JP3689158B2 - 4−アシルアミノフェニルアセチレンアルコール化合物及びそれを用いた4−アシルアミノフェニルアセチレン化合物の製造方法 - Google Patents
4−アシルアミノフェニルアセチレンアルコール化合物及びそれを用いた4−アシルアミノフェニルアセチレン化合物の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3689158B2 JP3689158B2 JP27776395A JP27776395A JP3689158B2 JP 3689158 B2 JP3689158 B2 JP 3689158B2 JP 27776395 A JP27776395 A JP 27776395A JP 27776395 A JP27776395 A JP 27776395A JP 3689158 B2 JP3689158 B2 JP 3689158B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- carbon atoms
- group
- general formula
- alkyl group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims description 36
- -1 alcohol compound Chemical class 0.000 title claims description 20
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 18
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 14
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 8
- MFRIHAYPQRLWNB-UHFFFAOYSA-N sodium tert-butoxide Chemical compound [Na+].CC(C)(C)[O-] MFRIHAYPQRLWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- KZNICNPSHKQLFF-UHFFFAOYSA-N succinimide Chemical compound O=C1CCC(=O)N1 KZNICNPSHKQLFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical compound [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910000102 alkali metal hydride Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 claims description 4
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000008046 alkali metal hydrides Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 claims description 3
- XKJCHHZQLQNZHY-UHFFFAOYSA-N phthalimide Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NC(=O)C2=C1 XKJCHHZQLQNZHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 claims description 3
- 229960002317 succinimide Drugs 0.000 claims description 3
- 150000003509 tertiary alcohols Chemical class 0.000 claims description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims 2
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 10
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZOUWOGOTHLRRLS-UHFFFAOYSA-N palladium;phosphane Chemical compound P.[Pd] ZOUWOGOTHLRRLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- 229940125773 compound 10 Drugs 0.000 description 8
- ZLVXBBHTMQJRSX-VMGNSXQWSA-N jdtic Chemical compound C1([C@]2(C)CCN(C[C@@H]2C)C[C@H](C(C)C)NC(=O)[C@@H]2NCC3=CC(O)=CC=C3C2)=CC=CC(O)=C1 ZLVXBBHTMQJRSX-VMGNSXQWSA-N 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 8
- GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,6,7,8,9,10-octahydropyrimido[1,2-a]azepine Chemical compound C1CCCCN2CCCN=C21 GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000002585 base Substances 0.000 description 6
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 4
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC(C)=N1 OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JXYITCJMBRETQX-UHFFFAOYSA-N 4-ethynylaniline Chemical group NC1=CC=C(C#C)C=C1 JXYITCJMBRETQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VLVCDUSVTXIWGW-UHFFFAOYSA-N 4-iodoaniline Chemical compound NC1=CC=C(I)C=C1 VLVCDUSVTXIWGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UEXCJVNBTNXOEH-UHFFFAOYSA-N Ethynylbenzene Chemical class C#CC1=CC=CC=C1 UEXCJVNBTNXOEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- LINDOXZENKYESA-UHFFFAOYSA-N TMG Natural products CNC(N)=NC LINDOXZENKYESA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 3
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- CEBKHWWANWSNTI-UHFFFAOYSA-N 2-methylbut-3-yn-2-ol Chemical compound CC(C)(O)C#C CEBKHWWANWSNTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGMOBVGABMBZSB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropanoyl chloride Chemical compound CC(C)C(Cl)=O DGMOBVGABMBZSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC=N1 BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 0 CC(CC1)(CCC1C#C*)[N+]([O-])=O Chemical compound CC(CC1)(CCC1C#C*)[N+]([O-])=O 0.000 description 2
- QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N Dicylcohexylcarbodiimide Chemical compound C1CCCCC1N=C=NC1CCCCC1 QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 229960004592 isopropanol Drugs 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- KZLMXQOVEPPAEE-UHFFFAOYSA-N n-(4-iodophenyl)-2-methylpropanamide Chemical compound CC(C)C(=O)NC1=CC=C(I)C=C1 KZLMXQOVEPPAEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L sodium carbonate Substances [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- KYVBNYUBXIEUFW-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylguanidine Chemical compound CN(C)C(=N)N(C)C KYVBNYUBXIEUFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SGUVLZREKBPKCE-UHFFFAOYSA-N 1,5-diazabicyclo[4.3.0]-non-5-ene Chemical compound C1CCN=C2CCCN21 SGUVLZREKBPKCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAZZTEJDUGESGQ-UHFFFAOYSA-N 1-ethynyl-4-nitrobenzene Chemical group [O-][N+](=O)C1=CC=C(C#C)C=C1 GAZZTEJDUGESGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006432 1-methyl cyclopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C1(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- JVSFQJZRHXAUGT-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylpropanoyl chloride Chemical compound CC(C)(C)C(Cl)=O JVSFQJZRHXAUGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYMRPDYINXWJFU-UHFFFAOYSA-N 2-carbamoylbenzoic acid Chemical compound NC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O CYMRPDYINXWJFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XWKFPIODWVPXLX-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-5-methylpyridine Natural products CC1=CC=C(C)N=C1 XWKFPIODWVPXLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDFQBORIUYODSI-UHFFFAOYSA-N 4-bromoaniline Chemical compound NC1=CC=C(Br)C=C1 WDFQBORIUYODSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDYRKLPFRHKPMM-UHFFFAOYSA-N CC(CC(C)(CC1)N)C1C#C Chemical compound CC(CC(C)(CC1)N)C1C#C UDYRKLPFRHKPMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMZYVBLTCKUQRP-UHFFFAOYSA-N CC(CC(C)(CC1)[N+]([O-])=O)C1C#C Chemical compound CC(CC(C)(CC1)[N+]([O-])=O)C1C#C YMZYVBLTCKUQRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021595 Copper(I) iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003436 Schotten-Baumann reaction Methods 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 1
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000005236 alkanoylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000001502 aryl halides Chemical class 0.000 description 1
- YNHIGQDRGKUECZ-UHFFFAOYSA-L bis(triphenylphosphine)palladium(ii) dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Pd+2].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 YNHIGQDRGKUECZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GKPOMITUDGXOSB-UHFFFAOYSA-N but-3-yn-2-ol Chemical compound CC(O)C#C GKPOMITUDGXOSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 1
- LSXDOTMGLUJQCM-UHFFFAOYSA-M copper(i) iodide Chemical compound I[Cu] LSXDOTMGLUJQCM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L copper;diiodide Chemical compound I[Cu]I GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 238000010511 deprotection reaction Methods 0.000 description 1
- VWWMOACCGFHMEV-UHFFFAOYSA-N dicarbide(2-) Chemical compound [C-]#[C-] VWWMOACCGFHMEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 1
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000004811 liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 229910000103 lithium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- SIAPCJWMELPYOE-UHFFFAOYSA-N lithium hydride Chemical compound [LiH] SIAPCJWMELPYOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002940 palladium Chemical class 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000105 potassium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N potassium hydride Chemical compound [KH] NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 150000003222 pyridines Chemical class 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N sodium ethoxide Chemical compound [Na+].CC[O-] QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004044 trifluoroacetyl group Chemical group FC(C(=O)*)(F)F 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D207/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D207/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D207/30—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D207/34—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D207/36—Oxygen or sulfur atoms
- C07D207/40—2,5-Pyrrolidine-diones
- C07D207/404—2,5-Pyrrolidine-diones with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms directly attached to other ring carbon atoms, e.g. succinimide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C233/00—Carboxylic acid amides
- C07C233/01—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
- C07C233/16—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by singly-bound oxygen atoms
- C07C233/24—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by singly-bound oxygen atoms with the substituted hydrocarbon radical bound to the nitrogen atom of the carboxamide group by a carbon atom of a six-membered aromatic ring
- C07C233/25—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by singly-bound oxygen atoms with the substituted hydrocarbon radical bound to the nitrogen atom of the carboxamide group by a carbon atom of a six-membered aromatic ring having the carbon atom of the carboxamide group bound to a hydrogen atom or to a carbon atom of an acyclic saturated carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D207/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D207/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D207/44—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D207/444—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having two doubly-bound oxygen atoms directly attached in positions 2 and 5
- C07D207/448—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having two doubly-bound oxygen atoms directly attached in positions 2 and 5 with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms directly attached to other ring carbon atoms, e.g. maleimide
- C07D207/452—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having two doubly-bound oxygen atoms directly attached in positions 2 and 5 with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms directly attached to other ring carbon atoms, e.g. maleimide with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms, directly attached to the ring nitrogen atom
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D209/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D209/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom condensed with one carbocyclic ring
- C07D209/44—Iso-indoles; Hydrogenated iso-indoles
- C07D209/48—Iso-indoles; Hydrogenated iso-indoles with oxygen atoms in positions 1 and 3, e.g. phthalimide
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
- G03C1/06—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with non-macromolecular additives
- G03C1/34—Fog-inhibitors; Stabilisers; Agents inhibiting latent image regression
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/494—Silver salt compositions other than silver halide emulsions; Photothermographic systems ; Thermographic systems using noble metal compounds
- G03C1/498—Photothermographic systems, e.g. dry silver
- G03C1/49836—Additives
- G03C1/49845—Active additives, e.g. toners, stabilisers, sensitisers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Indole Compounds (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明はハロゲン化銀写真感光材料、特に熱現像感光材料に用いられるかぶり抑制剤として使用するのに適した化合物の合成中間体、及びそれを用いた前記化合物の製造法に関する。
【0002】
【従来の技術】
ハロゲン化銀を用いた感光材料の画像処理法を従来の現像液等による湿式処理から、加熱等による乾式処理に変えることにより、簡易で迅速に画像を得ることのできる技術が開発されてきた。
【0003】
熱現像感光材料は当該技術分野では公知であり、熱現像感光材料とそのプロセスについては、米国特許第3,152,904 号、第3,301,678 号、第3,392,020 号、第3,457,075 号、英国特許第1,131,108 号、第1,167,777 号およびリサーチディスクロージャー誌1978年6月号9〜15ページ(RD−17029)に記載されている。
【0004】
p位にアシルアミノ基、特に2級または3級アルカノイルアミノ基を有するフェニルアセチレン類は、かぶりを抑制する化合物として有用である。
フェニルアセチレン類の合成法としては従来より数多くのものが知られているが(例えばS.Patai Ed., “The chemistry of the carbon-carbon triple bond",p.755,John Wiley & Sons(1978))、ステップ数が多く、コスト的に不利な合成法が多い。
【0005】
これに対して、近年、パラジウム触媒を用いるハロゲン化アリールとアセチレン化合物とのカップリング反応がステップ数の少ない方法として開発されてきている(例えば、Synthesis 1980, 627 ; ibid.,1981,364;ibid.,1984,728;Organometallics 12, 263 (1993); J.Org.Chem., 59, 5818(1994)など参照)。
【0006】
【化4】
【0007】
【化5】
【0008】
この方法によって本発明の目的化合物であるp位にアシルアミノ基を有するフェニルアセチレン化合物の前駆体である4−ニトロフェニルアセチレン、4−アミノフェニルアセチレンが合成されているが、4−ニトロフェニルアセチレン化合物は、爆発性の化合物であり、また4−アミノフェニルアセチレンは不安定な化合物であり、残念ながら大量合成には不向きと言わざるを得ない。
【0009】
p−ヨードアニリン自身をPd触媒存在下、アセチレンアルコール類と反応させた場合には、変換率が低く、そのため、トリフルオロアセチル基による保護、脱保護による4−アミノフェニルアセチレンの合成が提案されているが、コスト的に満足できるものではない。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、ハロゲン化銀写真感光材料、特に熱現像感光材料においてカブリ防止剤として使用するのに適したp−アシルアミノフェニルアセチレンの合成中間体、及びそれを用いて簡便に収率よくp−アシルアミノフェニルアセチレンを製造する方法を提供することである。
【0011】
【課題を解決するための手段】
本発明は下記の一般式(I)により表される4−アシルアミノフェニルアセチレンアルコール化合物を提供するものである。
【化6】
(式中、R1 は2級もしくは3級のアルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表わし、R2 は水素原子またはアルキル基を表し、R3 はアルキル基を表わし、R4 は水素原子又はアシル基を表わし、R1 とR4 が結合して5−6員環を形成していてもよい。
本発明はまた、上記一般式(I)で表わされる化合物を3級アミン、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属アルコキシドまたはアルカリ金属水素化合物と反応させることを特徴とする下記一般式(II) :
【化7】
(式中、R1 は一般式(I)におけるものと同義である。)
で表わされる4−アシルアミノフェニルアセチレン化合物の製造方法、を提供するものである。
【0012】
以下に本発明の化合物、製造方法について詳しく説明する。
まず本発明の一般式(I)の化合物について詳細に説明する。
R1 は好ましくは炭素数3−20の2級もしくは3級のアルキル基(例えばi−プロピル、sec−ブチル、tert−ブチル、tert−オクチル)、好ましくは炭素数3−20のシクロアルキル基(例えばシクロプロピル、シクロヘキシル、アダマンチル、1−メチルシクロプロピル、1−ベンジルシクロプロピル)または好ましくは炭素数6−20のアリール基(例えばフェニル、ナフチル)を表わす。
R1 はより好ましくは2級アルキル基またはシクロアルキル基を表わし、さらに好ましくはiso−プロピル基、シクロヘキシル基を表わし、特に好ましくはiso−プロピル基を表わす。
【0013】
R2 は水素分子または好ましくは炭素数1〜20のアルキル基(例えばメチル、エチル)を表わし、好ましくはメチル基を表わす。
R3 は好ましくは炭素数1〜20のアルキル基(例えばメチル、エチル)を表わし、好ましくはメチル基を表わす。
R2 、R3 がともにアルキル基、特にメチル基である組合せが特に好ましい。R4 は水素原子または好ましくは炭素数1〜20のアシル基(例えばホルミル、アセチル)を表わし、R1 と結合して5−6員環を形成していてもよい。形成される環は好ましくは5員環であり、フタル酸イミド、コハク酸イミド、マレイン酸イミドを好ましい5員環として挙げることができる。特に好ましい5員環としてはフタル酸イミドである。
R4 は特に好ましくは水素原子である。
次に本発明の一般式(I)の化合物を使用した一般式(II)の化合物の製造方法について詳しく説明する。
本発明の製造方法は、以下の反応スキームによって表わされる。
【0014】
【化8】
【0015】
一般式(I)で表わされる化合物は容易に入手可能なP−ブロモアニリンまたはP−ヨードアニリンより化合物10を経由して収率よく得ることができる。化合物10を得る反応において、よく用いられる溶媒としてはアセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドのようなアミド系溶媒、エーテル、THF、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、酢酸エチルなどのエステル系溶媒、塩化メチレンなどのハロゲン系溶媒、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒を挙げることができる。塩基としてはピリジン、α−ピコリン、2,6−ルチジンなどのピリジン系化合物、トリエチルアミンなどの3級アミン化合物を用いることもできる。重炭酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、さらに対応するカリウム塩などを塩基として用い、水溶液、あるいは前記の有機溶媒と水の混合溶媒系で反応する、いわゆるショッテンバウマン法を用いることも可能である。
アシル化剤としては、酸クロリド(R1COCl)、酸無水物〔(R1CO)2O〕などがよく用いられるが、カルボン酸(R1CO2H)と種々の縮合剤〔DCC(ジシクロヘキシルカルボジイミド)など〕を組み合わせて用いてもよい。これらは、化合物6に対して0.5〜1.5当量、好ましくは0.9−1.1当量用いられる。
【0016】
次いで化合物10を一般式(I)で表わされる化合物に変換する方法について説明する。
一般式(IV)で表わされるアセチレンアルコール類は、アセチリドとケトン、アルデヒド類との反応により容易に得られ、安価に入手可能である。一般式(IV)で表わされる化合物は、化合物10に対して0.5〜5当量、好ましくは0.8−3当量用いられる。通常、生成する酸を捕捉する目的で有機塩基(例えばジエチルアミン、トリエチルアミン)が用いられ、これらの塩基は、化合物10に対して1〜30当量好ましくは1〜10当量用いられる。パラジウム触媒としては0価または2価のホスフィン系配位子を有するパラジウム錯体がよく用いられる。ホスフィン系配位子としては安価なトリフェニルホスフィンが最もよく用いられるが、その他の3価のリン化合物、ジ−置換ホスフィノエタンなどの2座配位子を用いることもできる。最も好ましく用いられるパラジウム錯体としてはテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)クロリドなどを挙げることができる。これらの錯体は化合物10に対して1×10-6〜1モル用いられ、好ましくは1×10-5〜1×10-2モル用いられる。これらの錯体以外にさらにホスフィン系配位子(例えばトリフェニルホスフィン)を加えることもできる。好ましくは、化合物10に対して1×10-4〜1×10-2モル用いられる。
さらに、1価の銅塩(例えばヨウ化銅)を加えることもできる。好ましくは化合物10に対して1×10-4〜1×10-1モル用いられる。
【0017】
反応溶媒としては芳香族炭化水素系溶媒(例えばベンゼン、トルエン)、エーテル系溶媒(例えばジメトキシエタン、ジグリム)、アミド系溶媒(例えばジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド)などを挙げることができるが、有機塩基を過剰に用い、溶媒を兼ねることで、これらの溶媒を加えずに反応することもできる。反応温度は0−150℃、好ましくは20−130℃、さらに好ましくは20−90℃である。
【0018】
次に一般式(I)で表わされる化合物より、一般式(II)で表わされる化合物を得る製造方法について説明する。
一般式(I)で表わされる化合物は、3級アミン{例えば、トリエチルアミン、1,1,3,3−テトラメチルグアニジン(TMG)、1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕−5−ノネン(DBN)、1、8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕−7−ウンデセン(DBU)}、アルカリ金属水酸化物(例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム)アルカリ金属アルコキシド{例えば、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウム−tert−ブトキシド、カリウム−tert−ブトキシド}、アルカリ金属水素化物{例えば、水素化ナトリウム、水素化リチウム、水素化カリウム}と反応させることにより、一般式(II)で表わされる化合物に変換することができる。3級アミンは好ましくはTMG、DBN、DBUであり、特に好ましくはDBUである。アルカリ金属アルコキシドは、好ましくはナトリウム−tert−ブトキシド、カリウム−tert−ブトキシドである。
アルカリ金属水素化物は、好ましくは水素化ナトリウムである。
これらの塩基は、一般式(I)で表わされる化合物に対して0.1〜10当量、好ましくは0.1〜3当量用いられる。
【0019】
溶媒としては、メタノール、iso −プロパノール、tert−ブタノールなどのアルコール系溶媒、エーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAC)、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)などのアミド系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒の他、ジメチルスルホキシド(DMSO)、スルホラン、アセトニトリル、アセトンなどが用いられる。
好ましくは3級アルコール、特に好ましくはtert−ブタノールが溶媒として用いられる。
反応温度は0〜150℃、好ましくは20〜130℃、特に好ましくは50〜120℃である。
次に一般式(I)、一般式(II)で表わされる化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0020】
【表1】
【0021】
【表2】
【0022】
【表3】
【0023】
【表4】
【0024】
【表5】
【0025】
【表6】
【0026】
【表7】
【0027】
【表8】
【0028】
【表9】
【0029】
【表10】
【0030】
次に実施例にて本発明をさらに詳細に説明する。
実施例1(I)−2の合成
p−ヨードアニリン219.0g(1モル)をアセトニトリル1000mlに分散し、ピリジン81.0ml(1モル)を加え、氷冷下、イソ酪酸クロリド100.5ml(1モル)を1時間かけて滴下した。滴下後さらに1時間撹拌を行ない、これに水3000mlを加え、析出した結晶をろ過し、N−(4−ヨードフェニル)イソ酪酸アミドを281.7g(収率97%)得た。
ついで、得られたN−(4−ヨードフェニル)イソ酪酸アミド28.9g(0.1モル)に、2−メチル−3−ブチン−2−オール21.5g(0.25モル)、ビストリフェニルホスフィンパラジウム(II)クロリド0.170g(0.24モル%)、ヨウ化銅(I)0.170g(0.87モル%)、トリフェニルホスフィン0.630g(2.4モル%)、トリエチルアミン150mlを加え、窒素雰囲気下、6時間加熱還流を行った。溶媒を留去したのち、酢酸エチル150mlを加え、水洗を2回行ない、溶媒を留去した。得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン/酢酸エチル=1/1)にて精製後、n−ヘキサン/酢酸エチルにて晶析を行ない、化合物(I)−2を無色結晶として20.1g(収率82%)得た。
【0031】
実施例2 化合物(I)−1の合成
2−メチル−3−ブチン−2−オールのかわりに等モルの3−ブチン−2−オールを用い、実施例1と同様の反応、後処理を行ない、化合物(I)−1を19.4g(収率89%)得た。
【0032】
実施例3 化合物(I)−20の合成
イソ酪酸クロリドのかわりに等モルのピバリン酸クロリドを用い、実施例1と同様の反応、後処理を行ない、化合物(I)−20を19.2g(収率85%)得た。
【0033】
実施例4 化合物(I)−2からの化合物(II)−1の合成
化合物(I)−2(24.6g)(0.1モル)にtert−ブタノール100ml、カリウムtert−ブトキシド2.40g(0.02モル)を加え、窒素雰囲気下、生成するアセトンを除去する目的で少しずつ溶媒を留去しながら6時間加熱を行った(内温78℃)。溶媒を留去したのち、室温にもどし、イソプロパノール100ml、水100mlを順次加えた。氷冷しながら1時間撹拌を行ない、析出した結晶をろ過して化合物(II)−1を無色結晶として15.6g(収率83%)得た。
【0034】
実施例5 化合物(I)−2と種々の塩基との反応による化合物(II)−1の合成
化合物(I)−2(1.23g)(5ミリモル)に溶媒5mlと塩基を加え、窒素雰囲気下、3時間加熱還流を行ない、反応生成物を液体クロマトグラフィー(254nm)によって定量を行った。結果を表11に示す。
【0035】
【表11】
【0036】
表より明らかなように、特にナトリウムtert−ブトキシド、カリウムtert−ブトキシドを用いた場合、さらに溶媒としてtert−ブタノールを用いた場合に良好な収率で目的とする化合物(II)−1が得られることがわかる。
【0037】
【発明の効果】
本発明によれば、熱現像感光材料に用いられるかぶり抑制剤を短工程で収率よく製造することができる。
Claims (4)
- 下記一般式(I):
(式中、
R1 は炭素数3−20の2級もしくは3級のアルキル基、炭素数3−20のシクロアルキル基または炭素数6−20のアリール基を表わし、
R2 は水素原子または炭素数1−20のアルキル基を表わし、
R3 は炭素数1−20のアルキル基を表わし、
R4 は水素原子を表わし、または、R 1 と結合してフタル酸イミド、コハク酸イミド、またはマレイン酸イミドを形成する基を表わす。)
で表わされる化合物を3級アミン、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属アルコキシドまたはアルカリ金属水素化物と反応させることを特徴とする下記一般式(II) :
(式中、R1 は一般式(I)におけるものと同義である。)
で表わされる4−アシルアミノフェニルアセチレン化合物の製造方法。 - 溶媒として3級アルコールを用いることを特徴とする請求項2記載の製造方法。
- 水素化ナトリウム、ナトリウムtert−ブトキシド、またはカリウムtert−ブトキシドを用いることを特徴とする請求項2または3記載の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27776395A JP3689158B2 (ja) | 1995-10-25 | 1995-10-25 | 4−アシルアミノフェニルアセチレンアルコール化合物及びそれを用いた4−アシルアミノフェニルアセチレン化合物の製造方法 |
| US08/736,482 US5734063A (en) | 1995-10-25 | 1996-10-24 | 4-acylaminophenylacetylenealcohol compounds |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27776395A JP3689158B2 (ja) | 1995-10-25 | 1995-10-25 | 4−アシルアミノフェニルアセチレンアルコール化合物及びそれを用いた4−アシルアミノフェニルアセチレン化合物の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09118657A JPH09118657A (ja) | 1997-05-06 |
| JP3689158B2 true JP3689158B2 (ja) | 2005-08-31 |
Family
ID=17588002
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27776395A Expired - Fee Related JP3689158B2 (ja) | 1995-10-25 | 1995-10-25 | 4−アシルアミノフェニルアセチレンアルコール化合物及びそれを用いた4−アシルアミノフェニルアセチレン化合物の製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5734063A (ja) |
| JP (1) | JP3689158B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0884550A3 (en) | 1997-06-13 | 1999-12-15 | Isuzu Ceramics Research Institute Co., Ltd. | Heat exchanger, heat exchange apparatus comprising the same, and heat exchange apparatus-carrying gas engine |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH635828A5 (de) * | 1978-08-30 | 1983-04-29 | Ciba Geigy Ag | N-substituierte imide und bisimide. |
-
1995
- 1995-10-25 JP JP27776395A patent/JP3689158B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-10-24 US US08/736,482 patent/US5734063A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5734063A (en) | 1998-03-31 |
| JPH09118657A (ja) | 1997-05-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN111233849A (zh) | 新型异喹啉-噁唑啉类手性配体及其制备和应用 | |
| JP3689158B2 (ja) | 4−アシルアミノフェニルアセチレンアルコール化合物及びそれを用いた4−アシルアミノフェニルアセチレン化合物の製造方法 | |
| JPH0610191B2 (ja) | ピロリドン誘導体の製造方法 | |
| KR20040084915A (ko) | 신규의 보로네이트 에스테르 | |
| JP3477631B2 (ja) | 1,3−ビス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3−テトラオルガノジシロキサンの精製方法 | |
| JP3697045B2 (ja) | β−ヒドラジノエステル類並びにピラゾリジノン類、ピラゾロン類およびβ−アミノ酸誘導体の製造方法 | |
| JP2000501738A (ja) | α,α―ジフルオロ―β―ヒドロキシチオールエステル及びその合成 | |
| JP2794241B2 (ja) | 芳香族アミン誘導体の製造方法 | |
| JP2701411B2 (ja) | 3―フェノキシシクロペンテン誘導体、その製造法および該化合物からシクロペンタ[b]ベンゾフラン誘導体を製造する方法 | |
| JP4168184B2 (ja) | N−アシル(メタ)アクリルアミド誘導体の製造方法 | |
| JPH04224595A (ja) | 新規なテルロカルボン酸塩化合物 | |
| JP2000007609A (ja) | カルボン酸誘導体の製造法 | |
| JP3442829B2 (ja) | カルバモイルアシルシクロプロパン化合物の製造方法とそれに用いる2−カルバモイルアシル−4−ブタノリド化合物 | |
| JP3013760B2 (ja) | 4−ヒドロキシ−2−ピロリドンの製法 | |
| JP3819473B2 (ja) | 4,4−ビスハロメチル−3−オキソアルカンカルボン酸誘導体とそれを用いる3−シクロプロピル−3−オキソプロピオン酸誘導体の製造方法 | |
| JPS5817736B2 (ja) | フエニル酢酸アルキルエステルの製造方法 | |
| JPS6253994A (ja) | 1−置換シリル−4−オキソ−2−アゼチジンカルボン酸低級アルキルエステル | |
| JP2000026407A (ja) | (3s,4r)−4−〔(r)−1’−ホルミルエチル〕アゼチジン−2−オン誘導体の製造方法 | |
| JPH0710809B2 (ja) | ジ炭酸ジアルキルエステルの製造方法 | |
| JPS62207228A (ja) | フツ素置換カルボニル化合物の製法 | |
| JPH0584302B2 (ja) | ||
| JPH0272156A (ja) | 4−置換チオ酪酸系化合物の製造方法 | |
| JPH07291948A (ja) | ベンゾトリアゾリルアセチル化合物 | |
| JPS63313743A (ja) | 置換フェノキシアルキルアルデヒドジアルキルアセタ−ル類およびその製造方法 | |
| JPS61502332A (ja) | 5−ハロ−4H−1,3−ジオキシン−4−オン化合物、これらの化合物から製造されたα−ハロアセト酢酸エステル、およびそれらの製法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050228 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050502 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050606 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050610 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080617 Year of fee payment: 3 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080617 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090617 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090617 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100617 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100617 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110617 Year of fee payment: 6 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |