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JP3948411B2 - Multilayer ceramic substrate and manufacturing method thereof - Google Patents
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JP3948411B2 - Multilayer ceramic substrate and manufacturing method thereof - Google Patents

Multilayer ceramic substrate and manufacturing method thereof Download PDF

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JP3948411B2 JP2003026360A JP2003026360A JP3948411B2 JP 3948411 B2 JP3948411 B2 JP 3948411B2 JP 2003026360 A JP2003026360 A JP 2003026360A JP 2003026360 A JP2003026360 A JP 2003026360A JP 3948411 B2 JP3948411 B2 JP 3948411B2
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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、多層セラミック基板およびその製造方法に関するもので、特に、めっき工程における表面電極およびビアホール内へのめっき液の浸入を防止するための改善に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、高周波化および高密度化が進むICやLSI等の半導体素子を搭載する多層セラミック基板に対して、電気的特性を損なわないよう品質を安定させる要求が高まっている。
【0003】
多層セラミック基板は、例えば特許文献1に記載されているように、一般に、次のようにして製造されている。
【0004】
まず、低温焼結セラミック原料粉末と有機バインダと有機溶剤とを混合して得られたスラリーを、ドクターブレード法等のシート成形法によってシート状に成形し、セラミックグリーンシートを作製する。次に、セラミックグリーンシートに、ビアホール導体形成のための貫通孔を打ち抜き加工し、この貫通孔に銅や銀等の金属を含む導電性ペーストを充填し、また、セラミックグリーンシート上に、同様の導電性ペーストを用いてスクリーン印刷法等によって電極を形成する。次に、複数のセラミックグリーンシートを積層し、かつ積層方向にプレスして得られた生の積層体に対して、脱バインダのための加熱工程を実施し、次いで、焼成工程を実施する。最終的にはICやLSI等の半導体素子等を搭載するためのハンダづけを可能にするために、焼成した積層体の外表面に形成された表面電極をめっき膜で覆う、めっき工程を実施する。
【0005】
【特許文献1】
特開平05−167254号公報
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、前述のような多層セラミック基板の製造方法によれば、電極やビアホール導体のような配線導体は、導電性ペーストの焼結体から構成される。すなわち、導電性ペーストは、金属粉末だけでなく、樹脂、溶剤およびその他の添加物を含むものであり、乾燥工程において、溶剤が揮発し、また、焼成工程において、樹脂および添加物が熱分解または昇華し、金属粉末と添加物の一部とが焼結することによって配線導体が形成されるため、配線導体の内部には空隙や粒界が存在することが避けられない。その結果、焼成工程の後に実施されるめっき工程において、この空隙や粒界に対しめっき液や水などの洗浄液が侵入し、製品として完成後も残留してしまうため、使用中に導通不良となったり、層間のショートが起こるなどの不具合が生じる。
【0007】
そこで、この発明の目的は、上述のような問題を解決し得る、多層セラミック基板の製造方法およびこの製造方法によって得られた多層セラミック基板を提供しようとすることである。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明は、積層された複数のセラミック層をもって構成される積層体と、セラミック基板の外表面に導電性ペーストによって形成される表面電極とを有する多層セラミック基板にまず向けられるものであって、前述の技術的課題を解決するため、次のような構成を備えることを特徴としている。
【0009】
すなわち、本発明に係る多層セラミック基板においては、前記セラミック層にビアホール導体が形成された上で、前記ビアホール導体の端部が前記表面電極によって覆われ、前記表面電極の内、前記ビアホール導体の端部に対応した部分の少なくとも一部が金属箔で覆われ、前記表面電極と前記金属箔がめっき膜で覆われていることを特徴としている。
【0011】
前述の金属箔は、好ましくは、前記表面電極の全てを覆うとされる。
【0012】
前述の金属箔は、好ましくは、銅とされる。
【0013】
本発明に係る多層セラミック基板の製造方法においては、前述の技術的課題を解決するため、次のような工程が実施されることを特徴としている。
【0014】
まずセラミックグリーンシートを準備する、セラミックグリーンシート準備工程が実施される。
【0015】
次に、前記セラミックグリーンシート上に導電性ペーストを用いて電極を形成する、電極形成工程が実施される。
【0016】
次に、所定のセラミックグリーンシート上に形成された表面電極の少なくとも一部を金属箔で覆う、金属箔形成工程が実施される。
【0017】
次に、前記所定のセラミックグリーンシートを外層として複数の前記セラミックシートを積層して積層体を得る、積層工程が実施される。
【0018】
次に、前記積層体を焼成する、焼成工程が実施される。
【0019】
次に、焼成された積層体の外表面に形成されている前記表面電極と前記金属箔をめっき膜で覆う、めっき工程が実施される。
【0020】
【発明の実施の形態】
図1は、本発明の多層セラミック基板11を示している。多層セラミック基板11は、積層された複数のセラミック層12をもって構成される積層体13と、セラミック層12上に形成される電極18と、セラミック層12の外層に形成される表面電極14を備えており、表面電極14を覆うように金属箔15が形成され、さらに表面電極14と金属箔15を覆うようにめっき膜16が形成される。
【0021】
なお、図示した多層セラミック基板11は、図面の煩雑化を避けるため、簡略化して図示している。実際の多層セラミック基板には、より多数のセラミック層が積層されたものや、多数の電極や、多数のビアホールを形成しているものなどがある。
【0022】
図2は、図1に示す多層セラミック基板11の製造方法を示す。
【0023】
まず、図2(a)に示すように、セラミックグリーンシート21が準備される。セラミックグリーンシート21は、後述する焼成工程において、銅などの金属箔15との同時焼成を可能とするため、低温焼結セラミック材料を含むものであることが好ましい。
【0024】
セラミックグリーンシート21は、たとえば、酸化バリウム、酸化ケイ素、アルミナ、酸化カルシウムおよび酸化ホウ素の各粉末を混合したものに、ポリビニルブチラールからなるバインダとジ−n−ブチルフタレートからなる可塑剤とトルエンおよびイソプロピレンアルコールからなる溶剤とを混合して得られたペースト(スラリー)を、ドクターブレード法等によりシート状に成形し、これを乾燥させることによって得ることができる。
【0025】
セラミックグリーンシート21に含まれる低温焼結セラミック材料としては、焼成時にガラスが生成するもののほか、予め、ガラスや酸化銅や酸化マグネシウム等の焼結助剤を含有させておくことによって、より低温で焼結し得る組成としたものであってもよい。また、セラミックグリーンシート21に含まれるバインダ、可塑剤および溶剤についても、上記の例以外のものを用いてもよい。
【0026】
さらに、セラミックグリーンシート21の上に低温焼結セラミックと組成が異なる無機物、例えばアルミナ、ムライト、窒化アルミニウム、ガラスセラミック、ジルコニア、アノーサイト、フォルステライト、コージライトを主成分に軟化点780℃:粒径1.5μmのホウ珪酸ガラス粉末を15〜60vol%になるように添加、混合したペースト(スラリー)を塗布しても構わない。無機物に添加するガラスは焼成温度以下で粘度が106.7Pa・s−1以下に低下し、前記無機物粉末の隙間をうめ緻密化するものであればよく、高軟化点の非晶質ガラスや緻密化した後、粘度上昇する結晶化ガラス、焼成終了間際に液相が生成する酸化物混合物でもよい。さらにはセラミックグリーンシート21が収縮している温度域である850〜950℃で、無機物層の焼結助材として働いたり、また、該無機物層から流れだしたりするまで粘度が低下し過ぎないものであればよい。
【0027】
また、無機物を低温焼結セラミックグリーンシート上に形成するとしたが、無機物をシート状にしてから低温焼結セラミックグリーンシートを形成しても構わない。
【0028】
次に、図2(b)に示すように、セラミックグリーンシート21に、スクリーン印刷法等により電極18を形成する。また、後述する積層工程において積層体の外層となるべき所定のセラミックグリーンシート22についても、同様に表面電極14を形成する。この際導電性ペーストとしてAg、Au、Cu、Ni、Ag/Pd、Ag/Pt等の金属を主成分とする導電粉末に対し有機ビヒクルを所定量加え、ライカイ機、3本ロールで攪拌、混練したペーストを用いる。導電粉末の中心粒径、粒子形状は特に限定されないが、中心粒径0.1〜10μmで粗大粉や極端な凝集粉が無いものが望ましい。また、有機ビヒクルはバインダ樹脂と溶剤を混合したもので、特に限定されないがバインダ樹脂としてエチルセルロース、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、メタクリル樹脂等が使われる、また、溶剤としてはテレピネオール、ブチルカルビトール、ブチルカルビトールアセテイト、アルコール類等が使われる。また、必要に応じて各種分散剤、可塑剤、活性剤を添加してもよい。さらに、セラミックとの収縮マッチングを計るためガラスフリットやCu2O等の金属酸化物やセラミック粉末や樹脂粉末を0〜70%添加してもよい。また、ペースト粘度は印刷性を考慮し50〜700Pa・s−1であればよい。
【0029】
次に、後述する積層工程において積層体の外層となるべき所定のセラミックグリーンシート22について、表面電極14を覆うように金属箔を形成する。例えば、基材フィルム上に導電率1.0×105Ω−1・cm−1以上の銅箔、感光性フィルムを順に貼り付け、これに所定の回路パターンの形成されたガラス原板でマスクし、露光現像の後、ペルオキソ2硫酸アンモニウムや塩化第2鉄等でエッチングし、続けてレジスト剥離を行い金属箔15を形成する。この金属箔15に銅を用いることで本発明の効果をより向上させることができるが、その他、銀、ニッケル、パラジウム、タングステン、金または白金等を主成分とするものであってもよい。
【0030】
次に、図2(c)に示すように、金属箔15を所定のセラミックグリーンシート22に形成されている表面電極14に転写し、表面配線導体17を形成する。この時金属箔15と表面電極14との接着性を高めるために、金属箔15の表面電極14に転写される面を、高周波特性で問題とならない程度に荒らしておくと良い。さらに、好ましくは金属箔15と後述するめっき工程において形成されるめっき膜16との接着性を高めるためにも、金属箔15の両面を高周波特性で問題とならない程度に荒らしておくと良い。また、転写するときは100kg/cm2程度圧力を加え圧接すると良い。また、焼成で焼失する樹脂接着剤を金属箔15にあらかじめ塗布しておくと転写時の表面電極14との密着がより強く得られる。また、転写は、後述する積層体を形成してから行ってもよい。
【0031】
転写する金属箔15は少なくとも所定のセラミックグリーンシート22上に存在する表面電極14に接触するように転写する。さらに、金属箔15は表面電極14を全て覆うように転写すると、本発明の効果をより良く向上することができる。
【0032】
次に、図2(d)に示すように、電極18を形成したセラミックグリーンシート21を内層に、また外層には表面配線導体17を形成した所定のセラミックグリーンシート22を配置させ、必要に応じて内層のセラミックグリーンシート21を複数枚積層し、温度80℃、圧力200kg/cm2の条件で熱圧着し、生の積層体19を形成する。この生の積層体19を還元雰囲気中で温度900℃、1時間の条件で焼成して所望の多層セラミック基板を得る。なお、電極18を形成したセラミックグリーンシート21を内層、外層に配置して積層、焼成した後、金属箔15を形成しても構わない。ただし、この場合、金属箔15を形成した後、金属箔15と表面電極14とが電気的に接続されるよう、再度金属箔15の融点以下の温度で焼成する必要がある。
【0033】
次に、図2(e)に示すように、表面電極14と金属箔15を覆うように、NiおよびAuめっき膜16を形成する。係るNiめっきは、無電解めっき液として、例えば、NiSO4、硫酸銅、酒石酸、水酸化ナトリウム、ホルムアルデヒド等を含む水溶液等を用いて、50℃〜100℃の温度で約0.5〜10μm析出させるため、pH4〜5のめっき浴液に約5〜150分浸漬させる。析出させた後、水洗浄を行う。続けてAuめっきにおいては、AuCNを主成分とした水溶液等を用いて約0.01〜5.0μm析出させるため、pH7〜8のめっき浴液に約5〜150分浸漬させる。析出させた後、水洗浄を行う。
【0034】
このとき外層に形成された表面配線導体17は、密度が高く緻密な金属箔15で覆われているため、焼結体でできた表面電極14の内部にめっき液や水が侵入しにくくなり、製品化後の使用中に導通が不良となったり、層間のショートが起こりにくくなる。
【0035】
図3は、図2に示す製造方法に加え、ビアホール導体形成工程を実施する製造方法を示す。図3において、図2に示した要素に相当する要素には同様の参照符号を付し、重複する説明は省略する。
【0036】
この製造方法では、まず図2(a)に示すように、セラミックグリーンシート21が準備される。
【0037】
次に、図3(a)に示すように、穿孔機によりセラミックグリーンシート21を貫通するように孔を形成し、孔にスクリーン印刷法により、導電性ペーストを充填し、ビアホール導体31を形成する。この際導電性ペーストとしてAg、Au、Cu、Ni、Ag/Pd、Ag/Pt等の金属を主成分とするの導電粉末に対し有機ビヒクルを所定量と加え、ライカイ機、3本ロールで攪拌、混練したペーストを用いる。導電粉末の中心粒径、粒子形状は特に限定されないが、中心粒径0.1〜10μmで粗大粉や極端な凝集粉が無いものが望ましい。また、有機ビヒクルはバインダ樹脂と溶剤を混合したもので、特に限定されないがバインダ樹脂としてエチルセルロース、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、メタクリル樹脂等が使われる。また、溶剤としてはテレピネオール、ブチルカルビトール、ブチルカルビトールアセテイト、アルコール類等が使われる。また、必要に応じて各種分散剤、可塑剤、活性剤を添加してもよい。さらに、セラミックとの収縮マッチングを計るためガラスフリットやCu2O等の金属酸化物やセラミック粉末や樹脂粉末を0〜70%添加してもよい。また、ペースト粘度は印刷性を考慮し50〜700Pa・s−1であればよい。
【0038】
次に、図3(b)に示すように、セラミックグリーンシート21に形成されたビアホール導体31の端部を覆うように、セラミックグリーンシート21上にスクリーン印刷法等により電極18を形成する。また、後述する積層工程において積層体の外層となるべき所定のセラミックグリーンシート22についても、ビアホール導体31の端部を覆うように、同様に表面電極14を形成する。形成方法や使用材料などは図2の製造方法と同様である。
【0039】
次に、図3(c)に示すように、後述する積層工程において積層体の外層となるべき所定のセラミックグリーンシート22について、表面電極14を覆うように金属箔15を形成し、表面配線導体17を形成する。形成方法や使用材料などは図2の製造方法と同様である。この時金属箔15は、表面電極14の内、ビアホール導体31の端部に対応した部分の少なくとも一部を覆うことで本発明の効果が得られるが、表面電極14を全て覆うように転写すると、本発明の効果をより良く向上することができる。
【0040】
次に、図3(d)に示すように、電極18を形成したセラミックグリーンシート21を内層に、また外層には表面配線導体17を形成した所定のセラミックグリーンシート22を配置させ、必要に応じて内層のセラミックグリーンシート21を複数枚積層し、熱圧着し、生の積層体19を形成する。この生の積層体19を還元雰囲気中で温度900℃、1時間の条件で焼成して所望のセラミック多層基板を得る。積層方法や焼成方法などは図2の製造方法と同様である。
【0041】
次に、図3(e)に示すように、表面電極14と金属箔15を覆うように、NiおよびAuめっき膜16を形成する。めっき方法や使用材料などは図2の製造方法と同様である。
【0042】
このとき外層に形成された表面配線導体17においては、密度が高く緻密な金属箔15で覆われているため、焼結体でできた表面電極14の内部やビアホール導体31の内部にめっき液や水が侵入しにくくなり、製品化後の使用中に導通が不良となったり、層間のショートが起こりにくくなる。
【0043】
図4は、外側拘束層32を用いた無収縮プロセスを適用した場合の、図2および図3の製造方法における積層工程の変形例を説明するためのものである。図4において、図2および図3に示した要素に相当する要素には同様の参照符号を付し、重複する説明は省略する。
【0044】
図4を参照して説明すると、生の積層体19を積層方向に挟むように外側拘束層32を配置した状態で、焼成工程が実施される。外側拘束層32は、セラミックグリーンシート21に含まれるセラミック材料粉末の焼結温度では焼結しない収縮抑制用無機材料粉末に適当なバインダおよび溶剤を添加し、混合して得られたスラリーをシート状に成形することによって得られるものである。
【0045】
前述したように、セラミックグリーンシート21に含まれるセラミック材料粉末が、たとえば1000℃以下の温度で焼結可能な低温焼結セラミック材料粉末である場合には、外側拘束層32に含まれる収縮抑制用無機材料粉末として、たとえば、アルミナ、ムライト、窒化アルミニウム、ジルコニア、アノーサイト、フォルステライトおよびコージライトの各粉末の少なくとも1種が有利に用いられる。
【0046】
外側拘束層32に含まれる収縮抑制用無機材料粉末は、焼成工程において、実質的に焼結しないため、外側拘束層32においては実質的な収縮が生じない。したがって、外側拘束層32による収縮抑制作用が生の積層体19に及ぼされることになり、生の積層体19にあっては、厚み方向には収縮するが、セラミックグリーンシート21の主面方向には収縮が生じにくくなる。
【0047】
その結果、図2(d)および図3(d)に示した焼結後の積層体の寸法精度を高くすることができ、表面電極14およびビアホール導体31によって与えられる配線の高密度化を高い信頼性をもって達成することができる。
【0048】
焼成工程の後、外側拘束層32は、たとえばサンドブラスト等によって除去される。
【0049】
さらに、図2および図3の製造方法におけるセラミックグリーンシート準備工程の変形例として、生の積層体19の外側のセラミックグリーンシートだけでなく、内側のセラミックグリーンシート各層にも拘束層を設ける無収縮プロセスを適用しても構わない。
【0050】
次に、本発明の作用・効果を、前述の図3の製造方法における実験結果に基づいて説明する。
【0051】
まず、図3(e)のめっき工程後に得られる多層セラミック基板の表面配線導体17に対し、デジタルマルチメータにより5Vの電圧印加を行い、定常状態のまま100時間放置した。
【0052】
次に100時間経過したサンプルについて絶縁抵抗をデジタルマルチメータによって測定し、1×109Ω以下の抵抗値を示したものを不良として、各条件1000個測定を行い不良率を求め、不良率が1%以上を不合格にした。
【0053】
この実験による評価結果をまとめたものを表1に示す。
【0054】
【表1】

Figure 0003948411
【0055】
表中試料番号に*印を付したものは、本発明の範囲外である。例えば、表面電極に金属箔が覆っていないものは、層間でショートしているものが、12%発生したため不合格である。
それに対し、本発明の範囲内のものは銅箔、銀箔いずれも層間ショートが発生しないか発生しても1000個中1個であり、所望の特性を充分満足するものであった。
【0056】
【発明の効果】
以上のように、本発明によれば、積層体の外層に形成された表面配線導体は密度が高く緻密な金属箔で覆われているので、焼結体でできた表面電極内部やビアホール導体内部にめっき液や水が侵入しにくくなり、製品化後の使用中に導通が不良となったり、層間のショートが起こりにくくなる。
【0057】
したがって、これを用いて製品化される多層セラミック基板は電気的特性が損なわれず、またその製造方法は品質の安定を要求される高周波回路の形成に適したものとすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明で得られる多層セラミック基板の断面図である。
【図2】本発明で得られる多層セラミック基板の製造方法を示す断面図である。
【図3】本発明で得られる多層セラミック基板の製造方法を示し、図2(a)の後に実施される製造方法を示す断面図である。
【図4】本発明で得られる多層セラミック基板の製造方法を示し、図2(d)および図3(d)で示す製造方法の変形例を示す断面図である。
【符号の説明】
11…多層セラミック基板
12…セラミック層
13…積層体
14…表面電極
15…金属箔(回路パターン)
16…めっき膜
17…表面配線導体
18…電極
19…生の積層体
21…セラミックグリーンシート
22…積層体の外層に位置する所定のセラミックグリーンシート
31…ビアホール導体
32…外側拘束層[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a multilayer ceramic substrate and a method for manufacturing the same, and more particularly to an improvement for preventing a plating solution from entering a surface electrode and a via hole in a plating process.
[0002]
[Prior art]
In recent years, there has been an increasing demand for stabilizing the quality of multilayer ceramic substrates on which semiconductor elements such as ICs and LSIs with higher frequency and higher density are mounted without impairing electrical characteristics.
[0003]
As described in Patent Document 1, for example, a multilayer ceramic substrate is generally manufactured as follows.
[0004]
First, a slurry obtained by mixing a low-temperature sintered ceramic raw material powder, an organic binder, and an organic solvent is formed into a sheet by a sheet forming method such as a doctor blade method to produce a ceramic green sheet. Next, a through hole for forming a via-hole conductor is punched into the ceramic green sheet, and the through hole is filled with a conductive paste containing a metal such as copper or silver. An electrode is formed by a screen printing method or the like using a conductive paste. Next, a heating process for removing the binder is performed on the raw laminate obtained by laminating a plurality of ceramic green sheets and pressing in the laminating direction, and then a firing process. Finally, in order to enable soldering for mounting semiconductor elements such as IC and LSI, a plating process is performed in which the surface electrode formed on the outer surface of the fired laminate is covered with a plating film .
[0005]
[Patent Document 1]
Japanese Patent Laid-Open No. 05-167254
[Problems to be solved by the invention]
By the way, according to the method for manufacturing a multilayer ceramic substrate as described above, the wiring conductors such as the electrodes and the via-hole conductors are made of a sintered body of a conductive paste. That is, the conductive paste contains not only the metal powder but also a resin, a solvent and other additives. In the drying process, the solvent is volatilized, and in the firing process, the resin and the additive are thermally decomposed or decomposed. Since the wiring conductor is formed by sublimation and sintering of the metal powder and a part of the additive, it is inevitable that voids and grain boundaries exist inside the wiring conductor. As a result, in the plating process performed after the firing process, a cleaning solution such as a plating solution or water enters the voids and grain boundaries and remains after the product is completed, resulting in poor conduction during use. Or problems such as short circuit between layers occur.
[0007]
Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a multilayer ceramic substrate and a multilayer ceramic substrate obtained by this manufacturing method, which can solve the above-described problems.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
The present invention is first directed to a multilayer ceramic substrate having a laminated body constituted by a plurality of laminated ceramic layers and a surface electrode formed of a conductive paste on the outer surface of the ceramic substrate, In order to solve this technical problem, the following configuration is provided.
[0009]
That is, in the multilayer ceramic substrate according to the present invention, after the via hole conductor is formed in the ceramic layer, the end portion of the via hole conductor is covered with the surface electrode, and the end of the via hole conductor is included in the surface electrode. At least a part of the part corresponding to the part is covered with a metal foil, and the surface electrode and the metal foil are covered with a plating film.
[0011]
The aforementioned metal foil preferably covers all of the surface electrodes.
[0012]
The aforementioned metal foil is preferably copper.
[0013]
The method for manufacturing a multilayer ceramic substrate according to the present invention is characterized in that the following steps are performed in order to solve the above-described technical problem.
[0014]
First, a ceramic green sheet preparation step of preparing a ceramic green sheet is performed.
[0015]
Next, an electrode forming process is performed in which an electrode is formed on the ceramic green sheet using a conductive paste.
[0016]
Next, a metal foil forming process is performed in which at least a part of the surface electrode formed on the predetermined ceramic green sheet is covered with the metal foil.
[0017]
Next, a lamination process is performed in which a plurality of ceramic sheets are laminated with the predetermined ceramic green sheet as an outer layer to obtain a laminate.
[0018]
Next, a firing step for firing the laminate is performed.
[0019]
Next, a plating step is performed in which the surface electrode and the metal foil formed on the outer surface of the fired laminate are covered with a plating film.
[0020]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
FIG. 1 shows a multilayer ceramic substrate 11 of the present invention. The multilayer ceramic substrate 11 includes a laminated body 13 including a plurality of laminated ceramic layers 12, an electrode 18 formed on the ceramic layer 12, and a surface electrode 14 formed on the outer layer of the ceramic layer 12. A metal foil 15 is formed so as to cover the surface electrode 14, and a plating film 16 is further formed so as to cover the surface electrode 14 and the metal foil 15.
[0021]
The illustrated multilayer ceramic substrate 11 is shown in a simplified manner in order to avoid complication of the drawing. An actual multilayer ceramic substrate includes a substrate in which a larger number of ceramic layers are laminated, a substrate in which a large number of electrodes and a large number of via holes are formed.
[0022]
FIG. 2 shows a method for manufacturing the multilayer ceramic substrate 11 shown in FIG.
[0023]
First, as shown in FIG. 2A, a ceramic green sheet 21 is prepared. The ceramic green sheet 21 preferably includes a low-temperature sintered ceramic material in order to enable simultaneous firing with the metal foil 15 such as copper in a firing step described later.
[0024]
The ceramic green sheet 21 is, for example, a mixture of barium oxide, silicon oxide, alumina, calcium oxide and boron oxide powder, a binder made of polyvinyl butyral, a plasticizer made of di-n-butyl phthalate, toluene and A paste (slurry) obtained by mixing with a solvent composed of propylene alcohol can be obtained by molding into a sheet by the doctor blade method or the like and drying it.
[0025]
As the low-temperature sintered ceramic material contained in the ceramic green sheet 21, in addition to the one that glass is generated at the time of firing, by previously containing a sintering aid such as glass, copper oxide, magnesium oxide, etc., at a lower temperature. A composition that can be sintered may be used. Moreover, you may use things other than said example also about the binder, the plasticizer, and solvent which are contained in the ceramic green sheet 21. FIG.
[0026]
Further, on the ceramic green sheet 21, an inorganic material having a composition different from that of the low-temperature sintered ceramic, such as alumina, mullite, aluminum nitride, glass ceramic, zirconia, anorthite, forsterite, cordierite, and a softening point of 780 ° C .: grain You may apply the paste (slurry) which added and mixed the borosilicate glass powder of 1.5 micrometers in diameter so that it might become 15-60 vol%. The glass to be added to the inorganic material may be any glass as long as it has a viscosity of 106.7 Pa · s-1 or less at the firing temperature or less and fills the gaps between the inorganic powders. It may be a crystallized glass whose viscosity increases after it has been converted, or an oxide mixture in which a liquid phase is generated just before the end of firing. Furthermore, at a temperature range of 850 to 950 ° C. in which the ceramic green sheet 21 is contracted, the viscosity does not decrease excessively until it works as a sintering aid for the inorganic layer or flows out from the inorganic layer. If it is.
[0027]
Further, although the inorganic material is formed on the low-temperature sintered ceramic green sheet, the low-temperature sintered ceramic green sheet may be formed after forming the inorganic material into a sheet shape.
[0028]
Next, as shown in FIG. 2B, the electrode 18 is formed on the ceramic green sheet 21 by a screen printing method or the like. Further, the surface electrode 14 is similarly formed on a predetermined ceramic green sheet 22 to be an outer layer of the laminated body in a laminating process described later. At this time, a predetermined amount of an organic vehicle is added to a conductive powder mainly composed of metals such as Ag, Au, Cu, Ni, Ag / Pd, and Ag / Pt as a conductive paste, and the mixture is stirred and kneaded with a lykai machine and three rolls. Use the paste. The center particle size and particle shape of the conductive powder are not particularly limited, but those having a center particle size of 0.1 to 10 μm and no coarse powder or extreme agglomerated powder are desirable. The organic vehicle is a mixture of a binder resin and a solvent. Although not particularly limited, ethyl cellulose, acrylic resin, polyvinyl butyral, methacrylic resin, or the like is used as the binder resin. Tall acetate, alcohols, etc. are used. Moreover, you may add various dispersing agents, a plasticizer, and an activator as needed. Furthermore, in order to measure shrinkage matching with the ceramic, 0 to 70% of metal oxide such as glass frit and Cu2O, ceramic powder, and resin powder may be added. The paste viscosity may be 50 to 700 Pa · s−1 in consideration of printability.
[0029]
Next, a metal foil is formed so as to cover the surface electrode 14 with respect to a predetermined ceramic green sheet 22 to be an outer layer of the laminated body in a laminating process described later. For example, a copper foil having a conductivity of 1.0 × 10 5 Ω−1 · cm −1 or more and a photosensitive film are sequentially pasted on a base film, masked with a glass original plate on which a predetermined circuit pattern is formed, and exposed. After the development, etching is performed with ammonium peroxodisulfate or ferric chloride, and then the resist is peeled off to form the metal foil 15. Although the effect of the present invention can be further improved by using copper for the metal foil 15, it may be composed mainly of silver, nickel, palladium, tungsten, gold, platinum or the like.
[0030]
Next, as shown in FIG. 2C, the metal foil 15 is transferred to the surface electrode 14 formed on the predetermined ceramic green sheet 22 to form the surface wiring conductor 17. At this time, in order to improve the adhesion between the metal foil 15 and the surface electrode 14, the surface of the metal foil 15 to be transferred to the surface electrode 14 is preferably roughened to the extent that the high frequency characteristics do not cause a problem. Furthermore, both surfaces of the metal foil 15 are preferably roughened so as not to cause a problem with high-frequency characteristics, in order to improve the adhesion between the metal foil 15 and the plating film 16 formed in the plating process described later. Further, when transferring, it is preferable to apply a pressure of about 100 kg / cm @ 2 and press contact. Further, if a resin adhesive that is burned off by baking is applied to the metal foil 15 in advance, the adhesion with the surface electrode 14 during transfer can be obtained more strongly. Further, the transfer may be performed after forming a laminate described later.
[0031]
The metal foil 15 to be transferred is transferred so as to be in contact with at least the surface electrode 14 existing on a predetermined ceramic green sheet 22. Furthermore, if the metal foil 15 is transferred so as to cover the entire surface electrode 14, the effect of the present invention can be improved.
[0032]
Next, as shown in FIG. 2 (d), the ceramic green sheet 21 on which the electrodes 18 are formed is arranged on the inner layer, and a predetermined ceramic green sheet 22 on which the surface wiring conductor 17 is formed is arranged on the outer layer, and if necessary A plurality of inner ceramic green sheets 21 are laminated and thermocompression bonded under conditions of a temperature of 80 ° C. and a pressure of 200 kg / cm 2 to form a raw laminate 19. The raw laminate 19 is fired in a reducing atmosphere at a temperature of 900 ° C. for 1 hour to obtain a desired multilayer ceramic substrate. Note that the metal foil 15 may be formed after the ceramic green sheets 21 on which the electrodes 18 are formed are disposed in the inner layer and the outer layer, stacked, and fired. However, in this case, after forming the metal foil 15, it is necessary to fire again at a temperature equal to or lower than the melting point of the metal foil 15 so that the metal foil 15 and the surface electrode 14 are electrically connected.
[0033]
Next, as shown in FIG. 2E, a Ni and Au plating film 16 is formed so as to cover the surface electrode 14 and the metal foil 15. The Ni plating is performed by using, for example, an aqueous solution containing NiSO4, copper sulfate, tartaric acid, sodium hydroxide, formaldehyde and the like as an electroless plating solution at a temperature of 50 ° C. to 100 ° C. for about 0.5 to 10 μm. Therefore, it is immersed in a plating bath solution having a pH of 4 to 5 for about 5 to 150 minutes. After the precipitation, washing with water is performed. Subsequently, in Au plating, in order to deposit about 0.01 to 5.0 μm using an aqueous solution containing AuCN as a main component, it is immersed in a plating bath solution of pH 7 to 8 for about 5 to 150 minutes. After the precipitation, washing with water is performed.
[0034]
At this time, since the surface wiring conductor 17 formed in the outer layer is covered with the dense and dense metal foil 15, the plating solution and water are less likely to enter the inside of the surface electrode 14 made of a sintered body, Conductivity is poor during use after commercialization, and short-circuiting between layers is less likely to occur.
[0035]
FIG. 3 shows a manufacturing method for performing a via hole conductor forming step in addition to the manufacturing method shown in FIG. 3, elements corresponding to those shown in FIG. 2 are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.
[0036]
In this manufacturing method, first, as shown in FIG. 2A, a ceramic green sheet 21 is prepared.
[0037]
Next, as shown in FIG. 3A, a hole is formed so as to penetrate the ceramic green sheet 21 by a punch, and the hole is filled with a conductive paste by a screen printing method to form a via-hole conductor 31. . At this time, a predetermined amount of an organic vehicle is added to a conductive powder mainly composed of a metal such as Ag, Au, Cu, Ni, Ag / Pd, or Ag / Pt as a conductive paste, and the mixture is stirred with a reiki machine and three rolls. A kneaded paste is used. The center particle size and particle shape of the conductive powder are not particularly limited, but those having a center particle size of 0.1 to 10 μm and no coarse powder or extreme agglomerated powder are desirable. The organic vehicle is a mixture of a binder resin and a solvent, and although not particularly limited, ethyl cellulose, acrylic resin, polyvinyl butyral, methacrylic resin, or the like is used as the binder resin. As the solvent, terpineol, butyl carbitol, butyl carbitol acetate, alcohols and the like are used. Moreover, you may add various dispersing agents, a plasticizer, and an activator as needed. Further, in order to measure shrinkage matching with ceramic, 0 to 70% of metal oxide such as glass frit and Cu 2 O, ceramic powder and resin powder may be added. The paste viscosity may be 50 to 700 Pa · s−1 in consideration of printability.
[0038]
Next, as shown in FIG. 3B, the electrode 18 is formed on the ceramic green sheet 21 by a screen printing method or the like so as to cover the end portion of the via-hole conductor 31 formed in the ceramic green sheet 21. Further, the surface electrode 14 is similarly formed so as to cover the end portion of the via-hole conductor 31 with respect to a predetermined ceramic green sheet 22 to be an outer layer of the multilayer body in a laminating process described later. The formation method and materials used are the same as in the manufacturing method of FIG.
[0039]
Next, as shown in FIG. 3C, a metal foil 15 is formed so as to cover the surface electrode 14 with respect to a predetermined ceramic green sheet 22 to be an outer layer of the laminated body in a laminating process to be described later. 17 is formed. The formation method and materials used are the same as in the manufacturing method of FIG. At this time, the metal foil 15 can obtain the effect of the present invention by covering at least a part of the surface electrode 14 corresponding to the end of the via-hole conductor 31, but if the transfer is performed so as to cover the entire surface electrode 14. Thus, the effects of the present invention can be improved.
[0040]
Next, as shown in FIG. 3 (d), the ceramic green sheet 21 on which the electrodes 18 are formed is disposed on the inner layer, and a predetermined ceramic green sheet 22 on which the surface wiring conductor 17 is formed is disposed on the outer layer. Then, a plurality of inner ceramic green sheets 21 are laminated and thermocompression bonded to form a raw laminate 19. The raw laminate 19 is fired in a reducing atmosphere at a temperature of 900 ° C. for 1 hour to obtain a desired ceramic multilayer substrate. The lamination method, firing method, and the like are the same as the manufacturing method of FIG.
[0041]
Next, as shown in FIG. 3E, a Ni and Au plating film 16 is formed so as to cover the surface electrode 14 and the metal foil 15. The plating method and materials used are the same as in the manufacturing method of FIG.
[0042]
At this time, the surface wiring conductor 17 formed in the outer layer is covered with the dense and dense metal foil 15, so that the plating solution or the like is formed inside the surface electrode 14 made of a sintered body or inside the via-hole conductor 31. Water is less likely to enter, resulting in poor continuity during use after commercialization and short circuit between layers.
[0043]
FIG. 4 is a view for explaining a modification of the laminating process in the manufacturing method of FIGS. 2 and 3 when the non-shrink process using the outer constraining layer 32 is applied. 4, elements corresponding to those shown in FIGS. 2 and 3 are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.
[0044]
If it demonstrates with reference to FIG. 4, a baking process will be implemented in the state which has arrange | positioned the outer constrained layer 32 so that the raw laminated body 19 may be pinched | interposed in the lamination direction. The outer constraining layer 32 is a sheet-like slurry obtained by adding an appropriate binder and solvent to the inorganic material powder for shrinkage suppression not sintered at the sintering temperature of the ceramic material powder contained in the ceramic green sheet 21, and mixing them. It is obtained by molding into
[0045]
As described above, when the ceramic material powder contained in the ceramic green sheet 21 is a low-temperature sintered ceramic material powder that can be sintered at a temperature of 1000 ° C. or less, for example, the shrinkage-suppressing material contained in the outer constraining layer 32 is suppressed. As the inorganic material powder, for example, at least one of alumina, mullite, aluminum nitride, zirconia, anorthite, forsterite and cordierite is advantageously used.
[0046]
Since the inorganic material powder for shrinkage suppression contained in the outer constraining layer 32 is not substantially sintered in the firing step, no substantial shrinkage occurs in the outer constraining layer 32. Accordingly, the shrinkage suppressing action by the outer constraining layer 32 is exerted on the raw laminate 19, and the raw laminate 19 contracts in the thickness direction but in the main surface direction of the ceramic green sheet 21. Is less likely to shrink.
[0047]
As a result, the dimensional accuracy of the sintered laminate shown in FIGS. 2D and 3D can be increased, and the density of the wiring provided by the surface electrode 14 and the via-hole conductor 31 is increased. Can be achieved with reliability.
[0048]
After the firing step, the outer constraining layer 32 is removed by, for example, sandblasting.
[0049]
Further, as a modified example of the ceramic green sheet preparation step in the manufacturing method of FIGS. 2 and 3, there is no shrinkage in which constraining layers are provided not only on the outer ceramic green sheet of the raw laminate 19 but also on each inner ceramic green sheet. You may apply the process.
[0050]
Next, the operation and effect of the present invention will be described based on the experimental results in the manufacturing method shown in FIG.
[0051]
First, a voltage of 5 V was applied to the surface wiring conductor 17 of the multilayer ceramic substrate obtained after the plating step shown in FIG. 3E by a digital multimeter and left for 100 hours in a steady state.
[0052]
Next, the insulation resistance of the sample after 100 hours was measured with a digital multimeter, and those having a resistance value of 1 × 10 9 Ω or less were determined to be defective. The above was rejected.
[0053]
Table 1 summarizes the evaluation results of this experiment.
[0054]
[Table 1]
Figure 0003948411
[0055]
A sample number marked with * in the table is outside the scope of the present invention. For example, when the surface electrode is not covered with the metal foil, 12% of the short-circuited layers are rejected.
On the other hand, within the scope of the present invention, both the copper foil and the silver foil did not cause an interlayer short-circuit, and even when it occurred, it was 1 in 1000, and sufficiently satisfied the desired characteristics.
[0056]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, the surface wiring conductor formed in the outer layer of the laminate is covered with a dense and dense metal foil, so that the inside of the surface electrode made of a sintered body or the inside of the via-hole conductor It is difficult for the plating solution or water to penetrate into the film, resulting in poor continuity during use after commercialization or short circuit between layers.
[0057]
Therefore, the multilayer ceramic substrate that is commercialized using this is not impaired in electrical characteristics, and the manufacturing method thereof can be suitable for the formation of a high-frequency circuit that requires stable quality.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view of a multilayer ceramic substrate obtained by the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a method for producing a multilayer ceramic substrate obtained by the present invention.
FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a method for manufacturing a multilayer ceramic substrate obtained by the present invention and illustrating the manufacturing method performed after FIG. 2 (a).
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a method for manufacturing a multilayer ceramic substrate obtained by the present invention and showing a modification of the manufacturing method shown in FIGS. 2 (d) and 3 (d).
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... Multilayer ceramic substrate 12 ... Ceramic layer 13 ... Laminated body 14 ... Surface electrode 15 ... Metal foil (circuit pattern)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 16 ... Plating film 17 ... Surface wiring conductor 18 ... Electrode 19 ... Raw laminated body 21 ... Ceramic green sheet 22 ... Predetermined ceramic green sheet 31 located in the outer layer of the laminated body ... Via-hole conductor 32 ... Outer constraining layer

Claims (4)

積層された複数のセラミック層をもって構成されるセラミック基板と、前記セラミック基板の外表面に導電性ペーストによって形成される表面電極とを有する多層セラミック基板において、
前記セラミック層にはビアホール導体が形成され、
前記ビアホール導体の端部は前記表面電極によって覆われ、
前記表面電極の内、前記ビアホール導体の端部に対応した部分の少なくとも一部が金属箔で覆われ
前記表面電極と前記金属箔がめっき膜で覆われていることを特徴とする、多層セラミック基板。
In a multilayer ceramic substrate having a ceramic substrate composed of a plurality of laminated ceramic layers, and a surface electrode formed by a conductive paste on the outer surface of the ceramic substrate,
Via hole conductors are formed in the ceramic layer,
The end portion of the via-hole conductor is covered with the surface electrode,
Of the surface electrode, at least a part of a portion corresponding to an end portion of the via-hole conductor is covered with a metal foil, and the surface electrode and the metal foil are covered with a plating film. , Multilayer ceramic substrate.
前記表面電極の全部が前記金属箔で覆われていることを特徴とする、請求項1に記載の多層セラミック基板。The multilayer ceramic substrate according to claim 1, wherein all of the surface electrodes are covered with the metal foil. 前記金属箔が銅であることを特徴とする、請求項1または2に記載の多層セラミック基板。The multilayer ceramic substrate according to claim 1, wherein the metal foil is copper. セラミックグリーンシートを準備するセラミックグリーンシート準備工程と、
前記セラミックグリーンシートに対し厚み方向に貫通孔を形成し、導電性ペーストを充填してビアホール導体を形成するビアホール導体形成工程と、
少なくとも前記ビアホール導体の端部を覆うように前記セラミックグリーンシート上に導電性ペーストを用いて電極を形成する電極形成工程と、
所定のセラミックグリーンシート上に形成された表面電極の内、前記ビアホール導体の端部に対応した部分の少なくとも一部を金属箔で覆う金属箔形成工程と、
前記所定のセラミックグリーンシートを外層として複数の前記セラミックシートを積層して積層体を得る積層工程と、
前記積層体を焼成する焼成工程と、
焼成された積層体の外表面に形成されている前記表面電極と前記金属箔をめっき膜で覆うめっき工程とを備える、多層セラミック基板の製造方法。
A ceramic green sheet preparation process for preparing a ceramic green sheet;
A via hole conductor forming step of forming a through hole in the thickness direction with respect to the ceramic green sheet and filling a conductive paste to form a via hole conductor;
An electrode forming step of forming an electrode using a conductive paste on the ceramic green sheet so as to cover at least an end portion of the via-hole conductor ;
A metal foil forming step of covering at least a part of a portion corresponding to an end portion of the via-hole conductor with a metal foil among surface electrodes formed on a predetermined ceramic green sheet;
A laminating step of laminating a plurality of the ceramic sheets with the predetermined ceramic green sheet as an outer layer to obtain a laminate;
A firing step of firing the laminate;
A method for producing a multilayer ceramic substrate, comprising: the surface electrode formed on the outer surface of the fired laminate; and a plating step of covering the metal foil with a plating film.
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