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JP3979484B2 - Dicing machine - Google Patents
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Dicing (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ダイシング装置に係り、特にウェーハ表面を顕微鏡カメラ等で撮像してウェーハ表面の画像を表示するとともにウェーハ表面のパターンを観察するダイシング装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来から積載テーブルに搭載されたワークを顕微鏡カメラ等で拡大して撮像して、加工基準の設定や加工結果を観察するウェーハ表面観察装置が知られている。従来のウェーハ表面観察装置で拡大表示されるウェーハ上の表示範囲はウェーハ上のごく一部の領域に限定されるため、観察位置を変更する際には利用者が軸駆動ボタン又はジョイスティックを操作してそれぞれの軸を駆動してカメラとウェーハとの相対位置を移動させて、目的の位置までカメラの撮像範囲を移動していた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の軸駆動ボタン又はジョイスティックを入力手段として用いてウェーハ表面の観察位置を移動するウェーハ表面観察装置では、入力手段が速度ベクトルを入力する手段であるために、ウェーハ表面上に形成された微細なパターンに対して観察位置を迅速に位置決めすることが難しいという不具合を生じていた。
【0004】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、顕微鏡カメラをワンタッチで希望の観察位置に迅速かつ容易に移動させることが可能なウェーハ観察位置指定装置及びウェーハ表示位置指定方法を提供することを目的としている。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明は前記目的を達成するために、ウェーハの表面を撮像する撮像手段と、前記撮像手段が撮像した画像を表示する表示手段と、前記表示手段が表示している任意の位置を表示上の位置で指定して位置情報を入力するポインティングデバイスを用いた入力手段と、前記撮像手段が撮像した画像に基づいてウェーハ表面に形成されている直線状のストリートパターン形状の基準情報を検出する形状検出手段と、前記形状検出手段によって検出されたストリートパターン形状の基準情報、及び前記ウェーハ表面に形成されているストリートパターン形状の1乃至複数の基準位置とを記憶する記憶手段と、前記入力された位置情報を、前記基準情報に基づいて、前記形状検出手段によって検出されたストリートパターン形状のうち入力された位置情報に最も近い位置、又は前記ウェーハ表面に形成されているストリートパターン形状の1乃至複数の基準位置のうち入力された位置情報に最も近い位置に変換する変換手段と、前記変換された位置に表示位置を移動させる移動手段とを備え、前記入力手段で指定された位置の最も近傍にあるストリートパターン形状を前記撮像手段で撮像される画像の中心位置へ合わせた後、前記ウェーハ端部を前記撮像手段により撮像される位置まで前記ウェーハを加工時における軸移動方向に移動させ、該移動後の位置において、前記画像の中心位置に合わせられた前記入力手段で指定された位置の最も近傍にあるストリートパターン形状の端部位置を決定し、前記中心位置と前記端部位置より算出した回転角度に基づいて回転移動することにより、前記ウェーハ表面に形成されているストリートパターン形状と加工時における移動方向とを手動操作により平行に調整するマニュアルアライメントを行うことを特徴としている。
【0006】
本発明によれば、ウェーハの表面を撮像する撮像手段と、前記撮像手段が撮像した画像を表示する表示手段と、前記表示手段が表示している任意の位置を表示上の位置で指定して位置情報を入力する入力手段と、前記入力された位置情報をウェーハ表面の位置情報に変換する変換手段と、前記変換されたウェーハ表面の位置情報に基づいて表示位置を移動させる移動手段とを備え、前記表示手段は前記移動後の表示位置の画像を表示するようにしたので、ワンタッチで希望の表示位置に迅速に移動させることが可能となる。
【0007】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面にしたがって本発明に係るダイシング装置の好ましい実施の形態について詳説する。
【0008】
図1は、本発明に係わるダイシング装置の斜視図であり、図2は、その平面図である。
【0009】
このダイシング装置は、ウェーハ(ワーク)Wの表面を観察するとともにウェーハWを直交する方向に切断して最終的に碁盤の目のように切断する切断部10と、切断されたウェーハWを洗浄する洗浄部20と、加工前及び加工後のウェーハWを収納するカセット部30と、加工前のウェーハWをカセット部30の所望の位置から引き出してステージ上にプリアライメントするとともに、ステージ上にセットされた加工後のウェーハWをカセット部30の所望の位置に収納するエレベータ部40と、上記各工程を経由してウェーハを搬送する搬送装置50とから構成されている。
【0010】
上記搬送装置50によるウェーハWの搬送位置としては、図2に示すように4つの位置P1、P2、P3、P4があり、これらの位置P1から位置P4は正方形の各頂点に位置する関係で配置されている。尚、位置P1はウェーハWをプリロードする位置であり、位置P2は切断部10にウェーハWを搬送するカッティングテーブルにウェーハWをロード及びアンロードする位置であり、位置P3は洗浄部20のスピナテーブルにウェーハWをロード及びアンロードする位置であり、位置P4は加工前のウェーハWをローディングするとともに、加工後(洗浄後)のウェーハWをアンローディングする位置である。
【0011】
切断部10はブレード14A、14Bを備えた2つのスピンドル16A、16Bと、ウェーハW上のパターンをカメラで撮像して画像認識することによってファインアライメントする撮像手段18、19と、撮像した画像や各種情報を表示するとともにタッチパネルに代表される入力手段11を備えた表示手段12とから構成されている。この切断部10のスピンドル16A、16B及び撮像手段18、19は図2の矢印A、B方向(Y軸方向)に移動可能である。また、ウェーハWを搭載したカッティングテーブルは矢印C、D方向(X軸方向)に移動可能であるとともに回転可能(θ方向)であるので、ウェーハWの表面を撮像して画像処理を行って、切断のためのファインアライメントを実施することが可能となる。
【0012】
このようにしてファインアライメントされたウェーハWは、カッティングテーブルの移動に伴い、スピンドル16A、16Bによって回転するブレード14A、14Bにより切断される。そして、上記切断を順次実行することによりウェーハWは碁盤の目のように切断される。
【0013】
洗浄部20は上記切断されたウェーハWを洗浄するもので、先ず、ウェーハWを搭載したスピナテーブルを降下させ、ここでスピナと清浄水により洗浄を行い、洗浄後エアブローによって乾燥させ、再びスピナテーブルを上昇させる。
【0014】
また、搬送装置50はY軸方向に案内されるレールに移動自在に取り付けられたスライドアームと、スライドアームの先端部に旋回自在に取り付けられた旋回アームと、旋回アームの端部に取り付けられた複数のチャック部とから構成される。このスライドアームは、モータによってレールに沿って前後方向に移動し、その先端部の位置が位置P2と位置P3の間を移動する。旋回アームはモータによってその端部を中心として旋回し、スライドアームの位置に応じて旋回アームの端部がP1、P2、P3及びP4の位置に移動する。上記チャック部は、それぞれ旋回アームの端部に回動自在に設けられ、径方向及び上下方向に移動する4つの爪によってウェーハWを挟持する。
【0015】
図3にダイシング装置の情報処理部のブロック図を示す。
【0016】
同図によればダイシング装置の情報処理部には、利用者がダイシング装置に対して起動、停止、観察位置の移動等の指令を入力する入力手段11と、ダイシング装置が利用者に対して処理モード、処理状況及びウェーハ表面を撮像した画像の表示を行う表示手段12と、撮像手段18、19とが備えられている。
【0017】
また、ダイシング装置の情報処理部には、ウェーハWを搭載したカッティングテーブルをX軸方向に駆動する駆動手段X100と、切断部10のスピンドル16A、16B及び撮像手段18、19をY軸方向に移動する駆動手段Y102と、切断部10のスピンドル16A、16B及び撮像手段18、19をZ軸方向に移動する駆動手段Z104と、ウェーハWを搭載したカッティングテーブルをθ方向に回転駆動を行う駆動手段θ106等の各駆動手段と、前記各駆動手段に駆動指令を出力するとともに必要に応じて駆動位置、駆動速度及びエラー情報を監視する制御手段110と、前記入力手段11、前記表示手段12、撮像手段18、19及び前記制御手段110に対して情報の送受信を行うとともにダイシング装置全体の制御を行う情報処理手段112とが備えられている。
【0018】
なお、前記情報処理手段112は、表示手段12が表示しているウェーハ表面の画像に対して利用者が移動を希望する位置を入力した画面上の位置情報を受信し、前記入力された位置情報をウェーハ表面の位置情報に変換する変換手段の機能と、変換されたウェーハ表面の位置情報に基づいて表示位置を移動させる移動手段の機能と、ウェーハのパターン形状の基準位置に表示位置を移動させる移動手段の機能とを備えている。また、情報処理手段112は、ウェーハ表面に形成されているストリートパターン形状の基準情報を検出する形状検出手段の機能、該基準情報等を記憶するハードディスク又は不揮発性のメモリ等の記憶手段を備えている。
【0019】
また情報処理手段112は、表示手段12が表示しているウェーハ表面の画像に対して利用者が移動を希望する位置を入力した画面上の位置情報を受信して該入力された位置情報に最も近い位置に存在する表示上のストリートパターン形状の位置又は基準位置を算出する位置算出手段の機能、前記算出された表示上のストリート位置の情報を前記記憶手段が記憶しているストリート形状の基準情報に基づいてウェーハ表面の位置情報に変換する変換手段の機能をも備えている。
【0020】
図4にダイシング装置による標準的なウェーハWのアライメントモデルの登録工程のフローチャートを示す。
【0021】
ダイシング装置によるウェーハWの切断工程の中でウェーハWのアライメントモデルの登録が必要になった場合には、情報処理手段112の処理プログラムは同図に示すアライメントモデル登録の処理ルーチンのステップS100「アライメントモデルの登録」(以降S100のように省略して記載する)が呼び出される。そして次のS102「ワークロード」の処理に進む。
【0022】
S102では、カセット部30に複数枚収納されている加工前のウェーハWをエレベータ部40が順次引き出して、そのウェーハWを図2に示す位置P4にセットする。そしてこのウェーハWは、搬送装置50によって位置P1のプリロードステージを介して図示しないワークテーブル(位置P2)上に載置されて、吸着保持される。
【0023】
ここでワークテーブルに搬送されて吸着保持されたウェーハW表面のパターンは、ワークテーブルの中心に自動的に移動してきた撮像手段18又は19によって撮像されて表示手段12に表示されるとともに、情報処理手段112によって画像認識される。そして次のS104「マニュアルθアライメント」の処理に進む。
【0024】
S104では、ワークのストリートがX軸と平行となるようにθ軸をアライメントする。このとき、θ軸の回転入力の指示は以下の手順で行う。
【0025】
CH1側(X軸と平行な軸を示す第1のチャンネル)ワーク中心付近のストリートエッジなどに撮像手段18又は19の中心を合わせ、情報処理手段112の内部メモリに登録(センタ位置確定)する。本発明によれば、このワーク中心付近のストリートエッジなどに撮像手段18又は19の中心を合わせる表示位置の指定方法(「合わせ」の方法)は、以下に説明するように利用者が表示手段12上の位置を指で触れて指定するだけでよい。
【0026】
図5に表示手段12に表示されている初期表示の表示内容を、図6にダイレクトタッチモード時に表示される表示内容を示す。
【0027】
図5によれば、表示手段12には、ダイシング装置の運転の起動を入力するスタートボタン120と、運転の停止を入力するストップボタン122と、撮像手段18、19のピントの調整を行うフォーカス調整ボタン124と、撮像時の照明輝度を調整する照明調整ボタン126と、撮像位置を移動する場合に移動ベクトルを入力するXYキー128と、表示されているウェーハWの所望の位置(表示上の位置)を指で押して指定して合わせるモードに切り換えることを指示するダイレクトタッチ移動ボタン130とが設けられている。
【0028】
図6は、図5の状態でダイレクトタッチ移動ボタンを押した場合に遷移する表示を示している。同図によれば表示手段12には、ダイレクトタッチ移動モードから抜けることを指示入力するキャンセルボタン132と、ウェーハWの全体形状を示すウェーハマップ表示134とが新たに表示されている。なお、ウェーハマップ表示134を行う代わりに撮像して得た拡大映像を表示するようにしてもよい。
【0029】
図7に画面タッチによる表示位置の指定方法が記載されたフローチャートを示す。
【0030】
ダイシング装置がダイレクトタッチモードに設定されると、ダイシング装置の処理プログラムは動図に示す処理ルーチンが呼び出されて、ステップS200「画面タッチにより処理開始」に分岐してくる。
【0031】
利用者が移動する所望の位置を指で触れると、処理プログラムは次のS202「タッチ座標(ピクセルサイズ)の取得(X座標/Y座標)」のステップに進む。S202では、入力されたタッチパネル(入力手段11)の画面上の位置情報(画面上の画素又はタッチパネルの分解能に基づく座標値等の位置情報)を、入力手段11の通信手段を介して情報処理手段112に伝達し、情報処理手段112はタッチ座標を取得する。
【0032】
次のS204「タッチ座標をダイサ装置の座標(パルス座標)に変換」では、ダイシング装置の情報処理手段112は受信した位置情報を、表示しているウェーハW表面の位置情報(実際の長さの単位又は、駆動手段が駆動するのに用いている駆動単位パルス数等)に変換する処理を行う。ここでは表示上の位置情報をウェーハのサイズ(5インチ、8インチ等の大きさや形状)に応じて自動で変換処理を行うので、利用者はウェーハのサイズを意識せずに同じ操作方法で所望の位置を入力すればよい。
【0033】
次のS206「ダイサ装置の現在のパルス座標と上記で変換したパルス座標の相対量(移動量)を算出」では情報処理手段112は、変換したウェーハW表面の位置情報を、例えばX軸、Y軸の現在の映像位置に対する相対駆動量(各軸の長さ情報又は駆動パルス数)に変換する。
【0034】
次のS208「上記で算出したX軸モータの移動量とY軸モータの移動量を各軸ドライバに出力する。」では、情報処理手段112は上記算出した駆動量に関する情報を制御手段110に出力する処理を行う。
【0035】
次のS210「軸移動開始&停止」では、制御手段110は受信した駆動量の情報に基づいて加速条件、減速条件や駆動速度条件を設定して、各軸を同期して駆動する。制御手段110は、各軸の駆動状態を刻々監視するとともに各軸の駆動速度を制御する。情報処理手段112によって指定された位置までの駆動が完了すると、制御手段110は情報処理手段112に対して駆動が完了したことを示す応答を返信する。
【0036】
前記利用者により入力された画面上の位置情報は、入力に指を用いている事などの理由により一般には正確なストリート位置の情報(所定のパターン形状の位置)とは異なっている。ダイシング装置ではその用途上、ウェーハW表面の位置を指定した際にはストリート位置を指定する場合がほとんどであるので、本発明では曖昧な位置を指定した場合でも画像処理により求めた近傍に存在するストリート位置等の基準位置に表示位置を移動するように構成されている。
【0037】
利用者により入力された画面上の位置情報は、情報処理手段112の形状検出機能によって検出されたストリート形状に最も近い位置又は、記憶手段に記憶されているウェーハ表面に形成されているパターン形状の1乃至複数の基準位置に最も近い位置に変換されて、その位置へ駆動する指令を制御手段110に対して出力する。すると利用者によって入力された位置に最も近いストリートが存在する位置へ表示位置が駆動される。
【0038】
指定された位置への駆動が完了すると、情報処理手段のプログラムはS212「移動後のX座標、Y座標位置を画面に反映 カメラ映像画面:カメラ中心に+字を再表示 ウェハマップ表示画面:カメラアイコンを再表示」に進み、各駆動手段の駆動が完了すると表示手段12は指定された表示位置のウェーハ表面を表示する。ウェーハマップ表示134を再表示する場合には、撮像位置を示すカメラアイコンも再表示する。また、撮像した拡大映像を表示する場合には、撮像手段の撮像中心位置に+マークを表示する。なお、撮像した映像の撮像範囲が広く、且つ高分解能である場合には、前記各駆動手段で表示位置を移動するための駆動を実施する代わりに、撮像した映像データのみを用いて表示位置を移動してもよい。
【0039】
前記指定された位置への駆動と再表示が完了すると、処理プログラムはS214「処理終了」に進み、元の処理ルーチンに戻る。
【0040】
上記のようにしてワーク中心付近のストリートエッジなどに、撮像手段18又は19の中心の駆動又は表示を移動するダイレクトタッチによる「合わせ」の処理が完了すると、自動的にX軸がワークの左(または右)端位置に移動する。次にセンタ位置で指定した位置と同じストリートのエッジにダイレクトタッチにて合わせ、左(右)位置を決定する。するとセンタ位置と左(右)位置の座標からθ軸の回転角度が算出され、その角度に基づいてθ軸が回転移動する。
【0041】
この、左(右)位置決定後、自動的に反対側のワークエッジ付近にX軸が移動する。そして以降同様にストリートエッジに撮像手段18又は19の中心をダイレクトタッチにて合わせる処理を実施し、右(左)位置決定後、θの回転角度を自動算出してθ軸の回転移動を行い、ワーク反対側の位置にX軸が自動的に移動する。X軸とストリートが平行になるまでこの処理を繰り返し、スキャン動作終了でこのときのθ座標が内部メモリに記録される。
【0042】
この後自動的にθ軸が90°回転し、CH2側(X軸と直角な軸を示す第2のチャンネル)のマニュアルθアライメントの入力待ちの状態になる。同様にストリートとX軸のアライメントをダイレクトタッチによって行ってS104の動作を完了する。
【0043】
次のS106「CH1ストリートクロス位置登録」では、θアライメント後、自動的にモデル登録モードに切り替わり、撮像手段ワーク中心付近に移動する。両CHのストリートの交点(クロス位置)に撮像手段18又は19を合わせる処理をダイレクトタッチによって実施して、登録する。
【0044】
次のS108「CH1第1(高倍)モデル登録」では、クロス位置登録後、モデルパターン入力モードに切り替わり、画面にはモデル枠が表示される。モデル枠の位置を適当と思われる位置に合わせる処理をダイレクトタッチによって実施して、登録する。
【0045】
次のS110「CH2第2(低倍)モデル登録」では、撮像手段18又は19の撮像倍率が自動的に低倍に切換わり、高倍モデル同様にモデル登録をダイレクトタッチの手法を利用して行う。登録後、自動的にθ軸が90°回転し、撮像手段18又は19はワークの中心付近へ移動する。
【0046】
次のS112「CH2ストリートクロス位置登録」では、撮像手段18又は19の撮像倍率が自動的に高倍へ切換わり、CH1同様、ストリートの交点をクロス位置としてダイレクトタッチの手法を利用して登録する。
【0047】
次のS114「CH2第1(高倍)モデル登録」では、CH1同様、画面が自動的にモデル登録モードに切換わり、CH2側高倍モデルの登録をダイレクトタッチの手法を利用して実施する。尚、手順はCH1と同じである。
【0048】
S114にて「CH2第1(高倍)モデル登録」の処理が終了すると、S116「モデル登録終了」に進み、アライメントモデルの登録処理を終了する。
【0049】
上記のようにしてウェーハWのアライメントモデルが登録された場合には、以下のようにアライメント処理を実施して切断加工を行う。
【0050】
ワークテーブルに吸着保持されたウェーハWのストリートパターンは、撮像手段18、19によって撮像されて表示手段12に表示されるとともに、情報処理手段112によって画像認識される。この画像情報と、予め記憶手段に登録されているリファレンスパターンとに基づいてパターンマッチング処理を行い、ストリートを検出して切断のアライメントの調節がなされる。そして、アライメント調節されたウェーハWは、図2に示す矢印A、Bで示すY軸方向の移動と、ワークテーブルの矢印C、Dで示すX軸方向の移動とによって、2本のストリートが同時に切断される。最初の2本のストリートが切断されると、切断部10のスピンドル16A、16Bがストリートのピッチ分だけY軸方向に移動する。そして、ワークテーブルが再びX軸方向に移動し、これにより、次の2本のストリートが切断される。この切断動作を繰り返して行い、一方向(X方向)の所定のストリートを切断する。
【0051】
所定のストリートの切断が完了すると、切断した切削溝を撮像手段18又は19で撮像して切削溝のカーフチェックを自動で実施する。カーフチェックでは切削溝壁のチッピング(欠け)の度合い、切削溝のストリートに対する位置ずれ等の切削結果を検査する。チッピングが大きい場合又は切削溝が大きくストリートからずれている場合には利用者に不具合を通知するオペレータコールを行う。また、切削溝が本来の切溝に対して少しずれている場合には自動で切断する位置を補正したり、チッピングが少し観察される場合には切削条件を変更する等の補正処理を行って以降所定回数の切断を継続する。なお、手動でカーフチェックを行う場合にも、所望の観察位置へ表示位置を移動する手段としてダイレクトタッチの手法を用いると、カーフチェック作業を迅速に実施することが可能となる。
【0052】
一方向(X方向)の全てのストリートが切断されると、ワークテーブルが90°回動し、前記切断したストリートに直交する方向のストリートが順次切断される。これにより、ウェーハWは最終的に碁盤目状に切断される。
【0053】
切断の終了したウェーハWは、ワークテーブルによって位置P2に戻され、その後、搬送装置50によって位置P3の洗浄部2のスピナテーブルに搬送される。そして、ここで洗浄水により洗浄されたのち、エアブローによって乾燥される。洗浄・乾燥が終了したウェーハWは、搬送装置50によって位置P4に搬送され、その後、エレベータ部40によってカセット部30に収納される。
【0054】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明に係るダイシング装置によれば、ウェーハの表面を撮像する撮像手段と、前記撮像手段が撮像した画像を表示する表示手段と、前記表示手段が表示している任意の位置を表示上の位置で指定して位置情報を入力するポインティングデバイスを用いた入力手段と、前記撮像手段が撮像した画像に基づいてウェーハ表面に形成されている直線状のストリートパターン形状情報を検出する形状検出手段と、前記形状検出手段によって検出されたストリートパターン形状の基準情報、及び前記ウェーハ表面に形成されているストリートパターン形状の1乃至複数の基準位置とを記憶する記憶手段と、前記入力された位置情報に最も近い位置に存在するストリートパターン形状の基準位置を前記記憶手段に記憶されているストリートパターン形状の基準情報に基づいて算出する位置算出手段と、前記表示上の位置で指定して入力された位置情報、及び前記算出された表示上のストリートパターン形状の基準位置とをウェーハ表面の位置情報に変換する変換手段と、前記変換されたウェーハ表面の位置情報に基づいて表示位置を移動させる移動手段とを備えているので、ワンタッチで希望の表示位置に迅速に移動させることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明が適用されたダイシング装置の斜視図
【図2】本発明が適用されたダイシング装置の平面図
【図3】ダイシング装置の情報処理部のブロック図
【図4】標準的なウェーハWのアライメントモデル登録工程のフローチャート
【図5】表示手段に表示されている初期表示の表示内容を示す図
【図6】ダイレクトタッチモード時に表示される表示内容を示す図
【図7】画面タッチによる表示位置の指定方法を示すフローチャート
【符号の説明】
10…切断部、18、19…撮像手段、20…洗浄部、30…カセット部、40…エレベータ部、100…駆動手段X、102…駆動手段Y、104…駆動手段Z、106…駆動手段θ、110…制御手段、112…情報処理手段、130…ダイレクトタッチ移動ボタン
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a dicing apparatus, and a dicing apparatus for observing the pattern of the wafer surface which displays an image of the wafer surface by imaging, especially the wafer surface with a microscope camera.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art Conventionally, there is known a wafer surface observation apparatus that observes the setting of processing standards and processing results by enlarging and imaging a workpiece mounted on a loading table with a microscope camera or the like. Since the display range on the wafer magnified by the conventional wafer surface observation device is limited to a very small area on the wafer, the user operates the axis drive button or joystick to change the observation position. Each axis is driven to move the relative position between the camera and the wafer, and the imaging range of the camera is moved to the target position.
[0003]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the wafer surface observation apparatus that moves the observation position on the wafer surface using the conventional axis drive button or joystick as the input means, the input means is a means for inputting a velocity vector, so that it is formed on the wafer surface. There has been a problem that it is difficult to quickly position an observation position with respect to a fine pattern.
[0004]
The present invention has been made in view of such circumstances, and provides a wafer observation position specifying device and a wafer display position specifying method capable of quickly and easily moving a microscope camera to a desired observation position with a single touch. The purpose is that.
[0005]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, the present invention provides an image pickup means for picking up an image of the surface of a wafer, a display means for displaying an image picked up by the image pickup means, and an arbitrary position displayed by the display means on the display. Shape detection that detects the reference information of the linear street pattern shape formed on the wafer surface based on the input means using the pointing device that specifies the position and inputs the position information and the image picked up by the image pickup means Storage means for storing the reference information of the street pattern shape detected by the shape detection means, and one or more reference positions of the street pattern shape formed on the wafer surface, and the input position the information, based on the reference information, the inputted among the street pattern detected by said shape detecting means located A position closest to the distribution, or a conversion means for converting the position closest to the first to the position information inputted among a plurality of reference positions of the street pattern formed on the wafer surface, the display on the converted position A moving means for moving the position, and after aligning the street pattern shape closest to the position specified by the input means with the center position of the image picked up by the image pickup means, the edge of the wafer is picked up The wafer is moved in the axial movement direction at the time of processing to the position imaged by the means, and in the position after the movement, the street closest to the position designated by the input means aligned with the center position of the image By determining the end position of the pattern shape and rotating it based on the rotation angle calculated from the center position and the end position, It is characterized by performing a manual alignment of adjusting in parallel by a manual operation of the moving direction at the time of processing and street pattern formed on the wafer surface.
[0006]
According to the present invention, an image pickup means for picking up an image of the surface of a wafer, a display means for displaying an image picked up by the image pickup means, and an arbitrary position displayed by the display means is designated as a position on the display. Input means for inputting position information, conversion means for converting the input position information into position information on the wafer surface, and movement means for moving a display position based on the converted position information on the wafer surface. Since the display means displays the image at the display position after the movement, it is possible to quickly move to the desired display position with a single touch.
[0007]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, preferred embodiments of a dicing apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
[0008]
Figure 1 is a perspective view of a holder Ishingu apparatus involved in the present invention, FIG. 2 is a plan view thereof.
[0009]
The dicing apparatus observes the surface of the wafer (work) W, cuts the wafer W in a direction orthogonal thereto, and finally cuts the cut wafer 10 like a grid, and cleans the cut wafer W. The cleaning unit 20, the cassette unit 30 for storing the wafer W before and after processing, and the wafer W before processing are pulled out from a desired position of the cassette unit 30 and pre-aligned on the stage, and set on the stage. The elevator unit 40 stores the processed wafer W in a desired position of the cassette unit 30 and the transfer device 50 that transfers the wafer through the above steps.
[0010]
As shown in FIG. 2, there are four positions P1, P2, P3, and P4 as the transfer positions of the wafer W by the transfer apparatus 50, and these positions P1 to P4 are arranged so as to be located at the vertices of the square. Has been. The position P1 is a position for preloading the wafer W, the position P2 is a position for loading and unloading the wafer W on the cutting table for transporting the wafer W to the cutting unit 10, and the position P3 is a spinner table for the cleaning unit 20. The position P4 is a position where the wafer W before processing is loaded and the wafer W after processing (after cleaning) is unloaded.
[0011]
The cutting unit 10 includes two spindles 16A and 16B provided with blades 14A and 14B, imaging means 18 and 19 for fine alignment by imaging a pattern on the wafer W and recognizing the image, and the captured image and various types. The display unit 12 includes information display and an input unit 11 represented by a touch panel. The spindles 16A and 16B and the imaging means 18 and 19 of the cutting unit 10 are movable in the directions of arrows A and B (Y-axis direction) in FIG. Further, since the cutting table on which the wafer W is mounted is movable in the directions of arrows C and D (X-axis direction) and is rotatable (θ direction), the surface of the wafer W is imaged and image processing is performed. Fine alignment for cutting can be performed.
[0012]
The wafer W finely aligned in this manner is cut by the blades 14A and 14B rotated by the spindles 16A and 16B as the cutting table moves. Then, by sequentially executing the above cutting, the wafer W is cut like a grid.
[0013]
The cleaning unit 20 cleans the cut wafer W. First, the spinner table on which the wafer W is mounted is lowered, cleaned with a spinner and clean water, dried by air blow after cleaning, and again the spinner table. To raise.
[0014]
Further, the transfer device 50 is attached to a slide arm that is movably attached to a rail guided in the Y-axis direction, a revolving arm that is turnably attached to the tip of the slide arm, and an end of the revolving arm. It is composed of a plurality of chuck portions. The slide arm is moved in the front-rear direction along the rail by a motor, and the position of the tip of the slide arm moves between the position P2 and the position P3. The turning arm is turned around its end by a motor, and the end of the turning arm is moved to positions P1, P2, P3 and P4 according to the position of the slide arm. The chuck portions are rotatably provided at the end portions of the swing arms, respectively, and hold the wafer W by four claws that move in the radial direction and the vertical direction.
[0015]
FIG. 3 shows a block diagram of the information processing unit of the dicing apparatus.
[0016]
According to the figure, in the information processing section of the dicing device, the input means 11 for the user to input commands such as start, stop, and movement of the observation position to the dicing device, and the dicing device processes the user. The display means 12 which displays the image which imaged the mode, the process condition, and the wafer surface, and the imaging means 18 and 19 are provided.
[0017]
In the information processing section of the dicing apparatus, the driving means X100 for driving the cutting table on which the wafer W is mounted in the X-axis direction, the spindles 16A and 16B and the imaging means 18 and 19 of the cutting section 10 are moved in the Y-axis direction. Driving means Y102 for driving, spindles 16A and 16B of the cutting section 10 and driving means Z104 for moving the imaging means 18 and 19 in the Z-axis direction, and driving means θ106 for rotationally driving the cutting table on which the wafer W is mounted in the θ direction. And the like, the control means 110 for outputting a drive command to each of the drive means and monitoring the drive position, drive speed and error information as necessary, the input means 11, the display means 12, and the image pickup means. 18, 19 and information for transmitting / receiving information to / from the control means 110 and controlling the entire dicing apparatus. And information processing means 112.
[0018]
The information processing unit 112 receives position information on a screen where a user inputs a position desired to move with respect to an image of the wafer surface displayed by the display unit 12, and the input position information Function of converting means for converting the position information of the wafer surface, function of moving means for moving the display position based on the converted position information of the wafer surface, and moving the display position to the reference position of the pattern shape of the wafer And a function of a moving means. Further, the information processing means 112 includes a function of a shape detecting means for detecting reference information of a street pattern shape formed on the wafer surface, and a storage means such as a hard disk or a nonvolatile memory for storing the reference information. Yes.
[0019]
Further, the information processing means 112 receives position information on the screen where the user inputs a position desired to move with respect to the image of the wafer surface displayed by the display means 12, and receives the position information on the most inputted position information. Function of position calculation means for calculating the position or reference position of the street pattern shape on the display existing at a close position, and the reference information of the street shape in which the storage means stores the information on the calculated street position on the display The function of the conversion means which converts into the positional information on the wafer surface based on is also provided.
[0020]
FIG. 4 shows a flowchart of a standard wafer W alignment model registration process by the dicing apparatus.
[0021]
When registration of the alignment model of the wafer W is required during the cutting process of the wafer W by the dicing apparatus, the processing program of the information processing means 112 is “step S100” of the alignment model registration processing routine shown in FIG. “Register Model” (hereinafter abbreviated as S100) is called. Then, the process proceeds to the next S102 “workload”.
[0022]
In S102, the elevator unit 40 sequentially pulls out the unprocessed wafers W stored in the cassette unit 30 and sets the wafers W at a position P4 shown in FIG. Then, the wafer W is placed on the work table (position P2) (not shown) by the transfer device 50 via the preload stage at the position P1, and is sucked and held.
[0023]
Here, the pattern of the surface of the wafer W transferred to the work table and held by suction is picked up by the image pickup means 18 or 19 that has automatically moved to the center of the work table and displayed on the display means 12. The image is recognized by the means 112. Then, the process proceeds to the next S104 “manual θ alignment”.
[0024]
In S104, the θ axis is aligned so that the street of the workpiece is parallel to the X axis. At this time, an instruction for rotational input of the θ-axis is performed according to the following procedure.
[0025]
The center of the imaging means 18 or 19 is aligned with the street edge or the like near the work center on the CH1 side (first channel indicating an axis parallel to the X axis) and registered in the internal memory of the information processing means 112 (center position is determined). According to the present invention, the display position designation method (“alignment method”) for aligning the center of the imaging means 18 or 19 with the street edge or the like in the vicinity of the center of the work is as follows. Simply touch the top position with your finger to specify.
[0026]
FIG. 5 shows the display contents of the initial display displayed on the display means 12, and FIG. 6 shows the display contents displayed in the direct touch mode.
[0027]
According to FIG. 5, the display unit 12 includes a start button 120 for inputting start of operation of the dicing apparatus, a stop button 122 for inputting stop of operation, and focus adjustment for adjusting the focus of the imaging units 18 and 19. A button 124, an illumination adjustment button 126 for adjusting the illumination brightness during imaging, an XY key 128 for inputting a movement vector when moving the imaging position, and a desired position (position on the display) of the displayed wafer W ) With a finger and a direct touch movement button 130 for instructing switching to a mode for specifying and matching.
[0028]
FIG. 6 shows a display that transitions when the direct touch movement button is pressed in the state of FIG. As shown in the figure, the display unit 12 newly displays a cancel button 132 for inputting an instruction to exit the direct touch movement mode and a wafer map display 134 indicating the entire shape of the wafer W. Instead of performing the wafer map display 134, an enlarged image obtained by imaging may be displayed.
[0029]
FIG. 7 shows a flowchart describing a method for designating a display position by screen touch.
[0030]
When the dicing device is set to the direct touch mode, the processing program of the dicing device is called by the processing routine shown in the moving diagram, and the process branches to step S200 “Start processing by screen touch”.
[0031]
When the user touches a desired position to move with the finger, the processing program proceeds to the next step S202 “Acquire touch coordinates (pixel size) (X coordinates / Y coordinates)”. In S202, the input position information on the screen of the touch panel (input means 11) (position information such as a pixel on the screen or a coordinate value based on the resolution of the touch panel) is processed via the communication means of the input means 11 as information processing means. 112, the information processing means 112 acquires touch coordinates.
[0032]
In the next step S204 “Convert touch coordinates into coordinates (pulse coordinates) of the dicer apparatus”, the information processing means 112 of the dicing apparatus converts the received position information into position information (the actual length of the wafer W being displayed). Unit or the number of driving unit pulses used for driving by the driving means). Here, the position information on the display is automatically converted according to the wafer size (size or shape such as 5 inches, 8 inches, etc.), so the user can use the same operation method without being conscious of the wafer size. It is sufficient to input the position.
[0033]
In the next step S206 “Calculate the relative amount (movement amount) of the current pulse coordinate of the dicer apparatus and the pulse coordinate converted above”, the information processing means 112 uses the converted position information of the surface of the wafer W as the X-axis, Y-axis, for example. It is converted into a relative driving amount (length information or driving pulse number of each axis) with respect to the current video position of the axis.
[0034]
In the next step S208 “output the movement amount of the X-axis motor and the movement amount of the Y-axis motor described above to each axis driver.”, The information processing means 112 outputs the information about the calculated driving amount to the control means 110. Perform the process.
[0035]
In the next S210 “Axis movement start & stop”, the control unit 110 sets acceleration conditions, deceleration conditions and driving speed conditions based on the received driving amount information, and drives each axis in synchronization. The control means 110 monitors the driving state of each axis and controls the driving speed of each axis. When the driving to the position designated by the information processing unit 112 is completed, the control unit 110 returns a response indicating that the driving is completed to the information processing unit 112.
[0036]
The position information on the screen input by the user is generally different from accurate street position information (position of a predetermined pattern shape) for reasons such as using a finger for input. In the dicing apparatus, for the purpose of use, when the position of the surface of the wafer W is designated, the street position is almost always designated. Therefore, in the present invention, even when an ambiguous position is designated, it exists in the vicinity obtained by image processing. The display position is moved to a reference position such as a street position.
[0037]
The position information on the screen input by the user is the position closest to the street shape detected by the shape detection function of the information processing means 112 or the pattern shape formed on the wafer surface stored in the storage means. It is converted to a position closest to one or more reference positions, and a command for driving to that position is output to the control means 110. Then, the display position is driven to a position where the street closest to the position input by the user exists.
[0038]
When the drive to the designated position is completed, the program of the information processing means is S212 “Reflecting the X and Y coordinate positions after movement on the screen. Camera image screen: Redisplaying the + character at the camera center Wafer map display screen: Camera Proceeding to "Redisplay icon", when the driving of each driving means is completed, the display means 12 displays the wafer surface at the designated display position. When the wafer map display 134 is displayed again, the camera icon indicating the imaging position is also displayed again. In addition, when displaying a captured enlarged image, a + mark is displayed at the imaging center position of the imaging means. In the case where the captured image has a wide imaging range and high resolution, the display position is determined using only the captured image data, instead of performing driving for moving the display position by the driving means. You may move.
[0039]
When the driving to the designated position and the redisplay are completed, the processing program proceeds to S214 “End processing” and returns to the original processing routine.
[0040]
As described above, when the “alignment” process by direct touch that moves the driving or display of the center of the imaging means 18 or 19 to the street edge near the center of the workpiece is completed, the X axis automatically moves to the left of the workpiece ( Or right) Move to the end position. Next, it is aligned with the edge of the same street as the position designated by the center position by direct touch, and the left (right) position is determined. Then, the rotation angle of the θ axis is calculated from the coordinates of the center position and the left (right) position, and the θ axis rotates and moves based on the angle.
[0041]
After the left (right) position is determined, the X axis automatically moves near the opposite work edge. Thereafter, similarly, the center of the imaging means 18 or 19 is aligned with the street edge by direct touch. After the right (left) position is determined, the rotation angle of θ is automatically calculated and the θ axis is rotated. The X axis automatically moves to the position on the opposite side of the workpiece. This process is repeated until the X axis and the street are parallel, and at the end of the scanning operation, the θ coordinate at this time is recorded in the internal memory.
[0042]
Thereafter, the θ-axis is automatically rotated by 90 °, and a state of waiting for an input of manual θ-alignment on the CH2 side (second channel indicating an axis perpendicular to the X-axis) is entered. Similarly, street and X-axis alignment is performed by direct touch to complete the operation of S104.
[0043]
In the next S106 “CH1 street cross position registration”, after θ alignment, the mode automatically switches to the model registration mode and moves to the vicinity of the imaging means work center. The process of aligning the imaging means 18 or 19 at the intersection (cross position) of the streets of both channels is performed by direct touch and registered.
[0044]
In the next S108 “CH1 first (high magnification) model registration”, after the cross position registration, the mode is switched to the model pattern input mode, and the model frame is displayed on the screen. The process of aligning the position of the model frame with the position deemed appropriate is performed by direct touch and registered.
[0045]
In the next S110 “CH2 second (low magnification) model registration”, the imaging magnification of the imaging means 18 or 19 is automatically switched to the low magnification, and the model registration is performed using the direct touch method as in the high magnification model. . After registration, the θ axis automatically rotates 90 °, and the imaging means 18 or 19 moves to the vicinity of the center of the workpiece.
[0046]
In the next S112 “CH2 street cross position registration”, the imaging magnification of the imaging means 18 or 19 is automatically switched to a high magnification, and as with CH1, a street intersection is registered as a cross position using a direct touch method.
[0047]
In the next S114 “CH2 first (high magnification) model registration”, the screen automatically switches to the model registration mode as in CH1, and registration of the CH2 side high magnification model is performed using the direct touch method. The procedure is the same as CH1.
[0048]
When the “CH2 first (high magnification) model registration” process is completed in S114, the process proceeds to S116 “model registration end”, and the alignment model registration process ends.
[0049]
When the alignment model of the wafer W is registered as described above, the alignment process is performed as follows and the cutting process is performed.
[0050]
The street pattern of the wafer W sucked and held on the work table is picked up by the image pickup means 18 and 19 and displayed on the display means 12, and image recognition is performed by the information processing means 112. Pattern matching processing is performed based on this image information and a reference pattern registered in advance in the storage means, and streets are detected to adjust cutting alignment. Then, the wafer W whose alignment has been adjusted has two streets at the same time due to the movement in the Y-axis direction indicated by arrows A and B shown in FIG. 2 and the movement in the X-axis direction indicated by arrows C and D on the work table. Disconnected. When the first two streets are cut, the spindles 16A and 16B of the cutting unit 10 move in the Y-axis direction by the street pitch. Then, the work table moves again in the X-axis direction, whereby the next two streets are cut. This cutting operation is repeated to cut a predetermined street in one direction (X direction).
[0051]
When the cutting of the predetermined street is completed, the cut groove is imaged by the imaging means 18 or 19, and the kerf check of the groove is automatically performed. In the kerf check, cutting results such as the degree of chipping (chip) of the cutting groove wall and the positional deviation of the cutting groove with respect to the street are inspected. When the chipping is large or the cutting groove is greatly deviated from the street, an operator call for notifying the user of the malfunction is performed. If the cutting groove is slightly shifted from the original groove, correct the cutting position automatically, or if the chipping is slightly observed, correct the cutting conditions. Thereafter, cutting is continued a predetermined number of times. Even in the case where the kerf check is performed manually, if the direct touch method is used as means for moving the display position to a desired observation position, the kerf check operation can be performed quickly.
[0052]
When all the streets in one direction (X direction) are cut, the work table is rotated 90 °, and the streets in the direction orthogonal to the cut streets are sequentially cut. Thereby, the wafer W is finally cut into a grid pattern.
[0053]
The wafer W that has been cut is returned to the position P2 by the work table, and then transferred to the spinner table of the cleaning unit 2 at the position P3 by the transfer device 50. And after washing | cleaning with washing water here, it dries by air blow. The wafer W that has been cleaned and dried is transferred to the position P4 by the transfer device 50, and then stored in the cassette unit 30 by the elevator unit 40.
[0054]
【The invention's effect】
As described above, according to the dicing apparatus of the present invention, the imaging unit that images the surface of the wafer, the display unit that displays the image captured by the imaging unit, and the arbitrary display that the display unit displays Input means using a pointing device that inputs position information by specifying the position on the display, and detects linear street pattern shape information formed on the wafer surface based on the image captured by the imaging means A shape detection unit that stores the reference information of the street pattern shape detected by the shape detection unit, and one or more reference positions of the street pattern shape formed on the wafer surface, and the input scan stored a reference position of the street pattern in the storage means present at a position closest to the position information Position calculating means for calculating, based on the reference information of the discrete pattern, the positional information inputted by specifying at a location on the display, and the calculated reference position and the wafer surface street pattern on the display Since conversion means for converting into position information and movement means for moving the display position based on the converted position information on the wafer surface are provided, it is possible to quickly move to a desired display position with one touch. Become.
[Brief description of the drawings]
1 is a perspective view of a dicing apparatus to which the present invention is applied. FIG. 2 is a plan view of a dicing apparatus to which the present invention is applied. FIG. 3 is a block diagram of an information processing unit of the dicing apparatus. Flowchart of alignment model registration process for wafer W [FIG. 5] A diagram showing display contents of initial display displayed on display means [FIG. 6] A diagram showing display contents displayed in direct touch mode [FIG. 7] A screen touch Flow chart showing how to specify the display position by [Description of sign]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Cutting part, 18, 19 ... Imaging means, 20 ... Washing part, 30 ... Cassette part, 40 ... Elevator part, 100 ... Driving means X, 102 ... Driving means Y, 104 ... Driving means Z, 106 ... Driving means θ , 110 ... control means, 112 ... information processing means, 130 ... direct touch movement button

Claims (2)

ウェーハの表面を撮像する撮像手段と、
前記撮像手段が撮像した画像を表示する表示手段と、
前記表示手段が表示している任意の位置を表示上の位置で指定して位置情報を入力するポインティングデバイスを用いた入力手段と、
前記撮像手段が撮像した画像に基づいてウェーハ表面に形成されている直線状のストリートパターン形状の基準情報を検出する形状検出手段と、
前記形状検出手段によって検出されたストリートパターン形状の基準情報、及び前記ウェーハ表面に形成されているストリートパターン形状の1乃至複数の基準位置とを記憶する記憶手段と、
前記入力された位置情報を、前記基準情報に基づいて、前記形状検出手段によって検出されたストリートパターン形状のうち入力された位置情報に最も近い位置、又は前記ウェーハ表面に形成されているストリートパターン形状の1乃至複数の基準位置のうち入力された位置情報に最も近い位置に変換する変換手段と、
前記変換された位置に表示位置を移動させる移動手段とを備え、
前記入力手段で指定された位置の最も近傍にあるストリートパターン形状を前記撮像手段で撮像される画像の中心位置へ合わせた後、前記ウェーハ端部を前記撮像手段により撮像される位置まで前記ウェーハを加工時における軸移動方向に移動させ、該移動後の位置において、前記画像の中心位置に合わせられた前記入力手段で指定された位置の最も近傍にあるストリートパターン形状の端部位置を決定し、前記中心位置と前記端部位置より算出した回転角度に基づいて回転移動することにより、前記ウェーハ表面に形成されているストリートパターン形状と加工時における移動方向とを手動操作により平行に調整するマニュアルアライメントを行うことを特徴とするダイシング装置。
Imaging means for imaging the surface of the wafer;
Display means for displaying an image captured by the imaging means;
An input means using a pointing device for designating an arbitrary position displayed by the display means by a position on the display and inputting position information;
Shape detection means for detecting reference information of a linear street pattern shape formed on the wafer surface based on an image taken by the imaging means;
Storage means for storing street pattern shape reference information detected by the shape detection means and one or more reference positions of the street pattern shape formed on the wafer surface;
Based on the reference information, the input position information is a position closest to the input position information among the street pattern shapes detected by the shape detection means, or a street pattern shape formed on the wafer surface Conversion means for converting to a position closest to the input position information among one or a plurality of reference positions;
Moving means for moving the display position to the converted position;
After aligning the street pattern shape closest to the position specified by the input means to the center position of the image picked up by the image pickup means, the wafer edge is moved to the position picked up by the image pickup means. Move in the axial movement direction at the time of processing, and determine the end position of the street pattern shape closest to the position designated by the input means matched with the center position of the image at the position after the movement; Manual alignment that adjusts the street pattern shape formed on the wafer surface and the movement direction during processing in parallel by manual operation by rotating based on the rotation angle calculated from the center position and the end position. The dicing apparatus characterized by performing.
前記変換手段は、前記入力された位置情報がウェーハの存在しない位置である場合には、前記入力された位置に対して最も近い位置に存在するウェーハの位置情報に変換することを特徴とする請求項1に記載のダイシング装置。  The conversion means, when the input position information is a position where a wafer does not exist, converts the position information into a position information of a wafer existing closest to the input position. Item 2. The dicing apparatus according to Item 1.
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