JP3864571B2 - 共役ジエン重合体の製造方法 - Google Patents
共役ジエン重合体の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3864571B2 JP3864571B2 JP20888798A JP20888798A JP3864571B2 JP 3864571 B2 JP3864571 B2 JP 3864571B2 JP 20888798 A JP20888798 A JP 20888798A JP 20888798 A JP20888798 A JP 20888798A JP 3864571 B2 JP3864571 B2 JP 3864571B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vanadium
- cyclopentadienyl
- group
- polymerization
- tank
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、共役ジエン重合体の連続的製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
共役ジエンは、重合触媒によって種々のミクロ構造を有するポリマ−が得られることが知られている。コバルト化合物と有機アルミニウム化合物を用い、ハイシス構造のポリブタジエンを製造する方法が公知であるが、ハイシス構造に1,2−構造を適度に含んだポリブタジエンは、ビニル芳香族系重合体の耐衝撃性付与剤が期待されている。
【0003】
近年、メタロセン系型錯体を触媒として用いた各種のオレフィン重合の開発が活発に進められ、共役ジエンの重合についても研究が行われている。
【0004】
メタロセン系型錯体を用いた共役ジエンの重合としては、例えば、Macromol.Symp.,89,383(1995)に、周期律表第4族遷移金属化合物であるシクロペンタジエニルチタニウムトリクロライド(CpTiCl3 )とメチルアルモキサンとからなる触媒系が報告されているが、重合活性が低い問題点がある。
【0005】
特公昭46−20494号公報には、CpVCl3+(i−C4H9)3Al/AlCl3+H2Oからなる触媒系によるポリブタジエンの製造方法が開示されているが、重合活性が低い問題点がある。
【0006】
また、Polymer vol.37(2)p.363(1996)には、周期律表第5族遷移金属のメタロセン型錯体であるCp'VCl2 またはCp2VClなどのバナジウム(III)化合物とメチルアルモキサンとからなる触媒を用いて、ハイシス構造に10〜20%の1,2−構造を含んだポリブタジエンを製造する方法が報告されている。
【0007】
また、特開平9−20813号公報、特開平9−194526号公報には、特定構造のバナジウムメタロセン化合物+イオン化剤からなる触媒系にポリブタジエンの製造方法が開示されている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
周期律表第5族遷移金属化合物のメタロセン型錯体を用いた触媒系で、ミクロ構造が制御された共役ジエン重合体を、より高い重合活性でかつ実質的にゲルを含まず連続的に製造する方法を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明は、(A)周期律表第5族遷移金属化合物のメタロセン型錯体、(B)非配位性アニオンとカチオンとのイオン性化合物、(C)有機アルミニウム化合物、及び(D)水から得られる触媒を用いて共役ジエン化合物を重合させる方法において、共役ジエン化合物の存在下、(1)(C)成分と(D)成分を添加する工程、(2)(A)成分と(B)成分を添加して−20〜20℃の温度で予備重合する工程、更に、(3)40〜80℃の温度で本重合する工程を順に行うことを特徴とする共役ジエン重合体の連続的製造方法に関する。
【0011】
【発明の実施の形態】
(A)周期律表第5族遷移金属化合物のメタロセン型錯体としては、
(1) RMX3 ・La
(2) Rn MX3-n ・La
(3) RM(O)X2 ・La
(4) Rn MX3-n (NR')
(5) 少なくとも1個のシクロアルカジエニル基の配位子を有する酸化数+2の周期律表第5族遷移金属化合物
(6) シクロアルカジエニル基の配位子を有する酸化数+1の周期律表第5族遷移金属化合物
などの一般式で表される化合物が挙げられる。
上記の式中、nは1〜2であり、aは、0、1又は2である。
【0012】
Mは周期律表第5族遷移金属化合物を示す。具体的にはバナジウム(V)、ニオブ(Nb)、またはタンタル(Ta)であり、好ましい金属はバナジウムである。
【0013】
Rはシクロペンタジエニル基、置換シクロペンタジエニル基、インデニル基、置換インデニル基、フルオレニル基又は置換フルオレニル基を示す。
【0014】
置換シクロペンタジエニル基、置換インデニル基又は置換フルオレニル基における置換基としては、メチル、エチル、プロピル、iso−プロピル、n−ブチル、iso−ブチル、sec−ブチル、t−ブチル、ヘキシルなどの直鎖状脂肪族炭化水素基または分岐状脂肪族炭化水素基、フェニル、トリル、ナフチル、ベンジルなど芳香族炭化水素基、トリメチルシリルなどのケイ素原子を含有する炭化水素基などが挙げられる。さらに、シクロペンタジエニル環がXの一部と互いにジメチルシリル、ジメチルメチレン、メチルフェニルメチレン、ジフェニルメチレン、エチレン、置換エチレンなどの架橋基で結合されたものも含まれる。
【0015】
置換シクロペンタジエニル基の具体例としては、メチルシクロペンタジエニル基、1,2−ジメチルシクロペンタジエニル基、1,3−ジメチルシクロペンタジエニル基、1,3−ジ(t−ブチル)シクロペンタジエニル基、1,2,3−トリメチルシクロペンタジエニル基、1,2,3,4−テトラメチルシクロペンタジエニル基、ペンタメチルシクロペンタジエニル基、1−エチル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル基、1−ベンジル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル基、1−フェニル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル基、1−トリメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル基、1−トリフルオロメチル−2,3,4,5−テトラメチルシクロペンタジエニル基などが挙げられる。
【0016】
置換インデニル基の具体例としては、1,2,3−トリメチルインデニル基、ヘプタメチルインデニル基、1,2,4,5,6,7−ヘキサメチルインデニル基などが挙げられる。
置換フルオレニル基の具体例としては、メチルフルオレニル基などが挙げられる。
以上の中でも、Rとしてシクロペンタジエニル基、メチルシクロペンタジエニル基、ペンタメチルシクロペンタジエニル基、インデニル基、1,2,3−トリメチルインデニル基などが好ましい。
【0017】
Xは水素、ハロゲン、炭素数1から20の炭化水素基、アルコキシ基、又はアミノ基を示す。
【0018】
ハロゲンの具体例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
【0019】
炭素数1から20の炭化水素基の具体例としては、メチル、エチル、プロピル、iso−プロピル、n−ブチル、iso−ブチル、sec−ブチル、t−ブチル、ヘキシルなどの直鎖状脂肪族炭化水素基または分岐状脂肪族炭化水素基、フェニル、トリル、ナフチル、ベンジルなどの芳香族炭化水素基などが挙げられる。さらにトリメチルシリルなどのケイ素原子を含有する炭化水素基も含まれる。中でも、メチル、ベンジル、トリメチルシリルメチルなどが好ましい。
【0020】
アルコキシ基の具体例としては、メトキシ、エトキシ、フェノキシ、プロポキシ、ブトキシなどが挙げられる。さらに、アミルオキシ、ヘキシルオキシ、オクチルオキシ、2−エチルヘキシルオキシ、チオメトキシなどを用いてもよい。
【0021】
アミノ基の具体例としては、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジイソプロピルアミノなどが挙げられる。
【0022】
以上の中でも、Xとしては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、メチル、エチル、ブチル、メトキシ、エトキシ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノなどが好ましい。
【0023】
Lは、ルイス塩基であり、対電子をもって金属に配位できるルイス塩基性の一般的な無機、有機化合物である。その内、活性水素を有しない化合物が特に好ましい。具体例としては、エ−テル、エステル、ケトン、アミン、ホスフィン、シリルオキシ化合物が挙げられる。
【0024】
NR'はイミド基であり、R'は炭素数1から25の炭化水素置換基である。
R' の具体例としては、メチル、エチル、プロピル、iso−プロピル、sec−ブチル、t−ブチル、ヘキシル、オクチル、ネオペンチルなどの直鎖状脂肪族炭化水素基または分岐状脂肪族炭化水素基、フェニル、トリル、ナフチル、ベンジル、メチルフェニルメチル、ジメチルフェニル、2,6−ジメチルフェニル、3,4−ジメチルフェニルなどの芳香族炭化水素基などが挙げられる。さらにトリメチルシリルなどのケイ素原子を含有する炭化水素基も含まれる。
【0025】
(A)周期律表第5族遷移金属化合物のメタロセン型錯体としては、RMX3 、RM(O)X2 、R2 MX・La 、RMX2 ・La などが好ましい。中でも、MがバナジウムであるRVX3 、RV(O)X2 、R2 VX・La 、RVX2・La などのバナジウム化合物が好ましい。
【0026】
RMX3 で示される具体的な化合物としては、以下の(i)〜(xvi)のものが挙げられる。
【0027】
(i) シクロペンタジエニルバナジウムトリクロライドが挙げられる。モノ置換シクロペンタジエニルバナジウムトリクロライド、例えば、メチルシクロペンタジエニルバナジウムトリクロクロライド、エチルシクロペンタジエニルバナジウムトリクロライド、プロピルシクロペンタジエニルバナジウムトリクロライド、イソプロピルシクロペンタジエニルバナジウムトリクロライド、t−ブチルシクロペンタジエニルバナジウムトリクロライド、(1,1−ジメチルプロピル)シクロペンタジエニルバナジウムトリクロライド、(1,1−ジメチルベンジル)シクロペンタジエニルバナジウムトリクロライド、(1−エチルプロピル)シクロペンタジエニルバナジウムトリクロライド、(1−エチル,1−メチルプロピル)シクロペンタジエニルバナジウムトリクロライド、(ジエチルベンジル)シクロペンタジエニルバナジウムトリクロライド、(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)バナジウムトリクロライド、(ビス(トリメチルシリル)シクロペンタジエニル)バナジウムトリクロライドなどが挙げられる。
【0028】
(ii) 1,3−ジ置換シクロペンタジエニルバナジウムトリクロライド、例えば、(1,3−ジメチルシクロペンタジエニル)バナジウムトリクロライド、(1−メチル−3−エチルシクロペンタジエニル)バナジウムトリクロライド、(1−メチル−3−プロピルシクロペンタジエニル)バナジウムトリクロライド、(1−メチル−3−ビス(トリメチルシリル)シリルシクロペンタジエニル)バナジウムトリクロライド、(1−メチル−3−フェニルシクロペンタジエニル)バナジウムトリクロライド、(1−メチル−3−トリルシクロペンタジエニル)バナジウムトリクロライド、(1−メチル−3−(2,6−ジメチルフェニル)シクロペンタジエニル)バナジウムトリクロライド、(1−メチル−3−ブチルシクロペンタジエニル)バナジウムトリクロライドなどが挙げられる。
【0029】
(iii) 1,2,3−トリ置換シクロペンタジエニルバナジウムトリクロライド、例えば、(1,2,3−トリメチルシクロペンタジエニル)バナジウムトリクロライドなどが挙げられる。
【0030】
(iv) 1,2,4−トリ置換シクロペンタジエニルバナジウムトリクロライド、例えば、(1,2,4−トリメチルシクロペンタジエニル)バナジウムトリクロライドなどが挙げられる。
【0031】
(v) テトラ置換シクロペンタジエニルバナジウムトリクロライド、例えば、(1,2,3,4−テトラメチルシクロペンタジエニル)バナジウムトリクロライド、(1,2,3,4−テトラフェニルシクロペンタジエニル)バナジウムトリクロライドなどが挙げられる。
【0032】
(vi) ペンタ置換シクロペンタジエニルバナジウムトリクロライド、例えば、(ペンタメチルシクロペンタジエニル)バナジウムトリクロライド、(1,2,3,4−テトラメチル−5−フェニルシクロペンタジエニル)バナジウムトリクロライド、(1,2,3,4−テトラフェニル−5−メチルシクロペンタジエニル)バナジウムトリクロライドなどが挙げられる。
【0033】
(vii)インデニルバナジウムトリクロライドが挙げられる。
(viii)置換インデニルバナジウムトリクロライド、例えば、(2−メチルインデニル)バナジウムトリクロライド、(2−トリメチルシリルインデニル)バナジウムトリクロライドなどが挙げられる。
【0034】
(ix) (i)〜(viii)の化合物の塩素原子をアルコキシ基で置換したモノアルコキシド、ジアルコキシド、トリアルコキシドなどが挙げられる。例えば、トリメチルシリルシクロペンタジエニルバナジウムトリter−ブトキサイド、トリメチルシクロペンタジエニルバナジウムトリiso−プロポキサイド、トリメチルシリルシクロペンタジエニルバナジウムジメトキシクロライド、トリメチルシリルシクロペンタジエニルバナジウムジiso−プロポキシクロライド、トリメチルシリルシクロペンタジエニルバナジウムジter−ブトキシクロライド、トリメチルシリルシクロペンタジエニルバナジウムジフェノキシクロライド、トリメチルシリルシクロペンタジエニルバナジウムiso−プロポキシジクロライド、トリメチルシリルシクロペンタジエニルバナジウムter−ブトキシジクロライド、トリメチルシリルシクロペンタジエニルバナジウムフェノキシジクロライド、
【0035】
(x) (ix)の塩素原子をメチル基で置換したメチル体が挙げられる。
【0036】
(xi) Rが炭化水素基、シリル基によって結合されたものが挙げられる。例えば、(t−ブチルアミド)ジメチル(η5−シクロペンタジエニル)シランバナジウムジクロライド、(t−ブチルアミド)ジメチル(トリメチル−η5−シクロペンタジエニル)シランバナジウムジクロライド、(t−ブチルアミド)ジメチル(テトラメチル−η5−シクロペンタジエニル)シランバナジウムジクロライドなどが挙げられる。
【0037】
(xii) (xi)の塩素原子をメチル基で置換したジメチル体が挙げられる。
【0038】
(xiii) (xi)の塩素原子をアルコキシ基で置換したモノアルコキシ体、ジアルコキシ体が挙げられる。
【0039】
(xiv) (xiii)のモノクロル体をメチル基で置換した化合物が挙げられる。
【0040】
(xv) (i)〜(viii)の塩素原子をアミド基で置換したアミド体が挙げられる。例えば、(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(トリスジエチルアミド)バナジウム、(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(トリスiso−プロピルアミド)バナジウム、(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(トリスn−オクチルアミド)バナジウム、(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(ビスジエチルアミド)バナジウムクロライド、(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(ビスiso−プロピルアミド)バナジウムクロライド、(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(ビスn−オクチルアミド)バナジウムクロライド、(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(ジエチルアミド)バナジウムジクロライド、(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(iso−プロピルアミド)バナジウムジクロライド、(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(n−オクチルアミド)バナジウムジクロライドなどが挙げられる。
【0041】
(xvi) (xv)の塩素原子をメチル基で置換したメチル体が挙げられる。
【0042】
Rn MX3-n ・La で表される具体的な化合物のうち、n=1の化合物としては、シクロペンタジエニルバナジウムジクロライド、メチルシクロペンタジエニルバナジウムジクロライド、(1,3−ジメチルシクロペンタジエニル)バナジウムジクロライド、(1−メチル−3−ブチルシクロペンタジエニル)バナジウムジクロライド、(ペンタメチルシクロペンタジエニル)バナジウムジクロライド、(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)バナジウムジクロライド、(1,3−ジ(トリメチルシリル)シクロペンタジエニル)バナジウムジクロライド、インデニルバナジウムジクロライド、(2−メチルインデニル)バナジウムジクロライド、(2−トリメチルシリルインデニル)バナジウムジクロライド、フルオレニルバナジウムジクロライドなどのジクロライド体、あるいはこれらの化合物の塩素原子をメチル基で置換したジメチル体などが挙げられる。
【0043】
RとXが炭化水素基、シリル基によって結合されたものも含まれる。例えば、(t−ブチルアミド)ジメチルシリル(η5 −シクロペンタジエニル)バナジウムクロライド、(t−ブチルアミド)ジメチルシリル(テトラメチル−η5 −シクロペンタジエニル)バナジウムクロライドなどのアミドクロライド体、あるいはこれらの化合物の塩素原子をメチル基で置換したアミド体などが挙げられる。
【0044】
シクロペンタジエニルバナジウムジメトキサイド、シクロペンタジエニルバナジウムジiso−プロポキサイド、シクロペンタジエニルバナジウムジter−ブトキサイド、シクロペンタジエニルバナジウムジフェノキサイド、シクロペンタジエニルバナジウムメトキシクロライド、シクロペンタジエニルバナジウムiso−プロポキシクロライド、シクロペンタジエニルバナジウムter−ブトキシクロライド、シクロペンタジエニルバナジウムフェノキシクロライドなどのアルコキシド体、あるいはこれらの化合物の塩素原子をメチル基で置換したメチル体などが挙げられる。
【0045】
(シクロペンタジエニル)(ビスジエチルアミド)バナジウム、(シクロペンタジエニル)(ビスジiso−プロピルアミド)バナジウム、(シクロペンタジエニル)(ビスジn−オクチルアミド)バナジウムなどのビスアミド体が挙げられる。
【0046】
シクロペンタジエニルバナジウムジクロライド・ビストリエチルホスフィン錯体、シクロペンタジエニルバナジウムジクロライド・ビストリメチルホスフィン錯体、(シクロペンタジエニル)(ビスジiso−プロピルアミド)バナジウムトリメチルホスフィン錯体、モノメチルシクロペンタジエニルバナジウムジクロライドビストリエチルフォスフィン錯体などのホスフィン錯体が挙げられる。
【0047】
Rn MX3-n ・La で表される具体的な化合物のうち、n=2の化合物としては、ジシクロペンタジエニルバナジウムクロライド、ビス(メチルシクロペンタジエニル)バナジウムクロライド、ビス(1,3−ジメチルシクロペンタジエニル)バナジウムクロライド、ビス(1−メチル−3−ブチルシクロペンタジエニル)バナジウムクロライド、ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)バナジウムクロライド、ビス(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)バナジウムクロライド、ビス(1,3−ジ(トリメチルシリル)シクロペンタジエニル)バナジウムクロライド、ジインデニルバナジウムクロライド、ビス(2−メチルインデニル)バナジウムクロライド、ビス(2−トリメチルシリルインデニル)バナジウムクロライド、ジフルオレニルバナジウムクロライドなどのクロライド体、あるいはこれらの化合物の塩素原子をメチル基で置換したメチル体などが挙げられる。
【0048】
ジシクロペンタジエニルバナジウムメトキサイド、ジシクロペンタジエニルバナジウムiso−プロポキサイド、ジシクロペンタジエニルバナジウムter−ブトキサイド、ジシクロペンタジエニルバナジウムフェノキサイド、ジシクロペンタジエニルジエチルアミドバナジウム、ジシクロペンタジエニルジiso−プロピルアミドバナジウム、ジシクロペンタジエニルジn−オクチルアミドバナジウムが挙げられる。
【0049】
Rが炭化水素基、シリル基によって結合されたものも含まれる。例えば、ジメチルビス(η5 −シクロペンタジエニル)シランバナジウムクロライド、ジメチルビス(テトラメチル−η5 −シクロペンタジエニル)シランバナジウムクロライドなどのクロライド体、あるいはこれらの化合物の塩素原子をメチル基で置換したメチル体などが挙げられる。
【0050】
RM(O)X2 で表される具体的な化合物としては、
シクロペンタジエニルオキソバナジウムジクロライド、メチルシクロペンタジエニルオキソバナジウムジクロライド、(1,3−ジメチルシクロペンタジエニル)オキソバナジウムジクロライド、(1−メチル−3−ブチルシクロペンタジエニル)オキソバナジウムジクロライド、(ペンタメチルシクロペンタジエニル)オキソバナジウムジクロライド、(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)オキソバナジウムジクロライド、(1,3−ジ(トリメチルシリル)シクロペンタジエニル)オキソバナジウムジクロライド、インデニルオキソバナジウムジクロライド、(2−メチルインデニル)オキソバナジウムジクロライド、(2−トリメチルシリルインデニル)オキソバナジウムジクロライド、フルオレニルオキソバナジウムジクロライドなどが挙げられる。
上記の各化合物の塩素原子をメチル基で置換したジメチル体も挙げられる。
【0051】
RとXが炭化水素基、シリル基によって結合されたものも含まれる。例えば、(t−ブチルアミド)ジメチル(η5 −シクロペンタジエニル)シランオキソバナジウムクロライド、(t−ブチルアミド)ジメチル(テトラメチル−η5 −シクロペンタジエニル)シランオキソバナジウムクロライドなどのアミドクロライド体、あるいはこれらの化合物の塩素原子をメチル基で置換したアミド体などが挙げられる。
【0052】
シクロペンタジエニルオキソバナジウムジメトキサイド、シクロペンタジエニルオキソバナジウムジiso−プロポキサイド、シクロペンタジエニルオキソバナジウムジter−ブトキサイド、シクロペンタジエニルオキソバナジウムジフェノキサイド、シクロペンタジエニルオキソバナジウムメトキシクロライド、シクロペンタジエニルオキソバナジウムiso−プロポキシクロライド、シクロペンタジエニルオキソバナジウムter−ブトキシクロライド、シクロペンタジエニルオキソバナジウムフェノキシクロライドなどが挙げられる。
上記の各化合物の塩素原子をメチル基で置換したジメチル体も挙げられる。
【0053】
(シクロペンタジエニル)(ビスジエチルアミド)オキソバナジウム、(シクロペンタジエニル)(ビスジiso−プロピルアミド)オキソバナジウム、(シクロペンタジエニル)(ビスジn−オクチルアミド)オキソバナジウムなどが挙げられる。
【0054】
Rn MX3-n (NR' )で表される具体的な化合物としては、
シクロペンタジエニル(メチルイミド)バナジウムジクロライド、シクロペンタジエニル(フェニルイミド)バナジウムジクロライド、シクロペンタジエニル(2,6−ジメチルフェニルイミド)バナジウムジクロライド、シクロペンタジエニル(2,6−ジiso−プロピルフェニルイミド)バナジウムジクロライド、(メチルシクロペンタジエニル)(フェニルイミド)バナジウムジクロライド、(1,3−ジメチルシクロペンタジエニル)(フェニルイミド)バナジウムジクロライド、(1−メチル−3−ブチルシクロペンタジエニル)(フェニルイミド)バナジウムジクロライド、(ペンタメチルシクロペンタジエニル)(フェニルイミド)バナジウムジクロライド、インデニル(フェニルイミド)バナジウムジクロライド、2−メチルインデニル(フェニルイミド)バナジウムジクロライド、フルオレニル(フェニルイミド)バナジウムジクロライドなどのジクロライドが挙げられる。
【0055】
RとXが炭化水素基、シリル基によって結合されたものも含まれる。例えば、(t−ブチルアミド)ジメチル(η5 −シクロペンタジエニル)シラン(フェニルイミド)バナジウムクロライド、(t−ブチルアミド)ジメチル(テトラメチル−η5 −シクロペンタジエニル)シラン(フェニルイミド)バナジウムクロライドなどのアミドクロライド体、あるいはこれらの化合物の塩素原子をメチル基で置換したアミド体などが挙げられる。
【0056】
Rが炭化水素基、シリル基によって結合されたものも含まれる。例えば、ジメチルビス(η5 −シクロペンタジエニル)シラン(フェニルイミド)バナジウムクロライド、ジメチルビス(η5 −シクロペンタジエニル)シラン(トリルイミド)バナジウムクロライド、ジメチル(テトラメチル−η5 −シクロペンタジエニル)シラン(フェニルイミド)バナジウムクロライド、ジメチル(テトラメチル−η5 −シクロペンタジエニル)シラン(トリルイミド)バナジウムクロライドなどのアミドクロライド体、あるいはこれらの化合物の塩素原子をメチル基で置換したアミド体などが挙げられる。
【0057】
シクロペンタジエニルバナジウム(フェニルイミド)ジメトキサイド、シクロペンタジエニルバナジウム(フェニルイミド)ジiso−プロポキサイド、シクロペンタジエニルバナジウム(フェニルイミド)(iso−プロポキシ)クロライド、(シクロペンタジエニル)(ビスジエチルアミド)バナジウム(フェニルイミド)、(シクロペンタジエニル)(ビスiso−プロピルアミド)バナジウム(フェニルイミド)などが挙げられる。
【0058】
少なくとも1個のシクロアルカジエニル基の配位子を有する酸化数+2の周期律表第5族遷移金属化合物のうち、
シクロアルカジエニル基を配位子として二個有する場合には、各々のシクロアルカジエニル環が互いにMe2Si基、ジメチルメチレン基、メチルフェニルメチレン基、ジフェニルメチレン基、エチレン基、置換エチレン基等の架橋基で結合されたものも含まれる。
【0059】
シクロアルカジエニル基を配位子として一個有する場合には、他のシグマ結合性配位子として、水素、塩素、臭素、沃素などのハロゲン原子、メチル基、フェニル基、ベンジル基、ネオペンチル基、トリメチルシリル基、ビストリメチルシリルメチル基などの炭化水素基、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基などの炭化水素オキシ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジオクチルアミノ基などの炭化水素アミノ基を有することができる。
【0060】
さらに、他の配位子としては、アミン、アミド、ホスフィン、エ−テル、ケトン、エステルなどの中性のルイス塩基を有することもできる。活性水素のないルイス塩基が好ましい。
【0061】
本発明のシクロアルカジエニル基を配位子として一個有する酸化数+2の周期律表第5族遷移金属化合物の具体例としては、クロロシクロペンタジエニル(テトラヒドロフラン)バナジウム、クロロシクロペンタジエニル(トリメチルホスフィン)バナジウム、クロロシクロペンタジエニルビス(トリメチルホスフィン)バナジウム、クロロシクロペンタジエニル(1,2−ビスジメチルホスフィノエタン)バナジウム、クロロシクロペンタジエニル(1,2−ビスジフェニルホスフィノエタン)バナジウム、クロロシクロペンタジエニル(トリフェニルホスフィン)バナジウム、クロロシクロペンタジエニル(テトラヒドロチオフェン)バナジウム、ブロモシクロペンタジエニル(テトラヒドロフラン)バナジウム、ヨ−ドシクロペンタジエニル(テトラヒドロフラン)バナジウム、クロロ(メチルシクロペンタジエニル)(テトラヒドロフラン)バナジウム、クロロ(1,3−ジメチルシクロペンタジエニル)(テトラヒドロフラン)バナジウム、クロロ(1−メチル−3−ブチルシクロペタジエニル)(テトラヒドロフラン)バナジウム、クロロ(テトラメチルシクロペンタジエニル)(テトラヒドロフラン)バナジウム、クロロ(ペンタメチルシクロペンタジエニル)(テトラヒドロフラン)バナジウム、クロロ(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(テトラヒドロフラン)バナジウム、クロロ(1,2−ビス(トリメチルシリル)シクロペンタジエニル)(テトラヒドロフラン)バナジウム、クロロ(1,3−ビス(トリメチルシリル)シクロペンタジエニル)(テトラヒドロフラン)バナジウム、クロロインデニル(テトラヒドロフラン)バナジウム、クロロ(2−メチルインデニル)(テトラヒドロフラン)バナジウム、クロロ(2−トリメチルシリルインデニル)(テトラヒドロフラン)バナジウム、クロロフルオレニル(テトラヒドロフラン)バナジウム、ジメチルシリル(シクロペンタジエニル)(t−ブチルアミノ)バナジウム、ジメチルシリル(ペンタメチルシクロペンタジエニル)(t−ブチルアミノ)バナジウムなどが挙げられる。
【0062】
本発明のシクロアルカジエニル基を配位子として二個有する酸化数+2の周期律表第5族遷移金属化合物の具体例としては、ビスシクロペンタジエニルバナジウム、ビス(メチルシクロペンタジエニル)バナジウム、ビス(1,2−ジメチルシクロペンタジエニル)バナジウム、ビス(1,3−ジメチルシクロペンタジエニル)バナジウム、ビス(1−メチル−3−ブチルシクロペタジエニル)バナジウム、ビス(テトラメチルシクロペンタジエニル)バナジウム、ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)バナジウム、ビス(エチルシクロペンタジエニル)バナジウム、ビス(n−プロピルシクロペンタジエニル)バナジウム、ビス(i−プロピルシクロペンタジエニル)バナジウム、ビス(n−ブチルシクロペンタジエニル)バナジウム、ビス(i−ブチルシクロペンタジエニル)バナジウム、ビス(sec−ブチルシクロペンタジエニル)バナジウム、ビス(t−ブチルシクロペンタジエニル)バナジウム、ビス(1−メトキシエチルシクロペンタジエニル)バナジウム、ビス(1−ジメチルアミノエチルシクロペンタジエニル)バナジウム、ビス(1−ジエチルアミノエチルシクロペンタジエニル)バナジウム、ビス(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)バナジウム、ビス(1−ジメチルホスフィノエチルシクロペンタジエニル)バナジウム、ビス(1,2−ビス(トリメチルシリル)シクロペンタジエニル)バナジウム、ビス(1,3−ビス(トリメチルシリル)シクロペンタジエニル)バナジウム、インデニルシクロペンタジエニルバナジウム、(2−メチルインデニル)シクロペンタジエニルバナジウム、(2−トリメチルシリルインデニル)シクロペンタジエニルバナジウム、ビスインデニルバナジウム、ビスフルオレニルバナジウム、インデニルフルオレニルバナジウム、シクロペンタジエニルフルオレニルバナジウム、ジメチルシリル(シクロペンタジエニル)(t−ブチルアミノ)バナジウム、ジメチルシリル(ペンタメチルシクロペンタジエニル)(t−ブチルアミノ)バナジウム、ジメチルシリルビス(シクロペンタジエニル)バナジウム、ジメチルシリルビス(インデニル)バナジウム、ジメチルシリルビス(フルオレニル)バナジウムなどが挙げられる。
【0063】
シクロアルカジエニル基の配位子を有する酸化数+1の周期律表第5族遷移金属化合物としては、シクロペンタジエニル(ベンゼン)バナジウム、シクロペンタジエニル(トルエン)バナジウム、シクロペンタジエニル(キシレン)バナジウム、シクロペンタジエニル(トリメチルベンゼン)バナジウム、シクロペンタジエニル(ヘキサメチルベンゼン)バナジウム、シクロペンタジエニル(ナフタレン)バナジウム、シクロペンタジエニル(アントラセン)バナジウム、シクロペンタジエニル(フェロセン)バナジウム、メチルシクロペンタジエニル(ベンゼン)バナジウム、1,3−ジメチルシクロペンタジエニル(ベンゼン)バナジウム、1−メチル−3−ブチルシクロペタジエニル(ベンゼン)バナジウム、テトラメチルシクロペンタジエニル(ベンゼン)バナジウム、ペンタメチルシクロペンタジエニル(ベンゼン)バナジウム、トリメチルシリルシクロペンタジエニル(ベンゼン)バナジウム、1,2−ビス(トリメチルシリル)シクロペンタジエニル(ベンゼン)バナジウム、1,3−ビス(トリメチルシリル)シクロペンタジエニル(ベンゼン)バナジウム、インデニル(ベンゼン)バナジウム、2−メチルインデニル(ベンゼン)バナジウム、2−トリメチルシリルインデニル(ベンゼン)バナジウム、フルオレニル(ベンゼン)バナジウム、シクロペンタジエニル(エチレン)(トリメチルホスフィン)バナジウム、シクロペンタジエニル(ブタジエン)(トリメチルホスフィン)バナジウム、シクロペンタジエニル(1,4−ジフェニルブタジエン)(トリメチルホスフィン)バナジウム、シクロペンタジエニル(1,1,4,4−テトラフェニルブタジエン)(トリメチルホスフィン)バナジウム、シクロペンタジエニル(2,3−ジメチルブタジエン)(トリメチルホスフィン)バナジウム、シクロペンタジエニル(2、4−ヘキサジエン)(トリメチルホスフィン)バナジウム、シクロペンタジエニルテトラカルボニルバナジウム、インデニルテトラカルボニルバナジウムなどを挙げることができる。
【0064】
本発明の(B)成分のうち、非配位性アニオンとカチオンとのイオン性化合物を構成する非配位性アニオンとしては、例えば、テトラ(フェニル)ボレ−ト、テトラ(フルオロフェニル)ボレ−ト、テトラキス(ジフルオロフェニル)ボレ−ト、テトラキス(トリフルオロフェニル)ボレ−ト、テトラキス(テトラフルオロフェニル)ボレ−ト、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレ−ト、テトラキス(3,5−ビストリフルオロメチルフェニル)ボレ−ト、テトラキス(テトラフルオロメチルフェニル)ボレ−ト、テトラ(トリイル)ボレ−ト、テトラ(キシリル)ボレ−ト、(トリフェニル,ペンタフルオロフェニル)ボレ−ト、[トリス(ペンタフルオロフェニル),フェニル]ボレ−ト、トリデカハイドライド−7,8− ジカルバウンデカボレ−ト、テトラフルオロボレ−ト、ヘキサフルオロホスフェ−トなどが挙げられる。
【0065】
一方、カチオンとしては、カルボニウムカチオン、オキソニウムカチオン、アンモニウムカチオン、ホスホニウムカチオン、シクロヘプチルトリエニルカチオン、遷移金属を有するフェロセニウムカチオンなどを挙げることができる。
【0066】
カルボニウムカチオンの具体例としては、トリフェニルカルボニウムカチオン、トリ置換フェニルカルボニウムカチオンなどの三置換カルボニウムカチオンを挙げることができる。トリ置換フェニルカルボニウムカチオンの具体例としては、トリ(メチルフェニル)カルボニウムカチオン、トリ(ジメチルフェニル)カルボニウムカチオンを挙げることができる。
【0067】
アンモニウムカチオンの具体例としては、トリメチルアンモニウムカチオン、トリエチルアンモニウムカチオン、トリプロピルアンモニウムカチオン、トリブチルアンモニウムカチオン、トリ(n−ブチル)アンモニウムカチオンなどのトリアルキルアンモニウムカチオン、N,N−ジエチルアニリニウムカチオン、N,N−2,4,6−ペンタメチルアニリニウムカチオンなどのN,N−ジアルキルアニリニウムカチオン、ジ(i−プロピル)アンモニウムカチオン、ジシクロヘキシルアンモニウムカチオンなどのジアルキルアンモニウムカチオンを挙げることができる。
【0068】
ホスホニウムカチオンの具体例としては、トリフェニルホスホニウムカチオン、トリ(メチルフェニル)ホスホニウムカチオン、トリ(ジメチルフェニル)ホスホニウムカチオンなどのトリアリ−ルホスホニウムカチオンを挙げることができる。
【0069】
該イオン性化合物は、上記で例示した非配位性アニオン及びカチオンの中から、それぞれ任意に選択して組み合わせたものを好ましく用いることができる
【0070】
中でも、イオン性化合物としては、トリフェニルカルボニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレ−ト、トリフェニルカルボニウムテトラキス(フルオロフェニル)ボレ−ト、N,N−ジメチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレ−ト、1,1'−ジメチルフェロセニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレ−トなどが好ましい。
【0071】
イオン性化合物を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【0072】
本発明の(C)成分の有機アルミニウム化合物の具体的な化合物としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウムなどのトリアルキルアルミニウム、ジメチルアルミニウムクロライド、ジエチルアルミニウムクロライド、セスキエチルアルミニウムクロライド、エチルアルミニウムジクロライドなどの有機アルミニウムハロゲン化合物、ジエチルアルミニウムハイドライド、セスキエチルアルミニウムハイドライドのような水素化有機アルミニウム化合物などが挙げられる。
上記の有機アルミニウム化合物は、二種類以上併用することができる。
【0073】
(A)成分のメタロセン型錯体と(B)成分のイオン性化合物とのモル比は、好ましくは1:0.1〜1:10、より好ましくは1:0.2〜1:5である。
【0074】
(A)成分のメタロセン型錯体と(C)成分の有機アルミニウム化合物とのモル比は、好ましくは1:0.1〜1:1000、より好ましくは1:0.2〜1:500である。
【0075】
(C)成分の有機アルミニウム化合物と(D)成分の水とのモル比(C):(D)は、好ましくは1:0.2〜1:2であり、特に好ましくは1:0.3〜1:1.5である。
【0076】
本発明においては、(1)(C)成分と(D)成分を添加する工程(熟成)、(2)(A)成分と(B)成分を添加して予備重合する工程、
更に、(3)本重合する工程
を順に行うことにより、共役ジエン重合体を得ることができる。
次に、ブタジエンを例に、本発明の重合プロセスに付いて、説明する。まず、トルエン、シクロヘキサン、ベンゼン、シス2−ブテン等を用いて、所定(10〜100%)のブタジエン濃度の溶液(FB)を調製し、脱水し、連続的に、水溶解槽に供給する。
【0077】
FBの脱水は、通常共沸蒸留によって達成されるが、分子篩等によっても良い。
【0078】
水溶解槽では、触媒量の純水を、激しく攪拌し、FBに溶解する。温度、滞留時間は、水が溶解するに必要な時間、温度で良く、特に、制限はない。
必要十分な水を溶かしたFBを、熟成槽に供給し、攪拌しながら、温度を一定に保ち、トリエチルアルミニュームを添加する。熟成槽の温度、滞留時間は、水とTEAが十分反応すれば良く、温度が高ければ、短く、低ければ長くなり、工業的、経済的見地から決定される。通常は、10℃から40℃、10分から60分程度である。
【0079】
TEA,水の添加順序を変えても良いが、水を後添加する時は、熟成槽の攪拌を強力にし、アルミのスラッジ等の発生を防止する。水、TEAが熟成されたFBは、次に、予備重合槽に導入される。予備重合槽は、攪拌しながら、一定の温度に保たれ、触媒A,Bをそれぞれ別のラインより注入する。触媒は、溶媒(ベンゼン、トルエン、シクロヘキサン等)によって希釈され、使用される。もちろん、FB、ブタジエン等による、ライン中での希釈注入も可能である。注入を同一ラインにするときは、ライン中の閉塞に配慮しなくてはならない。
【0080】
予備重合の条件としては、重合の温度は、−20〜20℃であり、また、重合時間は、0.5分から60分が好ましい。これらの範囲外では、低温では、工業的に、不利であり、高温では、該重合槽において、重合が進みすぎ重合槽自身のゲルによる汚染が発生する。また、上記時間より短いと、ゲルの抑制が不十分であり、長いと、先と同様に、重合槽自身がゲルに汚染される。
【0081】
予備重合の割合は、本重合の最終生成ポリマー量に対して、予備重合生成ポリマ−量が20%以下が好ましい。これ以上だと、先と同様、槽自身のゲルによる汚染が起き、好ましくない。
【0082】
予備重合された重合液は、本重合槽に送られる。本重合槽は、通常の重合と同一に行われ、単槽、多槽いずれでも行われる。また槽は、直列的にも、並列的にも重合可能である。重合温度は、40〜80℃で行われる。低温では、重合熱の除去に限界があり、生産性の問題から、経済的に不利であり、高温では、ブタジエン蒸気圧が高くなり、耐圧等設備状の問題が生じる。滞留時間は、重合速度(重合温度)によるが、一般に、温度が低いと、長く設定される。30分から3時間である。ポリマーの生成量は、TS(トータルソリッド)10wt%から40wt%にコントロールされる。低いと、経済的に不利であり、高いと、重合液の粘度が高くなり、攪拌能力等の設備状の問題が発生する。以下、反応の停止、ポリマーの回収等、既存のプロセスと同様に行うことができる。
【0083】
共役ジエン化合物モノマ−としては、1,3−ブタジエン、イソプレン、1,3−ペンタジエン、2−エチル−1,3−ブタジエン、2,3−ジメチルブタジエン、2−メチルペンタジエン、4−メチルペンタジエン、2,4−ヘキサジエンなどが挙げられる。
これらのモノマ−成分は、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【0084】
また、共役ジエンの他に、エチレン、プロピレン、ブテン−1、ブテン−2、イソブテン、ペンテン−1、4−メチルペンテン−1、ヘキセン−1、オクテン−1等の非環状モノオレフィン、シクロペンテン、シクロヘキセン、ノルボルネン等の環状モノオレフィン、及び/又はスチレンやα−メチルスチレン等の芳香族ビニル化合物、ジシクロペンタジエン、5−エチリデン−2− ノルボルネン、1,5−ヘキサジエン等の非共役ジオレフィン等を少量含んでいてもよい。
【0085】
溶液重合での溶媒としては、トルエン、ベンゼン、キシレン等の芳香族系炭化水素、n−ヘキサン、ブタン、ヘプタン、ペンタン等の脂肪族炭化水素、シクロペンタン、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素、1−ブテン、シス−2−ブテン、トランス−2−ブテン等のオレフィン系炭化水素、ミネラルスピリット、ソルベントナフサ、ケロシン等の炭化水素系溶媒や、塩化メチレン等のハロゲン化炭化水素系溶媒等が挙げられる。また、1,3−ブタジエンそのものを重合溶媒としてもよい。中でも、トルエン、シクロヘキサン、あるいは、シス−2−ブテンとトランス−2−ブテンとの混合物などが好適に用いられる。
【0086】
本発明においては、上記の触媒を用いて、水素の存在下に共役ジエン化合物を重合させて分子量を調節してもよい。
【0087】
水素の存在量は、共役ジエン 1モルに対して、好ましくは 50ミリモル以下、あるいは、20℃ 1気圧で 1.2L以下であり、より好ましくは 0.005〜20ミリモル、あるいは、20℃ 1気圧で 0.001〜0.48Lである。
【0088】
重合温度は−100〜120℃の範囲が好ましく、−50〜100℃の範囲が特に好ましい。重合時間は10分〜12時間の範囲が好ましく、30分〜6時間が特に好ましい。
【0089】
上記の本発明の重合方法を用いることにより、1,2−構造含有率が 4〜30%、好ましくは 5〜25%、より好ましくは 5〜20%、シス−1,4−
構造含有率が65〜95%、好ましくは70〜95%、トランス−1,4−
構造含有率が 5%以下、好ましくは 4.5%以下であるポリブタジエンを製造することができる。
【0090】
また、本発明の重合方法を用いることにより、トルエン中30℃で測定した固有粘度[η]が 0.1〜20であるポリブタジエンを製造することができる。また、本発明の重合方法を用いることにより、ポリスチレンを標準物質として用いたGPCから求めた重量平均分子量が、1万〜 400万であるポリブタジエンを製造することができる。
【0091】
これらのポリブタジエンは、実質的にゲルを含まず、ポリスチレンの耐衝撃性付与剤として好適に用いることができる。
【0092】
【実施例】
ポリブタジエンのミクロ構造は、赤外吸収スペクトル分析によって行った。シス−1,4−構造 740cm-1、トランス−1,4−構造 967cm-1、1,2−構造(ビニル) 911cm-1の吸収強度比からミクロ構造を算出した。
【0093】
ポリブタジエンの[η]は、トルエン溶液、30℃で測定した。
【0094】
[実施例 連続重合概要]
トルエン300mL,1,3−ブタジエン700mLの割合で調整された溶液(FB:フィ−ドブレンド)を、モレキュラシ−ブス3A(20L)を通して、攪拌機、ジャケット付きの容量2Lの槽▲1▼に毎時14Lで連続的に導入し内部を40℃に維持した。この槽には、水、水素等を一定量供給できるラインを複数設置した。槽▲1▼を出たFBを、同様の攪拌機、ジャケット付きの容量2Lの槽▲2▼に導入した。槽▲2▼は、槽▲1▼同様に内容物を一定温度(35℃)に維持し、また、触媒等を導入できるよう複数のラインを設置した。槽▲2▼を出たFBを、さらに、冷却可能なジャケット、攪拌機を付けた槽▲3▼に導入し、一定温度(0℃)に冷却した。槽▲3▼には、触媒を注入できるラインを複数設置した。
【0095】
槽▲3▼を出たFBを、攪拌機、冷却ジャケットのついた10Lの重合槽▲4▼に導入した。槽▲4▼には、触媒を注入できるラインを複数設置した。重合槽▲4▼を出た溶液を、容量1Lの反応停止槽▲5▼に導入した。(重合時は、槽▲5▼に反応停止剤(アルコ−ル)、攪拌することにより、反応を停止した。)槽▲5▼を出た溶液(重合液)は、(重合時は酸化防止剤を注入後)タンクに受け、適時サンプリングし、溶液の水分測定、あるいは、重合時は重合液を乾燥し、ゴム分を取り出し、各種の測定に用いた。また、各槽へのFBの導入は槽下部より行い、抜き出しは、上部から行った。槽への触媒の注入は、下部より行った。また、各槽管の連結管には、枝を付け適時サンプリングできるようにした。
【0096】
{予備実験}まず、全槽に、溶液を14L/hrで連続的に供給し、各槽の攪拌機を回転させ、一定時間経過後、重合槽の出のラインから圧力容器にFBをサンプリングし、カ−ルフィシャ−水分計にて水分を測定した。結果、連続的な、長時間の水分測定から、安定な値として、10ppmという値を得た。この値をベ−ス水分量として用い、TEA/H2Oの値を算出した。
【0097】
(実施例1)
全槽に、先の予備実験同様モレキュラシ−ブスを通した溶液を14L/hrで連続的に供給し、各槽の攪拌機を回転させた。数時間後、槽▲1▼を激しく攪拌しながら、所定の量の水を微量定量ポンプにて連続的に注入した。2時間後、槽▲2▼に定量ポンプを用いてトリエチルアルミニウム(TEA)(1mmol/mLのトルエン溶液)を表2に示す量、連続的に注入した。2時間後、槽▲3▼に定量ポンプを用いてシクロペンタジエニルバナジウムトリクロライド(CpVCl3)(0.005mmol/mLのトルエン溶液)とマスフロ−メ−タ−でコントロ−ルされた一定量の水素(H2)(20℃、1atm換算)を表2に示す量注入した。15分後、槽▲3▼に、定量ポンプを用いて、トリフェニルカルボニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレ−ト(Ph3CB(C6F5)4)(0.0025mmol/mLのトルエン溶液)を表2に示す量連続的に注入した。重合槽▲4▼の温度の上昇とともに重合が開始した。重合槽▲4▼の温度を60℃に維持するように、ジャケット水の温度をコントロ−ルした。重合の開始から、12時間後、サンプルを抜き取り、各種の測定を行った。また、重合の終了後、重合槽を開放し、ゲルのよる重合槽の汚れに付いて観察を行った。重合のフロ−、各槽の温度条件を表1に示す。また、重合条件、重合結果に付いて表2に示す。得られたBRの分析結果等に付いて表3に示す。
【0098】
(実施例2〜5)
FB中の水の値を、表1に示すように変えた以外は、実施例1と同様に行った。
【0099】
(実施例6)
FB中の水分と各触媒を、表1に示すように変えた以外は、実施例1と同様に行った。
【0100】
(実施例7〜8)
FB中の水分と各触媒を、表1に示すように変え、槽▲3▼の温度を−10℃と+10℃に設定し、実施例1と同様に行った。
【0101】
(比較例1)
全槽に、先の予備実験同様モレキュラシ−ブスを通したFBを14L/hrで連続的に供給し、各槽の攪拌機を回転させた。数時間後、槽▲1▼を激しく攪拌しながら、所定の量の水を微量定量ポンプにて連続的に注入した。2時間後、槽▲2▼に定量ポンプを用いてトリエチルアルミニウム(1mmol/mLのトルエン溶液)を表2に示す量、連続的に注入した。2時間後槽▲3▼に定量ポンプを用いてシクロペンタジエニルバナジウムトリクロライド(CpVCl3)(0.005mmol/mLのトルエン溶液)とマスフロ−メ−タ−でコントロ−ルされた一定量の水素(20℃、1atm換算)を表2に示す量注入した。15分後、重合槽▲4▼に、定量ポンプを用いて、トリフェニルカルボニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレ−ト(Ph3CB(C6F5)4)(0.0025mmol/mLのトルエン溶液)を表2に示す量連続的に注入した。重合槽▲4▼の温度の上昇とともに重合が開始した。重合槽▲4▼の温度を60℃に維持するように、ジャケット水の温度をコントロ−ルした。重合の開始から、12時間後、サンプルを抜き取り、各種の測定を行った。また、重合の終了後、重合槽を開放し、ゲルのよる重合槽の汚れに付いて観察を行った。重合のフロ−、各槽の温度条件を表1に示す。また、重合条件、重合結果に付いて表2に示す。得られたBRの分析結果等に付いて表3に示す。
【0102】
(比較例2)
シクロペンタジエニルバナジウムトリクロライド(CpVCl3)とトリフェニルカルボニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレ−ト(Ph3CB(C6F5)4)を、それぞれ別に、重合槽▲4▼に注入した以外は、比較例1と同様に行った。
【0103】
(比較例3)
トリフェニルカルボニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレ−ト(Ph3CB(C6F5)4)を槽▲3▼に、シクロペンタジエニルバナジウムトリクロライド(CpVCl3)を重合槽▲4▼に注入した以外は、比較例1と同様に行った。
【0104】
比較例(4〜6)
各触媒倍を表2に従って変量した以外は、それぞれ先の比較例1から3と同様に行った。
【0105】
【表1】
【0106】
【表2】
【0107】
【表3】
【0108】
【発明の効果】
周期律表第5族遷移金属化合物のメタロセン型錯体を用い、ミクロ構造が制御された実質的にゲルのない共役ジエン重合体を高い重合活性で連続的に製造する方法を提供する。
Claims (1)
- (A)周期律表第5族遷移金属化合物のメタロセン型錯体、(B)非配位性アニオンとカチオンとのイオン性化合物、(C)有機アルミニウム化合物、及び(D)水から得られる触媒を用いて共役ジエン化合物を重合させる方法において、共役ジエン化合物の存在下、(1)(C)成分と(D)成分を添加する工程、(2)(A)成分と(B)成分を添加して−20〜20℃の温度で予備重合する工程、更に、(3)40〜80℃の温度で本重合する工程を順に行うことを特徴とする共役ジエン重合体の連続的製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20888798A JP3864571B2 (ja) | 1998-07-24 | 1998-07-24 | 共役ジエン重合体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20888798A JP3864571B2 (ja) | 1998-07-24 | 1998-07-24 | 共役ジエン重合体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000038412A JP2000038412A (ja) | 2000-02-08 |
| JP3864571B2 true JP3864571B2 (ja) | 2007-01-10 |
Family
ID=16563776
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20888798A Expired - Lifetime JP3864571B2 (ja) | 1998-07-24 | 1998-07-24 | 共役ジエン重合体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3864571B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019123676A (ja) * | 2018-01-12 | 2019-07-25 | 三菱ケミカル株式会社 | 共役ジエンの製造方法 |
-
1998
- 1998-07-24 JP JP20888798A patent/JP3864571B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2000038412A (ja) | 2000-02-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0778291B1 (en) | Catalyst and process for producing conjugated diene polymer | |
| CA2381357C (en) | Method of producing a polymer | |
| US6300450B1 (en) | Conjugated diene compound polymerization catalyst process for the preparation of conjugated diene polymer in the presence thereof and polybutadiene thus prepared | |
| JP3864571B2 (ja) | 共役ジエン重合体の製造方法 | |
| JPH11236411A (ja) | ポリブタジエンの製造法 | |
| JP3562182B2 (ja) | 触媒及び該触媒を用いた共役ジエン重合体の製造方法 | |
| JP3894255B2 (ja) | 共役ジエン重合体の製造方法 | |
| JP3959574B2 (ja) | ポリブタジエンの製造方法 | |
| JP3948123B2 (ja) | 共役ジエン重合体の製造方法 | |
| JP4140097B2 (ja) | 共役ジエンの重合方法 | |
| JPH11322850A (ja) | ポリブタジエン及びその製造方法 | |
| JP4172081B2 (ja) | 触媒、及び共役ジエン重合体の製造方法 | |
| JP3921861B2 (ja) | ポリブタジエンの製造方法 | |
| JP3918324B2 (ja) | 共役ジエン重合体の製造方法 | |
| JP3918323B2 (ja) | 共役ジエンの重合方法 | |
| JP3867538B2 (ja) | ポリブタジエンの製造方法 | |
| JP2000159836A (ja) | 共役ジエン重合体の製造方法 | |
| JPH09302035A (ja) | ポリブタジエン | |
| JPH09316122A (ja) | 共役ジエン重合体の製造方法 | |
| JP2001098013A (ja) | ポリブタジエン変性体 | |
| JPH11199625A (ja) | 共役ジエン重合体の製造方法 | |
| JP2000017011A (ja) | 共役ジエン重合体の製造方法 | |
| JP2001011113A (ja) | 共役ジエン重合触媒および重合体の製造方法 | |
| JP2000017008A (ja) | 共役ジエン重合体の製造方法 | |
| JP2000212210A (ja) | ポリブタジエンの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040617 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060615 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060719 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060816 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060912 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060925 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101013 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101013 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111013 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111013 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121013 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121013 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121013 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131013 Year of fee payment: 7 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |