JP3699336B2

JP3699336B2 - プラズマディスプレイパネル基板用リブの製造方法

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Publication number: JP3699336B2
Application number: JP2000177174A
Authority: JP
Inventors: 崇紀杉元; 周史横山; 彰陽田
Original assignee: 3M Innovative Properties Co
Current assignee: 3M Innovative Properties Co
Priority date: 2000-06-08
Filing date: 2000-06-08
Publication date: 2005-09-28
Anticipated expiration: 2020-06-08
Also published as: AU2001266724A1; WO2001095361A3; EP1290710A2; WO2001095361A2; JP2002008524A; KR20030007743A; KR100770230B1

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（以下、単に、「ＰＤＰ」とも称する）基板用リブの製造方法に関する。本発明は、より詳細には、高い輝度及び高いコントラストをもった画像をＰＤＰに提供することができるＰＤＰ基板用リブの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、薄型で大画面表示が可能な表示装置の分野において種々の開発が盛んに行われているが、その中でも特にＰＤＰに期待が寄せられている。一般に、ＰＤＰは、ＰＤＰ基板を備えており、このＰＤＰ基板は、所定の高さ及び幅のリブ（バリアリブ、隔壁又は障壁ともいう）を介して離隔対抗して配置された一対のガラス平板（ガラス基体）から構成されている。また、このような構成を有するＰＤＰ基板において、一対のガラス平板の間の空間は上記リブにより気密に仕切られており、ネオン、ヘリウム又はキセノン等の希ガスを放電ガスとして収容する複数の微細な放電表示セルを画成している。上記の構成の基板において、一般に、表示画面側の平板は「前面板」と呼ばれ、そして反対側の平板は「背面板」と呼ばれている。これらの前面板及び背面板を総称して「基体」とも呼ぶ。
【０００３】
ＰＤＰの持つ技術的課題として、表示画像の高輝度化及び高コントラスト化が挙げられる。背面板上にあるリブが白色の場合には、上記希ガスの放電による蛍光体からの発光がリブで反射されるため、輝度の上昇には有効である一方、リブ上面（前面板側）における外光の反射により、黒表示部分で外光の反射の影響を受けて十分な濃度の黒表示ができないとともに表示のコントラストが低下するという問題がある。
【０００４】
高輝度化及び高コントラスト化の両方の要請を同時に満たす策として、特開平１０−３２１１４３号公報には、各発光色毎の着色パターンを発光色に対応する位置で前面板上に配置するとともに、その着色パターンの境界であるリブ上面が接触する前面板上の位置に黒色帯を設ける構造が提案されている。しかしながら、前面板上に高い寸法精度で黒色帯等を形成しなければならないこと、前面板の黒色帯と背面板のリブとを正確に位置合わせする必要があることなど、工程が複雑になるという欠点があった。
【０００５】
一方、特開平１０−１７２４４２号公報は、ガラス基体上にリブ（隔壁）が形成されたプラズマディスプレイ用基板におけるリブ上部が黒色で、リブ下部が白色もしくは透明であるプラズマディスプレイを開示している。リブ上部を黒色化することにより、リブの上面からの外光反射を抑制してコントラストの低下を防止するとともに、下部を白色化することにより、発光の吸収による輝度の低下を抑制しようとするものである。この公報によると、かかるプラズマディスプレイ用基板の隔壁の形成方法としては、スクリーン印刷法及びフォトリソグラフィー法が用いられている。これらの方法は、塗布された層の上に次の層を塗布する前に乾燥工程が必要であり、時間的損失が大きいという欠点がある。また、スクリーン印刷法ではリブの寸法及び形状精度が不十分であること、フォトリソグラフィー法では、パターニングのために複数の塗布および露光工程とともに現像工程が必要である等の問題があった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明では、高輝度でかつ高コントラストのＰＤＰを実現するために有効な構造をもったリブを、従来の方法よりも簡便かつ高精度でガラス基体上に形成する方法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明によると、ａ）感光性黒色ガラス−セラミックペーストおよび感光性白色ガラス−セラミックペーストから選ばれるいずれか一方の第一の感光性ペーストを成形型の溝部に部分的に充填し、このペーストを放射線で硬化させる工程、
ｂ）感光性黒色ガラス−セラミックペーストおよび感光性白色ガラス−セラミックペーストから選ばれる、第一の感光性ペーストとは異なる色の第二の感光性ペーストをガラス基体上に供給した後に、この第二のペーストを介して、前記成形型と前記ガラス基体とを貼り合わせて、積層体を形成する工程、
ｃ）前記積層体に放射線を照射して、白色および黒色の２層からなるリブ前駆成形体を形成する工程、
ｄ）前記ガラス基体および前記リブ前駆成形体から前記成形型を取り外して、前記ガラス基体に前記リブ前駆成形体を転写する工程、および、
ｅ）前記リブ前駆成形体を焼成して、ガラス基体上に一体的に形成されたリブを得る工程、
を含む、プラズマディスプレイパネル基板用リブの製造方法が提供される。
かかる方法は、成形型に充填した第一のペーストの固化を硬化で行うために、乾燥工程を必要とせず、きわめて短時間に製造工程を行える。また、第一の感光性ペーストを成形型の溝部にあらかじめ部分的に充填した後に、第二のペーストを同成形型に充填してリブを形成するので、リブの寸法及び形状の精度は単一色のリブ形成時と同様、高精度である。さらに、第一の感光性ペーストを成形型の溝部にあらかじめ部分的に充填した後に、第二のペーストを同成形型に充填するので、従来の技術で必要とされていたリブ白色部分とリブ黒色部分との位置合わせ、あるいは、リブ白色部分と前面板に着色された黒色部分との位置合わせが不要である。この為、高輝度でかつ高コントラストのＰＤＰ基板用リブを簡便でかつ高精度で得ることができる。なお、本明細書中、ＰＤＰ基板の表示表面側のガラス平板を「前面板」と呼び、そして反対側のガラス平板を「背面板」と呼ぶ。さらに、これらの前面板および背面板を総称して「基体」または「ガラス基体」と呼ぶ。
【０００８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を実施形態にしたがって説明するが、本発明はこれに限定されないことは当業者ならば容易に想到される。
【０００９】
本発明のリブは、放射線（例えば、紫外線、電子線又は可視光線）によって硬化可能な感光性ガラス−セラミックペーストの硬化により得られるリブ前駆成形体を焼成することにより形成することができる。リブ前駆成形体は、感光性黒色ガラス−セラミックペーストの硬化物と感光性白色ガラス−セラミックペーストの硬化物の二層からなる。焼成により得られる黒色および白色の二層からなるリブは、背面板及び前面板のうちのいずれか一方の基体に一体的に取り付けられたリブ付き基体の形態で形成される。本発明により形成されるリブは、リブが背面板上に一体的に形成されるときには、上層が黒色層であり、下層が白色層である。一方、リブが前面板に形成されるときには、上層が白色層であり、下層が黒色層である。即ち、ＰＤＰ基板の表示表面側が黒色層であり、背面板側が白色層である。このような構成とすることにより、表示表面側での外光反射を抑制しかつ発光時に蛍光体から生じた光のリブによる吸収を抑制し、結果として、高コントラストおよび高輝度が達成できる。
【００１０】
感光性ガラス−セラミックペーストは、基本的に、セラミック成分、ガラス成分及び硬化性バインダ成分を含有している。セラミック成分は、リブに所定の形状を与えるもので、通常、粉状又は粒状の無機酸化物又はその混合物である。一方、ガラス成分は、通常、粉状又は粒状の形態であり、そして基本的に、セラミック成分間の隙間を埋めてリブに緻密な構造を付与し、リブの強度をさらに高める作用を有する。黒色および白色の感光性ガラス−セラミックペーストは、焼成後に黒色および白色の層からなるリブを形成することができるものであれば特に限定されない。例えば、黒色および白色のセラミック成分またはガラス成分を選択することが考えられる。白色を有する成分としては、限定するわけではないが、アルミナ、チタニア、低融点ガラスフィラーが挙げられる。一方、黒色を有する成分としては、リテニウム（Ｒｕ）、マンガン（Ｍｎ）、ニッケル（Ｎｉ）、クロム（Ｃｒ）、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、銅（Ｃｕ）等の金属の酸化物が挙げられる。黒色ペーストを形成するための市販のガラス−セラミック成分として、鉛ガラスとセラミック（酸化銅および酸化クロム）の混合粉末である旭硝子社製のＲＦＢ−０３０を挙げることができ、また、白色ペーストを形成するための市販のガラス−セラミック成分として、鉛ガラスとセラミック（アルミナおよびチタニア）の混合粉末である旭硝子社製のＲＦＷ−０３０を挙げることができる。
【００１１】
ガラス成分はリブ形成に適するガラスのいずれであってもよい。例えば、酸化鉛を主成分とする低融点ガラスが挙げられる。しかしながら、このようなガラスは一般に大きな屈折率を有している。この為、感光性ガラス−セラミックペーストの放射線硬化が困難である。また、ガラス成分は、焼成の際にリブのひび、割れ又は亀裂のような欠陥が生じないように、焼成温度において、通常のガラス基体と同様の熱膨張係数を有することが望ましい。このような観点から、７０〜９５質量％の酸化リン（Ｐ₂Ｏ₅）及び酸化亜鉛（ＺｎＯ）を主成分とし、かつ、０．３〜１０モル％の酸化アルミニウム（Ａｌ₂０₃）、０〜５モル％の酸化バリウム（ＢａＯ）、０〜３モル％の酸化鉄（Ｆｅ₂Ｏ₃）、４０〜５５モル％の酸化リン（Ｐ₂Ｏ₅）、０〜５モル％の酸化珪素（ＳｉＯ₂）、３０〜５５モル％の酸化亜鉛（ＺｎＯ）、０〜３モル％の酸化錫（ＳｎＯ）、０〜５モル％の酸化カルシウム（ＣａＯ）、０〜５モル％の酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、０〜５モル％の酸化ストロンチウム（ＳｒＯ）、０〜５モル％の酸化ホウ素（Ｂ₂Ｏ₃）、そして０〜５モル％の酸化ナトリウム（Ｎａ₂Ｏ）の組成を有するガラス成分は好ましい。このような組成をもったガラス成分は、５５０℃の徐冷点をもったソーダライムガラス及び６２０℃の徐冷点をもった高歪点ガラスよりも低い４５０〜５７０℃の軟化点を有している。また、屈折率も１．６以下であって比較的低い。その結果、放射線硬化が容易になり、かつ、このガラス成分がガラス平板と共に加熱される場合に流動してセラミック成分間を埋めるときでも、そのガラス平板の熱的な変形を伴うことが防止される。
【００１２】
セラミック成分は、上記の通り、通常、無機酸化物又はその混合物であり、好適な無機酸化物成分としては、酸化アルミニウム（アルミナ）、二酸化珪素、酸化チタン（チタニア）、ウォラストナイトなどが挙げられる。このような無機酸化物成分は、高い硬度を持っているので、得られるリブに対して高い強度を付与することができる。但し、黒色ペーストの製造においては、上記無機酸化物がペーストを過度に白色化しないように注意を要する。
【００１３】
感光性ペーストを形成するための硬化性バインダ成分は、限定するわけではないが、例えば、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル（メタ）アクリル酸付加物、エポライト１６００アクリル酸付加物、エポライト３００２アクリル酸付加物、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレートもしくはトリエチレングリコールジメタクリレート又はそれらの混合物のようなものである。これらのバインダ成分は、紫外線、電子線又は可視光線のような放射線の照射を受けて硬化し、網目構造をもった高分子化合物を生成でき、セラミック成分は網目構造内に均一に収容及び保持される。バインダ成分の硬化のためには、硬化開始剤が通常使用される。特に、バインダ成分がビスフェノールＡジグリシジルエーテル（メタ）アクリル酸付加物及びトリエチレングリコールジメタクリレートの混合物からなっている場合には、硬化後のリブ前駆成形体に十分な強度を与え、かつ、焼成時には成形体に亀裂を生じさせることなく除去することができる。
【００１４】
バインダ成分が、特に（メタ）アクリル基をもったシランカップリング剤から構成されている場合には、セラミック成分を収容及び保持する網目構造を、焼成後において融点の比較的高い二酸化珪素によって形成することができる。このような網目構造は加熱されても、二酸化珪素の融点に達しない限り実質的に維持される。したがって、焼成の前後でリブの体積の変化が実質的に生じず、仮にあったとしてもわずかである。好適なシランカップリング剤のバインダ成分は、入手容易性を考慮して、γ−メタクリロキシプロピルメチルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシランなどである。これらの化合物は、いずれも２３２〜２９０の分子量を有している。上述のように組成物がシランカップリング剤のバインダ成分を含む場合は、必要に応じて塩酸や硝酸のような鉱酸をさらに含んでもよい。鉱酸はシランカップリング剤の加水分解に寄与してこの組成物をゾルにすることができる。ゾルになった組成物は乾燥してゲル化することなく、セラミック成分及びガラス成分の分散を可能にする。
【００１５】
ただし、本発明で使用するバインダ成分は上記したものに限定されず、例えばセルロース系の重合体、ポリスチレン、ブタジエン・スチレン共重合体、ポリアミド又はポリエーテルのように放射線に対し非感受性であってもよい。かかるバインダ成分は、通常、揮発性の溶媒に溶解した状態で使用される。
【００１６】
バインダ成分は、また、ガラス成分の軟化点よりも低い焼失温度を有するものがよい。このような場合、バインダ成分の焼失温度より高くかつガラス成分の軟化点より低い温度でバインダ成分を焼失させ、その後にガラス成分の軟化点以上の温度で焼成することにより、バインダ成分が焼成後のリブ中に残存することを回避できる。したがって、この残存バインダ成分により、プラズマ放電にとって好ましくないガス放出を引き起こすおそれは抑制される。
【００１７】
また、上述のバインダ成分を含む感光性ペーストは、酸化触媒もさらに含まれていることが望ましい。このような酸化触媒は、通常、クロム（Ｃｒ）、マンガン（Ｍｎ）、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、銅（Ｃｕ）、亜鉛（Ｚｎ）、インジウム（Ｉｎ）、錫（Ｓｎ）、ルテニウム（Ｒｕ）、ロジウム（Ｒｈ）、パラジウム（Ｐｄ）、銀（Ａｇ）、イリジウム（Ｉｒ）、白金（Ｐｔ）、金（Ａｕ）又はセリウム（Ｃｅ）の酸化物、塩又は錯体からなって、バインダ成分の焼失に必要なエネルギ（温度）を低減することができる。上記の通り、バインダ成分がリブ中に残存するのを回避するためには、焼成温度はバインダ成分の焼失温度より高くしなければならない。したがって、バインダ成分の焼失温度の低減により、焼成に要求される温度は低くなる。このような焼成温度の低減は、ガラス平板の熱的変形（例えば反り、たわみ又は収縮）を効果的に抑制することができる。また、ガラス成分は軟化点が比較的低いものも使用できるようになり、ガラス成分の選択の幅が広がる。但し、白色ペースト中においては、上記酸化触媒がペーストを過度に着色しないように注意を要する。
【００１８】
また、バインダ成分がシランカップリング剤を含む場合、塩酸や硝酸のような鉱酸を併用してもよい。鉱酸はシランカップリング剤を加水分解して組成物をゾル化することができる。また、この組成物が乾燥してもゲル化せずにセラミック成分及びガラス成分の分散を可能にする。また、粘度も水の量に依存しなくなる。
【００１９】
ガラス基体は、ＰＤＰ基板に一般に用いられる基体であることができ、好適には入手の容易なソーダライムガラスからなる。
【００２０】
次いで、図１を参照して、ＰＤＰ基板用リブの製造を具体的に説明する。図１は、ＰＤＰ基板用リブの作製方法を工程順に示した断面図である。以下において、ガラス基体が背面板である場合に関して記載するが、ガラス基体は前面板であることもできる。このような場合には、下記の感光性黒色ガラス−セラミックペーストは感光性白色ガラス−セラミックペーストとし、感光性白色ガラス−セラミックペーストは感光性黒色ガラス−セラミックペーストとする。
まず、図１（Ａ）に示すように、ＰＤＰ基板のリブの形状に対応した溝部６を有する成形型１を用意する。この成形型１は、好適には、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレートもしくはポリエーテルアクリレートのようなアクリル系のモノマーもしくはオリゴマー、又は、スチレンのモノマーもしくはオリゴマーのような硬化成分を成形して、硬化開始剤の存在下において放射線重合させたものである。このような成形型１は、その作製に当たり切削加工を必要としない。また、上述の放射線重合は一般に比較的迅速に進行する。かくして、成形型１は短時間で容易に得ることができる。このような成形型１に、感光性黒色ガラス−セラミックペースト２を成形型１の溝部６に部分的に充填し、その後、このペーストを放射線で硬化させる。
【００２１】
つぎに、図１（Ｂ）に示すように、感光性白色ガラス−セラミックペースト３を、あらかじめアドレス電極２０をストライプ状に形成した背面板１２上に供給した後に、このペースト３を介して、成形型１と背面板１２とを正確に位置合わせした後に貼り合わせて、積層体を形成する。このとき、成形型１が上述のように光硬化成分からなる場合は、可とう性が付与される。このような場合、図１（Ｂ）に図示されているように、成形型１をたわませて背面板１２の一端部から、ペースト３の接触を図ることができる。したがって、背面板１２とペースト３との間の空気が効率よく外部に排除されて、空気のペースト３内への浸入も回避される。
また、図１（Ｂ）および（Ｃ）に示しているように成形型１の凸部と背面板１２を一定の間隔をもって積層することが望ましい。これにより、アドレス電極２０上に誘電体層が備えられ、アドレス電極２０を被覆することによって、アドレス電極２０のスパッタリングの抑制によるＰＤＰの寿命の延長を図ることができる。
【００２２】
背面板１２と、黒色ペースト２の硬化物を含む成形型１とを白色ペースト３を介して積層させた後、この白色ペースト３に光線（ｈν）を照射してバインダ成分の重合による硬化を行う。図１（Ｃ）に示されるように、リブ前駆成形体４が得られる。この際、重合は基本的に放射線だけで行われ、制御の困難な熱管理は原則不要である。
【００２３】
成形型１が上述のような硬化成分からなる場合は透明になる。したがって、放射線の照射は、背面板１２を介してのみならず成形型１を介しても行うことができ、すなわち、両面から光照射を行うことができる。このような場合、溝部６の深部にある黒色ペースト２の硬化をさらに確実にし、リブ前駆成形体４の自由端部に未硬化のバインダ成分を残存させることはない。そして、かかる前駆成形体４には実質的に均一な機械的な強度が付与される。
【００２４】
引き続いて、図１（Ｄ）に示すように、背面板１２およびリブ前駆成形体４から成形型１を取り外して、背面板１２にリブ前駆成形体４を一体的に転写しながら、成形型１からリブ前駆成形体４を取り外す。成形型１が上述のように硬化成分からなる場合は、一般的なガラスもしくはセラミックよりも低い硬度を有するようになる。このような成形型１を基体から取り外す際には、リブ及び基体の破損を回避することができる。その結果、成形型１が洗浄されることなく繰り返し使用されるようになる。
【００２５】
それから、リブ前駆成形体４を背面板１２と共に焼成炉（図示せず）に入れて、例えば、３５０〜６００℃で焼成すると、リブ付き背面板を得ることができる。図示されないが、リブはその後、背面板１２と共に冷却される。このとき、背面板１２とリブが実質的に同程度の熱膨張係数を有していないと、冷却の際に同程度に収縮せず、リブに亀裂等の欠陥が導入されたり、又は、背面板１２が凸に湾曲したりする。また、上述のように酸化触媒がペーストに含まれていると、その成形体４は比較的低い温度で焼成することができるようになる。
【００２６】
図示していないが、背面板上のリブ間に蛍光層を設け、その後、予めバス電極を形成した透明な前面板を、背面板と対向するようにリブを介して配置させることができる。つぎに、前面板及び背面板の周縁部を図示されないシール材を用いて気密に封止し、放電表示セルを前面板と背面板との間に形成することができる。それから、放電表示セルを減圧排気した後、放電ガスを放電セルに導入することによりＰＤＰ基板を作製することができる。
【００２７】
また、上述した成形型１の硬化開始剤は特に限定されないけれども、バインダ成分に添加される硬化開始剤よりも短波長側に吸収端を有していることが望ましい。かかる場合、成形型１にある硬化開始剤は、その吸収端よりも長い波長の放射線を吸収することはできない。それに対して、バインダ成分の硬化剤はかかる放射線を吸収することができる。その結果、たとえ成形型１に未反応の硬化成分が残存していても、上述した波長の放射線の照射はバインダ成分と同時に放射線重合することはなく、成形型１とリブ前駆成形体４との固着が回避されるようになる。したがって、背面板１２又はリブ前駆成形体４もしくはその自由端部を破損させて成形型１に残存したままにすることはなく、かかる取り外しを容易に行うことができる。なお、本明細書中において用いる用語「吸収端」とは、放射線の連続吸収スペクトルにおいて、波長がこれ以上長くなると吸収率が急激に減少し、実質的に透明に変化する波長部分である。
【００２８】
成形型１には帯電防止加工を施して、その表面抵抗を低くしてもよい。このような場合、成形型１の周囲に帯電した粉塵が浮遊しても、その付着を抑制することができる。その結果、リブに導入される欠陥を低減することができる。また、成形型１をクリーンルーム等で特別に管理して粉塵を付着させないようにする必要がなくなる。成形型１の使用に当たり、事前に成形型１から粉塵を取り除くことが実質的に不要となる。すなわち、その取り扱いが簡便になって生産性の向上につながる。この成形型１の帯電防止加工は、例えば、例えばプロピレンカーボネート、ラクトンもしくはエチレングリコール又はその誘導体からなる無色の媒体と、この媒体への溶解により電離可能な過塩素酸リチウムのようなイオン導電性物質とを分散させることによってなされうる。
【００２９】
図２の部分分解斜視図には、本発明の方法により形成されたリブを用いて製造したＰＤＰ基板の一実施形態が概略的に示されている。図示のＰＤＰ基板１０は、いわゆる交流方式のＰＤＰに用いられるものであるが、これに限定されず、直流方式のＰＤＰ基板にも適用できる。ＰＤＰ基板１０は、２枚の離隔対向した透明な平板、すなわち、背面板１２及び前面板１４を備えている。背面板１２及び前面板１４は、好適には入手の容易なソーダライムガラスからなっている。背面板１２と前面板１４との間には、所定の寸法を備えたリブ１６が複数配設されていて、それらの間の空間を仕切り、複数の放電表示セル１８を画成することができるようになっている。各放電表示セル１８には、アドレス電極２０がリブ１６に沿って背面板１２上に配設されており、また、前面板１４上にはリブ１６と垂直に、インジウム酸化物（ＩＴＯ）からなる透明なバス電極２２が配設されている。また、アドレス電極２０とバス電極２２との間には、ネオン、ヘリウム又はキセノンのような放電ガスが収容されるようになっていて、放電による発光を可能にしている。背面板１２及びアドレス電極２０上には、好ましくは上記のように作製された誘電体層２１が備えられている。さらに、各アドレス電極２０上に蛍光層２４が所定の順序で設けられていて、カラー表示を可能にしている。さらに、前面板１４及びバス電極２２上にも、必要に応じて透明な誘電体層２６が備えられている。誘電体層２１及び２６はアドレス電極２０及びバス電極２２を被覆することによって、アドレス電極２０及びバス電極２２のスパッタリングの抑制によるＰＤＰの寿命の延長を図ることができる。
【００３０】
【実施例】
以下において、本発明を実施例によって、より詳細に説明するが、この実施例は本発明をいかなる形でも制限するものでない。
実施例
成形型の原料として、ヘンケル社製のフォトマー６０１０（脂肪族ウレタンアクリレートオリゴマー）にチバガイギー社製のダロキュア１１７３（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン）を硬化開始剤として１質量％含有させた硬化性樹脂溶液を用いた。この溶液に、ウシオ社製のＵＶ光源を用いて波長が２００〜４５０ｎｍのＵＶを３０秒間照射して硬化させることにより可とう性の成形型を作製した。
一方、黒色感光性ガラス−セラミックペーストは、硬化性樹脂として１０ｇのビスフェノールＡジグリシジルエーテルメタクリル酸付加物（共栄化学社製）と１０ｇのトリエチレングリコールジメタクリラート（和光純薬工業社製）の混合物、希釈剤として２０ｇの１，３−ブタンジオール（和光純薬工業社製）及び１０ｇのアセトン（和光純薬工業社製）、硬化開始剤として０．１ｇのイルガキュア８１９〔ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド〕（チバガイギー社製）、界面活性剤として０．２ｇのいわゆるＰＯＣＡ（ホスフェートプロポキシルアルキルポリオール）、固体として１５０ｇの鉛ガラスとセラミックの混合粉末（ＲＦＢ−０３０）（旭硝子社製）とを混合して得た。
白色感光性ガラス−セラミックペーストは、硬化性樹脂として１０ｇのビスフェノールＡジグリシジルエーテルメタクリル酸付加物（共栄化学社製）と１０ｇのトリエチレングリコールジメタクリラート（和光純薬工業社製）の混合物、希釈剤として２０ｇの１，３−ブタンジオール（和光純薬工業社製）、硬化開始剤として０．１ｇのイルガキュア８１９〔ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド〕（チバガイギー社製）、界面活性剤として０．２ｇのいわゆるＰＯＣＡ（ホスフェートプロポキシルアルキルポリオール）、固体として１５０ｇの鉛ガラスとセラミックの混合粉末（ＲＦＷ−０３０）（旭硝子社製）とを混合して得た。
黒色感光性ガラス−セラミックペーストを成形型の溝に部分的に充填した。充填には柔らかい紙を用い、過剰のペーストを拭き取った。この黒色ペーストが充填された成形型に波長４００〜５００ｎｍの光（フィリップス社性蛍光燈）を１分間照射して硬化させた。次に、白色感光性ガラス−セラミックペーストをガラス基体上に配置し、硬化した黒色ペーストが充填されている成形型とガラス基体とを貼り合わせた。この積層体に波長４００〜５００ｎｍの光（フィリップス社性蛍光燈）を３分間照射した。最後に、成形型をガラス基体から剥がし、その結果、上部が黒色でありかつ下部が白色であるリブ前駆成形体をガラス基体上に形成することができた。これをさらに５５０℃まで加熱・焼成して、上部が黒色でありかつ下部が白色であるリブを製造することができた。
【００３１】
比較例
リブの成形型及びガラス−セラミックペーストは実施例と同様のものを用いた。実施例と同様に、黒色ペーストを成形型に充填した。室温で１５分間放置した後に、白色ペーストをガラス基体上に配置し、成形型とガラス基体とを貼り合わせた。この積層体に波長４００〜５００ｎｍの光を３分間照射した後に、成形型をガラス基体から剥がした。この場合、黒色ペースト及び白色ペーストが混ざってしまい、上部が黒色でありかつ下部が白色であるリブをガラス基体上に形成することができなかった。
【００３２】
【発明の効果】
本発明によると、高輝度および高コントラストを有するＰＤＰ基板用リブをきわめて短時間に製造でき、また、得られるＰＤＰ基板用リブの寸法及び形状は高精度であり、ＰＤＰ基板の製造工程において、リブ白色部分とリブ黒色部分との位置合わせ等の煩雑な作業が不要である。
【図面の簡単な説明】
【図１】ＰＤＰ基板用リブの製造方法を順を追って示した断面図である。
【図２】本発明によるＰＤＰ基板用リブを用いたＰＤＰ基板の一実施形態を概略的に示した部分分解斜視図である。
【符号の説明】
１…成形型
２…感光性黒色ガラス−セラミックペースト
３…感光性白色ガラス−セラミックペースト
４…リブ前駆成形体
６…溝部
１０…ＰＤＰ基板
１２…背面板
１６…リブ
１８…放電表示セル
２０…アドレス電極
２２…バス電極

Claims

ａ）感光性黒色ガラス−セラミックペーストおよび感光性白色ガラス−セラミックペーストから選ばれるいずれか一方の第一の感光性ペーストを成形型の溝部に部分的に充填し、このペーストを放射線で硬化させる工程、
ｂ）感光性黒色ガラス−セラミックペーストおよび感光性白色ガラス−セラミックペーストから選ばれる、第一の感光性ペーストとは異なる色の第二の感光性ペーストをガラス基体上に供給した後に、この第二のペーストを介して、前記成形型と前記ガラス基体とを貼り合わせて、積層体を形成する工程、
ｃ）前記積層体に放射線を照射して、白色および黒色の２層からなるリブ前駆成形体を形成する工程、
ｄ）前記ガラス基体および前記リブ前駆成形体から前記成形型を取り外して、前記ガラス基体に前記リブ前駆成形体を転写する工程、および、
ｅ）前記リブ前駆成形体を焼成して、ガラス基体上に一体的に形成されたリブを得る工程、
を含む、プラズマディスプレイパネル基板用リブの製造方法。
前記ガラス基体は背面板であり、かつ、工程ａ）における感光性ペーストは感光性黒色ガラス−セラミックペーストでありそして工程ｂ）における感光性ペーストは感光性白色ガラス−セラミックペーストである、請求項１記載のプラズマディスプレイパネル基板用リブの製造方法。
前記成形型は可とう性である、請求項１または２記載のプラズマディスプレイパネル基板用リブの製造方法。
前記成形型は透明であり、かつ、工程ｃ）における放射線の照射は、前記積層体の成形型側およびガラス基体側の両方から行われる、請求項１〜３のいずれか１項記載のプラズマディスプレイパネル基板用リブの製造方法。