JP3970042B2 - Method for controlling the traveling of a transport carriage in a vacuum chamber - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、CVD製膜等を行う真空処理室においてガラス基板を搬送する搬送台車の真空室内走行制御方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
図7を参照して従来の台車走行制御方法について説明する。真空処理システムはゲート弁112を介して直列につながれた真空処理室101、台車回転室102、真空処理室103を備えている。搬送台車6は、側面に形成されたラック64にピニオン172が噛み合い、ピニオン172から伝達される駆動力によってレール8上を走行するようになっている。ピニオン172はレール8に沿って所定の間隔で配置され、各々がコントローラ180に制御されるステッピングモータ170A〜170Dにより独立に駆動されるようになっている。
【0003】
コントローラ180は、同一ラインに並ぶレール8上の全てのピニオン172が同期がとれた状態で回転されるように、ステッピングモータ170A〜170Dを制御する。搬送台車6は、開閉されるゲート弁112を通って真空処理室101から台車回転室102へ、次いで台車回転室102から真空処理室103へとガラス基板Gを搬送し、製膜処理のために真空処理室内の製膜ユニット(図示せず)に基板Gを受け渡す。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、プラズマCVD、スパッタリング、ドライエッチング等の処理を基板に施す真空処理室は周囲をチャンバ外壁で取り囲まれているために、オペレータが目視により確認しながら搬送台車を目標位置に停止させることができない環境にある。このため、従来の台車走行制御方法においては次の(1)〜(3)の問題点がある。
【0005】
(1)コントローラ/ステッピングモータ/ピニオン間の制御系では電気的に位置決めが完了していたとしても、基板受け渡し場所での台車停止位置に機械的なガタが発生した場合に適切に対応することができないため、基板の受け渡し動作が不確実になり、他部材との衝突や落下により基板を損傷するおそれがある。
【0006】
(2)同じ動作を繰り返し行った場合に同一の結果が得られる受け渡し再現性を保証するために、台車の停止位置を目標停止位置(受け渡し位置)に対して±1mm以内とする高い位置精度が要求される。
【0007】
(3)装置をメンテナンスするごとに搬送台車の目標停止位置を確認することが必要になり、その分だけメンテナンスに要する時間が増加する。
【0008】
本発明は上記課題を解決するためになされたものであって、目視確認が不可能な特殊環境下において基板を安全確実に受け渡すことができる搬送台車の真空室内走行制御方法を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る搬送台車の真空室内走行制御方法は、軌条に沿って所定の間隔をおいて配置された複数のピニオンを搬送台車のラックに噛み込ませて駆動力を伝達し、該搬送台車に保持された基板を複数の真空処理室に搬送する搬送台車の真空室内走行制御方法において、
(a)真空処理室内で搬送台車から他の部材に基板が受け渡される目標停止位置から搬送台車が先に進めないところに当て止めブロックを配置し、
(b)搬送台車が前記当て止めブロックに突き当たるまでに該搬送台車の推進力を低下させるのに余裕をもたせた距離を設定し、
(c)前記ピニオンの回転数又はピニオン駆動源の回転数を検出し、この検出回転数に基づいて搬送台車の位置を算出し、
(d)前記算出位置から前記目標停止位置までの距離が前記工程(b)で設定した距離と同じか又はそれよりも小さくなったときに、前記ピニオンの駆動トルクを減少させて搬送台車の推進力を低下させ、
(e)通常搬送時よりも小さい推進力で搬送台車を前記当て止めブロックに突き当たらせ、所定の時間だけ前記ピニオンを低トルクで駆動させ続けて、前記当て止めブロックに突き当てた状態で搬送台車を前進させ続けることを特徴とする。
【0010】
この場合に、上記工程(b)の設定距離を90〜110mmとすることが好ましい。搬送台車の定常速度は200〜500mm/秒であるので、この設定距離を走行して搬送台車が当て止めブロックに突き当たるまでに0.2〜0.5秒間の時間的余裕があることになり、この間にピニオン駆動源(サーボモータ)の駆動を高トルクから低トルクに切り替える制御動作を完了させる。
【0011】
また、上記工程(e)では、搬送台車が当て止めブロックに突き当たっている間において、該当て止めブロックが無いものとして搬送台車が前進したであろう仮想走行距離を100〜300mmとすることが好ましい。
【0012】
さらに、工程(d)では、ピニオン駆動源の回転速度を小さくし、搬送台車を減速させることが好ましい。搬送台車は基板を積載したときの合計重量が10kgを超える重量物であるため慣性力が大きい。このため、ピニオンから台車に伝達する推進力(駆動トルク)を低下させた場合であっても、搬送台車が当て止めブロックに衝突したときに生じる衝撃が大きく、それが振動となって基板に伝わるのを可能な限り低減する必要があるからである。
【0013】
また、付属のエンコーダでモータ回転数を検出することによりサーボモータ駆動軸の回転角をフィードバック制御し、同一ライン上に配列されたピニオンのギア歯を揃え、ピニオンとラックとを同期噛み合いさせる。このようにモータを同期駆動制御するので、ピニオンがラックと噛み合う瞬間の衝撃が低減され、台車に伝わる振動が減少する。とくに大型の基板を搬送する場合は、ピニオン/ラックの噛み合い時に台車が衝撃を受けて基板に振動が伝わるので、高トルク低速駆動することが好ましい。
【0014】
なお、真空処理室は、基板にプラズマCVD製膜するための製膜室であってもよいし、搬送台車を回転させて基板の搬送方向を変える台車回転室であってもよいし、あるいは、搬送台車が大気側から真空側へ入るロード室、又は搬送台車が真空側から大気側へ出ていくアンロード室であってもよい。
【0015】
真空処理室が製膜室である場合は、上記工程(e)の所定の時間を、搬送台車から他の部材への基板の受け渡しが完了するまでの時間とし、さらに、工程(e)において基板の受け渡しを完了した後に、ピニオンを逆回転させ、搬送台車を製膜室から退出させる。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下、添付の図面を参照しながら本発明の種々の好ましい実施の形態について説明する。
【0017】
図1に示すように、クラスタ型真空処理システム1において、共通搬送室としての台車回転室16が中央に配置され、その周囲に複数の真空処理室10,18,20が放射状に配置され、さらに台車回転室16同士は互いに連絡通路室(中間室)19により連結されている。
【0018】
真空処理室のうちロード室10およびアンロード室20は、前面側に大気雰囲気の外部搬送路との間の開口を遮断するゲート弁機構12を、後面側に真空雰囲気の共通搬送室16との間の開口を遮断するゲート弁機構12をそれぞれ備えている。ゲート弁機構12は、図2に示すように、左右一対の搬入出口12a,12bをそれぞれ独立に開放し遮断するゲート弁と、各ゲート弁を駆動するシリンダとを備えている。
【0019】
真空処理室のうち複数の製膜室18は、共通搬送室16との間の開口を遮断するゲート弁機構12をそれぞれ備えている。各製膜室18の背面側には開閉可能な扉がそれぞれ取り付けられ、扉を開けて各製膜室18の内部をメンテナンスできるようになっている。扉は手動または電動で開閉できるように各室に取り付けられ、各室を構成するフレーム壁と扉との間にシール部材が介装されている。なお、複数の製膜室18のうちの一部を予備室として用いるようにしてもよい。予備室は、製膜室として使用されるのは勿論のことであるが、搬送台車6を一時待機(退避)させておく待機室として用いてもよいし、製膜処理前の基板Gを予備的に加熱する予備加熱室または冷却する冷却室として用いてもよい。
【0020】
共通搬送室16の床部はターンテーブル17で構成されており、ターンテーブル17によりレール8上の搬送台車6が水平面内で回転され、搬送台車6の向きが360°どの方位にも変えられるようになっている。
【0021】
図2に示すように、一対の平行レール8が大気搬送路からロード室10を通って台車回転室16内の回転レール8に接続可能に敷設され、搬送台車6が各レール8上を1台ずつ走行するようになっている。大気搬送路のレール8の延長線上にロード室10内のレール8がそれぞれ設けられ、搬送台車6はゲート弁機構12の段差を通って大気搬送路のレール8から真空搬送路のレール8上に乗り移れるようになっている。
【0022】
各搬送台車6はそれぞれ独立に基板Gを1枚ずつ保持し搬送するようになっている。すなわち、台車6は本体フレーム61上に一対の支柱62および複数の支持爪(図示せず)を備え、これにより1枚のガラス基板Gをやや傾斜した直立姿勢で保持している。ちなみに、ガラス基板Gのサイズは例えば1m角である。1m角サイズのガラス基板Gは、重量が10kgfを上回り、かなりな重量物となる。
【0023】
基板Gを保持した搬送台車6は、外部搬送路からロード室10を通って台車回転室16内に入り、ターンテーブル17により回転されて製膜室18に位置合せされ、製膜室18に入って基板Gに製膜した後に、台車回転室16およびアンロード室20を通って外部搬送路に出ていくようになっている。
【0024】
図3及び図4に示すように、複数のピニオン72がレール8の側方の近傍に所定の間隔で設けられている。これらのピニオン72は搬送台車6の側面に形成されたラック64にそれぞれ噛み合い可能な位置に配置されている。
【0025】
図3に示すように、各ピニオン72は搬送路の下方に配置されたサーボモータ70A,70Bの回転駆動軸にそれぞれ連結され、サーボモータ70A,70Bによりピニオン72はそれぞれ独立に駆動されるようになっている。各サーボモータ70A,70Bにはエンコーダ75がそれぞれ取り付けられ、モータ回転数を検出した信号がコントローラ80にそれぞれ送られるようになっている。なお、本実施形態ではモータ回転数を検出するエンコーダ75を採用しているが、本発明はこれのみに限定されることなく、他のエンコーダを用いてピニオン回転数を検出するようにしてもよい。
【0026】
当止めブロック77Bは、製膜室のメンテナンス扉側および台車回転室内の台車回転台にのみ取り付けられており、シリンダによる上下機構は持たず、製膜室の容器および台車回転台にボルトで固定されている。
【0027】
製膜室18はプラズマCVD製膜に必要な機器要素を2組ずつ備えるものであり、基板搬送路を両側から挟むように図示しない製膜ユニットとヒータユニットとが向き合って配置されている。
【0028】
ヒータユニットは面状のヒータエレメントとこれを覆うヒータカバーとを備えている。ヒータカバーはヒータエレメントの発熱面を保護するためのものであり、押し付け機構により支持されている。押し付け機構は、ヒータカバーを製膜ユニットに向けて移動させる機構である。
【0029】
製膜ユニットは、ガス供給機能付きラダー電極と、製膜ユニットカバーと、温調ヒータと、基板押え板と、排気通路とを備えている。ラダー電極には高周波電源およびガス供給源がそれぞれ接続されている。高周波電源は所定周波数の高周波を電極に印可し、電極と基板Gとの間にプラズマを生じさせるようになっている。ガス供給源には反応性ガスとして例えばシランを主成分とするプロセスガスが収容されている。
【0030】
製膜室18内の目標停止位置には第2の当て止めブロック77Bがレール8のベース面上にボルト及びナットで固定されている。ボルト穴は長穴に形成され、第2の当て止めブロック77Bの取り付け位置を微調整できるようになっている。搬送台車6は、台車回転室16から製膜室18内に進入し、第2の当て止めブロック77Bに突き当たって目標停止位置(すなわち基板受け渡し位置)に停止されるようになっている。
【0031】
コントローラ80は、本システム各部における搬送路の長さ、真空処理室内での当て止めブロック77A,77Bまでの距離、基板Gの処理レシピ、サーボモータ70A,70Bにおける所定の駆動トルクT1,T2、および回転速度V1,V2などを初期データとして備え、この初期データと各エンコーダ75から入力される検出信号とに基づいて各サーボモータ70A,70Bの駆動をそれぞれ制御するようになっている。さらに、コントローラ80は、同一ラインに直列に並ぶレール8に沿って設けられたピニオン駆動用モータ70A,70Bを同期駆動制御するようになっている。さらに、コントローラ80は、搬送台車6が当て止めブロック77Bに当接し続けているときの時間の長さをも制御するようになっている。
【0032】
図5に示すように、搬送台車6は、本体フレーム61、一対の支柱62、複数のローラ車輪63を備えている。本体フレーム61の一方側面にはラック64が形成され、これに上述のピニオン72が噛み合うようになっている。一対の支柱62は本体フレーム61の長手直交軸に対して約10°傾斜するように本体フレーム61の上に直立して設けられている。支柱62の相互間隔は基板Gの長辺より少し大きく、これら一対の支柱62の間に基板Gがもたせ掛けられるようになっている。支柱62は基板Gの重量に耐えられるように本体フレーム61に強固に締結されている。支柱62および本体フレーム61は例えばステンレス鋼のような高強度で強靭な金属材料でつくられている。複数のローラ車輪63は、断面T字状のレール8の各部に回転自由に転接し、台車の本体フレーム61に伝わる振動や衝撃を吸収するための緩衝機構に支持されている。
【0033】
次に、上記のクラスタ型真空処理システム1において搬送台車6によりガラス基板Gを搬送する場合について、図3及び図6を用いて説明する。
【0034】
搬送台車6は、大気搬送路上にて図示しないローラフレーム機構から基板Gを受け渡され、大気搬送路からロード室10内に入り、ロード室10内の目標停止位置にて停止する。なお、停止方法としては、サーボモータに予め停止位置を設定しておき、その設定位置データに基づいて停止させる方法をとる。
【0035】
コントローラ80は、台車回転室16からの搬入YESの信号を受けると、ゲート弁機構12、ピニオン駆動用サーボモータ70の各電源にそれぞれ信号を送り、ゲート弁を開け、ピニオン72を回転駆動させる。これにより搬送台車6はロード室10から台車回転室16内に入る。
【0036】
さらに、コントローラ80は、サーボモータに信号を送り、ピニオン72の駆動を定常速度/定常トルクから低速/低トルクに切り替え、搬送台車6を当て止めブロック77Aに突き当て、台車回転室内の目標停止位置に停止させる。この目標停止位置はターンテーブル17のほぼ中央である。次いで、搬送台車6は、ターンテーブル17により回転され、製膜室18に対して搬送方向を位置合せされ、製膜室18に入っていく準備が整う。
【0037】
台車回転室内での準備が整うと、コントローラ80は、ゲート弁機構12、サーボモータ70A,70Bの各電源にそれぞれ信号を送り、ゲート弁を開け、さらにピニオン72を回転駆動させる。これにより搬送台車6は台車回転室16から製膜室18内に入り、固定式の当て止めブロック77Bに突き当たり、製膜室内の目標停止位置に停止する。
【0038】
次に、搬送台車6が製膜室18内に進入し、さらに製膜室18から退出する場合について図6を参照しながら詳しく説明する。
【0039】
図6の(a)に示すように、コントローラ80は、タイミングt1にモータ70Bを定常トルクT1で起動し、所定時間経過後のタイミングt2にモータ70Bの駆動を低トルクT2に切り替えて、搬送台車6を低トルク走行させる。
【0040】
また、コントローラ80は、図6の(b)に示すように、タイミングt1にモータ70Bを定常速度V1で起動し、所定時間経過後のタイミングt2にモータ70Bの駆動を低速度V2に切り替え、搬送台車6を低速走行させる。
【0041】
搬送台車6は所定時間経過後のタイミングt3に当て止めブロック77Bに突き当たる。コントローラ80は、その後も所定時間(時間t3〜t6)が経過するまでの間はモータ70Bに引き続き給電し、ピニオン72を駆動させ続ける。しかし、搬送台車6は当て止めブロック77Bによってそれ以上前進することを阻まれているので、ピニオン72はラック64に噛み込んだままの状態で回転できない。
【0042】
なお、モータ70Bの駆動トルクを切り替えるタイミングt2は、搬送台車6がモータ回転速度V2(平均速度)で走行されたとした場合に、駆動切り替え時の台車の現在位置から当て止めブロック77Bまでの距離が100mmとなるように設定される。すなわち、コントローラ80は、台車回転室内の停止位置(当て止めブロック77Aの位置)から製膜室内の目標停止位置(当て止めブロック77Bの位置)までの距離、前半のモータ回転速度V1(平均速度)、後半のモータ回転速度V2(平均速度)、タイミングt1からt3までの時間、および当て止めブロック77Bに到着するまでの100mmの仮想距離を、所定の数式に代入することによりタイミングt2を算出し、そのタイミングt2にモータ70Bの駆動を低トルクT2/低速度V2に切り替える信号を送る。
【0043】
また、コントローラ80は、図6の(c)に示すように、台車6が当て止めブロック77Bに突き当たった後のタイミングt4に、製膜ユニット側の受け渡し機構と台車側の受け渡し機構とに信号を送る。押し付け機構によりヒータカバーを台車6上の基板Gに前進近接させ、保持爪による基板Gの拘束を解除し、台車の支持アーム62からヒータカバーの支持突起の上に基板Gを受け渡す。この基板Gの受け渡し時間t4〜t5の間において、台車6は低速・低トルクの状態で前進を続けるので、製膜室18内での台車6の停止位置は正確に当て止めブロック77Bの位置となる。このため、基板Gは台車側から製膜ユニット側へ再現性よく確実に受け渡される。
【0044】
製膜室18内で基板GにプラズマCVD製膜した後に、上記と逆の動作を行わせて基板Gを製膜ユニット側から台車側に受け渡す。このようにして基板Gの受け渡しはタイミングt5に完了する。
【0045】
さらに、コントローラ80は、製膜/基板受け渡し完了後のタイミングt6にゲート弁機構12およびモータ70Bにそれぞれ信号を送り、ゲート弁を開けるとともに、図6の(a),(b)に示すようにモータ70Bを定常トルク−T1/定常速度−V1で逆回転させ、台車6を製膜室18から台車回転室16に退出させる。
【0046】
上記実施形態では製膜室内での搬送台車の走行制御について説明したが、真空処理室が製膜室以外の台車回転室、ロード室、アンロード室、中間室についても本発明を適用することができる。
【0047】
【発明の効果】
以上詳述したように本発明によれば、基板受け渡し場所での台車停止位置に機械的なガタが発生した場合であっても適切に対処することができ、基板の受け渡し動作が安全かつ確実になり、他部材との衝突や落下により基板を損傷するおそれがなくなる。
【0048】
また、本発明によれば、台車の停止位置を目標停止位置(受け渡し位置)に対して高い位置精度が要求される場合であっても、同じ動作を繰り返し行った場合に同一の結果が得られる受け渡し再現性を保証することができる。
【0049】
さらに、本発明によれば、装置をメンテナンスするごとに搬送台車の目標停止位置を確認することが不要になり、その分だけメンテナンスに要する費用および時間が低減する。
【図面の簡単な説明】
【図1】搬送台車を備えた真空処理システムを示す透視平面図。
【図2】真空処理システムに設けられたゲート弁および台車搬送路を示す斜視図。
【図3】真空処理室内の台車と駆動機構を示す透視側断面図。
【図4】真空処理室内の台車と駆動機構を示す透視平面図。
【図5】台車の駆動機構およびレールを示す部分拡大断面図。
【図6】(a)はサーボモータの駆動トルク(台車推進力)制御を示すタイミングチャート、(b)はサーボモータの回転速度(台車走行速度)制御を示すタイミングチャート、(c)は基板の受け渡しを示すタイミングチャート。
【図7】従来の台車走行制御に用いられる装置の概要を示す図。
【符号の説明】
6…搬送台車、
8…レール、
10…ロード室、
12…ゲート弁機構、
16…台車回転室(共通搬送室)、
18…製膜室、
19…中間室(連通室)、
20…アンロード室、
61…本体フレーム、
62…支柱、
64…ラック、
70A,70B…サーボモータ、
72…ピニオン、
75…エンコーダ、
77A,77B…当て止めブロック、
78…昇降シリンダ機構、
80…コントローラ、
G…基板。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a vacuum chamber traveling control method for a transport carriage that transports a glass substrate in a vacuum processing chamber in which a CVD film is formed.
[0002]
[Prior art]
A conventional cart traveling control method will be described with reference to FIG. The vacuum processing system includes a
[0003]
The
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
However, since the vacuum processing chamber for performing processing such as plasma CVD, sputtering, and dry etching on the substrate is surrounded by the outer wall of the chamber, the operator cannot stop the conveyance carriage at the target position while visually checking the chamber. In the environment. For this reason, the conventional cart traveling control method has the following problems (1) to (3).
[0005]
(1) Even if the positioning is electrically completed in the control system between the controller / stepping motor / pinion, it is possible to respond appropriately when mechanical backlash occurs at the carriage stop position at the board delivery location. Since this is not possible, the delivery operation of the substrate becomes uncertain, and the substrate may be damaged due to collision or dropping with other members.
[0006]
(2) In order to guarantee the transfer reproducibility in which the same result can be obtained when the same operation is repeated, high positional accuracy is set such that the stop position of the carriage is within ± 1 mm with respect to the target stop position (transfer position). Required.
[0007]
(3) It is necessary to confirm the target stop position of the transport carriage every time the apparatus is maintained, and the time required for maintenance increases accordingly.
[0008]
The present invention has been made to solve the above-described problems, and provides a vacuum carriage traveling control method for a transport carriage capable of safely and reliably delivering a substrate in a special environment where visual confirmation is impossible. Objective.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
According to the present invention, there is provided a method for controlling the traveling of a transport carriage in a vacuum chamber, wherein a plurality of pinions arranged at predetermined intervals along a rail are engaged with a rack of the transport carriage to transmit driving force to the transport carriage. In a vacuum chamber traveling control method of a transport carriage for transporting a held substrate to a plurality of vacuum processing chambers,
(A) A stopper block is arranged at a place where the transport carriage cannot move forward from a target stop position where the substrate is transferred from the transport carriage to another member in the vacuum processing chamber,
(B) setting a distance with a margin to reduce the propulsive force of the transport carriage before the transport carriage hits the stopper block;
(C) detecting the rotational speed of the pinion or the rotational speed of the pinion drive source, and calculating the position of the transport carriage based on the detected rotational speed;
(D) When the distance from the calculated position to the target stop position is the same as or smaller than the distance set in the step (b), the driving torque of the pinion is decreased to promote the transport carriage Reduce power,
(E) The conveyance carriage is caused to abut against the stopper block with a propulsive force smaller than that during normal conveyance, and the pinion is continuously driven at a low torque for a predetermined time and conveyed in a state where it is abutted against the stopper block. It is characterized by continuing to move the cart forward.
[0010]
In this case, it is preferable that the set distance in the step (b) is 90 to 110 mm. Since the steady speed of the conveyance carriage is 200 to 500 mm / second, there will be a time margin of 0.2 to 0.5 seconds until the conveyance carriage hits the stopper block after traveling this set distance. During this time, the control operation for switching the drive of the pinion drive source (servo motor) from high torque to low torque is completed.
[0011]
Moreover, in the said process (e), it is preferable to set the virtual driving | running | working distance which a conveyance trolley will advance to 100-300 mm as a thing without a corresponding stop block applicable while the conveyance trolley is contacting the stop block. .
[0012]
Furthermore, in the step (d), it is preferable to reduce the rotation speed of the pinion drive source and decelerate the transport carriage. Since the transport cart is a heavy object having a total weight exceeding 10 kg when the substrates are loaded, the inertial force is large. For this reason, even when the propulsive force (drive torque) transmitted from the pinion to the carriage is reduced, a large impact is generated when the conveyance carriage collides with the stopper block, which is transmitted to the substrate as vibration. This is because it is necessary to reduce as much as possible.
[0013]
Further, the rotation angle of the servo motor drive shaft is feedback controlled by detecting the motor rotation speed with the attached encoder, the gear teeth of the pinions arranged on the same line are aligned, and the pinion and the rack are synchronously engaged. Since the motor is synchronously controlled in this way, the impact at the moment when the pinion meshes with the rack is reduced, and the vibration transmitted to the carriage is reduced. In particular, when a large substrate is transported, it is preferable to drive at high torque and low speed because the carriage receives an impact when the pinion / rack is engaged and vibration is transmitted to the substrate.
[0014]
The vacuum processing chamber may be a film forming chamber for forming a plasma CVD film on a substrate, may be a cart rotating chamber that changes the transport direction of the substrate by rotating the transport cart, or It may be a load chamber in which the transport carriage enters the vacuum side from the atmosphere side, or an unload chamber in which the transport carriage exits from the vacuum side to the atmosphere side.
[0015]
When the vacuum processing chamber is a film forming chamber, the predetermined time in the step (e) is set as a time until the delivery of the substrate from the transfer carriage to another member is completed, and the substrate in the step (e). After completing the delivery, the pinion is rotated in the reverse direction, and the transport carriage is withdrawn from the film forming chamber.
[0016]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, various preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
[0017]
As shown in FIG. 1, in the cluster type
[0018]
Among the vacuum processing chambers, the
[0019]
Among the vacuum processing chambers, the plurality of
[0020]
The floor of the
[0021]
As shown in FIG. 2, a pair of
[0022]
Each
[0023]
The
[0024]
As shown in FIGS. 3 and 4, a plurality of
[0025]
As shown in FIG. 3, each
[0026]
The
[0027]
The
[0028]
The heater unit includes a planar heater element and a heater cover that covers the heater element. The heater cover is for protecting the heat generating surface of the heater element, and is supported by a pressing mechanism. The pressing mechanism is a mechanism that moves the heater cover toward the film forming unit.
[0029]
The film forming unit includes a ladder electrode with a gas supply function, a film forming unit cover, a temperature control heater, a substrate pressing plate, and an exhaust passage. A high frequency power source and a gas supply source are connected to the ladder electrode. The high frequency power source applies a high frequency of a predetermined frequency to the electrode, and generates plasma between the electrode and the substrate G. For example, a process gas mainly containing silane is contained as a reactive gas in the gas supply source.
[0030]
A
[0031]
The
[0032]
As shown in FIG. 5, the
[0033]
Next, a case where the glass substrate G is transferred by the
[0034]
The
[0035]
When the
[0036]
Further, the
[0037]
When the preparation in the bogie rotation chamber is completed, the
[0038]
Next, the case where the
[0039]
As shown in FIG. 6A, the
[0040]
Further, as shown in FIG. 6B, the
[0041]
The
[0042]
Note that the timing t2 at which the driving torque of the
[0043]
Further, as shown in FIG. 6C, the
[0044]
After the plasma CVD film is formed on the substrate G in the
[0045]
Further, the
[0046]
In the above embodiment, the traveling control of the transport carriage in the film forming chamber has been described. However, the present invention can also be applied to a cart rotation chamber, a load chamber, an unload chamber, and an intermediate chamber other than the film forming chamber. it can.
[0047]
【The invention's effect】
As described above in detail, according to the present invention, even when mechanical backlash occurs at the carriage stop position at the board delivery location, it is possible to appropriately cope with the board delivery operation safely and reliably. Therefore, there is no possibility of damaging the substrate due to collision or dropping with other members.
[0048]
Further, according to the present invention, the same result can be obtained when the same operation is repeatedly performed even when a high position accuracy is required for the stop position of the carriage with respect to the target stop position (delivery position). Delivery reproducibility can be guaranteed.
[0049]
Furthermore, according to the present invention, it is not necessary to confirm the target stop position of the transport carriage every time the apparatus is maintained, and the cost and time required for maintenance are reduced accordingly.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a perspective plan view showing a vacuum processing system provided with a transport carriage.
FIG. 2 is a perspective view showing a gate valve and a carriage transport path provided in a vacuum processing system.
FIG. 3 is a perspective side sectional view showing a carriage and a drive mechanism in a vacuum processing chamber.
FIG. 4 is a perspective plan view showing a carriage and a drive mechanism in a vacuum processing chamber.
FIG. 5 is a partially enlarged sectional view showing a drive mechanism and rails of the carriage.
FIG. 6A is a timing chart showing servo motor driving torque (cart driving force) control, FIG. 6B is a timing chart showing servo motor rotation speed (cart driving speed) control, and FIG. The timing chart which shows delivery.
FIG. 7 is a diagram showing an outline of an apparatus used for conventional cart traveling control.
[Explanation of symbols]
6 ... transport cart,
8 ... Rail,
10 ... Road room,
12 ... Gate valve mechanism,
16 ... bogie rotation room (common transfer room),
18 ... film formation room,
19 ... Intermediate room (communication room),
20 ... unloading room,
61 ... body frame,
62 ... posts,
64 ... rack,
70A, 70B ... Servo motor,
72 ... pinion,
75: Encoder,
77A, 77B ... stopper block,
78 ... Elevating cylinder mechanism,
80 ... Controller,
G: Substrate.
Claims (10)
(a)真空処理室内で搬送台車から他の部材に基板が受け渡される目標停止位置から搬送台車が先に進めないところに当て止めブロックを配置し、
(b)搬送台車が前記当て止めブロックに突き当たるまでに該搬送台車の推進力を低下させるのに余裕をもたせた距離を設定し、
(c)前記ピニオンの回転数又はピニオン駆動源の回転数を検出し、この検出回転数に基づいて搬送台車の位置を算出し、
(d)前記算出位置から前記目標停止位置までの距離が前記工程(b)で設定した距離と同じか又はそれよりも小さくなったときに、前記ピニオンの駆動トルクを減少させて搬送台車の推進力を低下させ、
(e)通常搬送時よりも小さい推進力で搬送台車を前記当て止めブロックに突き当たらせ、所定の時間だけ前記ピニオンを低トルクで駆動させ続けて、前記当て止めブロックに突き当てた状態で搬送台車を前進させ続けながら、搬送台車から他の部材に基板を受け渡す搬送台車の真空室内走行制御方法。Transporting a plurality of pinions arranged at predetermined intervals along the rails into a rack of a transport carriage to transmit driving force and transporting a substrate held on the transport carriage to a plurality of vacuum processing chambers In the traveling control method of the dolly in the vacuum chamber,
(A) A stopper block is arranged at a place where the transport carriage cannot move forward from a target stop position where the substrate is transferred from the transport carriage to another member in the vacuum processing chamber,
(B) setting a distance with a margin to reduce the propulsive force of the transport carriage before the transport carriage hits the stopper block;
(C) detecting the rotational speed of the pinion or the rotational speed of the pinion drive source, and calculating the position of the transport carriage based on the detected rotational speed;
(D) When the distance from the calculated position to the target stop position is equal to or smaller than the distance set in the step (b), the driving torque of the pinion is decreased and the conveyance cart is promoted. Reduce power,
(E) The conveyance carriage is made to abut against the stopper block with a propulsive force smaller than that during normal conveyance, and the pinion is continuously driven at a low torque for a predetermined time and conveyed in the state where it is abutted against the stopper block. A method for controlling the traveling of a transfer carriage in a vacuum chamber that delivers a substrate from the transfer carriage to another member while continuing to advance the carriage.
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