Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP3785458B2 - Transmission electron microscope and stereoscopic observation method - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP3785458B2 - Transmission electron microscope and stereoscopic observation method - Google Patents

Transmission electron microscope and stereoscopic observation method Download PDF

Info

Publication number
JP3785458B2
JP3785458B2 JP2002336392A JP2002336392A JP3785458B2 JP 3785458 B2 JP3785458 B2 JP 3785458B2 JP 2002336392 A JP2002336392 A JP 2002336392A JP 2002336392 A JP2002336392 A JP 2002336392A JP 3785458 B2 JP3785458 B2 JP 3785458B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electron beam
image
sample surface
irradiation source
predetermined portion
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP2002336392A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2004171922A (en
Inventor
敬義 丹司
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nagoya University NUC
Tokai National Higher Education and Research System NUC
Original Assignee
Nagoya University NUC
Tokai National Higher Education and Research System NUC
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nagoya University NUC, Tokai National Higher Education and Research System NUC filed Critical Nagoya University NUC
Priority to JP2002336392A priority Critical patent/JP3785458B2/en
Priority to US10/713,109 priority patent/US7012253B2/en
Priority to EP03257301A priority patent/EP1426998A2/en
Publication of JP2004171922A publication Critical patent/JP2004171922A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3785458B2 publication Critical patent/JP3785458B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/26Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/22Optical, image processing or photographic arrangements associated with the tube
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/15Means for deflecting or directing discharge
    • H01J2237/151Electrostatic means
    • H01J2237/1514Prisms
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/26Electron or ion microscopes
    • H01J2237/2611Stereoscopic measurements and/or imaging

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、透過型電子顕微鏡及び立体観察法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、透過型電子顕微鏡を用いた立体観察法としては、CT法及びステレオ法が広く使用されている。CT法は、一つの試料を0度から180度回転させるとともに、前記角度範囲内において試料の所定部分の投影画像を多数枚撮影し、得られた画像を計算機処理することによって前記所定部分の3次元構造を得、立体観察を可能ならしめるものである。ステレオ投影法は試料を回転させ、前記試料の傾きが視差角だけ異なる2枚の像を撮影し、現像及び焼き付けした後にステレオビュアーなどを用いることにより立体観察するものである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記CT法においては計算機処理に時間を要し、前記試料の変化を実時間で観察することができないという問題があった。また、前記ステレオ投影法においては前記試料の回転という操作に加えて、現像及び焼き付けという操作が加わり、これら一連の操作には数十分を要することから、この場合においても前記試料の変化を実時間で観察することができないという問題があった。
【0004】
本発明は、試料の変化を実時間で観察できる透過型電子顕微鏡及びこの顕微鏡を用いた立体観察法を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成すべく、本発明は、
電子線照射源と、
前記電子線照射源の前方に設けられ、前記電子線照射源から発せられた電子線を偏向して得た第1の電子線を、試料面の所定部分に対して第1の角度で照射するとともに、前記電子線照射源から発せられた前記電子線を偏向して得た第2の電子線を、前記試料面の前記所定部分に対して前記第1の角度と異なる第2の角度で照射させるための偏向装置と、
前記第1の電子線による第1の像及び前記第2の電子線による第2の像を結合させ、前記試料面の前記所定部位の像を立体的に表示する3次元画像表示装置とを具え、
前記偏向装置は、一対のフィラメントと、この一対のフィラメントの外方に設けられた一対のアース電極とからなる電子線台形プリズムを含み、
さらに、前記電子線照射源及び前記電子線台形プリズムと、前記3次元画像表示装置との間において、前記第1の電子線による前記第1の像、及び前記電子線照射源から発せられた第3の電子線により、前記試料面を介することなく得た第3の像を重ね合わせた第1の電子線ホログラムと、前記第2の電子線による前記第2の像、及び前記第3の像を重ね合わせた第2の電子線ホログラムとを形成するための結像装置を具えることを特徴とする、透過型電子顕微鏡に関する。
【0006】
また、本発明は、
電子線照射源から電子線を発射する工程と、
前記電子線照射源の前方に設けた偏向装置によって前記電子線を偏向して得た第1の電子線を、試料面の所定部分に対して第1の角度で照射するとともに、前記偏向装置によって前記電子線を偏向して得た第2の電子線を、前記試料面の前記所定部分に対して前記第1の角度と異なる第2の角度で照射する工程と、
3次元画像表示装置によって、前記第1の電子線によって得られた第1の像及び前記第2の電子線によって得られた第2の像を結合させ、前記試料面の前記所定部位の像を立体的に表示する工程とを具え、
前記偏向装置は、一対のフィラメントと、この一対のフィラメントの外方に設けられた一対のアース電極とからなる電子線台形プリズムを含み、前記フィラメントに印加する電圧の極性を切り替えることにより、前記電子線の偏向方向を変化させ、前記第1の電子線及び前記第2の電子線を形成し、
さらに、前記電子線照射源及び前記電子線台形プリズムと、前記3次元画像上表示装置との間において結像装置を設け、前記第1の電子線による前記第1の像、及び前記電子線照射源から発せられた第3の電子線により、前記試料面を介することなく得た第3の像を重ね合わせた第1の電子線ホログラムと、前記第2の電子線による前記第2の像、及び前記第3の像を重ね合わせた第2の電子線ホログラムとを形成する工程を具えることを特徴とする、立体観察法に関する。
【0007】
本発明者らは上記目的を達成すべく鋭意検討を実施した。その結果、所定の電子線照射源より発せられた電子線を偏向させて2種類の電子線を形成し、それぞれ異なる角度で試料面の同一部分に入射させることにより、前記2種類の電子線に対応させた2種類の像を得、これらを結合することによって、前記試料面の前記部分を3次元的に観察できることを見出したものである。すなわち、前記試料面の前記部分に対して、前記2種類の電子線を異なる角度で照射するようにしているので、前記2種類の像は、前記角度に対応した視差角だけ異なる2種類の像に相当する。したがって、これらの像を結合して、所定の3次元画像表示装置上に表示するようにすれば、前記部分の立体表示が可能となり、立体観察が可能となるものである。
【0008】
また、本発明によれば、上述したCT法などのような複雑な計算機処理を必要とせず、さらにステレオ投影法などのように現像及び焼き付けなどの操作を必要としないので、前記試料面の観察に要するタクトタイムは前記第1の電子線及び前記第2の電子線の、前記試料面に対する照射時期のずれ(時間間隔)に依存する。しかしながら、前記照射時間のずれは限りなく小さくすることができ、所定の外部信号などと同期させることにより、100分の1秒オーダ程度まで簡易に低減することができる。したがって、前記試料面の観察を実時間で実行することができるようになる。
【0009】
また、本発明では、前記偏向装置は、一対のフィラメントと、この一対のフィラメントの外方に設けられた一対のアース電極とからなる電子線台形プリズムを含み、前記フィラメントに印加する電圧の極性を切り替えることにより、前記電子線の偏向方向を変化させ、前記第1の電子線及び前記第2の電子線を形成する。これによって、前記試料面の同一部分に対して異なる角度で照射すべき、前記第1の電子線及び前記第2の電子線を簡易に形成することができる。したがって、前記試料面の立体観察を簡易に行なうことができるようになる。
【0010】
さらに、前記電子線照射源及び前記電子線台形プリズムの前方において結像装置を設けることにより、前記第1の電子線による前記第1の像、及び前記電子線照射源から発せられた第3の電子線により、前記試料面を介することなく得た第3の像を重ね合わせた第1の電子線ホログラムと、前記第2の電子線による前記第2の像、及び前記第3の像を重ね合わせた第2の電子線ホログラムとを形成することができる。したがって、前記電子線ホログラムから分離して得た前記第1の像及び前記第2の像の再生像を3次元画像表示装置上に表示することにより、前記部分の立体表示を簡易に実現することができ、前記試料面の立体観察を簡易に行なうことができるようになる。
【0011】
なお、「電子線台形プリズム」とは、一対のフィラメント及びこの一対のフィラメントの外方に設けられた一対のアース電極間の電位分布が台形状となるために、便宜上呼称しているものである。
【0012】
なお、前記偏向装置は、前記電子線台形プリズムの代わりに偏向板を含み、前記偏向板に印加する電圧の極性を切り替えることにより、前記電子線の偏向方向を変化させ、前記第1の電子線及び前記第2の電子線を形成するようにすることもできる。これによって、前記試料面の同一部分に対して異なる角度で照射すべき、前記第1の電子線及び前記第2の電子線を簡易に形成することができる。したがって、前記試料面の立体観察を簡易に行なうことができるようになる。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を発明の実施の形態に基づいて詳細に説明する。
図1は、本発明の透過型電子顕微鏡における一態様の構成を概略的に示す図である。図1に示す透過型電子顕微鏡10は、電子線照射源1、並びにこの電子線照射源1の前方に順次に設けられた偏向板2、照射レンズ3、結像レンズ4及び撮像素子6を具えている。撮像素子6はステレオ表示モニタ8に接続されている。また、観察すべき試料Sは照射レンズ3及び結像レンズ4間に配置されている。
【0014】
電子線照射源1から発せられた電子線は、偏向板2を通過する際に偏向板2に印加された電圧によって左方向に偏向され、その結果第1の電子線E1が形成される。第1の電子線E1は試料Sの所定部分に角度θ1で照射される。次いで、偏向板2に印加する電圧の極性を切り替えることにより、電子線照射源1から発せられた前記電子線は右方向に偏向され、その結果第2の電子線E2が形成される。
【0015】
第1の電子線E1及び第2の電子線E2は試料Sを透過し、第1の電子線E1による試料Sの第1の像及び第2の電子線E2による試料Sの第2の像は、それぞれ結像レンズ4を通過して、撮像素子6で撮像される。次いで、前記第1の像及び前記第2の像に相当する電気信号がステレオ表示モニタ8に送信される。モニタ8においては、前記第1の像及び前記第2の像を結合し、試料Sの前記所定部分の画像が立体的に表示され、結果として前記所定部分の立体観察を行なうことができる。
【0016】
図1に示す透過型電子顕微鏡において、前記試料面の観察に要するタクトタイムは前記第1の電子線及び前記第2の電子線の、前記試料面に対する照射時期のずれ(時間間隔)に依存する。そして、この時間間隔は、偏向板2に対する印加電圧の極性の切り替え時間に相当する。したがって、前記電圧極性の切り替えを所定の外部信号などと同期させて行なうことにより、前記時間間隔を極めて短く、例えば100分の1秒オーダ程度まで簡易に低減することができる。したがって、試料Sの前記所定部分の立体観察を実時間で行なうことができる。
【0017】
なお、前記電圧極性の切り替えは、撮像素子6に対する操作信号と同期させることができる。この場合、第1の電子線E1による前記第1の像及び第2の電子線E2による前記第2の像を、それぞれ撮像素子6のフレーム毎に簡易に取り込むことができるようになる。したがって、同一フレーム中に前記第1の像及び前記第2の像が同時に取り込まれたり、前記第1の像及び前記第2の像を取り込まないフレームの出現を回避することができるため、立体観察をより正確に行なうことができるようになる。
【0018】
また、試料Sに対する第1の電子線E1の照射角度θ1は、試料Sの前記所定部分に立てた法線から1度〜5度の範囲に設定することが好ましい。また、試料Sに対する第2の電子線E2の照射角度θ2は、前記法線から1度〜5度の範囲に設定することが好ましい。これによって、試料Sの前記所定部分の立体画像を制度良く得ることができ、立体観察を高精度に行なうことができるようになる。
【0019】
図2は、図1に示す透過型電子顕微鏡の変形例を示す構成図である。図1に示す透過型電子顕微鏡10においては、偏向板2と試料Sとの間に照射レンズ3を配置しているが、図2に示す透過型電子顕微鏡10−1においては、電子線照射源1と偏向板2との間に照射レンズ3を配置している。
【0020】
図1及び図2から明らかなように、照射レンズ3を偏向板2と試料Sとの間に配置した場合においては、単一の偏向板2を準備するのみで電子線照射源1からの電子線を偏向することができるが、照射レンズ3を電子線照射源1と偏向板2との間に設けた場合においては、2組の偏向板2−1及び2−2を準備して電子線照射源1からの電子線を偏向する。システムの構成を簡易化するという観点からは、図1に示すような構成のものが好ましい。
【0021】
図3は、本発明の透過型電子顕微鏡における本質的な態様の構成を概略的に示す図である。図3に示す透過型電子顕微鏡20は、電子線照射源11、並びにこの電子線照射源11の前方に順次に設けられた電子線台形プリズム12、照射レンズ13、結像レンズ14、電子線バイプリズム15及び撮像素子16を具えている。撮像素子16は分離再生回路17を介してステレオ表示モニタ18に接続されている。また、観察すべき試料Sは照射レンズ13及び結像レンズ14間に配置されている。なお、結像レンズ14及び電子線バイプリズム15は、結像レンズ系を構成する。
【0022】
図4は、電子線台形プリズムの構成を示す概略図である。図4に示すように、電子線台形プリズム12は、一対のフィラメント122と、このフィラメント122と外方に設けられた一対のアース電極123とを具えている。この場合、フィラメント122及びアース電極123間の電位分布は台形状となる。したがって、電子線台形プリズム12を用いた場合、一対のフィラメント122間の領域Aを通過する電子線は偏向されず、フィラメント122及びアース電極123間を通過する電子線のみ、それらの間に発生する電場によって偏向される。
【0023】
電子線照射源11から発せられた電子線は、電子線台形プリズム12の領域Bを通過する際に、フィラメント122及びアース電極123間に発生する電場によって左方向に偏向され、その結果第1の電子線E1が形成される。第1の電子線E1は試料Sの所定部分に角度θ1で照射される。次いで、フィラメント122及びアース電極123間に印加する電圧の極性を切り替えることにより、電子線照射源1から発せられた前記電子線は、電子線台形プリズム12の領域Bを通過する際に右方向に偏向され、その結果第2の電子線E2が形成される。
【0024】
第1の電子線E1及び第2の電子線E2は試料Sを透過し、第1の電子線E1による試料Sの第1の像及び第2の電子線E2による試料Sの第2の像は、それぞれ結像レンズ14を通過して、電子線バイプリズム15に至る。一方、電子線照射源11から発せされた第3の電子線E3は試料Sを介さずに進行し、結像レンズ14を経て電子線バイプリズム15に至る。次いで、物体波としての前記第1の像及び前記第2の像、並びに参照波としての第3の電子線E3は、電子線バイプリズム15でそれぞれ重ね合わされ、電子線ホログラムHを形成する。
【0025】
次いで、電子線ホログラムHは撮像素子16で撮像され、分離再生回路17で分離された後、前記第1の像及び前記第2の像がステレオ表示モニタ18に取り込まれる。その結果、試料Sの前記所定部分の画像が立体的に表示され、前記所定部分の立体観察を行なうことができる。
【0026】
図3に示す透過型電子顕微鏡においても、前記試料面の観察に要するタクトタイムは前記第1の電子線及び前記第2の電子線の、前記試料面に対する照射時期のずれ(時間間隔)に依存する。そして、この時間間隔は、電子線台形プリズム12のフィラメント122及びアース電極123間に印加する電圧の極性の切り替え時間に相当する。したがって、前記電圧極性の切り替えを所定の外部信号などと同期させて行なうことにより、前記時間間隔を極めて短く、例えば100分の1秒オーダ程度まで簡易に低減することができる。したがって、試料Sの前記所定部分の立体観察を実時間で行なうことができる。
【0027】
なお、この場合においても、前記電圧極性の切り替えは、撮像素子16に対する操作信号と同期させることができ、上述した作用効果を得ることができる。
【0028】
但し、図3に示す透過型電子顕微鏡においては、前記第1の電子線及び前記第2の電子線の切り替えを外部信号と同期させなくても電子線ホログラムHを得ることができる。したがって、前述した同期操作を実行しなくても、試料Sの所定部分の立体観察を行なうことができる。
【0029】
また、試料Sに対する第1の電子線E1の照射角度θ1は、試料Sの前記所定部分に立てた法線から1度〜5度の範囲に設定することが好ましい。また、試料Sに対する第2の電子線E2の照射角度θ2は、前記法線から1度〜5度の範囲に設定することが好ましい。これによって、試料Sの前記所定部分の立体画像を精度良く得ることができ、立体観察を高精度に行なうことができるようになる。
【0030】
以上、具体例を挙げながら発明の実施の形態に基づいて本発明を詳細に説明してきたが、本発明は上記内容に限定されるものではなく、本発明の範疇を逸脱しない限りにおいてあらゆる変形や変更が可能である。
【0031】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、試料の変化を実時間で観察できる透過型電子顕微鏡及びこの顕微鏡を用いた立体観察法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の透過型電子顕微鏡における一態様の構成を概略的に示す図である。
【図2】 図1に示す透過型電子顕微鏡の変形例を示す構成図である。
【図3】 本発明の透過型電子顕微鏡における本質的な態様の構成を概略的に示す図である。
【図4】 電子線台形プリズムの構成を示す概略図である。
【符号の説明】
1、11 電子線照射源
2、2−1、2−2 偏向板
3、13 照射レンズ
4、14 結像レンズ
6、16 撮像素子
8、10 ステレオ表示モニタ
10、10−1、20 透過型電子顕微鏡
12 電子線台形プリズム
15 電子線バイプリズム
17 分離再生回路
E1 第1の電子線
E2 第2の電子線
E3 第3の電子線
S 試料
H ホログラム
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a transmission electron microscope and a stereoscopic observation method.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, as a stereoscopic observation method using a transmission electron microscope, a CT method and a stereo method are widely used. In the CT method, one sample is rotated from 0 degree to 180 degrees, a large number of projection images of a predetermined part of the sample are taken within the angle range, and the obtained image is subjected to computer processing to obtain 3 of the predetermined part. It obtains a dimensional structure and enables stereoscopic observation. In the stereo projection method, a sample is rotated, two images with different inclinations of the sample by a parallax angle are photographed, developed and printed, and then stereoscopically observed by using a stereo viewer or the like.
[0003]
[Problems to be solved by the invention]
However, the CT method requires time for computer processing, and there is a problem that changes in the sample cannot be observed in real time. In addition, in the stereo projection method, in addition to the operation of rotating the sample, operations of development and printing are added, and these series of operations require several tens of minutes. There was a problem that it could not be observed in time.
[0004]
An object of this invention is to provide the transmission electron microscope which can observe the change of a sample in real time, and the three-dimensional observation method using this microscope.
[0005]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, the present invention provides:
An electron beam irradiation source;
A first electron beam provided in front of the electron beam irradiation source and obtained by deflecting the electron beam emitted from the electron beam irradiation source is irradiated at a first angle with respect to a predetermined portion of the sample surface. And irradiating a second electron beam obtained by deflecting the electron beam emitted from the electron beam irradiation source at a second angle different from the first angle with respect to the predetermined portion of the sample surface. A deflection device for causing
The second image by binding of the first of the first image and the second electron beam by an electron beam, comprising a three-dimensional image display device stereoscopically displays an image of the predetermined portion of the sample surface ,
The deflection device includes an electron beam trapezoidal prism including a pair of filaments and a pair of ground electrodes provided outside the pair of filaments,
Furthermore, between the electron beam irradiation source, the electron beam trapezoidal prism, and the three-dimensional image display device, the first image generated by the first electron beam and the first beam emitted from the electron beam irradiation source. The first electron beam hologram obtained by superimposing the third image obtained without passing through the sample surface with the three electron beams, the second image by the second electron beam, and the third image The present invention relates to a transmission electron microscope comprising an imaging device for forming a second electron beam hologram on which the two are superimposed .
[0006]
The present invention also provides:
Emitting an electron beam from an electron beam irradiation source;
A first electron beam obtained by deflecting the electron beam by a deflecting device provided in front of the electron beam irradiation source is irradiated at a first angle to a predetermined portion of the sample surface, and by the deflecting device. Irradiating a second electron beam obtained by deflecting the electron beam at a second angle different from the first angle with respect to the predetermined portion of the sample surface;
The three-dimensional image display device combines the first image obtained by the first electron beam and the second image obtained by the second electron beam to obtain an image of the predetermined portion on the sample surface. Including a three-dimensional display process ,
The deflection device includes an electron beam trapezoidal prism including a pair of filaments and a pair of ground electrodes provided outside the pair of filaments, and switching the polarity of the voltage applied to the filaments allows the electrons to be switched. Changing the deflection direction of the line, forming the first electron beam and the second electron beam;
Furthermore, an imaging device is provided between the electron beam irradiation source, the electron beam trapezoidal prism, and the three-dimensional image display device, and the first image by the first electron beam and the electron beam irradiation. A first electron beam hologram in which a third image obtained without passing through the sample surface is superimposed by a third electron beam emitted from a source, and the second image by the second electron beam, And a method of forming a second electron beam hologram formed by superimposing the third images, and a stereoscopic observation method.
[0007]
The inventors of the present invention have intensively studied to achieve the above object. As a result, two types of electron beams are formed by deflecting an electron beam emitted from a predetermined electron beam irradiation source, and are incident on the same part of the sample surface at different angles, respectively. It has been found that by obtaining two corresponding images and combining them, the portion of the sample surface can be observed three-dimensionally. That is, since the two types of electron beams are irradiated to the portion of the sample surface at different angles, the two types of images are different from each other in two parallax angles corresponding to the angles. It corresponds to. Therefore, if these images are combined and displayed on a predetermined three-dimensional image display device, the part can be displayed in 3D and can be viewed in 3D.
[0008]
In addition, according to the present invention, complicated computer processing such as the CT method described above is not required, and further, operations such as development and baking are not required as in the stereo projection method. The tact time required for this depends on the irradiation timing shift (time interval) of the first electron beam and the second electron beam with respect to the sample surface. However, the deviation of the irradiation time can be reduced as much as possible, and can be easily reduced to the order of 1/100 second by synchronizing with a predetermined external signal or the like. Therefore, the observation of the sample surface can be executed in real time.
[0009]
In the present invention , the deflecting device includes an electron beam trapezoidal prism including a pair of filaments and a pair of ground electrodes provided outside the pair of filaments, and the polarity of a voltage applied to the filament is set. By switching, the deflection direction of the electron beam is changed to form the first electron beam and the second electron beam. This makes it possible to easily form the first electron beam and the second electron beam to be irradiated at different angles with respect to the same portion of the sample surface. Therefore, the stereoscopic observation of the sample surface can be easily performed.
[0010]
Furthermore, by providing an imaging device in front of the electron beam irradiation source and the electron beam trapezoidal prism, the first image generated by the first electron beam and a third beam emitted from the electron beam irradiation source. The first electron beam hologram obtained by superimposing the third image obtained without passing through the sample surface by the electron beam, the second image by the second electron beam, and the third image are superimposed. A combined second electron beam hologram can be formed. Therefore, by displaying the reproduced images of the first image and the second image obtained by separating from the electron beam hologram on a three-dimensional image display device, it is possible to easily realize stereoscopic display of the portion. Thus, the three-dimensional observation of the sample surface can be easily performed.
[0011]
The “electron beam trapezoidal prism” is referred to for convenience because the potential distribution between a pair of filaments and a pair of ground electrodes provided outside the pair of filaments has a trapezoidal shape. .
[0012]
The deflecting device includes a deflecting plate instead of the electron trapezoidal prism, and changes a deflection direction of the electron beam by switching a polarity of a voltage applied to the deflecting plate, so that the first electron beam The second electron beam may be formed. This makes it possible to easily form the first electron beam and the second electron beam to be irradiated at different angles with respect to the same portion of the sample surface. Therefore, the stereoscopic observation of the sample surface can be easily performed.
[0013]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, the present invention will be described in detail based on embodiments of the invention.
FIG. 1 is a diagram schematically showing a configuration of one aspect of a transmission electron microscope of the present invention. A transmission electron microscope 10 shown in FIG. 1 includes an electron beam irradiation source 1, and a deflection plate 2, an irradiation lens 3, an imaging lens 4, and an imaging element 6 that are sequentially provided in front of the electron beam irradiation source 1. It is. The image sensor 6 is connected to a stereo display monitor 8. Further, the sample S to be observed is disposed between the irradiation lens 3 and the imaging lens 4.
[0014]
The electron beam emitted from the electron beam irradiation source 1 is deflected leftward by the voltage applied to the deflection plate 2 when passing through the deflection plate 2, and as a result, the first electron beam E1 is formed. The first electron beam E1 is applied to a predetermined portion of the sample S at an angle θ1. Next, by switching the polarity of the voltage applied to the deflection plate 2, the electron beam emitted from the electron beam irradiation source 1 is deflected in the right direction, and as a result, a second electron beam E2 is formed.
[0015]
The first electron beam E1 and the second electron beam E2 are transmitted through the sample S, and the first image of the sample S by the first electron beam E1 and the second image of the sample S by the second electron beam E2 are Then, each image passes through the imaging lens 4 and is imaged by the image sensor 6. Next, electrical signals corresponding to the first image and the second image are transmitted to the stereo display monitor 8. In the monitor 8, the first image and the second image are combined, and the image of the predetermined portion of the sample S is displayed three-dimensionally. As a result, the predetermined portion can be stereoscopically observed.
[0016]
In the transmission electron microscope shown in FIG. 1, the tact time required for the observation of the sample surface depends on the deviation (time interval) of the irradiation timing of the first electron beam and the second electron beam with respect to the sample surface. . This time interval corresponds to the switching time of the polarity of the voltage applied to the deflection plate 2. Therefore, by switching the voltage polarity in synchronism with a predetermined external signal or the like, the time interval can be shortened to an extremely short time, for example, on the order of 1/100 second. Therefore, stereoscopic observation of the predetermined portion of the sample S can be performed in real time.
[0017]
The voltage polarity switching can be synchronized with an operation signal for the image sensor 6. In this case, the first image by the first electron beam E1 and the second image by the second electron beam E2 can be easily captured for each frame of the imaging device 6, respectively. Accordingly, the first image and the second image can be captured simultaneously in the same frame, or the appearance of a frame that does not capture the first image and the second image can be avoided, so that stereoscopic observation can be avoided. Can be performed more accurately.
[0018]
In addition, the irradiation angle θ1 of the first electron beam E1 with respect to the sample S is preferably set in a range of 1 degree to 5 degrees from a normal line standing on the predetermined portion of the sample S. Moreover, it is preferable that the irradiation angle θ2 of the second electron beam E2 with respect to the sample S is set in a range of 1 degree to 5 degrees from the normal line. As a result, a three-dimensional image of the predetermined portion of the sample S can be obtained systematically, and three-dimensional observation can be performed with high accuracy.
[0019]
FIG. 2 is a configuration diagram showing a modification of the transmission electron microscope shown in FIG. In the transmission electron microscope 10 shown in FIG. 1, the irradiation lens 3 is disposed between the deflecting plate 2 and the sample S. In the transmission electron microscope 10-1 shown in FIG. An irradiation lens 3 is arranged between 1 and the deflection plate 2.
[0020]
As can be seen from FIGS. 1 and 2, when the irradiation lens 3 is arranged between the deflection plate 2 and the sample S, the electrons from the electron beam irradiation source 1 can be obtained only by preparing a single deflection plate 2. In the case where the irradiation lens 3 is provided between the electron beam irradiation source 1 and the deflection plate 2, two sets of deflection plates 2-1 and 2-2 are prepared and the electron beam is deflected. The electron beam from the irradiation source 1 is deflected. From the viewpoint of simplifying the system configuration, the configuration as shown in FIG. 1 is preferable.
[0021]
FIG. 3 is a diagram schematically showing a configuration of an essential aspect in the transmission electron microscope of the present invention. A transmission electron microscope 20 shown in FIG. 3 includes an electron beam irradiation source 11, an electron beam trapezoidal prism 12, an irradiation lens 13, an imaging lens 14, and an electron beam beam provided sequentially in front of the electron beam irradiation source 11. A prism 15 and an image sensor 16 are provided. The image sensor 16 is connected to a stereo display monitor 18 via a separation / reproduction circuit 17. Further, the sample S to be observed is disposed between the irradiation lens 13 and the imaging lens 14. The imaging lens 14 and the electron biprism 15 constitute an imaging lens system.
[0022]
FIG. 4 is a schematic diagram showing the configuration of the electron beam trapezoidal prism. As shown in FIG. 4, the electron beam trapezoidal prism 12 includes a pair of filaments 122 and a pair of earth electrodes 123 provided on the outside of the filaments 122. In this case, the potential distribution between the filament 122 and the ground electrode 123 is trapezoidal. Accordingly, when the electron beam trapezoidal prism 12 is used, the electron beam passing through the region A between the pair of filaments 122 is not deflected, and only the electron beam passing between the filament 122 and the ground electrode 123 is generated between them. Deflected by an electric field.
[0023]
The electron beam emitted from the electron beam irradiation source 11 is deflected to the left by the electric field generated between the filament 122 and the ground electrode 123 when passing through the region B of the electron beam trapezoidal prism 12, and as a result, the first An electron beam E1 is formed. The first electron beam E1 is applied to a predetermined portion of the sample S at an angle θ1. Next, by switching the polarity of the voltage applied between the filament 122 and the ground electrode 123, the electron beam emitted from the electron beam irradiation source 1 moves to the right when passing through the region B of the electron beam trapezoidal prism 12. As a result, the second electron beam E2 is formed.
[0024]
The first electron beam E1 and the second electron beam E2 are transmitted through the sample S, and the first image of the sample S by the first electron beam E1 and the second image of the sample S by the second electron beam E2 are Each passes through the imaging lens 14 and reaches the electron biprism 15. On the other hand, the third electron beam E3 emitted from the electron beam irradiation source 11 proceeds without passing through the sample S, and reaches the electron biprism 15 through the imaging lens 14. Next, the first image and the second image as the object wave and the third electron beam E3 as the reference wave are respectively superimposed by the electron biprism 15 to form an electron beam hologram H.
[0025]
Next, the electron beam hologram H is picked up by the image pickup device 16 and separated by the separation / reproduction circuit 17, and then the first image and the second image are taken into the stereo display monitor 18. As a result, the image of the predetermined portion of the sample S is displayed in a three-dimensional manner, and the three-dimensional observation of the predetermined portion can be performed.
[0026]
Also in the transmission electron microscope shown in FIG. 3, the tact time required for observation of the sample surface depends on the deviation (time interval) of the irradiation timing of the first electron beam and the second electron beam with respect to the sample surface. To do. This time interval corresponds to the switching time of the polarity of the voltage applied between the filament 122 and the ground electrode 123 of the electron beam trapezoidal prism 12. Therefore, by switching the voltage polarity in synchronism with a predetermined external signal or the like, the time interval can be shortened to an extremely short time, for example, on the order of 1/100 second. Therefore, stereoscopic observation of the predetermined portion of the sample S can be performed in real time.
[0027]
In this case as well, the switching of the voltage polarity can be synchronized with the operation signal for the image sensor 16, and the above-described effects can be obtained.
[0028]
However, in the transmission electron microscope shown in FIG. 3, the electron beam hologram H can be obtained without synchronizing the switching of the first electron beam and the second electron beam with an external signal. Therefore, it is possible to perform stereoscopic observation of a predetermined portion of the sample S without performing the above-described synchronization operation.
[0029]
In addition, the irradiation angle θ1 of the first electron beam E1 with respect to the sample S is preferably set in a range of 1 degree to 5 degrees from a normal line standing on the predetermined portion of the sample S. Moreover, it is preferable that the irradiation angle θ2 of the second electron beam E2 with respect to the sample S is set in a range of 1 degree to 5 degrees from the normal line. As a result, a stereoscopic image of the predetermined portion of the sample S can be obtained with high accuracy, and stereoscopic observation can be performed with high accuracy.
[0030]
As described above, the present invention has been described in detail based on the embodiments of the present invention with specific examples. However, the present invention is not limited to the above contents, and all modifications and changes are made without departing from the scope of the present invention. It can be changed.
[0031]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, it is possible to provide a transmission electron microscope capable of observing changes in a sample in real time and a stereoscopic observation method using this microscope.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram schematically showing a configuration of one aspect of a transmission electron microscope of the present invention.
FIG. 2 is a configuration diagram showing a modification of the transmission electron microscope shown in FIG. 1;
FIG. 3 is a diagram schematically showing a configuration of an essential aspect in a transmission electron microscope of the present invention.
FIG. 4 is a schematic diagram showing a configuration of an electron beam trapezoidal prism.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,11 Electron beam irradiation source 2,2-1,2-2 Deflection plate 3,13 Irradiation lens 4,14 Imaging lens 6,16 Image pick-up element 8,10 Stereo display monitor 10,10-1,20 Transmission type electron Microscope 12 Electron beam trapezoidal prism 15 Electron beam biprism 17 Separation / reproduction circuit E1 First electron beam E2 Second electron beam E3 Third electron beam S Sample H Hologram

Claims (10)

電子線照射源と、
前記電子線照射源の前方に設けられ、前記電子線照射源から発せられた電子線を偏向して得た第1の電子線を、試料面の所定部分に対して第1の角度で照射するとともに、前記電子線照射源から発せられた前記電子線を偏向して得た第2の電子線を、前記試料面の前記所定部分に対して前記第1の角度と異なる第2の角度で照射させるための偏向装置と、
前記第1の電子線による第1の像及び前記第2の電子線による第2の像を結合させ、前記試料面の前記所定部位の像を立体的に表示する3次元画像表示装置とを具え、
前記偏向装置は、一対のフィラメントと、この一対のフィラメントの外方に設けられた一対のアース電極とからなる電子線台形プリズムを含み、
さらに、前記電子線照射源及び前記電子線台形プリズムと、前記3次元画像表示装置との間において、前記第1の電子線による前記第1の像、及び前記電子線照射源から発せられた第3の電子線により、前記試料面を介することなく得た第3の像を重ね合わせた第1の電子線ホログラムと、前記第2の電子線による前記第2の像、及び前記第3の像を重ね合わせた第2の電子線ホログラムとを形成するための結像装置を具えることを特徴とする、透過型電子顕微鏡。
An electron beam irradiation source;
A first electron beam provided in front of the electron beam irradiation source and obtained by deflecting the electron beam emitted from the electron beam irradiation source is irradiated at a first angle with respect to a predetermined portion of the sample surface. And irradiating a second electron beam obtained by deflecting the electron beam emitted from the electron beam irradiation source at a second angle different from the first angle with respect to the predetermined portion of the sample surface. A deflection device for causing
The second image by binding of the first of the first image and the second electron beam by an electron beam, comprising a three-dimensional image display device stereoscopically displays an image of the predetermined portion of the sample surface ,
The deflection device includes an electron beam trapezoidal prism including a pair of filaments and a pair of ground electrodes provided outside the pair of filaments,
Furthermore, between the electron beam irradiation source, the electron beam trapezoidal prism, and the three-dimensional image display device, the first image generated by the first electron beam and the first beam emitted from the electron beam irradiation source. The first electron beam hologram obtained by superimposing the third image obtained without passing through the sample surface with the three electron beams, the second image by the second electron beam, and the third image A transmission electron microscope comprising an imaging device for forming a second electron beam hologram on which the two are superimposed .
前記第1の角度は、前記試料面の法線方向から右側に1度〜5度に設定するとともに、前記第2の角度は、前記試料面の前記法線方向から左側に1度〜5度に設定することを特徴とする、請求項に記載の透過型電子顕微鏡。The first angle is set to 1 degree to 5 degrees on the right side from the normal direction of the sample surface, and the second angle is set to 1 degree to 5 degrees on the left side from the normal direction of the sample surface. The transmission electron microscope according to claim 1 , wherein the transmission electron microscope is set as follows. 前記結像装置の、前記電子線照射源及び前記電子線台形プリズムに対する反対側において、前記電子線ホログラムを撮像するための撮像素子を具えることを特徴とする、請求項1又は2に記載の透過型電子顕微鏡。The imaging device according to claim 1 or 2 , further comprising an imaging device for imaging the electron beam hologram on a side opposite to the electron beam irradiation source and the electron beam trapezoidal prism of the imaging device. Transmission electron microscope. 前記第1の電子線の前記試料面の前記所定部分に対する照射時期と、前記第2の電子線の前記試料面の前記所定部分に対する照射時期とを、前記撮像素子の操作信号と同期させたことを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一に記載の透過型電子顕微鏡。The irradiation timing of the first electron beam to the predetermined portion of the sample surface and the irradiation timing of the second electron beam to the predetermined portion of the sample surface are synchronized with the operation signal of the imaging device. The transmission electron microscope according to any one of claims 1 to 3, wherein: 前記第1の電子線ホログラム及び前記第2の電子線ホログラムを分離再生するための分離再生回路を具えることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一に記載の透過型電子顕微鏡。The first, characterized in that the electron beam hologram and the second electron beam hologram comprises a separation recovery circuit for separating reproduction, transmission electron microscope according to any one of claims 1 to 4. 電子線照射源から電子線を発射する工程と、
前記電子線照射源の前方に設けた偏向装置によって前記電子線を偏向して得た第1の電子線を、試料面の所定部分に対して第1の角度で照射するとともに、前記偏向装置によって前記電子線を偏向して得た第2の電子線を、前記試料面の前記所定部分に対して前記第1の角度と異なる第2の角度で照射する工程と、
3次元画像表示装置によって、前記第1の電子線によって得られた第1の像及び前記第2の電子線によって得られた第2の像を結合させ、前記試料面の前記所定部位の像を立体的に表示する工程とを具え、
前記偏向装置は、一対のフィラメントと、この一対のフィラメントの外方に設けられた一対のアース電極とからなる電子線台形プリズムを含み、前記フィラメントに印加する電圧の極性を切り替えることにより、前記電子線の偏向方向を変化させ、前記第1の電子線及び前記第2の電子線を形成し、
さらに、前記電子線照射源及び前記電子線台形プリズムと、前記3次元画像表示装置との間において結像装置を設け、前記第1の電子線による前記第1の像、及び前記電子線照射源から発せられた第3の電子線により、前記試料面を介することなく得た第3の像を重ね合わせた第1の電子線ホログラムと、前記第2の電子線による前記第2の像、及び前記第3の像を重ね合わせた第2の電子線ホログラムとを形成する工程を具えることを特徴とする、立体観察法。
Emitting an electron beam from an electron beam irradiation source;
A first electron beam obtained by deflecting the electron beam by a deflecting device provided in front of the electron beam irradiation source is irradiated at a first angle to a predetermined portion of the sample surface, and by the deflecting device. Irradiating a second electron beam obtained by deflecting the electron beam at a second angle different from the first angle with respect to the predetermined portion of the sample surface;
The three-dimensional image display device combines the first image obtained by the first electron beam and the second image obtained by the second electron beam to obtain an image of the predetermined portion on the sample surface. Including a three-dimensional display process ,
The deflection device includes an electron beam trapezoidal prism including a pair of filaments and a pair of ground electrodes provided outside the pair of filaments, and switching the polarity of the voltage applied to the filaments allows the electrons to be switched. Changing the deflection direction of the line, forming the first electron beam and the second electron beam;
Furthermore, an imaging device is provided between the electron beam irradiation source, the electron beam trapezoidal prism, and the three-dimensional image display device, and the first image by the first electron beam and the electron beam irradiation source. A first electron beam hologram obtained by superimposing a third image obtained without passing through the sample surface by a third electron beam emitted from the second electron beam, and the second image by the second electron beam, and A stereoscopic observation method comprising a step of forming a second electron beam hologram on which the third image is superimposed .
前記第1の角度は、前記試料面の法線方向から右側に1度〜5度に設定するとともに、前記第2の角度は、前記試料面の前記法線方向から左側に1度〜5度に設定することを特徴とする、請求項に記載の立体観察法。The first angle is set to 1 degree to 5 degrees on the right side from the normal direction of the sample surface, and the second angle is set to 1 degree to 5 degrees on the left side from the normal direction of the sample surface. The stereoscopic observation method according to claim 6 , wherein the stereoscopic observation method is set as follows. 前記結像装置の、前記電子線照射源及び前記電子線台形プリズムに対する反対側において撮像素子を設け、前記電子線ホログラムを撮像する工程を具えることを特徴とする、請求項6又は7に記載の立体観察法。8. The method according to claim 6 , further comprising a step of imaging the electron beam hologram by providing an imaging element on an opposite side of the imaging apparatus with respect to the electron beam irradiation source and the electron beam trapezoidal prism. Stereoscopic observation method. 前記第1の電子線の前記試料面の前記所定部分に対する照射時期と、前記第2の電子線の前記試料面の前記所定部分に対する照射時期とを、前記撮像素子の操作信号と同期させる工程を含むことを特徴とする、請求項6〜8のいずれか一に記載の立体観察法。A step of synchronizing the irradiation timing of the first electron beam to the predetermined portion of the sample surface and the irradiation timing of the second electron beam to the predetermined portion of the sample surface with an operation signal of the imaging device; The stereoscopic observation method according to any one of claims 6 to 8, wherein the stereoscopic observation method is included. 前記第1の電子線ホログラムと、前記第2の電子線ホログラムとを分離再生回路において分離再生した後、前記3次元画像表示装置によって立体的に表示することを特徴とする、請求項6〜9のいずれか一に記載の立体観察法。Said first electron beam hologram, after separation reproduced in said second electron beam hologram and the separation reproducing circuit, and wherein the sterically displayed by the three-dimensional image display apparatus, according to claim 6-9 The stereoscopic observation method according to any one of the above.
JP2002336392A 2002-11-20 2002-11-20 Transmission electron microscope and stereoscopic observation method Expired - Lifetime JP3785458B2 (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002336392A JP3785458B2 (en) 2002-11-20 2002-11-20 Transmission electron microscope and stereoscopic observation method
US10/713,109 US7012253B2 (en) 2002-11-20 2003-11-17 Transmission electron microscope and three-dimensional observing method
EP03257301A EP1426998A2 (en) 2002-11-20 2003-11-19 Transmission electron microscope and three-dimensional observing method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002336392A JP3785458B2 (en) 2002-11-20 2002-11-20 Transmission electron microscope and stereoscopic observation method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2004171922A JP2004171922A (en) 2004-06-17
JP3785458B2 true JP3785458B2 (en) 2006-06-14

Family

ID=32310629

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002336392A Expired - Lifetime JP3785458B2 (en) 2002-11-20 2002-11-20 Transmission electron microscope and stereoscopic observation method

Country Status (3)

Country Link
US (1) US7012253B2 (en)
EP (1) EP1426998A2 (en)
JP (1) JP3785458B2 (en)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4512180B2 (en) 2004-01-09 2010-07-28 独立行政法人理化学研究所 Interfering device
JP4512183B2 (en) * 2004-03-31 2010-07-28 独立行政法人理化学研究所 Electron beam interference device
WO2006088159A1 (en) * 2005-02-21 2006-08-24 National University Corporation Kyoto Institute Of Technology Electron microscope and composite irradiation lens
US9008378B2 (en) * 2006-12-20 2015-04-14 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University Arrangement and imaging of biological samples
EP2193360B1 (en) * 2007-09-25 2014-11-05 Centre National De La Recherche Scientifique Method and system for measuring nanoscale deformations
JP5156429B2 (en) 2008-02-15 2013-03-06 株式会社日立製作所 Electron beam equipment
JP5405937B2 (en) 2009-08-07 2014-02-05 株式会社日立製作所 Transmission electron microscope and sample image observation method using the same
US20120241612A1 (en) * 2009-12-11 2012-09-27 Hitachi Ltd Electron Beam Biprism Device and Electron Beam Device
JP5934965B2 (en) * 2012-04-26 2016-06-15 国立研究開発法人理化学研究所 Electron beam equipment
EP3376522A1 (en) * 2017-03-14 2018-09-19 Technische Universität Berlin Method and apparatus for carrying out a time-resolved interferometric measurement
CN114002240A (en) * 2021-09-27 2022-02-01 中国科学院广州地球化学研究所 Electron microscopic three-dimensional reconstruction characterization method for geological sample microstructure
JP7642524B2 (en) * 2021-12-24 2025-03-10 株式会社日立製作所 Interferometric Scanning Transmission Electron Microscope

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4922576B1 (en) 1970-04-30 1974-06-10
DE2541245A1 (en) * 1975-09-12 1977-03-24 Siemens Ag CORPUSCULAR BEAM SCANNING MICROSCOPE
JPH01264151A (en) 1988-04-15 1989-10-20 Hitachi Ltd Multiple beam generator in charged particle beam device
JPH03246861A (en) 1990-02-23 1991-11-05 Nec Corp Permeation type electron microscope
US5576543A (en) * 1995-08-21 1996-11-19 Texsem Laboratories, Inc. Method and apparatus for determining crystallographic characteristics

Also Published As

Publication number Publication date
US7012253B2 (en) 2006-03-14
EP1426998A2 (en) 2004-06-09
JP2004171922A (en) 2004-06-17
US20040144923A1 (en) 2004-07-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3785458B2 (en) Transmission electron microscope and stereoscopic observation method
JP3807721B2 (en) Image synthesizer
US9848178B2 (en) Critical alignment of parallax images for autostereoscopic display
JP5350123B2 (en) Charged particle beam apparatus and image display method
EP2135553A1 (en) X-ray generator for achieving stereoscopic imaging effect and medical x-ray device using the x-ray generator
JP2012060625A (en) Image processor, stereoscopic image display device, stereoscopic image display system, method for detecting parallax displacement in stereoscopic image display device and method for manufacturing stereoscopic image display device
WO2004038486A1 (en) Image display and method for displaying image
KR20050084950A (en) Three-dimensional video processing method and three-dimensional video display
US4719482A (en) Three-dimensional color television
JPH03141932A (en) Method and device for obtaining and displaying x-ray image for stereo-view observation
JPS584132A (en) Observation device for stereoscopic image
CN103155576A (en) Stereoscopic image display device and stereoscopic image display method
JP2011135202A (en) Video signal processor, and video signal processing method
JPS5854784Y2 (en) Stereo scanning electron microscope
JPH05191838A (en) Recording and reproducing device for three-dimensional information
JPS62252055A (en) Stereoscopic electron microscope
JP4658787B2 (en) Image synthesizer
JPH08321992A (en) Image processing device
JPH0686333A (en) Stereoscopic picture reproducing device
DE19860224A1 (en) Process for the generation of real-time stereo images of material samples using a particle beam scanning microscope
JPH0634340A (en) 3D image input device
JPS62230194A (en) Method for x-ray stereoscopic vision
JPS63287287A (en) Electronic stereoscopic image synthesizer
JPH0984764A (en) Objective adaptor of fundus camera, fundus camera device, image processing device for fundus camera, and control method of fundus camera
WO2012144836A2 (en) 3-dimensional image display and recording device

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20040520

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20040810

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20041228

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050111

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050309

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20060221

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 3785458

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20060425

A072 Dismissal of procedure [no reply to invitation to correct request for examination]

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A072

Effective date: 20060829

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

EXPY Cancellation because of completion of term