JP3928686B2 - Phosphor layer forming apparatus for plasma display panel and method for forming the same - Google Patents
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- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 79
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 37
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 6
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 3
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 3
- VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOCCOC(C)=O VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910004283 SiO 4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCO OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229910015999 BaAl Inorganic materials 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910005793 GeO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- WUOACPNHFRMFPN-UHFFFAOYSA-N alpha-terpineol Chemical compound CC1=CCC(C(C)(C)O)CC1 WUOACPNHFRMFPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- SQIFACVGCPWBQZ-UHFFFAOYSA-N delta-terpineol Natural products CC(C)(O)C1CCC(=C)CC1 SQIFACVGCPWBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 229940116411 terpineol Drugs 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
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- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、プラズマディスプレイパネル(以下PDPという)の製造工程に用いられ、表面に複数のリブ(隔壁)を有する基板の各リブ間に蛍光体層を形成する装置および形成する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来のPDPの蛍光体層形成装置や方法においては、複数のノズル(いわゆるマルチノズル)を有するノズルヘッドを用いて蛍光体ペーストをリブ間の溝に塗布するようにしたものが知られている。しかしながら、PDPの大型化、つまり基板の大型化に伴い、基板全面にわたって一度に塗布することが困難になり、基板の塗布領域をノズルヘッドの塗布可能幅に対応させて複数の小領域に分割し、その各小領域を順次ノズルヘッドで塗布するようになってきた。
【0003】
ところで、リブ間の溝に塗布される蛍光体ペーストの塗布量や蛍光体ペーストに含まれる蛍光物質の濃度などがばらつくと、それがPDPの表示特性に悪影響を及ぼすため、表示品質の高いPDPを得るためには、塗布量やペースト中の蛍光物質濃度などを高精度に管理する必要がある。
そのため、蛍光体ペーストの粘度を比較的低く設定し、蛍光体ペーストの表面張力を利用して塗布したり、ノズルの長さと口径との関係を種々制御するようにしたものが知られている(例えば、特開平11−40065号公報,特開平11−73882号公報参照)。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、表示品質の高い大型PDPを製造するためには、さらに次の点を解決する必要がある。
つまり、2つのリブ間の溝とノズルとの位置ずれにより、リブの内壁のみならず、いずれか一方のリブの頂上まで蛍光体ペーストが乗上げた状態で塗布されることがよく見られる。しかし、頂上まで塗布されるリブがいずれか一方に特定されず、それがノズルヘッドの塗布領域毎に異なると、その境界においてPDPの表示ムラ、いわゆるスジムラが生じる。
【0005】
この発明はこのような事情を考慮してなされたもので、頂上まで塗布するリブをいずれか一方に特定することにより、PDPの表示ムラの発生を防止することが可能な蛍光体層形成装置およびその形成方法を提供するものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】
この発明は、基板表面に並列に設けられた複数本のリブの間に形成される溝に蛍光体ペーストを塗布して蛍光体層を形成する装置であって、基板を載置する載置台と、蛍光体ペーストを吐出するノズルを有するノズルヘッドと、ノズルヘッドに蛍光体ペーストを供給する供給部と、ノズルヘッドがリブに平行に移動するようにノズルヘッドと載置台とを相対移動させるX方向移動部と、ノズルヘッドがリブに直交して移動するようにノズルヘッドと載置台とを相対移動させるY方向移動部と、前記供給部とX方向移動部とY方向移動部を駆動制御する制御部とを備え、制御部は、リブ間の溝に蛍光体ペーストを塗布するためにX方向移動部を駆動させるとき、ノズルを対応する2つのリブの中心から一方のリブの方向へ所定距離だけ偏るように初期設定することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの蛍光体層形成装置を提供するものである。
【0007】
別の観点からこの発明は、上記蛍光体層形成装置を用いたプラズマディスプレイパネルの蛍光体層形成方法であって、基板の蛍光体ペースト塗布領域をノズルヘッドのノズル数に対応させて複数の小領域に分割し、各小領域の溝に対して順次蛍光体ペーストを塗布することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの蛍光体層形成方法を提供するものである。
【0008】
【発明の実施の形態】
この発明において、ノズルは対応する2つのリブの中心から一方のリブの方向へ所定距離ΔLだけ偏るように初期設定されるが、その所定距離ΔLは、溝幅をWとするときW/4に設定されることが好ましい。このように設定することにより、ノズルが偏った方のリブに蛍光体ペーストが塗布されることになり、そのために必要な溝の中心とノズルとの溝幅方向の位置ずれの許容範囲を最大値(±W/4)にすることができる。
【0009】
この発明は、リブの位置を検出するセンサをさらに備え、制御部はそのセンサの検出結果に基づいてノズル位置を設定してもよい。
さらに、センサは基板に設けられた位置合わせマークに基づいてリブの位置を検出してもよい。
【0010】
この発明に係るプラズマディスプレイパネル(PDP)は、対向する2枚の基板間に局部的に放電を発生させ、基板上に区画形成された蛍光体層を励起・発光させるようにしたものである。これは、例えば、図1に示すような一対の基板アッセンブリ50,50aから構成(1画素分)される。
【0011】
基板アッセンブリ50aにおいては、前面側のガラス基板11の内面に、基板面に沿った面放電を生じさせるためのサステイン電極X,Yが、ライン毎に一対ずつ配列される。サステイン電極X,Yは、それぞれがITO薄膜からなる幅の広い直線帯状の透明電極41と金属薄膜からなる幅の狭い直線帯状のバス電極42とから構成される。
【0012】
バス電極42は、適正な導電性を確保するための補助電極である。サステイン電極X,Yを被覆するように誘電体層17が設けられ、誘電体層17の表面には保護膜18が蒸着される。誘電体層17及び保護膜18はともに透光性を有している。
【0013】
次に、基板アッセンブリ50においては、背面側のガラス基板21の内面に、サステイン電極X,Yと直交するようにアドレス電極Aが配列される。各アドレス電極Aの間に、帯状(図では直線状)の隔壁つまりリブrが1つずつ設けられる。
【0014】
基板アッセンブリ50では、隣接するリブrによってアドレス電極方向に連通した細長い溝状の放電空間30がライン方向にサブピクセル(単位発光領域)EU毎に区画され、且つ放電空間30の間隙寸法が規定される。
なお、隔壁はサステイン電極対の間の非放電部(逆スリット)に対応する部分で隔壁間間隔が狭くなるように蛇行させたり、狭くするための突起部を付属させたり、当該部位の隔壁間溝底部に隔壁よりも背の低い障壁を付属させることができ、本発明ではこれらの形状を含めて帯状と定義する。
【0015】
そして、細長い溝内にはアドレス電極Aの上部及びリブrの側面を含めて背面側の壁面を被覆するように、カラー表示のためのR,G,Bの3色の蛍光体層28が設けられる。
【0016】
リブrは低融点ガラスからなり、紫外線に対して不透明である。なお、リブrの形成方法としては、例えばベタ膜状の低融点ガラス層の上にフォトリソグラフィによってエッチングマスクを設け、サンドブラストでパターニングする工程が用いられる。
【0017】
マトリクス表示の1ラインにはサステイン電極対12が対応し、1列には1本のアドレス電極Aが対応する。そして、3列が1ピクセル(画素)EGに対応する。つまり、1ピクセルEGはライン方向に並ぶR,G,Bの3つのサブピクセルEUからなる。
【0018】
アドレス電極Aとサステイン電極Yとの間の対向放電によって、誘電体層17における壁電荷の蓄積状態が制御される。サステイン電極X,Yに交互にサステインパルスを印加すると、所定量の壁電荷が存在するサブピクセルEUで面放電(主放電)が生じる。
【0019】
蛍光体層28は、面放電で生じた紫外線によって局部的に励起されて所定色の可視光を放つ。この可視光の内、ガラス基板11を透過する光が表示光となる。リブrの配置パターンがいわゆるストライプパターンであることから、放電空間30の内の各列に対応した部分は、全てのラインに跨がって列方向に連続している。各列内のサブピクセルEUの発光色は同一である。
【0020】
このようなPDPの製造に際して、蛍光体層28は、図1に示すように、基板21上にアドレス電極Aとリブrを設けた後に形成される。
【0021】
また、蛍光体ペーストは、粉末状蛍光物質と合成樹脂を溶剤に溶かしたものであり、蛍光体ペーストにおける蛍光物質の含有量は60〜10重量%が適当である。
【0022】
蛍光体ペーストに含まれる蛍光物質はその発光色により異なり、具体的には、Y2 O3 :Eu、YVO4 :Eu、(Y,Gd)BO3 :Eu,Y2 O3 S:Eu、γ−Zn3 (PO4 )2 :Mn、(Zn,Cd)S:Ag(以上赤色)、Zn2 GeO2 :Mn、BaAl12O19:Mn、Zn2 SiO4 :Mn、LaPO4 :Tb、ZnS:(Cu,Al)、ZnS:(Au,Cu,Al)、(Zn,Cd)S:(Cu,Al)、Zn2 SiO4 :(Mn,As)、Y3 Al5 O12:Ce、Gd2 O2 S:Tb、Y3 Al5 O12:Tb、ZnO:Zn(以上緑色)、Sr5 (PO4 )3 Cl:Eu、BaMgAl14O23:Eu、BaMgAl16O27:Eu、BaMgAl10O17:Eu、ZnS:Ag、Y2 SiO3 :Ce(以上青色)等が上げられる。
【0023】
また、蛍光体ペーストに含まれる合成樹脂には当該分野で公知の樹脂をいずれも使用することができる。具体的には、エチルセルロース、ニトロセルロース、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール等が挙げられ、更に感光性樹脂等を含んでいてもよい。一方、溶剤としては、アルコール類、テルピネオール、ブチルカルビトールアセテート(BCA)、ブチルカルビトール、トルエン、酢酸ブチル等が挙げられる。
【0024】
蛍光体ペーストを吐出するノズルにおいて、ノズル内径はリブ間隔よりも小さくなるように設定されるが、ノズル先端はリブとリブとの間に挿入されることがないので、先端の外径はリブ間隔よりも大きくてもよい。例えば、リブの間隔が250〜300μmのときには、ノズルは内径200〜250μm、外径400〜450μm程度のものが好ましい。また、ノズルヘッドには、複数本(例えば、50〜150本)のノズルをリブピッチの整数倍のピッチで一列に配列したものを用いることができる。
【0025】
実施例
以下、図面に示す実施例に基づいてこの発明を詳述する。これによってこの発明が限定されるものではない。
図2はこの発明の実施例の構成を示す説明図であり、この実施例では図1に示すアドレス電極Aとリブrとを有する基板21に蛍光体層28を形成するため、蛍光体ペーストをリブrの間の溝に塗布する装置について説明する。
【0026】
図2において、マニピュレータ1はシャフト2を水平に保持しながら矢印Z1,Z2方向(Z軸方向)に昇降させるZ軸移動装置3a,3bと、シャフト2に支持されて矢印Y1,Y2方向(Y軸方向)に摺動するY軸移動装置4と、Z軸移動装置3a,3bを紙面に対して垂直(X軸方向)に往復移動させるX軸移動装置5a,5bと、基板21を載置するターンテーブル7を備える。ノズルヘッド51はY軸移動装置4の把手6に固定される。Y軸移動装置4は基板21上の位置決めマークを検出するセンサ66を備え、ターンテーブル7は回転装置8により軸9を中心に回転されるようになっている。
【0027】
蛍光体ペーストを収容する収容タンク52はチューブ53,54と電磁バルブ55を介して加圧タンク56に接続される。圧縮空気源(例えばエヤコンプレッサ)57は圧力調整器61,電磁バルブ62およびチューブ58,59,60を介して加圧タンク56に接続され、収容タンク52から加圧タンク56へ収容された蛍光体ペーストを加圧するようになっている。加圧タンク56は電磁バルブ63とチューブ64,65を介してノズルヘッド51へ接続されている。
【0028】
図3はノズルヘッド51の正面図であり、図4は図3のA−A矢視断面図である。
これらの図において、ノズルヘッド本体80はチューブ65から供給される蛍光体ペーストを収容する収容室81を内部に備え、本体80の底面には、収容室81に連通して下向きに突出する107本のノズルN1〜N107がピッチPnで一列に配列されている。
ここで、ノズルN1〜N107は長さが15mm,外径が400μm,内径が210μmである。
【0029】
図8は図2に示す装置の制御部を説明するブロック図である。マイクロコンピュータを内蔵する制御部103は、各種条件を入力するキーボード104およびセンサ66からの出力を受けて、圧力調整器61,電磁バルブ55,62,63,X軸移動装置5a,5bを駆動するX軸モータ105,Y軸移動装置4を駆動するY軸モータ106,Z軸移動装置3a,3bを駆動するZ軸モータ107および回転装置8を駆動するテーブル用モータ102を制御すると共に、キーボード104からの入力条件などをCRT108に表示させる。
【0030】
このような構成において、次のようにして図1に示す基板21のリブr間の溝にまず赤色用蛍光体ペーストが塗布される。この実施例では、基板21として42インチPDP(パネルサイズ980mm×580mm)用のものを使用し、予め表面には2569本のリブr(図1)がピッチPrで平行に設けられ、それによって2568本の溝が形成されている。
ここで、リブピッチPrは(1.08/3)mmに設定され、ノズルピッチPnとリブピッチPrとの関係は、Pn=6Prとなっている。
【0031】
そこで、図2に示す基板21はリブrの長手方向が紙面に垂直になるようにターンテーブル7の上に載置される。図6に示すように基板21の蛍光体ペースト塗布領域Sは1つの小領域が6×107本の溝を有するように境界線Lを境にして4つの小領域S1〜S4に分割され、まず、小領域S1から塗布工程が開始される。なお、基板21には図6に示すように塗布領域Sの外側に位置決めマークM1,M2が予め印刷されている。
【0032】
制御部103は、キーボード104からの起動信号を受けてノズルN1〜N107とリブrとの位置合わせおよびノズルN1〜N107とリブrとのギャップの調整をセンサ66からの出力を受けてX軸移動装置5a,5b,Y軸移動装置4,Z軸移動装置3a,3bおよび回転装置8をそれぞれ駆動して行う。この場合、ノズルN1〜N107は、図10に示すように対応する2つのリブrの中心から右側へW/4だけ偏るように初期設定される(Wはリブ間隔つまり溝幅であり、この実施例ではW=290μmとしている)。そして、予め収容タンク52に収容した赤色用の蛍光体ペーストの1部をバルブ55の作動により加圧タンク56に供給した後、圧縮空気源57から圧力調整器61と電磁バルブ62を介して空気圧を加圧タンク56に印加する。そこで電磁バルブ63を開くと蛍光体ペーストはノズルヘッド51に供給され、ノズルN1〜N107は図5に示すようにリブr間および右側のリブrの頂上に対する蛍光体ペーストの吐出を開始する。
【0033】
それと同時にX軸移動装置5a,5bによりノズルヘッド51をリブrの前端から後端へ前進させた後、電磁バルブ63を閉じてノズルN1〜N107の吐出を停止させる。それによってピッチPn,つまりピッチ6Prの107本の溝に全長にわたって蛍光体ペーストが塗布される。これによって図6の矢印(1)で示す工程が終了する。
【0034】
次に、Y軸移動装置4によりノズルヘッド51をY2方向(図2)に3Prだけ移動させる。次に、電磁バルブ63を開いてノズルN1〜N107から蛍光体ペーストを吐出させながら、ノズルヘッド51をX軸移動装置5a,5bによりリブrの後端から前端へ後退させた後、電磁バルブ63を閉じてノズルN1〜N107の吐出を停止させる。これによって図6の矢印(2)で示す工程が終了する。
【0035】
上記塗布工程を図6の矢印(3)〜(8)に示すようにくり返すことにより、赤色用蛍光体層を形成すべきすべての溝に赤色(R)用の蛍光体ペーストが塗布される。そして、小領域S1〜S4の各境界(図6のB部)の側面図は図7のようになる。図7において塗布されたペースト層P1〜P107はそれぞれノズルN1〜N107により形成されたものである。次に、図2と同等な装置をそれぞれ用いて緑色(G)用および青色(B)用の蛍光体ペーストを同様に塗布し、基板21に対する三色(R,G,B)の蛍光体ペーストの塗布作業を終了する。
【0036】
この場合、図6の小領域S1〜S4の各境界LのB部における側面図は図9のようになり、境界Lの両側のペースト層P1,P107はいずれも右側のリブの頂上に乗り上げるように形成されている。従って、境界Lにおいてペースト層の乗り上げるリブが左右にばらつかないためPDPの表示ムラ、つまりスジムラを生じることがない。
【0037】
以上のようにこの発明では特定のリブ(右側のリブ)だけにペースト層を確実に乗り上げさせるために、ノズルN1〜N107の位置を図10に示すように溝の中心からW/4だけ偏らせて初期設定しているが、それは次のような理由によるものである。
【0038】
図11に示すようにノズルN1から蛍光体ペーストPが吐出し始めると蛍光体ペーストPは表面張力によりノズル先端で球状となり、その径は2つのリブrの間隔以上になる。従って一方のリブrに蛍光体ペーストPを乗り上げさせるためにはノズルN1の中心が少なくともΔLだけそのリブ側に偏って設定されることが必要となる。しかし、ΔLを図12のように大きくしていくと蛍光体ペーストPがリブrを乗り越えて隣の溝へ移行する危険性があるため、ノズルN1の中心はそのリブrの内側(内壁面)を越えることができない。従って、ΔLの許容範囲は0<ΔL<W/2となり、ノズルN1の中心は対応する2つのリブの中心からW/4だけ偏って初期設定されることになる。
【0039】
なお、ノズルN1が移動を始めた後では、図13に示すようにノズルN1が許容範囲から多少はずれても蛍光体ペーストPは一方のリブrから他方のリブrへ乗り換えることはない。
以上、帯状のリブ間に形成される細長い溝内に連続的に蛍光体ペーストを塗布する例を説明したが、複数の凹部をマトリクス配列する網目形状のリブに対しても同じ列の凹部群が同色の蛍光体を配置される場合は当該列に連続的または断続的に蛍光体ペーストを吐出させて同列の凹所群に蛍光体塗布することも可能である。
【0040】
【発明の効果】
この発明によれば、ノズルヘッドのサイズに対応して基板上の塗布領域を分割して塗布作業を行っても、その塗布領域の境界において表示ムラを生じることがないので、大型PDPの表示品質を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明に係るPDPの要部構成を示す斜視図である。
【図2】この発明の実施例を示す構成説明図である。
【図3】この発明のノズルヘッドの正面図である。
【図4】図3のA−A矢視断面図である。
【図5】この発明の蛍光体ペースト塗布状況を示す説明図である。
【図6】この発明に係る基板の平面図である。
【図7】図6のB部拡大側面図である。
【図8】この発明の制御部を示すブロック図である。
【図9】図6のB部拡大側面図である。
【図10】この発明におけるノズルとリブとの位置関係を示す説明図である。
【図11】この発明におけるノズルとリブとの位置関係を示す説明図である。
【図12】この発明におけるノズルとリブとの位置関係を示す説明図である。
【図13】この発明におけるノズルとリブとの位置関係を示す説明図である。
【符号の説明】
1 マニピュレータ
2 シャフト
3a Z軸移動装置
3b Z軸移動装置
4 Y軸移動装置
5a X軸移動装置
5b X軸移動装置
6 把手
7 ターンテーブル
8 回転装置
9 軸
51 ノズルヘッド
52 収容タンク
53 チューブ
54 チューブ
55 電磁バルブ
56 加圧タンク
57 圧縮空気源
58 チューブ
59 チューブ
60 チューブ
61 圧力調整器
62 電磁バルブ
63 電磁バルブ
64 チューブ
65 チューブ
66 センサ
80 本体
81 収容室
N1 ノズル
N2 ノズル
N3 ノズル
N106 ノズル
N107 ノズル[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an apparatus and a method for forming a phosphor layer between ribs of a substrate which is used in a manufacturing process of a plasma display panel (hereinafter referred to as PDP) and has a plurality of ribs (partition walls) on the surface.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art Conventional PDP phosphor layer forming apparatuses and methods are known in which phosphor paste is applied to grooves between ribs using a nozzle head having a plurality of nozzles (so-called multi-nozzles). However, as the size of the PDP increases, that is, the size of the substrate increases, it becomes difficult to apply the entire surface of the substrate at once, and the substrate application region is divided into a plurality of small regions corresponding to the applicable width of the nozzle head. Each of the small areas has been sequentially applied with a nozzle head.
[0003]
By the way, if the amount of the phosphor paste applied to the groove between the ribs or the concentration of the phosphor contained in the phosphor paste varies, it adversely affects the display characteristics of the PDP. In order to obtain it, it is necessary to manage the coating amount and the concentration of the fluorescent substance in the paste with high accuracy.
Therefore, it is known that the viscosity of the phosphor paste is set to be relatively low and is applied by utilizing the surface tension of the phosphor paste, or the relationship between the nozzle length and the aperture is variously controlled ( For example, refer to JP-A-11-40065 and JP-A-11-73882).
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
However, in order to manufacture a large PDP with high display quality, it is necessary to further solve the following points.
That is, it is often seen that the phosphor paste is applied to the top of one of the ribs as well as the inner wall of the rib due to the positional deviation between the groove between the two ribs and the nozzle. However, if the ribs to be applied to the top are not specified as either one and are different for each application region of the nozzle head, uneven display of the PDP, so-called unevenness occurs at the boundary.
[0005]
The present invention has been made in consideration of such circumstances, and a phosphor layer forming apparatus capable of preventing the occurrence of display unevenness of a PDP by specifying one of the ribs to be applied up to the top, and The formation method is provided.
[0006]
[Means for Solving the Problems]
The present invention is an apparatus for forming a phosphor layer by applying a phosphor paste to a groove formed between a plurality of ribs provided in parallel on a substrate surface, and a mounting table on which a substrate is mounted; A nozzle head having a nozzle for discharging the phosphor paste, a supply unit for supplying the phosphor paste to the nozzle head, and an X direction in which the nozzle head and the mounting table are relatively moved so that the nozzle head moves in parallel with the rib A moving unit, a Y-direction moving unit that relatively moves the nozzle head and the mounting table so that the nozzle head moves perpendicular to the rib, and a control for driving and controlling the supply unit, the X-direction moving unit, and the Y-direction moving unit. And when the control unit drives the X-direction moving unit to apply the phosphor paste to the groove between the ribs, the nozzle is moved from the center of the corresponding two ribs to the direction of one rib by a predetermined distance. Be biased There is provided a phosphor layer forming apparatus of the plasma display panel, characterized in that the initial setting.
[0007]
From another point of view, the present invention provides a phosphor layer forming method for a plasma display panel using the above phosphor layer forming apparatus, wherein a plurality of small pastes corresponding to the number of nozzles of a nozzle head are applied to a phosphor paste application region of a substrate. The present invention provides a method for forming a phosphor layer of a plasma display panel, wherein the phosphor layer is divided into regions and a phosphor paste is sequentially applied to grooves in each small region.
[0008]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
In this invention, the nozzle is initially set so as to be deviated by a predetermined distance ΔL from the center of the corresponding two ribs in the direction of one rib. The predetermined distance ΔL is W / 4 when the groove width is W. It is preferably set. By setting in this way, the phosphor paste is applied to the rib on which the nozzle is biased, and the allowable range of positional deviation in the groove width direction between the center of the groove and the nozzle required for that purpose is the maximum value. (± W / 4).
[0009]
The present invention may further include a sensor that detects the position of the rib, and the control unit may set the nozzle position based on a detection result of the sensor.
Further, the sensor may detect the position of the rib based on an alignment mark provided on the substrate.
[0010]
The plasma display panel (PDP) according to the present invention is such that a discharge is locally generated between two opposing substrates to excite and emit light from a phosphor layer partitioned on the substrate. This is composed of a pair of
[0011]
In the substrate assembly 50a, a pair of sustain electrodes X and Y for generating surface discharge along the substrate surface are arranged on the inner surface of the
[0012]
The
[0013]
Next, in the
[0014]
In the
In addition, the barrier ribs meander in the portion corresponding to the non-discharge portion (reverse slit) between the pair of sustain electrodes so that the interval between the barrier ribs is narrowed, or a protrusion for narrowing is attached. A barrier having a height lower than that of the partition wall can be attached to the bottom of the groove. In the present invention, the shape including these shapes is defined as a belt shape.
[0015]
In the elongated groove,
[0016]
The rib r is made of low-melting glass and is opaque to ultraviolet rays. As a method for forming the ribs r, for example, a process of providing an etching mask by photolithography on a solid film-like low melting point glass layer and patterning by sandblasting is used.
[0017]
The
[0018]
By the opposing discharge between the address electrode A and the sustain electrode Y, the wall charge accumulation state in the
[0019]
The
[0020]
In manufacturing such a PDP, the
[0021]
Further, the phosphor paste is obtained by dissolving a powdery phosphor and a synthetic resin in a solvent, and the content of the phosphor in the phosphor paste is suitably 60 to 10% by weight.
[0022]
The fluorescent substance contained in the phosphor paste differs depending on the emission color. Specifically, Y 2 O 3 : Eu, YVO 4 : Eu, (Y, Gd) BO 3 : Eu, Y 2 O 3 S: Eu, γ-Zn 3 (PO 4 ) 2 : Mn, (Zn, Cd) S: Ag (above red), Zn 2 GeO 2 : Mn, BaAl 12 O 19 : Mn, Zn 2 SiO 4 : Mn, LaPO 4 : Tb , ZnS: (Cu, Al) , ZnS: (Au, Cu, Al), (Zn, Cd) S: (Cu, Al),
[0023]
In addition, any resin known in the art can be used as the synthetic resin contained in the phosphor paste. Specific examples include ethyl cellulose, nitrocellulose, acrylic resin, polyvinyl alcohol, and the like, and may further contain a photosensitive resin. On the other hand, examples of the solvent include alcohols, terpineol, butyl carbitol acetate (BCA), butyl carbitol, toluene, and butyl acetate.
[0024]
In the nozzle that discharges the phosphor paste, the nozzle inner diameter is set to be smaller than the rib interval, but the nozzle tip is not inserted between the ribs, so the outer diameter of the tip is the rib interval. May be larger. For example, when the rib interval is 250 to 300 μm, the nozzle preferably has an inner diameter of about 200 to 250 μm and an outer diameter of about 400 to 450 μm. In addition, a nozzle head in which a plurality of (for example, 50 to 150) nozzles are arranged in a line at a pitch that is an integral multiple of the rib pitch can be used.
[0025]
The present invention will be described in detail below based on the embodiments shown in the drawings. This does not limit the invention.
FIG. 2 is an explanatory view showing the structure of the embodiment of the present invention. In this embodiment, the
[0026]
In FIG. 2, the
[0027]
A
[0028]
3 is a front view of the
In these drawings, the nozzle head
Here, the nozzles N1 to N107 have a length of 15 mm, an outer diameter of 400 μm, and an inner diameter of 210 μm.
[0029]
FIG. 8 is a block diagram illustrating a control unit of the apparatus shown in FIG. The
[0030]
In such a configuration, the red phosphor paste is first applied to the grooves between the ribs r of the
Here, the rib pitch Pr is set to (1.08 / 3) mm, and the relationship between the nozzle pitch Pn and the rib pitch Pr is Pn = 6Pr.
[0031]
Therefore, the
[0032]
The
[0033]
At the same time, after the
[0034]
Next, the Y-
[0035]
By repeating the application process as indicated by arrows (3) to (8) in FIG. 6, the red (R) phosphor paste is applied to all the grooves where the red phosphor layer is to be formed. . And the side view of each boundary (B section of FIG. 6) of small area | region S1-S4 becomes like FIG. In FIG. 7, the applied paste layers P1 to P107 are formed by nozzles N1 to N107, respectively. Next, the phosphor pastes for green (G) and blue (B) are applied in the same manner using the same apparatus as in FIG. 2, and the phosphor pastes of three colors (R, G, B) for the
[0036]
In this case, the side view at the B portion of each boundary L of the small regions S1 to S4 in FIG. 6 is as shown in FIG. 9, and the paste layers P1 and P107 on both sides of the boundary L run on the top of the right rib. Is formed. Accordingly, since the ribs on the paste layer do not vary from side to side at the boundary L, display unevenness of the PDP, that is, uneven stripes does not occur.
[0037]
As described above, in the present invention, in order to make sure that the paste layer runs on only the specific rib (right rib), the positions of the nozzles N1 to N107 are offset by W / 4 from the center of the groove as shown in FIG. This is because of the following reasons.
[0038]
As shown in FIG. 11, when the phosphor paste P starts to be ejected from the nozzle N1, the phosphor paste P becomes spherical at the tip of the nozzle due to surface tension, and its diameter becomes more than the interval between the two ribs r. Therefore, in order to make the phosphor paste P ride on one rib r, it is necessary that the center of the nozzle N1 is set to be biased to the rib side by at least ΔL. However, if ΔL is increased as shown in FIG. 12, there is a risk that the phosphor paste P will move over the rib r and move to the adjacent groove, and therefore the center of the nozzle N1 is the inner side (inner wall surface) of the rib r. Cannot be exceeded. Accordingly, the allowable range of ΔL is 0 <ΔL <W / 2, and the center of the nozzle N1 is initially set with a deviation of W / 4 from the center of the corresponding two ribs.
[0039]
After the nozzle N1 starts moving, the phosphor paste P does not transfer from one rib r to the other rib r even if the nozzle N1 slightly deviates from the allowable range as shown in FIG.
As described above, the example in which the phosphor paste is continuously applied in the long and narrow groove formed between the strip-shaped ribs has been described. When phosphors of the same color are arranged, it is also possible to discharge phosphor paste continuously or intermittently to the row and apply the phosphor to the recesses in the row.
[0040]
【The invention's effect】
According to the present invention, even if the coating operation is performed by dividing the coating area on the substrate corresponding to the size of the nozzle head, display unevenness does not occur at the boundary of the coating area. Can be improved.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a perspective view showing a configuration of a main part of a PDP according to the present invention.
FIG. 2 is a configuration explanatory view showing an embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a front view of a nozzle head according to the present invention.
4 is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 3;
FIG. 5 is an explanatory view showing a phosphor paste application state of the present invention.
FIG. 6 is a plan view of a substrate according to the present invention.
7 is an enlarged side view of a portion B in FIG. 6. FIG.
FIG. 8 is a block diagram showing a control unit of the present invention.
9 is an enlarged side view of a portion B in FIG. 6. FIG.
FIG. 10 is an explanatory diagram showing a positional relationship between a nozzle and a rib in the present invention.
FIG. 11 is an explanatory diagram showing a positional relationship between a nozzle and a rib in the present invention.
FIG. 12 is an explanatory diagram showing a positional relationship between a nozzle and a rib in the present invention.
FIG. 13 is an explanatory diagram showing a positional relationship between a nozzle and a rib in the present invention.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF
Claims (6)
複数本のノズルをリブピッチの3n倍のピッチで一列に配列したノズルヘッドと、該ノズルヘッドをリブと平行にn回移動させてノズル本数とその配列ピッチとの積で表される幅に相当する小領域の所定の溝内に所定色の蛍光体ペーストを塗布した後、小領域幅相当分ノズルヘッドを基板と相対的にシフトして小領域単位での蛍光体塗布を行う装置構成を有し、かつ前記ノズルヘッドの全てのノズルの中心位置を塗布すべき溝の中心位置からそれぞれ溝幅の1/4相当分一方のリブの方向へ偏る位置に設定する機構を備えてなることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの蛍光体層形成装置。The grooves formed by the multiple ribs are arranged at a predetermined pitch on the substrate surface a phosphor paste is applied to a device for forming a phosphor layer,
This corresponds to a nozzle head in which a plurality of nozzles are arranged in a line at a pitch of 3n times the rib pitch, and a width represented by the product of the number of nozzles and the arrangement pitch by moving the nozzle head n times in parallel with the ribs. After applying a phosphor paste of a predetermined color in a predetermined groove of a small area, the apparatus has a configuration in which the phosphor head is applied in small area units by shifting the nozzle head relative to the substrate by an amount corresponding to the small area width. and characterized in that it comprises a mechanism for setting the 1/4 equivalent biased to one of the ribs in the direction positions of the respective groove widths of the center positions of all of the nozzles from the center position of the groove to be coated cloth of the nozzle head A phosphor layer forming apparatus for a plasma display panel.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24565899A JP3928686B2 (en) | 1999-08-31 | 1999-08-31 | Phosphor layer forming apparatus for plasma display panel and method for forming the same |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24565899A JP3928686B2 (en) | 1999-08-31 | 1999-08-31 | Phosphor layer forming apparatus for plasma display panel and method for forming the same |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001076619A JP2001076619A (en) | 2001-03-23 |
| JP3928686B2 true JP3928686B2 (en) | 2007-06-13 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP24565899A Expired - Fee Related JP3928686B2 (en) | 1999-08-31 | 1999-08-31 | Phosphor layer forming apparatus for plasma display panel and method for forming the same |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3928686B2 (en) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL1020312C2 (en) | 2002-04-05 | 2003-10-07 | Otb Groep B V | Method and device for manufacturing a display, such as for example a polymeric OLED display, a display and a substrate for use in the method. |
| JP5104533B2 (en) * | 2008-05-13 | 2012-12-19 | パナソニック株式会社 | Plasma display panel |
-
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- 1999-08-31 JP JP24565899A patent/JP3928686B2/en not_active Expired - Fee Related
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|---|---|
| JP2001076619A (en) | 2001-03-23 |
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| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
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