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JP3731405B2 - Manufacturing method of electro-optical device - Google Patents
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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は電気光学装置の製造方法に係り、特に、製造工程中における静電気に起因する障害を防止する技術に関する。
【0002】
【従来の技術】
一般に、液晶表示パネルを有する液晶装置などの電気光学装置においては、電気光学物質に所定の電界を印加するための電極パターンを基板の表面上に備えている。例えば、液晶装置においては、液晶セルを構成する2枚の透明基板の表面上に所定の電極パターンが形成され、この電極パターン上に保護膜及び配向膜が積層される。また、必要に応じてカラーフィルタなどが形成される場合もある。
【0003】
図5は、従来のパッシブマトリクス型の液晶装置を構成する一方の透明基板上の電極パターン10を模式的に示す概略平面図である。この電極パターン10は液晶セルを構成するパネル基板よりも大きな母基板上のパネル予定領域10A内に形成される。電極パターン10は、ストライプ状に形成され、相互に並列した複数の電極部11と、各電極部11の一端部から引き出される配線部12とを備えている。また、パネル予定領域10Aの外部には、複数の配線部12のそれぞれにおける先端部12aに対して僅かな間隔を隔てて対向する複数の除電分岐部21を有する除電パターン20(静電保護用パターン)が形成されている。配線部12の先端部12aはパネル予定領域10Aの外側に配置され、その結果、配線部12と除電分岐部21との対向部もまたパネル予定領域10Aの外側に設定されている。
【0004】
除電パターン20は、電極パターン10が帯電し、その帯電量が電極パターン10内において放電(スパーク)を発生させるほどに高まる前に、配線部12の先端部12aと除電分岐部21との間において放電を発生させることによって、製造工程中における静電気により電極間や配線間にスパークが発生し、損傷を受けることを防止するために設けられているものである。
【0005】
上記のように電極パターン10及び除電パターン20が形成された母基板は、もう一方の母基板に対して図示しないシール材を介して貼り合わせられ、そのシール材の内側には液晶が注入される。この製造工程において、図示の母基板は途中段階にて図5に示すパネル予定領域10Aに沿って分離される。したがって、最終的には、上記除電パターン20は配線部12の先端部12aとともに除去される。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記液晶装置において、液晶パネル自体に駆動ドライバ回路を内蔵したドライバICなどの集積回路チップを搭載するCOG(Chip On Glass)構造を採用する場合がある。特に、近年の携帯機器の小型化に伴って駆動回路を含めた液晶装置の小型化が要求されるようになってきており、COG構造を採用する機会は増加している。しかしながら、このCOG構造を有する液晶装置を製造する場合、電極パターンの配線部の先端に設けられた接続端子を、集積回路チップの狭ピッチの端子配列に合わせて配列させなければならないため、この配線部の先に上述のような除電パターンを形成することは構造上困難であり、また、チップ実装部の下に導体パターンを形成することは電気的にも問題がある。
【0007】
そこで本発明は上記問題点を解決するものであり、その課題は、COG構造を有する液晶装置に対しても十分な除電効果を得ることのできる静電対策を施した製造方法を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために本発明の電気光学装置の製造方法は、電気光学物質に電界を印加するための電極部、及び該電極部の一端部から引き出された配線部を有する複数の第1の導体パターンを基板上に形成する電気光学装置の製造方法であり、前記複数の第1の導体パターンの前記一端部以外の部分において、前記第1の導体パターンと接続する部分と前記第1の導体パターンと所定間隔離して対向する部分とを交互に有する除電用の第2の導体パターンを形成し、前記第1の導体パターンにプローブを当てて前記第2の導体パターンの電位に対する前記複数の第1の導体パターンの電位を順次測定することによって、前記複数の第1の導体パターンのパターン検査を行うことを特徴とする。
【0009】
この発明によれば、前導体パターンの前記一端部以外の部分において前記導体パターンと接続するように、或いは前記導体パターンと所定間隔離した位置に、除電用の第2の導体パターンを形成することにより、配線部や実装部のパターン構造に支障を与えることなく除電用のパターンを形成できるので、電極パターンの設計の自由度を高めることができる。特に、半導体チップを基板上に直接実装するCOG構造を有する電気光学装置である場合には、半導体チップ実装部に除電用のパターンを設けることができないが、本発明によれば支障なく除電パターンを形成し、十分な静電気対策をとることが可能になる。
【0010】
本発明において、前記配線部の先端には前記基板上に実装される半導体チップに接続される接続端子部が形成されることが好ましい。
【0011】
本発明において、前記第1の導体パターン及び前記第2の導体パターンは各々が対向するように形成され、その対向部分においては前記第1の導体パターン、又は前記第2の導体パターンの少なくとも一方が先細となっていると好ましい。
【0012】
この発明によれば、第1の導体パターンと除電用の第2の導体パターンとが所定間隔を以って対向配置されている場合、両者の対向端部のうち少なくとも一方が先細形状になっていることによって、この対向部分において放電部位が限定され、放電が容易に発生するようになるので、電極パターンの他の部位において放電が発生することを防止することができる。特に、本発明の場合、第1の導体パターンの外縁部のうち、配線部が引き出された一端部以外の外縁部に対向して除電用の第2の導体パターンが設けられているので、対向部分における第1及び第2の導体パターンのパターン形状をより自由に設計することができるので、上述の先細形状も容易に形成することができる。
【0013】
本発明において、第1の導体パターンは、前記対向部分におけるパターン幅が前記電極部より細く形成されると好ましい。
【0014】
この発明によれば、第1の導体パターンにおける除電用の第2の導体パターンに対向する部分のパターン幅は電極パターンの構造によって定まるが、除電用の第2の導体パターンに対向する部分を電極部よりも細幅に形成することによって、第1の導体パターンのパターン形状に影響されることなく放電を容易に発生させることができる。特に、本発明の場合、第1の導体パターンの外縁部のうち、配線部が引き出された一端部以外の外縁部に除電用の第2の導体パターンが設けられているので、第1の導体パターン除電用の第2の導体パターンの対向部分におけるパターン形状をより自由に設計することができる。そのため、上述の細幅形状も容易に形成することができる。
【0015】
本発明において、前記第2の導体パターンを切り離す工程を有することを特徴とする。
【0016】
この発明によれば、前記第2の導体パターンを切り離す工程を有するため、電気光学装置には除電用の第2の導体パターンが残存しないので、除電用パターンの残存による電気的影響を回避することができるとともに、除電用パターンをより自由に、且つ、効果的なパターン形状に構成することができる。
【0017】
なお、上記各発明においては、上記の第1の導体パターンにはストライプ状の電極部を複数並列形成し、この電極部の一端部から前記配線部が引き出されるように構成され、前記除電用の第2の導体パターンは、前記電極部における前記一端部とは反対側の他端部に導電接続し、或いは、対向配置されるように構成することが望ましい。この手段によれば、ストライプ状の電極部の一端部には配線部が引き出され、他端部には除電パターンが配置されているので、電極パターンを大きく変更することなく、除電用の導体パターンを機能させることが可能になる。
【0018】
【発明の実施の形態】
次に、添付図面を参照して本発明に係る電気光学装置の実施形態について詳細に説明する。以下に示す実施形態は、いずれもパッシブマトリクス型の液晶パネルを有する液晶装置に関するものであるが、本発明はその他の種々の形式の液晶装置にも適用可能であり、また、プラズマディスプレイやエレクトロルミネッセンスディスプレイ装置などの種々の電気光学装置にも適用可能なものである。
【0019】
図1は本実施形態の液晶装置における母基板上の電極パターンを示す模式的な平面図である。また、図2は、複数のパネル予定領域を含む母基板100の全体の平面構造の例を示す平面図である。母基板100は通常、縦横に3以上のパネル予定領域30Aを配列させたものであるが、図2においては図示の便宜上、4つのパネル予定領域30Aを含む母基板として描いてある。また、母基板としては、単一のパネル予定領域のみを有し、当該パネル予定領域の外側に若干の周囲領域を備えたものであっても構わない。
【0020】
各パネル予定領域30Aにおいては、ストライプ状に並列形成された複数の電極部31と、これらの電極部31のそれぞれから引き出された複数の配線部32とを有する導体パターン30が形成されている。導体パターン30において、配線部32の先端部は接続端子32aとなっており、パネル予定領域30Aの端部に設定された図示一点鎖線で示す外部接続部33内に所定の配列態様で形成されている。外部接続部33内に配列された複数の接続端子32aには、公知の異方性導電フィルム(ACF)を介して、駆動ドライバICなどの集積回路チップが実装される。また、外部接続部33内には上記配線部32には導電接続されていない外部端子34も形成されている。この外部端子34は、上記の集積回路チップと、パネル端部に接続されるフレキシブル配線基板などの配線部材とを導通させるためのものである。
【0021】
上述のように、本実施形態の導体パターン30は、電極部31、配線部32及び外部接続部33から概略構成されている。ここで、電極部31には、配線部32や外部接続部33とは反対側の端部31aからパネル予定領域30Aの外部まで伸びる延長パターン部31bが形成されている。この延長パターン部31bはパネル予定領域30Aの外側において除電パターン40の除電分岐部41と対向するように形成されている。除電パターン40は従来例と同様に母基板100の表面上に導体パターン30と同時に同材質にて形成される。
【0022】
上記導体パターン30及び除電パターン40は、例えばITO(インジウムスズ酸化物)などの透明導電体や、アルミニウムなどの金属薄膜などによって構成される。なお、本実施形態ではパッシブマトリクス型の液晶装置を構成する液晶パネル用の母基板であるので、ストライプ状の電極部31が形成されているが、本実施形態とは異なる導体パターンを有する場合もあり、例えば、液晶パネルの形式によってマトリクス状に配列された画素電極と、該画素電極に接続された走査線やデータ線などの配線と、画素電極と配線とに導電接続されたアクティブ素子(TFTやTFDなど)とからなる導体パターンが構成されていてもよい。
【0023】
本実施形態では、各パネル予定領域30Aにおいて形成された導体パターン30における配線部32及び外部接続部33とは反対側の電極部31の端部31aに対して対向する除電パターン40を有し、この除電パターン40は、図2に示すように、複数のパネル予定領域30A中の導体パターン30に対向する部分が相互に一体に連結されるようにして構成されている。この除電パターン40には、通常、製造工程中において接地電位などの一定電位が供給される。
【0024】
本実施形態においては、何らかの理由によって導体パターン30の各電極部31が帯電した場合、他の部位(例えば電極部31間や配線部32間、或いは、接続端子32a間など)において放電が生ずる前に、各電極部31の端部31aから伸びる延長パターン部31bの先端と除電用の導体パターン除電パターン40の除電分岐部41との対向部分において放電が発生し、静電気が除電用の導体パターン40に逃げるように設計されている。したがって、電極部31や配線部32が帯電しても電極部31間、配線部32間、或いは接続端子32a間に放電が発生し、電極、配線、端子等の損傷が防止される。この場合、延長パターン部31bと除電分岐部41との間隔は、上記目的を達成できるようにするために、電極部31間の間隔や狭ピッチに形成された配線部32間或いは接続端子32a間の間隔よりも狭く形成されることが望ましい。
【0025】
また、本実施形態では、延長パターン部31bは電極部31よりも細幅に形成されている。これは、同様の細幅に形成された除電分岐部41と対向させることによって、当該対向部分の狭い領域に電荷を集中させ、放電しやすいようにするためである。
【0026】
図3は上記実施形態の変形例を示すものである。この変形例においては、その端部31aから延長パターン部31bが伸びて除電用の導体パターン40の除電分岐部41に対向する電極部31と、その端部31aが導通パターン部42を通して除電用の導体パターン40に導電接続されている電極部31とが交互に形成されている。この場合には、導通パターン42を通して除電用の導体パターン40に導電接続されている電極31は放電することなく静電気が除電用の導体パターン40を通して逃げるようになっているが、延長パターン部31bが除電分岐部41に対向している電極部31は上記と同様に除電分岐部41に対する放電によって静電気が除電用の導体パターン40へと逃げるようになっている。
【0027】
この変形例において、例えば電極部31にプローブ等(例えばロール状の測定電極)を当てて図示左側から右側へ向けて複数の電極部31の電位を連続して測定すると、図3の上部に示すように、導通パターン部42によって除電用の導体パターン40と導電接続されている電極部31の電位は0(除電用の導体パターン40の電位と同じ)となり、これに隣接する電極部31の電位はV(延長パターン部31bと除電分岐部41との間の放電発生電圧よりも低い電位)となる。このようにして電極部31の電位分布を測定することによって、導体パターン30及び除電用の導体パターン40のパターン検査を行うことができる。
【0028】
図4は、上記実施形態或いは変形例における導電パターン30と導電パターン40の対向部分の細部構造を示す拡大部分平面図である。図4(a)には上記実施形態における導体パターン30と除電用の導体パターン40の対向部分の平面パターンとして好適な構造を示す。このパターンにおいては、電極部31はそのままパネル予定領域30Aの外側に延長し、その先端部31cは先細形状となっている。一方、除電用の導体パターン40の除電分岐部41の先端部41aもまた先細形状となっており、上記の先端部31cと対向している。このように形成することによって、先端部31cと先端部41aとの間で放電が発生しやすくなるため、電極部31や配線部32などの損傷を防止することができる。
【0029】
図4(b)には上記変形例における導体パターン30と除電用の導体パターン40の対向部分の平面パターンとして好適な構造を示す。このパターンにおいては、広幅の電極部31から細幅の延長パターン部31bがパネル予定領域30Aの外側へ伸び、その延長パターン部31bの先端部31dは先細形状となっている。一方、除電用の導体パターン40の除電分岐部41は当初比較的広幅に形成されているが、途中から細幅の突出部41bとなり、この突出部41bの先端部41cは先細形状となっている。このパターン構造によれば、延長パターン部31bと突出部41bとが共に細幅に形成されており、相互に対向する先端部31dと先端部41cとが共に先細形状となっていることによって、これらの対向部分における放電が発生しやすくなるので、他の部分で放電が発生することによるパターン破壊などを防止することができる。
【0030】
上記実施形態では、導体パターンにおいて配線部が引き出される側の端部とは反対側の端部を除電用の導体パターンに対して導電接続させたり、対向配置させたりしているが、導体パターンの構成上可能でさえあれば、上記のような反対側、すなわち図1における上側外縁部の代わりに、配線部が引き出される側とは異なる外縁部である、例えば、図1における右側外縁部や左側外縁部において除電用の導体パターンに対して導電接続させたり、対向配置させたりしても構わない。このような構造は画素毎に画素電極が配列され、各画素電極間に走査線やデータ線等の配線が形成されている場合には十分可能である。ただし、上述のようにパッシブマトリクス型のパネルにおいては、配線部32が引き出されている電極部31の一端部とは反対側の電極部31の端部31aを除電用の導体パターン40に導電接続させたり、対向配置させたりすることが簡易なパターン構成を維持できる点で好ましい。
【0031】
尚、本発明の電気光学装置の製造方法は、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。例えばアクティブマトリクス型の液晶装置においても、電極や配線の保護はもちろんのこと、アクティブ素子の静電破壊を防止するために保護用の除電用の導体パターンを設ける場合があり、このような場合においても、COG構造を採用した場合には、上記実施形態と同様にCOG実装を行うための外部接続部の反対側から配線を引き出して除電用の導体パターンに導電接続させたり、除電用の導体パターンに対して所定の間隙を持って対向させたりすることによって、有効な静電対策を講じることが可能になる。
【0032】
【発明の効果】
以上、説明したように本発明によれば、導体パターンにおける、配線部が引き出された電極部の一端部以外の外縁部に対して、導電接続されるか、或いは、所定間隔を以って対向するように構成された除電用の導体パターンを形成することにより、配線部や実装部のパターン構造に支障を与えることなく除電用の導体パターンを形成できるので、導体パターンの設計の自由度を高めることができる。特に、集積回路チップなどを実装するためのCOG構造を有する電気光学装置である場合には、チップ実装部に除電用の導体パターンを設けることができないが、本発明によれば支障なく除電用の導体パターンを形成し、十分な静電気対策をとることが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る電気光学装置の製造方法の実施形態を示す一つのパネル領域に対応するパターン構造を模式的に示す平面図である。
【図2】同実施形態において使用する母基板の平面構造を模式的に示す全体平面図である。
【図3】同実施形態の変形例を示す平面図である。
【図4】同実施形態における導体パターンと除電用の導体パターンとの対向部分の好適なパターン構造を示す拡大部分平面図(a)及び上記変形例における導体パターンと除電用の導体パターンとの対向部分の好適なパターン構造を示す拡大部分平面図(b)である。
【図5】従来の導体パターン及び除電用の導体パターンを模式的に示す平面図である。
【符号の説明】
30 導体パターン
30A パネル予定領域
31 電極部
31a 端部
31b 延長パターン部
32 配線部
32a 接続端子
33 外部接続部
40 除電用の導体パターン
41 除電分岐部
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for manufacturing an electro-optical device, and more particularly to a technique for preventing a failure caused by static electricity during a manufacturing process.
[0002]
[Prior art]
In general, in an electro-optical device such as a liquid crystal device having a liquid crystal display panel, an electrode pattern for applying a predetermined electric field to the electro-optical material is provided on the surface of the substrate. For example, in a liquid crystal device, a predetermined electrode pattern is formed on the surfaces of two transparent substrates constituting a liquid crystal cell, and a protective film and an alignment film are laminated on the electrode pattern. Moreover, a color filter etc. may be formed as needed.
[0003]
FIG. 5 is a schematic plan view schematically showing an electrode pattern 10 on one transparent substrate constituting a conventional passive matrix liquid crystal device. This electrode pattern 10 is formed in a planned panel area 10A on a mother substrate larger than the panel substrate constituting the liquid crystal cell. The electrode pattern 10 is formed in a stripe shape and includes a plurality of electrode portions 11 arranged in parallel to each other and a wiring portion 12 drawn from one end portion of each electrode portion 11. Further, a static elimination pattern 20 (electrostatic protection pattern) having a plurality of static elimination branching portions 21 facing the front end portion 12a of each of the plurality of wiring portions 12 with a slight gap outside the planned panel area 10A. ) Is formed. The leading end 12a of the wiring part 12 is disposed outside the planned panel area 10A. As a result, the facing part between the wiring part 12 and the static elimination branching part 21 is also set outside the planned panel area 10A.
[0004]
The neutralization pattern 20 is formed between the leading end portion 12a of the wiring portion 12 and the neutralization branch portion 21 before the electrode pattern 10 is charged and the amount of charge increases so as to cause a discharge (spark) in the electrode pattern 10. By generating a discharge, sparks are generated between the electrodes and between the wirings due to static electricity during the manufacturing process, and are provided to prevent damage.
[0005]
The mother substrate on which the electrode pattern 10 and the charge removal pattern 20 are formed as described above is bonded to the other mother substrate via a sealing material (not shown), and liquid crystal is injected inside the sealing material. . In this manufacturing process, the mother board shown in the drawing is separated along the planned panel region 10A shown in FIG. Therefore, finally, the static elimination pattern 20 is removed together with the tip portion 12 a of the wiring portion 12.
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
By the way, the liquid crystal device may adopt a COG (Chip On Glass) structure in which an integrated circuit chip such as a driver IC in which a drive driver circuit is built in is mounted on the liquid crystal panel itself. In particular, with the recent miniaturization of portable devices, there has been a demand for miniaturization of liquid crystal devices including drive circuits, and the opportunity to adopt a COG structure is increasing. However, when manufacturing a liquid crystal device having this COG structure, the connection terminals provided at the tips of the wiring portions of the electrode pattern must be arranged in accordance with the narrow pitch terminal arrangement of the integrated circuit chip. It is structurally difficult to form the static elimination pattern as described above at the tip of the part, and it is electrically problematic to form the conductor pattern under the chip mounting part.
[0007]
Therefore, the present invention solves the above-mentioned problems, and the problem is to provide a manufacturing method with a countermeasure against static electricity that can obtain a sufficient static elimination effect even for a liquid crystal device having a COG structure. is there.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above-described problem, an electro-optical device manufacturing method according to the present invention includes a plurality of first electrodes having an electrode portion for applying an electric field to an electro-optical material and a wiring portion drawn from one end portion of the electrode portion. And a first portion of the plurality of first conductor patterns that is connected to the first conductor pattern and the first conductor pattern. Forming a second conductor pattern for static elimination having alternating portions with the conductor pattern and being opposed to each other by a predetermined distance, and applying a probe to the first conductor pattern to apply the plurality of potentials to the potential of the second conductor pattern The pattern inspection of the plurality of first conductor patterns is performed by sequentially measuring the potential of the first conductor pattern.
[0009]
According to this invention, the second conductor pattern for static elimination is formed at a position separated from the conductor pattern by a predetermined distance so as to be connected to the conductor pattern at a portion other than the one end of the front conductor pattern. Thus, a pattern for static elimination can be formed without hindering the pattern structure of the wiring part and the mounting part, and the degree of freedom in designing the electrode pattern can be increased. In particular, in the case of an electro-optical device having a COG structure in which a semiconductor chip is directly mounted on a substrate, it is not possible to provide a pattern for static elimination on the semiconductor chip mounting portion. It becomes possible to take sufficient measures against static electricity.
[0010]
In the present invention, it is preferable that a connection terminal portion connected to a semiconductor chip mounted on the substrate is formed at the tip of the wiring portion.
[0011]
In the present invention, the first conductor pattern and the second conductor pattern are formed so as to oppose each other, and at least one of the first conductor pattern or the second conductor pattern is formed in the opposing portion. A taper is preferred.
[0012]
According to the present invention, when the first conductor pattern and the second conductor pattern for static elimination are arranged to face each other at a predetermined interval, at least one of the opposing end portions is tapered. As a result, the discharge site is limited in the facing portion, and the discharge is easily generated. Therefore, it is possible to prevent the discharge from occurring in the other site of the electrode pattern. In particular, in the case of the present invention, the second conductor pattern for static elimination is provided facing the outer edge portion of the outer edge portion of the first conductor pattern other than the one end portion from which the wiring portion is drawn. Since the pattern shape of the 1st and 2nd conductor pattern in a part can be designed more freely, the above-mentioned taper shape can also be formed easily.
[0013]
In the present invention, it is preferable that the first conductor pattern is formed so that a pattern width in the facing portion is narrower than that of the electrode portion.
[0014]
According to the present invention, the pattern width of the portion facing the second conductor pattern for static elimination in the first conductor pattern is determined by the structure of the electrode pattern, but the portion facing the second conductor pattern for static elimination is the electrode. By forming it narrower than the portion, it is possible to easily generate a discharge without being affected by the pattern shape of the first conductor pattern. In particular, in the case of the present invention, the second conductor pattern for static elimination is provided on the outer edge portion of the outer edge portion of the first conductor pattern other than the one end portion from which the wiring portion is drawn out. It is possible to more freely design the pattern shape in the facing portion of the second conductor pattern for pattern neutralization. Therefore, the above-described narrow shape can be easily formed.
[0015]
In this invention, it has the process of cut | disconnecting a said 2nd conductor pattern, It is characterized by the above-mentioned.
[0016]
According to the present invention, since the second conductor pattern has a step of separating, the second conductor pattern for static elimination does not remain in the electro-optical device, thereby avoiding electrical influence due to the residual static elimination pattern. In addition, the static elimination pattern can be configured more freely and in an effective pattern shape.
[0017]
In each of the above inventions, a plurality of striped electrode portions are formed in parallel in the first conductor pattern, and the wiring portion is drawn from one end portion of the electrode portions. It is desirable that the second conductor pattern is configured to be conductively connected to the other end portion of the electrode portion opposite to the one end portion, or to be opposed to the second conductor pattern. According to this means, the wiring portion is drawn out at one end of the stripe-shaped electrode portion, and the static elimination pattern is arranged at the other end, so that the conductive pattern for static elimination can be obtained without greatly changing the electrode pattern. Can be made to function.
[0018]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Next, embodiments of the electro-optical device according to the invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Each of the embodiments described below relates to a liquid crystal device having a passive matrix type liquid crystal panel. However, the present invention can be applied to other various types of liquid crystal devices, and a plasma display or an electroluminescence device. The present invention can also be applied to various electro-optical devices such as a display device.
[0019]
FIG. 1 is a schematic plan view showing an electrode pattern on a mother substrate in the liquid crystal device of this embodiment. FIG. 2 is a plan view showing an example of the overall planar structure of the mother board 100 including a plurality of planned panel regions. The mother board 100 is usually one in which three or more scheduled panel areas 30A are arranged vertically and horizontally. In FIG. 2, for convenience of illustration, the mother board 100 is drawn as a mother board including four scheduled panel areas 30A. Further, the mother board may have only a single planned panel area, and may have a slight surrounding area outside the planned panel area.
[0020]
In each panel planned region 30A, a conductor pattern 30 having a plurality of electrode portions 31 formed in parallel in a stripe shape and a plurality of wiring portions 32 drawn from each of these electrode portions 31 is formed. In the conductor pattern 30, the tip end portion of the wiring portion 32 serves as a connection terminal 32a, and is formed in a predetermined arrangement manner in the external connection portion 33 indicated by a dashed line in the figure set at the end portion of the planned panel area 30A. Yes. An integrated circuit chip such as a drive driver IC is mounted on the plurality of connection terminals 32 a arranged in the external connection portion 33 via a known anisotropic conductive film (ACF). An external terminal 34 that is not conductively connected to the wiring portion 32 is also formed in the external connection portion 33. The external terminal 34 is for electrically connecting the integrated circuit chip and a wiring member such as a flexible wiring board connected to the end of the panel.
[0021]
As described above, the conductor pattern 30 of the present embodiment is generally configured by the electrode part 31, the wiring part 32, and the external connection part 33. Here, the electrode part 31 is formed with an extended pattern part 31b extending from the end part 31a opposite to the wiring part 32 and the external connection part 33 to the outside of the planned panel area 30A. The extended pattern portion 31b is formed so as to face the static elimination branching portion 41 of the static elimination pattern 40 outside the planned panel area 30A. The static elimination pattern 40 is formed of the same material at the same time as the conductor pattern 30 on the surface of the mother board 100 as in the conventional example.
[0022]
The conductor pattern 30 and the charge removal pattern 40 are made of a transparent conductor such as ITO (indium tin oxide), a metal thin film such as aluminum, and the like. In this embodiment, since it is a mother substrate for a liquid crystal panel that constitutes a passive matrix type liquid crystal device, the striped electrode portion 31 is formed, but it may have a conductor pattern different from that of this embodiment. Yes, for example, pixel electrodes arranged in a matrix according to the form of a liquid crystal panel, wiring lines such as scanning lines and data lines connected to the pixel electrodes, and active elements (TFTs) conductively connected to the pixel electrodes and wiring lines , TFD, etc.) may be configured.
[0023]
In the present embodiment, the conductive pattern 30 formed in each panel planned region 30A has a static elimination pattern 40 facing the end portion 31a of the electrode portion 31 on the opposite side of the wiring portion 32 and the external connection portion 33, and As shown in FIG. 2, the static elimination pattern 40 is configured such that portions facing the conductor pattern 30 in the plurality of planned panel areas 30 </ b> A are integrally connected to each other. The static elimination pattern 40 is usually supplied with a constant potential such as a ground potential during the manufacturing process.
[0024]
In this embodiment, when each electrode part 31 of the conductor pattern 30 is charged for some reason, before discharge occurs in other parts (for example, between the electrode parts 31, between the wiring parts 32, or between the connection terminals 32 a). In addition, a discharge occurs at a portion where the tip of the extended pattern portion 31b extending from the end portion 31a of each electrode portion 31 and the static elimination branching portion 41 of the static elimination conductor pattern static elimination pattern 40, and the static electricity is removed from the conductive pattern 40 Designed to escape. Therefore, even if the electrode part 31 and the wiring part 32 are charged, a discharge occurs between the electrode parts 31, between the wiring parts 32, or between the connection terminals 32 a, thereby preventing damage to the electrodes, wirings, terminals, and the like. In this case, the distance between the extension pattern portion 31b and the static elimination branching portion 41 is such that the distance between the electrode portions 31 or between the wiring portions 32 formed at a narrow pitch or between the connection terminals 32a in order to achieve the above-mentioned purpose. It is desirable that the gap be formed to be narrower than the distance between.
[0025]
In the present embodiment, the extended pattern portion 31 b is formed to be narrower than the electrode portion 31. This is because the charge is concentrated in a narrow region of the facing portion so as to be easily discharged by facing the static elimination branching portion 41 formed in the same narrow width.
[0026]
FIG. 3 shows a modification of the above embodiment. In this modified example, the extension pattern portion 31b extends from the end portion 31a and faces the neutralization branching portion 41 of the static elimination conductor pattern 40, and the end portion 31a passes through the conduction pattern portion 42 for static elimination. The electrode portions 31 that are conductively connected to the conductor pattern 40 are alternately formed. In this case, the electrode 31 that is conductively connected to the static elimination conductor pattern 40 through the conductive pattern 42 does not discharge, and static electricity escapes through the static elimination conductor pattern 40, but the extension pattern portion 31b In the electrode part 31 facing the static elimination branch part 41, static electricity escapes to the conductive pattern 40 for static elimination by the discharge to the static elimination branch part 41 as described above.
[0027]
In this modification, for example, when a probe or the like (for example, a roll-shaped measurement electrode) is applied to the electrode unit 31 and the potentials of the plurality of electrode units 31 are continuously measured from the left side to the right side in the drawing, the upper part of FIG. As described above, the potential of the electrode part 31 that is conductively connected to the static elimination conductor pattern 40 by the conductive pattern part 42 becomes 0 (the same as the potential of the static elimination conductor pattern 40), and the potential of the electrode part 31 adjacent thereto Becomes V (potential lower than the discharge generation voltage between the extension pattern portion 31b and the static elimination branching portion 41). By measuring the potential distribution of the electrode part 31 in this way, the pattern inspection of the conductor pattern 30 and the conductor pattern 40 for charge removal can be performed.
[0028]
FIG. 4 is an enlarged partial plan view showing a detailed structure of a portion where the conductive pattern 30 and the conductive pattern 40 face each other in the embodiment or the modification. FIG. 4A shows a structure suitable as a planar pattern of the facing portions of the conductor pattern 30 and the charge removal conductor pattern 40 in the above embodiment. In this pattern, the electrode portion 31 extends as it is outside the planned panel region 30A, and the tip portion 31c has a tapered shape. On the other hand, the front end portion 41a of the static elimination branching portion 41 of the conductive pattern 40 for static elimination also has a tapered shape and faces the above-described front end portion 31c. By forming in this way, discharge easily occurs between the tip portion 31c and the tip portion 41a, so that damage to the electrode portion 31 and the wiring portion 32 can be prevented.
[0029]
FIG. 4B shows a structure suitable as a planar pattern of the opposing portion of the conductor pattern 30 and the static elimination conductor pattern 40 in the above modification. In this pattern, a narrow extension pattern portion 31b extends from the wide electrode portion 31 to the outside of the planned panel region 30A, and a tip portion 31d of the extension pattern portion 31b has a tapered shape. On the other hand, the static elimination branch portion 41 of the conductive pattern 40 for static elimination is initially formed with a relatively wide width, but becomes a narrow protruding portion 41b from the middle, and the tip end portion 41c of the protruding portion 41b has a tapered shape. . According to this pattern structure, the extended pattern portion 31b and the protruding portion 41b are both formed with a narrow width, and the tip portion 31d and the tip portion 41c that face each other are both tapered, so that Since it is easy to generate a discharge at the opposite portion, pattern destruction due to the occurrence of discharge at other portions can be prevented.
[0030]
In the above embodiment, the end of the conductor pattern opposite to the end from which the wiring portion is drawn out is conductively connected to the conductor pattern for static elimination or is disposed oppositely. As long as it is possible to construct, instead of the above-described opposite side, that is, the upper outer edge portion in FIG. 1, the outer edge portion is different from the side from which the wiring portion is pulled out. The outer edge portion may be conductively connected to the conductive pattern for static elimination or may be disposed oppositely. Such a structure is sufficiently possible when pixel electrodes are arranged for each pixel and a wiring such as a scanning line or a data line is formed between the pixel electrodes. However, as described above, in the passive matrix type panel, the end portion 31a of the electrode portion 31 opposite to the one end portion of the electrode portion 31 from which the wiring portion 32 is drawn out is electrically connected to the conductive pattern 40 for static elimination. It is preferable that they can be arranged or opposed to each other because a simple pattern configuration can be maintained.
[0031]
Note that the method of manufacturing the electro-optical device of the present invention is not limited to the illustrated example described above, and various modifications can be made without departing from the scope of the present invention. For example, in an active matrix type liquid crystal device, in addition to protecting electrodes and wiring, there are cases where a conductive pattern for static elimination for protection is provided in order to prevent electrostatic breakdown of active elements. However, when the COG structure is adopted, the wiring is drawn out from the opposite side of the external connection portion for performing COG mounting as in the above embodiment, and is electrically connected to the conductive pattern for static elimination, or the conductive pattern for static elimination It is possible to take an effective countermeasure against static electricity by facing the surface with a predetermined gap.
[0032]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, the conductive pattern is conductively connected to or opposed to the outer edge portion of the conductor pattern other than one end portion of the electrode portion from which the wiring portion is drawn out at a predetermined interval. By forming a conductive pattern for static elimination that is configured to do so, a conductive pattern for static elimination can be formed without hindering the pattern structure of the wiring part and the mounting part, thus increasing the degree of freedom in designing the conductor pattern be able to. In particular, in the case of an electro-optical device having a COG structure for mounting an integrated circuit chip or the like, it is not possible to provide a conductive pattern for charge removal on the chip mounting portion. A conductor pattern can be formed and sufficient countermeasures against static electricity can be taken.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a plan view schematically showing a pattern structure corresponding to one panel region showing an embodiment of a method of manufacturing an electro-optical device according to the invention.
FIG. 2 is an overall plan view schematically showing a planar structure of a mother substrate used in the embodiment.
FIG. 3 is a plan view showing a modification of the embodiment.
FIG. 4 is an enlarged partial plan view (a) showing a preferred pattern structure of a facing portion between a conductor pattern and a discharging conductor pattern in the same embodiment, and the facing of the conductor pattern and the discharging conductor pattern in the modified example. It is an enlarged partial top view (b) which shows the suitable pattern structure of a part.
FIG. 5 is a plan view schematically showing a conventional conductor pattern and a conductor pattern for charge removal.
[Explanation of symbols]
30 Conductor Pattern 30A Planned Panel Area 31 Electrode Part 31a End Part 31b Extension Pattern Part 32 Wiring Part 32a Connection Terminal 33 External Connection Part 40 Conductive Pattern 41 for Neutralization Neutralization Branch

Claims (6)

電気光学物質に電界を印加するための電極部、及び該電極部の一端部から引き出された配線部を有する複数の第1の導体パターンを基板上に形成する電気光学装置の製造方法であり、
前記複数の第1の導体パターンの前記一端部以外の部分において、前記第1の導体パターンと接続する部分と前記第1の導体パターンと所定間隔離して対向する部分とを交互に有する除電用の第2の導体パターンを形成し、
前記第1の導体パターンにプローブを当てて前記第2の導体パターンの電位に対する前記複数の第1の導体パターンの電位を順次測定することによって、前記複数の第1の導体パターンのパターン検査を行うことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
An electro-optical device manufacturing method for forming, on a substrate, a plurality of first conductor patterns having an electrode part for applying an electric field to an electro-optical material, and a wiring part drawn from one end of the electrode part,
In the parts other than the one end part of the plurality of first conductor patterns, the part for connecting to the first conductor pattern and the part opposing the first conductor pattern with a predetermined distance therebetween are alternately provided for static elimination. Forming a second conductor pattern;
A pattern inspection of the plurality of first conductor patterns is performed by applying a probe to the first conductor pattern and sequentially measuring the potentials of the plurality of first conductor patterns with respect to the potential of the second conductor pattern. A method of manufacturing an electro-optical device.
請求項1において、前記配線部の先端には前記基板上に実装される半導体チップに接続される接続端子部が形成されることを特徴とする電気光学装置の製造方法。  2. The method of manufacturing an electro-optical device according to claim 1, wherein a connection terminal portion connected to a semiconductor chip mounted on the substrate is formed at a tip of the wiring portion. 請求項1又は請求項2において、前記第1の導体パターン及び前記第2の導体パターンは各々が対向するように形成され、その対向部分においては前記第1の導体パターン、又は前記第2の導体パターンの少なくとも一方が先細となっていることを特徴とする電気光学装置の製造方法。  3. The first conductor pattern and the second conductor pattern according to claim 1 or 2, wherein the first conductor pattern and the second conductor pattern are formed to face each other, and the first conductor pattern or the second conductor is formed in the facing portion. An electro-optical device manufacturing method, wherein at least one of the patterns is tapered. 請求項3において、前記第1の導体パターンは、前記対向部分におけるパターン幅が前記電極部より細いことを特徴とする電気光学装置の製造方法。  4. The method of manufacturing an electro-optical device according to claim 3, wherein the first conductor pattern has a pattern width at the facing portion that is narrower than the electrode portion. 請求項1から請求項4までのいずれか1項において、前記第2の導体パターンを切り離す工程を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。  5. The method of manufacturing an electro-optical device according to claim 1, further comprising a step of separating the second conductor pattern. 請求項1において、前記パターン検査は、前記複数の第1の導体パターンのうち前記第2の導体パターンと接続する前記第1の導体パターンの電位が、前記第2の導体パターンの電位と同じとなり、
前記複数の第1の導体パターンのうち前記第2の導体パターンと電位が同じ前記第1の導体パターンに隣接する前記第1の導体パターンの電位が、前記第2の導体パターンの電位と異なるか否かを測定することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
2. The pattern inspection according to claim 1, wherein the potential of the first conductor pattern connected to the second conductor pattern among the plurality of first conductor patterns is the same as the potential of the second conductor pattern. ,
Whether the potential of the first conductor pattern adjacent to the first conductor pattern having the same potential as that of the second conductor pattern among the plurality of first conductor patterns is different from the potential of the second conductor pattern. A method of manufacturing the electro-optical device.
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