmの厚みで塗布した後、180℃で3時間加熱硬化させて比較評価用サンプル▲5▼を得た。
比較評価用サンプル▲5▼を用いて、実施例1と同様にして熱サイクルテストを行ったが500サイクルにて1個/cm2の割合で割れが発生した。また、実施例1と同様にして測定した誘電率は3.6であった。
【0136】
比較例2
Mw1040のクレゾールノボラックエポキシ樹脂100部に95部の4−メチルシクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸を添加して撹拌混合し、ナイフコーター(康井精機製;ナイフコーターSNC−300)を用いてBT基板(三菱ガス化学工業(株)製、CCL−830、100mm×100mm、裏表両面のそれぞれ半分の銅箔をエッチングにより除去したもの)上に62±2μmの厚みで塗布した後、180℃で3時間加熱硬化させて比較評価用サンプル▲6▼を得た。
この比較評価用サンプル▲6▼を用いて、実施例1と同様にして熱サイクルテストを行ったが700サイクルにて1個/cm2の割合で割れが発生した。また、実施例1と同様にして測定した誘電率は3.5であった。
【0137】
【発明の効果】
本発明の硬化性樹脂組成物は、耐熱衝撃性及び誘電特性に極めて優れた絶縁体を生産し得る。
さらに、本発明の硬化性樹脂組成物は、接着性、耐熱性、耐溶剤性、低吸水性、電気絶縁性、耐薬品性及び加工性等に優れた絶縁体を形成することができる。従って、特に各種電気機器、電子部品若しくは半導体素子に使用される回路基板に用いるオーバーコート材料又は層間絶縁材料に最適である。
なお、本発明の硬化性樹脂組成物は、回路基板等の技術分野に限定されず、種々の分野で用いることができ、特に薄膜の形成に使用することができる極めて有用な材料である。
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a curable resin composition and an insulator comprising the same. More specifically, the present invention relates to a curable resin composition suitable as an overcoat material or an interlayer insulating material for circuit boards used for various electric devices, electronic components, semiconductor elements, and the like, and an insulator made thereof.
[0002]
[Prior art]
Insulation materials such as epoxy resin composition and polyimide resin have moisture resistance, defects such as dielectric properties in high frequency range, polyolefin resin and polyphenylene ether resin have heat resistance, solvent resistance, etc. In order to solve the problem, for example, a copolymer of norbornene monomer and ethylene is subjected to sulfur crosslinking, organic oxide crosslinking, electron beam crosslinking, or radiation crosslinking (Japanese Patent Laid-Open No. 62-34924), propargyl group or allyl. Examples using polyphenylene ether substituted with a group, polyphenylene ether containing a double bond, and unsaturated carboxylic acid or acid anhydride-modified polyphenylene ether (JP-A-1-69628, JP-A-1-69629, JP-A-1-113425, JP-A-1-113426, JP-A-1-239 17 No., etc.) and the like are known.
[0003]
[Problems to be solved by the invention]
However, the former has a problem in application to insulating materials such as overcoat materials and interlayer insulating materials because the dielectric constant is as high as 3.7 or more.
In the latter case, allyl group, olefinically unsaturated group or unsaturated carboxylic acid is used as the curing functional group, so that curing reactivity, particularly curing reactivity in oxygen (in air) is inferior, and thermal shock Lack of sex.
That is, an object of the present invention is to provide a curable resin composition capable of producing an insulator excellent in thermal shock resistance and dielectric properties.
[0004]
[Means for Solving the Problems]
The inventors of the present invention have reached the present invention as a result of intensive studies to achieve the above object. That is, the curable resin composition of the present invention is characterized by a resin (A) having at least two crosslinkable functional groups in the molecule, and at least 2 crosslinkable functional groups of the same type as (A) in the molecule. A low molecular weight compound (B) having a number, (A) has a weight average molecular weight of 3,000 to 1,000,000, (B) has a weight average molecular weight of 170 to 3,000, The dielectric constant after curing is 3.5 or less.
[0005]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Examples of the crosslinkable functional group possessed by (A) include an epoxy group, a (meth) acryloyl group, a vinyl group, an allyl group, a propenyl group, a primary amino group, a secondary amino group, a nitrile group, a carboxyl group, Hydroxyl groups and isocyanate groups can be used.
Examples of the epoxy group include a glycidyl group and a cyclohexenyl monooxide group.
(Meth) acryloyl means a methacryl group and an acryloyl group, and the primary amino group is -NH.2Means.
[0006]
The secondary amino group means an N-alkylamino group, and the alkyl group is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, and an isobutyl group. Etc.
Of these crosslinkable functional groups, epoxy groups, (meth) acryloyl groups, vinyl groups, allyl groups, propenyl groups, and nitrile groups are preferable from the viewpoint of electrical characteristics, and epoxy groups, (meth) acryloyl groups are preferable from the viewpoint of heat resistance. More preferred are glycidyl and cyclohexenyl oxide groups.
[0007]
The number of crosslinkable functional groups in (A) is at least 2, preferably 2 to 5,000, more preferably 3 to 3,000, particularly preferably 5 to 1,000, and even more preferably. Is 7 to 500, and most preferably 10 to 200. The weight average molecular weight of (A) is 3,000 to 1,000,000, preferably 30,000 to 600,000, and more preferably 50,000 to 400,000. If the weight average molecular weight is less than 3,000, the resin strength tends to be weak, and if it exceeds 1,000,000, resin processing such as forming a film of the curable resin composition tends to be difficult.
The weight average molecular weight is measured by gel permeation chromatography (hereinafter abbreviated as GPC) and is hereinafter abbreviated as Mw.
[0008]
(A) is (1) a method of (co) polymerizing a monomer having a crosslinkable functional group, or (2) reacting a monomer having a crosslinkable functional group with a resin having a crosslinkable functional group. And can be easily produced by a method of converting a crosslinkable functional group.
The monomer having a crosslinkable functional group is not limited as long as it has at least two crosslinkable functional groups, and includes an epoxy group, a (meth) acryloyl group, a vinyl group, an allyl group, a propenyl group, A monomer having at least one functional group selected from the group consisting of primary amino group, secondary amino group, nitrile group, carboxyl group, hydroxyl group and isocyanate group can be used.
[0009]
For example, as a crosslinkable functional group, a monomer (a) having only an epoxy group, a monomer (b) having only a (meth) acryloyl group, a monomer (c) having only a vinyl group, Monomer (d) having only an allyl group, monomer (e) having only a propenyl group, monomer (f) having a primary amino group, single monomer having a secondary amino group A monomer (h) having only a carboxyl group, a monomer (i) having only a hydroxyl group, a monomer (j) having only an isocyanate group, a nitrile group and a vinyl group Monomer (k) having nitrile group and (meth) acryloyl group (m), monomer having hydroxyl group and (meth) acryloyl group (n), epoxy group and (meth) Monomer (o) having an acryloyl group, monomer (p) having an epoxy group and a vinyl group, (meth) acrylic Monomer (q) having an yl group and a vinyl group, monomer (r) having a (meth) acryloyl group and an isocyanate group, and a monomer (s) having a (meth) acryloyl group and a carboxyl group , Monomer (t) having (meth) acryloyl group and allyl group, monomer (u) having (meth) acryloyl group and propenyl group, monomer having secondary amino group and allyl group The body (v), the monomer (w) having a secondary amino group and a propenyl group, and the like are used.
[0010]
As the monomer (a) having only an epoxy group as a crosslinkable functional group, a polyepoxide having 2 to 7 or more epoxy groups in the molecule can be used, for example, (a1) a glycidyl ether type polyepoxide, (A2) Glycidyl ester type polyepoxide, (a3) glycidylamine type polyepoxide, (a4) alicyclic polyepoxide and the like are used.
[0011]
As the (a1) glycidyl ether type polyepoxide, for example, the following (a11) to (a14) can be used.
(A11) Diglycidyl ether of dihydric phenol (having 6 to 30 carbon atoms)
For example, bisphenol F diglycidyl ether, bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol B diglycidyl ether, bisphenol AD diglycidyl ether, bisphenol S diglycidyl ether, halogenated bisphenol A diglycidyl ether, tetrachlorobisphenol A diglycidyl ether, catechin di Glycidyl ether, resorcinol diglycidyl ether, hydroquinone diglycidyl ether, 1,5-dihydroxynaphthalenediglycidyl ether, dihydroxybiphenyl diglycidyl ether, octachloro-4,4′-dihydroxybiphenyl diglycidyl ether, tetramethylbiphenyl diglycidyl ether, 9 , 9'-bis (4-hydroxyphenyl) furorange glyci Diglycidyl ether obtained from ether and bisphenol A2 moles and 3 moles of epichlorohydrin in the reaction.
[0012]
(A12) Polyglycidyl ether of polyhydric phenol {having 6 to 50 or more carbon atoms, and Mw of 110 to 5,000, trivalent to hexavalent or more}
For example, pyrogallol triglycidyl ether, dihydroxynaphthylcresol triglycidyl ether, tris (hydroxyphenyl) methane triglycidyl ether, dinaphthyltriol triglycidyl ether, tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethanetetraglycidyl ether, trismethyl-tert-butyl-butyl Hydroxymethane triglycidyl ether, 4,4′-oxybis (1,4-phenylethyl) tetracresol glycidyl ether, 4,4′-oxybis (1,4-phenylethyl) phenylglycidyl ether and bis (dihydroxynaphthalene) tetraglycidyl Examples include ether.
[0013]
(A13) Dihydric alcohol (2 to 100 or more carbon atoms, Mw 62 to 5,000) [Alkylene glycol having 2 to 6 or more carbon atoms or alkylene oxide of dihydric phenol (6 to 24 carbon atoms) (carbon Diglycidyl ether of (2-4) (hereinafter, C2-C4 alkylene oxide is abbreviated as AO) 1-90 mol adduct]
For example, ethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, tetramethylene glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, polyethylene glycol (Mw 150-4,000) diglycidyl ether, polypropylene glycol (Mw 180-5) , 000) diglycidyl ether, polytetramethylene glycol (Mw 200-5,000) diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether and ethylene oxide of bisphenol A (hereinafter, ethylene oxide is abbreviated as EO) and / or propylene oxide ( Hereinafter, propylene oxide is abbreviated as PO.) (1 to 20 mol) Addition diglycidyl ether and the like.
[0014]
(A14) A polyglycidyl ether of a trihydric to 7-valent or higher polyhydric alcohol (having 3 to 50 or more carbon atoms and Mw of 76 to 10,000)
Examples include trimethylolpropane triglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, pentaerythritol tetraglycidyl ether, sorbitol hexaglycidyl ether, and poly (degree of polymerization 2 to 5) glycerin polyglycidyl ether.
[0015]
As the (a2) glycidyl ester type polyepoxide, for example, the following (a21) to (a22) can be used.
(A21) Polyglycidyl ester of divalent to hexavalent or higher aromatic polycarboxylic acid (having 6 to 20 or more carbon atoms)
Examples thereof include phthalic acid diglycidyl ester, isophthalic acid diglycidyl ester, terephthalic acid diglycidyl ester, and trimellitic acid triglycidyl ester.
(A22) Polyglycidyl ester of divalent to hexavalent or higher aliphatic or alicyclic polycarboxylic acid (having 6 to 20 or more carbon atoms)
For example, (a21) aromatic nucleus water additive, dimer acid diglycidyl ester, diglycidyl oxalate, diglycidyl malate, diglycidyl succinate, diglycidyl glutarate, diglycidyl adipate, diglycidyl pimelate and tri And carbaryl acid triglycidyl ester.
[0016]
As the (a3) glycidylamine type polyepoxide, for example, the following (a31) to (a34) can be used.
(A31) Polyglycidyl aromatic amine having 2 to 10 or more glycidyl groups (aromatic amine having 6 to 20 or more carbon atoms)
For example, N, N-diglycidylaniline, N, N-diglycidyltoluidine, N, N, N ′, N′-tetraglycidyldiaminodiphenylmethane, N, N, N ′, N′-tetraglycidyldiaminodiphenylsulfone, N , N, N ′, N′-tetraglycidyldiethyldiphenylmethane and N, N, O-triglycidylaminophenol.
[0017]
(A32) A polyglycidyl aliphatic or araliphatic amine having 2 to 10 or more glycidyl groups (6 to 20 or more carbon atoms of an aliphatic or araliphatic amine)
Examples thereof include N, N, N ′, N′-tetraglycidylxylylenediamine and N, N, N ′, N′-tetraglycidylhexamethylenediamine.
(A33) Polyglycidyl alicyclic amine having 2 to 10 or more glycidyl groups (alicyclic amine having 6 to 20 or more carbon atoms)
Examples thereof include hydrogenated compounds of N, N, N ′, N′-tetraglycidylxylylenediamine.
(A34) A polyglycidyl heterocyclic amine having 2 to 10 or more glycidyl groups (6 to 20 or more carbon atoms of the heterocyclic amine)
For example, trisglycidyl melamine can be used.
[0018]
As the (a4) alicyclic polyepoxide, for example, alicyclic epoxide having 6 to 50 or more carbon atoms, Mw of 98 to 5,000, and 2 to 4 or more epoxy groups can be used.
For example, vinylcyclohexene dioxide, limonene dioxide, dicyclopentadiene dioxide, bis (2,3-epoxycyclopentyl) ether, ethylene glycol bisepoxy dicyclopentyl ether, 3,4 epoxy-6-methylcyclohexylmethyl 3 ′, 4 Examples include '-epoxy-6'-methylcyclohexanecarboxylate, bis (3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl) adipate, and bis (3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl) butylamine.
[0019]
As the monomer (b) having only a (meth) acryloyl group as a crosslinkable functional group, (b1) diglycidyl ether of dihydric phenol (6 to 30 carbon atoms), (b2) polyhydric phenol {carbon number 6 to 50 or more, Mw 110 to 5,000 trivalent to hexavalent or more} poly (meth) acrylate, (b3) dihydric alcohol (2 to 100 or more carbon atoms, Mw 62 to 5, 000) di (meth) acrylate of [C2-C6 or higher alkylene glycol or dihydric phenol (AO1-90 mol adduct of C6-24)], and (b4) trivalent to 7-valent or Poly (meth) acrylates or the like of polyhydric alcohols (3 to 50 or more carbon atoms and Mw 76 to 10,000) are used.
[0020]
(B1) (Meth) acrylate of dihydric phenol
For example, bisphenol F di (meth) acrylate, bisphenol A di (meth) acrylate, bisphenol B di (meth) acrylate, bisphenol AD di (meth) acrylate, bisphenol S di (meth) acrylate, halogenated bisphenol A di (meth) Acrylate (for example, tetrachlorobisphenol A di (meth) acrylate), catechin di (meth) acrylate, resorcinol di (meth) acrylate, hydroquinone di (meth) acrylate, 1,5-dihydroxynaphthalenedi (meth) acrylate, dihydroxybiphenyl Di (meth) acrylate, octachloro-4,4′-dihydroxybiphenyl di (meth) acrylate, tetramethylbiphenyl di (meth) acrylate and 9,9′-bis ( - hydroxyphenyl) furo Orange (meth) acrylate.
[0021]
(B2) Poly (meth) acrylate of polyphenol
For example, pyrogallol tri (meth) acrylate, dihydroxynaphthylcresol tri (meth) acrylate, tris (hydroxyphenyl) methane tri (meth) acrylate, dinaphthyltriol tri (meth) acrylate, tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethanetetra (meth) acrylate , Trismethyl-tert-butyl-butylhydroxymethane tri (meth) acrylate, 4,4′-oxybis (1,4-phenylethyl) tetracresol (meth) acrylate, 4,4′-oxybis (1,4-phenylethyl) ) Phenyl (meth) acrylate and bis (dihydroxynaphthalene) tetra (meth) acrylate.
[0022]
(B3) (Meth) acrylate of dihydric alcohol
For example, ethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, tetramethylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, polyethylene glycol (Mw 150 to 4,000) di ( Meth) acrylate, polypropylene glycol (Mw 180-5,000) di (meth) acrylate, polytetramethylene glycol (Mw 200-5,000) di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate and bisphenol A EO and And / or di (meth) acrylates of PO (1 to 20 mol) adducts.
[0023]
(B4) Poly (meth) acrylates of trihydric to 7 or higher polyhydric alcohols such as trimethylolpropane tri (meth) acrylate, glycerin tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, sorbitol hexa ( Examples include meth) acrylate and poly (degree of polymerization 2 to 5) glycerin poly (meth) acrylate.
[0024]
Examples of the monomer (c) having only a vinyl group as a crosslinkable functional group include hydrocarbon compounds having 4 to 20 carbon atoms, such as butadiene, divinylbenzene, divinyltoluene, divinylxylene, divinylketone, trivinylbenzene, and the like. In addition to these, divinyl sulfide, divinyl sulfone, divinyl sulfoxide, and the like can also be used.
[0025]
As the monomer (d) having only an allyl group as a crosslinkable functional group, (d1) diallyl ether of dihydric phenol (carbon number 6 to 30), (d2) polyhydric phenol {carbon number 6 to 50 or Further, a polyallyl ether having a Mw of 110 to 5,000 and a trivalent to hexavalent or higher}, (d3) dihydric alcohol (having 2 to 100 or more carbon atoms, Mw of 62 to 5,000) [carbon number 2 Diallyl ether of AO 1-90 mol adduct of ˜6 or more alkylene glycol or dihydric phenol (carbon number 6-24), (d4) trivalent to 7 valent or more polyhydric alcohol (carbon number 3) A polyallyl ether having a molecular weight of ˜50 or more and Mw of 76 to 10,000), (d5) a polyarylic acid having 6 to 20 or more aromatic polycarboxylic acids having 6 to 20 or more carbon atoms. Ester, and (d6) polyallyl esters of bivalent to hexavalent or more aliphatic or cycloaliphatic polycarboxylic acid (6-20 or more carbon atoms) is used.
[0026]
(D1) Diallyl ether of dihydric phenol
For example, bisphenol F diallyl ether, bisphenol A diallyl ether, bisphenol B diallyl ether, bisphenol AD diallyl ether, bisphenol S diallyl ether, halogenated bisphenol A diallyl ether, tetrachlorobisphenol A diallyl ether, catechin diallyl ether, resorcinol diallyl ether, hydroquinone Diallyl ether, 1,5-dihydroxynaphthalenediallyl ether, dihydroxybiphenyl diallyl ether, octachloro-4,4′-dihydroxybiphenyl diallyl ether, tetramethylbiphenyl diallyl ether and 9,9′-bis (4-hydroxyphenyl) furorange allyl Examples include ether.
[0027]
(D2) polyallyl ether of polyphenol
For example, pyrogallol triallyl ether, dihydroxynaphthylcresol triallyl ether, tris (hydroxyphenyl) methane triallyl ether, dinaphthyltriol triallyl ether, tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethanetetraallyl ether, trismethyl-tert-butyl-butyl Hydroxymethane triallyl ether, 4,4′-oxybis (1,4-phenylethyl) tetracresol allyl ether, 4,4′-oxybis (1,4-phenylethyl) phenyl allyl ether and bis (dihydroxynaphthalene) tetraallyl Examples include ether.
[0028]
(D3) Diallyl ether of dihydric alcohol
For example, ethylene glycol diallyl ether, propylene glycol diallyl ether, tetramethylene glycol diallyl ether, 1,6-hexanediol diallyl ether, polyethylene glycol (Mw 150-4,000) diallyl ether, polypropylene glycol (Mw 180-5,000) diallyl ether , Polytetramethylene glycol (Mw 200 to 5,000) diallyl ether, neopentyl glycol diallyl ether, EO and / or PO (1 to 20 mol) adduct of bisphenol A, and the like.
[0029]
(D4) Polyallyl ether of a trihydric to heptovalent or higher polyhydric alcohol
Examples thereof include trimethylolpropane triallyl ether, glycerin triallyl ether, pentaerythritol tetraallyl ether, sorbitol hexaallyl ether, and poly (degree of polymerization 2 to 5) glycerin polyallyl ether.
[0030]
(D5) Polyallyl ester of aromatic polycarboxylic acid
Examples thereof include phthalic acid diallyl ester, isophthalic acid diallyl ester, terephthalic acid diallyl ester, and trimellitic acid triallyl ester.
(D6) Polyallyl ester of aliphatic or alicyclic polycarboxylic acid
For example, (d5) aromatic nucleus water additive, dimer acid diallyl ester, diallyl oxalate, diallyl malate, diallyl succinate, diallyl glutarate, diallyl adipate, diallyl pimelate, and triallylic acid triallyl ester Can be mentioned.
[0031]
As the monomer (e) having only a propenyl group as a crosslinkable functional group, (e1) dipropenyl ether of a dihydric phenol (having 6 to 30 carbon atoms), (e2) a polyhydric phenol {having 6 to 50 carbon atoms) Or higher, Mw 110 to 5,000 trivalent to hexavalent or higher polypropenyl ether, (e3) dihydric alcohol (2 to 100 or more carbon atoms, Mw 62 to 5,000) [carbon number Dipropenyl ether of 2 to 6 or more alkylene glycol or AO 1 to 90 mol adduct of dihydric phenol (carbon number 6 to 24)], (e4) trihydric to 7 or more polyhydric alcohol (carbon A polypropenyl ether having 3 to 50 or more and Mw of 76 to 10,000), (e5) a divalent to hexavalent or higher aromatic polycarboxylic acid (having 6 to 20 carbon atoms or Poly propenyl ester, and (e6) poly propenyl esters of bivalent to hexavalent or more aliphatic or cycloaliphatic polycarboxylic acid (6-20 or more carbon atoms) is used in which higher).
[0032]
(E1) Dipropenyl ether of dihydric phenol
For example, bisphenol F dipropenyl ether, bisphenol A dipropenyl ether, bisphenol B dipropenyl ether, bisphenol AD dipropenyl ether, bisphenol S dipropenyl ether, halogenated bisphenol A dipropenyl ether, tetrachlorobisphenol A dipropenyl ether, catechin di Propenyl ether, resorcinol dipropenyl ether, hydroquinone dipropenyl ether, 1,5-dihydroxynaphthalenedipropenyl ether, dihydroxybiphenyl dipropenyl ether, octachloro-4,4'-dihydroxybiphenyl dipropenyl ether, tetramethylbiphenyl dipropenyl ether and 9 , 9'-Bis (4-hydroxyphenyl) furorange pro Vinyl ether, and the like.
[0033]
(E2) polypropenyl ether of polyhydric phenol
For example, pyrogallol tripropenyl ether, dihydroxynaphthylcresol tripropenyl ether, tris (hydroxyphenyl) methane tripropenyl ether, dinaphthyltriol tripropenyl ether, tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethanetetrapropenyl ether, trismethyl-tert-butyl-butyl Hydroxymethane tripropenyl ether, 4,4′-oxybis (1,4-phenylethyl) tetracresol propenyl ether, 4,4′-oxybis (1,4-phenylethyl) phenylpropenyl ether and bis (dihydroxynaphthalene) tetrapropenyl Examples include ether.
[0034]
(E3) Dipropenyl ether of dihydric alcohol
For example, ethylene glycol dipropenyl ether, propylene glycol dipropenyl ether, tetramethylene glycol dipropenyl ether, 1,6-hexanediol dipropenyl ether, polyethylene glycol (Mw 150-4,000) dipropenyl ether, polypropylene glycol (Mw 180-5) , 000) dipropenyl ether, polytetramethylene glycol (Mw 200 to 5,000) dipropenyl ether, neopentyl glycol dipropenyl ether, dipropenyl ether of EO and / or PO (1 to 20 mol) adduct of bisphenol A, etc. Is mentioned.
[0035]
(E4) A polypropenyl ether of a trihydric to 7-valent or higher polyhydric alcohol
Examples thereof include trimethylolpropane tripropenyl ether, glycerin tripropenyl ether, pentaerythritol tetrapropenyl ether, sorbitol hexapropenyl ether, and poly (polymerization degree 2 to 5) glycerin polypropenyl ether.
[0036]
(E5) Polypropenyl ester of aromatic polycarboxylic acid
Examples thereof include phthalic acid dipropenyl ester, isophthalic acid dipropenyl ester, terephthalic acid dipropenyl ester, trimellitic acid tripropenyl ester, and the like.
(E6) Polypropenyl ester of aliphatic or alicyclic polycarboxylic acid
For example, (d5) aromatic nucleus water additive, dimer acid dipropenyl ester, dipropenyl oxalate, dipropenyl malate, dipropenyl succinate, dipropenyl glutarate, dipropenyl adipate, dipropenyl pimelate and tri And carbaryl acid tripropenyl ester.
[0037]
As the monomer (f) having a primary amino group as a crosslinkable functional group, (f1) an aliphatic polyamine (2 to 18 carbon atoms, 2 to 7 amino groups), (f2) an alicyclic polyamine ( Carbon number 4-15, amino group number 2-3), (f3) polyamide polyamine, (f4) polyether polyamine, etc. are used.
[0038]
(F1) As aliphatic polyamine, C2-C6 alkylene diamine, polyalkylene (C2-C6) polyamine, alkyl of said polyamine (C1-C4) or hydroxyalkyl (C2-C4) ) Substituents, alicyclic or heterocyclic ring-containing aliphatic polyamines (5 to 18 carbon atoms) and aromatic ring-containing aliphatic polyamines (8 to 15 carbon atoms) can be used.
Examples of the alkylene diamine include ethylene diamine, propylene diamine, trimethylene diamine, tetramethylene diamine, and hexamethylene diamine.
Examples of the polyalkylene polyamine include diethylenetriamine, iminobispropylamine, bis (hexamethylene) triamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, and pentaethylenehexamine.
[0039]
Examples of the alkyl or hydroxyalkyl substituted product of polyamine include dialkyl (C1 to C3) aminopropylamine, trimethylhexamethylenediamine, aminoethylethanolamine, and methyliminobispropylamine.
Examples of the alicyclic or heterocyclic ring-containing aliphatic polyamine include 3,9-bis (3-aminopropyl) -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane.
Examples of the aromatic ring-containing aliphatic polyamine include xylylenediamine and tetrachloro-p-xylylenediamine.
[0040]
Examples of (f2) alicyclic polyamines include 1,3-diaminocyclohexane, isophorone diamine, mensen diamine, and 4,4'-methylene dicyclohexane diamine (hydrogenated methylene dianiline).
(F3) As the polyamide polyamine, for example, Mw 80 to 2 obtained by condensation of dicarboxylic acid (dimer acid etc.) and excess (more than 2 mol per mol of acid) polyamine (alkylene diamine, polyalkylene polyamine etc.). 1,000 polyamide polyamines and the like are used.
Specifically, for example, commercially available tomide (manufactured by Fuji Kasei Co., Ltd.), versamide (manufactured by Henkel Hakusui Co., Ltd.), rakermide (manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.), sunmide (manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.) and polymide (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.) Etc.
[0041]
Examples of the polyether polyamine (f4) include hydrides of cyanoethylated polyether polyols (2 to 6 valence, Mw 90 to 2,000) [for example, polyalkylene (carbon number 2 to 8) glycol and the like]. It is done.
[0042]
As the monomer (g) having a secondary amino group as a crosslinkable functional group, the primary amino group (—NH) of (f) is used.2Group) can be used in which -NH-R (R is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms), such as di (methylamino) ethylene, di (ethylamino) hexane and 1,3-di (methyl). Amino) cyclohexane and the like.
[0043]
As the monomer (h) having only a carboxyl group as a crosslinkable functional group, (h1) a divalent to hexavalent or higher aromatic polycarboxylic acid (having 6 to 20 or more carbon atoms), and ( h2) Divalent to hexavalent or higher aliphatic or alicyclic polycarboxylic acids (having 6 to 20 or more carbon atoms) are used.
(H1) Aromatic polycarboxylic acid
Examples thereof include phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, hymic acid and trimellitic acid.
(H2) Aliphatic or alicyclic polycarboxylic acid
Examples include (h1) aromatic nucleus water additive, dimer acid, oxalic acid, maleic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, tricarballylic acid and dodecenyl succinic acid.
[0044]
As the monomer (i) having only a hydroxyl group as a crosslinkable functional group, (i1) a dihydric phenol having 6 to 30 carbon atoms, (i2) a polyhydric phenol (having 6 to 50 or more carbon atoms, Mw110 (I3) dihydric alcohol (2 to 100 or more carbon atoms, Mw 6 to 5,000) [alkylene glycol having 2 to 6 or more carbon atoms, or Dihydric phenol (AO 1 to 90 mol adduct of 6 to 24 carbon atoms)], and (i4) a trihydric to 7 or higher polyhydric alcohol (having 3 to 50 or more carbon atoms, Mw 76 to 10, 000) or the like.
[0045]
(I1) Examples of the divalent phenol include bisphenol F, bisphenol A, bisphenol B, bisphenol AD, bisphenol S, halogenated bisphenol A (for example, tetrachlorobisphenol A), catechin, resorcinol, hydroquinone, 1,5- Examples include dihydroxynaphthalene, dihydroxybiphenyl, octachloro-4,4′-dihydroxybiphenyl, tetramethylbiphenyl, and 9,9′-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene.
[0046]
(I2) Examples of the polyhydric phenol include pyrogallol, dihydroxynaphthylcresol, tris (hydroxyphenyl) methane, dinaphthyltriol, tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane, trismethyl-tert-butyl-butylhydroxymethane, 4,4 Examples include '-oxybis (1,4-phenylethyl) tetracresol, 4,4'-oxybis (1,4-phenylethyl) phenyl and bis (dihydroxynaphthalene).
[0047]
(I3) Examples of the dihydric alcohol include ethylene glycol, propylene glycol, tetramethylene glycol, 1,6-hexanediol, polyethylene glycol (Mw 150 to 4,000), polypropylene glycol (Mw 180 to 5,000), and polytetra Examples include methylene glycol (Mw 200 to 5,000), neopentyl glycol, and EO and / or PO (1 to 20 mol) adducts of bisphenol A.
[0048]
Examples of (i4) polyhydric alcohol include trimethylolpropane, ditrimethylolpropane, glycerin, pentaerythritol, dipentaerythritol, sorbitol, and poly (degree of polymerization 2 to 5) glycerin.
[0049]
As the monomer (j) having only an isocyanate group as a crosslinkable functional group, (j1) an aromatic polyisocyanate having 6 to 20 carbon atoms (excluding carbon in the NCO group; the same applies hereinafter), ( j2) an aliphatic polyisocyanate having 2 to 18 carbon atoms, (j3) an alicyclic polyisocyanate having 4 to 15 carbon atoms, (j4) an araliphatic polyisocyanate having 8 to 15 carbon atoms, and (j5) the above polyisocyanate. Modified products (urethane group, carbodiimide group, allophanate group, urea group, burette group, uretdione group, uretoimine group, isocyanurate group, oxazolidone group-containing modified product, etc.).
[0050]
(J1) As the aromatic polyisocyanate, for example, 1,3- or 1,4-phenylene diisocyanate, 2,4- or 2,6-tolylene diisocyanate (TDI), crude TDI, 2,4'- or 4 , 4′-diphenylmethane diisocyanate (MDI), 4,4′-diisocyanatobiphenyl, 3,3′-dimethyl-4,4′-diisocyanatobiphenyl, 3,3′-dimethyl-4,4′-di Isocyanatodiphenylmethane, crude MDI [crude diaminophenylmethane [condensation product of formaldehyde and aromatic amine (aniline) or a mixture thereof; a mixture of diaminodiphenylmethane and a trifunctional or higher polyamine of a small amount (for example, 5 to 20% by mass)] ] Phosgenates: polyallyl polyisocyanate (PAPI)], 1, - naphthylene diisocyanate, 4,4 ', 4 "- triphenylmethane triisocyanate and m- and p- isocyanatophenyl sulfonyl isocyanate.
[0051]
(J2) Examples of the aliphatic polyisocyanate include ethylene diisocyanate, tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate (HDI), dodecamethylene diisocyanate, 1,6,11-undecane triisocyanate, and 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate. Lysine diisocyanate, 2,6-diisocyanatomethylcaproate, bis (2-isocyanatoethyl) fumarate, bis (2-isocyanatoethyl) carbonate and 2-isocyanatoethyl-2,6-diisocyanatohexano Eate.
[0052]
(J3) Examples of the alicyclic polyisocyanate include isophorone diisocyanate (IPDI), dicyclohexylmethane-4,4′-diisocyanate (hydrogenated MDI), cyclohexylene diisocyanate, methylcyclohexylene diisocyanate (hydrogenated TDI), bis ( 2-isocyanatoethyl) -4-cyclohexene-1,2-dicarboxylate and 2,5- or 2,6-norbornane diisocyanate.
(J4) Examples of the araliphatic polyisocyanate include m- or p-xylylene diisocyanate (XDI) and α, α, α ′, α′-tetramethylxylylene diisocyanate (TMXDI).
[0053]
(J5) Examples of the modified polyisocyanate include modified MDI (urethane-modified MDI, carbodiimide-modified MDI, trihydrocarbyl phosphate-modified MDI), urethane-modified TDI, biuret-modified HDI, isocyanurate-modified HDI, isocyanurate-modified IPDI, and the like. And a mixture of two or more kinds thereof [for example, combined use of modified MDI and urethane-modified TDI (isocyanate-containing prepolymer)].
As the polyol used for the production of the urethane-modified polyisocyanate [free isocyanate-containing prepolymer obtained by reacting excess polyisocyanate (TDI, MDI, etc.) and polyol], a polyol having an equivalent weight of 30 to 200 can be used. For example, glycol (ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, etc.), triol (trimethylolpropane, glycerin, etc.), high functional polyol (pentaerythritol, sorbitol, etc.) and their AO (EO and / or PO1-20) Mol) adducts and the like.
[0054]
Examples of the monomer (k) having a nitrile group and a vinyl group as a crosslinkable functional group include cyanobutene and cyanostyrene.
Examples of the monomer (m) having a nitrile group and a (meth) acryloyl group as a crosslinkable functional group include (meth) acrylonitrile and cyanoethyl (meth) acrylate.
[0055]
As the monomer (n) having a hydroxyl group and a (meth) acryloyl group as a crosslinkable functional group, a mono (meth) acrylate (Mw 300 to 3,000) having a polyalkylene (2 to 8 carbon atoms) glycol chain may be used. For example, polyethylene glycol (Mw300) mono (meth) acrylate, polypropylene glycol (Mw500) mono (meth) acrylate, ethylene glycol mono (meth) acrylate, propylene glycol mono (meth) acrylate, glycerin mono (meth) acrylate, Examples include trimethylolpropane mono (meth) acrylate, pentaerythritol mono (meth) acrylate, and polyglycerin (degree of polymerization as described above) mono (meth) acrylate.
[0056]
Examples of the monomer (o) having an epoxy group and a (meth) acryloyl group as a crosslinkable functional group include glycidyl (meth) acrylate and 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate.
Examples of the monomer (p) having an epoxy group and a vinyl group as a crosslinkable functional group include vinylcyclohexene monooxide and butadiene monooxide.
Examples of the monomer (q) having a (meth) acryloyl group and a vinyl group as a crosslinkable functional group include vinyl methacrylate and vinyloxyethyl (meth) acrylate.
[0057]
Examples of the monomer (r) having a (meth) acryloyl group and an isocyanate group as a crosslinkable functional group include 2- (meth) acryloylethyl isocyanate and (meth) acryloylpropyl isocyanate.
Examples of the monomer (s) having a (meth) acryloyl group and a carboxyl group as a crosslinkable functional group include (meth) acrylate, maleic acid, maleic anhydride, and the like.
Examples of the monomer (t) having a (meth) acryloyl group and an allyl group as a crosslinkable functional group include allyl methacrylate and allyloxyethyl (meth) acrylate.
Examples of the monomer (u) having a (meth) acryloyl group and a propenyl group as a crosslinkable functional group include propenyl methacrylate and propenyl ethyl (meth) acrylate.
[0058]
As the monomer (v) having a secondary amino group and an allyl group as a crosslinkable functional group, the primary amino group (-NH) of (f) is used.2In which at least a part of the group is replaced by —NH—R (R is an allyl group), such as di (allylamino) ethylene, di (allylamino) hexane, 1,3-di (allylamino) cyclohexane, etc. Can be mentioned.
[0059]
As the monomer (w) having a secondary amino group and a propenyl group as a crosslinkable functional group, the primary amino group (—NH) of (f) is used.2In which at least a part of the group) is replaced by —NH—R (R is a propenyl group), such as di (propenylamino) ethylene, di (propenylamino) hexane, and 1,3-di (propenylamino). And cyclohexane.
[0060]
Of these monomers having a crosslinkable functional group, (n), (o), (p), (q), (s), (t) and (u) are preferable, and (n) is more preferable. , (O), (p) and (s), particularly preferably (n) and (o).
These monomers can be used alone, in combination of two or more, and / or with other copolymerizable monomers.
[0061]
When combining two or more of these, combinations of monomers that can be copolymerized are as follows.
Monomers that can be copolymerized with (a) include (f), (g), (h), (i), (j), (n), (o), (p), (r), ( s), (v) and (w) are used.
Monomers that can be copolymerized with (b) include (c), (d), (e), (k), (m), (n), (o), (p), (q), ( r), (s), (t), (u), (v) and (w) are used.
[0062]
Monomers that can be copolymerized with (c) include (b), (d), (e), (k), (m), (n), (o), (p), (q), ( r), (s), (t), (u), (v) and (w) are used.
Monomers that can be copolymerized with (d) include (b), (c), (e), (k), (m), (n), (o), (p), (q), ( r), (s), (t), (u), (v) and (w) can be used.
Monomers that can be copolymerized with (e) include (b), (c), (d), (k), (m), (n), (o), (p), (q), ( r), (s), (t), (u), (v) and (w) are used.
[0063]
Monomers that can be copolymerized with (f) include (a), (g), (h), (i), (j), (n), (o), (p), (r), ( s), (v) and (w) are used.
Monomers that can be copolymerized with (g) include (a), (f), (h), (i), (j), (n), (o), (p), (r), ( s), (v), (w), etc. are used.
Monomers that can be copolymerized with (h) include (a), (f), (g), (i), (j), (n), (o), (p), (r), ( s), (v) and (w) are used.
[0064]
Monomers that can be copolymerized with (i) include (a), (f), (g), (h), (j), (n), (o), (p), (r), ( s), (v) and (w) are used.
Monomers that can be copolymerized with (j) include (a), (f), (g), (h), (i), (n), (o), (p), (s), ( v) and (w) are used.
Monomers that can be copolymerized with (k) include (b), (c), (d), (e), (m), (n), (o), (p), (q), ( r), (s), (t), (u), (v) and (w) are used.
[0065]
Monomers that can be copolymerized with (m) include (b), (c), (d), (e), (k), (n), (o), (p), (q), ( r), (s), (t), (u), (v) and (w) are used.
Monomers that can be copolymerized with (n) include (a), (b), (c), (d), (e), (f), (g), (h), (i), ( j), (k), (m), (o), (p), (q), (r), (s), (t), (u), (v), and (w) are used. .
[0066]
Monomers that can be copolymerized with (o) include (a), (b), (c), (d), (e), (f), (g), (h), (i), ( j), (k), (m), (n), (p), (q), (r), (s), (t), (u), (v), and (w) are used. .
Monomers that can be copolymerized with (p) include (a), (b), (c), (d), (e), (f), (g), (h), (i), ( j), (k), (m), (n), (o), (q), (r), (s), (t), (u), (v), and (w) are used. .
[0067]
Monomers that can be copolymerized with (q) include (b), (c), (d), (e), (k), (m), (n), (o), (p), (p r), (s), (t), (u), (v) and (w) are used.
Monomers that can be copolymerized with (r) include (a), (b), (c), (d), (e), (f), (g), (h), (i), ( j), (k), (m), (n), (o), (p), (q), (s), (t), (u), (v), and (w) are used. .
[0068]
Monomers copolymerizable with (s) include (a), (b), (c), (d), (e), (f), (g), (h), (i), ( j), (k), (m), (n), (o), (p), (q), (r), (t), (u), (v), and (w) are used. .
Monomers that can be copolymerized with (t) include (b), (c), (d), (e), (k), (m), (n), (o), (p), (p q), (r), (s), (u), (v) and (w) are used.
Monomers that can be copolymerized with (u) include (b), (c), (d), (e), (k), (m), (n), (o), (p), (p q), (r), (s), (t), (v) and (w) are used.
[0069]
Monomers that can be copolymerized with (v) include (a), (b), (c), (d), (e), (f), (g), (h), (i), ( j), (k), (m), (n), (o), (p), (q), (r), (s), (t), (u), and (w) are used. .
Monomers that can be copolymerized with (w) include (a), (b), (c), (d), (e), (f), (g), (h), (i), ( j), (k), (m), (n), (o), (p), (q), (r), (s), (t), (u), and (v) are used. .
[0070]
As other copolymerizable monomers, the following (aa) to (ww) can be used.
As the monomer (aa) copolymerizable with (a), a hydrocarbon oxide (aa1) having 4 to 24 carbon atoms, a monoglycidyl ether (aa2) having a hydrocarbon (3 to 21 carbon atoms), 18 aliphatic carboxylic acid (aa3), C7-C18 aromatic carboxylic acid (aa4), C1-C18 alcohol (aa5), C6-C18 phenol (aa6), C1-C1 18 aliphatic amines (aa7), C6-C18 aromatic amines (aa8), and the like are used.
[0071]
Examples of (aa1) hydrocarbon oxide include EO, PO, butene oxide, α-olefin oxide having 5 to 18 carbon atoms (eg, pentane oxide, decene oxide, octadecene oxide, etc.), styrene oxide, and the like.
(Aa2) Monoglycidyl ether of hydrocarbon (having 4 to 21 carbon atoms) includes, for example, methyl glycidyl ether, propyl glycidyl ether, butyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether and octadecyl glycidyl ether .
[0072]
Examples of (aa3) aliphatic carboxylic acid include acetic acid, butanoic acid, 2-ethylhexanoic acid, undecanoic acid, and octadecanoic acid.
Examples of (aa4) aromatic carboxylic acid include benzoic acid, p-methylbenzoic acid and naphthalenecarboxylic acid.
Examples of (aa5) alcohol include methanol, isopropanol, butanol, 2-ethylhexanol, tetradecyl alcohol, octadecyl alcohol, and benzyl alcohol.
(Aa6) Phenols include, for example, phenol, o-, m- or p-cresol and p-ethylphenol.
[0073]
Examples of (aa7) aliphatic amine include methylamine, dimethylamine, methylbutylamine, undecylamine, decalylamine, and octadecylamine.
Examples of (aa8) aromatic amine include aniline, p-methylaniline, p-undecylaniline, m-methoxyaniline, and naphthylamine.
[0074]
  The monomer (bb) that can be copolymerized with (b)2-20 olefin (bb1), aromatic compound (bb2) having a polymerizable unsaturated double bond having 8 to 18 carbon atoms, (meth) acrylic acid alkyl ester (bb3) having 5 to 22 carbon atoms and 4 carbon atoms ~ 20 polymerizable fatty acid ester (bb4) and the like are used.
  (Bb1) As the olefin, for example, ethylene, propylene, butene, 1-octene, 1-decene, 1-eicocene, 6-methyl-1,4: 5,8-dimethano-1,4,4a, 5,6 , 7,8,8a-octahydronaphthalene, norbornene, dicyclopentadiene, 5-ethylidene-2-norbornene and the like.
[0075]
(Bb2) Examples of aromatic compounds having a polymerizable unsaturated double bond include styrene, α-methylstyrene, p-methylstyrene, o-methylstyrene, m-methylstyrene, p-decylstyrene, and p-chloro. Examples include styrene and divinylbenzene.
Examples of (bb3) (meth) acrylic acid alkyl ester include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate, and octadecyl (meth) acrylate.
Examples of the (bb4) polymerizable fatty acid ester include vinyl acetate, vinyl propanoate, vinyl octadecanoate, allyl acetate, allyl butanoate, propenyl acetate, and propenyl hexanoate.
[0076]
As the monomer (cc) copolymerizable with (c), (bb1), (bb2), (bb3) and (bb4) are used.
As the monomer (dd) copolymerizable with (d), (bb1), (bb2), (bb3), (bb4) and the like can be used.
As the monomer (ee) copolymerizable with (e), (bb1), (bb2), (bb3), (bb4) and the like are used.
As the monomer (ff) copolymerizable with (f), (aa1), (aa2), (aa3), (aa4), (aa5), (aa6), (aa7) and (aa8) are used. It is done.
[0077]
As the monomer (gg) copolymerizable with (g), (aa1), (aa2), (aa3), (aa4), (aa5), (aa6), (aa7) and (aa8) are used. It is done.
As the monomer (hh) copolymerizable with (h), (aa1), (aa2), (aa3), (aa4), (aa5), (aa6), (aa7) and (aa8) are used. It is done.
As the monomer (ii) copolymerizable with (i), (aa1), (aa2), (aa3), (aa4), (aa5), (aa6), (aa7) and (aa8) are used. It is done.
[0078]
As the monomer (jj) copolymerizable with (j), (aa1), (aa2), (aa3), (aa4), (aa5), (aa6), (aa7) and (aa8) are used. It is done.
As the monomer (kk) copolymerizable with (k), (bb1), (bb2), (bb3) and (bb4) are used.
Examples of the monomer (mm) that can be copolymerized with (m) include (bb1), (bb2), (bb3), and (bb4).
As the monomer (nn) copolymerizable with (n), (aa1), (aa2), (aa3), (aa4), (aa5), (aa6), (aa7), (aa8), (bb1) ), (Bb2), (bb3) and (bb4).
[0079]
As the monomer (oo) copolymerizable with (o), (aa1), (aa2), (aa3), (aa4), (aa5), (aa6), (aa7), (aa8), (bb1) ), (Bb2), (bb3) and (bb4).
As the monomer (pp) copolymerizable with (p), (aa1), (aa2), (aa3), (aa4), (aa5), (aa6), (aa7), (aa8), (bb1) ), (Bb2), (bb3) and (bb4).
Examples of the monomer (qq) that can be copolymerized with (q) include (bb1), (bb2), (bb3), and (bb4).
[0080]
As the monomer (qq) copolymerizable with (r), (aa1), (aa2), (aa3), (aa4), (aa5), (aa6), (aa7), (aa8), (bb1) ), (Bb2), (bb3) and (bb4).
As the monomer (ss) copolymerizable with (s), (aa1), (aa2), (aa3), (aa4), (aa5), (aa6), (aa7), (aa8), (bb1) ), (Bb2), (bb3) and (bb4).
As the monomer (tt) copolymerizable with (t), (bb1), (bb2), (bb3), (bb4) and the like are used.
[0081]
As the monomer (uu) copolymerizable with (u), (bb1), (bb2), (bb3), (bb4) and the like are used.
As the monomer (vv) copolymerizable with (v), (aa1), (aa2), (aa3), (aa4), (aa5), (aa6), (aa7), (aa8), (bb1) ), (Bb2), (bb3) and (bb4).
As the monomer (ww) copolymerizable with (w), (aa1), (aa2), (aa3), (aa4), (aa5), (aa6), (aa7), (aa8), (bb1) ), (Bb2), (bb3) and (bb4).
[0082]
Of these other copolymerizable monomers, (nn), (oo), (pp), (qq), (ss), (tt), and (uu) from the viewpoint of heat resistance, electrical properties, and resin strength. ), More preferably (nn), (oo), (pp), (qq) and (ss), particularly preferably (nn) and (oo), most preferably styrene, ethylene, propylene, 6-methyl -1,4: 5,8-octahydronaphthalene, norbornene, dicyclopentadiene and 5-ethylidene-2-norbornene.
These other copolymerizable monomers can be used alone or in combination of two or more.
[0083]
When other copolymerizable monomers are used, the amount of other copolymerizable monomers is not particularly limited, but is based on the weight of all monomers used from the viewpoint of heat resistance and resin strength. 20 to 80% by weight is preferable, more preferably 35 to 70% by weight, and particularly preferably 50 to 60% by weight.
[0084]
(1) The method for (co) polymerizing a monomer having a crosslinkable functional group is not particularly limited, and a normal method can be applied. For example, in a reaction vessel substituted with nitrogen as necessary, a crosslinkable property can be used. A method in which a monomer having a functional group and, if necessary, a monomer copolymerizable therewith are dropped and then aged for an appropriate time can be applied.
The reaction temperature is generally 0 to 180 ° C, preferably 60 to 150 ° C. The aging time is usually 0 to 50 hours, preferably 4 to 15 hours.
When two or more kinds of monomers are used, the polymerization type may be a block type or a random type.
[0085]
For the polymerization, a solvent can be used, and the solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the monomer and the resin to be formed. For example, an aromatic solvent (for example, toluene and xylene) Etc.), ketone solvents (for example, acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone), ether solvents (for example, diethyl ether, dioxane and tetrahydrofuran) and halogen solvents (for example, chloroform, carbon tetrachloride and dichloromethane, etc.) are used. .
When the solvent is used, the amount of the solvent used is preferably 20 to 100% by weight, more preferably 25 to 80% by weight, and particularly preferably 30 to 60% by weight based on the total weight of the monomers.
[0086]
Further, a reaction initiator (C) can be used, and (C) is not particularly limited, and those used for ordinary reactions are used. Depending on the type of the crosslinkable functional group, a radical reaction initiation catalyst ( C1), cationic polymerization initiation catalyst (C2), esterification catalyst (C3), amidation catalyst (C4), epoxy ring-opening catalyst (C5), isocyanate reaction catalyst (C6) and the like are used.
As the radical reaction initiation catalyst (C1), a thermal radical reaction initiation catalyst (C11), a photo radical reaction initiation catalyst (C12), or the like can be used.
As the thermal radical reaction initiation catalyst (C11), those having a 10-hour half-life temperature of 80 ° C. or higher are preferred from the viewpoint of storage stability, more preferably those having a temperature of 120 ° C. or higher, such as peroxides and azo compounds. Used.
[0087]
Examples of the peroxide include t-butyl peroxyacetate, t-butyl peroxybenzoate, dicumyl peroxide, t-butylcumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxide). Oxy) hexyne-3, cumene hydroperoxide, benzoyl peroxide, bis (t-butylperoxy) diisopropylbenzene, di-t-butyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-bis (t-butylperoxide) Oxy) hexane, t-butylcumyl peroxide, P-menthane hydroperoxide, 2,5-dimethyl-2,5-bis (t-butylperoxy) hexyne-3, dicumyl peroxide and the like.
[0088]
Examples of the azo compound include 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobisisobutyronitrile, 1,1′-azobis (1-cyclohexanecarbonitrile), and the like. Can be mentioned.
Examples of the photoradical reaction initiation catalyst (C12) include benzoin alkyl ether, benzyldimethyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzophenone, and methylbenzoylpho Mate and isopropylthioxanthone.
[0089]
Further, a sensitizer can be used together with these photoradical reaction initiation catalysts (C12), and nitro compounds (for example, anthraquinone, 1,2-naphthoquinone, 1,4-naphthoquinone, benzanthrone, p, p′- Carbonyl compounds such as tetramethyldiaminobenzophenone and chloranil, nitrobenzene, p-dinitrobenzene and 2-nitrofluorene), aromatic hydrocarbons (eg anthracene and chrysene), sulfur compounds (eg diphenyl disulfide etc.) and nitrogen compounds (For example, nitroaniline, 2-chloro-4-nitroaniline, 5-nitro-2-aminotoluene, tetracyanoethylene, etc.) and the like.
[0090]
As the cationic polymerization catalyst (C2), a thermal cationic polymerization catalyst (C21) and a photocationic polymerization catalyst (C22) can be used.
As the thermal cationic polymerization catalyst (C21), onium salt catalysts (for example, triarylsulfonium salts and diaryliodonium salts) can be used. For example, Sun Aid SI series (trade name, manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.) Can be mentioned.
[0091]
Examples of the photocationic polymerization catalyst (C22) include triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, triphenylsulfonium phosphate, p- (phenylthio) phenyldiphenylsulfonium hexafluoroantimonate, p- (phenylthio) phenyldiphenylsulfonium hexafluorophosphate, 4-chlorophenyldiphenylsulfonium hexafluorophosphate, 4-chlorophenyldiphenylsulfonium hexafluoroantimonate, bis [4- (diphenylsulfonio) phenyl] sulfide bishexafluorophosphate, bis [4- (diphenylsulfonio) phenyl] Sulfide bishexafluoroantimonate, (2,4-cyclopentadien-1-yl) [(1-methyl Ethyl) benzene] -Fe- hexafluorophosphate and diaryliodonium hexafluoroantimonate, and the like.
These can be easily obtained from the market. For example, SP-150, SP-170 (trade name, manufactured by Asahi Denka Co., Ltd.), Irgacure 261 (trade name, manufactured by Ciba Geigy), UVR-6974, Examples include UVR-6990 (trade name, manufactured by Union Carbide), CI-2855 (trade name, manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.), CD-1012 (trade name, manufactured by Sartomer), and the like.
[0092]
Examples of the esterification catalyst (C3) and amidation catalyst (C4) include acid catalysts (hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, methanesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, trifluoroborane, etc.), alkalis (for example, sodium hydroxide) , Potassium hydroxide, 1,8-diazabicyclo [5,4,0] undecene-7 (DBU, manufactured by San Apro, registered trademark), and metal complexes (for example, tetrapropyltitanium, etc.).
[0093]
Examples of the epoxy ring-opening catalyst (C5) include imidazole catalysts (2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2-phenylimidazole, 1-benzyl- 2-methylimidazole and 1-cyanoethyl-2-methylimidazole), tertiary amines (benzylmethylamine, 2- (dimethylaminomethyl) phenol, 2,4,6-tris (diaminomethyl) phenol, triethylamine and DBU And onium salts (manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd., Sun-Aid SI series, etc.).
[0094]
As the isocyanate reaction catalyst (C6), organometallic compounds (for example, trimethyltin laurate, trimethyltin hydroxide, dimethyltin dilaurate, dibutyltin diacetate, dibutyltin dilaurate, stannous octoate, dibutyltin maleate, lead oleate) , Lead 2-ethylhexanoate, lead naphthenate, lead octenoate, bismuth octoate, bismuth naphthenate, cobalt naphthenate and phenylmercurypropionate, etc., and tertiary amines (eg DBU, N-methylmorpholine, N-ethylmorpholine, methyldibutylamine, triethylamine, and carbonates thereof and organic acid salts having 1 to 8 carbon atoms (such as formate salts)).
These reaction initiators (C) can be used alone or as a mixture of two or more.
When the reaction initiator (C) is used, the amount of (C) used is preferably 0.001 to 3.0% by weight, more preferably 0.01 to 2.% based on the total weight of the monomers. It is 0% by weight, particularly preferably 0.05 to 1.0% by weight.
[0095]
Moreover, in order to leave at least two crosslinkable functional groups in the resin (A), a polymerization inhibitor can be used. The polymerization inhibitor is not particularly limited, and those used for ordinary reactions are used. For example, diphenylhydrazyl, tri-p-nitrylphenylmethyl, N- (3-N-oxyanilino-1,3-dimethylbutylidene) aniline oxide, p-benzoquinone, p-tert-butylcatechol, nitrobenzene, picric acid , Dithiobenzoyl disulfide, and copper (II) chloride.
When a polymerization inhibitor is used, the amount of polymerization inhibitor used is preferably 0.1 to 5.0% by weight, more preferably 0.1 to 2.0% by weight, based on the total weight of monomers. Particularly preferred is 0.5 to 1.0.
[0096]
(2) A method for converting a crosslinkable functional group by reacting a resin having a crosslinkable functional group with a resin having a crosslinkable functional group is not particularly limited, and a normal method can be applied. A method in which a monomer having a crosslinkable functional group is dropped onto a resin having at least two crosslinkable functional groups produced by the method 1 and then aged for an appropriate time can be applied.
The reaction temperature, aging time, solvent, reaction initiator and polymerization inhibitor are the same as in method (1).
[0097]
Moreover, you may make it react with all the crosslinkable functional groups in resin, and you may make it react only with the one part. The reaction with a part thereof can be easily achieved by limiting the amount of the monomer having a crosslinkable functional group.
For example, the resin obtained by copolymerizing hydroxyethyl (20-80 parts by weight) with methacrylic acid (20-80 parts by weight) and styrene (80-20 parts by weight) is cross-linked with (meth) acrylic acid by esterification reaction The functional group can be converted from a hydroxyl group to a (meth) acryloyl group.
[0098]
In place of the resin produced by the method (1), a monomer having a crosslinkable functional group may be introduced into a resin having no crosslinkable functional group by a graft reaction.
For example, 30 mol parts of propylene, 70 mol parts of 5-ethylidene-2-norbornene and a solvent are charged in a reaction vessel substituted with nitrogen, and a transition metal compound (for example, titanium compound) / aluminum compound catalyst is used. After addition copolymerization, a copolymer is obtained, and then a monomer having a crosslinking functional group such as glycidyl (meth) acrylate, vinylcyclohexene monooxide, or 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate is grafted onto the polymer. Thus, a crosslinkable functional group can be introduced.
[0099]
The Mw of the low molecular compound (B) is 170 to 3,000, and preferably 200 to 1,500 from the viewpoint of the strength after curing of the resin composition of the present invention and the viscosity thereof.
The crosslinking functional group (B) is the same type as (A), and preferred ones are also the same.
The number of crosslinkable functional groups in (B) is at least 2, preferably 2 to 5,000, more preferably 3 to 3,000, particularly preferably 5 to 1,000, and even more preferably. Is 7 to 500, and most preferably 10 to 200. As (B), for example, in addition to (a) to (w), as a monomer having one crosslinkable functional group, (aa1) to (aa8) and (bb1) to (bb4) can be used. In addition to these, the following monoepoxide (x), polyepoxide (y), curing agent (z) and the like can be used.
[0010]
As the monoepoxide (x), a glycidyl ester (x1) of a monocarboxylic acid (having 3 to 30 carbon atoms) and a cyclohexene monooxide group-containing compound (x2) are used.
Examples of the glycidyl ester (x1) of monocarboxylic acid include glycidyl (meth) acrylate, epihalohydrin (eg, epichlorohydrin, epibromohydrin, etc.), hydroxyl group-containing oxide (eg, glycidol, etc.), and the like.
[00101]
Examples of the cyclohexene monooxide group-containing compound (x2) include 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxymethylcyclohexanecarboxylate and 3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl-3 ′, 4. Examples include '-epoxy-6'-methylcyclohexanecarboxylate.
[0102]
Examples of the polyepoxide (y) include vinylcyclohexene dioxide, bis (3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl) adipate, glycidyl ether of phenol or cresol novolak resin (Mw 400 to 3,000), limonene phenol novolak resin (Mw 400). ˜3,000) glycidyl ether, phenol and glycoxal, polyphenol obtained by condensation reaction of glutaraldehyde or formaldehyde (Mw 400 to 3,000), polyglycidyl ether of Mw 400˜3,000 obtained by condensation reaction of resorcin and acetone Polyglycidyl ether of 3,000 polyphenols, (co) polymer of glycidyl (meth) acrylate (degree of polymerization 2 to 10 for example), epoxy equivalent 130 to , 000 epoxidized polybutadiene (Mw170~3,000), and epoxidized soybean oil (Mw170~3,000), and the like.
[0103]
Examples of the curing agent (z) include acid anhydrides (h), (aa3), and (aa4).
Among these low molecular compounds (B), (a), (b), (c), (d), (e), (m), (n), (o), (p), (q) , (R), (s), (t), (u), (h), (aa3) and (aa4), more preferably (a), (b), (n), (o), (P) and (s), particularly preferably (a), (b), (n) and (o).
[0104]
When using a monoepoxide (x), a polyepoxide (y), a curing agent (z), etc., these used weights are not particularly limited, but from the viewpoint of heat resistance and resin strength, the weight of all monomers used. Is preferably 20 to 80% by weight, more preferably 30 to 70% by weight, and particularly preferably 40 to 60% by weight.
The weight ratio (A: B) used between (A) and (B) is preferably 10 to 95: 5 to 90, more preferably 20 to 90:10 to 80, and particularly preferably 30 to 80:20 to 70. It is.
[0105]
A reaction initiator (C) can be used in the curable resin composition of the present invention. (C) may be added immediately before use of the curable resin composition of the present invention, or may be added during the production of the curable resin composition.
When (C) is used, the amount used of (C) (not including (A) used during preparation) is 0.001 to 10 based on the total weight of (A) and (B). % By weight is preferable, more preferably 0.01 to 8% by weight, particularly preferably 0.05 to 5% by weight, and most preferably 0.1 to 2% by weight.
[0106]
The curable resin composition of the present invention can contain other additives (D), other resins (E), rubber (F), fillers (G), and the like.
Examples of the other additive (D) include a phenol-based anti-aging agent, a phosphorus-based anti-aging agent, a flame retardant, a phenol-based heat deterioration preventing agent, a benzophenone-based UV stabilizer, and an antistatic agent.
When (D) is used, the amount of (D) used is preferably from 0.001 to 3.0% by weight, more preferably from 0.01 to 3.0%, based on the total weight of (A) and (B). It is 2.0% by weight, particularly preferably 0.05 to 1.0% by weight.
[0107]
Examples of the other resin (E) include ABS resin, polystyrene, polycarbonate, polyamide, polyphenylene oxide, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyphenylene sulfide, polyimide, polysulfone, polyethersulfone, and polyarylate.
When (E) is used, the amount of (E) used is preferably 1 to 45% by weight, more preferably 5 to 40% by weight, particularly preferably based on the total weight of (A) and (B). Is 10 to 30% by weight.
[0108]
Examples of the rubber (F) include isoprene rubber, butadiene rubber, styrene-butadiene rubber, styrene / isoprene rubber, nitrile rubber, chloroprene rubber, and ethylene-propylene rubber.
When (F) is used, the amount of (F) used is preferably 1 to 40% by weight, more preferably 5 to 30% by weight, particularly preferably based on the total weight of (A) and (B). Is 8 to 25% by weight.
[0109]
Examples of the filler (G) include silica, alumina, calcium carbonate, barium sulfate, and titanium oxide.
When (G) is used, the amount of (G) used is preferably 1 to 50% by weight, more preferably 5 to 40% by weight, particularly preferably based on the total weight of (A) and (B). Is 8-30% by weight.
[0110]
Furthermore, the curable resin composition of the present invention can contain a solvent.
As the solvent, the same solvent as that which can be used in the polymerization of (A) can be used. The curable resin composition of the present invention may be used as it is without removing the solvent during the polymerization of (A), and after the solvent is removed during the polymerization of (A), the curable resin composition of the present invention is produced. Sometimes the same or different solvents used in the polymerization of (A) may be added, and (B) and the solvent may be mixed and mixed with (A).
When the solvent is used, the amount of the solvent used is preferably 5 to 90% by weight, more preferably 10 to 80% by weight, based on the total weight of (A) (weight not including the solvent) and (B). Particularly preferred is 30 to 70% by weight.
[0111]
The curable resin composition of the present invention can be easily produced by uniformly mixing (A) and (B) and, if necessary, (C) to (G) by an ordinary method. It can be produced by the methods 1) to (3).
(1) A method in which (C) to (G) and / or a solvent are mixed as necessary after blending (A) and (B).
(2) A method of mixing (B) with (A) and (C) to (G) and / or a solvent, if necessary.
(3) A method of simultaneously mixing (A) and (B) with (C) to (G) and / or a solvent as required.
[0112]
The dielectric constant (based on JIS K6911 (1995) 5.14) after curing of the curable resin composition of the present invention is 3.5 or less at 1 GHz, and preferably 2 to 3.5. When the dielectric constant exceeds 3.5, when applied to an integrated circuit of an electronic component, there is a tendency that signal delay occurs and it is difficult to improve the performance of the circuit. Further, when the dielectric constant is 2 or more, it is not necessary to disperse the bubbles in the curable resin composition, and the resin strength does not decrease.
[0113]
As a method for adjusting the dielectric constant, a method of adjusting according to the type of monomer used as the production raw material of (A), for example, ethylene, propylene, butadiene, isoprene, (meth) acrylic acid ester having 4 or more carbon atoms, and Increasing the use ratio of all monomers such as styrene tends to lower the dielectric constant, and increasing the use amount of (meth) acrylic acid and acrylonitrile tends to increase the dielectric constant.
For example, as the composition having a dielectric constant of 2 to 3.5, the amount of styrene / glycidyl (meth) acrylate = 10 to 55/90 to 45 parts by mass and 4-methylcyclohexane-1,2-dicarboxylic anhydride A stoichiometric (equivalent ratio) mixture and the like can be mentioned.
In addition, the boiling water absorption after curing of the curable resin composition of the present invention (based on JIS K7209 (2000) 6.3B method) is preferably 3.00 to 0.001%, more preferably 2.50. ˜0.005%, particularly preferably 2.00 to 0.01%.
[0114]
The form of the curable resin composition of the present invention may be, for example, either liquid (including solution) or film (including plate and sheet), and the film thickness is preferably 1 to 100 μm. Preferably it is 5-50 micrometers, Most preferably, it is 15-50 micrometers.
In order to form a film, the liquid curable resin composition of the present invention is subjected to a usual molding method, for example, a curtain coater, a knife coater, a spray gun, a roll coater, a spin coater, a dispenser, a bar coater and a screen printing machine. It can be formed into a film by a method of applying to a support or a substrate by using, a dipping method or an injection molding method.
Even in the case of a film, it is softened by heating (hot pressing or the like), has good penetration into a minute part (such as a concavo-convex part) of a substrate, and is excellent in workability.
When a support is used, the film on the support can be transferred to a substrate or the like, and when a substrate or the like is used, it can be used as it is.
After coating, it is preferable to heat for the purpose of drying the solvent and the like. As heating conditions, for example, temperature: 10 to 150 ° C. (preferably 20 to 120 ° C.), time: 1 to 60 minutes (preferably 2 to 40 minutes).
[0115]
As the support, for example, PET (polyethylene terephthalate), polyethylene, polypropylene, and modified products thereof can be used.
As the substrate, various printed wiring boards having conductive (copper, gold, silver, aluminum, etc.) circuits can be used, for example, resin for substrate production (epoxy resin, bismaleimide triazine resin (BT), polyamide resin, etc.) Is obtained by impregnating a non-woven fabric (glass fiber non-woven fabric, aramid fiber non-woven fabric, etc.) or the like, or by adding a glass fiber to a resin for substrate production and bonding a copper circuit (for example, a BT substrate, glass) Epoxy substrates, paper phenol substrates, paper epoxy substrates, etc.) can be used.
[0116]
The curable resin composition of the present invention can be used as an insulator by being cured by heating, and is suitable as an overcoat material, an interlayer insulating material, a printed circuit board, and the like, and in particular, an overcoat material and an interlayer insulating material It is suitable as.
It is most suitable as an overcoat material or an interlayer insulating material for electronic elements (semiconductor elements, light emitting diodes, various memories, etc.), hybrid ICs, MCMs, electric wiring circuit boards or display components.
The heat curing conditions are 80 to 250 ° C. (preferably 120 to 200 ° C.) and 0.1 to 15 hours (preferably 0.2 to 12 hours).
[0117]
As a method of using the composition of the present invention as an insulator, for example, when used as an interlayer insulating material, the liquid composition of the present invention is applied to a base material, or the film-like composition of the present invention is laminated. After that, heat pressing, drilling as necessary (roughening, conductive circuit formation, etc.) processing, further laminating the base materials, repeating this operation, and finally heat-curing to multi-layer Etc.
In addition, when the composition of the present invention is used as a part of a substrate material of a multilayer substrate, the liquid composition of the present invention is applied to a base material, or the film-shaped composition of the present invention is laminated, Examples of the method include multilayering by hot pressing, performing drilling or the like as necessary, repeating this operation, and finally heat-curing.
In addition, it can also use as a printed wiring board as it is, without using a base material.
[0118]
When used as an interlayer insulating material such as a multilayer circuit board for an electronic circuit, one interlayer insulating layer may be composed of one layer or multiple layers, and the film thickness is preferably 1 to 100 μm, more preferably 15 to 50 μm.
As conditions for hot pressing, the temperature is 25 to 180 ° C. (preferably 50 to 150 ° C.), the pressure is 0.01 MPa to 10 MPa (preferably 0.1 to 1 MPa), and the time is 1 to 1200 seconds (preferably 10 to 300 seconds). Etc. are preferred.
Holes (via holes, through holes, etc.) for conducting the layers of the multilayer substrate can be created by a normal method, for example, a method using a laser (carbon dioxide, YAG, excimer, etc.), a drill, or the like can be used.
Roughening can be performed by a normal method, for example, the method described in Japanese Patent Publication No. 6-49852 can be used.
The conductive circuit can be formed by a normal method, for example, a sputtering method or an electroless method can be used.
[0119]
The insulator obtained from the curable resin composition of the present invention has a volume resistance (based on JIS K6011 (1995)) of 1015-1017It is Ω / cm, and is superior in electrical insulation as compared with epoxy resins and polyimide resins that are conventionally used insulating materials.
Moreover, the adhesiveness with the copper formed by oxidizing agent processing and electroless copper plating is also favorable, and peel strength (conforming to JIS C6481 (1995) 5.7) shows 0.8 kgf / cm or more.
On the other hand, the heat resistance is the same as that of conventional insulators. Even if it is brought into contact with 300 ° C. solder for 1 minute, no abnormalities such as sagging, breakage and blistering are observed, and crack resistance against various solvents is also observed. Very good.
Moreover, the insulating material in the present invention is excellent in 10% sulfuric acid resistance, 10% hydrochloric acid resistance, 10% nitric acid resistance and 10% sodium hydroxide resistance measured by the method defined in JIS K 6911 (1995) 5.32. .
Therefore, the curable resin composition of the present invention has great advantages for increasing the speed and density of electronic circuits.
【Example】
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further, this invention is not limited to this. Hereinafter, parts represent parts by mass, and% represents mass%.
Synthesis example 1
50 parts of methyl ethyl ketone was charged in a reaction vessel substituted with nitrogen, heated to 80 ° C., and uniformly dissolved in another nitrogen-substituted vessel, 200 parts of glycidyl methacrylate, 200 parts of styrene, 200 parts of methyl ethyl ketone, and azo A mixture consisting of 1.5 parts of bisisobutyronitrile was dropped into the reaction vessel over 4 hours. After completion of dropping, the mixture was aged at 100 ° C. for 4 hours to obtain a resin (A1) solution of styrene / glycidyl methacrylate = 50 parts / 50 parts.
Mw of (A1) is 160,000, the number average molecular weight by GPC (hereinafter abbreviated as Mn) is 53,000, the epoxy equivalent is 284, and the crosslinkable functional group of (A1) (M1 and epoxy equivalent) The number of epoxy groups was 187.
(A1) was prepared using methyl ethyl ketone so that the solid content was 40%, to obtain a resin solution (A11).
[0120]
Synthesis example 2
The following polymerization experiments were performed in a glove box substituted with nitrogen.
To a four-necked flask equipped with a stirrer and a temperature controller, 100 parts of toluene was charged, and the temperature was adjusted to 30 ° C. with stirring. 5 parts by weight of a hexane solution of vanadium oxytrichloride (catalyst concentration: 0.02 mmol / ml), 50 parts of 5-ethylidene-2-norbornene and 50 parts of 1-hexene were charged and polymerized at 30 ° C. for 120 minutes.
The copolymer solution was added dropwise to 3000 parts of isopropanol with stirring to form a precipitate. The precipitate was distilled off in a vacuum dryer at 100 ° C. under a reduced pressure of 10 mmHg to obtain a resin (A2). 70 parts were obtained.
The Mw of (A2) was 98,000.
[0121]
(A2) 100 parts, 20 parts of glycidyl methacrylate and 7.0 parts of 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane (manufactured by NOF Corporation, trade name: Perhexa 25B) at room temperature After dry blending, a resin (A3) was obtained by extrusion with a twin screw extruder under conditions of a cylinder temperature of 260 ° C. and a screw rotation speed of 230 rpm.
Mw of (A3) was 117,000, Mn was 29,000, epoxy equivalent was 850, and the number of crosslinkable functional groups (epoxy groups) of (A3) was 138 from Mn and epoxy equivalent.
(A3) was dissolved in toluene with a solid content of 40% to obtain a resin solution (A33).
[0122]
Synthesis example 3
6-methyl-1,4: 5,8-dimethano-1,4,4a, 5,6,7,8,8a-cyclic ring produced by ring-opening polymerization of octahydronaphthalene (MTD) by a known method 6. 100 parts of olefin resin (Mw 28,000), 20 parts of glycidyl methacrylate and 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane (Nippon Yushi Co., Ltd., trade name: Perhexa 25B) After 0 parts were dry blended at room temperature, the mixture was extruded with a twin screw extruder under conditions of a cylinder temperature of 260 ° C. and a screw rotation number of 230 rpm to obtain a resin (A4).
Mw of (A4) was 33,000, Mn was 8,400, epoxy equivalent was 840, and the number of crosslinkable functional groups (epoxy groups) of (A4) was 10 from Mn and epoxy equivalent.
(A4) was dissolved in toluene so that the solid content was 40% to obtain a resin solution (A44).
[0123]
Synthesis example 4
50 parts of methyl ethyl ketone was charged in a reaction vessel substituted with nitrogen, heated to 80 ° C., and uniformly dissolved in another nitrogen-substituted vessel, 200 parts of hydroxyethyl methacrylate, 200 parts of styrene, 200 parts of methyl ethyl ketone, and A mixture consisting of 1.5 parts of azobisisobutyronitrile was dropped into the reaction vessel over 4 hours.
After completion of dropping, the mixture was aged at 100 ° C. for 4 hours to obtain a methyl ethyl ketone solution of resin (A5).
30 parts of acrylic acid was added to 100 parts of a methyl ethyl ketone solution of resin (A5), and esterification was performed at 100 ° C. for 4 hours under reduced pressure while adding a solvent (methyl ethyl ketone) to obtain a methyl ethyl ketone solution of resin (A6).
Mw of (A6) is 160,000, Mn is 45,000, the equivalent of the acryloyl group analyzed by NMR is 610, and the crosslinkable functional group (acryloyl group) of (A6) is derived from Mn and the acryloyl group equivalent. The number was 74.
(A6) was adjusted by adding methyl ethyl ketone so that the solid content was 40% to obtain a resin solution (A66).
[0124]
Synthesis example 5
30 parts of methacrylic acid was added to 100 parts of the methyl ethyl ketone solution of the resin (A5) obtained in Synthesis Example 4, and the mixture was reacted at 100 ° C. for 4 hours under reduced pressure to obtain a methyl ethyl ketone solution of the resin (A7). .
Mw of (A7) is 160,000, Mn is 45,000, the equivalent of the methacryloyl group analyzed by NMR is 625, and the crosslinkable functional group (methacryloyl group) of (A7) is derived from Mn and the equivalent of methacryloyl group. The number was 72.
(A7) was adjusted by adding methyl ethyl ketone so that the solid content was 40% to obtain a resin solution (A77).
[0125]
Example 1
30 parts of resorcinol diglycidyl ether and 6 parts of 2-ethyl-4-methylimidazole were added to 175 parts of the resin solution (A11) and mixed with stirring.
This was coated on a 50 μm-thick PET film (257 mm × 364 mm) using a knife coater (manufactured by Yasui Seiki; knife coater SNC-300), dried at 60 ° C. for 30 minutes, the solvent was removed, and the PET film was A curable resin composition (1) of the present invention was prepared. The thickness of the curable resin composition (1) was measured and found to be 47 ± 2 μm.
[0126]
The curable resin composition (1) was brought into contact with a BT substrate (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Industry Co., Ltd., CCL-830, 100 mm × 100 mm, copper foil on each half of the back and front surfaces removed by etching) and 120 ° C. After hot pressing under conditions of 0.4 kgf for 5 minutes, the PET film was peeled off and heat-cured at 180 ° C. for 3 hours to obtain an evaluation sample (1).
Using the sample for evaluation (1), -55 ° C was continued for 30 minutes and then 125 ° C was continued for 30 minutes (both the temperature rise rate and the temperature fall rate were 100 ° C / min), and a thermal cycle test was repeated. As a result, no cracks, blisters, or peeling defects were observed even after 1000 cycles.
The dielectric constant after curing of the curable resin composition {circle around (1)} at 1 GHz measured according to JIS K6911 (1995) 5.14 was 2.9.
[0127]
Reference example 3
  30 parts of resorcinol diglycidyl ether and 6 parts of 2-ethyl-4-methylimidazole were added to 175 parts of the resin solution (A33) and mixed with stirring.
  This was coated on a 50 μm thick PET film (257 mm × 364 mm) using a knife coater (manufactured by Yasui Seiki; knife coater SNC-300), dried at 60 ° C. for 30 minutes, the solvent was removed, and the PET film was The curable resin composition of the present invention(2)Adjusted. Curable resin composition(2)When the thickness of was measured, it was 47 ± 2 μm.
[0128]
An evaluation sample (2) was obtained using the curable resin composition (2) in the same manner as in Example 1.
Using the evaluation sample (2), a thermal cycle test was conducted in the same manner as in Example 1. As a result, no cracking, blistering, or peeling failure was observed even after 1000 cycles.
The curable resin composition (2) measured in the same manner as in Example 1 had a dielectric constant after curing of 2.5.
[0129]
Reference example 4
  30 parts of resorcinol diglycidyl ether and 6 parts of 2-ethyl-4-methylimidazole were added to 175 parts of the resin solution (A44) and mixed with stirring.
  This was coated on a 50 μm thick PET film (257 mm × 364 mm) using a knife coater (manufactured by Yasui Seiki; knife coater SNC-300), dried at 60 ° C. for 30 minutes, the solvent was removed, and the PET film was The curable resin composition of the present invention(3)Adjusted. Curable resin composition(3)When the thickness of was measured, it was 47 ± 2 μm.
[0130]
An evaluation sample (3) was obtained using the curable resin composition (3) in the same manner as in Example 1.
Using the evaluation sample (3), a thermal cycle test was conducted in the same manner as in Example 1. As a result, cracking, blistering, and peeling were not observed even after 1000 cycles.
The curable resin composition (3) measured in the same manner as in Example 1 had a dielectric constant after curing of 2.7.
[0131]
  Reference example 1
  To 175 parts of the resin solution (A66), 30 parts of ethylene glycol diacrylate and 5 parts of dicumyl peroxide were added and mixed with stirring.
  This was coated on a 50 μm thick PET film (257 mm × 364 mm) using a knife coater (manufactured by Yasui Seiki; knife coater SNC-300), dried at 60 ° C. for 30 minutes, the solvent was removed, and the PET film was The curable resin composition of the present invention(4)Adjusted. Curable resin composition(4)As a result, the thickness was 47 ± 2 μm.
[0132]
An evaluation sample (4) was obtained using the curable resin composition (4) in the same manner as in Example 1.
When the thermal cycle test was conducted in the same manner as in Example 1 using the sample for evaluation (4), no defects such as cracking, blistering and peeling were observed even after 1000 cycles.
The curable resin composition (4) measured in the same manner as in Example 1 had a dielectric constant after curing of 2.9.
[0133]
Reference example 2
  30 parts of ethylene glycol diacrylate and 5 parts of dicumyl peroxide were added to 175 parts of the resin solution (A77) and mixed with stirring.
  This was coated on a 50 μm thick PET film (257 mm × 364 mm) using a knife coater (manufactured by Yasui Seiki; knife coater SNC-300), dried at 60 ° C. for 30 minutes, the solvent was removed, and the PET film was The curable resin composition of the present invention(5)Adjusted. Curable resin composition(5)As a result, the thickness was 47 ± 2 μm.
[0134]
An evaluation sample (5) was obtained using the curable resin composition (5) in the same manner as in Example 1.
Using this evaluation sample (5), a thermal cycle test was conducted in the same manner as in Example 1. As a result, no cracking, blistering, or peeling failure was observed even after 1000 cycles.
The curable resin composition (5) measured in the same manner as in Example 1 had a dielectric constant after curing of 2.9.
[0135]
Comparative Example 1
85 parts of 4-methylcyclohexane-1,2-dicarboxylic acid was added to 100 parts of Epicoat 828 (trade name, manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd .; bisphenol A type epoxy resin), and mixed by stirring. Made on Seiki; knife coater SNC-300) on BT substrate (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., CCL-830, 100 mm × 100 mm, with copper foil on each half of the back and front surfaces removed by etching) 62 After coating with a thickness of ± 2 μm, it was heat-cured at 180 ° C. for 3 hours to obtain a comparative evaluation sample (5).
Using the sample for comparative evaluation (5), a thermal cycle test was conducted in the same manner as in Example 1, but 1 piece / cm at 500 cycles.2Cracks occurred at a rate of. The dielectric constant measured in the same manner as in Example 1 was 3.6.
[0136]
Comparative Example 2
95 parts of 4-methylcyclohexane-1,2-dicarboxylic acid was added to 100 parts of cresol novolac epoxy resin of Mw 1040, mixed with stirring, and BT substrate using a knife coater (manufactured by Yasui Seiki; (Mitsubishi Gas Chemical Industry Co., Ltd., CCL-830, 100 mm × 100 mm, copper foil on each side of the back and front surfaces removed by etching) with a thickness of 62 ± 2 μm, then applied at 180 ° C. for 3 hours A sample for comparative evaluation (6) was obtained by heat curing.
Using this comparative evaluation sample {circle around (6)}, a thermal cycle test was conducted in the same manner as in Example 1, but 1 sample / cm at 700 cycles.2Cracks occurred at a rate of. The dielectric constant measured in the same manner as in Example 1 was 3.5.
[0137]
【The invention's effect】
The curable resin composition of the present invention can produce an insulator having excellent thermal shock resistance and dielectric properties.
Furthermore, the curable resin composition of the present invention can form an insulator excellent in adhesiveness, heat resistance, solvent resistance, low water absorption, electrical insulation, chemical resistance, workability, and the like. Therefore, it is most suitable for an overcoat material or an interlayer insulating material used for a circuit board used for various electric devices, electronic components or semiconductor elements.
The curable resin composition of the present invention is not limited to a technical field such as a circuit board, and can be used in various fields, and is a very useful material that can be used particularly for forming a thin film.

Claims (3)

スチレン、エチレン、プロピレンからなる群より選ばれる少なくとも1種の単量体と、架橋性官能基としてエポキシ基と(メタ)アクリロイル基とをもつ単量体(o)またはエポキシ基とビニル基とをもつ単量体(p)を必須構成単量体としてなり、架橋性官能基としてエポキシ基を分子中に少なくとも2個有する樹脂(A)、及び架橋性官能基としてエポキシ基を分子中に少なくとも2個有する低分子化合物(B)を含有してなり、(A)の重量平均分子量が30,000〜600,000であり、(B)の重量平均分子量が170〜3,000であり、硬化後の誘電率が3.5以下であることを特徴とする硬化性樹脂組成物。 At least one monomer selected from the group consisting of styrene, ethylene and propylene, and a monomer (o) having an epoxy group and a (meth) acryloyl group as a crosslinkable functional group, or an epoxy group and a vinyl group. A monomer (p) having an essential constituent monomer, a resin (A) having at least two epoxy groups in the molecule as crosslinkable functional groups, and at least 2 epoxy groups in the molecule as crosslinkable functional groups A low molecular compound (B) having a number, (A) has a weight average molecular weight of 30,000 to 600,000 , (B) has a weight average molecular weight of 170 to 3,000, and after curing A curable resin composition having a dielectric constant of 3.5 or less. 前記エポキシ基が、グリシジル基若しくはシクロヘキセニルモノオキサイド基に起因するエポキシ基である請求項1記載の硬化性樹脂組成物。  The curable resin composition according to claim 1, wherein the epoxy group is an epoxy group derived from a glycidyl group or a cyclohexenyl monooxide group. 請求項1又は2に記載の硬化性樹脂組成物を硬化させてなる絶縁体。An insulator obtained by curing the curable resin composition according to claim 1 .
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