JP3957082B2 - Method for producing retardation plate and method for producing optical compensation polarizing plate - Google Patents
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Description
本発明は、位相差板の製造方法及び光学補償偏光板の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a retardation plate and a method for producing an optical compensation polarizing plate .
VA型やOCB型の液晶セルにおける複屈折による位相差を補償して良視認の視野角の拡大には、面内の屈折率をnx、ny、厚さ方向の屈折率をnzとしたときにその面内の二方向と厚さ方向の三次元の屈折率を制御してnx≧ny>nzの特性を付与した位相差板が有用なことが知られている。 In order to compensate for the phase difference due to birefringence in a VA-type or OCB-type liquid crystal cell and expand the viewing angle for good visual recognition, when the in-plane refractive index is nx, ny, and the refractive index in the thickness direction is nz It is known that a retardation plate having a property of nx ≧ ny> nz by controlling a three-dimensional refractive index in two directions and thickness directions in the plane is useful.
従来、前記したnx≧ny>nzの特性を付与した位相差板としては、ポリマーからなる一軸延伸フィルムの一対を面内の遅相軸方向が直交するように積層してなる積層位相差板や、高分子フィルムにテンターによる横延伸又は二軸延伸を施してなる単層の位相差板が知られていた(特許文献1及び2)。
Conventionally, as the above-described retardation plate having the characteristics of nx ≧ ny> nz, a laminated retardation plate formed by laminating a pair of uniaxially stretched films made of a polymer so that the in-plane slow axis directions are orthogonal to each other, In addition, a single-layer retardation plate obtained by subjecting a polymer film to transverse stretching or biaxial stretching by a tenter has been known (
しかしながら従来の積層位相差板では、厚さが大きくて偏光板と併用した場合に更に嵩高化し、また1枚毎の接着処理を要して製造効率に乏しい問題点があった。一方、後者の単層位相差板では付与できる位相差の範囲が狭く、厚さ方向の位相差値(Rz)が、法線方向の位相差値(Re)よりも著しく大きくなる場合には単層では対処できず、所望の位相差値を得るために2枚以上を積層した積層位相差板とする必要があり、前者と同様に厚型化や嵩高化する問題点があった。
本発明は、液晶表示における高コントラストの視野角拡大補償等に有効な位相差特性を示し、かつ偏光板と併用した場合に薄型性に優れるものとできる光学部材の製造方法の開発を目的とする。 The present invention includes a purpose of developing the optical member manufacturing method capable and excellent in thin properties when are valid phase difference characteristic in a viewing angle expansion compensation for high contrast definitive in the liquid crystal display, and in combination with the polarizing plate To do.
本発明は、ポリマー系延伸フィルムAとポリマー層Bとからなる位相差板の製造方法であって、
(1)ポリマーからなる支持基材を準備する工程、
(2)ポリエーテルケトン、ポリアミド、ポリエステル、ポリイミド、ポリアミドイミド及びポリエステルイミドからなる群から選択される少なくとも1種のポリマーの溶液及び溶融液の少なくとも一方を前記支持基材上に展開して塗工層を形成する工程、
および、
(3)前記支持基材と前記塗工層を共に延伸又は収縮させることにより、前記支持基材が前記ポリマー系延伸フィルムAとなり、前記塗工層が前記ポリマー層Bとなり、前記ポリマー系延伸フィルムAがRe=20〜300nmおよびRz/Re=1.0〜8を満足し、前記ポリマー層BがRe=1〜100nmおよびRz/Re=5〜100を満足し、かつ前記ポリマー層Bの厚さが1〜20μmとなるように前記両層を形成する工程、
を含む光学フィルムの製造方法を提供する。
前記ポリマー系延伸フィルムAまたは前記ポリマー層Bの各層において、
前記Reは、前記各層の面内位相差であり、前記Rzは、前記各層の厚さ方向位相差であり、それぞれ下記式で表され、
下記式中、nxおよびnyは、前記各層の面内の屈折率であり、nzは、前記各層の厚さ方向の屈折率であり、dは、前記各層の厚さ(nm)である。
(nx−ny)d=Re
(nx−nz)d=Rz
The present invention is a method for producing a retardation film comprising a polymer stretched film A and a polymer layer B,
(1) a step of preparing a support substrate made of a polymer;
(2) At least one of a solution and a melt of at least one polymer selected from the group consisting of polyetherketone, polyamide, polyester, polyimide, polyamideimide, and polyesterimide is spread on the support substrate and applied. Forming a layer;
and,
(3) By stretching or shrinking the supporting substrate and the coating layer together, the supporting substrate becomes the polymer stretched film A, the coating layer becomes the polymer layer B, and the polymer stretched film. A satisfies Re = 20 to 300 nm and Rz / Re = 1.0 to 8, the polymer layer B satisfies Re = 1 to 100 nm and Rz / Re = 5 to 100, and the thickness of the polymer layer B Forming both the layers so that the thickness is 1 to 20 μm,
The manufacturing method of the optical film containing is provided.
In each layer of the polymer-based stretched film A or the polymer layer B,
The Re is an in-plane retardation of each layer, the Rz is a thickness direction retardation of each layer, and each is represented by the following formula:
In the following formula, nx and ny are in-plane refractive indexes of the respective layers, nz is a refractive index in the thickness direction of the respective layers, and d is a thickness (nm) of the respective layers.
(Nx-ny) d = Re
(Nx-nz) d = Rz
さらに、本発明は、偏光板の片側に位相差層を有してなる光学補償偏光板の製造方法であって、Furthermore, the present invention is a method for producing an optical compensation polarizing plate having a retardation layer on one side of a polarizing plate,
(4)前記本発明の位相差板の製造方法により位相差板を製造する工程、(4) A step of producing a retardation plate by the method of producing a retardation plate of the present invention,
および、and,
(5)偏光板の片側に接着層又は粘着層を介して前記位相差板を積層させ、前記位相差板を、前記光学補償偏光板の位相差層とする工程、(5) The step of laminating the retardation plate on one side of the polarizing plate via an adhesive layer or an adhesive layer, and using the retardation plate as a retardation layer of the optical compensation polarizing plate,
を含む製造方法を提供する。A manufacturing method is provided.
本発明によれば、前記のReとRzを満足することで、液晶表示における高コントラストの視野角拡大等の光学補償に有効な位相差特性を示し、かつポリマー系延伸フィルムAは単層物として、またポリマー層Bは塗工膜として形成できて、偏光板との併用形態においても薄さに優れるものとすることができる。 According to the present invention, by satisfying the aforementioned Re and Rz, are the valid phase difference characteristic for optical compensation, such as a viewing angle widening of high contrast definitive in the liquid crystal display, and a polymer-based stretched film A Tansobutsu In addition, the polymer layer B can be formed as a coating film, and can be excellent in thinness even in a combined form with a polarizing plate.
本発明の位相差板の製造方法により製造される位相差板(以下、「本発明の位相差板」ともいう)は、面内の屈折率をnx、ny、厚さ方向の屈折率をnz、厚さをd、(nx−ny)d=Re、及び(nx−nz)d=Rzとしたとき、前記の位相差層がRe=20〜300nm、かつRz/Re=1.0〜8を満足するポリマー系延伸フィルムA、及びRe=1〜100nm、かつRz/Re=5〜100を満足する厚さが1〜20μmの塗工膜からなるポリマー層Bの両方からなるものである。本発明の光学補償偏光板の製造方法により製造される光学補償偏光板(以下、「本発明の光学補償偏光板」又は「本発明による光学補償偏光板」ともいう)は、偏光板の片側に位相差層を有してなる光学補償偏光板であって、前記位相差板が本発明の位相差層からなる光学補償偏光板である。 The retardation plate manufactured by the retardation plate manufacturing method of the present invention (hereinafter also referred to as “retarding plate of the present invention”) has an in- plane refractive index of nx, ny, and a thickness direction refractive index of nz. When the thickness is d, (nx−ny) d = Re, and (nx−nz) d = Rz, the retardation layer has Re = 20 to 300 nm and Rz / Re = 1.0 to 8 satisfactory polymeric stretched film a to, and Re = 1 to 100 nm and a thickness that satisfy the Rz / Re = 5 to 100, is made of both the polymer layer B composed of a coating film of 1 to 20 [mu] m. An optical compensation polarizing plate produced by the method for producing an optical compensation polarizing plate of the present invention (hereinafter also referred to as “optical compensation polarizing plate of the present invention” or “optical compensation polarizing plate of the present invention”) is provided on one side of the polarizing plate. An optical compensation polarizing plate having a retardation layer, wherein the retardation plate is an optical compensation polarizing plate comprising the retardation layer of the present invention.
ポリマー系延伸フィルムAを形成するポリマーについては特に限定はなく、光透過性の適宜なものを1種又は2種以上を混合して用いうる。就中、光透過率が75%以上、特に85%以上の透光性に優れ、表面平滑性、複屈折の均一性、耐熱性に優れるフィルムを形成しうるポリマーが好ましい。また前記した位相差特性Re、Rzを示す延伸フィルムの安定した量産性等の点より、延伸方向の屈折率が高くなる正の複屈折性を示すポリマーが好ましく用いうる。 There is no limitation in particular about the polymer which forms the polymer-type stretched film A, The suitable thing of a light transmittance can be used 1 type or in mixture of 2 or more types. In particular, a polymer capable of forming a film having excellent light transmittance of 75% or more, particularly 85% or more, and having excellent surface smoothness, uniformity of birefringence, and heat resistance is preferable. From the viewpoint of stable mass productivity of the stretched film exhibiting the retardation characteristics Re and Rz described above, a polymer exhibiting positive birefringence in which the refractive index in the stretching direction is high can be preferably used.
ちなみに前記した正の複屈折性を示すポリマーの例としては、ノルボルネン系ポリマーやポリカーボネート、ポリエーテルスルホンやポリスルホン、ポリオレフィンやアクリル系ポリマー、セルロース系樹脂やポリアリレート、ポリスチレンやポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニルやポリ塩化ビニリデン、アセテート系ポリマーなどがあげられる。なお後記するポリマー層Bを形成するポリマー等の延伸方向の屈折率が低くなる負の複屈折性を示すポリマーも用いうる。 Incidentally, examples of the polymer exhibiting positive birefringence described above include norbornene polymers and polycarbonates, polyethersulfone and polysulfone, polyolefins and acrylic polymers, cellulose resins and polyarylate, polystyrene and polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, Examples thereof include polyvinylidene chloride and acetate polymers. In addition, the polymer which shows the negative birefringence in which the refractive index of the extending | stretching direction becomes low, such as the polymer which forms the polymer layer B mentioned later, can also be used.
延伸処理対象のフィルムは、例えば流延成膜法やロールコート法やフローコート法等のキャスティング法、押出法などの適宜なフィルム形成方式を適用して形成することができる。就中、厚さムラや配向歪ムラ等の少ない延伸フィルムの量産性などの点より、キャスティング法等の溶液製膜法によるフィルムが好ましく用いうる。フィルムの形成に際しては安定剤や可塑剤や金属類等からなる種々の添加剤を必要に応じて配合することができる。 The film to be stretched can be formed by applying an appropriate film forming method such as a casting film forming method, a casting method such as a roll coating method or a flow coating method, or an extrusion method. In particular, a film formed by a solution casting method such as a casting method can be preferably used from the viewpoint of mass productivity of a stretched film with little thickness unevenness and alignment strain unevenness. In forming the film, various additives including stabilizers, plasticizers, metals, and the like can be blended as necessary.
光学補償効果等の点より好ましく用いうるポリマー系延伸フィルムAは、面内の屈折率をnx、ny、厚さ方向の屈折率をnz、厚さをd、(nx−ny)d=Re、及び(nx−nz)d=Rzとしたとき(以下同じ)、Re=250nm以下、就中22〜200nm、特に25〜150nm、かつRz/Re=7以下、就中6以下、特に5以下を満足するものである。 The polymer-based stretched film A that can be preferably used in view of the optical compensation effect and the like has an in-plane refractive index of nx, ny, a thickness direction refractive index of nz, a thickness of d, and (nx−ny) d = Re, And (nx−nz) d = Rz (hereinafter the same), Re = 250 nm or less, especially 22 to 200 nm, especially 25 to 150 nm, and Rz / Re = 7 or less, especially 6 or less, especially 5 or less. Satisfied.
ポリマー系延伸フィルムAの形成は、例えばポリマーフィルムにロール法縦延伸方式やテンター横延伸方式、二軸延伸方式などにより、従来に準じて目的とする位相差特性が発現する延伸処理を施すことにより行うことができる。その場合、ロール法縦延伸方式での加熱は、加熱ロールを用いる方式や雰囲気を加熱する方式、それらを併用する方式のいずれの方式にても行うことができる。 Formation of the polymer-based stretched film A can be achieved, for example, by subjecting the polymer film to a roll treatment longitudinal stretching method, a tenter transverse stretching method, a biaxial stretching method, or the like, by subjecting the polymer film to a stretching treatment that exhibits the desired retardation characteristics. It can be carried out. In that case, the heating in the roll method longitudinal stretching method can be performed by any method of a method using a heating roll, a method of heating an atmosphere, or a method of using them together.
また前記の二軸延伸方式では、全テンター方式による同時二軸延伸処理方式や、ロール・テンター法による逐次二軸延伸処理方式のいずれも採ることができる。延伸処理温度は、従来に準じることができ、フィルムを形成するポリマーのガラス転移温度の近傍、就中ガラス転移温度以上が好ましい。 In the biaxial stretching method, any of a simultaneous biaxial stretching treatment method using an all tenter method and a sequential biaxial stretching treatment method using a roll tenter method can be employed. The stretching treatment temperature can be based on the conventional one, and is preferably in the vicinity of the glass transition temperature of the polymer forming the film, especially above the glass transition temperature.
ポリマー系延伸フィルムAの厚さは、目的とする位相差特性等に応じて適宜に決定しうる。一般には薄型化を目的に200μm以下、就中30〜150μm、特に40〜120μmとされる。 The thickness of the polymer-based stretched film A can be appropriately determined according to the target retardation characteristics and the like. In general, it is 200 μm or less, especially 30 to 150 μm, particularly 40 to 120 μm for the purpose of thinning.
ポリマー層Bは、固体ポリマーを液状化してそれを展開し、その展開層を固体化させてなる塗工膜として形成される。これにより厚さを1〜20μmとすることができる。上記した延伸フィルム方式では、フィルム強度の点より厚さを20μm以下とすることが困難であり、特にその厚さで目的とする位相差特性を付与することが困難である。薄型化や目的とする位相差特性の付与性の点より好ましいポリマー層Bの厚さは、15μm以下、就中12μm以下、特に2〜10μmである。 The polymer layer B is formed as a coating film formed by liquefying a solid polymer, developing the polymer, and solidifying the developing layer. Thereby, thickness can be 1-20 micrometers. In the above-described stretched film system, it is difficult to make the thickness 20 μm or less from the viewpoint of film strength, and it is difficult to give the desired retardation characteristics with the thickness. The thickness of the polymer layer B is preferably 15 μm or less, more preferably 12 μm or less, particularly 2 to 10 μm, from the viewpoint of thinning and imparting the desired retardation characteristics.
ポリマー層Bの形成には、塗工方式でRe=1〜100nm、かつRz/Re=5〜100を満足する層を形成しうる適宜な固体ポリマーを用いうる。光透過率が75%以上、特に85%以上の透光性に優れる層を形成しうる耐熱性の良好な固体ポリマーが好ましい。具体的には、その塗工層形成性等の点よりポリエーテルケトン、特にポリアリールエーテルケトン、ポリアミド、ポリエステル、ポリイミド、ポリアミドイミド又はポリエステルイミドの1種、又は2種以上を混合したものを用いる。 For the formation of the polymer layer B, an appropriate solid polymer capable of forming a layer satisfying Re = 1 to 100 nm and Rz / Re = 5 to 100 by a coating method can be used. A solid polymer with good heat resistance capable of forming a layer having excellent light transmissivity having a light transmittance of 75% or more, particularly 85% or more is preferred. Specifically, polyether ketone, especially polyaryl ether ketone, polyamide, polyester, polyimide, polyamide imide or polyester imide, or a mixture of two or more thereof is used from the viewpoint of the coating layer formability and the like. .
ちなみに前記したポリエーテルケトン、特にポリアリールエーテルケトンの具体例としては、例えば下記の一般式(1)で表される繰返し単位を有するものなどがあげられる(特開2001−49110号公報)。
前記の一般式(1)において、Xはハロゲン、アルキル基又はアルコキシ基であり、ベンゼン環へのXの結合数q、すなわちp−テトラフルオロベンゾイレン基とオキシアルキレン基が結合しない、残る位置での水素原子の置換数qの値は、0〜4の整数である。またR1は下記の一般式(2)で表される化合物(基)であり、mは0又は1である。さらにnは、重合度を表わし、2〜5000、就中5〜500が好ましい。 In the general formula (1), X is a halogen, an alkyl group, or an alkoxy group, and the number of X bonds to the benzene ring q, that is, the p-tetrafluorobenzoylene group and the oxyalkylene group are not bonded. The value of the number of substitutions q of hydrogen atoms is an integer of 0-4. R 1 is a compound (group) represented by the following general formula (2), and m is 0 or 1. Further, n represents the degree of polymerization, and preferably 2 to 5000, and more preferably 5 to 500.
なお前記一般式(1)におけるXとしてのハロゲンとしては、例えばフッ素原子や臭素原子、塩素原子やヨウ素原子などがあげられ、就中フッ素原子が好ましい。またアルキル基としては、例えばメチル基やエチル基、プロピル基やイソプロピル基、ブチル基の如き炭素数が1〜6、就中1〜4の直鎖又は分岐鎖のアルキル基などがあげられ、就中メチル基やエチル基、それらのトリフルオロメチル基の如きハロゲン化アルキル基が好ましい。 Examples of the halogen as X in the general formula (1) include a fluorine atom, a bromine atom, a chlorine atom and an iodine atom, and a fluorine atom is particularly preferable. Examples of the alkyl group include linear or branched alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, and butyl group. A halogenated alkyl group such as a medium methyl group, an ethyl group, or a trifluoromethyl group thereof is preferable.
さらにアルコキシ基としては、例えばメトキシ基やエトキシ基、プロポキシ基やイソプロポキシ基、ブトキシ基の如き炭素数が1〜6、就中1〜4の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基などがあげられ、就中メトキシ基やエトキシ基、それらのトリフルオロメトキシ基の如きハロゲン化アルコキシ基が好ましい。前記において特に好ましいXは、フッ素原子である。 Furthermore, examples of the alkoxy group include linear or branched alkoxy groups having 1 to 6 carbon atoms such as a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, and a butoxy group. In particular, a halogenated alkoxy group such as a methoxy group, an ethoxy group, or a trifluoromethoxy group thereof is preferable. In the above, X is particularly preferably a fluorine atom.
一方、前記一般式(2)で表される基において、X’はハロゲン、アルキル基又はアルコキシ基であり、ベンゼン環へのX’の結合数q’の値は、0〜4の整数である。X’としてのハロゲン、アルキル基又はアルコキシ基としては、前記したXと同じものが例示できる。 On the other hand, in the group represented by the general formula (2), X ′ is a halogen, an alkyl group or an alkoxy group, and the value of the number of bonds q ′ of X ′ to the benzene ring is an integer of 0 to 4. . Examples of the halogen, alkyl group or alkoxy group as X ′ are the same as those described above for X.
好ましいX’は、フッ素原子、メチル基やエチル基、それらのトリフルオロメチル基の如きハロゲン化アルキル基、メトキシ基やエトキシ基、それらのトリフルオロメトキシ基の如きハロゲン化アルコキシ基であり、就中フッ素原子が好ましい。 Preferred X ′ is a fluorine atom, a methyl group or an ethyl group, a halogenated alkyl group such as trifluoromethyl group, a methoxy group or an ethoxy group, or a halogenated alkoxy group such as trifluoromethoxy group. A fluorine atom is preferred.
なお前記の一般式(1)においてXとX’は、同じであってもよいし、異なっていてもよい。また一般式(1)、(2)においてq又はq’が2以上であることに基づいて分子中に2個以上存在するX又はX’は、それぞれ独立に同じであってもよいし、異なっていてもよい。 In the general formula (1), X and X ′ may be the same or different. Moreover, based on the fact that q or q ′ is 2 or more in general formulas (1) and (2), two or more X or X ′ present in the molecule may be the same or different from each other. It may be.
特に好ましいR1は、下記の一般式(3)で表される基である。
前記の一般式(2)、(3)においてR2は、2価の芳香族基であり、Pは0又は1である。その2価の芳香族基としては、例えば(o,m又はp−)フェニレン基、ナフタレン基、ビフェニル基、アントラセン基、(o,m又はp−)テルフェニル基、フェナントレン基、ジベンゾフラン基、ビフェニルエーテル基、ビフェニルスルホン基、下記の式で表される2価の芳香族基などがあげられる。なお当該2価の芳香族基は、その芳香環に直接結合する水素が前記したハロゲン、アルキル基又はアルコキシ基で置換されていてもよい。 In the general formulas (2) and (3), R 2 is a divalent aromatic group, and P is 0 or 1. Examples of the divalent aromatic group include (o, m or p-) phenylene group, naphthalene group, biphenyl group, anthracene group, (o, m or p-) terphenyl group, phenanthrene group, dibenzofuran group, biphenyl. Examples thereof include an ether group, a biphenylsulfone group, and a divalent aromatic group represented by the following formula. In the divalent aromatic group, hydrogen directly bonded to the aromatic ring may be substituted with the halogen, alkyl group or alkoxy group described above.
前記において好ましい2価の芳香族基(R2)は、下記の式で表されるものである。
前記した一般式(1)で表されるポリアリールエーテルケトンは、同じ繰返し単位からなっていてもよいし、異なる繰返し単位の2種又は3種以上を有するものであってもよい。後者の場合、各繰返し単位は、ブロック状に存在していてもよいし、ランダムに存在していてもよい。 The polyaryl ether ketone represented by the general formula (1) may be composed of the same repeating unit, or may have two or more different repeating units. In the latter case, each repeating unit may exist in a block form or may exist randomly.
上記を踏まえて一般式(1)で表されるポリアリールエーテルケトンの内の好ましいものは、下記の一般式(4)で表されるものである。
また分子末端の基を含めた場合の好ましいポリアリールエーテルケトンは、一般式(1)に対応して下記の一般式(5)で表されるものであり、一般式(4)に対応するものは下記の一般式(6)で表されるものである。これらは分子内のp−テトラフルオロベンゾイレン基側にフッ素原子が結合し、オキシアルキレン基側に水素原子が結合したものである。 A preferable polyaryletherketone including a group at the molecular end is represented by the following general formula (5) corresponding to the general formula (1), and corresponds to the general formula (4). Is represented by the following general formula (6). In these, a fluorine atom is bonded to the p-tetrafluorobenzoylene group side in the molecule, and a hydrogen atom is bonded to the oxyalkylene group side.
一方、上記したポリアミド又はポリエステルの具体例としては、例えば下記の一般式(7)で表される繰返し単位を有するものなどがあげられる。
前記の一般式(7)において、Bは、ハロゲン、炭素数1〜3のアルキル基若しくはそのハロゲン化物、それらの1種若しくは2種以上で置換されたフェニル基、又は非置換のフェニル基である。zは0〜3の整数である。 In the general formula (7), B is halogen, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms or a halide thereof, a phenyl group substituted with one or more of them, or an unsubstituted phenyl group. . z is an integer of 0-3.
Eは、共有結合、炭素数2のアルケニル基若しくはそのハロゲン化物、CH2基、C(CX3)2基、CO基、O原子、S原子、SO2基、Si(R)2基、又はNR基である。前記のC(CX3)2基におけるXは、水素原子又はハロゲンであり、Si(R)2基及びNR基におけるRは、炭素数1〜3のアルキル基又はそのハロゲン化物である。なおEは、カルボニル基又はY基に対してメタ位又はパラ位にある。またハロゲンは、フッ素原子、塩素原子、ヨウ素原子又は臭素原子である(以下、一般式(7)において同じ)。 E is a covalent bond, an alkenyl group having 2 carbon atoms or a halide thereof, CH 2 group, C (CX 3 ) 2 group, CO group, O atom, S atom, SO 2 group, Si (R) 2 group, or NR group. X in the C (CX 3 ) 2 group is a hydrogen atom or halogen, and R in the Si (R) 2 group and the NR group is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms or a halide thereof. E is in a meta position or a para position with respect to the carbonyl group or the Y group. Halogen is a fluorine atom, a chlorine atom, an iodine atom or a bromine atom (hereinafter the same in general formula (7)).
さらにYは、O原子又はNH基である。Aは、水素原子、ハロゲン、炭素数1〜3のアルキル基若しくはそのハロゲン化物、ニトロ基、シアノ基、炭素数1〜3のチオアルキル基、炭素数1〜3のアルコキシ基若しくはそのハロゲン化物、アリール基若しくはそのハロゲン化物、炭素数1〜9のアルキルエステル基、炭素数1〜12のアリールエステル基若しくはその置換誘導体、又は炭素数1〜12のアリールアミド基若しくはその置換誘導体である。 Y is an O atom or an NH group. A is a hydrogen atom, halogen, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms or a halide thereof, a nitro group, a cyano group, a thioalkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms or a halide thereof, aryl Group or a halide thereof, an alkyl ester group having 1 to 9 carbon atoms, an aryl ester group having 1 to 12 carbon atoms or a substituted derivative thereof, or an arylamide group having 1 to 12 carbon atoms or a substituted derivative thereof.
またnは0〜4の整数、pは0〜3の整数、qは1〜3の整数、rは0〜3の整数である。好ましいポリアミド又はポリエステルは、前記のrとqが1であり、そのビフェニル環の少なくとも1個が2位及び2’位で置換されてなる下記の一般式(8)で表される繰返し単位を有するものである。 N is an integer of 0 to 4, p is an integer of 0 to 3, q is an integer of 1 to 3, and r is an integer of 0 to 3. A preferred polyamide or polyester has a repeating unit represented by the following general formula (8), wherein r and q are 1, and at least one of the biphenyl rings is substituted at the 2-position and the 2′-position. Is.
前記の一般式(8)においてmは0〜3の整数、好ましくは1又は2であり、x及びyは0又は1で、かつ共に0であることはない。なお他の記号は前記の一般式(7)の場合と同義であるが、Eはカルボニル基又はY基に対してパラ配向の共有結合である。 In the general formula (8), m is an integer of 0 to 3, preferably 1 or 2, and x and y are 0 or 1, and are not 0 at the same time. The other symbols have the same meaning as in the general formula (7), but E is a covalent bond in para orientation with respect to the carbonyl group or Y group.
前記の一般式(7)、(8)において、B、E、Y又はAが分子中に複数存在する場合、それらは同じであってもよいし、異なっていてもよい。z、n、m、x、yも同様に同じであってもよいし、異なっていてもよい。なおその場合、B、E、Y、A、z、n、m、x、yは、それぞれ独立に判断される。 In the general formulas (7) and (8), when a plurality of B, E, Y, or A are present in the molecule, they may be the same or different. Similarly, z, n, m, x, and y may be the same or different. In this case, B, E, Y, A, z, n, m, x, and y are determined independently.
前記の一般式(7)で表されるポリアミド又はポリエステルは、同じ繰返し単位からなっていてもよいし、異なる繰返し単位の2種又は3種以上を有するものであってもよい。後者の場合、各繰返し単位は、ブロック状に存在していてもよいし、ランダムに存在していてもよい。 The polyamide or polyester represented by the general formula (7) may be composed of the same repeating unit, or may have two or more different repeating units. In the latter case, each repeating unit may exist in a block form or may exist randomly.
他方、上記したポリイミドの具体例としては、例えば9,9−ビス(アミノアリール)フルオレンと芳香族テトラカルボン酸二無水物との縮合重合生成物を含み、下記の一般式(9)で表される繰返し単位を1単位以上有するものなどがあげられる。 On the other hand, specific examples of the polyimide described above include, for example, a condensation polymerization product of 9,9-bis (aminoaryl) fluorene and an aromatic tetracarboxylic dianhydride, and are represented by the following general formula (9). And those having one or more repeating units.
前記一般式(9)において、Rは、水素原子、ハロゲン、フェニル基、1〜4個のハロゲン若しくは1〜10個の炭素原子を有するアルキル基で置換されたフェニル基、又は1〜10個の炭素原子を有するアルキル基である。4個のRは、各々独立に決定でき、0〜4個の範囲で置換することができる。その置換基は、前記のものであることが好ましいが、一部に異なるものを含んでいてもよい。なおハロゲンは、フッ素原子、塩素原子、ヨウ素原子又は臭素原子である(以下、一般式(9)において同じ)。 In the general formula (9), R is a hydrogen atom, a halogen, a phenyl group, a phenyl group substituted with 1 to 4 halogens or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or 1 to 10 An alkyl group having a carbon atom. Four Rs can be determined independently and can be substituted in the range of 0 to 4. The substituents are preferably those described above, but some of them may be different. Halogen is a fluorine atom, a chlorine atom, an iodine atom or a bromine atom (hereinafter the same in general formula (9)).
Zは、6〜20個の炭素原子を有する三置換芳香族基である。好ましいZは、ピロメリット基、あるいはナフチレン基やフルオレニレン基、ベンゾフルオレニレン基やアントラセニレン基の如き多環式芳香族基若しくはその置換誘導体、又は下記の一般式(10)で表される基である。なお前記多環式芳香族基の置換誘導体における置換基としては、ハロゲン、1〜10個の炭素原子を有するアルキル基又はそのフッ素化物などがあげられる。 Z is a trisubstituted aromatic group having 6 to 20 carbon atoms. Preferred Z is a pyromellitic group, a polycyclic aromatic group such as a naphthylene group, a fluorenylene group, a benzofluorenylene group or an anthracenylene group or a substituted derivative thereof, or a group represented by the following general formula (10). is there. Examples of the substituent in the substituted derivative of the polycyclic aromatic group include halogen, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a fluorinated product thereof.
前記の一般式(10)において、Dは、共有結合、C(R2)2基、CO基、O原子、S原子、SO2基、Si(C2H5)2基、N(R3)2基又はそれらの組合せであり、mは1〜10の整数である。なお前記のR2は各々独立に、水素原子又はC(R4)3基である。またR3は独立に、水素原子、1〜約20個の炭素原子を有するアルキル基、又は約6〜約20個の炭素原子を有するアリール基である。R4は各々独立に、水素原子、フッ素原子又は塩素原子である。 In the general formula (10), D is a covalent bond, C (R 2 ) 2 group, CO group, O atom, S atom, SO 2 group, Si (C 2 H 5 ) 2 group, N (R 3 ) Two groups or a combination thereof, and m is an integer of 1 to 10. R 2 is independently a hydrogen atom or a C (R 4 ) 3 group. R 3 is independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to about 20 carbon atoms, or an aryl group having about 6 to about 20 carbon atoms. Each R 4 is independently a hydrogen atom, a fluorine atom or a chlorine atom.
また前記以外のポリイミドとして下記の一般式(11)、(12)で表される単位を有するものなどもあげることができる。就中、一般式(13)で表される単位を有するポリイミドが好ましい。 Moreover, what has a unit represented by the following general formula (11), (12) as a polyimide other than the above can be mentioned. Among these, polyimide having a unit represented by the general formula (13) is preferable.
前記の一般式(11)、(12)、(13)において、T及びLは、ハロゲン、炭素数1〜3のアルキル基若しくはそのハロゲン化物、それらの1種若しくは2種以上で置換されたフェニル基、又は非置換のフェニル基である。前記のハロゲンは、フッ素原子、塩素原子、ヨウ素原子又は臭素原子である(以下、一般式(11)、(12)、(13)において同じ)。zは0〜3の整数である。 In the general formulas (11), (12), and (13), T and L are halogen, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms or a halide thereof, phenyl substituted by one or more of them. Group or an unsubstituted phenyl group. The halogen is a fluorine atom, a chlorine atom, an iodine atom or a bromine atom (hereinafter the same in general formulas (11), (12) and (13)). z is an integer of 0-3.
またG及びJは、共有結合若しくは結合ボンド、CH2基、C(CX3)2基、CO基、O原子、S原子、SO2基、Si(C2H5)2基、又はN(CH3)基である。前記C(CX3)2基におけるXは、水素原子又はハロゲンである(以下、一般式(11)、(12)、(13)において同じ)。 G and J are a covalent bond or a bond bond, CH 2 group, C (CX 3 ) 2 group, CO group, O atom, S atom, SO 2 group, Si (C 2 H 5 ) 2 group, or N ( CH 3 ) group. X in the C (CX 3 ) 2 group is a hydrogen atom or halogen (hereinafter the same in general formulas (11), (12), and (13)).
Aは、水素原子、ハロゲン、アルキル基若しくはそのハロゲン化物、ニトロ基、シアノ基、チオアルキル基、アルコキシ基若しくはそのハロゲン化物、アリール基若しくはそのハロゲン化物、又はアルキルエステル基若しくはその置換誘導体である。 A is a hydrogen atom, a halogen, an alkyl group or a halide thereof, a nitro group, a cyano group, a thioalkyl group, an alkoxy group or a halide thereof, an aryl group or a halide thereof, or an alkyl ester group or a substituted derivative thereof.
Rは、水素原子、ハロゲン、フェニル基若しくはそのハロゲン化物等の置換フェニル基、又はアルキル基若しくはそのハロゲン化物等の置換アルキル基である。nは0〜4の整数、pは0〜3の整数、qは1〜3の整数である。 R is a hydrogen atom, a substituted phenyl group such as a halogen, a phenyl group or a halide thereof, or a substituted alkyl group such as an alkyl group or a halide thereof. n is an integer of 0 to 4, p is an integer of 0 to 3, and q is an integer of 1 to 3.
なお前記の一般式(11)、(12)、(13)においてT、A、R又はLは、それぞれ独立に分子中に複数存在する場合、それらは同じであってもよいし、異なっていてもよい。z、n、mも同様に同じであってもよいし、異なっていてもよい。なおその場合、T、A、R、L、z、n、mは、それぞれ独立に判断される。 In the general formulas (11), (12), and (13), when a plurality of T, A, R, or L are present in the molecule, they may be the same or different. Also good. Similarly, z, n, and m may be the same or different. In this case, T, A, R, L, z, n, and m are determined independently.
前記した一般式(9)、(11)、(12)、(13)で表されるポリイミドは、同じ繰返し単位からなっていてもよいし、異なる繰返し単位の2種又は3種以上を有するものであってもよい。その異なる繰返し単位は、前記以外の酸二無水物又は/及びジアミンの1種又は2種以上を共重合させて形成したものであってもよい。ジアミンとしては特に芳香族ジアミンが好ましい。後者の異なる繰返し単位を有する場合、各繰返し単位は、ブロック状に存在していてもよいし、ランダムに存在していてもよい。 The polyimides represented by the general formulas (9), (11), (12), and (13) may be composed of the same repeating unit, or have two or more different repeating units. It may be. The different repeating unit may be formed by copolymerizing one or more of acid dianhydrides and / or diamines other than those described above. As the diamine, an aromatic diamine is particularly preferable. When it has the latter different repeating unit, each repeating unit may exist in a block shape or may exist randomly.
前記した異なる繰返し単位を形成するための酸二無水物としては、例えばピロメルト酸二無水物、3,6−ジフェニルピロメルト酸二無水物、3,6−ビス(トリフルオロメチル)ピロメルト酸二無水物、3,6−ジブロモピロメルト酸二無水物、3,6−ジクロロピロメルト酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,3,3’,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルカルボン酸二無水物、ビス(2,3−ジカルボフェニル)メタン二無水物があげられる。 Examples of the acid dianhydride for forming the different repeating units include pyromelt acid dianhydride, 3,6-diphenylpyromelt acid dianhydride, and 3,6-bis (trifluoromethyl) pyromelt acid dianhydride. 3,6-dibromopyromelt acid dianhydride, 3,6-dichloropyromelt acid dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,3,3 ′ , 4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 2,2 ′, 3,3′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenylcarboxylic dianhydride, bis (2 , 3-dicarbophenyl) methane dianhydride.
またビス(2,5,6−トリフルオロ−3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,1,1,3,3−ヘキサフルオロプロパン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物(4,4’−オキシジフタル酸無水物)、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物(3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸無水物)、4,4’−〔4,4’−イソプロピリデン−ジ(p−フェニレンオキシ)〕ビス(フタル酸無水物)も前記酸二無水物の例としてあげられる。 Also, bis (2,5,6-trifluoro-3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) -1,1,1,3,3- Hexafluoropropane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride (4,4′-oxydiphthalic anhydride), bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride (3,3 3 ', 4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic anhydride), 4,4'-[4,4'-isopropylidene-di (p-phenyleneoxy)] bis (phthalic anhydride) is An example of an anhydride is given.
さらにN,N−(3,4−ジカルボキシフェニル)−N−メチルアミン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ジエチルシラン二無水物、2,3,6,7−ナフタレン−テトラカルボン酸二無水物や1,2,5,6−ナフタレン−テトラカルボン酸二無水物、2,6−ジクロロ−ナフタレン−1,4,5,8−テトラカルボン酸二無水物の如きナフタレンテトラカルボン酸二無水物、チオフェン−2,3,4,5−テトラカルボン酸二無水物やピラジン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、ピリジン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物の如き複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物なども前記酸二無水物の例としてあげられる。 Furthermore, N, N- (3,4-dicarboxyphenyl) -N-methylamine dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) diethylsilane dianhydride, 2,3,6,7-naphthalene-tetra Naphthalenetetracarboxylic acids such as carboxylic dianhydrides, 1,2,5,6-naphthalene-tetracarboxylic dianhydrides, 2,6-dichloro-naphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydrides Acid dianhydride, thiophene-2,3,4,5-tetracarboxylic dianhydride and pyrazine-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, pyridine-2,3,5,6-tetra Heterocyclic aromatic tetracarboxylic dianhydrides such as carboxylic dianhydrides are also examples of the acid dianhydrides.
好ましく用いうる酸二無水物は、2,2’−ジブロモ−4,4’,5,5’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物や2,2’−ジクロロ−4,4’,5,5’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’−トリハロ置換二無水物の如き2,2’−置換二無水物などであり、特に2,2−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’,5,5’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物が好ましい。 Preferably used acid dianhydrides are 2,2′-dibromo-4,4 ′, 5,5′-biphenyltetracarboxylic dianhydride and 2,2′-dichloro-4,4 ′, 5,5 ′. -Biphenyltetracarboxylic dianhydrides, 2,2'-substituted dianhydrides such as 2,2'-trihalo-substituted dianhydrides, especially 2,2-bis (trifluoromethyl) -4,4 ' , 5,5'-biphenyltetracarboxylic dianhydride is preferred.
一方、前記した異なる繰返し単位を形成するためのジアミンとしては、例えば(o,m又はp−)フェニレンジアミン、2,4−ジアミノトルエン、1,4−ジアミノ−2−メトキシベンゼン、1,4−ジアミノ−2−フェニルベンゼン、1,3−ジアミノ−4−クロロベンゼンの如きベンゼンジアミン、4,4’−ジアミノビフェニル、4,4−ジアミノジフェニルメタン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)一1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオルプロパン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼンがあげられる。 On the other hand, examples of the diamine for forming the different repeating units include (o, m or p-) phenylenediamine, 2,4-diaminotoluene, 1,4-diamino-2-methoxybenzene, 1,4- Benzenediamine such as diamino-2-phenylbenzene, 1,3-diamino-4-chlorobenzene, 4,4′-diaminobiphenyl, 4,4-diaminodiphenylmethane, 2,2-bis (4-aminophenyl) propane, 2 , 2-bis (4-aminophenyl) -1,1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 3,4′-diaminodiphenyl ether, 1,3-bis ( 3-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (4-aminophenoxy) ) Benzene, and the like.
また4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4’−ビス(3−アミノフェノキシ)ビフェニル、2,2−ビス(4−〔4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、4,4’−ジアミノジフェニルチオエ一テル、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、2,2’−ジアミノベンゾフェノン、3,3’−ジアミノベンゾフェノン、1,8−ジアミノナフタレンや1,5−ジアミノナフタレンの如きナフタレンジアミン、2,6−ジアミノピリジンや2,4−ジアミノピリジン、2,4−ジアミノ−S−トリアジンの如き複素環式芳香族ジアミンなども前記したジアミンの例としてあげられる。 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 4,4′-bis (3-aminophenoxy) biphenyl, 2,2-bis (4- [4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2 -Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 4,4′-diaminodiphenylthioether, 4,4′-diaminodiphenylsulfone 2,2′-diaminobenzophenone, 3,3′-diaminobenzophenone, naphthalenediamine such as 1,8-diaminonaphthalene and 1,5-diaminonaphthalene, 2,6-diaminopyridine and 2,4-diaminopyridine, Heterocyclic aromatic diamines such as 1,4-diamino-S-triazine are also examples of the diamines described above.
好ましく用いうるポリイミドは、例えば2,2’−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二無水物や4,4’−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−2,2−ジフェニルプロパン二無水物、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物やビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物などの芳香族系酸二無水物を用いて調製された、耐熱性で溶媒可溶性のポリイミドである。 Examples of polyimides that can be preferably used include 2,2′-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropane dianhydride and 4,4′-bis (3,4-dicarboxyphenyl) -2,2-diphenyl. Heat-resistant and solvent-soluble polyimides prepared using aromatic dianhydrides such as propane dianhydride, naphthalenetetracarboxylic dianhydride and bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride It is.
またジアミンとして、例えば4,4−(9−フルオレニリデン)−ジアニリンや2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジクロロ−4,4’−ジアミノジフェニルメタンや2,2’−ジクロロ−4,4’−ジアミノビフェニル、2,2’,5,5’−テトラクロロベンジジンや2,2−ビス(4−アミノフェノキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−アミノフェノキシフェニル)ヘキサフルオロプロパンや1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼンや1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼンなどの芳香族系ジアミンを用いて調製された、耐熱性で溶媒可溶性のポリイミドも好ましく用いうる。 Examples of diamines include 4,4- (9-fluorenylidene) -dianiline, 2,2′-bis (trifluoromethyl) -4,4′-diaminobiphenyl, and 3,3′-dichloro-4,4′-diamino. Diphenylmethane, 2,2′-dichloro-4,4′-diaminobiphenyl, 2,2 ′, 5,5′-tetrachlorobenzidine, 2,2-bis (4-aminophenoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-aminophenoxyphenyl) hexafluoropropane, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, etc. A heat-resistant and solvent-soluble polyimide prepared using an aromatic diamine can be preferably used.
他方、上記したポリアミドイミド又はポリエステルイミドとしては、特に限定はなく適宜なものを1種又は2種以上用いうる。就中、特開昭61−162512号公報に記載されたポリアミドイミドや、特開昭64−38472号公報に記載されたポリエステルイミドなどが好ましく用いうる。 On the other hand, the above-mentioned polyamideimide or polyesterimide is not particularly limited, and one or more suitable types can be used. Of these, polyamide imides described in JP-A No. 61-162512 and polyester imides described in JP-A No. 64-38472 can be preferably used.
ポリマー層B形成用の固体ポリマーの分子量は、特に限定はないが溶剤に可溶であることが好ましい。就中、塗工膜の厚さ制度や表面精度ないし表面平滑性、膜強度、フィルム化した場合の伸縮や歪等によるクラック発生の防止性、溶剤に対する溶解性(ゲル化防止)などの点より重量平均分子量に基づいて1万〜100万、就中2万〜50万、特に5万〜20万が好ましい。なお重量平均分子量は、ポリエチレンオキサイドを標準試料とし、ジメチルホルムアミド溶媒を使用してゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で測定した値である。 The molecular weight of the solid polymer for forming the polymer layer B is not particularly limited, but is preferably soluble in a solvent. In particular, from the viewpoints of coating film thickness system, surface accuracy or surface smoothness, film strength, prevention of cracking due to expansion and contraction when it is made into a film, solubility in solvents (preventing gelation), etc. Based on the weight average molecular weight, 10,000 to 1,000,000, especially 20,000 to 500,000, particularly 50,000 to 200,000 are preferable. The weight average molecular weight is a value measured by gel permeation chromatography (GPC) using polyethylene oxide as a standard sample and a dimethylformamide solvent.
ポリマー層Bの形成には上記のポリアリールエーテルケトンやポリアミド、ポリエステルやポリイミド等の固体ポリマーを単独で用いてもよいし、同種物を2種以上混合して用いてもよい。また例えばポリアリールエーテルケトンとポリアミドの混合物の如く、異なる官能基を持つ2種以上のポリマーの混合物として用いてもよい。 For the formation of the polymer layer B, solid polymers such as the above-mentioned polyaryletherketone, polyamide, polyester, and polyimide may be used alone, or two or more of the same types may be mixed and used. Further, for example, a mixture of two or more polymers having different functional groups, such as a mixture of polyaryl ether ketone and polyamide, may be used.
またポリマー層Bを形成する上記固体ポリマーの配向性が著しく低下しない範囲で、上記以外の適宜なポリマーの1種又は2種以上を併用してもよい。ちなみにその併用ポリマーの例としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ABS樹脂及びAS樹脂、ポリアセテート、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルスルホン、ポリケトン、ポリイミド、ポリシクロヘキサンジメタノールテレフタレート、ポリアリレート、液晶ポリマー(光重合性液晶モノマーを含む)などの熱可塑性樹脂があげられる。 Moreover, you may use together 1 type, or 2 or more types of appropriate polymers other than the above in the range which the orientation of the said solid polymer which forms the polymer layer B does not fall remarkably. Incidentally, examples of the combined polymer include polyethylene, polypropylene, polystyrene, polymethyl methacrylate, ABS resin and AS resin, polyacetate, polycarbonate, polyamide, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyphenylene sulfide, polyethersulfone, polyketone, polyimide, Examples thereof include thermoplastic resins such as polycyclohexanedimethanol terephthalate, polyarylate, and liquid crystal polymer (including a photopolymerizable liquid crystal monomer).
またエポキシ樹脂、フェノール樹脂、ノボラック樹脂の如き熱硬化性樹脂なども前記併用ポリマーの例としてあげられる。併用ポリマーの使用量は、配向性が著しく低下しない範囲であれば特に制限されないが、通常50重量%以下、就中40重量%以下、特に30重量%以下とされる。 Thermosetting resins such as epoxy resins, phenol resins, and novolac resins are also examples of the combined polymer. The amount of the combined polymer used is not particularly limited as long as the orientation is not significantly lowered, but is usually 50% by weight or less, especially 40% by weight or less, particularly 30% by weight or less.
ポリマー層Bを形成する固体ポリマーの液状化には、熱可塑性ポリマーを加熱して溶融させる方式や、固体ポリマーを溶媒に溶解させて溶液とする方法などの適宜な方式を採ることができる。従って当該展開層の固体化は、前者の溶融液ではその展開層を冷却させることにより、また後者の溶液ではその展開層より溶媒を除去して乾燥させることにより行うことができる。ポリマー層Bの形成に際しては、安定剤や可塑剤や金属類等からなる種々の添加剤を必要に応じて配合することができる。 For liquefaction of the solid polymer forming the polymer layer B, an appropriate method such as a method of heating and melting the thermoplastic polymer or a method of dissolving the solid polymer in a solvent to form a solution can be employed. Accordingly, the development layer can be solidified by cooling the development layer in the former melt and by drying the solvent after removing the solvent from the development layer. In forming the polymer layer B, various additives including stabilizers, plasticizers, metals, and the like can be blended as necessary.
前記の乾燥には自然乾燥(風乾)方式や加熱乾燥方式、特に40〜200℃の加熱乾燥方式、減圧乾燥方式などの適宜な方式の1種又は2種以上を採ることができる。製造効率や光学的異方性の発生を抑制する点からはポリマー溶液を塗工する方式が好ましい。 For the drying, one or more of appropriate methods such as a natural drying (air drying) method, a heat drying method, particularly a heat drying method at 40 to 200 ° C., and a vacuum drying method can be adopted. From the viewpoint of suppressing production efficiency and generation of optical anisotropy, a method of applying a polymer solution is preferable.
前記の溶媒としては、例えばクロロホルムやジクロロメタン、四塩化炭素やジクロロエタン、テトラクロロエタンやトリクロロエチレン、テトラクロロエチレンやクロロベンゼン、オルソジクロロベンゼンの如きハロゲン化炭化水素類、フェノールやパラクロロフェノールの如きフェノール類、ベンゼンやトルエン、キシレンやメトキシベンゼン、1,2−ジメトキシベンゼンの如き芳香族炭化水素類、アセトンやメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンやシクロヘキサノン、シクロペンタノンや2−ピロリドン、N−メチル−2−ピロリドンの如きケトン類、酢酸エチルや酢酸ブチルの如きエステル類があげられる。 Examples of the solvent include chloroform, dichloromethane, carbon tetrachloride and dichloroethane, tetrachloroethane and trichloroethylene, halogenated hydrocarbons such as tetrachloroethylene, chlorobenzene and orthodichlorobenzene, phenols such as phenol and parachlorophenol, benzene and toluene, Aromatic hydrocarbons such as xylene, methoxybenzene, 1,2-dimethoxybenzene, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, cyclopentanone, 2-pyrrolidone, ketones such as N-methyl-2-pyrrolidone, acetic acid Examples include esters such as ethyl and butyl acetate.
また、t−ブチルアルコールやグリセリン、エチレングリコールやトリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテルやジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールやジプロピレングリコール、2−メチル−2,4−ペンタンジオールの如きアルコール類、ジメチルホルムアミドやジメチルアセトアミドの如きアミド類、アセトニトリルやブチロニトリルの如きニトリル類、ジエチルエーテルやジブチルエーテル、テトラヒドロフランの如きエーテル類、その他、塩化メチレンや二硫化炭素、エチルセロソルブやブチルセロソルブなども前記溶媒の例としてあげられる。 Further, alcohols such as t-butyl alcohol and glycerin, ethylene glycol and triethylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether and diethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol and dipropylene glycol and 2-methyl-2,4-pentanediol, dimethylformamide and dimethyl Examples of the solvent include amides such as acetamide, nitriles such as acetonitrile and butyronitrile, ethers such as diethyl ether, dibutyl ether and tetrahydrofuran, methylene chloride, carbon disulfide, ethyl cellosolve and butyl cellosolve.
溶媒は、単独で、あるいは2種以上を適宜な組合せで混合して用いることができる。溶液は、塗工粘度等の点より、溶媒100重量部に対して固体ポリマーを2〜100重量部、就中5〜50重量部、特に10〜40重量部溶解させたものが好ましい。 A solvent can be used individually or in mixture of 2 or more types in an appropriate combination. From the viewpoint of coating viscosity and the like, the solution is preferably a solution in which 2 to 100 parts by weight, especially 5 to 50 parts by weight, especially 10 to 40 parts by weight of the solid polymer is dissolved with respect to 100 parts by weight of the solvent.
液状化したポリマーの展開には、例えばスピンコート法やロールコート法、フローコート法やプリント法、ディップコート法や流延成膜法、バーコート法やグラビア印刷法等のキャスティング法、押出法などの適宜なフィルム形成方式を採ることができる。就中、厚さムラや配向歪ムラ等の少ないフィルムの量産性などの点より、キャスティング法等の溶液製膜法が好ましく適用することができる。 For the development of the liquefied polymer, for example, spin coating method, roll coating method, flow coating method, printing method, dip coating method, casting film forming method, casting method such as bar coating method and gravure printing method, extrusion method, etc. The appropriate film forming method can be adopted. In particular, a solution film forming method such as a casting method can be preferably applied from the viewpoint of mass production of a film having little thickness unevenness and alignment strain unevenness.
光学補償効果等の点より好ましいポリマー層Bは、Re=80nm以下、就中2〜60nm、特に3〜50nm、かつRz/Re=6〜80、就中7〜60、特に8〜50を満足するものである。 The polymer layer B which is more preferable than the optical compensation effect and the like satisfies Re = 80 nm or less, especially 2 to 60 nm, particularly 3 to 50 nm, and Rz / Re = 6 to 80, especially 7 to 60, especially 8 to 50. To do.
ポリマー層Bは、展開層を固体化させた後、そのRe等の制御を目的に必要に応じて、面内における分子を配向させる処理を施したものであってもよい。すなわち当該展開層を固体化させただけの状態では、nx≒ny>nzでReが小さいことが普通である。ちなみに層厚を10μmとした場合、Reは通例、30nm以下、就中1〜20nmである。 The polymer layer B may be subjected to a treatment for orienting molecules in the plane as necessary for the purpose of controlling the Re or the like after the development layer is solidified. That is, in a state where the spreading layer is only solidified, it is normal that Re is small with nx≈ny> nz. Incidentally, when the layer thickness is 10 μm, Re is typically 30 nm or less, and in particular 1 to 20 nm.
一方、前記の配向処理を施すことにより、面内における配向軸の精度を高めることができて、nx>ny>nzの特性を付与することができ、特にReを増大させることができる。従ってRz/Re等の位相差特性を制御することができる。 On the other hand, by performing the above-described alignment treatment, the accuracy of the alignment axis in the plane can be increased, and the characteristic of nx> ny> nz can be imparted, and particularly Re can be increased. Therefore, phase difference characteristics such as Rz / Re can be controlled.
前記した面内で分子を配向させる処理は、延伸処理又は/及び収縮処理として施すことができる。延伸処理には逐次方式や同時方式等による二軸延伸方式、自由端方式や固定端方式等の一軸延伸方式などの適宜な方式の1種又は2種以上を適用することができる。ボーイング現象を抑制する点よりは一軸延伸方式が好ましい。 The treatment for orienting molecules in the plane can be performed as a stretching treatment or / and a shrinking treatment. For the stretching treatment, one or two or more suitable methods such as a biaxial stretching method such as a sequential method or a simultaneous method, a uniaxial stretching method such as a free end method or a fixed end method can be applied. The uniaxial stretching method is preferable from the viewpoint of suppressing the bowing phenomenon.
一方、収縮処理は、例えばポリマー層Bの塗工形成を基材上で行って、その基材の温度変化等に伴う寸法変化を利用して収縮力を作用させる方式などにより行うことができる。その場合、熱収縮性フィルムなどの収縮能を付与した基材を用いることもでき、そのときには延伸機等を利用して収縮率を制御することが望ましい。 On the other hand, the shrinkage treatment can be performed by, for example, a method in which a polymer layer B is applied and formed on a base material, and a shrinkage force is applied using a dimensional change accompanying a temperature change of the base material. In that case, it is also possible to use a base material imparted with a shrinking ability such as a heat-shrinkable film. At that time, it is desirable to control the shrinkage rate using a stretching machine or the like.
ポリマー層Bの好ましい形成方式は、溶媒に溶解させて液状化したポリマー溶液を支持基材上に展開して乾燥させ、必要に応じて支持基材を介しその固体化物に延伸処理又は収縮処理の一方又は両方を施す方式である。この方式によれば、ポリマー層Bを基材で支持した状態で処理できて製造効率や処理精度などに優れており、連続製造も可能である。 A preferred formation method of the polymer layer B is that a polymer solution dissolved in a solvent and liquefied is spread on a supporting substrate and dried, and if necessary, the solidified product is stretched or contracted through the supporting substrate. This is a method of applying one or both. According to this method, the polymer layer B can be processed in a state of being supported by the base material, and the manufacturing efficiency and processing accuracy are excellent, and continuous manufacturing is also possible.
前記の支持基材には適宜なものを用いることができ、特に限定はない。ポリマー層Bは、その支持基材との一体化物として用いうる。その場合、延伸処理等で支持基材に生じた位相差を利用することもできる。前記支持基材としては透明なポリマー基材が好ましく用いられる。 An appropriate material can be used for the support substrate, and there is no particular limitation. The polymer layer B can be used as an integrated product with the supporting substrate. In that case, the phase difference which arose in the support base material by the extending | stretching process etc. can also be utilized . As the support substrate, a transparent polymer substrate is preferably used.
ちなみに前記のポリマー基材を形成するものの例としては、上記のポリマー系延伸フィルムA、固体ポリマーで例示したものやアセテート系ポリマー、ポリエーテルスルホンやポリスルホン、ポリカーボネートやポリノルボルネン、ポリオレフィンやアクリル系ポリマー、セルロース系樹脂やポリアリレート、ポリスチレンやポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニルやポリ塩化ビニリデン、液晶ポリマー、あるいはアクリル系やウレタン系、アクリルウレタン系やエポキシ系やシリコーン系等の熱硬化型ないし紫外線硬化型の樹脂などがあげられる。 By the way, examples of the above-mentioned polymer base material that can be formed include the above-mentioned polymer-based stretched film A, those exemplified for solid polymers, acetate-based polymers, polyethersulfone and polysulfone, polycarbonate and polynorbornene, polyolefin and acrylic polymer, Cellulosic resin, polyarylate, polystyrene, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, liquid crystal polymer, or acrylic, urethane, acrylic urethane, epoxy, silicone, etc. Etc.
また特開2001−343529号公報(WO01/37007)に記載のポリマー、例えば(A)側鎖に置換又は/及び非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、(B)側鎖に置換又は/及び非置換のフェニル基並びにニトリル基を有する熱可塑性樹脂との前記A、Bを含有する樹脂組成物などもポリマー基材の形成に用いうる。ちなみに斯かる樹脂組成物の具体例としてはイソブテンとN−メチルマレイミドからなる交互共重合体とアクリロニトリル・スチレン共重合体とを含有する樹脂組成物があげられる。ポリマー基材は、樹脂組成物の混合押出品等からなるフイルムなどとして得ることができる。支持基材による位相差の影響を抑制する点よりは、アセテート系ポリマーの如く等方性に優れるものが好ましい。 Further, polymers described in JP-A No. 2001-343529 (WO01 / 37007), for example, (A) a thermoplastic resin having a substituted or / and unsubstituted imide group in the side chain, and (B) a substituted or / and substituted side chain. The resin composition containing A and B with a thermoplastic resin having an unsubstituted phenyl group and a nitrile group can also be used for forming a polymer substrate. Incidentally, a specific example of such a resin composition is a resin composition containing an alternating copolymer composed of isobutene and N-methylmaleimide and an acrylonitrile / styrene copolymer. The polymer substrate can be obtained as a film comprising a mixed extruded product of the resin composition. From the viewpoint of suppressing the influence of the retardation due to the support base material, an isotropic material such as an acetate polymer is preferable.
光学補償偏光板は、偏光板の片側にポリマー系延伸フィルムA及びポリマー層Bの両方からなる本発明の位相差板を、必要に応じ接着層ないし粘着層を介して積層することにより形成でき、液晶セルの視野角の拡大やコントラストの向上などを目的とした複屈折による位相差の補償などに好ましく用いうる。その実用に際しては、例えば液晶セル等の他部材と接着することを目的にその片面又は両面に接着層ないし粘着層を設けることができる。 The optical compensation polarizing plate can be formed by laminating the retardation plate of the present invention consisting of both the polymer-based stretched film A and the polymer layer B on one side of the polarizing plate through an adhesive layer or an adhesive layer as necessary. It can be preferably used for compensation of phase difference due to birefringence for the purpose of expanding the viewing angle of the liquid crystal cell and improving the contrast. In practical use, for example, an adhesive layer or a pressure-sensitive adhesive layer can be provided on one side or both sides for the purpose of bonding to other members such as a liquid crystal cell.
前記した粘着層の形成には、例えばアクリル系重合体やシリコーン系ポリマー、ポリエステルやポリウレタン、ポリエーテルや合成ゴムなどの適宜なポリマーを用いてなる透明粘着剤を用いることができる。就中、光学的透明性や粘着特性、耐候性などの点よりアクリル系粘着剤が好ましい。 For the formation of the above-mentioned adhesive layer, for example, a transparent adhesive using an appropriate polymer such as an acrylic polymer, a silicone polymer, polyester, polyurethane, polyether or synthetic rubber can be used. In particular, acrylic pressure-sensitive adhesives are preferred from the viewpoints of optical transparency, pressure-sensitive adhesive properties, weather resistance, and the like.
粘着層には必要に応じて例えば天然物や合成物の樹脂類、ガラス繊維やガラスビーズ、金属粉やその他の無機粉末等からなる充填剤や顔料、着色剤や酸化防止剤などの適宜な添加剤を配合することもできる。また透明微粒子を含有させて光拡散性を示す粘着層とすることもできる。粘着層が表面に露出する場合には、それを実用に供するまでの間、セパレータなどを仮着して粘着層表面の汚染等を防止することが好ましい。 Appropriate addition of fillers and pigments such as natural and synthetic resins, glass fibers and glass beads, metal powders and other inorganic powders, colorants and antioxidants as necessary An agent can also be blended. Moreover, it can also be set as the adhesion layer which contains transparent fine particles and shows light diffusibility. When the pressure-sensitive adhesive layer is exposed on the surface, it is preferable to temporarily attach a separator or the like to prevent contamination of the pressure-sensitive adhesive layer surface until it is put to practical use.
なお前記の透明微粒子には、例えば平均粒径が0.5〜20μmのシリカや酸化カルシウム、アルミナやチタニア、ジルコニアや酸化錫、酸化インジウムや酸化カドミウム、酸化アンチモン等の導電性のこともある無機系微粒子や、ポリメチルメタクリレートやポリウレタの如き適宜なポリマーからなる架橋又は未架橋の有機系微粒子などの適宜なものを1種又は2種以上用いうる。 Examples of the transparent fine particles include inorganic materials such as silica, calcium oxide, alumina, titania, zirconia, tin oxide, indium oxide, cadmium oxide, and antimony oxide having an average particle diameter of 0.5 to 20 μm. One kind or two or more kinds of suitable fine particles, such as crosslinked fine particles or uncrosslinked organic fine particles made of a suitable polymer such as polymethyl methacrylate or polyureta can be used.
光学補償偏光板の形成は、液晶表示装置等の製造過程で順次別個に積層する方式にても行いうるが、予め積層することにより、品質の安定性や積層作業性等に優れて液晶表示装置等の製造効率を向上させうる利点などがある。積層に際し位相差層A,Bと偏光板の進相軸や透過軸等の光軸の配置角度については特に限定はなく、適宜に決定することができる。一般には偏光板の透過軸と位相差層のnx方向を平行関係又は直交関係に配置することが、正面方向の特性に影響を与えずに斜視方向の特性を制御して視野角の拡大等を図る点より好ましい。 The optical compensation polarizing plate can be formed by a method of sequentially laminating separately in the manufacturing process of a liquid crystal display device or the like, but by laminating in advance, the liquid crystal display device is excellent in quality stability, laminating workability, etc. There is an advantage that the manufacturing efficiency can be improved. There are no particular limitations on the angle of arrangement of the optical axes such as the fast axis and the transmission axis of the retardation layers A and B and the polarizing plate during the lamination, and can be determined as appropriate. In general, the transmission axis of the polarizing plate and the nx direction of the retardation layer are arranged in a parallel relationship or an orthogonal relationship to control the characteristics in the perspective direction without affecting the characteristics in the front direction, thereby increasing the viewing angle, etc. It is preferable from the point of aiming.
光学補償偏光板の形成には、適宜な偏光板を用いることができ、その種類について特に限定はない。就中ポリビニルアルコール系フィルムや部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルムの如き親水性高分子フィルムにヨウ素及び/又は二色性染料等の二色性物質を吸着させて延伸したものや架橋処理したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物の如きポリエン配向フィルム等からなる偏光フィルムなどの如く、自然光を入射させると直線偏光を透過する特性を示す吸収型の偏光板が高い偏光度の達成などの点より好ましく用いうる。偏光フィルムの厚さは、1〜80μmが一般的であるがこれに限定されない。 For the formation of the optical compensation polarizing plate, an appropriate polarizing plate can be used, and the type thereof is not particularly limited. Adsorb dichroic substances such as iodine and / or dichroic dyes on hydrophilic polymer films such as polyvinyl alcohol films, partially formalized polyvinyl alcohol films, and ethylene / vinyl acetate copolymer partially saponified films. Such as a polarizing film made of a polyene-oriented film such as a stretched film, a cross-linked film, a polyvinyl alcohol dehydrated product or a polyvinyl chloride dehydrochlorinated product, and so on, when linear light is incident, it transmits linearly polarized light. Absorptive polarizing plates exhibiting characteristics can be preferably used from the viewpoint of achieving a high degree of polarization. The thickness of the polarizing film is generally 1 to 80 μm, but is not limited thereto.
偏光板は、偏光フィルムの片側又は両側に透明保護層を設けたものや、ワイヤーグリッド型偏光子などであってもよい。透明保護層は、偏光フィルムの補強、耐熱性や耐湿性の向上などの種々の目的で設けられ、その形成には透明性や機械的強度、熱安定性や水分遮蔽性等に優れるポリマーなどが好ましく用いられる。ちなみにその例としては上記した支持基材で例示したものなどがあげられる。偏光特性や耐久性などの点より特に好ましい透明保護層は、表面をアルカリ等でケン化処理したトリアセチルセルロースフィルムである。 The polarizing plate may be a polarizing film provided with a transparent protective layer on one side or both sides, or a wire grid polarizer. The transparent protective layer is provided for various purposes such as reinforcement of the polarizing film, improvement of heat resistance and moisture resistance, and the formation thereof includes a polymer having excellent transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture shielding properties, etc. Preferably used. Incidentally, examples thereof include those exemplified for the above-mentioned support substrate. A particularly preferred transparent protective layer from the viewpoint of polarization characteristics and durability is a triacetyl cellulose film whose surface is saponified with alkali or the like.
透明保護層の厚さは、任意であるが、一般には偏光板の薄型化などを目的に200μm以下、就中5〜150μm、特に10〜100μmとされる。なお偏光フィルムの両側に透明保護層を設ける場合、その表裏で異なるポリマー等からなる透明保護層とすることもできる。 The thickness of the transparent protective layer is arbitrary, but is generally 200 μm or less, in particular 5 to 150 μm, particularly 10 to 100 μm for the purpose of reducing the thickness of the polarizing plate. In addition, when providing a transparent protective layer on both sides of a polarizing film, it can also be set as the transparent protective layer which consists of a polymer etc. which are different in the front and back.
透明保護層は、樹脂の塗布層や樹脂フィルムのラミネート層などとして形成でき、透明微粒子の含有によりその表面が微細凹凸構造に形成されていてもよい。また透明保護層は、ポリマー系延伸フィルムAや支持基材一体型のポリマー層Bに兼ねさせることもでき、その場合には光学補償偏光板、ひいては液晶表示装置等をより薄型化することができる。なお前記の透明微粒子には、上記に例示したものなどを用いうる。透明微粒子の使用量は、透明樹脂100重量部あたり2〜70重量部、就中5〜50重量部が一般的である。 The transparent protective layer can be formed as a resin coating layer, a resin film laminate layer, or the like, and the surface thereof may be formed in a fine uneven structure by containing transparent fine particles. In addition, the transparent protective layer can also serve as the polymer-based stretched film A or the support substrate-integrated polymer layer B. In that case, the optical compensation polarizing plate, and thus the liquid crystal display device can be made thinner. . For the transparent fine particles, those exemplified above can be used. The amount of the transparent fine particles used is generally 2 to 70 parts by weight, especially 5 to 50 parts by weight per 100 parts by weight of the transparent resin.
前記した樹脂フイルムのラミネート処理は、限定するものではないが、例えばアクリル系ポリマーやビニルアルコール系ポリマーからなる接着剤、あるいはホウ酸やホウ砂、グルタルアルデヒドやメラミンやシュウ酸等のビニルアルコール系ポリマーの水溶性架橋剤から少なくともなる接着剤等を介して行うことができる。これにより湿度や熱の影響で剥がれにくく光透過率や偏光度に優れるものとすることができる。斯かる接着層は、水溶液の塗工乾燥層等として形成されるものであるが、その水溶液の調製に際しては必要に応じて他の添加剤や、酸等の触媒も配合することができる。特にポリビルアルコール系フィルムとの接着性に優れる点より、ポリビニルアルコール系接着剤を用いることが好ましい。 The above-mentioned laminating process of the resin film is not limited. For example, an adhesive made of an acrylic polymer or a vinyl alcohol polymer, or a vinyl alcohol polymer such as boric acid, borax, glutaraldehyde, melamine, or oxalic acid. It can be carried out through an adhesive comprising at least a water-soluble crosslinking agent. As a result, it is difficult to peel off due to the influence of humidity and heat, and the light transmittance and the degree of polarization can be improved. Such an adhesive layer is formed as a coating / drying layer of an aqueous solution, and other additives and catalysts such as an acid can be blended as necessary when preparing the aqueous solution. In particular, it is preferable to use a polyvinyl alcohol-based adhesive from the viewpoint of excellent adhesiveness with a polyvinyl alcohol-based film.
光学補償偏光板の形成には適宜な方式を採ることができ、従って種々の形態の光学補償偏光板を作製することができる。ちなみにその例を図1〜図4(b、d、h、j)に示した。3が偏光フィルム、7がポリマー系延伸フィルムA、9がポリマー層Bであり、1、5は透明保護層、2、4、6は接着層ないし粘着層である。 Appropriate methods can be employed for forming the optical compensation polarizing plate, and therefore various forms of optical compensation polarizing plates can be produced. Incidentally, examples thereof are shown in FIGS. 1 to 4 ( b, d, h, j ). 3 is a polarizing film, 7 is a polymer based stretched film A, 9 polymer layer B, 1, 5 is a transparent protective layer, 2, 4, 6 is an adhesive layer or adhesive layer.
図1、2では偏光フィルム3の両側に接着層等2、4、6を介して透明保護層1、5を設けてなる偏光板を用いた場合を示している。また図1、2、3、及び図4では偏光板にポリマー系延伸フィルムA7とポリマー層B9の両方を設けたものを示している。図例より明らかな如く、ポリマー系延伸フィルムA7とポリマー層B9は、そのいずれが偏光板側に位置してもよい。
1 and 2 show a case where a polarizing plate is used in which transparent
光学補償偏光板は、図3、図4の如く、偏光板の透明保護層をポリマー系延伸フィルムA7が兼ねる形態のものであってもよい。またそのポリマー系延伸フィルムAは、それとポリマー層B9との積層体からなるものである。 As shown in FIGS. 3 and 4 , the optical compensation polarizing plate may have a configuration in which the polymer-based stretched film A <b> 7 serves as the transparent protective layer of the polarizing plate. The polymer stretched film A is a laminate of the polymer stretched film A and the polymer layer B9 .
光学補償偏光板の形成に際して、偏光板とポリマー系延伸フィルムA及びポリマー層Bは、適宜な順序で積層して目的とする形態とすることができる。ちなみに(b),(d),(h),(j)は、ポリマー系延伸フィルムA7とポリマー層B9を予め積層したものを接着層等4、6を介して接着したものである。
In forming the optical compensation polarizing plate, the polarizing plate, the polymer-based stretched film A, and the polymer layer B can be laminated in an appropriate order to obtain a desired form. Incidentally, (b), (d), (h), and (j) are obtained by adhering a laminated polymer film A7 and a polymer layer B9 in advance through
前記の場合、ポリマー系延伸フィルムAとポリマー層Bの積層体は、(b),(d),(h),(j)の如くポリマー系延伸フィルムA7を支持基材としてそれにポリマー層B9を付設したものである。 In the above case, the laminated body of the polymer-based stretched film A and the polymer layer B has a polymer-based stretched film A7 as a supporting substrate as shown in (b), (d), (h), (j) and a polymer layer B9. Attached .
前記において、(b)等の形態では、接着層等6を介してポリマー系延伸フィルムA7を偏光板に接着し、そのポリマー系延伸フィルムAにポリマー層B9を付設する方式にても形成することができる。さらに(b),(d),(h),(j)の形態は、上記に準じた方法でポリマー系延伸フィルムA7とポリマー層B9を設けた後、それを偏光フィルム3又は透明保護層5に接着する方式にても形成することができる。
In the, (b) in the form of such as through an adhesive layer 6 or the like to bond the polymeric stretched film A7 a polarizing plate, also be formed by a method in which attaching a polymer layer B9 to the polymeric stretched film A Can do. Further, (b), (d), (h), and (j) are formed in such a manner that a polymer-based stretched film A7 and a polymer layer B9 are provided by a method according to the above, and then the polarizing film 3 or the transparent
なお上記の如くポリマー系延伸フィルムAとポリマー層Bの積層体の形成に際しては、ポリマー系延伸フィルムAを支持基材としてその上にポリマー層Bを塗工形成するが、その場合には、ポリマー層Bを形成することとなる塗工層の乾燥工程で延伸処理を加えて、支持基材をポリマー系延伸フィルムAに変化させることもできる。 Note the formation of the laminate of the above as polymeric stretched film A and the polymer layer B, the polymer layer B is coated formed on it a polymeric stretched film A as a supporting base material, in this case, the polymer It is also possible to change the supporting base material to the polymer-based stretched film A by adding a stretching treatment in the drying step of the coating layer that will form the layer B.
前記した接着処理には必要に応じて、例えばアクリル系やシリコーン系、ポリエステル系やポリウレタン系、ポリエーテル系やゴム系等の透明な粘着剤などの適宜な接着剤を用いうる。構成部材の光学特性の変化を防止する点より、硬化や乾燥の際に高温プロセスを要しないものが好ましく、長時間の硬化処理や乾燥時間を要しないものが望ましい。また加熱や加湿条件下に剥離等を生じない接着剤が好ましく用いられる。 An appropriate adhesive such as an acrylic or silicone-based, polyester-based, polyurethane-based, polyether-based, or rubber-based transparent pressure-sensitive adhesive can be used for the above-described bonding treatment, if necessary. In view of preventing changes in the optical characteristics of the constituent members, those that do not require a high-temperature process during curing and drying are preferred, and those that do not require a long curing process or drying time are desirable. An adhesive that does not peel off under heating or humidification conditions is preferably used.
上記において光学補償偏光板を形成する偏光板は、特に位相差層を設けない側にハードコート処理や反射防止処理、スティッキング防止処理や拡散ないし防眩等を目的とした処理などを施したものであってもよい。ハードコート処理は、偏光板表面の傷付き防止などを目的に施されるものであり、例えばシリコーン系やウレタン系、アクリル系やエポキシ系などの適宜な紫外線硬化型樹脂による硬度や滑り性等に優れる硬化皮膜ないしフィルムを透明保護層の表面に付加する方式などにて形成することができる。 In the above, the polarizing plate forming the optical compensation polarizing plate is one in which a hard coat treatment, an antireflection treatment, an antisticking treatment, a treatment for diffusion or antiglare, etc. are performed on the side where the retardation layer is not provided. There may be. Hard coat treatment is performed for the purpose of preventing scratches on the surface of the polarizing plate. For example, hardness and slipperiness due to appropriate ultraviolet curable resins such as silicone, urethane, acrylic and epoxy are used. It can be formed by a method of adding an excellent cured film or film to the surface of the transparent protective layer.
一方、反射防止処理は、偏光板表面での外光の反射防止を目的に施されるものであり、例えばフッ素系ポリマーのコート層や多層金属蒸着膜等の光干渉性の膜や従来に準じた反射防止フィルムからなるものなどとして適宜に形成することができる。 On the other hand, the antireflection treatment is performed for the purpose of preventing the reflection of external light on the surface of the polarizing plate. For example, a light-interfering film such as a coating layer of a fluorine-based polymer or a multilayer metal vapor-deposited film or the like It can be suitably formed as a film made of an antireflection film.
他方、スティッキング防止は隣接層との密着防止を目的に、防眩処理層は偏光板の表面で外光が反射して偏光板透過光の視認を阻害することの防止などを目的に施されるものであり、例えば上記した透明微粒子含有の樹脂塗工層やエンボス加工、サンドブラスト加工やエッチング加工等の適宜な方式で表面に微細凹凸構造を付与することなどにより、表面反射光が拡散する適宜な方式で形成することができる。 On the other hand, the anti-sticking is for the purpose of preventing adhesion with the adjacent layer, and the anti-glare layer is applied for the purpose of preventing the external light from being reflected on the surface of the polarizing plate and obstructing the visibility of the light transmitted through the polarizing plate. For example, by applying a fine uneven structure to the surface by an appropriate method such as the resin coating layer containing transparent fine particles, embossing, sand blasting, etching, etc. It can be formed by a method.
また前記の防眩処理層は、偏光板の透過光を拡散して視角を拡大するための拡散層(視角補償機能など)を兼ねるものであってもよい。なお上記のハードコート層や反射防止層、スティッキング防止層や拡散層ないし防眩処理層等は、それらの層を設けたシートなどからなる光学層として、透明保護層とは別体のものとして設けることもできる。 The anti-glare layer may also serve as a diffusion layer (such as a viewing angle compensation function) for diffusing the light transmitted through the polarizing plate to expand the viewing angle. The hard coat layer, antireflection layer, anti-sticking layer, diffusion layer or anti-glare layer is provided as an optical layer composed of a sheet provided with these layers as a separate layer from the transparent protective layer. You can also
本発明による光学補償偏光板は、液晶表示装置等の各種表示装置の形成などに好ましく用いうる。その適用に際しては必要に応じ接着層ないし粘着層を介して、例えば反射板や半透過反射板、輝度向上フィルムや他の位相差板、拡散制御フィルムや偏光散乱フィルムなどの他の光学層の1層又は2層以上を積層してなる光学部材として用いることもできる。積層には、上記した粘着層等の適宜な接着手段を用いることができる。 The optical compensation polarizing plate according to the present invention can be preferably used for forming various display devices such as a liquid crystal display device. In the application, one of other optical layers such as a reflection plate, a semi-transmission reflection plate, a brightness enhancement film, another retardation plate, a diffusion control film, a polarization scattering film, etc. is passed through an adhesive layer or an adhesive layer as necessary. It can also be used as an optical member formed by laminating layers or two or more layers. For the lamination, an appropriate bonding means such as the above-mentioned adhesive layer can be used.
前記の反射板は、それを偏光板に設けて反射型偏光板を形成するためのものである。反射型の偏光板は通常、液晶セルの裏側に配置され、視認側(表示側)からの入射光を反射させて表示するタイプの液晶表示装置(反射型液晶表示装置)などを形成するためのものであり、バックライト等の光源の内蔵を省略できて液晶表示装置の薄型化を図りやすいなどの利点を有する。 The reflection plate is used to form a reflective polarizing plate by providing it on a polarizing plate. The reflective polarizing plate is usually disposed on the back side of the liquid crystal cell, and forms a liquid crystal display device (reflective liquid crystal display device) of a type that reflects incident light from the viewing side (display side) and displays it. Therefore, there is an advantage that it is possible to omit a built-in light source such as a backlight and to easily reduce the thickness of the liquid crystal display device.
反射型偏光板の形成は、必要に応じ透明保護層等を介して偏光板の片面に金属等からなる反射層を付設する方式などの適宜な方式で行うことができる。その具体例としては必要に応じマット処理した透明保護層の片面に、アルミニウム等の反射性金属からなる箔や蒸着膜を付設したものがあげられる。 The reflective polarizing plate can be formed by an appropriate method such as a method in which a reflective layer made of metal or the like is attached to one surface of the polarizing plate via a transparent protective layer or the like as necessary. Specific examples thereof include those in which a foil or a vapor deposition film made of a reflective metal such as aluminum is attached to one side of a transparent protective layer that is matted as necessary.
また前記の反射層は、光拡散型のものであってもよい。光拡散型の反射層は、例えば透明微粒子を含有させて表面を微細凹凸構造とした透明保護層の上に、その微細凹凸構造を反映させた反射層を形成する方式などにより得ることができる。表面微細凹凸構造の反射層は、入射光を乱反射により拡散させ、指向性やギラギラした見栄えを防止し、明暗のムラを抑制しうる利点を有する。 The reflective layer may be a light diffusion type. The light diffusion type reflective layer can be obtained, for example, by a method of forming a reflective layer reflecting the fine concavo-convex structure on a transparent protective layer containing transparent fine particles and having a surface having a fine concavo-convex structure. A reflective layer having a fine surface irregular structure has the advantage of diffusing incident light by irregular reflection, preventing directivity and glaring appearance, and suppressing uneven brightness.
微細凹凸構造を反映させた反射層は、当該微細凹凸構造上に例えば真空蒸着方式やイオンプレーティング方式やスパッタリング方式等の蒸着方式、メッキ方式などの適宜な方式で金属反射層を付設することにより形成することができる。 The reflective layer reflecting the fine concavo-convex structure is formed by attaching a metal reflective layer on the fine concavo-convex structure by an appropriate method such as a vacuum deposition method, an ion plating method, a sputtering method, or a plating method, or a plating method. Can be formed.
なお反射層は、上記した偏光板の透明保護層に直接付設する方式に代えて、適宜なフィルムに反射層を付設してなる反射シートなどとして設けることもできる。金属からなる反射層は、その反射面がフィルムや偏光板等で被覆された状態の使用形態が、酸化による反射率の低下防止、ひいては初期反射率の長期持続の点や、保護層の別途付設の回避の点などから好ましい。 In addition, it can replace with the system attached directly to the transparent protective layer of an above-described polarizing plate, and a reflection layer can also be provided as a reflection sheet etc. which attaches a reflection layer to an appropriate film. The reflective layer made of metal is used in a state in which the reflective surface is covered with a film, a polarizing plate, etc., to prevent a decrease in reflectance due to oxidation, and in turn, to maintain the initial reflectance for a long period of time. It is preferable from the viewpoint of avoiding the above.
さらに反射層は、ハーフミラー等からなる、光を反射しかつ透過する半透過型のものなどであってもよい。半透過型偏光板も通常、液晶セルの裏側に設けられ、液晶表示装置等を比較的明るい雰囲気で使用する場合には、視認側(表示側)からの入射外光を反射させて表示を達成し、比較的暗い雰囲気においては半透過型偏光板の裏側に配置したバックライト等の内蔵光源を使用して表示を達成するタイプの表示装置などを形成するためのものである。 Further, the reflective layer may be a semi-transmissive type made of a half mirror or the like that reflects and transmits light. A transflective polarizing plate is also usually provided on the back side of a liquid crystal cell. When a liquid crystal display device is used in a relatively bright atmosphere, display is achieved by reflecting external incident light from the viewing side (display side). In a relatively dark atmosphere, a display device or the like that achieves display using a built-in light source such as a backlight disposed behind the transflective polarizing plate is formed.
従って半透過型偏光板は、明るい雰囲気下ではバックライト等の光源使用によるエネルギーを節約でき、比較的暗い雰囲気下においても内蔵光源を用いて使用できるタイプの表示装置などの形成に有用である。 Therefore, the transflective polarizing plate can save energy by using a light source such as a backlight in a bright atmosphere, and is useful for forming a display device that can be used with a built-in light source even in a relatively dark atmosphere.
一方、上記した輝度向上フィルムは、偏光板による吸収ロスなどを抑制して輝度の向上を図ることなどを目的に用いられるものである。輝度向上フィルムとしては適宜なものを用いうる。ちなみにその例としては、誘電体の多層薄膜や屈折率異方性が相違する薄膜フィルムの多層積層体の如き、所定偏光軸の直線偏光を透過して他の光は反射する特性を示すものがあげられる(例えば3M社製、「D−BEF」等)。 On the other hand, the above-described brightness enhancement film is used for the purpose of improving brightness by suppressing absorption loss due to a polarizing plate. An appropriate film can be used as the brightness enhancement film. By the way, as an example, such as a multilayer thin film of dielectric material or a multilayer laminate of thin film films with different refractive index anisotropy, it shows the characteristic of transmitting linearly polarized light with a predetermined polarization axis and reflecting other light. (For example, “D-BEF” manufactured by 3M).
また輝度向上フィルムの他の例としてはコレステリック液晶層、就中コレステリック液晶ポリマーの配向フィルムやその配向液晶層をフィルム基材上に支持したもの(例えば日東電工社製、「PCF350」や、Merck社製、「Transmax」等)の如き、左回り又は右回りのいずれか一方の円偏光を反射して他の光は透過する特性を示すものなどがあげられる。後者のコレステリック液晶系のものでは、円偏光を直線偏光に変換することを目的に必要に応じて1/4波長板と組合せて用いることもできる。 Other examples of brightness enhancement films include cholesteric liquid crystal layers, especially cholesteric liquid crystal polymer alignment films and films in which the alignment liquid crystal layer is supported on a film substrate (for example, “PCF350” manufactured by Nitto Denko Corporation, Merck Such as “Transmax” and the like, which reflects either one of the left-handed and right-handed circularly polarized light and transmits the other light. The latter cholesteric liquid crystal system can be used in combination with a quarter-wave plate as needed for the purpose of converting circularly polarized light into linearly polarized light.
また位相差板としては、前記した1/4波長板のほか一軸や二軸等の適宜な方式による各種ポリマーの延伸フィルム、Z軸配向処理したポリマーフィルム、液晶性高分子層などの適宜な位相差を有するものを用いうる。拡散制御フィルムは、視野角や解像度に関わるギラツキ、散乱光等の制御を目的に用いられるものであり、拡散、散乱又は/及び屈折を利用した光学機能フィルムが用いられる。さらに偏光散乱フィルムは、フィルム中に散乱性物質を含有させて偏光がその振動方向により散乱異方性を生じるようにしたものであり、偏光の制御などに用いられる。 Further, as the retardation plate, in addition to the above-mentioned quarter wavelength plate, various positions such as a stretched film of various polymers by an appropriate method such as uniaxial or biaxial, a polymer film subjected to Z-axis alignment treatment, a liquid crystalline polymer layer, etc. Those having a phase difference can be used. The diffusion control film is used for the purpose of controlling glare related to viewing angle and resolution, scattered light, and the like, and an optical functional film utilizing diffusion, scattering, and / or refraction is used. Furthermore, the polarization scattering film is a film in which a scattering substance is contained in the film so that the polarized light has scattering anisotropy depending on the vibration direction, and is used for controlling the polarization.
上記した2層又は3層以上の光学層を積層した光学部材は、液晶表示装置等の製造過程で順次別個に積層する方式にても形成することができるが、予め積層して光学部材としたものは、品質の安定性や組立作業性等に優れて液晶表示装置等の製造効率を向上させう利点などがある。 The above-described optical member in which two or more optical layers are laminated can be formed by a method of separately laminating sequentially in the manufacturing process of a liquid crystal display device or the like. The product has the advantage of improving the production efficiency of the liquid crystal display device and the like by being excellent in the stability of quality and the assembly workability.
本発明による光学補償偏光板や光学部材には、他の光学層や液晶セル等の他部材と接着するための粘着層ないし接着層を必要な面に設けることもできる。その接着層は、上記に準じて形成することができる。就中、吸湿による発泡現象や剥がれ現象の防止、熱膨張差等による光学特性の低下や液晶セルの反り防止、ひいては高品質で耐久性に優れる表示装置の形成性等の点より、吸湿率が低くて耐熱性に優れる粘着層が好ましく用いうる。また透明微粒子を含有して光拡散性を示す粘着層等とすることもできる。 The optical compensation polarizing plate and the optical member according to the present invention may be provided with a pressure-sensitive adhesive layer or an adhesive layer on a necessary surface for bonding with other members such as other optical layers and liquid crystal cells. The adhesive layer can be formed according to the above. In particular, the moisture absorption rate is low in terms of prevention of foaming and peeling phenomena due to moisture absorption, deterioration of optical properties due to thermal expansion differences, prevention of warping of liquid crystal cells, and formation of a display device with high quality and durability. An adhesive layer that is low and excellent in heat resistance can be preferably used. Moreover, it can also be set as the adhesion layer etc. which contain a transparent fine particle and show light diffusibility.
光学補償偏光板や光学部材に設けた粘着層ないし接着層が表面に露出する場合には、その粘着層等を実用に供するまでの間、汚染防止等を目的にセパレータにて仮着カバーすることが好ましい。セパレータは、上記の支持基材等に準じた適宜な薄葉体に、必要に応じシリコーン系や長鎖アルキル系、フッ素系や硫化モリブデン等の適宜な剥離剤によるコート層を設ける方式などにより得ることができる。 If the pressure-sensitive adhesive layer or adhesive layer provided on the optical compensation polarizing plate or the optical member is exposed on the surface, temporarily cover it with a separator for the purpose of preventing contamination until the pressure-sensitive adhesive layer etc. is put to practical use. Is preferred. The separator is obtained by a method in which a coating layer with an appropriate release agent such as silicone-based, long-chain alkyl-based, fluorine-based, molybdenum sulfide, or the like is provided on an appropriate thin leaf body according to the above-mentioned support base material, if necessary. Can do.
上記した光学補償偏光板や光学部材等を形成する位相差層や偏光フィルム、透明保護層や粘着層などの各層は、例えばサリチル酸エステル系化合物やベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物やシアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等の紫外線吸収剤で処理する方式などの適宜な方式により紫外線吸収能をもたせたものなどであってもよい。 Each layer such as a retardation layer, a polarizing film, a transparent protective layer, and an adhesive layer forming the optical compensation polarizing plate and the optical member described above is, for example, a salicylic acid ester compound, a benzophenone compound, a benzotriazole compound, or a cyanoacrylate compound. In addition, a material having an ultraviolet absorbing ability by an appropriate method such as a method of treating with an ultraviolet absorber such as a nickel complex compound may be used.
本発明による光学補償偏光板や光学部材は、液晶表示装置等の各種装置の形成などに好ましく用いることができ、例えば偏光板を液晶セルの片側又は両側に配置してなる反射型や半透過型、あるいは透過・反射両用型等の液晶表示装置の形成に用いることができる。 The optical compensation polarizing plate and the optical member according to the present invention can be preferably used for forming various devices such as a liquid crystal display device. For example, a reflective type or a transflective type in which a polarizing plate is arranged on one side or both sides of a liquid crystal cell. Alternatively, it can be used to form a liquid crystal display device such as a transmission / reflection type.
すなわち液晶表示装置は一般に、液晶セルと光学補償偏光板、及び必要に応じての照明システム等の構成部品を適宜に組立てて駆動回路を組込むことなどにより形成されるが、本発明においては本発明による光学補償偏光板ないし光学部材を用いて、それを液晶セルの外側の少なくとも片側に設ける点を除いて特に限定はなく、従来に準じうる。 That is, a liquid crystal display device is generally formed by appropriately assembling components such as a liquid crystal cell, an optical compensation polarizing plate, and an illumination system as necessary, and incorporating a drive circuit. There is no particular limitation except that the optical compensation polarizing plate or the optical member is provided on at least one side outside the liquid crystal cell.
従って液晶セルの片側又は両側に光学補償偏光板を配置した液晶表示装置や、照明システムにバックライト又はフロントライトを用いた液晶表示装置、あるいは反射板や半透過型反射板を用いてなる透過型や反射型、あるいは反射・透過両用型などの適宜な液晶表示装置を形成することができる。 Therefore, a liquid crystal display device in which an optical compensation polarizing plate is arranged on one or both sides of a liquid crystal cell, a liquid crystal display device using a backlight or a front light in an illumination system, or a transmissive type using a reflective plate or a semi-transmissive reflective plate An appropriate liquid crystal display device such as a reflection type or a reflection / transmission type can be formed.
光学補償偏光板は、その位相差層が視認側又は/及び背面側の液晶セルと偏光板の間、特に視認側の偏光板との間に位置するように配置することが補償効果の点などより好ましい。その配置に際しては、上記の光学部材としたものを用いることもできる。 The optical compensation polarizing plate is preferably arranged such that the retardation layer is positioned between the liquid crystal cell on the viewing side or / and the back side and the polarizing plate, particularly between the polarizing plate on the viewing side. . In the arrangement, the optical member described above can also be used.
前記において液晶表示装置を形成する液晶セルは任意であり、例えば薄膜トランジスタ型に代表されるアクティブマトリクス駆動型のもの、ツイストネマチック型やスーパーツイストネマチック型に代表される単純マトリクス駆動型のもの、VA型やOCB型のものなどの適宜なタイプの液晶セルを用いたものであってよい。液晶セルの両側に光学補償偏光板や光学部材を設ける場合、それらは同じものであってもよいし、異なるものであってもよい。 The liquid crystal cell forming the liquid crystal display device is arbitrary, for example, an active matrix driving type represented by a thin film transistor type, a simple matrix driving type represented by a twist nematic type or a super twist nematic type, or a VA type. Alternatively, a liquid crystal cell of an appropriate type such as an OCB type may be used. When the optical compensation polarizing plate and the optical member are provided on both sides of the liquid crystal cell, they may be the same or different.
また前記において液晶表示装置の形成部品は、積層一体化されていてもよいし、分離状態にあってもよい。また液晶表示装置の形成に際しては、例えばプリズムアレイシートやレンズアレイシート、光拡散板や保護板などの適宜な光学素子を適宜に配置することができる。かかる素子は、光学補償偏光板と積層してなる上記した光学部材の形態にて液晶表示装置の形成に供することもできる。 In the above, the liquid crystal display device forming components may be laminated and integrated, or may be in a separated state. In forming the liquid crystal display device, for example, an appropriate optical element such as a prism array sheet, a lens array sheet, a light diffusing plate, or a protective plate can be appropriately disposed. Such an element can also be used for the formation of a liquid crystal display device in the form of the above-described optical member laminated with an optical compensation polarizing plate.
参考例
厚さ80μmのポリビニルアルコール(PVA)フィルムをヨウ素水溶液中で5倍に一軸延伸して得た偏光フィルムの両側に、厚さ5μmのPVA系接着剤を介して厚さ80μmのトリアセチルセルロース(TAC)フィルムを接着して厚さ190μmの偏光板を得た。 Reference example: 80 [mu] m thick via a PVA adhesive having a thickness of 5 [mu] m on both sides of a polarizing film obtained by uniaxially stretching a 80 [mu] m thick polyvinyl alcohol (PVA) film in an
実施例1
2,2’−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパンと、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’一ジアミノビフェニルから合成された重量平均分子量5.9万のポリイミドの15重量%シクロヘキサノン溶液を厚さ80μmのTACフィルム上に塗布して乾燥後、テンターを介しTACフィルムと共に横延伸処理して厚さ73μmの位相差板を得た。これはReが30nmで、Rzが38nm(Rz/Re=1.3)のTAC延伸フィルムに、Reが22nm、Rzが200nm(Rz/Re=9.1)のポリマー層が密着したものであった。ついでそれをポリマー層が外側となるように実施例1と同様の偏光フィルムの片側に厚さ5μmのPVA系接着剤を介して接着し、その偏光フィルムの他面に厚さ80μmのTACフィルムを同様に接着して、総厚183μmの光学補償偏光板を得た。
Example 1
Weight average molecular weight of 59,000 synthesized from 2,2′-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropane and 2,2′-bis (trifluoromethyl) -4,4′-diaminobiphenyl A 15 wt% cyclohexanone solution of polyimide was applied onto a TAC film having a thickness of 80 μm, dried, and then subjected to transverse stretching with a TAC film through a tenter to obtain a retardation plate having a thickness of 73 μm. This is a TAC stretched film having Re of 30 nm and Rz of 38 nm (Rz / Re = 1.3), and a polymer layer having Re of 22 nm and Rz of 200 nm (Rz / Re = 9.1) adhered. It was. Next, it was adhered to one side of the same polarizing film as in Example 1 with a PVA adhesive having a thickness of 5 μm so that the polymer layer was on the outside, and a TAC film having a thickness of 80 μm was attached to the other side of the polarizing film. Bonding was performed in the same manner to obtain an optical compensation polarizing plate having a total thickness of 183 μm.
実施例2
位相差板の表裏を逆転させて、ポリマー層が内側となるように接着したほかは実施例1に準じて、総厚183μmの光学補償偏光板を得た。
Example 2
An optical compensation polarizing plate having a total thickness of 183 μm was obtained in the same manner as in Example 1 except that the front and back of the retardation plate were reversed and adhered so that the polymer layer was on the inside.
実施例3
実施例1に準じたポリイミド溶液を厚さ80μmのTACフィルム上に塗布し、その乾燥過程においてフィルムの流れ(長尺)方向に10%の縦延伸を行って厚さ83μmの位相差板を得た。これは、Re25nm、Rz42nm(Rz/Re=1.7)のTAC延伸フイルム上に、ポリイミドからなるRe40nm、Rz200nm(Rz/Re=5)のポリマー層が密着したものであった。ついでそれをポリマー層が外側となるように偏光板の片側にアクリル系粘着剤を介し接着して実施例1に準じ光学補償偏光板を得た。
Example 3
A polyimide solution according to Example 1 was applied onto a TAC film having a thickness of 80 μm, and in the drying process, 10% longitudinal stretching was performed in the film flow (long length) direction to obtain a retardation film having a thickness of 83 μm. It was. This was a polymer layer of Re 40 nm and Rz 200 nm (Rz / Re = 5) made of polyimide adhered on a TAC stretched film of Re 25 nm and Rz 42 nm (Rz / Re = 1.7). Then, it was bonded to one side of the polarizing plate with an acrylic pressure-sensitive adhesive so that the polymer layer was on the outside, and an optical compensation polarizing plate was obtained according to Example 1 .
実施例4
4,4’−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−2,2−ジフェニルプロパン二無水物と、2,2’−ジクロロ−4,4’−ジアミノビフェニルから合成された重量平均分子量6.2万のポリイミドをシクロペンタノンに溶解して得た20重量%溶液を、厚さ80μmのトリアセチルセルロースフィルムに塗布し、その乾燥過程でテンターにて1.2倍の横延伸を行って、厚さ65μmの位相差板を得た。これは、Re22nm、Rz45nm(Rz/Re=2.0)のTAC延伸フイルム上に、ポリイミドからなるRe5nm、Rz220nm(Rz/Re=44)のポリマー層が密着したものであった。ついでそれをポリマー層が外側となるように偏光板の片側にアクリル系粘着剤を介し接着して実施例1に準じ光学補償偏光板を得た。
Example 4
5. Weight average molecular weight synthesized from 4,4′-bis (3,4-dicarboxyphenyl) -2,2-diphenylpropane dianhydride and 2,2′-dichloro-4,4′-diaminobiphenyl. A 20% by weight solution obtained by dissolving 20,000 polyimide in cyclopentanone was applied to a 80 μm thick triacetylcellulose film, and the film was stretched 1.2 times with a tenter during the drying process. A retardation plate having a thickness of 65 μm was obtained. This was a polymer layer of
評価試験
実施例、参考例で得た光学補償偏光板と偏光板を種々の組合せでVA型液晶セルの視認側と背面側に遅相軸が直交するように配置して液晶表示装置を形成し、その上下、左右、対角a(45度と−225度)及び対角b(135度と−315度)の各方向において、コントラスト比が10以上の視野角を調べた。なお光学補償偏光板は、その位相差層がセル側となるように配置した。
The liquid crystal display device is formed by arranging the optical compensation polarizing plate and the polarizing plate obtained in the evaluation test examples and reference examples in various combinations so that the slow axis is perpendicular to the viewing side and the back side of the VA liquid crystal cell. A viewing angle with a contrast ratio of 10 or more was examined in each of the vertical and horizontal directions, diagonal a (45 degrees and -225 degrees) and diagonal b (135 degrees and -315 degrees). The optical compensation polarizing plate was arranged so that the retardation layer was on the cell side.
前記の結果を次表に示した。
[表1]
配 置 物 視 野 角 (度)
視 認 側 背 面 側 上下方向 左右方向 対角a方向 対角b方向
例1 参考例 実施例1 ±80 ±80 ±65 ±65
例2 参考例 実施例2 ±80 ±80 ±65 ±65
例3 参考例 実施例3 ±80 ±80 ±65 ±65
例4 参考例 実施例4 ±80 ±80 ±60 ±60
例5 参考例 参考例 ±40 ±40 ±30 ±30
The results are shown in the following table.
[Table 1]
Arrangement Object angle (degree)
Visual recognition Side back side Up / down direction Left / right diagonal direction a direction diagonal b direction Example 1 Reference Example Example 1 ± 80 ± 80 ± 65 ± 65
Example 2 Reference Example Example 2 ± 80 ± 80 ± 65 ± 65
Example 3 Reference Example Example 3 ± 80 ± 80 ± 65 ± 65
Example 4 Reference Example Example 4 ± 80 ± 80 ± 60 ± 60
Example 5 Reference example Reference example ± 40 ± 40 ± 30 ± 30
表より実施例に相当する例1〜4の全てにおいて、比較例としての例5と対比して、コントラスト比が10以上の視野角がその角度に基づいて倍以上拡大されていることが判る。これより本発明による光学補償偏光板にて、液晶セルを光学補償して視認性に優れる高表示品位の液晶表示装置の得られることが判る。 It can be seen from the table that in all of Examples 1 to 4 corresponding to the examples, the viewing angle having a contrast ratio of 10 or more is doubled or larger based on the angle as compared with Example 5 as a comparative example. From this, it can be seen that with the optical compensation polarizing plate according to the present invention, a high-quality liquid crystal display device having excellent visibility can be obtained by optically compensating the liquid crystal cell.
1、5:透明保護層1, 5: Transparent protective layer
2、4、6:接着層(粘着層)2, 4, 6: Adhesive layer (adhesive layer)
3:偏光フィルム(偏光板)3: Polarizing film (polarizing plate)
7:ポリマー系延伸フィルムA7: Polymer stretched film A
9:ポリマー層B9: Polymer layer B
Claims (6)
(1)ポリマーからなる支持基材を準備する工程、(1) a step of preparing a support substrate made of a polymer;
(2)ポリエーテルケトン、ポリアミド、ポリエステル、ポリイミド、ポリアミドイミド及びポリエステルイミドからなる群から選択される少なくとも1種のポリマーの溶液及び溶融液の少なくとも一方を前記支持基材上に展開して塗工層を形成する工程、(2) At least one of a solution and a melt of at least one polymer selected from the group consisting of polyetherketone, polyamide, polyester, polyimide, polyamideimide, and polyesterimide is spread on the support substrate and applied. Forming a layer;
および、and,
(3)前記支持基材と前記塗工層を共に延伸又は収縮させることにより、前記支持基材が前記ポリマー系延伸フィルムAとなり、前記塗工層が前記ポリマー層Bとなり、前記ポリマー系延伸フィルムAがRe=20〜300nmおよびRz/Re=1.0〜8を満足し、前記ポリマー層BがRe=1〜100nmおよびRz/Re=5〜100を満足し、かつ前記ポリマー層Bの厚さが1〜20μmとなるように前記両層を形成する工程、(3) By stretching or shrinking the supporting substrate and the coating layer together, the supporting substrate becomes the polymer stretched film A, the coating layer becomes the polymer layer B, and the polymer stretched film. A satisfies Re = 20 to 300 nm and Rz / Re = 1.0 to 8, the polymer layer B satisfies Re = 1 to 100 nm and Rz / Re = 5 to 100, and the thickness of the polymer layer B Forming both the layers so that the thickness is 1 to 20 μm,
を含む光学フィルムの製造方法。The manufacturing method of the optical film containing this.
前記ポリマー系延伸フィルムAまたは前記ポリマー層Bの各層において、In each layer of the polymer-based stretched film A or the polymer layer B,
前記Reは、前記各層の面内位相差であり、前記Rzは、前記各層の厚さ方向位相差であり、それぞれ下記式で表され、The Re is an in-plane retardation of each layer, the Rz is a thickness direction retardation of each layer, and each is represented by the following formula:
下記式中、nxおよびnyは、前記各層の面内の屈折率であり、nzは、前記各層の厚さ方向の屈折率であり、dは、前記各層の厚さ(nm)である。In the following formula, nx and ny are in-plane refractive indexes of the respective layers, nz is a refractive index in the thickness direction of the respective layers, and d is a thickness (nm) of the respective layers.
(nx−ny)d=Re(Nx-ny) d = Re
(nx−nz)d=Rz(Nx-nz) d = Rz
(4)請求項1〜5のいずれかに記載の製造方法により位相差板を製造する工程、(4) The process of manufacturing a phase difference plate by the manufacturing method in any one of Claims 1-5,
および、and,
(5)偏光板の片側に接着層又は粘着層を介して前記位相差板を積層させ、前記位相差板を、前記光学補償偏光板の位相差層とする工程、(5) The step of laminating the retardation plate on one side of the polarizing plate via an adhesive layer or an adhesive layer, and using the retardation plate as a retardation layer of the optical compensation polarizing plate,
を含む製造方法。Manufacturing method.
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