JP3753476B2 - heater - Google Patents
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Images
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明はヒータに関し、半導体デバイスや液晶ディスプレイ基板等の製造工程において、不純物の拡散や酸化膜の形成等を行う熱処理炉の加熱手段として利用できる。
【0002】
【従来の技術と発明が解決しようとする課題】
図7に示す従来のヒータ101は、例えば拡散炉や酸化炉等の熱処理炉に用いられるものであり、筒状の周壁102を有する断熱材と、その周壁102の内周側に設けられる発熱体103と、その周壁102の外周側を覆う単一の筒状シェル104とを備え、その断熱材により囲まれる加熱空間内で不純物の拡散や酸化膜の形成等が行われる。
【0003】
上記従来のヒータ101を用いる熱処理においては、ヒータ外部の熱的変化が内部温度に影響を与えることがある。今後は、半導体デバイスがより微細化し、より一層の均一性を要求されることが予想されるため、上記影響を極力抑える必要がある。
【0004】
そのような熱的外乱の影響は、断熱材を厚くする等して断熱効果を高め、ヒータ全体の熱容量を大きくすれば低減できる。しかし、それでは内部温度の変化速度が低下し、内部温度を所望温度まで変化させるのに長時間を要するため、内部温度を変更する際の応答性が悪くなってしまう。
【0005】
そのため、従来の熱処理炉においては、熱処理対象を保持するボートの回転駆動機構を設けることで、熱的外乱の影響を是正していた。しかし、そのような回転駆動機構は高価なものであり、構造も複雑化してしまう。
【0006】
本発明は、上記問題を解決することのできるヒータを提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明のヒータは、筒形状の周壁を有する断熱材と、その周壁の内周側に設けられる発熱体と、その周壁の外周側を覆う筒形状の第1シェルと、その第1シェルの外周側を覆う筒形状の第2シェルとを備え、各シェルは互いに径方向の間隔をおいて配置されていることを特徴とする。
【0008】
本発明の構成によれば、第1シェルと第2シェルは互いに径方向の間隔をおいて配置されるので、両シェル間にヒータの外部よりも熱的に安定した空間を形成できる。これにより、従来のような単一のシェルにより覆われるヒータに比べ、断熱材を厚くして熱容量を大きくすることなく、断熱材に囲まれる内部空間における温度に対する熱的外乱の影響を小さくできる。
【0009】
本発明のヒータにおいては、両シェル間の空間においてガスを層流状態で軸方向に強制流動させる手段を備え、そのガス流速は調節可能とされ、両シェル間の空間に導入されたガスは、前記断熱材により覆われる加熱空間内に至ることなくその空間から排出される。
両シェル間の空間においては内外温度差に基づき自然対流が生じるが、その空間においてガスを層流状態でシェルの軸方向に強制流動させ、そのガス流速を自然対流の影響を受けることのない充分な大きさにすることで、その空間を自然対流の影響を受けることのないよう熱的に安定した空間にすることができる。
【0010】
本発明のヒータにおける各シェルの内外周は同心の円筒面上に配置され、その円筒と同心の円環形状の分散部材が両シェル間に配置され、その分散部材に複数のガス流通孔が均一に分布するように形成され、それらガス流通孔を介して両シェル間の空間に前記ガスが送り込まれるのが好ましい。
これにより、両シェル間の空間におけるガス流を均一化でき、その空間を熱的により均一化することができる。
【0011】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の第1実施形態を説明する。
図1に示す熱処理炉1は、ヒータ2と、このヒータ2により覆われる加熱空間内に配置される炉芯管3と、その炉芯管3内において半導体基板等の処理対象物4を保持するボート5と、そのボート5の炉内への出し入れを行う昇降装置6とを備える。
【0012】
そのヒータ2は、断熱材11、発熱体12、第1シェル13、および第2シェル14を備える。その断熱材11は、縦軸心の円筒形状を有する周壁21と、この周壁21の上部を覆う上壁22とにより構成され、その周壁21の内方が上記加熱空間とされる。その周壁21の下端と炉芯管3との間は環状ヒータ支持ベース23により閉鎖され、その炉心管3の下方は昇降装置6により閉鎖される。
【0013】
その発熱体12は、その周壁21の内周側に設けられる複数の抵抗発熱線12aにより構成される。すなわち、図2に示すように、その周壁21の内周に上下方向に沿う溝21aが周方向に一定間隔をおいて複数形成される。各抵抗発熱線12aは、線材を蛇行状に曲げることで、上下に並列する直線部と湾曲部とを有する形状とされる。各溝21a内の上部、下部、および上下中間部それぞれにおいて、その抵抗発熱線12aは直線部が露出すると共に湾曲部が断熱材11に埋め込まれる。なお、各抵抗発熱線12aは独立して発熱制御可能とされる。
【0014】
その第1シェル13と第2シェル14とは金属製で縦軸心の円筒形状を有し、その第1シェル13により上記周壁21の外周側が覆われ、その第2シェル14により第1シェル13の外周側が覆われる。すなわち、その第1シェル13の外径は第2シェル14の内径よりも小さくされ、各シェル13、14の内外周は同心の円筒面上に配置されることで、各シェル13、14は互いに径方向の間隔をおいて配置される。その第1シェル13は、内径が周壁21の外径と略等しくされ、その周壁21に固定される。各シェル13、14の下端部は円環形状の金属製下部カバー24に固定され、上端部は円環形状の金属製上部カバー25に固定される。これにより、ヒータ2は2重シェル構造とされている。
【0015】
その第1シェル13と第2シェル14との間の空間31において、ガスを層流状態でシェル13、14の軸方向に強制流動させる手段を備える。すなわち、その下部カバー24に形成されるガス導入口24aに接続される給気用配管32を介して、その空間31内にガス供給源(図示省略)からの高圧ガスが導入され、その上部カバー25に形成されるガス排出口25aに接続される排気用配管33を介して導入されたガスが排出される。そのガスとしては、例えば窒素ガス等の不活性ガスや空気等を用いることができる。その給気用配管32の途中に流量計35が設けられ、その排気用配管33の途中に排気圧コントロールバルブ36が設けられ、その排気圧を制御することで空間31におけるガス流速は調節可能とされている。その流量計35の下流側と排気圧コントロールバルブ36の上流側とに開閉バルブ38、39が設けられ、そのガスの流動を停止させることができる。なお、そのガス導入口24aおよびガス排出口25aの数は特に限定されない。
【0016】
そのガス流速の調節により、そのガスを空間31において層流状態で軸方向に沿って下方から上方に強制流動させ、また、そのガス流速を自然対流の影響を受けることのない充分な大きさにすることができる。
なお、そのガス流速の具体的な値は、理論計算を参考にして設定することができる。例えば、その第1シェル13の外周面と第2シェル14の内周面とを平板と仮定し、その空間31の下端における第1シェル13の外周面から上方へy座標、径方向外方へx座標をとり、第1シェル13の外周面温度をTw、第2シェル14の内周面温度をT∞、その流体のプラントル数をPr、そのx座標でのグラスホフ数をGrx、重力加速度をgとした場合、その空間31におけるxy座標での自然対流によるガス流速Vxは、ポールハウゼンによってPrに応じて求められた(y/x)×(Grx/4)1/4 と〔Vx/{2×(g×x)1/2 }〕×{T∞/(Tw−T∞)}1/2 との関係から求められる。その求めた自然対流によるガス流速Vxに対して、強制流動によるガス流速を層流を維持できる速度の範囲内で充分に大きな値(例えば20倍程度以上)に設定する。ここで、その第1シェル13の外径を0.5m、第2シェル14の内径を0.6m、空間31の軸方向長さを0.7m、Twを670°K、T∞を418°K、x=0.025m、y=0.35m、流体を窒素とした場合、その理論計算によれば自然対流によるガス流速Vxは約0.0098m/secとなる。また、層流を維持できる上限のガス流速は0.76m/secであり、この場合のガス流量は4100リットル/minである。よって、ガス流量を100リットル/minとすれば、ガス流速を約0.019m/secとして自然対流の影響を受けることのない充分な大きさにすることができる。
【0017】
その第1シェル13と第2シェル14との間の下部に、各シェル13、14の内外周と同心の円環形状を有する分散部材41が配置される。図3に示すように、その分散部材41には、ガス導入口24aよりも多数かつ小径のガス流通孔41aが均一に分布するように形成され、それらガス流通孔41aを介して空間31に上記ガスが送り込まれる。
【0018】
上記ヒータ2によれば、第1シェル13と第2シェル14は互いに径方向の間隔をおいて配置されるので、両シェル13、14の間にヒータ2の外部よりも熱的に安定した空間31を形成できる。これにより、従来のような単一のシェルにより覆われるヒータに比べ、断熱材を厚くして熱容量を大きくすることなく、断熱材11に囲まれる内部空間における温度に対する熱的外乱の影響を小さくできる。
また、両シェル13、14間の空間31においては内外温度差に基づき自然対流が生じるが、その空間31においてガスを層流状態で軸方向に強制流動させ、そのガス流速を自然対流の影響を受けることのない充分な大きさにすることで、その空間31を自然対流の影響を受けることのないより熱的に安定した空間にすることができる。
さらに、そのガスは分散部材41における均一に分布するガス流通孔41aを介して空間31内に送り込まれるので、その空間31におけるガス流を均一化でき、その空間31を熱的により均一化することができる。
これにより、例えば熱処理炉1において処理対象面に形成される酸化膜の膜厚分布の均一化を図ることができる、しかも、ヒータ2の内部温度を変更する際の応答性を低下させることはない。
【0019】
図4は本発明の第2実施形態を示す。第1実施形態との相違は、分散部材41を第1シェル13と第2シェル14との間の空間31の上部に配置し、上部カバー25にガス導入口25bを形成し、下部カバー24にガス排出口24bを形成し、両シェル13、14間の空間31にガスを上方側から導入して下方側から排気する点にある。他は第1実施形態と同様で、同一部分は同一符号で示す。
図5は本発明の第3実施形態を示す。第1実施形態との相違は、分散部材41を第1シェル13と第2シェル14との間の空間31の上部に配置し、上部カバー25にガス導入口25bを形成し、上部カバー25と分散部材41とに排気用配管33の挿通口25c、41bを形成し、その排気用配管33の端部開口を空間31の下部に配置してガス排出口33aとし、ガスを空間31に上方側から導入して上方側から排気する点にある。他は第1実施形態と同様で、同一部分は同一符号で示す。
図6は本発明の第4実施形態を示す。第1実施形態との相違は、下部カバー24と分散部材41とに排気用配管33の挿通口24c、41bを形成し、その排気用配管33の端部開口を空間31の上部に配置してガス排出口33aとし、ガスを空間31に下方側から導入して下方側から排気する点にある。他は第1実施形態と同様で、同一部分は同一符号で示す。
【0020】
なお、本発明は上記実施形態に限定されない。例えば、第2シェルの外周側を覆う別のシェルを設けて3重以上のシェル構造としてもよい。また、上記実施形態では第1シェルにより断熱材の外周側を直接に覆ったが、第1シェルと断熱材との間に介在する別のシェルを設けることで3重以上のシェル構造としてもよい。要は、断熱材の外周側を覆う第1シェルと、この第1シェルの外周側を径方向の間隔をおいて覆う第2シェルとを備えていればよい。また、発熱体の構造は特に限定されず、例えば断熱材の内周に螺旋状に設けられるものでもよい。
【0021】
【発明の効果】
本発明によれば、断熱材に囲まれる空間における温度を安定させ、且つ、その温度を変更する際の応答性を低下させることのないヒータを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施形態のヒータを備える熱処理炉の縦断面図
【図2】本発明の第1実施形態のヒータの部分斜視図
【図3】本発明の第1実施形態のヒータの平断面図
【図4】本発明の第2実施形態のヒータを備える熱処理炉の構成説明図
【図5】本発明の第3実施形態のヒータを備える熱処理炉の構成説明図
【図6】本発明の第4実施形態のヒータを備える熱処理炉の構成説明図
【図7】従来のヒータを備える熱処理炉の断面図
【符号の説明】
11 断熱材
12 発熱体
13、14 シェル
21 周壁
31 空間
32 給気用配管
33 排気用配管
41 分散部材
41a ガス流通孔[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a heater, and can be used as a heating means for a heat treatment furnace that performs diffusion of impurities, formation of an oxide film, and the like in a manufacturing process of a semiconductor device, a liquid crystal display substrate, and the like.
[0002]
[Prior art and problems to be solved by the invention]
A
[0003]
In the heat treatment using the
[0004]
The influence of such a thermal disturbance can be reduced by increasing the heat capacity of the entire heater by increasing the heat insulating effect by increasing the thickness of the heat insulating material. However, the rate of change of the internal temperature is reduced, and it takes a long time to change the internal temperature to the desired temperature, so that the responsiveness when changing the internal temperature is deteriorated.
[0005]
Therefore, in the conventional heat treatment furnace, the influence of the thermal disturbance has been corrected by providing a boat rotation drive mechanism for holding the heat treatment object. However, such a rotational drive mechanism is expensive and the structure is complicated.
[0006]
An object of this invention is to provide the heater which can solve the said problem.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
The heater of the present invention includes a heat insulating material having a cylindrical peripheral wall, a heating element provided on the inner peripheral side of the peripheral wall, a cylindrical first shell covering the outer peripheral side of the peripheral wall, and an outer periphery of the first shell And a second shell having a cylindrical shape covering the side, and the shells are arranged with a radial interval therebetween.
[0008]
According to the configuration of the present invention, since the first shell and the second shell are arranged at a radial interval from each other, a thermally stable space can be formed between both shells as compared with the outside of the heater. Thereby, the influence of the thermal disturbance with respect to the temperature in the internal space surrounded by a heat insulating material can be made small, without thickening a heat insulating material and enlarging a heat capacity compared with the heater covered with the conventional single shell.
[0009]
In the heater of the present invention, it is provided with means for forcibly flowing the gas in the axial direction in a laminar flow state in the space between both shells, the gas flow rate can be adjusted, and the gas introduced into the space between both shells is It is discharged from the space without reaching the heating space covered with the heat insulating material .
Natural convection occurs in the space between the two shells based on the internal and external temperature differences, but the gas is forced to flow in the axial direction of the shell in a laminar flow state, and the gas flow rate is not affected by natural convection. By making it large, the space can be made into a thermally stable space so as not to be affected by natural convection.
[0010]
In the heater of the present invention, the inner and outer circumferences of each shell are arranged on a concentric cylindrical surface, an annular dispersion member concentric with the cylinder is arranged between both shells, and a plurality of gas flow holes are uniformly formed in the dispersion member. Preferably, the gas is fed into the space between the shells through the gas flow holes.
Thereby, the gas flow in the space between both shells can be made uniform, and the space can be made more uniform thermally.
[0011]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
A
[0012]
The
[0013]
The
[0014]
The
[0015]
In the
[0016]
By adjusting the gas flow rate, the gas is forced to flow from the lower side to the upper side in the axial direction in the laminar state in the
In addition, the specific value of the gas flow rate can be set with reference to theoretical calculation. For example, assuming that the outer peripheral surface of the
[0017]
A
[0018]
According to the
In addition, natural convection occurs in the
Furthermore, since the gas is fed into the
Thereby, for example, the film thickness distribution of the oxide film formed on the surface to be processed in the
[0019]
FIG. 4 shows a second embodiment of the present invention. The difference from the first embodiment is that the
FIG. 5 shows a third embodiment of the present invention. The difference from the first embodiment is that the
FIG. 6 shows a fourth embodiment of the present invention. The difference from the first embodiment is that the insertion holes 24 c and 41 b of the
[0020]
In addition, this invention is not limited to the said embodiment. For example, another shell that covers the outer peripheral side of the second shell may be provided to form a triple or more shell structure. Moreover, in the said embodiment, although the outer peripheral side of the heat insulating material was directly covered with the 1st shell, it is good also as a shell structure more than triple by providing another shell interposed between a 1st shell and a heat insulating material. . In short, it is only necessary to include a first shell that covers the outer peripheral side of the heat insulating material and a second shell that covers the outer peripheral side of the first shell with a radial interval. Moreover, the structure of a heat generating body is not specifically limited, For example, what is provided helically in the inner periphery of a heat insulating material may be used.
[0021]
【The invention's effect】
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the temperature in the space enclosed with a heat insulating material can be stabilized, and the heater which does not reduce the responsiveness at the time of changing the temperature can be provided.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a longitudinal sectional view of a heat treatment furnace equipped with a heater according to the first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a partial perspective view of the heater according to the first embodiment of the present invention. Fig. 4 is a plan sectional view of the heater. Fig. 4 is a diagram illustrating the configuration of a heat treatment furnace including the heater according to the second embodiment of the present invention. Fig. 5 is a diagram illustrating the configuration of a heat treatment furnace including the heater according to the third embodiment of the present invention. FIG. 7 is a structural explanatory view of a heat treatment furnace equipped with a heater according to a fourth embodiment of the present invention. FIG. 7 is a cross-sectional view of a heat treatment furnace equipped with a conventional heater.
DESCRIPTION OF
Claims (2)
その周壁の内周側に設けられる発熱体と、
その周壁の外周側を覆う筒形状の第1シェルと、
その第1シェルの外周側を覆う筒形状の第2シェルとを備え、
各シェルは互いに径方向の間隔をおいて配置され、
両シェル間の空間においてガスを層流状態で軸方向に強制流動させる手段を備え、そのガス流速は調節可能とされ、
両シェル間の空間に導入されたガスは、前記断熱材により覆われる加熱空間内に至ることなくその空間から排出されるヒータ。A heat insulating material having a cylindrical peripheral wall;
A heating element provided on the inner peripheral side of the peripheral wall;
A cylindrical first shell covering the outer peripheral side of the peripheral wall;
A cylindrical second shell covering the outer peripheral side of the first shell,
Each shell is arranged at a radial distance from each other ,
A means for forcibly flowing the gas in the axial direction in a laminar flow state in the space between both shells, the gas flow rate is adjustable,
A heater in which the gas introduced into the space between the two shells is discharged from the space without reaching the heating space covered with the heat insulating material .
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