JP3784483B2 - Semiconductor laser and its TE / TM polarization mode switching method - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体レーザー及びそのTE・TMスイッチング方法に係り、特に、半導体レーザー素子とマウント材との熱膨張特性の違いを利用した半導体レーザーのTE・TM偏光モードのスイッチング方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
半導体レーザー光は、その導波路構造から活性層と水平方向に電界成分を持つTEモード波と、磁界成分を持つTMモード波のどちらかに偏光している。
【0003】
一般の半導体レーザーでは、発光遷移の生じるバンド間構造と導波路及び反射面における損失等からTEモードに偏光したレーザー光が得られる。
【0004】
しかし、活性層に2次元的な引っ張り歪みが生じた場合に限り、発光遷移の生じるバンド構造変化によって、TMモード偏波成分が強くなる。
【0005】
このような技術に関する関連文献として、例えば、
〔参考文献1:H.Tanaka:“780 nm BAND TM−MODE LASER OPERATION OF GaAsP/AlGaAs TENSILE−STRAINED QUANTUM−WELL LASERS”,ELECTRONICS LETTERS 1993,Vol.29,No.18,pp1611−1613〕
〔参考文献2:K.Magari,M.Okamoto,H.Yasaka,K.Sato,Y.Noguchi and O.Mikami:“Polarization Insensitive Traveling Wave Type Amplifier Using Strained Multiple Quantum Well Structure”,IEEE Photonics Technology.Letters.,1990,Vol2,No.8,pp556−558〕を挙げることができる。
【0006】
単体のレーザー光の偏光モードを制御することができれば、レーザー光を偏光光学素子等により、TE・TM偏波光の2つの偏光成分に分けることによって、それぞれのモードで情報を伝えることができるため、単純に従来の2倍の情報量を単体のレーザーで伝えることが可能になる。
【0007】
さらに、単体レーザーでスイッチングできることから、装置の小型・単純化や、光インターコネクションへの応用が期待できる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、単体レーザーからのTE・TMモード偏光のスイッチングは、引っ張り歪量子井戸レーザーを使い、共振器長を変化させることにより得られることが報告されているのみである〔参考文献3:田中秀尚、嶋田純一:“GaAsP歪量子井戸レーザのTE/TMモード制御”応用物理学会講演予稿集、1992,No.3,pp957〕。
【0009】
本発明は、上記状況に鑑みてなされたものであり、半導体レーザー素子内でのTE・TM偏光のモード利得の切り替えを、半導体レーザー素子の歪み量の変化によって、容易に、しかも簡便に行うことができる半導体レーザー及びそのTE・TM偏光モードのスイッチング方法を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記目的を達成するために、
〔1〕半導体レーザーの組立時の、はんだ材の融点である接着温度から動作温度に降ろした時に生じる、マウント材と半導体レーザー素子のそれぞれの膨張係数の違いによる歪みを利用し、この半導体レーザー素子の活性層のバンド構造を変化させ、前記半導体レーザー素子内でのTE・TM偏光モード利得の切り替えを、前記半導体レーザー素子の歪み量の変化によって行い、TE偏光モードとTM偏光モードをスイッチングする半導体レーザーのTE・TM偏光モードのスイッチング方法であって、マウント材が半導体レーザー素子に及ぼす歪みを利用し、前記半導体レーザー素子の活性層のバンド構造を変化させ、前記半導体レーザー素子内でのTE・TM偏光モード利得の切り替えを、電流の注入量によって行うようにしたものである。
【0011】
〔2〕半導体レーザーにおいて、上記〔1〕記載の半導体レーザーのTE・TM偏光モードのスイッチング方法を施し得る半導体レーザー。
【0012】
このように構成したので、機械歪みにより制御された半導体レーザーのTE・TM偏光モードのスイッチングを行うことができる。すなわち、マウント材が半導体レーザー素子に及ぼす引っ張り歪みを利用することにより、半導体レーザー素子内での導波路及び反射面におけるTE・TM偏光モード利得の切り替えを、動作温度、マウントへの力の導入、注入電流量の変化によって行い、単体半導体レーザーによる、TE・TMモード発振のスイッチングを行うことができる。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面を参照しながら詳細に説明する。
【0014】
図1は本発明の実施例を示すリッジ型半導体レーザーの構成を示す断面図、図2はそのリッジ型半導体レーザーの素子のTE・TM偏光モードスイッチング時の電界方向成分の模式図である。
【0015】
この図において、1はヒートシンクマウント材、10はそのヒートシンクマウント材1上に搭載されるリッジ型半導体レーザー素子であり、このリッジ型半導体レーザー素子10はフェースダウンでヒートシンクマウント材1にマウントされる。つまり、リッジ型半導体レーザー素子10は、SiN絶縁膜11、p側Au電極12、p型GaAsキャップ層13、p型AlGaAsクラッド層14、GaAs活性層15、n型AlGaAsクラッド層16、n型GaAsバッファー層17、n型GaAs基板18、n側Au電極19より形成されている。
【0016】
ここでは、種々のGaAs活性層厚を持つリッジ型半導体レーザーの単一量子井戸レーザーをGaAsより熱膨張係数の小さいSiCマウント材料を用いて組み立てた。
【0017】
図3にこれらのレーザーの電流閾値の2倍の電流注入時におけるTEとTMモード偏光強度比の温度依存性を示す。
【0018】
活性層がバルクに近い200Åと600Åのレーザーでは、150K付近においてTEとTMモード比が逆転しており、発振光の偏光モードが入れ替わっている。
【0019】
これはマウント材であるSiCが半導体レーザーの主材料であるGaAsより小さな熱膨張係数を持つため、動作温度が下がるに従ってレーザーに強い引っ張り歪みが生じ、バンド構造が変化してTM偏光モードのレーザー発振が生じたためである。
【0020】
このような現象については、以下の文献にも開示されている。
〔参考文献4:T.Ikegami:“Reflectivity of Mode at Facet and Oscillation Mode in Double−Heterostructure Injection Lasers”,IEEE Journal of Quantum Electronics.1972,Vol.QE−8,No.6,pp470−476参照〕。
【0021】
また、60Åの活性層を持つレーザーにTE/TM比の逆転が生じていないのは、活性層が十分に量子化されライトホールとヘビーホールサブバンドの分離が大きかったため、引っ張り歪みが生じても偏光モードを変化させるような、バンド構造変化が生じなかったことを示している。
【0022】
このことは半導体レーザー素子の活性層のバンド構造が、マウント材によって生じる歪みによって変化していることを示しており、半導体素子構造とマウント材による歪み量を適切に設計してやることによって、TE/TM比の逆転が生じることを示している。なお、本実施例であるリッジ型半導体レーザー以外にも、電流狭窄型構造の半導体レーザーにおいても、TE/TM比の逆転が動作温度変化によって生じたことを確かめている。
【0023】
以上のように、レーザーとマウント材の熱膨張係数の違いを利用して、動作温度によりレーザーの歪み量を変化させれば、TEとTMモードの偏光スイッチングが可能である。
【0024】
次に、低温動作時のレーザーがそれぞれ引っ張り歪み、無歪み、圧縮歪みとなるSiC、GaAs、Cuマウント材を用いた時の、TE/TM強度比の温度依存性を図4に示す。
【0025】
なお、試料は200Å厚のGaAs活性層を持つリッジ型レーザーである。引っ張り歪みの生じるSiCでマウントしたレーザーのみでTE/TM強度比の逆転が生じ、GaAsやCuにマウントしたレーザーでは、TE/TM強度比の逆転が起こらず、TEモード発振が主に生じていることが分かる。
【0026】
このようにマウント材の収縮によってTEとTMモードの強度比が逆転することから、マウント材に外部から力を加え、レーザーの歪みを制御することによって、偏光モードのスイッチングが可能であることが分かる。
【0027】
図5は図4中のSiCにマウントしたレーザーの、TE/TM強度比が逆転する150K近傍における電流注入量に対するTE/TM強度比を表したものである。
【0028】
動作温度150Kにおいてレーザー光のTE・TM偏光モードの強度比が電流注入量を増加することによって逆転している。これは電流注入量によって、レーザー内のTE・TM偏波光に対する導波路と反射面における利得が逆転しているからである。このことは、マウント材を用いて、レーザー素子に適当な引っ張り歪みを生じさせ、二つの偏光モード利得がほぼ等しくなるレーザー動作条件下で、電流注入量を変化させることによって、レーザーのTE/TMモードのスイッチングが可能であることを示している。
【0029】
本発明により期待される産業への影響として、単一の半導体レーザーのTE・TMモードの偏光特性が制御することができれば、偏光モード成分による光通信情報量の増加や、それに伴う装置の小型化、あるいは光インターコネクションへの応用等の幅広い応用を期待することができる。
【0030】
なお、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能であり、これらを本発明の範囲から排除するものではない。
【0031】
【発明の効果】
以上、詳細に説明したように、本発明によれば、半導体レーザー素子内でのTE・TM偏光のモード利得の切り替えを、半導体レーザー素子の歪み量の変化によって、容易に、しかも簡便に行うことができる。
【0032】
このように、単一の半導体レーザーのTE・TMモードの偏光特性を制御することにより、偏光モード成分による光通信情報量の増加や、それに伴う装置の小型化、光インターコネクションへの応用を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施例を示すリッジ型半導体レーザーの構成を示す断面図である。
【図2】 本発明の実施例を示すリッジ型半導体レーザーの素子のTE・TM偏光モードスイッチング時の電界方向成分の模式図である。
【図3】 本発明の実施例を示すリッジ型半導体レーザーの電流閾値の2倍の電流注入時におけるTEとTMモード偏光強度比の温度依存性を示す図である。
【図4】 低温動作時のレーザーがそれぞれ引っ張り歪み、無歪み、圧縮歪みとなるSiC、GaAs、Cuマウント材を用いた時のTE/TM強度比の温度依存性を示す図である。
【図5】 図4中のSiCにマウントしたレーザーのTE/TM強度比が逆転する150K近傍における電流注入量に対するTE/TM強度比を表した図である。
【符号の説明】
1 ヒートシンクマウント材
10 リッジ型半導体レーザー素子
11 SiN絶縁膜
12 p側Au電極
13 p型GaAsキャップ層
14 p型AlGaAsクラッド層
15 GaAs活性層
16 n型AlGaAsクラッド層
17 n型GaAsバッファー層
18 n型GaAs基板
19 n側Au電極[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a semiconductor laser and a TE / TM switching method thereof, and more particularly, to a TE / TM polarization mode switching method of a semiconductor laser using a difference in thermal expansion characteristics between a semiconductor laser element and a mounting material.
[0002]
[Prior art]
The semiconductor laser light is polarized into either a TE mode wave having an electric field component in the horizontal direction and a TM mode wave having a magnetic field component from the waveguide structure.
[0003]
In a general semiconductor laser, a laser beam polarized in the TE mode can be obtained from an interband structure in which an emission transition occurs, a loss in a waveguide and a reflection surface, and the like.
[0004]
However, only when a two-dimensional tensile strain is generated in the active layer, the TM mode polarization component becomes strong due to the band structure change in which the light emission transition occurs.
[0005]
As related literature concerning such technology, for example,
[Reference 1: H. Tanaka: “780 nm BAND ™ -MODE LASER OPERATION OF GaAsP / AlGaAs TENSILE-STRAINED QUANTUM-WELL LASTERS”, ELECTRONICS LETTERS 1993, Vol. 29, no. 18, pp 1611-1613]
[Reference 2: K.K. Magari, M .; Okamoto, H .; Yasaka, K .; Sato, Y .; Noguchi and O. Mikami: “Polarization Instinctive Traveling Wave Type Amplifier Using Strained Multiple Quantum Well Structure”, IEEE Photonics Tech. Letters. , 1990, Vol2, No. 8, pp 556-558].
[0006]
If the polarization mode of a single laser beam can be controlled, information can be transmitted in each mode by dividing the laser beam into two polarization components of TE / TM polarized light by a polarizing optical element or the like. It is possible to simply convey twice the amount of information as before with a single laser.
[0007]
Furthermore, since it can be switched by a single laser, it can be expected to be small and simple and to be applied to optical interconnection.
[0008]
[Problems to be solved by the invention]
However, it has only been reported that switching of TE / TM mode polarization from a single laser can be obtained by using a tensile strained quantum well laser and changing the cavity length [Reference 3: Hidetaka Tanaka, Junichi Shimada: "TE / TM mode control of GaAsP strained quantum well laser", Proceedings of the Japan Society of Applied Physics, 1992, No. 3, pp957].
[0009]
The present invention has been made in view of the above situation, and the mode gain switching of TE / TM polarized light in a semiconductor laser element can be easily and easily performed by changing the distortion amount of the semiconductor laser element. It is an object of the present invention to provide a semiconductor laser that can perform the same and a TE / TM polarization mode switching method thereof.
[0010]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, the present invention provides
[ 1 ] This semiconductor laser element is obtained by utilizing the distortion caused by the difference in expansion coefficient between the mounting material and the semiconductor laser element, which is generated when the semiconductor laser is assembled and lowered from the bonding temperature, which is the melting point of the solder material, to the operating temperature. The semiconductor which switches the TE polarization mode and the TM polarization mode by changing the band structure of the active layer and switching the TE / TM polarization mode gain in the semiconductor laser element by changing the distortion amount of the semiconductor laser element A TE / TM polarization mode switching method of a laser, wherein the band structure of the active layer of the semiconductor laser element is changed by utilizing the strain exerted on the semiconductor laser element by the mounting material, and the TE · TM polarization mode gain is switched according to the amount of injected current. That.
[0011]
[ 2 ] A semiconductor laser that can be subjected to the TE / TM polarization mode switching method of the semiconductor laser according to [1].
[0012]
Since it comprised in this way, the TE * TM polarization mode switching of the semiconductor laser controlled by the mechanical strain can be performed. That is, by utilizing the tensile strain that the mounting material exerts on the semiconductor laser element, the switching of the TE / TM polarization mode gain in the waveguide and the reflecting surface in the semiconductor laser element, operating temperature, introduction of force to the mount, The TE / TM mode oscillation can be switched by a single semiconductor laser by changing the amount of injected current.
[0013]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
[0014]
FIG. 1 is a sectional view showing the structure of a ridge type semiconductor laser according to an embodiment of the present invention, and FIG.
[0015]
In this figure, 1 is a heat sink mount material, 10 is a ridge type semiconductor laser device mounted on the heat
[0016]
Here, a single quantum well laser of a ridge type semiconductor laser having various GaAs active layer thicknesses was assembled using a SiC mount material having a smaller thermal expansion coefficient than GaAs.
[0017]
FIG. 3 shows the temperature dependence of the TE and TM mode polarization intensity ratios at the time of current injection that is twice the current threshold of these lasers.
[0018]
In the 200 and 600 lasers whose active layer is close to the bulk, the TE and TM mode ratios are reversed around 150 K, and the polarization mode of the oscillation light is switched.
[0019]
This is because the mounting material, SiC, has a smaller coefficient of thermal expansion than GaAs, which is the main material of the semiconductor laser, and as the operating temperature decreases, the laser undergoes a strong tensile strain, and the band structure changes, causing laser oscillation in the TM polarization mode. This is because of this.
[0020]
Such a phenomenon is also disclosed in the following documents.
[Reference 4: T.W. Ikegami: “Reflectivity of Mode at Facet and Oscillation Mode in Double-Heterostructure Injection Lasers”, IEEE Journal of Quantum Electronics. 1972, Vol. QE-8, no. 6, pp 470-476].
[0021]
In addition, the TE / TM ratio inversion does not occur in the laser having an active layer of 60 mm because the active layer is sufficiently quantized and the separation between the light hole and heavy hole subbands is large. This shows that no band structure change that would change the polarization mode occurred.
[0022]
This indicates that the band structure of the active layer of the semiconductor laser element changes due to the strain caused by the mounting material. By appropriately designing the amount of strain due to the semiconductor element structure and the mounting material, TE / TM It shows that a ratio reversal occurs. In addition to the ridge type semiconductor laser of this example, it was confirmed that the TE / TM ratio inversion occurred due to the change of the operating temperature in the semiconductor laser having the current confinement type structure.
[0023]
As described above, TE and TM polarization switching can be performed by using the difference in thermal expansion coefficient between the laser and the mounting material to change the distortion amount of the laser according to the operating temperature.
[0024]
Next, FIG. 4 shows the temperature dependence of the TE / TM intensity ratio when using SiC, GaAs, and Cu mount materials in which the laser during low-temperature operation has tensile strain, no strain, and compressive strain, respectively.
[0025]
The sample is a ridge type laser having a 200 mm thick GaAs active layer. TE / TM intensity ratio reversal occurs only with a SiC-mounted laser that causes tensile strain, and TE mode oscillation occurs mainly in lasers mounted on GaAs or Cu without TE / TM intensity ratio reversal. I understand that.
[0026]
As described above, since the strength ratio between the TE mode and the TM mode is reversed due to the shrinkage of the mounting material, it is understood that the polarization mode can be switched by controlling the laser distortion by applying an external force to the mounting material. .
[0027]
FIG. 5 shows the TE / TM intensity ratio with respect to the current injection amount in the vicinity of 150 K where the TE / TM intensity ratio of the laser mounted on SiC in FIG. 4 is reversed.
[0028]
At an operating temperature of 150 K, the intensity ratio of the TE / TM polarization mode of the laser beam is reversed by increasing the current injection amount. This is because the gain in the waveguide and the reflecting surface for TE / TM polarized light in the laser is reversed depending on the amount of current injection. This is because the mounting material is used to generate an appropriate tensile strain in the laser element, and by changing the current injection amount under the laser operating conditions in which the two polarization mode gains are approximately equal, the TE / TM of the laser is changed. It shows that mode switching is possible.
[0029]
If the polarization characteristics of the TE / TM mode of a single semiconductor laser can be controlled as an industry impact expected by the present invention, an increase in the amount of optical communication information due to the polarization mode component and the accompanying downsizing of the device In addition, a wide range of applications such as application to optical interconnection can be expected.
[0030]
In addition, this invention is not limited to the said Example, A various deformation | transformation is possible based on the meaning of this invention, and these are not excluded from the scope of the present invention.
[0031]
【The invention's effect】
As described above in detail, according to the present invention, switching of the mode gain of TE / TM polarized light in the semiconductor laser element can be easily and simply performed by changing the distortion amount of the semiconductor laser element. Can do.
[0032]
In this way, by controlling the TE / TM mode polarization characteristics of a single semiconductor laser, an increase in the amount of optical communication information due to the polarization mode component, the accompanying miniaturization of the device, and application to optical interconnection are achieved. be able to.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a configuration of a ridge type semiconductor laser showing an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a schematic diagram of electric field direction components during TE / TM polarization mode switching of a ridge type semiconductor laser device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a diagram showing the temperature dependence of TE and TM mode polarization intensity ratios when a current injection of twice the current threshold of a ridge type semiconductor laser according to an embodiment of the present invention is injected.
FIG. 4 is a diagram showing the temperature dependence of the TE / TM intensity ratio when using SiC, GaAs, and Cu mount materials in which the laser during low-temperature operation has tensile strain, no strain, and compressive strain, respectively.
5 is a diagram showing the TE / TM intensity ratio with respect to the current injection amount in the vicinity of 150K where the TE / TM intensity ratio of the laser mounted on SiC in FIG. 4 is reversed. FIG.
[Explanation of symbols]
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