JP3741939B2 - Continuous manufacturing method of transparent resin substrate - Google Patents

Description

【００１２】
一般式（Ｉ）中、Ｒ¹及びＲ²は、それぞれ独立して、水素原子またはメチル基を示し、mは１又は２の整数、ｎは０又は１の整数、ｐ及びｑは、それぞれ独立して、０〜３の何れかの整数を表す。
【００１３】
上記の式（Ｉ）で表される含脂環骨格ビス（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、ビス（オキシメチル）トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン＝ジアクリレート、ビス（オキシメチル）トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン＝ジメタクリレート、ビス（オキシメチル）トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン＝アクリレートメタクリレート及びこれらの混合物、ビス（オキシメチル）ペンタシクロ［６．５．１．１^3,6．０^2,7．０^9,13］ペンタデカン＝ジアクリレート、ビス（オキシメチル）ペンタシクロ［６．５．１．１^3,6．０^2,7．０^9,13］ペンタデカン＝ジメタクリレート、ビス（オキシメチル）ペンタシクロ［６．５．１．１^3,6．０^2,7．０^9,13］ペンタデカン＝アクリレートメタクリレート及びこれらの混合物、ビス（オキシメチル）トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン＝ジアクリレート、ビス（オキシメチル）トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン＝ジメタクリレート、ビス（オキシメチル）トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン＝アクリレートメタクリレート及びこれらの混合物などが挙げられる。
【００１４】
【化２】

【００１５】
一般式（II）中、Ｒ³は水素原子またはメチル基を示し、mは１又は２の整数、ｎは０又は１の整数、r及びsは、それぞれ独立して、０〜３の何れかの整数を表す。
【００１６】
上記の一般式（II）で表される含脂環骨格モノ（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、ビス（オキシメチル）トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン＝モノアクリレート、ビス（オキシメチル）トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン＝モノメタクリレート及びこれらの混合物、ビス（オキシメチル）ペンタシクロ［６．５．１．１^3,6．０^2,7．０^9,13］ペンタデカン＝モノアクリレート、ビス（オキシメチル）ペンタシクロ［６．５．１．１^3,6．０^2,7．０^9,13］ペンタデカン＝モノメタクリレート及びこれらの混合物、ビス（オキシメチル）トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン＝モノアクリレート、ビス（オキシメチル）トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン＝モノメタクリレート及びこれらの混合物などが挙げられる。
【００１７】
含脂環骨格ビス（メタ）アクリレート及び含脂環骨格モノ（メタ）アクリレートと組み合わせて使用される二官能性メルカプト化合物としては、一般式（III）〜（V）で表されるメルカプト化合物が好適である。
【００１８】
【化３】

【００１９】
一般式（III）中、Ｒ⁴はメチレン基またはエチレン基を示し、Ｒ⁵はエーテル酸素を含んでいてもよい炭素数２〜１５の炭化水素残基を示し、ａは２〜６の整数を示す。
【００２０】
一般式（III）において、Ｒ⁵（エーテル酸素を含んでいてもよい炭素数２〜１５の炭化水素残基）の具体例としては、例えば、ペンタエリスリトール残基、ジペンタエリスリトール残基、トリメチロールプロパン残基、エチレングリコール残基、ジエチレングリコール残基、トリエチレングリコール残基、ブタンジオール残基などが挙げられる。
【００２１】
一般式（III）で表されるメルカプト化合物は、２〜６価のチオグリコール酸エステル又はチオプロピオン酸エステルであり、その具体例としては、例えば、ペンタエリスリトールテトラキス（β−チオプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（チオグリコレート）、トリメチロールプロパントリス（β−チオプロピオネート）、トリメチロールプロパントリス（チオグリコレート）、エチレングリコールビス（β−チオプロピオネート）等が挙げられる。
【００２２】
【化４】

【００２３】
一般式（IV）中、ＸはHS-（CH₂）_b-CO-（OCH₂CH₂）_d-（CH₂）_c-を示す。但し、ｂ及びｃは、それぞれ独立して１〜８の整数を示す。
【００２４】
一般式（IV）で表されるメルカプト化合物はω−チオール基含有イソシアヌレートであり、その具体例としては、例えば、トリス［２−（β−チオプロピオニルオキシ）エチル］イソシアヌレート、トリス（２−チオグリコニルオキシエチル）イソシアヌレート、トリス［２−（β−チオグリコニルオキシエトキシ）エチル］イソシアヌレート、トリス［（２−チオグリコニルオキシエトキシ）エチル］イソシアヌレート、トリス［３−（β−チオプロピオニルオキシ）プロピル］イソシアヌレート、トリス（３−チオグリコニルオキシプロピル）イソシアヌレート等が挙げられる。
【００２５】
【化５】

【００２６】
一般式（V）中、Ｒ⁶及びＲ⁷はそれぞれ独立してアルキレン基を示し、ｅ及びｆはそれぞれ独立して０又は１の整数を示し、ｇは１又は２の整数を示す。
【００２７】
一般式（Ｖ）で表される化合物はチオール基含有炭化水素であり、その具体例としては、例えば、ベンゼンメルカプタン、キシリレンメルカプタン、４，４’−ジメルカプトジフェニルスルフィド等が挙げられる。
【００２８】
本発明において、上記の各成分は、通常、次の様な割合で使用される。すなわち、一般式（Ｉ）で表される含脂環骨格ビス（メタ）アクリレートは７０〜９９重量部、一般式（II）で表される含脂環骨格モノ（メタ）アクリレートは１〜３０重量部、これらの合計量１００重量部に対し、上記の一般式（III）〜（Ｖ）で表されるメルカプト化合物は１〜１０重量部である。
【００２９】
上記の光重合開始剤としては、活性線の照射によってラジカルを発生し得る限り、特に制限されず、各種の光重合開始剤を使用することが出来る。代表的には各種のアセトフェノン系またはベンゾフェノン系の光重合開始剤が挙げられる。
【００３０】
上記のアセトフェノン系光重合開始剤の具体例としては、例えば、１−フェニル−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、４−ジフェノキシジクロロアセトフェノン等が挙げられ、上記のベンゾフェノン系光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロハシベンゾフェノン等が挙げられる。
【００３１】
また、本発明においては、次の一般式（XI）で表される化合物も光重合開始剤として好適に使用することが出来る。
【００３２】
【化６】

【００３３】
一般式（VI）中、Ｒ⁸は、メチル基、メトキシ基または塩素原子を示し、ｎは２又は３の整数示す。
【００３４】
上記の一般式（ＶI）で表される化合物の具体例としては、例えば、２，６−ジメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルホスイフィン酸メチルエステル、２，６−ジクロロベンゾイルフェニルホスフィンオキシド等が挙げられる。
【００３５】
上記の光重合開始剤は、モノマー１００重量部に対し、通常０．０１〜１重量部、好ましくは０．０２〜０．３重量部の割合で使用される。
【００３６】
本発明においては、任意の他の成分として、ラジカル重合可能な他の重合性モノマー、増粘剤、熱重合開始剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、染顔料などを使用することが出来る。
【００３７】
ラジカル重合可能な他の重合性モノマーとしては、例えば、メタクリロイルオキシメチルシクロデカン、２，２−ビス［４−（β−メタクリロイルオキシエトキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（β−メタクリロイルオキシエトキシ）シクロヘキシル］プロパン、１，４−ビス（メタクリロイルオキメチル）シクロヘキサン等が挙げられる。これらの重合性モノマーは、前述の重合性モノマー１００重量部に対し、通常３０重量部以下の割合で使用される。
【００３８】
増粘剤としては、使用する重合性モノマーの種類より適宜選択されるが、通常、非晶質熱可塑性ポリマーが使用される。特に次の一般式（VII）又は（VIII）で表される非晶質ポリオレフンが好適である。
【００３９】
【化７】

【００４０】
一般式（VII）中、Ｘは、シクロペンタジエン及びその誘導体、ノルボルナジエン及びその誘導体、ジシキロペンタジエン及びその誘導体、または、これらの水素添加物を示し、Ｒ⁹は、水素原子、炭化水素基またはＣ₆Ｈ₄Ｒ¹⁰基を示し、Ｒ¹⁰は、水素原子、炭化水素基、アルコキシ基、ハロゲン化炭化水素基またはハロゲン原子を示し、ｄ及びｅは、それぞれ独立して１以上の整数を示す。
【００４１】
【化８】

【００４２】
一般式（VIII）中、ｊ及びｋは、それぞれ独立して０又は１以上の整数を示す。また、環状５員環単位はハロゲン原子または炭化水素基などの置換基を有していてもよい。
【００４３】
上記の様な非晶質ポリオレフンの具体例は、特開平１０−７７３２１号公報に記載されているのでそれを参照することが出来る。また、本発明においては、他の非晶質ポリオレフンとして、上記の公開公報に記載の、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン若しくはその誘導体と、シクロペンテン、シクロオクテン、１，５−シクロオクテンタジエン等の他の環状オレフィンとの開環重合体またはその水素添加物も使用することが出来る。
【００４４】
更に、本発明においては、次の一般式（IX）で表される化合物も増粘剤として好適に使用することが出来る。
【００４５】
【化９】

【００４６】
一般式（IX）中、Ｙは、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ等のアルコキシ基を示し、ｈは１以上の整数を表す。
【００４７】
上記の増粘剤は、モノマー１００重量部に対し、通常２〜１０重量部、好ましくは４〜８重量部の割合で使用される。
【００４８】
本発明で使用する光重合性モノマー組成物は、上記の各成分の配合によって調製され、非溶媒系であり、その粘度は、２０℃において、剪断速度１０ｓｅｃ^-1の条件下に測定した値として、通常５００〜１０００００ｍＰａ・ｓｅｃ、好ましくは１０００〜１００００ｍＰａ・ｓｅｃの範囲とされる。
【００４９】
上記の熱重合開始剤としては、ベンゾイルパーオキシド、ジイソプロピルパーオキシカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシ（２−エチルヘキサノエート）等が挙げられ、その使用量は、モノマー１００重量部に対し、通常１重量部以下である。また、酸化防止剤、紫外線吸収剤、染顔料としては、公知のものを適宜選択して使用することが出来る。
【００５０】
本発明の製造方法は、基本的には、移送される下部支持シート上に光重合性モノマー組成物を供給し、その上に下部支持シートと同速度で同一方向に移送される上部支持シートを積層した後、光重合性モノマー組成物に活性線を照射して硬化させる透明樹脂基板の連続的製造方法である。斯かる方法は、図１に示す様な製造設備で行なうことが出来る。
【００５１】
図１において、下部支持シート（２０）は、下部支持シート送給装置（２１）から送り出され、駆動ローラ（２２）、案内ローラ（２３）及び（２４）を経由し、下部支持シート巻取装置（２５）に巻き取られる。一方、上部支持シート（３０）は、上部支持シート送給装置（３１）から送り出され、案内ローラ（３２）、（３３）及び（３４）を経由し、上部支持シート巻取装置（３５）に巻き取られる。下部支持シート側に配置される案内ローラ（２３）及び（２４）と上部支持シート側に配置される案内ローラ（３３）及び（３４）は、それぞれ、対向して配置されている。
【００５２】
下部支持シート（２０）及び上部支持シート（３０）は、共に可撓性シートで構成され、また、後述する活性線の照射側のシートは透明シートで構成される。また、重合時の熱によって軟化しない様に通常１００℃以上の軟化点を有するシートで構成される。斯かる特性のシートとしては、厚さ５０〜３００μｍの合成樹脂シート、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート等の合成樹脂シートが挙げられる。また、支持シートの光重合性モノマー組成物と接する側の表面粗さ（Ｒａ）は、通常１００ｎm以下、好ましくは２０ｎｍ以下とされる。斯かる支持シートとの使用により、その表面がより一層平滑な透明樹脂基板が得られる。
【００５３】
下部支持シート（２０）と上部支持シート（３０）は、同速度で同一方向に移送され、駆動ローラ（２２）から案内ローラ（２３）及び（２４）の間には水平なパスライが形成されている。シートの移送速度は、通常０．５〜２０ｍ／ｍｉｎ、好ましくは１〜１０ｍ／ｍｉｎとされる。
【００５４】
そして、駆動ローラ（２２）の近傍に配置されたダイコーター（１）から、下部支持シート（２０）上に光重合性モノマー組成物（Ａ）を供給し、その上に上部支持シート（３０）を積層した後、光重合性モノマー組成物に活性線を照射して硬化させる。
【００５５】
ダイコーター（１）から下部支持シート（２０）上に供給される光重合性モノマー組成物（Ａ）の厚さは、その供給速度とシートの移送速度とにより適宜調節されるが、通常０．１〜５ｍｍとされる。上部支持シート（３０）は、特に加圧される必要はなく、下部支持シート（２０）上に供給され且つシート状に成形された光重合性モノマー組成物（Ａ）に均一に積層される程度に押圧されればよい。活性線の光源としては、ケミカルランプ、キセノンランプ、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等が使用される。
【００５６】
本発明の製造方法の最大の特徴は、下部支持シート（２０）及び／又は上部支持シート（３０）を透過させて活性線の照射を行なう前段硬化工程、および、両支持シート（２０）及び（３０）を剥離した後に活性線の照射を行なう後段硬化工程より成る点にある。
【００５７】
すなわち、図１に示す様に、先ず、前段硬化工程用活性線照射設備（４）で活性線の照射を行ない、次いで、両支持シート（２０）及び（３０）を夫々の巻取装置（２５）及び（３５）で剥離した後、後段硬化工程用活性線照射設備（６）で活性線の照射を行なう。図１に示す製造設備の場合、活性線の照射は、両工程共に両シート面から行なっているが、一方のシート面から行なってもよい。
【００５８】
本発明の他の特徴は、後段硬化工程における活性線の照射量を前段硬化工程の１．５〜２０倍とした点にある。後段硬化工程における活性線の照射量は、好ましくは、前段硬化工程の５〜１０倍である。そして、活性線の照射強度は、両工程共に約６０〜２００ｗ／ｃｍ、照射時間は、前段硬化工程の場合０．５〜３分、後段硬化工程の場合２〜５分とされる。斯かる硬化条件の採用により前段硬化工程では、通常５〜８５％、好ましくは２０〜６０％の光重合性モノマーの重合が行われ、後段硬化工程においては、残余の光重合性モノマーの重合が行なわれる。硬化条件としては次の様な条件が推奨される。
【００５９】
また、光重合性モノマー組成物（Ａ）の温度は、重合熱によって昇温する。本発明の場合、適宜の冷却手段により、光重合性モノマー組成物（Ａ）の温度は、前段硬化工程で約１００〜１５０℃、後段硬化工程で約１４０〜１８０℃の範囲に制御するのが好ましい。斯かる温度制御により、製品物性（透明性、強度、均質性など）の低下が抑制される。また、活性線照射設備としては市販の設備を利用することが出来るが、後段硬化工程の雰囲気は窒素などの不活性雰囲気とするのが好ましい。なお、前段硬化工程の雰囲気は大気雰囲気であってもよい。
【００６０】
また、後段硬化工程においては、前段硬化工程で得られた重合シート（完全硬化前の透明樹脂基板）に対して、長さ方向に０．２〜１N／ｃm²の張力を掛け、且つ、幅方向に長手方向の１／５〜３／４の張力を掛けるのが好ましい。斯かる態様の後段硬化工程によれば、重合シートの歪み（うねり）が防止され、より一層平坦な透明樹脂基板が得られる。重合シートの長さ方向および幅方向に張力を掛ける方法としては、例えば、連続する多数のクリップが耳部を挟んで引張って走行するテンタークリップ方式を採用することが出来る。
【００６１】
図１に示す製造設備の場合は、前段硬化工程用活性線照射設備（４）と後段硬化工程用活性線照射設備（６）との間に耳部切断用カッター（５）が配置されている。これにより、硬化したシート状光重合性モノマー組成物の長手方向両端部の耳部（盛り上がり部）が除去される。通常、耳部は、支持シートの剥離後、所定サイズに切断する製品化工程で一緒に切断して除去される。斯かる方法による場合は、耳部の切断の際に製品が破損して製品歩留まりが低下するという問題がある。ところが、上記の様に、両支持シート（２０）及び（３０）を夫々の巻取装置（２５）及び（３５）で剥離する前に耳部を切断する、すなわち、支持シートと共に耳部を切断するならば、製品の破損が防止される利点がある。耳部切断用カッター（５）としてはレーザーカッターが好適に使用される。支持シートと共に切断して除去された耳部は、耳部巻取ローラ（図示せず）に巻き取られる。
【００６２】
上記の後段硬化工程終了後、得られた透明樹脂基板は、適宜の手段で切断され、透明樹脂基板製品（Ｂ）とされる。本発明においては、後段硬化工程終了後であって上記の切断処理前において、必要に応じて熱処理することが出来る。斯かる熱処理は、重合処理の仕上げてとしての意味を有する。熱処理温度は、通常、１５０〜２００℃、好ましくは１５０〜１７０℃とされ、熱処理時間は、通常０．５時間以上、好ましくは０．５〜２時間とされる。雰囲気は、不活性雰囲気または大気雰囲気の何れであってもよい。
【００６３】
なお、図示を省略したが、後段硬化工程にベルトコンベアを配置することが出来る。この場合は、通常、当該ベルトコンベアの上側に配置される活性線照射設備のみで後段硬化が行なわれる。また、図１に示す製造設備の場合、下部支持シート（２０）がベルトコンベアを兼ねているが、下部支持シート（２０）の下部にベルトコンベアを配置し、当該ベルトコンベアの上に下部支持シート（２０）を載せて移送してもよい。更に、一方の支持シート（好ましくは下部支持シート）はシームレスのエンドレススチールシートで構成し、支持シートとして使用後に廃棄される合成樹脂シートの量を削減してコストダウンを図ることも出来る。
【００６４】
本発明に係る方法で得られる透明樹脂基板は優れた光線透過率を有し、その透過率は、通常７５％以上、好ましくは８０％以上である。また、透明樹脂基板の厚さは、その用途によって異なるが、通常０．１〜５ｍｍ、好ましくは０．２〜１ｍｍである。
【００６５】
上記の様にして得られた透明樹脂基板は、液晶、有機ＥＬなどのディスプレー基板、光学フィルター、光通信材料、太陽電池基板などの各種用途に好適に利用される。
【００６６】
【実施例】
以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明は、その要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
【００６７】
実施例１
＜光重合性モノマー組成物の調製＞
ビス（オキシメチル）トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン＝ジアクリレート９４重量％とペンタエリスリトールテトラキス（β−チオプロピオネート）６重量％との混合物１００重量部に対し、光重合開始剤として、ベンゾフェノン０．０５重量部と２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド０．０５重量部、増粘剤として日本ゼオン社製「ＺＥＯＮＥＸ４５０」（ノボルネン系開環重合体の水素添加物）３重量部を添加し、粘度３０００ｍＰａ・ｓｅｃの光重合性モノマー組成物を調製した。
【００６８】
＜透明樹脂基板の製造設備＞
図１に示すのと同様の製造設備を使用した。下部支持シート（２０）及び上部支持シート（３０）には幅３３０ｍｍで厚さ１００μｍのポリエステルシート（三菱化学ポリエステル社製「Ｏ３００」）、活性線照射設備（４）及び（６）にはメタルハライドランプ（日本電池社製）、耳部切断用カッター（５）には水冷式２５Ｗ炭酸ガスレーザー（カンタムエレクトロニクス社製）をそれぞれ使用した。
【００６９】
＜透明樹脂基板の製造＞
先ず、下部支持シート（２０）及び上部支持シート（３０）の移送速度を１ｍ／ｍｉｎｓとし、ダイコーター（１）から下部支持シート（２０）上に光重合性モノマー組成物（Ａ）を供給し、幅３１０ｍｍで厚さ４００μｍのシート状に成形した。
【００７０】
次いで、前段硬化工程用活性線照射設備（４）により０．５分間で２Ｊ／ｃｍ²の照射を行なった。この際、光重合性モノマー組成物（Ａ）の温度は、空冷により１３０℃に保持した。因みに、前段硬化においては、光重合性モノマーの約６０重量％の重合が行われた。
【００７１】
次いで、耳部切断用カッター（５）により両端から２０ｍｍの位置で耳部を切断して除去した後、巻取装置（２５）及び（３５）で両支持シート（２０）及び（３０）をそれぞれ剥離した。
【００７２】
次いで、後段硬化工程用活性線照射設備（６）により５分間で２５Ｊ／ｃｍ²の照射を行なった。この際、光重合性モノマー組成物（Ａ）の温度は、空冷により１６０℃に保持した。その後、所定の長さに切断して透明樹脂基板製品（Ｂ）を得た。
【００７３】
約５０ｍの透明樹脂基板製品が得られるまで５０分間に亘り連続的に透明樹脂基板の製造を行なった。その間、光重合性モノマー組成物（Ａ）のシートの破断などの問題は起こらなかった。また、得られた透明樹脂基板製品（Ｂ）について、１０ｃｍ角に切り出して高さの変動（うねり）を測定した結果１ｍｍであった。
【００７４】
比較例１
実施例１において、前段硬化工程用活性線照射設備（４）による照射量を０．３Ｊ／ｃｍ²、後段硬化工程用活性線照射設備（６）による照射量を２５Ｊ／ｃｍ²に変更した以外は、実施例１と同様にして透明樹脂基板製品（Ｂ）を得た。５０分間の連続製造中には光重合性モノマー組成物（Ａ）のシートの破断などの問題は起こらなかった。しかしながら、透明樹脂基板製品（Ｂ）のうねりは４ｍｍであった。
【００７５】
比較例２
実施例１において、前段硬化工程用活性線照射設備（４）及び後段硬化工程用活性線照射設備（６）による照射量を共に１３Ｊ／ｃｍ²に変更した以外は、実施例１と同様にして透明樹脂基板製品（Ｂ）を得た。５０分間の連続製造中に光重合性モノマー組成物（Ａ）のシートの破断が５回起こり、しかも、透明樹脂基板製品（Ｂ）のうねりは８ｍｍであった。
【００７６】
【発明の効果】
以上説明した本発明によれば、均一且つ平坦な表面を有する透明樹脂基板の安定した連続的製造方法が提供され、本発明の工業的価値は顕著である。
【図面の簡単な説明】
【図１】発明を実施するための製造設備の好ましい一例の説明図
【符号の説明】
１：ダイコーター
４：前段硬化工程用活性線照射設備
５：耳部切断用カッター
６：後段硬化工程用活性線照射設備
２０：下部支持シート
２１：下部支持シート送給装置
２２：駆動ローラ
２３：案内ローラ
２４：案内ローラ
２５：下部支持シート巻取装置
３０：上部支持シート
３１：上部支持シート送給装置
３２：案内ローラ
３３：案内ローラ
３４：案内ローラ
３５：上部支持シート巻取装置
Ａ：光重合性モノマー組成物
Ｂ：透明樹脂基板製品[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a continuous manufacturing method of a transparent resin substrate, and more particularly to a stable continuous manufacturing method of a transparent resin substrate having a uniform and flat surface.
[0002]
[Prior art]
The transparent resin substrate is industrially used for various applications such as a display substrate such as liquid crystal and organic EL, an optical filter, an optical communication material, and a solar cell substrate. Such a transparent resin substrate supplies the photopolymerizable monomer composition onto the lower support sheet to be transferred, and laminates the upper support sheet to be transferred in the same direction at the same speed as the lower support sheet, The photopolymerizable monomer composition can be continuously produced by a method in which both support sheets are peeled off after irradiating and curing actinic rays. Usually, a synthetic resin sheet is used as the support sheet.
[0003]
By the way, in said method, a support sheet heat-shrinks by irradiation of actinic radiation, and a shift | offset | difference arises between the photopolymerizable monomer compositions shape | molded in the sheet form. Therefore, it is difficult to continuously produce a transparent resin substrate having a uniform and flat surface. In some cases, the photopolymerizable monomer composition formed into a sheet on the lower support sheet is broken, and stable production over a long period of time becomes difficult.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
This invention is made | formed in view of the said situation, The objective is to provide the stable continuous manufacturing method of the transparent resin substrate which has a uniform and flat surface.
[0005]
[Means for Solving the Problems]
As a result of various studies to achieve the above-mentioned object, the present inventors have unexpectedly divided the curing process by irradiation with active rays into two stages, and the support sheet is peeled off after the pre-curing process. Perform the curing process, and in the subsequent curing process Life The knowledge that the above-mentioned purpose can be easily achieved if the irradiation amount of the sex rays is 1.5 to 20 times that of the pre-curing step was obtained, and the present invention was completed.
[0006]
That is, the gist of the present invention is to supply the photopolymerizable monomer composition onto the lower support sheet to be transferred, and after laminating the upper support sheet to be transferred in the same direction at the same speed as the lower support sheet, A continuous production method of a transparent resin substrate for irradiating and curing an active ray on a photopolymerizable monomer composition, a pre-curing step in which an active ray is irradiated through a lower support sheet and / or an upper support sheet, And consisting of a post-curing step of irradiating active rays after peeling both support sheets, and in the post-curing step Life It exists in the continuous manufacturing method of the transparent resin board | substrate characterized by having made the irradiation amount of the property line into 1.5 to 20 times the pre-stage hardening process.
[0007]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is an explanatory diagram of a preferred example of a production facility for carrying out the present invention.
[0008]
First, the photopolymerizable monomer composition used in the present invention will be described. The photopolymerizable monomer composition used in the present invention is composed of a polymerizable monomer, a photopolymerization initiator, and any other component.
[0009]
The polymerizable monomer is not particularly limited as long as it is a monomer capable of forming a transparent resin by being polymerized and cured by irradiation with an actinic ray such as ultraviolet rays, and various monomers can be used. Typically, various acrylate compounds such as epoxy acrylate, urethane acrylate, polyester acrylate, polyether acrylate, oligomers thereof, or combinations of these with other polymerizable monomers can be used.
[0010]
In the present invention, from the viewpoint of chemical resistance, rigidity, etc., an oleaginous ring skeleton bis (meth) acrylate represented by the following general formula (I) and an oleaginous ring represented by the following general formula (II) A combination of skeletal mono (meth) acrylates is preferable, and a combination of these with a bifunctional mercapto compound described later is particularly preferable. “(Meth) acrylate” is a generic name including acrylate and methacrylate.
[0011]
[Chemical 1]

[0012]
In general formula (I), R ¹ And R ² Each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, m is an integer of 1 or 2, n is an integer of 0 or 1, p and q are each independently an integer of 0 to 3. To express.
[0013]
Specific examples of the alicyclic skeleton bis (meth) acrylate represented by the above formula (I) include, for example, bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.1.0. ^2,6 ] Decane = diacrylate, bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.1.0] ^2,6 Decane = dimethacrylate, bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.1.0] ^2,6 Decane = acrylate methacrylate and mixtures thereof, bis (oxymethyl) pentacyclo [6.5.1.1] ^3,6 . 0 ^2,7 . 0 ^9,13 ] Pentadecane = diacrylate, bis (oxymethyl) pentacyclo [6.5.1.1] ^3,6 . 0 ^2,7 . 0 ^9,13 ] Pentadecane = dimethacrylate, bis (oxymethyl) pentacyclo [6.5.1.1] ^3,6 . 0 ^2,7 . 0 ^9,13 ] Pentadecane = acrylate methacrylate and mixtures thereof, bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.1.0] ^2,6 ] Decane = diacrylate, bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.1.0] ^2,6 Decane = dimethacrylate, bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.1.0] ^2,6 Decane = acrylate methacrylate and mixtures thereof.
[0014]
[Chemical 2]

[0015]
In general formula (II), R ^Three Represents a hydrogen atom or a methyl group, m is an integer of 1 or 2, n is an integer of 0 or 1, and r and s each independently represent an integer of 0 to 3.
[0016]
Specific examples of the alicyclic skeleton mono (meth) acrylate represented by the general formula (II) include, for example, bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.1.0. ^2,6 Decane = monoacrylate, bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 ^2,6 Decane = monomethacrylate and mixtures thereof, bis (oxymethyl) pentacyclo [6.5.1.1] ^3,6 . 0 ^2,7 . 0 ^9,13 ] Pentadecane = monoacrylate, bis (oxymethyl) pentacyclo [6.5.1.1] ^3,6 . 0 ^2,7 . 0 ^9,13 ] Pentadecane = monomethacrylate and mixtures thereof, bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.1.0] ^2,6 Decane = monoacrylate, bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 ^2,6 Decane = monomethacrylate and mixtures thereof.
[0017]
Mercapto compounds represented by the general formulas (III) to (V) are suitable as the bifunctional mercapto compound used in combination with the alicyclic skeleton bis (meth) acrylate and the alicyclic skeleton mono (meth) acrylate. It is.
[0018]
[Chemical 3]

[0019]
In general formula (III), R ^Four Represents a methylene group or an ethylene group, R ^Five Represents a hydrocarbon residue having 2 to 15 carbon atoms which may contain ether oxygen, and a represents an integer of 2 to 6.
[0020]
In general formula (III), R ^Five Specific examples of (hydrocarbon residue having 2 to 15 carbon atoms which may contain ether oxygen) include, for example, pentaerythritol residue, dipentaerythritol residue, trimethylolpropane residue, ethylene glycol residue, Examples include diethylene glycol residues, triethylene glycol residues, butanediol residues.
[0021]
The mercapto compound represented by the general formula (III) is a divalent to hexavalent thioglycolic acid ester or thiopropionic acid ester, and specific examples thereof include, for example, pentaerythritol tetrakis (β-thiopropionate), Examples include pentaerythritol tetrakis (thioglycolate), trimethylolpropane tris (β-thiopropionate), trimethylolpropane tris (thioglycolate), and ethylene glycol bis (β-thiopropionate).
[0022]
[Formula 4]

[0023]
In general formula (IV), X is HS- (CH ₂ ) _b -CO- (OCH ₂ CH ₂ ) _d -(CH ₂ ) _c -Indicates. However, b and c show the integer of 1-8 each independently.
[0024]
The mercapto compound represented by the general formula (IV) is an ω-thiol group-containing isocyanurate, and specific examples thereof include, for example, tris [2- (β-thiopropionyloxy) ethyl] isocyanurate, tris (2- Thioglyconyloxyethyl) isocyanurate, tris [2- (β-thioglyconyloxyethoxy) ethyl] isocyanurate, tris [(2-thioglyconyloxyethoxy) ethyl] isocyanurate, tris [3- (β- Thiopropionyloxy) propyl] isocyanurate, tris (3-thioglyconyloxypropyl) isocyanurate and the like.
[0025]
[Chemical formula 5]

[0026]
In general formula (V), R ⁶ And R ⁷ Each independently represents an alkylene group, e and f each independently represent an integer of 0 or 1, and g represents an integer of 1 or 2.
[0027]
The compound represented by the general formula (V) is a thiol group-containing hydrocarbon, and specific examples thereof include benzene mercaptan, xylylene mercaptan, 4,4′-dimercaptodiphenyl sulfide, and the like.
[0028]
In the present invention, the above-mentioned components are usually used in the following proportions. That is, the alicyclic skeleton bis (meth) acrylate represented by the general formula (I) is 70 to 99 parts by weight, and the alicyclic skeleton mono (meth) acrylate represented by the general formula (II) is 1 to 30 parts by weight. Part of the mercapto compound represented by the general formulas (III) to (V) is 1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount thereof.
[0029]
The photopolymerization initiator is not particularly limited as long as radicals can be generated by irradiation with active rays, and various photopolymerization initiators can be used. Typically, various acetophenone-based or benzophenone-based photopolymerization initiators can be mentioned.
[0030]
Specific examples of the acetophenone photopolymerization initiator include 1-phenyl-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 4-diphenoxydichloroacetophenone, and the like. Examples of the benzophenone-based photopolymerization initiator include benzophenone, methyl benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, hydrobenzobenzophenone, and the like.
[0031]
In the present invention, a compound represented by the following general formula (XI) can also be suitably used as a photopolymerization initiator.
[0032]
[Chemical 6]

[0033]
In general formula (VI), R ⁸ Represents a methyl group, a methoxy group or a chlorine atom, and n represents an integer of 2 or 3.
[0034]
Specific examples of the compound represented by the general formula (VI) include 2,6-dimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, and 2,4,6-trimethylbenzoyl. Examples include phenylphosphinic acid methyl ester, 2,6-dichlorobenzoylphenylphosphine oxide, and the like.
[0035]
The photopolymerization initiator is usually used in a proportion of 0.01 to 1 part by weight, preferably 0.02 to 0.3 part by weight, based on 100 parts by weight of the monomer.
[0036]
In the present invention, as other optional components, other polymerizable monomers capable of radical polymerization, thickeners, thermal polymerization initiators, antioxidants, ultraviolet absorbers, dyes and the like can be used.
[0037]
Examples of other polymerizable monomers capable of radical polymerization include methacryloyloxymethylcyclodecane, 2,2-bis [4- (β-methacryloyloxyethoxy) phenyl] propane, and 2,2-bis [4- (β- Methacryloyloxyethoxy) cyclohexyl] propane, 1,4-bis (methacryloyloxymethyl) cyclohexane and the like. These polymerizable monomers are usually used in a proportion of 30 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the above-mentioned polymerizable monomer.
[0038]
The thickener is appropriately selected from the types of polymerizable monomers to be used, but usually an amorphous thermoplastic polymer is used. In particular, amorphous polyolefin represented by the following general formula (VII) or (VIII) is preferable.
[0039]
[Chemical 7]

[0040]
In the general formula (VII), X represents cyclopentadiene and derivatives thereof, norbornadiene and derivatives thereof, dicyclopentadiene and derivatives thereof, or hydrogenated products thereof, and R ⁹ Is a hydrogen atom, hydrocarbon group or C ₆ H _Four R ^Ten Group R ^Ten Represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group, an alkoxy group, a halogenated hydrocarbon group or a halogen atom, and d and e each independently represent an integer of 1 or more.
[0041]
[Chemical 8]

[0042]
In general formula (VIII), j and k each independently represent 0 or an integer of 1 or more. The cyclic 5-membered ring unit may have a substituent such as a halogen atom or a hydrocarbon group.
[0043]
Specific examples of the amorphous polyolefin as described above are described in JP-A No. 10-77321, which can be referred to. In addition, in the present invention, as other amorphous polyolefin, bicyclo [2.2.1] hept-2-ene or a derivative thereof described in the above publication, cyclopentene, cyclooctene, 1,5- Ring-opening polymers with other cyclic olefins such as cyclooctentadiene or hydrogenated products thereof can also be used.
[0044]
Furthermore, in this invention, the compound represented by the following general formula (IX) can also be used suitably as a thickener.
[0045]
[Chemical 9]

[0046]
In general formula (IX), Y represents an alkoxy group such as methoxy, ethoxy, isopropoxy, etc., and h represents an integer of 1 or more.
[0047]
The above thickener is usually used in a proportion of 2 to 10 parts by weight, preferably 4 to 8 parts by weight, based on 100 parts by weight of the monomer.
[0048]
The photopolymerizable monomer composition used in the present invention is a non-solvent system prepared by blending the above components, and has a viscosity of 10 sec at 20 ° C. ^-1 The value measured under these conditions is usually 500 to 100,000 mPa · sec, preferably 1000 to 10,000 mPa · sec.
[0049]
Examples of the thermal polymerization initiator include benzoyl peroxide, diisopropyl peroxycarbonate, t-butyl peroxy (2-ethylhexanoate), and the amount used is usually 1 with respect to 100 parts by weight of the monomer. Less than parts by weight. In addition, as the antioxidant, the ultraviolet absorber, and the dye / pigment, known ones can be appropriately selected and used.
[0050]
In the production method of the present invention, basically, a photopolymerizable monomer composition is supplied onto a lower support sheet to be transferred, and an upper support sheet transferred in the same direction at the same speed as the lower support sheet is provided thereon. This is a continuous method for producing a transparent resin substrate in which a photopolymerizable monomer composition is cured by irradiating active rays after lamination. Such a method can be performed in a manufacturing facility as shown in FIG.
[0051]
In FIG. 1, the lower support sheet (20) is fed from the lower support sheet feeding device (21) and passes through the drive roller (22), the guide rollers (23) and (24), and the lower support sheet winding device. (25) On the other hand, the upper support sheet (30) is fed from the upper support sheet feeding device (31), and passes through the guide rollers (32), (33) and (34) to the upper support sheet winding device (35). It is wound up. The guide rollers (23) and (24) disposed on the lower support sheet side and the guide rollers (33) and (34) disposed on the upper support sheet side are disposed to face each other.
[0052]
The lower support sheet (20) and the upper support sheet (30) are both made of a flexible sheet, and the active ray irradiation side sheet described later is made of a transparent sheet. Moreover, it is normally comprised with the sheet | seat which has a softening point of 100 degreeC or more so that it may not soften with the heat | fever at the time of superposition | polymerization. Examples of the sheet having such characteristics include synthetic resin sheets having a thickness of 50 to 300 μm, for example, synthetic resin sheets such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, and polycarbonate. The surface roughness (Ra) of the support sheet on the side in contact with the photopolymerizable monomer composition is usually 100 nm or less, preferably 20 nm or less. By using such a support sheet, a transparent resin substrate having a smoother surface can be obtained.
[0053]
The lower support sheet (20) and the upper support sheet (30) are transferred in the same direction at the same speed, and a horizontal pass lie is formed between the drive roller (22) and the guide rollers (23) and (24). Yes. The sheet transfer speed is usually 0.5 to 20 m / min, preferably 1 to 10 m / min.
[0054]
Then, from the die coater (1) disposed in the vicinity of the drive roller (22), the photopolymerizable monomer composition (A) is supplied onto the lower support sheet (20), and the upper support sheet (30) is provided thereon. After laminating, the photopolymerizable monomer composition is irradiated with active rays and cured.
[0055]
The thickness of the photopolymerizable monomer composition (A) supplied from the die coater (1) onto the lower support sheet (20) is appropriately adjusted depending on the supply speed and the sheet transfer speed. 1 to 5 mm. The upper support sheet (30) does not need to be particularly pressurized, and is uniformly laminated on the photopolymerizable monomer composition (A) supplied on the lower support sheet (20) and formed into a sheet shape. What is necessary is just to be pressed. A chemical lamp, a xenon lamp, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, or the like is used as the active ray light source.
[0056]
The most important features of the production method of the present invention are the pre-curing step in which the lower support sheet (20) and / or the upper support sheet (30) are transmitted to irradiate active rays, and both support sheets (20) and ( 30) is a post-curing step in which actinic radiation is applied after peeling.
[0057]
That is, as shown in FIG. 1, first, the active ray irradiation equipment (4) for the pre-curing process is irradiated with active rays, and then both the support sheets (20) and (30) are respectively wound on the respective winding devices (25 ) And (35), the active ray is irradiated with the active ray irradiation equipment (6) for the subsequent curing step. In the case of the production facility shown in FIG. 1, the active rays are irradiated from both sheet surfaces in both steps, but may be performed from one sheet surface.
[0058]
Another feature of the present invention is that in the post curing step Life It is in the point which made the irradiation amount of the sex line 1.5 to 20 times the pre-stage hardening process. In the post-curing process Life The irradiation amount of the sex rays is preferably 5 to 10 times that of the pre-curing step. The irradiation intensity of active rays is about 60 to 200 w / cm in both steps, and the irradiation time is 0.5 to 3 minutes in the former curing step and 2 to 5 minutes in the latter curing step. By adopting such curing conditions, the polymerization of the photopolymerizable monomer is usually performed at 5 to 85%, preferably 20 to 60% in the former curing step, and the remaining photopolymerizable monomer is polymerized in the latter curing step. Done. The following conditions are recommended as curing conditions.
[0059]
The temperature of the photopolymerizable monomer composition (A) is raised by the polymerization heat. In the case of the present invention, the temperature of the photopolymerizable monomer composition (A) is controlled to a range of about 100 to 150 ° C. in the pre-curing step and about 140 to 180 ° C. in the post-curing step by appropriate cooling means. preferable. By such temperature control, deterioration of product physical properties (transparency, strength, homogeneity, etc.) is suppressed. Commercially available equipment can be used as the actinic radiation irradiating equipment, but the atmosphere in the subsequent curing step is preferably an inert atmosphere such as nitrogen. The atmosphere of the pre-curing step may be an air atmosphere.
[0060]
Moreover, in the latter stage curing step, 0.2 to 1 N / cm in the length direction with respect to the polymer sheet (transparent resin substrate before complete curing) obtained in the former stage curing step. ² It is preferable to apply a tension of 1/5 to 3/4 of the longitudinal direction in the width direction. According to such a subsequent curing step, distortion (undulation) of the polymerization sheet is prevented, and a flatter transparent resin substrate can be obtained. As a method of applying tension in the length direction and the width direction of the polymerization sheet, for example, a tenter clip system in which a large number of continuous clips run while pulling with the ears interposed therebetween can be employed.
[0061]
In the case of the manufacturing facility shown in FIG. 1, an ear cutting cutter (5) is disposed between the active ray irradiation facility for the pre-curing process (4) and the active ray irradiation facility for the post-curing process (6). . Thereby, the ear | edge part (swelling part) of the longitudinal direction both ends of the hardened | cured sheet-like photopolymerizable monomer composition is removed. Usually, after peeling of a support sheet, an ear | edge part is cut and removed together by the productization process cut | disconnected to a predetermined size. According to such a method, there is a problem that the product is damaged when the ear is cut and the product yield is lowered. However, as described above, the ears are cut before the two support sheets (20) and (30) are peeled off by the respective winding devices (25) and (35), that is, the ears are cut together with the support sheet. If it does, there exists an advantage by which the damage of a product is prevented. A laser cutter is suitably used as the ear cutting cutter (5). The ear portion cut and removed together with the support sheet is wound around an ear portion winding roller (not shown).
[0062]
After completion of the latter curing step, the obtained transparent resin substrate is cut by an appropriate means to obtain a transparent resin substrate product (B). In the present invention, heat treatment can be performed as necessary after completion of the post-curing step and before the cutting treatment. Such heat treatment has a meaning as a finish of the polymerization treatment. The heat treatment temperature is usually 150 to 200 ° C., preferably 150 to 170 ° C., and the heat treatment time is usually 0.5 hours or more, preferably 0.5 to 2 hours. The atmosphere may be either an inert atmosphere or an air atmosphere.
[0063]
In addition, although illustration was abbreviate | omitted, a belt conveyor can be arrange | positioned in a back | latter stage hardening process. In this case, the post-stage curing is usually performed only with the active ray irradiation equipment arranged on the upper side of the belt conveyor. In the case of the manufacturing facility shown in FIG. 1, the lower support sheet (20) also serves as a belt conveyor. However, a belt conveyor is disposed below the lower support sheet (20), and the lower support sheet is placed on the belt conveyor. (20) may be loaded and transferred. Further, one support sheet (preferably the lower support sheet) is formed of a seamless endless steel sheet, and the amount of the synthetic resin sheet discarded after use as the support sheet can be reduced to reduce the cost.
[0064]
The transparent resin substrate obtained by the method according to the present invention has an excellent light transmittance, and the transmittance is usually 75% or more, preferably 80% or more. Moreover, although the thickness of a transparent resin substrate changes with the uses, it is 0.1-5 mm normally, Preferably it is 0.2-1 mm.
[0065]
The transparent resin substrate obtained as described above is suitably used for various applications such as display substrates such as liquid crystal and organic EL, optical filters, optical communication materials, and solar cell substrates.
[0066]
【Example】
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention still in detail, this invention is not limited to a following example, unless the summary is exceeded.
[0067]
Example 1
<Preparation of photopolymerizable monomer composition>
Bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 ^2,6 ] As a photoinitiator, 0.05 parts by weight of benzophenone and 2,4,6 are used for 100 parts by weight of a mixture of 94% by weight of decane = diacrylate and 6% by weight of pentaerythritol tetrakis (β-thiopropionate). -0.05 part by weight of trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 3 parts by weight of “ZEONEX 450” (hydrogenated product of nobornene-based ring-opening polymer) manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd. as a thickener, and photopolymerization with a viscosity of 3000 mPa · sec A functional monomer composition was prepared.
[0068]
<Transparent resin substrate manufacturing equipment>
The same production equipment as shown in FIG. 1 was used. The lower support sheet (20) and the upper support sheet (30) have a width of 330 mm and a thickness of 100 μm polyester sheet (“O300” manufactured by Mitsubishi Chemical Polyester Co., Ltd.), and the active ray irradiation facilities (4) and (6) have metal halide lamps. A water-cooled 25 W carbon dioxide laser (manufactured by Quantum Electronics Co., Ltd.) was used for each of the cutters for cutting the ears (5 manufactured by Nippon Battery Co., Ltd.).
[0069]
<Manufacture of transparent resin substrate>
First, the transfer rate of the lower support sheet (20) and the upper support sheet (30) is set to 1 m / mins, and the photopolymerizable monomer composition (A) is supplied from the die coater (1) onto the lower support sheet (20). And formed into a sheet having a width of 310 mm and a thickness of 400 μm.
[0070]
Next, 2 J / cm in 0.5 minutes by the active ray irradiation equipment (4) for the pre-curing process ² Irradiation was performed. At this time, the temperature of the photopolymerizable monomer composition (A) was kept at 130 ° C. by air cooling. Incidentally, in the pre-curing, about 60% by weight of the photopolymerizable monomer was polymerized.
[0071]
Next, after the ears are cut and removed at positions 20 mm from both ends by the ear cutting cutter (5), both support sheets (20) and (30) are respectively taken up by the winding devices (25) and (35). It peeled.
[0072]
Then, it is 25 J / cm in 5 minutes by the active ray irradiation equipment (6) for the latter stage curing process. ² Irradiation was performed. At this time, the temperature of the photopolymerizable monomer composition (A) was kept at 160 ° C. by air cooling. Then, it cut | disconnected to predetermined length and obtained the transparent resin substrate product (B).
[0073]
The transparent resin substrate was continuously manufactured for 50 minutes until a transparent resin substrate product of about 50 m was obtained. Meanwhile, problems such as breakage of the sheet of the photopolymerizable monomer composition (A) did not occur. Moreover, about the obtained transparent resin substrate product (B), it was cut out to 10 cm square, and it was 1 mm as a result of measuring the fluctuation | variation (swell) of height.
[0074]
Comparative Example 1
In Example 1, the irradiation amount by the active ray irradiation facility (4) for the pre-curing process is 0.3 J / cm. ² The irradiation amount by the active ray irradiation equipment (6) for the subsequent curing process is 25 J / cm. ² A transparent resin substrate product (B) was obtained in the same manner as in Example 1 except for changing to. During continuous production for 50 minutes, problems such as breakage of the sheet of the photopolymerizable monomer composition (A) did not occur. However, the swell of the transparent resin substrate product (B) was 4 mm.
[0075]
Comparative Example 2
In Example 1, the irradiation amount by the active ray irradiation facility for the pre-curing process (4) and the active ray irradiation facility for the post-curing process (6) was both 13 J / cm. ² A transparent resin substrate product (B) was obtained in the same manner as in Example 1 except for changing to. During continuous production for 50 minutes, the sheet of the photopolymerizable monomer composition (A) was broken five times, and the waviness of the transparent resin substrate product (B) was 8 mm.
[0076]
【The invention's effect】
According to the present invention described above, a stable continuous production method of a transparent resin substrate having a uniform and flat surface is provided, and the industrial value of the present invention is remarkable.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is an explanatory diagram of a preferred example of a manufacturing facility for carrying out the invention.
[Explanation of symbols]
1: Die coater
4: Actinic radiation irradiation equipment for pre-curing process
5: Cutter for cutting the ear
6: Actinic radiation irradiation equipment for post-stage curing process
20: Lower support sheet
21: Lower support sheet feeding device
22: Driving roller
23: Guide roller
24: Guide roller
25: Lower support sheet take-up device
30: Upper support sheet
31: Upper support sheet feeding device
32: Guide roller
33: Guide roller
34: Guide roller
35: Upper support sheet winding device
A: Photopolymerizable monomer composition
B: Transparent resin substrate product

Claims (3)

The photopolymerizable monomer composition is supplied onto the lower support sheet to be transferred, and the upper support sheet transferred in the same direction at the same speed as the lower support sheet is laminated thereon, and then the photopolymerizable monomer composition is active. It is a continuous manufacturing method of a transparent resin substrate that is cured by irradiating a line, a pre-curing step in which a lower support sheet and / or an upper support sheet is transmitted to irradiate active rays, and both support sheets are peeled off after irradiation with active rays consists subsequent curing step of performing, the addition, the continuous production of a transparent resin substrate, characterized in that the irradiation amount of activity line in subsequent curing step and from 1.5 to 20 times the pre-stage curing process Method. The manufacturing method of Claim 1 which controls the temperature of the photopolymerizable monomer composition in a pre-stage hardening process at 100-150 degreeC. The process according to claim 1 or 2 for controlling the temperature of the photopolymerizable monomer composition in a subsequent stage curing process 140 to 180 ° C..

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