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JP3833487B2 - Heating device - Google Patents
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JP3833487B2 - Heating device - Google Patents

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JP3833487B2 JP2001081199A JP2001081199A JP3833487B2 JP 3833487 B2 JP3833487 B2 JP 3833487B2 JP 2001081199 A JP2001081199 A JP 2001081199A JP 2001081199 A JP2001081199 A JP 2001081199A JP 3833487 B2 JP3833487 B2 JP 3833487B2
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Description

【0001】
【産業上の利用分野】
本発明は、電子部品が装着されたプリント基板などの基板を加熱してリフロー半田付けを行うようにした加熱装置の改良に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、例えば特許番号2782789号公報に開示されるように、電子部品が装着された基板の面上に対し均一加熱を行う加熱装置としては、図7および図8に示すような構成のものが知られている。図7において、51は電子部品を装着した基板、52はヒータを備えたノズル、53はヒータへの結線、54は熱電対、55は熱風温度コントローラ、56は熱解析シュミレーションにより基板内温度分布を解析する解析部である。
【0003】
これによれば、定位置に停止させた基板51の面上に対し複数のノズル52により一定温度の熱風を吹き付けた後、熱解析シュミレーションにより基板内温度分布を解析して基板51面上に発生する温度差を把握し、この結果に基づいて各ノズル52から吹き出す熱風温度を熱風温度コントローラ55により調整した後、再度各ノズル52から基板面上に対し熱風を吹き付けて、基板51面上の温度分布を均一にしてリフロー半田付けを行うようにしている。なお、図8は、加熱装置の概略構成図である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記従来の加熱装置は、基板51を搬送して停止させる工程と、停止させた基板上に一定温度の熱風を吹き付ける工程と、基板51面上の温度を解析により把握する工程と、このデータ(結果)に基づいて各ノズル52から吹き出す熱風温度を調整する工程と、再び基板面上に熱風を吹き付ける工程とを経て、リフロー半田付けが完了するようになっている。
【0005】
その場合、一連の工程を経てリフロー半田付けが完了するまでに相当の時間を必要とするため、生産効率が低下することになる。その上、各ノズル52から吹き出す熱風が拡散するため、基板面上において高密度に電子部品が装着されていると、基板面上での均一加熱を実践することが困難なものとなる。
【0006】
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、生産効率を向上させると共に、基板面上において均一加熱を実践することができる加熱装置を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明では、電子部品が装着された基板を搬送手段により搬送し、この基板を加熱してリフロー半田付けを行うようにした加熱装置を前提とする。そして、上記基板の面上での加熱時の温度分布を検出する温度分布検出手段と、この温度分布検出手段により検出された温度分布と基板面上の設定温度との差異に基づいて、基板面上の設定温度不足箇所に対して部分的に熱補充をう光ビーム装置と、この光ビーム装置を基板に対し係止させて基板の搬送速度に合わせて移動させる移動装置とを備え、上記光ビーム装置による基板面上での設定温度不足箇所に対する熱補充を、上記搬送手段による基板の搬送速度に合わせて移動させながら行うようにしている。
【0008】
この特定事項により、電子部品が装着された基板を搬送手段により搬送する工程と、基板を熱風などにより加熱する工程と、この加熱時の基板上での温度分布を温度分布検出手段により検出する工程と、この温度分布検出手段により検出された温度分布と基板面上の設定温度との差異に基づいて基板面上の設定温度不足箇所に対し熱補充を行う工程とを経て、リフロー半田付けが完了するようになっている。このため、一連の工程を経てリフロー半田付けが完了するまでに要する時間が短縮され、生産効率の向上を図ることが可能となる。その上、基板面上の設定温度不足箇所に対し部分的に熱補充が行われるので、ノズルから吹き出す熱風のように拡散することがなく、基板面上において高密度に電子部品が装着されていても必要箇所(設定温度不足箇所)にのみ熱補充が行われ、基板面上での均一加熱を実践することが可能となる。
【0009】
特に、熱補充を行う具体的な手法として、以下の構成が掲げられる。
【0010】
つまり、温度検出手段による基板面上での温度分布の検出を、設定温度不足箇所への熱補充を行う直前に行うようにした場合には、温度分布検出手段による温度分布の検出直後の基板面上の設定温度との差異に基づいて設定温度不足箇所への熱補充が行われ、正確かつ迅速に基板面上での均一加熱を実践することが可能となる。
【0011】
また、基板面上の設定温度不足箇所に対する熱補充を、光源より集光された複数の光ビームにより行うようにした場合には、基板面上の設定温度不足箇所に対する熱補充が正確に行われ、基板面上での精度の高い均一加熱を実践することが可能となる。
【0012】
そして、基板面上の設定温度不足箇所に対する熱補充を、搬送手段により基板を搬送させた状態で行うようにした場合には、基板の搬送を停止させることなく熱補充が行われ、リフロー半田付けが完了するまでに要する時間がより短縮され、生産効率の向上をより図ることが可能となる。
【0013】
加えて、基板面上の設定温度不足箇所に対する熱補充を、搬送手段による基板の搬送速度に合わせて移動させながら行うようにした場合には、熱補充に時間を要する箇所(設定温度不足箇所)であっても、基板の搬送速度に追従しながら熱補充が行われ、リフロー半田付けが完了するまでに要する時間が効果的に短縮され、生産効率の向上をさらに図ることが可能となる。
【0014】
更に、基板面上の設定温度不足箇所に対する熱補充の条件を、個々に異なる基板の種類毎に設定または記憶させるようにした場合には、種類の異なる基板への切替時に熱補充条件を新たに設定し直す必要がなく、生産効率の向上をより一層図ることが可能となる。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
【0016】
(第1の実施の形態)
図1は、本発明に係わる加熱装置1の概略構成を示している。
【0017】
図1において、11は基板、12は基板11を搬送する搬送手段としての搬送装置、13は光ビーム装置、14は光ビーム装置13を基板11の搬送速度に合わせて移動させる移動装置、15は基板11の面上での温度分布を検出する温度分布検出手段としての温度センサであり、これらの機器11〜15が加熱装置1に備えられている。
【0018】
基板11は、その面上に複数の電子部品11a,…が装着されたプリント基板であって、基板11面上に印刷したクリーム半田を介して各電子部品11aが実装されるようになっている。
【0019】
搬送装置12は、ベルトコンベア12aを備え、図2に示すように、加熱装置本体10の左右両側面(搬送方向と直行する面)よりそれぞれ突出するノズル10a,…から吹き出す一定温度の熱風により基板11を左右両方向から予熱(加熱)する予熱ゾーンから、基板11面上のクリーム半田をリフローするリフローゾーンまでの間に亘って、ベルトコンベア12a上の基板11を一定速度で搬送するようになされている。基板11は、ベルトコンベア12a上に所定間隔置きに設けられたパレット12b,…上に載置されている。この場合、リフローゾーンにおいても、同様のノズル10a,…から吹き出す一定温度の熱風により基板11を左右両方向から加熱するようになされている。
【0020】
光ビーム装置13は、リフローゾーンに設けられ、図3に示すように、基板11の面と略一致する面積を保有するテーブル13aより下方(基板11側)に突設された円筒状のノズル13bを複数備えている。この各ノズル13b内の基端部(上端部)付近には光熱源13cが設けられ、先端部(下端部)には凸レンズ13dが設けられている。そして、光熱源13cから放たれた光は、凸レンズ13dにより集光されて光ビーム13eとなり、基板11面上の所望する箇所(設定温度不足箇所)にピン・ポイントで部分的に照射するようになっている。上記光熱源13cから放たれる光量は調整可能となっており、これによって、最適加熱温度の光ビーム13eが基板11面上の設定温度不足箇所に対し照射されることになる。
【0021】
移動装置14は、図4の(a)および(b)に示すように、光ビーム装置13のテーブル13aの上面より突出する凸片13fをベルトコンベア12a(基板11)の搬送方向にスライド移動自在に支持するレール14aと、テーブル13aの前端部(基板11搬送方向の前端側)に一体的に取り付けられ、伸長時にピストンロッド14cの先端がパレット12bの前端に対し係止する伸縮自在なエアシリンダ14bと、テーブル13aをレール14aの後端位置(定位置)まで後方(ベルトコンベア12aの反搬送方向)へスライド移動させる駆動機構(図示せず)とを備えている。そして、図4の(a)に示すように、テーブル13aは、レール14a後端の定位置においてエアシリンダ14bの伸長によりピストンロッド14cの先端をパレット12bの前端に対し係止させることで、基板11の搬送速度に合わせて移動するようになっている。また、図4の(b)に示すように、テーブル13aは、レール14a前端位置においてエアシリンダ14bの収縮によりパレット12bの前端に対する係止を解除して駆動機構により後方へスライド移動させることで、レール14aの後端位置(定位置)に戻されるようになっている。
【0022】
温度センサ15は、赤外線により基板11面上の温度分布を検出するものである。この温度センサ15により検出された基板11面上の温度分布データはコンピュータ(図示せず)により分析され、この温度分布データと基板11面上の設定温度との差異に基づいて、光ビーム装置13の光熱源13cから放たれる光量を調整し、最適温度の光ビーム13eを基板11面上の設定温度不足箇所に対しピン・ポイントで部分的に照射(熱補充)するようになされている。この温度センサ15による基板11面上の温度分布の検出は、リフローゾーンにおいて光ビーム装置13の光熱源13cから光ビーム13eが照射される直前、つまり基板11の面上に対し熱補充する直前に行われるようになっている。
【0023】
ここで、加熱装置1による基板11面の加熱によりリフロー半田付けを行う手順について説明する。
【0024】
まず、ベルトコンベア12a上のパレット12b,…にそれぞれ基板11を載置し、ベルトコンベア12aにより予熱ゾーンに基板11を搬送する。すると、基板11は、予熱ゾーンにおいてノズルから吹き出す一定温度の熱風により予熱される。
【0025】
次いで、基板11をコンベア12aによりリフローゾーンへと搬送する。
【0026】
このリフローゾーンにおいても一定温度の熱風により基板11を継続して加熱する。そして、リフローゾーンに搬送した途端に温度センサ15により基板11面上の温度分布を検出する。この温度センサ15により検出した基板11面上の温度分布データをコンピュータにより分析する。このとき、コンピュータにより分析した温度分布データと基板11面上の設定温度との差異に基づいて光ビーム装置13の光熱源13cから放たれる光量が調整される。
【0027】
その後、基板11がレール14a後端の定位置下方まで搬送されて来ると、エアシリンダ14bの伸長によりピストンロッド14cの先端をパレット12bの前端に対し係止させて、光ビーム装置13のテーブル13aが基板11の搬送速度に合わせてレール14a上を移動し始める。
【0028】
このとき、光ビーム装置13の光熱源13cから放たれる光量が調整された最適温度の光ビーム13eを、基板11面上の設定温度不足箇所に対し搬送方向へ移動させながらピン・ポイントで部分的に照射(熱補充)する。
【0029】
これにより、電子部品11a,…が装着された基板11を搬送装置12(ベルトコンベア12a)により搬送する工程と、基板11を熱風により予熱および加熱する工程と、この加熱時の基板11上での温度分布を温度センサ15により検出してコンピュータにより分析する工程と、このコンピュータにより分析した温度分布データと基板11面上の設定温度との差異に基づいて基板11面上の設定温度不足箇所に対し光ビーム13eを照射して熱補充を行う工程とを経て、リフロー半田付けが完了するようになっている。このため、一連の工程を経てリフロー半田付けが完了するまでに要する時間が短縮される。しかも、基板11面上の設定温度不足箇所に対する熱補充が、ベルトコンベア12a上において基板11を載せたパレット12bの前端に対しエアシリンダ14bを伸長させてピストンロッド14cの先端を係止させることによって、光ビーム装置13のテーブル13aを基板11の搬送速度に合わせてレール14a上を移動させながら行われるので、熱補充に時間を要する箇所(設定温度不足箇所)であっても、基板11の搬送速度に追従しながら熱補充が行われ、リフロー半田付けが完了するまでに要する時間が効果的に短縮される。この結果、生産効率の向上を図ることができる。
【0030】
また、基板11面上の設定温度不足箇所に対し部分的に熱補充が行われるので、ノズルから吹き出す熱風のように拡散することがなく、基板11面上において高密度に電子部品11aが装着されていても必要箇所(設定温度不足箇所)にのみ熱補充が行われる。その上、温度センサ15による基板11面上の温度分布の検出が、基板11の面上に対し光熱源13cからの光ビーム13eの照射によって熱補充する直前に行われるようになっているので、温度センサ15による温度分布の検出直後の基板11面上の設定温度との差異に基づいて設定温度不足箇所への熱補充が行われる。しかも、コンピュータにより分析された温度分布データと基板11面上の設定温度との差異に基づいて、光ビーム装置13の光熱源13cから放たれる光量が調整されて最適温度の光ビーム13eが基板11面上の設定温度不足箇所に対しピン・ポイントで部分的に照射されるので、設定温度不足箇所への熱補充が最適に行われる。この結果、基板11面上での効果的な均一加熱を実践することができることになる。
【0031】
(第2の実施の形態)
次に、本発明の第2の実施の形態を図5に基づいて説明する。
【0032】
この実施形態では、移動装置によるテーブルの移動速度(追従速度)および光ビームの温度調整を個々に異なる基板の種類に応じて制御するようにしている。なお、移動装置を除くその他の構成は、上記第1の実施形態の場合と同じであり、同一の部分については同じ符号を付してその説明は省略する。
【0033】
すなわち、本実施形態では、図5に示すように、加熱装置1の制御およびプログラムデータを設定または記憶するコンピュータ21と、移動装置14のテーブル13aの移動速度を調整する速度調整ユニット22と、光ビーム13eの照射温度を調整する温度調整ユニット23とを備えている。
【0034】
コンピュータ21は、温度センサ15により検出した基板11面上の温度分布データを分析するほか、搬送装置12のベルトコンベア12aの搬送速度データも分析するようになっている。
【0035】
速度調整ユニット22は、光ビーム装置13のテーブル13aを基板11の搬送速度に合わせて移動させる際の移動装置24による移動速度を調整するようになされている。移動装置24は、光ビーム装置13のテーブル13aの上面より突出する凸片13fをベルトコンベア12a(基板11)の搬送方向にスライド移動自在に支持するレール24aと、テーブル13aをレール14aの後端位置(定位置)と前端位置との間で前後方向へスライド移動させる駆動機構(図示せず)とを備えている。
【0036】
そして、コンピュータ21は、分析した温度分布データと基板11面上の設定温度との差異に基づいて光ビーム装置13の光熱源13cから放たれる光量の調整量を決定し、温度調整ユニット23に対し指令信号を出力する。また、コンピュータ21は、分析した搬送装置12のベルトコンベア12aの搬送速度データに基づいて駆動機構によるテーブル13aのレール14a後端位置から前端位置までの前方へのスライド移動速度を決定し、速度調整ユニット22に対し指令信号を出力する。また、コンピュータ21は、分析した温度分布データと基板11面上の設定温度との差異に基づいて光ビーム装置13の光熱源13cから放たれる光量の調整量や、分析した搬送装置12のベルトコンベア12aの搬送速度データに基づいて駆動機構によるテーブル13aのレール14a後端位置から前端位置までの前方へのスライド移動速度といった、個々に異なる基板11の種類毎に基板11面上の設定温度不足箇所に対する熱補充の条件などのプログラムデータを設定または記憶するようになされている。
【0037】
ここで、加熱装置1による基板11面の加熱によりリフロー半田付けを行う手順について説明する。
【0038】
まず、ベルトコンベア12a上のパレット12b,…にそれぞれ基板11を載置し、ベルトコンベア12aにより予熱ゾーンに基板11を搬送し、予熱ゾーンにおいてノズルから吹き出す一定温度の熱風により基板11を予熱させる。
【0039】
次いで、基板11をコンベア12aによりリフローゾーンへと搬送し、一定温度の熱風により基板11を継続して加熱する。それから、リフローゾーンに基板11を搬送した途端に温度センサ15により基板11面上の温度分布を検出する。この温度センサ15により検出した基板11面上の温度分布データ、およびベルトコンベア12aの搬送速度データをコンピュータによりそれぞれ分析する。
【0040】
このとき、コンピュータ21により分析した温度分布データと基板11面上の設定温度との差異に基づいて光ビーム装置13の光熱源13cから放たれる光量を決定して温度調整ユニット23に対し指令信号を出力する。一方、コンピュータ21により分析したベルトコンベア12aの搬送速度データに基づいて駆動機構によるテーブル13aのスライド移動速度を決定して速度調整ユニット22に対し指令信号を出力する。
【0041】
その後、基板11がレール14a後端の定位置下方まで搬送されて来ると、速度調整ユニット22により調整されたスライド移動速度、つまりベルトコンベア12a上の基板11と同期する速度で光ビーム装置13のテーブル13aをレール24a上において移動させ始める。
【0042】
このとき、光ビーム装置13の光熱源13cから放たれる光量が調整された最適温度の光ビーム13eを、基板11面上の設定温度不足箇所に対し搬送方向へ移動させながらピン・ポイントで部分的に照射(熱補充)する。
【0043】
これにより、種類の異なる基板11への切替時、コンピュータ21により分析した温度分布データと基板11面上の設定温度との差異に基づいて光ビーム装置13の光熱源13cから放たれる光量の調整量や、コンピュータ21で分析した搬送装置12のベルトコンベア12aの搬送速度データに基づいて駆動機構によるテーブル13aのレール14a後端位置から前端位置までの前方へのスライド移動速度といった、個々に異なる基板11の種類毎に基板11面上の設定温度不足箇所に対する熱補充の条件などのプログラムデータを新たに設定し直す必要がなく、生産効率の向上をより一層図ることができる。
【0044】
(他の実施の形態)
なお、上記第1の実施形態では、基板11がレール14a後端の定位置下方まで搬送されて来たときにピストンロッド14cの先端をパレット12bの前端に係止させて光ビーム装置13のテーブル13aを基板11の搬送速度に合わせてレール14a上を移動させるようにし、上記第2の実施形態では、基板11がレール14a後端の定位置下方まで搬送されて来たときに速度調整ユニット22により調整されたスライド移動速度で光ビーム装置13のテーブル13aを移動させるようにしたが、図6に示すように、基板11がレール14a後端の定位置下方まで搬送されて来たときに、パレット12bの一側端(図6では左側)に固設された検知片31を、テーブル13aより垂下する透過形センサ32により検知すると、コンピュータ21に信号を出力して速度調整ユニット22に対し指令信号を出力するようにしてもよい。この場合、検知片31の位置を検知する透過形センサ32からの位置ズレ信号などによってコンピュータ21の速度調整ユニット22に対する指令信号を微調整することで、基板11の搬送速度に対し光ビーム装置13(光熱源13c)を同期させた状態で移動させることができることになる。
【0045】
また、上記各実施形態では、基板11面上の設定温度不足箇所に対する熱補充を搬送装置12による基板11の搬送速度に合わせて光ビーム装置13を移動させながら行うようにしたが、基板面上の設定温度不足箇所に対する熱補充が、光ビーム装置を移動させずに搬送装置により基板のみを搬送させて行われるようにしてもよい。この場合、基板の搬送を停止させることなく熱補充が行われ、リフロー半田付けが完了するまでに要する時間が短縮されて、生産効率の向上を図ることが可能となる。
【0046】
【発明の効果】
以上のように、本発明によれば、基板上での温度分布と設定温度との差異に基づいて設定温度不足箇所に対し部分的に熱補充を行うことで、リフロー半田付けの完了に要する時間を短縮して生産効率の向上を図ることができるとともに、基板面上の設定温度不足箇所にのみ熱補充を行って基板面上での均一加熱を実践することができる。
【0047】
特に、設定温度不足箇所への熱補充を行う直前に基板面上での温度分布の検出を行うことで、温度分布の検出直後の基板面上の設定温度との差異に基づいて設定温度不足箇所への熱補充を行え、正確かつ迅速に基板面上での均一加熱を実践することができる。
【0048】
また、光源より集光する複数の光ビームにより設定温度不足箇所に対する熱補充を行うことで、設定温度不足箇所に対する熱補充を正確に行えて、基板面上での精度の高い均一加熱を実践することができる。
【0049】
そして、基板を搬送させた状態で設定温度不足箇所に対する熱補充を行うことで、基板の搬送を停止させずに熱補充を行えて、リフロー半田付けの完了に要する時間をより短縮し、生産効率の向上をより図ることができる。
【0050】
加えて、設定温度不足箇所に対する熱補充を基板の搬送速度に合わせて移動させながら行うことで、基板の搬送速度に追従しながら熱補充を行えて、リフロー半田付けの完了に要する時間を効果的に短縮し、生産効率の向上をさらに図ることができる。
【0051】
更に、個々に異なる基板の種類毎に設定温度不足箇所に対する熱補充の条件を設定または記憶させることで、種類の異なる基板への切替時に熱補充条件の新たな設定を不要にし、生産効率の向上をより一層図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態に係わる加熱装置の概略構成を基板の搬送方向と直行する方向から見た側面図である。
【図2】同加熱装置を基板の搬送方向から見た正面図である。
【図3】同じく光ビーム装置の概略構成を示す断面図である。
【図4】(a)は同じく移動装置のパレット前端への係止状態を示す説明図である。
(b)は同移動装置のパレット前端への係止解除状態を示す説明図である。
【図5】本発明の第2の実施形態に係わる加熱装置の概略構成を基板の搬送方向と直行する方向から見た側面図である。
【図6】その他の実施形態に係わる加熱装置を基板の搬送方向から見た正面図である。
【図7】従来例に係わる加熱装置の構成を説明する斜視図である。
【図8】同加熱装置の概略構成図である。
【符号の説明】
1 加熱装置
11 基板
12 搬送装置(搬送手段)
11a 電子部品
13c 光熱源(光源)
13e 光ビーム
15 温度センサ(温度分布検出手段)
[0001]
[Industrial application fields]
The present invention relates to an improvement in a heating apparatus that heats a board such as a printed board on which electronic components are mounted to perform reflow soldering.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, as disclosed in, for example, Japanese Patent No. 2784789, as a heating device that uniformly heats a surface of a substrate on which an electronic component is mounted, one having a configuration as shown in FIGS. 7 and 8 is known. It has been. In FIG. 7, 51 is a board on which electronic components are mounted, 52 is a nozzle provided with a heater, 53 is a connection to the heater, 54 is a thermocouple, 55 is a hot air temperature controller, and 56 is a temperature analysis within the board by thermal analysis simulation. An analysis unit for analysis.
[0003]
According to this, after the hot air having a constant temperature is blown by the plurality of nozzles 52 on the surface of the substrate 51 stopped at a fixed position, the temperature distribution in the substrate is analyzed by the thermal analysis simulation and generated on the surface of the substrate 51. The hot air temperature blown from each nozzle 52 based on this result is adjusted by the hot air temperature controller 55, and then hot air is blown again from the nozzles 52 onto the substrate surface to obtain the temperature on the substrate 51 surface. Reflow soldering is performed with a uniform distribution. FIG. 8 is a schematic configuration diagram of the heating device.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
By the way, the conventional heating apparatus includes a step of conveying and stopping the substrate 51, a step of blowing hot air at a constant temperature on the stopped substrate, a step of grasping the temperature on the surface of the substrate 51 by analysis, The reflow soldering is completed through a process of adjusting the temperature of hot air blown from each nozzle 52 based on the data (result) and a process of blowing hot air on the substrate surface again.
[0005]
In that case, since a considerable amount of time is required until reflow soldering is completed through a series of steps, the production efficiency is lowered. In addition, since the hot air blown from each nozzle 52 is diffused, it is difficult to practice uniform heating on the substrate surface when electronic components are mounted at a high density on the substrate surface.
[0006]
This invention is made | formed in view of this point, The place made into the objective is to provide the heating apparatus which can practice uniform heating on a substrate surface while improving production efficiency.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, the present invention is premised on a heating apparatus in which a substrate on which an electronic component is mounted is conveyed by a conveying means, and the substrate is heated to perform reflow soldering. Then, based on the difference between the temperature distribution detecting means for detecting the temperature distribution during heating on the surface of the substrate and the temperature distribution detected by the temperature distribution detecting means and the set temperature on the substrate surface, partially heat replenished rows cormorants beam device with respect to the set temperature insufficient portion of the upper, and a moving device that moves in accordance with the conveying speed of the substrate with the light beam apparatus is engaged to the substrate, the Heat replenishment to the set temperature insufficient portion on the substrate surface by the light beam apparatus is performed while moving according to the substrate transport speed by the transport means.
[0008]
According to this specific matter, the step of transporting the substrate on which the electronic component is mounted by the transporting unit, the step of heating the substrate by hot air or the like, and the step of detecting the temperature distribution on the substrate at the time of heating by the temperature distribution detecting unit And reflow soldering is completed through a process of replenishing heat to the set temperature insufficient portion on the board surface based on the difference between the temperature distribution detected by the temperature distribution detecting means and the set temperature on the board surface It is supposed to be. For this reason, the time required for completing the reflow soldering through a series of steps is shortened, and the production efficiency can be improved. In addition, since heat supplementation is partially performed on the part where the set temperature is insufficient on the board surface, it does not diffuse like hot air blown from the nozzle, and electronic components are mounted on the board surface with high density. In addition, heat replenishment is performed only at necessary portions (locations where the set temperature is insufficient), and uniform heating on the substrate surface can be practiced.
[0009]
In particular, the following configuration is listed as a specific method for performing heat replenishment.
[0010]
In other words, when the temperature detection on the substrate surface by the temperature detection means is performed immediately before the heat replenishment to the place where the set temperature is insufficient, the substrate surface immediately after the temperature distribution detection by the temperature distribution detection means is performed. Based on the difference from the above set temperature, heat replenishment is performed to the place where the set temperature is insufficient, and uniform heating on the substrate surface can be practiced accurately and quickly.
[0011]
In addition, when heat replenishment for a set temperature shortage location on the substrate surface is performed by a plurality of light beams collected from the light source, heat replenishment for the location where the set temperature deficiency is insufficient on the substrate surface is accurately performed. It is possible to practice uniform heating with high accuracy on the substrate surface.
[0012]
Then, when heat replenishment is performed on a place where the set temperature is insufficient on the substrate surface in a state where the substrate is conveyed by the conveying means, heat replenishment is performed without stopping the substrate conveyance, and reflow soldering is performed. The time required to complete the process is further shortened, and the production efficiency can be further improved.
[0013]
In addition, when heat replenishment is performed on a part where the set temperature is insufficient on the substrate surface while moving according to the substrate transport speed by the transport means, the part that requires time for heat replenishment (part where the set temperature is insufficient) Even so, the heat replenishment is performed while following the substrate conveyance speed, and the time required to complete the reflow soldering is effectively shortened, and the production efficiency can be further improved.
[0014]
In addition, when the heat replenishment conditions for locations where the set temperature is insufficient on the substrate surface are set or stored for each different substrate type, the heat replenishment conditions are newly set when switching to a different type of substrate. There is no need to re-set, and the production efficiency can be further improved.
[0015]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
[0016]
(First embodiment)
FIG. 1 shows a schematic configuration of a heating apparatus 1 according to the present invention.
[0017]
In FIG. 1, 11 is a substrate, 12 is a transport device as a transport means for transporting the substrate 11, 13 is a light beam device, 14 is a moving device that moves the light beam device 13 in accordance with the transport speed of the substrate 11, and 15 is It is a temperature sensor as temperature distribution detecting means for detecting a temperature distribution on the surface of the substrate 11, and these devices 11 to 15 are provided in the heating device 1.
[0018]
The substrate 11 is a printed circuit board on which a plurality of electronic components 11a,... Are mounted, and each electronic component 11a is mounted via cream solder printed on the surface of the substrate 11. .
[0019]
The conveying device 12 includes a belt conveyor 12a and, as shown in FIG. 2, the substrate is heated by hot air having a constant temperature blown from nozzles 10a,... Protruding from the left and right side surfaces (surfaces orthogonal to the conveying direction) of the heating device body 10. The substrate 11 on the belt conveyor 12a is transported at a constant speed from a preheating zone for preheating (heating) 11 in both the left and right directions to a reflow zone for reflowing the cream solder on the surface of the substrate 11. Yes. The substrate 11 is placed on pallets 12b,... Provided on the belt conveyor 12a at predetermined intervals. In this case, also in the reflow zone, the substrate 11 is heated from both the left and right directions by hot air having a constant temperature blown from the same nozzles 10a,.
[0020]
The light beam device 13 is provided in the reflow zone, and as shown in FIG. 3, a cylindrical nozzle 13b protruding downward (substrate 11 side) from a table 13a having an area substantially coincident with the surface of the substrate 11. There are multiple. A light heat source 13c is provided near the base end (upper end) in each nozzle 13b, and a convex lens 13d is provided at the tip (lower end). Then, the light emitted from the photothermal source 13c is condensed by the convex lens 13d to become a light beam 13e, so that a desired location (location where the set temperature is insufficient) on the surface of the substrate 11 is partially irradiated with a pin point. It has become. The amount of light emitted from the light heat source 13c can be adjusted, and thereby, the light beam 13e having the optimum heating temperature is irradiated onto the portion of the substrate 11 where the set temperature is insufficient.
[0021]
As shown in FIGS. 4A and 4B, the moving device 14 is slidably movable in the conveying direction of the belt conveyor 12a (substrate 11) on the convex piece 13f protruding from the upper surface of the table 13a of the light beam device 13. A telescopic air cylinder that is integrally attached to a rail 14a supported on the front and a front end of the table 13a (a front end in the direction of conveyance of the substrate 11), and the tip of the piston rod 14c is locked to the front end of the pallet 12b when extended. 14b and a drive mechanism (not shown) that slides the table 13a to the rear end (fixed position) of the rail 14a backward (in the opposite direction of the belt conveyor 12a). Then, as shown in FIG. 4A, the table 13a is configured such that the front end of the piston rod 14c is locked to the front end of the pallet 12b by extending the air cylinder 14b at a fixed position at the rear end of the rail 14a. 11 is moved in accordance with the transport speed of 11. Further, as shown in FIG. 4B, the table 13a is slid rearward by the drive mechanism by releasing the locking to the front end of the pallet 12b by contraction of the air cylinder 14b at the front end position of the rail 14a. The rail 14a is returned to the rear end position (fixed position).
[0022]
The temperature sensor 15 detects the temperature distribution on the surface of the substrate 11 by infrared rays. The temperature distribution data on the surface of the substrate 11 detected by the temperature sensor 15 is analyzed by a computer (not shown), and based on the difference between the temperature distribution data and the set temperature on the surface of the substrate 11, the light beam device 13. The amount of light emitted from the photothermal source 13c is adjusted, and the light beam 13e having the optimum temperature is partially irradiated (heat replenishment) at a set point shortage on the surface of the substrate 11 at a pin point. The temperature distribution on the surface of the substrate 11 by the temperature sensor 15 is detected immediately before the light beam 13e is irradiated from the photothermal source 13c of the light beam device 13 in the reflow zone, that is, immediately before the surface of the substrate 11 is replenished with heat. To be done.
[0023]
Here, a procedure for performing reflow soldering by heating the surface of the substrate 11 by the heating device 1 will be described.
[0024]
First, the substrate 11 is placed on each of the pallets 12b,... On the belt conveyor 12a, and the substrate 11 is conveyed to the preheating zone by the belt conveyor 12a. Then, the board | substrate 11 is preheated with the hot air of the fixed temperature which blows off from a nozzle in a preheating zone.
[0025]
Subsequently, the board | substrate 11 is conveyed to the reflow zone by the conveyor 12a.
[0026]
Even in this reflow zone, the substrate 11 is continuously heated by hot air having a constant temperature. The temperature sensor 15 detects the temperature distribution on the surface of the substrate 11 as soon as it is conveyed to the reflow zone. The temperature distribution data on the surface of the substrate 11 detected by the temperature sensor 15 is analyzed by a computer. At this time, the amount of light emitted from the photothermal source 13c of the light beam device 13 is adjusted based on the difference between the temperature distribution data analyzed by the computer and the set temperature on the surface of the substrate 11.
[0027]
Thereafter, when the substrate 11 is conveyed to a position below the rear end of the rail 14a, the tip of the piston rod 14c is locked to the front end of the pallet 12b by extension of the air cylinder 14b, and the table 13a of the light beam device 13 is engaged. Begins to move on the rail 14a in accordance with the conveyance speed of the substrate 11.
[0028]
At this time, the light beam 13e having the optimum temperature adjusted in the amount of light emitted from the light source 13c of the light beam device 13 is partially moved at the pin point while moving in the transport direction with respect to the set temperature shortage portion on the surface of the substrate 11. Irradiation (heat supplementation).
[0029]
Thereby, the process of conveying the board | substrate 11 with which electronic component 11a, ... was mounted | worn by the conveying apparatus 12 (belt conveyor 12a), the process of pre-heating and heating the board | substrate 11 with a hot air, and the board | substrate 11 at the time of this heating A step of detecting the temperature distribution by the temperature sensor 15 and analyzing it by a computer, and a point where the set temperature is insufficient on the surface of the substrate 11 based on the difference between the temperature distribution data analyzed by the computer and the set temperature on the surface of the substrate 11 The reflow soldering is completed through a step of irradiating the light beam 13e and performing heat replenishment. For this reason, the time required for completing the reflow soldering through a series of steps is shortened. In addition, heat replenishment to the place where the set temperature is insufficient on the surface of the substrate 11 is achieved by extending the air cylinder 14b to the front end of the pallet 12b on which the substrate 11 is placed on the belt conveyor 12a and locking the tip of the piston rod 14c. Since the table 13a of the light beam device 13 is moved on the rail 14a in accordance with the conveyance speed of the substrate 11, the substrate 11 can be conveyed even at a place where heat supplementation takes time (a place where the set temperature is insufficient). Heat replenishment is performed while following the speed, and the time required to complete reflow soldering is effectively shortened. As a result, production efficiency can be improved.
[0030]
In addition, since heat replenishment is partially performed on a portion where the set temperature is insufficient on the surface of the substrate 11, the electronic components 11a are mounted on the surface of the substrate 11 with high density without being diffused like hot air blown from the nozzle. Even if it is, heat replenishment is performed only in necessary places (places where the set temperature is insufficient). In addition, the detection of the temperature distribution on the surface of the substrate 11 by the temperature sensor 15 is performed immediately before the surface of the substrate 11 is replenished with heat by irradiation with the light beam 13e from the photothermal source 13c. Based on the difference from the set temperature on the surface of the substrate 11 immediately after detection of the temperature distribution by the temperature sensor 15, the heat replenishment to the set temperature insufficient portion is performed. In addition, based on the difference between the temperature distribution data analyzed by the computer and the set temperature on the surface of the substrate 11, the amount of light emitted from the photothermal source 13c of the light beam device 13 is adjusted, and the light beam 13e having the optimum temperature is formed on the substrate. Irradiation is partially performed at a pin point on a set temperature deficient portion on the 11th surface, so that heat replenishment to the set temperature deficient portion is optimally performed. As a result, effective uniform heating on the surface of the substrate 11 can be practiced.
[0031]
(Second Embodiment)
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
[0032]
In this embodiment, the moving speed (following speed) of the table and the temperature adjustment of the light beam by the moving device are individually controlled according to different types of substrates. The other configurations except for the moving device are the same as those in the first embodiment, and the same portions are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.
[0033]
That is, in this embodiment, as shown in FIG. 5, the computer 21 that sets or stores the control and program data of the heating device 1, the speed adjustment unit 22 that adjusts the moving speed of the table 13a of the moving device 14, and the light And a temperature adjustment unit 23 for adjusting the irradiation temperature of the beam 13e.
[0034]
The computer 21 analyzes temperature distribution data on the surface of the substrate 11 detected by the temperature sensor 15 and also analyzes transport speed data of the belt conveyor 12a of the transport device 12.
[0035]
The speed adjusting unit 22 adjusts the moving speed of the moving device 24 when moving the table 13 a of the light beam device 13 in accordance with the transport speed of the substrate 11. The moving device 24 includes a rail 24a that supports a protruding piece 13f protruding from the upper surface of the table 13a of the light beam device 13 so as to be slidable in the conveying direction of the belt conveyor 12a (substrate 11), and the table 13a is a rear end of the rail 14a. A drive mechanism (not shown) that slides in the front-rear direction between the position (fixed position) and the front end position is provided.
[0036]
Then, the computer 21 determines the adjustment amount of the amount of light emitted from the photothermal source 13 c of the light beam device 13 based on the difference between the analyzed temperature distribution data and the set temperature on the surface of the substrate 11. A command signal is output. Further, the computer 21 determines the forward slide moving speed from the rear end position of the rail 14a to the front end position of the table 13a by the driving mechanism based on the analyzed conveying speed data of the belt conveyor 12a of the conveying apparatus 12, and adjusts the speed. A command signal is output to the unit 22. Further, the computer 21 adjusts the amount of light emitted from the photothermal source 13c of the light beam device 13 based on the difference between the analyzed temperature distribution data and the set temperature on the surface of the substrate 11, and the belt of the analyzed transport device 12 Insufficient set temperature on the surface of the substrate 11 for each different type of substrate 11 such as the forward slide movement speed from the rear end position of the rail 14a to the front end position of the table 13a by the driving mechanism based on the conveyance speed data of the conveyor 12a Program data such as heat replenishment conditions for the location is set or stored.
[0037]
Here, a procedure for performing reflow soldering by heating the surface of the substrate 11 by the heating device 1 will be described.
[0038]
First, the substrate 11 is placed on each of the pallets 12b,... On the belt conveyor 12a, the substrate 11 is transported to the preheating zone by the belt conveyor 12a, and the substrate 11 is preheated by hot air blown from a nozzle in the preheating zone.
[0039]
Subsequently, the board | substrate 11 is conveyed to a reflow zone by the conveyor 12a, and the board | substrate 11 is continuously heated with the hot air of fixed temperature. Then, as soon as the substrate 11 is transported to the reflow zone, the temperature distribution on the surface of the substrate 11 is detected by the temperature sensor 15. The computer analyzes the temperature distribution data on the surface of the substrate 11 detected by the temperature sensor 15 and the conveyance speed data of the belt conveyor 12a.
[0040]
At this time, the amount of light emitted from the photothermal source 13c of the light beam device 13 is determined based on the difference between the temperature distribution data analyzed by the computer 21 and the set temperature on the surface of the substrate 11, and a command signal is sent to the temperature adjustment unit 23. Is output. On the other hand, based on the conveyance speed data of the belt conveyor 12 a analyzed by the computer 21, the slide movement speed of the table 13 a by the drive mechanism is determined and a command signal is output to the speed adjustment unit 22.
[0041]
After that, when the substrate 11 is conveyed to a position below the rear end of the rail 14a, the slide beam speed adjusted by the speed adjusting unit 22, that is, the speed of the light beam device 13 is synchronized with the substrate 11 on the belt conveyor 12a. The table 13a starts to move on the rail 24a.
[0042]
At this time, the light beam 13e having the optimum temperature adjusted in the amount of light emitted from the light source 13c of the light beam device 13 is partially moved at the pin point while moving in the transport direction with respect to the set temperature shortage portion on the surface of the substrate 11. Irradiation (heat supplementation).
[0043]
Thereby, when switching to a different type of substrate 11, the amount of light emitted from the photothermal source 13 c of the light beam device 13 is adjusted based on the difference between the temperature distribution data analyzed by the computer 21 and the set temperature on the surface of the substrate 11. Individually different substrates such as the amount of slide movement speed from the rear end position of the rail 14a to the front end position of the table 13a by the drive mechanism based on the amount and the conveyance speed data of the belt conveyor 12a of the conveyance device 12 analyzed by the computer 21 For each of the 11 types, it is not necessary to newly set program data such as heat replenishment conditions for locations where the set temperature is insufficient on the surface of the substrate 11, and the production efficiency can be further improved.
[0044]
(Other embodiments)
In the first embodiment, when the substrate 11 is conveyed to a position below the rear end of the rail 14a, the tip of the piston rod 14c is locked to the front end of the pallet 12b, and the table of the light beam device 13 is used. 13a is moved on the rail 14a in accordance with the conveyance speed of the substrate 11, and in the second embodiment, the speed adjustment unit 22 is moved when the substrate 11 is conveyed to a position below the rear end of the rail 14a. The table 13a of the light beam device 13 is moved at a slide moving speed adjusted by the above, but as shown in FIG. 6, when the substrate 11 is conveyed to a position below the rear end of the rail 14a, When the detection piece 31 fixed to one end (left side in FIG. 6) of the pallet 12b is detected by the transmission type sensor 32 hanging from the table 13a, the computer To speed control unit 22 outputs a signal to 1 may output the command signal. In this case, the light beam device 13 is adjusted with respect to the conveyance speed of the substrate 11 by finely adjusting a command signal to the speed adjustment unit 22 of the computer 21 by a position shift signal from the transmission sensor 32 that detects the position of the detection piece 31. The (photothermal source 13c) can be moved in a synchronized state.
[0045]
Further, in each of the above embodiments, the heat replenishment for the set temperature shortage portion on the surface of the substrate 11 is performed while moving the light beam device 13 in accordance with the transport speed of the substrate 11 by the transport device 12. The replenishment of heat to the set temperature deficient portion may be performed by transporting only the substrate by the transport device without moving the light beam device. In this case, heat replenishment is performed without stopping the conveyance of the substrate, the time required for completing the reflow soldering is shortened, and the production efficiency can be improved.
[0046]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, the time required for completing the reflow soldering by partially replenishing heat to the portion where the set temperature is insufficient based on the difference between the temperature distribution on the substrate and the set temperature. The production efficiency can be improved by shortening the temperature of the substrate, and uniform heating on the substrate surface can be practiced by replenishing heat only to the portions where the set temperature is insufficient on the substrate surface.
[0047]
In particular, by detecting the temperature distribution on the substrate surface immediately before heat replenishment to the location where the set temperature is insufficient, the location where the set temperature is insufficient based on the difference from the set temperature on the substrate surface immediately after detecting the temperature distribution. Heat can be replenished, and uniform heating on the substrate surface can be practiced accurately and quickly.
[0048]
In addition, by performing heat supplementation for locations with insufficient set temperatures using multiple light beams collected from the light source, it is possible to accurately perform heat supplementation for locations with insufficient preset temperatures, and practice uniform heating with high accuracy on the substrate surface. be able to.
[0049]
In addition, heat replenishment for locations where the set temperature is insufficient while the substrate is being transported enables heat replenishment without stopping the transport of the substrate, further reducing the time required to complete reflow soldering and improving production efficiency. Can be further improved.
[0050]
In addition, heat replenishment for locations where the set temperature is insufficient is performed while moving according to the board conveyance speed, so that heat replenishment can be performed while following the board conveyance speed, effectively reducing the time required to complete reflow soldering. The production efficiency can be further improved.
[0051]
In addition, by setting or storing heat replenishment conditions for locations where the set temperature is insufficient for each different type of board, no new setting of heat replenishment conditions is required when switching to a different type of board, improving production efficiency. Can be further improved.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a side view of a schematic configuration of a heating apparatus according to a first embodiment of the present invention as viewed from a direction orthogonal to a substrate transport direction.
FIG. 2 is a front view of the heating device as viewed from the substrate transport direction.
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of the light beam device.
FIG. 4A is an explanatory view showing a state where the moving device is locked to the pallet front end in the same manner.
(B) is explanatory drawing which shows the latch release state to the pallet front end of the movement apparatus.
FIG. 5 is a side view of a schematic configuration of a heating apparatus according to a second embodiment of the present invention as viewed from a direction orthogonal to a substrate transport direction.
FIG. 6 is a front view of a heating apparatus according to another embodiment as viewed from the substrate transport direction.
FIG. 7 is a perspective view illustrating a configuration of a heating device according to a conventional example.
FIG. 8 is a schematic configuration diagram of the heating apparatus.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Heating apparatus 11 Board | substrate 12 Conveyance apparatus (conveyance means)
11a Electronic component 13c Photothermal source (light source)
13e Light beam 15 Temperature sensor (temperature distribution detection means)

Claims (4)

電子部品が装着された基板を搬送手段により搬送し、この基板を加熱してリフロー半田付けを行うようにした加熱装置において、
上記基板の面上での加熱時の温度分布を検出する温度分布検出手段と、
この温度分布検出手段により検出された温度分布と基板面上の設定温度との差異に基づいて、基板面上の設定温度不足箇所に対して部分的に熱補充を行う光ビーム装置と、
この光ビーム装置を基板に対し係止させて基板の搬送速度に合わせて移動させる移動装置と
を備え、
上記光ビーム装置による基板面上での設定温度不足箇所に対する熱補充は、上記搬送手段による基板の搬送速度に合わせて移動しながら行われるようになっていることを特徴とする加熱装置。
In a heating apparatus in which a substrate on which electronic components are mounted is conveyed by a conveying means, and this substrate is heated to perform reflow soldering,
Temperature distribution detecting means for detecting the temperature distribution during heating on the surface of the substrate ;
Based on the difference between the temperature distribution detected by the temperature distribution detection means and the set temperature on the substrate surface, a light beam device that partially replenishes heat at a set temperature shortage location on the substrate surface;
A moving device that locks the light beam device with respect to the substrate and moves the light beam device in accordance with the substrate transport speed
With
The heating apparatus according to claim 1, wherein the light beam device replenishes heat to a portion where the set temperature is insufficient on the substrate surface while moving according to the substrate transport speed by the transport means .
上記請求項1に記載の加熱装置において、
温度検出手段による基板面上での温度分布の検出は、設定温度不足箇所への熱補充を行う直前に行われるようになっていることを特徴とする加熱装置。
In the heating apparatus according to claim 1,
A heating apparatus characterized in that detection of a temperature distribution on a substrate surface by a temperature detection means is performed immediately before replenishing heat to a location where a set temperature is insufficient.
上記請求項1または請求項2に記載の加熱装置において、
光ビーム装置による基板面上の設定温度不足箇所に対する熱補充は、光源より集光された複数の光ビームにより行われるようになっていることを特徴とする加熱装置。
In the heating apparatus according to claim 1 or 2,
Thermal supplementation on set temperatures insufficient locations on the substrate surface by the light beam apparatus, heating apparatus, characterized in that adapted to be performed by a plurality of light beam focused from a light source.
上記請求項1〜請求項3のいずれか1つに記載の加熱装置において、
基板面上の設定温度不足箇所に対する熱補充の条件は、個々に異なる基板の種類毎に設定または記憶されるようになっていることを特徴とする加熱装置。
In the heating apparatus according to any one of claims 1 to 3,
The heating apparatus is characterized in that the conditions for heat replenishment with respect to the set temperature deficient portion on the substrate surface are set or stored for each different type of substrate.
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