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JP3790705B2 - 配線基板およびこれを用いた半導体装置の製造方法 - Google Patents
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配線基板およびこれを用いた半導体装置の製造方法 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は配線基板とこの配線基板を用いた半導体装置の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
ボード・オン・チップ(BOC)型の半導体装置は、図8に示すように、樹脂基板10の一方の面に形成された半導体チップ搭載部に接着剤11によって半導体チップ12を固着し、樹脂基板10の他方の面に形成された配線パターン13と半導体チップ12の端子部とを、樹脂基板10に設けた貫通孔(スリット)14を挿通するボンディングワイヤ15によって電気的に接続してなる。16は外部接続用のボール端子であり、配線パターン13上に設けてある。
ボンディングワイヤ15および貫通孔14をポッティング樹脂で封止しただけの簡易なBOC型半導体装置も知られているが、昨今ではより信頼性を高めるため、トランスファモールドによって、半導体チップ12およびボンディングワイヤ15の双方を封止樹脂17によって封止したものが要望されている。
【0003】
図9は、上記半導体装置の製造方法の一例を示す。
この製造方法では、所要の幅を有する配線基板上に多数個の半導体チップを搭載し、一時にモールドした後、個片の半導体装置に切断、分離するようにしている。
配線基板18は、帯状をなす樹脂基板10の一方の面に、樹脂基板10の幅方向に複数個(図示の例では3個)並ぶ半導体チップ搭載部が樹脂基板の長手方向に多列に設けられ、樹脂基板10の幅方向に、半導体チップ搭載部の各列毎に1本の貫通孔14を設け、樹脂基板10の他方の面に、前記半導体チップ搭載部に搭載される半導体チップ12の端子部と、貫通孔14を挿通するボンディングワイヤを介して電気的に接続される配線パターン13(図9では不図示)が設けられてなる。
【0004】
配線基板18の各半導体チップ搭載部に接着剤により半導体チップ12を固着し、半導体チップの端子部と配線パターンとをボンディングワイヤにて接続した後、配線基板18を金型内に組み込むのである(図11)。
各列の半導体チップ搭載部には1本の共通する貫通孔(スリット)14が設けられているから、各半導体チップ搭載部に半導体チップ12を搭載すると、半導体チップ12に覆われない貫通孔部分14aが存在することになる。
金型内に、図のA方向から封止樹脂を注入すると、貫通孔部分14aから樹脂基板10の反対側(配線パターン形成面側)にも樹脂が回り込み(図11)、半導体チップ12、ボンディングワイヤ15の双方を封止樹脂により一時にモールドすることができる。なお、図11は図9のa―a断面図、図12は図10のb−b断面図である。
【0005】
図10は他の製造方法を示す。この製造方法では、各半導体チップ搭載部ごとに独立した貫通孔(スリット)14を設け、この貫通孔14の長さを、搭載する半導体チップ12によっては覆われない部分14aが生じる長さに設定してある。
配線基板18を金型内に組み込み(図12)、図のA方向から封止樹脂を注入すると、貫通孔部分14aからやはり樹脂が樹脂基板10の反対側にも回り込み(図12)、半導体チップ12、ボンディングワイヤ15を同時に樹脂封止することが可能となる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来の半導体装置の製造方法には次のような課題が生じた。
すなわち、図11および図12に示すように、上記いずれの製造方法にあっても、貫通孔部分14aを通じて、封止樹脂が樹脂基板10の反対側にも同時に流れ込み、貫通孔部分14aを通じて樹脂基板10の配線パターン形成面側に回り込んだ樹脂の樹脂圧により樹脂基板10が押し上げられる不具合が生じる。
これにより、封止樹脂が樹脂基板10と金型パーティング面との間に流れ出す樹脂漏れや樹脂バリが生じるという課題がある。
また、封止樹脂中には溶剤が混入していることから、樹脂基板10の僅かな浮き上がりであっても、溶剤が配線パターン13上に染み出し(ブリード)、ボール端子16形成面上に付着したりして、ボール端子16の固着性を阻害するという課題もある。
【0007】
そこで、本発明は上記課題を解決すべくなされたものであり、その目的とするところは、樹脂漏れや樹脂バリの発生、溶剤のブリード等を防止できる半導体装置の製造方法およびこれに用いて好適な配線基板を提供するにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記課題を解決するために次の構成を有する。
すなわち、本発明に係る配線基板では、帯状をなす樹脂基板の一方の面に、半導体チップ搭載部が樹脂基板の幅方向に複数個並んだ半導体チップ搭載部列が樹脂基板の長手方向に多列に設けられ、搭載される半導体チップによって覆われる大きさの貫通孔が前記半導体チップ搭載部列上の各半導体チップ搭載部に形成された貫通孔列が前記樹脂基板の長手方向に多列に設けられ、前記樹脂基板の他方の面に、前記半導体チップ搭載部に搭載される半導体チップの端子部と、前記貫通孔を挿通するボンディングワイヤを介して電気的に接続される配線パターンが設けられた配線基板であって、前記各半導体チップ搭載部列に対応して、前記貫通孔列の延長線上となる、前記樹脂基板の一方の側縁部にのみ、前記樹脂基板の表裏に樹脂を流通させる樹脂流通孔が設けられたことを特徴としている。
【0009】
また本発明に係る半導体装置の製造方法では、上記配線基板の各半導体チップ搭載部に前記貫通孔を覆うようにして半導体チップを搭載する工程と、搭載した半導体チップの端子部と前記配線パターンとを前記貫通孔を挿通するボンディングワイヤで電気的に接続する工程と、該半導体チップを搭載した配線基板を金型内に組み込む工程と、金型内に、封止用樹脂を注入して、前記各列の半導体チップを樹脂で封止した後、前記樹脂流通孔から樹脂を配線基板の配線パターン形成面側に流入して、前記貫通孔および前記ボンディングワイヤを樹脂で封止する樹脂封止工程とを具備することを特徴としている。
【0010】
樹脂を注入する際に、前記樹脂流通孔とは反対側となる前記樹脂基板の他方の側縁部側から金型内に封止用樹脂を注入すると好適である。
前記配線パターンに外部接続用のボール端子を形成するようにする。
また、前記樹脂封止工程後、個片の半導体装置に切断するようにする。
【0011】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の好適な実施の形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。
まず、配線基板20について説明する。
図1は配線基板20の表面図、図2はその裏面図である。
配線基板20には、帯状をなす樹脂基板21の一方の面に、該樹脂基板21の幅方向に複数個(図示の例では3個)の半導体チップ搭載部22が並ぶ半導体チップ搭載部列が樹脂基板21の長手方向に多列に設けられている。
【0012】
各半導体チップ搭載部22には、搭載される半導体チップによって覆われる大きさのスリット状の貫通孔23が設けられている。図示の例では、3個の半導体チップ搭載部22が並ぶ各半導体チップ搭載部列に、各3個ずつの貫通孔23が並ぶ貫通孔列が形成されることになる。すなわち、貫通孔列上の各スリット状の貫通孔23は同一方向(樹脂基板21の幅方向)に伸びている。そして、各貫通孔23の長さは、搭載される半導体チップよりも小さくなるように設定されているのである。
【0013】
また、樹脂基板21の他方の面には、半導体チップ搭載部22に搭載される半導体チップの端子部と、貫通孔23を挿通するボンディングワイヤを介して電気的に接続される配線パターン24が設けられている。
そして、各半導体チップ搭載部列毎に、貫通孔列の延長線上となる、樹脂基板21の一方の側縁部に、樹脂基板21の表裏に樹脂を流通させる樹脂流通孔25が設けられている。
【0014】
すなわち、樹脂流通孔25は、帯状をなす樹脂基板21の一方の側縁部にのみ設けられ、他方の側縁部には設けられない。また樹脂流通孔25は、各半導体チップ搭載部列に対して少なくとも1個宛設けられ、その位置は、貫通孔列の延長線上であって、半導体チップ搭載部22とは外れた位置に位置しているのである。
なお、各半導体チップ搭載部22には、あらかじめ接着剤を塗布しておいてもよい。
【0015】
次いで半導体装置の製造方法について、図3〜図7により説明する。
まず、上記配線基板20の各半導体チップ搭載部22に貫通孔23を覆うようにして半導体チップ26を、半導体チップの端子部が形成された面側を搭載部側に向けて接着剤により接着して搭載する。端子部は貫通孔23の部位に露出する。そして搭載した半導体チップ26の端子部と配線パターン24とを、貫通孔23を挿通するボンディングワイヤ29(図7)で電気的に接続する。
このように半導体チップ26を搭載した配線基板20を金型27内に組み込む(図3、図7)。金型27は、上型27aと下型27bを有し、上型27aには各列の半導体チップ26を封止するためのキャビティ27cが形成され、下型27bには、各列の貫通孔とボンディングワイヤ29を封止するためのキャビティ27dが形成されている。したがって、キャビティ27cとキャビティ27dとは樹脂流通孔25のみを通じて連通する。
【0016】
次いで、金型27内に封止用の樹脂28を注入する。その際封止用の樹脂28は、図3における矢印A側、すなわち、樹脂流通孔25とは反対側となる配線基板20の他方の側縁部側から金型27内に注入される。
すると、貫通孔23は、半導体チップ26によって閉塞されているから、樹脂28は、半導体チップ26の存在する側のキャビティ27cを満たしてのち(図4)、樹脂流通孔25から、配線基板20の配線パターン24形成面側となるキャビティ27d内に流れ込む(図5)。そして、貫通孔23、配線パターン24の一部およびボンディングワイヤ29を封止するのである(図6)。
【0017】
このように、樹脂28は、半導体チップ26の存在する側のキャビティ27cをまず満たす。その際、樹脂圧により配線基板20は金型のパーティング面方向(下型27b方向)に押圧されることとなるから、樹脂基板21の浮き上がりがなく、樹脂漏れ、樹脂バリ、溶剤のブリードの発生を極力防止できることになるのである。
【0018】
上記のように、半導体チップ26、ボンディングワイヤ29を封止樹脂28により封止してから、配線基板20を金型内から取り出し、配線パターン24のランド部を除く部位にソルダーレジスト層を塗布して形成し(図示せず)、露出しているランド部に外部接続用のボール端子17を取りつけ、次いで個片に切断、分離することによって半導体装置に完成できる。
【0019】
【発明の効果】
以上のように、本発明によれば、樹脂漏れや樹脂バリの発生、溶剤のブリード等を防止できる半導体装置の製造方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】配線基板の表面図、
【図2】配線基板の裏面図、
【図3】封止樹脂の注入を開始した状態の説明図、
【図4】半導体チップが存在する側が樹脂により満たされた状態の説明図、
【図5】樹脂が樹脂流通孔から樹脂基板の裏面側に流入した状態の説明図、
【図6】樹脂基板の裏面側を樹脂が満たした状態の説明図、
【図7】樹脂圧の方向を示す説明断面図、
【図8】BOC型半導体装置の断面図、
【図9】従来の製造方法の一例を示す説明図、
【図10】従来の製造方法の他の一例を示す説明図、
【図11】図9のa−a線断面図、
【図12】図10のb−b線断面図である。
【符号の説明】
20 配線基板
21 樹脂基板
22 半導体チップ搭載部
23 貫通孔
24 配線パターン
25 樹脂流通孔
26 半導体チップ
27 金型
28 樹脂
29 ボンディングワイヤ

Claims (5)

  1. 帯状をなす樹脂基板の一方の面に、半導体チップ搭載部が樹脂基板の幅方向に複数個並んだ半導体チップ搭載部列が樹脂基板の長手方向に多列に設けられ、
    搭載される半導体チップによって覆われる大きさの貫通孔が前記半導体チップ搭載部列上の各半導体チップ搭載部に形成された貫通孔列が前記樹脂基板の長手方向に多列に設けられ、
    前記樹脂基板の他方の面に、前記半導体チップ搭載部に搭載される半導体チップの端子部と、前記貫通孔を挿通するボンディングワイヤを介して電気的に接続される配線パターンが設けられた配線基板であって、
    前記各半導体チップ搭載部列に対応して、前記貫通孔列の延長線上となる、前記樹脂基板の一方の側縁部にのみ、前記樹脂基板の表裏に樹脂を流通させる樹脂流通孔が設けられたことを特徴とする配線基板。
  2. 請求項1記載の配線基板の各半導体チップ搭載部に前記貫通孔を覆うようにして半導体チップを搭載する工程と、
    搭載した半導体チップの端子部と前記配線パターンとを前記貫通孔を挿通するボンディングワイヤで電気的に接続する工程と、
    該半導体チップを搭載した配線基板を金型内に組み込む工程と、
    金型内に、封止用樹脂を注入して、前記各列の半導体チップを樹脂で封止した後、前記樹脂流通孔から樹脂を配線基板の配線パターン形成面側に流入して、前記貫通孔および前記ボンディングワイヤを樹脂で封止する樹脂封止工程とを具備することを特徴とする半導体装置の製造方法。
  3. 前記樹脂流通孔とは反対側となる前記樹脂基板の他方の側縁部側から金型内に封止用樹脂を注入することを特徴とする請求項2記載の半導体装置の製造方法。
  4. 前記配線パターンに外部接続用のボール端子を形成する工程を含むことを特徴とする請求項2または3記載の半導体装置の製造方法。
  5. 前記樹脂封止工程後、個片の半導体装置に切断する工程を含むことを特徴とする請求項2、3または4記載の半導体装置の製造方法。
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