JP3978490B2 - シリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体 - Google Patents
シリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3978490B2 JP3978490B2 JP2002228151A JP2002228151A JP3978490B2 JP 3978490 B2 JP3978490 B2 JP 3978490B2 JP 2002228151 A JP2002228151 A JP 2002228151A JP 2002228151 A JP2002228151 A JP 2002228151A JP 3978490 B2 JP3978490 B2 JP 3978490B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silicon germanium
- nanowires
- nanowire
- silicon
- powder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000002070 nanowire Substances 0.000 title claims description 59
- 229910000577 Silicon-germanium Inorganic materials 0.000 title claims description 42
- LEVVHYCKPQWKOP-UHFFFAOYSA-N [Si].[Ge] Chemical compound [Si].[Ge] LEVVHYCKPQWKOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 42
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 description 16
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 10
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 10
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 6
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- 238000004857 zone melting Methods 0.000 description 6
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 239000011863 silicon-based powder Substances 0.000 description 4
- 229910008310 Si—Ge Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 238000010587 phase diagram Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 2
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003917 TEM image Methods 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 229910002056 binary alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000002003 electron diffraction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 1
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 description 1
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 1
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Silicon Compounds (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
この出願の発明は、シリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体に関するものである。さらに詳しくは、この出願の発明は、半導体等の情報通信用デバイス材料やその他電子・電気材料等として有用で、多様な組成および形態が実現できる新しいシリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体に関するものである。
【0002】
【従来の技術とその課題】
近年、シリコン等のナノワイヤーは微小半導体として注目を集めており、たとえば量子細線等として、従来のリソグラフィー技術による加工限界を超えた、次世代の高密度集積回路素子材料としての利用が期待されている。
【0003】
このようなナノワイヤーについて、その製造方法としては、気相蒸発法、レーザー法等の各種の方法が提案されており、この出願の発明者らもまた、浮遊帯域溶融法(FZ法)
によりシリコンナノワイヤーを大量に製造することができる方法をすでに提案(特願2001−333257)している。
【0004】
しかしながら、ナノワイヤーを細線材料としてのみならず、様々な機能を有する材料として利用するためには、組成や形態を制御して、簡便かつ大量にナノワイヤーを製造することが望まれる。
【0005】
そこで、この出願の発明は、以上の通りの事情に鑑みてなされたものであり、半導体等の情報通信用デバイス材料やその他電子・電気材料等として有用で、多様な組成および形態が、簡便に、大量にも実現可能とされる新しいシリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体を提供することを課題としている。
【0006】
【課題を解決するための手段】
そこで、この出願の発明は、上記課題を解決するものとして、以下の通りの発明を提供する。
【0007】
すなわち、まず第1には、この出願の発明は、組成が、一般式SixGe1-x(式中、0<x<1)で表されるナノワイヤーが複数集合しているシリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体において、シリコンゲルマニウム球状部から、シリコンゲルマニウムナノワイヤーが複数本成長されていることを特徴とするシリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体を提供する。
【0010】
【発明の実施の形態】
この出願の発明は、上記の通りの特徴を持つものであるが、以下にその実施の形態について詳しく説明する。
【0011】
この出願の発明が提供するシリコンゲルマニウムナノワイヤーは、組成が、一般式SixGe1-xで表される各種のものであって、式中のSi量を示すxの値は0〜1の範囲で所望のものとして実現することができる。このシリコンゲルマニウムナノワイヤーは、単一では、代表的に、直径が数十〜数百nmで、長さが数10μm以上の寸法のナノワイヤーである。
【0012】
実際的には、このシリコンゲルマニウムナノワイヤーは、その複数集合したシリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体として製造可能とされる。このシリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体は、その形態が特徴的であって、たとえば、図4に示したように、単一のシリコンゲルマニウムナノワイヤーがランダムに集合した形態のものや、図1に示したように、房状あるいは束状に集合したもの、放射状に集合したものなど、様々な形態のものとして実現される。より詳細に観察すると、これらのシリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体は、代表的には、略球状のシリコンゲルマニウム球状部から、シリコンゲルマニウムナノワイヤーが複数本成長している形態のものとして例示することができる。シリコン
ゲルマニウムナノワイヤーの数、成長点、成長方向等により、上記のような様々な形態を実現していると考えられる。
【0013】
このような特殊な形態を有するシリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体は、この出願の発明によって全く初めて提供されるものである。そして、このシリコンゲルマニウムナノワイヤーは、クロス組み立て等による微小半導体材料として利用できるのはもちろんのこと、様々な形態、構造、および組成の異なるナノワイヤーとして実現されるため、機械的な特性を要求されるナノマシン用素材や、発光素子、光検出器、触媒等としても利用することができる。
【0014】
以上のようなこの出願の発明のシリコンゲルマニウムナノワイヤーは、たとえば以下のシリコンゲルマニウムナノワイヤーの製造方法により製造することができる。すなわち、この出願の発明のシリコンゲルマニウムナノワイヤーの製造方法は、原料としての粒径が50μm以下のシリコン粉末およびゲルマニウム粉末をロッド状に成形した後、不活性ガス気流中で溶融させることにより、その成形体より直径がナノメートルオーダーのナノワイヤーを成長させることを特徴とし
ている。
【0015】
原料としては、シリコン粉末およびゲルマニウム粉末あるいはこれらの合金の粉末を用いることができる。原料粉末におけるシリコンおよびゲルマニウムの配合は、所望のシリコンゲルマニウムナノワイヤーの組成に応じ、たとえばSi−Ge状態図等を参考にして、決定することができる。シリコンよりも低融点で、かつシリコンと全率固溶となるゲルマニウムは、この発明におけるナノワイヤーの形成において触媒的な作用をするものと考えられ、このシリコンとゲルマニウムの組み合わせはこの出願の発明の方法において欠かせないものであるといえる。とりわけシリコン粉末とゲルマニウム粉末を混合して用いる場合には、たとえば図1に示したような特異な形態のシリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体を好適に得ることができる。この理由は明らかではないものの、粉末状のゲルマニウムが何らかの触媒作用を示すためであると考えられる。
【0016】
そして、この出願の発明の方法において原料粉末の大きさは重要であって、上記の原料粉末は粒径50μm以下のものとすることが好ましい。原料粉末を50μm以下とすることにより、表面積を多くすることができ、この粉末表面に形成される僅かな酸化物層がシリコンゲルマニウムナノワイヤーの成長において生成助長効果を発揮するものと考えられる。なお、これらの原料は、微量の酸素、目安としては、1重量%以下の酸素を含むものであることが好ましい。
【0017】
このような原料粉末をロッド状に成形した後、不活性ガス雰囲気下で溶融するようにする。この成形は、原料粉末の溶融およびナノワイヤーの成長を好適に行なうためのものであって、たとえば形が崩れない程度に成形し、軽く焼結するなどしてもよい。溶融については、アルゴンガス等の不活性ガス、あるいは水素ガスをキャリアガスとして用い、900〜1000℃の一定の範囲に保つようにする。これによって、成形体の表面から、シリコンゲルマニウムナノワイヤーを成長させることができる。
【0018】
なお、この溶融は、特別の処理および特殊な装置が必要ないことから、帯域溶融法により行なうことが簡便で、かつシリコンゲルマニウムナノワイヤーの大量生産に好適な手段として例示される。帯域溶融法による場合は、具体的には、たとえば、一般的な帯域溶融装置の試料ホルダーに原料粉末の成形体をセットし、装置内部を真空排気した後、Arガスを流量10〜30cm3/min程度、圧力20〜400Torr程度で装置内部を下
方から上方に流し、キセノンランプを試料上部に照射して900〜1000℃で溶融させるとともに、溶融部を20〜40mm/hの移動速度で下方に移動させて全体を溶融させ
ることなどが例示
される。
【0019】
以上のこの出願の発明の方法によって、大量かつ容易にシリコンゲルマニウムナノワイヤーを製造することができる。この出願の発明の方法は、シリコンゲルマニウムナノワイヤーを提供するものだけでなく、リソグラフィーに変わる新しい高集積半導体作成技術を提供するものとして期待することができる。
【0020】
以下、添付した図面に沿って実施例を示し、この発明の実施の形態についてさらに詳しく説明する。
【0021】
【実施例】
(実施例)
純度99.999%のシリコン粉末と純度99.999%のゲルマニウム粉末を、重量で4:1の割合で混合し、300メッシュ(粒径約50μm)程度になるように乳鉢で細かく粉砕した。この混合粉末を、直径8mm、長さ100mmのロッド状に成形し、10-6Torrの真空において、800℃、2時間で形が崩れない程度に仮焼結を行なった。このロッドを試料として、大気圧下、Arガス流量10cm3/minの条件下で、浮遊帯溶融法により溶解した。このとき、Arガスは、略垂直に設置されているロッド体の下から上に向かって流すようにした。
【0022】
すると、ロッド表面において、溶融部より約1.5〜2cm上方の、温度960〜1000℃の領域に、図1(a)〜(d)に示したような様々な形態のナノワイヤー集合体が成長しているのが確認された。このナノワイヤー集合体は、いずれも球状部から多数のナノワイヤーが伸びて構成されており、あたかも頭頂部から触手等が伸びている生物のような特殊な形状を有しているのが観察された。
【0023】
このナノワイヤー集合体を透過型電子顕微鏡(TEM)で観察した結果を図2に示した。ナノワイヤー部の直径は、数十〜数百nmにわたることがわかった。
【0024】
また、このナノワイヤー集合体の各部の組成を調べたところ、球状部のSi:Geは48:52と、シリコンおよびゲルマニウムの粉末混合比(80:20)に比べて大幅にGe側に傾いた組成となっていることがわかった。一方、ナノワイヤー部については、Si:Geが82:18とシリコン側に組成がずれているのがわかった。
【0025】
図3に示したSi−Geの状態図から予測されるように、このナノワイヤー集合体は、まずGeリッチの液滴が試料(ロッド)表面に生じ、そこからSiリッチのナノワイヤーが成長したものと考えられる。したがって、たとえば液相のSi−Ge組成が一定になるようにすれば、所望の組成のシリコンゲルマニウムナノワイヤーを製造することができるといえる。
(参考例)
あらかじめアーク溶解によりSi:Ge=80:20(重量)の組成の合金を作製し、300メッシュにまで粉体化した。これを、実施例1と同様に浮遊帯溶融法により溶解したところ、合金表面にシリコンゲルマニウムナノワイヤーが生成したのが確認された。得られたシリコンゲルマニウムナノワイヤーの走査型電子顕微鏡像を図4に示した。このシリコンゲルマニウムナノワイヤーは、実施例1で得られたような特殊な形状の集合体ではなかったが、組成比がSi:Ge=80:20で、全体を通して均一であることが確認された。
【0026】
もちろん、この発明は以上の例に限定されるものではなく、細部については様々な態様
が可能であることは言うまでもない。
【0027】
【発明の効果】
以上詳しく説明した通り、この発明によって、半導体等の情報通信用デバイス材料等として有用で、多様な組成および形態が簡便に実現できる新しいシリコンゲルマニウムナノワイヤーとその製造方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図1】 実施例において製造したシリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体のSEM像を例示した図である。
【図2】 実施例において製造したシリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体のTEM像と(111)電子回折像を例示した図である。
【図3】 シリコン−ゲルマニウム2元系状態図である。
【図4】 参考例において製造したシリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体のSEM像を例示した図である。
Claims (1)
- 組成が、一般式SixGe1-x(式中、0<x<1)で表されるナノワイヤーが複数集合しているナノワイヤー集合体において、シリコンゲルマニウム球状部から、シリコンゲルマニウムナノワイヤーが複数本成長されていることを特徴とするシリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002228151A JP3978490B2 (ja) | 2002-08-06 | 2002-08-06 | シリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002228151A JP3978490B2 (ja) | 2002-08-06 | 2002-08-06 | シリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007051042A Division JP4840777B2 (ja) | 2007-03-01 | 2007-03-01 | シリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004067433A JP2004067433A (ja) | 2004-03-04 |
| JP3978490B2 true JP3978490B2 (ja) | 2007-09-19 |
Family
ID=32014912
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002228151A Expired - Lifetime JP3978490B2 (ja) | 2002-08-06 | 2002-08-06 | シリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3978490B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006031240A1 (en) * | 2004-09-14 | 2006-03-23 | Arizona Board Of Regents | Hydride compounds with silicon and germanium core atoms and method of synthesizing same |
| JP2007319988A (ja) * | 2006-06-01 | 2007-12-13 | National Institute For Materials Science | Iv族半導体ナノ細線の製造方法並びに構造制御方法 |
| JP4167718B2 (ja) * | 2006-12-13 | 2008-10-22 | 松下電器産業株式会社 | ナノワイヤ及びナノワイヤを備える装置並びにそれらの製造方法 |
| JP4840777B2 (ja) * | 2007-03-01 | 2011-12-21 | 独立行政法人物質・材料研究機構 | シリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体の製造方法 |
-
2002
- 2002-08-06 JP JP2002228151A patent/JP3978490B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2004067433A (ja) | 2004-03-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR102093441B1 (ko) | 그래핀의 제조 방법 | |
| US8709602B2 (en) | One-dimensional metal nanostructures | |
| JP2006225258A (ja) | シリコンナノワイヤおよびその製造方法 | |
| JP4547519B2 (ja) | シリコンナノワイヤーの製造方法 | |
| US20100065810A1 (en) | Method Of Synthesizing Semiconductor Nanostructures And Nanostructures Synthesized By The Method | |
| US20040144970A1 (en) | Nanowires | |
| Han et al. | Controlled growth of gallium nitride single-crystal nanowires using a chemical vapor deposition method | |
| JP2003246700A (ja) | シリコンナノニードルの製法 | |
| KR20100016725A (ko) | 실리콘 풍부산화물을 포함하는 나노와이어 및 그의제조방법 | |
| JP5539643B2 (ja) | Pb合金及びコア/シェルナノワイヤの合成 | |
| KR20100007255A (ko) | 실리콘 나노닷 함유 실리카 나노 와이어 및 그의 제조방법 | |
| JP3978490B2 (ja) | シリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体 | |
| US20030039602A1 (en) | Low temperature synthesis of semiconductor fibers | |
| US7655497B1 (en) | Growth method for chalcongenide phase-change nanostructures | |
| JP4840777B2 (ja) | シリコンゲルマニウムナノワイヤー集合体の製造方法 | |
| JP4016105B2 (ja) | シリコンナノワイヤーの製造法 | |
| JP3571287B2 (ja) | 酸化珪素のナノワイヤの製造方法 | |
| KR101348728B1 (ko) | 나노와이어 내부에 귀금속을 불연속적으로 포함하는 산화갈륨 나노와이어의 제조방법 및 이에 의해 제조되는 산화갈륨 나노와이어 | |
| JP3841592B2 (ja) | シリコン結晶ナノ球体チェーンの製法 | |
| JP2008311396A (ja) | 薄壁のグラフィチック・カーボンナノチューブで被覆されたヘテロ接合含有窒化マグネシウム・ナノワイヤ及びガリウム・ナノワイヤ | |
| Bermeo et al. | Branched-gallium phosphide nanowires seeded by palladium nanoparticles | |
| JP5196363B2 (ja) | 錫ナノワイヤで充填された円筒状内部通路を有するリボン様β−Ga2O3チューブ | |
| Wang et al. | Cu/SiO 2− x nanowires with compositional modulation structure grown via thermal evaporation | |
| CN119506826B (zh) | 一种Bi/Bi2Se3/Se核壳结构纳米线及其制备方法 | |
| JP4894180B2 (ja) | シリカ膜で被覆されたGaとZnSとの接合を有するナノワイヤー及びその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20030303 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050826 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060905 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061106 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070116 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070319 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070529 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 3978490 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |