JP3701068B2 - Semiconductor memory device - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体記憶装置に関し、特に、ウエハプロセス完了後にメモリ容量を変えることのできる半導体記憶装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
図28は、ウエハ上に形成された従来の半導体記憶装置を示す概略図である。
【0003】
図28を参照して、ダイシングライン697に囲まれた四角の領域が、4Mビットの容量を持つ半導体記憶装置699である。図28からもわかるように、ウエハ695には、複数の4Mビットの半導体記憶装置699が形成されている。
【0004】
図29は、図28のウエハ695上に形成された従来の複数の半導体記憶装置699のうちの1つを拡大した図である。なお、図28と同様の部分については同一の参照符号を付しその説明を適宜省略する。
【0005】
図29を参照して、従来の半導体記憶装置699は、ダイシングライン697に囲まれた領域に形成されている。この従来の半導体記憶装置699は、複数のパッド701、アドレスバッファブロック705、デコーダ711、センスアンプブロック707、出力バッファブロック709、複数のパッド703および1MビットのメモリセルマトリックスM1,M2,M3,M4を含んでいる。
【0006】
アドレスバッファブロック705は、図示しないが、複数のパッド701に対応した複数のアドレスバッファを含んでいる。出力バッファブロック709は、図示しないが、複数のパッド703に対応した複数の出力バッファを含んでいる。センスアンプブロック707は、図示しないが、複数の出力バッファに対応した複数のセンスアンプを含む。
【0007】
複数のパッド701は、外部からの複数のアドレス信号を受ける。アドレスバッファブロック705は、複数のパッド701からの複数のアドレス信号を受ける。メモリセルマトリックスM1,M2,M3,M4は、各々、情報を記憶するための複数のメモリセルを含む。デコーダ711は、アドレスバッファ705からのアドレス信号を受けて、複数のメモリセルの中から1つのメモリセルを選択するためのものである。
【0008】
センスアンプブロック707に含まれるセンスアンプは、メモリセルからの微小な信号を増幅するためのものである。出力バッファブロック709に含まれる出力バッファは、センスアンプによって増幅された信号を受け、外部に出力するためのものである。出力バッファからの信号は、パッド703を介して、外部に出力される。
【0009】
製品に組立てる際に、すなわち、アセンブリの際に、図28のウエハ695を、ダイシングライン697に沿って切断する。ここで、図29の半導体記憶装置を切断後の半導体記憶装置とする。図29の切断後の半導体記憶装置のパッドと、図示しないリードフレームとをワイヤで接続する。このようにして、1Mビット×4=4Mビットで動作する製品が複数作られることになる。
【0010】
このように、ウエハプロセスの完了後、ウエハ695のダイシングライン697を切断してできる製品は、1種類の製品だけである。すなわち、1つのウエハ695からは、1種類の製品が作られる。
【0011】
また、従来は、製品の種類ごとに(半導体記憶装置の種類ごとに)設計を行ない、マスクを作製して、ウエハプロセスを行なう。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】
半導体記憶装置の構成を図29のようにする限り、1つのウエハ695からは1種類の製品しか得ることができず、メモリ容量や機能が異なる複数種類の製品を作るときには、独立した設計およびウエハプロセスが必要となる。
【0013】
このため、半導体記憶装置の設計期間や試作期間が長くなるとともに、開発コストが大きくなるという問題点があった。
【0014】
また、半導体記憶装置の構成を図29のようにする限り、冗長機能(リダンダンシー)で救済できないメモリセルが出てきた半導体記憶装置(製品)については、不良品として捨てることになる。この不良品として捨てることになる確率は、大容量の半導体記憶装置(製品)になるほど大きくなり、1枚のウエハで数個の良品しかとれない場合もある。すなわち、1枚のウエハに対応する製品が1種類のため、不良メモリセルが多く救済できない半導体記憶装置(製品)は捨てることになる。
【0015】
このため、製造コストが高くなるという問題点があった。
また、救済できない不良メモリセルを有する半導体記憶装置(製品)であっても、たとえば、半導体記憶装置(製品)が4Mビットであった場合、そのうちの1Mビットや2Mビットは動作する場合もある。
【0016】
このため、正常なメモリセルがたくさんあるにもかかわらず、不良品として、捨てるのは、経済的効率が悪いという問題点があった。
【0017】
なお、冗長機能(リダンダンシー)とは、不良メモリセルを、予備のメモリセルに置換える機能のことをいう。
【0018】
この発明は、以上のような問題を解決するためになされたもので、半導体記憶装置の設計期間および試作期間を短縮することができるとともに、開発コストを小さくすることのできる半導体記憶装置を提供することを目的とする。
【0019】
この発明の他の目的は、製造コストを小さくすることのできる半導体記憶装置を提供することである。
【0020】
【課題を解決するための手段】
この発明に係る半導体記憶装置は、第1の記憶装置、第2の記憶装置および選択手段を備える。第1および第2の記憶装置は、情報の読出または書込を行なう。
【0021】
第1の記憶装置は、第1のバッファブロック、第2のバッファブロック、第1のパッドブロックおよび第2のパッドブロックを含む。第1のバッファブロックは、複数の第1の信号の授受を行なうための複数の第1のバッファを含む。第2のバッファブロックは、第2の信号の授受を行なうための第2のバッファを含む。
【0022】
第1のパッドブロックは、複数の第1のバッファに接続され、外部に対して、複数の第1の信号の授受を行なうための複数の第1のパッドを含む。第2のパッドブロックは、第2のバッファに接続され、外部に対して、第2の信号の授受を行なうための第2のパッドを含む。
【0023】
第2の記憶装置は、第3のバッファブロック、第4のバッファブロック、第3のパッドブロックおよび第4のパッドブロックを含む。第3のバッファブロックは、複数の第3の信号の授受を行なうための複数の第3のバッファを含む。第4のバッファブロックは、第4の信号の授受を行なうための第4のバッファを含む。
【0024】
第3のパッドブロックは、複数の第3のバッファに接続され、外部に対して、複数の第3の信号の授受を行なうための複数の第3のパッドを含む。第4のパッドブロックは、第4のバッファに接続され、外部に対して、第4の信号の授受を行なうための第4のパッドを含む。
【0025】
第1および第2の記憶装置を別々の記憶装置としてアセンブリを行なう場合は(以下、「第1の態様」という)、第1の記憶装置と、第2の記憶装置との間を切断する。
【0026】
第1および第2の記憶装置を1つの記憶装置としてアセンブリを行ない、使用する場合は(以下、「第2の態様」という)、第2のバッファおよび第4のバッファは、対応する第3のパッドに接続される。第2の態様の場合には、対応する第3のパッドは、第2の信号および第4の信号の授受に用いられる。第2の態様の場合には、複数の第1の信号および複数の第3の信号の授受には、複数の第1のバッファおよび複数の第1のパッドが用いられる。
【0027】
選択手段は、第3のパッドを、第2の信号または第4の信号のいずれのために用いるかを選択する。この選択手段は、第2の態様の場合に用いられる。
【0028】
第2の態様の場合に、外部からの選択信号により、第1の記憶装置が選択されたときには、複数の第1のパッドは、複数の第1の信号の授受のために用いられる。選択信号により第2の記憶装置が選択されたときには、複数の第1のパッドは、複数の第3の信号の授受のために用いられる。
【0029】
以上のように、この発明に係る半導体記憶装置においては、第1の記憶装置と第2の記憶装置とを別々の記憶装置としてアセンブリを行なうこともできるし、第1の記憶装置と第2の記憶装置とを1つの記憶装置としてアセンブリを行なうこともできる。すなわち、この発明に係る半導体記憶装置をウエハ上に形成する場合には、アセンブリの際に、記憶容量を可変にできる。
【0030】
このため、この発明に係る半導体記憶装置においては、1枚のウエハから、複数の製品を製造することができ、設計期間および試作期間の短縮を図ることができるとともに、開発コストを小さくすることができる。
【0031】
また、半導体記憶装置が全体として不良品であっても、第1の記憶装置あるいは第2の記憶装置のいずれかが良品の場合は、良品である第1の記憶装置あるいは第2の記憶装置のいずれかを製品化することができる。このため、半導体記憶装置全体を不良品であるとして捨てる必要はなく、製造コストを小さくすることができる。
【0032】
【発明の実施の形態】
以下、本発明による半導体記憶装置について、図面を参照しながら説明する。
【0033】
(実施の形態1)
図1は、本発明の実施の形態1による半導体記憶装置を示す概略ブロック図である。なお、図1の半導体記憶装置は、ウエハ上に形成されており、ウエハをダイシングラインに沿って切断する前のものである。すなわち、図1の半導体記憶装置は、アセンブリ前のものである。このような図1に示す半導体記憶装置を、「基礎チップ」と呼ぶこともある。
【0034】
図1を参照して、実施の形態1による半導体記憶装置は、第1の記憶装置100、第2の記憶装置200、第3の記憶装置300および第4の記憶装置400を含む。第1の記憶装置100は、ダイシングライン1,17,23,15に囲まれた領域に形成される。第1の記憶装置100は、複数のパッド101、2つのパッド103、アドレスバッファブロック105、1MビットのメモリセルマトリックスM1、デコーダ107、センスアンプブロック109、出力バッファブロック111、複数のヒューズ115および複数のパッド113を含む。
【0035】
アドレスバッファブロック105には、図示しない複数のアドレスバッファが含まれている。この複数のアドレスバッファは、複数のパッド101および2つのパッド103に接続される。出力バッファブロック111は、図示しない複数の出力バッファを含む。この複数の出力バッファは、複数のヒューズ115を介して、複数のパッド113と接続される。センスアンプブロック109は、複数のセンスアンプ(差動増幅器)を含む。
【0036】
なお、複数のパッド101,103、アドレスバッファブロック105に含まれる複数のアドレスバッファ、複数のパッド113および出力バッファブロック111に含まれる複数の出力バッファは、すべて、同じ方向に配置される。さらに、複数のパッド101,103と、アドレスバッファブロック105に含まれる複数のアドレスバッファとは近接している。複数のパッド113と、アドレスバッファブロック111に含まれる複数の出力バッファとは近接している。
【0037】
第2の記憶装置200は、ダイシングライン23、19、11、13に囲まれた領域に形成される。第2の記憶装置200が、第1の記憶装置100と異なるのは以下の点である。
【0038】
第2の記憶装置200には、第1の記憶装置100の2つのパッド103およびそれに対応する2つのアドレスバッファに対応するパッドおよびアドレスバッファがない。また、第2の記憶装置200のパッド201は、ヒューズ217を介してアドレスバッファブロック205に接続されているのに対し、パッド201に対応する第1の記憶装置のパッド101はアドレスバッファブロック105と直接接続されている点で異なっている。また、第2の記憶装置200のパッド201にはヒューズ219が接続されているのに対し、パッド201に対応する第1の記憶装置100のパッド101にはヒューズが接続されていない点で異なっている。
【0039】
また、出力バッファブロック111の1つの出力バッファ、出力バッファブロック211の1つの出力バッファ、出力バッファブロック311の1つの出力バッファおよび出力バッファブロック411の1つの出力バッファが、第2の記憶装置200の1つのヒューズ219を介して1つのパッド201に接続されているのに対し、パッド201に対応する第1の記憶装置100のパッド101に対してはこのような接続がされていない点で異なっている。この接続について、例を挙げて、詳しく説明する。
【0040】
まず、第1の記憶装置100、第2の記憶装置200、第3の記憶装置300および第4の記憶装置400の各々が、4つのデータ入出力線対を備えているとする。この場合には、センスアンプブロック109,209,309,409の各々に含まれるセンスアンプは4つである。出力バッファブロック111,211,311,411の各々に含まれる出力バッファも4つである。ヒューズ115,215,315,415の各々も4つある。また、パッド113,213,313,413の各々も4つある。
【0041】
出力バッファブロック111の一番左の出力バッファ、出力バッファブロック211の一番左の出力バッファ、出力バッファブロック311の一番左の出力バッファおよび出力バッファブロック411の一番左の出力バッファは、一番左のパッド201にヒューズ219を介して接続される。
【0042】
出力バッファブロック111の左から2番目の出力バッファ、出力バッファブロック211の左から2番目の出力バッファ、出力バッファブロック311の左から2番目の出力バッファおよび出力バッファブロック411の左から2番目の出力バッファは、左から2番目のパッド201にヒューズ219を介して接続される。
【0043】
出力バッファブロック111の左から3番目の出力バッファ、出力バッファブロック211の左から3番目の出力バッファ、出力バッファブロック311の左から3番目の出力バッファおよび出力バッファブロック411の左から3番目の出力バッファは、左から3番目のパッド201にヒューズ219を介して接続される。
【0044】
出力バッファブロック111の左から4番目の出力バッファ、出力バッファブロック211の左から4番目の出力バッファ、出力バッファブロック311の左から4番目の出力バッファおよび出力バッファブロック411の左から4番目の出力バッファは、左から4番目のパッド201にヒューズ219を介して接続される。
【0045】
第3の記憶装置300は、ダイシングライン3、5、21、17に囲まれた領域に形成される。第3の記憶装置300が、第1の記憶装置100と異なるのは以下の点である。第3の記憶装置300には、第1の記憶装置100の2つのパッド103に相当するパッドがない。これ以外の点については、第3の記憶装置300は、第1の記憶装置100と同様である。
【0046】
第4の記憶装置400は、ダイシングライン21、7、9、19に囲まれた領域に形成される。第4の記憶装置400が、第2の記憶装置200と同様である。
【0047】
矢印A1,A2,A3,A4は、出力バッファブロック111,211,311,411に含まれる複数の出力バッファが、複数のヒューズ219または複数のヒューズ419に接続されることを示している。上述の例では、複数の出力バッファは、複数のヒューズ219に接続されたが、複数の出力バッファを、複数のヒューズ419に接続することもできる。
【0048】
次に、この半導体記憶装置の用い方および動作について説明する。
本実施の形態による半導体記憶装置は、第1の記憶装置100、第2の記憶装置200、第3の記憶装置300および第4の記憶装置400を分割して別々に製品化することもできるし、第1の記憶装置100、第2の記憶装置200、第3の記憶装置300および第4の記憶装置400を分割せずに製品化することもできる。
【0049】
ここで、第1の記憶装置100、第2の記憶装置200、第3の記憶装置300および第4の記憶装置400を分割して別々に製品化する場合の、第1の記憶装置100、第2の記憶装置200、第3の記憶装置300および第4の記憶装置400の各々を「分割チップ」と呼ぶことにする。
【0050】
第1の記憶装置100、第2の記憶装置200、第3の記憶装置300および第4の記憶装置400を分割せずに製品化する場合の半導体記憶装置を元チップ(ダイシングライン1〜15で囲まれた部分)と呼ぶすることにする。なお、元チップの場合において、第1の記憶装置に対応する部分(ダイシングライン1,17,23,15に囲まれた部分)を単位チップ100と呼ぶ場合もある。同様に、第2の記憶装置200、第3の記憶装置300および第4の記憶装置400の各々に対応する部分を、単位チップ200、単位チップ300および単位チップ400と呼ぶこともある。
【0051】
実施の形態1による半導体記憶装置に含まれる第1の記憶装置100、第2の記憶装置200、第3の記憶装置300および第4の記憶装置400を分割チップとする場合について説明する。すなわち、第1の記憶装置100、第2の記憶装置200、第3の記憶装置300および第4の記憶装置400を別々の記憶装置としてアセンブリ(組立作業)を行なう場合について説明する。
【0052】
基礎チップを、ダイシングライン1〜23に沿って切断する。こうすることで、基礎チップでは、基礎チップの中ほどに位置していたデコーダ107,207,307,407、センスアンプブロック109,209,309,409およびパッド113,213,313,413が、分割チップでは分割チップの端部に位置することになる。
【0053】
複数のヒューズ219および複数のヒューズ419は切断する。つまり、出力バッファブロック111,211,311,411は、複数のパッド201,401と接続されない。一方、出力バッファブロック111,211,311,411は、複数のパッド113,213,313,413と、ヒューズ115,215,315,415を介して接続されたままの状態である。アドレスバッファブロック205,405と複数のパッド201,401も、複数のヒューズ217,417を介して接続されたままである。また、2つのパッド103は、分割チップの場合は用いられない。
【0054】
第1の記憶装置100に対応する分割チップの動作について説明する。
アドレスバッファブロック105に含まれる複数のアドレスバッファは、複数のパッド101を介して、外部からアドレス信号を受ける。メモリセルマトリックスM1は、情報を記憶する複数のメモリセルを含む。デコーダ107は、アドレスバッファブロック105から、アドレス信号を受ける。そして、そのアドレス信号に基づいて、メモリセルマトリックスM1に含まれるメモリセルを選択する。
【0055】
センスアンプブロック109は、選択されたメモリセルからの微小な信号を増幅する。出力バッファブロック111は、センスアンプブロック109で増幅された信号を受け、複数のパッド113を介して外部に出力する。第2の記憶装置200、第3の記憶装置300および第4の記憶装置400の各々に対応する分割チップの動作も、第1の記憶装置100に対応する分割チップの動作と同様である。
【0056】
このように、分割チップ(第1の記憶装置100、第2の記憶装置200、第3の記憶装置300および第4の記憶装置400の各々)には、分割チップが、記憶装置(メモリ)として機能するのに必要なすべての回路が含まれている。
【0057】
図1の基礎チップを元チップとする場合について説明する。すなわち、第1の記憶装置100、第2の記憶装置200、第3の記憶装置300および第4の記憶装置400を1つの記憶装置(メモリ)としてアセンブリを行なう場合について説明する。
【0058】
ダイシングライン1〜15に沿って、切断する。複数のヒューズ115、複数のヒューズ215、複数のヒューズ315および複数のヒューズ415を切断する。これにより、元チップの場合には、複数のパッド113,213,313,413は用いられない。一方、出力バッファブロック111,211,311,411は、複数のパッド201,401に、複数のヒューズ219,419を介して接続されたままである。
【0059】
このように、元チップでは用いられず、分割チップでのみ用いられるパッド113,213,313,413は、基礎チップの中央部に配置されている。一方、元チップおよび分割チップの双方で用いられるパッド101,201,301,401は、基礎チップの端部に配置されている。
【0060】
複数のヒューズ217および複数のヒューズ417は切断される。すなわち、元チップの場合には、アドレスバッファブロック205,405は用いられない。複数のパッド101,アドレスバッファブロック105は、4つの単位チップ100,200,300,400で共用されることになる。
【0061】
なお、複数のパッド101およびアドレスバッファブロック105を共用するのではなく、複数のパッド301およびアドレスバッファブロック305を共用してもよい。この場合に、選択信号のためのパッドおよびバッファとして、パッド103およびそれに接続されたバッファを用いてもよいし、単位チップ300に、2つのパッド103およびそれに接続された2つのバッファに対応する2つのパッドおよびそれに接続されたバッファを設けてもよい。
【0062】
図1の基礎チップを元チップとした場合の動作について説明する。
複数のパッド101には、メモリセルマトリックスM1〜M4の各々の中のメモリセルを選択するためのアドレス信号が入力される。2つのパッド103には、複数のパッド101に入力するアドレス信号を、メモリセルマトリックスM1〜M4のうちのどのメモリセルマトリックスに入力するかを選択するための選択信号が入力される。たとえば、選択信号により、メモリセルマトリックスM1が選択された場合には、アドレスバッファブロック105に入力されたアドレス信号は、デコーダ107に入力される。
【0063】
出力バッファブロック111,211,311,411からの信号は、複数のパッド201,401を介して外部に出力されることになる。この場合、出力バッファブロック111の中の1つの出力バッファ、出力バッファブロック211の中の1つの出力バッファ、出力バッファブロック311の中の1つの出力バッファおよび出力バッファブロック411の中の1つの出力バッファは、1つのヒューズ219を介して1つのパッド201に接続されている。
【0064】
このため、1つのパッド201から、4つのうちのどのメモリセルマトリックスからの信号を出力するかを選択する必要がある。この選択を担う回路が、選択回路である。この選択回路は図示しないが元チップ内部に配置されている。選択回路は、信号BS1,BS2,BS3,BS4を発生する。たとえば、この信号BS1は、デコーダ107および出力バッファブロック111を活性または非活性にするための信号である。
【0065】
このような信号BS1〜BS4によって活性化された出力バッファブロックからの複数の信号が複数のパッド201,401を介して外部に出力されることになる。なお、出力バッファブロック111,211,311,411の各々に含まれる出力バッファは、ヒューズ219またはヒューズ419のいずれに接続しても構わない。また、選択回路については後で詳しく説明する。
【0066】
以上は、元チップの特徴的な動作について説明したが、デコーダ107,207,307,407、センスアンプブロック109,209,309,409、出力バッファブロック111,211,311,411については、分割チップの場合の動作と同様である。
【0067】
図2は、図1の半導体記憶装置を詳細に説明するための図である。なお、図1と同様の部分について同一の参照符号を付しその説明を適宜省略する。
【0068】
図1の説明においては、第1の記憶装置100、第2の記憶装置200、第3の記憶装置300および第4の記憶装置400の各々に設けられるデータ入出力線対の数については規定していなかったが、図2においては、第1の記憶装置100、第2の記憶装置200、第3の記憶装置300および第4の記憶装置400の各々に設けられるデータ入出力線対の数は4つである。
【0069】
このため、メモリセルマトリックスM1は、4つのメモリセルブロックIO1、IO2、IO3、IO4に分かれている。これに対応して、センスアンプブロック109には4つのセンスアンプ116が設けられ、出力バッファブロック111には4つの出力バッファ118が設けられ、ヒューズ115は4つ設けられ、パッド113は4つ設けられる。
【0070】
また、図1においては図示していないが、第1の記憶装置100は、図2に示すように列選択回路ブロック123およびデータ入出力線部121を含んでいる。列選択ブロック123は、4つの列選択回路126を含む。列選択回路ブロック123は、デコーダ107からの列選択信号Sを受けて、メモリセルマトリックスM1の列を選択する。この列選択信号Sにより選択された列(ビット線対)からの信号が、データ入出力線部121を介してセンスアンプブロック109に入力される。なお、列選択回路ブロック123の動作については、分割チップの場合でも元チップの場合でも同様である。
【0071】
また、第2の記憶装置200、第3の記憶装置300および第4の記憶装置400の構成および動作も第1の記憶装置100の構成および動作と同様である。
【0072】
出力バッファブロック111の一番左側の出力バッファ118、出力バッファブロック211の一番左側の出力バッファ218、出力バッファブロック311の一番左側の出力バッファ318および出力バッファブロック411の一番左側の出力バッファ418は、一番左のヒューズ219に接続される。
【0073】
出力バッファブロック111,211,311,411の左から2番目の出力バッファ118,218,318,418は、左から2番目のヒューズ219に接続される。出力バッファブロック111,211,311,411の左から3番目の出力バッファ118,218,318,418は、左から3番目のヒューズ219に接続される。
【0074】
出力バッファブロック111,211,311,411の左から4番目の出力バッファ118,218,318,418は、左から4番目のヒューズ219に接続される。なお、出力バッファ118,218,318,418は、ヒューズ219ではなく、ヒューズ419に接続しても構わない。
【0075】
図2の基礎チップを分割チップとする場合においては、各分割チップで、データ入出力線対も4つで、メモリセルブロックIO1〜IO4からの4つの信号も4つのパッド113から外部に出力されることになる。すなわち、分割チップは、メモリ容量が1Mで、4ビット構成になる。つまり分割チップは、256k×4ビットの記憶装置(メモリ)ということになる。
【0076】
一方、元チップの場合には、図示しない選択回路によって選択された単位チップのメモリセルブロックIO1〜IO4から出力される4つの信号は、4つのパッド201から出力される。すなわち、元チップは、メモリ容量が4Mで、4ビット構成のメモリになる。つまり、1M×4ビットのメモリである。
【0077】
このように、図2の半導体記憶装置においては、元チップにおいても、分割チップにおいても、4ビット構成となる。ただし、分割チップのメモリ容量は、元チップのメモリ容量の4分の1になる。
【0078】
図3は、図2の半導体記憶装置の一部の詳細を示す回路図である。なお、図2と同様の部分については同一の参照符号を付しその説明は適宜省略する。
【0079】
図3には、図2の半導体記憶装置の一部、すなわち、メモリセルブロックIO1、列選択回路126、データ入出力線部121、センスアンプ116および出力バッファ118が示されている。図3を参照して、メモリセルブロックIO1には、複数のビット線対B,/Bが含まれる。そして、そのビット線対B,/Bには、複数のメモリセル124が接続される。複数のメモリセル124には、複数のワード線125が接続される。活性化されたワード線125に接続されるメモリセル124から、信号がビット線対B,/Bに読出される。
【0080】
列選択回路126は、NMOSトランジスタ129およびNMOSトランジスタ131からなる複数のスイッチングゲートから構成される。NMOSトランジスタ129の一方ソース/ドレイン電極はビット線Bに接続され、他方ソース/ドレイン電極は、データ入出力線IO1に接続される。NMOSトランジスタ131の一方ソース/ドレイン電極はビット線/Bに接続され、他方ソース/ドレイン電極はデータ入出力線/IO1に接続される。
【0081】
NMOSトランジスタ129のゲート電極とNMOSトランジスタ131のゲート電極とは、列選択線127に接続される。複数の列選択線127には、列選択信号S1〜Snが入力される。「H」レベルの列選択信号が入力されたNMOSトランジスタ129,131はオンになる。したがって、オンになったNMOSトランジスタ129,131を介して、ビット線対B,/Bと、データ入出力線IO1,/IO1とは接続されることになる。
【0082】
このため、ビット線対B,/Bに読出されているメモリセル124からの信号は、センスアンプ116に入力されることになる。そして、センスアンプ116に入力されたビット線対B,/Bからの信号は増幅され、出力バッファ118に入力される。
【0083】
なお、図3には、図2のメモリセルブロックIO1に対応する列選択回路126、データ入出力線部121、センスアンプ116、出力バッファ111を示したが、メモリセルブロックIO2〜IO4に対応する列選択回路126、データ入出力線部121、センスアンプ116および出力バッファ111も、図3と同様である。
【0084】
図4は、図2の半導体記憶装置を元チップとする場合に用いられる選択回路の一部を示す概略ブロック図である。列選択回路は、上述したように、元チップの場合に、単位チップ100,200,300,400に含まれるデコーダ107,207,307,407および出力バッファブロック111,211,311,411の活性/非活性を制御するための回路である。この列選択回路によって活性化された単位チップからの信号がパッド201から外部へ出力されることになる。
【0085】
図4を参照して、選択回路は、ヒューズ27,33およびバッファ29,35を含む。パッド25とバッファ29とはヒューズ27を介して接続される。パッド31とバッファ35とはヒューズ33を介して接続される。基礎チップを分割チップとする場合には、ヒューズ27,33は切断される。すなわち、分割チップの場合には、選択回路は用いられない。
【0086】
基礎チップを元チップとする場合について説明する。
バッファ29とパッド25およびバッファ35とパッド31とは接続されたままの状態である。パッド25には信号Z0が入力される。そしてバッファ29は信号Z0を受けて、信号Z0および信号/Z0を出力する。なお、信号/Z0は、信号Z0の反転信号であることを示している。たとえば、「L」レベルの信号Z0が入力された場合には、「H」レベルの信号/Z0と、「L」レベルの信号Z0が、バッファ29から出力されることになる。
【0087】
パッド31には信号Z1が入力される。バッファ35は、信号Z1を受けて、信号Z1および信号/Z1を出力する。なお、信号/Z1は、信号Z1の反転信号であることを示す。
【0088】
図5は、図2の選択回路の他の一部を詳細に示す回路図である。なお、図4と同様の部分については同一の参照符号を付しその説明を適宜省略する。
【0089】
図5を参照して、選択回路の他の一部は、NAND回路37,41,45,49およびインバータ39,43,47,51を含む。NAND回路37には、信号/Z0および信号/Z1が入力される。信号/Z0および信号/Z1に応じて、インバータ39からは信号BS1が出力される。信号BS1は、図2のデコーダ107および出力バッファブロック111に入力される。
【0090】
NAND回路41には、信号Z0および信号/Z1が入力される。信号Z0および信号/Z1に応じて、インバータ43から信号BS2が出力される。信号BS2は、図2のデコーダ207および出力バッファブロック211に入力される。
【0091】
NAND回路45には、信号/Z0および信号Z1が入力される。信号/Z0および信号Z1に応じて、インバータ47から信号BS3が出力される。信号BS3は、図2のデコーダ307および出力バッファブロック311に入力される。
【0092】
NAND回路49には、信号Z0および信号Z1が入力される。信号Z0および信号Z1に応じて、インバータ51から信号BS4が出力される。信号BS4は、図2のデコーダ407および出力バッファブロック411に入力される。
【0093】
たとえば、デコーダ107および出力バッファブロック111を活性化させる場合、すなわち、単位チップ100を選択する場合について説明する。
【0094】
この場合には、図4のパッド25には、「L」レベルの信号Z0を入力し、パッド31には「L」レベルの信号Z1を入力する。そして、バッファ29から出力される信号Z0は「L」レベルであり、信号/Z0は「H」レベルである。バッファ35から出力される信号Z1は、「L」レベルであり、信号/Z1は、「H」レベルである。図5のNAND回路37には、「H」レベルの信号/Z0および信号/Z1が入力される。このため、信号BS1は、「H」レベルとなる。
【0095】
したがって、図5のNAND回路41には、「L」レベルの信号Z0および「H」レベルの信号/Z1が入力される。このため、信号BS2は、「L」レベルになる。NAND回路45には、「H」レベルの信号/Z0および「L」レベルの信号Z1が入力される。このため信号BS3は、「L」レベルとなる。NAND回路49には、「L」レベルの信号Z0および信号Z1が入力される。このため、信号BS4は、「L」レベルになる。
【0096】
以上のように、信号BS1のみが「H」レベルになる。この「H」レベルの信号BS1により、デコーダ107および出力バッファブロック111が活性化される。そして、4つのパッド201からは、4つの出力バッファ118に対応した信号が出力されることになる。
【0097】
ここで、「L」レベルの信号BS2,BS3,BS4が入力されるデコーダ207,307,407および出力バッファブロック211,311,411は非活性となっている。なお、単位チップ200,単位チップ300および単位チップ400を選択する場合も同様に行なう。
【0098】
以上のように、実施の形態1による半導体記憶装置においては、元チップを製品化することもできるし、分割チップを製品化することもできる。すなわち、アセンブリを行なう際に、製品のメモリ容量を可変にできる。このため、1つのウエハから複数の種類の製品を製造することができ、製品の種類ごとの設計およびウエハプロセスが不要になる。したがって、設計期間および試作期間を短縮することができるとともに、開発コストを小さくすることができる。
【0099】
また、メモリセルマトリックスM1〜M4のいずれかに、冗長機能(リダンダンシー)で救済できないメモリセルが存在する場合には、救済できないメモリセルが存在するメモリセルマトリックスは使用することができず、元チップとしては製品化することができない。しかし、メモリセルマトリックスM1〜M4のうち冗長機能(リダンダンシー)で救済できるメモリセルマトリックスや正常なメモリセルマトリックスについては、分割チップとして製品化することができる。このため、元チップ全体を捨てる必要はなく、救済できないメモリセルを含むメモリセルマトリックスを備える分割チップのみを捨てればよいため、製造コストを小さくすることができる。
【0100】
また、実施の形態1による半導体記憶装置においては、第1の記憶装置100の複数のパッド101,103,113は、すべて同じ方向に配置されている。このため、パッドが異なる方向に配置されている場合に比し、面積を小さくすることができる。パッドが、異なる方向に配置されているとは、たとえば、パッド101がダイシングライン15およびダイシングライン1に沿って配置されているような場合である。以上のことは、第2の記憶装置200、第3の記憶装置300および第4の記憶装置400においても同様に言える。したがって、実施の形態1による半導体記憶装置を、元チップとする場合においても分割チップとする場合においてもチップ面積を小さくすることができる。
【0101】
また、実施の形態1による半導体記憶装置においては、第1の記憶装置の複数のパッド101,103とアドレスバッファブロック105とは近接しており、複数のパッド113と出力バッファブロック111とは近接している。このため、パッドがアドレスバッファや出力バッファに近接していない場合に比し、パッドとアドレスバッファや出力バッファとの距離を短くすることができるため、信号の遅延を軽減することができる。
【0102】
パッドと、アドレスバッファや出力バッファが離れている場合とは、たとえば、アドレスバッファブロック105のための複数のパッド101がダイシングライン15に沿って配置されているような場合である。このときは、半導体記憶装置の上側のパッド101はアドレスバッファブロック105と近接することになるが、半導体記憶装置の下側のパッド101についてはアドレスバッファブロック105と距離が離れてしまう。したがって、アドレスバッファブロック105から離れたパッドから入力されるアドレス信号は、アドレスバッファブロック105に近接しているパッドから入力されるアドレス信号に対して遅延することになる。
【0103】
なお、図1や図2においては、出力バッファブロック111,211,311,411について説明しているが、信号が入力される入力バッファを含む入力バッファブロックに対しても、同様であり、この場合にも、上述した効果を奏する。
【0104】
また、図1および図2の半導体記憶装置においては、第1の記憶装置100、第2の記憶装置200、第3の記憶装置300および第4の記憶装置400の各々が、複数のデータ入出力線対を備えている場合について説明したが、第1の記憶装置100、第2の記憶装置200、第3の記憶装置300および第4の記憶装置400の各々が1つのデータ入出力線対を備えていてもよい。この場合にも上述したと同様の効果を奏する。
【0105】
図6は、実施の形態1による半導体記憶装置の変形例を示す概略ブロック図である。なお、図2と同様の部分については同一の参照符号を付しその説明を適宜省略する。したがって、主に特徴部分を説明する。
【0106】
図2の半導体記憶装置において、第1の記憶装置100、第2の記憶装置200、第3の記憶装置300および第4の記憶装置400の各々は、4つのデータ入出力線対を備えていたのに対し、図6の半導体記憶装置においては、第1の記憶装置100、第2の記憶装置200、第3の記憶装置300および第4の記憶装置400の各々は、1つのデータ入出力線対を備えている。
【0107】
したがって、図6を参照して、第1の記憶装置100においては、列選択回路ブロック123は、1つの列選択回路126からなり、センスアンプブロック109は1つのセンスアンプ116からなり、出力バッファブロック111は1つの出力バッファ118からなり、ヒューズ115は1つであり、パッド113は1つである。メモリセルマトリックスM1は、メモリセルブロックに分かれていない。第2の記憶装置200、第3の記憶装置300および第4の記憶装置400の構成も、第1の記憶装置100の構成と同様である。
【0108】
出力バッファ118は、ノードB1と接続される。出力バッファ218は、ノードB2に接続される。このように、出力バッファ118,218は、ヒューズ219を介してパッド201に接続されることになる。出力バッファ318はノードB3に接続される。出力バッファ418はノードB4に接続される。このように、出力バッファ318,418は、ヒューズ419を介してパッド401に接続される。
【0109】
なお、出力バッファ118,218,318,418を接続するヒューズは、複数のヒューズ219および複数のヒューズ419のいずれかであればよい。ただし、4つの出力バッファ118,218,318,418は、異なるヒューズに接続される必要がある。
【0110】
基礎チップを分割チップとする場合の操作は、図2において、基礎チップを分割する場合の操作と同様である。ただし、図6の半導体記憶装置においては、分割チップのメモリ容量は1Mであり、1ビット構成となる。つまり、分割チップは、1M×1ビットのメモリとなる。
【0111】
基礎チップを元チップとする場合について説明する。
図6の基礎チップを元チップとする場合の操作については、図2の基礎チップを元チップとする場合の操作と同様である。ただし、図2の半導体記憶装置において設けられていた選択回路は、図6の半導体記憶装置には設けられていない。これは、4つの出力バッファ118,218,318,418が、異なるヒューズ219,419に接続されているからである。すなわち、元チップのメモリ容量は、4Mであり、4ビット構成となる。つまり、元チップは、1M×4ビットのメモリとなる。
【0112】
以上のように、実施の形態1による半導体記憶装置の変形例においては、分割チップの場合には1ビット構成になり、元チップの場合には4ビット構成になる点で、分割チップの場合も、元チップの場合も4ビット構成となる実施の形態1による半導体記憶装置(図2)とは異なる。
【0113】
上記のように、実施の形態1による半導体記憶装置の変更例においては、基礎チップを、元チップとすることもできるし、分割チップとすることもできる。さらに、実施の形態1による半導体記憶装置の変形例においては、パッド、アドレスバッファブロック、出力バッファブロックの配置は、実施の形態1による半導体記憶装置のパッド、アドレスバッファブロックおよび出力バッファブロックの配置と同様である。したがって、実施の形態1による半導体記憶装置の変形例においても、実施の形態1による半導体記憶装置と同様の効果を奏する。
【0114】
図7は、実施の形態1による半導体記憶装置の他の変形例を示す概略ブロック図である。なお、図1と同様の部分については同一の参照符号を付しその説明は適宜省略する。
【0115】
図7の半導体記憶装置は、図1の半導体記憶装置の第1の記憶装置100および第2の記憶装置200を基礎チップとしたものである。したがって、元チップの場合には、メモリ容量が2Mである。分割チップの場合にはメモリ容量が1Mである。
【0116】
基礎チップを分割チップとする場合について説明する。
この場合には、ダイシングライン1,17,19,11,13,15,23に沿って切断する。その他の操作については、図1の場合と同様である。
【0117】
基礎チップを元チップとする場合について説明する。
この場合には、ダイシングライン1,17,19,11,13,15に沿って切断する。その他の操作については、図1と同様である。なお、単位チップ100,200が2つであるため、選択信号を入力するパッド103およびそれに接続されるバッファは1つでよい。また、選択回路は、図4および図5の選択回路と同様のものを用いる。
【0118】
以上のように、実施の形態1による半導体記憶装置の他の変更例においても、基礎チップを元チップとすることもできるし、分割チップとすることができる。さらに、実施の形態1による半導体記憶装置の他の変形例のパッド、アドレスバッファブロックおよび出力バッファブロックの配置は、実施の形態1による半導体記憶装置のパッド、アドレスバッファブロックおよび出力バッファブロックの配置と同様である。したがって、実施の形態1による半導体記憶装置の他の変形例においても、実施の形態1による半導体記憶装置と同様の効果を奏する。
【0119】
(実施の形態2)
図8は、本発明の実施の形態2による半導体記憶装置を示す概略ブロック図である。なお、図8の半導体記憶装置は、ウエハ上に形成されており、ウエハをダイシングラインに沿って切断する前のものである。すなわち、図8の半導体記憶装置は、アセンブリ前のものである。図8に示すようなアセンブリ前の半導体記憶装置を、「基礎チップ」と呼ぶこともある。
【0120】
実施の形態2による半導体記憶装置は、第1の記憶装置525および第2の記憶装置527を含む。第1の記憶装置525は、ダイシングライン501,513,509,511に囲まれた領域に形成される。第2の記憶装置527は、ダイシングライン503,505,507,513に囲まれた領域に形成される。
【0121】
第1の記憶装置525は、出力バッファ515およびパッド517,523を含む。なお、第1の記憶装置525は、第1の記憶装置525だけでメモリとして機能するのに必要なすべての回路を備えている。たとえば、パッド、アドレスバッファ、デコーダ、メモリセルマトリックス、センスアンプおよび出力バッファなどである。
【0122】
第2の記憶装置527は、出力バッファ519およびパッド521を含む。なお図示しないが、第2の記憶装置527は、第2の記憶装置527だけでメモリとして機能するのに必要なすべての回路を備えている。
【0123】
出力バッファ515は、パッド517に接続される。出力バッファ519はパッド521に接続される。パッド517およびパッド521は、パッド523に接続される。
【0124】
実施の形態2による半導体記憶装置の用い方について説明する。
本実施の形態による半導体記憶装置は、第1の記憶装置525および第2の記憶装置527を分割して別々に製品化することもできるし、第1の記憶装置525および第2の記憶装置527を分割せずに製品化することもできる。ここで、第1の記憶装置525および第2の記憶装置527を分割して別々に製品化する場合の、第1の記憶装置525および第2の記憶装置527の各々を「分割チップ」と呼ぶことにする。
【0125】
第1の記憶装置525および第2の記憶装置527を分割せずに製品化する場合の図8の半導体記憶装置を元チップと呼ぶことにする。また、元チップの場合において、第1の記憶装置525を単位チップ525と呼び、第2の記憶装置527を単位チップ527と呼ぶ場合もある。
【0126】
図8の半導体記憶装置の第1の記憶装置525および第2の記憶装置527を分割チップとする場合について説明する。すなわち、第1の記憶装置525および第2の記憶装置527を別々の記憶装置としてアセンブリ(組立作業)を行なう場合について説明する。
【0127】
基礎チップを、ダイシングライン501,503,505,507,509,511,513に沿って切断する。第1の記憶装置525に相当する分割チップでは、出力バッファ515からの信号はパッド517から外部へ出力される。なお出力バッファ515は、図2の出力バッファ118と同様のものである。また、第2の記憶装置527に相当する分割チップでは、出力バッファ519からの信号はパッド521から外部へ出力される。
【0128】
実施の形態2による半導体記憶装置を元チップとする場合について説明する。すなわち、第1の記憶装置525および第2の記憶装置527を1つの記憶装置としてアセンブリを行なう場合について説明する。
【0129】
基礎チップを、ダイシングライン501,503,505,507,509,511に沿って切断する。この場合には、パッド523を用い、パッド523から、出力バッファ515または出力バッファ519からの信号が外部に出力されることになる。また、元チップは、図示しないが、図4および図5に示した選択回路と同様の選択回路を備えている。したがって、信号BS1および信号BS2は、図2の信号BS1および信号BS2と同様である。
【0130】
以上のように、実施の形態2による半導体記憶装置においては、分割チップとして製品化することもできるし、元チップとして製品化することもできる。このため、実施の形態1による半導体記憶装置と同様の効果を奏する。
【0131】
また、図8において、図示しないが、複数のパッドは、図2と同様にすべて同じ方向に配置されている。さらに、図8において、図示しないが、複数のアドレスバッファおよび複数のアドレスバッファに接続される複数のパッドは近接して配置されている。このため、実施の形態2による半導体記憶装置は、実施の形態1による半導体記憶装置と同様の効果を奏する。
【0132】
なお、出力バッファ515および出力バッファ519が複数ある場合には、それに対応して、パッド517,521,523を複数設ける。そして、同一系統の信号が入力されるパッド同士を接続する。このようにすることでも上記したと同様の効果を奏する。
【0133】
図9は、実施の形態2による半導体記憶装置の変形例を示す概略ブロック図である。なお、図1と同様の部分については同一の参照符号を付しその説明を適宜省略する。また、図1においては、出力バッファブロック111,211,311,411の各々は、複数の出力バッファを含んでいたが、図9においては、出力バッファブロック111,211,311,411は、1つの出力バッファを含んでいる例を示す。ここで、基礎チップ、分割チップ、元チップおよび単位チップの意味については実施の形態1で説明したのと同様である。
【0134】
図9の半導体記憶装置(基礎チップ)を分割チップとする場合について説明する。
【0135】
ダイシングライン1,3,5,7,9,11,13,15,17,19,21,23に沿って切断する。第1の記憶装置100に相当する分割チップについて説明する。複数のアドレスパッド101には、外部から複数のアドレス信号が入力される。アドレスバッファブロック105は、複数のアドレス信号を受けて、それを、デコーダ107に入力する。出力バッファブロック111からの信号はパッド113を介して外部に出力される。分割チップの動作については、図1の分割チップの動作と同様である。なお、第2の記憶装置200、第3の記憶装置300および第4の記憶装置400に相当する分割チップは、第1の記憶装置100に相当する分割チップと同様である。
【0136】
図9の半導体記憶装置(基礎チップ)を元チップとする場合について説明する。
【0137】
ダイシングライン1,3,5,7,9,11,13,15に沿って切断する。出力バッファブロック111,211,311,411からの信号は、パッド523から外部に出力される。なお、元チップは、図示しないが、図4および図5に示す選択回路と同様の選択回路を備えている。したがって、たとえば、選択回路によりデコーダ107および出力バッファ111が活性化された場合には、出力バッファ111からの信号がパッド523から外部に出力されることになる。
【0138】
以上は、元チップの場合の特徴的な部分について説明したが、複数のパッド101,201,301,401、アドレスバッファブロック100,200,300,400、デコーダ107,207,307,407および出力バッファブロック111,211,311,411については、分割チップの場合と同様である。
【0139】
このように、実施の形態2による半導体記憶装置の変形例においては、分割チップとすることもできるし、元チップとすることもできる。さらに、複数のパッド、アドレスバッファブロック、出力バッファブロックの配置は、図1と同様である。したがって、実施の形態2による半導体記憶装置の変形例は、実施の形態1による半導体記憶装置と同様の効果を奏する。
【0140】
(実施の形態3)
図10は、実施の形態3による半導体記憶装置を示す概略ブロック図である。なお、図8と同様の部分については同一の参照符号を付しその説明を適宜省略する。基礎チップ、分割チップ、元チップおよび単位チップの意味については実施の形態2で説明したのと同様である。
【0141】
特徴部分について説明する。図10を参照して、第1の記憶装置525は、出力バッファ515、パッド517、ヒューズ529およびパッド523を含む。第2の記憶装置527は、出力バッファ519、パッド521およびヒューズ531を含む。
【0142】
出力バッファ515,519は、パッド523に接続される。パッド517は、ヒューズ529を介してパッド523に接続される。パッド521は、ヒューズ531を介してパッド523に接続される。
【0143】
図10の半導体記憶装置(基礎チップ)を分割チップとする場合について説明する。
【0144】
ダイシングラインの切断については、図8の半導体記憶装置の場合と同様である。第1の記憶装置525に相当する分割チップにおいては、パッド517が用いられ、出力バッファ515からの信号はパッド517から外部に出力される。第2の記憶装置527に相当する分割チップについても同様である。
【0145】
図10の半導体記憶装置(基礎チップ)を元チップとする場合について説明する。
【0146】
ダイシングラインの切断については図8の半導体記憶装置を元チップとする場合と同様である。ヒューズ529,531を切断する。したがって、元チップの場合には、パッド523が用いられ、出力バッファ515,519からの信号はパッド523を介して外部に出力される。なお、図示しないが、図4および図5と同様の選択回路が元チップの場合には用いられる。
【0147】
このように、実施の形態3による半導体記憶装置は、分割チップとすることもできるし、元チップとすることもできる。さらに、図8の半導体記憶装置と同様の構成になっている。このため、実施の形態3による半導体記憶装置は、実施の形態2による半導体記憶装置と同様の効果を奏する。
【0148】
なお、出力バッファ515および出力バッファ519が複数ある場合には、それに対応して、パッド517,521,523およびヒューズ529,531を複数設ける。接続については、出力バッファ515および出力バッファ519が1つずつある場合と同様である。
【0149】
図11は、実施の形態3による半導体記憶装置の変形例を示す概略ブロック図である。なお、図9と同様の部分について同一の参照符号を付しその説明を適宜省略する。したがって、主に特徴部分について説明する。ここで、基礎チップ、分割チップ、元チップおよび単位チップの意味については、実施の形態1で説明したのと同様である。
【0150】
図11の半導体記憶装置(基礎チップ)を分割チップとする場合について説明する。
【0151】
ダイシングラインの切断については、図9の半導体記憶装置を分割チップとする場合と同様である。第1の記憶装置100に相当する分割チップでは、パッド113が用いられ、出力バッファブロック111からの信号は、パッド113を介して外部に出力される。なお、第2の記憶装置200、第3の記憶装置300および第4の記憶装置400に相当する分割チップについても第1の記憶装置100に相当する分割チップと同様である。
【0152】
図11の半導体記憶装置(基礎チップ)を元チップとする場合について説明する。
【0153】
ダイシングラインの切断については、図9の半導体記憶装置を元チップとする場合と同様である。ヒューズ115,215,315,415は切断される。そして、出力バッファブロック111,211,311,411からの信号は、パッド523を介して外部に出力される。なお、元チップは、図示しないが、図4および図5に示した選択回路と同様の選択回路を備えている。
【0154】
以上のように、実施の形態3による半導体記憶装置の変形例は、元チップとすることもできるし、分割チップとすることもできる。さらに、図9の半導体記憶装置と同様の構成になっている。このため、実施の形態3による半導体記憶装置の変形例は、実施の形態2による半導体記憶装置の変形例と同様の効果を奏する。
【0155】
(実施の形態4)
図12は、実施の形態4による半導体記憶装置を示す概略ブロック図である。なお、図8と同様の部分については同一の参照符号を付しその説明は適宜省略する。ここで、基礎チップ、分割チップ、元チップおよび単位チップの意味については、実施の形態2で説明したのと同様である。
【0156】
図12を参照して、第1の記憶装置525、出力バッファ515およびパッド517を含む。第2の記憶装置527は、出力バッファ519およびパッド521を含む。なお、リードフレーム533およびワイヤ535を示しているが、これは、後の説明のために用いるものであり、実施の形態4による半導体記憶装置が備えているものではない。
【0157】
出力バッファ515は、パッド517と接続される。出力バッファ519はパッド521と接続される。パッド517はパッド521と接続される。
【0158】
図12の半導体記憶装置(基礎チップ)を分割チップとする場合について説明する。
【0159】
ダイシングラインの切断については、図8の半導体記憶装置を分割チップとする場合と同様である。第1の記憶装置525に相当する分割チップにおいては、パッド517が用いられ、パッド517から出力バッファ515からの信号が出力される。第2の記憶装置527に相当する分割チップについても、第1の記憶装置525に相当する分割チップと同様である。
【0160】
図12の半導体記憶装置を元チップとする場合について説明する。
ダイシングラインの切断については、図8の半導体記憶装置を元チップとする場合と同様である。出力バッファ515および出力バッファ519からの信号は、パッド517またはパッド521のいずれかを介して外部に出力される。たとえば、リードフレーム533が、パッド517ではなくパッド521の近傍にある場合には、パッド521とリードフレーム533とをワイヤ535で接続することができる。一方、リードフレームが、パッド517の近傍にあり、パッド521から離れている場合には、リードフレーム533とパッド517とをワイヤで接続することができる。このように、元チップの場合には、リードフレームの位置に合わせて、パッド517またはパッド521のいずれかを用いることができる。
【0161】
以上のように、実施の形態4による半導体記憶装置においては、分割チップとすることもできるし、元チップとすることもできる。さらに、図8の半導体記憶装置と同様の構成になっている。したがって、実施の形態4による半導体記憶装置は、実施の形態2による半導体記憶装置と同様の効果を奏する。
【0162】
また、実施の形態4による半導体記憶装置においては、元チップとする場合に、出力バッファ515,519からの信号を外部に出力するためのパッドとして、パッド517またはパッド521のいずれをも用いることができる。このため、パッドに接続するリードフレームの用い方の自由度が大きくなる。すなわち、パッド517にワイヤリングしやすいリードフレームを用いることもできるし、パッド521にワイヤリングしやすいリードフレームを用いることもできる。
【0163】
なお、出力バッファ515および出力バッファ519が複数ある場合には、それに対応して、パッド517およびパッド521を複数設ける。そして、同一系統の信号が入力されるパッド同士を接続する。
【0164】
図13は、本発明の実施の形態4による半導体記憶装置の変形例を示す概略ブロック図である。なお、図9と同様の部分については同一の参照符号を付しその説明を適宜省略する。したがって、主に特徴部分について説明する。ここで、基礎チップ、元チップ、分割チップおよび単位チップの意味については、実施の形態1で説明したのと同様である。
【0165】
図13を参照して、出力バッファブロック111は、パッド113に接続される。出力バッファブロック211は、パッド213に接続される。出力バッファブロック311は、パッド313に接続される。出力バッファブロック411は、パッド413に接続される。パッド113、パッド213、パッド313およびパッド413は接続される。
【0166】
図13の半導体記憶装置を分割チップとする場合について説明する。
ダイシングラインの切断については、図9の半導体記憶装置を分割チップとする場合と同様である。第1の記憶装置100に相当する分割チップでは、パッド113を用い、出力バッファブロック111からの信号はパッド113を介して外部に出力される。第2の記憶装置200、第3の記憶装置300および第4の記憶装置400に相当する分割チップについても同様である。
【0167】
図13の半導体記憶装置(基礎チップ)を元チップとする場合について説明する。
【0168】
出力バッファブロック111,211,311,411からの信号の外部への出力には、パッド113、パッド213、パッド313またはパッド413のいずれをも用いることができる。なお、元チップは、図示しないが、図4および図5に示した選択回路と同様の選択回路を備えている。
【0169】
以上のように、実施の形態4による半導体記憶装置の変形例においては、分割チップとすることもできるし、元チップとすることもできる。さらに、実施の形態4による半導体記憶装置の変形例は、実施の形態2による半導体記憶装置の変形例と同様の構成になっている。このため、実施の形態4による半導体記憶装置の変形例は、実施の形態2による半導体記憶装置の変形例と同様の効果を奏する。
【0170】
また、実施の形態4による半導体記憶装置の変形例において、元チップの場合には、出力バッファブロック111,211,311,411からの信号を外部に出力するためのパッドとして、パッド113、パッド213、パッド313またはパッド413のいずれをも用いることができる。このため、実施の形態4による半導体記憶装置の変形例は、実施の形態4による半導体記憶装置と同様の効果を奏する。
【0171】
(実施の形態5)
図14は、実施の形態5による半導体記憶装置を示す概略ブロック図である。なお、図14の半導体記憶装置は、ウエハ上に形成されており、ウエハをダイシングラインに沿って切断する前のものである。すなわち、図14の半導体記憶装置は、アセンブリ前のものである。このような図14に示す半導体記憶装置を、「基礎チップ」と呼ぶこともある。
【0172】
図14を参照して、実施の形態5による半導体記憶装置は、第1の記憶装置585、第2の記憶装置587、第3の記憶装置589および第4の記憶装置591を含む。第1の記憶装置585は、ダイシングライン537,553,559,551に囲まれた領域に形成される。第2の記憶装置587は、ダイシングライン559,555,547,549で囲まれた領域に形成される。第3の記憶装置589は、ダイシングライン539,541,557,553に囲まれた領域に形成される。第4の記憶装置591は、ダイシングライン557,543,545,555に囲まれた領域に形成される。
【0173】
第1の記憶装置585は、出力バッファ561、パッド569およびヒューズ577を含む。出力バッファ561は、図1の出力バッファブロック111に含まれる出力バッファと同様である。なお、図示していないが、第1の記憶装置585は、第1の記憶装置585だけでメモリとして機能するのに必要なすべての回路を備えている。また、図示していないが、アドレスバッファブロック、アドレスバッファブロックに対応する複数のパッドの配置は、図1と同様である。なお、第2の記憶装置587、第3の記憶装置589および第4の記憶装置591の構成も、第1の記憶装置585と同様である。
【0174】
4つの出力バッファ561,565,563,567の出力ノードNは共通になっている。パッド569は、出力ノードNとヒューズ577を介して接続される。パッド573は、出力ノードNとヒューズ583を介して接続される。パッド571は、出力ノードNとヒューズ579を介して接続される。パッド575は、ヒューズ581を介して出力ノードNに接続される。
【0175】
図14の半導体記憶装置の用い方について説明する。
図14の半導体記憶装置は、第1の記憶装置585、第2の記憶装置587、第3の記憶装置589および第4の記憶装置591を分割して別々に製品化することもできるし、第1の記憶装置585、第2の記憶装置587、第3の記憶装置589および第4の記憶装置591を分割せずに製品化することもできる。
【0176】
ここで、第1の記憶装置585、第2の記憶装置587、第3の記憶装置589、第4の記憶装置591を分割して別々に製品化する場合の、第1の記憶装置585、第2の記憶装置587、第3の記憶装置589および第4の記憶装置591の各々を「分割チップ」と呼ぶことにする。
【0177】
第1の記憶装置585、第2の記憶装置587、第3の記憶装置589および第4の記憶装置591を分割せずに製品化する場合の半導体記憶装置を元チップと呼ぶことにする。また、元チップの場合に、第1の記憶装置585を単位チップ585と呼び、第2の記憶装置587を単位チップ587と呼び、第3の記憶装置589を単位チップ589と呼び、第4の記憶装置591を単位チップ591と呼ぶこともある。
【0178】
図14の半導体記憶装置(基礎チップ)を分割チップとする場合について説明する。すなわち、第1の記憶装置585、第2の記憶装置587、第3の記憶装置589および第4の記憶装置591を別々の記憶装置としてアセンブリを行なう場合について説明する。
【0179】
基礎チップをダイシングライン537,539,541,543,545,547,549,551,553,555,557,559に沿って切断する。第1の記憶装置585に相当する分割チップでは、パッド569を用い、出力バッファ561からの信号はパッド569から外部に出力される。なお、第2の記憶装置587、第3の記憶装置589および第4の記憶装置591に相当する分割チップにおいても同様である。
【0180】
図14の半導体記憶装置(基礎チップ)を元チップとする場合について説明する。
【0181】
ダイシングライン537,539,541,543,545,547,549,551に沿って切断する。この場合には、出力バッファ561,565,563,567からの信号の外部への出力のために、パッド569,573,571,575のいずれをも用いることができる。たとえば、出力バッファブロック561,565,563,567からの信号をパッド573を介して外部に出力する場合には、ヒューズ577,579,581を切断する。
【0182】
以上のように、実施の形態5による半導体記憶装置においては、分割チップとすることもできるし、元チップとすることもできる。さらに、図示していないが、アドレスバッファブロックおよびアドレスバッファブロックに対応する複数のパッドの配置は、図1の半導体記憶装置と同様である。このため、実施の形態5による半導体記憶装置は、実施の形態1による半導体記憶装置と同様の効果を奏する。
【0183】
なお、出力バッファ561、出力バッファ565、出力バッファ563および出力バッファ567が各々複数設けられている場合には、それに対応して、パッド569,573,571,575およびヒューズ577,583,579,581も複数設ける。接続については、出力バッファ561,565,563,567が各々1つ設けられている場合と同様である。
【0184】
図15は、実施の形態5による半導体記憶装置の変形例を示す概略ブロック図である。なお、図9と同様の部分について同一の参照符号を付しその説明を適宜省略する。したがって特徴部分について説明する。ここで、基礎チップ、分割チップ、元チップおよび単位チップの意味については、実施の形態1で説明したのと同様である。
【0185】
図15を参照して、出力バッファブロック111、出力バッファブロック211、出力バッファブロック311および出力バッファブロック411は、出力ノードNを共通にする。パッド113はヒューズ115を介して出力ノードNに接続される。パッド213はヒューズ215を介して出力ノードNに接続される。パッド313はヒューズ315を介して出力ノードNに接続される。パッド413はヒューズ415を介して出力ノードNに接続される。
【0186】
図15の半導体記憶装置(基礎チップ)を分割チップとする場合について説明する。
【0187】
ダイシングラインの切断については、図9の半導体記憶装置を分割チップとする場合と同様である。第1の記憶装置100に相当する分割チップでは、パッド113が用いられ、出力バッファブロック111からの信号は、パッド113を介して外部に出力される。なお、第2の記憶装置200、第3の記憶装置300および第4の記憶装置400に相当する分割チップについても同様である。
【0188】
図15の半導体記憶装置(基礎チップ)を元チップとする場合について説明する。
【0189】
ダイシングラインの切断については、図9の半導体記憶装置を元チップとする場合と同様である。出力バッファ111,211,311,411からの信号を外部に出力するためのパッドは、パッド113,213,313,413のいずれをも用いることができる。たとえば、パッド213を介して、出力バッファブロック111,211,311,411からの信号を外部に出力する場合には、ヒューズ115,315,415を切断する。なお、元チップには、図4および図5に示す選択回路と同様の選択回路が含まれている。
【0190】
以上のように、実施の形態5による半導体記憶装置の変形例においては、分割チップとすることもできるし、元チップとすることもできる。さらに、実施の形態5による半導体記憶装置の変形例は、図9の半導体記憶装置と同様の構成をしている。このため、実施の形態5による半導体記憶装置の変形例は、実施の形態2による半導体記憶装置の変形例と同様の効果を奏する。
【0191】
(実施の形態6)
図16は、実施の形態6による半導体記憶装置を示す概略ブロック図である。
【0192】
図16(a)は、実施の形態6による半導体記憶装置の平面図である。図16(b)は、図16(a)に示した半導体記憶装置の断面図である。
【0193】
なお、図16の半導体記憶装置は、ウエハ上に形成されており、ウエハをダイシングラインに沿って切断する前のものである。すなわち、図16の半導体記憶装置は、アセンブリ前のものである。このような図16の半導体記憶装置を、「基礎チップ」と呼ぶこともある。
【0194】
図16(a)を参照して、実施の形態6による半導体記憶装置は、第1の記憶装置603、第2の記憶装置605および元チップ専用回路607を含む。第1の記憶装置603は、図示しないが、第1の記憶装置603だけでメモリとして機能するのに必要なすべての回路およびパッドを備えている。たとえば、メモリとして機能するのに必要な回路とは、図1のアドレスバッファブロック、デコーダ、センスアンプブロック、出力バッファブロックおよびメモリセルマトリックスなどである。なお、第2の記憶装置605も第1の記憶装置603と同様の構成である。
【0195】
図16(b)を参照して、第1の記憶装置603、第2の記憶装置605および元チップ専用回路607は、シリコン基板611上に形成されている。第1の記憶装置603、第2の記憶装置605および元チップ専用回路607の上にはガラスコート609が形成される。
【0196】
なお、分割チップ、元チップおよび単位チップの意味については実施の形態2で説明したのと同様である。
【0197】
図16を参照して、元チップでのみ使用する元チップ専用回路607は、分割チップをつくるために切断するダイシングライン595上に形成される。すなわち、元チップ専用回路607は、分割チップを作るためにダイシングライン95に沿って切断する時に割れる領域に形成される。
【0198】
図16の半導体記憶装置を分割チップとする場合には、ダイシングライン593,595,597,599,601に沿って切断する。ダイシングライン595に沿って切断されるため、元チップ専用回路607も同時に切断されることになる。
【0199】
図16の半導体記憶装置(基礎チップ)を元チップとする場合には、ダイシングライン593,597,599,601に沿って切断をする。
【0200】
以上のように、実施の形態6による半導体記憶装置においては、分割チップとすることもできるし、元チップとすることもできる。さらに、図示していないが、図1の半導体記憶装置(基礎チップ)と同様に、複数のパッドはすべての同じ方向に配置され、アドレスバッファブロックおよびそれに接続される複数のパッドは近接し、出力バッファブロックおよびそれに接続される複数のパッドは近接している。このため、実施の形態6による半導体記憶装置は、実施の形態1による半導体記憶装置と同様の効果を奏する。
【0201】
さらに、実施の形態6による半導体記憶装置においては、基礎チップを分割チップとする場合には、元チップ専用回路607は不要になるため、分割チップを作るために切断するダイシングライン595上に、元チップ専用回路607を配置している。このため、分割チップのチップ面積を小さくすることができる。
【0202】
なお、元チップ専用回路607を、分割チップを作るために切断するダイシングライン595上に形成しているが、元チップでのみ使用する元チップ専用パッドを、分割チップを作るために切断するダイシングライン595上に配置することによっても、上記したと同様の効果を奏する。
【0203】
図17は、本発明の実施の形態6による半導体記憶装置の変形例の一部を示す概略ブロック図である。なお、図1と同様の部分については同一の参照符号を付しその説明を適宜省略する。なお図17の半導体記憶装置は、図1の半導体記憶装置を前提としている。したがって、実施の形態6による半導体記憶装置の変形例は、実施の形態1による半導体記憶装置と同様の効果を奏する。主に特徴部分について説明する。
【0204】
図17を参照して、ダイシングライン23上にパッド25,31が設けられる。ダイシングライン23,21上に、選択回路613が設けられる。なお、選択回路613は、図4および図5に示した選択回路と同様である。パッド25,31は、図4に示したパッド25,31と同様である。
【0205】
このように、実施の形態6による半導体記憶装置の変形例においては、元チップでのみ用いるパッド25,31および選択回路613が、実施の形態6による半導体記憶装置の変形例を分割チップとする場合に切断するダイシングライン23,21上に設けられている。このため、実施の形態6による半導体記憶装置の変形例は、実施の形態6による半導体記憶装置と同様の効果を奏する。
【0206】
なお、図7〜図15においても、選択回路や選択回路に用いるパッドなどのような元チップでのみ使用する回路やパッドを、分割チップとする場合に切断するダイシングライン上に設けることもできる。この場合にも、上記したと同様の効果を奏する。
【0207】
(実施の形態7)
図18は、実施の形態7による半導体記憶装置を示す概略ブロック図である。なお、基礎チップ、分割チップ、元チップおよび単位チップの意味については、実施の形態2で説明したのと同様である。
【0208】
図18を参照して、実施の形態7による半導体記憶装置は、第1の記憶装置626および第2の記憶装置628および共用回路627を含む。第1の記憶装置626は、メモリセルマトリックスM1を含む。このメモリセルマトリックスM1は、図1のメモリセルマトリックスM1と同様である。第2の記憶装置628は、メモリセルマトリックスM2を含む。このメモリセルマトリックスM2は、図1のメモリセルマトリックスM2と同様である。
【0209】
共用回路627は、第1の記憶装置626および第2の記憶装置628で、共通に用いることができる回路である。たとえば、メモリセルマトリックスの中のメモリセルを選択するデコーダなどである。
【0210】
第1の記憶装置626は、第1の記憶装置626だけでメモリとして機能するのに必要な回路のすべてを備えている。ただし、共用回路627と重複する回路は備えていない。なお、第2の記憶装置628も第1の記憶装置628と同様である。
【0211】
図18の半導体記憶装置を元チップとする場合には、ダイシングライン615,617,619,621に沿って切断する。そして、共用回路627は、第1の記憶装置626と第2の記憶装置628で共用することになる。
【0212】
メモリセルマトリックスM1に、不良ビット(不良メモリセル)があった場合は、ダイシングライン623,617,619,621に沿って切断する。そして、共用回路627と第2の記憶装置628で構成される分割チップを製品化する。
【0213】
一方、メモリセルマトリックスM2に不良ビット(不良メモリセル)があった場合は、ダイシングライン625,615,621,617に沿って切断する。そして、第1の記憶装置626と共用回路627からなる分割チップを製品化する。
【0214】
図19は、図18の共用回路627の具体例を示す回路図である。なお、図18と同様の部分については同一の参照符号を付しその説明を適宜省略する。
【0215】
図19において図18の共用回路627は、デコーダである。デコーダ627は、インバータ629およびNAND回路631を含む。インバータ629とNAND回路631は直列に接続される。インバータ629の出力ノードは、メモリセルマトリックスM1のメモリセルを選択するためのメモリセル選択線(ワード線)およびメモリセルマトリックスM2のメモリセルを選択するためのメモリセル選択線(ワード線)に接続される。
【0216】
元チップの場合には、デコーダ627は、メモリセルマトリックスM1およびメモリセルマトリックスM2で共用される。
【0217】
メモリセルマトリックスM1に救済できない不良メモリセルがある場合には、ダイシングライン623に沿って切断し、デコーダ627および第2の記憶装置628から構成される分割チップを製品化する。メモリセルマトリックスM2に救済できない不良メモリセルがある場合には、ダイシングライン625に沿って切断する。そして、デコーダ627および第1の記憶装置626からなる分割チップを製品化する。
【0218】
以上のように、実施の形態7による半導体記憶装置においては、分割チップとすることもできるし、元チップとすることもできる。さらに、実施の形態7による半導体記憶装置においては、図示しないが、図1に示すような、アドレスバッファブロックおよびそれに接続される複数のパッドは近接して配置され、出力バッファブロックおよび出力バッファブロックに接続される複数のパッドは近接して配置され、アドレスバッファブロックに接続される複数のパッドおよび出力バッファブロックに接続される複数のパッドはすべて同じ方向に配置される。したがって、実施の形態7による半導体記憶装置は実施の形態1による半導体記憶装置と同様の効果を奏する。
【0219】
また、実施の形態7による半導体記憶装置を元チップとする場合において、2つの単位チップ626,628で共用できる回路については共用している。このため、実施の形態7による半導体記憶装置を元チップとする場合においては、元チップの面積を小さくすることができる。
【0220】
なお、元チップの場合において、2つの単位チップ626,628で共用することのできるパッドを、単位チップ626と単位チップ628との間に設けることもできる。この場合にも、上記したと同様の効果を奏する。
【0221】
また、図1、図2、図6、図9、図11、図13、図15においても、デコーダ107およびデコーダ307を図19に示すようなデコーダ627にし、デコーダ207およびデコーダ407を図19に示すようなデコーダ627にすることもできる。この場合も上記したと同様の効果を奏する。なお、実施の形態1〜6において、元チップの場合における2つの単位チップで共用することのできる回路やパッドを、2つの単位チップの間に設けることもでき、この場合にも上記したと同様の効果を奏する。
【0222】
図20は、本発明の実施の形態7による半導体記憶装置の変形例を示す概略ブロック図である。なお、図18と同様の部分については同一の参照符号を付しその説明を適宜省略する。
【0223】
図20を参照して、実施の形態7の半導体記憶装置による変形例は、第1の記憶装置626、第2の記憶装置628、共用回路627、複数のヒューズ633および複数のヒューズ635を含む。メモリセルマトリックスM1と共用回路627とは複数のヒューズ633を介して接続される。メモリセルマトリックスM2と共用回路627とは複数のヒューズ635を介して接続される。
【0224】
メモリセルマトリックスM1に不良ビット(不良メモリセル)があった場合には、複数のヒューズ633を切断する。そして、第1の記憶装置626、共用回路627、複数のヒューズ635および第2の記憶装置628からなる分割チップを製品化する。ただし、複数のヒューズ633は切断されているため、第1の記憶装置626は機能しない。
【0225】
メモリセルマトリックスM2に不良ビット(不良メモリセル)が存在する場合には、複数のヒューズ635を切断する。そして、第1の記憶装置626、複数のヒューズ633、共用回路627および第2の記憶装置628からなる分割チップを製品化する。ただし、複数のヒューズ635は切断されているため、第2の記憶装置628は機能しない。
【0226】
図20の半導体記憶装置を元チップとする場合においては、複数のヒューズ633および複数のヒューズ635を切断しない。
【0227】
以上のように、実施の形態7による半導体記憶装置の変形例は、実施の形態7による半導体記憶装置の構成をすべて備えている。このため、実施の形態7による半導体記憶装置の変形例は、実施の形態7による半導体記憶装置と同様の効果を奏する。
【0228】
なお、共用回路627として、図19に示したデコーダ627を用いることもできる。
【0229】
図21は、実施の形態7による半導体記憶装置の他の変形例を示す概略ブロック図である。なお、図20と同様の部分については同一の参照符号を付しその説明は適宜省略する。
【0230】
図21を参照して、実施の形態7による半導体記憶装置の他の変形例は、第1の記憶装置626、複数のヒューズ633、複数のパッド637、複数のヒューズ635および第2の記憶装置628を含む。複数のパッド637は、複数のヒューズ633を介してメモリセルマトリックスM1と接続される。複数のパッド637は、複数のヒューズ635を介してメモリセルマトリックスM2と接続される。
【0231】
複数のパッド637は、メモリセルマトリックスM1およびメモリセルマトリックスM2で共用することのできるパッドである。
【0232】
メモリセルマトリックスM1に不良ビット(不良メモリセル)がある場合には、複数のヒューズ633を切断する。そして、第1の記憶装置626、複数のパッド637、複数のヒューズ635および第2の記憶装置628からなる分割チップを製品化する。ただし、複数のヒューズ633が切断されているため、第1の記憶装置626は機能しない。
【0233】
メモリセルマトリックスM2に不良ビット(不良メモリセル)がある場合には、複数のヒューズ635を切断する。そして、第2の記憶装置628、複数のパッド637、複数のヒューズ633および第1の記憶装置626からなる分割チップを製品化する。ただし、複数のヒューズ635が切断されているため、第2の記憶装置628は機能していない。
【0234】
図21の半導体記憶装置を元チップとする場合においては、複数のヒューズ633および複数のヒューズ635は切断しない。そして、複数のパッド637を、メモリセルマトリックスM1とメモリセルマトリックスM2で共用する。
【0235】
以上のように、実施の形態7の半導体記憶装置の他の変形例においては、元チップの場合に、2つの単位チップ626,628で共用できるパッドについては共用している。このため、元チップの面積を小さくすることができる。
【0236】
また、図21の半導体記憶装置の第1および第2の記憶装置626,628は、図18の第1および第2の記憶装置626,628と同様のものである。そのため、実施の形態7による半導体記憶装置の他の変形例においては、実施の形態7による半導体記憶装置と同様の効果を奏する。
【0237】
(実施の形態8)
実施の形態8による半導体記憶装置は、実施の形態1〜7による半導体記憶装置を前提としている。したがって、実施の形態8による半導体記憶装置は、実施の形態1〜7による半導体記憶装置と同様の効果を奏する。以下、実施の形態8による半導体記憶装置の特徴部分を説明する。
【0238】
図22は、実施の形態8による半導体記憶装置の特徴部分を示す概略図である。なお、基礎チップ、分割チップ、元チップおよび単位チップの意味については、実施の形態1〜7での説明と同様である。
【0239】
図22を参照して、第1の記憶装置639および第2の記憶装置641は、ダイシングライン643の対応する区分およびダイシングライン645で囲まれた領域に形成されている。なお、第1の記憶装置639および第2の記憶装置641は、実施の形態1〜7による半導体記憶装置の第1の記憶装置および第2の記憶装置と同様である。
【0240】
第1の記憶装置639は、そこに電源電位を供給するための電源パッド647を含む。第2の記憶装置641は、そこに電源電位を供給するための電源パッド649を含む。電源パッド647,649は、第1の記憶装置639および第2の記憶装置641に対応するダイシングライン643の区分の一方の端点近傍に配置されている。
【0241】
したがって、ダイシングライン645を切断して、図22の半導体記憶装置を元チップとする場合においては、電源パッド647および電源パッド649が近接しているため、1つのリードフレーム533を用いて、2つの電源パッド647,649に電源電位を供給することができる。すなわち、リードフレーム533と電源パッド647をワイヤ535で接続することができる。さらに、リードフレーム533と電源パッド649をワイヤ535で接続することができる。
【0242】
なお、図22の半導体記憶装置を分割チップとする場合には、ダイシングライン643,645を切断する。
【0243】
図23は、実施の形態8による半導体記憶装置の変形例を示す概略図である。なお、図22と同様の部分については同一の参照符号を付しその説明は適宜省略する。
【0244】
図23を参照して、第1の記憶装置639は、ダイシングライン645に沿った、第1の記憶装置639の一辺の中央部に電源パッド651を備えている。この電源パッド651は、電源パッド647と接続される。第2の記憶装置641は、ダイシングライン645に沿った、第2の記憶装置641の一辺の中央部に電源パッド653を備える。この電源パッド653と電源パッド649は接続される。
【0245】
図23の半導体記憶装置(基礎チップ)を、分割チップとする場合には、ダイシングライン643,645に沿って切断する。そして、第1の記憶装置639に対応する分割チップにおいては、リードフレーム655とパッド651をワイヤ659で接続し、電源電位を供給する。第2の記憶装置641に対応する分割チップには、リードフレーム657と電源パッド653をワイヤ661で接続し、電源電位を供給する。
【0246】
図24は、実施の形態8による半導体記憶装置の他の変形例を示す概略図である。なお、図23と同様の部分については同一の参照符号を付しその説明を適宜省略する。
【0247】
図24を参照して、電源パッド647と電源パッド649とは、ワイヤ667によって接続される。
【0248】
図24の半導体記憶装置を元チップとする場合には、ダイシングライン645に沿って切断する。そして、元チップへの電源電位の供給は、パッド651またはパッド653のいずれをも用いることができる。
【0249】
図24の半導体記憶装置を分割チップとする場合には、ダイシングライン643,645およびワイヤ667を切断する。そして、第1の記憶装置639に対応する分割チップおよび第2の記憶装置641に対応する分割チップへの電源電位の供給は、図23の半導体記憶装置と同様である。
【0250】
(実施の形態9)
実施の形態9による半導体記憶装置は、実施の形態1〜8による半導体記憶装置を前提としている。したがって、実施の形態9による半導体記憶装置は、実施の形態1〜8による半導体記憶装置と同様の効果を奏する。
【0251】
基礎チップにおいて、第1の記憶装置と第2の記憶装置とが、アルミなどの金属配線によって接続状態にある場合がある。このとき、基礎チップを分割チップとするために、ダイシングラインに沿って切断を行なう場合、その切断のダメージを受けることがある。すなわち、ダイシングラインに沿って切断した切断面にクラックなどが発生する可能性がある。実施の形態9による半導体記憶装置はこのような問題を解決するためになされたものである。
【0252】
以下、特徴部分を説明する。
図25は、実施の形態9による半導体記憶装置の特徴部分を示す概略図である。
【0253】
図25を参照して、第1の記憶装置679および第2の記憶装置681は、ダイシングライン669およびダイシングライン671によって囲まれた領域に形成される。なお、第1の記憶装置679および第2の記憶装置681は、第1〜8の実施の形態による半導体記憶装置の第1の記憶装置および第2の記憶装置と同様である。
【0254】
図25を参照して、第1の記憶装置679に含まれるパッド673と第2の記憶装置681に含まれるパッド675とが金属配線677によって接続されている場合、金属配線677のうち、ダイシングライン669の両側にある所定部分(矢印Aおよび矢印Bで示す)を、ダイシングライン669にそって切断する前に、レーザによって切断する。
【0255】
以上のように、実施の形態9による半導体記憶装置においては、分割チップとする場合、ダイシングライン669に沿って切断する前に、第1の記憶装置679と第2の記憶装置681とを接続する金属配線677のうち、ダイシングライン669の両側にある所定部分を切断しておく。こうすることにより、ダイシングラインに沿った切断を原因とした、クラックなどの発生を防止することができる。
【0256】
図26は、実施の形態9による半導体記憶装置の変形例を示す概略図である。なお、図25と同様の部分については同一の参照符号を付しその接続を適宜省略する。
【0257】
図26を参照して、第1の記憶装置679と第2の記憶装置681とを接続する金属配線677のうち、ダイシングライン699の両側にある所定部分(矢印Aおよび矢印Bで示す)を、他の部分に比し、細くしておく。これは、図25の説明で示したようなレーザによる切断を容易にするためである。
【0258】
さらに、図25の説明で示したようなレーザによる切断を容易にするためには、半導体記憶装置を以下のようにすることもできる。
【0259】
図27は、実施の形態9による半導体記憶装置の他の変形例を示す概略図である。なお、図25と同様の部分については同一の参照符号を付しその説明は適宜省略する。
【0260】
図27を参照して、基礎チップにおいて、第1の記憶装置679と第2の記憶装置681とを以下のようにして接続する。金属配線683とポリシリコン689とを、コンタクトホール693を介して接続する。ポリシリコン689と金属配線685とをコンタクトホール693を介して接続する。ポリシリコン691と金属配線685とをコンタクトホール693を介して接続する。ポリシリコン691と金属配線687とをコンタクトホール693を介して接続する。
【0261】
なお、ポリシリコン689,691の代わりに、アルミなどの金属配線よりも、熱によって切れやすい材料を用いることもできる。
【0262】
図25の説明で示したようなレーザによる切断は、ポリシリコン689,691に対して行なう。すなわち、分割チップとする場合は、ポリシリコン689,691をレーザで切断しておき、ダイシングライン669を切断する時に発生し得るクラックの発生を防止する。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施の形態1による半導体記憶装置を示す概略ブロック図である。
【図2】 図1の半導体記憶装置を詳細に説明するための図である。
【図3】 図2の半導体記憶装置の一部の詳細を示す回路図である。
【図4】 図2の半導体記憶装置を元チップとする場合に用いられる選択回路の一部を示す概略ブロック図である。
【図5】 図2の半導体記憶装置を元チップとする場合に用いられる選択回路の他の一部を示す詳細に示す回路図である。
【図6】 本発明の実施の形態1による半導体記憶装置の変形例を示す概略ブロック図である。
【図7】 本発明の実施の形態1による半導体記憶装置の他の変形例を示す概略ブロック図である。
【図8】 本発明の実施の形態2による半導体記憶装置を示す概略ブロック図である。
【図9】 本発明の実施の形態2による半導体記憶装置の変形例を示す概略ブロック図である。
【図10】 本発明の実施の形態3による半導体記憶装置を示す概略ブロック図である。
【図11】 本発明の実施の形態3による半導体記憶装置の変形例を示す概略ブロック図である。
【図12】 本発明の実施の形態4による半導体記憶装置を示す概略ブロック図である。
【図13】 本発明の実施の形態4による半導体記憶装置の変形例を示す概略ブロック図である。
【図14】 本発明の実施の形態5による半導体記憶装置を示す概略ブロック図である。
【図15】 本発明の実施の形態5による半導体記憶装置の変形例を示す概略ブロック図である。
【図16】 本発明の実施の形態6による半導体記憶装置を示す概略ブロック図である。
【図17】 本発明の実施の形態6による半導体記憶装置の変形例の一部を示す概略ブロック図である。
【図18】 本発明の実施の形態7による半導体記憶装置を示す概略ブロック図である。
【図19】 図18の共用回路の具体例を示す回路図である。
【図20】 本発明の実施の形態7による半導体記憶装置の変形例を示す概略ブロック図である。
【図21】 本発明の実施の形態7による半導体記憶装置の他の変形例を示す概略ブロック図である。
【図22】 本発明の実施の形態8による半導体記憶装置の特徴部分を示す概略図である。
【図23】 本発明の実施の形態8による半導体記憶装置の変形例を示す概略図である。
【図24】 本発明の実施の形態8による半導体記憶装置の他の変形例を示す概略図である。
【図25】 本発明の実施の形態9による半導体記憶装置の特徴部分を示す概略図である。
【図26】 本発明の実施の形態9による半導体記憶装置の変形例を示す概略図である。
【図27】 本発明の実施の形態9による半導体記憶装置の他の変形例を示す概略図である。
【図28】 ウエハ上に形成された従来の半導体記憶装置を示す概略図である。
【図29】 図28のウエハ上に形成された従来の複数の半導体記憶装置のうちの1つを拡大した図である。
【符号の説明】
1〜23,501〜513,537〜559,593〜601,615〜621,643,645,663,665,669,671,697 ダイシングライン、29,35 バッファ、37,41,45,49,631 NAND回路、39,43,47,51,629 インバータ、100,525,585,603,626,639,679 第1の記憶装置、25,31,101,103,113,201,213,301,303,313,401,413,517,521,523,569〜575,637,673,675,701,703パッド、105,205,305,405,705 アドレスバッファブロック、107,207,307,407,711 デコーダ、109,209,309,409,707 センスアンプブロック、111,211,311,411,709 出力バッファブロック、27,33,115,215,217,219,315,415,417,419,529,531,577〜583,633,635 ヒューズ、116,216,316,416 センスアンプ、118,218,318,418,515,519,561〜567 出力バッファ、121,221,321,421 データ入出力線部、123,223,323,423 列選択回路ブロック、124 メモリセル、125 ワード線、126,226,326,426 列選択回路、127 列選択線、129,131 NMOSトランジスタ、200,527,587,605,628,641,681 第2の記憶装置、300,589 第3の記憶装置、400,591 第4の記憶装置、533,655,657 リードフレーム、535,659,661,667 ワイヤ、607 元チップ専用回路、609 ガラスコート、661 シリコン基板、613 選択回路、627 共用回路、647,649,651,653 電源パッド、677,683〜687 金属配線、689,691 ポリシリコン、693 コンタクトホール、695 ウエハ、699 半導体記憶装置。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a semiconductor memory device whose memory capacity can be changed after completion of a wafer process.
[0002]
[Prior art]
FIG. 28 is a schematic diagram showing a conventional semiconductor memory device formed on a wafer.
[0003]
Referring to FIG. 28, a rectangular region surrounded by
[0004]
FIG. 29 is an enlarged view of one of a plurality of conventional
[0005]
Referring to FIG. 29, conventional
[0006]
Although not shown, the
[0007]
The plurality of
[0008]
The sense amplifier included in the
[0009]
When assembling into a product, that is, during assembly, the
[0010]
As described above, after completion of the wafer process, the product obtained by cutting the
[0011]
Conventionally, designing is performed for each type of product (for each type of semiconductor memory device), a mask is manufactured, and a wafer process is performed.
[0012]
[Problems to be solved by the invention]
As long as the configuration of the semiconductor memory device is as shown in FIG. 29, only one type of product can be obtained from one
[0013]
For this reason, there are problems that the design period and the trial production period of the semiconductor memory device become long and the development cost becomes large.
[0014]
As long as the configuration of the semiconductor memory device is as shown in FIG. 29, the semiconductor memory device (product) in which memory cells that cannot be relieved by the redundancy function (redundancy) are discarded as defective products. The probability of being discarded as a defective product increases as the capacity of the semiconductor memory device (product) increases. In some cases, only a few good products can be obtained with one wafer. That is, since there is only one type of product corresponding to one wafer, a semiconductor memory device (product) that cannot relieve many defective memory cells is discarded.
[0015]
For this reason, there existed a problem that manufacturing cost became high.
Even if the semiconductor memory device (product) has a defective memory cell that cannot be remedied, for example, if the semiconductor memory device (product) has 4 Mbits, 1 Mbit or 2 Mbit may operate.
[0016]
For this reason, in spite of a large number of normal memory cells, there is a problem that it is not economically efficient to dispose of them as defective products.
[0017]
The redundancy function (redundancy) refers to a function for replacing a defective memory cell with a spare memory cell.
[0018]
The present invention has been made to solve the above-described problems, and provides a semiconductor memory device capable of reducing the design period and the prototype period of the semiconductor memory device and reducing the development cost. For the purpose.
[0019]
Another object of the present invention is to provide a semiconductor memory device capable of reducing the manufacturing cost.
[0020]
[Means for Solving the Problems]
A semiconductor memory device according to the present invention includes a first memory device, a second memory device, and a selection unit. The first and second storage devices read or write information.
[0021]
The first storage device includes a first buffer block, a second buffer block, a first pad block, and a second pad block. The first buffer block includes a plurality of first buffers for transmitting / receiving a plurality of first signals. The second buffer block includes a second buffer for transmitting / receiving the second signal.
[0022]
The first pad block is connected to a plurality of first buffers, and includes a plurality of first pads for transmitting and receiving a plurality of first signals to the outside. The second pad block is connected to the second buffer and includes a second pad for transmitting / receiving the second signal to / from the outside.
[0023]
The second storage device includes a third buffer block, a fourth buffer block, a third pad block, and a fourth pad block. The third buffer block includes a plurality of third buffers for transmitting / receiving a plurality of third signals. The fourth buffer block includes a fourth buffer for exchanging the fourth signal.
[0024]
The third pad block is connected to a plurality of third buffers, and includes a plurality of third pads for transmitting and receiving a plurality of third signals to the outside. The fourth pad block is connected to the fourth buffer and includes a fourth pad for exchanging the fourth signal to the outside.
[0025]
When assembly is performed using the first and second storage devices as separate storage devices (hereinafter, referred to as “first mode”), the first storage device and the second storage device are disconnected.
[0026]
When the first and second storage devices are assembled and used as one storage device (hereinafter referred to as a “second aspect”), the second buffer and the fourth buffer have the corresponding third Connected to the pad. In the case of the second mode, the corresponding third pad is used for transmission / reception of the second signal and the fourth signal. In the case of the second mode, a plurality of first buffers and a plurality of first pads are used to exchange the plurality of first signals and the plurality of third signals.
[0027]
The selection means selects whether the third pad is used for the second signal or the fourth signal. This selection means is used in the case of the second mode.
[0028]
In the case of the second mode, when the first storage device is selected by an external selection signal, the plurality of first pads are used for transmission / reception of the plurality of first signals. When the second storage device is selected by the selection signal, the plurality of first pads are used for sending and receiving the plurality of third signals.
[0029]
As described above, in the semiconductor memory device according to the present invention, the first memory device and the second memory device can be assembled as separate memory devices, or the first memory device and the second memory device can be assembled. It is also possible to assemble the storage device as one storage device. That is, when the semiconductor memory device according to the present invention is formed on a wafer, the storage capacity can be made variable during assembly.
[0030]
Therefore, in the semiconductor memory device according to the present invention, a plurality of products can be manufactured from one wafer, the design period and the trial production period can be shortened, and the development cost can be reduced. it can.
[0031]
In addition, even if the semiconductor memory device is a defective product as a whole, if either the first storage device or the second storage device is a non-defective product, the non-defective first storage device or the second storage device Either can be commercialized. For this reason, it is not necessary to discard the entire semiconductor memory device as a defective product, and the manufacturing cost can be reduced.
[0032]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, a semiconductor memory device according to the present invention will be described with reference to the drawings.
[0033]
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a schematic block diagram showing a semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention. Note that the semiconductor memory device of FIG. 1 is formed on a wafer and before the wafer is cut along a dicing line. In other words, the semiconductor memory device of FIG. 1 is the one before assembly. Such a semiconductor memory device shown in FIG. 1 may be called a “basic chip”.
[0034]
Referring to FIG. 1, the semiconductor memory device according to the first embodiment includes a
[0035]
The
[0036]
The plurality of
[0037]
The
[0038]
The
[0039]
Further, one output buffer of the output buffer block 111, one output buffer of the
[0040]
First, it is assumed that each of the
[0041]
The leftmost output buffer of the output buffer block 111, the leftmost output buffer of the
[0042]
The second output buffer from the left of the output buffer block 111, the second output buffer from the left of the
[0043]
The third output buffer from the left of the output buffer block 111, the third output buffer from the left of the
[0044]
The fourth output buffer from the left of the output buffer block 111, the fourth output buffer from the left of the
[0045]
The
[0046]
The
[0047]
Arrows A 1, A 2, A 3, and A 4 indicate that the plurality of output buffers included in the output buffer blocks 111, 211, 311, and 411 are connected to the plurality of
[0048]
Next, how to use and operate this semiconductor memory device will be described.
In the semiconductor memory device according to the present embodiment, the
[0049]
Here, when the
[0050]
The semiconductor memory device in the case where the
[0051]
A case where the
[0052]
The basic chip is cut along dicing
[0053]
The plurality of
[0054]
The operation of the divided chip corresponding to the
The plurality of address buffers included in the
[0055]
The
[0056]
As described above, the divided chip (the
[0057]
The case where the basic chip of FIG. 1 is used as the original chip will be described. That is, a case where assembly is performed using the
[0058]
Cut along dicing lines 1-15. The plurality of
[0059]
As described above, the
[0060]
The plurality of
[0061]
Instead of sharing the plurality of
[0062]
The operation when the basic chip of FIG. 1 is the original chip will be described.
Address signals for selecting a memory cell in each of the memory cell matrices M1 to M4 are input to the plurality of
[0063]
Signals from the output buffer blocks 111, 211, 311, 411 are output to the outside via a plurality of
[0064]
For this reason, it is necessary to select which memory cell matrix of the four is to be output from one
[0065]
A plurality of signals from the output buffer block activated by such signals BS1 to BS4 are output to the outside through the plurality of
[0066]
The characteristic operation of the original chip has been described above. The
[0067]
FIG. 2 is a diagram for explaining the semiconductor memory device of FIG. 1 in detail. The same parts as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted as appropriate.
[0068]
In the description of FIG. 1, the number of data input / output line pairs provided in each of the
[0069]
For this reason, the memory cell matrix M1 is divided into four memory cell blocks IO1, IO2, IO3, and IO4. Correspondingly, the
[0070]
Although not shown in FIG. 1, the
[0071]
The configurations and operations of the
[0072]
The
[0073]
The second output buffers 118, 218, 318, 418 from the left of the output buffer blocks 111, 211, 311, 411 are connected to the
[0074]
The fourth output buffers 118, 218, 318, 418 from the left of the output buffer blocks 111, 211, 311, 411 are connected to the
[0075]
When the basic chip of FIG. 2 is a divided chip, each divided chip has four data input / output line pairs, and four signals from the memory cell blocks IO1 to IO4 are also output from the four
[0076]
On the other hand, in the case of the original chip, four signals output from the memory cell blocks IO1 to IO4 of the unit chip selected by a selection circuit (not shown) are output from the four
[0077]
As described above, the semiconductor memory device of FIG. 2 has a 4-bit configuration in both the original chip and the divided chip. However, the memory capacity of the divided chip is a quarter of the memory capacity of the original chip.
[0078]
FIG. 3 is a circuit diagram showing details of a part of the semiconductor memory device of FIG. The same parts as those in FIG. 2 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted as appropriate.
[0079]
FIG. 3 shows a part of the semiconductor memory device of FIG. 2, that is, a memory cell block IO1, a
[0080]
The
[0081]
The gate electrode of the
[0082]
For this reason, the signal from the
[0083]
FIG. 3 shows the
[0084]
FIG. 4 is a schematic block diagram showing a part of a selection circuit used when the semiconductor memory device of FIG. 2 is an original chip. As described above, the column selection circuit, in the case of the original chip, activates / deactivates the
[0085]
Referring to FIG. 4, the selection circuit includes
[0086]
A case where the basic chip is the original chip will be described.
The
[0087]
A signal Z1 is input to the
[0088]
FIG. 5 is a circuit diagram showing in detail another part of the selection circuit of FIG. Note that portions similar to those in FIG. 4 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted as appropriate.
[0089]
Referring to FIG. 5, another part of the selection circuit includes
[0090]
[0091]
[0092]
The
[0093]
For example, a case where the
[0094]
In this case, an “L”
[0095]
Therefore,
[0096]
As described above, only the signal BS1 becomes “H” level.
[0097]
Here, the
[0098]
As described above, in the semiconductor memory device according to the first embodiment, the original chip can be commercialized or the divided chip can be commercialized. That is, the memory capacity of the product can be made variable during assembly. Therefore, a plurality of types of products can be manufactured from one wafer, and the design and wafer process for each product type are not required. Therefore, the design period and the trial production period can be shortened and the development cost can be reduced.
[0099]
In addition, when there is a memory cell that cannot be relieved by the redundancy function (redundancy) in any of the memory cell matrices M1 to M4, the memory cell matrix in which the memory cell that cannot be relieved cannot be used. Cannot be commercialized. However, among the memory cell matrices M1 to M4, a memory cell matrix that can be relieved by a redundancy function (redundancy) or a normal memory cell matrix can be commercialized as a divided chip. For this reason, it is not necessary to discard the entire original chip, and it is only necessary to discard the divided chip including the memory cell matrix including the memory cells that cannot be relieved, so that the manufacturing cost can be reduced.
[0100]
In the semiconductor memory device according to the first embodiment, the plurality of
[0101]
In the semiconductor memory device according to the first embodiment, the plurality of
[0102]
The case where the pads are separated from the address buffer or the output buffer is, for example, a case where a plurality of
[0103]
1 and 2, the output buffer blocks 1111, 211, 311 and 411 are described. However, the same applies to an input buffer block including an input buffer to which a signal is input. In addition, the above-described effects are exhibited.
[0104]
1 and 2, each of the
[0105]
FIG. 6 is a schematic block diagram showing a modification of the semiconductor memory device according to the first embodiment. The same parts as those in FIG. 2 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted as appropriate. Therefore, the characteristic part will be mainly described.
[0106]
In the semiconductor memory device of FIG. 2, each of the
[0107]
Therefore, referring to FIG. 6, in the
[0108]
The
[0109]
Note that the fuses connecting the output buffers 118, 218, 318, and 418 may be any of the plurality of
[0110]
The operation in the case of using the basic chip as the divided chip is the same as that in the case of dividing the basic chip in FIG. However, in the semiconductor memory device of FIG. 6, the memory capacity of the divided chip is 1M, which is a 1-bit configuration. That is, the divided chip is a 1M × 1 bit memory.
[0111]
A case where the basic chip is the original chip will be described.
The operation when the basic chip of FIG. 6 is used as the original chip is the same as the operation when the basic chip of FIG. 2 is used as the original chip. However, the selection circuit provided in the semiconductor memory device in FIG. 2 is not provided in the semiconductor memory device in FIG. This is because the four
[0112]
As described above, the modification of the semiconductor memory device according to the first embodiment has a 1-bit configuration in the case of a divided chip and a 4-bit configuration in the case of an original chip. The original chip is also different from the semiconductor memory device (FIG. 2) according to the first embodiment having a 4-bit configuration.
[0113]
As described above, in the modified example of the semiconductor memory device according to the first embodiment, the basic chip can be an original chip or a divided chip. Furthermore, in the modification of the semiconductor memory device according to the first embodiment, the arrangement of the pads, address buffer blocks, and output buffer blocks is the same as the arrangement of the pads, address buffer blocks, and output buffer blocks of the semiconductor memory device according to the first embodiment. It is the same. Therefore, the modification of the semiconductor memory device according to the first embodiment also has the same effect as the semiconductor memory device according to the first embodiment.
[0114]
FIG. 7 is a schematic block diagram showing another modification of the semiconductor memory device according to the first embodiment. The same parts as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted as appropriate.
[0115]
The semiconductor memory device of FIG. 7 uses the
[0116]
A case where the basic chip is a divided chip will be described.
In this case, cutting is performed along
[0117]
A case where the basic chip is the original chip will be described.
In this case, cutting is performed along
[0118]
As described above, also in another modification example of the semiconductor memory device according to the first embodiment, the basic chip can be the original chip or the divided chip. Furthermore, the arrangement of pads, address buffer blocks, and output buffer blocks in another modification of the semiconductor memory device according to the first embodiment is the same as the arrangement of pads, address buffer blocks, and output buffer blocks of the semiconductor memory device according to the first embodiment. It is the same. Therefore, the other modification of the semiconductor memory device according to the first embodiment also has the same effect as the semiconductor memory device according to the first embodiment.
[0119]
(Embodiment 2)
FIG. 8 is a schematic block diagram showing a semiconductor memory device according to the second embodiment of the present invention. Note that the semiconductor memory device of FIG. 8 is formed on a wafer, and is before the wafer is cut along a dicing line. In other words, the semiconductor memory device of FIG. 8 is the one before assembly. The semiconductor memory device before assembly as shown in FIG. 8 may be referred to as a “basic chip”.
[0120]
The semiconductor memory device according to the second embodiment includes a
[0121]
The
[0122]
The
[0123]
The
[0124]
A method of using the semiconductor memory device according to the second embodiment will be described.
In the semiconductor memory device according to this embodiment, the
[0125]
The semiconductor memory device in FIG. 8 in the case where the
[0126]
A case where the
[0127]
The base chip is cut along dicing
[0128]
A case where the semiconductor memory device according to the second embodiment is used as the original chip will be described. That is, a case where assembly is performed using the
[0129]
The base chip is cut along dicing
[0130]
As described above, the semiconductor memory device according to the second embodiment can be commercialized as a divided chip or can be commercialized as an original chip. Therefore, the same effect as the semiconductor memory device according to the first embodiment can be obtained.
[0131]
Although not shown in FIG. 8, the plurality of pads are all arranged in the same direction as in FIG. Further, although not shown in FIG. 8, a plurality of address buffers and a plurality of pads connected to the plurality of address buffers are arranged close to each other. Therefore, the semiconductor memory device according to the second embodiment has the same effects as the semiconductor memory device according to the first embodiment.
[0132]
When there are a plurality of
[0133]
FIG. 9 is a schematic block diagram showing a modification of the semiconductor memory device according to the second embodiment. The same parts as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted as appropriate. In FIG. 1, each of the output buffer blocks 111, 211, 311, 411 includes a plurality of output buffers. However, in FIG. 9, the output buffer blocks 111, 211, 311, 411 include one output buffer block. An example including an output buffer is shown. Here, the meanings of the basic chip, the divided chip, the original chip, and the unit chip are the same as those described in the first embodiment.
[0134]
A case where the semiconductor memory device (basic chip) of FIG. 9 is a divided chip will be described.
[0135]
Cut along dicing
[0136]
A case where the semiconductor memory device (basic chip) of FIG. 9 is used as the original chip will be described.
[0137]
Cut along dicing
[0138]
Although the characteristic part in the case of the original chip has been described above, a plurality of
[0139]
Thus, in the modification of the semiconductor memory device according to the second embodiment, it can be a divided chip or an original chip. Further, the arrangement of a plurality of pads, address buffer blocks, and output buffer blocks is the same as that shown in FIG. Therefore, the modification of the semiconductor memory device according to the second embodiment has the same effect as the semiconductor memory device according to the first embodiment.
[0140]
(Embodiment 3)
FIG. 10 is a schematic block diagram showing a semiconductor memory device according to the third embodiment. Note that portions similar to those in FIG. 8 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted as appropriate. The meanings of the basic chip, the divided chip, the original chip, and the unit chip are the same as those described in the second embodiment.
[0141]
The characteristic part will be described. Referring to FIG. 10, the
[0142]
The output buffers 515 and 519 are connected to the
[0143]
A case where the semiconductor memory device (base chip) in FIG. 10 is a divided chip will be described.
[0144]
The cutting of the dicing line is the same as in the semiconductor memory device of FIG. In a divided chip corresponding to the
[0145]
A case where the semiconductor memory device (basic chip) of FIG. 10 is used as the original chip will be described.
[0146]
The cutting of the dicing line is the same as when the semiconductor memory device of FIG. The
[0147]
Thus, the semiconductor memory device according to the third embodiment can be a divided chip or an original chip. Further, the configuration is the same as that of the semiconductor memory device of FIG. Therefore, the semiconductor memory device according to the third embodiment has the same effect as the semiconductor memory device according to the second embodiment.
[0148]
When there are a plurality of
[0149]
FIG. 11 is a schematic block diagram showing a modification of the semiconductor memory device according to the third embodiment. The same parts as those in FIG. 9 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted as appropriate. Therefore, the characteristic part will be mainly described. Here, the meanings of the basic chip, the divided chip, the original chip, and the unit chip are the same as those described in the first embodiment.
[0150]
A case where the semiconductor memory device (base chip) of FIG. 11 is a divided chip will be described.
[0151]
The cutting of the dicing line is the same as when the semiconductor memory device of FIG. 9 is divided into chips. In the divided chip corresponding to the
[0152]
A case where the semiconductor memory device (basic chip) of FIG. 11 is used as the original chip will be described.
[0153]
The cutting of the dicing line is the same as when the semiconductor memory device of FIG. 9 is used as the original chip. The
[0154]
As described above, the modification of the semiconductor memory device according to the third embodiment can be an original chip or a divided chip. Further, the configuration is the same as that of the semiconductor memory device of FIG. For this reason, the modification of the semiconductor memory device according to the third embodiment has the same effect as the modification of the semiconductor memory device according to the second embodiment.
[0155]
(Embodiment 4)
FIG. 12 is a schematic block diagram showing a semiconductor memory device according to the fourth embodiment. The same parts as those in FIG. 8 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted as appropriate. Here, the meanings of the basic chip, the divided chip, the original chip, and the unit chip are the same as those described in the second embodiment.
[0156]
Referring to FIG. 12, a
[0157]
The
[0158]
A case where the semiconductor memory device (base chip) of FIG. 12 is a divided chip will be described.
[0159]
The cutting of the dicing line is the same as when the semiconductor memory device of FIG. 8 is divided into chips. In a divided chip corresponding to the
[0160]
A case where the semiconductor memory device of FIG. 12 is used as the original chip will be described.
The cutting of the dicing line is the same as when the semiconductor memory device of FIG. Signals from the
[0161]
As described above, the semiconductor memory device according to the fourth embodiment can be a divided chip or an original chip. Further, the configuration is the same as that of the semiconductor memory device of FIG. Therefore, the semiconductor memory device according to the fourth embodiment has the same effects as the semiconductor memory device according to the second embodiment.
[0162]
In the semiconductor memory device according to the fourth embodiment, when the original chip is used, either
[0163]
When there are a plurality of
[0164]
FIG. 13 is a schematic block diagram showing a modification of the semiconductor memory device according to the fourth embodiment of the present invention. Note that portions similar to those in FIG. 9 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted as appropriate. Therefore, the characteristic part will be mainly described. Here, the meanings of the basic chip, the original chip, the divided chip, and the unit chip are the same as those described in the first embodiment.
[0165]
Referring to FIG. 13, output buffer block 111 is connected to pad 113. The
[0166]
A case where the semiconductor memory device of FIG. 13 is a divided chip will be described.
The cutting of the dicing line is the same as when the semiconductor memory device of FIG. 9 is divided into chips. The divided chip corresponding to the
[0167]
A case where the semiconductor memory device (basic chip) of FIG. 13 is used as the original chip will be described.
[0168]
Any of the
[0169]
As described above, in the modification of the semiconductor memory device according to the fourth embodiment, it can be a divided chip or an original chip. Furthermore, the modification of the semiconductor memory device according to the fourth embodiment has the same configuration as the modification of the semiconductor memory device according to the second embodiment. For this reason, the modification of the semiconductor memory device according to the fourth embodiment has the same effect as the modification of the semiconductor memory device according to the second embodiment.
[0170]
In the modification of the semiconductor memory device according to the fourth embodiment, in the case of the original chip, the
[0171]
(Embodiment 5)
FIG. 14 is a schematic block diagram showing a semiconductor memory device according to the fifth embodiment. Note that the semiconductor memory device of FIG. 14 is formed on a wafer, and is the one before the wafer is cut along a dicing line. In other words, the semiconductor memory device of FIG. 14 is the one before assembly. Such a semiconductor memory device shown in FIG. 14 may be referred to as a “basic chip”.
[0172]
Referring to FIG. 14, the semiconductor memory device according to the fifth embodiment includes a
[0173]
The
[0174]
The output nodes N of the four
[0175]
A method of using the semiconductor memory device of FIG. 14 will be described.
In the semiconductor memory device in FIG. 14, the
[0176]
Here, when the
[0177]
A semiconductor memory device in the case where the
[0178]
A case where the semiconductor memory device (basic chip) of FIG. 14 is a divided chip will be described. That is, a case where assembly is performed using the
[0179]
The base chip is cut along dicing
[0180]
A case where the semiconductor memory device (basic chip) of FIG. 14 is used as the original chip will be described.
[0181]
Cut along dicing
[0182]
As described above, the semiconductor memory device according to the fifth embodiment can be a divided chip or an original chip. Further, although not shown, the arrangement of the address buffer block and the plurality of pads corresponding to the address buffer block is the same as that of the semiconductor memory device of FIG. Therefore, the semiconductor memory device according to the fifth embodiment has the same effect as the semiconductor memory device according to the first embodiment.
[0183]
If a plurality of
[0184]
FIG. 15 is a schematic block diagram showing a modification of the semiconductor memory device according to the fifth embodiment. The same parts as those in FIG. 9 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted as appropriate. Therefore, the characteristic part will be described. Here, the meanings of the basic chip, the divided chip, the original chip, and the unit chip are the same as those described in the first embodiment.
[0185]
Referring to FIG. 15, output buffer block 111,
[0186]
A case where the semiconductor memory device (basic chip) of FIG. 15 is a divided chip will be described.
[0187]
The cutting of the dicing line is the same as when the semiconductor memory device of FIG. 9 is divided into chips. In the divided chip corresponding to the
[0188]
A case where the semiconductor memory device (basic chip) of FIG.
[0189]
The cutting of the dicing line is the same as when the semiconductor memory device of FIG. 9 is used as the original chip. Any of
[0190]
As described above, in the modification of the semiconductor memory device according to the fifth embodiment, it can be a divided chip or an original chip. Further, the modification of the semiconductor memory device according to the fifth embodiment has the same configuration as that of the semiconductor memory device of FIG. For this reason, the modification of the semiconductor memory device according to the fifth embodiment has the same effect as the modification of the semiconductor memory device according to the second embodiment.
[0191]
(Embodiment 6)
FIG. 16 is a schematic block diagram showing a semiconductor memory device according to the sixth embodiment.
[0192]
FIG. 16A is a plan view of the semiconductor memory device according to the sixth embodiment. FIG. 16B is a cross-sectional view of the semiconductor memory device shown in FIG.
[0193]
Note that the semiconductor memory device of FIG. 16 is formed on a wafer, and is the one before cutting the wafer along a dicing line. That is, the semiconductor memory device of FIG. 16 is the one before assembly. Such a semiconductor memory device of FIG. 16 may be called a “basic chip”.
[0194]
Referring to FIG. 16A, the semiconductor memory device according to the sixth embodiment includes a
[0195]
Referring to FIG. 16B, the
[0196]
The meanings of the divided chip, the original chip, and the unit chip are the same as those described in the second embodiment.
[0197]
Referring to FIG. 16, original chip dedicated
[0198]
When the semiconductor memory device of FIG. 16 is divided into chips, it is cut along dicing
[0199]
When the semiconductor memory device (basic chip) of FIG. 16 is used as the original chip, cutting is performed along dicing
[0200]
As described above, the semiconductor memory device according to the sixth embodiment can be a divided chip or an original chip. Further, although not shown, like the semiconductor memory device (base chip) of FIG. 1, the plurality of pads are arranged in the same direction, the address buffer block and the plurality of pads connected thereto are close to each other, and output The buffer block and a plurality of pads connected thereto are close to each other. Therefore, the semiconductor memory device according to the sixth embodiment has the same effect as the semiconductor memory device according to the first embodiment.
[0201]
Further, in the semiconductor memory device according to the sixth embodiment, when the basic chip is a divided chip, the original chip dedicated
[0202]
The original chip dedicated
[0203]
FIG. 17 is a schematic block diagram showing a part of a modification of the semiconductor memory device according to the sixth embodiment of the present invention. The same parts as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted as appropriate. Note that the semiconductor memory device of FIG. 17 is based on the semiconductor memory device of FIG. Therefore, the modification of the semiconductor memory device according to the sixth embodiment has the same effect as the semiconductor memory device according to the first embodiment. Mainly characteristic parts will be described.
[0204]
Referring to FIG. 17,
[0205]
As described above, in the modification of the semiconductor memory device according to the sixth embodiment, the
[0206]
7 to 15, a circuit or pad used only in the original chip, such as a selection circuit or a pad used in the selection circuit, can also be provided on a dicing line that is cut when the divided chip is used. In this case, the same effect as described above can be obtained.
[0207]
(Embodiment 7)
FIG. 18 is a schematic block diagram showing a semiconductor memory device according to the seventh embodiment. The meanings of the basic chip, the divided chip, the original chip, and the unit chip are the same as those described in the second embodiment.
[0208]
Referring to FIG. 18, the semiconductor memory device according to the seventh embodiment includes a
[0209]
The shared
[0210]
The
[0211]
When the semiconductor memory device of FIG. 18 is used as the original chip, it is cut along dicing
[0212]
When there is a defective bit (defective memory cell) in the memory cell matrix M1, cutting is performed along dicing
[0213]
On the other hand, when there is a defective bit (defective memory cell) in the memory cell matrix M2, cutting is performed along dicing
[0214]
FIG. 19 is a circuit diagram showing a specific example of the shared
[0215]
In FIG. 19, the shared
[0216]
In the case of the original chip, the
[0217]
When there is a defective memory cell that cannot be relieved in the memory cell matrix M1, it is cut along the dicing
[0218]
As described above, the semiconductor memory device according to the seventh embodiment can be a divided chip or an original chip. Further, in the semiconductor memory device according to the seventh embodiment, although not shown, the address buffer block and a plurality of pads connected thereto are arranged close to each other as shown in FIG. The plurality of pads to be connected are arranged close to each other, and the plurality of pads connected to the address buffer block and the plurality of pads connected to the output buffer block are all arranged in the same direction. Therefore, the semiconductor memory device according to the seventh embodiment has the same effect as the semiconductor memory device according to the first embodiment.
[0219]
Further, in the case where the semiconductor memory device according to the seventh embodiment is used as an original chip, circuits that can be shared by the two
[0220]
In the case of the original chip, a pad that can be shared by the two
[0221]
1, 2, 6, 9, 11, 13, and 15, the
[0222]
FIG. 20 is a schematic block diagram showing a modification of the semiconductor memory device according to the seventh embodiment of the present invention. Note that portions similar to those in FIG. 18 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted as appropriate.
[0223]
Referring to FIG. 20, the modification by the semiconductor memory device of the seventh embodiment includes a
[0224]
When there is a defective bit (defective memory cell) in the memory cell matrix M1, the plurality of
[0225]
When a defective bit (defective memory cell) exists in the memory cell matrix M2, the plurality of
[0226]
When the semiconductor memory device of FIG. 20 is used as the original chip, the plurality of
[0227]
As described above, the modification of the semiconductor memory device according to the seventh embodiment has all the configurations of the semiconductor memory device according to the seventh embodiment. For this reason, the modification of the semiconductor memory device according to the seventh embodiment has the same effect as the semiconductor memory device according to the seventh embodiment.
[0228]
Note that the
[0229]
FIG. 21 is a schematic block diagram showing another modification of the semiconductor memory device according to the seventh embodiment. Note that portions similar to those in FIG. 20 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted as appropriate.
[0230]
Referring to FIG. 21, another modification example of the semiconductor memory device according to the seventh embodiment includes a
[0231]
The plurality of
[0232]
When there is a defective bit (defective memory cell) in the memory cell matrix M1, a plurality of
[0233]
When there is a defective bit (defective memory cell) in the memory cell matrix M2, the plurality of
[0234]
When the semiconductor memory device of FIG. 21 is used as the original chip, the plurality of
[0235]
As described above, in another modification of the semiconductor memory device of the seventh embodiment, in the case of the original chip, the pads that can be shared by the two
[0236]
Further, the first and
[0237]
(Embodiment 8)
The semiconductor memory device according to the eighth embodiment is premised on the semiconductor memory device according to the first to seventh embodiments. Therefore, the semiconductor memory device according to the eighth embodiment has the same effects as the semiconductor memory devices according to the first to seventh embodiments. The characteristic part of the semiconductor memory device according to the eighth embodiment will be described below.
[0238]
FIG. 22 is a schematic diagram showing a characteristic part of the semiconductor memory device according to the eighth embodiment. The meanings of the basic chip, the divided chip, the original chip, and the unit chip are the same as described in the first to seventh embodiments.
[0239]
Referring to FIG. 22,
[0240]
The
[0241]
Therefore, when the
[0242]
When the semiconductor memory device of FIG. 22 is divided into chips, dicing
[0243]
FIG. 23 is a schematic diagram showing a modification of the semiconductor memory device according to the eighth embodiment. Note that portions similar to those in FIG. 22 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted as appropriate.
[0244]
Referring to FIG. 23,
[0245]
When the semiconductor memory device (basic chip) of FIG. 23 is a divided chip, it is cut along dicing
[0246]
FIG. 24 is a schematic diagram showing another modification of the semiconductor memory device according to the eighth embodiment. Note that portions similar to those in FIG. 23 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted as appropriate.
[0247]
Referring to FIG. 24,
[0248]
24 is cut along the dicing
[0249]
When the semiconductor memory device of FIG. 24 is divided into chips, dicing
[0250]
(Embodiment 9)
The semiconductor memory device according to the ninth embodiment is premised on the semiconductor memory device according to the first to eighth embodiments. Therefore, the semiconductor memory device according to the ninth embodiment has the same effects as the semiconductor memory devices according to the first to eighth embodiments.
[0251]
In the basic chip, the first storage device and the second storage device may be connected by a metal wiring such as aluminum. At this time, when cutting along the dicing line in order to make the basic chip into divided chips, damage may be caused by the cutting. That is, a crack or the like may occur on the cut surface cut along the dicing line. The semiconductor memory device according to the ninth embodiment has been made to solve such a problem.
[0252]
Hereinafter, the characteristic part will be described.
FIG. 25 is a schematic diagram showing a characteristic part of the semiconductor memory device according to the ninth embodiment.
[0253]
Referring to FIG. 25,
[0254]
Referring to FIG. 25, when the
[0255]
As described above, in the semiconductor memory device according to the ninth embodiment, when divided chips are used, the
[0256]
FIG. 26 is a schematic diagram showing a modification of the semiconductor memory device according to the ninth embodiment. Note that portions similar to those in FIG. 25 are denoted by the same reference numerals, and the connection thereof is omitted as appropriate.
[0257]
Referring to FIG. 26, predetermined portions (indicated by arrows A and B) on both sides of dicing
[0258]
Further, in order to facilitate the cutting with the laser as shown in the description of FIG. 25, the semiconductor memory device can be configured as follows.
[0259]
FIG. 27 is a schematic diagram showing another modification of the semiconductor memory device according to the ninth embodiment. Note that portions similar to those in FIG. 25 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted as appropriate.
[0260]
Referring to FIG. 27, in the basic chip,
[0261]
Instead of
[0262]
Cutting with a laser as shown in the description of FIG. 25 is performed on
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic block diagram showing a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention.
2 is a diagram for explaining in detail the semiconductor memory device of FIG. 1; FIG.
3 is a circuit diagram showing details of a part of the semiconductor memory device of FIG. 2;
4 is a schematic block diagram showing a part of a selection circuit used when the semiconductor memory device of FIG. 2 is used as an original chip;
5 is a detailed circuit diagram showing another part of the selection circuit used when the semiconductor memory device of FIG. 2 is used as the original chip; FIG.
FIG. 6 is a schematic block diagram showing a modification of the semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 7 is a schematic block diagram showing another modification of the semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 8 is a schematic block diagram showing a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 9 is a schematic block diagram showing a modification of the semiconductor memory device according to the second embodiment of the present invention.
FIG. 10 is a schematic block diagram showing a semiconductor memory device according to a third embodiment of the present invention.
FIG. 11 is a schematic block diagram showing a modification of the semiconductor memory device according to the third embodiment of the present invention.
FIG. 12 is a schematic block diagram showing a semiconductor memory device according to a fourth embodiment of the present invention.
FIG. 13 is a schematic block diagram showing a modification of the semiconductor memory device according to the fourth embodiment of the present invention.
FIG. 14 is a schematic block diagram showing a semiconductor memory device according to a fifth embodiment of the present invention.
FIG. 15 is a schematic block diagram showing a modification of the semiconductor memory device according to the fifth embodiment of the present invention.
FIG. 16 is a schematic block diagram showing a semiconductor memory device according to a sixth embodiment of the present invention.
FIG. 17 is a schematic block diagram showing a part of a modification of the semiconductor memory device according to the sixth embodiment of the present invention;
FIG. 18 is a schematic block diagram showing a semiconductor memory device according to a seventh embodiment of the present invention.
19 is a circuit diagram showing a specific example of the shared circuit of FIG. 18;
FIG. 20 is a schematic block diagram showing a modification of the semiconductor memory device according to the seventh embodiment of the present invention.
FIG. 21 is a schematic block diagram showing another modification of the semiconductor memory device according to the seventh embodiment of the present invention.
FIG. 22 is a schematic diagram showing a characteristic part of a semiconductor memory device according to an eighth embodiment of the present invention.
FIG. 23 is a schematic diagram showing a modification of the semiconductor memory device according to the eighth embodiment of the present invention.
FIG. 24 is a schematic diagram showing another modification of the semiconductor memory device according to the eighth embodiment of the present invention.
FIG. 25 is a schematic diagram showing a characteristic part of a semiconductor memory device according to a ninth embodiment of the present invention.
FIG. 26 is a schematic diagram showing a modification of the semiconductor memory device according to the ninth embodiment of the present invention.
FIG. 27 is a schematic diagram showing another modification of the semiconductor memory device according to the ninth embodiment of the present invention.
FIG. 28 is a schematic view showing a conventional semiconductor memory device formed on a wafer.
29 is an enlarged view of one of a plurality of conventional semiconductor memory devices formed on the wafer of FIG. 28. FIG.
[Explanation of symbols]
1-23, 501-513, 537-559, 593-601, 615-621, 643, 645, 663, 665, 669, 671, 697 dicing line, 29, 35 buffer, 37, 41, 45, 49, 631 NAND circuit, 39, 43, 47, 51, 629 Inverter, 100, 525, 585, 603, 626, 639, 679 First storage device, 25, 31, 101, 103, 113, 201, 213, 301, 303 , 313, 401, 413, 517, 521, 523, 569 to 575, 637, 673, 675, 701, 703 pad, 105, 205, 305, 405, 705 Address buffer block, 107, 207, 307, 407, 711 Decoder, 109, 209, 309, 409, 707 sense amplifier Block, 111, 211, 311, 411, 709 output buffer block, 27, 33, 115, 215, 217, 219, 315, 415, 417, 419, 529, 531, 577 to 583, 633, 635 fuse, 116, 216, 316, 416 Sense amplifier, 118, 218, 318, 418, 515, 519, 561 to 567 Output buffer, 121, 221, 321, 421 Data input / output line section, 123, 223, 323, 423 Column selection circuit block 124 memory cells, 125 word lines, 126, 226, 326, 426 column selection circuits, 127 column selection lines, 129, 131 NMOS transistors, 200, 527, 587, 605, 628, 641, 681 second storage device, 300,589 Third storage device 400, 91 Fourth memory device, 533, 655, 657 lead frame, 535, 659, 661, 667 wire, 607 original chip dedicated circuit, 609 glass coat, 661 silicon substrate, 613 selection circuit, 627 shared circuit, 647, 649, 651, 653 power supply pad, 677, 683-687 metal wiring, 689, 691 polysilicon, 693 contact hole, 695 wafer, 699 semiconductor memory device.
Claims (18)
情報の読出または書込を行なう第1の記憶装置と、
情報の読出または書込を行なう第2の記憶装置とを備え、
前記第1の記憶装置は、
複数の第1の信号の授受を行なうための複数の第1のバッファを含む第1のバッファブロックと、
第2の信号の授受を行なうための第2のバッファを含む第2のバッファブロックと、
前記複数の第1のバッファに接続され、外部に対して、前記複数の第1の信号の授受を行なうための複数の第1のパッドを含む第1のパッドブロックと、
前記第2のバッファに接続され、外部に対して、前記第2の信号の授受を行なうための第2のパッドを含む第2のパッドブロックとを含み、
前記第2の記憶装置は、
複数の第3の信号の授受を行なうための複数の第3のバッファを含む第3のバッファブロックと、
第4の信号の授受を行なうための第4のバッファを含む第4のバッファブロックと、
前記複数の第3のバッファに接続され、外部に対して、前記複数の第3の信号の授受を行なうための複数の第3のパッドを含む第3のパッドブロックと、
前記第4のバッファに接続され、外部に対して、前記第4の信号の授受を行なうための第4のパッドを含む第4のパッドブロックとを含み、
第1および第2の記憶装置を別々の記憶装置としてアセンブリを行なう場合は、前記第1の記憶装置と、前記第2の記憶装置との間を切断し、
前記第1および第2の記憶装置を1つの記憶装置としてアセンブリを行ない、使用する場合は、前記第2のバッファおよび前記第4のバッファは、対応する前記第3のパッドに接続され、前記対応する第3のパッドは、前記第2の信号および前記第4の信号の授受に用いられ、前記複数の第1の信号および前記複数の第3の信号の授受には、前記複数の第1のバッファおよび前記複数の第1のパッドが用いられ、
前記半導体記憶装置は、前記第3のパッドを、前記第2の信号または前記第4の信号のいずれのために用いるかを選択する選択手段をさらに備え、
前記第1および第2の記憶装置を1つの記憶装置として、アセンブリを行ない、使用する場合に、前記選択手段は用いられ、
前記第1および第2の記憶装置を1つの記憶装置としてアセンブリを行ない、使用する場合において、外部からの選択信号により、前記第1の記憶装置が選択されたときには、前記複数の第1のパッドは、前記複数の第1の信号の授受のために用いられ、前記選択信号により前記第2の記憶装置が選択されたときには、前記複数の第1のパッドは、前記複数の第3の信号の授受のために用いられる、半導体記憶装置。A semiconductor memory device,
A first storage device for reading or writing information;
A second storage device for reading or writing information,
The first storage device
A first buffer block including a plurality of first buffers for transmitting and receiving a plurality of first signals;
A second buffer block including a second buffer for transmitting and receiving a second signal;
A first pad block connected to the plurality of first buffers and including a plurality of first pads for sending and receiving the plurality of first signals to the outside;
A second pad block connected to the second buffer and including a second pad for transmitting and receiving the second signal to the outside;
The second storage device
A third buffer block including a plurality of third buffers for transmitting and receiving a plurality of third signals;
A fourth buffer block including a fourth buffer for transmitting and receiving a fourth signal;
A third pad block connected to the plurality of third buffers and including a plurality of third pads for sending and receiving the plurality of third signals to the outside;
A fourth pad block connected to the fourth buffer and including a fourth pad for transmitting and receiving the fourth signal to the outside;
When assembly is performed using the first and second storage devices as separate storage devices, the first storage device and the second storage device are disconnected.
When the first and second storage devices are assembled and used as one storage device, the second buffer and the fourth buffer are connected to the corresponding third pad, and the corresponding The third pad is used for transmission / reception of the second signal and the fourth signal, and for transmission / reception of the plurality of first signals and the plurality of third signals, the plurality of first signals A buffer and the plurality of first pads are used;
The semiconductor memory device further includes selection means for selecting whether the third pad is used for the second signal or the fourth signal.
The selection means is used when the first and second storage devices are used as one storage device for assembly.
When the first and second storage devices are assembled and used as one storage device and the first storage device is selected by an external selection signal, the plurality of first pads are used. Is used for transmission / reception of the plurality of first signals, and when the second storage device is selected by the selection signal, the plurality of first pads are connected to the plurality of third signals. A semiconductor memory device used for giving and receiving.
情報の読出または書込を行なう第1の記憶装置と、
情報の読出または書込を行なう第2の記憶装置とを備え、
前記第1の記憶装置は、
複数の第1の信号の授受を行なうための複数の第1のバッファを含む第1のバッファブロックと、
第2の信号の授受を行なうための第2のバッファを含む第2のバッファブロックと、
前記複数の第1のバッファに接続され、外部に対して、前記複数の第1の信号の授受を行なうための複数の第1のパッドを含む第1のパッドブロックと、
前記第2のバッファに接続され、外部に対して、前記第2の信号の授受を行なうための第2のパッドを含む第2のパッドブロックとを含み、
前記第2の記憶装置は、
複数の第3の信号の授受を行なうための複数の第3のバッファを含む第3のバッファブロックと、
第4の信号の授受を行なうための第4のバッファを含む第4のバッファブロックと、
前記複数の第3のバッファに接続され、外部に対して、前記複数の第3の信号の授受を行なうための複数の第3のパッドを含む第3のパッドブロックと、
前記第4のバッファに接続され、外部に対して、前記第4の信号の授受を行なうための第4のパッドを含む第4のパッドブロックとを含み、
前記半導体記憶装置は、第5のパッドをさらに備え、
前記第2のパッドおよび前記第4のパッドは、前記第5のパッドに接続され、
前記第1および第2の記憶装置を別々の記憶装置としてアセンブリを行なう場合は、前記第1の記憶装置と、前記第2の記憶装置との間を切断し、前記第5のパッドは、用いられず、
前記第1および第2の記憶装置を1つの記憶装置としてアセンブリを行ない、使用する場合は、前記第5のパッドは、前記第2の信号および前記第4の信号の授受のために用いられ、
前記半導体記憶装置は、前記第5のパッドを、前記第2の信号または前記第4の信号のいずれのために用いるかを選択する選択手段をさらに備え、
前記第1および第2の記憶装置を1つの記憶装置としてアセンブリを行ない、使用する場合に、前記選択手段は用いられ、
前記複数の第1のパッド、前記複数の第3のパッド、前記複数の第1のバッファおよび前記複数の第3のバッファは、所定の方向に配置され、
前記第1のパッドブロックと、前記第1のバッファブロックとは近接し、
前記第2のパッドブロックと、前記第2のバッファブロックとは近接し、
前記第3のパッドブロックと、前記第3のバッファブロックとは近接し、
前記第4のパッドブロックと、前記第4のバッファブロックとは近接する、半導体記憶装置。A semiconductor memory device,
A first storage device for reading or writing information;
A second storage device for reading or writing information,
The first storage device
A first buffer block including a plurality of first buffers for transmitting and receiving a plurality of first signals;
A second buffer block including a second buffer for transmitting and receiving a second signal;
A first pad block connected to the plurality of first buffers and including a plurality of first pads for sending and receiving the plurality of first signals to the outside;
A second pad block connected to the second buffer and including a second pad for transmitting and receiving the second signal to the outside;
The second storage device
A third buffer block including a plurality of third buffers for transmitting and receiving a plurality of third signals;
A fourth buffer block including a fourth buffer for transmitting and receiving a fourth signal;
A third pad block connected to the plurality of third buffers and including a plurality of third pads for sending and receiving the plurality of third signals to the outside;
A fourth pad block connected to the fourth buffer and including a fourth pad for transmitting and receiving the fourth signal to the outside;
The semiconductor memory device further includes a fifth pad,
The second pad and the fourth pad are connected to the fifth pad;
When assembling the first storage device and the second storage device as separate storage devices, the first storage device and the second storage device are disconnected, and the fifth pad is used. Not
When the first and second storage devices are assembled and used as one storage device, the fifth pad is used for transmission and reception of the second signal and the fourth signal when used.
The semiconductor memory device further includes selection means for selecting whether the fifth pad is used for the second signal or the fourth signal.
The selection means is used when the first and second storage devices are assembled and used as one storage device.
The plurality of first pads, the plurality of third pads, the plurality of first buffers, and the plurality of third buffers are arranged in a predetermined direction,
The first pad block and the first buffer block are close to each other,
The second pad block and the second buffer block are close to each other,
The third pad block and the third buffer block are close to each other,
The semiconductor memory device, wherein the fourth pad block and the fourth buffer block are close to each other.
情報の読出または書込を行なう第1の記憶装置と、
情報の読出または書込を行なう第2の記憶装置とを備え、
前記第1の記憶装置は、
複数の第1の信号の授受を行なうための複数の第1のバッファを含む第1のバッファブロックと、
第2の信号の授受を行なうための第2のバッファを含む第2のバッファブロックと、
前記複数の第1のバッファに接続され、外部に対して、前記複数の第1の信号の授受を行なうための複数の第1のパッドを含む第1のパッドブロックと、
前記第2のバッファに接続され、外部に対して、前記第2の信号の授受を行なうための第2のパッドを含む第2のパッドブロックとを含み、
前記第2の記憶装置は、
複数の第3の信号の授受を行なうための複数の第3のバッファを含む第3のバッファブロックと、
第4の信号の授受を行なうための第4のバッファを含む第4のバッファブロックと、
前記複数の第3のバッファに接続され、外部に対して、前記複数の第3の信号の授受を行なうための複数の第3のパッドを含む第3のパッドブロックと、
前記第4のバッファに接続され、外部に対して、前記第4の信号の授受を行なうための第4のパッドを含む第4のパッドブロックとを含み、
前記半導体記憶装置は、第5のパッドをさらに備え、
前記第2のバッファ、前記第2のパッド、前記第4のバッファおよび前記第4のパッドは、前記第5のパッドに接続され、
前記第1および第2の記憶装置を別々の記憶装置としてアセンブリを行なう場合は、前記第1の記憶装置と、前記第2の記憶装置との間を切断し、前記第5のパッドは、用いられず、
前記第1および第2の記憶装置を1つの記憶装置としてアセンブリを行ない、使用する場合は、前記第2のパッドと前記第2のバッファとの接続は断たれ、前記第4のパッドと前記第4のバッファとの接続は断たれ、前記第5のパッドは、前記第2の信号および前記第4の信号の授受のために用いられ、
前記半導体記憶装置は、前記第5のパッドを、前記第2の信号または前記第4の信号のいずれのために用いるかを選択する選択手段をさらに備え、
前記第1および第2の記憶装置を1つの記憶装置としてアセンブリを行ない、使用する場合に、前記選択手段は用いられ、
前記複数の第1のパッド、前記複数の第3のパッド、前記複数の第1のバッファおよび前記複数の第3のバッファは、所定の方向に配置され、
前記第1のパッドブロックと、前記第1のバッファブロックとは近接し、
前記第2のパッドブロックと、前記第2のバッファブロックとは近接し、
前記第3のパッドブロックと、前記第3のバッファブロックとは近接し、
前記第4のパッドブロックと、前記第4のバッファブロックとは近接する、半導体記憶装置。A semiconductor memory device,
A first storage device for reading or writing information;
A second storage device for reading or writing information,
The first storage device
A first buffer block including a plurality of first buffers for transmitting and receiving a plurality of first signals;
A second buffer block including a second buffer for transmitting and receiving a second signal;
A first pad block connected to the plurality of first buffers and including a plurality of first pads for sending and receiving the plurality of first signals to the outside;
A second pad block connected to the second buffer and including a second pad for transmitting and receiving the second signal to the outside;
The second storage device
A third buffer block including a plurality of third buffers for transmitting and receiving a plurality of third signals;
A fourth buffer block including a fourth buffer for transmitting and receiving a fourth signal;
A third pad block connected to the plurality of third buffers and including a plurality of third pads for sending and receiving the plurality of third signals to the outside;
A fourth pad block connected to the fourth buffer and including a fourth pad for transmitting and receiving the fourth signal to the outside;
The semiconductor memory device further includes a fifth pad,
The second buffer, the second pad, the fourth buffer, and the fourth pad are connected to the fifth pad;
When assembling the first storage device and the second storage device as separate storage devices, the first storage device and the second storage device are disconnected, and the fifth pad is used. Not
When the first and second storage devices are assembled and used as one storage device, the second pad and the second buffer are disconnected from each other, and the fourth pad and the second storage device are disconnected. 4 buffer is disconnected, and the fifth pad is used to send and receive the second signal and the fourth signal,
The semiconductor memory device further includes selection means for selecting whether the fifth pad is used for the second signal or the fourth signal.
The selection means is used when the first and second storage devices are assembled and used as one storage device.
The plurality of first pads, the plurality of third pads, the plurality of first buffers, and the plurality of third buffers are arranged in a predetermined direction,
The first pad block and the first buffer block are close to each other,
The second pad block and the second buffer block are close to each other,
The third pad block and the third buffer block are close to each other,
The semiconductor memory device, wherein the fourth pad block and the fourth buffer block are close to each other.
情報の読出または書込を行なう第1の記憶装置と、
情報の読出または書込を行なう第2の記憶装置とを備え、
前記第1の記憶装置は、
複数の第1の信号の授受を行なうための複数の第1のバッファを含む第1のバッファブロックと、
第2の信号の授受を行なうための第2のバッファを含む第2のバッファブロックと、
前記複数の第1のバッファに接続され、外部に対して、前記複数の第1の信号の授受を行なうための複数の第1のパッドを含む第1のパッドブロックと、
前記第2のバッファに接続され、外部に対して、前記第2の信号の授受を行なうための第2のパッドを含む第2のパッドブロックとを含み、
前記第2の記憶装置は、
複数の第3の信号の授受を行なうための複数の第3のバッファを含む第3のバッファブロックと、
第4の信号の授受を行なうための第4のバッファを含む第4のバッファブロックと、
前記複数の第3のバッファに接続され、外部に対して、前記複数の第3の信号の授受を行なうための複数の第3のパッドを含む第3のパッドブロックと、
前記第4のバッファに接続され、外部に対して、前記第4の信号の授受を行なうための第4のパッドを含む第4のパッドブロックとを含み、
前記第2のパッドと、前記第4のパッドとは接続され、
前記第1および第2の記憶装置を別々の記憶装置としてアセンブリを行なう場合は、前記第1の記憶装置と、前記第2の記憶装置との間を切断し、
前記第1および第2の記憶装置を1つの記憶装置としてアセンブリを行ない、使用する場合は、前記第1の信号および前記第2の信号の授受に、前記第2のパッドまたは前記第4のパッドのいずれをも用いることができ、
前記半導体記憶装置は、前記第2のパッドおよび前記第4のパッドを、前記第2の信号または前記第4の信号のいずれのために用いるかを選択する選択手段をさらに備え、
前記第1および第2の記憶装置を1つの記憶装置としてアセンブリを行ない、使用する場合に、前記選択手段は用いられ、
前記複数の第1のパッド、前記複数の第3のパッド、前記複数の第1のバッファおよび前記複数の第3のバッファは、所定の方向に配置され、
前記第1のパッドブロックと、前記第1のバッファブロックとは近接し、
前記第2のパッドブロックと、前記第2のバッファブロックとは近接し、
前記第3のパッドブロックと、前記第3のバッファブロックとは近接し、
前記第4のパッドブロックと、前記第4のバッファブロックとは近接する、半導体記憶装置。A semiconductor memory device,
A first storage device for reading or writing information;
A second storage device for reading or writing information,
The first storage device
A first buffer block including a plurality of first buffers for transmitting and receiving a plurality of first signals;
A second buffer block including a second buffer for transmitting and receiving a second signal;
A first pad block connected to the plurality of first buffers and including a plurality of first pads for sending and receiving the plurality of first signals to the outside;
A second pad block connected to the second buffer and including a second pad for transmitting and receiving the second signal to the outside;
The second storage device
A third buffer block including a plurality of third buffers for transmitting and receiving a plurality of third signals;
A fourth buffer block including a fourth buffer for transmitting and receiving a fourth signal;
A third pad block connected to the plurality of third buffers and including a plurality of third pads for sending and receiving the plurality of third signals to the outside;
A fourth pad block connected to the fourth buffer and including a fourth pad for transmitting and receiving the fourth signal to the outside;
The second pad and the fourth pad are connected,
When assembling the first storage device and the second storage device as separate storage devices, the first storage device and the second storage device are disconnected,
When the first and second storage devices are assembled and used as a single storage device, when the first signal and the second signal are exchanged, the second pad or the fourth pad is used. Any of these can be used,
The semiconductor memory device further includes selection means for selecting whether the second pad or the fourth pad is used for the second signal or the fourth signal,
The selection means is used when the first and second storage devices are assembled and used as one storage device.
The plurality of first pads, the plurality of third pads, the plurality of first buffers, and the plurality of third buffers are arranged in a predetermined direction,
The first pad block and the first buffer block are close to each other,
The second pad block and the second buffer block are close to each other,
The third pad block and the third buffer block are close to each other,
The semiconductor memory device, wherein the fourth pad block and the fourth buffer block are close to each other.
情報の読出または書込を行なう第1の記憶装置と、
情報の読出または書込を行なう第2の記憶装置とを備え、
前記第1の記憶装置は、
複数の第1の信号の授受を行なうための複数の第1のバッファを含む第1のバッファブロックと、
第2の信号の授受を行なうための第2のバッファを含む第2のバッファブロックと、
前記複数の第1のバッファに接続され、外部に対して、前記複数の第1の信号の授受を行なうための複数の第1のパッドを含む第1のパッドブロックと、
前記第2のバッファに接続され、外部に対して、前記第2の信号の授受を行なうための第2のパッドを含む第2のパッドブロックとを含み、
前記第2の記憶装置は、
複数の第3の信号の授受を行なうための複数の第3のバッファを含む第3のバッファブロックと、
第4の信号の授受を行なうための第4のバッファを含む第4のバッファブロックと、
前記複数の第3のバッファに接続され、外部に対して、前記複数の第3の信号の授受を行なうための複数の第3のパッドを含む第3のパッドブロックと、
前記第4のバッファに接続され、外部に対して、前記第4の信号の授受を行なうための第4のパッドを含む第4のパッドブロックと、
前記第2のバッファと、第4のバッファとは接続され、
前記第1および第2の記憶装置を別々の記憶装置としてアセンブリを行なう場合は、前記第1の記憶装置と、前記第2の記憶装置との間を切断し、
前記第1および第2の記憶装置を1つの記憶装置としてアセンブリを行なう場合は、前記第2のバッファと前記第2のパッドとの間の接続または前記第4のバッファと前記第4のパッドとの間の接続のいずれかを断ち、前記第2のバッファと前記第2のパッドとの接続が断たれた場合は、前記第4のパッドが前記第2の信号および前記第4の信号の授受に用いられ、前記第4のバッファと前記第4のパッドとの接続が断たれた場合は、前記第2のパッドが前記第2の信号および前記第4の信号の授受に用いられ、
前記半導体記憶装置は、前記第2のパッドおよび前記第4のパッドを、前記第2の信号または前記第4の信号のいずれのために用いるかを選択する選択手段をさらに備え、
前記第1および第2の記憶装置を1つの記憶装置としてアセンブリを行ない、使用する場合に、前記選択手段は用いられ、
前記複数の第1のパッド、前記複数の第3のパッド、前記複数の第1のバッファおよび前記複数の第3のバッファは、所定の方向に配置され、
前記第1のパッドブロックと、前記第1のバッファブロックとは近接し、
前記第2のパッドブロックと、前記第2のバッファブロックとは近接し、
前記第3のパッドブロックと、前記第3のバッファブロックとは近接し、
前記第4のパッドブロックと、前記第4のバッファブロックとは近接する、半導体記憶装置。A semiconductor memory device,
A first storage device for reading or writing information;
A second storage device for reading or writing information,
The first storage device
A first buffer block including a plurality of first buffers for transmitting and receiving a plurality of first signals;
A second buffer block including a second buffer for transmitting and receiving a second signal;
A first pad block connected to the plurality of first buffers and including a plurality of first pads for sending and receiving the plurality of first signals to the outside;
A second pad block connected to the second buffer and including a second pad for transmitting and receiving the second signal to the outside;
The second storage device
A third buffer block including a plurality of third buffers for transmitting and receiving a plurality of third signals;
A fourth buffer block including a fourth buffer for transmitting and receiving a fourth signal;
A third pad block connected to the plurality of third buffers and including a plurality of third pads for sending and receiving the plurality of third signals to the outside;
A fourth pad block connected to the fourth buffer and including a fourth pad for exchanging the fourth signal to the outside;
The second buffer and the fourth buffer are connected;
When assembling the first storage device and the second storage device as separate storage devices, the first storage device and the second storage device are disconnected,
When the assembly is performed with the first and second storage devices as one storage device, the connection between the second buffer and the second pad or the fourth buffer and the fourth pad When the connection between the second buffer and the second pad is disconnected, the fourth pad transmits and receives the second signal and the fourth signal. And when the connection between the fourth buffer and the fourth pad is broken, the second pad is used for sending and receiving the second signal and the fourth signal,
The semiconductor memory device further includes selection means for selecting whether the second pad or the fourth pad is used for the second signal or the fourth signal,
The selection means is used when the first and second storage devices are assembled and used as one storage device.
The plurality of first pads, the plurality of third pads, the plurality of first buffers, and the plurality of third buffers are arranged in a predetermined direction,
The first pad block and the first buffer block are close to each other,
The second pad block and the second buffer block are close to each other,
The third pad block and the third buffer block are close to each other,
The semiconductor memory device, wherein the fourth pad block and the fourth buffer block are close to each other.
情報の読出または書込を行なう第1の記憶装置と、
情報の読出または書込を行なう第2の記憶装置とを備え、
前記第1の記憶装置は、
複数の第1の信号の授受を行なうための複数の第1のバッファを含む第1のバッファブロックと、
第2の信号の授受を行なうための第2のバッファを含む第2のバッファブロックと、
前記複数の第1のバッファに接続され、外部に対して、前記複数の第1の信号の授受を行なうための複数の第1のパッドを含む第1のパッドブロックと、
前記第2のバッファに接続され、外部に対して、前記第2の信号の授受を行なうための第2のパッドを含む第2のパッドブロックとを含み、
前記第2の記憶装置は、
複数の第3の信号の授受を行なうための複数の第3のバッファを含む第3のバッファブロックと、
第4の信号の授受を行なうための第4のバッファを含む第4のバッファブロックと、
前記複数の第3のバッファに接続され、外部に対して、前記複数の第3の信号の授受を行なうための複数の第3のパッドを含む第3のパッドブロックと、
前記第4のバッファに接続され、外部に対して、前記第4の信号の授受を行なうための第4のパッドを含む第4のパッドブロックとを含み、
前記第1および第2の記憶装置を別々の記憶装置としてアセンブリを行なう場合は、前記第1の記憶装置と、前記第2の記憶装置との間を切断し、
前記第1および第2の記憶装置を1つの記憶装置としてアセンブリを行ない、使用する場合は、前記第2のバッファは、前記第3のパッドに接続され、前記第4のバッファは、前記第2のバッファが接続される前記第3のパッドとは異なる前記第3のパッドに接続され、前記第2のバッファが接続される前記第3のパッドは、前記第2の信号の授受に用いられ、前記第4のバッファに接続される前記第3のパッドは、前記第4の信号の授受に用いられ、前記複数の第1の信号および前記複数の第3の信号の授受には、前記複数の第1のバッファおよび前記複数の第1のパッドが用いられ、前記第2のパッドは、前記第2の信号の授受のためには用いられず、前記第4のパッドは、前記第4の信号の授受には用いられず、前記第3のバッファブロックは、前記複数の第3の信号の授受には用いられず、
前記第1のパッドブロックは、前記第1の記憶装置または前記第2の記憶装置を選択するための選択信号の授受のための第5のパッドをさらに含み、
前記第1のバッファブロックは、前記選択信号の授受のための第5のバッファをさらに含み、
前記第1および第2の記憶装置を1つの記憶装置としてアセンブリを行ない、使用する場合に、前記第5のパッドおよび前記第5のバッファが用いられ、前記選択信号により、前記第1の記憶装置が選択されたときには、前記複数の第1のパッドは、前記複数の第1の信号の授受のために用いられ、前記選択信号により前記第2の記憶装置が選択されたときには、前記複数の第1のパッドは、前記複数の第3の信号の授受のために用いられ、
前記複数の第1のパッド、前記複数の第3のパッド、前記第5のパッド、前記複数の第1のバッファ、前記複数の第3のバッファおよび前記第5のバッファは、所定の方向に配置され、
前記第1のパッドブロックと、前記第1のバッファブロックとは近接し、
前記第2のパッドブロックと、前記第2のバッファブロックとは近接し、
前記第3のパッドブロックと、前記第3のバッファブロックとは近接し、
前記第4のパッドブロックと、前記第4のバッファブロックとは近接する、半導体記憶装置。A semiconductor memory device,
A first storage device for reading or writing information;
A second storage device for reading or writing information,
The first storage device
A first buffer block including a plurality of first buffers for transmitting and receiving a plurality of first signals;
A second buffer block including a second buffer for transmitting and receiving a second signal;
A first pad block connected to the plurality of first buffers and including a plurality of first pads for sending and receiving the plurality of first signals to the outside;
A second pad block connected to the second buffer and including a second pad for transmitting and receiving the second signal to the outside;
The second storage device
A third buffer block including a plurality of third buffers for transmitting and receiving a plurality of third signals;
A fourth buffer block including a fourth buffer for transmitting and receiving a fourth signal;
A third pad block connected to the plurality of third buffers and including a plurality of third pads for sending and receiving the plurality of third signals to the outside;
A fourth pad block connected to the fourth buffer and including a fourth pad for transmitting and receiving the fourth signal to the outside;
When assembling the first storage device and the second storage device as separate storage devices, the first storage device and the second storage device are disconnected,
When the first and second storage devices are assembled and used as one storage device, the second buffer is connected to the third pad, and the fourth buffer is connected to the second storage device. The third pad is connected to the third pad different from the third pad to which the buffer is connected, and the third pad to which the second buffer is connected is used for sending and receiving the second signal, The third pad connected to the fourth buffer is used for transmission / reception of the fourth signal, and for transmission / reception of the plurality of first signals and the plurality of third signals, The first buffer and the plurality of first pads are used, the second pad is not used for transferring the second signal, and the fourth pad is the fourth signal. The third buffer buffer is not used for Click is not used for transfer of the plurality of third signals,
The first pad block further includes a fifth pad for exchanging a selection signal for selecting the first storage device or the second storage device,
The first buffer block further includes a fifth buffer for exchanging the selection signal,
When the first and second storage devices are assembled and used as one storage device, the fifth pad and the fifth buffer are used, and the first storage device is determined by the selection signal. Is selected, the plurality of first pads are used for transmission / reception of the plurality of first signals. When the second storage device is selected by the selection signal, the plurality of first pads is used. 1 pad is used for sending and receiving the plurality of third signals,
The plurality of first pads, the plurality of third pads, the fifth pad, the plurality of first buffers, the plurality of third buffers, and the fifth buffer are arranged in a predetermined direction. And
The first pad block and the first buffer block are close to each other,
The second pad block and the second buffer block are close to each other,
The third pad block and the third buffer block are close to each other,
The semiconductor memory device, wherein the fourth pad block and the fourth buffer block are close to each other.
前記第1の記憶装置と前記第2の記憶装置とを接続する配線が、前記ダイシングライン上を通っている場合において、前記ダイシングラインに沿った切断を行なうときには、その切断の前に、前記配線のうち、前記ダイシングラインの両側にある部分を切断する、請求項1から6のいずれか1項に記載の半導体記憶装置。The first storage device and the second storage device are arranged via a dicing line,
When the wiring connecting the first storage device and the second storage device passes on the dicing line, when cutting along the dicing line, before the cutting, the wiring 7. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein portions on both sides of the dicing line are cut.
前記第1または第2の記憶装置のいずれかが不要の場合は、必要な方の第1または第2の記憶装置の一部として、前記共用できる回路またはパッドを含めて、アセンブリを行なう、請求項1から6のいずれか1項に記載の半導体記憶装置。Between the first storage device and the second storage device, a circuit or a pad that can be shared by the first and second storage devices is disposed,
If either the first or second storage device is not required, the assembly is performed including the shareable circuit or pad as part of the required first or second storage device. Item 7. The semiconductor memory device according to any one of Items 1 to 6.
不要な方の前記第1または第2の記憶装置と、前記共用できる回路またはパッドとの間のヒューズを切断してアセンブリを行なう、請求項10に記載の半導体記憶装置。The shareable circuit or pad and the first and second storage devices are connected by a fuse,
The semiconductor memory device according to claim 10, wherein assembly is performed by cutting a fuse between the unnecessary first or second memory device and the shared circuit or pad.
前記ダイシングライン上に、前記第1および第2の記憶装置を1つの記憶装置として、アセンブリを行ない、使用するときのみ用いる回路またはパッドが配置される、請求項1から6のいずれか1項に記載の半導体記憶装置。The first storage device and the second storage device are arranged via a dicing line,
7. The circuit or pad according to claim 1, wherein a circuit or a pad used only when the assembly is performed and used is arranged on the dicing line with the first and second storage devices as one storage device. The semiconductor memory device described.
前記第1の記憶装置は、
そこに電源電位を供給するための第1の電源パッドをさらに含み、
前記第2の記憶装置は、
そこに電源電位を供給するための第2の電源パッドをさらに含み、
前記第1および第2の電源パッドは、前記ダイシングラインの対応する区分の一方の端点近傍に配置される、請求項1から6のいずれか1項に記載の半導体記憶装置。The first storage device and the second storage device are arranged via corresponding sections of a dicing line,
The first storage device
A first power supply pad for supplying a power supply potential thereto;
The second storage device
A second power supply pad for supplying a power supply potential thereto;
The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the first and second power supply pads are arranged in the vicinity of one end point of a corresponding section of the dicing line.
前記第1の電源パッドに接続される第3の電源パッドをさらに含み、
前記第2の記憶装置は、
前記第2の電源パッドに接続される第4の電源パッドをさらに含む、請求項13に記載の半導体記憶装置。The first storage device
A third power pad connected to the first power pad;
The second storage device
The semiconductor memory device according to claim 13, further comprising a fourth power supply pad connected to the second power supply pad.
前記第2または第4の電源パッドのいずれかを用いて、外部から前記電源電位を供給する、請求項14に記載の半導体記憶装置。When using the first and second storage devices as a single storage device, the first power supply pad and the second power supply pad are connected,
The semiconductor memory device according to claim 14, wherein the power supply potential is supplied from the outside using either the second power supply pad or the fourth power supply pad.
前記第4の信号は、前記第2の記憶装置から外部へ出力または前記第2の記憶装置へ外部から入力される第2のデータであり、
前記第1の記憶装置は、前記第1のデータの入出力を行なう第1のデータ入出力線対をさらに含み、
前記第2の記憶装置は、前記第2のデータの入出力を行なう第2のデータ入出力線対をさらに含む、請求項1から6のいずれか1項に記載の半導体記憶装置。The second signal is first data output from the first storage device to the outside or input from the outside to the first storage device,
The fourth signal is second data output from the second storage device to the outside or input from the outside to the second storage device,
The first storage device further includes a first data input / output line pair for inputting / outputting the first data;
The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the second memory device further includes a second data input / output line pair for inputting / outputting the second data.
前記第2の信号および第4の信号は、各々、複数であり、
前記複数の第2の信号は、前記第1の記憶装置から外部へ出力または前記第1の記憶装置へ外部から入力される複数の第1のデータであり、
前記複数の第4の信号は、前記第2の記憶装置から外部へ出力または前記第2の記憶装置へ外部から入力される複数の第2のデータであり、
前記第1の記憶装置は、前記複数の第1のデータの入出力を行なう複数の第1のデータ入出力線対をさらに含み、
前記第2の記憶装置は、前記複数の第2のデータの入出力を行なう複数の第2のデータ入出力線対をさらに含む、請求項1、4、5、または6のいずれか1項に記載の半導体記憶装置。A plurality of the second buffer, the second pad, the fourth buffer, and the fourth pad are provided,
Each of the second signal and the fourth signal is plural,
The plurality of second signals are a plurality of first data output from the first storage device to the outside or input from the outside to the first storage device,
The plurality of fourth signals are a plurality of second data output from the second storage device to the outside or input from the outside to the second storage device,
The first storage device further includes a plurality of first data input / output line pairs for inputting / outputting the plurality of first data,
7. The device according to claim 1, wherein the second storage device further includes a plurality of second data input / output line pairs that input / output the plurality of second data. 8. The semiconductor memory device described.
前記複数の第2のバッファ、前記複数の第2のパッド、前記複数の第4のバッファ、前記複数の第4のパッドおよび前記複数の第5のパッドは、前記所定の方向に配置され、
前記第2の信号および第4の信号は、各々、複数であり、
前記複数の第2の信号は、前記第1の記憶装置から外部へ出力または前記第1の記憶装置へ外部から入力される複数の第1のデータであり、
前記複数の第4の信号は、前記第2の記憶装置から外部へ出力または前記第2の記憶装置へ外部から入力される複数の第2のデータであり、
前記第1の記憶装置は、前記複数の第1のデータの入出力を行なう複数の第1のデータ入出力線対をさらに含み、
前記第2の記憶装置は、前記複数の第2のデータの入出力を行なう複数の第2のデータ入出力線対をさらに含む、請求項2または3に記載の半導体記憶装置。A plurality of the second buffer, the second pad, the fourth buffer, the fourth pad, and the fifth pad are provided,
The plurality of second buffers, the plurality of second pads, the plurality of fourth buffers, the plurality of fourth pads, and the plurality of fifth pads are arranged in the predetermined direction,
Each of the second signal and the fourth signal is plural,
The plurality of second signals are a plurality of first data output from the first storage device to the outside or input from the outside to the first storage device,
The plurality of fourth signals are a plurality of second data output from the second storage device to the outside or input from the outside to the second storage device,
The first storage device further includes a plurality of first data input / output line pairs for inputting / outputting the plurality of first data,
4. The semiconductor memory device according to claim 2, wherein the second memory device further includes a plurality of second data input / output line pairs for inputting / outputting the plurality of second data.
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