JP3950760B2 - Wiring board manufacturing method - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、絶縁性シート上にパターンを形成する配線基板の製造方法に関する。特には、セラミックグリーンシートを複数層積層してなるセラミック積層体からなる配線基板の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術およびその課題】
従来、この種のセラミック積層体の製造方法として、溶剤を含んだペーストをセラミックグリーンシート上にスクリーン印刷法などによりパターン形成し、その後、加熱することによりペーストに含まれている溶剤を揮発させたシートを形成し、さらにシートを多数枚積層・焼成することにより製造する方法が知られている。
【0003】
しかしながら、上述の製造方法では、シートの溶剤を加熱・乾燥する際に、シートの収縮挙動が生じるので、各層のシートの間のピッチズレが生じ易い。このような収縮に伴う上下層のパターンにピッチズレを生じると、接続不良を生じるなどの不具合を生じ、歩留り低下や、電気特性が劣化するなどの問題がある。こうした問題は、セラミック積層体を多層に積層する場合だけでなく、単層のセラミック基板上にICなどの搭載する場合にも生じている。
【0004】
また、他の従来の技術として、セラミックグリーンシート上に、光により硬化する感光性ペーストを塗布し、乾燥、露光により感光性ペースを硬化させた後に、現像工程を施すことにより、パターンの形成を行なう方法も知られている(特開平5−067405号公報、特開平5−204151号公報)。
【0005】
しかし、上記他の技術でも、シート上にパターンを形成した後に、現像液(溶剤、水など)にシートを浸漬するので、シートに収縮や膨張などの挙動を生じる。このため、上述したと同様なピッチズレなどの問題がある。
【0006】
本発明は、上記従来の技術の問題を解決するものであり、シートの膨張・収縮が生じにくく、パターンを所望の位置に形成することができる配線基板の製造方法を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段およびその作用・効果】
上記課題を解決するためになされた本発明は、
焼成前のセラミックグリーンシートである絶縁性シートを形成するシート作成工程と、
上記絶縁性シートに、スクリーン印刷法により、光により硬化する感光性ペーストを、予め定められたパターンに形成するパターン形成工程と、
上記パターンに向けて露光することで該パターンを硬化させる露光工程と、
上記絶縁性シートと感光性ペーストを、上記露光工程の後に、同時焼成する焼成工程と、
を備え、
上記スクリーン印刷法により形成される上記予め定められたパターンは、上記露光工程および焼成工程後に得られるパターンと実質的に同一の最終のパターンであること、
を特徴とする。
【0008】
本発明の製造方法によれば、絶縁性シート上に、スクリーン印刷法により感光性ペーストで形成したパターンを露光すれば、パターンを硬化させることができるので、パターンや絶縁性シートに大きな収縮や収縮のバラツキを生じることがない。つまり、加熱や現像などのシートを収縮・膨張させるなどの挙動変化を起こす加熱や乾燥などの処理を施さないので、パターンに位置ズレを生じることなく、歩留りや電気的特性を向上させることができる。
【0009】
また、絶縁性シート上に、スクリーン印刷法により最終のパターンを形成するので、最終パターンに形成するために不要な部分を除去するための現像などの湿式処理が不要となり、工程が簡単になる。さらに、露光工程は、パターンを乾燥硬化させる工程に比べ、処理時間が短いので、生産性を向上させることができる。
【0010】
本発明の絶縁性シートの態様として、感光性ペーストをスクリーン印刷できる基板であればよく、例えば、Al2O3、窒化物から形成した焼成前のセラミックグリーンシートを適用することができる。グリーンシートとは、未焼成のセラミック粉体を、有機溶剤、可塑剤、溶剤などを用いてスラリー状にしたものを、ドクターブレード法などでシート状に造膜したものをいう。グリーンシートを用いた場合には、シート自体の収縮をより抑制することができる。さらに、パターン形成工程および露光工程の後に、絶縁性シートおよびパターンを同時焼成する焼成工程を施すことにより、この場合には絶縁性シートとパターンとが焼結することにより一体性を高めることができる。
【0011】
スクリーン印刷法とは、印刷する基材の上に、開口部の有無でパターンが形成されたスクリーンを置き、その開口部を利用して、開口部分だけにペーストを付着させる印刷方法をいう。
【0012】
さらに、本発明の好適な態様として、上記パターンを形成した絶縁性シートを、複数枚、積層した後、焼成する工程を施すことができる。この場合には、パターンが絶縁性シート上で硬化して一体性が高められているので、絶縁性シートの層間でパターンのズレを生じ難い。よって、本方法によれば、絶縁性シートを多数積層した積層基板の製造に好適である。
【0013】
絶縁性シートに形成するパターンは、導電性の材料を用いるほか、磁性材料や電気抵抗を形成する材料を、単独で用いたり、併用したりしてもよい。上記絶縁性シートとしては、例えば、1層でICチップなどを実装する配線基板に適用したり、複数枚を積層することによりコンデンサ、コイル、抵抗を有する電気部品に適用したりすることができる。
【0014】
絶縁性シートに形成するパターンは、導電性を有する感光性ペーストを用いて導電性パターンで形成するほか、磁性材料や、電気抵抗を形成する材料を用いて抵抗パターンを形成するほか、これを単独で用いたり、併用したりしてもよい。上記絶縁性シートとしては、例えば、1層でICチップなどを実装する基板として適用したり、複数枚の積層することによりコンデンサ、コイル、抵抗を有する電気部品に適用したりすることができる。
【0015】
上記感光性ペーストは、導電性を有する材料を添加することにより導電性を付与するだけでなく、電気抵抗とする酸化物(例えば、RuO2)や、誘電体とする酸化物(例えば、CaTiO3)をペーストとして調製してもよい。
【0016】
感光性ペーストを導電性ペーストとした場合には、以下の材料および組成により調製できる。
(1)導電材
導電材として、金属フィラーを添加することができる。金属フィラーとして、金、銀、白金、パラジウム、銅、アルミニウム、ニッケル、タングステン等の金属単独あるいは合金粉末、他の金属で表面を被覆した金属粉末等を用いることができる。特に金、銀、白金、パラジウム、銅の単独あるいは合金粉末、又は金、銀、白金、パラジウム等の貴金属で被覆した銅粉末が好ましく用いることができる。
金属フィラーは、配線として使用する場合には、70〜90重量%の範囲で用いることが好ましい。これは、70重量%未満であると、焼成後に配線が高抵抗化し、緻密化が困難になり、90重量%を越えると、他の材料の添加量が少なくなり、例えば、感光性が得られないからである。また、抵抗体として使用する場合には、その添加量を抑制する。
【0017】
(2) 無機フィラー
無機フィラーとして、アルミナ、チタン酸バリウム、ガラスなどを用いることができ、これにより、絶縁性シートと同時焼成する場合に絶縁性シートとの収縮挙動を合わせる緩衝材として作用させることができる。無機フィラーの添加量としては、導電材などの添加量にも依存するが、望ましくは30重量%以下である。
【0018】
(3) 感光材料
感光材料としては、光硬化剤を含む樹脂成分を5〜30重量%添加する。この範囲未満であると、光による硬化が得られず、この範囲を超えると、焼成後に配線が高抵抗化したり、緻密化が困難となるからである。
(3)−1 樹脂成分
樹脂成分としては、アクリル酸エステル系樹脂、エポキシ樹脂などを用いることができる。
【0019】
(3)−1−1 アクリル
アリルアクリラート、ベンジルアクリラート、ブトキシエチルアクリラート、ブトキシトリエチレングリコールアクリラート、シクロヘキシルアクリラート、ジシクロペンタニルアクリラート、ジシクロペンテニルアクリラート、2−エチルヘキシルアクリラート、グリセロールアクリラート、グリシジルアクリラート、ヘプタデカフロロデシルアクリラート、2−ヒドロキシエチルアクリラート、イソボニルアクリラート、2−ヒドロキシプロピルアクリラート、イソデシルアクリラート、イソオクチルアクリラート、ラウリルアクリラート、2−メトキシエチルアクリラート、メトキシエチレングリコールアクリラート、メトキシジエチレングリコールアクリラート、オクタフロロペンチルアクリラート、フェノキシエチルアクリラート、ステアリルアクリラート、トリフロロエチルアクリラート、アリル化シクロヘキシルジアクリラート、ビスフェノールAジアクリラート、1,4−ブタンジオールジアクリラート、1,3−ブチレングリコールジアクリラート、エチレングリコールジアクリラート、ジエチレングリコールジアクリラート、トリエチレングリコールジアクリラート、ポリエチレングリコールジアクリラート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリラート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリラート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリラート、グリセロールジアクリラート、メトキシ化シクロヘキシルジアクリラート、ネオペンチルグリコールジアクリラート、プロピレングリコールジアクリラート、ポリプロピレングリコールジアクリラート、トリグリセロールジアクリラート、トリメチロールプロパントリアクリラートおよび上記のアクリラートをメタクリラートに変えたもの、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、1−ビニル−2−ピロリドンなどが挙げられるが、特にこれらに限定されない。これらを1種または2種以上使用することができる。
【0020】
(3)−1−2 カチオン性反応樹脂として、エポキシ樹脂、脂肪族環状エポキシ樹脂、オキセタン樹脂の中から選ばれる1種又はそれ以上からなる樹脂として、ビスフェノールAのジグルシジルエーテル、ビスフェノールFのジグルシジルエーテル、フェノールノボラックのジグルシジルエーテル、ジグリシジルオルトトルイジン、ジグリシジルアニリン、4,4‘−ジ(1,2−エポキシメチル)ジフェニルエーテル、4,4‘−(1,2−エポキシメチル)ビフェニル、1,6−ヘキサンジオールのジグルシジルエーテルなどの2官能基のエポキシ化合物、パラアミノフェノールのトリグルシジルエーテル、メタアミノフェノールのトリグルシジルエーテル、1,3,5−トリ(1,2−エポキシエチル)ベンゼン、フェノールホルムアルデヒドノボラックのポリグリシジルエーテル、グリセリンのトリグリシジルエーテルなどの3官能基以上のエポキシ化合物が用いられる。
【0021】
(3)−1−3 脂肪族環状エポキシの例としては、YL−6663(ジャパンエポキシレジン製)、YL−6753(ジャパンエポキシレジン製)、アラルダイトCY―184(チバガイギー製)、アラルダイトCY―192−1(チバガイギー製)、アラルダイトCY―179(チバガイギー製)、アラルダイトCY―177(チバガイギー製)、セロキサイド2021(ダイセル化学製)、セロキサイド2081(ダイセル化学製)、セロキサイド2083(ダイセル化学製)、セロキサイド3000(ダイセル化学製)、エポリードGT301(ダイセル化学製)、エポリードGT302(ダイセル化学製)、エポリードGT401(ダイセル化学製)、エポリードGT403(ダイセル化学製)等があげられる。
【0022】
(3)−1−4 オキセタン樹脂の例としては、OXT101(東亞合成製)、OXT121(東亞合成製)等を挙げることができる。
【0023】
(3)−2 硬化剤
硬化剤としては、光ラジカル硬化剤や光酸発生剤などを用いることができる。
【0024】
(3)−2−1 光ラジカル硬化剤
ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、4,4′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4′−ジクロロベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4′−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、2,2′−ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、p−t−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジル、ベンジルジメチルケタール、ベンジル−β−メトキシエチルアセタール、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、2−t−ブチルアントラキノン、2−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンゾスベロン、メチレンアントロン、4−アジドベンザルアセトフェノン、2,6−ビス(p−アジドベンジリデン)シクロヘキサノン,6−ビス(p−アジドベンジリデン)−4−メチルシクロヘキサノン、1−フェニル−1,2−ブタンジオン−2−(o−メトキシカルボニル)オキシム、1−フェニル−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、1−フェニル−プロパンジオン−2−(o−ベンゾイル)オキシム、1,3−ジフェニル−プロパントリオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、1−フェニル−3−エトキシ−プロパントリオン−2−(o−ベンゾイル)オキシム、ミヒラーケトン、2−メチル−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノ−1−プロパノン、また、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、N−フェニルチオアクリドン、4,4′−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、カンファーキノン、四臭化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾインおよびエオシン、メチレンブルーなどの光還元性色素とアスコルビン酸、トリエタノールアミンなどの還元剤の組み合わせなどが挙げられるが、特にこれらに限定されない。これらを1種または2種以上使用することができる。
【0025】
(3)−2−2 光酸発生剤
テトラフルオロホウ酸トリフェニルフェナシルホスホニウム、ヘキサフルオロアンチモン酸トリフェニルスルホニウム、テトラフルオロホウ酸ジフェニルヨードニウム塩、4,4‘−ビス〔ジ(β−ヒドロキシエトキシ)フェニルスルフォニオ〕フェニルスルフィド−ビス−ヘキサフルオロアンチモネート等の組み合わせが上げられるが、特にこれに限定されない。これらを1種または2種以上使用することができる。
【0026】
(3)−3 ペーストの溶剤
ペーストの溶剤は、n−メチルピロリドン、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の高沸点の多価アルコールの誘導体、キシレン等の高沸点の芳香族化合物、ケトン類、エステル類、テルペン類を用いることができる。溶剤の含有量は、0〜15重量%であることが好ましい。これは、溶剤を添加しない場合には、シートへの収縮などの影響がないが、15重量%を越えると、スクリーン印刷後にシートを大きく収縮や膨張させるから、この範囲であることがこのましい。
【0027】
【発明の実施の形態】
以上説明した本発明の構成・作用を一層明らかにするために、以下本発明の好適な実施例について説明する。
【0028】
(1) セラミック多層体の構造
図1は本発明の実施例にかかるセラミック積層体を積層した配線基板(セラミック多層体)を説明する断面図である。図1において、セラミック多層体10は、絶縁性シート12上にパターン13が多数形成されたセラミック積層体14を備え、これらのセラミック積層体14を多数枚積層することにより構成されている。セラミック多層体10には、ビア16が形成され、ビア16を埋めた導体を通じて各層が接続されている。
【0029】
(2) 製造工程
次に、上記セラミック多層体10の製造工程について説明する。図2はセラミック多層体を製造する工程を説明する工程図、図3はセラミック積層体の製造する工程を説明する説明図である。
【0030】
(2)−1 グリーンシートの成形
まず、図3(A)に示すように絶縁性シートとなるグリーンシート12Aを汎用のドクターブレード法などにより形成する。
【0031】
(2)−2 パターン形成
続いて、図3(B)に示すように、グリーンシート12A上に、スクリーン印刷法により感光性ペースト20を用いてパターン13を形成する。感光性ペーストとしては、銀:70〜90重量%、アクリル酸エステル系樹脂:6〜22重量%、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート:3〜10重量%により調製した導電体ペーストを用いることができ、例えば、フォトレジストOK301(商品名:大研化学工業株式会社製造)を用いることができる。
【0032】
(2)−3 露光硬化工程
図3(C)に示すように、グリーンシート12A上のパターン13を露光する。これにより、感光性ペーストで形成されたパターン13が硬化して、セラミック積層体14の作成が完了する。
【0033】
(2)−4 積層・熱プレス工程
上記工程で作成したセラミック積層体14を多数積層し、さらに熱プレスにより一体化して積層グリーン体を形成する。このとき、熱によりパターン13中の樹脂成分が軟化する。
【0034】
(2)−5 脱バインダ工程
積層グリーン体を250〜350℃に加熱することにより、グリーンシートおよび感光性ペーストに含まれている樹脂成分を除去する。
【0035】
(2)−6 焼成工程
積層グリーン体を、850〜1800℃に加熱することにより、各層を焼結一体化する。このときの焼成温度は、感光性ペーストに含まれている金属が銀、金などの融点の低い場合には850〜900℃で、タングステンなどの高融点金属の場合には、1800℃付近の高温で焼成する。これにより、セラミック多層体10が完成する。
【0036】
(3) セラミック積層体の収縮挙動の結果
次に、露光工程によるグリーンシートの収縮・膨張挙動について調べた。図4はパターンを硬化させたときのビア16(図1)のピッチ間の変化量を示し、実線が本実施例による露光処理を施した場合を示し、1点鎖線が従来例による熱乾燥処理を施した場合を示す。その結果、本実施例は、露光工程によりビアピッチの間に変化がほとんどないことが分かった。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例にかかるセラミック積層体を積層したセラミック多層体(配線基板)を説明する断面図である。
【図2】セラミック多層体(積層体)を製造する工程を説明する工程図である。
【図3】セラミック積層体を製造する工程を説明する説明図である。
【図4】パターンを硬化させたときのビアのピッチ間の変化量を説明する説明図である。
【符号の説明】
10…セラミック多層体
12…絶縁性シート
12A…グリーンシート
13…パターン
14…セラミック積層体
16…ビア
20…感光性ペースト[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a method of manufacturing a wiring board that forms a pattern on an insulating sheet. In particular, the present invention relates to a method of manufacturing a wiring board made of a ceramic laminate formed by laminating a plurality of ceramic green sheets.
[0002]
[Prior art and problems]
Conventionally, as a method for producing this type of ceramic laminate, a paste containing a solvent is patterned on a ceramic green sheet by screen printing or the like, and then the solvent contained in the paste is volatilized by heating. A method of manufacturing a sheet by forming a sheet and laminating and baking a large number of sheets is known.
[0003]
However, in the above-described manufacturing method, when the solvent of the sheet is heated and dried, a contraction behavior of the sheet occurs, so that a pitch shift between the sheets of each layer is likely to occur. When pitch deviation occurs in the upper and lower layer patterns due to such shrinkage, problems such as poor connection occur, resulting in problems such as a decrease in yield and electrical characteristics. Such a problem occurs not only when the ceramic laminate is laminated in multiple layers but also when an IC or the like is mounted on a single-layer ceramic substrate.
[0004]
In addition, as another conventional technique, a photosensitive paste that is cured by light is applied onto a ceramic green sheet, and after a photosensitive pace is cured by drying and exposure, a development process is performed to form a pattern. A method of performing this is also known (Japanese Patent Laid-Open Nos. 5-0667405 and 5-204151).
[0005]
However, even in the above-described other techniques, after the pattern is formed on the sheet, the sheet is immersed in a developer (solvent, water, etc.), so that the sheet undergoes behavior such as contraction and expansion. For this reason, there are problems such as pitch shift similar to those described above.
[0006]
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention solves the above-described problems of the prior art, and an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a wiring board that is less likely to cause sheet expansion / contraction and can form a pattern at a desired position. .
[0007]
[Means for solving the problems and their functions and effects]
The present invention made to solve the above problems
A sheet making process for forming an insulating sheet which is a ceramic green sheet before firing;
A pattern forming step of forming a photosensitive paste that is cured by light on the insulating sheet by a screen printing method in a predetermined pattern;
An exposure step of curing the pattern by exposing it to the pattern;
A baking step of simultaneously baking the insulating sheet and the photosensitive paste after the exposure step;
Equipped with a,
The predetermined pattern formed by the screen printing method is a final pattern substantially the same as the pattern obtained after the exposure step and the baking step;
It is characterized by.
[0008]
According to the manufacturing method of the present invention, if a pattern formed with a photosensitive paste by screen printing is exposed on an insulating sheet, the pattern can be cured. No variation occurs. In other words, since processing such as heating and drying that causes behavioral changes such as contraction and expansion of the sheet is not performed, yield and electrical characteristics can be improved without causing positional deviation in the pattern. .
[0009]
Further, since the final pattern is formed on the insulating sheet by the screen printing method, a wet process such as development for removing an unnecessary portion for forming the final pattern becomes unnecessary, and the process becomes simple. Furthermore, since the exposure process has a shorter processing time than the process of drying and curing the pattern, the productivity can be improved.
[0010]
As an aspect of the insulating sheet of the present invention, any substrate that can screen-print a photosensitive paste may be used. For example, an unfired ceramic green sheet formed from Al 2 O 3 or nitride can be applied. The green sheet refers to a non-fired ceramic powder formed into a sheet form by using a doctor blade method or the like in a slurry form using an organic solvent, a plasticizer, a solvent, or the like. When a green sheet is used, the shrinkage of the sheet itself can be further suppressed. Further, after the patterning step and the exposure step, the facilities Succoth firing step of co-firing the insulating sheet and the pattern, in this case, to enhance the integrity by the insulating sheet and the pattern is sintered it can.
[0011]
The screen printing method refers to a printing method in which a screen on which a pattern is formed with or without an opening is placed on a substrate to be printed, and paste is attached only to the opening using the opening.
[0012]
Furthermore, as a preferred aspect of the present invention, a step of firing a plurality of insulating sheets on which the pattern is formed can be performed. In this case, since the pattern is cured on the insulating sheet and the unity is improved, pattern misalignment hardly occurs between the layers of the insulating sheet. Therefore, according to this method, it is suitable for manufacture of the laminated substrate which laminated | stacked many insulating sheets.
[0013]
For the pattern formed on the insulating sheet, a conductive material may be used, or a magnetic material or a material for forming electrical resistance may be used alone or in combination. The insulating sheet can be applied to, for example, a wiring board on which an IC chip or the like is mounted in a single layer, or can be applied to an electrical component having a capacitor, a coil, or a resistance by laminating a plurality of sheets.
[0014]
The pattern to be formed on the insulating sheet is not only a conductive pattern using a conductive photosensitive paste, but also a resistance pattern using a magnetic material or a material that forms electrical resistance. May be used in combination or in combination. As the insulating sheet, for example, it can be applied as a substrate on which an IC chip or the like is mounted in one layer, or can be applied to an electrical component having a capacitor, a coil, or a resistor by laminating a plurality of sheets.
[0015]
The photosensitive paste not only imparts conductivity by adding a material having conductivity, but also an oxide (for example, RuO 2 ) for electric resistance or an oxide (for example, CaTiO 3 ) for dielectric. ) May be prepared as a paste.
[0016]
When the photosensitive paste is a conductive paste, it can be prepared with the following materials and composition.
(1) Conductive material A metallic filler can be added as a conductive material. As the metal filler, a metal such as gold, silver, platinum, palladium, copper, aluminum, nickel, tungsten, or an alloy powder, a metal powder whose surface is coated with another metal, or the like can be used. In particular, gold, silver, platinum, palladium, copper alone or an alloy powder, or copper powder coated with a noble metal such as gold, silver, platinum, or palladium can be preferably used.
The metal filler is preferably used in the range of 70 to 90% by weight when used as wiring. This is because if it is less than 70% by weight, the resistance of the wiring becomes high after firing and it becomes difficult to densify, and if it exceeds 90% by weight, the amount of other materials added becomes small, for example, photosensitivity can be obtained. Because there is no. Moreover, when using as a resistor, the addition amount is suppressed.
[0017]
(2) Inorganic filler As the inorganic filler, alumina, barium titanate, glass or the like can be used, thereby acting as a buffer material that matches the shrinkage behavior with the insulating sheet when co-fired with the insulating sheet. Can do. The amount of the inorganic filler added is preferably 30% by weight or less, although it depends on the amount of the conductive material added.
[0018]
(3) Photosensitive material As the photosensitive material, 5 to 30% by weight of a resin component containing a photocuring agent is added. If it is less than this range, curing by light cannot be obtained, and if it exceeds this range, the wiring becomes high resistance after firing or densification becomes difficult.
(3) -1 Resin Component As the resin component, an acrylate resin, an epoxy resin, or the like can be used.
[0019]
(3) -1-1 Acrylic allyl acrylate, benzyl acrylate, butoxyethyl acrylate, butoxytriethylene glycol acrylate, cyclohexyl acrylate, dicyclopentanyl acrylate, dicyclopentenyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate Glycerol acrylate, glycidyl acrylate, heptadecafluorodecyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, isobornyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, isodecyl acrylate, isooctyl acrylate, lauryl acrylate, 2 -Methoxyethyl acrylate, methoxyethylene glycol acrylate, methoxydiethylene glycol acrylate, octafluoropentyl acrylate, phenol Xylethyl acrylate, stearyl acrylate, trifluoroethyl acrylate, allylated cyclohexyl diacrylate, bisphenol A diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,3-butylene glycol diacrylate, ethylene glycol diacrylate Acrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, glycerol diacrylate, methoxylation Cyclohexyl diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, polypro Examples include lenglycol diacrylate, triglycerol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, and those obtained by replacing the above acrylate with methacrylate, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 1-vinyl-2-pyrrolidone, etc. However, it is not limited to these. One or more of these can be used.
[0020]
(3) -1-2 As a cationic reaction resin, a resin composed of one or more selected from an epoxy resin, an aliphatic cyclic epoxy resin, and an oxetane resin, a diglycidyl ether of bisphenol A, and a diglycol of bisphenol F Sidyl ether, phenol novolac diglycidyl ether, diglycidyl orthotoluidine, diglycidyl aniline, 4,4'-di (1,2-epoxymethyl) diphenyl ether, 4,4 '-(1,2-epoxymethyl) biphenyl, Bifunctional epoxy compounds such as 1,6-hexanediol diglycidyl ether, paraaminophenol triglycidyl ether, metaaminophenol triglycidyl ether, 1,3,5-tri (1,2-epoxyethyl) ) Benzene, phenol formal Polyglycidyl ethers of Hidonoborakku, epoxy compound having three or more functional groups such as triglycidyl ether of glycerol is used.
[0021]
(3) -1-3 Examples of the aliphatic cyclic epoxy include YL-6663 (made by Japan Epoxy Resin), YL-6653 (made by Japan Epoxy Resin), Araldite CY-184 (made by Ciba Geigy), Araldite CY-192- 1 (Ciba Geigy), Araldite CY-179 (Ciba Geigy), Araldite CY-177 (Ciba Geigy), Celoxide 2021 (Daicel Chemical), Celoxide 2081 (Daicel Chemical), Celoxide 2083 (Daicel Chemical), Celoxide 3000 (Manufactured by Daicel Chemical), epolide GT301 (manufactured by Daicel Chemical), epolide GT302 (manufactured by Daicel Chemical), epolide GT401 (manufactured by Daicel Chemical), epolide GT403 (manufactured by Daicel Chemical), and the like.
[0022]
(3) -1-4 Examples of the oxetane resin include OXT101 (manufactured by Toagosei), OXT121 (manufactured by Toagosei), and the like.
[0023]
(3) -2 As the curing agent curing agent, a photo radical curing agent, a photo acid generator or the like can be used.
[0024]
(3) -2-1 Photoradical curing agent benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl ketone, dibenzyl ketone, fluorenone, 2,2'-diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, p -T-butyldichloroacetophenone, thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, diethylthioxanthone, benzyl, benzyldimethyl ketal, benzyl-β-methoxyethyl acetal, benzoin, benzine Inmethyl ether, benzoin butyl ether, anthraquinone, 2-t-butylanthraquinone, 2-amylanthraquinone, β-chloroanthraquinone, anthrone, benzanthrone, dibenzosuberone, methyleneanthrone, 4-azidobenzalacetophenone, 2,6-bis (P-azidobenzylidene) cyclohexanone, 6-bis (p-azidobenzylidene) -4-methylcyclohexanone, 1-phenyl-1,2-butanedione-2- (o-methoxycarbonyl) oxime, 1-phenyl-propanedione- 2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 1-phenyl-propanedione-2- (o-benzoyl) oxime, 1,3-diphenyl-propanetrione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 1-phenyl- 3-ethoxy-propanetrione-2- (o-benzoyl) oxime, Michler's ketone, 2-methyl- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propanone, naphthalenesulfonyl chloride, quinolinesulfonyl chloride, N -Phenylthioacridone, 4,4'-azobisisobutyronitrile, diphenyl disulfide, benzthiazole disulfide, triphenylphosphine, camphorquinone, carbon tetrabromide, tribromophenylsulfone, benzoin peroxide and eosin, methylene blue, etc. A combination of a photoreductive dye and a reducing agent such as ascorbic acid or triethanolamine is not limited thereto. One or more of these can be used.
[0025]
(3) -2-2 Photoacid generator Triphenylphenacylphosphonium tetrafluoroborate, triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, diphenyliodonium salt of tetrafluoroborate, 4,4′-bis [di (β-hydroxyethoxy ) Phenylsulfonio] phenylsulfide-bis-hexafluoroantimonate and the like are included, but the present invention is not particularly limited thereto. One or more of these can be used.
[0026]
(3) -3 Solvent of the paste The solvent of the paste is a high-boiling polyhydric alcohol derivative such as n-methylpyrrolidone, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monoethyl ether acetate, Boiling aromatic compounds, ketones, esters and terpenes can be used. The content of the solvent is preferably 0 to 15% by weight. If no solvent is added, there is no effect of shrinkage on the sheet, but if it exceeds 15% by weight, the sheet is greatly shrunk or expanded after screen printing. .
[0027]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
In order to further clarify the configuration and operation of the present invention described above, preferred embodiments of the present invention will be described below.
[0028]
(1) Structure of Ceramic Multilayer Body FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a wiring board (ceramic multilayer body) on which a ceramic laminate according to an embodiment of the present invention is laminated. In FIG. 1, a
[0029]
(2) Manufacturing Process Next, the manufacturing process of the
[0030]
(2) -1 Formation of Green Sheet First, as shown in FIG. 3A, a
[0031]
(2) -2 Pattern Formation Subsequently, as shown in FIG. 3B, a
[0032]
(2) -3 Exposure Curing Step As shown in FIG. 3C, the
[0033]
(2) -4 Lamination / Hot Press Step A large number of
[0034]
(2) -5 Debinding process The resin component contained in the green sheet and the photosensitive paste is removed by heating the laminated green body to 250 to 350 ° C.
[0035]
(2) -6 Firing Step The laminated green body is heated to 850 to 1800 ° C. to sinter and integrate the layers. The firing temperature at this time is 850 to 900 ° C. when the metal contained in the photosensitive paste has a low melting point such as silver or gold, and high temperature around 1800 ° C. when the metal is a high melting point metal such as tungsten. Bake with. Thereby, the
[0036]
(3) Result of Shrinkage Behavior of Ceramic Laminate Next, the shrinkage / expansion behavior of the green sheet by the exposure process was examined. FIG. 4 shows the amount of change between the pitches of the vias 16 (FIG. 1) when the pattern is cured, the solid line shows the case where the exposure process according to this embodiment is performed, and the one-dot chain line shows the thermal drying process according to the conventional example. The case where is given. As a result, it was found that in this example, there was almost no change between via pitches due to the exposure process.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a ceramic multilayer body (wiring board) in which ceramic multilayer bodies according to an embodiment of the present invention are laminated.
FIG. 2 is a process diagram illustrating a process for producing a ceramic multilayer body (laminated body).
FIG. 3 is an explanatory diagram for explaining a process for manufacturing a ceramic laminate.
FIG. 4 is an explanatory diagram illustrating a change amount between via pitches when a pattern is cured;
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF
Claims (3)
上記絶縁性シートに、スクリーン印刷法により、光により硬化する感光性ペーストを、予め定められたパターンに形成するパターン形成工程と、
上記パターンに向けて露光することで該パターンを硬化させる露光工程と、
上記絶縁性シートと感光性ペーストを、上記露光工程の後に、同時焼成する焼成工程と、
を備え、
上記スクリーン印刷法により形成される上記予め定められたパターンは、上記露光工程および焼成工程後に得られるパターンと実質的に同一の最終のパターンであること、
を特徴とする配線基板の製造方法。A sheet making process for forming an insulating sheet which is a ceramic green sheet before firing;
A pattern forming step of forming a photosensitive paste that is cured by light on the insulating sheet by a screen printing method in a predetermined pattern;
An exposure step of curing the pattern by exposing it to the pattern;
A baking step of simultaneously baking the insulating sheet and the photosensitive paste after the exposure step;
Equipped with a,
The predetermined pattern formed by the screen printing method is a final pattern substantially the same as the pattern obtained after the exposure step and the baking step;
A method of manufacturing a wiring board characterized by the above.
上記感光性ペーストは、導電性を有する材料から形成されている配線基板の製造方法。In the manufacturing method of the wiring board of Claim 1,
The said photosensitive paste is a manufacturing method of the wiring board currently formed from the material which has electroconductivity.
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