JP3753935B2 - Manufacturing method of multilayer electronic component - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、薄層化した内部電極を多数層用いた場合でも低ESR化が図られた積層型電子部品を製造できる積層型電子部品の製造方法に係り、特に積層チップコンデンサの製造に好適なものである。
【0002】
【従来の技術】
従来より、電子部品の一種としてのコンデンサが幅広く用いられており、LSIの電源回路においても、積層セラミックチップコンデンサが用いられている。そして、近年のCPUの高性能化の要求に伴って、クロック数を高めてCPUの処理速度の高速化が図られるようになった為、この処理速度の高速化に合わせてESLで表される等価直列インダクタンスの低いコンデンサが必要になった。
【0003】
これに対して、低ESL化されたコンデンサとしては、例えば縦横の長さを逆転したフリップコンデンサや3端子貫通コンデンサが知られている。また、更なる低ESL化の為に、隣り合った端子電極同士を異なる極性として交互電流を生じさせるインダクタンス相殺型のチップコンデンサが採用され始めている。
他方、内部電極を多数層有することを特徴とする小型で静電容量の高い積層セラミックチップコンデンサを作製する為に、内部電極の一層の薄層化が最近図られている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、内部電極が薄くなると内部電極に構造欠陥である貫通孔が生じて、セラミック層を内部電極が覆う被覆率が低下する。そして、この被覆率が60%未満と低くなると、静電容量が低下すると共にESRで表される等価直列抵抗が上昇するようになる。
この一方、CPUの高クロック化の弊害として高ワッテージ化が進むことで、ピーク間で20Aもの大電流が流れるようになった。これに対して、従来の2012形状で1μF程度の静電容量を有するインダクタンス相殺型のチップコンデンサでも、10〜20mΩのESRが一般に存在するので、大電流が流れる際のESRによる発熱が無視できなくなる。
【0005】
ここでコンデンサの発熱は、内部電極の抵抗Re(=ESR)によるものと、誘電体の損失Rfとに、大別される。そして、ESRによる発熱はP=I2 ×Reで一般に表されている。
ESRすなわちReは、
Re=(ρ・L)/(W・t・K・n)の式で求められる。
尚、ρは物質の抵抗率、Lは電極長さ、Wは電極幅、tは電極厚み、Kは被覆率、nは層数である。
【0006】
以上の結果として、ESRの更なる低減化がこのようなコンデンサに要求されるようになった。
本発明は上記事実を考慮し、静電容量の安定化及びESRの低下を図った積層型電子部品を製造するための積層型電子部品の製造方法を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
請求項1による積層型電子部品の製造方法は、平均粒径を1μm以下、比表面積を1.5〜2.8m 2 /g、タップ密度を3.7〜5.0g/cm 3 とした金属材料より成る粉体状物に、粒径が0.05〜0.50μmとされる誘電体層と同一もしくは類似組成の材料を10〜30wt%混ぜて、内部電極用ペーストを作製し、
次に、焼成後の内部電極の厚さが1.0〜2.5μmとなるようにこの内部電極用ペーストをグリーンシートに印刷し、
この後、このグリーンシートを乾燥し積層して誘電体層間に前記内部電極を形成した後に、焼成したことを特徴とした。
【0008】
請求項1に係る積層型電子部品の製造方法によれば、内部電極用導電材料となる内部電極用ペーストを作製する際に、平均粒径を1μm以下、比表面積を1.5〜2.8m 2 /g、タップ密度を3.7〜5.0g/cm 3 とした金属材料より成る粉体状物を主成分とする。そして、粒径が0.05〜0.50μmとされる誘電体層と同一もしくは類似組成の材料を10〜30wt%含んだ例えばペースト材を副成分として混ぜて、内部電極用ペーストが作製される。
次に、焼成後の内部電極の厚さが1.0〜2.5μmとなるようにこの内部電極用導電材料をグリーンシートに印刷した後に、このグリーンシートを乾燥して内部電極を形成する。さらに、これらグリーンシートを積層して内部電極を誘電体層間に形成してから、焼成してグリーンシートを誘電体層とする。
【0009】
ここで本請求項に係る積層型電子部品の製造方法によれば、粉体状物を含む内部電極用ペーストが、平均粒径を1μm以下とし、比表面積(BET値)を1.5m2 /g〜2.8m2 /gとし、タップ密度を3.7g/cm3 〜5.0g/cm3 とされている。
【0010】
従って、従来のBET値が0.4m2 /g程度の粉体と異なって、この条件を満たす内部電極用導電材料を用いることで、内部電極の厚さが2.5μm以下であっても、内部電極の全面積に対する内部電極に生じた貫通孔の総面積の占める割合を40%〜0%とすることができる。
尚、比表面積(BET値)は高い程、平均粒径が小さくなると考えられるが、2.8m2 /gを越えると、粉体状物が凝集して大きな粒径として作用して不適切なものとなる。
【0011】
そして、上記の製造条件を満たす内部電極用導電材料を用いることで、内部電極の厚さが2.5μm以下であっても、内部電極の全面積に対する内部電極に生じた貫通孔の総面積の占める割合を40%〜0%とすることができる。この結果、内部電極の全面積に対して貫通孔の総面積の占める割合を40%〜0%とすることで、内部電極の被覆率が向上して構造欠陥を抑制でき、静電容量の安定化及びESRの低下が図られるようになる。
【0012】
また、本請求項では、内部電極用ペーストとして、誘電体層と同一もしくは類似組成の材料を10wt%〜30wt%含んだペースト材が用いられている。
つまり、誘電体層と同一もしくは類似組成の材料を共材として10wt%以上添加すると、内部電極の収縮が抑制されて、焼成後に構造欠陥が生じるおそれがなくなる。この一方、この共材を30wt%を越えて含有すると、電気特性の内の特に静電容量やtanδ及びESRが悪化する。
この結果、誘電体層と同一もしくは類似組成の材料の適正量として、内部電極用導電材料とされる例えばNi粉末に対して10〜30wt%の含有率が妥当となる。
【0013】
請求項2に係る積層型電子部品の製造方法によれば、請求項1の積層型電子部品の製造方法と同様の構成の他に、グリーンシートを乾燥し積層した後に、内部電極が形成されたグリーンシートを切断してチップ化してから、このチップ化されたグリーンシートをそれぞれ焼成するという構成を有している。
【0014】
請求項3に係る積層型電子部品の製造方法によれば、請求項1の積層型電子部品の製造方法と同様の構成の他に、完成された積層型電子部品内に配置される内部電極の全面積に対して、前記内部電極に生じた貫通孔の総面積の占める割合が、40〜0%とされたという構成を有している。
【0022】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る積層型電子部品の製造方法の実施の形態を図面に基づき説明する。
本発明の第1の実施の形態に係る積層型電子部品であるアレイ型の多端子型積層コンデンサ10を図1から図4に示す。これらの図に示すように、誘電体層とされるセラミックグリーンシートを複数枚積層した積層体を焼成することで得られた直方体状の焼結体である誘電体素体12を主要部として、多端子型積層コンデンサ10が構成されている。
【0023】
この誘電体素体12内の所定の高さ位置には、面状の第1の内部電極14が配置されており、誘電体素体12内においてセラミック層12Aを隔てた第1の内部電極14の下方には、同じく面状の第2の内部電極16が配置されている。
同じく誘電体素体12内においてセラミック層12Aを隔てた第2の内部電極16の下方には、同じく面状の第3の内部電極18が配置され、同じく誘電体素体12内においてセラミック層12Aを隔てた第3の内部電極18の下方には、同じく面状の第4の内部電極20が配置されている。
【0024】
さらに、同じく誘電体素体12内においてセラミック層12Aを隔てた第4の内部電極40の下方には、同じく面状の第5の内部電極22が配置されており、誘電体素体12内においてセラミック層12Aを隔てた第5の内部電極22の下方には、同じく面状の第6の内部電極24が配置されている。
同じく誘電体素体12内においてセラミック層12Aを隔てた第6の内部電極24の下方には、同じく面状の第7の内部電極26が配置され、同じく誘電体素体12内においてセラミック層12Aを隔てた第7の内部電極26の下方には、同じく面状の第8の内部電極28が配置されている。
【0025】
この為、これら第1の内部電極14から第8の内部電極28までが誘電体素体12内においてセラミック層12Aを介して隔てられつつ相互に対向して配置されることになる。そして、これら第1の内部電極14から第8の内部電極28までの中心は、誘電体素体12の中心とほぼ同位置に配置されており、また、第1の内部電極14から第8の内部電極28までの縦横寸法は、対応する誘電体素体12の辺の長さより小さくされている。
【0026】
ここで、これらの内部電極14〜28が、Cu、Ni、Cu合金或いは、Ni合金の何れかの金属材料を主体として2.5μm以下の厚さで膜状に形成されて、セラミック層12A間にそれぞれ配置されている。
但し、これら各内部電極14〜28は、それぞれの全面積に対して、内部電極に生じた貫通孔(図8の島状に点在する部分)の総面積の占める割合が、40%〜0%となっている。従って、本実施の形態では、内部電極の全面積に対して、貫通孔の総面積を除いた面積の占める割合となる被覆率は、60%〜100%となっている。
【0027】
さらに、図4に示すように、第1の内部電極14の手前側の端部から左方向に向かって電極が1箇所引き出されることで、第1の内部電極14に1つの引出部14Aが形成されている。また、第2の内部電極16の手前側寄りの部分から左方向に向かって電極が1箇所引き出されることで、第2の内部電極16に1つの引出部16Aが形成されている。
一方、第3の内部電極18の奥側寄りの部分から左方向に向かって電極が1箇所引き出されることで、第3の内部電極18に1つの引出部18Aが形成されている。また、第4の内部電極20の奥側の端部から左方向に向かって電極が1箇所引き出されることで、第4の内部電極20に1つの引出部20Aが形成されている。
【0028】
そして、第5の内部電極22の奥側の端部から右方向に向かって電極が1箇所引き出されることで、第5の内部電極22に1つの引出部22Aが形成されている。また、第6の内部電極24の奥側寄りの部分から右方向に向かって電極が1箇所引き出されることで、第6の内部電極24に1つの引出部24Aが形成されている。
他方、第7の内部電極26の手前側寄りの部分から右方向に向かって電極が1箇所引き出されることで、第7の内部電極26に1つの引出部26Aが形成されている。また、第8の内部電極28の手前側の端部から右方向に向かって電極が1箇所引き出されることで、第8の内部電極28に1つの引出部28Aが形成されている。
以上より、引出部14A〜28Aまでの計8ヵ所の引出部分が相互に重ならない位置で内部電極14〜28からそれぞれ引き出されている。
【0029】
さらに、図1から図4に示すように、内部電極14の引出部14Aに接続される第1の端子電極31、内部電極16の引出部16Aに接続される第2の端子電極32、内部電極18の引出部18Aに接続される第3の端子電極33及び、内部電極20の引出部20Aに接続される第4の端子電極34が、誘電体素体12の左側の側面12Bにそれぞれ配置されている。
【0030】
つまり、第1の内部電極14の引出部14Aから第4の内部電極20の引出部20Aまでがこれら内部電極の図4の左側で相互に重ならずに位置しているので、これら引出部14A〜20Aを介して、隣り合う端子電極同士が相互に異なる内部電極14〜20に順次接続される形で、これら端子電極31〜34が誘電体素体12の左側の側面12Bに配置されて、例えば隣り合う端子電極同士が相互に逆の極性で使用可能となる。
【0031】
また、図1から図4に示すように、内部電極22の引出部22Aに接続される第5の端子電極35、内部電極24の引出部24Aに接続される第6の端子電極36、内部電極26の引出部26Aに接続される第7の端子電極37及び、内部電極28の引出部28Aに接続される第8の端子電極38が、誘電体素体12の右側の側面12Bにそれぞれ配置されている。
【0032】
つまり、第5の内部電極22の引出部22Aから第8の内部電極28の引出部28Aまでがこれら内部電極の図4の右側で相互に重ならずに位置しているので、これら引出部22A〜28Aを介して、隣り合う端子電極同士が相互に異なる内部電極22〜28に順次接続される形で、これら端子電極35〜38が誘電体素体12の右側の側面12Bに配置されて、例えば隣り合う端子電極同士が相互に逆の極性で使用可能となる。
【0033】
以上より、本実施の形態では、多端子型積層コンデンサ10の左側の側面12Bに端子電極31〜34がそれぞれ配置され、右側の側面12Bに端子電極35〜38がそれぞれ配置されることで、直方体である六面体形状とされる誘電体素体12の4つの側面12B、12Cの内の2つの側面12Bに端子電極31〜38がそれぞれ配置されることになる。
【0034】
次に、本実施の形態に係る多端子型積層コンデンサ10の製造方法について、図4に基づき説明する。
先ず、多端子型積層コンデンサ10の製造に際しては、コンデンサとして機能する誘電体材料よりなる複数枚のセラミックグリーンシート30A、30B、30C、30D、30E、30F、30G、30Hを用意する。
【0035】
この図4に示すように、それぞれ左方向に引き出される1箇所の引出部14A、16A、18A、20Aを有した内部電極14、16、18、20を形成するために、セラミックグリーンシート30A、30B、30C、30Dの上面に、それぞれこれらの内部電極14、16、18、20に応じて内部電極材用導電材料が配置されている。
さらに、それぞれ右方向に引き出される1箇所の引出部22A、24A、26A、28Aを有した内部電極22、24、26、28を形成するために、セラミックグリーンシート30E、30F、30G、30Hの上面に、それぞれこれらの内部電極22、24、26、28に応じて内部電極材用導電材料が配置されている。
【0036】
尚、セラミックグリーンシート30A〜30Hの上面に配置される内部電極材用導電材料は、例えば導電性のペースト材が印刷されて設けられる。また、セラミックグリーンシート30A〜30Dとセラミックグリーンシート30E〜30Hとの間で、必要とされる特性に合わせてシート厚等を相違させても良い。
【0037】
つまり、本実施の形態の完成品では、金属材料を主体とする2.5μm以下の厚さで膜状の内部電極14〜28をセラミックグリーンシート30A〜30Hの表面にそれぞれ形成し、これら内部電極14〜28を表面に有したセラミック層12Aとなるセラミックグリーンシート30A〜30Hを積層した形となっている。
【0038】
また、これら内部電極14〜28を形成する為に粉体状物を含む内部電極用導電材料(内部電極用ペースト)が用いられており、この粉体状の内部電極用導電材料が、平均粒径を1μm以下とし、比表面積(BET値)を1.5m2 /g〜2.8m2 /gとし、タップ密度を3.7g/cm3 〜5.0g/cm3 とされたものとなっている。
さらに、この内部電極用導電材料の主成分としては、Cu、Ni、Cu合金或いは、Ni合金の何れかが用いられる。また、内部電極用導電材料の副成分としては、セラミック材料と同一もしくは類似組成の材料を10wt%〜30wt%含み、乾燥密度を5.3g/cm3 〜6.2g/cm3 としたペースト材が用いられている。
【0039】
そして、それぞれ平面形状を矩形としたセラミックグリーンシート30A〜30Hをこの図の順序で積層し、内部電極14の引出部14Aに接続される第1の端子電極31、内部電極16の引出部16Aに接続される第2の端子電極32、内部電極18の引出部18Aに接続される第3の端子電極33、内部電極20の引出部20Aに接続される第4の端子電極34、内部電極22の引出部22Aに接続される第5の端子電極35、内部電極24の引出部24Aに接続される第6の端子電極36、内部電極26の引出部26Aに接続される第7の端子電極37及び、内部電極28の引出部28Aに接続される第8の端子電極38をこれら積層されたセラミックグリーンシートの周囲に配置する。
【0040】
さらに、第1の内部電極14の上面等の部分をこれらセラミックグリーンシートと同一の材料で覆って、これらを一体焼成することにより、誘電体素体12の4つの側面12B、12Cの内の左側の側面12Bに端子電極31〜34が配置されると共に右側の側面12Bに端子電極35〜38が配置された多端子型積層コンデンサ10を得ることができる。
尚、実際に多端子型積層コンデンサ10を作製する際には、同一の電極パターンが多数並んだセラミックグリーンシートを乾燥した後に、これらグリーンシートを積層すると共に切断してチップ化してから、一体焼成する手法を用いることが考えられる。
【0041】
次に、本実施の形態に係る多端子型積層コンデンサ10及びその製造方法の作用を説明する。
セラミック等の誘電体層を積層して形成された誘電体素体12内に、セラミック層12Aを介して隔てられつつ8枚の内部電極14〜28がそれぞれ配置される。
【0042】
また、これらの内部電極14〜28は、Cu、Ni、Cu合金或いは、Ni合金の何れかの金属材料を主体とする2.5μm以下の厚さで、膜状にそれぞれセラミック層12Aの表面に形成されており、これら内部電極14〜28を有したセラミック層12Aを繰り返して積層される形となっている。尚、この際の内部電極14〜28の厚さとして、表2に示すようにより好ましくは1.8μm以下、更に好ましくは1.4μm以下とすることが考えられる。
さらに、これら内部電極14〜28の全面積に対して、内部電極に生じた貫通孔の総面積の占める割合が、40%〜0%とされているので、被覆率が60%〜100%となっている。
【0043】
一方、この多端子型積層コンデンサ10の製造に際しての内部電極用導電材料の印刷時に、Cu、Ni、Cu合金或いは、Ni合金の何れかを主成分とする粉体状物を含む内部電極用導電材料が使用されるが、この内部電極用導電材料は、平均粒径を1μm以下とし、比表面積(BET値)を1.5m2 /g〜2.8m2 /gとし、タップ密度を3.7g/cm3 〜5.0g/cm3 (即ち、g/cc)としたものとなっている。
【0044】
以上より、この条件を満たす内部電極用導電材料を用いることで、内部電極14〜28の厚さが2.5μm以下であっても、内部電極の全面積に対する内部電極に生じた貫通孔の総面積の占める割合を40%〜0%とすることができる。
この結果として、内部電極14〜28の被覆率が向上して構造欠陥を抑制でき、低ESL化を図った場合でも、静電容量が安定化すると共にESRが低下するようになる。
【0045】
さらに、内部電極用導電材料の主成分として、Cu、Ni、Cu合金或いは、Ni合金の何れかの金属材料が用いられることで、内部電極用導電材料として従来用いられていたパラジウム等の金属材料と比較して、製造コストを低減しつつESRの一層の低下が図られるようになった。
【0046】
他方、本実施の形態では、この多端子型積層コンデンサ10の製造に際して、セラミック材料と同一もしくは類似組成の材料を10wt%〜30wt%含み、乾燥密度を5.3g/cm3 〜6.2g/cm3 (即ち、g/cc)としたペースト材が、内部電極用導電材料の副成分として用いられている。
つまり、セラミック材料と同一もしくは類似組成の材料を共材として10wt%以上添加すると、内部電極14〜28の収縮が抑制されて、焼成後に構造欠陥が生じるおそれがなくなる。この一方、この共材を30wt%を越えて含有すると、電気特性の内の特に静電容量やtanδが悪化する。
この結果、セラミック材料と同一もしくは類似組成の材料の適正量として、内部電極用導電材料とされる例えばNi粉末に対して、10〜30wt%の含有率が妥当となる。
【0047】
そしてこの際、乾燥密度が、5.3g/cm3 〜6.2g/cm3 とされる条件を満たすペースト材を内部電極用導電材料の副成分として用いることで、ペースト材がセラミック材料と同一もしくは類似組成の材料を10wt%〜30wt%含んでいても、多端子型積層コンデンサ10の製造の際に、内部電極用導電材料の副成分として問題が生じないようになる。
【0048】
また、これら8枚の内部電極14〜28は、誘電体素体12の相互に対向する2つの側面12Bに向かってそれぞれ引き出される引出部14A〜28Aを有していて、計8個の端子電極31〜38が誘電体素体12外にそれぞれ配置されている。
これら引出部14A〜28Aの内の引出部14Aを介して内部電極14に第1の端子電極31が接続されており、引出部16Aを介して内部電極16に第2の端子電極32が接続されており、引出部18Aを介して内部電極18に第3の端子電極33が接続されており、引出部20Aを介して内部電極20に第4の端子電極34がそれぞれ接続されている。
そして、これら内部電極14、16、18、20及び端子電極31、32、33、34で一つのコンデンサを構成し、このコンデンサへの通電の際にこれら端子電極31〜34が交互に正負極に順次なって、引出部14A〜20Aを介して端子電極31〜34とそれぞれ接続される4枚の内部電極14〜20が、相互に対向しつつ並列に配置されるコンデンサの電極となる。
【0049】
また、引出部22Aを介して内部電極22に第5の端子電極35が接続されており、引出部24Aを介して内部電極24に第6の端子電極36が接続されており、引出部26Aを介して内部電極26に第7の端子電極37が接続されており、引出部28Aを介して内部電極28に第8の端子電極38が接続されている。
そして、これら内部電極22、24、26、28及び端子電極35、36、37、38でもう一つのコンデンサを構成し、このコンデンサへの通電の際にこれら端子電極35〜38が交互に正負極に順次なって、引出部22A〜28Aを介して端子電極35〜38とそれぞれ接続される4枚の内部電極22〜28が、相互に対向しつつ並列に配置されるコンデンサの電極となる。
【0050】
さらに、本実施の形態では、誘電体素体12が六面体形状に形成され、この六面体形状の誘電体素体12の4つの側面12B、12Cの内の2つの側面12Bにそれぞれ4つづつの端子電極31〜38が配置されており、同一の側面12B内に配置されたこれらの端子電極31〜34が順に相互に異なる内部電極14〜20に接続され、同じく同一の側面12B内に配置されたこれらの端子電極35〜38が順に相互に異なる内部電極22〜28に接続される構造となっている。
【0051】
従って、このような構造の多端子型積層コンデンサ10において、端子電極31〜34及び端子電極35〜38の内の相互に隣り合う端子電極間の極性が相互に異なるように交互に正負となる高周波電流が、端子電極31〜34及び端子電極35〜38にそれぞれ流された場合、隣り合う引出部間において電流が相互に逆方向に流されるので、磁束を相殺させる効果がこれら側面12Bで集中的に生じて、等価直列インダクタンスが低減される。
【0052】
さらに、本実施の形態では、前述のように一つの多端子型積層コンデンサ10内に2つのコンデンサが実質的に組み込まれた形となっている為、多端子型積層コンデンサ10の数を減らすことで、製造コストが削減されると共に、回路が高集積化されるのに伴って要求される省スペース化が図られることになった。
【0053】
次に、本実施の形態に係る多端子型積層コンデンサ10の使用例を図5に基づき説明する。
図5に示すように、グランド端子GNDと所定の電位を有した端子Vとの間に、本実施の形態の多端子型積層コンデンサ10がLSIチップと並列で配置されている。但し、多端子型積層コンデンサ10の図において左側に位置する端子電極31〜34及び、この端子電極31〜34と接続される内部電極14〜20が一つのコンデンサを構成し、多端子型積層コンデンサ10の図において右側に位置する端子電極35〜38及び、この端子電極35〜38と接続されるこの内部電極22〜28がもう一つのコンデンサを構成しているので、実質的に2つのコンデンサが個々にLSIチップと並列に接続される形となっている。
【0054】
従って、多端子型積層コンデンサ10の両側に配置される端子電極31〜34及び端子電極35〜38の内の相互に隣合った端子電極同士が、前述のように相互に逆の極性となるだけなく、用途に合わせて静電容量を相互に異ならせることで、一方を高周波用のコンデンサとすると共に、他方を低周波用のコンデンサとすることが可能となった。
【0055】
次に、本発明に係る積層型電子部品の製造方法による第2の実施の形態を図6及び図7に基づき説明する。尚、第1の実施の形態で説明した部材と同一の部材には同一の符号を付して、重複した説明を省略する。
図6及び図7に、本発明の第2の実施の形態に係る積層型電子部品である2端子型積層コンデンサ100を示す。
【0056】
これらの図に示すように、この2端子型積層コンデンサ100の誘電体素体112内の所定の高さ位置には、面状の第1の内部電極114が配置されており、誘電体素体112内においてセラミック層112Aを隔てた第1の内部電極114の下方には、同じく面状の第2の内部電極116が配置されている。
さらに、図6に示すように、内部電極114の奥側から引き出された部分に接続される端子電極118及び、内部電極116の手前側から引き出された部分に接続される端子電極120が、誘電体素体112の奥と手前の側面にそれぞれ配置されている。
【0057】
そして、本実施の形態のこれら内部電極114、116も、第1の実施の形態で採用された内部電極の物性及び製造方法と同様の物性及び製造方法により、形成されている。
従って、本実施の形態も第1の実施の形態と同様に、内部電極の被覆率が向上して構造欠陥を抑制でき、低ESL化を図った場合でも、静電容量が安定化すると共にESRが低下するようになる。
【0058】
次に、図8に示す内部電極の顕微鏡写真及び図9に示す被覆率と静電容量との関係のグラフに基づき、内部電極の全面積に対して、内部電極に生じた貫通孔の総面積の占める割合を、40〜0%とした理由を以下に説明する。
つまり、図8に示す顕微鏡写真内の黒く島状に点在する部分が内部電極に生じた貫通孔であり、この貫通孔の総面積の占める割合が、内部電極の全面積に対して40%(つまり被覆率が60%)を越えると、図9に示すように、急に静電容量が減少してコンデンサとしての機能が低下するだけでなく、ESRも大きくなって、実使用に適さなくなる。この為、上記実施の形態では、内部電極の全面積に対して、貫通孔の総面積の占める割合を40〜0%とした。
【0059】
次に、平均粒径が1μm以下とされる粉体状の内部電極用導電材料の顕微鏡写真を図10から図12に示し、以下に説明する。
これらの図の内の図10に示すものが本実施の形態の内部電極用導電材料を約5000倍に拡大した顕微鏡写真であり、平均粒径が1μm以下で粒径分布が安定していることが分かる。これに対して、同様に図11に示すものでは粒径分布が大きく、また、同様に図12に示すものでは粒径が大きくて、それぞれ不適切なものとなっている。
【0060】
次に、Ni粉を用いたペースト材の種類を変えて作成した積層型電子部品の各特性を、下記の表1に示し、以下に説明する。
但し、表1の実施例1は、従来例の印刷付着量と同じにして作成したものであり、実施例2は、実施例1と同じペースト材を用いたものであるが、印刷付着量を高めて作成したものである。
【0061】
【表1】
【0062】
図13(A)に示す断面の顕微鏡写真のように、従来例は図において白くなっている電極厚みが厚く途切れて貫通孔が生じた形となっているのに対し、図13(B)に示す実施例1は電極の連続性が良く、厚み方向への膨らみの少ないものとなり、表1のようにESRを低減できる。また、図13(C)に示す実施例2は、実施例1によりさらにESRを低減できることが、表1より分かる。
【0063】
次に、表2のように、積層型電子部品の各物性を変えると共に内部電極の厚みを変えたサンプルを作成して、内部電極の被覆率を測定した結果を説明する。ここで、No.4〜No.7のサンプルの物性が、上記実施の形態の限定範囲内となっている。
【0064】
【表2】
【0065】
この表2より、上記実施の形態の限定範囲に入るNo.4〜No.7のサンプルでは、電極厚みを2.5μm、1.8μm、1.4μmとした場合、それぞれ被覆率が60%以上となる。さらに、1.0μmの厚みではNo.5のサンプルのみが、60%以上の被覆率となった。尚、この表2において「不可」は内部電極を薄くしたものができないことを意味する。
以上より、内部電極の厚みが、2.5μm以下であって1.0μm或いは1.4μm以上とされる範囲が、適正な内部電極の厚みの範囲と言える。
【0066】
次に、セラミック材等の共材の添加量と、構造欠陥、静電容量及びtanδとの関係を下記の表3に表し、以下に説明する。但し、表3では共材粒径(D50)を0.10μmとしたものを用いた。
この表3より、上記実施の形態の限定範囲である10〜30wt%に入るTEST2〜TEST7までのサンプルは、静電容量が1μF以上であって、tanδの値も2.5前後に安定したものとなっていることが確認できる。
つまり、共材を添加すると内部電極の収縮が抑制され、焼成後の構造欠陥に効果が現れるものの、共材を入れ過ぎると電気特性の内の特に静電容量やtanδが悪化するので、適正量としては、Ni粉末に対して10〜30wt%が妥当であることが確認された。
【0067】
【表3】
【0068】
尚、この表3で、構造欠陥は、埋め込み断面研磨によりそれぞれ100個のサンプルの内の欠陥数を確認した結果である。また、静電容量及びtanδの値は、LCRメーターでそれぞれ100個のサンプルを測定した結果である。
【0069】
次に、共材粒径と構造欠陥の発生率及び表面粗さとの関係について、表4に表す。
この表4より、共材粒径が大きいと構造欠陥に対して効果が薄くなる一方、共材粒径が細かすぎるとペースト化時の分散がうまくいかず、表面粗さが大きくなる欠点があることが確認できる。従って、適正粒径(D50)は0.05μm〜0.50μmが妥当である。尚、ここで共材の添加量としてはNiに対して10重量部(wt%)とした。
【0070】
【表4】
【0071】
尚、上記第1の実施の形態に係る多端子型積層コンデンサ10は、8枚の内部電極14〜28を有する構造とされているものの、2回路に対応するべく、実質的に4枚の内部電極14〜20間でそれぞれ静電容量を得る一つのコンデンサと、4枚の内部電極22〜28間でそれぞれ静電容量を得るもう一つのコンデンサとの2つのコンデンサから構成されている。但し、内部電極の枚数は4枚に限定されず、4回路に対応できるように例えば2枚づつとして4つのコンデンサから構成される構造としても良く、また全体の内部電極の枚数も8枚に限定されることなく、4枚、6枚、10枚、12枚、14枚、16枚としても良く、さらに多くの枚数としても良い。そして、このように多数の内部電極を有する構造とすれば、さらに多数の回路に対応できるようになる。
【0072】
一方、上記の実施の形態において、内部電極用導電材料の物性及び製造方法を種々説明したが、内部電極用導電材料の副成分とされるセラミック材料と同一もしくは類似組成の材料は含有しなくとも良く、また、内部電極用導電材料の物性を規定した平均粒径、比表面積、タップ密度等も種々の変化が考えられる。
【0073】
【発明の効果】
本発明によれば、静電容量の安定化及びESRの低下が図られた積層型電子部品を製造するための積層型電子部品の製造方法を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態に係る多端子型積層コンデンサを示す断面図であって、図3の1−1矢視線断面に対応する図である。
【図2】本発明の第1の実施の形態に係る多端子型積層コンデンサを示す断面図であって、図3の2−2矢視線断面に対応する図である。
【図3】本発明の第1の実施の形態に係る多端子型積層コンデンサを示す斜視図である。
【図4】第1の実施の形態の多端子型積層コンデンサの製造工程において用いられる複数枚のセラミックグリーンシート及び電極形状を示す分解斜視図である。
【図5】第1の実施の形態に係る多端子型積層コンデンサの使用状態を示す図である。
【図6】本発明の第2の実施の形態に係る多端子型積層コンデンサを示す斜視図である。
【図7】第2の実施の形態の多端子型積層コンデンサの製造工程において用いられる複数枚のセラミックグリーンシート及び電極形状を示す分解斜視図である。
【図8】本発明の実施の形態に係る内部電極の顕微鏡写真を示す。
【図9】本発明の実施の形態に係る内部電極の被覆率と静電容量との関係を表すグラフを示す図である。
【図10】本実施の形態の内部電極用導電材料を拡大した顕微鏡写真を示す。
【図11】第1の比較例の内部電極用導電材料を拡大した顕微鏡写真を示す。
【図12】第2の比較例の内部電極用導電材料を拡大した顕微鏡写真を示す。
【図13】積層コンデンサの断面を拡大した顕微鏡写真であって、(A)は従来例の顕微鏡写真であり、(B)は実施例1の顕微鏡写真であり、(C)は実施例2の顕微鏡写真である。
【符号の説明】
10 多端子型積層コンデンサ
12 誘電体素体
12A セラミック層
14、16、18、20、22、24、27、28 内部電極[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention achieves low ESR even when multiple layers of thinned internal electrodes are used.Method for manufacturing multilayer electronic component capable of manufacturing multilayer electronic componentIn particular, multilayer chip capacitorsManufacturing ofIt is suitable for.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, capacitors as a kind of electronic components have been widely used, and multilayer ceramic chip capacitors have also been used in LSI power supply circuits. In response to the recent demand for higher CPU performance, the number of clocks has been increased to increase the processing speed of the CPU. Therefore, the processing speed is increased by ESL. A capacitor with low equivalent series inductance is required.
[0003]
On the other hand, for example, a flip capacitor or a three-terminal feed-through capacitor whose length and width are reversed is known as a low ESL capacitor. Further, in order to further reduce the ESL, an inductance canceling type chip capacitor that generates alternating currents with adjacent terminal electrodes having different polarities has begun to be adopted.
On the other hand, in order to produce a small-sized, high-capacitance multilayer ceramic chip capacitor characterized by having a large number of internal electrodes, one layer of internal electrodes has recently been made thinner.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
However, when the internal electrode is thinned, a through-hole that is a structural defect is formed in the internal electrode, and the coverage rate of the internal electrode covering the ceramic layer is lowered. And when this coverage becomes low as less than 60%, an electrostatic capacitance will fall and the equivalent series resistance represented by ESR will rise.
On the other hand, as the wattage increases as a negative effect of increasing the CPU clock, a large current of 20 A flows between peaks. On the other hand, even in the conventional 2012-type inductance-cancellation type chip capacitor having a capacitance of about 1 μF, an ESR of 10 to 20 mΩ is generally present, and thus heat generation due to ESR when a large current flows cannot be ignored. .
[0005]
Here, the heat generation of the capacitor is roughly divided into that due to the resistance Re (= ESR) of the internal electrode and the loss Rf of the dielectric. And the heat generated by ESR is P = I2X Re is generally represented.
ESR or Re is
Re = (ρ · L) / (W · t · K · n).
Here, ρ is the resistivity of the substance, L is the electrode length, W is the electrode width, t is the electrode thickness, K is the coverage, and n is the number of layers.
[0006]
As a result, further reduction in ESR is required for such capacitors.
In consideration of the above fact, the present invention aims to stabilize the capacitance and lower the ESR.Method for manufacturing multilayer electronic component for manufacturing multilayer electronic componentThe purpose is to provide.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
A multilayer electronic component according to claim 1.Manufacturing methodIsThe average particle size is 1 μm or less and the specific surface area is 1.5 to 2.8 m. 2 / G, tap density 3.7-5.0 g / cm Three An internal electrode paste is prepared by mixing 10-30 wt% of a material having the same or similar composition as that of the dielectric layer having a particle size of 0.05 to 0.50 μm with the powdered material made of the above metal material. ,
Next, this internal electrode paste is printed on a green sheet so that the thickness of the internal electrode after firing is 1.0 to 2.5 μm,
Thereafter, the green sheet was dried and laminated to form the internal electrode between the dielectric layers, and then fired..
[0008]
A multilayer electronic component according to claim 1Manufacturing methodAccording toWhen producing an internal electrode paste to be an internal electrode conductive material, the average particle size is 1 μm or less and the specific surface area is 1.5 to 2.8 m. 2 / G, tap density 3.7-5.0 g / cm Three The main component is a powdery material made of a metal material. Then, for example, a paste material containing 10 to 30 wt% of a material having the same or similar composition as that of the dielectric layer having a particle size of 0.05 to 0.50 μm is mixed as a subcomponent to produce an internal electrode paste. .
Next, after printing this internal electrode conductive material on a green sheet so that the thickness of the internal electrode after firing becomes 1.0 to 2.5 μm, the green sheet is dried to form an internal electrode. Further, these green sheets are laminated to form internal electrodes between the dielectric layers, and then fired to form the green sheets as dielectric layers.
[0009]
Where this claimMulti-layer electronic componentManufacturing methodAccordingPowderFor internal electrodes including bodypasteHowever, the average particle size is 1 μm or less and the specific surface area (BET value) is 1.5 m.2/G-2.8m2/ G and the tap density is 3.7 g / cm.Three~ 5.0 g / cmThreeWhenHas been.
[0010]
Therefore, the conventional BET value is 0.4 m.2Unlike the powder of about / g, by using the internal electrode conductive material satisfying this condition, even if the thickness of the internal electrode was 2.5 μm or less, it occurred in the internal electrode with respect to the entire area of the internal electrode. The ratio of the total area of the through holes can be 40% to 0%.
In addition, although it is thought that an average particle diameter becomes small, so that a specific surface area (BET value) is high, it is 2.8 m.2If it exceeds / g, the powdery material aggregates and acts as a large particle size, which is inappropriate.
[0011]
And by using the conductive material for internal electrodes that satisfies the above manufacturing conditions, even if the thickness of the internal electrode is 2.5 μm or less, the total area of the through holes generated in the internal electrode with respect to the total area of the internal electrode The occupation ratio can be 40% to 0%. As a result, by setting the ratio of the total area of the through holes to 40% to 0% with respect to the total area of the internal electrode, the coverage of the internal electrode can be improved and structural defects can be suppressed, and the capacitance can be stabilized. And reduction of ESR.
[0012]
In the present claim, as the internal electrode paste,A paste material containing 10 wt% to 30 wt% of the same or similar composition as the dielectric layer is used.It has been.
That is, when a material having the same or similar composition as that of the dielectric layer is added as a co-material at 10 wt% or more, the shrinkage of the internal electrode is suppressed, and there is no possibility of causing a structural defect after firing. On the other hand, when this common material is contained in an amount exceeding 30 wt%, the electrostatic capacity, tan δ, and ESR among the electric characteristics are deteriorated.
As a result, a content of 10 to 30 wt% with respect to, for example, Ni powder used as the internal electrode conductive material is appropriate as an appropriate amount of the material having the same or similar composition as the dielectric layer.
[0013]
Claim2Multi-layer electronic componentManufacturing methodAccording to the claim1Multilayer electronic componentsManufacturing methodIn addition to the same configuration asAfter the green sheets are dried and stacked, the green sheets on which the internal electrodes are formed are cut into chips, and then the chipped green sheets are fired respectively.It has a configuration.
[0014]
Claim3Multi-layer electronic componentManufacturing methodAccording to the claim1'sMultilayer electronic componentsManufacturing methodIn addition to the same configuration asThe ratio of the total area of the through holes formed in the internal electrodes to the total area of the internal electrodes arranged in the completed multilayer electronic component was 40 to 0%.It has the structure of.
[0022]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, the multilayer electronic part according to the present inventionGoodsAn embodiment of a manufacturing method will be described with reference to the drawings.
1 to 4 show an array type
[0023]
A planar first
Similarly, a planar third
[0024]
Further, similarly, a planar fifth
Similarly, a planar seventh
[0025]
Therefore, the first
[0026]
Here, these
However, in each of the
[0027]
Further, as shown in FIG. 4, one
On the other hand, one
[0028]
Then, one
On the other hand, one
As described above, a total of eight lead portions from the
[0029]
Further, as shown in FIGS. 1 to 4, the first
[0030]
That is, since the
[0031]
1 to 4, the fifth
[0032]
That is, since the
[0033]
As described above, in the present embodiment, the
[0034]
Next, a method for manufacturing the
First, when manufacturing the
[0035]
As shown in FIG. 4, ceramic
Furthermore, in order to form the
[0036]
In addition, the conductive material for internal electrode materials arranged on the upper surfaces of the ceramic
[0037]
That is, in the finished product of the present embodiment, film-like
[0038]
Moreover, in order to form these internal electrodes 14-28, the conductive material for internal electrodes (paste for internal electrodes) containing the powdery material is used, This conductive material for internal electrodes of powder form is average grain The diameter is 1 μm or less and the specific surface area (BET value) is 1.5 m.2/G-2.8m2/ G and the tap density is 3.7 g / cm.Three~ 5.0 g / cmThreeIt is said that.
Further, Cu, Ni, Cu alloy, or Ni alloy is used as a main component of the internal electrode conductive material. Moreover, as a subcomponent of the conductive material for internal electrodes, it contains 10 wt% to 30 wt% of a material having the same or similar composition as the ceramic material, and the dry density is 5.3 g / cm.Three~ 6.2 g / cmThreeThe paste material is used.
[0039]
Then, the ceramic
[0040]
Further, the upper surface and the like of the first
When the
[0041]
Next, the operation of the
Eight
[0042]
These
Furthermore, since the ratio of the total area of the through holes generated in the internal electrodes to the total area of these
[0043]
On the other hand, when the
[0044]
From the above, by using the internal electrode conductive material satisfying this condition, the total number of through-holes generated in the internal electrode with respect to the entire area of the internal electrode even if the thickness of the
As a result, the coverage of the
[0045]
Furthermore, as a main component of the internal electrode conductive material, a metal material such as palladium, which has been conventionally used as the internal electrode conductive material, is used by using any metal material such as Cu, Ni, Cu alloy, or Ni alloy. As compared with the above, the ESR can be further lowered while reducing the manufacturing cost.
[0046]
On the other hand, in the present embodiment, when the
That is, when a material having the same or similar composition as that of the ceramic material is added as a co-material at 10 wt% or more, the shrinkage of the
As a result, a content of 10 to 30 wt% is appropriate as an appropriate amount of the material having the same or similar composition as the ceramic material, for example, with respect to Ni powder used as the internal electrode conductive material.
[0047]
At this time, the dry density is 5.3 g / cm.Three~ 6.2 g / cmThreeMulti-terminal multilayer capacitor even if the paste material contains 10 wt% to 30 wt% of a material having the same or similar composition as the ceramic material. In the manufacture of 10, the problem does not occur as a subcomponent of the internal electrode conductive material.
[0048]
Further, these eight
The first
The
[0049]
Further, a fifth
The
[0050]
Further, in the present embodiment, the
[0051]
Therefore, in the
[0052]
Further, in the present embodiment, since the two capacitors are substantially incorporated in one
[0053]
Next, a usage example of the
As shown in FIG. 5, the
[0054]
Therefore, among the
[0055]
Next, the multilayer electronic component according to the present inventionDepending on the manufacturing methodA second embodiment will be described with reference to FIGS. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the member same as the member demonstrated in 1st Embodiment, and the overlapping description is abbreviate | omitted.
FIG. 6 and FIG.22 shows a two-
[0056]
As shown in these drawings, a planar first
Furthermore, as shown in FIG. 6, the
[0057]
The
Accordingly, in the present embodiment, as in the first embodiment, the coverage of the internal electrodes is improved and structural defects can be suppressed, and even when the ESL is reduced, the capacitance is stabilized and ESR is achieved. Will fall.
[0058]
Next, based on the micrograph of the internal electrode shown in FIG. 8 and the graph of the relationship between the coverage and capacitance shown in FIG. 9, the total area of the through holes generated in the internal electrode with respect to the total area of the internal electrode The reason why the ratio occupied by 40 to 0% will be described below.
In other words, black island-like portions scattered in the micrograph shown in FIG. 8 are through holes formed in the internal electrode, and the ratio of the total area of the through holes is 40% with respect to the total area of the internal electrode. (In other words, when the coverage ratio exceeds 60%), as shown in FIG. 9, not only the capacitance is suddenly decreased and the function as a capacitor is deteriorated, but also the ESR is increased, which is not suitable for actual use. . For this reason, in the said embodiment, the ratio for which the total area of a through-hole occupies 40 to 0% with respect to the total area of an internal electrode.
[0059]
Next, micrographs of a powdered internal electrode conductive material having an average particle size of 1 μm or less are shown in FIGS. 10 to 12 and will be described below.
Among these figures, what is shown in FIG. 10 is a photomicrograph obtained by enlarging the conductive material for internal electrodes of the present embodiment by about 5000 times, with an average particle size of 1 μm or less and a stable particle size distribution. I understand. On the other hand, the particle size distribution shown in FIG. 11 is large, and the particle size shown in FIG. 12 is large, which is inappropriate.
[0060]
Next, each characteristic of the multilayer electronic component prepared by changing the type of paste material using Ni powder is shown in Table 1 below, and will be described below.
However, Example 1 in Table 1 was prepared in the same manner as the printed adhesion amount of the conventional example, and Example 2 was prepared using the same paste material as in Example 1, but the printed adhesion amount was It was created by raising it.
[0061]
[Table 1]
[0062]
As shown in the micrograph of the cross section shown in FIG. 13A, in the conventional example, the white electrode in the figure is thick and interrupted to form a through-hole, whereas in FIG. In Example 1 shown, the continuity of the electrodes is good and the swelling in the thickness direction is small, and ESR can be reduced as shown in Table 1. Further, it can be seen from Table 1 that Example 2 shown in FIG. 13C can further reduce ESR by Example 1.
[0063]
Next, as shown in Table 2, the results of measuring the internal electrode coverage by preparing samples having various physical properties of the multilayer electronic component and changing the thickness of the internal electrodes will be described. Here, no. 4-No. The physical properties of the sample No. 7 are within the limited range of the above embodiment.
[0064]
[Table 2]
[0065]
From Table 2, No. falls within the limited range of the above embodiment. 4-No. In the sample No. 7, when the electrode thickness is 2.5 μm, 1.8 μm, and 1.4 μm, the coverage is 60% or more, respectively. Furthermore, in the thickness of 1.0 μm, No. Only 5 samples had a coverage of 60% or more. In Table 2, “impossible” means that the internal electrode cannot be thinned.
From the above, the range in which the thickness of the internal electrode is 2.5 μm or less and 1.0 μm or 1.4 μm or more can be said to be a proper range of the thickness of the internal electrode.
[0066]
Next, the relationship between the additive amount of a common material such as a ceramic material, structural defects, capacitance, and tan δ is shown in Table 3 below, and will be described below. However, in Table 3, those having a common material particle size (D50) of 0.10 μm were used.
From Table 3, the samples from TEST2 to TEST7 that fall within the range of 10 to 30 wt%, which is the limited range of the above-described embodiment, have a capacitance of 1 μF or more and a tan δ value of around 2.5. It can be confirmed that
In other words, when the co-material is added, the shrinkage of the internal electrode is suppressed, and an effect appears on the structural defects after firing. However, if the co-material is added too much, particularly the electrostatic characteristics and tan δ of the electrical characteristics are deteriorated. As a result, it was confirmed that 10 to 30 wt% is appropriate for the Ni powder.
[0067]
[Table 3]
[0068]
In Table 3, the structural defects are the results of confirming the number of defects in each of 100 samples by embedded cross-section polishing. The values of capacitance and tan δ are the results of measuring 100 samples with an LCR meter.
[0069]
Next, Table 4 shows the relationship between the common material particle size, the occurrence rate of structural defects, and the surface roughness.
According to Table 4, when the common material particle size is large, the effect on the structural defect is reduced. On the other hand, when the common material particle size is too small, dispersion during pasting is not successful and the surface roughness is increased. I can confirm that. Therefore, 0.05 μm to 0.50 μm is appropriate for the appropriate particle size (D50). Here, the additive amount of the common material was 10 parts by weight (wt%) with respect to Ni.
[0070]
[Table 4]
[0071]
Although the
[0072]
On the other hand, in the above embodiment, various physical properties and manufacturing methods of the internal electrode conductive material have been described. However, the material may not contain a material having the same or similar composition as the ceramic material that is a subcomponent of the internal electrode conductive material. In addition, various changes can be considered in the average particle diameter, specific surface area, tap density and the like that define the physical properties of the internal electrode conductive material.
[0073]
【The invention's effect】
According to the present invention, stabilization of capacitance and reduction of ESR were achieved.Method for manufacturing multilayer electronic component for manufacturing multilayer electronic componentCan be provided.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a multi-terminal multilayer capacitor according to a first embodiment of the present invention, and is a view corresponding to a cross section taken along line 1-1 of FIG.
2 is a cross-sectional view showing the multi-terminal multilayer capacitor according to the first embodiment of the present invention, corresponding to a cross section taken along line 2-2 in FIG. 3;
FIG. 3 is a perspective view showing the multi-terminal multilayer capacitor according to the first embodiment of the invention.
4 is an exploded perspective view showing a plurality of ceramic green sheets and electrode shapes used in the manufacturing process of the multi-terminal multilayer capacitor of the first embodiment. FIG.
FIG. 5 is a diagram showing a usage state of the multi-terminal multilayer capacitor according to the first embodiment.
FIG. 6 is a perspective view showing a multi-terminal multilayer capacitor according to a second embodiment of the present invention.
7 is an exploded perspective view showing a plurality of ceramic green sheets and electrode shapes used in the manufacturing process of the multi-terminal multilayer capacitor of the second embodiment. FIG.
FIG. 8 shows a micrograph of an internal electrode according to an embodiment of the present invention.
FIG. 9 is a graph showing the relationship between the coverage of the internal electrodes and the capacitance according to the embodiment of the present invention.
FIG. 10 shows an enlarged micrograph of the internal electrode conductive material of the present embodiment.
FIG. 11 shows an enlarged micrograph of a conductive material for internal electrodes of a first comparative example.
FIG. 12 shows an enlarged micrograph of a conductive material for internal electrodes of a second comparative example.
13 is an enlarged micrograph of a cross section of a multilayer capacitor, in which (A) is a photomicrograph of a conventional example, (B) is a photomicrograph of Example 1, and (C) is a photo of Example 2. FIG. It is a micrograph.
[Explanation of symbols]
10 Multi-terminal multilayer capacitors
12 Dielectric body
12A Ceramic layer
14, 16, 18, 20, 22, 24, 27, 28 Internal electrode
Claims (3)
次に、焼成後の内部電極の厚さが1.0〜2.5μmとなるようにこの内部電極用ペーストをグリーンシートに印刷し、Next, this internal electrode paste is printed on a green sheet so that the thickness of the internal electrode after firing is 1.0 to 2.5 μm,
この後、このグリーンシートを乾燥し積層して誘電体層間に前記内部電極を形成した後に、焼成したことを特徴とした積層型電子部品の製造方法。 Thereafter, the green sheet is dried and laminated to form the internal electrode between the dielectric layers, and then fired, and then the method for producing a multilayer electronic component.
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