JP3914745B2 - Laser processing object mounting table and laser processing apparatus provided with the same - Google Patents
Laser processing object mounting table and laser processing apparatus provided with the same Download PDFInfo
- Publication number
- JP3914745B2 JP3914745B2 JP2001341580A JP2001341580A JP3914745B2 JP 3914745 B2 JP3914745 B2 JP 3914745B2 JP 2001341580 A JP2001341580 A JP 2001341580A JP 2001341580 A JP2001341580 A JP 2001341580A JP 3914745 B2 JP3914745 B2 JP 3914745B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser processing
- laser
- processing object
- mounting
- mounting member
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 14
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 12
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 11
- 230000008569 process Effects 0.000 description 8
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 6
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 5
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 3
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 2
- 229920005177 Duracon® POM Polymers 0.000 description 1
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Laser Beam Processing (AREA)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザー加工対象物が載置される載置部と、これを支持する支持部とを有するレーザー加工対象物載置台、及びこれを備えるレーザー加工装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、この種のレーザー加工装置として、図8に示すようなX−Yテーブルを備えたものが知られている。図8において、X−Yテーブル4は、レーザー加工対象物載置台としての移動台5、これを支持しながら図示しない駆動手段によってX−Y方向(図中左右方向及び前後方向)に移動せしめる駆動部6などを備えている。移動台5は、レーザー加工対象物が載置される載置部としての載置部材5a、これを支持する支持部5bなどを有している。支持部5bは、載置部材5aを直接支持する直接支持部5cと、間接的に支持する間接支持部5dとからなり、内部には空気室5eが形成されている。空気室5eの天井を構成する直接支持部5cには、上述の載置部材5aが密着せしめられている。直接支持部5cと載置部材5aとには、それぞれ互いに連通する吸引孔5g、吸引孔5hが複数設けられており、直接支持部5cの方の吸引孔5dは更に上述の空気室5eに連通している。空気室5e内の空気が図示しない吸引手段によって吸引されて空気室5e内が負圧になると、載置部材5aに設けられた複数の吸引孔5gに吸引力が発生し、これによってレーザー加工対象物100が載置部材5a上に吸引固定される。このようにして固定されたレーザー加工対象物100は、移動台5上でX−Y方向に移動せしめられながら、図示しないレーザー光発生手段によってYAGレーザー光Lが局所的に照射されて照射部分が除去される。
【0003】
上記レーザー加工対象物100がITO(インジウム酸化スズ)等の光透過性材料から成ると、YAGレーザー光Lがレーザー加工対象物100を透過する。そして、移動台5に到達してこれにダメージを与えてしまうことになる。そこで、図示の移動台5においては、載置部材5aをYAGレーザー光Lに破壊されないガラス材で構成するとともに、直接支持部5cをYAGレーザー光Lに影響を受け難い(破壊され難い)ポリアセタール樹脂(商品名:ジュラコン)で構成している。レーザー加工対象物100を透過したYAGレーザー光Lは、更にガラス製の載置部材5aを透過した後、直接支持部5cに到達する。直接支持部5cを構成するポリアセタール樹脂は、YAGレーザー光Lによるダメージを全く受けないわけではないが、数msecといった単位のレーザー照射であれば問題ない。また、直接支持部5cは、このようにYAGレーザー光Lに強いポリアセタール樹脂から構成されていることに加えて、レーザー照射による影響が載置部材5aによって軽減されるため、実使用においてダメージを受けることが殆ど無い。載置部材5aが直接支持部5cへのレーザー照射の影響を軽減する理由は次の通りである。即ち、YAGレーザー光Lは、レーザー加工対象物100にその焦点が合うように発せられ、レーザー加工対象物100を透過すると拡散光になる。このため、透過後のYAGレーザー光Lは、レーザー加工対象物100から遠ざかるほど拡散が進行して単位面積あたりのエネルギー量が少なくなる。ガラス製の載置部材5aは、レーザー加工対象物100と直接支持部5cとの間に介在することで、このエネルギー量が十分に減衰した後に、YAGレーザー光Lが直接支持部5cに到達するようにしてその影響を軽減しているのである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、図8に示した従来の移動台5においては、空気室5e内に発生した負圧の影響により、載置部材5a上のレーザー加工対象物100だけでなく、直接支持部5cも空気室5e内に向けて引かれる。直接支持部5cには、レーザー加工対象物100やガラス製の載置部材5aを透過したYAGレーザー光Lを遮断させてアルミ等の金属からなる間接支持部5dへのダメージを回避するという目的から、剛性の強い金属材料ではなく、剛性の弱いポリアセタール樹脂を用いている。このため、空気室5eに向けて引かれ続ける直接支持部5cは、使用に伴って空気室5eに向けて微妙に撓んでくる。そして、この撓みにより、載置部材5a、レーザー加工対象物100も追従して撓んでしまい、加工精度が低下するという問題が発生してしまう。
【0005】
一方、電子回路部品の分野においては、レーザー加工対象物100として、例えば液晶パネル用のガラス基板などというように、フィルム状の薄いものを使用することがある。このようなフィルム状の薄いレーザー加工対象物100については、自らの腰の強さによって平面形状を維持させることができず、把持すると容易に撓んでしまうため、専用の収容ケースに複数枚収容するなどして搬送することになる。ところが、電子回路基板などの製造ラインでは、レーザー加工を施されたレーザー加工対象物100が、例えば半田ペースト印刷工程などといった後工程を経ることが少なくない。このような状況下では、レーザー加工対象物100を各工程においてその度に収容ケースから出し入れしなければならず、搬送作業が非常に厄介なものとなってしまう。
【0006】
本発明は、以上の背景に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、レーザー加工対象物の撓みに起因するレーザー加工精度の低下を抑え、しかも、加工後のレーザー加工対象物の搬送作業性を向上させることができるレーザー加工対象物載置台及びこれを備えるレーザー加工装置を提供することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、請求項1の発明は、レーザー加工対象物が載置される載置部と、該載置部に設けられた複数の孔と、該載置部を支持する支持部と、該支持部内で上記複数の孔に連通する気体収容室とを備え、該気体収容室に発生せしめられる負圧によって上記複数の孔から上記載置部上のレーザー加工対象物を吸引して固定するレーザー加工対象物載置台において、上記気体収容室の天井部分として機能させるようにした上記載置部を上記支持部に着脱可能に構成するとともに、該支持部として、底壁と、該底壁から立ち上がって該気体収容室内を複数に仕切る複数の内部仕切壁とを有するものを用い、該内部仕切壁に上記載置部を支持させるようにしたことを特徴とするものである。
【0009】
また、請求項2の発明は、レーザー加工対象物を載置するレーザー加工対象物載置台と、該レーザー加工対象物載置台上の該レーザー加工対象物に向けてレーザー光を照射するレーザー光照射手段とを備え、該レーザー光の照射によって該レーザー加工対象物を加工するレーザー加工装置において、上記レーザー加工対象物載置台として請求項1のものを用いたことを特徴とするものである。
【0010】
これらの発明においては、載置部を支持部に対して着脱可能に構成しているため、加工後のレーザー加工対象物を載置部と一緒に支持部から取り外して、そのまま後工程に搬送することが可能になる。よって、加工後のレーザー加工対象物の搬送作業性を向上させることができる。
また、載置部を取り外したレーザー加工対象物載置台については、別の載置部を取り付けることで新たなレーザー加工対象物のセッティングが可能になる。このようにして、載置部をレーザー加工対象物と一体的に取り扱うと、個々の載置部に対しては殆どレーザー加工対象物をレーザー加工しているときだけ気体収容室の負圧を作用させることになるため、その撓みを抑えることができる。更に、極めて長期間使用したことによって撓み方向に微妙に変形させてしまった載置部については、それを廃棄することで、その載置部の使用によるレーザー加工精度の低下を解消することができる。以上の結果、レーザー加工対象物の撓みに起因するレーザー加工精度の低下を抑えることができる。
【0011】
また、これらの発明においては、負圧の影響によって気体収容室に向けて引かれる載置部を、該気体収容室に設けた内部仕切壁によって撓ませないように支持するため、載置部の撓み方向への変形を抑えることができる。よって、レーザー加工対象物の撓みに起因するレーザー加工精度の低下を更に抑えることができる。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を適用したレーザー加工装置として、ハイブリッド型のタッチパネルの絶縁性透明基板上に形成された透明導電膜の一部を、スリット状に除去して透明電極を形成するレーザー加工装置の実施形態について説明する。
【0013】
まず、このレーザー加工装置の基本的な構成について説明する。図1は、本実施形態に係るレーザー加工装置の概略構成図である。図において、Qスイッチ10aで制御されるYAGレーザー光源部10から出射した波長λ=1064[nm]の近赤外光からなるYAGレーザー光(以下、単にレーザー光という)は、ステップインデックス型の光ファイバ2によって加工ヘッド3に導かれる。この加工ヘッド3は、複数のレンズから構成されたレンズ群3a、これらを収容するヘッドケース3b、レーザー出口3cなどを有している。加工ヘッド3に進入したレーザー光Lは、レンズ群3aによって集光せしめられながら、レーザー出口3cからレーザー加工対象物100に向けて出射される。
【0014】
レーザー加工対象物100は、透明なガラスやプラスチック材(例えばPET、ポリカーボネート)などからなる絶縁性の透明基材100cと、これの上に形成されたITO(インジウム酸化スズ)膜やネサ(酸化スズ)膜などからなる透明導電膜100bとから構成されている。
【0015】
上記レーザー出口3cから出射されたレーザー光Lは、この透明導電膜100bを照射して加熱・蒸発させる。この加熱・蒸発により、透明導電膜100bが部分的に除去されて、絶縁性の透明基材100c上に複数の透明電極が形成される。本レーザー加工装置では、加工ヘッド3内において、レンズ群3aによってレーザー光Lを集光せしめてレーザー加工対象物100に対する照射面積を小さくするため、そのエネルギー密度を高めて加工効率を向上させることができる。しかも、寸法の小さな加工パターンまで加工できるため、加工パターンの微細化も可能となる。
【0016】
透明導電膜100bが形成されたレーザー加工対象物100はX−Yテーブル4の移動台5上に固定されており、この移動台5は駆動部6内に配設されたリニアモータ6aで駆動されることで図中水平方向に2次元的に移動可能となっている。YAGレーザー光源部10、リニアモータ6aは、パーソナルコンピュータ11a、シーケンサ11b、同期連動型運転用の制御回路基板11c等からなる制御部11で制御される。例えば、制御部11はYAGレーザー光源部10の駆動部を制御し、これによってレーザー光の繰り返し周期が変更される。
【0017】
この制御部11により、YAGレーザー光源部10からのレーザー光の出力に応じてリニアモータ4aが駆動制御されてレーザー加工対象物100を移動させたり、移動台5の移動状態に応じてYAGレーザー光源部10からのレーザー光の出力が変化したりする。例えば、移動台5の移動開始や移動終了の際における加減速時に、透明導電膜100b上のレーザー光のエネルギー密度を一定にして均一な加工形状(テーパ形状)を形成できるようにする等の目的のために、移動台5の移動速度に応じて繰り返し周期をリアルタイムに変化させるように制御する。このような制御を行うことにより、移動台5の加速及び減速にそれぞれ100mm程度の助走を必要として移動台5の全体移動量が700mm×700mmであるところ、この助走が不要となって全体移動量を500mm×500mm程度まで短縮することができる。このことにより、従来のエッチング加工と同等もしくはそれ以上の加工速度(例えば1基板あたり35秒〜15秒程度)でスリット加工が可能となるとともに、寸法精度の向上を図り、焦げ付きや未加工部分の発生を防止することができる。なお、本実施形態に係るレーザー加工装置には上記移動台5の移動距離を検知するセンサを設けており、このセンサの出力に基づいてリニアモータ6aをフィードバック制御させるようにしている。
【0018】
図2は、本レーザー加工装置でのレーザー加工対象物100の加工によって電極パターンが形成されたタッチパネルの断面図である。また、図3(a)及び(b)はそれぞれ、同タッチパネルの分解斜視図及び平面図である。図2に示すように、タッチパネルは、各透明導電膜100bからなる透明電極が通常状態で接触しないように1組の上下タッチパネル基板101、102を所定の高さ(例えば9〜12μm)のスペーサー103を介して対向させた構造になっている。このタッチパネルを図2中の上方から押圧すると、上タッチパネル基板101が2点鎖線で示すように変形し、上下のタッチパネル基板101、102の透明電極同士が接触する。この接触による上下透明電極間の抵抗の変化から、押圧されたか否か及び押圧された位置を知ることができる。また、図3(a)及び(b)に示すように、上下のタッチパネル基板101、102のそれぞれには、互いに直交するスリット104、105が各透明導電膜100bに形成されている。
【0019】
本実施形態に係るレーザー加工装置は、図3(a)及び(b)に示すスリット104、105を、透明導電膜100bに形成するものである。真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング等によって表面に透明導電膜100b(厚さ=約500オングストローム)が形成されたレーザー加工対象物100は、透明導電膜100b側の上方に向けてX−Yテーブル4上にセットされる。セットされたレーザー加工対象物100の透明導電膜100bは、所定のスポット径に絞られたレーザー光が照射されながら移動台5とともにX−Y方向に移動せしめられる。この移動の過程で、数[μm]〜1000[μm]程度の幅のレーザー光の照射によって発生した熱によってレーザー光照射部分が蒸発して透明導電膜100bから除去され、各電極領域を絶縁するスリット104、105が形成される。
【0020】
以上の構成のレーザー加工装置では、エッチング処理を伴うフォトリソグラフィー法を用いることなく、透明導電膜100bを加工してレーザー加工対象物100(透明基材100c上)に複数の透明電極を形成することができる。このため、フォトレジストの現像液やエッチング液の廃液によって環境を汚すことなく、上下のタッチパネル基板101、102を製造することができる。また、透明電極のパターン形状を変える場合でも、フォトリソグラフィー用の遮光マスクを用いることなくCADデータに基づいた透明導電膜100bの加工を施してパターンに応じた複数の透明電極を形成することができる。このため、異なった電極パターンのタッチパネル用基板101、102についてそれぞれ専用の遮光パターンの遮光マスクを用意しなければならないといったフォトリソグラフィー法に起因するレジスト液除去作業によるリードタイムの延長化などといた不具合が起こらず、他品種少量生産といういわゆるオンデマンドの要求に対しても十分に対応することができる。
【0021】
一方、フォトリソグラフィー法を用いた電極加工では、フォトレジストの現像液やエッチング液等の廃液が発生して環境を汚してしまうという不具合がある。また、透明電極のパターンを変える場合は、フォトリソグラフィー用の遮光マスクを新規に作成しなければならないため、加工効率が悪く、他品種少量生産への対応及び低コスト化が難しかった。特に、ハイブリッド方式のタッチパネルのように透明導電膜100bに数本のスリットを形成するような場合でも、数百本のスリットを形成するデジタル方式のタッチパネルの場合と同じフォトリソグラフィー工程が必要になってくるため、加工部分が少ないにもかかわらず廃液の低減及び低コスト化を図ることが難しかった。
【0022】
次に、本実施形態に係るレーザー加工装置の特徴的な構成について説明する。
図4は、本レーザー加工装置のX−Yテーブルを示す断面図である。図において、X−Yテーブル4のレーザー加工対象物載置台たる移動台5は、従来のものと同様に、図示しないレーザー加工対象物が載置される載置部たる載置部材5aと、これを支持する支持部5bとを備えている。但し、載置部材5aは、載置面側に配設されるガラス層51と、反対面側に配設されるポリアセタール樹脂層52とからなる2層構造となっている。また、支持部5bは、アルミ製の一体物として形成されており、従来のように直接支持部と間接支持部とに別れた構造にはなっていない。支持部5b内の空気室5eは、複数の内部仕切壁56によって複数の部屋に仕切られており、各部屋をその上端で開口させている。即ち、気体収容室としての空気室5eの上端を覆う天井部分を備えていない。この天井部分の役割は載置部材5aが担っている。載置部材5aは支持部5bに対して着脱可能に構成されており、支持部5bに支持された状態で空気室5eの上端を覆ってその天井部分として機能するのである。載置部材5aの四隅付近にはそれぞれ孔53が設けられている。これらに位置決めピン55が挿入されてその先端が支持部5bに設けられた凹部54に係合すると、載置部材5aが支持部5b上に位置決め固定される。このように位置決め固定された載置部材5a上には、図5に示すようにレーザー加工対象物100が載置されてこれにレーザー加工が施される。なお、本実施形態において、内部仕切壁56によって仕切られた空気室5eの各部屋の平面寸法は15×15[mm]となっている。また、載置部材5a、支持部5bの平面寸法は、それぞれ450×350[mm]、550×550[mm]となっている。
【0023】
図6は、載置部材5aを部分的に示す拡大平面図である。図示のように、載置部材5aは、10×10[mm]の領域の四隅をそれぞれ中心とするように設けられた4つの吸引孔5gからなる吸引孔ユニットが複数設けられている。各吸引孔5gの直径φは1.0[mm]となっている。
【0024】
図7は、移動台5を部分的に示す拡大断面図である。図示のように、支持部5bの各内部仕切壁56は、載置部材5aに設けられた4つの吸引孔5gからなる吸引孔ユニットを囲むように配設されており、空気室5eの各部屋を連通させる連通孔57を備えている。この連通孔57を介して各部屋が吸引されることで、各部屋に負圧が発生せしめられるようになっている。
【0025】
以上の構成の移動台5においては、載置部材5aを支持部5bに対して着脱可能に構成しているため、レーザー加工後のレーザー加工対象物100を載置部材5aと一緒に支持部5bから取り外して、そのまま後工程に搬送することが可能になる。よって、加工後のレーザー加工対象物100の搬送作業性を向上させることができる。また、載置部材5aを取り外した後の移動台5については、別の載置部材5aを取り付けることで新たなレーザー加工対象物100のセッティングが可能になる。このようにして、載置部材5aをレーザー加工対象物100と一体的に取り扱うと、個々の載置部材5aに対しては殆どレーザー加工対象物100をレーザー加工しているときだけ空気室5eの負圧を作用させることになるため、その撓みを抑えることができる。また、極めて長期間使用したことによって撓み方向に微妙に変形させてしまった載置部材5aについては、それを廃棄することで、その載置部材5aの使用によるレーザー加工精度の低下を解消することができる。更に、負圧の影響によって空気室5eに向けて引かれる載置部材5aを、空気室5e内の内部仕切壁56によって撓ませないように支持するため、載置部材5aの撓み方向への変形を抑えることができる。以上の結果、レーザー加工対象物100の撓みに起因するレーザー加工精度の低下を効果的に抑えることができる。なお、内部仕切壁56の配設ピッチを調整することで、載置部材5aに対する撓みの抑制度合いを調整することができる。
【0026】
以上、本実施形態において、光ファイバ2としてステップインデックス型のものを設けたレーザー加工装置について説明したが、光伝送路での屈折や反射によってレーザー光のエネルギー分布を均一化せしめ得るものであれば、他のものを用いてもよい。
【0027】
また、移動台5の移動によって透明導電膜100bに対するレーザー光の走査を行わせているが、レーザー加工対象物100を固定したまま、レーザー光をガルバノミラー等のスキャン機構によって走査させたり、加工ヘッド3の移動によって走査させたりしてもよい。
【0028】
また、タッチパネル用の透明導電膜100bの加工に適用した場合について説明したが、本発明は、タッチパネルに限定されることなく、例えば液晶パネル用の透明導電膜を加工する場合にも適用することができ、同様な効果が得られるものである。
【0029】
また、透明導電膜100bの加工にレーザー光源としてのYAGレーザーを用いているが、本発明は、CO2レーザー等の他の赤外光レーザー、可視光レーザー、高周波レーザ、上記透明導電膜を主にアブレーションで除去するKrFエキシマレーザー等の紫外光レーザーを用いた場合にも適用が可能である。
【0030】
【発明の効果】
請求項1又は2の発明によれば、レーザー加工対象物の撓みに起因するレーザー加工精度の低下を抑え、しかも、加工後のレーザー加工対象物の搬送作業性を向上させることができるという優れた効果がある。
【0031】
更には、レーザー加工対象物の撓みに起因するレーザー加工精度の低下を更に抑えることができるという優れた効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施形態に係るレーザー加工装置を示す概略構成図。
【図2】同レーザー加工装置によって製造されるタッチパネルの拡大断面図。
【図3】(a)は同タッチパネルの分解斜視図。
(b)は同タッチパネルの平面図。
【図4】同レーザー加工装置のX−Yテーブルを示す断面図。
【図5】同X−Yテーブルをレーザー加工対象物とともに示す断面図。
【図6】同X−Yテーブルの載置部材を部分的に示す拡大平面図。
【図7】同X−Yテーブルの移動台を部分的に示す拡大断面図。
【図8】従来のレーザー加工装置のX−Yテーブルを示す断面図。
【符号の説明】
1 レーザー発生部
2 光ファイバ
3 加工ヘッド
3a レンズ群
3b ヘッドケース
3c レーザー出口
4 X−Yテーブル
5 移動台(載置台)
5a 載置部材
5b 支持部
5e 空気室(気体収容室)
5g 吸引孔
51 カラス層
52 ポリアセタール樹脂層
53 孔
54 凹部
55 位置決めピン
56 内部仕切壁
57 連通孔
6 駆動部
6a リニアモータ
100 レーザー加工対象物
100b 透明導電膜
100c 透明基材
101 上タッチパネル基板
102 下タッチパネル基板
103 スペーサー
104 スリット
105 スリット[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a laser processing object mounting table having a mounting part on which a laser processing object is mounted and a support part that supports the mounting part, and a laser processing apparatus including the same.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, as this kind of laser processing apparatus, an apparatus having an XY table as shown in FIG. 8 is known. In FIG. 8, an XY table 4 is a movable table 5 as a laser processing object mounting table, and a drive that supports the moving table 5 and moves in the XY directions (left and right directions and front and rear directions in the drawing) by a driving means (not shown).
[0003]
When the
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
Incidentally, in the conventional moving table 5 shown in FIG. 8, due to the negative pressure generated in the air chamber 5e, not only the
[0005]
On the other hand, in the field of electronic circuit components, a thin film-like object such as a glass substrate for a liquid crystal panel may be used as the
[0006]
The present invention has been made in view of the above background, and the object of the present invention is to suppress a decrease in laser processing accuracy due to the bending of the laser processing object, and to further improve the laser processing object after processing. It is to provide a laser processing object mounting table and a laser processing apparatus including the same that can improve the workability of conveyance.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above-described object, the invention of
[0009]
The invention of claim 2 is a laser processing object mounting table for mounting a laser processing object, and laser light irradiation for irradiating laser light toward the laser processing object on the laser processing object mounting table. And a laser processing apparatus for processing the laser processing object by irradiating the laser beam, wherein the laser processing object mounting table is the one described in
[0010]
In these inventions, since the mounting portion is configured to be detachable from the support portion, the processed laser processing object is removed from the support portion together with the mounting portion, and is transported to the subsequent process as it is. It becomes possible. Therefore, it is possible to improve the workability of conveying the laser processed object after processing.
Moreover, about the laser processing target object mounting stand from which the mounting part is removed, a new laser processing target object can be set by attaching another mounting part. In this way, when the mounting portion is handled integrally with the laser processing object, the negative pressure of the gas storage chamber acts on each mounting portion only when the laser processing object is almost laser processed. Therefore, the bending can be suppressed. Furthermore, with respect to the mounting portion that has been slightly deformed in the bending direction after being used for an extremely long time, by discarding the mounting portion, it is possible to eliminate a decrease in laser processing accuracy due to the use of the mounting portion. . As a result of the above, it is possible to suppress a decrease in laser processing accuracy due to the bending of the laser processing object.
[0011]
Further, in these inventions , in order to support the mounting portion drawn toward the gas storage chamber due to the negative pressure so as not to be bent by the internal partition wall provided in the gas storage chamber, Deformation in the bending direction can be suppressed. Therefore, it is possible to further suppress a decrease in laser processing accuracy due to the bending of the laser processing object.
[0012]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, as a laser processing apparatus to which the present invention is applied, implementation of a laser processing apparatus that forms a transparent electrode by removing a part of a transparent conductive film formed on an insulating transparent substrate of a hybrid touch panel into a slit shape A form is demonstrated.
[0013]
First, the basic configuration of this laser processing apparatus will be described. FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a laser processing apparatus according to the present embodiment. In the figure, YAG laser light (hereinafter simply referred to as laser light) composed of near-infrared light having a wavelength λ = 1064 [nm] emitted from the YAG laser
[0014]
The
[0015]
The laser light L emitted from the laser outlet 3c irradiates and heats and evaporates the transparent
[0016]
The
[0017]
The linear motor 4a is driven and controlled by the
[0018]
FIG. 2 is a cross-sectional view of a touch panel on which an electrode pattern is formed by processing the
[0019]
The laser processing apparatus according to this embodiment forms
[0020]
In the laser processing apparatus having the above configuration, the transparent
[0021]
On the other hand, in the electrode processing using the photolithography method, there is a problem in that waste liquid such as a photoresist developer or an etching solution is generated to contaminate the environment. In addition, when changing the pattern of the transparent electrode, it is necessary to newly create a light-shielding mask for photolithography, so that the processing efficiency is poor, and it is difficult to cope with small-quantity production of other types and to reduce the cost. In particular, even when several slits are formed in the transparent
[0022]
Next, a characteristic configuration of the laser processing apparatus according to the present embodiment will be described.
FIG. 4 is a cross-sectional view showing an XY table of the present laser processing apparatus. In the figure, a moving table 5 serving as a laser processing object mounting table of an XY table 4 includes a mounting member 5a serving as a mounting unit on which a laser processing object (not shown) is mounted, as in the prior art. The support part 5b which supports is provided. However, the mounting member 5a has a two-layer structure including a
[0023]
FIG. 6 is an enlarged plan view partially showing the mounting member 5a. As shown in the drawing, the mounting member 5a is provided with a plurality of suction hole units each including four
[0024]
FIG. 7 is an enlarged sectional view partially showing the movable table 5. As shown in the figure, each
[0025]
In the movable table 5 having the above configuration, the mounting member 5a is configured to be attachable to and detachable from the support portion 5b. Therefore, the laser processed
[0026]
As described above, in the present embodiment, the laser processing apparatus provided with the step index type as the optical fiber 2 has been described. However, as long as the energy distribution of the laser light can be made uniform by refraction and reflection in the optical transmission path. Other things may be used.
[0027]
Further, although the laser beam is scanned on the transparent
[0028]
Moreover, although the case where it applied to the process of the transparent
[0029]
Further, a YAG laser as a laser light source is used for processing the transparent
[0030]
【The invention's effect】
According to invention of
[0031]
Furthermore , there is an excellent effect that it is possible to further suppress a decrease in laser processing accuracy due to the bending of the laser processing object.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a laser processing apparatus according to an embodiment.
FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of a touch panel manufactured by the laser processing apparatus.
FIG. 3A is an exploded perspective view of the touch panel.
(B) is a plan view of the touch panel.
FIG. 4 is a sectional view showing an XY table of the laser processing apparatus.
FIG. 5 is a sectional view showing the XY table together with a laser processing object.
FIG. 6 is an enlarged plan view partially showing a placement member of the XY table.
FIG. 7 is an enlarged sectional view partially showing a moving table of the XY table.
FIG. 8 is a cross-sectional view showing an XY table of a conventional laser processing apparatus.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF
5a Mounting member 5b Support portion 5e Air chamber (gas storage chamber)
5
Claims (2)
上記気体収容室の天井部分として機能させるようにした上記載置部を上記支持部に着脱可能に構成するとともに、
該支持部として、底壁と、該底壁から立ち上がって該気体収容室内を複数に仕切る複数の内部仕切壁とを有するものを用い、
該内部仕切壁に上記載置部を支持させるようにしたことを特徴とするレーザー加工対象物載置台。 A mounting unit on which a laser processing object is mounted, a plurality of holes provided in the mounting unit, a support unit that supports the mounting unit, and a gas that communicates with the plurality of holes in the support unit In the laser processing object mounting table that includes the storage chamber and sucks and fixes the laser processing target object on the mounting portion from the plurality of holes by the negative pressure generated in the gas storage chamber,
While the above-mentioned mounting portion that is made to function as a ceiling portion of the gas storage chamber is configured to be detachable from the support portion ,
As the support portion, a bottom wall and a plurality of internal partition walls that rise from the bottom wall and partition the gas storage chamber into a plurality of parts are used.
A mounting table for a laser processing object, wherein the mounting portion is supported by the internal partition wall .
上記レーザー加工対象物載置台として請求項1のものを用いたことを特徴とするレーザー加工装置。Comprising a laser workpiece placing table for placing a Les Za workpiece, and a laser beam irradiating means for irradiating a laser beam toward the laser processing object on the mounting table the laser processing object, the laser beam In a laser processing apparatus for processing the laser processing object by irradiation of
The laser processing apparatus according to claim 1, wherein the laser processing object mounting table is the one of claim 1 .
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001341580A JP3914745B2 (en) | 2001-11-07 | 2001-11-07 | Laser processing object mounting table and laser processing apparatus provided with the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001341580A JP3914745B2 (en) | 2001-11-07 | 2001-11-07 | Laser processing object mounting table and laser processing apparatus provided with the same |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003136272A JP2003136272A (en) | 2003-05-14 |
| JP3914745B2 true JP3914745B2 (en) | 2007-05-16 |
Family
ID=19155587
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001341580A Expired - Fee Related JP3914745B2 (en) | 2001-11-07 | 2001-11-07 | Laser processing object mounting table and laser processing apparatus provided with the same |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3914745B2 (en) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009183997A (en) * | 2008-02-08 | 2009-08-20 | Lintec Corp | Workpiece supporter, and workpiece machining method using the supporter |
| JP7290996B2 (en) * | 2019-05-29 | 2023-06-14 | 積水化学工業株式会社 | film processing equipment |
| CN114799548A (en) * | 2022-04-06 | 2022-07-29 | 江苏峰质激光科技有限公司 | Laser cutting machine with ITO membrane pin layering peeling means |
-
2001
- 2001-11-07 JP JP2001341580A patent/JP3914745B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2003136272A (en) | 2003-05-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6300594B1 (en) | Method and apparatus for machining an electrically conductive film | |
| JP3933398B2 (en) | Beam processing equipment | |
| JP2021512481A (en) | Laser-induced forward transfer device and method for cream solder | |
| CN111992893B (en) | Laser processing device | |
| KR101463497B1 (en) | Laser direct imaging apparatus and imaging method | |
| JP3914745B2 (en) | Laser processing object mounting table and laser processing apparatus provided with the same | |
| JP4759172B2 (en) | Substrate manufacturing method | |
| CN113146061A (en) | Laser processing device and method for etching large-width conductive film by double light beams | |
| JP3050475B2 (en) | Processing method of ceramic green sheet | |
| JP2012055966A (en) | Laser beam machining device | |
| JPH11320141A (en) | Electro conductive film processing device | |
| JP2007157659A (en) | Method for forming wiring pattern of organic EL element and apparatus for forming organic EL element | |
| JP3854822B2 (en) | Beam processing method and apparatus, and touch panel substrate manufacturing method | |
| JP2002273585A (en) | Beam processing method and apparatus, and touch panel substrate manufacturing method | |
| JP2002273582A (en) | Beam processing apparatus and touch panel substrate manufacturing method | |
| JP4084224B2 (en) | Laser processing method | |
| CN114074227A (en) | Laser cutting method and laser cutting system for vibrating diaphragm | |
| JP2002248589A (en) | Laser processing method | |
| JP2004025281A (en) | Laser-beam machined workpiece placement table and laser beam machine equipped therewith | |
| JP2004230458A (en) | Laser processing equipment | |
| JP2007275902A (en) | Laser scribing method, electro-optical device, electronic equipment | |
| JP4159391B2 (en) | Laser processing method, laser processing apparatus, and light transmissive member for laser processing | |
| JPH11226773A (en) | Method and device for working conductive film | |
| JP2000176670A (en) | Optical processing device | |
| JPH11226771A (en) | Method and device for machining conductive film |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041026 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060714 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060721 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060915 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070112 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070205 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 3914745 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130209 Year of fee payment: 6 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130209 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160209 Year of fee payment: 9 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |