JP3777342B2 - Cleaning nozzle - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、フラットパネルディスプレイ、半導体関連部品、及び光関連部品などの精密部品の洗浄に極めて好適な洗浄ノズルに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
フラットパネルディスプレイ、半導体関連部品、及び光関連部品等の精密部品の洗浄では、微細な塵、パーティクル等を十分に除去することが必要となる。例えば、フラットパネルディスプレイ、半導体関連部品においては、近年、高集積化、高密度化が進み、これらの精密部品の洗浄はサブミクロン程度の微粒子を除去対象とするようになっている。また、このような精密部品の洗浄では、微細なパターン等を有する精密部品の表面に損傷を与えないことも要求される。このため、高圧洗浄ノズルを用いて洗浄液と気体を混合することにより、洗浄液が微細な粒子になり、この微粒子化した洗浄液を被洗浄物に噴射することにより洗浄したり、ブラシを使って表面をこすることにより洗浄することが行われている。
【0003】
図5は、このような洗浄に用いられる洗浄ノズルの一例を示した説明図である。この洗浄ノズル50では、その内部に洗浄液と気体を混合する混合室2が設けられている。混合室2には、洗浄液供給口3と気体供給口5および洗浄液噴出口6が設けられている。洗浄時には、洗浄液供給口3から溶剤、洗剤、純水等の洗浄液が供給され、気体供給口5からは圧搾空気等の気体が供給される。気体の供給圧により混合室2の内部で洗浄液と気体とが混ざり、微粒子化する。そして、微粒子化した洗浄液を洗浄液噴出口6から洗浄対象に噴射することにより、洗浄対象物を洗浄する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、このような洗浄ノズルは近年の高集積化した精密部品を洗浄するには欠点があった。すなわち、このような洗浄ノズルは、洗浄液を微粒子化して噴射する動力の大部分を液体または気体の供給圧に依存している。そのため、洗浄液を十分に微細なサイズに微粒子化して、必要な噴出圧で噴出させるためには、液体または気体の供給圧力を非常に高くする必要があった。そのため、80kg以上の高圧ポンプ等を必要とし、洗浄作業の高コスト化を招く場合があった。
【0005】
また、前述のような洗浄ノズルでは、噴射される洗浄液の微粒子のサイズが大きく、微粒子の密度も不十分であり、さらに噴射される洗浄液の微粒子にムラがあるという欠点があった。そのため、近年の高集積化した精密部品を洗浄した場合には、微細なパターンに付着したサブミクロン程度のサイズの塵やパーティクルを完全に除去しきれず、必要とされる洗浄効果が得られないことがあった。また、十分な洗浄効果を得ようとして、気体の供給圧を一層大きくした場合には、精密部品の微細なパターンに損傷を与える場合があった。また、気体の供給圧を高くすると、必要以上に洗浄液を浪費してしまい、洗浄コストを悪化させてしまう。
【0006】
またノズル以外にブラシを使って表面を洗浄してもバラツキがあり、ブラシの中に微粒子の残滓が残り表面を傷つけたりしてしまう。低周波の超音波はミクロン以上の汚物を、高周波ではサブミクロンの汚物を除去するが、洗浄物に損傷を与えたり、超音波発振器、振動子が損傷したり、それによりコスト高になる等の欠点がある。
【0007】
本発明の目的は、上記従来の洗浄ノズルが持つ欠点を改善して、噴射される洗浄液に含まれる気体微粒子のサイズが小さく、多量であり、均一とすることができる洗浄ノズルを提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するための本発明は、洗浄ノズルであって、少なくとも洗浄液供給口と液体放出口を有する攪拌室と、該攪拌室と前記液体放出口により連通し、気体供給口と洗浄液噴出口を有する混合室を具備し、前記攪拌室は、前記洗浄液供給口から供給される洗浄液を攪拌して攪拌室内壁に衝突させることにより気体微粒子を生成して気体微粒子を含む液を前記液体放出口から放出し、前記混合室は、前記液体放出口から供給される気体微粒子を含む液と気体供給口から供給される気体を混合して前記洗浄液噴出口から洗浄液を噴出するものであることを特徴とする洗浄ノズルである。
【0009】
このように、洗浄液を攪拌して気体微粒子を生成する攪拌室を備えていることにより、従来の洗浄ノズルよりも気体の供給圧力を低めたとしても、洗浄液中の気体を十分に微細なサイズまで微粒子化して、必要とされる噴射圧で被洗浄物に供給することができるものとなる。また、最初に洗浄液中の気体を攪拌室で微粒子化するため、生成される洗浄液の気体微粒子は、従来よりも微細なサイズで高密度かつ均一なものとなり、洗浄効果も向上する。従って、微細な精密パターンを有する部品、デバイス等も、極めて均一かつ高精度に洗浄できるものとなる。さらに、洗浄液中の気体微粒子は従来よりも微細なサイズとなるため、精密部品の表面に損傷を与えることもないし、必要以上に洗浄液を浪費することもない。
【0010】
この場合、前記攪拌室は開口を有する隔壁により複数段に分割されているものであることが好ましい。
このように、攪拌室が複数段に分割されていることにより、洗浄液中の気体を微粒子化する効率が一層向上し、さらに噴出口で微小なサイズの気体微粒子を含んだ洗浄液を被洗浄物に噴射することができる。
【0011】
この場合、前記洗浄液噴出口および液体放出口ならびに開口はスリット形状であることが好ましい。
このように、前記洗浄液噴出口および液体放出口ならびに開口がスリット形状であれば、洗浄液は洗浄液噴出口からムラなく噴出することになり、同時に広範囲をムラなく洗浄することが可能となる。そのため、フラットパネルディスプレイ等の基板状の被洗浄物の洗浄に特に適したものとなる。
【0012】
この場合、前記洗浄液噴出口および液体放出口ならびに開口は、前記攪拌室の上流段から混合室の洗浄液噴出口に至るにつれて小面積とされているものであることが好ましい。
このように、微粒子化した洗浄液が通過する口を上流側から下流側へ、すなわち攪拌室の上流段から混合室の洗浄液噴出口に至るにつれて小面積とすることにより、微小な気体微粒子を効率良く生成し、十分な吐出圧で洗浄液を被洗浄物に供給することができるものとなる。
【0013】
前記混合室は複数の気体供給口を有し、該気体供給口から供給される複数種類の気体と、前記液体放出口から供給される気体微粒子を含む液を混合して前記洗浄液噴出口から洗浄液を噴出するものとすることができる。
【0014】
このように、混合室に複数の気体供給口が設けられていることにより、複数種類の気体と気体微粒子を含む液を混合させることができ、洗浄目的に応じて、所望の混合気体を洗浄に用いることができる。
【0015】
また、この場合、前記混合室は単数または複数の固体供給口を有し、該固体供給口から供給される1種または複数種類の固体と、前記液体放出口から供給される気体微粒子を含む液を混合して前記洗浄液噴出口から洗浄液を噴出するものとすることができる。
【0016】
このように、混合室に固体供給口が設けられていることにより、目的に応じて、所望の固体を洗浄液に混合させることができる。そのため、例えば、合成樹脂製の微小粒状物、粉状物等を洗浄液中に混合させ、必要に応じて洗浄力を強化することもできる。なお、固体供給口は気体および気体による固体供給もすることができる。
【0017】
また、この場合、前記洗浄液供給口および気体供給口ならびに固体供給口は、各々脈動を与えられた洗浄液および気体ならびに固体を供給されるものとすることができる。
このように、洗浄液、気体および固体が脈動を与えられて供給されることにより、これらの脈動の相互作用を利用して洗浄効果を高めることができる。
【0018】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について実施の形態を図面を参照しながら説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
図1は、本発明の洗浄ノズルの一例を示した説明図である。この本発明の洗浄ノズル10の内部には、攪拌室1と混合室2の2室が設けられている。攪拌室1は、洗浄液供給口3とスリット形状の液体放出口4を有している。混合室2は気体供給口5とスリット形状の洗浄液噴出口6を有しており、攪拌室1とは液体放出口4により連通している。共にスリット形状の液体放出口4および洗浄液噴出口6は、液体放出口4よりも洗浄液噴出口6の方が小面積とされている。しかし、洗浄液噴出口6の方が液体放出口4よりも大面積とされる場合もある。
【0019】
本発明の洗浄ノズル10の特徴は、図5に示したような従来の洗浄ノズル50に設けられていた混合室2の他に、洗浄液を攪拌して気体微粒子化する攪拌室1が別途設けられていることにある。
【0020】
従来の洗浄ノズルでは、図5に示すように、混合室2において直接供給された洗浄液と気体とを混合していたため、混合室2内で生成される洗浄液中の気体微粒子のサイズは、気体供給口5から供給される気体の供給圧に依存しており、比較的サイズが大きく、ムラのある気体微粒子しか生成させることができなかった。そのため、要求を満たすほど微小化したサイズの気体微粒子を得るためには、気体供給圧を非常に大きくする必要があった。
【0021】
一方、本発明の洗浄ノズルでは、図1に示すように、まず攪拌室1において、洗浄液供給口3から供給される洗浄液を攪拌して攪拌室1内壁に衝突させることにより気体微粒子を生成する。洗浄液供給口3から例えば200L/min程度の流量で供給された洗浄液は、攪拌室1内で攪拌され、その内壁に衝突し散乱する。散乱した洗浄液は洗浄液中に溶存した気体および攪拌室1中に当初から存在した空気等と一緒に攪拌室1内で攪拌、混合され、気体微粒子が発生する。この気体微粒子を含む液は、スリット形状の液体放出口4から連通する混合室2に送られる。
【0022】
混合室2では、この気体微粒子を含む液を、気体供給口5から供給される気体と混合し、スリット形状である洗浄液噴出口6から気体と混合して洗浄液として噴出する。本発明の洗浄ノズル10においては、混合室の前段にある攪拌室1において、すでに洗浄液が気体微粒子化されている。そのため、従来の洗浄ノズルのように、専ら供給される気体の圧力のみにより洗浄液を微粒子化する必要はなく、供給する気体の圧力を過度に高くする必要がない。さらに、すでに気体微粒子を含んだ洗浄液を気体と混合して洗浄対象物に供給するため、洗浄液は均一に気体混合液体になり、その微粒子のサイズも従来よりも微細なものとすることができる。そのため、高い洗浄効率で洗浄でき、被洗浄物に損傷を与えることを防ぐことができる。また、供給する気体の圧力を小さくできるので、使用する洗浄液の流量も小さくすることが可能であり、洗浄コストの低減がはかれる。
【0023】
図1に示す洗浄ノズル10においては、気体供給口5は2つ設けられているが、同一種類の気体を供給しなければならないわけではなく、実際の使用目的に応じて、例えば、一方の気体供給口からは圧搾空気、もう一方の気体供給口からは他の気体(炭酸ガス)等を供給し、両者と液体放出口4から供給される気体微粒子を含む液とを混合して、洗浄液噴出口6から噴出させることもできる。また、供給される気体は混合気体(例えば空気と炭酸ガス等)とし、同じ供給口から供給することもできる。あるいは、他に別途気体供給口を設け、さらに複数種類の気体を供給して混合使用することもできる。
【0024】
洗浄液はスリット形状の洗浄液噴出口6から噴出され、被洗浄物に供給される。洗浄液噴出口6は、スリット形状を有するため、フラットパネルディスプレイ、半導体関連部品などの中で基板形状の物を洗浄する場合であっても、広範囲を均一に洗浄することができる。被洗浄物に洗浄液が達すると、気体微粒子を含んだ洗浄液中の気体は被洗浄物表面で圧潰し、同時に微弱な超音波を発生し、表面に付着したパーティクル、汚物を効率よく除去することができ、精密なパターンがあってもそれに損傷を与えることがない。
【0025】
図2は、本発明の洗浄ノズルの別の態様を示した図である。この態様では、攪拌室1が開口8を有する隔壁7により複数段に分割されている。洗浄液噴出口6および液体放出口4は、図1の洗浄ノズル10と同様にスリット形状とされており、開口8も同様にスリット形状とされている。また、開口8、液体放出口4、洗浄液噴出口6は、攪拌室1の最下段(上流段)から混合室2の洗浄液噴出口6に至るにつれて小面積とするのが好ましい。
【0026】
この洗浄ノズル20により洗浄を行う際には、まず、隔壁7により分割された攪拌室1の下段側に洗浄液供給口3から洗浄液が供給され、図1の洗浄ノズルと同様に、洗浄液は攪拌され下段側の攪拌室1内壁に衝突することにより気体微粒子が生成される。この気体微粒子を含む液は隔壁7の開口8より攪拌室1の上段側に移り、ここでも、下段側と同様に攪拌、衝突を繰り返す。この攪拌室1の上段側では、すでに下段側で気体微粒子を含む洗浄液を、さらに攪拌、衝突させるため、より微細な粒子となった洗浄液が得られる。このより微細な気体微粒子を含む液は開口8よりも小さいスリット形状の液体放出口4から放出され、混合室2内で気体と混合され、被洗浄物に向けて噴出される。
【0027】
なお、この図2の態様では、攪拌室1は1つの隔壁7により2段に分割されているが、隔壁7を複数設けることにより、攪拌室をさらに多段に分割することもできる。この場合でも、開口8は下段から上段に至るにしたがって小面積とされていることが好ましく、洗浄液を効率良く気体微粒子と混合して噴出することが出来る。
【0028】
図3は、本発明の洗浄ノズルのさらに別の態様を示した説明図である。この態様では、混合室2に固体供給口9が設けられている。そして洗浄時には、この固体供給口9から、被洗浄物の状態、洗浄目的等に応じて、混合室2内に粒状または粉状の固体等が供給される。このようにすることにより、例えば強力な洗浄を行いたい場合等に、洗浄液中に粉状合成樹脂等を混入し、洗浄力を強化することができる。あるいは、複数の気体供給口および固体供給口にそれぞれ別の気体や固体を供給し、混合して使用することもできる。尚、固体と気体はそれぞれ別個の供給口から供給しているが、予めこれらを混合し、これを混合室2に供給するようにしてもよい。
【0029】
なお、本発明の洗浄ノズルに供給する洗浄液、気体及び固体は、必ずしも定常圧で供給しなければならないものではない。例えば、洗浄液を間欠ポンプ等を使用して脈動を与えながら供給し、気体供給口より供給する気体にも脈動を与えながら供給することにより、これらの脈動の相互作用を利用して洗浄効果を高めることができる。
【0030】
図4は、本発明の洗浄ノズルの別の一例を示した説明図である。この態様では、混合室2内部に攪拌室1が設けられた構造となっている。この洗浄ノズル40では、前述の図1ないし図3の洗浄ノズルと同様に、洗浄液供給口3から混合室2内の攪拌室1に供給された洗浄液は、攪拌室1内で気体微粒子を含んだ液となり、この気体微粒子を含む液はノズル状の液体放出口4から混合室2に放出され、気体供給口5から供給された気体と混合されて、洗浄液噴出口6から噴出されるようにされている。
【0031】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
例えば、上記では、洗浄液噴出口、液体放出口、開口は、スリット形状のものを中心に説明したが、本発明はこれには限定されず、丸や角等の穴口形状であってもよい。また図面では噴出口が上を向いた例を中心に記載しているが、これらの使用形態は、もちろん噴出口が下や横を向いていてもよく、任意である。
【0032】
【発明の効果】
以上詳細に説明した通り、本発明の洗浄ノズルによれば、従来と同じ気体供給量であっても、最終的な洗浄液の噴出圧を高めることができる。また、洗浄液は従来より微小なサイズの均一な気体微粒子を含むものとなるため、近年の微細なパターンを有するフラットパネルディスプレイ関連部品、半導体関連部品等を極めて均一に効率良く洗浄することができる。さらに、使用洗浄液量を減少させることも可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の洗浄ノズルの一例を示した説明図である。(A)横断面 (B)縦断面
【図2】 本発明の洗浄ノズルの別の一例を示した説明図である。(A)横断面 (B)縦断面
【図3】 本発明の洗浄ノズルの別の一例(縦断面)を示した説明図である。
【図4】本発明の洗浄ノズルの別の一例を示した説明図である。
【図5】従来の洗浄ノズルの一例を示した説明図である。
【符号の説明】
1…攪拌室、 2…混合室、 3…洗浄液供給口、 4…液体放出口、
5…気体供給口、 6…洗浄液噴出口、 7…隔壁、 8…開口、
9…固体供給口、
10、20、30、40、50…洗浄ノズル。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a cleaning nozzle that is extremely suitable for cleaning precision parts such as flat panel displays, semiconductor-related parts, and light-related parts.
[0002]
[Prior art]
In cleaning precision parts such as flat panel displays, semiconductor-related parts, and light-related parts, it is necessary to sufficiently remove fine dust, particles, and the like. For example, in recent years, flat panel displays and semiconductor-related parts have been highly integrated and highly densified, and cleaning of these precision parts is targeted for removal of sub-micron particles. Further, in such cleaning of precision parts, it is also required that the surface of the precision part having a fine pattern or the like is not damaged. For this reason, by mixing the cleaning liquid and gas using a high-pressure cleaning nozzle, the cleaning liquid becomes fine particles, and the finely cleaned cleaning liquid is sprayed onto the object to be cleaned, or the surface is cleaned using a brush. Cleaning is performed by rubbing.
[0003]
FIG. 5 is an explanatory view showing an example of a cleaning nozzle used for such cleaning. The
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
However, such a cleaning nozzle has a drawback in cleaning recent highly integrated precision parts. In other words, such a cleaning nozzle relies on the supply pressure of the liquid or gas for the most part of the power for atomizing the cleaning liquid and spraying it. Therefore, in order to atomize the cleaning liquid into a sufficiently fine size and eject it with a necessary ejection pressure, it has been necessary to increase the supply pressure of the liquid or gas. For this reason, a high-pressure pump of 80 kg or more is required, which may increase the cost of the cleaning work.
[0005]
Further, the cleaning nozzle as described above has a drawback that the size of the fine particles of the cleaning liquid to be ejected is large, the density of the fine particles is insufficient, and the fine particles of the cleaning liquid to be ejected are uneven. Therefore, when cleaning highly-integrated precision parts in recent years, dust and particles of submicron size adhering to fine patterns cannot be completely removed, and the required cleaning effect cannot be obtained. was there. Further, if the gas supply pressure is further increased in order to obtain a sufficient cleaning effect, the fine pattern of the precision component may be damaged. Further, when the gas supply pressure is increased, the cleaning liquid is wasted more than necessary, and the cleaning cost is deteriorated.
[0006]
Moreover, even if the surface is cleaned with a brush other than the nozzle, there is variation, and the residue of fine particles remains in the brush and damages the surface. Low-frequency ultrasound removes micron-sized dirt and high-frequency sub-micron dirt. However, damage to the washed product, damage to the ultrasonic oscillator and transducer, and higher costs There are drawbacks.
[0007]
An object of the present invention is to provide a cleaning nozzle that can improve the drawbacks of the conventional cleaning nozzle and can make the gas fine particles contained in the sprayed cleaning liquid small, large in quantity, and uniform. is there.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
The present invention for solving the above-mentioned problems is a cleaning nozzle, comprising at least a stirring chamber having a cleaning liquid supply port and a liquid discharge port, and the stirring chamber and the liquid discharge port communicating with each other. The mixing chamber has a mixing chamber, and the stirring chamber stirs the cleaning liquid supplied from the cleaning liquid supply port and collides with the wall of the stirring chamber, thereby generating gas fine particles and supplying the liquid containing the gas fine particles to the liquid discharge port. And the mixing chamber mixes the liquid containing gas fine particles supplied from the liquid discharge port and the gas supplied from the gas supply port, and jets the cleaning liquid from the cleaning liquid outlet. This is a cleaning nozzle .
[0009]
As described above, by providing a stirring chamber that stirs the cleaning liquid to generate gas fine particles, even if the gas supply pressure is lower than that of the conventional cleaning nozzle, the gas in the cleaning liquid is sufficiently finely sized. Fine particles can be supplied to the object to be cleaned with a required jet pressure. Further, since the gas in the cleaning liquid is first atomized in the stirring chamber, the generated gas fine particles of the cleaning liquid have a finer size and higher density than before, and the cleaning effect is improved. Therefore, parts, devices, and the like having fine precision patterns can be cleaned extremely uniformly and with high accuracy. Further, since the fine gas particles in the cleaning liquid have a finer size than before, the surface of the precision component is not damaged, and the cleaning liquid is not wasted more than necessary.
[0010]
In this case, the stirring chamber is preferably divided into a plurality of stages by a partition having an opening .
As described above, since the stirring chamber is divided into a plurality of stages, the efficiency of atomizing the gas in the cleaning liquid is further improved, and further, the cleaning liquid containing fine gas fine particles at the jet nozzle is added to the object to be cleaned. Can be injected.
[0011]
In this case, it is preferable that the cleaning liquid ejection port, the liquid discharge port, and the opening have a slit shape .
As described above, if the cleaning liquid ejection port, the liquid discharge port, and the opening are slit-shaped, the cleaning liquid is ejected from the cleaning liquid ejection port without unevenness, and at the same time, it is possible to clean a wide area without unevenness. Therefore, it is particularly suitable for cleaning a substrate-like object to be cleaned such as a flat panel display.
[0012]
In this case, it is preferable that the cleaning liquid outlet, the liquid discharge outlet, and the opening have a smaller area from the upstream stage of the stirring chamber to the cleaning liquid outlet of the mixing chamber .
In this way, by making the area through which the finely divided cleaning liquid passes from the upstream side to the downstream side, that is, from the upstream stage of the stirring chamber to the cleaning liquid outlet of the mixing chamber, the fine gas fine particles can be efficiently collected. Thus, the cleaning liquid can be supplied to the object to be cleaned with a sufficient discharge pressure.
[0013]
The mixing chamber has a plurality of gas supply ports, and a plurality of kinds of gases supplied from the gas supply ports are mixed with a liquid containing gas fine particles supplied from the liquid discharge port, and the cleaning liquid is discharged from the cleaning liquid outlet. Can be ejected .
[0014]
Thus, by providing a plurality of gas supply ports in the mixing chamber, it is possible to mix a plurality of types of gases and liquids containing gas fine particles, and to wash a desired mixed gas according to the cleaning purpose. Can be used.
[0015]
In this case, the mixing chamber has a single or a plurality of solid supply ports, and includes one or more types of solids supplied from the solid supply ports and gas fine particles supplied from the liquid discharge ports. The cleaning liquid can be ejected from the cleaning liquid outlet .
[0016]
Thus, by providing the solid supply port in the mixing chamber, a desired solid can be mixed with the cleaning liquid according to the purpose. Therefore, for example, it is possible to mix fine particles, powders, and the like made of synthetic resin in the cleaning liquid and enhance the cleaning power as necessary. Note that the solid supply port can also supply gas and solid by gas.
[0017]
In this case, the cleaning liquid supply port, the gas supply port, and the solid supply port may be supplied with pulsated cleaning liquid, gas, and solid, respectively .
As described above, the cleaning liquid, the gas and the solid are supplied with pulsation, whereby the cleaning effect can be enhanced by utilizing the interaction of these pulsations.
[0018]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings, but the present invention is not limited thereto.
FIG. 1 is an explanatory view showing an example of the cleaning nozzle of the present invention. Two chambers, a stirring chamber 1 and a mixing
[0019]
A feature of the cleaning
[0020]
In the conventional cleaning nozzle, as shown in FIG. 5, since the cleaning liquid directly supplied in the mixing
[0021]
On the other hand, in the cleaning nozzle of the present invention, as shown in FIG. 1, first, in the stirring chamber 1, the cleaning liquid supplied from the cleaning
[0022]
In the mixing
[0023]
In the cleaning
[0024]
The cleaning liquid is ejected from the slit-shaped cleaning liquid outlet 6 and supplied to the object to be cleaned. Since the cleaning liquid outlet 6 has a slit shape, a wide area can be uniformly cleaned even when a substrate-shaped object is cleaned in a flat panel display, a semiconductor-related component, or the like. When the cleaning liquid reaches the object to be cleaned, the gas in the cleaning liquid containing the gas fine particles is crushed on the surface of the object to be cleaned, and at the same time, a weak ultrasonic wave is generated to efficiently remove particles and dirt attached to the surface. Yes, even if there is a precise pattern, it will not be damaged.
[0025]
FIG. 2 is a view showing another embodiment of the cleaning nozzle of the present invention. In this embodiment, the stirring chamber 1 is divided into a plurality of stages by the partition wall 7 having the
[0026]
When cleaning is performed by the cleaning
[0027]
In the embodiment of FIG. 2, the stirring chamber 1 is divided into two stages by one partition wall 7. However, by providing a plurality of partition walls 7, the stirring chamber can be further divided into multiple stages. Even in this case, it is preferable that the
[0028]
FIG. 3 is an explanatory view showing still another aspect of the cleaning nozzle of the present invention. In this embodiment, a solid supply port 9 is provided in the mixing
[0029]
Note that the cleaning liquid, gas, and solid supplied to the cleaning nozzle of the present invention do not necessarily have to be supplied at a steady pressure. For example, the cleaning liquid is supplied with pulsation using an intermittent pump or the like, and the gas supplied from the gas supply port is supplied with pulsation to enhance the cleaning effect by utilizing the interaction of these pulsations. be able to.
[0030]
FIG. 4 is an explanatory view showing another example of the cleaning nozzle of the present invention. In this embodiment, the stirring chamber 1 is provided inside the mixing
[0031]
In addition, this invention is not limited to the said embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has any configuration that has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention and that exhibits the same effects. Are included in the technical scope.
For example, in the above description, the cleaning liquid ejection port, the liquid discharge port, and the opening have been described mainly with a slit shape, but the present invention is not limited to this, and may be a hole shape such as a circle or a corner. In the drawings, the example in which the jet outlet faces upward is mainly described. However, these usage forms may be arbitrary because the jet outlet may face downward or sideward.
[0032]
【The invention's effect】
As described above in detail, according to the cleaning nozzle of the present invention, it is possible to increase the final spray pressure of the cleaning liquid even with the same gas supply amount as in the past. In addition, since the cleaning liquid contains fine gas particles having a uniform size compared to the prior art, flat panel display-related parts and semiconductor-related parts having a fine pattern in recent years can be cleaned extremely uniformly and efficiently. Furthermore, it is possible to reduce the amount of cleaning liquid used.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is an explanatory view showing an example of a cleaning nozzle of the present invention. (A) Cross section (B) Vertical section [FIG. 2] It is explanatory drawing which showed another example of the washing nozzle of this invention. (A) Cross section (B) Vertical section FIG. 3 is an explanatory view showing another example (longitudinal section) of the cleaning nozzle of the present invention.
FIG. 4 is an explanatory view showing another example of the cleaning nozzle of the present invention.
FIG. 5 is an explanatory view showing an example of a conventional cleaning nozzle.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Stirring chamber, 2 ... Mixing chamber, 3 ... Cleaning liquid supply port, 4 ... Liquid discharge port,
5 ... Gas supply port, 6 ... Cleaning liquid spout, 7 ... Partition, 8 ... Opening,
9: Solid supply port,
10, 20, 30, 40, 50 ... Cleaning nozzles.
Claims (7)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002246803A JP3777342B2 (en) | 2001-10-15 | 2002-08-27 | Cleaning nozzle |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001316362 | 2001-10-15 | ||
| JP2001-316362 | 2001-10-15 | ||
| JP2002246803A JP3777342B2 (en) | 2001-10-15 | 2002-08-27 | Cleaning nozzle |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003190845A JP2003190845A (en) | 2003-07-08 |
| JP3777342B2 true JP3777342B2 (en) | 2006-05-24 |
Family
ID=27615414
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002246803A Expired - Fee Related JP3777342B2 (en) | 2001-10-15 | 2002-08-27 | Cleaning nozzle |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3777342B2 (en) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006024046A (en) * | 2004-07-09 | 2006-01-26 | Casio Comput Co Ltd | Data holding device and data transfer method |
| JP2007245029A (en) * | 2006-03-16 | 2007-09-27 | Shimada Phys & Chem Ind Co Ltd | Substrate cleaning device |
| KR20160021535A (en) | 2014-08-18 | 2016-02-26 | 박종하 | Cleaning Apparatus Using Liquid Mixed with Gas |
| EP4142946A4 (en) * | 2020-05-01 | 2024-04-24 | Agilent Technologies, Inc. | PIPETTE TIP WASHING EQUIPMENT AND METHODS |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11226458A (en) * | 1998-02-18 | 1999-08-24 | Gunze Ltd | Parts for air-liquid jet cleaning and automatic cleaner |
| JP2000153247A (en) * | 1998-09-18 | 2000-06-06 | Shibuya Kogyo Co Ltd | Cleaning stripping method and device therefor |
-
2002
- 2002-08-27 JP JP2002246803A patent/JP3777342B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2003190845A (en) | 2003-07-08 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20051017 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20051025 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051219 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060221 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060227 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |