Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP3699966B2 - Lead frame, resin-encapsulated semiconductor device and manufacturing method thereof - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP3699966B2 - Lead frame, resin-encapsulated semiconductor device and manufacturing method thereof - Google Patents

Lead frame, resin-encapsulated semiconductor device and manufacturing method thereof Download PDF

Info

Publication number
JP3699966B2
JP3699966B2 JP2003355983A JP2003355983A JP3699966B2 JP 3699966 B2 JP3699966 B2 JP 3699966B2 JP 2003355983 A JP2003355983 A JP 2003355983A JP 2003355983 A JP2003355983 A JP 2003355983A JP 3699966 B2 JP3699966 B2 JP 3699966B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
island
die pad
lead frame
lead
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2003355983A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2004165646A (en
Inventor
匡紀 南尾
厚 堀木
哲史 西尾
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Corp
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Panasonic Corp
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Panasonic Corp, Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Panasonic Corp
Priority to JP2003355983A priority Critical patent/JP3699966B2/en
Publication of JP2004165646A publication Critical patent/JP2004165646A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3699966B2 publication Critical patent/JP3699966B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/851Dispositions of multiple connectors or interconnections
    • H10W72/874On different surfaces
    • H10W72/884Die-attach connectors and bond wires
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W90/00Package configurations
    • H10W90/701Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
    • H10W90/751Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires
    • H10W90/756Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires between a chip and a stacked lead frame, conducting package substrate or heat sink

Landscapes

  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Description

本発明は、リードフレーム上に半導体チップが搭載された面を封止樹脂で封止し、底面に外部電極となるランド電極を露出させた樹脂封止型半導体装置、及びこの樹脂封止型半導体装置に用いられるリードフレームに関するものである。   The present invention relates to a resin-encapsulated semiconductor device in which a surface on which a semiconductor chip is mounted on a lead frame is encapsulated with an encapsulating resin, and a land electrode serving as an external electrode is exposed on the bottom surface, and the resin-encapsulated semiconductor The present invention relates to a lead frame used in the apparatus.

近年、電子機器の小型化に対応するために、半導体部品の高密度実装がますます要求されてきており、これに伴って半導体装置の小型化及び薄型化が進展している。さらに、生産コスト,生産性向上のために種々の工夫がなされている。以下、従来の樹脂封止型半導体装置に使用するリードフレーム及びその加工方法について説明する。   In recent years, in order to cope with the downsizing of electronic devices, high-density mounting of semiconductor components has been increasingly demanded, and along with this, downsizing and thinning of semiconductor devices are progressing. Furthermore, various devices have been made to improve production cost and productivity. Hereinafter, a lead frame used in a conventional resin-encapsulated semiconductor device and a processing method thereof will be described.

図12は、特許文献1に開示されている従来の樹脂封止型半導体装置に用いられるリードフレームの構造を示す図である。同図に示すように、この従来のリードフレームは、半導体チップを搭載するダイパッド1001と、その末端でフレーム枠1002と接続され、先端部でダイパッド1001の四隅を支持する吊りリード1003と、その先端部がダイパッド1001に対向し、末端部がフレーム枠1002に接続された直線状のランドリード1004及びリード1005とを有している。そして、ランドリード1004とリード1005との各底面部が外部端子(ランド部)を構成しており、リード1005はその底面に加えて外方の側面部でも外部端子として実装基板と接続できるように構成されている。また、ランドリード1004の先端部はリード1005の先端部を越えて、ダイパッド1001に近い部位まで延びている。   FIG. 12 is a diagram showing the structure of a lead frame used in the conventional resin-encapsulated semiconductor device disclosed in Patent Document 1. In FIG. As shown in the figure, this conventional lead frame includes a die pad 1001 on which a semiconductor chip is mounted, a suspension frame 1002 connected to a frame frame 1002 at the end and supporting the four corners of the die pad 1001 at the tip, and a tip thereof. It has a linear land lead 1004 and a lead 1005 whose part faces the die pad 1001 and whose end part is connected to the frame frame 1002. Each bottom surface portion of the land lead 1004 and the lead 1005 constitutes an external terminal (land portion), and the lead 1005 can be connected to the mounting substrate as an external terminal on the outer side surface portion in addition to the bottom surface. It is configured. Further, the tip portion of the land lead 1004 extends beyond the tip portion of the lead 1005 to a portion close to the die pad 1001.

ダイパッド1001には、その表面の略中央部分に上方に突出した円形の突出部1006が設けられ、突出部1006は、ダイパッド1001を構成している平板に対してプレス加工により半切断状態のプレスを施し、上方に突出させることにより形成されたものである。この突出部1006が実質的に半導体チップを支持する部分となり、半導体チップを搭載した際、ダイパッド1001の突出部1006を除く表面と半導体チップ裏面との間には間隙が形成される。ダイパッド1001の表面の突出部1006を包囲する領域には溝部1007が設けられ、半導体チップを搭載して樹脂封止した際に、封止樹脂がその溝部1007に入り込むように設けられている。   The die pad 1001 is provided with a circular protrusion 1006 that protrudes upward at a substantially central portion of the surface. The protrusion 1006 presses the flat plate constituting the die pad 1001 in a half-cut state by pressing. It is formed by applying and projecting upward. The protrusion 1006 substantially becomes a part that supports the semiconductor chip, and when the semiconductor chip is mounted, a gap is formed between the surface of the die pad 1001 excluding the protrusion 1006 and the back surface of the semiconductor chip. A groove portion 1007 is provided in a region surrounding the protruding portion 1006 on the surface of the die pad 1001, and the sealing resin is provided so as to enter the groove portion 1007 when the semiconductor chip is mounted and resin-sealed.

このような構成を有するリードフレームにより、半導体チップを搭載し、金属細線で半導体チップと各リードとを接続し、樹脂封止して樹脂封止型半導体装置を構成した際、樹脂封止型半導体装置の底面、すなわちパッケージ底面には、先端部が曲面となっているランド部1008の底面が配置され、そのランド部1008の外側にはリード1005の先端部が曲面となっている底面部分が配置されて千鳥状の2列配置の外部端子が構成されている。これにより、LGA(ランド・グリッド・アレイ)型パッケージを構成することができる。
特開2001−77274号公報
When a semiconductor chip is mounted with a lead frame having such a configuration, the semiconductor chip and each lead are connected with a thin metal wire, and the resin-sealed semiconductor device is configured by resin sealing, the resin-sealed semiconductor On the bottom surface of the device, that is, on the bottom surface of the package, the bottom surface of the land portion 1008 having a curved tip portion is disposed, and the bottom surface portion having the curved tip portion of the lead 1005 is disposed outside the land portion 1008. Thus, staggered two-row external terminals are configured. Thereby, an LGA (land grid array) type package can be configured.
JP 2001-77274 A

しかしながら、従来のリードフレームによると、以下のような不具合があった。   However, the conventional lead frame has the following problems.

従来のリードフレームにより、ランド部が複数列に配置されたLGAが得られるものの、ダイパッド1001を固定している吊りリード1003の存在する部位にはランド部を配置することができない。そのために、ランド部(端子電極)数を増やす場合の制約がある。   Although an LGA having land portions arranged in a plurality of rows can be obtained by a conventional lead frame, the land portions cannot be disposed at a portion where the suspension lead 1003 fixing the die pad 1001 exists. Therefore, there is a restriction when increasing the number of land portions (terminal electrodes).

また、吊りリードが存在することから、このリードフレームを使用した半導体装置を作成するにあたって、樹脂封止の際にダイパッドと樹脂部との熱収縮率の差から、半導体装置に反りが発生していた。   In addition, since there are suspension leads, when a semiconductor device using this lead frame is produced, the semiconductor device is warped due to the difference in thermal shrinkage between the die pad and the resin portion during resin sealing. It was.

さらにもう1つの問題として、シート貼り付け前の加工工程数が増加し、コストUPの要因となることが課題となっていた。   Furthermore, another problem is that the number of processing steps before sheet attachment increases, resulting in an increase in cost.

本発明の目的は、半導体装置のさらなる多品種多端子化に対応し、生産性が高く安価で品質の良い樹脂封止型半導体装置の製造に適したリードフレーム、このようなリードフレームを用いた樹脂封止型半導体装置及びその製造方法を提供することにある。   An object of the present invention is to use a lead frame suitable for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device having high productivity, low cost, and high quality, corresponding to the further increase in variety and terminals of semiconductor devices. A resin-encapsulated semiconductor device and a method for manufacturing the same are provided.

本発明の第1のリードフレームは、上面がボンディングパッドとなり最下部が外部端子となる島部と、外枠−島部−島部−ダイパッド間を接続する連結部とを有するリードと、外枠のコーナー部に形成され、連絡部を介して外枠と接続され且つ島部より面積が大きいランドと、を設けると共に、樹脂封止時に吊りリードとして機能するリードをなくしたものである。 A first lead frame of the present invention includes a lead having an island portion whose upper surface is a bonding pad and the lowermost portion is an external terminal, and a connecting portion connecting the outer frame-island portion-island portion-die pad, and the outer frame And a land that is connected to the outer frame through the connecting portion and has a larger area than the island portion, and eliminates a lead that functions as a suspension lead during resin sealing.

これにより、通常はコーナー部に配置されていた吊りリードの代わりに外部端子を配置することができるので、外部端子を高密度に配置してなる樹脂封止型半導体装置が得られる。また、吊りリードが存在することによって生じやすいダイパッドの変形,移動などを抑制することができる。また、コーナー部に島部より面積の広いランドが設けられているので、第1のリードフレームを用いて形成された樹脂封止型半導体装置をマザーボード上に実装(2次実装)する際に、樹脂封止型半導体装置と、マザーボードとの間のはんだ等による接合強度の向上を図ることができる。 Thereby, since the external terminals can be arranged instead of the suspension leads normally arranged at the corner portions, a resin-encapsulated semiconductor device in which the external terminals are arranged at a high density can be obtained. In addition, deformation and movement of the die pad, which are likely to occur due to the presence of the suspension leads, can be suppressed. In addition, since a land having a larger area than the island portion is provided in the corner portion, when the resin-encapsulated semiconductor device formed using the first lead frame is mounted on the motherboard (secondary mounting), It is possible to improve the bonding strength between the resin-encapsulated semiconductor device and the mother board by solder or the like.

各島部の最下部は、実質的に同一の平面形状を有していて、格子状に配置されていることにより、さらに高密度の実装が可能になる。   The lowermost part of each island part has substantially the same planar shape and is arranged in a lattice shape, so that higher-density mounting is possible.

各島部の最下部は、上記外枠の各辺に沿って3列以上の複数列に配置されていることが好ましい。   It is preferable that the lowermost part of each island is arranged in a plurality of rows of three or more along each side of the outer frame.

本発明の第2のリードフレームは、ダイパッドの外周部に下部が欠如した薄膜部と薄膜部の下面から下方に突出する放熱端子とを設けるとともに、上面がボンディングパッドとなり最下部が外部端子となる島部と、外枠−島部−島部−放熱端子間を接続する連結部とを有するリードを設けたものである。   The second lead frame of the present invention is provided with a thin film portion lacking a lower portion on the outer peripheral portion of the die pad and a heat radiating terminal protruding downward from the lower surface of the thin film portion, and the upper surface serves as a bonding pad and the lowermost portion serves as an external terminal. A lead having an island part and a connecting part for connecting the outer frame-island part-island part-heat dissipating terminal is provided.

これにより、このリードフレームを用いた樹脂封止型半導体装置を形成した後、樹脂封止型半導体装置をマザーボードに搭載する際には、外部端子と放熱端子とを半田の一括リフローによってマザーボードの電極などと接続できるので、実装の安定化,容易化を図ることができる。また、ダイパッドに放熱端子を設けていることにより、第2のリードフレームを用いて樹脂封止型半導体装置を形成する際のリードの切断工程において、リードの変形を抑制しつつ,円滑に島部及びダイパッドを外枠から切り離すことが可能になる。 Thus, after the resin-encapsulated semiconductor device using the lead frame is formed, when the resin-encapsulated semiconductor device is mounted on the motherboard, the external terminals and the heat radiating terminals are collectively reflowed by solder reflow. Etc., so that the mounting can be stabilized and facilitated. In addition, by providing the heat dissipation terminal on the die pad, the island portion can be smoothly suppressed while suppressing the deformation of the lead in the lead cutting process when the resin-encapsulated semiconductor device is formed using the second lead frame. And the die pad can be separated from the outer frame.

各島部及び各放熱端子は、実質的に同一の平面形状を有していて、格子状に配置されていることにより、さらに高密度の実装が可能になる。   Each island part and each heat radiating terminal have substantially the same planar shape and are arranged in a lattice shape, thereby enabling higher density mounting.

各島部及び各放熱端子は、少なくとも1つの方向において実質的に一定のピッチで配置されていることが好ましく、各島部は、上記外枠の各辺に沿って3列以上の複数列に配置されていることが好ましい。   Each island part and each heat radiation terminal are preferably arranged at a substantially constant pitch in at least one direction, and each island part is arranged in a plurality of rows of 3 or more along each side of the outer frame. It is preferable that they are arranged.

本発明の第1の樹脂封止型半導体装置は、第1のリードフレームを用いて形成されたものであって、上面が金属細線を接続するためのボンディングパッドであり最下部が外部端子である島部と、島部及びランドの最下部とダイパッドの底面の少なくとも一部とを露出させた状態で、半導体チップ,島部,ダイパッド等を封止する封止樹脂とを備え、ダイパッドから延びて、先端部が封止樹脂の表面に露出する部材は設けられていない。 The first resin-encapsulated semiconductor device of the present invention is formed using a first lead frame, the upper surface is a bonding pad for connecting a thin metal wire, and the lowermost portion is an external terminal. An island portion, and a sealing resin that seals the semiconductor chip, the island portion, the die pad, and the like with the island portion, the bottom of the land portion and the land , and at least a part of the bottom surface of the die pad exposed, and extending from the die pad The member whose tip is exposed on the surface of the sealing resin is not provided.

これにより、通常はコーナー部に配置されていた吊りリードの代わりに外部端子を配置することができるので、外部端子を高密度に配置してなる樹脂封止型半導体装置が得られる。   Thereby, since the external terminals can be arranged instead of the suspension leads normally arranged at the corner portions, a resin-encapsulated semiconductor device in which the external terminals are arranged at a high density can be obtained.

各外部端子は、実質的に同一の平面形状を有していて、封止樹脂の裏面に格子状に配置されていることにより、さらに高密度の実装が可能になる。   Each external terminal has substantially the same planar shape and is arranged in a grid pattern on the back surface of the sealing resin, so that higher density mounting is possible.

各外部端子は、外周に沿って封止樹脂の裏面に3列以上の複数列に配置されていることが好ましい。   Each external terminal is preferably arranged in a plurality of rows of three or more on the back surface of the sealing resin along the outer periphery.

本発明の第2の樹脂封止型半導体装置は、第2のリードフレームを用いて形成されたものであって、本体部の外周部に沿って設けられ下部が欠如した薄膜部と、薄膜部の下面から下方に突出するように設けられた複数の放熱端子とを有するダイパッドと、上面が金属細線を接続するためのボンディングパッドであり最下部が外部端子である島部と、島部の最下部と及び放熱端子の最下部とを露出させた状態で、半導体チップ,島部,リード,ダイパッド等を封止する封止樹脂とを備えている。   The second resin-encapsulated semiconductor device of the present invention is formed using the second lead frame, and is provided along the outer peripheral part of the main body part and the thin film part lacking the lower part, and the thin film part A die pad having a plurality of heat dissipating terminals provided so as to protrude downward from the lower surface of the metal, an island where the upper surface is a bonding pad for connecting a fine metal wire and the lowermost portion is an external terminal, A sealing resin for sealing the semiconductor chip, the island, the lead, the die pad, and the like is provided with the lower portion and the lowermost portion of the heat radiating terminal exposed.

これにより、樹脂封止型半導体装置をマザーボードに搭載する際には、外部端子と放熱端子とを半田の一括リフローによってマザーボードの電極などと接続できるので、実装の安定化,容易化を図ることができる。   As a result, when the resin-encapsulated semiconductor device is mounted on the motherboard, the external terminals and the heat radiating terminals can be connected to the electrodes of the motherboard by batch reflow of solder, so that the mounting can be stabilized and facilitated. it can.

各外部端子及び各放熱端子は、実質的に同一の平面形状を有していて、封止樹脂の裏面に格子状に配置されていることにより、実装の容易化と高密度実装とを実現することができる。   Each external terminal and each heat radiating terminal have substantially the same planar shape and are arranged in a grid pattern on the back surface of the sealing resin, thereby realizing easy mounting and high-density mounting. be able to.

各外部端子及び各放熱端子は、少なくとも1つの方向において実質的に一定のピッチで配置されていることが好ましく、各外部端子は、外周に沿って封止樹脂の裏面に3列以上の複数列に配置されていることが好ましい。   Each external terminal and each heat radiating terminal are preferably arranged at a substantially constant pitch in at least one direction, and each external terminal has a plurality of rows of three or more rows on the back surface of the sealing resin along the outer periphery. It is preferable to arrange | position.

本発明の第1の樹脂封止型半導体装置の製造方法は、上記第1のリードフレームを準備した後、ダイボンド工程と、封止シート上でのリードフレームの連結部の分断工程とを行なってから、電気的接続と、封止シートをリードフレームにつけたままでの樹脂封止を行なう方法である。   In the first method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device according to the present invention, after preparing the first lead frame, a die-bonding step and a step of dividing the connecting portion of the lead frame on the sealing sheet are performed. Therefore, electrical connection and resin sealing with the sealing sheet attached to the lead frame are performed.

この方法により、吊りリードがなくても、ダイパッドや島部の位置を安定化させて、電気的接続,樹脂封止を行なうことができ、外部端子を高密度に配置した樹脂封止型半導体装置が得られる。   By this method, even if there is no suspension lead, the position of the die pad and the island portion can be stabilized, electrical connection and resin sealing can be performed, and the resin-encapsulated semiconductor device in which external terminals are arranged at high density Is obtained.

本発明の第2の樹脂封止型半導体装置の製造方法は、上記第2のリードフレームを準備した後、ダイボンド工程と、封止シート上でのリードフレームの連結部の分断工程とを行なってから、電気的接続と、封止シートをリードフレームにつけたままでの樹脂封止を行なう方法である。   According to the second method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device of the present invention, after preparing the second lead frame, a die-bonding step and a step of dividing the connecting portion of the lead frame on the sealing sheet are performed. Therefore, electrical connection and resin sealing with the sealing sheet attached to the lead frame are performed.

この方法により、ダイパッドや島部の位置を安定化させて、電気的接続,樹脂封止を行なうことができ、放熱端子を外部端子と共に並べて封止樹脂の裏面に突出させることができ、マザーボードへの実装が容易な樹脂封止型半導体装置が得られる。   By this method, the position of the die pad and island can be stabilized, electrical connection and resin sealing can be performed, and the heat radiation terminals can be juxtaposed with the external terminals and protruded from the back surface of the sealing resin to the motherboard. A resin-encapsulated semiconductor device that can be easily mounted is obtained.

本発明の第1のリードフレーム,これを用いた樹脂封止型半導体装置及びその製造方法によると、吊りリードがない分だけ、外部端子を高密度に設けた樹脂封止型半導体装置を得ることが可能になる。   According to the first lead frame of the present invention, the resin-encapsulated semiconductor device using the same, and the method for manufacturing the same, a resin-encapsulated semiconductor device having external terminals provided at a high density as much as there are no suspended leads is obtained. Is possible.

本発明の第2のリードフレーム,これを用いた樹脂封止型半導体装置及びその製造方法によると、ダイパッドに外部端子と共に並ぶ放熱端子を設けたので、実装の容易化を図ることが可能になる。   According to the second lead frame of the present invention, the resin-encapsulated semiconductor device using the same, and the method of manufacturing the same, the heat dissipation terminals arranged along with the external terminals are provided on the die pad, so that the mounting can be facilitated. .

(第1の実施形態)
−リードフレームの構造−
図1(a),(b)は、それぞれ順に、本発明の第1の実施形態に係るリードフレームの平面図、及び図1(a)のIB−IB線における断面図である。図1(a)は、多数の半導体チップを搭載する領域が碁盤目状に連続して設けられているリードフレームLF1の一部、つまり、1つの半導体チップを搭載する領域だけを抜き出して示している。リードフレームLF1は、銅合金板をエッチング,打ち抜きプレス等によって加工して得られるものである。
(First embodiment)
-Lead frame structure-
1A and 1B are a plan view of a lead frame according to the first embodiment of the present invention and a cross-sectional view taken along line IB-IB in FIG. 1A, respectively. FIG. 1A shows a part of a lead frame LF1 in which a plurality of semiconductor chip mounting regions are continuously provided in a grid pattern, that is, only a region for mounting one semiconductor chip. Yes. The lead frame LF1 is obtained by processing a copper alloy plate by etching, punching press or the like.

図1(a),(b)に示すように、本実施形態のリードフレームLF1は、チップ搭載領域Rtpを囲む,4つの辺からなる矩形状の外枠100と、チップ搭載領域Rtpの中央部に設けられた半導体チップ搭載用のダイパッド101と、外枠100から延びてダイパッド101につながるリード102と、補強用ランド103とを備えている。   As shown in FIGS. 1A and 1B, the lead frame LF1 of the present embodiment includes a rectangular outer frame 100 having four sides surrounding the chip mounting area Rtp, and a central portion of the chip mounting area Rtp. A die pad 101 for mounting a semiconductor chip, a lead 102 extending from the outer frame 100 and connected to the die pad 101, and a reinforcing land 103.

本実施形態のリード102は、広幅(例えば20μm〜120μm)かつ厚肉(例えば20μm〜120μm)の島部104と、細幅(例えば15μm〜100μm)かつ薄肉(例えば15μm〜100μm)の連結部105とを交互に配置して構成されている。島部104の上面は金属細線が接続されるボンディングパッド104aとして機能する。また、半導体チップをリードフレームLF1上に実装する工程において、島部104の下面が接着層を有する封止シートに固定された状態で樹脂封止され、島部104の最下部が樹脂封止後に封止樹脂の裏面から下方に突出したランド電極104b(外部端子)として機能する。連結部105は、外枠100と島部104との間,島部104同士の間,及び島部104とダイパッド101との間をそれぞれ接続している。連結部105は、金型によるプレス加工またはエッチング加工によりその下部が欠如しており、半導体チップをリードフレームLF1上に実装する工程において封止樹脂内に埋め込まれる部分である。連結部105は、島部104の上部と連続していて、連結部105の上面は島部104の上面と共通の平面を構成している。   The lead 102 according to this embodiment includes an island 104 having a wide width (for example, 20 μm to 120 μm) and a thick wall (for example, 20 μm to 120 μm), and a connecting portion 105 having a thin width (for example, 15 μm to 100 μm) and a thin wall (for example, 15 μm to 100 μm). Are arranged alternately. The upper surface of the island part 104 functions as a bonding pad 104a to which a thin metal wire is connected. Further, in the process of mounting the semiconductor chip on the lead frame LF1, resin sealing is performed with the lower surface of the island portion 104 fixed to a sealing sheet having an adhesive layer. It functions as a land electrode 104b (external terminal) protruding downward from the back surface of the sealing resin. The connecting part 105 connects between the outer frame 100 and the island part 104, between the island parts 104, and between the island part 104 and the die pad 101. The connection part 105 lacks the lower part by press working or etching with a metal mold, and is a part embedded in the sealing resin in the process of mounting the semiconductor chip on the lead frame LF1. The connecting portion 105 is continuous with the upper portion of the island portion 104, and the upper surface of the connecting portion 105 forms a common plane with the upper surface of the island portion 104.

ここで、本実施形態のリードフレームLF1の特徴について説明する。本実施形態のリードフレームLF1には、通常のリードフレームには存在している,吊りリードとしての機能しかない部材が存在していない。つまり、島部104が設けられていないリードは存在しない。したがって、本実施形態のリードフレームLF1のダイパッドは、樹脂封止工程の際には、外枠に接続されておらず、樹脂封止工程時における吊りリードとして機能するリードは設けられていない。つまり、樹脂封止型半導体装置内には、ダイパッド101から延びて、封止樹脂の表面に露出するリードは存在しない。   Here, the features of the lead frame LF1 of the present embodiment will be described. In the lead frame LF1 of the present embodiment, there is no member that only functions as a suspension lead, which is present in a normal lead frame. That is, there is no lead where the island 104 is not provided. Therefore, the die pad of the lead frame LF1 of the present embodiment is not connected to the outer frame during the resin sealing process, and no leads that function as suspension leads during the resin sealing process are provided. That is, in the resin-encapsulated semiconductor device, there is no lead extending from the die pad 101 and exposed on the surface of the encapsulating resin.

そして、本実施形態のリードフレームLF1においては、ダイパッド101のコーナー部と外枠100のコーナー部とを結ぶ線上にも、島部104(つまり,ボンディングパッド104a及びランド電極104b)が配置されている。また、本実施形態のリードフレームLF1には、コーナー部付近において、当該リードが接続される外枠100の一辺に隣接する他の辺から延びるリード102y(又は102x)に連結されているリード102x(又は102y)が存在する。つまり、他のリード102y(又は102x)を介してダイパッド101に接続されるリード102x(又は102y)が存在している。さらに、本実施形態のリードフレームLF1においては、コーナー部において外枠100に直接接続される、島部104よりも遙かに大面積(例えば、径300μmから1500μm)の補強用ランド103が設けられている。   In the lead frame LF1 of this embodiment, the island portion 104 (that is, the bonding pad 104a and the land electrode 104b) is also disposed on the line connecting the corner portion of the die pad 101 and the corner portion of the outer frame 100. . In addition, in the lead frame LF1 of the present embodiment, a lead 102x (or 102x) connected to a lead 102y (or 102x) extending from another side adjacent to one side of the outer frame 100 to which the lead is connected in the vicinity of the corner portion. Or 102y). That is, there is a lead 102x (or 102y) connected to the die pad 101 via another lead 102y (or 102x). Furthermore, the lead frame LF1 of the present embodiment is provided with a reinforcing land 103 having a much larger area (for example, a diameter of 300 μm to 1500 μm) than the island portion 104, which is directly connected to the outer frame 100 at the corner portion. ing.

そして、各島部104の最下部である各ランド電極(外部端子)104bは、実質的に同じ平面形状を有しており、格子状に配列されている。ここで、「実質的に同じ」とは、製造時のばらつきを考慮しない場合に同じであるという意味である。   And each land electrode (external terminal) 104b which is the lowest part of each island part 104 has the substantially same planar shape, and is arranged in the grid | lattice form. Here, “substantially the same” means the same when not taking into account variations during manufacturing.

本実施形態のリードフレームLF1によると、コーナー部において、吊りリードを設けずに、外枠100の相隣接する2つの辺から延びるリード同士を連結させることにより、コーナー部も含めてランド電極104b(外部端子)を外枠100の各辺に沿って複数列に配置した樹脂封止型半導体装置を形成することが可能になる。すなわち、従来のリードフレームのようにコーナー部に吊りリードが存在する場合には、吊りリードの途中にランド電極を設けることはできるものの、吊りリードがダイパッドに接続されているので、吊りリードの途中のランド電極は、単なる補強用か、ダイパッドと同電位になる端子用に限られる(例えば、接地端子など)。それに対し、本実施形態のリードフレームLF1においては、信号端子として機能するランド電極をコーナー部にまで配置することができ、ランド電極を高密度に配置することが可能になる。言い換えると、ランド電極の配置場所や数に関する制約を緩和することができる。   According to the lead frame LF1 of the present embodiment, the lead extending from two adjacent sides of the outer frame 100 is connected to each other at the corner portion without providing the suspension lead, thereby including the land electrode 104b ( It is possible to form a resin-encapsulated semiconductor device in which external terminals are arranged in a plurality of rows along each side of the outer frame 100. That is, when there is a suspension lead at the corner as in the conventional lead frame, the land electrode can be provided in the middle of the suspension lead, but the suspension lead is connected to the die pad, so These land electrodes are only used for reinforcement or for terminals having the same potential as the die pad (for example, a ground terminal). On the other hand, in the lead frame LF1 of the present embodiment, land electrodes that function as signal terminals can be disposed up to the corner portion, and land electrodes can be disposed at high density. In other words, restrictions on the location and number of land electrodes can be relaxed.

また、後に説明するように、本実施形態のリードフレームLF1を用いて樹脂封止を行なう工程において、各ランド電極104(島部102)とダイパッド101とは互いに接続されることなく離間した状態で封止シートによってそれぞれ支持されているので、リードフレーム本体と封止樹脂との熱収縮率の差によって発生する反りが個々に分断され、半導体装置全体としての反り量を低減することができる。   Further, as will be described later, in the step of resin sealing using the lead frame LF1 of the present embodiment, each land electrode 104 (island portion 102) and the die pad 101 are separated from each other without being connected to each other. Since each is supported by the sealing sheet, the warpage generated due to the difference in thermal shrinkage between the lead frame main body and the sealing resin is individually divided, and the amount of warpage of the entire semiconductor device can be reduced.

また、本実施形態のリードフレームLF1は、コーナー部に大型の円形パターンである補強用ランド103が設けられているので、樹脂封止型半導体装置をマザーボード上に実装(2次実装)する際に、樹脂封止型半導体装置と、マザーボードとの間のはんだ等による接合強度の向上を図ることができる。   Further, since the lead frame LF1 of the present embodiment is provided with the reinforcing land 103 having a large circular pattern at the corner portion, when the resin-encapsulated semiconductor device is mounted on the motherboard (secondary mounting). Further, it is possible to improve the bonding strength between the resin-encapsulated semiconductor device and the mother board by solder or the like.

ただし、本実施形態のリードフレームLF1における補強用ランド103は、必ずしも設ける必要がない。補強用ランド103が存在しない場合には、そのスペースにランド電極(島部)を配置することができるので、ランド電極をさらに高密度に配置することが可能になる。   However, the reinforcing land 103 in the lead frame LF1 of the present embodiment is not necessarily provided. When the reinforcing land 103 does not exist, land electrodes (island portions) can be arranged in the space, so that the land electrodes can be arranged at a higher density.

−樹脂封止型半導体装置の製造工程−
次に、本実施形態のリードフレームLF1を用いた樹脂封止型半導体装置の製造工程の一例について説明する。図2(a),(b)は、第1の実施形態の樹脂封止型半導体装置の製造工程のうちダイパッドの中央部をアップセットする工程を示す平面図及びIIB−IIB線における断面図である。図3(a),(b)は、第1の実施形態の樹脂封止型半導体装置の製造工程のうちのリードフレームを封止シート上に載置する工程を示す平面図及びIIIB−IIIB線における断面図である。図4(a),(b)は、第1の実施形態の樹脂封止型半導体装置の製造工程のうちリードを分断する工程を示す平面図及びIVB−IVB線における断面図である。図5は、第1の実施形態の樹脂封止型半導体装置の製造工程のうち樹脂封止工程を示す部分断面図である。図6(a),(b)は、第1の実施形態の樹脂封止型半導体装置の樹脂封止工程終了後における構造を示すVIA−VIA線における断面図及び裏面図である。
-Manufacturing process of resin-encapsulated semiconductor devices-
Next, an example of a manufacturing process of a resin-encapsulated semiconductor device using the lead frame LF1 of the present embodiment will be described. 2A and 2B are a plan view and a cross-sectional view taken along the line IIB-IIB showing a process of upsetting the central portion of the die pad in the manufacturing process of the resin-encapsulated semiconductor device of the first embodiment. is there. 3A and 3B are a plan view and a IIIB-IIIB line showing a process of placing the lead frame on the sealing sheet in the manufacturing process of the resin-encapsulated semiconductor device of the first embodiment. FIG. 4A and 4B are a plan view and a cross-sectional view taken along the line IVB-IVB, showing a process of dividing the leads in the manufacturing process of the resin-encapsulated semiconductor device of the first embodiment. FIG. 5 is a partial cross-sectional view showing the resin sealing step in the manufacturing steps of the resin-encapsulated semiconductor device of the first embodiment. 6A and 6B are a cross-sectional view and a rear view taken along line VIA-VIA showing the structure after the resin sealing step of the resin-encapsulated semiconductor device of the first embodiment.

まず、図2(a),(b)に示す工程で、銅(Cu)を主成分とする合金または鉄(Fe)およびニッケル(Ni)の合金からなる金属板をスタンピングまたはエッチングにより一体成形して、図1(a),(b)に示す構造を有するリードフレームLF1を用意する。次に、上部半切断金型と下部プレス金型と(いずれも図示せず)を用いて、リードフレームLF1をプレス加工することにより、ダイパッド101に円形の突出部101aを形成する。この工程は、半導体チップをアップセットしてダイパッド101上に支持することを目的としているが、必ずしも突出部101aを設ける必要はない。また、リードフレームLF1には、半導体チップとの接合や実装に必要なめっきが部分的または全面に施される。めっきの種類としては、Agめっき,Auめっき,Ni−Pd−Auめっきなどを用いることができる。   First, in a process shown in FIGS. 2A and 2B, a metal plate made of an alloy mainly composed of copper (Cu) or an alloy of iron (Fe) and nickel (Ni) is integrally formed by stamping or etching. Thus, a lead frame LF1 having the structure shown in FIGS. 1A and 1B is prepared. Next, a circular protrusion 101a is formed on the die pad 101 by pressing the lead frame LF1 using an upper half-cutting die and a lower pressing die (both not shown). This process is intended to upset the semiconductor chip and support it on the die pad 101, but the protrusion 101a is not necessarily provided. In addition, the lead frame LF1 is partially or entirely plated for bonding and mounting with the semiconductor chip. As the type of plating, Ag plating, Au plating, Ni—Pd—Au plating, or the like can be used.

次に、図3(a),(b)に示す工程で、リードフレームLF1の裏面、つまり、ダイパッド101の本体部,補強用ランド103,島部104の各下面に密着するように封止シート150を貼り付ける。封止シート150の上面には接着層が設けられており、この接着層により、ダイパッド101,補強用ランド103及びリード102の島部104が、孤立した状態で封止シート150上に固定されている。   Next, in the steps shown in FIGS. 3A and 3B, the sealing sheet is attached so as to be in close contact with the back surface of the lead frame LF1, that is, the lower surface of the main body portion of the die pad 101, the reinforcing land 103, and the island portion 104. 150 is pasted. An adhesive layer is provided on the upper surface of the sealing sheet 150, and the die pad 101, the reinforcing land 103, and the island portion 104 of the lead 102 are fixed on the sealing sheet 150 in an isolated state. Yes.

次に、図4(a),(b)に示す工程で、封止シート150上にリードフレームLF1を固定した状態で、金型を用いたプレス加工により、リード102を切断部Ct1,Ct2,Ct3で分断する。すなわち、リード102の島部104とダイパッド101との間の連結部105,島部104同士の間の連結部105,及び島部104と外枠100との間の連結部105をそれぞれ切断して、ダイパッド101及び各島部104を孤立させる。   Next, in the process shown in FIGS. 4A and 4B, the lead 102 is cut into the cut portions Ct1, Ct2, C.sub.t2, Ct2, by pressing using a mold with the lead frame LF1 fixed on the sealing sheet 150. Divide at Ct3. That is, the connecting portion 105 between the island portion 104 of the lead 102 and the die pad 101, the connecting portion 105 between the island portions 104, and the connecting portion 105 between the island portion 104 and the outer frame 100 are cut. The die pad 101 and each island 104 are isolated.

次に、工程の図示は省略するが、リードフレームLF1を封止シート150に載置した状態で、リードフレームLF1の各チップ搭載領域Rtpのダイパッド101上に半導体チップ160をそれぞれ搭載し(ダイボンド工程)、半導体チップ160のパッド電極と島部104のボンディングパッド104aとを接続部材である金属細線170によって接続する(ワイヤボンディング工程)。   Next, although illustration of the process is omitted, the semiconductor chip 160 is mounted on the die pad 101 in each chip mounting region Rtp of the lead frame LF1 in a state where the lead frame LF1 is mounted on the sealing sheet 150 (die bonding process). ), The pad electrode of the semiconductor chip 160 and the bonding pad 104a of the island portion 104 are connected by a thin metal wire 170 as a connecting member (wire bonding step).

そして、図5に示すように、ダイキャビティを有する上型180aと下型180bとからなる封止金型にリードフレームLF1をセットする。すなわち、ダイキャビティに半導体チップ150,金属細線170等が入り込むように、リードフレームLF1を封止金型にセットし、上型180aと下型180bとの間を押圧した状態で、ダイキャビティ内に封止樹脂を充填する。   Then, as shown in FIG. 5, the lead frame LF1 is set in a sealing mold including an upper mold 180a and a lower mold 180b having a die cavity. That is, the lead frame LF1 is set in a sealing mold so that the semiconductor chip 150, the fine metal wire 170, etc. enter the die cavity, and the space between the upper mold 180a and the lower mold 180b is pressed into the die cavity. Fill with sealing resin.

そして、樹脂封止工程の終了後に、封止シート150をリードフレームLF1や封止樹脂から引き剥がしてから、リードフレームLF1上に形成されている多数の樹脂封止型半導体装置を、個々に切り出すことにより、図6(a),(b)に示す構造を有する樹脂封止型半導体装置が得られる。ただし、図6(a)に示す断面図においては、右半分の横方向寸法は左半分の横方向寸法と同じ寸法に縮小されている。   After the resin sealing step, the sealing sheet 150 is peeled off from the lead frame LF1 and the sealing resin, and then a large number of resin-encapsulated semiconductor devices formed on the lead frame LF1 are cut out individually. As a result, a resin-encapsulated semiconductor device having the structure shown in FIGS. 6A and 6B is obtained. However, in the cross-sectional view shown in FIG. 6A, the horizontal dimension of the right half is reduced to the same dimension as the horizontal dimension of the left half.

図6(a),(b)に示すように、リードフレームLF1の島部104の最下部であるランド電極104b,ダイパッド101の最下部,及び補強用ランド103の最下部が封止樹脂190から下方に突出している。特に、ランド電極104bは、図6(b)における縦方向及び横方向に一定のピッチ(間隔)P1で複数列に配置されており、コーナー部にも配置されていることがわかる。そして、樹脂封止型半導体装置内には、ダイパッド101から延びて、封止樹脂の表面に露出するリードは存在しない。   6A and 6B, the land electrode 104b, which is the lowermost part of the island part 104 of the lead frame LF1, the lowermost part of the die pad 101, and the lowermost part of the reinforcing land 103 are formed from the sealing resin 190. It protrudes downward. In particular, it can be seen that the land electrodes 104b are arranged in a plurality of rows at a constant pitch (interval) P1 in the vertical and horizontal directions in FIG. In the resin-encapsulated semiconductor device, there is no lead extending from the die pad 101 and exposed on the surface of the encapsulating resin.

ランド電極104b同士の間隔は必ずしも一定である必要はなく、かつ、一定のピッチで配置されている場合でも、図6(b)における縦方向と横方向とでピッチが異なっていてもよいが、このように一定のピッチでランド電極104bが配置されていることにより、現実の半導体装置の規格に適合した樹脂封止型半導体装置が得られる。   The spacing between the land electrodes 104b is not necessarily constant, and even when they are arranged at a constant pitch, the pitch may be different between the vertical direction and the horizontal direction in FIG. By arranging the land electrodes 104b at a constant pitch in this way, a resin-encapsulated semiconductor device that conforms to the standard of an actual semiconductor device can be obtained.

本実施形態の樹脂封止型半導体装置によると、従来存在していた吊りリードをなくすとともに、ダイパッド101とリード102の島部104との間、リード102中の各島部104同士の間,島部104と外枠100との間に、島部104よりも狭幅,薄肉の連結部105を介在させているので、図4(a),(b)に示す工程において、リードフレームLF1に半導体チップ160を搭載した状態で、リード102中の各島部104同士の間,島部104と外枠100との間を容易に切断して、ダイパッド101と外枠100との間を接続する部材が存在しない状態で、ワイヤボンディング工程を行ったり、樹脂封止工程を行なうことができる。   According to the resin-encapsulated semiconductor device of the present embodiment, the existing suspension leads are eliminated, the islands 104 of the leads 102 and the islands 104 of the leads 102, the islands 104 in the leads 102, the islands, Since the connecting portion 105 having a narrower width and thinner than the island portion 104 is interposed between the portion 104 and the outer frame 100, a semiconductor is connected to the lead frame LF1 in the steps shown in FIGS. 4 (a) and 4 (b). A member that easily cuts between the island portions 104 in the leads 102 and between the island portions 104 and the outer frame 100 in a state where the chip 160 is mounted, and connects between the die pad 101 and the outer frame 100. The wire bonding process or the resin sealing process can be performed in a state in which no exists.

したがって、吊りリードを形成するためのエッチング、型抜き等の手間が省けるとともに、図6(a),(b)に示すように、ランド電極104bが高密度に配置された樹脂封止型半導体装置が得られることになる。   Therefore, it is possible to save the troubles such as etching and die cutting for forming the suspension leads, and as shown in FIGS. 6A and 6B, the resin-encapsulated semiconductor device in which the land electrodes 104b are arranged at a high density. Will be obtained.

(第2の実施形態)
図7(a),(b)は、それぞれ順に、本発明の第2の実施形態に係るリードフレームの平面図、及びVIIB−VIIB線における断面図である。図7(a)は、多数の半導体チップを搭載する領域が碁盤目状に連続して設けられているリードフレームLF2の一部、つまり、1つの半導体チップを搭載する領域だけを抜き出して示している。リードフレームLF2は、銅合金板をエッチング,打ち抜きプレス等によって加工して得られるものである。
(Second Embodiment)
7A and 7B are a plan view and a cross-sectional view taken along the line VIIB-VIIB, respectively, of a lead frame according to the second embodiment of the present invention. FIG. 7A shows a part of the lead frame LF2 in which a plurality of semiconductor chip mounting regions are continuously provided in a grid pattern, that is, only a region for mounting one semiconductor chip. Yes. The lead frame LF2 is obtained by processing a copper alloy plate by etching, punching press or the like.

図7(a),(b)に示すように、本実施形態のリードフレームLF2は、チップ搭載領域Rtpを囲む,4つの辺からなる矩形状の外枠200と、チップ搭載領域Rtpの中央部に設けられた半導体チップ搭載用のダイパッド201と、外枠200から延びてダイパッド201につながるリード202と、補強用ランド203と、ダイパッド201の外周部に設けられリード202につながる放熱端子201bとを備えている。   As shown in FIGS. 7A and 7B, the lead frame LF2 of the present embodiment includes a rectangular outer frame 200 having four sides surrounding the chip mounting area Rtp, and a central portion of the chip mounting area Rtp. A die pad 201 for mounting a semiconductor chip, a lead 202 extending from the outer frame 200 and connected to the die pad 201, a reinforcing land 203, and a heat dissipation terminal 201b provided on the outer periphery of the die pad 201 and connected to the lead 202. I have.

本実施形態のリード202は、広幅(例えば20μm〜120μm)かつ厚肉(例えば20μm〜120μm)の島部204と、細幅(例えば15μm〜100μm)かつ薄肉(例えば15μm〜100μm)の連結部205とを交互に配置して構成されている。島部204の上面は、金属細線が接続されるボンディングパッド204aとして機能する。また、半導体チップをリードフレームLF2上に実装する工程において、島部204の下面が接着層を有する封止シートに固定された状態で樹脂封止され、島部204の最下部が樹脂封止後に封止樹脂の裏面から下方に突出したランド電極204bとして機能する。連結部205は、外枠200と島部204との間,島部204同士の間,及び島部204とダイパッド201の放熱端子201bとの間をそれぞれ接続している。連結部205は、金型によるプレス加工またはエッチング加工によりその下部が欠如しており、半導体チップをリードフレームLF2上に実装する工程において封止樹脂内に埋め込まれる。連結部205は、島部204の上部と連続していて、連結部205の上面は島部204の上面と共通の平面を構成している。   The lead 202 of this embodiment includes a wide (for example, 20 μm to 120 μm) and thick (for example, 20 μm to 120 μm) island part 204 and a thin (for example, 15 μm to 100 μm) and thin (for example, 15 μm to 100 μm) connection part 205. Are arranged alternately. The upper surface of the island part 204 functions as a bonding pad 204a to which a thin metal wire is connected. Further, in the process of mounting the semiconductor chip on the lead frame LF2, the bottom surface of the island part 204 is resin-sealed in a state of being fixed to a sealing sheet having an adhesive layer, and the lowermost part of the island part 204 is sealed with the resin. It functions as a land electrode 204b protruding downward from the back surface of the sealing resin. The connecting portion 205 connects between the outer frame 200 and the island portion 204, between the island portions 204, and between the island portion 204 and the heat radiating terminal 201 b of the die pad 201. The lower part of the connecting part 205 is lacking due to press working or etching with a metal mold, and is embedded in the sealing resin in the process of mounting the semiconductor chip on the lead frame LF2. The connecting portion 205 is continuous with the upper portion of the island portion 204, and the upper surface of the connecting portion 205 forms a common plane with the upper surface of the island portion 204.

ここで、本実施形態のリードフレームLF2の特徴について説明する。本実施形態のリードフレームLF2には、通常のリードフレームには存在している,ダイパッドを支える機能だけを有する吊りリードが存在していない。また、本実施形態のリードフレームLF2のダイパッドは、樹脂封止工程の際には、分断されているリード202のみによって外枠に接続されているので、樹脂封止工程の際に吊りリードとして機能するリードは設けられていない。そして、本実施形態のリードフレームLF2においては、ダイパッド201のコーナー部と外枠200のコーナー部とを結ぶ線上にも、島部204(つまり,ボンディングパッド204a及びランド電極204b)が配置されている。また、本実施形態のリードフレームLF2には、コーナー部付近において、ダイパッド201に直接接続されずに、当該リード202x(又は202y)が接続される外枠200の一辺に隣接する他の辺から延びるリード202y(又は202x)に連結されているリード202x(又は202y)が存在する。つまり、当該リード202x(又は202y)が接続される外枠200の一辺に隣接する他の辺から延びるリード202y(又は202x)を介してダイパッド201に接続されるリード202x(又は202y)が存在している。さらに、本実施形態のリードフレームLF2においては、外枠200に近いコーナー部において、島部204よりも遙かに大面積(例えば、径300μmから1500μm)の補強用ランド203が設けられている。   Here, features of the lead frame LF2 of the present embodiment will be described. In the lead frame LF2 of the present embodiment, there is no suspension lead having only a function of supporting a die pad, which is present in a normal lead frame. In addition, since the die pad of the lead frame LF2 of the present embodiment is connected to the outer frame only by the divided leads 202 during the resin sealing process, it functions as a suspension lead during the resin sealing process. No lead is provided. In the lead frame LF2 of the present embodiment, the island portion 204 (that is, the bonding pad 204a and the land electrode 204b) is also disposed on the line connecting the corner portion of the die pad 201 and the corner portion of the outer frame 200. . Further, the lead frame LF2 of the present embodiment extends from another side adjacent to one side of the outer frame 200 to which the lead 202x (or 202y) is connected without being directly connected to the die pad 201 in the vicinity of the corner portion. There is a lead 202x (or 202y) connected to the lead 202y (or 202x). That is, there is a lead 202x (or 202y) connected to the die pad 201 via a lead 202y (or 202x) extending from another side adjacent to one side of the outer frame 200 to which the lead 202x (or 202y) is connected. ing. Further, in the lead frame LF2 of the present embodiment, a reinforcing land 203 having a much larger area (for example, a diameter of 300 μm to 1500 μm) than the island portion 204 is provided at a corner portion close to the outer frame 200.

本実施形態のリードフレームLF2は、第1の実施形態のリードフレームLF1と同じ特徴に加えて、以下のような特徴を有している。すなわち、ダイパッド201の外周部は、下部が欠如した薄膜部201cとなっており、薄膜部201cの下面から下方に突出した放熱端子201bが設けられている。このような形状は、ハーフエッチング又はプレス加工によって、ダイパッド201の外周部を放熱端子201bとなる部分を残して下部を欠如させることにより、形成される。   In addition to the same features as the lead frame LF1 of the first embodiment, the lead frame LF2 of the present embodiment has the following features. That is, the outer peripheral portion of the die pad 201 is a thin film portion 201c lacking a lower portion, and a heat dissipation terminal 201b protruding downward from the lower surface of the thin film portion 201c is provided. Such a shape is formed by removing the lower part of the outer periphery of the die pad 201 while leaving the part that becomes the heat radiating terminal 201b by half etching or pressing.

本実施形態においては、各島部204の最下部である各ランド電極(外部端子)204bと、放熱端子201bの最下部とは、実質的に同じ平面形状を有しており、格子状に配列されている。ここで、「実質的に同じ」とは、製造時のばらつきを考慮しない場合に同じであるという意味である。ただし、必ずしも各島部204の最下部である各ランド電極(外部端子)204bと、放熱端子201bの最下部とが、実質的に同じ平面形状を有していなくても、後述する基本的な効果を発揮することは可能である。   In the present embodiment, each land electrode (external terminal) 204b, which is the lowermost part of each island part 204, and the lowermost part of the heat radiating terminal 201b have substantially the same planar shape, and are arranged in a grid pattern. Has been. Here, “substantially the same” means the same when not taking into account variations during manufacturing. However, even if each land electrode (external terminal) 204b, which is the lowermost part of each island part 204, and the lowermost part of the heat radiating terminal 201b do not have substantially the same planar shape, they will be described later. It is possible to exert an effect.

この放熱端子201bが設けられていることにより、本実施形態のリードフレームにより、第1の実施形態と同じ効果に加えて、以下のような格別の効果を発揮することができる。   By providing the heat dissipating terminal 201b, the lead frame of this embodiment can exhibit the following special effects in addition to the same effects as those of the first embodiment.

第1の実施形態のリードフレームLF1を用いてLGA(ランドグリッドアレイ)構造を持つ樹脂封止型半導体装置の製造工程において、リード102の島部104とダイパッド101との間を打ち抜き加工により切断すると、切断の後にリードの変形という不具合が発生するおそれがあった。そこで、これを回避するために、図1(a),(b)に示すように、島部104とダイパッド101との間の連結部105を、島部104同士の間の連結部105よりも長くする必要があった。しかし、今後、ランド電極数が増えるに従って、抜き形状の複雑化によってさらに変形しやすく、生産性を悪化させるおそれがある。   In the manufacturing process of a resin-encapsulated semiconductor device having an LGA (land grid array) structure using the lead frame LF1 of the first embodiment, the island portion 104 of the lead 102 and the die pad 101 are cut by punching. There is a possibility that a defect such as deformation of the lead may occur after cutting. Therefore, in order to avoid this, as shown in FIGS. 1A and 1B, the connecting portion 105 between the island portion 104 and the die pad 101 is made more than the connecting portion 105 between the island portions 104. There was a need to lengthen. However, as the number of land electrodes increases in the future, it is likely to be further deformed due to the complexity of the punched shape, and the productivity may be deteriorated.

ところが、本実施形態のように、ダイパッド201に放熱端子201bを設けることにより、後述するリード202の切断工程において、リード202の変形を抑制しつつ,円滑に島部204及びダイパッド201を外枠200から切り離すことが可能になる。その結果、リード202の最先端の島部204と放熱端子201bとを接続する連結部205を短くできるので、島部204(ランド電極204b)をより高密度に配置することができる。   However, as in the present embodiment, by providing the heat dissipating terminals 201b on the die pad 201, the island portion 204 and the die pad 201 can be smoothly connected to the outer frame 200 while suppressing deformation of the lead 202 in the lead 202 cutting step described later. It becomes possible to separate from. As a result, since the connecting portion 205 that connects the most distal island portion 204 of the lead 202 and the heat radiating terminal 201b can be shortened, the island portions 204 (land electrodes 204b) can be arranged with higher density.

また、放熱端子201bの存在により、後述する樹脂封止型半導体装置をマザーボード上に実装する際に、接合不良が生じやすいダイパッド201の本体部をマザーボードに接合せずに、半田の一括リフローにより、放熱端子201bのみをランド電極204bと共にマザーボードの電極などに接合させることができる。そして、ダイパッド201の本体部とマザーボードとの接合を行なわなくても、放熱端子201bにより、半導体チップの発熱をマザーボードに速やかに逃すことができる。本実施形態では、放熱機能が放熱面積がある面積以上になると飽和することを考慮して、複数の放熱端子201bの下面の合計面積は、半導体チップの発熱を速やかにマザーボード側に逃して半導体チップ内の半導体素子の機能が損なわれないように設定されている。よって、本実施形態のリードフレームを用いた樹脂封止型半導体装置の放熱機能は、第1の実施形態と同等に維持することができる。   Also, due to the presence of the heat dissipation terminal 201b, when mounting a resin-encapsulated semiconductor device, which will be described later, on the mother board, the main body portion of the die pad 201, which is likely to cause poor bonding, is not joined to the mother board, but by reflow soldering, Only the heat dissipating terminal 201b can be joined to the electrode of the mother board together with the land electrode 204b. And, without joining the main body of the die pad 201 and the mother board, the heat radiation terminal 201b can quickly release the heat generated from the semiconductor chip to the mother board. In the present embodiment, considering that the heat dissipation function is saturated when the heat dissipation area exceeds a certain area, the total area of the lower surfaces of the plurality of heat dissipation terminals 201b allows the heat generation of the semiconductor chip to escape to the motherboard side quickly and the semiconductor chip. The function of the semiconductor element is set so as not to be impaired. Therefore, the heat dissipation function of the resin-encapsulated semiconductor device using the lead frame of this embodiment can be maintained equivalent to that of the first embodiment.

−樹脂封止型半導体装置の製造工程−
次に、本実施形態のリードフレームLF2を用いた樹脂封止型半導体装置の製造工程の一例について説明する。図8(a),(b)は、第2の実施形態の樹脂封止型半導体装置の製造工程のうちダイパッドの中央部をアップセットしてリードフレームを封止シート上に載置する工程を示す平面図及びVIIIB−VIIIB線における断面図である。図9(a),(b)は、第2の実施形態の樹脂封止型半導体装置の製造工程のうちリードを分断する工程を示す平面図及びIXB-IXB線における断面図である。図10(a),(b)は、第2の実施形態の樹脂封止型半導体装置の樹脂封止工程終了後における構造を示すXA−XA線における断面図及び裏面図である。
-Manufacturing process of resin-encapsulated semiconductor devices-
Next, an example of a manufacturing process of a resin-encapsulated semiconductor device using the lead frame LF2 of this embodiment will be described. 8A and 8B show a process of upsetting the central portion of the die pad and placing the lead frame on the sealing sheet in the manufacturing process of the resin-encapsulated semiconductor device of the second embodiment. It is sectional drawing in the top view and VIIIB-VIIIB line | wire which show. FIGS. 9A and 9B are a plan view and a cross-sectional view taken along the line IXB-IXB showing a step of dividing the leads in the manufacturing process of the resin-encapsulated semiconductor device of the second embodiment. 10A and 10B are a cross-sectional view and a rear view taken along line XA-XA showing the structure after the resin sealing step of the resin-encapsulated semiconductor device of the second embodiment.

まず、図8(a),(b)に示す工程で、銅(Cu)を主成分とする合金または鉄(Fe)およびニッケル(Ni)の合金からなる金属板をスタンピングまたはエッチングにより一体成形して、図7(a),(b)に示す構造を有するリードフレームLF2を用意する。次に、上部半切断金型と下部プレス金型と(いずれも図示せず)を用いて、リードフレームLF2をプレス加工することにより、ダイパッド201に円形の突出部201aを形成する。この工程は、半導体チップをアップセットしてダイパッド201上に支持することを目的としているが、必ずしも突出部201aを設ける必要はない。。また、リードフレームLF2には、半導体チップとの接合や実装に必要なめっきが部分的または全面に施される。めっきの種類としては、Agめっき,Auめっき,Ni−Pd−Auめっきなどを用いることができる。   First, in a process shown in FIGS. 8A and 8B, a metal plate made of an alloy mainly composed of copper (Cu) or an alloy of iron (Fe) and nickel (Ni) is integrally formed by stamping or etching. Thus, a lead frame LF2 having the structure shown in FIGS. 7A and 7B is prepared. Next, a circular protrusion 201a is formed on the die pad 201 by pressing the lead frame LF2 using an upper half-cutting die and a lower pressing die (both not shown). This process is intended to upset the semiconductor chip and support it on the die pad 201, but the protrusion 201a is not necessarily provided. . In addition, the lead frame LF2 is partially or entirely plated for bonding with semiconductor chips and mounting. As the type of plating, Ag plating, Au plating, Ni—Pd—Au plating, or the like can be used.

次に、リードフレームLF2の裏面、つまり、ダイパッド201,補強用ランド203,島部204の各下面に密着するように封止シート250を貼り付ける。封止シート250の上面には接着層が設けられており、この接着層により、ダイパッド201の本体部,ダイパッド201の放熱端子201b,補強用ランド203及びリード202の島部204が、孤立した状態で封止シート250上に固定されている。   Next, the sealing sheet 250 is attached so as to be in close contact with the back surface of the lead frame LF2, that is, the lower surfaces of the die pad 201, the reinforcing land 203, and the island portion 204. An adhesive layer is provided on the upper surface of the sealing sheet 250, and the main body portion of the die pad 201, the heat radiation terminal 201 b of the die pad 201, the reinforcing land 203, and the island portion 204 of the lead 202 are isolated by this adhesive layer. It is fixed on the sealing sheet 250.

次に、図9(a),(b)に示す工程で、封止シート250上にリードフレームLF2を固定した状態で、金型を用いたプレス加工により、リード202の島部204とダイパッド201の放熱端子201bとの間の連結部205,島部204同士の間の連結部205,及び島部204と外枠200との間の連結部205をそれぞれ切断して、ダイパッド201及び各島部204を孤立させる。このとき、ダイパッド201と外枠200とを接続する部材は存在していない。   Next, in the process shown in FIGS. 9A and 9B, the island 204 of the lead 202 and the die pad 201 are pressed by pressing using a mold in a state where the lead frame LF2 is fixed on the sealing sheet 250. The connecting portion 205 between the heat radiation terminal 201b, the connecting portion 205 between the island portions 204, and the connecting portion 205 between the island portion 204 and the outer frame 200 are cut, respectively, to form the die pad 201 and each island portion. 204 is isolated. At this time, there is no member connecting the die pad 201 and the outer frame 200.

次に、工程の図示は省略するが、リードフレームLF2を封止シート250に載置した状態で、リードフレームLF2の各チップ搭載領域Rtpのダイパッド201上に半導体チップ260をそれぞれ搭載し(ダイボンド工程)、半導体チップ260のパッド電極と島部204のボンディングパッド204aとを接続部材である金属細線270によって接続する(ワイヤボンディング工程)。   Next, although illustration of the process is omitted, the semiconductor chip 260 is mounted on the die pad 201 in each chip mounting region Rtp of the lead frame LF2 with the lead frame LF2 placed on the sealing sheet 250 (die bonding process). ), The pad electrode of the semiconductor chip 260 and the bonding pad 204a of the island portion 204 are connected by the metal thin wire 270 as a connecting member (wire bonding step).

そして、第1の実施形態における図5に示す工程と同様に、ダイキャビティを有する上型180aと下型180bとからなる封止金型にリードフレームLF2をセットする。すなわち、ダイキャビティに半導体チップ260,金属細線270等が入り込むように、リードフレームLF2を封止金型にセットし、上型180aと下型180bとの間を押圧した状態で、ダイキャビティ内に封止樹脂を充填する。   Then, similarly to the process shown in FIG. 5 in the first embodiment, the lead frame LF2 is set in a sealing mold including an upper mold 180a having a die cavity and a lower mold 180b. That is, the lead frame LF2 is set in a sealing mold so that the semiconductor chip 260, the fine metal wire 270 and the like enter the die cavity, and the space between the upper mold 180a and the lower mold 180b is pressed into the die cavity. Fill with sealing resin.

そして、樹脂封止工程の終了後に、封止シート250をリードフレームLF2や封止樹脂から引き剥がしてから、リードフレームLF2上に形成されている多数の樹脂封止型半導体装置を、個々に切り出すことにより、図10(a),(b)に示す構造を有する樹脂封止型半導体装置が得られる。ただし、図10(a)に示す断面図においては、右半分の横方向寸法は左半分の横方向寸法と同じ寸法に縮小されている。   After the resin sealing step is finished, the sealing sheet 250 is peeled off from the lead frame LF2 and the sealing resin, and then a large number of resin-encapsulated semiconductor devices formed on the lead frame LF2 are cut out individually. As a result, a resin-encapsulated semiconductor device having the structure shown in FIGS. 10A and 10B is obtained. However, in the cross-sectional view shown in FIG. 10A, the horizontal dimension of the right half is reduced to the same dimension as the horizontal dimension of the left half.

図10(a),(b)に示すように、リードフレームLF2の島部204の最下部であるランド電極204b,ダイパッド201の本体部の最下部,ダイパッド201の放熱端子201bの最下部,及び補強用ランド203の最下部が封止樹脂290から下方に突出している。特に、放熱端子201b及びランド電極204bは、図10(b)における縦方向及び横方向に一定のピッチ(間隔)P2で3列以上の複数列に配置されており、コーナー部にも配置されていることがわかる。   As shown in FIGS. 10A and 10B, the land electrode 204b which is the lowermost part of the island part 204 of the lead frame LF2, the lowermost part of the main body part of the die pad 201, the lowermost part of the heat radiation terminal 201b of the die pad 201, The lowermost portion of the reinforcing land 203 protrudes downward from the sealing resin 290. In particular, the heat dissipating terminals 201b and the land electrodes 204b are arranged in a plurality of rows of 3 or more at a constant pitch (interval) P2 in the vertical and horizontal directions in FIG. I understand that.

その後、樹脂封止型半導体装置をマザーボード上に実装する際には、ランド電極204b及び放熱端子201bを半田リフローによってマザーボードの各電極に接続すればよく、ダイパッド201の本体部をマザーボードに接続する必要はない。   Thereafter, when the resin-encapsulated semiconductor device is mounted on the mother board, the land electrode 204b and the heat radiation terminal 201b may be connected to each electrode of the mother board by solder reflow, and the main body of the die pad 201 needs to be connected to the mother board. There is no.

本実施形態の樹脂封止型半導体装置によると、従来存在していた吊りリードをなくすとともに、ダイパッド201とリード202の島部204との間、リード202中の各島部204同士の間,島部204と外枠200との間に、島部204よりも狭幅,薄肉の連結部205を介在させているので、図9(a),(b)に示す工程において、リードフレームLF2に半導体チップ260を搭載した状態で、リード202中の各島部204同士の間,島部204と外枠200との間を容易に切断して、ダイパッド201と外枠200との間を接続する部材が存在しない状態で、ワイヤボンディング工程を行ったり、樹脂封止工程を行なうことができる。   According to the resin-encapsulated semiconductor device of the present embodiment, the existing suspension leads are eliminated, the islands 204 of the leads 202 and the islands 204 of the leads 202, the islands 204 in the leads 202, Since the connecting portion 205 having a narrower width and thinner than the island portion 204 is interposed between the portion 204 and the outer frame 200, a semiconductor is connected to the lead frame LF2 in the steps shown in FIGS. 9A and 9B. A member that easily cuts between the islands 204 in the lead 202 and between the islands 204 and the outer frame 200 in a state where the chip 260 is mounted, and connects the die pad 201 and the outer frame 200. The wire bonding process or the resin sealing process can be performed in a state in which no exists.

したがって、吊りリードを形成するためのエッチング、型抜き等の手間が省けるとともに、すでに説明したように、放熱端子201bを設けたことによって、ランド電極204bを第1の実施形態よりもさらに高密度に配置することができる。   Therefore, it is possible to save the trouble of etching, die cutting and the like for forming the suspension lead, and as already described, by providing the heat dissipation terminal 201b, the land electrode 204b can be made more dense than the first embodiment. Can be arranged.

また、ダイパッド201に放熱端子201bが設けられていることことにより、樹脂封止型はその実装工程において、半田の一括リフローにより、放熱端子201bをランド電極204bと共にマザーボードの電極などに接合させることが可能になった。すなわち、樹脂封止型半導体装置の実装の際に、放熱のためにダイパッド201の本体部をマザーボードに接続する必要がなくなったので、接続不良の低減を図ることができ、放熱性を高く維持しつつ,実装の容易化を図ることができる。   Further, since the heat dissipating terminal 201b is provided on the die pad 201, the resin-sealed mold can be bonded to the motherboard electrode or the like together with the land electrode 204b by batch reflow of solder in the mounting process. It became possible. That is, when mounting the resin-encapsulated semiconductor device, it is no longer necessary to connect the main body of the die pad 201 to the motherboard for heat dissipation, so that connection failure can be reduced and heat dissipation is maintained high. However, the mounting can be facilitated.

放熱端子201bとランド電極204bとの間隔,及びランド電極204b同士の間隔は必ずしも一定である必要はなく、かつ、一定のピッチで配置されている場合でも、図10(b)における縦方向と横方向とでピッチが異なっていてもよい。しかし、特に、放熱端子201bと島部204とが実質的に同じ平面形状を有し、放熱端子201bと島部204との間の連結部205が、島部204同士の間の連結部205と実質的に同じ平面形状を有していることが好ましい。これにより、一定のピッチで放熱端子201b及びランド電極204bが配置されるので、半田の一括リフローが容易となり、樹脂封止型半導体装置の実装の際における実装の容易化を図ることができるからである。   The distance between the heat radiating terminal 201b and the land electrode 204b and the distance between the land electrodes 204b are not necessarily constant, and even when they are arranged at a constant pitch, the vertical direction and the horizontal direction in FIG. The pitch may differ depending on the direction. However, in particular, the radiating terminal 201b and the island portion 204 have substantially the same planar shape, and the connecting portion 205 between the radiating terminal 201b and the island portion 204 is the same as the connecting portion 205 between the island portions 204. It is preferable that they have substantially the same planar shape. As a result, the heat dissipating terminals 201b and the land electrodes 204b are arranged at a constant pitch, which facilitates batch reflow of solder and facilitates mounting when mounting the resin-encapsulated semiconductor device. is there.

(その他の実施形態)
図11(a),(b)は、それぞれ順に、本発明の第2の実施形態の変形例に係るリードフレームの平面図、及び図11(a)のXIB−XIB線における断面図である。図11(a)は、多数の半導体チップを搭載する領域が碁盤目状に連続して設けられているリードフレームLF2の一部、つまり、1つの半導体チップを搭載する領域だけを抜き出して示している。リードフレームLF3は、銅合金板をエッチング,打ち抜きプレス等によって加工して得られるものである。
(Other embodiments)
FIGS. 11A and 11B are a plan view of a lead frame according to a modification of the second embodiment of the present invention and a cross-sectional view taken along line XIB-XIB in FIG. 11A, respectively. FIG. 11A shows a part of the lead frame LF2 in which a plurality of semiconductor chip mounting regions are continuously provided in a grid pattern, that is, only a region for mounting one semiconductor chip. Yes. The lead frame LF3 is obtained by processing a copper alloy plate by etching, punching press or the like.

図11(a),(b)に示すように、本変形例のリードフレームLF3は、チップ搭載領域Rtpを囲む,4つの辺からなる矩形状の外枠300と、チップ搭載領域Rtpの中央部に設けられた半導体チップ搭載用のダイパッド301と、外枠300から延びてダイパッド301につながるリード302と、補強用ランド303と、ダイパッド301の外周部に設けられリード302につながる放熱端子301bとを備えている。   As shown in FIGS. 11A and 11B, the lead frame LF3 of the present modification includes a rectangular outer frame 300 having four sides surrounding the chip mounting area Rtp, and a central portion of the chip mounting area Rtp. A die pad 301 for mounting a semiconductor chip, a lead 302 extending from the outer frame 300 and connected to the die pad 301, a reinforcing land 303, and a heat dissipation terminal 301 b provided on the outer periphery of the die pad 301 and connected to the lead 302. I have.

本変形例のリード302は、広幅(例えば、20μmから120μm)かつ厚肉(例えば、20μmから120μm)の島部304と、細幅(例えば、15μmから100μm)かつ薄肉(例えば、15μmから100μm)の連結部305とを交互に配置して構成されている。島部304の上面は、金属細線が接続されるボンディングパッド304aとして機能する。また、半導体チップをリードフレームLF3上に実装する工程において、島部304の下面が接着層を有する封止シートに固定された状態で樹脂封止され、その最下部が樹脂封止後に封止樹脂の裏面から下方に突出したランド電極304bとして機能する。連結部305は、外枠300と島部304との間,島部304同士の間,及び島部304とダイパッド301の放熱端子301bとの間をそれぞれ接続している。連結部305は、金型によるプレス加工またはエッチング加工によりその下部が欠如しており、半導体チップをリードフレームLF3上に実装する工程において封止樹脂内に埋め込まれる。連結部305は、島部304の上部と連続していて、連結部305の上面は島部304の上面と共通の平面を構成している。   The lead 302 of this modification has an island 304 having a wide width (for example, 20 μm to 120 μm) and a thick wall (for example, 20 μm to 120 μm), and a thin width (for example, 15 μm to 100 μm) and a thin wall (for example, 15 μm to 100 μm). The connecting portions 305 are alternately arranged. The upper surface of the island part 304 functions as a bonding pad 304a to which a thin metal wire is connected. Further, in the process of mounting the semiconductor chip on the lead frame LF3, resin sealing is performed with the lower surface of the island 304 fixed to a sealing sheet having an adhesive layer, and the lowermost part is sealed with resin after sealing It functions as a land electrode 304b that protrudes downward from the back surface. The connecting part 305 connects between the outer frame 300 and the island part 304, between the island parts 304, and between the island part 304 and the heat dissipation terminal 301 b of the die pad 301. The lower part of the connecting part 305 is lacking due to press working or etching with a metal mold, and is embedded in the sealing resin in the process of mounting the semiconductor chip on the lead frame LF3. The connecting portion 305 is continuous with the upper portion of the island portion 304, and the upper surface of the connecting portion 305 forms a common plane with the upper surface of the island portion 304.

ここで、本変形例のリードフレームLF3においては、樹脂封止工程の際に、吊りリードとして機能するリードが存在する。すなわち、本変形例のリードフレームLF3においては、第2の実施形態のリードフレームLF2とは異なり、コーナー部付近において、ダイパッド301に直接接続される吊りリード309が設けられている。したがって、第2の実施形態のごとく、隣接する他の辺から延びるリードに連結されているリードは存在しない。そして、コーナー部に配置されたリード302x(又は302y)には、当該リード302x(又は302y)が接続される外枠300の一辺と同じ辺から延びる他のリード302x(又は302y)が接続されている。   Here, in the lead frame LF3 of the present modification, there is a lead that functions as a suspension lead during the resin sealing step. In other words, unlike the lead frame LF2 of the second embodiment, the lead frame LF3 of the present modification is provided with a suspension lead 309 that is directly connected to the die pad 301 in the vicinity of the corner portion. Therefore, unlike the second embodiment, there is no lead connected to a lead extending from another adjacent side. The lead 302x (or 302y) arranged at the corner is connected to another lead 302x (or 302y) extending from the same side as one side of the outer frame 300 to which the lead 302x (or 302y) is connected. Yes.

本変形例のリードフレームLF3においても、外枠300に近いコーナー部において、島部304よりも遙かに大面積(例えば、径300μmから1500μm)の補強用ランド303が設けられている。   Also in the lead frame LF3 of this modification, a reinforcing land 303 having a larger area (for example, a diameter of 300 μm to 1500 μm) than the island portion 304 is provided at a corner portion close to the outer frame 300.

本変形例によると、第2の実施形態と同様に、放熱端子301bの存在による放熱性の向上効果と、ランド電極304bの高密度配置効果とを発揮することができる。ただし、吊りリード309が存在することにより、ランド電極304bの高密度配置効果は第2の実施形態よりは劣るが、リード302の切断工程におけるダイパッド301の保持安定性は、第2の実施形態よりも優れている。   According to this modification, as in the second embodiment, the effect of improving heat dissipation due to the presence of the heat radiating terminal 301b and the effect of arranging the high density of the land electrodes 304b can be exhibited. However, the presence of the suspension leads 309 causes the high density arrangement effect of the land electrodes 304b to be inferior to that of the second embodiment, but the holding stability of the die pad 301 in the cutting process of the leads 302 is higher than that of the second embodiment. Is also excellent.

なお、第1の実施形態,第2の実施形態及びその変形例において、相隣接するリードの島部同士を接続する連結部を設けてもよい。その場合には、各島部が縦横いずれの方向にも格子状に連結されるので、リードが切断されるまでは、リードフレームの形状を安定に保持する機能が向上する。   In the first embodiment, the second embodiment, and modifications thereof, a connecting portion that connects island portions of adjacent leads may be provided. In this case, since the island portions are connected in a lattice shape in both the vertical and horizontal directions, the function of stably maintaining the shape of the lead frame is improved until the leads are cut.

本発明のリードフレーム及び樹脂封止型半導体装置は、パーソナルコンピュータ,家電,通信用機器などに搭載される電子部品として利用することができる。   The lead frame and the resin-encapsulated semiconductor device of the present invention can be used as electronic components mounted on personal computers, home appliances, communication devices, and the like.

(a),(b)は、それぞれ順に、本発明の第1の実施形態に係るリードフレームの平面図、及びIB−IB線における断面図である。(A), (b) is the top view of the lead frame which concerns on the 1st Embodiment of this invention, respectively, and sectional drawing in the IB-IB line, respectively. (a),(b)は、第1の実施形態の樹脂封止型半導体装置の製造工程のうちダイパッドの中央部をアップセットする工程を示す平面図及びIIB−IIB線における断面図である。(A), (b) is the top view which shows the process of upsetting the center part of a die pad among the manufacturing processes of the resin-encapsulated semiconductor device of 1st Embodiment, and sectional drawing in the IIB-IIB line | wire. (a),(b)は、第1の実施形態の樹脂封止型半導体装置の製造工程のうちのリードフレームを封止シート上に載置する工程を示す平面図及びIIIB−IIIB線における断面図である。(A), (b) is the top view which shows the process of mounting the lead frame on a sealing sheet among the manufacturing processes of the resin-encapsulated semiconductor device of 1st Embodiment, and the cross section in a IIIB-IIIB line | wire FIG. (a),(b)は、第1の実施形態の樹脂封止型半導体装置の製造工程のうちリードを分断する工程を示す平面図及びIVB−IVB線における断面図である。(A), (b) is the top view which shows the process of parting a lead | read | reed among the manufacturing processes of the resin-encapsulated semiconductor device of 1st Embodiment, and sectional drawing in the IVB-IVB line | wire. 第1の実施形態の樹脂封止型半導体装置の製造工程のうち樹脂封止工程を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view showing a resin sealing process among manufacturing processes of a resin sealing type semiconductor device of a 1st embodiment. (a),(b)は、第1の実施形態の樹脂封止型半導体装置の樹脂封止工程終了後における構造を示すVIA−VIA線における断面図及び裏面図である。(A), (b) is sectional drawing and the back view in the VIA-VIA line | wire which show the structure after the resin sealing process of the resin sealing type semiconductor device of 1st Embodiment after completion | finish. (a),(b)は、それぞれ順に、本発明の第2の実施形態に係るリードフレームの平面図、及びIIB−VIIB線における断面図である。(A), (b) is a top view of a lead frame concerning a 2nd embodiment of the present invention, and a sectional view in IIB-VIIB line, respectively, in order. (a),(b)は、第2の実施形態の樹脂封止型半導体装置の製造工程のうちダイパッドの中央部をアップセットしてリードフレームを封止シート上に載置する工程を示す平面図及びVIIIB−VIIIB線における断面図である。(A), (b) is the plane which shows the process of upsetting the center part of a die pad and mounting a lead frame on a sealing sheet among the manufacturing processes of the resin-encapsulated semiconductor device of the second embodiment. It is sectional drawing in a figure and a VIIIB-VIIIB line. (a),(b)は、第2の実施形態の樹脂封止型半導体装置の製造工程のうちリードを分断する工程を示す平面図及びIXB-IXB線における断面図である。(A), (b) is the top view which shows the process of dividing a lead among the manufacturing processes of the resin-encapsulated semiconductor device of 2nd Embodiment, and sectional drawing in the IXB-IXB line | wire. (a),(b)は、第2の実施形態の樹脂封止型半導体装置の樹脂封止工程終了後における構造を示すXA−XA線における断面図及び裏面図である。(A), (b) is sectional drawing and the back view in the XA-XA line | wire which show the structure after completion | finish of the resin sealing process of the resin sealing type semiconductor device of 2nd Embodiment. (a),(b)は、それぞれ順に、本発明の第2の実施形態の変形例に係るリードフレームの平面図、及びXIB−XIB線における断面図である。(A), (b) is the top view of the lead frame which concerns on the modification of the 2nd Embodiment of this invention, respectively, and sectional drawing in a XIB-XIB line | wire, respectively. 従来の樹脂封止型半導体装置に用いられるリードフレームの構造を示す図である。It is a figure which shows the structure of the lead frame used for the conventional resin-encapsulated semiconductor device.

符号の説明Explanation of symbols

100,200 外枠
101,201 ダイパッド
101a,201a 突出部
201b 放熱端子
201c 薄膜部
102,202 リード
103,203 補強用ランド
104,204 島部
104a,204a ボンディングパッド
104b,204b ランド電極(外部端子)
105,205 連結部
150,250 封止シート
160,260 半導体チップ
170,270 金属細線(接続部材)
180a 上型
180b 下型
190,290 封止樹脂
100, 200 Outer frame 101, 201 Die pad 101a, 201a Protruding part 201b Radiation terminal 201c Thin film part 102, 202 Lead 103, 203 Reinforcing land 104, 204 Island part 104a, 204a Bonding pad 104b, 204b Land electrode (external terminal)
105,205 Connecting portion 150,250 Sealing sheet 160,260 Semiconductor chip 170,270 Metal fine wire (connection member)
180a Upper mold 180b Lower mold 190,290 Sealing resin

Claims (13)

複数の辺によって半導体チップを搭載する領域を囲む外枠と、
上記半導体チップを搭載するためのダイパッドと、
上面が金属細線を接続するためのボンディングパッドとなり最下部が外部端子となる島部と、上記島部よりも薄くなるように下部が欠如して、上記外枠と上記島部との間,上記島部同士の間,及び上記島部と上記ダイパッドとの間をそれぞれ接続する複数の連結部と、をそれぞれ有している複数のリードと、
上記外枠のコーナー部に形成され、上記連結部を介して上記外枠と接続され且つ上記島部よりも面積が大きいランドとを備え、
上記ダイパッドと上記外枠とは、直接吊りリードで接続されるのを避けて、上記島部と上記連結部を介して接続されている,リードフレーム。
An outer frame that encloses an area for mounting a semiconductor chip by a plurality of sides;
A die pad for mounting the semiconductor chip;
The upper surface is a bonding pad for connecting a thin metal wire and the lowermost portion is an external terminal, and the lower portion is lacking so as to be thinner than the island portion, and between the outer frame and the island portion, A plurality of leads each having a plurality of connecting portions connecting between the island portions and between the island portion and the die pad;
A land formed at a corner of the outer frame, connected to the outer frame via the connecting portion, and having a larger area than the island;
The lead frame, wherein the die pad and the outer frame are connected via the connecting portion and the island portion, avoiding being directly connected by suspension leads.
請求項1記載のリードフレームにおいて、
上記各島部の最下部は、実質的に同一の平面形状を有していて、格子状に配置されている,リードフレーム。
The lead frame according to claim 1, wherein
The lowermost part of each said island part has the substantially same planar shape, and is arrange | positioned at the grid | lattice form.
請求項1又は2記載のリードフレームにおいて、
上記各島部の最下部は、上記外枠の各辺に沿って3列以上の複数列に配置されている,リードフレーム。
The lead frame according to claim 1 or 2,
The lowermost portion of each island is a lead frame arranged in a plurality of rows of three or more along each side of the outer frame.
請求項1〜3のうちいずれか1つに記載のリードフレームにおいて、
上記複数のリードには、当該リードが接続される上記外枠の1つの辺に隣接する他の辺に接続されている他のリードに接続されるリードが含まれている,リードフレーム。
The lead frame according to any one of claims 1 to 3,
The lead frame includes a lead connected to another lead connected to another side adjacent to one side of the outer frame to which the lead is connected.
請求項1記載のリードフレームにおいて、  The lead frame according to claim 1, wherein
ダイパッドは、本体部の外周部に沿って設けられ下部が欠如した薄膜部と、上記薄膜部の下面から下方に突出する複数の放熱端子とを有し、  The die pad has a thin film portion that is provided along the outer peripheral portion of the main body portion and lacks a lower portion, and a plurality of heat dissipation terminals that protrude downward from the lower surface of the thin film portion,
上記島部と上記ダイパッドとは、上記島部と上記放熱端子とが上記連結部によって接続されることにより接続されている,リードフレーム。  The lead part, wherein the island part and the die pad are connected by connecting the island part and the heat dissipating terminal by the connecting part.
ダイパッドと、
上記ダイパッド上に搭載された半導体チップと、
上記ダイパッドとは切り離されて、上面が金属細線を接続するためのボンディングパッ
ドであり、最下部が外部端子である島部と、
上記半導体チップの各一部と上記各ボンディングパッドとを互いに接続する複数の接続部材と、
コーナー部に形成された、上記島部よりも面積が大きいランドと、
上記島部及び上記ランドの最下部と上記ダイパッドの底面の少なくとも一部とを露出させた状態で、上記半導体チップ,上記接続部材,上記島部,上記ランド及び上記ダイパッドを封止する封止樹脂とを備え、
上記ダイパッドから延びて、先端部が上記封止樹脂の表面に露出する部材は設けられていない,樹脂封止型半導体装置。
Die pad,
A semiconductor chip mounted on the die pad;
It is separated from the die pad, the upper surface is a bonding pad for connecting a thin metal wire, and the lowermost part is an island that is an external terminal,
A plurality of connecting members for connecting each part of the semiconductor chip and the bonding pads to each other;
A land formed in a corner portion and having a larger area than the island portion,
Sealing resin for sealing the semiconductor chip, the connecting member, the island part, the land, and the die pad in a state where the lowermost part of the island part and the land and at least a part of the bottom surface of the die pad are exposed. And
A resin-encapsulated semiconductor device in which a member extending from the die pad and having a tip exposed on the surface of the encapsulating resin is not provided.
請求項記載の樹脂封止型半導体装置において、
上記各外部端子は、実質的に同一の平面形状を有していて、上記封止樹脂の裏面に格子状に配置されている,樹脂封止型半導体装置。
The resin-encapsulated semiconductor device according to claim 6 ,
Each of the external terminals has a substantially same planar shape, and is arranged in a grid pattern on the back surface of the sealing resin.
請求項6又は7記載の樹脂封止型半導体装置において、
上記各外部端子は、外周に沿って上記封止樹脂の裏面に3列以上の複数列に配置されている,樹脂封止型半導体装置。
The resin-encapsulated semiconductor device according to claim 6 or 7 ,
Each of the external terminals is a resin-encapsulated semiconductor device arranged in a plurality of rows of three or more on the back surface of the sealing resin along the outer periphery.
請求項6記載の樹脂封止型半導体装置において、  The resin-encapsulated semiconductor device according to claim 6,
ダイパッドは、本体部の外周部に沿って設けられ下部が欠如した薄膜部と、上記薄膜部の下面から下方に突出する複数の放熱端子とを有する,樹脂封止型半導体装置。  The die pad is a resin-encapsulated semiconductor device having a thin film portion provided along the outer peripheral portion of the main body portion and lacking a lower portion, and a plurality of heat radiating terminals protruding downward from the lower surface of the thin film portion.
複数の辺によって半導体チップを搭載する領域を囲む外枠と、上記半導体チップを搭載するためのダイパッドと、上面が金属細線を接続するためのボンディングパッドであり最下部が外部端子である島部と、上記島部よりも薄くなるように下部が欠如して、上記外枠と上記島部との間,上記島部同士の間,及び上記島部と上記ダイパッドとの間をそれぞれ接続する複数の連結部とを有している複数のリードと、上記外枠のコーナー部に形成され、上記連結部を介して上記外枠と接続され且つ上記島部よりも面積が大きいランドとを備え、上記ダイパッドと上記外枠とは、直接吊りリードで接続されるのを避けて、上記島部と上記連結部を介して接続されているリードフレームを準備する工程(a)と、
上記リードフレームの上記ダイパッドの上に半導体チップを搭載する工程(b)と、
上記工程(b)の前又は後に、上記リードフレームを、接着力を有する封止シートの上に載置する工程(c)と、
上記工程(c)の後に、上記リードフレームを封止シート上に載置した状態で、上記各連結部を切断して、上記島部及び上記ダイパッドを上記外枠から切り離す工程(d)と、
上記工程(d)の後に、上記半導体チップの一部と上記ボンディングパッドとを接続部材によって接続する工程(e)と、
上記工程(e)の後に、上記リードフレームを上記封止シートに載置した状態で、樹脂封止を行なう工程(f)と
を含む樹脂封止型半導体装置の製造方法。
An outer frame surrounding a region for mounting a semiconductor chip by a plurality of sides, a die pad for mounting the semiconductor chip, an island portion whose upper surface is a bonding pad for connecting a thin metal wire, and whose lowermost portion is an external terminal; A plurality of portions, each having a lower portion so as to be thinner than the island, and connecting the outer frame and the island, between the islands, and between the island and the die pad. A plurality of leads having a connecting portion; and a land formed at a corner portion of the outer frame, connected to the outer frame through the connecting portion, and having a larger area than the island portion, The step (a) of preparing the lead frame connected to the island portion and the connecting portion by avoiding the die pad and the outer frame being directly connected by the suspension lead;
A step (b) of mounting a semiconductor chip on the die pad of the lead frame;
Before or after the step (b), the step (c) of placing the lead frame on a sealing sheet having an adhesive force;
After the step (c), in a state where the lead frame is placed on the sealing sheet, the step of cutting the connecting portions to separate the island portion and the die pad from the outer frame;
After the step (d), a step (e) of connecting a part of the semiconductor chip and the bonding pad by a connecting member;
After the step (e), a method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device, including a step (f) of resin-sealing in a state where the lead frame is placed on the sealing sheet.
請求項10記載の樹脂封止型半導体装置の製造方法において、
上記工程(f)の後には、上記ダイパッドに接続され先端が上記封止樹脂の表面に露出する部材が存在しない,樹脂封止型半導体装置の製造方法。
In the manufacturing method of the resin-sealed semiconductor device according to claim 10 ,
After the step (f), there is no member that is connected to the die pad and whose tip is exposed on the surface of the sealing resin.
請求項10又は11記載の樹脂封止型半導体装置の製造方法において、
上記工程(a)で準備されるリードフレームの上記複数のリードには、当該リードが接続される上記外枠の1つの辺に隣接する他の辺に接続されている他のリードに接続されるリードが含まれる,樹脂封止型半導体装置の製造方法。
In the manufacturing method of the resin-sealed semiconductor device according to claim 10 or 11 ,
The plurality of leads of the lead frame prepared in the step (a) are connected to other leads connected to other sides adjacent to one side of the outer frame to which the leads are connected. A method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device including a lead.
請求項10記載の樹脂封止型半導体装置の製造方法において、  In the manufacturing method of the resin-sealed semiconductor device according to claim 10,
ダイパッドは、本体部の外周部に沿って設けられ下部が欠如した薄膜部と、上記薄膜部の下面から下方に突出する複数の放熱端子とを有し、  The die pad has a thin film portion that is provided along the outer peripheral portion of the main body portion and lacks a lower portion, and a plurality of heat dissipation terminals that protrude downward from the lower surface of the thin film portion,
上記島部と上記ダイパッドとは、上記島部と上記放熱端子とが上記連結部によって接続されることにより接続されている,樹脂封止型半導体装置の製造方法。  The method of manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device, wherein the island part and the die pad are connected by connecting the island part and the heat radiating terminal by the connecting part.
JP2003355983A 2002-10-24 2003-10-16 Lead frame, resin-encapsulated semiconductor device and manufacturing method thereof Expired - Fee Related JP3699966B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003355983A JP3699966B2 (en) 2002-10-24 2003-10-16 Lead frame, resin-encapsulated semiconductor device and manufacturing method thereof

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002309324 2002-10-24
JP2002309320 2002-10-24
JP2003355983A JP3699966B2 (en) 2002-10-24 2003-10-16 Lead frame, resin-encapsulated semiconductor device and manufacturing method thereof

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005163183A Division JP4248528B2 (en) 2002-10-24 2005-06-02 Lead frame and resin-sealed semiconductor device manufacturing method using the lead frame

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2004165646A JP2004165646A (en) 2004-06-10
JP3699966B2 true JP3699966B2 (en) 2005-09-28

Family

ID=32830602

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003355983A Expired - Fee Related JP3699966B2 (en) 2002-10-24 2003-10-16 Lead frame, resin-encapsulated semiconductor device and manufacturing method thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3699966B2 (en)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4635471B2 (en) * 2004-04-22 2011-02-23 ソニー株式会社 Semiconductor device and manufacturing method thereof, mounting structure of semiconductor device, and lead frame
JP2006108306A (en) * 2004-10-04 2006-04-20 Yamaha Corp Lead frame and semiconductor package using the same
JP2008078323A (en) * 2006-09-20 2008-04-03 Yamaha Corp Surface mount semiconductor package
TWI779956B (en) * 2021-12-08 2022-10-01 南茂科技股份有限公司 Heat dissipating sheet and chip on film package structure

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6234441U (en) * 1985-08-15 1987-02-28
JP3292082B2 (en) * 1997-03-10 2002-06-17 松下電器産業株式会社 Terminal land frame and method of manufacturing resin-encapsulated semiconductor device using the same
JPH11111771A (en) * 1997-10-07 1999-04-23 Matsushita Electric Ind Co Ltd Wiring board connection method, carrier board and wiring board
US6281568B1 (en) * 1998-10-21 2001-08-28 Amkor Technology, Inc. Plastic integrated circuit device package and leadframe having partially undercut leads and die pad
JP3449266B2 (en) * 1998-12-18 2003-09-22 松下電器産業株式会社 Method for manufacturing resin-encapsulated semiconductor device
JP3500362B2 (en) * 2001-02-14 2004-02-23 松下電器産業株式会社 Resin-sealed semiconductor device and method of manufacturing the same

Also Published As

Publication number Publication date
JP2004165646A (en) 2004-06-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101019369B1 (en) Lead frame, resin encapsulated semiconductor device and manufacturing method thereof
US6642609B1 (en) Leadframe for a semiconductor device having leads with land electrodes
US6909168B2 (en) Resin encapsulation semiconductor device utilizing grooved leads and die pad
JP3046024B1 (en) Lead frame and method of manufacturing resin-encapsulated semiconductor device using the same
JP4417150B2 (en) Semiconductor device
JP2001210743A (en) Semiconductor device and manufacturing method thereof
JP2009094118A (en) Lead frame, electronic component including the same, and manufacturing method thereof
JP3470111B2 (en) Method for manufacturing resin-encapsulated semiconductor device
JP3072291B1 (en) Lead frame, resin-encapsulated semiconductor device using the same and method of manufacturing the same
TW201901899A (en) Lead frame and method of manufacturing same
JP3699966B2 (en) Lead frame, resin-encapsulated semiconductor device and manufacturing method thereof
JP5499437B2 (en) Mold package
JP4248528B2 (en) Lead frame and resin-sealed semiconductor device manufacturing method using the lead frame
JP4255842B2 (en) Semiconductor device
JP2005116687A (en) Lead frame, semiconductor device, and method of manufacturing semiconductor device
JP2001077275A (en) Lead frame and method of manufacturing resin-encapsulated semiconductor device using the same
JP2009088418A (en) Semiconductor device, semiconductor module, and semiconductor device manufacturing method
JP2005223005A (en) Semiconductor device
JP2000216280A (en) TERMINAL LAND FRAME, ITS MANUFACTURING METHOD, RESIN-ENCLOSED SEMICONDUCTOR DEVICE, AND ITS MANUFACTURING METHOD
JP2006032773A (en) Semiconductor device
JP2003007953A (en) Resin-sealed semiconductor device and method of manufacturing the same
JP2002026181A (en) Resin-sealed semiconductor device and method of manufacturing the same
JP2001077273A (en) Lead frame and method of manufacturing resin-encapsulated semiconductor device using the same
JP2001077271A (en) Lead frame and method of manufacturing resin-encapsulated semiconductor device using the same
JP2006186229A (en) Lead frame and semiconductor device using the same

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20041222

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050111

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050311

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050405

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050602

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20050628

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20050711

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 3699966

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090715

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090715

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100715

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110715

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110715

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120715

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120715

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130715

Year of fee payment: 8

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees