Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP3887966B2 - Thermal planographic printing plate material - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP3887966B2 - Thermal planographic printing plate material - Google Patents

Thermal planographic printing plate material Download PDF

Info

Publication number
JP3887966B2
JP3887966B2 JP25943198A JP25943198A JP3887966B2 JP 3887966 B2 JP3887966 B2 JP 3887966B2 JP 25943198 A JP25943198 A JP 25943198A JP 25943198 A JP25943198 A JP 25943198A JP 3887966 B2 JP3887966 B2 JP 3887966B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
heat
printing plate
resin
image
lithographic printing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP25943198A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2000075471A (en
Inventor
孝彰 黒木
康生 児島
健夫 秋山
三郎 平岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP25943198A priority Critical patent/JP3887966B2/en
Publication of JP2000075471A publication Critical patent/JP2000075471A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3887966B2 publication Critical patent/JP3887966B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、感熱平版印刷版材料に関する。本発明は特に、支持体上に熱により表面の物性に変化を生じさせる画像形成層を有して成る感熱平版印刷版材料に関するものである。
【0002】
近年、迅速に高解像度の平版印刷版を得るため、またフィルムレス化を目的として、画像情報に基づいたレーザー光によるデジタル露光等を行った後に現像を行って、平版印刷版を製造することが汎用されている。一例を挙げると、通信回線により伝送される画像信号、ないしは電子製版システムや画像処理システムからの出力信号で、光源を変調し、感光性材料に直接走査露光をして、印刷版を形成するシステムである。
【0003】
このような場合に用いられる平版印刷版材料としては、従来、光重合のプロセスをを利用したダイレクト製版材料が代表的であった。たとえば、砂目立てしたアルミニウム等の支持体上に光重合性層、更に酸素遮断層を設けた構成よりなる材料が用いられている。このような材料において、一般的な光重合性層は、アクリル系単量体とアルカリ可溶性樹脂、及び光重合性開始剤、及び必要に応じて、特にレーザー書き込みを行う際には、波長に適応させるために増感色素を含有している。この従来技術に係る材料を用いれば、これに画像様に露光を行い、アルカリ水系現像により未露光部の溶出除去を行い、画像形成を行って、平版印刷版を得ることができる。
【0004】
ところがかかる従来技術は、従来からのPS版に近い印刷適性、置き版適性等の優れた点のある反面、従来型PS版と同様に液体現像処理を必要とし、廃液の処理及び管理、現像機のメンテナンス等が必要であるという問題を有している。
【0005】
また、このような液体現像によるプロセスを排除する目的で、露光後、印刷機上で湿し水及び/又はインクを与えて印刷を行うことで非画像部を除去現像する方法が、特開平9−127683号公報に記載されている。この技術は、特定の性質の感熱層を支持体上に形成して、露光により親油化させ、その後印刷機上で湿し水及び/又はインクを与えて印刷を行うものである。
【0006】
しかし上記公報に記載の技術は、湿し水及び/又はインクの中に化合物が溶出していくという問題点を有しており、それによる湿し水及び/又はインクの管理が非常に煩雑で困難である。
【0007】
上記の点から、未露光部の溶出を伴わないドライの平版印刷版は、非常に好ましい。
【0008】
さらにこのような平版印刷版であって、感熱転写型の平版印刷版材料は、支持体として従来型PS版での支持体である砂目板(特に砂目アルミニウム板)を使用でき、また廃液の処理及び管理、現像機のメンテナンスをフリーとしたダイレクト製版材料としても、非常に好ましい。このような材料は、たとえば、特開昭56-13168号公報などに記載されている。
【0009】
しかしながら上記の方法は、ドナーシート等を用いた本質的に2シートを使用するものであるという問題点を有するとともに、画像の転写不良などの欠陥を生じるおそれがあるという問題点も有している。よって、たとえば均一で大判の出力が安定して要求される平版印刷版としては、使用が困難であった。
【0010】
上記の諸点から、画像露光により露光部/未露光部の極性を変化させる、未露光部の溶出を伴わないドライの平版印刷版は、廃材フリーでもあり、コスト低減をも図れ、かつ均一で安定に大判出力が可能な、現像工程不要の平版印刷版となり、非常に好ましい。
【0011】
かかるドライの平版印刷版として、前記従来技術に示された、3次元架橋された親水性層を用いる技術があり好ましいが、しかしながらこの従来技術での提案にあっては、画像部/非画像部の差において未だ十分とは言えず、印刷適性において必ずしも満足のできるものではなかった(特開平7−1840号公報参照)。この従来技術では、マイクロカプセルを用いているが、このようにマイクロカプセルを用いた場合、実際の生産及び印刷などにおいて、圧力等によりマイクロカプセル中の液状物質の流出による非画像部分の欠陥等を生じるおそれがあった。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記のような事情に鑑みなされたものである。すなわち、現像処理などの煩雑なプロセスを経る必要なく、また廃液処理などの手間がかからないようにして画像を形成できる感熱平版印刷版であって、しかも印刷適性が良く、特に耐水性、印刷再現性、刷り出し評価、水幅評価、耐刷性が良好な、感熱平版印刷版材料を提供することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】
本発明者は鋭意検討の結果、画像部/非画像部の表面エネルギーγd、γhを規定することにより上記目的に合致した感熱平版印刷版が得られることを見出し、本発明を完成した。
【0014】
すなわち、上記した課題は、
(1)支持体上に熱により表面の物性に変化を生じさせる画像形成層を有して成る感熱平版印刷版材料において、前記画像形成層は、親水性樹脂、光−熱変換を生じさせる化合物及び疎水性発生物質を含有し、該疎水性発生物質が、ワックスエマルジョンまたは常温/水系中で分散状態を形成できる親水性を有するフッ素含有オリゴマーのいずれかを含み、かつ、画像部の表面エネルギーγdが、5≦γd≦40であり、かつ、表面エネルギーγhが0.5≦γh≦20であり、且つ、非画像部の表面エネルギーγdが、40<γd≦75、かつ、表面エネルギーγhが、20<γh≦75であることを特徴とする感熱平版印刷版材料。
(2)表面の物性変化が、画像露光により生じることを特徴とする(1)に記載の感熱平版印刷版材料、
(3)レーザーによる露光により表面の物性変化を生じさせることを特徴とする(2)に記載の感熱平版印刷版材料、
(4)未露光部分が親水性であることを特徴とする(3)に記載の感熱平版印刷版材料、
(5)画像部及び非画像部の表面エネルギーγd−γh空間上での画像部の座標(γd1,γh1)と非画像部の座標(γd2,γh2)との距離が10以上であることを特徴とする(1)〜(4)のいずれかに記載の感熱平版印刷版材料、
(6)表面の物性変化が、露光によるものであり、画像形成層の露光部・未露光部がともに25℃の純水1時間浸漬に対する膜の残存率が80%以上であることを特徴とする(1)〜(5)のいずれかに記載の感熱平版印刷版材料、
によって、達成された。
【0015】
本発明は上記のように、支持体上に熱により表面の物性に変化を生じさせる画像形成層を有して成る感熱平版印刷版材料について、画像部の表面エネルギーγd,γh、非画像部の表面エネルギーγd,γhに着目してこれを上記のとおり特定したことで、効果を得るに至ったものである。上記表面エネルギーγd,γhについては、後記詳述する。
【0016】
以下本発明について更に説明する。
本発明の感熱平版印刷版材料において、熱により表面の物性に変化を生じさせる画像形成層としては、たとえば露光により熱を与えて、該露光により露光部が疎水性に変化するもの、あるいは露光部が親水性に変化するものの、どちらも使用できる。好ましくは、露光部が疎水性に変化するネガ型の感熱平版印刷版材料とすることが良い。このようなネガ型の感熱平版印刷版材料は、少なくとも親水性樹脂、疎水性発生物質を含有して構成できる。さらに本発明の好ましい態様として、架橋剤の添加により画像形成層の耐水性を向上させる構成を挙げることができる。
【0017】
本発明の実施に際しては、親水性樹脂として、任意のもの、たとえば従来より公知の親水性樹脂を特に制限無く使用することができる。
本発明に使用できる親水性樹脂としては、たとえば、水酸基、カルボキシル基、(2級または3級)アミンを有する基、アミノ基、アミド基、カルバモイル基、スルホン酸基、スルホンアミド酸基、ホスホン酸基、メルカプト基、アルキルエーテル基等のよう親水性基を有する化合物等を挙げることができる。
【0018】
たとえば親水性樹脂として、ポリビニルアルコール、ポリサッカライド、ポリビニルピロリドン、ポリエチレングリコール、ゼラチン、膠、カゼイン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシエチル澱粉、サクローズオクタアセテート、アルギン酸アンモニウム、アルギン酸ナトリウム、ポリビニルアミン、ポリアリルアミン、ポリスチレンスルホン酸、ポリアクリル酸、ポリアミド、無水マレイン酸共重合体、ポリウレタン、ポリエステル等を挙げることができる。これらの化合物を、単独または2種以上混合したものを、主成分として用いることができる。
【0019】
これらの中で特に好ましい化合物としては、ゼラチン、ポリビニルアルコール、カルボキシメチルセルロース、ポリアミド、ポリウレタン、ポリエステルを挙げることができる。中でも最も好ましくは、ゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリウレタン、ポリエステルである。以下にこれら好ましい化合物について述べる。
【0020】
ポリビニルアルコールとしては、各種重合度のポリビニルアルコールの他、共重合ポリビニルアルコール、ポリビニルアルコール骨格部分を50モル%以上含有する、カルボキシル基,スルホ基等のアニオンで変性されたアニオン変性ポリビニルアルコール、アミノ基,アンモニウム基等のカチオンで変性されたカチオン変性ポリビニルアルコール、シラノール変性ポリビニルアルコール、アルコキシル変性ポリビニルアルコール、エポキシ変性ポリビニルアルコール、チオール変性ポリビニルアルコール等のランダム共重合体;アニオン変性、カチオン変性、チオール変性、シラノール変性、アルコキシル変性及びエポキシ変性等変性が末端基にのみに行われているポリビニルアルコール、アクリルアミド、アクリル酸等の水溶性モノマーを導入したブロック共重合ポリビニルアルコール、シラノール基等をグラフトさせたグラフト共重合ポリビニルアルコール、更に、(−COCH2COCH3)のような反応基を導入した共重合ポリビニルアルコール等が用いられる。
【0021】
ポリビニルアルコールは、鹸化度70モル%以上のものが好ましく、より好ましくは85モル%以上であり、特に好ましくは90%以上である。高ケン化度のポリビニルアルコールは熱処理により結晶性が変化し、耐水性を付与することが可能であり好ましい。
【0022】
共重合ポリビニルアルコールにおいて、共重合モノマーとしては、下記のモノマーを用いることができる。
(1)芳香族水酸基を有するモノマー:例えば、o−ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシスチレン、m−ヒドロキシスチレン、o−ヒドロキシフェニルアクリレート、p−ヒドロキシフェニルアクリレート、m−ヒドロキシフェニルアクリレート等。
(2)脂肪族水酸基を有するモノマー:例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミド、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、5−ヒドロキシペンチルアクリレート、5−ヒドロキシペンチルメタクリレート、6−ヒドロキシヘキシルアクリレート、6−ヒドロキシヘキシルメタクリレート、N−(2−ヒドロキシエチル)アクリルアミド、N−(2−ヒドロキシエチル)メタクリルアミド、ヒドロキシエチルビニルエーテル等。
(3)アミノスルホニル基を有するモノマー:例えば、m−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、p−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、m−アミノスルホニルフェニルアクリレート、p−アミノフェニルアクリレート、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)アクリルアミド等。
(4)スルホンアミド基を有するモノマー:例えば、N−(p−トルエンスルホニル)アクリルアミド、N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミド等。
(5)α、β−不飽和カルボン酸類:例えば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸等。
(6)置換または無置換のアルキルアクリレート:例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ノニル、アクリル酸デシル、アクリル酸ウンデシル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸−2−クロロエチル、N,N−ジメチルアミノエチルアクリレート、グリシジルアクリレート等。
(7)置換または無置換のアルキルメタクリレート:例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸ヘプチル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸ノニル、メタクリル酸デシル、メタクリル酸ウンデシル、メタクリル酸ウンデシル、メタクリル酸ドデシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸−2−クロロエチル、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート等。
(8)アクリルアミド若しくはメタクリルアミド類:例えば、アクリルアミド、メタクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド等。
(9)フッ化アルキル基を含有するモノマー:例えば、トリフルオロエチルアクリレート、トリフルオロエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、ヘキサフルオロプロピルメタクリレート、オクタフルオロペンチルアクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、ヘプタデカフルオロデシルメタクリレート、N−ブチル−N−(2−アクリロキシエチル)ヘプタデカフルオロオクチルスルホンアミド等。
(10)ビニルエーテル類:例えば、エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル類。
(11)ビニルエステル類:例えば、ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等。
(12)スチレン類:例えば、スチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等。
(13)ビニルケトン類:例えば、メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等。
(14)オレフィン類:例えば、エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等。
(15)N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール、4−ビニルピリジン等。
(16)シアノ基を有するモノマー:例えば、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、2−ペンテンニトリル、2−メチル−3−ブテンニトリル、2−シアノエチルアクリレート、o−シアノスチレン、m−シアノスチレン、p−シアノスチレン等。
(17)アミノ基を有するモノマー:例えば、N,N−ジエチルアミノエチルメタクリレート、N,N−ジメチルアミノエチルアクリレート、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート、ポリブタジエンウレタンアクリレート、N,N−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、N−イソプロピルアクリルアミド、N,N−ジエチルアクリルアミド等。
【0023】
本発明で用いるポリビニルアルコールとしては、反応性基を導入したポリビニルアルコール、アニオン性基を導入したポリビニルアルコールが好ましく、中でも、反応性基を導入したポリビニルアルコールが好ましい。反応性基としては、例えば、シラノール基、アセトアセチル基、チオール基、エポキシ基が挙げられる。これらの中で特に好ましい反応性基は、シラノール基、アセトアセチル基、チオール基である。
【0024】
上記のポリビニルアルコールは、1種でまたは2種以上を混合して用いてもよい。
【0025】
また、ポリビニルアルコールを用いる場合、上記のポリビニルアルコールを主成分として、他のポリマーまたは離型剤を1種または2種以上を混合して用いてもよく、更に、ポリマー及び離型剤を2種以上混合して用いてもよい。具体的なポリマーとしては、例えば、澱粉、加工澱粉、カゼイン、膠、ゼラチン、アラビアガム、アルギン酸ナトリウム、ペクチン等の天然高分子;カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、ビスコース等の半合成高分子;ポリアクリルアミド、ポリエチレンイミン、ポリアクリル酸ナトリウム、ポリエチレジオキシド、ポリビニルピロリドン等の合成高分子、特開平4−176688号公報に記載の化合物などが挙げられ、具体的な離型剤としては、例えば、特開平4−186354号公報に記載の化台物を適時用いることができる。
【0026】
更に、ポリビニルアルコールの物性向上のため帯電防止剤や界面活性剤等の化合物を混合してもよく、具体的な化合物としては、例えば、特開平4−184442号公報に記載の化合物を適時用いることができ、これらを1種または2種以上を混合して用いてもよい。
【0027】
本発明の各態様における実施において、感熱層の膜厚は30μm以下が好ましく、より好ましくは0.01〜3μmである。
【0028】
ゼラチンとしては、アルカリ法ゼラチン、酸性法ゼラチン、変性ゼラチン(例えば、特公昭38−4854号公報、同40−12237号公報、英国特許2,525,753号明細書等に記載の変性ゼラチン等)等を単独または2種以上を組み合わせて用いることができる。例えば、石灰処理ゼラチンの他、酸処理ゼラチンを用いてもよく、ゼラチン加水分解物、Bull.Soc.Sci.Photo.Japan.No.16.P30(1966)に記載されたような酵素処理ゼラチンも用いることができる。
【0029】
カルボキシメチルセルロースとしては、カルボキシメチルセルロース及びその塩、例えば、ナトリウム塩、カルシウム塩、カリウム塩、アルミニウム塩、マグネシウム塩、アンモニウム塩などが挙げられ、これらの中で、カルボキシメチルセルロース、カルボキシメチルセルロースナトリウム塩、カルボキシメチルセルロースアンモニウム塩が好ましい。中でも特にカルボキシメチルセルロースアンモニウム塩が好ましく、これらを用いた場合、水溶性であるが支持体上に塗布乾燥することで水に対する溶解性が低下する特徴を有しており好ましい。
【0030】
次に、好ましい化合物としてのポリウレタン、ポリエステル、及びポリアミドについて述べる。本発明において、親水性基を有するポリウレタン樹脂、親水性基を有するポリエステル樹脂及び親水性基を有するポリアミド樹脂を好ましく用いることができる。本発明の実施においては親水性基として、カルボキシル基、水酸基、スルホニウム基、アミノ基及びスルホンアミド基を側鎖に有するものが好ましい。
【0031】
本発明に用いることができる好ましい親水性基を有するポリウレタン樹脂は、少なくとも1種の上記の親水性基を有し、主鎖にウレタン結合、尿素結合、ビュレット結合、アロファネート結合から選ばれる少なくとも1種以上の繰り返し単位を含有する高分子であり、この様な結合は、主としてイソシアネートと付加反応する反応基を選択することで形成される。
【0032】
この反応に好適に用いられるジイソシアネート化合物としては、従来公知の、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、p−キシリレンジイソシアネート、m−キシリレンジイソシアネート、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、3,3′−ジメチルビフェニル−4,4′−ジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート化合物;トリメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート化合物;イソホロンジイソシアネート、4,4′−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、メチルシクロヘキサン−2,4−ジイソシアネート、メチルシクロヘキサン−2,6−ジイソシアネート、1,3−(イソシアネートメチル)シクロヘキサン等の脂環族ジイソシアネート化合物等が挙げられ、更にこれらのジイソシアネート化合物3分子以上の反応生成物、これらのジイソシアネート化合物と3価以上の多価アルコールの反応生成物により生成される3官能以上のイソシアネート化合物も好適に使用できる。
【0033】
イソシアネート化合物と付加反応してウレタン結合を形成する多官能アルコールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、オクタンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール等の脂肪族ジオール類;グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジグリセリン、1,2,6−ヘキサントリオール、ソルビトール、マンニトール、ブドウ糖等の脂肪族多官能アルコール類;ジカルボン酸と多価アルコールとの縮合により末端に水酸基を形成したポリエステルポリオール類;アルキレンオキサイドの開環重合又はアルキレンオキサイドと多価アルコールに付加したポリエーテルポリオールが挙げられる。
【0034】
これらの化合物のアルコール価数に応じ、水酸基1モルに対しイソシアネート2モルの比率で添加し、反応させることで目的の反応生成物を得ることができる。
【0035】
ポリウレタン樹脂に親水性基を付与するには、末端にイソシアネート基を残したウレタンプレポリマーを3級アミノ基を有するジオール類でポリマー化し、3級アミノ基を4級塩化する方法;末端にイソシアネート基を残したウレタンプレポリマーを3級アミノ基を有するジオール類でポリマー化し、3級アミノ基を酸で中和しアミン塩化する方法;末端にイソシアネート基を残したウレタンプレポリマーを4級塩を有するジオール類でポリマー化する方法;末端にイソシアネート基を残したウレタンプレポリマーをジアミノフェニルカルボン酸塩でポリマー化し溶剤除去する方法;末端にイソシアネート基を残したウレタンプレポリマーの末端イソシアネート基を重亜硫酸ソーダの様な化合物でブロック化する方法;末端にイソシアネート基を残したウレタンプレポリマーをジアミノアルカンスルホネートでポリマー化する方法;末端にイソシアネート基を残したウレタンプレポリマーをビス(2−シアノエチルアミノ)エタンでポリマー化する方法;末端にイソシアネート基を残したウレタンプレポリマーを長鎖アルコールのアルキレンオキサイドでポリマー化する方法、等を挙げることができ、その他、岩田敬治編「ポリウレタン樹脂ハンドブック」日刊工業新聞社、496〜502頁に記載の方法等を任意に採用できる。
【0036】
又、本発明に採用できる市販のポリウレタン樹脂として、武田薬品工業(株)製タケラックWシリーズ(W−621、W−6015、W−7004、W−511、W−635、XW−76−P15、XW−74−P6012C、ACW−31H、ACW−54HD、XW−904−X05、XW−97−W4〜ポリエステルウレタン自己乳化タイプ)、同(W−310、W−512〜ポリエステルウレタン強制乳化タイプ)、武田薬品工業(株)製アルコキシシリル基含有シリーズ(XW−77−X25、XW−75−X09、XW−74−X13、XS−72−V01、XS−72−V02、XS−72−V03、XS−72−V04、XS−72−V05〜ポリエステルウレタン自己乳化タイプ)、東邦化学工業(株)製ハイタックシリーズ(S−8531、S−8532、S−8533、S−8530、S−8529、S−8528、S−6254、S−6262、B−1306)、楠本化成(株)製NeoRezシリーズ(R−960、R−962、R−972、R−974、R−9314、R−9320、R−9617、XR−9621、XR−9624、R−9637、XR−9679、XR−9699、XR−9770〜脂肪族ポリエステルウレタン)、楠本化成(株)製NeoRezシリーズ(R−966、R−967、XR−9000、AX−311、AX−7113〜脂肪族ポリエーテルウレタン)、楠本化成(株)製NeoRezシリーズ(R−940、R−9030、XR−9409、R−9920、XR−7061〜芳香族ポリエーテルウレタン)、楠本化成(株)製NeoRezシリーズ(XU−7015、R−9603〜特殊ウレタン、脂肪族ポリカーボネートウレタン)、カネボウエヌエスシー(株)製ヨドゾールシリーズ(9D102、9D250Z、9D232Z)、東亜合成化学工業(株)製ネオタンシリーズ(UE−1101、UE−1200、UE−1300、UE−1402、UE−2103、UE−2200、UE−2600、UE−2900〜ポリエステルウレタン)、東亜合成化学工業(株)製ネオタンシリーズ(UE−5404、UE−5600〜ポリエーテルウレタン)、高松油脂(株)製エヌレジンシリーズ(R−1489、R−1780)、高松油脂(株)製クラウンボンドシリーズ(UA−28、UA−41、U−176R、RI−793、RI−623、U−113)、住友バイエルウレタン(株)製ディスパコールシリーズ(U−42、U−53、KA8481、KA8584)等を挙げることができる。
【0037】
本発明に用いることができる好ましい親水性基を有するポリエステル樹脂は、少なくとも1種の上記の親水性基を有し、主鎖にエステル結合の繰り返し単位を含有する高分子であり、この様なエステル結合を有する樹脂の合成方法は、例えば「ポリエステル樹脂ハンドブック」、21〜28頁に記載の方法で形成したポリエステル樹脂のプレポリマーに任意の方法で親水性基を導入し、ポリマー化すればよい。本発明に採用できる市販のポリエステル樹脂としては、高松油脂(株)製ペスレジンAシリーズ(110、120、121、193、510、610、810〜親水性基が−SO3R)、高松油脂(株)製ペスレジンAシリーズ(210、620、820〜親水性基が−COOR)、高松油脂(株)製ペスレジンAシリーズ(115G、124G、124GH、193G、215G、515G、615G、813GL〜親水性基が−SO3Rとグリシジル)、高松油脂(株)製ペスレジンAシリーズ(124S、115S〜親水性基が−SO3RとSi(OR)3)、互応化学工業(株)製プラスコートシリーズ(Z−3402、Z−4121、Z−446、Z−461、Z−448、Z−441、Z−450、Z−710、Z−711、Z−770、Z−766〜水溶性)、互応化学工業(株)製プラスコートシリーズ(Z−802、Z−3109、Z−3308、Z−857、Z−850、Z−802、Z−856、Z−4201、RZ−27、RZ−50、RZ−56、RZ−105)、東洋紡績(株)製バイロナールシリーズ(MD−1200、MD−1220、MD−1250、MD−1100、MD−1330、MD−1930)等を挙げることができる。
【0038】
本発明に用いることができる好ましい親水性基を有するポリアミド樹脂は、少なくとも1種の上記の親水性基を有し、主鎖にアミド結合の繰り返し単位を有する高分子であり、この様なアミド結合を有する樹脂の合成方法は、例えば三羽忠広著「基礎合成樹脂の化学<親版>」、305〜306頁に記載の方法で形成したポリアミド樹脂のプレポリマーに任意の方法で親水性基を導入し、ポリマー化すればよい。又は、高分子学会編「高分子の合成と反応(2)」、208〜209頁に記載の方法を参照して親水性基を有するポリアミド樹脂を得ることができる。本発明に採用できる市販のポリアミド樹脂としては、互応化学工業(株)製KW−539、松本油脂製薬(株)製KP−2002及びKP−2007等を挙げることができる。
【0039】
本発明においては、上記述べたような親水性樹脂を10〜100重量%の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは、20〜95重量%の範囲であり、さらに好ましくは、30〜90重量%の範囲である。
【0040】
また本発明の好ましい実施の態様としては、ゼラチン、ポリビニルアルコール、カルボキシメチルセルロース、ポリアミド、ポリウレタン、ポリエステルから選ばれる少なくとも1種を主成分として含有してなる構成を挙げることができる。なお、ここで主成分とは、親水性樹脂成分の固形分重量添加%の50%以上含有することを言い、より好ましくは、70%以上使用することである。
【0041】
これらは、同種のものを1種または2種以上使用してもよいし、異種のものを2種以上併用するのでもよい。
【0042】
次に、本発明で用いることができる疎水性発生物質について述べる。本発明の実施に際しては、疎水性発生物質としては任意のものを使用でき、たとえば従来より公知のものを特に制限無く使用できる。このような物としては、ワックス分散物、熱可塑性樹脂粒子、低分子疎水性物質の添加、撥水剤の添加などを挙げることができる。
【0043】
たとえばワックス分散物としては、カルナバ蝋、木蝋、オウリキュリー蝋、エスパル蝋等の植物蝋や、蜜蝋、昆虫蝋、セラック蝋、鯨蝋等の動物蝋、パラフィンワックス、マイクロクリスタルワックス、ポリエチレンワックス、アミドワックス、エステルワックス、酸ワックス等の石油蝋、並びに、モンタン蝋、オゾケライト、セレシン等の鉱物蝋等の、各種ワックス類のワックス分散物を挙げることができる。
【0044】
またワックス分散物として、融点60〜120℃のパラフィン、ポリオレフィン、マイクロワックス、及び融点60〜180℃の脂肪酸系ワックスを用いることができる。前者のワックスとしては、各種融点を有するパラフィンワックス、60〜120℃の各種融点〔または軟化点)を有するマイクロワックス、あるいはポリエチレンワックス、ポリプロピレンワックスのごときポリオレフィンワックスを挙げることができる。このポリエチレンワックスまたはポリプロピレンワックスは、通常分子量が1000から10000程度のもの、すなわち、一般にポリオレフィンワックスとして知られているもので、これらのポリオレフィンは通常、高圧及び低圧重合法により(すなわち、低密度及び高密度ポリオレフィン)、または高分子量のポリオレフィンの分解によって得られる。また乳化し易くするため、これらのワックスを酸化し、水酸基、エステル基、カルボキシル基、アルデヒド基、ペルオキシド基などの極性基を導入することもできる。また、軟化点を下げたり作業性を良くするため、これらのワックスの併用も可能である。後者のワックスとしては、ステアロアミド、リノレンアミド、ウリルアミド、ミリステルアミド、硬化牛脂酸アミド、パルミトアミド、オレイン酸アミド、米糖脂肪酸アミド、またはこれらの脂肪酸アミドのメチロール化物、メチレンビスステアロアミド、エチレンビスステアロアミドなどを挙げることができ、これらの併用もまた可能である。
【0045】
また、融点60〜180℃のクマロン−インデン樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、テルペン変性フェノール樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹脂等の熱可融性物質も使用できる。その他、使用できるワックスについては、特開昭59−174394号公報の記載を参考にできる。
【0046】
本発明に用いることができる熱可塑性樹脂粒子としては、エチレン系共重合体、スチレン系共重合体、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリビニルカルバゾール系樹脂、セルロース系樹脂、ロジン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、アイオノマー樹脂、石油系樹脂等の樹脂類、
天然ゴム、スチレンブタジエンゴム、イソプレンゴム、クロロプレンゴム、ジエン系コポリマー等のエラストマー類、
エステルガム、ロジンマレイン酸樹脂、ロジンフェノール樹脂、水素添加ロジン等のロジン誘導体、
並びに、フェノール樹脂、テルペン樹脂、シクロペンタジエン樹脂、芳香族系炭化水素樹脂等の粒子を挙げることができる。
【0047】
本発明において、自己水分散性の樹脂粒子を用いることができる。本発明に用いることができる自己水分散性樹脂粒子の種類には特に制限は無いが、樹脂の粒子化、画像部の皮膜強度、非画像部の親水性等の点から、スチレン、あるいはα−スチレンのような置換スチレン、アクリル酸メチルエステル、アクリル酸エチルエステル、アクリル酸ブチルエステル、アクリル酸2−エチルヘキシルエステル等のアクリル酸エステル、メタクリル酸メチルエステル、メタクリル酸エチルエステル、メタクリル酸ブチルエステル、メタクリル酸2−エチルヘキシルエステル等のメタクリル酸エステルから選ばれる少なくとも一つのモノマー単位と、アクリル酸、メタクリル酸から選ばれる少なくとも一つのモノマー単位を含む共重合体が好ましい。また、特に樹脂の分子量範囲に制限はないが、1000以上10万以下の分子量のものが、好ましい。
【0048】
その他、用いることができる自己水分散性の樹脂粒子として、酸価を有している合成樹脂と塩基性物質との塩や、水酸基等の親水性基を置換基として有するものがある。この場合、水分散性樹脂粒子の微粒子化と、粒子の溶解・膨潤を防ぎながら、かつ粒子に大きな親水性を付与するために、樹脂としては酸価が50以上280以下の合成樹脂(A)の少なくとも一部が塩基(B)で中和されてなる自己水分散性樹脂であることが好ましい。特に、該樹脂粒子同士の融合を防止するには、樹脂のガラス転移温度が50℃以上であることが好ましく、さらに好ましくは70℃以上のガラス転移温度であることが良い。
【0049】
この場合、画像部の解像度を上げるため、より樹脂粒子の粒子径を小さくし、非画像部の未融着の樹脂粒子の親水性を高めて非画像部のインキ汚れを小さくするためには、合成樹脂(A)の酸基の60モル%以上が塩基(B)で中和されていることが好ましい。合成樹脂に酸価を与えるアニオン性官能基は、カルボキシル基、スルホン酸基、スルフィン酸基等、特に限定されるものではないが、カルボキシル基は一般的で良好な自己水分散性熱可塑性樹脂粒子を与える。その他、自己水分散性樹脂粒子については、特開平9−127683号公報の記載を参考にできる。
【0050】
さらに本発明においては、次のようなアイオノマー樹脂も、好ましく用いることができる。すなわち本発明においては、アイオノマー樹脂を水性分散物として付与できるが、この場合アイオノマー樹脂が、α−オレフィン(特にエチレン)とα,β−不飽和カルボン酸(特にアクリル酸またはメタクルル酸)との共重合体を金属イオン(特にNa+ 、Mg+ + 、Zn+ + )でイオン架橋した樹脂であることが好ましい。かつこの場合、感熱層が、結着剤として水溶性高分子化合物(ポリビニルアルコールが好ましく、特に85〜90%のビニルアルコール単位を含むことが好ましい)を含有することが好ましい。さらにこの場合、アイオノマー樹脂と水溶性高分子化合物との比が、重量比で3:2〜9:1であることが好ましい。
【0051】
本発明の実施において、あらゆるアイオノマー樹脂を用いることができるが、好ましくはα−オレフィンとα,β−不飽和カルボン酸を一種または数種の金属イオンでイオン架橋させた樹脂である。このアイオノマー樹脂のベースとなる共重合体に用いられるα−オレフィンは、一般式RCH=CH2 を有する。ここでRは水素原子またはアルキル基であり、そのアルキル基の炭素原子数は1〜8個が好ましい。即ち好適なオレフィンとしてはエチレン、プロピレン、ブテン−1、ペンテン−1、ヘキセン−1、ヘプテン−1、3−メチルブテン−1、4−メチルペンテン−1等が含まれる。
【0052】
共重合体の第二の成分であるα,β−不飽和カルボン酸は、好ましくは炭素原子数が3〜8個のα,β−不飽和カルボン酸である。即ち好適なα,β−不飽和カルボン酸としてはアクリル酸、メタクリル酸、エタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸及びこれらカルボン酸のエステル例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸ノルマルブチル、フマル酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、マレイン酸ジメチル等が含まれる。
【0053】
これらのα−オレフィンまたはα,β−不飽和カルボン酸は一種ずつ用いてもよく、また二種以上組み合わせて用いることもできる。
【0054】
この共重合体よりアイオノマー樹脂を製造するのに適した金属イオンは1〜3価の原子価を有する金属イオンである。適当な一価金属イオンとしてはNa+ 、K+ 、Li+ 、Cs+ 、Ag+ 、Hg+ 、二価金属イオンとしてはBe+ + 、Mg+ + 、Ca+ + 、Sr+ + 、Ba+ + 、Cu+ + 、Cd+ + 、Hg+ + 、Sn+ + 、Pb+ + 、Fe+ + 、Co+ + 、Ni+ + 、Zn+ + 、三価金属イオンとしてはAl+ + + 、Sc+ + + 、Fe+ + + 、Y+ + + が挙げられる。これらの中、本発明においてはNa+ 、Mg+ + またはZn+ + が好ましい。
【0055】
これらアイオノマー樹脂の中で好ましいものは、エチレンとアクリル酸またはメタクリル酸とをNa+ 、Mg+ + またはZn+ + でイオン架橋させて得られるアイオノマー樹脂である。
【0056】
本発明に用いられるアイオノマー樹脂の製造方法については、特公昭39−6810号、特公昭42−15768号、特開昭49−31556号、特開昭49−121891号の各公報等に記載されている方法に準じればよい。
【0057】
低分子疎水性物質としては、テルピネオール、メントール、1,4−シクロヘキサンジオール、フェノール等のアルコール類;アセトアミド、ベンズアミド等のアミド類;クマリン、桂皮酸ベンジル等のエステル類;ジフェニルエーテル、クラウンエーテル等のエーテル類;カンファー、p−メチルアセトフェノン等のケトン類;バニリン、ジメトキシベンズアルデヒド等のアルデヒド類;ノルボルネン、スチルベン等の炭化水素類;パルミチン酸、ステアリン酸、マルガリン酸、ベヘン酸等の高級脂肪酸;パルミチルアルコール、ステアリルアルコール、ベヘニルアルコール、マルガニルアルコール、ミリシルアルコール、エイコサノール等の高級アルコール;パルミチン酸セチル、パルミチン酸ミリシル、ステアリン酸セチル、ステアリン酸ミリシル等の高級脂肪酸エステル;アセトアミド、プロピオン酸アミド、パルミチン酸アミド、ステアリン酸アミド、アミドワックス等のアミド類;並びにステアリルアミン、ベヘニルアミン、パルミチルアミン等の高級アミン類;フタル酸エステル類、トリメリット酸エステル類、アジピン酸エステル類、その他飽和あるいは不飽和カルボン酸エステル類、枸櫞酸エステル類、エポキシ化大豆油、エポキシ化亜麻仁油、ステアリン酸エポキシ類、正燐酸エステル類、亜燐酸エステル類、グリコールエステル類、などが挙げられる。
【0058】
また撥水剤としては、従来公知のシリコーン化合物、フッ素化合物等を好適に利用することが可能であり、この様な素材としては、
シリコーン系界面活性剤:例えばシルウェットL720,FZ2122,FZ2120,FZ2166,FZ2171(日本ユニカー株式会社製)等、更にはシランカップリング剤:例えば不飽和基を含む、カルボキシル基、メルカプト基、イソシアネート基、アミノ基含有カップリング剤のカップリング剤等が挙げられ、N−3−(アクリロキシ−2−ヒドロキシプロピル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、(3−アクリロキシプロピル)ジメチルメトキシシラン、(3−アクリロキシプロピル)メチルジメトキシシラン、(3−アクリロキシプロピル)トリメトキシシラン、3−(N−アリルアミノ)プロピルトリメトキシシラン、アリルジメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、3−ブテニルトリエトキシシラン、2−(クロロメチル)アリルトリメトキシシラン、メタクリルアミドプロピルトリエトキシシラン、N−(3−メタクリキシ−2−ヒドロキシプロピル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、(メタクリロキシイメチル)ジメチルエトキシシラン、メタクリロキシメチルトリエトキシシラン、メタクリロキシメチルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルジメチルエトキシシラン、メタクリロキシプロピルジメチルメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルトリエトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリス(メトキシエトキシ)シラン、メトキシジメチルビニルシラン、1−メトキシ−3−(トリメチルシロキシ)ブタジエン、スチリルエチルトリメトキシシラン、3−(N−スチリルメチル−2−アミノエチルアミノ)−プロピルトリメトキシシラン塩酸塩、ビニルジメチルエトキシシラン、ビニルジフェニルエトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、O−(ビニロキシエチル)−N−(トリエトキシシリルプロピル)ウレタン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリ−t−ブトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリフェノキシシラン、ビニルトリス(2−メトキシエトキシ)シラン、ジアリルアミノプロピルメトキシシランを挙げることができるが好ましくは、不飽和基の反応性が早いメタクリロイル基、アクリロイル基を含むカップリング剤が好ましいが、不飽和基が2官能であればビニル基、アリル基であればかまわない。
【0059】
1)アミノ基含有カップリング剤とは、1級、2級、3級、4級と種々のタイプのアミノ基を含有することが好ましいが、特に好ましくは、2級のアミノ基を含有することが好ましい。具体的な化合物としては、4−アミノブチルトリエトキシシラン、4−アミノブチルトリメトキシシラン、(アミノエチルアミノメチル)フェネチルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(6−アミノヘキシル)アミノプロピルトリメトキシシラン、3−(M−アミノフェノキシ)プロピルトリメトキシシラン、m−アミノフェニルトリメトキシシラン、p−アミノフェニルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルジメチルエトキシシラン、3−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、アミノプロピルシラントリオール、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリス(メトキシエトキシエトキシ)シラン、3−アミノプロピルトリス(トリメチルシロキシ)シラン、N−メチルアミノプロピルトリメトキシシラン、(3─トリメトキシシリルプロピル)ジエチレントリアミン、N−(トリメトキシプロピル)イソチオウロニウムクロライド、γ−ユレイドプロピルトリエトキシシラン等を挙げることができる。
【0060】
2)グリシジル基含有カップリング剤とは、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、(3−グリシドキシプロピル)ジメチルエトキシシラン、(3−グリシドキシプロピル)メチルジエトキシシラン、(3−グリシドキシプロピル)メチルジメトキシシラン、(3−グリシドキシプロピル)トリメトキシシラン等が挙げられる。
【0061】
またフッ素系化合物としては、例えばフッ素系界面活性剤:フルオロ脂肪族基を含むアクリレート、メタクリレート及び(ポリオキシアルキレン)アクリレートまたは(ポリオキシアルキレン)メタクリレートの共重合体、特開昭62−170950、特開昭62−226143、米国特許第3787351の各公報記載のもの等が挙げられる。例えばメガファックF−171,173,177,179,142D、ディフェンサMCF300,312,313(大日本インキ化学工業株式会社製)、モディパ−F−100,102,110(日本油脂株式会社製)、
【0062】
更に特開昭64−18142号記載の含フッ素アクリル系樹脂等、特公平6−105351号、特公平8−3630号、特開平3−172849号記載のフッ素系界面活性剤、特開平1−260055号、特開平1−271478号、特開平4−63802号記載の化合物等を好ましく使用することができる。
【0063】
またこの様な素材の中で特に好ましい物は、常温/水系液中で分散状態を形成できる親水性を有するフッ素含有オリゴマーが好ましく具体的な製品としてはアサヒガードAG422,428,490,530,550,710,780,880,970,LS317(旭硝子株式会社製)、TKガード505(高松油脂株式会社製)、ディックガードF−52S,F−70,F18,F−90,F−90N,FS−90H(大日本インキ株式会社製)などを挙げることができる。これらの中でもパーフルオロアルキル基の側鎖が炭素数5〜15のものが好ましく、6〜12のものが特に好ましい。
【0064】
これらの化合物は単独あるいは2種以上混合して使用することができる。これらの疎水性発生物質中で特に好ましくは、ワックス分散物・熱可塑性樹脂粒子・撥水剤である。
【0065】
このような素材を画像形成層に0.5〜90重量%の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは1〜70重量%の範囲で使用することができる。
【0066】
更にこれらの化合物をマイクロカプセル等に封入し画像用に析出させる方法・画像形成層を機能分離し下層に疎水性物質を含有する層。上層に親水性樹脂を主成分とする層のように設計して使用することも可能である。
【0067】
本発明に好ましく用いられるマイクロカプセルに関して、その壁材、内包物、及び製造方法については、特開昭64−90788号公報の第2頁右下欄18行目から第5頁右下欄13行目までに記載のものを用いることができる。
【0068】
本発明の好ましい態様として、架橋剤を添加し、画像形成層の耐水性を付与することが挙げられる。このようにして使用できる架橋剤としては、各種のものを挙げることができる。
【0069】
架橋剤としては、たとえば本発明の実施において用いる親水性樹脂を架橋することができるものであれば従来公知の架橋剤を広く利用でき、これら架橋剤としては、例えば、アミノ樹脂、アジリジン系化合物、アミノ系化合物、アルデヒド類、イソシアネート化合物、カルボン酸または酸無水物、ハロゲン化物、フエノール−ホルムアルデヒド樹脂、2つもしくはそれ以上のエポキシ基を有する化合物が挙げられる。
【0070】
特に好ましいは、アミノ樹脂、アミノ系化合物、アジリジン系化合物、アルデヒド類である。
【0071】
本発明の実施において用いる架橋剤は、低分子量化合物であってもよくまたはオリゴマーもしくは重合体であってもよい。
【0072】
アミノ樹脂としては、例えば、メラミン、ベンゾグアナミン、尿素等をアルデヒド類やケトン類と反応させた樹脂、具体的には、例えば、メラミン−ホルムアルデヒド系樹脂、尿素−ホルムアルデヒド系樹脂、メチロール化メラミン等が挙げられる。これらアミノ樹脂は、水酸基、カルボキシル基、メルカプト基等を有する本発明の親水性樹脂に対し有効である。
【0073】
ハロゲン化物としては、例えば、米国特許第3,325,287号明細書、同第3,288,775号明細書、同第3,549,377号明細書、ベルギー特許第6,622,226号明細書に記載のジクロロトリアジン系化合等が挙げられれる。これらハロゲン化物は、水酸基、アミノ基等を有する本発明の親水性樹脂に対し有効である。
【0074】
アミン系化合物及びアジリジン系化合物としては、例えば、米国特許第3,392,024号明細書に記載のアジリジン系化合物、米国特許第3,549,378号明細書等に記載のエチレンイミン系化合物及び下記の化合物が挙げられる。
【0075】
【化1】

Figure 0003887966
【0076】
【化2】
Figure 0003887966
【0077】
これらアミン系化合物及びアジリジン系化合物は、水酸基、カルボキシル基等を有する本発明の親水性樹脂に対し有効である。
【0078】
イソシアネート化合物には、保護基を有すイソシアネート(ブロックド−イソアネート)も含まれる。これらイソシアネート化合物としては、例えば、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、トリフェニルメタンジイソシアネート、ビシクロヘプタンジイソシアネートが挙げられる。
【0079】
これらイソシアネート化合物は、水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、アミノ基等を有する本発明の親水性樹脂に対し有効である。
【0080】
アルデヒド類としては、例えば、ホルムアルデヒド、グリオキザール、米国特許第3,291,624号明細書、同第3,232,764号明細書、フランス特許第1,543,694号明細書、英国特許第1,270,578号明細書に記載のジアルデヒド類が挙げられ。
【0081】
これらアルデヒド類は、水酸基を有する本発明の親水性樹脂に対し有効である。
【0082】
これらの中で好ましくは、アミノ樹脂、アジリジン系化合物、アルデヒド類及びイソシアネート化合物類である。
【0083】
本発明の実施に際し、親水性樹脂としてゼラチンを用いた場合、架橋剤としては、例えば、クロム塩(クロム明磐、酢酸クロム等)、アルデヒド類(ホルムアルデヒド、グリオキザール、グルタルアルデヒド等)、N−メチロール化合物(ジメチロール尿素、メチロールジメチルヒダントイン等)、ジオキサン誘導体(2,3−ジヒドロキシジオキサン等)、活性ビニル化合物(1,3,5−トリアクリロイル−ヘキサヒドロ−s−トリアジン、ビス−(ビニルスルホニル)メチルエーテル、N,N′−メチレンビス−〔β−(ビニルスルホニル)プロピオンアミド〕等)、活性ハロゲン化合物(2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−s−トリアジン等)、ムコハロゲン酸類(ムコクロル酸、フェノキシムコクロル酸等)、イソオキサゾール類、ジアルデヒド澱粉、2−クロロ−6−ヒドロキシトリアジニル化ゼラチン、イソシアネート類、カルボキシル基活性型架橋剤等を、単独又は組み合わせて用いることができる。
【0084】
本発明の実施に際し、架橋剤の添加量は、0〜50重量%の範囲で用いることが好ましく、さらに好ましくは2〜45重量%の範囲で用いることである。さらに好ましくは、3〜40重量%の範囲であり、特に好ましくは、4〜30重量%の範囲である。
【0085】
架橋剤は、同種の架橋剤を1種用いてもまたは2種以上を混合して用いてもよく、また、異種の架橋剤を2種以上併用して使用してもよい。
【0086】
本発明の実施に際し、反応促進剤を用いることができる。反応促進剤としては公知の反応促進剤を用いることができ、これら反応促進剤としては、例えば、塩化アンモニウム、酢酸アンモニウム、硫酸アンモニウム、硝酸アンモニウム、リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、チオシアン酸アンモニウム、スルファミン酸アンモニウム等のアンモニウム塩系化合物、ジメチルアニリン塩酸塩、ピリジン塩酸塩、ピコリンモノクロール酢酸、カタリストAC(モンサント社製)、キャタニットA(日東化学社製)、スミライザーACX−P(住友化学社製)等の有機アミン塩系化合物、塩化第二スズ、塩化第二鉄、塩化マグネシウム、塩化亜鉛、硫酸亜鉛等の無機塩系化合物を挙げることができる。
【0087】
また、反応促進剤の前駆体を使用することも有利である。反応促進剤の前駆体は、加熱時に反応促進剤に転換し、画像通りに反応促進剤が形成される。
【0088】
反応促進剤の適当な前駆体は、例えば、加熱時に酸を放出する前駆体である。これら前駆体としては、例えば、英国特許第612,065号明細書、欧州特許第615233号明細書、米国特許第5,326,677号明細書に開示されているスルホニウム化合物、特に、ベンジルスルホニウム化合物、欧州特許第462,763号明細書、WO81/1755号公報、米国特許第4,370,401号明細書に開示されている無機硝酸塩(例えば、Mg(NO32・6H2O、硝酸アンモニウム)、有機硝酸塩(例えば、硝酸グアニジニウム、硝酸ピリジニウム)など、米国特許第5,312,721号明細書に開示されているスルホン酸を放出する化合物、例えば、3−スルホレン類、例えば、2,5−ジヒドロチオ−チオフェン−1,1−ジオキシド類、英国特許第1,204,495号明細書に開示されている熱分解性化合物、米国特許第3,669,747号明細書に開示されてアミンと揮発性有機酸との共結晶性付加物、米国特許第3,166,583号明細書に開示されているアラルキルシアノホルム類、欧州特許第159,725号明細書及び西独特許第351,576号明細書に開示されているサーモ・アシッド、米国特許第5,278,031号明細書に開示されているスクエア酸発生化合物、米国特許第5,225,314号明細書、米国特許第5,227,277号明細書及び1973年11月のリサーチ・ディスクロージャーNo.11511に開示されている酸発生化合物である。
【0089】
本発明の感熱性平版印刷版材料は、熱により物性に変化が起こる。たとえば加熱することにより、親水性から疎水性に物性変化が起こる。従って、サーマルヘッド等を用いて像様に加熱することにより平版印刷版を得ることができる。
【0090】
本発明の感熱性平版印刷版材料に、光−熱変換を生じさせる化合物(光−熱変換剤)を存在させると、レーザーなどの光の照射により光−熱変換が起こり加熱され、親水性から疎水性への物性変化を得ることができる。レーザーなどの光を利用した像形成は高精度な書き込みを可能にするので、本発明の感熱性平版印刷版材料に、光−熱変換剤を含有させることが好ましい。
【0091】
光−熱変換剤を本発明の感熱性平版印刷版材料に存在させることによって、サーマルヘッドによる書き込み以外に、高出力なレーザーなどの光を利用した高精度な書き込みができるようになる。
【0092】
光−熱変換剤は、光−熱変換によって発生した熱を感熱層に伝えることができればどこに存在させてもよく、感熱層に存在させても、感熱層とは別の層に存在させてもよい。また、支持体に存在させてもよい。
【0093】
光−熱変剤は、光を吸収し効率良く熱に変換する材料が好ましく、使用する光源によって異なるが、例えば、近赤外光を放出する半導体レーザーを光源として使用する場合、近赤外に吸収帯を有する近赤外光吸収剤が好ましく、例えば、カーボンブラツク、シアニン系色素、ポリメチン系色素、アズレニウム系色素、スクワリウム系色素、チオピリリウム系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素等の有機化合物、フタロシアニン系、アゾ系、チオアミド系の有機金属錯体などが好適に用いらる。具体的には、特開昭63−139191号公報、同64−33547号公報、特開平1−160683号公報、同1−280750号公報、同1−293342号公報、同2−2074号公報、同3−26593号公報、同3−30991号公報、同3−34891号公報、同3−36093号公報、同3−36094号公報、同3−36095号公報、同3−42281号公報、同3−97589号公報、同3−103476号公報等に記載の化合物が挙げられる。これらは1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
【0094】
光−熱変換剤は、蒸着膜として使用することも可能であり、光−熱変換剤の蒸着膜としては、例えば、カーボンブラツク、コロイド銀、金属炭化物・ホウ化物・窒化物・炭窒化物・青銅構造酸化物の蒸着膜、特開昭52−20842号公報に記載の金、銀、アルミニウム、クロム、ニツケル、アンチモン、テルル、ビスマス、セレン等のメタルブラツクの蒸着膜、コロイド銀を含有する蒸着膜等を挙げることができる。また、光−熱変換剤として、ポリピロール、ポリアニリン等の黒色樹脂及びその分散物等も使用できる。
【0095】
光−熱変換剤を感熱層とは別の層に存在させる場合、バインダーを添加した層に存在させることが好ましい。バインダーとしては、Tgが高く、熱伝導率の高い樹脂を用いることが好ましく、例えば、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリスチレン、エチルセルロース、ニトロセルロース、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、アラミド等の一般的な耐熱性樹脂を使用することができる。
【0096】
また、バインダーとしては、水溶性ポリマーも用いることができる。水溶性ポリマーは光照射時の耐熱性が良く、過度な加熱に対しても、所謂、飛散が少ない点で好ましい。水溶性ポリマーを用いる場合には、光−熱変換物質をスルホ基を導入する等の手段により水溶性に変性したり、水系分散したりして用いることが望ましい。
【0097】
ゼラチン、PVAは水溶性の赤外吸収色素の凝集が少なく、光−熱変換層が安定にコーテイングでき、記録媒体の保存性に優れ、赤外吸収色素の凝集による色濁り、感度低下がなく好ましい。
【0098】
光−熱変換層の膜厚は0.1〜3μmが好ましく、より好ましくは0.2〜1.0μmである。光−熱変換層における光−熱転換剤の含有量は、通常、画像記録に用いる光源の波長での吸光度が0.3〜3.0、更に好ましくは0.7〜2.5になるように決めることができる。
【0099】
光−熱変換層を支持体と転写層の間に設けることで支持体との接着性が間題となる場合、接着層を設けることが有効である。
【0100】
この様な接着層には、転写の効率、ムラ等を改善する効果も併せて持たせることがより好ましい。
【0101】
本発明の感熱性平版印刷版材料の感熱層には、フィラーとして種々の微粒子を添加することができる。このような態様は、感熱層の断熱性を向上し、感度向上、露光/未露光部の極性差を大きくする面から好ましく、さらに非画像部の親水性/保水性などの点からも好ましい。
【0102】
好ましいフィラーとしては、有機系または無機系の微粒子が使用できる。
【0103】
有機系微粒子としては、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、その他のラジカル重合系ポリマーの微粒子、ポリエステル、ポリカーボネートなど縮合ポリマーの微粒子などが挙げられる。
【0104】
有機系微粒子の作成方法としては、どのような方法も採用できるが、例えば、乳化重合、懸濁重合のような分散媒中で重合を行い微粒子を得る方法、ポリマーを富溶媒に、必要があれば、加熱下で溶解した後、貧溶媒を添加するとか、冷却するとかしてポリマーを析出させ、微粒子を得る方法(析出時に剪断力を掛けることにより微粒子を得易い)、ポリマーをサンドミル、ボールミルのような分散手段により溶媒中で粉砕、分散して微粒子を得る方法、ポリマーをドライ状態で粉砕し、分級工程を通すことにより微粒子を得る方法によって得ることができる。
【0105】
無機系微粒子としては、酸化亜鉛、酸化チタン、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、シリカ(酸化珪素)等の微粒子を挙げることができる。
【0106】
無機系微粒子の作成方法としては、サンドミル、ボールミルのような分散手段により溶媒中で粉砕、分散して微粒子を得る方法を用いることができる。
【0107】
サンドミル、ボールミルのような分散手段により溶媒中で粉砕、分散して微粒子を得た場合は、有機系微粒子、無機系微粒子を問わず適切な分散剤を使用することが好ましい。
【0108】
また、無機系超微粒子も用いることができる。無機系超微粒子としては、例えば、シリカ(コロイダルシリカ)、アルミナあるいはアルミナ水和物(アルミナゾル、コロイダルアルミナ、カチオン性アルミニウム酸化物又はその水和物、疑ベーマイト等)、表面処理カチオン性コロイダルシリカ、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム、炭酸マグネシウム、二酸化チタン、酸化亜鉛等が挙げられる。
【0109】
無機系超微粒子は、単独でも良いし、2種以上を併用して用しても良い。またこれらの超微粒子は親水性樹脂に置き換えて利用することも可能であり、このような態様も非常に好ましい。
【0110】
また、無機系超微粒子は無機微粒子と併用してもよい。無機微粒子は、本発明の目的を阻害しない範囲であれば、従来から公知の無機微粒子を使用することができる。これら無機微粒子としては、例えば、軽質炭酸カルシウム、重質炭酸カルシウム、カオリン、タルク、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二酸化チタン、酸化亜鉛、硫化亜鉛、炭酸亜鉛、サチンホワイト、珪酸アルミニウム、ケイソウ土、珪酸カルシウム、合成非晶質シリカ、水酸化アルミニウム、リトポン、ゼオライト、加水ハロイサイト、水酸化マグネシウム、合成雲母等が挙げられる。これら無機微粒子の中でも、多孔性無機微粒子が好ましく、これら多孔性無機微粒子としては、多孔性合成非晶質シリカ、多孔性炭酸カルシウム、多孔性アルミナ等が挙げられ、特に、細孔容積の大きい多孔性合成非晶質シリカが好ましい。
【0111】
また、上記無機微粒子の代わりに、あるいは、上記無機微粒子とともに、スチレン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエチレン、マイクロカプセル、尿素樹脂、メラミン樹脂、フッ素系樹脂などの微粒子微粒子を使用しても良い。
【0112】
本発明の感熱性平版印刷版材料の支持体としては、従来公知の支持体を特に制限なく使用することができ、使用目的等に応じて、材質、層構成及びサイズ等を適宜に選定して使用する。
【0113】
支持体としては、例えば、紙、コート紙、合成紙(ポリプロピレン、ポリスチレン、もしくは、それらを紙とはり合せた複合材料)等の各種紙類、塩化ビニル系樹脂シート、ABS樹脂シート、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリアリレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリサルホンフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリエーテルイミドスフィルム、ポリイミドフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム等の単層あるいはそれらを2層以上積層した各種プラスチックフィルムないしシート、各種の金属で形成されたフィルムないしシート、各種のセラミックス類で形成されたフィルムないしシート、更には、アルミニウム、ステンレス、クロム、ニッケル等の金属板、樹脂コーティングした紙に金属の薄膜をラミネートまたは蒸着したものが挙げられる。
【0114】
表面疎水性の支持体である場合、表面に親水化処理を施すことができる。親水化処理方法としては、硫酸処理、酸素プラズマエッチング処理、コロナ放電処理、水溶性樹脂の塗布等が好ましく用いられる。
【0115】
本発明の感熱性平版印刷版材料は、本発明の親水性樹脂及び該本発明の親水性樹脂を架橋する架橋剤、更に必要に応じて、光−熱変換剤や他の添加剤を添加した塗布液を塗布、乾燥し感熱層を形成することにより得ることができる。光−熱変換剤含有層を別層として設ける場合には、光−熱変換剤を含有する塗布液を作成し、上記感熱層と同様にして塗布、乾燥することによって光−熱変換剤含有層を形成すればよい。
【0116】
乾燥温度は、30〜100℃であり、より好ましくは、30〜80℃、更に好ましくは30〜70℃の温度である。乾燥時間は、30秒〜10分が好ましく、より好ましくは1分〜5分の範囲である。
【0117】
本発明の感熱性平版印刷版材料において、あらかじめ、25℃の水に1時間浸積したときの感熱層の溶解量が10%以下となる処理をしておくことが好ましい。
【0118】
25℃の水に1時間浸積したときの溶解量が10%以下である感熱層を得るには、乾燥後に全面加熱処理をすればよい。全面加熱処理の温度は、30〜80℃の範囲が好ましく、より好ましくは35℃〜70℃、特に好ましくは40℃〜60℃の範囲である。加熱時間は、架橋剤の量、種、反応促進剤の有無等によって異なり一律ではないが、25℃の水に1時間浸積したときの溶解量が10%以下である感熱層が得られるように設定すればよい。
【0119】
上記の全面加熱処理は乾燥に引き続いて行うこともできる。また、本発明の感熱性平版印刷版材料を使用するに先だって行うこともできる。
【0120】
25℃の水に1時間浸積したときの溶解量は下記の溶解量の測定法によって測定することができる。
「溶解量の測定法」
感熱性平版印刷版材料を10cm四方に切断し、常温下で乾燥剤の入ったデシケータ内で3時間静置する。これをすばやく取り出し重量を測定した後、25℃の純水中に浸漬し1時間放置する。
【0121】
水から取り出した後、DX−700(toukyouラミネックス株式会社製)にて、JKワイパーを載置し、下記条件により膨潤状態で高圧及び剪断を与えた。
【0122】
温度・・・25℃
圧力・・・2kg/cm
速度・・・30mm/sec
この後、60℃にて1時間乾燥後、更に常温下で乾燥剤の入ったデシケータ内で3時間静置し、すばやく取り出し重量を測定する。
【0123】
溶解量は処理前の重量と処理後の重量の差として求められる。
【0124】
この様にして溶解量の測定を行うことで、膨潤時の膜強度も測定でき、平版印刷版の印刷時に近い状況で非画像部の強度を確認することができる。
【0125】
本発明の平版印刷版材料に画像を形成する方法としては、サーマルヘッド等による直接的に画像様に熱エネルギーを付与する方法、高出力光のエネルギーを画像様に照射し、これを熱エネルギーに変換し付与する方法が挙げられる。
【0126】
サーマルヘッド等による直接的に画像様に熱エネルギーを付与する方法は、安価で低解像度または線画画像の出力を主な目的として使用する場合に好ましく、高出力光のエネルギーを画像様に照射し、これを熱エネルギーに変換し付与する方法は、高精細な書き込みが容易にできるので、商業印刷の様に高解像度または網画像の出力を主な目的として使用する場合に好ましい。
【0127】
画像露光する光源としては、例えば、レーザー、発光ダイオード、キセノンフラツシュランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク燈、メタルハライドランプ、タングステンランプ、高圧水銀ランプ、無電極光源等を挙げることができる。
【0128】
高出力光のエネルギーを画像様に照射するには、所望露光画像のパターンを遮光性材料で形成したマスク材料を感光材料に重ね合わせ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク燈、メタルハライドランプ、タングステンランプ、高圧水銀ランプ、無電極光源等を用いて一括露光すればよい。
【0129】
発光ダイオードアレイ等のアレイ型光源を使用して、あるいは、ハロゲンランプ、メタルハライドランプ、タングステンランプ等の光源を、液晶、PLZT等の光学的シヤツター材料で制御して露光する場合には、画像信号に応じたデジタル露光をすることが可能であり好ましい。この場合はマスク材料を使用せず、直接書き込みを行うことができる。
【0130】
露光にレーザーを用いると、光をビーム状に絞り、画像データに応じた走査露光が可能であるため、マスク材料を使用せずに、直接書き込みを行うことができる。また、レーザーを光源として用いる場合には、露光面積を微小サイズに絞ることが容易であり、高解像度の画像形成が可能となる。レーザー光源としてはアルゴンレーザー、He−Neガスレーザー、YAGレーザー、半導体レーザー等を何れも好適に用いることが可能である。
【0131】
これらの中でも、本発明の平版印刷版材料に適した高出力を比較的安価で小型装置に組み込める点で、半導体レーザー、YAGレーザーの使用がより好ましい。
【0132】
レーザーの走査露光方法としては、円筒外面走査、円筒内面走査、平面走査などによる露光方法がある。円筒外面走査では、記録材料を外面に巻き付けたドラムを回転させながらレーザー照射を行う。この場合、ドラムの回転を主走査としレーザー光の移動を副走査とする。円筒内面走査では、ドラムの内面に記録材料を固定し、レーザービームを内側から照射する。この場合、光学系の一部または全部を回転させることにより円周方向に主走査を行ない、光学系の一部または全部をドラムの軸に平行に直線移動させることにより軸方向に副走査を行なう。平面走査では、ポリゴンミラーやガルバノミラーとfθレンズ等を組み合わせてレーザー光の主走査を行い、記録媒体の移動により副走査を行う。円筒外面走査及び円筒内面走査は、光学系の精度を高め易く、高密度記録に適している。
【0133】
本発明の感熱性平版印刷版材料への画像形成は、上記の画像露光が全てであり、従来のような液体を用いた現像をして非画像部除去処理を行なわないことが特徴である。
【0134】
このため、本発明の感熱性平版印刷版材料への画像形成を専用の露光装置で行い、得られた平版印刷版を印刷機に装填して使用しすることもできるし、また、版胴上で画像形成を行い、そのまま印刷を行なえるシステムとして利用することもできる。
【0135】
次に本発明を規定する表面エネルギーγd,γhについて説明する。元来、表面エネルギーを決定する力は、分散力と水素結合力との2成分であるという観点から、表面エネルギーの分散力成分をγdとし、水素結合力成分をγhとしたものであるが、本発明では、次のようにして画像部、及び非画像部の表面エネルギーγd,γhを測定する。
【0136】
すなわち、本発明において画像部/非画像部の表面エネルギーを計測する方法としては、表面エネルギーが既知の2種の溶液を用いて静的接触角を測定し、その測定値から、画像部/非画像部の表面エネルギーの分散力成分γd、及び水素結合力成分γhとを求めた。
【0137】
具体的には、表面エネルギーが既知の2種の溶液として水:γd=21.8、γh=51.0(20℃)、及びヨウ化メチレン:γd=49.5、γh=1.3(20℃)を用い、20℃の測定環境で固体表面に20マイクロリットル滴下し、30秒経過後の接触角を測定し、下記式により固体表面上の各表面エネルギーγd,γhを求めた。
【0138】
【数1】
Figure 0003887966
【0139】
上記連立方程式を解くことによりγd,γhが求められる。
【0140】
【実施例】
以下に実施例を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。
PET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム上の感熱層塗布面側に15W/(m2 ・min)のエネルギーでコロナ放電処理した後、下記の感熱層組成物を塗布乾燥し、更に全面加熱処理を行い平版印刷版材料とした。
【0141】
参考例1
(感熱層組成物1)
ポリビニルアルコール
(Z−100:日本合成化学株式会社製) 70.0重量部
メラミン樹脂
(Sumirez Resin 613:住友化学社製)
[Nv:80%水溶液] 12.0重量部
有機アミン塩
(Sumirez Accerelator ACX−P:住友化学社製)
[Nv:35%水溶液] 5.0重量部
F系界面活性剤
(F179:大日本インキ化学工業株式会社社製) 2.0重量部
PEエマルジョン
(S7024:東邦化学株式会社製) 10.0重量部
赤外線吸収色素
(CY−17:日本化薬株式会社製) 20.0重量部
【0142】
これら組成物を純水で固形分15%になるように調液し、液状態で25℃環境下で2時間十分に撹拌した。
【0143】
こうして作成した感光液を作成した支持体上に乾燥膜厚5.0μmになるよう塗布し、50℃で10分乾燥し、更に55℃48時間全面加熱処理して平版印刷版材料とした。
【0144】
実施例2
感熱層組成物を以下の様に変更した以外は参考例1と同様にして感光材料を作成した。
【0145】
(感熱層組成物2)
(感熱層組成物1)
ポリビニルアルコール
(Z−100:日本合成化学株式会社製) 60.0重量部
メラミン樹脂
(Sumirez Resin 613:住友化学社製)
[Nv:80%水溶液] 12.0重量部
有機アミン塩
(Sumirez Accerelator ACX−P:住友化学社製)
[Nv:35%水溶液] 5.0重量部
ワックスエマルジョン
(A101:岐阜セラック株式会社製) 10.0重量部
赤外線吸収色素
(CY−17:日本化薬株式会社製) 20.0重量部
【0146】
実施例3
感熱層組成物を以下の様に変更した以外は参考例1と同様にして感光材料を作成した。
【0147】
(感熱層組成物3)
ポリビニルアルコール
(Z−100:日本合成化学株式会社製) 70.0重量部
メラミン樹脂
(Sumirez Resin 613:住友化学社製)
[Nv:80%水溶液] 12.0重量部
有機アミン塩
(Sumirez Accerelator ACX−P:住友化学社製)
[Nv:35%水溶液] 5.0重量部
フッ素系化合物
(TK505:高松油脂株式会社製) 10.0重量部
赤外線吸収色素
(CY−17:日本化薬株式会社製) 20.0重量部
【0148】
参考例4
感熱層組成物を以下の様に変更した以外は参考例1と同様にして感光材料を作成した。
【0149】
(感熱層組成物4)
ポリビニルアルコール
(Z−100:日本合成化学株式会社製) 70.0重量部
メラミン樹脂
(Sumirez Resin 613:住友化学社製)
[Nv:80%水溶液] 12.0重量部
有機アミン塩
(Sumirez Accerelator ACX−P:住友化学社製)
[Nv:35%水溶液] 5.0重量部
カーボンブラック
(SD9020:大日本インキ工業株式会社製) 20.0重量部
これら組成物を純水で固形分8%になように調液
【0150】
こうして作成した感光液を作成した支持体上に乾燥膜厚3.0μmになるよう塗布し、50℃で3分乾燥し、更に55℃30分全面加熱処理して平版印刷版材料とした。
【0151】
実施例5
(感熱層組成物5)
ポリビニルアルコール
(Z−100:日本合成化学株式会社製) 70.0重量部
メラミン樹脂
(Sumirez Resin 613:住友化学社製)
[Nv:80%水溶液] 12.0重量部
有機アミン塩
(Sumirez Accerelator ACX−P:住友化学社製)
[Nv:35%水溶液] 5.0重量部
カーボンブラック
(SD9020:大日本インキ工業株式会社製) 20.0重量部
無機処理シリカ
(サイリシア445:富士シリシア化学株式会社製) 39.0重量部
ワックスエマルジョン
(A101:岐阜シェラック株式会社製) 10.0重量部
これら組成物を純水で固形分8%になるように調液
【0152】
こうして作成した感光液を作成した支持体上に乾燥膜厚3.0μmになるよう塗布し、50℃で3分乾燥し、更に55℃30分全面加熱処理して平版印刷版材料とした。
【0153】
比較例1
(感熱層組成物6)
ポリビニルアルコール
(KL−05:日本合成化学株式会社製) 70.0重量部
メラミン樹脂
(Sumirez Resin 613:住友化学社製)
[Nv:80%水溶液] 1.2重量部
有機アミン
(Sumirez Accerelator ACX−P:住友化学社製)
[Nv:35%水溶液] 0.5重量部
カーボンブラック
(SD9020:大日本インキ工業株式会社製) 20.0重量部
これら組成物を純水で固形分8%になるように調液
【0154】
こうして作成した感光液を作成した支持体上に乾燥膜厚3.0μmになるよう塗布し、50℃で3分乾燥し、更に55℃2日全面加熱処理して平版印刷版材料とした。
【0155】
比較例2
(感熱層組成物7)
ポリビニルアルコール
(KL−05:日本合成化学株式会社製) 30.0重量部
メラミン樹脂
(Sumirez Resin 613:住友化学社製)
[Nv:80%水溶液] 72.0重量部
有機アミン
(Sumirez Accerelator ACX−P:住友化学社製)
[Nv:35%水溶液] 20.0重量部
カーボンブラック
(SD9020:大日本インキ工業株式会社製) 20.0重量部
これら組成物を純水で固形分8%になるように調液
【0156】
こうして作成した感光液を作成した支持体上に乾燥膜厚3.0μmになるよう塗布し、50℃で3分乾燥し、更に55℃2日全面加熱処理して平版印刷版材料とした。
【0157】
このようにして作成したサンプルについて、半導体レーザー(波長830nm、出力500mw)で画像露光を行った。レーザー光径はピークにおける強度の1/e2で10μmであった。また、解像度は走査方向、副走査方向とも2400dpiとした。
【0158】
感度評価
上記条件において、露光部のベタ部が副走査ピッチで抜けることなく均一にインクを受容するのに必要な露光エネルギー(mj/cm2 )で評価した。
【0159】
印刷評価
上記のベタ部が均一に転写されるのに必要とされる露光エネルギーでの175線の画像を作成し、印刷機(ハイデルGTO)で、コート紙、印刷インキ(東洋インキ製造(株)社製:ハイプラスM紅)及び湿し水(コニカ(株)社製:SEU−3 2.5%水溶液)を用いて印刷を行い評価した。
【0160】
この印刷の際に、
0)印刷再現性・・・適性濃度、適性水条件で175線 0、2、4、6、8、10、20、30、40、50、60、70、80、90、92、94、96、98、100%画像の印刷を行い、100倍のルーペを用いて再現領域を調べた。
【0161】
1)刷り出し評価・・・印刷開始からM濃度がマクベス反射濃度計での測定値で最終濃度領域の95%以上の濃度(最終濃度が1.4であれば1.33以上の濃度になる迄に要するヤレ紙(損紙)の枚数を5段階で評価した。
○・・・10枚以下
○△・・・11〜20
△・・・21〜30
△×・・・31〜50
×・・・51〜
【0162】
2)水幅評価・・・通常の水−インキバランスから水をダイヤル値で1及び2絞った条件で印刷を行い設定変更後500枚印刷時の汚れの発生状況で水幅適性を確認した。
○・・・2絞り条件で汚れなし
△・・・1絞り条件で汚れなし
×・・・1絞りで汚れ
【0163】
3)ドットゲイン評価・・・適性濃度、適性水条件で175線、0、2、4、6、8、10、20、30、40、50、60、70、80、90、92、94、96、98、100%画像の印刷を行いX−RITEを用い、0−100補正を行い印刷物の再現面積率を測定し、画像データとの差をドットゲイン量とした。
【0164】
【表1】
Figure 0003887966
【0165】
表1より、本発明によって、優れた結果が得られることが理解される。
【0166】
【発明の効果】
上述したように、本発明によれば、現像処理などの煩雑なプロセスを経る必要なく、また廃液処理などの手間がかからないようにして画像を形成できる感熱平版印刷版であって、しかも印刷適性が良く、特に耐水性、印刷再現性、刷り出し評価、水幅評価、耐刷性が良好な感熱平版印刷版材料が得られた。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a heat-sensitive lithographic printing plate material. In particular, the present invention relates to a heat-sensitive lithographic printing plate material comprising an image-forming layer that causes a change in surface physical properties by heat on a support.
[0002]
In recent years, in order to quickly obtain a high-resolution lithographic printing plate, and for the purpose of filmlessness, it is possible to produce a lithographic printing plate by performing development after performing digital exposure or the like with laser light based on image information. It is widely used. For example, a system that forms a printing plate by modulating a light source with an image signal transmitted through a communication line or an output signal from an electronic plate making system or an image processing system, and directly scanning and exposing a photosensitive material. It is.
[0003]
As a planographic printing plate material used in such a case, conventionally, a direct plate making material using a photopolymerization process has been representative. For example, a material having a structure in which a photopolymerizable layer and an oxygen barrier layer are provided on a support such as grained aluminum is used. In such materials, a general photopolymerizable layer is an acrylic monomer, an alkali-soluble resin, a photopolymerizable initiator, and, if necessary, adapted to the wavelength, particularly when performing laser writing. It contains a sensitizing dye. If this prior art material is used, the lithographic printing plate can be obtained by performing imagewise exposure to this, removing the unexposed portions by elution with alkaline aqueous development, and performing image formation.
[0004]
However, such conventional technology has excellent printability and placement plate suitability similar to those of conventional PS plates, but requires liquid development processing like conventional PS plates. There is a problem that maintenance is required.
[0005]
In addition, for the purpose of eliminating such a process by liquid development, a method of removing and developing a non-image portion by printing with a dampening water and / or ink on a printing machine after exposure is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 9 (1994). -127683. In this technique, a heat-sensitive layer having a specific property is formed on a support and is made oleophilic by exposure, and then printing is performed by applying dampening water and / or ink on a printing press.
[0006]
However, the technique described in the above publication has a problem that the compound is eluted in the dampening water and / or the ink, and the management of the dampening water and / or the ink is very complicated. Have difficulty.
[0007]
In view of the above, a dry lithographic printing plate without elution of unexposed areas is very preferable.
[0008]
Further, in such a lithographic printing plate, a thermal transfer type lithographic printing plate material can use a grained plate (particularly a grained aluminum plate) as a support in a conventional PS plate, and a waste liquid. It is also very preferable as a direct plate-making material free of processing and management of the above and maintenance of the developing machine. Such materials are described in, for example, JP-A-56-13168.
[0009]
However, the above method has a problem that essentially two sheets using a donor sheet or the like are used, and also has a problem that a defect such as an image transfer failure may occur. . Therefore, for example, it has been difficult to use as a lithographic printing plate that stably requires uniform and large-format output.
[0010]
From the above points, dry lithographic printing plates that change the polarity of exposed / unexposed areas by image exposure and do not involve elution of unexposed areas are also free of waste, can reduce costs, and are uniform and stable. Therefore, a lithographic printing plate that can produce a large-format output and does not require a development process is very preferable.
[0011]
As such a dry lithographic printing plate, there is a technique using the three-dimensionally crosslinked hydrophilic layer shown in the prior art, which is preferable. However, in the proposal in this prior art, an image portion / non-image portion is used. However, it was not yet satisfactory in terms of printability (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-1840). In this prior art, microcapsules are used. When microcapsules are used in this way, defects in non-image parts due to outflow of liquid substances in the microcapsules due to pressure or the like in actual production and printing, etc. There was a risk of it occurring.
[0012]
[Problems to be solved by the invention]
The present invention has been made in view of the above circumstances. That is, it is a heat-sensitive lithographic printing plate that can form an image without having to go through complicated processes such as development processing, and without the trouble of waste liquid processing, etc., and has good printability, particularly water resistance and print reproducibility. An object of the present invention is to provide a heat-sensitive lithographic printing plate material having good printing out evaluation, water width evaluation and printing durability.
[0013]
[Means for Solving the Problems]
As a result of intensive studies, the present inventor has found that a thermal lithographic printing plate meeting the above-mentioned purpose can be obtained by defining the surface energy γd and γh of the image area / non-image area, and has completed the present invention.
[0014]
  That is, the above-mentioned problem is
  (1) In a heat-sensitive lithographic printing plate material having an image forming layer that causes a change in surface physical properties by heat on a support, the image forming layer is a hydrophilic resin, a compound that causes light-heat conversion And a hydrophobic generator, wherein the hydrophobic generator is, WaXemulsionOrIt contains any of fluorine-containing oligomers having hydrophilicity capable of forming a dispersed state in a room temperature / water system, the surface energy γd of the image area is 5 ≦ γd ≦ 40, and the surface energy γh is 0.5. A thermal lithographic printing plate material, wherein ≦ γh ≦ 20, the surface energy γd of the non-image area is 40 <γd ≦ 75, and the surface energy γh is 20 <γh ≦ 75.
  (2) The thermal lithographic printing plate material as described in (1), wherein the physical property change of the surface is caused by image exposure,
  (3) The thermal lithographic printing plate material as described in (2), wherein the physical properties of the surface are changed by exposure with a laser,
  (4) The heat-sensitive lithographic printing plate material according to (3), wherein the unexposed portion is hydrophilic.
  (5) The distance between the coordinates (γd1, γh1) of the image portion and the coordinates (γd2, γh2) of the non-image portion in the surface energy γd-γh space of the image portion and the non-image portion is 10 or more. The heat-sensitive lithographic printing plate material according to any one of (1) to (4),
  (6)The change in physical properties of the surface is due to exposure, and both the exposed part and the unexposed part of the image forming layer are characterized in that the remaining ratio of the film after immersion in pure water at 25 ° C. for 1 hour is 80% or more (1 ) To (5) heat-sensitive lithographic printing plate material,
Achieved by.
[0015]
As described above, the present invention relates to a heat-sensitive lithographic printing plate material having an image-forming layer that causes a change in surface physical properties by heat on a support. By focusing on the surface energies γd and γh and specifying them as described above, the effect was obtained. The surface energy γd and γh will be described in detail later.
[0016]
The present invention will be further described below.
In the heat-sensitive lithographic printing plate material of the present invention, the image forming layer that causes changes in surface physical properties due to heat is, for example, one in which heat is applied by exposure and the exposed portion changes to hydrophobic by the exposure, or the exposed portion Can be used, although it changes to hydrophilic. Preferably, a negative heat-sensitive lithographic printing plate material in which the exposed portion changes to hydrophobic is preferable. Such a negative heat-sensitive lithographic printing plate material can be configured to contain at least a hydrophilic resin and a hydrophobic generator. Furthermore, as a preferred embodiment of the present invention, a configuration in which the water resistance of the image forming layer is improved by adding a crosslinking agent can be mentioned.
[0017]
In carrying out the present invention, any hydrophilic resin such as a conventionally known hydrophilic resin can be used without particular limitation.
Examples of hydrophilic resins that can be used in the present invention include hydroxyl groups, carboxyl groups, (secondary or tertiary) amine-containing groups, amino groups, amide groups, carbamoyl groups, sulfonic acid groups, sulfonamidic acid groups, and phosphonic acids. And a compound having a hydrophilic group such as a group, a mercapto group, and an alkyl ether group.
[0018]
For example, as a hydrophilic resin, polyvinyl alcohol, polysaccharide, polyvinyl pyrrolidone, polyethylene glycol, gelatin, glue, casein, hydroxyethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, methyl cellulose, hydroxyethyl starch, sucrose octaacetate, ammonium alginate, sodium alginate, polyvinylamine, Examples include polyallylamine, polystyrene sulfonic acid, polyacrylic acid, polyamide, maleic anhydride copolymer, polyurethane, and polyester. These compounds can be used alone or in combination of two or more.
[0019]
Among these, particularly preferable compounds include gelatin, polyvinyl alcohol, carboxymethyl cellulose, polyamide, polyurethane, and polyester. Of these, gelatin, polyvinyl alcohol, polyurethane and polyester are most preferred. These preferred compounds are described below.
[0020]
As polyvinyl alcohol, in addition to polyvinyl alcohol having various polymerization degrees, copolymerized polyvinyl alcohol, an anion-modified polyvinyl alcohol modified with anions such as a carboxyl group and a sulfo group containing 50 mol% or more of a polyvinyl alcohol skeleton, an amino group Random copolymers such as cation-modified polyvinyl alcohol, silanol-modified polyvinyl alcohol, alkoxyl-modified polyvinyl alcohol, epoxy-modified polyvinyl alcohol, and thiol-modified polyvinyl alcohol modified with cations such as ammonium groups; anion-modified, cation-modified, thiol-modified, Water-soluble monomers such as polyvinyl alcohol, acrylamide, and acrylic acid that are modified only on the terminal groups, such as silanol modification, alkoxyl modification, and epoxy modification It introduced a block copolymer of polyvinyl alcohol, graft copolymer of polyvinyl alcohol grafted silanol group, further, (- COCH2COCHThreeCopolymer polyvinyl alcohol into which a reactive group such as
[0021]
The polyvinyl alcohol preferably has a saponification degree of 70 mol% or more, more preferably 85 mol% or more, and particularly preferably 90% or more. Polyvinyl alcohol having a high saponification degree is preferable because the crystallinity is changed by heat treatment and water resistance can be imparted.
[0022]
In the copolymerized polyvinyl alcohol, the following monomers can be used as the copolymerization monomer.
(1) Monomers having an aromatic hydroxyl group: for example, o-hydroxystyrene, p-hydroxystyrene, m-hydroxystyrene, o-hydroxyphenyl acrylate, p-hydroxyphenyl acrylate, m-hydroxyphenyl acrylate and the like.
(2) Monomers having an aliphatic hydroxyl group: For example, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, N-methylol acrylamide, N-methylol methacrylamide, 4-hydroxybutyl methacrylate, 5-hydroxypentyl acrylate, 5-hydroxy Pentyl methacrylate, 6-hydroxyhexyl acrylate, 6-hydroxyhexyl methacrylate, N- (2-hydroxyethyl) acrylamide, N- (2-hydroxyethyl) methacrylamide, hydroxyethyl vinyl ether and the like.
(3) Monomer having an aminosulfonyl group: for example, m-aminosulfonylphenyl methacrylate, p-aminosulfonylphenyl methacrylate, m-aminosulfonylphenyl acrylate, p-aminophenyl acrylate, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide N- (p-aminosulfonylphenyl) acrylamide and the like.
(4) Monomers having a sulfonamide group: for example, N- (p-toluenesulfonyl) acrylamide, N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide and the like.
(5) α, β-unsaturated carboxylic acids: for example, acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, maleic anhydride, itaconic acid, itaconic anhydride and the like.
(6) Substituted or unsubstituted alkyl acrylate: for example, methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, heptyl acrylate, octyl acrylate, nonyl acrylate, acrylic Acid decyl, undecyl acrylate, dodecyl acrylate, benzyl acrylate, cyclohexyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, N, N-dimethylaminoethyl acrylate, glycidyl acrylate and the like.
(7) Substituted or unsubstituted alkyl methacrylate: for example, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, heptyl methacrylate, octyl methacrylate, nonyl methacrylate, methacryl Acid decyl, undecyl methacrylate, undecyl methacrylate, dodecyl methacrylate, benzyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, 2-chloroethyl methacrylate, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate, glycidyl methacrylate and the like.
(8) Acrylamide or methacrylamide: For example, acrylamide, methacrylamide, N-ethylacrylamide, N-hexylacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, N-phenylacrylamide, N-nitrophenylacrylamide, N-ethyl-N-phenylacrylamide N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide and the like.
(9) Monomer containing a fluorinated alkyl group: for example, trifluoroethyl acrylate, trifluoroethyl methacrylate, tetrafluoropropyl methacrylate, hexafluoropropyl methacrylate, octafluoropentyl acrylate, octafluoropentyl methacrylate, heptadecafluorodecyl methacrylate, N-butyl-N- (2-acryloxyethyl) heptadecafluorooctylsulfonamide and the like.
(10) Vinyl ethers: For example, ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, phenyl vinyl ethers.
(11) Vinyl esters: For example, vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate, vinyl benzoate and the like.
(12) Styrenes: For example, styrene, methyl styrene, chloromethyl styrene and the like.
(13) Vinyl ketones: For example, methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, phenyl vinyl ketone and the like.
(14) Olefin: For example, ethylene, propylene, isobutylene, butadiene, isoprene and the like.
(15) N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine and the like.
(16) Monomer having a cyano group: for example, acrylonitrile, methacrylonitrile, 2-pentenenitrile, 2-methyl-3-butenenitrile, 2-cyanoethyl acrylate, o-cyanostyrene, m-cyanostyrene, p-cyanostyrene etc.
(17) Monomer having an amino group: for example, N, N-diethylaminoethyl methacrylate, N, N-dimethylaminoethyl acrylate, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate, polybutadiene urethane acrylate, N, N-dimethylaminopropyl acrylamide, N, N-dimethylacrylamide, acryloylmorpholine, N-isopropylacrylamide, N, N-diethylacrylamide and the like.
[0023]
The polyvinyl alcohol used in the present invention is preferably a polyvinyl alcohol having a reactive group introduced therein or a polyvinyl alcohol having an anionic group introduced therein. Among them, polyvinyl alcohol having a reactive group introduced is preferred. Examples of the reactive group include a silanol group, an acetoacetyl group, a thiol group, and an epoxy group. Among these, particularly preferred reactive groups are a silanol group, an acetoacetyl group, and a thiol group.
[0024]
The above polyvinyl alcohols may be used alone or in combination of two or more.
[0025]
Moreover, when using polyvinyl alcohol, you may use 1 type or 2 or more types of other polymers or mold release agents by mixing said polyvinyl alcohol as a main component, and also 2 types of polymers and mold release agents. You may mix and use the above. Specific polymers include, for example, natural polymers such as starch, modified starch, casein, glue, gelatin, gum arabic, sodium alginate and pectin; semisynthetic polymers such as carboxymethylcellulose, methylcellulose and viscose; polyacrylamide, Synthetic polymers such as polyethyleneimine, sodium polyacrylate, polyethylene oxide, and polyvinylpyrrolidone, and compounds described in JP-A-4-176688 are exemplified. Specific examples of the mold release agent include, for example, JP-A-4 The chemical base described in Japanese Patent No. -186354 can be used in a timely manner.
[0026]
Furthermore, compounds such as antistatic agents and surfactants may be mixed for improving the physical properties of polyvinyl alcohol. As specific compounds, for example, the compounds described in JP-A-4-184442 are used as appropriate. These may be used alone or in combination of two or more.
[0027]
In the implementation in each aspect of the present invention, the thickness of the heat-sensitive layer is preferably 30 μm or less, more preferably 0.01 to 3 μm.
[0028]
Examples of gelatin include alkaline gelatin, acidic gelatin, and modified gelatin (for example, modified gelatin described in JP-B-38-4854, JP-A-40-12237, British Patent 2,525,753, etc.) Etc. can be used alone or in combination of two or more. For example, in addition to lime-processed gelatin, acid-processed gelatin may be used, and gelatin hydrolyzate, Bull. Soc. Sci. Photo. Japan. Enzyme-treated gelatin as described in P30 (1966) can also be used.
[0029]
Examples of the carboxymethyl cellulose include carboxymethyl cellulose and salts thereof, such as sodium salt, calcium salt, potassium salt, aluminum salt, magnesium salt, ammonium salt, etc. Among them, carboxymethyl cellulose, carboxymethyl cellulose sodium salt, carboxymethyl cellulose Ammonium salts are preferred. Among them, carboxymethylcellulose ammonium salt is particularly preferable, and when these are used, they are water-soluble, but are preferable because they have a feature that the solubility in water is lowered by coating and drying on a support.
[0030]
Next, polyurethane, polyester, and polyamide as preferable compounds will be described. In the present invention, a polyurethane resin having a hydrophilic group, a polyester resin having a hydrophilic group, and a polyamide resin having a hydrophilic group can be preferably used. In the practice of the present invention, those having a carboxyl group, a hydroxyl group, a sulfonium group, an amino group and a sulfonamide group in the side chain are preferred as the hydrophilic group.
[0031]
The preferred polyurethane resin having a hydrophilic group that can be used in the present invention has at least one kind of the above-mentioned hydrophilic group, and at least one kind selected from a urethane bond, a urea bond, a burette bond, and an allophanate bond in the main chain. It is a polymer containing the above repeating units, and such a bond is formed mainly by selecting a reactive group that undergoes an addition reaction with isocyanate.
[0032]
Examples of the diisocyanate compound suitably used in this reaction include conventionally known 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, p-xylylene diisocyanate, m-xylylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane. Aromatic diisocyanate compounds such as diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, 3,3′-dimethylbiphenyl-4,4′-diisocyanate; trimethylene diisocyanate, tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate, Aliphatic diisocyanate compounds such as dimer acid diisocyanate; isophorone diisocyanate, 4,4'-methylenebis (cyclohexyl isocyanate) And alicyclic diisocyanate compounds such as methylcyclohexane-2,4-diisocyanate, methylcyclohexane-2,6-diisocyanate, 1,3- (isocyanatomethyl) cyclohexane, and 3 molecules of these diisocyanate compounds. Trifunctional or higher functional isocyanate compounds produced by the above reaction products, reaction products of these diisocyanate compounds and trihydric or higher polyhydric alcohols can also be suitably used.
[0033]
Examples of the polyfunctional alcohol that forms a urethane bond by addition reaction with an isocyanate compound include aliphatic diols such as ethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, hexamethylene glycol, octanediol, diethylene glycol, and triethylene glycol; glycerin and trimethylol Aliphatic polyfunctional alcohols such as ethane, trimethylolpropane, pentaerythritol, diglycerin, 1,2,6-hexanetriol, sorbitol, mannitol, and glucose; a hydroxyl group is formed at the terminal by condensation of dicarboxylic acid and polyhydric alcohol Polyester polyols prepared by ring-opening polymerization of alkylene oxide or polyether polyol added to alkylene oxide and polyhydric alcohol.
[0034]
Depending on the alcohol valence of these compounds, the desired reaction product can be obtained by adding and reacting at a ratio of 2 moles of isocyanate to 1 mole of hydroxyl groups.
[0035]
In order to impart a hydrophilic group to a polyurethane resin, a method of polymerizing a urethane prepolymer having an isocyanate group remaining at the terminal with a diol having a tertiary amino group and quaternizing the tertiary amino group; an isocyanate group at the terminal A method of polymerizing a urethane prepolymer having a residual amino group with a diol having a tertiary amino group, neutralizing the tertiary amino group with an acid and subjecting to an amine chloride; a urethane prepolymer having an isocyanate group remaining at the terminal has a quaternary salt Method of polymerizing with diols; Method of polymerizing a urethane prepolymer having an isocyanate group remaining at the terminal with a diaminophenylcarboxylate and removing the solvent; Termination of the urethane prepolymer having an isocyanate group remaining at the terminal with sodium bisulfite To block with a compound such as A method of polymerizing a urethane prepolymer that has left an isocyanate group with diaminoalkanesulfonate; A method of polymerizing a urethane prepolymer that has left an isocyanate group with bis (2-cyanoethylamino) ethane; Examples include a method of polymerizing a polymer with an alkylene oxide of a long chain alcohol, and other methods such as those described in Keiji Iwata “Polyurethane Resin Handbook”, Nikkan Kogyo Shimbun, pages 496 to 502 can be arbitrarily employed. .
[0036]
In addition, as commercially available polyurethane resins that can be employed in the present invention, Takeda Pharmaceutical Co., Ltd. Takerak W series (W-621, W-6015, W-7004, W-511, W-635, XW-76-P15, XW-74-P6012C, ACW-31H, ACW-54HD, XW-904-X05, XW-97-W4 to polyester urethane self-emulsifying type), the same (W-310, W-512 to polyester urethane forced emulsifying type), Series containing alkoxysilyl groups (XW-77-X25, XW-75-X09, XW-74-X13, XS-72-V01, XS-72-V02, XS-72-V03, XS, manufactured by Takeda Pharmaceutical Co., Ltd. -72-V04, XS-72-V05-polyester urethane self-emulsifying type), manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd. (S-8531, S-8532, S-8533, S-8530, S-8529, S-8528, S-6254, S-6262, B-1306), NeoRez series (R-) manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd. 960, R-962, R-972, R-974, R-9314, R-9320, R-9617, XR-9621, XR-9624, R-9637, XR-9679, XR-9699, XR-9770 to Aliphatic polyester urethane), NeoRez series manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd. (R-966, R-967, XR-9000, AX-311, AX-7113 to aliphatic polyether urethane), NeoRez series manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd. (R-940, R-9030, XR-9409, R-9920, XR-7061-aromatic polyether urethane), cocoon NeoRez series made by Kasei Co., Ltd. (XU-7015, R-9603, special urethane, aliphatic polycarbonate urethane), Yodozol series made by Kaneboue NSC Co., Ltd. (9D102, 9D250Z, 9D232Z), Toa Gosei Chemical Co., Ltd. Neotan series made by UE1101, UE-1200, UE-1300, UE-1402, UE-2103, UE-2200, UE-2600, UE-2900-polyester urethane, Neotan series made by Toa Gosei Chemical Co., Ltd. (UE-5404, UE-5600 to polyether urethane), N-resin series (R-1489, R-1780) manufactured by Takamatsu Yushi Co., Ltd., Crown bond series (UA-28, UA-41) manufactured by Takamatsu Yushi Co., Ltd. U-176R, RI-793, RI-623, U-113), Dispacol series (U-42, U-53, KA8481, KA8584) manufactured by Sumitomo Bayer Urethane Co., Ltd., and the like.
[0037]
A polyester resin having a preferred hydrophilic group that can be used in the present invention is a polymer having at least one hydrophilic group described above and containing a repeating unit of an ester bond in the main chain. As a method for synthesizing a resin having a bond, for example, a hydrophilic group may be introduced into a prepolymer of a polyester resin formed by the method described in “Polyester Resin Handbook”, pages 21 to 28, and polymerized. Examples of commercially available polyester resins that can be used in the present invention include pesresin A series (110, 120, 121, 193, 510, 610, 810, 810, manufactured by Takamatsu Yushi Co., Ltd. -SOThreeR), Takamatsu Yushi Co., Ltd. Pes Resin A Series (210, 620, 820-- hydrophilic group is -COOR), Takamatsu Yushi Co., Ltd. Pes Resin A Series (115G, 124G, 124GH, 193G, 215G, 515G, 615G , 813GL-hydrophilic group is -SOThreeR and glycidyl), pesresin A series manufactured by Takamatsu Yushi Co., Ltd. (124S, 115S-hydrophilic group is -SOThreeR and Si (OR)Three), Plus Coat Series (Z-3402, Z-4121, Z-446, Z-461, Z-448, Z-441, Z-450, Z-710, Z-711, Z -770, Z-766 to water-soluble), plus coat series (Z-802, Z-3109, Z-3308, Z-857, Z-850, Z-802, Z-856, manufactured by Kyoyo Chemical Industry Co., Ltd.) Z-4201, RZ-27, RZ-50, RZ-56, RZ-105), Toyobo Co., Ltd. Bironal series (MD-1200, MD-1220, MD-1250, MD-1100, MD-1330) , MD-1930).
[0038]
A preferred polyamide resin having a hydrophilic group that can be used in the present invention is a polymer having at least one hydrophilic group as described above and having a repeating unit of an amide bond in the main chain. A method for synthesizing a resin having a hydrophilic group can be obtained by, for example, adding a hydrophilic group to a prepolymer of a polyamide resin formed by the method described in Tadahiro Miwa, “Chemistry of Basic Synthetic Resin <Parent>”, pages 305 to 306. It may be introduced and polymerized. Alternatively, a polyamide resin having a hydrophilic group can be obtained by referring to the method described in “Polymer synthesis and reaction (2)” edited by Polymer Society of Japan, pages 208 to 209. Examples of commercially available polyamide resins that can be used in the present invention include KW-539 manufactured by Kyoyo Chemical Industry Co., Ltd., KP-2002 and KP-2007 manufactured by Matsumoto Yushi Seiyaku Co., Ltd.
[0039]
In the present invention, the hydrophilic resin as described above is preferably used in the range of 10 to 100% by weight, more preferably in the range of 20 to 95% by weight, and still more preferably 30 to 90% by weight. % Range.
[0040]
As a preferred embodiment of the present invention, there can be mentioned a constitution comprising at least one selected from gelatin, polyvinyl alcohol, carboxymethyl cellulose, polyamide, polyurethane and polyester as a main component. In addition, a main component means here containing 50% or more of solid content weight addition% of a hydrophilic resin component, More preferably, it is using 70% or more.
[0041]
These may be used alone or in combination of two or more, or two or more of the same may be used in combination.
[0042]
Next, the hydrophobic substance that can be used in the present invention will be described. In practicing the present invention, any hydrophobic generator can be used, for example, conventionally known substances can be used without any particular limitation. Examples of such materials include wax dispersions, thermoplastic resin particles, addition of low-molecular hydrophobic substances, and addition of water repellents.
[0043]
Examples of wax dispersions include plant waxes such as carnauba wax, wood wax, aucuric wax, and espal wax, animal waxes such as beeswax, insect wax, shellac wax, and whale wax, paraffin wax, microcrystal wax, polyethylene wax, amide There may be mentioned wax dispersions of various waxes such as petroleum waxes such as waxes, ester waxes and acid waxes, and mineral waxes such as montan wax, ozokerite and ceresin.
[0044]
As the wax dispersion, paraffin, polyolefin, microwax having a melting point of 60 to 120 ° C., and a fatty acid wax having a melting point of 60 to 180 ° C. can be used. Examples of the former wax include paraffin waxes having various melting points, micro waxes having various melting points (or softening points) of 60 to 120 ° C., and polyolefin waxes such as polyethylene wax and polypropylene wax. These polyethylene waxes or polypropylene waxes usually have a molecular weight on the order of 1000 to 10,000, i.e. generally known as polyolefin waxes, and these polyolefins are usually produced by high pressure and low pressure polymerization processes (i.e. low density and high density). Density polyolefin), or by decomposition of high molecular weight polyolefins. In order to facilitate emulsification, these waxes can be oxidized to introduce polar groups such as hydroxyl groups, ester groups, carboxyl groups, aldehyde groups, and peroxide groups. Further, these waxes can be used in combination in order to lower the softening point and improve workability. The latter waxes include stearamide, linolenamide, urilamide, mysteramide, hardened beef fatty acid amide, palmitoamide, oleic acid amide, rice sugar fatty acid amide, methylolated products of these fatty acid amides, methylene bisstearamide, ethylene bis Stearoamide etc. can be mentioned, and these combination is also possible.
[0045]
Further, thermofusible substances such as coumarone-indene resin having a melting point of 60 to 180 ° C., rosin-modified phenol resin, terpene-modified phenol resin, xylene resin, and ketone resin can also be used. For other usable waxes, the description in JP-A-59-174394 can be referred to.
[0046]
Examples of thermoplastic resin particles that can be used in the present invention include ethylene copolymers, styrene copolymers, polyamide resins, polyester resins, polyurethane resins, polyolefin resins, acrylic resins, vinyl chloride resins. , Resins such as polyvinylidene chloride resin, polyvinyl carbazole resin, cellulose resin, rosin resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl acetal resin, ionomer resin, petroleum resin,
Elastomers such as natural rubber, styrene butadiene rubber, isoprene rubber, chloroprene rubber, diene copolymer,
Rosin derivatives such as ester gum, rosin maleic resin, rosin phenolic resin, hydrogenated rosin,
In addition, particles such as a phenol resin, a terpene resin, a cyclopentadiene resin, and an aromatic hydrocarbon resin can be given.
[0047]
In the present invention, self-water dispersible resin particles can be used. There are no particular restrictions on the type of self-water-dispersible resin particles that can be used in the present invention, but styrene or α- from the viewpoints of resin particle formation, film strength of the image area, hydrophilicity of the non-image area, and the like. Substituted styrene such as styrene, acrylic acid methyl ester, acrylic acid ethyl ester, acrylic acid butyl ester, acrylic acid 2-ethylhexyl ester, and other acrylic acid esters, methacrylic acid methyl ester, methacrylic acid ethyl ester, methacrylic acid butyl ester, methacrylic acid A copolymer containing at least one monomer unit selected from methacrylic acid esters such as 2-ethylhexyl acid acid and at least one monomer unit selected from acrylic acid and methacrylic acid is preferable. Moreover, although there is no restriction | limiting in particular in the molecular weight range of resin, the thing of 1000 or more and 100,000 or less molecular weight is preferable.
[0048]
Other self-dispersible resin particles that can be used include a salt of a synthetic resin having an acid value and a basic substance, and a hydrophilic group such as a hydroxyl group as a substituent. In this case, a synthetic resin (A) having an acid value of 50 or more and 280 or less is used as the resin in order to make the water-dispersible resin particles fine, prevent dissolution / swelling of the particles, and impart great hydrophilicity to the particles. It is preferable that at least a part of the self-dispersible resin is neutralized with a base (B). In particular, in order to prevent fusion of the resin particles, the glass transition temperature of the resin is preferably 50 ° C. or higher, and more preferably 70 ° C. or higher.
[0049]
In this case, in order to increase the resolution of the image portion, the particle diameter of the resin particles is further reduced, and the hydrophilicity of the non-fused resin particles in the non-image portion is increased to reduce ink stains in the non-image portion. It is preferable that 60 mol% or more of the acid groups of the synthetic resin (A) are neutralized with the base (B). The anionic functional group that gives an acid value to the synthetic resin is not particularly limited, such as a carboxyl group, a sulfonic acid group, and a sulfinic acid group, but the carboxyl group is a general and good self-water dispersible thermoplastic resin particle. give. In addition, for the self-water dispersible resin particles, the description in JP-A-9-127683 can be referred to.
[0050]
Further, in the present invention, the following ionomer resins can also be preferably used. That is, in the present invention, the ionomer resin can be provided as an aqueous dispersion. In this case, the ionomer resin is a co-polymer of α-olefin (particularly ethylene) and α, β-unsaturated carboxylic acid (particularly acrylic acid or methacrolic acid). The polymer is converted into a metal ion (especially Na+, Mg+ +, Zn+ +It is preferable that the resin is ion-crosslinked in (1). In this case, the heat-sensitive layer preferably contains a water-soluble polymer compound (preferably polyvinyl alcohol, particularly preferably containing 85 to 90% vinyl alcohol units) as a binder. In this case, the ratio of the ionomer resin to the water-soluble polymer compound is preferably 3: 2 to 9: 1 by weight.
[0051]
In the practice of the present invention, any ionomer resin can be used, and a resin obtained by ion-crosslinking an α-olefin and an α, β-unsaturated carboxylic acid with one or several metal ions is preferable. The α-olefin used in the copolymer serving as the base of the ionomer resin has the general formula RCH═CH2Have Here, R is a hydrogen atom or an alkyl group, and the alkyl group preferably has 1 to 8 carbon atoms. That is, suitable olefins include ethylene, propylene, butene-1, pentene-1, hexene-1, heptene-1, 3-methylbutene-1, 4-methylpentene-1, and the like.
[0052]
The α, β-unsaturated carboxylic acid as the second component of the copolymer is preferably an α, β-unsaturated carboxylic acid having 3 to 8 carbon atoms. That is, suitable α, β-unsaturated carboxylic acids include acrylic acid, methacrylic acid, ethacrylic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid and esters of these carboxylic acids such as methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, methacrylic acid. Examples include normal butyl acid, dimethyl fumarate, diethyl itaconate, and dimethyl maleate.
[0053]
These α-olefins or α, β-unsaturated carboxylic acids may be used singly or in combination of two or more.
[0054]
A metal ion suitable for producing an ionomer resin from this copolymer is a metal ion having a valence of 1 to 3. Suitable monovalent metal ions are Na+, K+, Li+, Cs+, Ag+, Hg+As the divalent metal ion, Be+ +, Mg+ +, Ca+ +, Sr+ +, Ba+ +, Cu+ +, Cd+ +, Hg+ +, Sn+ +, Pb+ +, Fe+ +, Co+ +, Ni+ +, Zn+ +As the trivalent metal ion, Al+ + +, Sc+ + +, Fe+ + +, Y+ + +Is mentioned. Among these, in the present invention, Na+, Mg+ +Or Zn+ +Is preferred.
[0055]
Among these ionomer resins, preferred are ethylene and acrylic acid or methacrylic acid with Na.+, Mg+ +Or Zn+ +It is an ionomer resin obtained by ionic cross-linking.
[0056]
The production method of the ionomer resin used in the present invention is described in JP-B-39-6810, JP-B-42-15768, JP-A-49-31556, JP-A-49-121891, and the like. What is necessary is just to follow the method.
[0057]
Low molecular weight hydrophobic substances include terpineol, menthol, 1,4-cyclohexanediol, phenol and other alcohols; acetamides, benzamides and other amides; coumarins, benzyl cinnamate and other esters; diphenyl ethers, crown ethers and other ethers Ketones such as camphor and p-methylacetophenone; aldehydes such as vanillin and dimethoxybenzaldehyde; hydrocarbons such as norbornene and stilbene; higher fatty acids such as palmitic acid, stearic acid, margaric acid and behenic acid; palmitic alcohol , Higher alcohols such as stearyl alcohol, behenyl alcohol, marganyl alcohol, myricyl alcohol, eicosanol; cetyl palmitate, myricyl palmitate, cetyl stearate, stearyl Higher fatty acid esters such as myricyl acid; amides such as acetamide, propionic acid amide, palmitic acid amide, stearic acid amide, amide wax; and higher amines such as stearylamine, behenylamine, palmitylamine; phthalic acid esters, Trimellitic acid esters, adipic acid esters, other saturated or unsaturated carboxylic acid esters, oxalic acid esters, epoxidized soybean oil, epoxidized linseed oil, stearic acid epoxies, orthophosphoric acid esters, phosphite acid esters And glycol esters.
[0058]
Moreover, as a water repellent, a conventionally well-known silicone compound, a fluorine compound, etc. can be used suitably, As such a material,
Silicone surfactants: For example, Silwet L720, FZ2122, FZ2120, FZ2166, FZ2171 (manufactured by Nihon Unicar Co., Ltd.) and the like, and silane coupling agents: for example, carboxyl groups, mercapto groups, isocyanate groups containing unsaturated groups, Examples include coupling agents of amino group-containing coupling agents such as N-3- (acryloxy-2-hydroxypropyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, (3-acryloxypropyl) dimethylmethoxysilane, (3- (Acryloxypropyl) methyldimethoxysilane, (3-acryloxypropyl) trimethoxysilane, 3- (N-allylamino) propyltrimethoxysilane, allyldimethoxysilane, allyltriethoxysilane, allyltrimethoxysilane, 3-bute Rutriethoxysilane, 2- (chloromethyl) allyltrimethoxysilane, methacrylamidopropyltriethoxysilane, N- (3-methacryloxy-2-hydroxypropyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, (methacryloxymethyl) dimethyl Ethoxysilane, methacryloxymethyltriethoxysilane, methacryloxymethyltrimethoxysilane, methacryloxypropyldimethylethoxysilane, methacryloxypropyldimethylmethoxysilane, methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, methacryloxypropylmethyl Triethoxysilane, methacryloxypropylmethyltrimethoxysilane, methacryloxypropyltris (methoxyethoxy) silane Methoxydimethylvinylsilane, 1-methoxy-3- (trimethylsiloxy) butadiene, styrylethyltrimethoxysilane, 3- (N-styrylmethyl-2-aminoethylamino) -propyltrimethoxysilane hydrochloride, vinyldimethylethoxysilane, vinyl Diphenylethoxysilane, vinylmethyldiethoxysilane, vinylmethyldimethoxysilane, O- (vinyloxyethyl) -N- (triethoxysilylpropyl) urethane, vinyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltri-t-butoxysilane, vinyltri Examples include isopropoxysilane, vinyltriphenoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, and diallylaminopropylmethoxysilane, but preferably an unsaturated group reaction. A coupling agent containing a methacryloyl group and an acryloyl group having high properties is preferred, but if the unsaturated group is bifunctional, it may be a vinyl group or an allyl group.
[0059]
1) The amino group-containing coupling agent preferably contains various types of primary, secondary, tertiary, quaternary amino groups, and particularly preferably contains secondary amino groups. Is preferred. Specific compounds include 4-aminobutyltriethoxysilane, 4-aminobutyltrimethoxysilane, (aminoethylaminomethyl) phenethyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane. N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (6-aminohexyl) aminopropyltrimethoxysilane, 3- (M-aminophenoxy) propyltrimethoxysilane, m-aminophenyltri Methoxysilane, p-aminophenyltrimethoxysilane, 3-aminopropyldimethylethoxysilane, 3-aminopropylmethyldiethoxysilane, aminopropylsilanetriol, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysila , 3-aminopropyltris (methoxyethoxyethoxy) silane, 3-aminopropyltris (trimethylsiloxy) silane, N-methylaminopropyltrimethoxysilane, (3-trimethoxysilylpropyl) diethylenetriamine, N- (trimethoxypropyl) Examples thereof include isothiouronium chloride and γ-ureidopropyltriethoxysilane.
[0060]
2) Glycidyl group-containing coupling agent is 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, (3-glycidoxypropyl) dimethylethoxysilane, (3-glycidoxypropyl) methyldiethoxysilane , (3-glycidoxypropyl) methyldimethoxysilane, (3-glycidoxypropyl) trimethoxysilane and the like.
[0061]
Examples of the fluorine compound include fluorine surfactants: acrylates, methacrylates and copolymers of (polyoxyalkylene) acrylates or (polyoxyalkylene) methacrylates containing a fluoroaliphatic group, JP-A-62-170950, Examples thereof include those described in Japanese Patent Publication Nos. 62-226143 and US Pat. No. 3,787,351. For example, Megafac F-171, 173, 177, 179, 142D, Defender MCF300, 312, 313 (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.), Modipa-F-100, 102, 110 (Nippon Yushi Co., Ltd.),
[0062]
Further, fluorine-containing acrylic resins described in JP-A No. 64-18142, fluorine-containing surfactants described in JP-B-6-105351, JP-B-8-3630, JP-A-3-17249, and JP-A-1-260055. And compounds described in JP-A-1-271478 and JP-A-4-63802 can be preferably used.
[0063]
Among these materials, a particularly preferred material is a fluorine-containing oligomer having hydrophilicity capable of forming a dispersed state in a room temperature / aqueous liquid, and specific products include Asahi Guard AG422, 428, 490, 530, and 550. , 710, 780, 880, 970, LS317 (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), TK guard 505 (manufactured by Takamatsu Yushi Co., Ltd.), Dickguard F-52S, F-70, F18, F-90, F-90N, FS- 90H (Dainippon Ink Co., Ltd.) etc. can be mentioned. Among these, the side chain of the perfluoroalkyl group preferably has 5 to 15 carbon atoms, and particularly preferably 6 to 12 carbon atoms.
[0064]
These compounds can be used alone or in admixture of two or more. Among these hydrophobic generators, wax dispersions, thermoplastic resin particles, and water repellents are particularly preferable.
[0065]
Such a material is preferably used in the image forming layer in the range of 0.5 to 90% by weight, more preferably in the range of 1 to 70% by weight.
[0066]
Further, a method of encapsulating these compounds in microcapsules or the like and depositing them for an image. A layer containing a hydrophobic substance as a lower layer by functionally separating an image forming layer. It is also possible to design and use the upper layer as a layer mainly composed of a hydrophilic resin.
[0067]
Regarding the microcapsules preferably used in the present invention, the wall material, inclusions and production method thereof are described in JP-A 64-90788, page 2, lower right column, line 18 to page 5, lower right column, line 13. Those described up to the eyes can be used.
[0068]
A preferred embodiment of the present invention includes adding a crosslinking agent to impart water resistance to the image forming layer. Examples of the crosslinking agent that can be used in this manner include various types.
[0069]
As the crosslinking agent, conventionally known crosslinking agents can be widely used as long as the hydrophilic resin used in the practice of the present invention can be crosslinked. Examples of these crosslinking agents include amino resins, aziridine compounds, Examples include amino compounds, aldehydes, isocyanate compounds, carboxylic acids or acid anhydrides, halides, phenol-formaldehyde resins, and compounds having two or more epoxy groups.
[0070]
Particularly preferred are amino resins, amino compounds, aziridine compounds and aldehydes.
[0071]
The crosslinking agent used in the practice of the present invention may be a low molecular weight compound or an oligomer or polymer.
[0072]
Examples of amino resins include resins obtained by reacting melamine, benzoguanamine, urea and the like with aldehydes and ketones, and specific examples include melamine-formaldehyde resins, urea-formaldehyde resins, methylolated melamine, and the like. It is done. These amino resins are effective for the hydrophilic resin of the present invention having a hydroxyl group, a carboxyl group, a mercapto group and the like.
[0073]
Examples of the halide include, for example, U.S. Pat. Nos. 3,325,287, 3,288,775, 3,549,377, and Belgian Patent 6,622,226. Examples include dichlorotriazine-based compounds described in the specification. These halides are effective for the hydrophilic resin of the present invention having a hydroxyl group, an amino group or the like.
[0074]
Examples of the amine compound and the aziridine compound include an aziridine compound described in US Pat. No. 3,392,024, an ethyleneimine compound described in US Pat. No. 3,549,378, and the like. The following compounds are mentioned.
[0075]
[Chemical 1]
Figure 0003887966
[0076]
[Chemical formula 2]
Figure 0003887966
[0077]
These amine compounds and aziridine compounds are effective for the hydrophilic resin of the present invention having a hydroxyl group, a carboxyl group or the like.
[0078]
The isocyanate compound also includes an isocyanate having a protecting group (blocked-isocyanate). Examples of these isocyanate compounds include 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, tolidine diisocyanate, 1,6-hexamethylene diisocyanate, Examples include isophorone diisocyanate, xylene diisocyanate, lysine diisocyanate, triphenylmethane diisocyanate, and bicycloheptane diisocyanate.
[0079]
These isocyanate compounds are effective for the hydrophilic resin of the present invention having a hydroxyl group, a carboxyl group, a mercapto group, an amino group and the like.
[0080]
Examples of the aldehydes include formaldehyde, glyoxal, US Pat. Nos. 3,291,624, 3,232,764, French Patent 1,543,694, British Patent 1 , 270, 578 specification.
[0081]
These aldehydes are effective for the hydrophilic resin of the present invention having a hydroxyl group.
[0082]
Among these, amino resins, aziridine compounds, aldehydes and isocyanate compounds are preferable.
[0083]
In the practice of the present invention, when gelatin is used as the hydrophilic resin, examples of the crosslinking agent include chromium salts (such as chromium alum and chromium acetate), aldehydes (such as formaldehyde, glyoxal, and glutaraldehyde), N-methylol. Compounds (dimethylolurea, methyloldimethylhydantoin, etc.), dioxane derivatives (2,3-dihydroxydioxane, etc.), active vinyl compounds (1,3,5-triacryloyl-hexahydro-s-triazine, bis- (vinylsulfonyl) methyl ether N, N'-methylenebis- [β- (vinylsulfonyl) propionamide], etc.), active halogen compounds (2,4-dichloro-6-hydroxy-s-triazine, etc.), mucohalogen acids (mucochloric acid, phenoximco) Chloric acid, etc.), isoxazole , Dialdehyde starch, 2-chloro-6-hydroxy-triazinyl gelatin, isocyanates, carboxyl groups activated crosslinking agent may be used singly or in combination.
[0084]
In the practice of the present invention, the addition amount of the crosslinking agent is preferably used in the range of 0 to 50% by weight, more preferably in the range of 2 to 45% by weight. More preferably, it is in the range of 3 to 40% by weight, and particularly preferably in the range of 4 to 30% by weight.
[0085]
As the crosslinking agent, one kind of the same kind of crosslinking agent may be used, or two or more kinds thereof may be mixed and used, or two or more kinds of different kinds of crosslinking agents may be used in combination.
[0086]
In carrying out the present invention, a reaction accelerator can be used. Known reaction accelerators can be used as the reaction accelerator. Examples of these reaction accelerators include ammonium chloride, ammonium acetate, ammonium sulfate, ammonium nitrate, ammonium phosphate, dibasic ammonium phosphate, ammonium thiocyanate, sulfamine. Ammonium salt compounds such as ammonium nitrate, dimethylaniline hydrochloride, pyridine hydrochloride, picoline monochloroacetic acid, Catalyst AC (manufactured by Monsanto), Catanit A (manufactured by Nitto Chemical Co., Ltd.), Sumilyzer ACX-P (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) ) And the like, and inorganic salt compounds such as stannic chloride, ferric chloride, magnesium chloride, zinc chloride, and zinc sulfate.
[0087]
It is also advantageous to use reaction accelerator precursors. The precursor of the reaction accelerator is converted into a reaction accelerator upon heating, and the reaction accelerator is formed as shown in the image.
[0088]
Suitable precursors for reaction accelerators are, for example, precursors that release acid upon heating. Examples of these precursors include sulfonium compounds disclosed in British Patent No. 612,065, European Patent No. 615233, and US Pat. No. 5,326,677, in particular, benzylsulfonium compounds. EP 462,763, WO81 / 1755, US Pat. No. 4,370,401, inorganic nitrates (for example, Mg (NOThree)2・ 6H2O, ammonium nitrate), organic nitrates (eg, guanidinium nitrate, pyridinium nitrate) and the like compounds that release sulfonic acids disclosed in US Pat. No. 5,312,721, such as 3-sulfolenes, such as 2,5-dihydrothio-thiophene-1,1-dioxides, thermally decomposable compounds disclosed in British Patent 1,204,495, disclosed in US Pat. No. 3,669,747 Co-crystalline adducts of amines and volatile organic acids, aralkyl cyanoforms disclosed in US Pat. No. 3,166,583, European Patent 159,725 and West German Patent 351 Thermoacid disclosed in US Pat. No. 5,576, Squaric acid generating compound disclosed in US Pat. No. 5,278,031 U.S. Patent No. 5,225,314, which is U.S. Pat acid generating compounds disclosed in the 5,227,277 Pat and 1973 November Research Disclosure No.11511.
[0089]
The heat-sensitive lithographic printing plate material of the present invention changes in physical properties due to heat. For example, physical properties change from hydrophilic to hydrophobic by heating. Therefore, a lithographic printing plate can be obtained by imagewise heating using a thermal head or the like.
[0090]
When a compound (light-heat conversion agent) that causes light-to-heat conversion is present in the heat-sensitive lithographic printing plate material of the present invention, light-to-heat conversion occurs and is heated by irradiation with light such as a laser. A change in physical properties to hydrophobicity can be obtained. Since image formation using light such as laser enables high-precision writing, it is preferable that the heat-sensitive lithographic printing plate material of the present invention contains a light-heat conversion agent.
[0091]
By allowing the light-to-heat conversion agent to be present in the heat-sensitive lithographic printing plate material of the present invention, high-precision writing using light such as a high-power laser can be performed in addition to writing by a thermal head.
[0092]
The light-to-heat conversion agent may be present anywhere as long as the heat generated by the light-to-heat conversion can be transferred to the heat-sensitive layer. Good. Moreover, you may exist in a support body.
[0093]
The light-heat modifier is preferably a material that absorbs light and efficiently converts it into heat, and varies depending on the light source used. For example, when a semiconductor laser that emits near-infrared light is used as the light source, Near-infrared light absorbers having an absorption band are preferred, for example, organic compounds such as carbon black, cyanine dyes, polymethine dyes, azurenium dyes, squalium dyes, thiopyrylium dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, Phthalocyanine-based, azo-based, and thioamide-based organometallic complexes are preferably used. Specifically, JP-A-63-139191, 64-33547, JP-A-1-160683, 1-280750, 1-293342, 2-2074, 3-26593, 3-30991, 3-34891, 3-36093, 3-36094, 3-36095, 3-42281, Examples thereof include compounds described in JP-A-3-97589 and JP-A-3-103476. These can be used alone or in combination of two or more.
[0094]
The light-heat conversion agent can also be used as a vapor deposition film. Examples of the light-heat conversion agent vapor deposition film include carbon black, colloidal silver, metal carbide, boride, nitride, carbonitride, Evaporated film of bronze structure oxide, deposited film of metal black such as gold, silver, aluminum, chromium, nickel, antimony, tellurium, bismuth and selenium described in JP-A-52-20842, deposited with colloidal silver A film etc. can be mentioned. Further, as the light-heat conversion agent, black resins such as polypyrrole and polyaniline, and dispersions thereof can be used.
[0095]
When the light-heat conversion agent is present in a layer different from the heat-sensitive layer, it is preferably present in a layer to which a binder is added. As the binder, it is preferable to use a resin having a high Tg and a high thermal conductivity. For example, polymethyl methacrylate, polycarbonate, polystyrene, ethyl cellulose, nitrocellulose, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, polyamide, polyimide, polyetherimide Common heat-resistant resins such as polysulfone, polyethersulfone, and aramid can be used.
[0096]
Moreover, a water-soluble polymer can also be used as a binder. The water-soluble polymer has good heat resistance during light irradiation, and is preferable in terms of so-called scattering even when it is excessively heated. In the case of using a water-soluble polymer, it is desirable to use the light-heat converting substance by modifying it to be water-soluble by means such as introducing a sulfo group or by dispersing in water.
[0097]
Gelatin and PVA are preferable because they have little aggregation of water-soluble infrared absorbing dyes, can stably coat the light-to-heat conversion layer, have excellent storage stability of the recording medium, and do not cause color turbidity or sensitivity reduction due to aggregation of infrared absorbing dyes. .
[0098]
The thickness of the light-heat conversion layer is preferably from 0.1 to 3 μm, more preferably from 0.2 to 1.0 μm. The content of the light-to-heat conversion agent in the light-to-heat conversion layer is usually such that the absorbance at the wavelength of the light source used for image recording is 0.3 to 3.0, more preferably 0.7 to 2.5. Can be decided.
[0099]
When the light-heat conversion layer is provided between the support and the transfer layer and the adhesiveness to the support becomes a problem, it is effective to provide the adhesive layer.
[0100]
It is more preferable that such an adhesive layer also has an effect of improving transfer efficiency and unevenness.
[0101]
Various fine particles can be added as a filler to the heat-sensitive layer of the heat-sensitive lithographic printing plate material of the present invention. Such an embodiment is preferable from the viewpoint of improving the heat insulating property of the heat sensitive layer, increasing the sensitivity, and increasing the polarity difference between the exposed / unexposed areas, and is also preferable from the viewpoint of hydrophilicity / water retention of the non-image areas.
[0102]
As a preferred filler, organic or inorganic fine particles can be used.
[0103]
Examples of the organic fine particles include polymethyl methacrylate (PMMA), polystyrene, polyethylene, polypropylene, fine particles of other radical polymerization polymers, and fine particles of condensation polymers such as polyester and polycarbonate.
[0104]
Any method can be used as a method for producing the organic fine particles. For example, a method for obtaining fine particles by polymerizing in a dispersion medium such as emulsion polymerization or suspension polymerization, or using a polymer as a rich solvent is necessary. For example, after dissolution under heating, a polymer is precipitated by adding a poor solvent or cooling to obtain fine particles (the fine particles can be easily obtained by applying a shearing force during precipitation). It can be obtained by a method of obtaining fine particles by pulverizing and dispersing in a solvent by such a dispersing means, or a method of obtaining fine particles by pulverizing a polymer in a dry state and passing through a classification step.
[0105]
Examples of inorganic fine particles include fine particles of zinc oxide, titanium oxide, barium sulfate, calcium carbonate, silica (silicon oxide), and the like.
[0106]
As a method for producing the inorganic fine particles, a method of obtaining fine particles by pulverizing and dispersing in a solvent by a dispersing means such as a sand mill or a ball mill can be used.
[0107]
When fine particles are obtained by pulverization and dispersion in a solvent by a dispersing means such as a sand mill or a ball mill, it is preferable to use an appropriate dispersant regardless of whether organic fine particles or inorganic fine particles.
[0108]
Inorganic ultrafine particles can also be used. Examples of the inorganic ultrafine particles include silica (colloidal silica), alumina or alumina hydrate (alumina sol, colloidal alumina, cationic aluminum oxide or hydrate, suspicious boehmite, etc.), surface-treated cationic colloidal silica, Examples include aluminum silicate, magnesium silicate, magnesium carbonate, titanium dioxide, and zinc oxide.
[0109]
Inorganic ultrafine particles may be used alone or in combination of two or more. Further, these ultrafine particles can be used in place of hydrophilic resins, and such an embodiment is also very preferable.
[0110]
The inorganic ultrafine particles may be used in combination with inorganic fine particles. Conventionally known inorganic fine particles can be used as long as the inorganic fine particles are within the range not impairing the object of the present invention. Examples of these inorganic fine particles include light calcium carbonate, heavy calcium carbonate, kaolin, talc, calcium sulfate, barium sulfate, titanium dioxide, zinc oxide, zinc sulfide, zinc carbonate, satin white, aluminum silicate, diatomaceous earth, calcium silicate. Synthetic amorphous silica, aluminum hydroxide, lithopone, zeolite, hydrous halloysite, magnesium hydroxide, synthetic mica and the like. Among these inorganic fine particles, porous inorganic fine particles are preferable. Examples of the porous inorganic fine particles include porous synthetic amorphous silica, porous calcium carbonate, porous alumina, and the like. Synthetic amorphous silica is preferred.
[0111]
Further, instead of the inorganic fine particles, or together with the inorganic fine particles, fine particle fine particles such as styrene resin, acrylic resin, polyethylene, microcapsule, urea resin, melamine resin, and fluorine resin may be used.
[0112]
As the support of the heat-sensitive lithographic printing plate material of the present invention, a conventionally known support can be used without particular limitation, and the material, layer structure, size, etc. are appropriately selected according to the purpose of use and the like. use.
[0113]
Examples of the support include various papers such as paper, coated paper, and synthetic paper (polypropylene, polystyrene, or composite materials obtained by combining them with paper), vinyl chloride resin sheets, ABS resin sheets, polyethylene terephthalate films. , Polybutylene terephthalate film, polyethylene naphthalate film, polyarylate film, polycarbonate film, polyether ketone film, polysulfone film, polyethersulfone film, polyetherimide film, polyimide film, polyethylene film, polypropylene film, etc. Alternatively, various plastic films or sheets in which two or more layers are laminated, films or sheets formed of various metals, films formed of various ceramics Stone sheet, furthermore, aluminum, stainless steel, chromium, metal plate such as nickel, followed by a metal thin film to the paper was resin coated and laminated or deposited.
[0114]
In the case of a surface hydrophobic support, the surface can be hydrophilized. As a hydrophilic treatment method, sulfuric acid treatment, oxygen plasma etching treatment, corona discharge treatment, application of water-soluble resin, etc. are preferably used.
[0115]
The heat-sensitive lithographic printing plate material of the present invention is added with the hydrophilic resin of the present invention, a crosslinking agent for crosslinking the hydrophilic resin of the present invention, and, if necessary, a light-to-heat conversion agent and other additives. It can be obtained by applying a coating solution and drying to form a heat-sensitive layer. When the light-heat conversion agent-containing layer is provided as a separate layer, a light-heat conversion agent-containing layer is prepared by preparing a coating liquid containing the light-heat conversion agent, and applying and drying in the same manner as the heat-sensitive layer. May be formed.
[0116]
The drying temperature is 30 to 100 ° C, more preferably 30 to 80 ° C, still more preferably 30 to 70 ° C. The drying time is preferably from 30 seconds to 10 minutes, more preferably from 1 minute to 5 minutes.
[0117]
In the heat-sensitive lithographic printing plate material of the present invention, it is preferable that the heat-sensitive layer is dissolved in an amount of 10% or less when immersed in water at 25 ° C. for 1 hour.
[0118]
In order to obtain a heat-sensitive layer having a dissolution amount of 10% or less when immersed in water at 25 ° C. for 1 hour, the entire surface may be heat-treated after drying. The temperature of the whole surface heat treatment is preferably in the range of 30 to 80 ° C, more preferably in the range of 35 ° C to 70 ° C, and particularly preferably in the range of 40 ° C to 60 ° C. The heating time varies depending on the amount of the crosslinking agent, the species, the presence or absence of a reaction accelerator, etc., and is not uniform, but a heat-sensitive layer having a dissolution amount of 10% or less when immersed in water at 25 ° C. for 1 hour is obtained. Should be set.
[0119]
The whole surface heat treatment can also be performed subsequent to drying. It can also be performed prior to using the heat-sensitive lithographic printing plate material of the present invention.
[0120]
The amount of dissolution when immersed in water at 25 ° C. for 1 hour can be measured by the following method for measuring the amount of dissolution.
"Method for measuring dissolved amount"
The heat-sensitive lithographic printing plate material is cut into 10 cm squares and left at room temperature in a desiccator containing a desiccant for 3 hours. This is quickly taken out and weighed, then immersed in pure water at 25 ° C. and left for 1 hour.
[0121]
After taking out from water, JK wiper was mounted in DX-700 (made by Toukyou Laminex Co., Ltd.), and high pressure and shear were given in the swollen state under the following conditions.
[0122]
Temperature: 25 ° C
Pressure ... 2kg / cm
Speed ... 30mm / sec
Then, after drying at 60 ° C. for 1 hour, it is further left at room temperature in a desiccator containing a desiccant for 3 hours, and then quickly taken out and measured for weight.
[0123]
The amount of dissolution is determined as the difference between the weight before treatment and the weight after treatment.
[0124]
By measuring the amount of dissolution in this manner, the film strength at the time of swelling can also be measured, and the strength of the non-image area can be confirmed in a situation close to the time of printing a lithographic printing plate.
[0125]
As a method of forming an image on the lithographic printing plate material of the present invention, a method of directly applying image-like thermal energy by a thermal head or the like, an image-like irradiation of high output light energy, and this is converted into heat energy. The method of converting and giving is mentioned.
[0126]
A method of directly applying thermal energy to an image by a thermal head or the like is preferable in the case of using low-cost, low-resolution or line drawing image output as a main purpose, irradiating high-power light energy image-wise, The method of converting this into heat energy and applying it is preferable when high-definition writing can be easily performed and high resolution or halftone image output is used as the main purpose as in commercial printing.
[0127]
Examples of the light source for image exposure include lasers, light emitting diodes, xenon flash lamps, halogen lamps, carbon arc lamps, metal halide lamps, tungsten lamps, high pressure mercury lamps, and electrodeless light sources.
[0128]
In order to irradiate the energy of high output light like an image, a mask material in which a pattern of a desired exposure image is formed of a light shielding material is superimposed on a photosensitive material, and a xenon lamp, a halogen lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a tungsten lamp. Then, it is only necessary to perform batch exposure using a high-pressure mercury lamp, an electrodeless light source, or the like.
[0129]
When using an array-type light source such as a light-emitting diode array or controlling the light source such as a halogen lamp, a metal halide lamp, or a tungsten lamp with an optical shutter material such as liquid crystal or PLZT, exposure is performed on the image signal. It is possible and preferable to perform digital exposure according to the above. In this case, direct writing can be performed without using a mask material.
[0130]
When a laser is used for exposure, light can be narrowed down into a beam and scanning exposure can be performed according to image data. Therefore, direct writing can be performed without using a mask material. When a laser is used as a light source, it is easy to reduce the exposure area to a very small size, and high-resolution image formation is possible. As the laser light source, an argon laser, a He—Ne gas laser, a YAG laser, a semiconductor laser, or the like can be preferably used.
[0131]
Among these, the use of a semiconductor laser or a YAG laser is more preferable because a high output suitable for the lithographic printing plate material of the present invention can be incorporated into a small apparatus at a relatively low cost.
[0132]
As the laser scanning exposure method, there are exposure methods such as cylindrical outer surface scanning, cylindrical inner surface scanning, and planar scanning. In the cylindrical outer surface scanning, laser irradiation is performed while rotating a drum around which a recording material is wound. In this case, the rotation of the drum is the main scanning and the movement of the laser beam is the sub-scanning. In the cylindrical inner surface scanning, a recording material is fixed to the inner surface of the drum, and a laser beam is irradiated from the inner side. In this case, main scanning is performed in the circumferential direction by rotating part or all of the optical system, and sub-scanning is performed in the axial direction by linearly moving part or all of the optical system parallel to the axis of the drum. . In plane scanning, a laser beam main scan is performed by combining a polygon mirror, a galvanometer mirror, and an fθ lens, and a sub-scan is performed by moving a recording medium. Cylindrical outer surface scanning and cylindrical inner surface scanning easily improve the accuracy of the optical system and are suitable for high-density recording.
[0133]
The image formation on the heat-sensitive lithographic printing plate material of the present invention is characterized in that the above-described image exposure is all and development using a conventional liquid is not performed and non-image area removal processing is not performed.
[0134]
For this reason, image formation on the heat-sensitive lithographic printing plate material of the present invention can be performed with a dedicated exposure apparatus, and the obtained lithographic printing plate can be used by being loaded into a printing press. It can also be used as a system in which an image can be formed and printed as it is.
[0135]
Next, the surface energy γd and γh that define the present invention will be described. Originally, the force that determines the surface energy is the two components of the dispersion force and the hydrogen bonding force. From the viewpoint that the dispersion force component of the surface energy is γd and the hydrogen bonding force component is γh, In the present invention, the surface energy γd and γh of the image portion and the non-image portion are measured as follows.
[0136]
That is, in the present invention, as a method of measuring the surface energy of the image area / non-image area, the static contact angle is measured using two kinds of solutions having known surface energy, and the image area / non-image area is determined from the measured values. A dispersion force component γd and a hydrogen bonding force component γh of the surface energy of the image area were obtained.
[0137]
Specifically, water: γd = 21.8, γh = 51.0 (20 ° C.) and methylene iodide: γd = 49.5, γh = 1.3 20 microliters), 20 microliters was dropped on the solid surface in a measurement environment at 20 ° C., the contact angle after 30 seconds was measured, and the surface energies γd and γh on the solid surface were determined by the following formulas.
[0138]
[Expression 1]
Figure 0003887966
[0139]
By solving the simultaneous equations, γd and γh are obtained.
[0140]
【Example】
Examples are shown below, but the present invention is not limited thereto.
15 W / (m on the heat-sensitive layer coated surface side on the PET (polyethylene terephthalate) film2After the corona discharge treatment with the energy of min), the following heat-sensitive layer composition was applied and dried, and then the entire surface was heat-treated to obtain a lithographic printing plate material.
[0141]
  referenceExample 1
(Thermosensitive layer composition 1)
  Polyvinyl alcohol
  (Z-100: Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) 70.0 parts by weight
  Melamine resin
  (Sumirez Resin 613: manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.)
  [Nv: 80% aqueous solution] 12.0 parts by weight
  Organic amine salt
  (Sumirez Accelerator ACX-P: manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.)
  [Nv: 35% aqueous solution] 5.0 parts by weight
  F surfactant
  (F179: manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 2.0 parts by weight
  PE emulsion
  (S7024: Toho Chemical Co., Ltd.) 10.0 parts by weight
  Infrared absorbing dye
  (CY-17: Nippon Kayaku Co., Ltd.) 20.0 parts by weight
[0142]
These compositions were prepared with pure water so as to have a solid content of 15%, and sufficiently stirred in a liquid state at 25 ° C. for 2 hours.
[0143]
The photosensitive solution thus prepared was applied onto the prepared support so as to have a dry film thickness of 5.0 μm, dried at 50 ° C. for 10 minutes, and further heated at 55 ° C. for 48 hours to obtain a lithographic printing plate material.
[0144]
  Example 2
  Except for changing the heat-sensitive layer composition as followsreferenceA photosensitive material was prepared in the same manner as in Example 1.
[0145]
(Thermosensitive layer composition 2)
(Thermosensitive layer composition 1)
Polyvinyl alcohol
(Z-100: Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) 60.0 parts by weight
Melamine resin
(Sumirez Resin 613: manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.)
[Nv: 80% aqueous solution] 12.0 parts by weight
Organic amine salt
(Sumirez Accelerator ACX-P: manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.)
[Nv: 35% aqueous solution] 5.0 parts by weight
Wax emulsion
(A101: Gifu Shellac Co., Ltd.) 10.0 parts by weight
Infrared absorbing dye
(CY-17: Nippon Kayaku Co., Ltd.) 20.0 parts by weight
[0146]
  Example 3
  Except for changing the heat-sensitive layer composition as followsreferenceA photosensitive material was prepared in the same manner as in Example 1.
[0147]
(Thermosensitive layer composition 3)
Polyvinyl alcohol
(Z-100: Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) 70.0 parts by weight
Melamine resin
(Sumirez Resin 613: manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.)
[Nv: 80% aqueous solution] 12.0 parts by weight
Organic amine salt
(Sumirez Accelerator ACX-P: manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.)
[Nv: 35% aqueous solution] 5.0 parts by weight
Fluorine compounds
(TK505: manufactured by Takamatsu Yushi Co., Ltd.) 10.0 parts by weight
Infrared absorbing dye
(CY-17: Nippon Kayaku Co., Ltd.) 20.0 parts by weight
[0148]
  referenceExample 4
  Except for changing the heat-sensitive layer composition as followsreferenceA photosensitive material was prepared in the same manner as in Example 1.
[0149]
(Thermosensitive layer composition 4)
Polyvinyl alcohol
(Z-100: Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) 70.0 parts by weight
Melamine resin
(Sumirez Resin 613: manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.)
[Nv: 80% aqueous solution] 12.0 parts by weight
Organic amine salt
(Sumirez Accelerator ACX-P: manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.)
[Nv: 35% aqueous solution] 5.0 parts by weight
Carbon black
(SD9020: manufactured by Dainippon Ink Industries, Ltd.) 20.0 parts by weight
Preparation of these compositions with pure water to a solid content of 8%
[0150]
The photosensitive solution thus prepared was applied on the prepared support so as to have a dry film thickness of 3.0 μm, dried at 50 ° C. for 3 minutes, and further heated at 55 ° C. for 30 minutes to obtain a lithographic printing plate material.
[0151]
Example 5
(Thermosensitive layer composition 5)
Polyvinyl alcohol
(Z-100: Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) 70.0 parts by weight
Melamine resin
(Sumirez Resin 613: manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.)
[Nv: 80% aqueous solution] 12.0 parts by weight
Organic amine salt
(Sumirez Accelerator ACX-P: manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.)
[Nv: 35% aqueous solution] 5.0 parts by weight
Carbon black
(SD9020: manufactured by Dainippon Ink Industries, Ltd.) 20.0 parts by weight
Inorganic treated silica
(Silysia 445: manufactured by Fuji Silysia Chemical Ltd.) 39.0 parts by weight
Wax emulsion
(A101: Gifu Shellac Co., Ltd.) 10.0 parts by weight
Preparation of these compositions with pure water to a solid content of 8%
[0152]
The photosensitive solution thus prepared was applied on the prepared support so as to have a dry film thickness of 3.0 μm, dried at 50 ° C. for 3 minutes, and further heated at 55 ° C. for 30 minutes to obtain a lithographic printing plate material.
[0153]
Comparative Example 1
(Thermosensitive layer composition 6)
Polyvinyl alcohol
(KL-05: Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) 70.0 parts by weight
Melamine resin
(Sumirez Resin 613: manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.)
[Nv: 80% aqueous solution] 1.2 parts by weight
Organic amine
(Sumirez Accelerator ACX-P: manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.)
[Nv: 35% aqueous solution] 0.5 parts by weight
Carbon black
(SD9020: manufactured by Dainippon Ink Industries, Ltd.) 20.0 parts by weight
Preparation of these compositions with pure water to a solid content of 8%
[0154]
The photosensitive solution thus prepared was applied on the prepared support so as to have a dry film thickness of 3.0 μm, dried at 50 ° C. for 3 minutes, and further heat-treated at 55 ° C. for 2 days to obtain a lithographic printing plate material.
[0155]
Comparative Example 2
(Thermosensitive layer composition 7)
Polyvinyl alcohol
(KL-05: Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) 30.0 parts by weight
Melamine resin
(Sumirez Resin 613: manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.)
[Nv: 80% aqueous solution] 72.0 parts by weight
Organic amine
(Sumirez Accelerator ACX-P: manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.)
[Nv: 35% aqueous solution] 20.0 parts by weight
Carbon black
(SD9020: Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 20.0 parts by weight
Preparation of these compositions with pure water to a solid content of 8%
[0156]
The photosensitive solution thus prepared was applied on the prepared support so as to have a dry film thickness of 3.0 μm, dried at 50 ° C. for 3 minutes, and further heat-treated at 55 ° C. for 2 days to obtain a lithographic printing plate material.
[0157]
The sample thus prepared was subjected to image exposure with a semiconductor laser (wavelength 830 nm, output 500 mw). The laser beam diameter was 10 μm at 1 / e 2 of the intensity at the peak. The resolution was 2400 dpi in both the scanning direction and the sub-scanning direction.
[0158]
Sensitivity evaluation
Under the above conditions, the exposure energy (mj / cm) required to uniformly accept the ink without the solid portion of the exposed portion being removed at the sub-scanning pitch.2).
[0159]
Print evaluation
Create a 175 line image with the exposure energy required to uniformly transfer the solid part, and use a printing machine (Heidel GTO) with coated paper, printing ink (manufactured by Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd.) : High plus M red) and dampening water (Konica Corp .: SEU-3 2.5% aqueous solution) were used for printing.
[0160]
During this printing,
0) Print reproducibility: 175 lines at appropriate density and appropriate water conditions 0, 2, 4, 6, 8, 10, 20, 30, 40, 50, 60, 70, 80, 90, 92, 94, 96 98, 100% images were printed, and the reproduction area was examined using a 100 × magnifier.
[0161]
1) Printing evaluation: M density measured with a Macbeth reflection densitometer from the start of printing is 95% or more of the final density area (if the final density is 1.4, the density is 1.33 or more) The number of splinter paper (damaged paper) required until then was evaluated in five levels.
○ 10 or less
○ △ ・ ・ ・ 11-20
△ ... 21-30
△ × ・ ・ ・ 31 ~ 50
× ... 51-
[0162]
2) Water width evaluation: Printing was performed under the condition that water was dialed down by 1 and 2 from the normal water-ink balance, and the water width suitability was confirmed by the occurrence of stains when printing 500 sheets after changing the setting.
○ ... No dirt in 2 aperture conditions
△ ... No dirt in one aperture condition
× ... Dirt with one stop
[0163]
3) Dot gain evaluation: 175 lines at appropriate concentration and appropriate water conditions, 0, 2, 4, 6, 8, 10, 20, 30, 40, 50, 60, 70, 80, 90, 92, 94, The 96, 98, and 100% images were printed, X-RITE was used, 0-100 correction was performed, the reproduction area ratio of the printed matter was measured, and the difference from the image data was defined as the dot gain amount.
[0164]
[Table 1]
Figure 0003887966
[0165]
From Table 1, it is understood that excellent results can be obtained by the present invention.
[0166]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, a thermal lithographic printing plate capable of forming an image without the need for a complicated process such as a development process and without the need for a waste liquid process or the like, and having printability. In particular, a heat-sensitive lithographic printing plate material having particularly good water resistance, printing reproducibility, printing evaluation, water width evaluation and printing durability was obtained.

Claims (6)

支持体上に熱により表面の物性に変化を生じさせる画像形成層を有して成る感熱平版印刷版材料において、前記画像形成層は、親水性樹脂、光−熱変換を生じさせる化合物及び疎水性発生物質を含有し、該疎水性発生物質が、ワックスエマルジョンまたは常温/水系中で分散状態を形成できる親水性を有するフッ素含有オリゴマーのいずれかを含み、かつ、画像部の表面エネルギーγdが、5≦γd≦40であり、かつ、表面エネルギーγhが0.5≦γh≦20であり、且つ、非画像部の表面エネルギーγdが、40<γd≦75、かつ、表面エネルギーγhが、20<γh≦75であることを特徴とする感熱平版印刷版材料。In a heat-sensitive lithographic printing plate material having an image-forming layer that causes changes in surface physical properties by heat on a support, the image-forming layer comprises a hydrophilic resin, a compound that causes light-heat conversion, and hydrophobicity containing generating substances, hydrophobic generating material comprises either a fluorine-containing oligomer having a hydrophilic dispersion state can be formed in watts box emulsion or ambient / aqueous, and the surface energy γd of the image portion 5 ≦ γd ≦ 40, the surface energy γh is 0.5 ≦ γh ≦ 20, the surface energy γd of the non-image part is 40 <γd ≦ 75, and the surface energy γh is 20 A heat-sensitive lithographic printing plate material, wherein <γh ≦ 75. 表面の物性変化が、画像露光により生じることを特徴とする請求項1に記載の感熱平版印刷版材料。  2. The heat-sensitive lithographic printing plate material according to claim 1, wherein the change in physical properties of the surface is caused by image exposure. レーザーによる露光により表面の物性変化を生じさせることを特徴とする請求項2に記載の感熱平版印刷版材料。  3. The heat-sensitive lithographic printing plate material according to claim 2, wherein the physical properties of the surface are changed by exposure with a laser. 未露光部分が親水性であることを特徴とする請求項3に記載の感熱平版印刷版材料。  The heat-sensitive lithographic printing plate material according to claim 3, wherein the unexposed portion is hydrophilic. 画像部及び非画像部の表面エネルギーγd−γh空間上での画像部の座標(γd1,γh1)と非画像部の座標(γd2,γh2)との距離が10以上であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の感熱平版印刷版材料。  The distance between the coordinates (γd1, γh1) of the image portion on the surface energy γd-γh space of the image portion and the non-image portion and the coordinates (γd2, γh2) of the non-image portion is 10 or more. Item 5. The thermal lithographic printing plate material according to any one of Items 1 to 4. 表面の物性変化が、露光によるものであり、画像形成層の露光部・未露光部がともに25℃の純水1時間浸漬に対する膜の残存率が80%以上であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の感熱平版印刷版材料。The surface physical property change is caused by exposure, and both the exposed and unexposed portions of the image forming layer have a film remaining ratio of 80% or more after immersion in pure water at 25 ° C. for 1 hour. The heat-sensitive lithographic printing plate material according to any one of 1 to 5.
JP25943198A 1998-08-28 1998-08-28 Thermal planographic printing plate material Expired - Lifetime JP3887966B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25943198A JP3887966B2 (en) 1998-08-28 1998-08-28 Thermal planographic printing plate material

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25943198A JP3887966B2 (en) 1998-08-28 1998-08-28 Thermal planographic printing plate material

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000075471A JP2000075471A (en) 2000-03-14
JP3887966B2 true JP3887966B2 (en) 2007-02-28

Family

ID=17334003

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP25943198A Expired - Lifetime JP3887966B2 (en) 1998-08-28 1998-08-28 Thermal planographic printing plate material

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3887966B2 (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE60109913T2 (en) * 2000-04-28 2006-05-04 Mitsui Chemicals, Inc. Lithographic printing plate
JP2002362052A (en) * 2001-06-07 2002-12-18 Mitsui Chemicals Inc Plate for offset lithographic printing
WO2008156137A1 (en) * 2007-06-19 2008-12-24 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Lithographic printing plate material

Also Published As

Publication number Publication date
JP2000075471A (en) 2000-03-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1023176B1 (en) Improved lithographic printing plates comprising a photothermal conversion material
US6672210B2 (en) Lithographic printing plate precursor with a graft polymerized hydrophilic layer
US6110645A (en) Method of imaging lithographic printing plates with high intensity laser
US5948591A (en) Heat sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith
JP2002500973A (en) Lithographic printing plate used for laser imaging equipment
US6014930A (en) Single layer direct write lithographic printing plates
JP3713920B2 (en) Heat-sensitive lithographic printing plate material, method for producing the same, and image forming method
EP0881096B1 (en) A heat sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith
EP0773113B1 (en) Heat sensitive imaging element and method for making a printing plate therewith
JP3887966B2 (en) Thermal planographic printing plate material
JP3812174B2 (en) Heat-sensitive lithographic printing plate material
US20040051768A1 (en) Preparing lithographic printing plates
JPH11301130A (en) Material for lithographic printing plate and method for engraving lithographic printing plate
JPH058575A (en) Original plate for lithography
JP4070390B2 (en) Planographic printing plate and planographic printing method
US6899996B2 (en) Method of preparing imaging member with microgel protective layer
WO1998040212A1 (en) Lithographic printing plates with a sol-gel layer
JP2006224677A (en) Support medium for planographic printing plate
US6838226B2 (en) Imaging member with microgel protective layer
JP3767183B2 (en) Planographic printing plate and method for making a planographic printing plate
EP0881095B1 (en) A heat sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith
EP0966355B1 (en) Method of imaging lithographic printing plates with high intensity laser
EP0967077A1 (en) A heat sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith
JP2004195724A (en) Original plate for lithographic printing, and printing method using the original plate
JP2002019315A (en) Support for lithographic printing plate and thermosensitive lithographic printing plate

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060104

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060228

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20060509

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060710

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20060816

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060912

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060922

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20061107

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20061120

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101208

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111208

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121208

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131208

Year of fee payment: 7

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

EXPY Cancellation because of completion of term