JP3756402B2 - Substrate transfer apparatus and method - Google Patents
Substrate transfer apparatus and method Download PDFInfo
- Publication number
- JP3756402B2 JP3756402B2 JP2000373954A JP2000373954A JP3756402B2 JP 3756402 B2 JP3756402 B2 JP 3756402B2 JP 2000373954 A JP2000373954 A JP 2000373954A JP 2000373954 A JP2000373954 A JP 2000373954A JP 3756402 B2 JP3756402 B2 JP 3756402B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- unit
- transport
- discharge
- transfer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/10—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof using carriers specially adapted therefor, e.g. front opening unified pods [FOUP]
- H10P72/17—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof using carriers specially adapted therefor, e.g. front opening unified pods [FOUP] specially adapted for supporting large square shaped substrates
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/30—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations
- H10P72/32—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/50—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for positioning, orientation or alignment
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Attitude Control For Articles On Conveyors (AREA)
- Lining Or Joining Of Plastics Or The Like (AREA)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板搬送方法及び装置に関し、更に詳しくは、大型の液晶表示パネルやプラズマディスプレイパネルのガラス基板などの製造工程に好適な基板搬送装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
液晶表示パネル(LCD)やプラズマディスプレイパネル(PDP)に使用するカラーフィルタは、透明なガラス基板上に赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の各色画素パターンと、黒色(K)のブラックマトリックスとが形成されている。近年、LCDやPDPの大型化に伴って、このカラーフィルタに使用するガラス基板も厚さが1mm〜10mmとかなり薄いにも関わらず、幅や長さが1mあるいはそれ以上と大型化している。
【0003】
カラーフィルタの製造方法としては、フイルム転写方式が一般に知られている。フイルム転写方式は、フイルム上に形成されている感光層を、感光層転写機(以下、ラミネータという)により透明なガラス基板上に転写(以下、ラミネートという)する。次に、露光装置によって所定のパターンが形成されているマスクを通して光を照射して感光層を露光する。露光後のガラス基板は現像処理機により現像処理され、所望の画素パターンおよびブラックマトリックスが形成される。ガラス基板は、一定間隔でラミネータに水平状態で供給され、その下面の所定幅の周縁部を除いた転写面に対して感光層がラミネートされる。
【0004】
ラミネータへのガラス基板の搬送装置としては、例えば、特開平5−8833号公報に記載されているような一対のウォーキングビームを用いてこれを上下動および搬送方向に往復移動させてガラス基板を搬送するものや、特開2000−264418号公報に記載されているような可動機構の設けられた複数のパレットを用いてこれらのパレット間でガラス基板を受け渡して搬送するものや、特開2000−277587号公報に記載されているようなロボットハンドを用いてガラス基板を保持して搬送するものなどがある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記したこれらの基板搬送装置では、ガラス基板を一定間隔で排出する際に、間欠搬送を行う機械的な構造や制御が複雑であったり、多サイズのガラス基板への対応のための条件変更や制御が難しいという問題がある。
【0006】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、シンプルな機構であり、ガラス基板を一定間隔で排出する際に効率的に間欠搬送することができ、かつ多サイズのガラス基板への対応が容易に行える基板搬送装置を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明の基板搬送装置は、基板への転写部分のカバーフイルムが剥離された感光層フイルムと前記基板とを熱圧着するために、前記基板を前記感光層フイルムの送り速度に合わせた基板排出速度でラミロールに送り込む基板搬送装置において、前記基板を受け取る受取搬送部と、前記受取搬送部からの基板をストックし搬送するストック搬送部と、前記ストック搬送部からの基板を受け入れて、前記基板排出速度で且つ前記カバーフイルムの剥離部分の先端位置と前記基板の転写開始位置とを合わせて基板を排出する排出搬送部と、前記受取搬送部、ストック搬送部、及び排出搬送部における前記基板の位置を検出する基板検出部と、前記基板検出部からの基板検出信号に基づいて前記受取搬送部、ストック搬送部、及び排出搬送部に基板を位置決めし、前記基板検出部により前記排出搬送部での先行基板の排出を検出した後に、前記基板排出速度を超えた速度で前記ストック搬送部、受取搬送部にある基板を送って追いかけ搬送し、前記先行基板とこの先行基板に続く次の基板との間隔が所定値になり且つ先行基板及び次の基板が同じ基板排出速度となるように、前記ストック搬送部及び受取搬送部を制御する制御部とを備えたことを特徴とする。
【0008】
なお、各搬送部に、基板搬送方向に所定間隔離して上流側基板検出センサ及び下流側基板センサを設けて追突防止センサを構成し、上流側基板検出センサが基板無しから基板有りに変化したときに下流側基板センサが基板有りのときに、追突可能性有りと判定して、この追突可能性有りと判定した上流側の基板搬送を停止することが好ましい。また、基板受取部に基板の有無を検出する在荷センサを設け、在荷センサの基板無し信号により前工程から基板を受け取ることが好ましい。
【0009】
また、各搬送部を、基板の両側縁部を支持して回転する送り部材と、この送り部材で支持された基板の中央部を気体吹き出しにより浮上させる基板浮上パネルとから構成し、送り部材は基板の幅方向で基板の幅寸法に合わせて移動可能に構成されるものである。さらに、各搬送部を、基板の両側縁部及び感光層フイルムの転写エリアを避けた部分を支持して回転する送り部材から構成し、送り部材は基板の幅方向で転写エリアを避けた部分の位置に合わせて移動可能に構成されるものである。各搬送部には、送り部材との間で基板を挟持して搬送するニップ部材を設けることが好ましく、排出搬送部には、ニップ部材の近傍に幅寄せ部材を設け、ニップ部材をニップ解除状態にして基板の幅寄せを行うことが好ましい。
【0010】
さらに、ストック搬送部を複数個設け、各搬送部にヒータを設けて各基板を基板排出時の目標温度まで予熱し、受取搬送部では目標温度よりも低めの設定にし、ストック搬送部では目標温度に達するように高めの設定にし、排出搬送部では目標温度より少し高めの設定にすることが好ましく、各搬送部に設けたヒータを小さくブロック分けし各ブロック毎に温度設定を可能にすることが好ましい。
【0011】
また、本発明の基板搬送方法は、基板への転写部分のカバーフイルムが剥離された感光層フイルムと前記基板とを熱圧着するために、前記基板を前記感光層フイルムの送り速度に合わせた基板排出速度でラミロールに送り込む基板搬送方法において、前記基板を受け取る受取搬送部と、前記受取搬送部からの基板をストックし搬送するストック搬送部と、前記ストック搬送部からの基板を受け入れて、前記基板排出速度で且つ前記カバーフイルムの剥離部分の先端位置と前記基板の転写開始位置とを合わせて基板を排出する排出搬送部と、前記受取搬送部、ストック搬送部、及び排出搬送部における前記基板の位置を検出する基板検出部と、前記基板検出部で検出した前記基板の位置に応じて前記各搬送部を制御する制御部とを用い、前記基板検出部からの基板検出信号に基づいて前記受取搬送部、ストック搬送部、及び排出搬送部に基板を位置決めし、前記基板検出部により前記排出搬送部での先行基板の排出を検出した後に、前記基板排出速度を超えた速度で前記ストック搬送部、受取搬送部にある基板を送って追いかけ搬送し、前記先行基板とこの先行基板に続く次の基板との間隔が所定値になり且つ先行基板及び次の基板が同じ基板排出速度となるように、前記ストック搬送部これに続いて前記受取搬送部から基板を送り出すことを特徴とする。
【0012】
【発明の実施の形態】
図1は、本発明の基板搬送装置が設けられたラミネータの構成を示す概略図である。ラミネータ10は、予備加熱部11、熱圧着部12、積層体フイルム供給部13、冷却部14、剥離部15、基板取り出し部16、後述するコントローラ17から構成されており、図2に示すように、透明なガラス基板18の周縁部を除いた転写エリアTAに感光層を転写する。
【0013】
ガラス基板18は図示しないロボットハンドによって予備加熱部11に供給される。ロボットハンドのハンド本体には吸着パッドが設けられている。ロボットハンドは、この吸着パッドによってガラス基板18の裏面(感光層の非転写面)を吸着し、これを保持する。そして、ロボットハンドは、表面(感光層の被転写面)を下側に向けた裏返し状態にして、このガラス基板18を予備加熱部11に供給する。
【0014】
予備加熱部11は、基板搬送装置20とヒータ21,22とから構成されており、受取搬送部25と第1及び第2ストック搬送部26,27と排出搬送部28とにそれぞれ区画されている。受取搬送部25は、ロボットハンドからガラス基板18を受け取って下流側に搬送する。ガラス基板18は、第1及び第2ストック搬送部26,27を経て排出搬送部28まで搬送される。ガラス基板18は排出搬送部28で待機し、熱圧着部12からの指示によって後述する熱圧着部12のラミロール対に向かって送り出される。
【0015】
ヒータ21,22は、基板搬送装置20のガラス基板18の搬送路を挟むように上下方向で配置されており、搬送されるガラス基板18を所定温度に加熱する。ヒータとしては遠赤外線ヒータ、ニクロム線ヒータ、熱風ヒータ等を利用することができる。
【0016】
ヒータ21,22は、受取搬送部25では熱変形を抑えるために設定温度を低く、第1及び第2ストック搬送部26,27では短時間でガラス基板18が所定温度になるように設定温度を高く、排出搬送部28では待機中にガラス基板18の温度が下がらないように僅かに設定温度を高くする。例えば、ガラス基板18を110℃に加熱する際の各設定温度は、ヒータ21a,22aが100℃、ヒータ21b,22b及び21c,22cが180℃、ヒータ21d,22dが120℃とする。これにより、ガラス基板18は、熱変形することなく短時間で所定温度に加熱されるとともに、待機中にその温度が下がることはない。なお、ヒータ21,22の設定温度は、これに限られず、基板サイズや必要な所定温度に応じて適宜決定される。また、ヒータ21,22は小サイズの面発熱体を並べて構成しており、個別にコントローラ(図示せず)を備えている。したがって、ガラス基板18の温度分布均一化のため設定温度を個別に変えることも可能で、例えば冷えやすいガラス基板18の両サイドを高めに設定することもできる。さらに、各搬送部25〜28では最低停止時間が設定してあり、所定温度までの昇温が確実に行われるようになっている。
【0017】
基板搬送装置20は、図3に示すように、エア浮上テーブル30、送りローラ31、つば付送りローラ32、幅寄せローラ33、ニップローラ34、センサ35〜39等から構成される。ガラス基板18は、送りローラ31及びつば付送りローラ32に両側縁部を支持されて搬送される。エア浮上テーブル30は、ガラス基板18の下面と対面するように配置されており、その表面にはエアの吹き出し口30aが多数形成されている。この吹き出し口30aからガラス基板18に向けてクリーンなエアを吹き出すことで、自重により撓んだガラス基板18の中央部を浮上させる。
【0018】
送りローラ31及びつば付送りローラ32は、エア浮上ステージ30の両側部に形成された切り欠き部30bに配置されており、それぞれ回転自在に支持されるとともに、ガラス基板18の搬送方向に対して直交する向きにガラス基板18の幅寸法に合わせて移動可能とされている。各送りローラ31,32はパルスモータ40により回転駆動され、後述する各センサ35〜39からの基板検出信号に応じて、モータドライバ41を介してコントローラ17がパルスモータ40の駆動を制御する。また、各送りローラ31,32は、切り欠き部30bに沿ってガラス基板18の幅寸法に合わせて移動することで、多サイズのガラス基板の搬送に対応することができる。
【0019】
送りローラ31及びつば付送りローラ32は、ガラス基板18の下面の両側縁部に接触し、回転することでガラス基板18を搬送する。このとき、ガラス基板18の表面(感光層の被転写面)が下側となっているが、各送りローラ31,32は感光層が転写されないガラス基板18の周縁部に接触するので、感光層の転写エリアTAに損傷を与えたり、塵埃を付着させることはない。また、つば付ローラ32のつば32aは、ガラス基板18のガイドとして機能し、ガラス基板18の幅方向の位置を規制する。
【0020】
幅寄せローラ33には、幅寄せ機構42が設けられている。コントローラ17は幅寄せ機構42を介して、幅寄せローラ33をガラス基板18の側面に当接する矯正位置と、ガラス基板18から離間する退避位置との間で選択的にセットする。幅寄せローラ33が矯正位置にセットされると、ガラス基板18の幅方向の位置及び傾きの修正が行われ、ガラス基板18の直進精度が上がる。なお、ガラス基板18の破損防止のために、コントローラ17は幅寄せローラ33を矯正位置へセットする際には後述のニップローラ34を退避位置にセットし、ニップローラ34を搬送位置にセットする際には幅寄せローラ33を退避位置にセットするように制御を行う。
【0021】
ニップローラ34はテフロンで形成されており、ニップ機構43が設けられている。コントローラ17はニップ機構43を介して、ニップローラ34を送りローラ31との間でガラス基板18を狭持する搬送位置と、ガラス基板18と離間する退避位置との間で選択的にセットする。ニップローラ34と送りローラ31との間でガラス基板18の両側縁部を挟持することで、搬送時のガラス基板18のスリップを防止する。なお、ガラス基板18の破損防止のために、ニップローラ34を搬送位置へセットする際にはガラス基板18と接触する直前でゆっくりとニップローラ34を移動させる。また、ガラス基板18がラミロール対に狭持されると、ニップローラ34は退避位置にセットされる。さらに、本実施形態ではニップローラをテフロンで形成しているが、機能上問題がなければ他の材料や、より弾性のあるゴム系の素材、例えばフッ素系ゴム、シリコンゴム等を用いて形成してもよい。
【0022】
エア浮上テーブル30の中央部に形成された切り欠き部30cには、耐熱性反射式光ファイバー式センサからなるセンサ35〜39が配置される。各センサ35〜39は、ガラス基板18の搬送方向に沿って配置されており、それぞれコントローラ17に接続されている(図示せず)。そして、ガラス基板18を検出するとそれぞれ基板検出信号をコントローラ17に送出する。コントローラ17は、各センサ35〜39からの基板検出信号に基づいて、ガラス基板18の位置を特定して搬送を制御する。
【0023】
図4は、各搬送部25〜28における各ローラ31〜34及び各センサ35〜39の配置位置を示すものである。在荷センサ35a〜35dは、各搬送部25〜28のガラス基板18の有無を検出する。排出搬送部28の在荷センサ35aがオンになると、熱圧着部12で感光層の転写の準備が行われる。そして、熱圧着部12から送り込み開始信号が送出されると後述するラミロール対への投入速度に合わせた搬送速度V1でガラス基板18を送り出す。また、受取搬送部25の在荷センサ35c,35dのどちらか一方がオンになっているときは、ロボットハンドが受取搬送部25にガラス基板18を供給することはなく、ガラス基板18が二重に載置されることはない。在荷センサ35c,35dが2個ともオフになると、次のガラス基板18がロボットハンドにより供給される。
【0024】
停止センサ36a〜36dは、各搬送部25〜28の下流側端部に設けられており、その位置にガラス基板18が達してオンするとガラス基板18の搬送を停止する。排出搬送部28では、停止センサ36aの位置にガラス基板18の先端が達すると搬送を停止する。また、他の搬送部25〜27では、その搬送部より下流側の搬送部にガラス基板18が有る場合に、各停止センサ36b〜36dの位置にガラス基板18の先端が達すると、その搬送部でガラス基板18の搬送を停止する。
【0025】
ニップセンサ37a〜37hは、各ニップローラ34の近傍に設けられており、その位置にガラス基板18の先端が達すると、それぞれに対応するニップローラ34が搬送位置にセットされる。また、ガラス基板18の後端がニップローラ34を通過する際には、後端の通過前にそれぞれに対応するニップローラ34が退避位置にセットされる。
【0026】
追送開始センサ38は、第2ストック搬送部28の停止センサ36bから距離L1だけ離して設けられている。排出搬送部28からガラス基板18が熱圧着部12に送り出されて、その後端が追送開始センサ38を通過すると追送開始センサ38がオフになる。追送開始センサ38がオフになると、受取搬送部25、第1及び第2ストック搬送部26,27にあるガラス基板18が搬送速度V1よりも速い追送速度V2でそれぞれ追いかけ搬送を開始する。
【0027】
追いかけ搬送は、追送時間Tだけ行われる。追送速度V2及び追送時間Tは各基板サイズに応じて条件出しを行って、熱圧着部12に各ガラス基板18の間隔が所定の距離L2(図3参照)でガラス基板18が供給されるように適宜設定されている。これにより、追送時間Tが経過すると、排出搬送部28から送り出されたガラス基板18と第2ストック搬送部27にあったガラス基板18との間隔は所定の距離L2となる。そして、追送時間Tが経過した後は、追いかけ搬送したガラス基板18も搬送速度V1になって、所定の距離L2を保持したまま熱圧着部12に向かって搬送される。
【0028】
このように、熱圧着部12の直前に位置する排出搬送部28においてガラス基板18の間隔を所定の距離L2に調整するので、熱圧着部12に精度良く一定の間隔でガラス基板18を順次供給することができる。また、熱圧着部12の直前でガラス基板18の間隔を調整するので、排出搬送部28に到達するまでの搬送でズレが生じても問題ない。さらに、各搬送部25〜28で定位置停止するので、受取搬送部25へのガラス基板18の投入時間間隔のバラツキや基板サイズに関わらず、熱圧着部12に精度良く一定の間隔でガラス基板18を順次供給することができる。なお、追送速度V2を速くすることで、追いかけ搬送距離を短くすることができ、これに伴って基板搬送装置全体の小型化が図れる。
【0029】
追突防止センサ39a〜39f及び停止センサ36b,36cは、搬送される下流側のガラス基板18に上流側のガラス基板18が追突することを防止するために、前後のガラス基板18の間隔が所定の距離L2離れているか否かを検出する。各センサは、39aと39b、39cと39d、36bと39e、36cと39fがそれぞれ一対になっており、それぞれ所定の距離L2にセットされている。一対のセンサのうち、上流側のセンサがガラス基板無しからガラス基板有りに変化したときに、下流側のセンサがガラス基板有りである場合には、前後のガラス基板18の間隔が所定の距離L2以下になっていることを示し、追いかけ搬送していたガラス基板18の搬送が停止される。先行する下流側のガラス基板18が搬送されて、前後のガラス基板18の間隔が所定の距離L2となると、再び追いかけ搬送していたガラス基板18の搬送が再開される。このときの搬送速度は、ラミロール対への投入速度に合わせた搬送速度V1である。
【0030】
図1において、熱圧着部12は、ラミロール対50とバックアップローラ51とから構成されている。ラミロール対50は、上下方向で配置したラミロール50a,50bから構成されており、これらラミロール50a,50bにはヒータが内蔵されている。ラミロール対50はガラス基板18と積層体フイルム52とを挟持して搬送することにより、ガラス基板18へ積層体フイルム52を熱圧着して貼り付ける。バックアップローラ51は、ラミロール50a,50bに接触して従動回転するように構成されており、ラミロール50a,50bの撓みを抑えて、均一な力による熱圧着を可能にする。また、基板搬送装置20と熱圧着部12との間にも、前述のエア浮上テーブル30と同じ構成のエア浮上テーブル53が設けられている。これによりガラス基板18を水平に保ち、ラミロール対50へガラス基板18を投入する際にガラス基板18の中央部が撓んで下側のラミロール50aと衝突することを防止する。
【0031】
積層体フイルム供給部13は、積層体フイルムロール54の取付軸54a、ハーフカッタ55、カバーフイルム剥離部56、バックテンションローラ57等から構成されている。この積層体フイルム供給部13は、積層体フイルムロール54からカバーフイルム52cを剥がして、感光層を上に向けた状態でベースフイルム52bをラミロール対50に供給する。
【0032】
積層体フイルム52は、ベースフイルム52bに図示しない補助層、中間層などを介して感光層52aが層設されており、更に感光層52aの上にはカバーフイルム52c、ベースフイルム52bの他方の面には帯電防止層などが層設されている。
【0033】
ハーフカッタ55は、ガラス基板18の長さに合わせて、積層体フイルム52をハーフカットする。このハーフカットでは、カバーフイルム52c、感光層52aが切断され、ベースフイルム52bは切断されることがない。
【0034】
カバーフイルム剥離部56は、ガラス基板18への貼付面となるハーフカットされた部分のカバーフイルム52cを積層体フイルム52から剥離する。この剥離は、粘着テープロール56aから引き出された粘着テープ56cを押さえローラ56bによりカバーフイルム52cへ貼り付けて行われ、このカバーフイルム52cが貼りついた粘着テープ56cはテープ巻取り軸56dに巻き取られ回収される。また、ガラス基板18とガラス基板18との間に位置することになる積層体フイルム52に対しては、そのカバーフイルム52cが剥離されずに残される。
【0035】
熱圧着部12では、ハーフカット線が所定の位置を通過すると基板搬送装置20に送り込み開始信号を送出する。これにより、ガラス基板18とハーフカット線との位置合わせが行われた状態で、ガラス基板18に積層体フイルム52の感光層52aが貼り付けられる。そして、ベースフイルム52bもガラス基板18の移動に伴いラミロール対50の送り方向下流側に送られる。
【0036】
冷却部14は、冷却風吹き出しボード60と、搬送ローラ61とから構成されている。冷却風吹き出しボード60は、HEPAフィルタを通過したクリーンな冷却風をガラス基板18に向けて吹き出して、搬送ローラ61で搬送されているガラス基板18の温度をほぼ室温(30℃以下)に冷やす。
【0037】
剥離部15は剥離ローラ62及びベースフイルム巻取り機構63から構成されており、ガラス基板18からベースフイルム52bを剥離し、このベースフイルム62bを回収軸63aにロール状に巻き取る。回収軸63aは図示しない巻取りモータによって回転駆動される。この巻取りモータはトルク制御されており、ラミロール対50以降のベースフイルム52bの張力を一定に保持して、ベースフイルム52bに弛みが発生しないようにしている。
【0038】
剥離部15の下流側には、エア浮上テーブル65からなる基板取り出し部16が設けられている。このエア浮上テーブル65は、予備加熱部11のエア浮上テーブル30と同様に構成されている。剥離部15から送り出されたガラス基板18は、図示しないロボットハンドによってその上面を吸着されて取り出される。
【0039】
次に、上記構成の作用について説明する。ロボットハンドにより受取搬送部25に1枚目のガラス基板18が投入されると、このガラス基板18は、第1ストック搬送部26、第2ストック搬送部27、排出搬送部28の順に搬送され、ヒータ21,22により所定の温度に加熱される。ガラス基板18の先端が排出搬送部の停止センサ36aに達すると搬送が停止する。その後、2枚目、3枚目、4枚目のガラス基板18が順次投入、搬送されて、各搬送部25〜27の停止センサ36b〜36dの位置でそれぞれ停止する。
【0040】
熱圧着部12では、ラミロール対50が回転して積層体フイルム52を送り、積層体フイルム52のハーフカット線が所定の位置にくると、送り込み開始信号を基板搬送装置20に送出する。基板搬送装置20は、この送り込み開始信号の入力により、ラミロール対50への投入速度に合わせた搬送速度V1で排出搬送部28から1枚目のガラス基板18を送り出す。ガラス基板18の後端が追送開始センサ38を通過すると、2枚目のガラス基板18が搬送速度V1よりも速い追送速度V2で追いかけ搬送を開始する。追送時間Tが経過すると2枚目のガラス基板18も搬送速度V1で搬送される。このとき、1枚目のガラス基板18と2枚目のガラス基板18との間隔は、所定の距離L2になっている。
【0041】
以下、3枚目、4枚目のガラス基板18も同様に、ラミロール対50に送り込まれるガラス基板18の搬送速度V1よりも速い追送速度V2で追送し、ラミロール対50に送り込まれるガラス基板18との間隔を所定の距離L2にしてからラミロール対50へ送り込まれる。また、受取搬送部25に停止していたガラス基板18が下流側に搬送され、在荷センサ35c,35dが2個ともオフになるとロボットハンドが次のガラス基板18を投入し、上記と同様のガラス基板18の搬送を繰り返す。
【0042】
ラミロール対50は、ガラス基板18とハーフカット線との位置合わせが行われた状態で、ガラス基板18に積層体フイルム52の感光層52aを熱圧着して貼り付ける。ガラス基板18は、冷却部14でほぼ室温に冷やされてから、剥離部15でベースフイルム52bが剥離される。こうして、透明なガラス基板18の下面(表面)の転写エリアTAに感光層が転写される。この後、ガラス基板18は基板取り出し部16に送り出され、ロボットハンドによってその上面(裏面)を吸着されて取り出される。
【0043】
なお、上記実施形態では、全ての送りローラにパルスモータを接続して回転駆動しているが、ブロック毎にモータを配置してローラをベルト駆動する方法や駆動源の無い回転自在なフリーローラや、テンデンシー駆動ローラやトルクモータ駆動ローラを必要に応じて組み合わせて配置してもよく、また送りローラ等の取付間隔は、多サイズのガラス基板を安定して搬送するため短い方がよい。また、送りローラとガラス基板との摩擦が十分に確保され、搬送時のガラス基板のスリップの懸念がなければニップローラを設けなくてもよく、この場合には搬送系の制御が容易になるとともに、塵埃発生の懸念も減少する。さらに、受取搬送部、第1及び第2ストック搬送部でつば付送りローラを用いているが、図5に示すように、排出搬送部と同様の送りローラ71と、ガラス基板18の幅方向の位置を規制するガイドローラ72とを用いてガラス基板18の搬送及びガイドを行ってもよい。
【0044】
上記実施形態では、排出搬送部で各ガラス基板の間隔が所定の距離L2となるように調整しているが、図6に示すように、排出搬送部の下流側端部にガラス基板18の搬送を禁止する係止位置と搬送を許容する退避位置との間で移動自在なストッパー85を設け、このストッパー85の移動によって熱圧着部12へ供給する各ガラス基板18の間隔が所定の距離L2となるように基板搬送のタイミングを調整してもよい。この場合には、追いかけ搬送後の各ガラス基板18の間隔が所定の距離L2よりも短い距離L3となるようにする。
【0045】
上記実施形態では、ガラス基板の両側縁部を送りローラで支持しているが、図7に示すように、1枚のガラス基板18に一定の間隔を開けて複数の転写エリアTAが形成されている場合や非転写面である裏面が下側に向いてこれを支持する場合には、複数の送りローラ91を支持軸90上に配置してガラス基板18を支持してもよい。なお、送りローラ91を配置する間隔、個数は任意に設定でき、多サイズのガラス基板に対応することができる。また、搬送する基板をガラス基板としているが、本発明はこれに限られず、金属や樹脂など他の素材で形成されたものでもよい。
【0046】
【発明の効果】
以上のように、本発明の基板搬送装置によれば、基板を受け取る受取搬送部と、受取搬送部からの基板をストックし搬送するストック搬送部と、ストック搬送部からの基板を受け入れてラミロールの基板送り速度に合わせた基板排出速度で基板を排出する排出搬送部と、各搬送部における基板の位置を検出する基板検出部と、この基板検出部により排出搬送部での基板排出を検出し、排出中の基板との間隔が所定値となり且つ同じ基板排出速度となるように、ストック搬送部、これに続いて受取搬送部から基板を送り出して追いかけ搬送を行う制御部とを備えているので、シンプルな機構でガラス基板を一定間隔で効率的に搬送することができる。また、多サイズのガラス基板への対応が容易にできる。
【0047】
また、本発明の基板搬送方法によれば、基板検出部により排出搬送部での基板排出を検出し、排出中の基板との間隔が所定値となり且つ同じ基板排出速度となるように、ストック搬送部、これに続いて受取搬送部から基板を送り出して追いかけ搬送を行うようにしたので、同様にシンプルな機構でガラス基板を一定間隔で効率的に搬送することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明を実施した感光層転写機の概略図である。
【図2】ガラス基板の感光層転写面を示す平面図である。
【図3】基板搬送装置の概略を示す斜視図である。
【図4】基板搬送装置のセンサ取付位置を示す平面図である。
【図5】第2実施形態の基板搬送装置の概略を示す斜視図である。
【図6】第3実施形態の基板搬送装置の概略を示す斜視図である。
【図7】第4実施形態の基板搬送装置の概略を示す平面図である。
【符号の説明】
10 ラミネータ
17 コントローラ
18,98 ガラス基板
20,70,80 基板搬送装置
25 受取搬送部
26 第1ストック搬送部
27 第2ストック搬送部
28 排出搬送部
30,53,65 エア浮上テーブル
31,71,81,91 送りローラ
32 つば付送りローラ
33,83 幅寄せローラ
34,84 ニップローラ
35 在荷センサ
36 停止センサ
37 ニップセンサ
38 追送開始センサ
39 追突防止センサ
40 パルスモータ
41 モータドライバ
42 幅寄せ機構
43 ニップ機構
50 ラミロール対
52 積層体フイルム[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a substrate transfer method and apparatus, and more particularly to a substrate transfer apparatus suitable for manufacturing a large-sized liquid crystal display panel or a glass substrate of a plasma display panel.
[0002]
[Prior art]
Color filters used in liquid crystal display panels (LCDs) and plasma display panels (PDPs) are red (R), green (G), and blue (B) color pixel patterns on a transparent glass substrate, and black (K). The black matrix is formed. In recent years, along with the increase in size of LCDs and PDPs, the glass substrate used for the color filter is also as thin as 1 mm to 10 mm, but the width and length are increased to 1 m or more.
[0003]
As a method for producing a color filter, a film transfer method is generally known. In the film transfer method, a photosensitive layer formed on a film is transferred (hereinafter referred to as a laminate) onto a transparent glass substrate by a photosensitive layer transfer machine (hereinafter referred to as a laminator). Next, light is irradiated through a mask on which a predetermined pattern is formed by an exposure apparatus to expose the photosensitive layer. The glass substrate after exposure is developed by a developing processor to form a desired pixel pattern and black matrix. The glass substrate is supplied to a laminator in a horizontal state at regular intervals, and a photosensitive layer is laminated on a transfer surface excluding a peripheral portion having a predetermined width on the lower surface thereof.
[0004]
As a glass substrate transfer device to a laminator, for example, a pair of walking beams as described in JP-A-5-8833 are used to move the glass substrate up and down and reciprocate in the transfer direction to transfer the glass substrate. Using a plurality of pallets provided with a movable mechanism as described in Japanese Patent Laid-Open No. 2000-264418, transferring and transporting a glass substrate between these pallets, and Japanese Patent Laid-Open No. 2000-277487. There is one that holds and transports a glass substrate by using a robot hand as described in the Japanese Patent Publication.
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
However, in these substrate transfer apparatuses described above, when discharging the glass substrate at regular intervals, the mechanical structure and control for intermittent transfer are complicated, or conditions for dealing with multi-size glass substrates There is a problem that it is difficult to change and control.
[0006]
The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and is a simple mechanism. When the glass substrate is discharged at a constant interval, it can be efficiently and intermittently transported, and a multi-size glass substrate can be obtained. An object of the present invention is to provide a substrate transfer apparatus that can easily cope with the above.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, the substrate transfer apparatus of the present invention comprises: In order to thermocompression-bond the photosensitive layer film from which the cover film of the transfer portion to the substrate has been peeled off and the substrate, the substrate is moved at a substrate discharge speed that matches the feeding speed of the photosensitive layer film. In the substrate transfer device to be fed into the lami roll, the receiving transfer unit for receiving the substrate, the stock transfer unit for stocking and transferring the substrate from the receiving transfer unit, and receiving the substrate from the stock transfer unit, The substrate discharge speed and the tip position of the peeled portion of the cover film are matched with the transfer start position of the substrate. A discharge transport unit for discharging the substrate; The receiving and conveying section, stock conveying section, and discharge A substrate detection unit for detecting the position of the substrate in the transfer unit; After positioning the substrate in the receiving and conveying unit, the stock conveying unit, and the discharging and conveying unit based on the substrate detection signal from the substrate detecting unit, and detecting the discharge of the preceding substrate in the discharging and conveying unit by the substrate detecting unit The substrate in the stock transport unit and the receiving transport unit is sent at a speed exceeding the substrate discharge speed for follow-up transport, and the interval between the preceding substrate and the next substrate following the preceding substrate becomes a predetermined value and the preceding substrate The stock transfer unit and the receiving transfer unit are controlled so that the substrate and the next substrate have the same substrate discharge speed. And a control unit.
[0008]
In addition, Each transport unit is provided with an upstream side substrate detection sensor and a downstream side substrate sensor separated by a predetermined distance in the substrate transport direction to constitute a rear-end collision sensor, and downstream when the upstream side substrate detection sensor changes from the absence of a substrate to the presence of a substrate. It is preferable to determine that there is a possibility of rear-end collision when the side board sensor has a board, and stop the upstream-side board transfer that is determined to have the possibility of rear-end collision. Yes. Also, It is preferable that a loading sensor for detecting the presence or absence of a substrate is provided in the substrate receiving portion, and the substrate is received from the previous process by a substrate absence signal of the loading sensor.
[0009]
Each transport unit is composed of a feed member that rotates while supporting both side edges of the substrate, and a substrate floating panel that floats the central portion of the substrate supported by the feed member by gas blowing. It is configured to be movable in accordance with the width dimension of the substrate in the width direction of the substrate. Furthermore, each transport unit is composed of a feed member that rotates while supporting the side edges of the substrate and the portion that avoids the transfer area of the photosensitive layer film, and the feed member is a portion of the portion that avoids the transfer area in the width direction of the substrate. It is configured to be movable according to the position. It is preferable to provide each transport unit with a nip member that sandwiches and transports the substrate to and from the feed member, and the discharge transport unit is provided with a width adjusting member in the vicinity of the nip member so that the nip member is in a nip release state. It is preferable to perform the width adjustment of the substrate.
[0010]
In addition, a plurality of stock transfer units are provided, and heaters are provided in each transfer unit to preheat each substrate to the target temperature at the time of substrate ejection. The receiving transfer unit is set lower than the target temperature, and the stock transfer unit is set to a target temperature. It is preferable to set a higher setting so that the temperature reaches the target temperature, and it is preferable to set it slightly higher than the target temperature in the discharge conveyance unit, and the heater provided in each conveyance unit can be divided into small blocks so that the temperature can be set for each block. preferable.
[0011]
In addition, the substrate transport method of the present invention includes: In order to thermocompression-bond the photosensitive layer film from which the cover film of the transfer portion to the substrate has been peeled off to the substrate, the substrate is fed into a laminar roll at a substrate discharge speed that matches the feeding speed of the photosensitive layer film. In the substrate transfer method, a receiving transfer unit for receiving the substrate, a stock transfer unit for stocking and transferring the substrate from the receiving transfer unit, and receiving the substrate from the stock transfer unit The tip position of the peeled portion of the cover film is matched with the transfer start position of the substrate at the substrate discharge speed. A discharge transport unit for discharging the substrate; The receiving and conveying section, stock conveying section, and discharge Using a substrate detection unit that detects the position of the substrate in the transfer unit, and a control unit that controls each of the transfer units according to the position of the substrate detected by the substrate detection unit, Based on the substrate detection signal from the substrate detection unit, the substrate is positioned in the receiving conveyance unit, the stock conveyance unit, and the discharge conveyance unit, The substrate detection unit detects the discharge of the preceding substrate in the discharge conveyance unit. After that, the substrate in the stock conveyance unit and the reception conveyance unit is sent and chased at a speed exceeding the substrate discharge speed, and the interval between the preceding substrate and the next substrate following the preceding substrate becomes a predetermined value. And so that the preceding substrate and the next substrate have the same substrate discharge speed, Subsequent to the stock transfer unit, the substrate is transferred from the receiving transfer unit. Send out It is characterized by that.
[0012]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
FIG. 1 is a schematic view showing a configuration of a laminator provided with a substrate transfer apparatus of the present invention. The laminator 10 includes a preheating unit 11, a thermocompression bonding unit 12, a laminated film supply unit 13, a cooling unit 14, a peeling unit 15, a substrate takeout unit 16, and a controller 17 described later, as shown in FIG. Then, the photosensitive layer is transferred to the transfer area TA excluding the peripheral edge of the
[0013]
The
[0014]
The preheating unit 11 includes a
[0015]
The
[0016]
The
[0017]
As shown in FIG. 3, the
[0018]
The
[0019]
The
[0020]
The
[0021]
The
[0022]
Sensors 35 to 39 made of a heat-resistant reflective optical fiber sensor are arranged in a
[0023]
FIG. 4 shows the arrangement positions of the
[0024]
The
[0025]
The nip
[0026]
The follow-
[0027]
The follow-up conveyance is performed only for the follow-up time T. Conditions for the follow-up speed V2 and follow-up time T are determined according to the size of each substrate, and the
[0028]
As described above, since the interval between the
[0029]
The rear-end collision prevention sensors 39a to 39f and the
[0030]
In FIG. 1, the thermocompression bonding portion 12 includes a
[0031]
The laminate film supply unit 13 includes an
[0032]
In the
[0033]
The half cutter 55 half-cuts the
[0034]
The cover
[0035]
In the thermocompression bonding part 12, when the half-cut line passes a predetermined position, a feed start signal is sent to the
[0036]
The cooling unit 14 includes a cooling
[0037]
The peeling unit 15 includes a peeling
[0038]
On the downstream side of the peeling unit 15, a substrate take-out unit 16 including an air floating table 65 is provided. The air levitation table 65 is configured in the same manner as the air levitation table 30 of the preheating unit 11. The
[0039]
Next, the operation of the above configuration will be described. When the
[0040]
In the thermocompression bonding part 12, the
[0041]
In the same manner, the third and
[0042]
In the state where the
[0043]
In the above embodiment, a pulse motor is connected to all the feed rollers and driven to rotate. However, a motor is arranged for each block and the rollers are belt-driven, a free free roller having no drive source, In addition, a tension drive roller or a torque motor drive roller may be combined and arranged as necessary, and the attachment interval of the feed roller or the like is preferably shorter in order to stably transport a multi-size glass substrate. In addition, the friction between the feed roller and the glass substrate is sufficiently ensured, and there is no need to provide a nip roller if there is no concern about slipping of the glass substrate during transportation.In this case, control of the transportation system becomes easy, Concerns about dust generation are also reduced. Furthermore, although a feeding roller with a collar is used in the receiving and conveying unit and the first and second stock conveying units, as shown in FIG. 5, the feeding
[0044]
In the above embodiment, the discharge transport unit is adjusted so that the distance between the glass substrates is a predetermined distance L2, but as shown in FIG. 6, the
[0045]
In the above-described embodiment, both side edges of the glass substrate are supported by the feed roller. However, as shown in FIG. area When TA is formed or when the back surface, which is a non-transfer surface, faces downward and is supported, a plurality of
[0046]
【The invention's effect】
As described above, according to the substrate transport apparatus of the present invention, the receiving transport unit that receives the substrate, the stock transport unit that stocks and transports the substrate from the receiving transport unit, the substrate from the stock transport unit that receives the substrate, A discharge transport unit that discharges the substrate at a substrate discharge speed that matches the substrate feed speed, a substrate detection unit that detects the position of the substrate in each transport unit, and detects the substrate discharge in the discharge transport unit by this substrate detection unit, Since the interval between the substrate being discharged is a predetermined value and has the same substrate discharge speed, it is equipped with a control unit that carries out a follow-up transfer by sending out the substrate from the receiving transfer unit, followed by the stock transfer unit. A glass substrate can be efficiently transported at regular intervals by a simple mechanism. In addition, it can be easily applied to multi-size glass substrates.
[0047]
Further, according to the substrate transfer method of the present invention, the substrate detection unit detects the substrate discharge at the discharge transfer unit, and the stock transfer is performed so that the distance from the substrate being discharged becomes a predetermined value and the same substrate discharge speed. Since the substrate is sent out from the receiving and conveying unit following this, the chasing conveyance is performed, so that the glass substrate can be efficiently conveyed at regular intervals by a simple mechanism.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic view of a photosensitive layer transfer machine embodying the present invention.
FIG. 2 is a plan view showing a photosensitive layer transfer surface of a glass substrate.
FIG. 3 is a perspective view showing an outline of a substrate transfer apparatus.
FIG. 4 is a plan view showing a sensor mounting position of the substrate transfer apparatus.
FIG. 5 is a perspective view showing an outline of a substrate transfer apparatus according to a second embodiment.
FIG. 6 is a perspective view illustrating an outline of a substrate transfer apparatus according to a third embodiment.
FIG. 7 is a plan view schematically showing a substrate transfer apparatus according to a fourth embodiment.
[Explanation of symbols]
10 Laminator
17 Controller
18,98 glass substrate
20, 70, 80 Substrate transfer device
25 Receiving and transporting section
26 First stock transport section
27 Second stock transport section
28 Discharge transport section
30, 53, 65 Air levitation table
31, 71, 81, 91 Feed roller
32 Feed roller with collar
33, 83 Alignment roller
34,84 Nip roller
35 Stock sensor
36 Stop sensor
37 Nip sensor
38 Follow-up start sensor
39 Rear-end collision prevention sensor
40 pulse motor
41 Motor driver
42 Alignment mechanism
43 Nip mechanism
50 Ramirole vs.
52 Laminate Film
Claims (10)
前記基板を受け取る受取搬送部と、
前記受取搬送部からの基板をストックし搬送するストック搬送部と、
前記ストック搬送部からの基板を受け入れて、前記基板排出速度で且つ前記カバーフイルムの剥離部分の先端位置と前記基板の転写開始位置とを合わせて基板を排出する排出搬送部と、
前記受取搬送部、ストック搬送部、及び排出搬送部における前記基板の位置を検出する基板検出部と、
前記基板検出部からの基板検出信号に基づいて前記受取搬送部、ストック搬送部、及び排出搬送部に基板を位置決めし、前記基板検出部により前記排出搬送部での先行基板の排出を検出した後に、前記基板排出速度を超えた速度で前記ストック搬送部、受取搬送部にある基板を送って追いかけ搬送し、前記先行基板とこの先行基板に続く次の基板との間隔が所定値になり且つ先行基板及び次の基板が同じ基板排出速度となるように、前記ストック搬送部及び受取搬送部を制御する制御部とを備えたことを特徴とする基板搬送装置。 In a substrate transport apparatus for feeding the substrate to a laminar roll at a substrate discharge speed in accordance with the feed speed of the photosensitive layer film in order to thermocompression- bond the photosensitive layer film from which the cover film of the transfer portion to the substrate is peeled off and the substrate . ,
A receiving and conveying unit for receiving the substrate;
A stock transport unit that stocks and transports substrates from the receiving transport unit; and
A discharge transport unit that receives the substrate from the stock transport unit , and discharges the substrate at the substrate discharge speed and the front end position of the peeling portion of the cover film and the transfer start position of the substrate;
A substrate detection unit for detecting a position of the substrate in the receiving conveyance unit, the stock conveyance unit, and the discharge conveyance unit;
After positioning the substrate in the receiving and conveying unit, the stock conveying unit, and the discharging and conveying unit based on the substrate detection signal from the substrate detecting unit, and detecting the discharge of the preceding substrate in the discharging and conveying unit by the substrate detecting unit The substrate in the stock transport unit and the receiving transport unit is sent at a speed exceeding the substrate discharge speed for follow-up transport, and the interval between the preceding substrate and the next substrate following the preceding substrate becomes a predetermined value and the preceding substrate A substrate transport apparatus comprising: a control unit that controls the stock transport unit and the receiving transport unit so that the substrate and the next substrate have the same substrate discharge speed .
前記基板を受け取る受取搬送部と、前記受取搬送部からの基板をストックし搬送するストック搬送部と、前記ストック搬送部からの基板を受け入れて、前記基板排出速度で且つ 前記カバーフイルムの剥離部分の先端位置と前記基板の転写開始位置とを合わせて基板を排出する排出搬送部と、前記受取搬送部、ストック搬送部、及び排出搬送部における前記基板の位置を検出する基板検出部と、前記基板検出部で検出した前記基板の位置に応じて前記各搬送部を制御する制御部とを用い、
前記基板検出部からの基板検出信号に基づいて前記受取搬送部、ストック搬送部、及び排出搬送部に基板を位置決めし、
前記基板検出部により前記排出搬送部での先行基板の排出を検出した後に、前記基板排出速度を超えた速度で前記ストック搬送部、受取搬送部にある基板を送って追いかけ搬送し、
前記先行基板とこの先行基板に続く次の基板との間隔が所定値になり且つ先行基板及び次の基板が同じ基板排出速度となるように、前記ストック搬送部これに続いて前記受取搬送部から基板を送り出すことを特徴とする基板搬送方法。 In a substrate carrying method for feeding the substrate to a laminar roll at a substrate discharge speed in accordance with a feeding speed of the photosensitive layer film in order to thermocompression-bond the photosensitive layer film from which the cover film of the transfer portion to the substrate is peeled off and the substrate . ,
A receiving and conveying unit that receives the substrate, a stock conveying unit that stocks and conveys the substrate from the receiving and conveying unit, and a substrate that receives the substrate from the stock conveying unit, and at the substrate discharge speed and at the peeling portion of the cover film A discharge transport unit that discharges the substrate by aligning the leading end position and the transfer start position of the substrate, a substrate detection unit that detects the position of the substrate in the receiving transport unit, the stock transport unit, and the discharge transport unit , and the substrate Using a control unit that controls each of the conveyance units according to the position of the substrate detected by the detection unit,
Based on the substrate detection signal from the substrate detection unit, the substrate is positioned in the receiving conveyance unit, the stock conveyance unit, and the discharge conveyance unit,
After detecting the discharge of the preceding substrate in the discharge conveyance unit by the substrate detection unit, the substrate conveyance unit, the substrate in the receiving conveyance unit is sent and chased and conveyed at a speed exceeding the substrate discharge speed,
From the stock transport unit following the stock transport unit , the interval between the preceding substrate and the next substrate following the preceding substrate becomes a predetermined value, and the preceding substrate and the next substrate have the same substrate discharge speed. A substrate transfer method, characterized in that a substrate is sent out .
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000373954A JP3756402B2 (en) | 2000-12-08 | 2000-12-08 | Substrate transfer apparatus and method |
| KR1020010076163A KR100822328B1 (en) | 2000-12-08 | 2001-12-04 | Substrate transporting apparatus and method |
| TW090129944A TWI288426B (en) | 2000-12-08 | 2001-12-04 | Substrate-transporting device and method |
| SG200107589A SG107570A1 (en) | 2000-12-08 | 2001-12-06 | Substrate feeding device and method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000373954A JP3756402B2 (en) | 2000-12-08 | 2000-12-08 | Substrate transfer apparatus and method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002176091A JP2002176091A (en) | 2002-06-21 |
| JP3756402B2 true JP3756402B2 (en) | 2006-03-15 |
Family
ID=18843238
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000373954A Expired - Fee Related JP3756402B2 (en) | 2000-12-08 | 2000-12-08 | Substrate transfer apparatus and method |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3756402B2 (en) |
| KR (1) | KR100822328B1 (en) |
| SG (1) | SG107570A1 (en) |
| TW (1) | TWI288426B (en) |
Families Citing this family (32)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100596050B1 (en) * | 2002-10-31 | 2006-07-03 | 삼성코닝정밀유리 주식회사 | Glass Board Transfer System |
| KR100596054B1 (en) * | 2002-10-31 | 2006-07-03 | 삼성코닝정밀유리 주식회사 | Glass Substrate Inspection System |
| JP2004244141A (en) * | 2003-02-12 | 2004-09-02 | Kawasaki Heavy Ind Ltd | Robot system |
| TWI327985B (en) | 2003-04-14 | 2010-08-01 | Daifuku Kk | Apparatus for transporting plate-shaped work piece |
| JP2005047675A (en) * | 2003-07-29 | 2005-02-24 | Daifuku Co Ltd | Carrying device |
| TWI295659B (en) | 2003-08-29 | 2008-04-11 | Daifuku Kk | Transporting apparatus |
| JP4497972B2 (en) * | 2004-03-23 | 2010-07-07 | 株式会社オーク製作所 | Substrate transport mechanism of drawing apparatus |
| JP4608954B2 (en) * | 2004-06-09 | 2011-01-12 | 株式会社Ihi | Transport device |
| JP4774243B2 (en) * | 2004-07-06 | 2011-09-14 | 富士フイルム株式会社 | Photosensitive laminate manufacturing apparatus and manufacturing method |
| JP4881585B2 (en) * | 2004-07-06 | 2012-02-22 | 富士フイルム株式会社 | Photosensitive laminate manufacturing apparatus and manufacturing method |
| JP2006245110A (en) * | 2005-03-01 | 2006-09-14 | Tokyo Electron Ltd | Thermal processing equipment |
| JP4497005B2 (en) * | 2005-03-28 | 2010-07-07 | 株式会社ダイフク | Conversion equipment |
| JP2007091397A (en) * | 2005-09-28 | 2007-04-12 | Shinko Electric Ind Co Ltd | Substrate transfer device |
| JP2007250871A (en) * | 2006-03-16 | 2007-09-27 | Olympus Corp | Substrate transport apparatus |
| KR100834734B1 (en) * | 2006-04-06 | 2008-06-05 | 주식회사 에스에프에이 | Board Feeder |
| JP5095166B2 (en) * | 2006-09-15 | 2012-12-12 | 日清紡ホールディングス株式会社 | Method and apparatus for laminating solar cell module by preheating |
| JP4753313B2 (en) * | 2006-12-27 | 2011-08-24 | 東京エレクトロン株式会社 | Substrate processing equipment |
| JP4987656B2 (en) * | 2007-09-28 | 2012-07-25 | 富士フイルム株式会社 | Photosensitive laminate manufacturing apparatus and manufacturing method |
| KR100978852B1 (en) * | 2008-06-12 | 2010-08-31 | 세메스 주식회사 | Substrate conveying apparatus, method and apparatus for manufacturing substrate having the apparatus |
| JP5167999B2 (en) * | 2008-07-16 | 2013-03-21 | 株式会社Ihi | Substrate transfer system and substrate transfer method |
| KR101296659B1 (en) * | 2008-11-14 | 2013-08-14 | 엘지디스플레이 주식회사 | Washing device |
| KR101215792B1 (en) * | 2009-01-16 | 2012-12-26 | 도판 인사츠 가부시키가이샤 | Color filter production line, line control system, and line control method |
| KR101691879B1 (en) * | 2010-09-01 | 2017-01-02 | 엘지디스플레이 주식회사 | Substrate supporting apparatus |
| JP5635378B2 (en) * | 2010-11-30 | 2014-12-03 | 日東電工株式会社 | Semiconductor wafer transfer method and semiconductor wafer transfer apparatus |
| NL2007114C2 (en) * | 2011-07-14 | 2013-01-15 | Levitech B V | Floating substrate monitoring and control device, and method for the same. |
| CN102530536B (en) * | 2011-11-21 | 2013-12-18 | 杭州长川科技有限公司 | Collector for integrated circuit (IC) |
| KR101707929B1 (en) * | 2012-10-04 | 2017-02-17 | 히라따기꼬오 가부시키가이샤 | Transport system, and control method |
| KR101284665B1 (en) * | 2012-12-11 | 2013-07-10 | 주식회사 쓰리디플러스 | Carrying apparatus for substrate |
| JP3183651U (en) * | 2013-03-13 | 2013-05-30 | 揚博科技股▲ふん▼有限公司 | Full flat circuit board processing and transportation equipment |
| KR102147687B1 (en) * | 2013-08-13 | 2020-08-27 | 세메스 주식회사 | Substrate treating apparatus and transporting method |
| CN110937793B (en) * | 2019-12-25 | 2022-08-02 | 中国建材国际工程集团有限公司 | Glass dynamic grouping control system and method for float glass production line |
| CN118824914B (en) * | 2024-06-21 | 2025-05-09 | 扬州鹏飞能源科技有限公司 | Monocrystalline silicon wafer inserting device with connecting piece detection function and inserting method |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0617168B2 (en) * | 1981-05-08 | 1994-03-09 | エ−・ツェ−・ハ−・ウイル・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング | Sheet layer transport device |
| JPS599168A (en) * | 1982-07-09 | 1984-01-18 | Ulvac Corp | Control device for continuous vacuum treatment device |
| CA1261368A (en) * | 1985-10-28 | 1989-09-26 | Donald C. Crawford | Computer controlled non-contact feeder |
| JP3330441B2 (en) * | 1993-12-24 | 2002-09-30 | 川崎製鉄株式会社 | Steel sheet transfer control method |
| JPH09124147A (en) * | 1995-10-31 | 1997-05-13 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Substrate transfer device |
| JP3711189B2 (en) * | 1997-05-23 | 2005-10-26 | 大日本スクリーン製造株式会社 | Substrate transfer device |
| TW385488B (en) * | 1997-08-15 | 2000-03-21 | Tokyo Electron Ltd | substrate processing device |
| JP3988805B2 (en) * | 1997-10-02 | 2007-10-10 | 大日本スクリーン製造株式会社 | Substrate transfer method and apparatus |
| JP3300697B2 (en) * | 2000-02-15 | 2002-07-08 | 南機械株式会社 | Veneer feeding device |
-
2000
- 2000-12-08 JP JP2000373954A patent/JP3756402B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2001
- 2001-12-04 TW TW090129944A patent/TWI288426B/en not_active IP Right Cessation
- 2001-12-04 KR KR1020010076163A patent/KR100822328B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2001-12-06 SG SG200107589A patent/SG107570A1/en unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR100822328B1 (en) | 2008-04-16 |
| KR20020046160A (en) | 2002-06-20 |
| JP2002176091A (en) | 2002-06-21 |
| TWI288426B (en) | 2007-10-11 |
| SG107570A1 (en) | 2004-12-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3756402B2 (en) | Substrate transfer apparatus and method | |
| TW594382B (en) | Transfer device and method for a photo-sensing layer | |
| KR100420390B1 (en) | Device and method for lamination | |
| WO2007139090A1 (en) | Stripping method and stripper of outer layer body | |
| JP3851077B2 (en) | Substrate air levitation transfer device and substrate transfer method using the same | |
| TWI273627B (en) | Photosensitive resin transfer printing equipment and methods | |
| JPS5955749A (en) | Decalcomania method for floor tile | |
| JP2010131837A (en) | Laminating device and laminating method | |
| JP4741307B2 (en) | Heating apparatus and heating method | |
| TWI352662B (en) | Method of and apparatus for laminated substrate as | |
| JPH07157186A (en) | Continuous laminating machine | |
| TW200900225A (en) | Apparatus for and method of peeling photosensitive web | |
| JP4380966B2 (en) | Photosensitive layer transfer method and apparatus | |
| GB2605622A (en) | System for introducing a substrate into a nip | |
| JP2007084200A (en) | Laminate peeling apparatus and peeling method | |
| JP4698462B2 (en) | How to paste a long web | |
| JP3984692B2 (en) | Substrate width reversing device | |
| TW200922788A (en) | System for manufacturing a photosensitive laminated body | |
| CN101272911A (en) | Apparatus and method for manufacturing photosensitive laminate | |
| TW200922787A (en) | Heating apparatus | |
| CN100582036C (en) | Heating equipment and heating method | |
| JP2007145497A (en) | Lamination body peeling method and peeling apparatus | |
| JP2876863B2 (en) | Gloss processing device | |
| JP2007007985A (en) | Laminate sticking device and its method | |
| JP2003285370A (en) | Laminating apparatus and laminating method |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20051012 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051116 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20051214 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20051221 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090106 Year of fee payment: 3 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090106 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100106 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110106 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110106 Year of fee payment: 5 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110106 Year of fee payment: 5 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120106 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120106 Year of fee payment: 6 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120106 Year of fee payment: 6 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120106 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130106 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130106 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140106 Year of fee payment: 8 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |