JP3908682B2

JP3908682B2 - Optical information recording medium, manufacturing method thereof, and recording / reproducing method thereof

Info

Publication number: JP3908682B2
Application number: JP2003070793A
Authority: JP
Inventors: 英樹北浦; 孝史西原; 嘉孝坂上; 理恵児島; 昇山田
Original assignee: Panasonic Corp; Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Corp; Panasonic Holdings Corp
Priority date: 2002-03-15
Filing date: 2003-03-14
Publication date: 2007-04-25
Anticipated expiration: 2023-03-14
Also published as: JP2003338083A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板上に形成された薄膜にレーザ光等の高エネルギービームを照射することにより、信号品質の高い情報信号を記録・再生することのできる光学的情報記録媒体とその製造方法、並びにその記録再生方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、基板上に形成したカルコゲン材料等からなる薄膜にレーザ光を照射して局所的な加熱を行い、照射条件の違いにより光学定数（屈折率ｎ、消衰係数ｋ）の異なる非晶質相と結晶相との間で相変化させることが可能であることは、既に広く知られている。近年、この現象を応用し、カルコゲン材料等からなる薄膜を記録膜として用いた、いわゆる相変化方式の光学的情報記録媒体の研究開発が盛んに行われている。
【０００３】
相変化方式の光学的情報記録媒体においては、例えば、情報信号に応じて記録レベルと消去レベルとの少なくとも２つのパワーレベル間で変調させたレーザ光を情報トラックに照射することにより、既存の信号を消去しつつ、同時に新しい信号を記録することが可能である。
【０００４】
このような光学的情報記録媒体においては、記録膜に他の膜（記録膜以外の膜）を積層した多層膜構造を用いることが一般的である。他の膜として、例えば、誘電体材料等からなる保護膜や、金属・合金材料等からなる反射膜等を積層する場合が多い。
【０００５】
誘電体材料等からなる保護膜の働きとしては、例えば、次のようなものがある。
【０００６】
１）記録膜を外部からの機械的なダメージから保護する働き
２）信号の書き換えを繰り返し行った場合に起きる基板表面の熱変形、記録膜の破れ、および記録膜構成物質の蒸発等の熱的なダメージを低減し、繰り返し書き換え回数を増加させる働き
３）多重反射による干渉効果を利用して光学的変化をエンハンスする働き
４）記録膜に対する外気からの影響を遮断し、記録膜の化学的な変化を防止する働き
【０００７】
保護膜に以上のような機能を持たせるため、保護膜を構成する材料として、Ａｌ₂Ｏ₃、ＴｉＯ₂、ＳｉＯ₂等の酸化物、Ｓｉ₃Ｎ₄やＡｌＮ等の窒化物、Ｓｉ−Ｏ−Ｎ等の酸窒化物、ＺｎＳ等の硫化物、ＳｉＣ等の炭化物、あるいはこれらの化合物の混合物（例えばＺｎＳ−ＳｉＯ₂）等の材料が提案され、使用されている。特に混合物ＺｎＳ−ＳｉＯ₂は、誘電体材料の中でもかなり熱伝導率の小さい部類に属するので、レーザ光等によって記録を行う際に生じる熱拡散を十分に抑制でき、記録感度を向上させることができる。また、混合物ＺｎＳ−ＳｉＯ₂からなる膜は、内部応力が小さいので厚い膜を形成しても割れが生じにくく、さらに相変化材料からなる記録膜との接着性が高いのでレーザ光照射を繰り返しても剥がれにくい等の理由から、最も多く用いられている。
【０００８】
さらに、記録膜と保護膜との間に界面膜を設けることが提案されている。界面膜の働きとしては、例えば次のようなものがある。
【０００９】
１）記録膜の結晶化を促進させ、消去特性を向上させる働き
２）記録膜と保護膜の間の物質相互拡散を防止し、繰り返し記録における耐久性を向上させる働き
【００１０】
さらに、界面膜には、記録膜との間に剥離を生じないことや、腐食を生じない等の、環境信頼性も兼ね備えていることが望ましい。
【００１１】
このような界面膜の材料としては、例えばＳｉやＧｅの窒化物が、記録膜の結晶化促進効果および物質拡散防止効果において非常に優れている（例えば、特許文献１および２参照。）。中でも特に、Ｇｅ−Ｎを主成分として含み、さらにＣｒ等が添加された材料を用いて形成された界面膜は、高温高湿条件下においても記録膜から剥離しにくい。従って、このような材料は、界面膜形成用として最もふさわしい材料の一つである。
【００１２】
このような光学的情報記録媒体に蓄積できる情報量を増やすための基本的な手段として、レーザ光のスポット径を小さくして記録面密度を向上させるという方法がある。レーザ光のスポット径は、レーザ光の波長を短くする、またはレーザ光を集光するための対物レンズの開口数を大きくすることにより、小さくすることができる。近年では、実用化の段階に近づいている波長４００ｎｍ近傍の青色レーザダイオードを光学的情報記録媒体の記録再生を行う光学系に適用し、さらに、光学系の対物レンズの開口数を大きくする（例えば、ＤＶＤ−ＲＡＭ（DVD -Random Access Memory）等で用いられている０．６０から、０．８５程度まで大きくする）ことで、レーザスポット径を小さくして記録面密度を向上させることが提案されている。このようにレンズ開口数を大きくすると、光学的情報記録媒体のチルトに対する許容幅が小さくなるため、レーザ光入射側の透明基板の厚さをＤＶＤ−ＲＡＭ等の０．６ｍｍから０．１ｍｍ程度に薄くすることも併せて提案されている。
【００１３】
さらに、光学的情報記録媒体一つ当たりで扱える情報量を増加させるために、情報を記録再生するための層（以下、本明細書においては情報層という。）を複数積層した多層構造の光学的情報記録媒体（以下、本明細書においては多層記録媒体という。）も提案されている。このような多層記録媒体においては、レーザ光源に近い側に配置された情報層がレーザ光を吸収するため、レーザ光源から遠い側に配置された情報層は減衰したレーザ光によって記録再生が行われることになり、記録時には感度低下が、再生時には反射率・振幅低下が問題となる。したがって、多層記録媒体においては、レーザ光源から近い側に配置される情報層の透過率を高くする必要があり、一方、レーザ光源から遠い側に配置される情報層は反射率、反射率差（記録膜が結晶相の場合の反射率と記録膜が非晶質相の場合の反射率との差）、および感度を高くして、限られたレーザパワーで十分な記録再生特性が得られるようにする必要がある。
【００１４】
【特許文献１】
特開平５−２１７２１１号公報
【００１５】
【特許文献２】
国際公開番号ＷＯ９７／３４２９８（第１５−２２頁、第２図）
【００１６】
【発明が解決しようとする課題】
青色レーザおよび開口数の高い対物レンズを用いた場合、レーザ光のエネルギー密度が高くなるため、情報層に含まれる記録膜が再生時にレーザ光を吸収することにより記録マークの一部が消えてしまう再生光劣化という現象が、より起こり易くなる。そこで、情報層に含まれる記録膜以外の膜、例えば上述の界面膜に光を適度に吸収させることで記録膜の光吸収を減らし、再生光劣化を起こしにくくする、即ち再生光耐久性を高めることが考えられる。
【００１７】
しかしながら、この方法によると反射率変化が小さくなってしまい、Ｃ／Ｎ比等の信号品質を低下させることにつながるという問題が生じる。
【００１８】
【課題を解決するための手段】
本発明の第１の光学的情報記録媒体は、レーザ光入射側から第１の保護膜、第１の界面膜、レーザ光の照射によって光学特性が可逆的に変化する記録膜、第２の界面膜、第２の保護膜、および反射膜をこの順に含む情報層が少なくとも一つ設けられており、前記第１の界面膜が、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、ＷおよびＳｉから選ばれる少なくとも一つの元素の酸化物を含み、
前記第２の界面膜が、炭素またはＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、ＷおよびＳｉから選ばれる少なくとも一つの元素の炭化物を含むことを特徴としている。
【００２０】
本発明の光学的情報記録媒体の記録再生方法は、本発明の第１または第２の光学的情報記録媒体に対して記録再生を行う方法であって、波長４５０ｎｍ以下、且つレンズ開口数０．８以上の光学系を用いて記録再生を行うことを特徴としている。
【００２１】
本発明の第１の光学的情報記録媒体の製造方法は、第１の基板上に少なくとも一つの情報層を形成し、さらに前記情報層上に第２の基板を形成する光学的情報記録媒体の製造方法であって、前記情報層が、少なくとも、誘電体材料からなる第１の保護膜と、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、ＷおよびＳｉから選ばれる少なくとも一つの元素の酸化物を含む第１の界面膜と、レーザ光の照射によって光学特性が可逆的に変化する記録膜と、炭素またはＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、ＷおよびＳｉから選ばれる少なくとも一つの元素の炭化物を含む第２の界面膜と、誘電体材料からなる第２の保護膜と、反射膜とを、この順または逆の順にて成膜することにより形成されていることを特徴としている。
【００２３】
【発明の実施の形態】
本発明の第１および第２の光学的情報記録媒体によれば、レーザ光が短波長で、且つレンズ開口数が高い光学系を用いた情報の記録再生においても、良好な信号品質と再生光耐久性を得ることができる。
【００２４】
本発明の第１の光学的情報記録媒体においては、前記第１の界面膜が、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、およびＴａから選ばれる少なくとも一つの元素の酸化物と、Ｃｒ、Ｍｏ、およびＷから選ばれる少なくとも一つの元素の酸化物との混合物を含むことが好ましく、さらに、前記混合物が、Ｃｒ、Ｍｏ、およびＷから選ばれる少なくとも一つの元素の酸化物を５ｍｏｌ％以上８０ｍｏｌ％以下（好ましくは１０ｍｏｌ％以上７０ｍｏｌ％以下、さらに好ましくは２０ｍｏｌ％以上５０ｍｏｌ％以下）含むことが好ましい。また、前記混合物がＳｉの酸化物をさらに含むことがより好ましく、Ｓｉの酸化物が前記混合物に対して５ｍｏｌ％以上６０ｍｏｌ％以下（より好ましくは１０ｍｏｌ％以上４０ｍｏｌ％以下）含まれることがより好ましい。より高い信号品質が得られ、さらに、記録膜と第１の界面膜との間に剥離が生じにくくなる等の環境信頼性も得られるからである。
【００２５】
本発明の第１および第２の光学的情報記録媒体が、レーザ光入射側から順に積層された第１の情報層〜第ｎの情報層（ｎは２以上の自然数）を含む多層構造の光学的情報記録媒体である場合は、前記第１の情報層〜第ｎの情報層の少なくとも一つ（好ましくは第ｎの情報層）を前記情報層と同様とすることが好ましい。これによれば、多層構造の光学的情報記録媒体の場合であっても、レーザ光が短波長で、且つレンズ開口数が高い光学系を用いた情報の記録再生において、良好な信号品質と再生光耐久性を得ることができる。
【００２６】
本発明の第１および第２の光学的情報記録媒体において、前記反射膜は、ＡｌまたはＡｌ合金からなる第１の膜とＡｇ合金からなる第２の膜とがレーザ光入射側からこの順に積層されて形成されていることが好ましい。より高い信号品質を得るためである。
【００２７】
本発明の第１および第２の光学的情報記録媒体において、前記記録膜が、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系合金膜、Ｇｅ−Ｓｎ−Ｓｂ−Ｔｅ系合金膜、Ａｇ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ系合金膜、Ｉｎ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系合金膜、およびＡｇ−Ｉｎ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系合金膜から選ばれるいずれか一つからなることが好ましい。より高い信号品質を得るためである。
【００２８】
本発明の光学的情報記録媒体の記録再生方法によれば、信号品質の高い高密度記録および再生が可能となる。
【００２９】
本発明の第１の光学的情報記録媒体の製造方法によれば、第１の基板をレーザ光入射側に配置される透明基板とすれば、第１の保護膜、第１の界面膜、記録膜、第２の界面膜、第２の保護膜の順に成膜して情報層を形成し、その後第２の基板（この場合は、レーザ光入射側と反対側に配置される保護基板）を形成することにより、本発明の第１の光学的情報記録媒体が形成できる。一方、第１の基板を保護基板とすれば、情報層の成膜順序を逆にして形成し、その後第２の基板（この場合は透明基板）を形成することにより、本発明の第１の光学的情報記録媒体を形成することも可能である。
【００３０】
本発明の第２の光学的情報記録媒体の製造方法によれば、第１の光学的情報記録媒体の製造方法の場合と同様に、レーザ光入射側に配置される透明基板上に情報層を形成し、その後でレーザ光入射側と反対側に配置される保護基板を形成する、あるいは、保護基板上に情報層を形成し、その後で透明基板を形成することにより、本発明の第２の光学的情報記録媒体を作製できる。
【００３１】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。
【００３２】
図１は、本発明の光学的情報記録媒体の一構成例を示す断面図である。図１に示すように、本発明の光学的情報記録媒体１においては、透明基板１１上に一つの情報層１２が設けられ、さらに保護基板１３が設けられている。この光学的情報記録媒体１に対し、対物レンズ４にて集光されたレーザ光を透明基板１１側から照射することにより、情報の記録再生が行われる。情報層１２は、レーザ光入射側から、第１の保護膜１４、第１の界面膜１５、記録膜１６、第２の界面膜１７、第２の保護膜１８、および反射膜１９がこの順に設けられて構成されている。この光学的情報記録媒体１に対し、透明基板１１の側から、レーザ光を対物レンズ４で集光して照射することにより、情報の記録再生を行う。
【００３３】
また、本発明の光学的情報記録媒体の別の構成例が図２に示されている。図２に示す光学的情報記録媒体２においては、透明基板１１上に、第１の情報層２１、分離層２２、第２の情報層２３、および保護基板１３がこの順に設けられている。対物レンズ４で集光されたレーザ光は、透明基板１１の側から入射される。二つの情報層のうち、レーザ光入射側の透明基板１１から遠くに配置されている第２の情報層２３の膜構成は、図１に示した光学的情報記録媒体１の情報層１２と同様である。一方、透明基板１１上に配置された第１の情報層２１についても、光学的情報記録媒体１の情報層１２と同様の膜構成とすることができる。ただし、この場合は、第１の情報層２１において十分な透過率が得られるように、反射膜の膜厚を例えば２０ｎｍ以下程度に薄くする、反射膜を省略する、または屈折率が高い（屈折率２．２以上程度の）光学干渉膜を反射膜のレーザ光入射側と反対の面に設ける、等が好ましい。この光学的情報記録媒体２の各情報層２１，２３に対し、透明基板１１の側から、レーザ光を対物レンズ４で集光して照射することにより、情報の記録再生を行う。なお、この光学的情報記録媒体２は多層記録媒体のうち情報層が２つ設けられた例であるが、さらに追加の情報層を、分離層を介して設けてもよい。その際、追加した情報層の膜構成を、光学的情報記録媒体１の情報層１２と同様としてもよい。
【００３４】
透明基板１１の材料としては、レーザ光の波長において略透明であることが好ましく、ポリカーボネイト、ポリメチルメタクリレート、ポリオレフィン、ノルボルネン系樹脂、紫外線硬化型樹脂、ガラス、あるいはこれらを適宜組み合わせたもの等を用いることができる。また、透明基板１１の厚さは特に限定されないが、０．０１〜１．５ｍｍ程度のものを用いることができる。
【００３５】
第１の保護膜１４および第２の保護膜１８の材料としては、例えば、Ｙ、Ｃｅ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、およびＴｅ等から選ばれる少なくとも一つの元素の酸化物、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、およびＰｂ等から選ばれる少なくとも一つの元素の窒化物、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、およびＳｉ等から選ばれる少なくとも一つの元素の炭化物、ＺｎまたはＣｄ等の硫化物、セレン化物またはテルル化物、ＭｇまたはＣａ等のフッ化物、Ｃ、Ｓｉ、およびＧｅ等から選ばれる少なくとも一つの元素の単体、あるいはこれらの混合物を用いることができる。中でも特に、略透明で熱伝導率の低い材料であるＺｎＳとＳｉＯ₂との混合物等が好ましい。
【００３６】
第１の界面膜１５の材料としては、例えばＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、ＷおよびＳｉ等から選ばれる少なくとも一つの元素の酸化物、またはこれらの酸化物を混合させた混合物（複合酸化物）を含むものを用いる。第１の界面膜１５の材料は、これらの酸化物または混合物を主成分として含んでいることが好ましい。ここで、主成分とは、少なくとも８０ｍｏｌ％以上の組成割合であることを示しているが、他の成分の影響を排除するためには９０ｍｏｌ％以上であることが好ましく、９５ｍｏｌ％以上であることがより好ましい。
【００３７】
中でも特に、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、ＮｂおよびＴａ等から選ばれる少なくとも一つの元素の酸化物をベースとし、Ｃｒ、ＭｏおよびＷ等から選ばれる少なくとも一つの元素の酸化物を添加した混合物は耐湿性の面で優れており、さらにＳｉ等の酸化物を添加した混合物は消去率をより高くすることができるので好ましい。混合物が、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、ＮｂおよびＴａ等から選ばれる少なくとも一つの元素の酸化物と、Ｃｒ、ＭｏおよびＷ等から選ばれる少なくとも一つの元素の酸化物とからなる場合は、Ｃｒ、ＭｏおよびＷ等から選ばれる少なくとも一つの元素の酸化物の混合物に対する含有量を、例えば５ｍｏｌ％以上８０ｍｏｌ％以下（好ましくは１０ｍｏｌ％以上７０ｍｏｌ％以下、より好ましくは２０ｍｏｌ％５０ｍｏｌ％以下）とすることができる。また、第１の界面膜１５の膜厚は特に限定されないが、薄すぎると界面膜としての効果が発揮できなくなり、厚すぎると記録感度低下につながるため、第１の保護膜１４よりも薄く、例えば１ｎｍ以上２０ｎｍ以下であることが好ましい。
【００３８】
第２の界面膜１７の材料としては、例えば炭素またはＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、ＷおよびＳｉ等から選ばれる少なくとも一つの元素の炭化物を用いることができる。第２の界面膜１７の膜厚は、高い再生光耐久性および大きな反射率変化による良好な信号品質を得るために、０．３ｎｍ以上３ｎｍ未満であることが好ましい。第２の界面膜１７の膜厚をこの範囲内にするのであれば、第１の界面膜１５は必ずしも上記の酸化物系の材料でなくてもよく、省略することも可能である。図３は、第２の界面膜１７の膜厚を０．３ｎｍ以上３ｎｍ未満の範囲内にして第１の界面膜１５を省略した情報層３１を含む光学的情報記録媒体３の構成を示す断面図である。
【００３９】
記録膜１６の材料としては、例えばＴｅおよびＳｂを含むカルコゲン材料からなる薄膜、即ちＧｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系合金薄膜、Ｇｅ−Ｓｎ−Ｓｂ−Ｔｅ系合金薄膜、あるいはＳｂ−Ｔｅの共晶組成をベースとしてＩｎ、Ｇｅ、Ａｕ、Ａｇ等を添加した合金薄膜等を用いることができる。
【００４０】
記録膜１６の膜厚は、２ｎｍ以上２０ｎｍ以下とすれば、十分なＣ／Ｎ比を得ることができる。記録膜１６が２ｎｍ未満の膜厚では十分な反射率および反射率変化が得られないためＣ／Ｎ比が低く、また、２０ｎｍを越える膜厚では記録膜１６の薄膜面内の熱拡散が大きいため高密度記録においてＣ／Ｎ比が低くなってしまう。
【００４１】
また、記録膜１６には、熱伝導率・光学定数等の調整、あるいは耐熱性・環境信頼性の向上等の目的で、Ｏ、Ｎ、Ｆ、Ｃ、Ｓ、およびＢから選ばれる一つまたは複数の元素を、必要に応じて記録膜１６全体の１０ａｔ％以内の組成割合の範囲で適宜添加してもよい。
【００４２】
反射膜１９の材料としては、例えば、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｂｉ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｎ、またはＣｒ等の金属や、あるいはこれらの合金材料を用いることができる。また、反射膜１９は複数の膜を組み合わせて構成されていても良い。例えば、レーザ光入射側から、ＡｌまたはＡｌ合金からなる膜（第１の膜）と、熱伝導率の高いＡｇ合金からなる膜（第２の膜）とをこの順に設けることもできる。なお、レーザ光入射側に設けられる第１の膜は、第２の膜よりも消衰係数ｋが大きい。このような反射膜１９を用いることにより、放熱効果とより大きな反射率および反射率変化とを両立できる。
【００４３】
なお、上記のような多層薄膜は、オージェ電子分光法、Ｘ線光電子分光法、および２次イオン質量分析法等の方法（例えば応用物理学会／薄膜・表面物理分科学会編「薄膜作製ハンドブック」共立出版株式会社、１９９１年等参照。）により、各膜の材料および組成を調べることが可能である。
【００４４】
保護基板１３の材料としては、透明基板１１と同様の材料を用いることもできるが、透明基板１１とは異なる材料としてもよく、用いるレーザ光の波長において透明でなくてもよい。また、保護基板１３の厚さは特に限定されないが、０．０１〜３．０ｍｍ程度のものを用いることができる。
【００４５】
また、多層記録媒体である光学的情報記録媒体２の場合、第１の情報層２１としては、少なくとも３０％以上の透過率が必要であるが、書き換え形の情報層のみならず、追記形または再生専用形のいずれの情報層とすることも可能である。
【００４６】
また、多層記録媒体である光学的情報記録媒体２の場合、分離層２２の材料としては、紫外線硬化型樹脂等を用いることができる。分離層２２の厚さは、第１の情報層２１および第２の情報層２３のいずれか一方を再生する際に他方からのクロストークが小さくなるように、少なくとも対物レンズ４の開口数ＮＡとレーザ光の波長λにより決定される焦点深度以上の厚さであることが必要であり、また、全ての情報層が集光可能な範囲に収まるように記録媒体全体の厚さを抑えることも必要である。例えば、λ＝４０５ｎｍ、ＮＡ＝０．８５の場合は、分離層２２の厚さは少なくとも５μｍ以上５０μｍ以下であることが必要である。
【００４７】
また、図１〜図３に示した光学的情報記録媒体１〜３の２枚を、それぞれの保護基板１３の側を対向させて貼り合わせ、両面構造とすることにより、記録媒体１枚あたりに蓄積できる情報量をさらに２倍にすることができる。
【００４８】
次に、本発明の光学的情報記録媒体の製造方法について説明する。
【００４９】
光学的情報記録媒体を構成している上記各薄膜は、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法、ＭＢＥ（Molecular Beam Epitaxy）法等の気相薄膜堆積法によって形成することができる。
【００５０】
例えば、光学的情報記録媒体１の場合は、透明基板１１上に、第１の保護膜１４、第１の界面膜１５、記録膜１６、第２の界面膜１７、第２の保護膜１８、および反射膜１９を順に成膜し、その後、保護基板１３を形成または貼り合わせることにより作製できる。また、逆に、保護基板１３上に、反射膜１９、第２の保護膜１８、第２の界面膜１７、記録膜１６、第１の界面膜１５、および第１の保護膜１４を順に成膜し、その後、透明基板１１を形成または貼り合わせてもよい。中でも特に、後者の方法は、透明基板１１の厚みが０．４ｍｍ以下程度のように薄い場合に適している。このように透明基板１１が薄い場合は、レーザ光案内用の溝であるグルーブやアドレス信号等の凹凸パターンは、保護基板１３の表面上に形成することが好ましい。このような凹凸パターンが形成された保護基板１３は、スタンパ等のあらかじめ所望の凹凸パターンが形成された転写用基板を用いて転写により形成される。
【００５１】
また、光学的情報記録媒体２の場合は、透明基板１１上に第１の情報層２１を形成し、その後、第１の情報層２１上に紫外線硬化型樹脂等を塗布して硬化させることにより分離層２２を形成する。また、この分離層２２の表面にグルーブやアドレス信号等の凹凸パターンを形成する場合は、第１の情報層２１上に紫外線硬化型樹脂等を塗布し、さらにその上に、あらかじめ所望の凹凸パターンが形成された転写用基板を重ね合わせて凹凸パターンを転写し、紫外線硬化型樹脂を硬化させた後に転写用基板を剥離する。次に、このように形成された分離層２２上に、第２の情報層２３として光学的情報記録媒体１の情報層１２と同様に多層膜を形成し、その後、保護基板１３を形成または貼り合わせる。このような方法により、多層記録媒体を形成することができる。なお、光学的情報記録媒体１の場合と同様に、保護基板１３上に各薄膜および分離層を順次形成した後、第１の情報層２１を形成し、さらに透明基板１１を貼り合わせる方法を用いることも可能である。
【００５２】
また、保護基板１３や分離層２２の表面に凹凸パターンを形成する際、特に分離層２２のようにその層厚が薄く、通常用いられているインジェクション法が困難な場合は、２Ｐ法（photo-poly merization法）を用いることも可能である。
【００５３】
次に、本発明の光学的情報記録媒体に対して情報信号を記録する方法について説明する。
【００５４】
本発明の光学的情報記録媒体に情報信号の記録を行う際には、レーザ光の強度を複数のパワーレベル間で変調する。レーザ光の強度を変調する手段としては、半導体レーザの駆動電流を変調する、あるいは電気光学変調器や音響光学変調器等を用いる等である。記録マークを形成する部分に対しては、ピークパワーＰ１の単一矩形パルスを用いてもよいが、特に長いマークを形成する場合は、過剰な熱を省き、マーク幅を均一にする目的で、図４に示すようにピークパワーＰ１およびボトムパワーＰ３（但し、Ｐ１＞Ｐ３）との間で変調された複数のパルスの列からなる記録パルス列を用いることが望ましい。また、最後尾のパルスの後に冷却パワーＰ４を印加する冷却区間を設けても良い。記録マークを形成しない部分に対しては、バイアスパワーＰ２（但し、Ｐ１＞Ｐ２）で一定に保つ。
【００５５】
少なくとも２つ以上の異なる線速度においてマークを記録する際には、Ｐ３／Ｐ１またはＰ３／Ｐ２が線速度が高い場合ほど大きくなるように、各パワーレベルを設定することが好ましい。そうすることで、高温条件下で保存した場合に、記録したマークの信号振幅が小さくなること、および記録したマークが消去しにくくなることを防止できる。
【００５６】
ここで、記録する記録マークの長さ、さらにはその前後のスペースの長さ等の各パターンによってマークエッジ位置に不揃いが生じ、ジッタ増大の原因となることがある。上記した本発明の光学的情報記録媒体の記録方法では、これを防止し、ジッタを改善するために、上記パルス列の各パルスの位置または長さをパターン毎にエッジ位置が揃うように必要に応じて調整し、補償することもできる。
【００５７】
【実施例】
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明する。なお、以下の実施例は本発明を限定するものではない。
【００５８】
（実施例１〜５および比較例１〜１３）
実施例１〜５は、本発明の光学的情報記録媒体の記録再生特性、中でも特にＣ／Ｎ比、消去率、および再生光耐久性の界面膜材料に対する依存性を示すものである。
【００５９】
実施例１〜５および比較例１〜１３の光学的情報記録媒体として、図１に示した光学的情報記録媒体１を作製した。保護基板１３としては、ポリカーボネイトからなる、直径約１２ｃｍ、厚さ約１．１ｍｍ、グルーブピッチ０．３２μｍ、グルーブ深さ約２０ｎｍの基板を用いた。
【００６０】
この保護基板１３のグルーブが形成された表面上に、情報層１２を構成する薄膜を順に成膜した。ここでは、各薄膜をスパッタリング法にて形成した。まず、保護基板１３上に、Ａｇ−Ｐｄ−Ｃｕ（原子数比９８：１：１）ターゲットを用いてＡｒガスを流しながら膜厚８０ｎｍのＡｇ−Ｐｄ−Ｃｕ膜を形成し、さらに、Ａｌターゲットを用いてＡｒガスを流しながら膜厚５ｎｍのＡｌ膜を形成した。この、Ａｇ−Ｐｄ−Ｃｕ膜およびＡｌ膜を反射膜１９とした。次に、混合物ＺｎＳ−ＳｉＯ₂ターゲット（ＺｎＳ：８０ｍｏｌ％、ＳｉＯ₂：２０ｍｏｌ％）を用いて、Ａｒガスを流しながら膜厚１５ｎｍの第２の保護膜１８を形成した。次に、所定の組成のターゲットを用いて膜厚５ｎｍの第２の界面膜１７を形成した。第２の界面膜１７の形成に用いたターゲットの組成は、各実施例および比較例において異なる。次に、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系ターゲット（原子数比４５：４：５１）を用いて、ＡｒおよびＮ₂ガス（流量比９８：２）を流しながら膜厚１０ｎｍの記録膜１６を形成した。次に、所定の組成のターゲットを用いて膜厚５ｎｍの第１の界面膜１５を形成した。第１の界面膜１５の形成に用いたターゲットの組成は、各実施例および比較例において異なる。次に、混合物ＺｎＳ−ＳｉＯ₂ターゲット（ＺｎＳ：８０ｍｏｌ％、ＳｉＯ₂：２０ｍｏｌ％）を用いて、Ａｒガスを流しながら膜厚５５ｎｍの第１の保護膜１４をスパッタリング法によりこの順に積層した。こうして形成された情報層１２の表面上（第１の保護膜１４上）に、紫外線硬化型樹脂を介して、ポリカーボネイトからなる厚さ約０．０９ｍｍ、直径約１２ｃｍのシートを貼り合わせ、その後、紫外線を照射して紫外線硬化型樹脂を硬化させることにより、厚さ約０．１ｍｍの透明基板１１を作製した。
【００６１】
ここで、各実施例および各比較例の光学的情報記録媒体における第１の界面膜１５および第２の界面膜１７には、様々な材料を用いた。界面膜として用いた材料（界面膜材料）、およびその成膜条件（ターゲット組成およびスパッタリングガス組成）を表１に示す。なお、スパッタリング法により形成された各膜の組成をオージェ電子分光法により分析した結果、形成された膜の組成はターゲットの組成とほぼ同じであることが確認された。
【００６２】
【表１】

【００６３】
また、実際に作製した実施例１〜５および比較例１〜１３の光学的情報記録媒体について、第１および第２の界面膜に用いた界面膜材料と、評価結果（Ｃ／Ｎ、消去比、および上限再生パワー）とを、表２に示す。なお、Ｃ／Ｎ、消去率、および上限再生パワーの具体的な評価方法は、次のとおりである。
【００６４】
各光学的情報記録媒体のグルーブ、即ちレーザ光入射側から見て凸になっている部分に対し、波長４０５ｎｍ・レンズ開口数０．８５の光学系を用い、線速４．５ｍ／ｓで回転させながら、１２．２ＭＨｚおよび３．３ＭＨｚの単一信号を交互に記録した。記録に用いたパルス波形はピークパワーＰ１およびバイアスパワーＰ２の間で変調された矩形パルスで、１２．２ＭＨｚの信号の場合はパルス幅１３．７ｎｓの単一パルス、３．３ＭＨｚの信号の場合は２０．５ｎｓの先頭パルスとこれに続く幅および間隔ともに６．９ｎｓの８個のサブパルスからなるパルス列とした。
【００６５】
この条件で、未記録のトラックに１２．２ＭＨｚおよび３．３ＭＨｚの信号を交互に合計１０回記録を行い、その上に１２．２ＭＨｚの信号を記録した場合のＣ／Ｎをスペクトラムアナライザーで測定した。さらに、その上に３．３ＭＨｚの信号を記録し、消去率、即ち１２．２ＭＨｚの振幅の減衰比を、同じくスペクトラムアナライザーで測定した。Ｐ１は振幅が最大より３ｄＢ低くなるパワーの１．３倍の値、Ｐ２は消去率が２５ｄＢを超えるパワー範囲の中心値を設定パワーとした。いずれの光学的情報記録媒体に対しても、設定パワーはＰ１が４．５〜５．５ｍＷ、Ｐ２が２．０〜２．５ｍＷの範囲内であった。そして、上記の設定パワーで１２．２ＭＨｚの信号を記録したトラックを、再生パワーを変えて連続再生し、Ｃ／Ｎの変化を測定した。１万回転する間にＣ／Ｎの低下が０．３ｄＢ以内であることを基準として上限の再生パワー（上限再生パワー）を求めた。以上のようにして求めた各光学的情報記録媒体の設定パワーにおけるＣ／Ｎ、消去率、および上限再生パワーを、次のように評価した。
【００６６】
（Ｃ／Ｎ評価）
◎：５４ｄＢ以上
○：５２ｄＢ以上５４ｄＢ未満
△：５０ｄＢ以上５２ｄＢ未満
×：５０ｄＢ未満
（消去率評価）
◎：３３ｄＢ以上
○：３０ｄＢ以上３３ｄＢ未満
△：２７ｄＢ以上３０ｄＢ未満
×：２７ｄＢ未満
（上限再生パワー評価）
◎：０．５ｍＷ以上
○：０．４ｍＷ以上０．５ｍＷ未満
△：０．３ｍＷ以上０．４ｍＷ未満
×：０．３ｍＷ未満
【００６７】
【表２】

【００６８】
この評価結果によると、第１の界面膜および第２の界面膜にＧｅ−Ｃｒ−Ｎを用いた比較例１の記録媒体は、Ｃ／Ｎおよび消去率は十分であるが、上限再生パワーが低く不十分であった。
【００６９】
比較例２〜４の記録媒体は、第１の界面膜を炭素または炭化物としたものであり、比較例１の場合よりも上限再生パワーが飛躍的に向上するものの、Ｃ／Ｎは低くなってしまった。また、比較例５〜７の記録媒体は、第２の界面膜を炭素または炭化物としたものであり、上限再生パワーは十分高いが、Ｃ／Ｎについては、比較例２〜４の場合より若干向上したものの、やはり不十分であった。
【００７０】
比較例８〜１０の記録媒体は、第１の界面膜を酸化物としたものであり、Ｃ／Ｎは比較例１の場合よりもさらに向上した。しかしながら、上限再生パワーについては、比較例１の場合よりも若干向上するものの、やはり不十分であった。また、比較例１１〜１３の記録媒体は、第２の界面膜を酸化物としたものであり、比較例８〜１０の場合と同様に高いＣ／Ｎが得られるが、上限再生パワーが低かった。
【００７１】
これに対し、実施例１〜５の記録媒体は、第１の界面膜を酸化物、第２の界面膜を炭素または炭化物としたものであり、十分なＣ／Ｎおよび消去率が得られ、上限再生パワーも非常に高かった。なかでも、第１の界面膜として、ＺｒＯ₂とＣｒ₂Ｏ₃の混合物にさらにＳｉＯ₂を加えた材料を用いた実施例３〜５の記録媒体は、より高い消去率が得られた。
【００７２】
以上のように、記録膜に対してレーザ光入射側と反対側に配置される第２の界面膜に炭素または炭化物を用いることで上限再生パワーが向上し、さらに、記録膜に対してレーザ光入射側に配置される第１の界面膜に酸化物を用いることで十分なＣ／Ｎおよび消去率が得られ、上限再生パワーがさらに向上することがわかった。
【００７３】
（参考例６〜１１および比較例１４〜１９）
参考例６〜１１は、本発明の光学的情報記録媒体の記録再生特性、中でも特にＣ／Ｎ比、消去率、および再生光耐久性の第２の界面膜の膜厚に対する依存性を示すものである。
【００７４】
比較例５の光学的情報記録媒体と同様の構成において、第２の界面膜の膜厚をそれぞれ変化させた参考例６〜１１および比較例１４〜１９の光学的情報記録媒体を、比較例５と同様の方法にて作製した。さらに、作製された参考例６〜１１および比較例１４〜１９の光学的情報記録媒体に対して、同様の方法にて評価を行った。各光学的情報記録媒体における第２の界面膜の膜厚および評価結果を、表３に示す。
【００７５】
【表３】

【００７６】
この評価結果によると、第２の界面膜、すなわち記録膜に対してレーザ光入射側と反対側に配置される界面膜の厚みが厚いほど、上限再生パワーが高くなることがわかった。しかしながら、第２の界面膜の厚みが３．０以上となると、Ｃ／Ｎは低くなった。また、消去率および上限再生パワーを高くするためには、第２の界面膜の膜厚を０．３ｎｍ以上とすることが必要であることも確認された。従って、第２の界面膜の膜厚を０．３ｎｍ以上３ｎｍ未満とすれば、第１の界面膜の材料に酸化物を用いない場合であっても、Ｃ／Ｎ、消去率、および上限再生パワーの全てを満足することが可能であることが確認された。
【００７７】
【発明の効果】
以上に説明したように、本発明の光学的情報記録媒体とその製造方法、並びにその記録再生方法によれば、短波長でレンズ開口数の高い光学系による記録再生においても再生光耐久性を高くすることができ、且つ、Ｃ／Ｎ、消去率といった信号品質の低下も抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の光学的情報記録媒体の構成例を示す断面図である。
【図２】本発明の光学的情報記録媒体の別の構成例を示す断面図である。
【図３】本発明の光学的情報記録媒体のさらに別の構成例を示す断面図である。
【図４】本発明の光学的情報記録媒体の記録再生に用いるレーザ光の変調波形の一例を示す波形図である。
【符号の説明】
１，２，３光学的情報記録媒体
４対物レンズ
１１透明基板
１２情報層
１３保護基板
１４第１の保護膜
１５第１の界面膜
１６記録膜
１７第２の界面膜
１８第２の保護膜
１９反射膜
２１第１の情報層
２２分離層
２３第２の情報層
３１情報層[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an optical information recording medium capable of recording / reproducing an information signal with high signal quality by irradiating a thin film formed on a substrate with a high energy beam such as a laser beam, and a method for manufacturing the same, The present invention relates to the recording / reproducing method.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, a thin film made of a chalcogen material or the like formed on a substrate is irradiated with a laser beam and locally heated, and an amorphous phase having different optical constants (refractive index n, extinction coefficient k) depending on the irradiation conditions. It is already widely known that it is possible to change the phase between the crystal phase and the crystal phase. In recent years, applying this phenomenon, research and development of so-called phase change type optical information recording media using a thin film made of a chalcogen material or the like as a recording film has been actively conducted.
[0003]
In an optical information recording medium of a phase change method, for example, an existing signal is irradiated by irradiating an information track with laser light modulated between at least two power levels of a recording level and an erasing level according to an information signal. It is possible to simultaneously record a new signal while erasing the signal.
[0004]
In such an optical information recording medium, it is general to use a multilayer film structure in which another film (a film other than the recording film) is laminated on the recording film. As other films, for example, a protective film made of a dielectric material, a reflective film made of a metal / alloy material, or the like is often laminated.
[0005]
Examples of the function of the protective film made of a dielectric material include the following.
[0006]
1) Function to protect the recording film from external mechanical damage
2) The function of reducing the number of repeated rewrites by reducing thermal damage such as thermal deformation of the substrate surface, tearing of the recording film, and evaporation of the recording film constituent material that occurs when signal rewriting is repeated.
3) Enhancement of optical change using interference effect due to multiple reflections
4) Blocks the influence of outside air on the recording film and prevents chemical changes in the recording film
[0007]
In order to make the protective film have the above functions, as a material constituting the protective film, Al ₂ O _Three TiO ₂ , SiO ₂ Oxides such as Si _Three N _Four And nitrides such as AlN, oxynitrides such as Si—O—N, sulfides such as ZnS, carbides such as SiC, or a mixture of these compounds (for example, ZnS—SiO ₂ ) And other materials have been proposed and used. Especially the mixture ZnS-SiO ₂ Belongs to a class having a considerably low thermal conductivity among dielectric materials, so that thermal diffusion generated when recording is performed by laser light or the like can be sufficiently suppressed, and recording sensitivity can be improved. Also, the mixture ZnS-SiO ₂ Since the internal stress is small, it is difficult to crack even when a thick film is formed, and because it has high adhesiveness to the recording film made of a phase change material, it is difficult to peel off even after repeated laser light irradiation. , Most often used.
[0008]
Furthermore, it has been proposed to provide an interface film between the recording film and the protective film. Examples of the function of the interface film include the following.
[0009]
1) Promoting crystallization of the recording film and improving erasing characteristics
2) Prevents interdiffusion of substances between the recording film and the protective film and improves durability in repeated recording
[0010]
Furthermore, it is desirable that the interface film also has environmental reliability such as no peeling from the recording film and no corrosion.
[0011]
As a material for such an interface film, for example, a nitride of Si or Ge is very excellent in the crystallization promoting effect and the substance diffusion preventing effect of the recording film (see, for example, Patent Documents 1 and 2). In particular, an interfacial film formed using a material containing Ge—N as a main component and further containing Cr or the like is hardly peeled off from the recording film even under high temperature and high humidity conditions. Therefore, such a material is one of the most suitable materials for forming the interface film.
[0012]
As a basic means for increasing the amount of information that can be stored in such an optical information recording medium, there is a method of improving the recording surface density by reducing the spot diameter of the laser beam. The spot diameter of the laser beam can be reduced by shortening the wavelength of the laser beam or increasing the numerical aperture of the objective lens for condensing the laser beam. In recent years, a blue laser diode with a wavelength of about 400 nm, which is approaching the stage of practical application, is applied to an optical system for recording and reproducing optical information recording media, and the numerical aperture of the objective lens of the optical system is increased (for example, And increasing the recording surface density by reducing the laser spot diameter from 0.60 used in DVD-RAM (DVD-Random Access Memory), etc., to about 0.85. ing. When the numerical aperture of the lens is increased in this way, the allowable width with respect to the tilt of the optical information recording medium is reduced. Therefore, the thickness of the transparent substrate on the laser light incident side is reduced from about 0.6 mm to about 0.1 mm for DVD-RAM or the like. It has also been proposed to make it thinner.
[0013]
Furthermore, in order to increase the amount of information that can be handled per optical information recording medium, the optical structure has a multilayer structure in which a plurality of layers for recording and reproducing information (hereinafter referred to as information layers in the present specification) are stacked. An information recording medium (hereinafter referred to as a multilayer recording medium in this specification) has also been proposed. In such a multilayer recording medium, the information layer disposed on the side closer to the laser light source absorbs the laser light, and therefore the information layer disposed on the side far from the laser light source is recorded and reproduced by the attenuated laser light. That is, there is a problem that sensitivity is lowered during recording and reflectance and amplitude are lowered during reproduction. Therefore, in the multilayer recording medium, it is necessary to increase the transmittance of the information layer disposed on the side closer to the laser light source, while the information layer disposed on the side far from the laser light source has a reflectance and a difference in reflectance ( The difference between the reflectance when the recording film is in the crystalline phase and the reflectance when the recording film is in the amorphous phase) and the sensitivity are increased so that sufficient recording / reproducing characteristics can be obtained with limited laser power. It is necessary to.
[0014]
[Patent Document 1]
Japanese Patent Laid-Open No. 5-217211
[0015]
[Patent Document 2]
International Publication Number WO97 / 34298 (pages 15-22, Fig. 2)
[0016]
[Problems to be solved by the invention]
When a blue laser and an objective lens with a high numerical aperture are used, the energy density of the laser beam increases, and the recording film included in the information layer absorbs the laser beam during reproduction, so that part of the recording mark disappears. The phenomenon of reproduction light deterioration is more likely to occur. Therefore, a film other than the recording film included in the information layer, for example, the above-described interface film absorbs light appropriately, thereby reducing the light absorption of the recording film and making it difficult to cause reproduction light deterioration, that is, improving the reproduction light durability. It is possible.
[0017]
However, according to this method, the change in reflectance becomes small, which causes a problem that the signal quality such as the C / N ratio is lowered.
[0018]
[Means for Solving the Problems]
The first optical information recording medium of the present invention includes a first protective film, a first interface film, a recording film whose optical characteristics reversibly change when irradiated with laser light, and a second interface. There is provided at least one information layer including a film, a second protective film, and a reflective film in this order, and the first interface film includes Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, An oxide of at least one element selected from W and Si;
The second interface film includes carbon or a carbide of at least one element selected from Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, and Si.
[0020]
The recording / reproducing method of the optical information recording medium of the present invention is a method of recording / reproducing with respect to the first or second optical information recording medium of the present invention, wherein the wavelength is 450 nm or less and the lens numerical aperture is 0. Recording and reproduction are performed using eight or more optical systems.
[0021]
According to the first method of manufacturing an optical information recording medium of the present invention, there is provided an optical information recording medium in which at least one information layer is formed on a first substrate, and a second substrate is formed on the information layer. In the manufacturing method, the information layer includes at least a first protective film made of a dielectric material and at least one selected from Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, and Si. A first interface film containing an oxide of an element, a recording film whose optical properties reversibly change by laser light irradiation, carbon, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, and A second interface film containing a carbide of at least one element selected from Si; a second protective film made of a dielectric material; , With reflective film Are formed by film formation in this order or in the reverse order.
[0023]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
According to the first and second optical information recording media of the present invention, good signal quality and reproduction light can be obtained even in information recording / reproduction using an optical system having a short wavelength laser beam and a high lens numerical aperture. Durability can be obtained.
[0024]
In the first optical information recording medium of the present invention, the first interface film includes an oxide of at least one element selected from Ti, Zr, Hf, V, Nb, and Ta, Cr, Mo, And an oxide of at least one element selected from W, and the mixture further contains an oxide of at least one element selected from Cr, Mo, and W in an amount of 5 mol% to 80 mol%. (Preferably 10 mol% to 70 mol%, more preferably 20 mol% to 50 mol%) is preferable. More preferably, the mixture further includes an oxide of Si, and the oxide of Si is more preferably included in an amount of 5 mol% to 60 mol% (more preferably 10 mol% to 40 mol%) with respect to the mixture. . This is because higher signal quality can be obtained, and furthermore, environmental reliability such that peeling between the recording film and the first interface film hardly occurs can be obtained.
[0025]
The first and second optical information recording media of the present invention have a multilayer structure including a first information layer to an nth information layer (n is a natural number of 2 or more) laminated in order from the laser beam incident side. In the case of a typical information recording medium, it is preferable that at least one of the first information layer to the n-th information layer (preferably the n-th information layer) is the same as the information layer. According to this, even in the case of an optical information recording medium having a multi-layer structure, good signal quality and reproduction can be achieved in recording / reproducing information using an optical system having a short wavelength laser beam and a high lens numerical aperture. Light durability can be obtained.
[0026]
In the first and second optical information recording media of the present invention, the reflective film is formed by laminating a first film made of Al or an Al alloy and a second film made of an Ag alloy in this order from the laser light incident side. It is preferable to be formed. This is to obtain higher signal quality.
[0027]
In the first and second optical information recording media of the present invention, the recording film is a Ge—Sb—Te alloy film, a Ge—Sn—Sb—Te alloy film, or an Ag—In—Sb—Te alloy. The film is preferably made of any one selected from a film, an In—Ge—Sb—Te alloy film, and an Ag—In—Ge—Sb—Te alloy film. This is to obtain higher signal quality.
[0028]
According to the recording / reproducing method of the optical information recording medium of the present invention, high-density recording and reproduction with high signal quality is possible.
[0029]
According to the first method for producing an optical information recording medium of the present invention, if the first substrate is a transparent substrate disposed on the laser beam incident side, the first protective film, the first interface film, the recording An information layer is formed by sequentially forming a film, a second interface film, and a second protective film, and then a second substrate (in this case, a protective substrate disposed on the side opposite to the laser light incident side) is formed. By forming, the first optical information recording medium of the present invention can be formed. On the other hand, if the first substrate is a protective substrate, the information layer is formed in the reverse order, and then the second substrate (in this case, a transparent substrate) is formed. It is also possible to form an optical information recording medium.
[0030]
According to the second method for manufacturing an optical information recording medium of the present invention, as in the case of the method for manufacturing the first optical information recording medium, the information layer is formed on the transparent substrate disposed on the laser beam incident side. And then forming a protective substrate disposed on the side opposite to the laser light incident side, or forming an information layer on the protective substrate and then forming a transparent substrate. An optical information recording medium can be produced.
[0031]
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
[0032]
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a structural example of the optical information recording medium of the present invention. As shown in FIG. 1, in the optical information recording medium 1 of the present invention, one information layer 12 is provided on a transparent substrate 11, and a protective substrate 13 is further provided. Information is recorded and reproduced by irradiating the optical information recording medium 1 with the laser beam condensed by the objective lens 4 from the transparent substrate 11 side. In the information layer 12, the first protective film 14, the first interface film 15, the recording film 16, the second interface film 17, the second protective film 18, and the reflective film 19 are arranged in this order from the laser light incident side. It is provided and configured. Information is recorded / reproduced by converging and irradiating the optical information recording medium 1 with the objective lens 4 from the transparent substrate 11 side.
[0033]
Another example of the configuration of the optical information recording medium of the present invention is shown in FIG. In the optical information recording medium 2 shown in FIG. 2, a first information layer 21, a separation layer 22, a second information layer 23, and a protective substrate 13 are provided in this order on a transparent substrate 11. The laser beam condensed by the objective lens 4 is incident from the transparent substrate 11 side. Of the two information layers, the film configuration of the second information layer 23 disposed far from the transparent substrate 11 on the laser beam incident side is the same as that of the information layer 12 of the optical information recording medium 1 shown in FIG. It is. On the other hand, the first information layer 21 disposed on the transparent substrate 11 can also have a film configuration similar to that of the information layer 12 of the optical information recording medium 1. However, in this case, the thickness of the reflective film is reduced to, for example, about 20 nm or less, the reflective film is omitted, or the refractive index is high so that sufficient transmittance can be obtained in the first information layer 21 (refractive index). It is preferable to provide an optical interference film (having a rate of about 2.2 or more) on the surface of the reflective film opposite to the laser light incident side. Information is recorded / reproduced by converging and irradiating each of the information layers 21 and 23 of the optical information recording medium 2 with the objective lens 4 from the transparent substrate 11 side. The optical information recording medium 2 is an example in which two information layers are provided in the multilayer recording medium, but an additional information layer may be provided via a separation layer. At this time, the film configuration of the added information layer may be the same as that of the information layer 12 of the optical information recording medium 1.
[0034]
The material of the transparent substrate 11 is preferably substantially transparent at the wavelength of the laser beam, and polycarbonate, polymethyl methacrylate, polyolefin, norbornene resin, ultraviolet curable resin, glass, or a combination of these is used as appropriate. be able to. Moreover, the thickness of the transparent substrate 11 is not particularly limited, but a thickness of about 0.01 to 1.5 mm can be used.
[0035]
Examples of the material of the first protective film 14 and the second protective film 18 include Y, Ce, Ti, Zr, Nb, Ta, Co, Zn, Al, Si, Ge, Sn, Pb, Sb, Bi, And at least one element selected from oxides of at least one element selected from Te, Te, etc., Ti, Zr, Nb, Ta, Cr, Mo, W, B, Al, Ga, In, Si, Ge, Sn, and Pb Nitride of one element, carbide of at least one element selected from Ti, Zr, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Si, etc., sulfide such as Zn or Cd, selenide or telluride, Mg or Ca Or a simple substance of at least one element selected from C, Si, Ge and the like, or a mixture thereof. In particular, ZnS and SiO, which are substantially transparent and low thermal conductivity materials ₂ And the like.
[0036]
As a material of the first interface film 15, for example, an oxide of at least one element selected from Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Si, or the like, or a mixture of these oxides is used. A mixture containing the mixed mixture (composite oxide) is used. The material of the first interface film 15 preferably contains these oxides or a mixture as a main component. Here, the main component indicates a composition ratio of at least 80 mol% or more, but preferably 90 mol% or more and 95 mol% or more in order to eliminate the influence of other components. Is more preferable.
[0037]
In particular, a mixture based on an oxide of at least one element selected from Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, and the like, and an oxide of at least one element selected from Cr, Mo, W, etc. is added. A mixture containing an oxide such as Si, which is excellent in terms of moisture resistance, is preferable because the erasure rate can be further increased. When the mixture is composed of an oxide of at least one element selected from Ti, Zr, Hf, V, Nb and Ta and an oxide of at least one element selected from Cr, Mo and W, Cr The content of the oxide of at least one element selected from Mo, W, and the like is, for example, 5 mol% or more and 80 mol% or less (preferably 10 mol% or more and 70 mol% or less, more preferably 20 mol% or less and 50 mol% or less). be able to. Further, the thickness of the first interface film 15 is not particularly limited, but if it is too thin, the effect as the interface film cannot be exhibited. If it is too thick, the recording sensitivity is lowered, so that it is thinner than the first protective film 14. For example, it is preferably 1 nm or more and 20 nm or less.
[0038]
As a material of the second interface film 17, for example, carbon or carbide of at least one element selected from Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Si, and the like can be used. The thickness of the second interface film 17 is preferably 0.3 nm or more and less than 3 nm in order to obtain high reproduction light durability and good signal quality due to a large change in reflectance. As long as the film thickness of the second interface film 17 falls within this range, the first interface film 15 does not necessarily have to be the above-described oxide-based material, and can be omitted. FIG. 3 is a cross-sectional view showing the configuration of the optical information recording medium 3 including the information layer 31 in which the thickness of the second interface film 17 is in the range of 0.3 nm to less than 3 nm and the first interface film 15 is omitted. FIG.
[0039]
As a material of the recording film 16, for example, a thin film made of a chalcogen material containing Te and Sb, that is, a Ge—Sb—Te alloy thin film, a Ge—Sn—Sb—Te alloy thin film, or a eutectic composition of Sb—Te is used. An alloy thin film to which In, Ge, Au, Ag, or the like is added as a base can be used.
[0040]
If the thickness of the recording film 16 is 2 nm or more and 20 nm or less, a sufficient C / N ratio can be obtained. When the recording film 16 has a thickness of less than 2 nm, sufficient reflectivity and change in reflectance cannot be obtained, so the C / N ratio is low. When the thickness exceeds 20 nm, thermal diffusion within the thin film surface of the recording film 16 is large. Therefore, the C / N ratio becomes low in high density recording.
[0041]
The recording film 16 may be one selected from O, N, F, C, S, and B for the purpose of adjusting thermal conductivity, optical constants, etc., or improving heat resistance and environmental reliability. A plurality of elements may be appropriately added within a composition ratio within 10 at% of the entire recording film 16 as necessary.
[0042]
As a material of the reflective film 19, for example, a metal such as Au, Ag, Cu, Al, Ni, Pd, Pt, Bi, Sb, Sn, Zn, or Cr, or an alloy material thereof can be used. The reflective film 19 may be configured by combining a plurality of films. For example, a film made of Al or an Al alloy (first film) and a film made of an Ag alloy having a high thermal conductivity (second film) can be provided in this order from the laser light incident side. Note that the first film provided on the laser light incident side has an extinction coefficient k larger than that of the second film. By using such a reflective film 19, it is possible to achieve both a heat dissipation effect and a larger reflectance and reflectance change.
[0043]
The multilayer thin film as described above can be obtained by methods such as Auger electron spectroscopy, X-ray photoelectron spectroscopy, and secondary ion mass spectrometry (for example, “Thin Film Production Handbook” edited by the Society of Applied Physics / Thin Film and Surface Physics Society). (See Kyoritsu Shuppan Co., Ltd., 1991, etc.)) It is possible to examine the material and composition of each film.
[0044]
The material of the protective substrate 13 can be the same material as that of the transparent substrate 11, but may be a material different from that of the transparent substrate 11 and may not be transparent at the wavelength of the laser light used. Moreover, the thickness of the protective substrate 13 is not particularly limited, but a thickness of about 0.01 to 3.0 mm can be used.
[0045]
In the case of the optical information recording medium 2 that is a multilayer recording medium, the first information layer 21 needs to have a transmittance of at least 30%, but not only a rewritable information layer but also a write-once or Any information layer of read-only type can be used.
[0046]
In the case of the optical information recording medium 2 that is a multilayer recording medium, an ultraviolet curable resin or the like can be used as the material of the separation layer 22. The thickness of the separation layer 22 is at least the numerical aperture NA of the objective lens 4 so that when one of the first information layer 21 and the second information layer 23 is reproduced, the crosstalk from the other becomes small. The thickness must be equal to or greater than the depth of focus determined by the wavelength λ of the laser beam, and it is also necessary to reduce the thickness of the entire recording medium so that all information layers can be collected. It is. For example, when λ = 405 nm and NA = 0.85, the thickness of the separation layer 22 needs to be at least 5 μm and 50 μm.
[0047]
Further, two optical information recording media 1 to 3 shown in FIGS. 1 to 3 are bonded to each other with the respective protective substrates 13 facing each other to form a double-sided structure. The amount of information that can be stored can be further doubled.
[0048]
Next, a method for manufacturing the optical information recording medium of the present invention will be described.
[0049]
The above-mentioned thin films constituting the optical information recording medium are vapor phase thin film deposition methods such as vacuum vapor deposition, sputtering, ion plating, CVD (Chemical Vapor Deposition), MBE (Molecular Beam Epitaxy), etc. Can be formed.
[0050]
For example, in the case of the optical information recording medium 1, on the transparent substrate 11, the first protective film 14, the first interface film 15, the recording film 16, the second interface film 17, the second protective film 18, The reflective film 19 can be formed in this order, and then the protective substrate 13 can be formed or bonded. Conversely, the reflective film 19, the second protective film 18, the second interface film 17, the recording film 16, the first interface film 15, and the first protective film 14 are sequentially formed on the protective substrate 13. Then, the transparent substrate 11 may be formed or bonded. In particular, the latter method is suitable when the thickness of the transparent substrate 11 is as thin as about 0.4 mm or less. When the transparent substrate 11 is thin as described above, it is preferable to form a concave / convex pattern such as a groove for guiding laser light and an address signal on the surface of the protective substrate 13. The protective substrate 13 on which such a concavo-convex pattern is formed is formed by transfer using a transfer substrate on which a desired concavo-convex pattern is formed in advance, such as a stamper.
[0051]
In the case of the optical information recording medium 2, the first information layer 21 is formed on the transparent substrate 11, and thereafter, an ultraviolet curable resin or the like is applied on the first information layer 21 and cured. A separation layer 22 is formed. Further, when forming a concave / convex pattern such as a groove or an address signal on the surface of the separation layer 22, an ultraviolet curable resin or the like is applied on the first information layer 21, and a desired concave / convex pattern is further formed thereon. The transfer substrate on which is formed is superposed to transfer the concave-convex pattern, and after the ultraviolet curable resin is cured, the transfer substrate is peeled off. Next, a multilayer film is formed as the second information layer 23 on the separation layer 22 thus formed in the same manner as the information layer 12 of the optical information recording medium 1, and then the protective substrate 13 is formed or pasted. Match. A multilayer recording medium can be formed by such a method. As in the case of the optical information recording medium 1, a method is used in which the thin film and the separation layer are sequentially formed on the protective substrate 13, the first information layer 21 is formed, and the transparent substrate 11 is further bonded. It is also possible.
[0052]
Further, when forming a concavo-convex pattern on the surface of the protective substrate 13 or the separation layer 22, especially when the layer thickness is thin as in the case of the separation layer 22 and the usual injection method is difficult, the 2P method (photo- It is also possible to use a polymerization method).
[0053]
Next, a method for recording an information signal on the optical information recording medium of the present invention will be described.
[0054]
When recording an information signal on the optical information recording medium of the present invention, the intensity of the laser beam is modulated between a plurality of power levels. As a means for modulating the intensity of the laser beam, the drive current of the semiconductor laser is modulated, or an electro-optic modulator, an acousto-optic modulator, or the like is used. A single rectangular pulse having a peak power P1 may be used for a portion where a recording mark is formed. However, particularly when a long mark is formed, in order to eliminate excessive heat and make the mark width uniform, As shown in FIG. 4, it is desirable to use a recording pulse train composed of a plurality of pulse trains modulated between peak power P1 and bottom power P3 (where P1> P3). Further, a cooling section in which the cooling power P4 is applied after the last pulse may be provided. The portion where the recording mark is not formed is kept constant at the bias power P2 (where P1> P2).
[0055]
When recording marks at at least two or more different linear velocities, it is preferable to set each power level so that P3 / P1 or P3 / P2 increases as the linear velocity increases. By doing so, it is possible to prevent the signal amplitude of the recorded mark from becoming small and the recorded mark from becoming difficult to erase when stored under high temperature conditions.
[0056]
Here, each pattern such as the length of the recording mark to be recorded and the length of the space before and after the recording mark may cause unevenness in the mark edge position, which may cause an increase in jitter. In the recording method of the optical information recording medium of the present invention described above, in order to prevent this and improve the jitter, the position or length of each pulse of the pulse train is set as necessary so that the edge position is aligned for each pattern. Can be adjusted and compensated.
[0057]
【Example】
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. The following examples do not limit the present invention.
[0058]
(Examples 1-5 and Comparative Examples 1-13)
Examples 1 to 5 show the dependency of the optical information recording medium of the present invention on the interface film material, particularly the C / N ratio, erasure rate, and reproduction light durability.
[0059]
As the optical information recording media of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 13, the optical information recording medium 1 shown in FIG. 1 was produced. As the protective substrate 13, a substrate made of polycarbonate and having a diameter of about 12 cm, a thickness of about 1.1 mm, a groove pitch of 0.32 μm, and a groove depth of about 20 nm was used.
[0060]
A thin film constituting the information layer 12 was sequentially formed on the surface of the protective substrate 13 on which the groove was formed. Here, each thin film was formed by sputtering. First, an Ag—Pd—Cu film having a thickness of 80 nm is formed on the protective substrate 13 while flowing Ar gas using an Ag—Pd—Cu (atomic ratio 98: 1: 1) target, and further an Al target. Was used to form an Al film having a thickness of 5 nm while flowing Ar gas. The Ag—Pd—Cu film and the Al film were used as the reflection film 19. Next, the mixture ZnS-SiO ₂ Target (ZnS: 80 mol%, SiO ₂ The second protective film 18 having a film thickness of 15 nm was formed while flowing Ar gas. Next, a second interface film 17 having a thickness of 5 nm was formed using a target having a predetermined composition. The composition of the target used for forming the second interface film 17 is different in each example and comparative example. Next, using a Ge—Sb—Te-based target (atomic ratio 45: 4: 51), Ar and N ₂ A recording film 16 having a thickness of 10 nm was formed while flowing a gas (flow rate ratio 98: 2). Next, a first interface film 15 having a thickness of 5 nm was formed using a target having a predetermined composition. The composition of the target used for forming the first interface film 15 is different in each example and comparative example. Next, the mixture ZnS-SiO ₂ Target (ZnS: 80 mol%, SiO ₂ : 20 mol%), the first protective film 14 having a film thickness of 55 nm was laminated in this order by sputtering while flowing Ar gas. On the surface of the information layer 12 thus formed (on the first protective film 14), a sheet of polycarbonate having a thickness of about 0.09 mm and a diameter of about 12 cm is bonded via an ultraviolet curable resin. The transparent substrate 11 having a thickness of about 0.1 mm was produced by irradiating ultraviolet rays to cure the ultraviolet curable resin.
[0061]
Here, various materials were used for the first interface film 15 and the second interface film 17 in the optical information recording media of the examples and the comparative examples. Table 1 shows materials used as the interface film (interface film material) and film formation conditions (target composition and sputtering gas composition). As a result of analyzing the composition of each film formed by the sputtering method by Auger electron spectroscopy, it was confirmed that the composition of the formed film was almost the same as the composition of the target.
[0062]
[Table 1]

[0063]
Further, for the optical information recording media of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 13 actually produced, the interface film materials used for the first and second interface films and the evaluation results (C / N, erase ratio) And upper limit reproduction power) are shown in Table 2. A specific evaluation method for C / N, erasure rate, and upper limit reproduction power is as follows.
[0064]
Each optical information recording medium is rotated at a linear velocity of 4.5 m / s using an optical system having a wavelength of 405 nm and a lens numerical aperture of 0.85 for the groove that is convex when viewed from the laser beam incident side. As a result, single signals of 12.2 MHz and 3.3 MHz were alternately recorded. The pulse waveform used for recording is a rectangular pulse modulated between the peak power P1 and the bias power P2, and in the case of a 12.2 MHz signal, a single pulse having a pulse width of 13.7 ns, in the case of a 3.3 MHz signal. A pulse train composed of a head pulse of 20.5 ns followed by 8 sub-pulses of 6.9 ns in both width and interval.
[0065]
Under this condition, a 12.2 MHz signal and a 3.3 MHz signal were alternately recorded on the unrecorded track 10 times in total, and the C / N when a 12.2 MHz signal was recorded thereon was measured with a spectrum analyzer. . Further, a 3.3 MHz signal was recorded thereon, and the erasure rate, that is, the amplitude attenuation ratio of 12.2 MHz was measured with a spectrum analyzer. P1 is set to 1.3 times the power at which the amplitude is 3 dB lower than the maximum, and P2 is set to the center value of the power range in which the erasure rate exceeds 25 dB. For any optical information recording medium, the set power was within the range of 4.5 to 5.5 mW for P1 and 2.0 to 2.5 mW for P2. Then, the track on which the 12.2 MHz signal was recorded with the above set power was continuously reproduced while changing the reproduction power, and the change in C / N was measured. The upper limit reproduction power (upper limit reproduction power) was determined on the basis that the decrease in C / N was within 0.3 dB during 10,000 revolutions. The C / N, erasure rate, and upper limit reproduction power at the set power of each optical information recording medium determined as described above were evaluated as follows.
[0066]
(C / N evaluation)
A: 54 dB or more
○: 52 dB or more and less than 54 dB
Δ: 50 dB or more and less than 52 dB
X: Less than 50 dB
(Erasure rate evaluation)
A: 33 dB or more
○: 30 dB or more and less than 33 dB
Δ: 27 dB or more and less than 30 dB
X: Less than 27 dB
(Upper limit playback power evaluation)
A: 0.5 mW or more
○: 0.4 mW or more and less than 0.5 mW
Δ: 0.3 mW or more and less than 0.4 mW
X: Less than 0.3 mW
[0067]
[Table 2]

[0068]
According to this evaluation result, the recording medium of Comparative Example 1 using Ge—Cr—N for the first interface film and the second interface film has sufficient C / N and erasure rate, but has an upper limit reproduction power. It was low and insufficient.
[0069]
In the recording media of Comparative Examples 2 to 4, the first interface film is made of carbon or carbide, and although the upper limit reproduction power is dramatically improved as compared with the case of Comparative Example 1, the C / N is lowered. Oops. The recording media of Comparative Examples 5 to 7 are those in which the second interface film is made of carbon or carbide, and the upper limit reproduction power is sufficiently high, but the C / N is slightly higher than in Comparative Examples 2 to 4. Although improved, it was still insufficient.
[0070]
In the recording media of Comparative Examples 8 to 10, the first interface film was an oxide, and the C / N ratio was further improved as compared with the case of Comparative Example 1. However, although the upper limit reproducing power is slightly improved as compared with the case of Comparative Example 1, it is still insufficient. In addition, the recording media of Comparative Examples 11 to 13 are those in which the second interface film is an oxide, and high C / N is obtained as in Comparative Examples 8 to 10, but the upper limit reproduction power is low. It was.
[0071]
On the other hand, the recording media of Examples 1 to 5 are those in which the first interface film is an oxide and the second interface film is carbon or carbide, and sufficient C / N and erasure rate are obtained. The upper limit playback power was also very high. Among these, as the first interface film, ZrO ₂ And Cr ₂ O _Three In addition to the mixture of ₂ In the recording media of Examples 3 to 5 using the material added with, a higher erasure rate was obtained.
[0072]
As described above, the upper limit reproduction power is improved by using carbon or carbide for the second interface film disposed on the opposite side to the laser beam incident side with respect to the recording film, and further, the laser beam is applied to the recording film. It has been found that by using an oxide for the first interface film disposed on the incident side, a sufficient C / N and erasure rate can be obtained, and the upper limit reproduction power is further improved.
[0073]
( reference Examples 6-11 and Comparative Examples 14-19)
reference Examples 6 to 11 show the recording / reproduction characteristics of the optical information recording medium of the present invention, particularly the dependency of the C / N ratio, erasure rate, and reproduction light durability on the thickness of the second interface film. is there.
[0074]
In the same configuration as the optical information recording medium of Comparative Example 5, the thickness of the second interface film was changed. reference Optical information recording media of Examples 6 to 11 and Comparative Examples 14 to 19 were produced in the same manner as in Comparative Example 5. In addition, produced reference The optical information recording media of Examples 6 to 11 and Comparative Examples 14 to 19 were evaluated by the same method. Table 3 shows the thickness and evaluation results of the second interface film in each optical information recording medium.
[0075]
[Table 3]

[0076]
According to this evaluation result, it was found that the upper limit reproduction power increases as the thickness of the second interface film, that is, the interface film disposed on the opposite side of the laser beam incidence side with respect to the recording film increases. However, when the thickness of the second interface film was 3.0 or more, C / N was low. It was also confirmed that the thickness of the second interface film must be 0.3 nm or more in order to increase the erasure rate and the upper limit reproduction power. Therefore, if the film thickness of the second interface film is 0.3 nm or more and less than 3 nm, C / N, erasure rate, and upper limit regeneration can be achieved even when no oxide is used as the material of the first interface film. It was confirmed that it was possible to satisfy all of the power.
[0077]
【The invention's effect】
As described above, according to the optical information recording medium, the manufacturing method thereof, and the recording / reproducing method of the present invention, the reproduction light durability is improved even in the recording / reproducing by the optical system having a short wavelength and a high lens numerical aperture. Can and C / N, erasure rate, etc. A decrease in signal quality can also be suppressed.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a configuration example of an optical information recording medium of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view showing another configuration example of the optical information recording medium of the present invention.
FIG. 3 is a cross-sectional view showing still another configuration example of the optical information recording medium of the present invention.
FIG. 4 is a waveform diagram showing an example of a modulation waveform of laser light used for recording / reproduction of the optical information recording medium of the present invention.
[Explanation of symbols]
1, 2, 3 Optical information recording medium
4 Objective lens
11 Transparent substrate
12 Information layer
13 Protection board
14 First protective film
15 First interface film
16 Recording film
17 Second interface film
18 Second protective film
19 Reflective film
21 First information layer
22 Separation layer
23 Second information layer
31 Information layer

Claims

The first protective film, the first interface film, the recording film whose optical characteristics are reversibly changed by laser light irradiation from the laser light incident side, the second interface film, the second protective film, and the reflective film There is at least one information layer included in order,
The first interface film includes an oxide of at least one element selected from Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W and Si;
The optical information recording medium characterized in that the front two interface films contain carbon or carbide of at least one element selected from Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W and Si. .

An optical information recording medium having a multilayer structure including a first information layer to an nth information layer (n is a natural number of 2 or more) stacked in order from the laser light incident side, wherein the first information layer to the first information layer The optical information recording medium according to claim 1, wherein at least one of the n information layers is the information layer.

The optical information recording medium according to claim 2, wherein at least the nth information layer is the information layer.

The first interface film includes an oxide of at least one element selected from Ti, Zr, Hf, V, Nb, and Ta and an oxide of at least one element selected from Cr, Mo, and W. The optical information recording medium according to claim 1, comprising a mixture.

The optical information recording medium according to claim 4, wherein the mixture contains 5 mol% or more and 80 mol% or less of an oxide of at least one element selected from Cr, Mo, and W.

The optical information recording medium according to claim 4, wherein the mixture further contains an oxide of Si.

The optical information recording medium according to claim 6, wherein the mixture contains 5 mol% or more and 60 mol% or less of an oxide of Si.

2. The optical information recording medium according to claim 1, wherein the thickness of the second interface film is not less than 0.3 nm and less than 3 nm .

An optical information recording medium having a multilayer structure including a first information layer to an nth information layer (n is a natural number of 2 or more) stacked in order from the laser light incident side, wherein the first information layer to the first information layer 9. The optical information recording medium according to claim 8, wherein at least one of the n information layers is the information layer.

The optical information recording medium according to claim 9, wherein at least the nth information layer is the information layer.

9. The optical film according to claim 1, wherein the reflective film is formed by laminating a first film made of Al or an Al alloy and a second film made of an Ag alloy in this order from the laser light incident side. Information recording medium.

The recording film includes a Ge—Sb—Te alloy film, a Ge—Sn—Sb—Te alloy film, an Ag—In—Sb—Te alloy film, an In—Ge—Sb—Te alloy film, and an Ag— film. The optical information recording medium according to claim 1 or 8, comprising any one selected from an In-Ge-Sb-Te alloy film.

A method for performing recording / reproduction with respect to the optical information recording medium according to claim 1 , wherein recording / reproduction is performed using an optical system having a wavelength of 450 nm or less and a lens numerical aperture of 0.8 or more. A recording / reproducing method for an optical information recording medium.

A method for producing an optical information recording medium, comprising forming at least one information layer on a first substrate and further forming a second substrate on the information layer,
The information layer includes at least a first protective film made of a dielectric material and an oxide of at least one element selected from Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, and Si. At least one selected from carbon, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, and Si, a first interface film, a recording film whose optical properties reversibly change by laser light irradiation, and It is formed by forming a second interface film containing carbides of two elements, a second protective film made of a dielectric material, and a reflective film in this order or in the reverse order. A method for manufacturing an optical information recording medium.

15. The method of manufacturing an optical information recording medium according to claim 14, wherein the thickness of the second interface film is not less than 0.3 nm and less than 3 nm .