JP3847580B2 - Photocurable composition - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示素子や固体撮像素子に用いられるカラーフィルターのブラックマトリックスを作製するに好適な光硬化性組成物及びそれを用いて形成されたカラーフィルターに関する。
【0002】
【従来の技術】
液晶表示装置などに使用されるカラーフィルターのブラックマトリックスは遮光性と絶縁性が必要であり、その双方を満たす素材として粒子表面を有機物で被覆した絶縁性カーボンブラックを使用している。特に、TFT層と同じ側にブラックマトリックスを設ける液晶表示装置の場合、電界のリークなどの問題を考慮して絶縁性は高いものが要求される。
遮光性が優れていることからブラックマトリックス用顔料にはカーボンブラックが使用されている。そして、絶縁性を高めるためにカーボンブラックの表面に一定の処理が施される。例えばストラクチャーなどの粒子構造を壊した後にカーボンブラックの一次粒子表面にグラフト化により有機物を化学的に結合したり、被膜形成性のポリマーで被覆したり様々な方法で有機物を付着させる方法で粒子の集まりである粉末としての電気抵抗を高め絶縁性にする手法が一般的に広く採用されている。例えば、特開平11−323143号では、遮光性感光性組成物として、樹脂で被覆されたカーボンブラック及び界面活性剤を含有する組成物を提案している。
【0003】
尚、ブラックマトリックス作製に際してのカーボンブラックを含有する光硬化性組成物の塗布液の塗布方法としては、薄膜を均一に得ることができる点で、スピンコート法が広く採用されている。その際、塗布液のレベリングを良好に保つために光硬化性組成物の溶剤としては通常比較的蒸発速度が遅い、沸点が高い160℃以上のものが採用されるのが普通である。更に、カラーフィルターの製造コストの観点から乾燥時間を短縮するために、上記光硬化性組成物を塗布した後の乾燥には、通常、真空乾燥が行われる。
しかしながら、この乾燥工程では急速に溶剤成分が塗膜中から除去されるためか、しばしば塗膜表面が局所的に肌荒れのように粗くなる微小な塗膜形状の異常(レンコン状の異常、以後、局所斑状異常とも呼ぶ)が多数発生し、この局所部分では膜厚が変動し、パターン露光、アルカリ現像後も残膜となってカラーフィルターの機能を低下させてしまうという問題があった。
また、スピンコートする際に被コート基板上に塗布液を滴下して広がった液滴の界面後が塗布ムラ(滴下跡)となってしまうという問題があった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記の従来技術の諸欠点を改良するためになされたもので、その目的はカラーフィルター用塗布膜表面における局所斑状異常、滴下跡の発生が著しく軽減されたブラックマトリックス用光硬化性組成物、及びその光硬化性組成物を用いて形成された、優れた性能のブラックマトリックスを有するカラーフィルターを提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】
上記本発明の目的は、下記構成によって達成された。
(1)少なくとも絶縁性カーボンブラック、アルカリ可溶性バインダー、光硬化性モノマー、反応開始剤、及び溶剤を含有する光硬化性組成物において、更にフッ素含有非イオン系界面活性剤およびポリオキシアルキレンポリスチリルフェニルエーテルを含有することを特徴とする光硬化性組成物。
(2)基板上にブラックマトリックス、赤色(R)、緑色(G)、及び青(B)の各色画素がモザイク状もしくはストライブ状に積層されてなるカラーフィルターにおいて、前記ブラックマトリックスが上記(1)に記載の光硬化性組成物を塗布、乾燥、パターン露光、アルカリ現像により形成されたブラックマトリックスであることを特徴とするカラーフィルター。
【0006】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について詳細に説明する。
〔1〕本発明で使用されるフッ素含有非イオン系界面活性剤は、好ましくは、パーフルオロアルキル基(CnF2n+1−、nは正の整数)を有する非イオン系界面活性剤である。この非イオン系界面活性剤は、通常、エチレンオキサイド基(−C2H4−O−)のような親水性基、及び/又はプロピレンオキサイド基(−C3H6−O−)のような親油性基を有している。
【0007】
フッ素含有非イオン系界面活性剤として、例えば、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、N−アルキル−フルオロオクタンスルホンアミドアルキルアクリレートとポリ(オキシアルキレン)アクリレートとの共重合体(例えば、N−ブチルパーフルオロオクタンスルホンアミドエチルアクリレート60%とポリ(オキシアルキレン)アクリレート40%との共重合体)を挙げることができる。市販されているものとしては、大日本インキ化学工業(株)製メガファックシリーズの界面活性剤(例えば、F−1420、F−144D、F−171、F−172、F−173、F−177、F−178A、F−178K、F−179、F−183、F−184、F−815)を挙げることができる。
【0008】
カラーフィルターのブラックマトリックス用光硬化性組成物にあっては、黒色顔料成分の分散を良好とするための分散助剤として、通常イオン系界面活性剤が使用されているが、本発明のカラーフィルターのブラックマトリックス用光硬化性組成物においては、非イオン系界面活性剤の使用が望ましい。
【0009】
フッ素系界面活性剤の添加量は、通常固形分として0.05〜10質量%、好ましくは0.1〜5質量%である。
【0010】
〔2〕本発明で使用されるポリオキシアルキレンポリスチリルフェニルエーテルとしては、例えば、下記一般式(A)及び(B)で表される化合物を挙げることができる。
【0011】
【化1】
【0012】
式中:
Styrylは、ph−CH=CH−を表す。ここで、phはフェニル基である。
Benzylは、ph−CH2−を表す。ここで、phはフェニル基である。
POは、プロピレンオキサイド基(−C3H6−O−)を表す。このプロピレンは、−(CH2)3−、−CH2CH(CH3)−のいずれでもよい。
EOは、エチレンオキサイド基(−C2H4−O−)を表す。
nは1〜3、mは7〜30、lは0〜10を表す。
【0013】
更に、下記一般式(G)及び(H)で表される化合物が特に好ましい。
【化2】
【0014】
式中:
Styryl、Benzyl、PO、EOは、式(A)及び(B)におけるとの同様である。
pは2又は3、rは5〜25、sは8〜30の整数をそれぞれ表す。(PO/EO)qは、上記POとEOとが共存し、POとEOの存在割合(モル比率)が0/10〜10/1の範囲にあり、qはPOとEOの合計個数を表し、5〜20の整数を表す。
【0015】
一般式A及びBにおいて;
nは、1〜3の整数、好ましくは1である。mは、7〜30、好ましくは8〜20の整数である。lは、0〜10、好ましくは0〜5の整数である。
【0016】
一般式G及びHにおいて;
pは、2又は3、好ましくは3である。rは、5〜25、好ましくは8〜15の整数である。(PO/EO)qは、上記POとEOとが共存し、POとEOの存在割合(モル比率)が0/10〜10/1の範囲、好ましくは2/8〜5/5にあり、qはPOとEOの合計個数を表し、5〜20の整数、好ましくは5〜15を表す。sは8〜30の整数、好ましくは15〜25の整数である。
【0017】
好ましい界面活性剤は下記化合物(A1)、(G1)、(H1)である。
(A1):一般式Aにおいて、nが1であり、mが8〜20の整数であり、lが0〜5の整数である化合物。
(G1):一般式(G)において、pが3、rが7〜15の整数、そして(PO/EO)qは、POとEOの存在割合(モル比率)が1/5〜1/1の範囲にあり、qは6〜15の整数を表す化合物。
(H1):一般式(H)において、pが3、sが10〜25の整数である化合物。
【0018】
さらに好ましい化合物は、下記化合物(A2)(G2)、及び(H2)である。
(A2):一般式Aにおいて、nが1であり、mが8〜12の整数であり、lが0である化合物。
(G2):一般式(G)において、pが3、rが7〜15の整数、そして(PO/EO)qは、POとEOの存在割合(モル比率)が1/4〜1/2の範囲にあり、qは10〜15の整数を表す化合物。
(H2):一般式(H)において、pが3、sが15〜25の整数である化合物。
特に好ましい化合物は、上記化合物(A2)である。
【0019】
これらのポリオキシアルキレンポリスチリルフェニルエーテルは、1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
【0020】
上記のポリオキシアルキレンポリスチリルフェニルエーテルについて市販品としては、例えば、以下のものを挙げることができる。
一般式Aで、nが1、mが12、lが0の化合物として、竹本油脂(株)製、商品名:パイオニンD6512、
一般式Gで、pが3、(PO/EO)q:PO=2,EO=6、rが10の化合物として、竹本油脂(株)製、商品名:パイオニンD6112W、
一般式Hで、pが3、sが10の化合物として、竹本油脂(株)製、商品名:パイオニンD6310、及び、
一般式Hで、pが3、sが20の化合物として、竹本油脂(株)製、商品名:パイオニンD6320。
【0021】
ポリオキシアルキレンポリスチリルフェニルエーテルは、本発明の組成物中に組成物全質量に対して0.05〜10質量%含有されることが好ましく、より好ましくは0.1〜5質量%である。
【0022】
尚、フッ素系界面活性剤とポリオキシアルキレンポリスチリルフェニルエーテルとの質量比としては、通常1:50〜50:1であり、好ましくは1:10〜10:1、特に好ましくは2:1〜1:2である。
【0023】
〔3〕絶縁性カーボンブラック
本発明における絶縁性カーボンブラックとは、例えば、カーボンブラック粒子表面に有機物が吸着、被覆または化学結合(グラフト化)していることなど、カーボンブラック粒子表面に有機化合物を有していることであり、そして、下記のような方法で粉末としての体積抵抗を測定した場合絶縁性を示すカーボンブラックのことである。
【0024】
絶縁性カーボンブラックをベンジルメタクリレートとメタクリル酸がモル比で70:30の共重合体(質量平均分子量30,000)と20:80質量比となるように、プロピレングリコールモノメチルエーテル中に分散し塗布液を調製し、厚さ1.1mm、10cm×10cmのクロム基板上に塗布して乾燥膜厚3μmの塗膜を作製し、さらにその塗膜をオーブン中で200℃で1時間熱処理した後に、JISK6911に準拠している三菱化学(株)製高抵抗率計、ハイレスターUP(MCP−HT450)で印加して、体積抵抗値を23℃相対湿度65%の環境下で測定する。そして、この体積抵抗値として、106Ω・cm以上、より好ましくは108Ω・cm以上、特により好ましくは109Ω・cm以上を示す絶縁性カーボンブラックが好ましい。
【0025】
絶縁性カーボンブラックとして、例えば、特開平11−60988号、特開平11−60989号、特開平10−330643号、特開平11−80583号、特開平11−80584号、特開平9−124969号、特開平9−95625号で開示されている樹脂被覆カーボンブラックを使用することができる。
【0026】
その他、カーボンブラックを適宜樹脂で被覆したものでよい。
カーボンブラックを樹脂(被覆樹脂)で被覆するには、カーボンブラックに被覆樹脂及び溶剤を加えてミルベースをつくり、それをフラッシング処理やニーダー、ボールミル、サンドミル、ビーズミル、2本又は3本ロールミル、エクストルーダー、ペイントシェーカー、超音波、ホモジナイザーなどの方法により分散処理を行う。これらの処理方法は2つ以上組合わせることも可能である。必要に応じてカーボンブラックを均一に分散させるため分散剤を用いることができる。
【0027】
カーボンブラックとしては、例えば、三菱化学社製のカーボンブラック#2400、#2350、#2300、#2200、#1000、#980、#970、#960、#950、#900、#850、MCF88、#650、MA600、MA7、MA8、MA11、MA100、MA220、IL30B、IL31B、IL7B、IL11B、IL52B、#4000、#4010、#55、#52、#50、#47、#45、#44、#40、#33、#32、#30、#20、#10、#5、CF9、#3050、#3150、#3250、#3750、#3950、ダイヤブラックA、ダイヤブラックN220M、ダイヤブラックN234、ダイヤブラックI、ダイヤブラックLI、ダイヤブラックII、ダイヤブラックN339、ダイヤブラックSH、ダイヤブラックSHA、ダイヤブラックLH、ダイヤブラックH、ダイヤブラックHA、ダイヤブラックSF、ダイヤブラックN550M、ダイヤブラックE、ダイヤブラックG、ダイヤブラックR、ダイヤブラックN760M、ダイヤブラックLP。キャンカーブ社製のカーボンブラックサーマックスN990、N991、N907、N908、N990、N991、N908。旭カーボン社製のカーボンブラック旭#80、旭#70、旭#70L、旭F−200、旭#66、旭#66HN、旭#60H、旭#60U、旭#60、旭#55、旭#50H、旭#51、旭#50U、旭#50、旭#35、旭#15、アサヒサーマル、デグサ社製のカーボンブラックColorBlack Fw200、ColorBlack Fw2、ColorBlack Fw2V、ColorBlack Fw1、ColorBlack Fw18、ColorBlack S170、ColorBlack S160、SpecialBlack6、SpecialBlack5、SpecialBlack4、SpecialBlack4A、PrintexU、PrintexV、Printex140U、Printex140V等を挙げることができる。
【0028】
被覆樹脂としては、例えば、以下のものを挙げることができる。
1)ポリオレフィン系ポリマー
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイソブチレン等
2)ジエン系ポリマー
ポリブタジエン、ポリイソプレン等
3)共役ポリエン構造を有するポリマー
ポリアセチレン系ポリマー、ポリフェニレン系ポリマー等
4)ビニルポリマー
ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリ(メタ)アクリル酸、ポリ(メタ)アクリル酸エステル、ポリアクリルアミド、ポリアクリロニトリル、ポリビニルフェノール等
5)ポリエーテル
ポリフェニレンエーテル、ポリオキシラン、ポリオキセタン、ポリテトラヒドロフラン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアセタール等
6)フェノール樹脂
ノボラック樹脂、レゾール樹脂等
7)ポリエステル
ポリエチレンテレフタレート、ポリフェノールフタレインテレフタレート、ポリカーボネート、アルキッド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等
8)ポリアミド
ナイロン−6、ナイロン66、水溶性ナイロン、ポリフェニレンアミド等
9)ポリペプチド
ゼラチン、カゼイン等
10)エポキシ樹脂及びその変性物
ノボラックエポキシ樹脂、ビスフェノールエポキシ樹脂、ノボラックエポキシアクリレート及び酸無水物による変性樹脂等
11)その他
ポリウレタン、ポリイミド、メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイミダゾール、ポリオキサゾール、ポリピロール、ポリアニリン、ポリスルフィド、ポリスルホン、セルロース類等
【0029】
より具体的にはカルボキシル基を含有するアクリル樹脂は、例えば、(メタ)アクリル酸、(無水)マレイン酸、クロトン酸、イタコン酸、フマル酸、などのカルボキシル基を有するモノマーとスチレン、α−メチルスチレン、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、(メタ)アクリル酸ブチル、酢酸ビニル、アクリロニトリル、(メタ)アクリルアミド、グリシジル(メタ)アクリレート、アリルグリシジルエーテル、エチルアクリル酸グリシジル、クロトン酸グリシジルエーテル、(メタ)アクリル酸クロライド、ベンジル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、N−メチロールアクリルアミド、N,Nジメチルアクリルアミド、N−メタクリロイルモルホリン、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノエチルアクリルアミド、などの共重合成分を共重合させたポリマーが挙げられる。中でも好ましいものは、構成モノマーとして少なくとも(メタ)アクリル酸あるいは(メタ)アクリル酸アルキルエーテルを含有するアクリル樹脂であり、さらに好ましくは(メタ)アクリル酸およびスチレンを含有するアクリル樹脂である。
【0030】
また、これらの樹脂は樹脂側鎖にエチレン性二重結合を付加させることもできる。樹脂側鎖に二重結合を付与することにより光硬化性が高まるため、解像性、密着性をさらに向上させることができ好ましい。
エチレン性二重結合を導入する合成手段として、例えば、特公昭50−34443、特公昭50−34444などに記載の方法等が挙げられる。具体的には、カルボキシル基や水酸基にグリシジル基、エポキシシクロヘキシル基および(メタ)アクリロイル基を併せ持つ化合物やアクリル酸クロライドなどを反応させる方法が挙げられる。例えば、(メタ)アクリル酸グリシジル、アリルグリシジルエーテル、α−エチルアクリル酸グリシジル、クロトニルグリシジルエーテル、(イソ)クロトン酸グリシジルエーテル、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸クロライド、(メタ)アリルクロライドなどの化合物を使用し、カルボキシル基や水酸基を有する樹脂に反応させることにより側鎖に重合基を有する樹脂を得ることができる。特に、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル(メタ)アクリレートを反応させた樹脂が好ましい。
【0031】
また、少なくとも下記一般式〔I〕で表されるモノマーと少なくとも酸性基を有するモノマー(上記した共重合成分を挙げることができる。)との共重合反応によって得られるポリマーも使用することができる。
【0032】
【化3】
【0033】
(式中、Rは水素原子又はメチル基を表し、R1 、R2 、R3 、R4 及びR5 は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基及びアリール基から選ばれた基である。)
ここで、ハロゲン原子の具体例としては、Cl、Br、Iなどが挙げられる。アルキル基としては、直鎖、分岐、又は環状であってもよく、メチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、tert−ブチル基などが挙げられ、炭素数1〜7のものが好ましい。アリール基としては、フェニル基、フリル基、ナフチル基などが挙げられる。
【0034】
また、下記のような樹脂も用いることができる。
線状有機高分子重合体で、有機溶剤に可溶で、弱アルカリ水溶液で現像できるものが好ましい。このような線状有機高分子重合体としては、樹脂側鎖または主鎖にカルボキシ基あるいはフェノール性水酸基等の酸性基を有するものがアルカリ現像可能なため、公害防止の観点から好ましい。特にカルボキシル基を有する樹脂、例えば、アクリル酸(共)重合体、スチレン/無水マレイン酸樹脂、ノボラックエポキシアクリレートの酸無水物変性樹脂等は高アルカリ現像性なので好ましい。側鎖にカルボン酸を有するポリマーとしては、例えば特開昭59−44615号、特公昭54−34327号、特公昭58−12577号、特公昭54−25957号、特開昭59−53836号、特開昭59−71048号明細書に記載されているようなメタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等があり、また同様に側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘導体がある。この他に水酸基を有するポリマーに酸無水物を付加させたものなども有用である。これらのなかでベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸共重合体やベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/および他のモノマーとの多元共重合体も好適である。
この他に水溶性ポリマーとして、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、ポリビニールピロリドンやポリエチレンオキサイド、ポリビニールアルコール等も有用である。また硬化皮膜の強度をあげるためにアルコール可溶性ナイロンや2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエピクロルヒドリンのポリエーテルなども有用である。これらのポリマーは任意な量を混合させることができる。
【0035】
更には、下記のようなエポキシ樹脂も用いることができる。
▲1▼グリシジルアミン型エポキシ樹脂
▲2▼トリフェニルグリシジルメタン型エポキシ樹脂
▲3▼テトラフェニルグリシジルメタン型エポキシ樹脂
▲4▼アミノフェノール型エポキシ樹脂
▲5▼ジアミドジフェニルメタン型エポキシ樹脂
▲6▼フェノールノボラック型エポキシ樹脂
▲7▼オルソクレゾール型エポキシ樹脂
▲8▼ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂
【0036】
上記の中で、被覆樹脂としては、種々のモノマーを選択し、溶解度と酸価をコントロールすることができるので、(メタ)アクリル酸と(メタ)アクリル酸エステルの共重合体が好ましい。
【0037】
これらの被覆樹脂のゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)で測定した質量平均分子量(重量平均分子量)の好ましい範囲は1000〜300,000であり、より好ましくは3000〜150,000である。300,000を超えると現像性が低下する傾向がある。
【0038】
分散剤には、上記被覆樹脂をそのまま用いるほか、後述するような分散剤が併用可能である。これらの分散剤は単独でも、また、複数組み合わせても使用可能である。分散処理によりカーボンブラック表面に樹脂が吸着されると同時にカーボンブラック粒子の凝集が破壊され粒径が微細化される。
【0039】
本発明において、上記樹脂で被覆されたカーボンブラックの形態としては、粉末、ペースト状、ペレット状、ペースト状、シート状等が挙げられる。
樹脂で被覆されたカーボンブラックの好ましい平均粒径は0.003〜0.5μmの範囲であり、より好ましくは0.005〜0.3μmの範囲であり、これにより本発明の種々の効果、特に現像性と画像再現性が一層優れるようになる。
【0040】
分散剤としては、BYK社製のAnti−Terra−U、Disperbyk−160、161、162、163、ZENECA社製のSolspers20000、24000GR、26000、28000、楠本化成社製のDA−703−50、NDC−8194 L、NDC−8203L、NDC−8257L、KS−860、花王社製のホモゲナールL−18、L−1820、L−95、L−100、日本ペイント社製のVP5000、グッドリッチ社製のE5703P、ユニオンカーバイド社製のVAGH、東洋紡社製のUR8200、日本ゼオン社製のMR113、等の公知の分散樹脂を使用することができる。
【0041】
また、フタロシアニン誘導体(市販品EFKA−745(森下産業製));オルガノシロキサンポリマーKP341(信越化学工業製)、(メタ)アクリル酸系(共)重合体ポリフローNo.75、No.90、No.95(共栄社油脂化学工業製)、W001(裕商製)等のカチオン系界面活性剤;ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル等のノニオン系界面活性剤;エフトップEF301、EF303、EF352(新秋田化成製)、メガファックF171、F172、F173(大日本インキ製)、フロラードFC430、FC431(住友スリーエム製)、アサヒガードAG710、サーフロンS382、SC−101、SC−102、SC−103、SC−104、SC−105、SC−1068(旭硝子製)等のフッ素系界面活性剤;W004、W005、W017(裕商製)等のアニオン系界面活性剤;EFKA−46、EFKA−47、EFKA−47EA、EFKAポリマー100、EFKAポリマー400、EFKAポリマー401、EFKAポリマー450(以上森下産業製)、ディスパースエイド6、ディスパースエイド8、ディスパースエイド15、ディスパースエイド9100(サンノプコ製)等の高分子分散剤;ソルスパース3000、5000、9000、12000、13240、13940、17000、24000、26000、28000などの各種ソルスパース分散剤(ゼネカ株式会社製);アデカプルロニックL31,F38,L42,L44,L61,L64,F68,L72,P95,F77,P84,F87、P94,L101,P103,F108、L121、P−123(旭電化製)およびイソネットS−20(三洋化成製)も挙げられる。
【0042】
絶縁性カーボンブラックの添加量は、組成物中、通常10〜60質量%、好ましくは20〜55質量%、特に好ましくは25〜50質量%である。
【0043】
〔4〕次に、(B)アルカリ可溶性バインダーについて説明する。
本発明の組成物においては、下記アルカリ可溶性の樹脂、グラフト共重合体をバインダーとして用いることができる。
これらのアルカリ可溶性のバインダーとしては、線状有機高分子重合体で、有機溶剤に可溶で、弱アルカリ水溶液で現像できるものが好ましい。このような線状有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸を有するポリマー、例えば特開昭59−44615号、特公昭54−34327号、特公昭58−12577号、特公昭54−25957号、特開昭59−53836号、特開昭59−71048号明細書に記載されているようなメタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等があり、また同様に側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘導体がある。この他に水酸基を有するポリマーに酸無水物を付加させたものなども有用である。特にこれらのなかでベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸共重合体やベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/および他のモノマーとの多元共重合体が好適である。この他に水溶性ポリマーとして、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、ポリビニールピロリドンやポリエチレンオキサイド、ポリビニールアルコール等も有用である。また硬化皮膜の強度をあげるためにアルコール可溶性ナイロンや2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエピクロルヒドリンのポリエーテルなども有用である。
【0044】
また、特開平7−140654号に記載の2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート/ポリスチレンマクロモノマー/ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体、2−ヒドロキシ−3−フエノキシプロピルアクリレート/ポリメチルメタクリレートマクロモノマー/ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体、2−ヒドロキシエチルメタアクリレート/ポリスチレンマクロモノマー/メチルメタクリレート/メタクリル酸共重合体、2−ヒドロキシエチルメタアクリレート/ポリスチレンマクロモノマー/ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体などが挙げられる。
【0045】
また、バインダーと顔料分散剤を兼ねるものとして、特開平10−254133号に記載の下記に示すようなグラフト共重合体を用いることができる。
少なくとも、▲1▼下記一般式(IIa)及び(IIb)で示される重合体成分のうちの少なくとも1種を含有する重合体主鎖の、一方の末端のみに下記一般式(A)で示される重合性二重結合基を結合して成る、質量平均分子量3×104 以下の一官能性マクロモノマー、▲2▼下記一般式(III)で示されるモノマー▲3▼四級アンモニウム塩モノマー、及び▲4▼下記一般式(IV)で表される無置換又は置換酸アミド基を少なくとも1つ分子中に有するモノマーとから少なくとも成る共重合体。
【0046】
【化4】
【0047】
〔式(A)中、V0 は−COO−、−OCO−、−CH2 OCO−、−CH2 COO−、−O−、−SO2 −、−CO−、−CONHCOO−、−CONHCONH−、−CONHSO2 −、−CON(P3 )−、−SO2 N(P3 )−又は−C6 H4 −を表わす(P3 は、水素原子又は炭化水素基を表わす)。
c1 、c2 は、互いに同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭化水素基、−COO−Z′又は炭化水素を介した−COO−Z′(Z′は水素原子又は置換されてもよい炭化水素基を示す)を表わす。〕
【0048】
【化5】
【0049】
〔式(IIa)又は(IIb)中、V1 は、式(A)中のV0 と同義である。Q1 は、炭素数1〜18個の脂肪族基又は炭素数6〜12個の芳香族基を表わす。d1 、d2 は、互いに同じでも異なってもよく、式(A)中のc1 、c2 と同義である。Q0 は−CN又は−C6 H4 −Tを表わす。ここでTは水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、アルコキシ基又は−COOZ″(Z″はアルキル基、アラルキル基又はアリール基を示す)を表わす。〕
【0050】
【化6】
【0051】
〔式(III)中、V2は、式(IIa)中のV1と同義である。Q2 は、式(IIa)中のQ1 と同義である。e1 、e2 は互いに同じでも異なってもよく、式(A)中のc1 、c2 と同義である。〕
【0052】
【化7】
【0053】
〔式(IV)中、R1 、R2 は各々同じでも異なってもよく、水素原子又は炭素数1〜18個の置換されてもよい炭化水素基を表し、またR1 とR2 が、−O−、−S−、−NR3 −(ここでR3 は水素原子又は炭素数1〜12個の炭化水素基を表す)を介して互いに結合して環を形成してもよい。〕
【0054】
また、バインダーとして、特開平10−20496号公報に記載の下記ポリマーも用いることができる。そのポリマーは、下記一般式(K)で示されるモノマーと少なくとも酸性基を有するモノマーとの共重合反応によって得られるポリマーである。
【0055】
【化8】
【0056】
式(K)中、Rは水素原子又はメチル基を表し、R1 〜R5 は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基又はアリール基を表す。
【0057】
上記バインダーは、好ましくは質量平均分子量が1×104 以上の重合体が好ましく、より好ましくは質量平均分子量が2×104 〜5×105 である。
上記バインダーの組成物中の使用量は、組成物中の全固形分に対して0.01〜60質量%が好ましく、より好ましくは0.5〜30質量%である。
【0058】
〔5〕本発明の組成物は、更に光硬化性モノマーと反応開始剤を含有する。
光硬化性モノマーとしては、好ましくは、少なくとも1個の付加重合可能なエチレン基を有する、常圧下で100℃以上の沸点を持つエチレン性不飽和基を持つ化合物が挙げられる。
反応開始剤としては、好ましくは、ハロメチルオキサジアゾール化合物、ハロメチル−s−トリアジン化合物等の活性ハロゲン化合物、ベンゾフェノン系化合物、アセトフェノン系化合物、チオキサントン化合物、3−アリール置換クマリン化合物、少なくとも一種のロフィン2量体が挙げられる。
【0059】
光硬化性モノマーとして、少なくとも1個の付加重合可能なエチレン性不飽和基をもち、沸点が常圧で100℃以上の化合物としては、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、等の単官能のアクリレートやメタアクリレート;ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリ(アクリロイロキシエチル)イソシアヌレート、グリセリンやトリメチロールエタン等の多官能アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後(メタ)アクリレート化したもの、特公昭48−41708号、特公昭50−6034号、特開昭51−37193号各公報に記載されているようなウレタンアクリレート類、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号各公報に記載されているポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタアクリレートをあげることが出来る。更に、日本接着協会誌Vol.20、No.7、300〜308頁に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用できる。これらの光硬化性モノマーまたはオリゴマーは、本発明の組成物が放射線の照射を得て接着性を有する塗膜を形成し得るならば本発明の目的および効果を損なわない範囲で任意の割合で使用できる。使用量は感光性組成物の全固形分に対し5〜90wt%、好ましくは10〜50wt%である。
【0060】
ハロメチルオキサジアゾールやハロメチル−s−トリアジン等の活性ハロゲン化合物としては、特公昭57−6096号公報に記載の下記一般式IVで示される2−ハロメチル−5−ビニル−1,3,4−オキサジアゾール化合物が挙げられる。
【0061】
【化9】
【0062】
式(IV)中、Wは、置換された又は無置換のアリール基を、Xは水素原子、アルキル基又はアリール基を、Yは弗素原子、塩素原子又は臭素原子を、nは1〜3の整数を表わす。
具体的な化合物としては、2−トリクロロメチル−5−スチリル−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(p−シアノスチリル)−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(p−メトキシスチリル)−1,3,4−オキサジアゾール等が挙げられる。ハロメチル−s−トリアジン系化合物の光反応開始剤としては、特公昭59−1281号公報に記載の下記一般式Vに示されるビニル−ハロメチル−s−トリアジン化合物、特開昭53−133428号公報に記載の下記一般式VIに示される2−(ナフト−1−イル)−4,6−ビス−ハロメチル−s−トリアジン化合物及び下記一般式VII で示される4−(p−アミノフェニル)−2,6−ジ−ハロメチル−s−トリアジン化合物が挙げられる。
【0063】
【化10】
【0064】
式(V)中、Q3 はBr,Cl、Pは−CQ3、−NH2、−NHR、−N(R)2、−OR(ここで、Rはフェニル又はアルキル基)、Wは任意に置換された芳香族、複素環式核又は一般式VAで示されるもので、式VA中、Zは−O−又は−S−であり、Rは上記と同義である。
【0065】
【化11】
【0066】
式(VI)中、Xは−Br,−Clを表し、m,nは0〜3の整数で、R’は一般式VIAで示され、R1はH又はORc (Rc はアルキル、シクロアルキル、アルケニル、アリール基)、R2 は−Cl,−Br又はアルキル、アルケニル、アリール、アルコキシ基を表す。
【0067】
【化12】
【0068】
式(VII)中、R1、R2は−H、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、又は一般式VII A、VII Bで示される。R3、R4は−H、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基を表す。X、Yは−Cl,−Brを示し、m、nは0、1又は2を表す。
【0069】
【化13】
【0070】
式VII A、VII B中、R5、R6、R7はアルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基を表す。置換アルキル基及び置換アリール基における置換基の例としては、フェニル基等のアリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、カルボアルコキシ基、カルボアリールオキシ基、アシル基、ニトロ基、ジアルキルアミノ基、スルホニル誘導体等が挙げられる。
【0071】
式(VII)において、R1とR2がそれと結合せる窒素原子と共に非金属原子からなる異節環を形成してもよく、その場合、異節環としては下記に示されるものが挙げられる。
【0072】
【化14】
【0073】
一般式Vの具体的な例としては、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−p−メトキシスチリル−s−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(1−p−ジメチルアミノフェニル−1,3−ブタジエニル)−s−トリアジン、2−トリクロロメチル−4−アミノ−6−p−メトキシスチリル−s−トリアジン等が挙げられる。
【0074】
一般式VIの具体的な例としては、2−(ナフト−1−イル)−4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−(4−メトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−(4−エトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−(4−ブトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−〔4−(2−メトキシエチル)−ナフト−1−イル〕−4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−〔4−(2−エトキシエチル)−ナフト−1−イル〕−4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−〔4−(2−ブトキシエチル)−ナフト−1−イル〕−4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−(2−メトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−(6−メトキシ−5−メチル−ナフト−2−イル)−4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−(6−メトキシ−ナフト−2−イル)−4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−(5−メトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−(4,7−ジメトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−(6−エトキシ−ナフト−2−イル)−4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−(4,5−ジメトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン等が挙げられる。
【0075】
一般式VII の具体例としては、4−〔p−N,N−ジ(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔o−メチル−p−N,N−ジ(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔p−N,N−ジ(クロロエチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔o−メチル−p−N,N−ジ(クロロエチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(p−N−クロロエチルアミノフェニル)−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(p−N−エトキシカルボニルメチルアミノフェニル)−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔p−N,N−ジ(フェニル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(p−N−クロロエチルカルボニルアミノフェニル)−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔p−N−(p−メトキシフェニル)カルボニルアミノフェニル〕2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔m−N,N−ジ(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔m−ブロモ−p−N,N−ジ(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔m−クロロ−p−N,N−ジ(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔m−フロロ−p−N,N−ジ(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔o−ブロモ−p−N,N−ジ(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔o−クロロ−p−N,N−ジ(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔o−フロロ−p−N,N−ジ(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔o−ブロモ−p−N,N−ジ(クロロエチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔o−クロロ−p−N,N−ジ(クロロエチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔o−フロロ−p−N,N−ジ(クロロエチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔m−ブロモ−p−N,N−ジ(クロロエチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔m−クロロ−p−N,N−ジ(クロロエチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔m−フロロ−p−N,N−ジ(クロロエチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(m−ブロモ−p−N−エトキシカルボニルメチルアミノフェニル)−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(m−クロロ−p−N−エトキシカルボニルメチルアミノフェニル)−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(m−フロロ−p−N−エトキシカルボニルメチルアミノフェニル)−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(o−ブロモ−p−N−エトキシカルボニルメチルアミノフェニル)−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(o−クロロ−p−N−エトキシカルボニルメチルアミノフェニル)−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(o−フロロ−p−N−エトキシカルボニルメチルアミノフェニル)−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(m−ブロモ−p−N−クロロエチルアミノフェニル)−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(m−クロロ−p−N−クロロエチルアミノフェニル)−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(m−フロロ−p−N−クロロエチルアミノフェニル)−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(o−ブロモ−p−N−クロロエチルアミノフェニル)−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(o−クロロ−p−N−クロロエチルアミノフェニル)−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(o−フロロ−p−N−クロロエチルアミノフェニル)−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、等が挙げられる。
【0076】
これら開始剤には以下の増感剤を併用することができる。
その具体例として、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン、9−フルオレノン、2−クロロ−9−フルオレノン、2−メチル−9−フルオレノン、9−アントロン、2−ブロモ−9−アントロン、2−エチル−9−アントロン、9,10−アントラキノン、2−エチル−9,10−アントラキノン、2−t−ブチル−9,10−アントラキノン、2,6−ジクロロ−9,10−アントラキノン、キサントン、2−メチルキサントン、2−メトキシキサントン、2−メトキシキサントン、チオキサントン、ベンジル、ジベンザルアセトン、p−(ジメチルアミノ)フェニルスチリルケトン、p−(ジメチルアミノ)フェニル−p−メチルスチリルケトン、ベンゾフェノン、p−(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン(またはミヒラーケトン)、p−(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、ベンゾアントロン等や特公昭51−48516号公報記載のベンゾチアゾール系化合物が挙げられる。
【0077】
3−アリール置換クマリン化合物は、下記一般式VIIIで示される化合物を指す。R8は水素原子、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基(好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基)を、R9は水素原子、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基、下記一般式VIIIAで示される基(好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、一般式VIIIAで示される基、特に好ましくは一般式VIIIAで示される基)を表す。R10、R11はそれぞれ水素原子、炭素数1〜8のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基)、炭素数1〜8のハロアルキル基(例えばクロロメチル基、フロロメチル基、トリフロロメチル基など)、炭素数1〜8のアルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基)、置換されてもよい炭素数6〜10のアリール基(例えばフェニル基)、アミノ基、−N(R16)(R17)、ハロゲン(例えば−Cl、−Br,−F)を表す。好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、メトキシ基、フェニル基、−N(R16)(R17)、−Clである。R12は置換されてもよい炭素数6〜16のアリール基(例えばフェニル基、ナフチル基、トリル基、クミル基)を表す。置換基としてはアミノ基、−N(R16)(R17)、炭素数1〜8のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基)、炭素数1〜8のハロアルキル基(例えばクロロメチル基、フロロメチル基、トリフロロメチル基など)、炭素数1〜8のアルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基)、ヒドロキシ基、シアノ基、ハロゲン(例えば−Cl、−Br,−F)が挙げられる。R13、R14、R16、R17はそれぞれ水素原子、炭素数1〜8のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基)を表す。R13とR14及びR16とR17はまた互いに結合し窒素原子とともに複素環(例えばピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環、ピラゾール環、ジアゾール環、トリアゾール環、ベンゾトリアゾール環等)を形成してもよい。R15は水素原子、炭素数1〜8のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基)、炭素数1〜8のアルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基)、置換されてもよい炭素数6〜10のアリール基(例えばフェニル基)、アミノ基、N(R16)(R17)、ハロゲン(例えば−Cl、−Br,−F)を表す。Zbは=O、=Sあるいは=C(R18)(R19)を表す。好ましくは=O、=S、=C(CN)2であり、特に好ましくは=Oである。R18、R19はそれぞれ、シアノ基、−COOR20、−COR21を表す。R20、R21はそれぞれ炭素数1〜8のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基)、炭素数1〜8のハロアルキル基(例えばクロロメチル基、フロロメチル基、トリフロロメチル基など)、置換されてもよい炭素数6〜10のアリール基(例えばフェニル基)を表す。
【0078】
特に好ましい3−アリール置換クマリン化合物は一般式IXで示される{(s−トリアジン−2−イル)アミノ}−3−アリールクマリン化合物類である。
【0079】
【化15】
【0080】
ロフィン二量体は2個のロフィン残基からなる2,4,5−トリフェニルイミダゾリル二量体を意味し、その基本構造を下記に示す。
【0081】
【化16】
【0082】
その具体例としては、2−(o−クロルフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾリル二量体、2−(o−フルオロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾリル二量体、2−(o−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾリル二量体、2−(p−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾリル二量体、2−(p−ジメトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾリル二量体、2−(2,4−ジメトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾリル二量体、2−(p−メチルメルカプトフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾリル二量体等が挙げられる。
【0083】
本発明では、以上の開始剤以外に、他の公知のものも使用することができる。米国特許第2,367,660号明細書に開示されているビシナールポリケトルアルドニル化合物、米国特許第2,367,661号および第2,367,670号明細書に開示されているα−カルボニル化合物、米国特許第2,448,828号明細書に開示されているアシロインエーテル、米国特許第2,722,512号明細書に開示されているα−炭化水素で置換された芳香族アシロイン化合物、米国特許第3,046,127号および第2,951,758号明細書に開示されている多核キノン化合物、米国特許第3,549,367号明細書に開示されているトリアリルイミダゾールダイマー/p−アミノフェニルケトンの組合せ、特公昭51−48516号公報に開示されているベンゾチアゾール系化合物/トリハロメチロール−s−トリアジン系化合物。
【0084】
開始剤の使用量はモノマーに対し、0.01〜100質量%、好ましくは1〜50質量%である。開始剤の使用量が0.01質量%より少ないと重合が進み難く、また、100質量%を超えると重合率は大きくなるが分子量が低くなり膜強度が弱くなる。
【0085】
本発明の組成物には、必要に応じて各種添加物、例えば充填剤、本発明の樹脂以外の高分子化合物、界面活性剤、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤等を配合することかできる。
【0086】
これらの添加物の具体例としては、ガラス、アルミナ等の充填剤;ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル、ポリフロロアルキルアクリレート等のバインダーポリマー(A)以外の高分子化合物;ノニオン系、カチオン系、アニオン系等の界面活性剤;ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2−メトキシエトキシ)シラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等の密着促進剤;2,2−チオビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,6−ジ−t−ブチルフェノール等の酸化防止剤:2−(3−t−ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、アルコキシベンゾフェノン等の紫外線吸収剤;およびポリアクリル酸ナトリウム等の凝集防止剤を挙げることができる。
【0087】
また、放射線未照射部のアルカリ溶解性を促進し、本発明の組成物の現像性の更なる向上を図る場合には、本発明の組成物に有機カルボン酸、好ましくは分子量1000以下の低分子量有機カルボン酸の添加を行うことができる。具体的には、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ピバル酸、カプロン酸、ジエチル酢酸、エナント酸、カプリル酸等の脂肪族モノカルボン酸;シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ブラシル酸、メチルマロン酸、エチルマロン酸、ジメチルマロン酸、メチルコハク酸、テトラメチルコハク酸、シトラコン酸等の脂肪族ジカルボン酸;トリカルバリル酸、アコニット酸、カンホロン酸等の脂肪族トリカルボン酸;安息香酸、トルイル酸、クミン酸、ヘメリト酸、メシチレン酸等の芳香族モノカルボン酸;フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリト酸、トリメシン酸、メロファン酸、ピロメリト酸等の芳香族ポリカルボン酸;フェニル酢酸、ヒドロアトロパ酸、ヒドロケイ皮酸、マンデル酸、フェニルコハク酸、アトロパ酸、ケイ皮酸、ケイ皮酸メチル、ケイ皮酸ベンジル、シンナミリデン酢酸、クマル酸、ウンベル酸等のその他のカルボン酸が挙げられる。
【0088】
本発明の組成物には以上の他に、更に、熱重合防止剤を加えておくことが好ましく、例えば、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2′−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2−メルカプトベンゾイミダゾール等が有用である。
【0089】
本発明の組成物を調製する際に使用する溶剤としては、エステル類、例えば酢酸エチル、酢酸−n−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、アルキルエステル類、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、
【0090】
3−オキシプロピオン酸メチル、3−オキシプロピオン酸エチルなどの3−オキシプロピオン酸アルキルエステル類;3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、2−オキシプロピオン酸メチル、2−オキシプロピオン酸エチル、2−オキシプロピオン酸プロピル、2−メトキシプロピオン酸メチル、2−メトキシプロピオン酸エチル、2−メトキシプロピオン酸プロピル、2−エトキシプロピオン酸メチル、2−エトキシプロピオン酸エチル、2−オキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−オキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、2−メトキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−エトキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、
【0091】
ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2−オキソブタン酸メチル、2−オキソブタン酸エチル等;エーテル類、例えばジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、
【0092】
プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート等;ケトン類、例えばメチルエチルケトン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン等;芳香族炭化水素類、例えばトルエン、キシレシ等が挙げられる。
【0093】
これらのうち、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメテルエーテル、酢酸ブチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、2−ヘプタノン、シクロヘキサノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート等が好ましく用いられる。
【0094】
これら溶媒は、単独で用いてもあるいは2種以上組み合わせて用いてもよい。本発明の組成物は、上記絶縁性カーボンブラック分散物、光硬化性モノマー、反応開始剤、さらに必要に応じて用いられるその他の添加剤を溶媒と混合し各種の混合機、分散機を使用して混合分散することによって調製することができる。溶媒は、組成物中の全固形分が、通常5〜50質量%、好ましくは10〜30質量%となるような範囲で使用される。
【0095】
本発明の組成物は、基板に回転塗布、流延塗布、ロール塗布等の塗布方法により塗布して感光性組成物層を形成し(膜厚0.5〜2μm)、所定のマスクパターンを介して露光し、現像液で現像することによって、着色されたパターンを形成する。この際に使用される放射線としては、特にg線、h線、i線等の紫外線が好ましく用いられる。
【0096】
基板としては、例えば液晶表示素子等に用いられるソーダガラス、パイレックスガラス、石英ガラスおよびこれらに透明導電膜を付着させたものや、固体撮像素子等に用いられる光電変換素子基板、例えばシリコン基板等が挙げられる。
【0097】
現像液としては、本発明の組成物を溶解し、一方放射線照射部を溶解しない組成物であればいかなるものも用いることができる。具体的には種々の有機溶剤の組み合わせやアルカリ性の水溶液を用いることができる。
有機溶剤としては、本発明の組成物を調整する際に使用される前述の溶剤が挙げられる。
【0098】
アルカリとしては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム,硅酸ナトリウム、メタ硅酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、1,8−ジアザビシクロ−〔5,4,0〕−7−ウンデセン等のアルカリ性化合物を、濃度が0.001〜10質量%、好ましくは0.01〜1質量%となるように溶解したアルカリ性水溶液が使用される。なお、このようなアルカリ性水溶液からなる現像液を使用した場合には、一般に、現像後、水で洗浄する。
【0099】
ブラックマトリックスは、図1及び図2に示すように、TFT6がある基板側の画素電極5間に形成される場合(図1)とカラーフィルター8の各画素(赤(R)、緑(G)、青(B))間に形成される場合(図2)とがある。本願発明の光硬化性組成物から形成されるブラックマトリックスは高抵抗であるので図1のように画素電極間に形成される場合により効果的であり、電気的な短絡による液晶表示の画質の低下を防止することができる。
赤、緑、青の画素からなるカラーフィルターの形成に関しては、例えば、特開2001−33616号、特開2000−29292号、特開11−323057号に開示されているような従来の方法を用いることができる。
【0100】
【実施例】
以下、実施例を用いて本発明を具体的に説明するが、本発明の内容がこれらに限定されるものではない。
(実施例1)
まず下記組成の溶液を調液し、8時間攪拌することにより感光性樹脂溶液を得た。
【0101】
*1)先に説明した本発明の測定方法により体積抵抗値1.5×1013Ω・cmを示した多官能エポキシ樹脂で被覆されたカーボンブラックの固形分濃度23質量%エチル−3−エトキシプロピオネート溶液
*2)竹本油脂(株)製パイオニンD−6112W(HLB:11.9)
*3)N−ブチルペルフルオロオクタンスルホンアミドエチルアクリレート60%とポリ(オキシアルキレン)アクリレート40%の共重合体
【0102】
この感光性樹脂溶液を、1.1mm厚のコーニング社製無アルカリガラス1737を360mm×460mmにカットし1質量%水酸化ナトリウム水溶液にて洗浄した基板に、スピンコーターを用いて1.0μmの膜厚となるようにポイントディスペンス法で塗布した。
ついで減圧乾燥により0.5Torrになるまで乾燥させたのち、100℃で60秒間加熱した。
上記方法で得られた基板を、東芝ライテック社製ナトリウムランプで透過、及び反射光で観察すると塗膜は良好に作製されており、局所斑や滴下跡は発生していなかった。
【0103】
(参考例1)
実施例1においてパイオニンD−6112Wを竹本油脂(株)製パイオニンD−6315(一般式(H)で表される化合物)で置き換えた以外は実施例1と同一の条件で塗膜を
作製したところ、実施例1と同様に局所斑状異常や滴下跡は発生していなかった。
【0104】
(比較例1)
実施例1のような組成物から一般式(B)で表される界面活性剤を除いた溶液を調液し、8時間攪拌して感光性樹脂溶液を得た。
この感光性樹脂溶液を実施例と同様の方法で塗布、減圧乾燥、加熱処理を行った後、東芝ライテック社製ナトリウムランプで透過、及び反射光で観察すると塗膜は良好に作製されておらず、レンコン状の局所斑が発生しており、また滴下跡が発生していた。
【0105】
(比較例2)
実施例1のような組成物からフッ素系非イオン性界面活性剤を除いた溶液を調液し、8時間攪拌して樹脂溶液を得た。
この感光性樹脂を実施例と同様の方法で塗布、減圧乾燥、加熱処理を行った後、東芝ライテック社製ナトリウムランプで透過、及び反射光で観察すると塗膜は良好に作製されておらず、レンコン状の局所斑が発生しており、また滴下跡が発生していた。
【0106】
以上の実施例及び比較例から、本発明のブラックマトリックス形成材料は、レンコン状局所斑や滴下跡が発生せず、良好な塗膜が得られることが分かる。
【0107】
【発明の効果】
本発明により、表面における微小形状異常、滴下跡の発生が著しく軽減されたブラックマトリックス用光硬化性組成物、及び、優れたブラックマトリックスを有するカラーフィルターを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】TFT側にブラックマトリックスが設けられた液晶パネルを示す概念図である。
【図2】カラーフィルター側にブラックマトリックスが設けられた液晶パネルを示す概念図である。
【符号の説明】
1 液晶パネル
2、3 ガラス基板
4 液晶材料
5 画素電極
6 TFT
7 ブラックマトリックス
8 カラーフィルター
9 共通電極[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a photocurable composition suitable for producing a black matrix of a color filter used for a liquid crystal display device or a solid-state imaging device, and a color filter formed using the same.
[0002]
[Prior art]
A black matrix of a color filter used for a liquid crystal display device or the like needs to have a light shielding property and an insulating property, and an insulating carbon black whose particle surface is coated with an organic substance is used as a material satisfying both. In particular, in the case of a liquid crystal display device in which a black matrix is provided on the same side as the TFT layer, high insulation is required in consideration of problems such as electric field leakage.
Carbon black is used as a black matrix pigment because of its excellent light shielding properties. And in order to improve insulation, a certain process is given to the surface of carbon black. For example, after breaking the particle structure such as the structure, the organic particles are chemically bonded to the surface of the primary particle of carbon black by grafting, coated with a film-forming polymer, or adhered by various methods. In general, a method of increasing the electrical resistance as a powder, which is a collection, and making it insulative is widely adopted. For example, JP-A-11-323143 proposes a composition containing carbon black coated with a resin and a surfactant as a light-shielding photosensitive composition.
[0003]
In addition, as a coating method of the coating liquid of the photocurable composition containing carbon black at the time of black matrix preparation, the spin coat method is widely adopted at the point which can obtain a thin film uniformly. At that time, in order to keep the leveling of the coating solution in a good state, a solvent having a relatively low evaporation rate and a high boiling point of 160 ° C. or higher is usually employed as a solvent for the photocurable composition. Furthermore, in order to shorten the drying time from the viewpoint of the production cost of the color filter, the drying after applying the photocurable composition is usually performed by vacuum drying.
However, in this drying process, the solvent component is rapidly removed from the coating film, or the coating film surface is often locally rough, such as rough skin. There is a problem that a large number of local spotted abnormalities) occur, and the film thickness varies in this local portion, resulting in a remaining film after pattern exposure and alkali development, thereby deteriorating the function of the color filter.
In addition, there has been a problem in that coating unevenness (dropping traces) occurs after the interface of the droplets spread by dropping the coating liquid onto the substrate to be coated during spin coating.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
The present invention was made in order to improve the above-mentioned drawbacks of the prior art, and its purpose is to provide photocurability for black matrix, in which the occurrence of abnormal local spots and dripping marks on the surface of the coating film for color filters is significantly reduced. It is an object of the present invention to provide a color filter having an excellent performance black matrix formed by using the composition and the photocurable composition.
[0005]
[Means for Solving the Problems]
The object of the present invention has been achieved by the following constitution.
(1) In a photocurable composition containing at least an insulating carbon black, an alkali-soluble binder, a photocurable monomer, a reaction initiator, and a solvent, a fluorine-containing nonionic surfactant and a polyoxyalkylene polystyrylphenyl A photocurable composition containing an ether.
(2) In a color filter in which black matrix, red (R), green (G), and blue (B) color pixels are stacked on a substrate in a mosaic or stripe shape, the black matrix is the above (1 A color filter, which is a black matrix formed by coating, drying, pattern exposure, and alkali development.
[0006]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
[1] The fluorine-containing nonionic surfactant used in the present invention is preferably a perfluoroalkyl group (CnF2n + 1-, N is a non-ionic surfactant having a positive integer). This nonionic surfactant is usually an ethylene oxide group (—C2HFour-O-) and / or propylene oxide groups (-CThreeH6It has a lipophilic group such as -O-).
[0007]
Fluorine-containing nonionic surfactants include, for example, perfluoroalkylethylene oxide adducts, copolymers of N-alkyl-fluorooctanesulfonamide alkyl acrylates and poly (oxyalkylene) acrylates (for example, N-butyl perfluorooctane). And a copolymer of 60% sulfonamidoethyl acrylate and 40% poly (oxyalkylene) acrylate). As commercially available products, surfactants (eg, F-1420, F-144D, F-171, F-172, F-173, F-177, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.). F-178A, F-178K, F-179, F-183, F-184, F-815).
[0008]
In the photocurable composition for a black matrix of a color filter, an ionic surfactant is usually used as a dispersion aid for improving the dispersion of the black pigment component. In the photocurable composition for black matrix, it is desirable to use a nonionic surfactant.
[0009]
The addition amount of the fluorosurfactant is usually 0.05 to 10% by mass, preferably 0.1 to 5% by mass as the solid content.
[0010]
[2] Examples of the polyoxyalkylene polystyryl phenyl ether used in the present invention include compounds represented by the following general formulas (A) and (B).
[0011]
[Chemical 1]
[0012]
In the formula:
Styryl represents ph-CH = CH-. Here, ph is a phenyl group.
Benzyl is a ph-CH2-Represents. Here, ph is a phenyl group.
PO is a propylene oxide group (-CThreeH6-O-). This propylene is — (CH2)Three-, -CH2CH (CHThree)-.
EO is an ethylene oxide group (-C2HFour-O-).
n represents 1 to 3, m represents 7 to 30, and l represents 0 to 10.
[0013]
Furthermore, the compounds represented by the following general formulas (G) and (H) are particularly preferable.
[Chemical 2]
[0014]
In the formula:
Styryl, Benzyl, PO and EO are the same as in formulas (A) and (B).
p represents 2 or 3, r represents an integer of 5 to 25, and s represents an integer of 8 to 30, respectively. (PO / EO) q is the coexistence of the above PO and EO, and the presence ratio (molar ratio) of PO and EO is in the range of 0/10 to 10/1, and q represents the total number of PO and EO. , Represents an integer of 5-20.
[0015]
In general formulas A and B;
n is an integer of 1 to 3, preferably 1. m is an integer of 7 to 30, preferably 8 to 20. l is an integer of 0 to 10, preferably 0 to 5.
[0016]
In general formulas G and H;
p is 2 or 3, preferably 3. r is an integer of 5 to 25, preferably 8 to 15. (PO / EO) q is such that the above-mentioned PO and EO coexist, and the existing ratio (molar ratio) of PO and EO is in the range of 0/10 to 10/1, preferably 2/8 to 5/5. q represents the total number of PO and EO, and represents an integer of 5 to 20, preferably 5 to 15. s is an integer of 8 to 30, preferably an integer of 15 to 25.
[0017]
Preferred surfactants are the following compounds (A1), (G1), and (H1).
(A1): A compound in which, in General Formula A, n is 1, m is an integer of 8 to 20, and l is an integer of 0 to 5.
(G1): In the general formula (G), p is an integer of 3 and r is an integer of 7 to 15, and (PO / EO) q is an abundance ratio (molar ratio) of PO and EO of 1/5 to 1/1. In which q represents an integer from 6 to 15.
(H1): A compound in which p is 3 and s is an integer of 10 to 25 in general formula (H).
[0018]
More preferred compounds are the following compounds (A2) (G2) and (H2).
(A2): A compound in which, in General Formula A, n is 1, m is an integer of 8 to 12, and l is 0.
(G2): In general formula (G), p is 3, r is an integer of 7 to 15, and (PO / EO) q is a ratio of PO and EO (molar ratio) of 1/4 to 1/2. And q represents an integer of 10 to 15.
(H2): A compound in which p is 3 and s is an integer of 15 to 25 in the general formula (H).
A particularly preferable compound is the compound (A2).
[0019]
These polyoxyalkylene polystyryl phenyl ethers can be used singly or in combination of two or more.
[0020]
Examples of commercially available products of the above polyoxyalkylene polystyryl phenyl ether include the following.
As a compound of general formula A, where n is 1, m is 12, and l is 0, manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd., trade name: Pionine D6512,
As a compound of general formula G, p = 3, (PO / EO) q: PO = 2, EO = 6, r = 10, manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd., trade name: Pionine D6112W,
As a compound of general formula H, p is 3 and s is 10, manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd., trade name: Pionine D6310, and
As a compound of general formula H, p of 3 and s of 20, manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd., trade name: Pionine D6320.
[0021]
The polyoxyalkylene polystyryl phenyl ether is preferably contained in the composition of the present invention in an amount of 0.05 to 10% by mass, more preferably 0.1 to 5% by mass with respect to the total mass of the composition.
[0022]
The mass ratio of the fluorosurfactant and the polyoxyalkylene polystyryl phenyl ether is usually 1:50 to 50: 1, preferably 1:10 to 10: 1, particularly preferably 2: 1 to 1. 1: 2.
[0023]
[3] Insulating carbon black
Insulating carbon black in the present invention means having an organic compound on the surface of carbon black particles, for example, organic substances are adsorbed, coated or chemically bonded (grafted) on the surface of carbon black particles. And it is carbon black which shows insulation, when the volume resistance as a powder is measured by the following methods.
[0024]
Insulating carbon black is dispersed in propylene glycol monomethyl ether so that benzyl methacrylate and methacrylic acid have a molar ratio of 70:30 copolymer (mass average molecular weight 30,000) and 20:80 mass ratio. Was applied to a chrome substrate having a thickness of 1.1 mm and 10 cm × 10 cm to prepare a coating film having a dry film thickness of 3 μm. The coating film was further heat-treated in an oven at 200 ° C. for 1 hour, and then JISK6911. Is applied with a high resistivity meter manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd., Hirestor UP (MCP-HT450), and the volume resistance value is measured in an environment of 23 ° C. and 65% relative humidity. And as this volume resistance value, 106Ω · cm or more, more preferably 108Ω · cm or more, particularly preferably 109Insulating carbon black exhibiting Ω · cm or more is preferable.
[0025]
As the insulating carbon black, for example, JP-A-11-60988, JP-A-11-60989, JP-A-10-330634, JP-A-11-80583, JP-A-11-80584, JP-A-9-124969, Resin-coated carbon black disclosed in JP-A-9-95625 can be used.
[0026]
In addition, carbon black may be appropriately coated with a resin.
To coat carbon black with resin (coating resin), add a coating resin and solvent to carbon black to make a mill base, which is then flushed, kneaded, ball mill, sand mill, bead mill, 2 or 3 roll mill, extruder Dispersion treatment is performed by a method such as paint shaker, ultrasonic wave, homogenizer. Two or more of these processing methods can be combined. If necessary, a dispersant can be used to uniformly disperse the carbon black.
[0027]
Examples of the carbon black include carbon blacks # 2400, # 2350, # 2300, # 2200, # 1000, # 980, # 970, # 960, # 950, # 900, # 850, MCF88, #M manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation. 650, MA600, MA7, MA8, MA11, MA100, MA220, IL30B, IL31B, IL7B, IL11B, IL52B, # 4000, # 4010, # 55, # 52, # 50, # 47, # 45, # 44, # 40 , # 33, # 32, # 30, # 20, # 10, # 5, CF9, # 3050, # 3150, # 3250, # 3750, # 3950, Diamond Black A, Diamond Black N220M, Diamond Black N234, Diamond Black I, Diamond Black LI, Diamond Black II, Diamond Black N33 , Diablack SH, Diablack SHA, Diablack LH, Diablack H, Diablack HA, Diablack SF, Diablack N550M, Diablack E, Diablack G, Diablack R, Diablack N760M, Diablack LP. Carbon black thermax N990, N991, N907, N908, N990, N991, N908 made by Cancarb. Carbon black Asahi # 80, Asahi # 70, Asahi # 70L, Asahi F-200, Asahi # 66, Asahi # 66HN, Asahi # 60H, Asahi # 60U, Asahi # 60, Asahi # 55, Asahi # 50H, Asahi # 51, Asahi # 50U, Asahi # 50, Asahi # 35, Asahi # 15, Asahi Thermal, Degussa's carbon black ColorBlack Fw200, ColorBlack Fw2, ColorBlack Fw2, ColorBlack Fw1, ColorBlack 170, BlackBlack, BlackBlack S160, SpecialBlack6, SpecialBlack5, SpecialBlack4, SpecialBlack4A, PrintexU, PrintexV, Printex140U, Printex140 And the like can be given.
[0028]
Examples of the coating resin include the following.
1) Polyolefin polymer
Polyethylene, polypropylene, polyisobutylene, etc.
2) Diene polymer
Polybutadiene, polyisoprene, etc.
3) Polymer having a conjugated polyene structure
Polyacetylene polymer, polyphenylene polymer, etc.
4) Vinyl polymer
Polyvinyl chloride, polystyrene, vinyl acetate, polyvinyl alcohol, poly (meth) acrylic acid, poly (meth) acrylic acid ester, polyacrylamide, polyacrylonitrile, polyvinylphenol, etc.
5) Polyether
Polyphenylene ether, polyoxirane, polyoxetane, polytetrahydrofuran, polyetherketone, polyetheretherketone, polyacetal, etc.
6) Phenolic resin
Novolac resin, resole resin, etc.
7) Polyester
Polyethylene terephthalate, polyphenolphthalein terephthalate, polycarbonate, alkyd resin, unsaturated polyester resin, etc.
8) Polyamide
Nylon-6, nylon 66, water-soluble nylon, polyphenyleneamide, etc.
9) Polypeptide
Gelatin, casein, etc.
10) Epoxy resin and its modified products
Novolac epoxy resin, bisphenol epoxy resin, novolac epoxy acrylate, modified resin with acid anhydride, etc.
11) Other
Polyurethane, polyimide, melamine resin, urea resin, polyimidazole, polyoxazole, polypyrrole, polyaniline, polysulfide, polysulfone, celluloses, etc.
[0029]
More specifically, the acrylic resin containing a carboxyl group is, for example, a monomer having a carboxyl group such as (meth) acrylic acid, (anhydrous) maleic acid, crotonic acid, itaconic acid, fumaric acid, styrene, α-methyl, etc. Styrene, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, vinyl acetate, acrylonitrile, (meth) acrylamide, glycidyl (meth) ) Acrylate, allyl glycidyl ether, glycidyl ethyl acrylate, glycidyl crotonic acid ether, (meth) acrylic acid chloride, benzyl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, N-methylol acrylamide, N, N dimethylacrylamid , N- methacryloyl morpholine, N, N- dimethylaminoethyl (meth) acrylate, N, N- dimethylaminoethyl acrylamide, polymers obtained by copolymerizing copolymerizable component such as. Among them, preferred is an acrylic resin containing at least (meth) acrylic acid or (meth) acrylic acid alkyl ether as a constituent monomer, and more preferred is an acrylic resin containing (meth) acrylic acid and styrene.
[0030]
Moreover, these resins can also add an ethylenic double bond to the resin side chain. Since the photocurability is increased by imparting a double bond to the resin side chain, the resolution and adhesion can be further improved, which is preferable.
Examples of the synthesis means for introducing an ethylenic double bond include the methods described in JP-B-50-34443, JP-B-50-34444, and the like. Specific examples include a method of reacting a compound having both a glycidyl group, an epoxycyclohexyl group and a (meth) acryloyl group with a carboxyl group or a hydroxyl group, or acrylic acid chloride. For example, glycidyl (meth) acrylate, allyl glycidyl ether, glycidyl α-ethyl acrylate, crotonyl glycidyl ether, (iso) crotonic acid glycidyl ether, (3,4-epoxycyclohexyl) methyl (meth) acrylate, (meth) By using a compound such as acrylic acid chloride or (meth) allyl chloride and reacting with a resin having a carboxyl group or a hydroxyl group, a resin having a polymer group in the side chain can be obtained. In particular, a resin obtained by reacting (3,4-epoxycyclohexyl) methyl (meth) acrylate is preferable.
[0031]
In addition, a polymer obtained by a copolymerization reaction of at least a monomer represented by the following general formula [I] and at least an acid group-containing monomer (the above-described copolymerization component can be used) can also be used.
[0032]
[Chemical Formula 3]
[0033]
(Wherein R represents a hydrogen atom or a methyl group, R1 , R2 , RThree , RFour And RFive Are groups selected from a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group and an aryl group, respectively. )
Here, specific examples of the halogen atom include Cl, Br, and I. The alkyl group may be linear, branched, or cyclic, and includes a methyl group, an n-propyl group, an iso-propyl group, a tert-butyl group, and the like, preferably having 1 to 7 carbon atoms. Examples of the aryl group include a phenyl group, a furyl group, and a naphthyl group.
[0034]
The following resins can also be used.
A linear organic high molecular polymer which is soluble in an organic solvent and can be developed with a weak alkaline aqueous solution is preferred. As such a linear organic polymer, those having an acid group such as a carboxy group or a phenolic hydroxyl group in the resin side chain or main chain are preferable from the viewpoint of pollution prevention because they can be alkali-developed. In particular, a resin having a carboxyl group, for example, an acrylic acid (co) polymer, a styrene / maleic anhydride resin, an acid anhydride-modified resin of novolak epoxy acrylate, and the like are preferable because of high alkali developability. Examples of the polymer having a carboxylic acid in the side chain include, for example, JP-A-59-44615, JP-B-54-34327, JP-B-58-12777, JP-B-54-25957, JP-A-59-53836, A methacrylic acid copolymer, an acrylic acid copolymer, an itaconic acid copolymer, a crotonic acid copolymer, a maleic acid copolymer, a partially esterified maleic acid as described in Kokai 59-71048 There are copolymers and the like, and similarly there are acidic cellulose derivatives having a carboxylic acid in the side chain. In addition, a polymer in which an acid anhydride is added to a polymer having a hydroxyl group is also useful. Among these, benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid copolymers and multi-component copolymers with benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / and other monomers are also suitable.
In addition, 2-hydroxyethyl methacrylate, polyvinyl pyrrolidone, polyethylene oxide, polyvinyl alcohol, and the like are also useful as the water-soluble polymer. In order to increase the strength of the cured film, alcohol-soluble nylon, polyether of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin are also useful. These polymers can be mixed in any amount.
[0035]
Furthermore, the following epoxy resins can also be used.
(1) Glycidylamine type epoxy resin
(2) Triphenylglycidylmethane type epoxy resin
(3) Tetraphenylglycidylmethane type epoxy resin
(4) Aminophenol type epoxy resin
(5) Diamide diphenylmethane type epoxy resin
(6) Phenol novolac type epoxy resin
(7) Orthocresol type epoxy resin
(8) Bisphenol A novolac type epoxy resin
[0036]
Among the above, as the coating resin, a copolymer of (meth) acrylic acid and (meth) acrylic acid ester is preferable because various monomers can be selected and solubility and acid value can be controlled.
[0037]
The preferable range of the mass average molecular weight (weight average molecular weight) of these coating resins measured by gel permeation chromatography (GPC) is 1000 to 300,000, more preferably 3000 to 150,000. When it exceeds 300,000, the developability tends to decrease.
[0038]
As the dispersant, the above-described coating resin can be used as it is, or a dispersant as described later can be used in combination. These dispersants can be used alone or in combination. The resin is adsorbed on the surface of the carbon black by the dispersion treatment, and at the same time, the aggregation of the carbon black particles is broken and the particle size is reduced.
[0039]
In the present invention, examples of the form of carbon black coated with the resin include powder, paste, pellet, paste, and sheet.
The preferred average particle size of the carbon black coated with the resin is in the range of 0.003 to 0.5 μm, more preferably in the range of 0.005 to 0.3 μm, whereby various effects of the present invention, in particular, Developability and image reproducibility are further improved.
[0040]
As the dispersant, Anti-Terra-U, Disperbyk-160, 161, 162, 163 manufactured by BYK, Solspers 20000, 24000GR, 26000, 28000 manufactured by ZENECA, DA-703-50, NDC- manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd. 8194 L, NDC-8203L, NDC-8257L, KS-860, Kaogen's homogenal L-18, L-1820, L-95, L-100, Nippon Paint VP5000, Goodrich E5703P, Known dispersion resins such as VAGH manufactured by Union Carbide, UR8200 manufactured by Toyobo, and MR113 manufactured by Nippon Zeon can be used.
[0041]
Moreover, a phthalocyanine derivative (commercial product EFKA-745 (manufactured by Morishita Sangyo)); an organosiloxane polymer KP341 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), a (meth) acrylic acid (co) polymer polyflow No. 75, No. 90, No. Cationic surfactants such as 95 (manufactured by Kyoeisha Yushi Chemical Co., Ltd.) and W001 (manufactured by Yusho); polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octylphenyl ether, polyoxy Nonionic surfactants such as ethylene nonylphenyl ether, polyethylene glycol dilaurate, polyethylene glycol distearate, sorbitan fatty acid ester; F-top EF301, EF303, EF352 (manufactured by Shin-Akita Kasei), MegaFuck F171, 172, F173 (Dainippon Ink), Florard FC430, FC431 (Sumitomo 3M), Asahi Guard AG710, Surflon S382, SC-101, SC-102, SC-103, SC-104, SC-105, SC-1068 Fluorosurfactants such as Asahi Glass; anionic surfactants such as W004, W005 and W017 (manufactured by Yusho); EFKA-46, EFKA-47, EFKA-47EA, EFKA polymer 100, EFKA polymer 400, Polymer dispersants such as EFKA polymer 401, EFKA polymer 450 (manufactured by Morishita Sangyo), disperse aid 6, disperse aid 8, disperse aid 15, disperse aid 9100 (manufactured by San Nopco); Solsperse 3000, 5000, 9000 12000 Various Solsperse dispersants such as 13240, 13940, 17000, 24000, 26000, 28000 (manufactured by Zeneca Corporation); Adeka Pluronic L31, F38, L42, L44, L61, L64, F68, L72, P95, F77, P84, F87, P94, L101, P103, F108, L121, P-123 (Asahi Denka) and Isonet S-20 (Sanyo Kasei) are also included.
[0042]
The amount of the insulating carbon black added is usually 10 to 60% by mass, preferably 20 to 55% by mass, and particularly preferably 25 to 50% by mass in the composition.
[0043]
[4] Next, (B) the alkali-soluble binder will be described.
In the composition of the present invention, the following alkali-soluble resin and graft copolymer can be used as a binder.
These alkali-soluble binders are preferably linear organic high molecular polymers that are soluble in an organic solvent and can be developed with a weak alkaline aqueous solution. Examples of such linear organic high molecular polymers include polymers having a carboxylic acid in the side chain, such as JP-A-59-44615, JP-B-54-34327, JP-B-58-12777, and JP-B-54-25957. Methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer, itaconic acid copolymer, crotonic acid copolymer, as described in JP-A-59-53836 and JP-A-59-71048, There are maleic acid copolymers, partially esterified maleic acid copolymers and the like, and similarly there are acidic cellulose derivatives having a carboxylic acid in the side chain. In addition, a polymer in which an acid anhydride is added to a polymer having a hydroxyl group is also useful. Among these, benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid copolymers and multi-component copolymers with benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / and other monomers are preferred. In addition, 2-hydroxyethyl methacrylate, polyvinyl pyrrolidone, polyethylene oxide, polyvinyl alcohol, and the like are also useful as the water-soluble polymer. In order to increase the strength of the cured film, alcohol-soluble nylon, polyether of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin are also useful.
[0044]
Further, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer described in JP-A-7-140654 / Benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, 2-hydroxyethyl methacrylate / polystyrene macromonomer / methyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, 2-hydroxyethyl methacrylate / polystyrene macromonomer / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, etc. Is mentioned.
[0045]
Moreover, the graft copolymer as shown below described in JP-A-10-254133 can be used as a binder and a pigment dispersant.
At least (1) the polymer main chain containing at least one of the polymer components represented by the following general formulas (IIa) and (IIb) is represented by the following general formula (A) only at one terminal. Mass average molecular weight 3 × 10, formed by bonding a polymerizable double bond groupFourThe following monofunctional macromonomer, (2) a monomer represented by the following general formula (III), (3) a quaternary ammonium salt monomer, and (4) an unsubstituted or substituted acid amide represented by the following general formula (IV) A copolymer comprising at least a monomer having at least one group in the molecule.
[0046]
[Formula 4]
[0047]
[In formula (A), V0Is —COO—, —OCO—, —CH2OCO-, -CH2COO-, -O-, -SO2-, -CO-, -CONHCOO-, -CONHCONH-, -CONHSO2-, -CON (PThree)-, -SO2N (PThree)-Or -C6HFour-Represents (PThreeRepresents a hydrogen atom or a hydrocarbon group.
c1, C2May be the same or different from each other, and may be a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a hydrocarbon group, -COO-Z ', or -COO-Z' via a hydrocarbon (Z 'may be a hydrogen atom or substituted). Represents a good hydrocarbon group). ]
[0048]
[Chemical formula 5]
[0049]
[In formula (IIa) or (IIb), V1Is V in the formula (A).0It is synonymous with. Q1Represents an aliphatic group having 1 to 18 carbon atoms or an aromatic group having 6 to 12 carbon atoms. d1, D2May be the same as or different from each other, and c in formula (A)1, C2It is synonymous with. Q0Is -CN or -C6HFourRepresents -T. Here, T represents a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group, an alkoxy group or —COOZ ″ (Z ″ represents an alkyl group, an aralkyl group or an aryl group). ]
[0050]
[Chemical 6]
[0051]
[In formula (III), V2Is V in formula (IIa)1It is synonymous with. Q2Q in formula (IIa)1It is synonymous with. e1, E2May be the same or different from each other, and c in formula (A)1, C2It is synonymous with. ]
[0052]
[Chemical 7]
[0053]
[In formula (IV), R1, R2May be the same or different and each represents a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms;1And R2-O-, -S-, -NRThree-(Where RThreeMay be bonded to each other via a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms to form a ring. ]
[0054]
Further, as the binder, the following polymers described in JP-A-10-20496 can also be used. The polymer is a polymer obtained by a copolymerization reaction of a monomer represented by the following general formula (K) and a monomer having at least an acidic group.
[0055]
[Chemical 8]
[0056]
In the formula (K), R represents a hydrogen atom or a methyl group, and R1~ RFiveEach independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group or an aryl group.
[0057]
The binder preferably has a mass average molecular weight of 1 × 10FourThe above polymers are preferred, more preferably a weight average molecular weight of 2 × 10Four~ 5x10FiveIt is.
0.01-60 mass% is preferable with respect to the total solid in a composition, and, as for the usage-amount in the composition of the said binder, More preferably, it is 0.5-30 mass%.
[0058]
[5] The composition of the present invention further contains a photocurable monomer and a reaction initiator.
The photocurable monomer preferably includes a compound having at least one addition-polymerizable ethylene group and having an ethylenically unsaturated group having a boiling point of 100 ° C. or higher under normal pressure.
The reaction initiator is preferably an active halogen compound such as a halomethyloxadiazole compound or a halomethyl-s-triazine compound, a benzophenone compound, an acetophenone compound, a thioxanthone compound, a 3-aryl substituted coumarin compound, or at least one lophine. A dimer is mentioned.
[0059]
As a photocurable monomer, at least one addition-polymerizable ethylenically unsaturated group having a boiling point of 100 ° C. or higher at normal pressure includes polyethylene glycol mono (meth) acrylate and polypropylene glycol mono (meth) acrylate. , Monofunctional acrylates and methacrylates such as phenoxyethyl (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) Acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxy) (Propyl) ether, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyfunctional alcohols such as glycerin and trimethylolethane, and then (meth) acrylated after addition of ethylene oxide or propylene oxide, Japanese Patent Publication No. 48-41708, Urethane acrylates as described in JP-B-50-6034, JP-A-51-37193, JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30490 Polyfunctional acrylates and methacrylates such as polyester acrylates and epoxy acrylates, which are reaction products of epoxy resin and (meth) acrylic acid, can be mentioned. Furthermore, the Japan Adhesion Association Vol. 20, No. 7, pages 300 to 308, those introduced as photocurable monomers and oligomers can also be used. These photo-curable monomers or oligomers are used in any proportion within a range that does not impair the purpose and effect of the present invention as long as the composition of the present invention can form a coating film having adhesiveness upon irradiation with radiation. it can. The amount used is 5 to 90 wt%, preferably 10 to 50 wt%, based on the total solid content of the photosensitive composition.
[0060]
Examples of active halogen compounds such as halomethyloxadiazole and halomethyl-s-triazine include 2-halomethyl-5-vinyl-1,3,4-shown by the following general formula IV described in JP-B-57-6096. An oxadiazole compound is mentioned.
[0061]
[Chemical 9]
[0062]
In the formula (IV), W represents a substituted or unsubstituted aryl group, X represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, Y represents a fluorine atom, a chlorine atom or a bromine atom, and n represents 1 to 3. Represents an integer.
Specific compounds include 2-trichloromethyl-5-styryl-1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (p-cyanostyryl) -1,3,4-oxadiazole, And 2-trichloromethyl-5- (p-methoxystyryl) -1,3,4-oxadiazole. As a photoinitiator for a halomethyl-s-triazine compound, a vinyl-halomethyl-s-triazine compound represented by the following general formula V described in JP-B-59-1281, JP-A-53-133428, 2- (naphth-1-yl) -4,6-bis-halomethyl-s-triazine compound represented by the following general formula VI and 4- (p-aminophenyl) -2 represented by the following general formula VII, A 6-di-halomethyl-s-triazine compound may be mentioned.
[0063]
[Chemical Formula 10]
[0064]
In formula (V), QThree Is Br, Cl, P is -CQThree, -NH2, -NHR, -N (R)2, -OR (wherein R is a phenyl or alkyl group), W is an optionally substituted aromatic, heterocyclic nucleus or of the general formula VA, wherein Z is -O- or- S- and R is as defined above.
[0065]
Embedded image
[0066]
In the formula (VI), X represents -Br, -Cl, m and n are integers of 0 to 3, R 'is represented by the general formula VIA, R1Is H or ORc(RcIs an alkyl, cycloalkyl, alkenyl, aryl group), R2 Represents —Cl, —Br or an alkyl, alkenyl, aryl, or alkoxy group.
[0067]
Embedded image
[0068]
In formula (VII), R1, R2Is represented by —H, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, or general formulas VIIA and VIIB. RThree, RFourRepresents -H, a halogen atom, an alkyl group or an alkoxy group. X and Y represent -Cl and -Br, and m and n represent 0, 1 or 2.
[0069]
Embedded image
[0070]
In formulas VII A and VII B, RFive, R6, R7Represents an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, or a substituted aryl group. Examples of substituents in substituted alkyl groups and substituted aryl groups include aryl groups such as phenyl groups, halogen atoms, alkoxy groups, carboalkoxy groups, carboaryloxy groups, acyl groups, nitro groups, dialkylamino groups, sulfonyl derivatives, etc. Is mentioned.
[0071]
In formula (VII), R1And R2May form a heterocycle consisting of a nonmetallic atom together with a nitrogen atom to which it is bonded, and in this case, examples of the heterocycle include those shown below.
[0072]
Embedded image
[0073]
Specific examples of general formula V include 2,4-bis (trichloromethyl) -6-p-methoxystyryl-s-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (1-p-dimethyl). And aminophenyl-1,3-butadienyl) -s-triazine, 2-trichloromethyl-4-amino-6-p-methoxystyryl-s-triazine, and the like.
[0074]
Specific examples of general formula VI include 2- (naphth-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- (4-methoxy-naphth-1-yl) -4, 6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- (4-ethoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- (4-butoxy-naphth-1-yl) ) -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- [4- (2-methoxyethyl) -naphth-1-yl] -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- [ 4- (2-ethoxyethyl) -naphth-1-yl] -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- [4- (2-butoxyethyl) -naphth-1-yl] -4, 6-bis-trichloromethyl-s-tri Gin, 2- (2-methoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- (6-methoxy-5-methyl-naphth-2-yl) -4,6 -Bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- (6-methoxy-naphth-2-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- (5-methoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- (4,7-dimethoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- (6-ethoxy- Naphth-2-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- (4,5-dimethoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, etc. Can be mentioned.
[0075]
Specific examples of the general formula VII include 4- [pN, N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [o-methyl-p -N, N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [pN, N-di (chloroethyl) aminophenyl] -2,6- Di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [o-methyl-pN, N-di (chloroethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (p- N-chloroethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (pN-ethoxycarbonylmethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s- Triazine, 4- [p-N, N-di (phenyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (p-N-chloroethylcarbonylaminophenyl) -2,6 -Di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [p-N- (p-methoxyphenyl) carbonylaminophenyl] 2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [m-N, N -Di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [m-bromo-pN, N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2, 6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [m-chloro-pN, N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) ) -S-triazine, 4- [m-fluoro-pN, N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [o-bromo -PN, N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [o-chloro-pN, N-di (ethoxycarbonylmethyl) Aminophenyl-2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [o-fluoro-pN, N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl)- s-triazine, 4- [o-bromo-pN, N-di (chloroethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [o-chloro-pN, -Di (chloroethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [o-fluoro-pN, N-di (chloroethyl) aminophenyl] -2,6-di ( Trichloromethyl) -s-triazine, 4- [m-bromo-pN, N-di (chloroethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [m-chloro- p-N, N-di (chloroethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [m-fluoro-pN, N-di (chloroethyl) aminophenyl] -2 , 6-Di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (m-bromo-pN-ethoxycarbonylmethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (m -Chloro-pN-ethoxycarbonylmethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (m-fluoro-pN-ethoxycarbonylmethylaminophenyl) -2,6- Di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (o-bromo-pN-ethoxycarbonylmethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (o-chloro-p -N-ethoxycarbonylmethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (o-fluoro-pN-ethoxycarbonylmethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) ) -S-triazine, 4- (m-bromo-pN-chloroethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-to Azine, 4- (m-chloro-pN-chloroethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (m-fluoro-pN-chloroethylaminophenyl)- 2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (o-bromo-pN-chloroethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (o- Chloro-pN-chloroethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (o-fluoro-pN-chloroethylaminophenyl) -2,6-di (trichloro Methyl) -s-triazine, and the like.
[0076]
The following sensitizers can be used in combination with these initiators.
Specific examples thereof include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin, 9-fluorenone, 2-chloro-9-fluorenone, 2-methyl-9-fluorenone, 9-anthrone, 2-bromo-9-anthrone, 2-ethyl-9. Anthrone, 9,10-anthraquinone, 2-ethyl-9,10-anthraquinone, 2-t-butyl-9,10-anthraquinone, 2,6-dichloro-9,10-anthraquinone, xanthone, 2-methylxanthone, 2-methoxyxanthone, 2-methoxyxanthone, thioxanthone, benzyl, dibenzalacetone, p- (dimethylamino) phenylstyrylketone, p- (dimethylamino) phenyl-p-methylstyrylketone, benzophenone, p- (dimethylamino) ) Benzophenone (or Mihira) Ketone), p- (diethylamino) benzophenone, benzothiazole compounds of benzanthrone like and Sho 51-48516 JP thereof.
[0077]
The 3-aryl-substituted coumarin compound refers to a compound represented by the following general formula VIII. R8Is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms (preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group), R9Is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, a group represented by the following general formula VIIIA (preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, or a general formula VIIIA Group, particularly preferably a group represented by the general formula VIIIA). RTen, R11Are a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, octyl group), and a haloalkyl group having 1 to 8 carbon atoms (for example, chloromethyl group, fluoromethyl group, trifluoro). Methyl group, etc.), C1-C8 alkoxy group (for example, methoxy group, ethoxy group, butoxy group), C6-C10 aryl group (for example, phenyl group) which may be substituted, amino group, -N ( R16) (R17), Halogen (for example, -Cl, -Br, -F). Preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a methoxy group, a phenyl group, -N (R16) (R17), -Cl. R12Represents an optionally substituted aryl group having 6 to 16 carbon atoms (for example, phenyl group, naphthyl group, tolyl group, cumyl group). As the substituent, an amino group, -N (R16) (R17), An alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, octyl group), haloalkyl group having 1 to 8 carbon atoms (for example, chloromethyl group, fluoromethyl group, trifluoromethyl group, etc.) ), An alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms (for example, a methoxy group, an ethoxy group, and a butoxy group), a hydroxy group, a cyano group, and a halogen (for example, -Cl, -Br, -F). R13, R14, R16, R17Represents a hydrogen atom and an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, and an octyl group). R13And R14And R16And R17May combine with each other to form a heterocyclic ring (for example, a piperidine ring, a piperazine ring, a morpholine ring, a pyrazole ring, a diazole ring, a triazole ring, or a benzotriazole ring) together with a nitrogen atom. R15Is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, octyl group), an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms (for example, methoxy group, ethoxy group, butoxy group), An optionally substituted aryl group having 6 to 10 carbon atoms (for example, phenyl group), amino group, N (R16) (R17), Halogen (for example, -Cl, -Br, -F). Zb is = O, = S or = C (R18) (R19). Preferably = O, = S, = C (CN)2And particularly preferably = O. R18, R19Are each a cyano group, -COOR20, -CORtwenty oneRepresents. R20, Rtwenty oneAre each an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, octyl group), haloalkyl group having 1 to 8 carbon atoms (for example, chloromethyl group, fluoromethyl group, trifluoromethyl group, etc.) ), An optionally substituted aryl group having 6 to 10 carbon atoms (for example, a phenyl group).
[0078]
Particularly preferred 3-aryl-substituted coumarin compounds are {(s-triazin-2-yl) amino} -3-arylcoumarin compounds represented by the general formula IX.
[0079]
Embedded image
[0080]
Lophine dimer means 2,4,5-triphenylimidazolyl dimer composed of two lophine residues, and its basic structure is shown below.
[0081]
Embedded image
[0082]
Specific examples thereof include 2- (o-chlorophenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2- (o-fluorophenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2- (o-methoxy). Phenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2- (p-methoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2- (p-dimethoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer 2- (2,4-dimethoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2- (p-methylmercaptophenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer, and the like.
[0083]
In the present invention, other known ones can be used in addition to the above initiators. Vicinal polykettle aldonyl compounds disclosed in US Pat. No. 2,367,660, α-disclosed in US Pat. Nos. 2,367,661 and 2,367,670. Carbonyl compounds, acyloin ethers disclosed in US Pat. No. 2,448,828, aromatic acyloin substituted with α-hydrocarbons disclosed in US Pat. No. 2,722,512 Compounds, polynuclear quinone compounds disclosed in US Pat. Nos. 3,046,127 and 2,951,758, triallylimidazole dimers disclosed in US Pat. No. 3,549,367 / P-aminophenyl ketone combination, benzothiazole compound disclosed in Japanese Patent Publication No. 51-48516 / trihalomethylol -S-triazine compound.
[0084]
The usage-amount of an initiator is 0.01-100 mass% with respect to a monomer, Preferably it is 1-50 mass%. When the amount of the initiator used is less than 0.01% by mass, the polymerization is difficult to proceed, and when it exceeds 100% by mass, the polymerization rate increases, but the molecular weight decreases and the film strength decreases.
[0085]
In the composition of the present invention, various additives as necessary, for example, fillers, polymer compounds other than the resin of the present invention, surfactants, adhesion promoters, antioxidants, ultraviolet absorbers, anti-aggregation agents, etc. Can be blended.
[0086]
Specific examples of these additives include fillers such as glass and alumina; polymer compounds other than the binder polymer (A) such as polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyethylene glycol monoalkyl ether, and polyfluoroalkyl acrylate; , Cationic and anionic surfactants; vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4- Epoxy cyclohexyl) Adhesion promoters such as titrimethylsilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane; 2,2-thiobis (4 -Methyl-6-t-butylphenol), 2,6-di-t-butylphenol and other antioxidants: 2- (3-t-butyl-5-methyl-2-hydroxyphenyl) -5-chlorobenzotriazole, UV absorbers such as alkoxybenzophenone; and anti-aggregation agents such as sodium polyacrylate.
[0087]
In addition, when promoting the alkali solubility in the unirradiated part and further improving the developability of the composition of the present invention, the composition of the present invention is an organic carboxylic acid, preferably a low molecular weight having a molecular weight of 1000 or less. An organic carboxylic acid can be added. Specifically, aliphatic monocarboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, pivalic acid, caproic acid, diethyl acetic acid, enanthic acid, caprylic acid; oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutar Aliphatic dicarboxylic acids such as acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, brassic acid, methylmalonic acid, ethylmalonic acid, dimethylmalonic acid, methylsuccinic acid, tetramethylsuccinic acid, citraconic acid; Aliphatic tricarboxylic acids such as carbaryl acid, aconitic acid, and camphoronic acid; aromatic monocarboxylic acids such as benzoic acid, toluic acid, cumic acid, hemelitic acid, and mesitylene acid; phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, trimellitic acid, trimesin Aromatic polycarboxylic acids such as acid, merophanic acid, pyromellitic acid; phenylacetic acid, Doroatoropa acid, hydrocinnamic acid, mandelic acid, phenyl succinic acid, atropic acid, cinnamic acid, methyl cinnamate, benzyl cinnamate, cinnamylidene acetic acid, coumaric acid, other carboxylic acids such as umbellic acid.
[0088]
In addition to the above, it is preferable to add a thermal polymerization inhibitor to the composition of the present invention, for example, hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butyl. Catechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), 2-mercaptobenzimidazole, etc. are useful. .
[0089]
Solvents used in preparing the composition of the present invention include esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, amyl formate, isoamyl acetate, isobutyl acetate, butyl propionate, isopropyl butyrate, ethyl butyrate. Butyl butyrate, alkyl esters, methyl lactate, ethyl lactate, methyl oxyacetate, ethyl oxyacetate, butyl oxyacetate, methyl methoxyacetate, ethyl methoxyacetate, butyl methoxyacetate, methyl ethoxyacetate, ethyl ethoxyacetate,
[0090]
3-oxypropionic acid alkyl esters such as methyl 3-oxypropionate and ethyl 3-oxypropionate; methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, 3-ethoxypropionic acid Ethyl, methyl 2-oxypropionate, ethyl 2-oxypropionate, propyl 2-oxypropionate, methyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, propyl 2-methoxypropionate, methyl 2-ethoxypropionate , Ethyl 2-ethoxypropionate, methyl 2-oxy-2-methylpropionate, ethyl 2-oxy-2-methylpropionate, methyl 2-methoxy-2-methylpropionate, 2-ethoxy-2-methylpropionic acid ethyl,
[0091]
Methyl pyruvate, ethyl pyruvate, propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, methyl 2-oxobutanoate, ethyl 2-oxobutanoate, etc .; ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofuran, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol mono Ethyl ether, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether,
[0092]
Propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether acetate, propylene glycol propyl ether acetate, etc .; ketones, such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone, etc .; aromatic hydrocarbons, such as toluene, xylene .
[0093]
Among these, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate, diethylene glycol dimethyl ether, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, 2-heptanone, cyclohexanone, ethyl carbitol acetate Butyl carbitol acetate, propylene glycol methyl ether acetate and the like are preferably used.
[0094]
These solvents may be used alone or in combination of two or more. The composition of the present invention uses various mixers and dispersers by mixing the insulating carbon black dispersion, photocurable monomer, reaction initiator, and other additives used as necessary with a solvent. Can be prepared by mixing and dispersing. The solvent is used in such a range that the total solid content in the composition is usually 5 to 50% by mass, preferably 10 to 30% by mass.
[0095]
The composition of the present invention is applied to a substrate by a coating method such as spin coating, cast coating, roll coating, etc. to form a photosensitive composition layer (film thickness 0.5-2 μm), and through a predetermined mask pattern. Then, exposure and development with a developer form a colored pattern. As the radiation used at this time, ultraviolet rays such as g-line, h-line and i-line are particularly preferably used.
[0096]
Examples of the substrate include soda glass, pyrex glass, quartz glass used for liquid crystal display elements and the like, and those obtained by attaching a transparent conductive film to these, and photoelectric conversion element substrates used for solid-state imaging elements such as silicon substrates. Can be mentioned.
[0097]
Any developer can be used as long as it dissolves the composition of the present invention and does not dissolve the radiation irradiated portion. Specifically, a combination of various organic solvents or an alkaline aqueous solution can be used.
Examples of the organic solvent include the aforementioned solvents used in preparing the composition of the present invention.
[0098]
Examples of the alkali include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium oxalate, sodium metasuccinate, aqueous ammonia, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, choline, An alkaline compound such as pyrrole, piperidine, or 1,8-diazabicyclo- [5,4,0] -7-undecene is added so that the concentration is 0.001 to 10% by mass, preferably 0.01 to 1% by mass. A dissolved alkaline aqueous solution is used. When a developer composed of such an alkaline aqueous solution is used, it is generally washed with water after development.
[0099]
As shown in FIGS. 1 and 2, the black matrix is formed between the
For the formation of a color filter composed of red, green, and blue pixels, for example, conventional methods such as those disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2001-33616, 2000-29292, and 11-323057 are used. be able to.
[0100]
【Example】
Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the contents of the present invention are not limited thereto.
(Example 1)
First, a solution having the following composition was prepared and stirred for 8 hours to obtain a photosensitive resin solution.
[0101]
* 1) Volume resistance value of 1.5 × 10 5 by the measurement method of the present invention described above13Solid content concentration of 23% by mass of ethyl-3-ethoxypropionate in carbon black coated with polyfunctional epoxy resin showing Ω · cm
* 2) PIONEIN D-6112W (HLB: 11.9) manufactured by Takemoto Oil & Fat Co., Ltd.
* 3) Copolymer of 60% N-butylperfluorooctanesulfonamidoethyl acrylate and 40% poly (oxyalkylene) acrylate
[0102]
This photosensitive resin solution was cut into a 1.0 μm thick film using a spin coater on a substrate washed with a 1% by weight sodium hydroxide aqueous solution of a 1.1 mm thick non-alkali glass 1737 made by Corning, which was cut into 360 mm × 460 mm. It applied by the point dispensing method so that it might become thick.
Next, after drying to 0.5 Torr by drying under reduced pressure, heating was performed at 100 ° C. for 60 seconds.
When the substrate obtained by the above method was observed with a sodium lamp manufactured by Toshiba Lighting & Technology Co., Ltd. with transmitted light and reflected light, the coating film was well prepared, and no local spots or dropping marks were generated.
[0103]
(Reference Example 1)
The coating film was formed under the same conditions as in Example 1 except that Pionein D-6112W was replaced with Pionein D-6315 (a compound represented by the general formula (H)) manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd. in Example 1.
As a result of the production, local spot-like abnormalities and drip marks were not generated as in Example 1.
[0104]
(Comparative Example 1)
A solution obtained by removing the surfactant represented by formula (B) from the composition as in Example 1 was prepared and stirred for 8 hours to obtain a photosensitive resin solution.
After applying this photosensitive resin solution in the same manner as in the Examples, drying under reduced pressure, and heat treatment, coating with a sodium lamp manufactured by Toshiba Lighting & Technology, and observation with reflected light, the coating film was not well prepared. , Lotus root-like local spots were generated, and drip marks were generated.
[0105]
(Comparative Example 2)
A solution obtained by removing the fluorine-based nonionic surfactant from the composition as in Example 1 was prepared and stirred for 8 hours to obtain a resin solution.
After applying this photosensitive resin in the same manner as in the example, drying under reduced pressure, and heat treatment, the coating was not produced well when transmitted with a sodium lamp manufactured by Toshiba Lighting & Technology and observed with reflected light, Lotus root-like local spots were generated, and dripping marks were generated.
[0106]
From the above Examples and Comparative Examples, it can be seen that the black matrix forming material of the present invention does not generate lotus root local spots or dripping marks and can provide a good coating film.
[0107]
【The invention's effect】
According to the present invention, it is possible to provide a photocurable composition for a black matrix in which occurrence of minute shape abnormality and dripping marks on the surface is remarkably reduced, and a color filter having an excellent black matrix.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a conceptual diagram showing a liquid crystal panel provided with a black matrix on the TFT side.
FIG. 2 is a conceptual diagram showing a liquid crystal panel in which a black matrix is provided on the color filter side.
[Explanation of symbols]
1 LCD panel
2, 3 Glass substrate
4 Liquid crystal materials
5 Pixel electrode
6 TFT
7 Black matrix
8 Color filter
9 Common electrode
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