JP3987362B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板、半導体ウエハ、プリント基板等の基板を１枚ずつ、並列して設置された複数の搬送ローラによって支持し搬送しながら、基板に対し洗浄、現像、エッチング、剥膜などの処理を施す基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えば基板上に配線パターンを形成するプロセスにおいて、基板の表面に形成されたフォトレジスト膜を現像する場合、基板を１枚ずつ横置きで搬送ローラによって搬送しつつ基板上に現像液を盛り、液盛りしてから所定時間が経過した後に現像反応を停止させる方式のローラ搬送式現像処理装置が使用される。この現像処理装置の概略構成の１例を図７に模式的に示す。
【０００３】
図７に示した現像処理装置は、入口側開口３ａおよび出口側開口３ｂを有する処理槽２を備え、処理槽２の内部には、複数の搬送ローラ４ａ、４ｂ、４ｃが並列して配設されている。そして、基板１は、入口側開口３ａを通って処理槽２内へ搬入され、搬送ローラ４ａ〜４ｃにより支持されて水平方向へ搬送され、処理槽２内から出口側開口３ｂを通って搬出されて、次の水洗処理槽（図示せず）へ送られるようになっている。処理槽２の内部の入口側開口３ａ付近には、現像液吐出ノズル５が配設されている。また、処理槽２の内部の出口側開口３ｂの付近には、搬送ローラ４ｃの直上に搬送ローラ４ｃと対向するように、搬送ローラ４ｃに支持されて搬送される基板１の上面側に接触する液切りローラ６が配設されている。
【０００４】
このような構成の現像処理装置において、表面に露光済みのフォトレジスト膜が形成された基板１は、処理槽２の入口側開口３ａ付近に配設された現像液吐出ノズル５の直下位置を通過する際に、現像液吐出ノズル５下端面のスリット状吐出口から吐出される現像液７が表面上に盛られる。液盛りされた基板１は、搬送ローラ４ａ、４ｂによって搬送されている間にフォトレジスト膜の現像反応が進行する。基板１が処理槽２の出口側開口３ｂの付近まで搬送されてくると、液切りローラ６によって基板１上から現像液７が除去され、その後に、処理槽２内から搬出される。そして、基板１は、次の水洗処理槽へ送られて、フォトレジスト膜の現像反応が完全に停止させられる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上記したような現像処理装置において、基板１の表面上から現像液７、特にレジストを含んだ現像液７がこぼれ落ちると、その現像液が搬送ローラ４ａ〜４ｃの周面や処理槽２の内壁面等に付着することになる。また、液切りローラ６の周面は、レジストを含んだ現像液７が常に付着した状態となっている。それらの部材に付着した現像液が乾くと、レジスト分が固化して部材が汚染される。このため、パーティクルが発生して基板１を汚染したり、センサー等の機器の誤動作を招く原因となったりする、といった問題を生じることになる。一方、それらの問題が起こらないようにするには、処理槽２内部の清掃作業を頻繁に行う必要があるが、処理効率の低下や作業の煩雑さを招くことになる。
【０００６】
なお、上記方式とは異なる方式、すなわち、処理槽内にスプレイノズルを設置し、スプレイノズルから現像液等を、処理槽の内部全体に拡散するようにミスト状に噴出させる現像方式をとる場合には、搬送ローラや処理槽の内壁面、センサーなどの表面が現像液等で常時濡れた状態となるため、固化したレジストによる汚染が起こりにくくなり、上記した問題は生じにくい。しかしながら、現像液等のミストが行き届きにくい個所に搬送ローラなどが設置されている場合には、やはりレジストを含んだ現像液による搬送ローラ等の汚染を生じることになる。また、この方式は、基本的に、ミスト発生を抑制する必要のあるプロセスでは採用することができない。
【０００７】
この発明は、以上のような事情に鑑みてなされたものであり、処理槽内において基板を搬送しつつ基板に対し処理液を供給して基板の処理を行う場合に、固化成分を含んだ処理液によって搬送ローラや処理槽の内壁面などが汚染されることを防止することができ、基板の汚染や機器の誤動作などを防ぐことができる基板処理装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
請求項１に係る発明は、処理槽内において基板を搬送しつつ基板の表面に形成されたレジスト膜を現像液で処理する基板処理装置において、基板の下面側に接触し基板を支持して搬送する搬送ローラの直下に液溜め容器を配設し、その液溜め容器内へ現像液を供給して液溜め容器内を常に現像液で満たす液供給手段を備え、前記液溜め容器内に満たされた現像液中に前記搬送ローラの周面の一部を浸漬させておくことを特徴とする。
【０００９】
請求項２に係る発明は、処理槽内において基板を搬送しつつ基板を処理液で処理する基板処理装置において、基板の下面側に接触し基板を支持して搬送する搬送ローラに近接しかつ搬送ローラによって支持される基板の高さ位置より下方に、吐出口が搬送ローラと対向するように液吐出手段を配設し、その液吐出手段へ湿潤用液を供給する液供給手段を備え、基板を搬送して基板を処理している期間中において、前記搬送ローラが基板の下面側と接触していないときに前記液吐出手段の吐出口から湿潤用液を吐出し搬送ローラが基板の下面側と接触しているときには液吐出手段の吐出口から湿潤用液を吐出しないように、前記液供給手段から液吐出手段へ間欠的に湿潤用液を供給するようにすることを特徴とする。
【００１０】
請求項３に係る発明は、処理槽内において基板を搬送しつつ基板を処理液で処理する基板処理装置において、基板の下面側に接触し基板を支持して搬送する搬送ローラの近傍であって搬送ローラによって支持される基板の高さ位置より下方に、前記搬送ローラの直上に搬送ローラと対向するように配設され搬送ローラに支持されて搬送される基板の上面側に接触する上部ローラと吐出口が対向するように液吐出手段を配設し、その液吐出手段へ湿潤用液を供給する液供給手段を備えたことを特徴とする。
【００１１】
請求項４に係る発明は、請求項３記載の基板処理装置において、前記搬送ローラおよび前記上部ローラを上方位置と下方位置との間で移動可能に支持し、前記液吐出手段は、搬送ローラおよび上部ローラが上方に位置したときに、搬送ローラによって支持される基板の高さ位置より下方に位置するように配設され、搬送ローラおよび上部ローラが下方に位置したときには、前記搬送ローラが、それより基板の搬送方向における上流側に配設された別の搬送ローラと同じ高さに位置するとともに、搬送ローラおよび上部ローラに基板が接触しないように制御されることを特徴とする。
【００１２】
請求項５に係る発明は、請求項４記載の基板処理装置において、前記搬送ローラおよび前記上部ローラを、搬送ローラの軸心線の延長線上の一点を中心として鉛直面内で揺動するように支持して、傾斜姿勢となる上方位置と水平姿勢となる下方位置との間で移動させることを特徴とする。
【００１３】
請求項６に係る発明は、請求項４または請求項５記載の基板処理装置において、前記搬送ローラと前記上部ローラとが液切りローラであり、その液切りローラと前記別の搬送ローラとの間に、液切りローラと一体的に上方位置と下方位置との間を移動するように支持され基板の下面側に接触し基板を支持して搬送する複数の搬送ローラを配設したことを特徴とする。
【００１４】
請求項７に係る発明は、請求項３ないし請求項６のいずれかに記載の基板処理装置において、基板を搬送して基板を処理している期間中において、前記搬送ローラが基板の下面側と接触していないときに前記液吐出手段の吐出口から湿潤用液を吐出し搬送ローラが基板の下面側と接触しているときには液吐出手段の吐出口から湿潤用液を吐出しないように、前記液供給手段から液吐出手段へ間欠的に湿潤用液を供給するようにすることを特徴とする。
【００１５】
請求項８に係る発明は、請求項２ないし請求項７のいずれかに記載の基板処理装置において、前記液供給手段は、その吐出口から前記搬送ローラに向けて吐出された湿潤用液が液撥ねによって飛散しない程度の低圧で前記液吐出手段へ湿潤用液を供給することを特徴とする。
【００１６】
請求項９に係る発明は、請求項２ないし請求項８のいずれかに記載の基板処理装置において、基板を搬送していない期間中において、前記液供給手段から前記液吐出手段へ一定時間ごとに間欠的に湿潤用液を供給するようにすることを特徴とする。
【００１８】
請求項１に係る発明の基板処理装置においては、液供給手段から液溜め容器内へ現像液が供給されて、液溜め容器内が常に現像液で満たされ、その液溜め容器内に満たされた現像液中に搬送ローラの周面の一部が浸漬させられる。これにより、搬送ローラの周面は現像液で常時濡れた状態となる。このため、基板の表面上からレジストを含んだ現像液がこぼれ落ちて搬送ローラの周面に付着しても、現像液は乾くことがないので、レジスト分が固化することはなくなる。したがって、固化したレジストによって搬送ローラが汚染される、といったことが避けられる。また、液溜め容器内に満たされた現像液中に搬送ローラが浸漬させられるだけであるので、液撥ねの起こる心配が無い。したがって、レジストを含有した現像液を循環させつつ再利用するような場合であっても、液撥ねにより、レジスト含有現像液が基板に付着して基板を汚染したり、レジスト含有現像液がセンサー等の機器に付着して誤動作を招いたりする、といったことがない。
【００１９】
請求項２に係る発明の基板処理装置においては、液吐出手段の吐出口から搬送ローラに向かって湿潤用液が吐出されることにより、搬送ローラは湿潤用液で常時濡れた状態となる。このため、基板の表面上から処理液、例えばレジストを含んだ現像液がこぼれ落ちて搬送ローラに付着しても、現像液は乾くことがないので、レジスト分が固化することはなくなる。したがって、固化したレジストによって搬送ローラが汚染される、といったことが避けられる。また、液吐出手段は搬送ローラに近接して配設されているので、液撥ねが生じにくく、湿潤用液が広範囲に飛散することはない。したがって、例えばレジストを含有した現像液を循環させつつ湿潤用液として再利用するような場合であっても、液撥ねにより、レジスト含有現像液が基板に付着して基板を汚染したり、レジスト含有現像液がセンサー等の機器に付着して誤動作を招いたりする、といったことがない。また、液吐出手段が基板の高さ位置より下方に配設されているので、液吐出手段の吐出口からレジスト含有現像液がぼた落ちしたとしても、現像液が基板上に付着することはない。そして、この基板処理装置では、基板を搬送して基板を処理している期間中において、搬送ローラが基板の下面側と接触していないときに液吐出手段の吐出口から湿潤用液が吐出され、搬送ローラが基板の下面側と接触しているときには液吐出手段の吐出口から湿潤用液が吐出されないので、例えばレジストを含有した現像液を循環させつつ湿潤用液として再利用するような場合に、液吐出手段の吐出口から吐出されたレジスト含有現像液が基板に付着して基板を汚染する、といった心配が無い。
【００２０】
請求項３に係る発明の基板処理装置においては、液吐出手段の吐出口から搬送ローラの直上に配設された上部ローラに向かって湿潤用液が吐出されることにより、上部ローラは湿潤用液で常時濡れた状態となるとともに、上部ローラの周面を伝って湿潤用液が搬送ローラの周面へ流下することにより、搬送ローラも湿潤用液で常時濡れた状態となる。このため、基板の上面側に接触する上部ローラに処理液、例えばレジストを含んだ現像液が付着しても、また、基板の表面上から現像液がこぼれ落ちて搬送ローラに付着しても、現像液は乾くことがないので、レジスト分が固化することはなくなる。したがって、固化したレジストによって上部ローラおよび搬送ローラが汚染される、といったことが避けられる。また、液吐出手段は搬送ローラの近傍に配設されているので、液撥ねが生じにくく、湿潤用液が広範囲に飛散することはない。したがって、例えばレジストを含有した現像液を循環させつつ湿潤用液として再利用するような場合であっても、液撥ねにより、レジスト含有現像液が基板に付着して基板を汚染したり、レジスト含有現像液がセンサー等の機器に付着して誤動作を招いたりする、といったことがない。また、液吐出手段が基板の高さ位置より下方に配設されているので、液吐出手段の吐出口からレジスト含有現像液がぼた落ちしたとしても、現像液が基板上に付着することはない。
【００２１】
請求項４に係る発明の基板処理装置では、搬送ローラおよび上部ローラが上方に位置したときに、液吐出手段が基板の高さ位置より下方に位置するので、液吐出手段の吐出口から処理液、例えばレジストを含んだ現像液がぼた落ちしたとしても、現像液が基板上に付着することはない。一方、搬送ローラおよび上部ローラが下方に位置したときには、搬送ローラおよび上部ローラに基板が接触しないので、液吐出手段の吐出口からレジスト含有現像液がぼた落ちしたとしても、現像液が基板上に付着する心配が無い。
【００２２】
請求項５に係る発明の基板処理装置では、搬送ローラおよび上部ローラは、搬送ローラの軸心線の延長線上の一点を中心として鉛直面内で揺動することにより、上方位置と下方位置との間を移動する。そして、上方位置においては搬送ローラおよび上部ローラが傾斜姿勢となるので、搬送ローラによって支持される基板も傾斜し、このため、基板の表面上から処理液が流れ落ちる。
【００２３】
請求項６に係る発明の基板処理装置では、液切りローラにより、搬送ローラによって支持され搬送されてきた基板から処理液、例えばレジストを含んだ現像液が除去され、その際に液切りローラの周面にレジスト含有現像液が付着しても、液切りローラは湿潤用液で常時濡れた状態とされるので、現像液は乾くことがなく、このため、液切りローラの周面でレジスト分が固化することはなくなる。
【００２４】
請求項７に係る発明の基板処理装置では、基板を搬送して基板を処理している期間中において、搬送ローラが基板の下面側と接触していないときに液吐出手段の吐出口から湿潤用液が吐出され、搬送ローラが基板の下面側と接触しているときには液吐出手段の吐出口から湿潤用液が吐出されないので、例えばレジストを含有した現像液を循環させつつ湿潤用液として再利用するような場合に、液吐出手段の吐出口から吐出されたレジスト含有現像液が基板に付着して基板を汚染する、といった心配が無い。
【００２５】
請求項８に係る発明の基板処理装置では、液供給手段から液吐出手段へは、液吐出手段の吐出口から搬送ローラに向けて吐出された湿潤用液が液撥ねによって飛散しない程度の低圧で湿潤用液が供給されるので、液撥ねがより生じにくく、湿潤用液が広範囲に飛散することはない。
【００２６】
請求項９に係る発明の基板処理装置では、基板を搬送していない期間中において、液供給手段から液吐出手段へ一定時間ごとに間欠的に湿潤用液が供給されるので、搬送ローラまたは上部ローラおよび搬送ローラは湿潤用液で濡れた状態に保たれるとともに、湿潤用液の使用量が低減される。
【００２８】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の好適な実施形態について図１ないし図６を参照しながら説明する。
【００２９】
図１は、第１の発明の実施形態の１例を示し、基板処理装置の１つである現像処理装置の構成要素の１つである搬送ローラの１つを一部断面で示す側面図である。現像処理装置の全体の構成については、図７に基づいて上述したので、その説明を省略するが、図１に示す搬送ローラ１０は、図７に示した現像処理装置の複数の搬送ローラ４ａ〜４ｃのうち、処理槽２の中間辺りに配置された搬送ローラ４ｂに対応するものである。
【００３０】
搬送ローラ１０は、その周面が基板１の下面側の幅方向全体にわたって接触する円柱状をなしている。この搬送ローラ１０は、基板１を支持して搬送するとともに、基板１の下面側の幅方向全体にわたって接触しつつ回転することにより基板の下面側を洗浄する機能を有している。搬送ローラ１０の直下には、液溜めバット１２が配設されている。液溜めバット１２内には、液供給源から供給される現像液、例えば基板１の表面上から処理槽底部に流下して回収タンク（図示せず）に回収され回収タンクから送液される現像液１４が収容されている。液溜めバット１２内へは、連続して現像液が供給されており、液溜めバット１２内は常に現像液１４で満たされた状態であり、液溜めバット１２の上部から溢れ出た現像液は回収されて循環使用される。そして、液溜めバット１２内に満たされた現像液１４中に搬送ローラ１０の周面の一部が浸漬させられている。
【００３１】
図１に示した構成を備えた装置では、液溜めバット１２内に満たされた現像液１４中に搬送ローラ１０の周面の一部が浸漬させられるので、搬送ローラ１０の周面は現像液１４で常時濡れた状態となる。このため、基板１の表面上からレジストを含んだ現像液がこぼれ落ちて搬送ローラ１０の周面に付着しても、搬送ローラ１０の周面で現像液が乾いてレジスト分が固化する、といったことはなくなる。したがって、固化したレジストによる搬送ローラ１０の汚染の心配が無くなる。また、液溜めバット１２内に満たされた現像液１４中に搬送ローラ１０が浸漬させられるだけであるので、液撥ねを生じる恐れは無い。したがって、液撥ねにより、レジストを含有した現像液が基板１に付着して基板１を汚染したり、レジスト含有現像液がセンサー等の機器に付着して誤動作を招いたりする、といったことは起こらない。
【００３２】
次に、図２は、第２の発明の実施形態の１例を示し、現像処理装置の構成要素の１つである搬送ローラの１つを示す側面図である。この図２に示す搬送ローラ１６は、図７に示した現像処理装置の複数の搬送ローラ４ａ〜４ｃのうち、処理槽２の中間辺りおよび出口側開口３ｂ付近にそれぞれ配置された搬送ローラ４ｂ、４ｃを除いた大部分の搬送ローラ４ａに対応するものである。
【００３３】
搬送ローラ１６は、円板形であって、回転支軸１８の両端部に一対固着され、あるいは回転支軸１８に複数個、例えば回転支軸１８の両端部および中央部に３個固着されている。そして、この搬送ローラ１６に近接した位置であって搬送ローラ１６で支持される基板１の高さ位置より下方の位置に、吐出口２２が搬送ローラ１６と対向するように液吐出ノズル２０が配設されている。液吐出ノズル２０には、例えば基板１の表面上から処理槽底部に流下して回収タンクに回収された現像液が回収タンクから供給されている。このとき、液吐出ノズル２０へ現像液を供給する圧力は、吐出口２２から搬送ローラ１６に向けて吐出された現像液１４が液撥ねによって飛散しない程度の低圧に設定される。
【００３４】
液吐出ノズル２０の吐出口２２から搬送ローラ１６に向けての現像液１４の吐出は、基板１を搬送しつつ処理している期間中においては、搬送ローラ１６が基板１の下面側と接触しておらず、かつ、基板１がその搬送ローラ１６の近傍にも存在していないときに行い、搬送ローラ１６が基板１の下面側と接触しているときや近傍に基板１が存在しているときには液吐出ノズル２０の吐出口２２から現像液を吐出しないようにする。このように現像液の吐出を間欠的に行うことにより、レジストを含有した現像液を循環させつつ再利用するような場合に、液吐出ノズル２０の吐出口２２から吐出されたレジスト含有現像液やその飛沫が基板１に付着して基板１を汚染する恐れを無くすことができる。一方、基板１を搬送していない期間中においては、液吐出ノズル２０の吐出口２２から搬送ローラ１６に向けての現像液１４の吐出は、一定時間ごとに間欠的に行うようにする。このように現像液の吐出を一定時間ごとに間欠的に行うことにより、基板１の処理を行っていない間も搬送ローラ１６を濡れた状態に保ってレジスト分の固化を防ぐことができるとともに、現像液の使用量を低減することができる。
【００３５】
図２に示した構成を備えた装置では、液吐出ノズル２０の吐出口２２から搬送ローラ１６に向かって現像液１４が吐出されることにより、搬送ローラ１６は現像液１４で常時濡れた状態となる。このため、基板１の表面上から、例えばレジストを含んだ現像液がこぼれ落ちて搬送ローラ１６に付着しても、現像液は乾くことがないので、レジスト分は固化しなくなる。したがって、固化したレジストによって搬送ローラ１６が汚染される、といったことが防止される。また、液吐出ノズル２０の吐出口２２からは現像液１４が低圧で吐出され、かつ、搬送ローラ１６の近接位置から搬送ローラ１６に向かって現像液１４が吐出されるので、液撥ねが生じにくく、現像液１４が広範囲に飛散することはない。したがって、レジストを含有した現像液を循環させつつ再利用するような場合であっても、レジスト含有現像液が液撥ねによって基板１を汚染したりセンサー等の機器に付着して誤動作を招いたりする、といったことがない。また、液吐出ノズル２０は、基板１の高さ位置より下方に配設されているので、吐出口２２からレジスト含有現像液がぼた落ちしたとしても、その現像液が基板１上に付着する心配は無い。
【００３６】
また、図３は、第２の発明の別の実施形態を示す搬送ローラの側面図である。この図３に示した実施形態では、液吐出ノズル２０の吐出口２２が斜め下向きに設置されている。図２に示した実施形態のように、吐出口２２が上向きとなるように液吐出ノズル２０を配置すると、吐出口２２からの液吐出を停止させた時に吐出口２２から液がぼた落ちする心配が無くなるのに対し、図３に示した実施形態では、吐出口２２から液がぼた落ちする可能性がある。ただし、液吐出ノズル２０は、二点鎖線Ｌで示す基板１の高さ位置より下方に配設されているので、吐出口２２からぼた落ちしたレジスト含有現像液が基板１上に付着する心配は無い。
【００３７】
次に、図４は、第３の発明の実施形態の１例を示し、現像処理装置の構成要素の１つである搬送ローラおよび液切りローラを示す側面図である。この図４に示す搬送ローラ２４は、図７に示した現像処理装置の複数の搬送ローラ４ａ〜４ｃのうち、処理槽２の出口側開口３ｂ付近に配置された搬送ローラ４ｃに対応するものである。
【００３８】
搬送ローラ２４の直上に搬送ローラ２４と対向するように配設された液切りローラ２６は、その周面が基板１の上面側の幅方向全体にわたって接触する円柱状をなしており、搬送ローラ２４によって支持され搬送される基板１の上面側の幅方向全体にわたって接触しつつ回転することにより、基板１上に盛られた使用済みの現像液を基板１上から除去する機能を有している。そして、搬送ローラ２４の近傍であって搬送ローラ２４によって支持され搬送される基板１の高さ位置（図４中に二点鎖線Ｌで示す）より下方に、液切りローラ２６と吐出口３０が対向するように液吐出ノズル２８が配設されている。この液吐出ノズル２８には、図２に示した液吐出ノズル２０と同様に、例えば基板１の表面上から処理槽底部に流下して回収タンクに回収された現像液が回収タンクから供給されている。このとき、液吐出ノズル２８へ現像液を供給する圧力は、吐出口３０から液切りローラ２６に向けて吐出された現像液１４が液撥ねによって飛散しない程度の低圧に設定される。
【００３９】
液吐出ノズル２８の吐出口３０から搬送ローラ１６に向けての現像液１４の吐出は、図２に示した液吐出ノズル２０と同様に、基板１を搬送しつつ処理している期間中においては、搬送ローラ２４および液切りローラ２６が基板１と接触しておらず、かつ、基板１がその搬送ローラ１６の近傍にも存在していないときに行い、搬送ローラ２４および液切りローラ２６が基板１と接触しているときや近傍に基板１が存在しているときには液吐出ノズル２８の吐出口３０から現像液が吐出されないようにする。また、基板１を搬送していない期間中においては、液吐出ノズル２８の吐出口３０から液切りローラ２６に向けての現像液１４の吐出は、一定時間ごとに間欠的に行うようにする。
【００４０】
図４に示した構成を備えた装置では、液吐出ノズル２８の吐出口３０から液切りローラ２６に向かって現像液１４が吐出されることにより、液切りローラ２６は現像液で常時濡れた状態となる。また、液切りローラ２６の周面上に吐出された現像液１４は、液切りローラ２６の周面を伝って下方の搬送ローラ２４の周面へ流下することにより、搬送ローラ２４も現像液で常時濡れた状態となる。このため、基板１の上面側に接触する液切りローラ２６に、例えばレジストを含んだ現像液が付着し、また、基板１の表面上からこぼれ落ちたレジスト含有現像液が搬送ローラ２４に付着しても、現像液は乾くことがないので、レジスト分が固化することはなくなる。したがって、固化したレジストによって液切りローラ２６および搬送ローラ２４が汚染されることが防止される。また、液吐出ノズル２８の吐出口３０からは現像液１４が低圧で吐出され、かつ、搬送ローラ２４の近傍位置から液切りローラ２６に向かって現像液１４が吐出されるので、液撥ねが生じにくく、現像液１４が広範囲に飛散することはない。したがって、レジストを含有した現像液を循環させつつ再利用するような場合であっても、レジスト含有現像液が液撥ねによって基板１を汚染したりセンサー等の機器に付着して誤動作を招いたりする、といったことがない。また、液吐出ノズル２８は、基板１の高さ位置より下方に配設されているので、吐出口３０からレジスト含有現像液がぼた落ちしたとしても、その現像液が基板１上に付着する心配は無い。
【００４１】
図５および図６は、第３の発明の変形例を示し、図５は、現像処理装置の構成要素の１つである搬送ローラおよび液切りローラを示す側面断面図であり、図６は同じく正面図である。この図５および図６に示す搬送ローラ６０および液切りローラ５２、５４は、図７に示した現像処理装置の処理槽２の出口側開口３ｂ付近に配置された搬送ローラ４ｃとその近傍のものを示す。
【００４２】
この変形例に係る現像処理装置は、処理槽２内のほとんどの領域では基板１を水平姿勢で搬送し、処理槽２の下流側付近で基板１を傾斜姿勢にして次工程へ搬出するものである。そのため、処理槽２の下流側付近（すなわち出口側開口３ｂに近い位置）を除いた領域では、基板１は、処理槽２内に固定された搬送ローラ６２によって水平姿勢で搬送される。また、それ以外の領域、すなわち出口側開口３ｂに近い領域では、基板１は、搬送ローラ６０および液切りローラ５２、５４によって搬送される。液切りローラ５２、５４は、その間を基板１が通過可能なように微小な隙間を形成するように設けられている。搬送ローラ６０および液切りローラ５２、５４は、ローラ取付部材６４、６６に取り付けられる。ローラ取付部材６４、６６は、図６に示すように、液切りローラ５２の回転軸６８の延長線上の点Ｏを通りかつ基板の搬送方向と平行な直線（図６中で点Ｏを通りかつ紙面に垂直な直線）を中心として、図示しない駆動源の駆動によって上下方向に所定角度（一点鎖線ＡとＡ’とのなす角度）だけ旋回可能に設けられている。
【００４３】
ローラ取付部材６４、６６が最も下の位置にある状態では、図５の（ａ）および図６中の実線で示すように、搬送ローラ６０および液切りローラ５２、５４は水平位置となる。そして、この水平位置の液切りローラ５２と隣接する搬送ローラ６０との間には、基板１が搬送ローラ６０の上に搬送されてきたことを検出する検出装置７０の振り子７２が設けられている。振り子７２の下流側には、水平位置にある液切りローラ５４に対して現像液を吐出する液吐出ノズル７４が設けられている。液吐出ノズル７４は、水平位置の液切りローラ５４と略平行になるように設けられたノズル管７５に、図５の紙面奥行き方向に複数列設されている。検出装置７０およびノズル管７５は、処理槽２に固定して設けられる。また、ローラ取付部材６４、６６に取り付けられた搬送ローラ６０のうち最も上流側のものと搬送ローラ６２との間にも、基板１を検出する検出装置７６が設けられている。
【００４４】
ローラ取付部材６４、６６が最も上の位置にある状態では、図５の（ｂ）および図６中の二点鎖線で示すように、搬送ローラ６０および液切りローラ５２、５４は、点Ｏの側が低くなるように傾斜し、しかもかつ、それら搬送ローラ６０および液切りローラ５２、５４は、その最も低い位置が、ノズル管７５よりも高い位置となる。なお、図５の（ｂ）では、奥行き方向のローラの傾斜は考慮して描いていない。
【００４５】
この現像処理装置の動作は、次のとおりである。現像処理装置において、基板１は、処理槽２の入口側開口（図５には図示せず）から水平姿勢で搬入され、現像液吐出ノズル５から吐出された現像液が基板１上に液盛りされ、その状態で現像処理を行いながら搬送ローラ６２によって水平姿勢のまま下流側に向かって搬送される。このとき、ローラ取付部材６４、６６は最も下の位置にあり、搬送ローラ６０および液切りローラ５２、５４は水平位置となっている。そしてかつ、このとき液吐出ノズル７４から現像液が吐出されており、吐出された現像液は液切りローラ５４にかかり、液切りローラ５４は現像液で濡れた状態に保たれる。また、液切りローラ５４の下側にある液切りローラ５２も、液切りローラ５４から流下した現像液で濡れた状態に保たれる。このため、液切りローラ５２、５４が乾燥してレジスト分が固化することはない。
【００４６】
そして、基板１が搬送されてきて検出装置７６の振り子７８を動かすと、液吐出ノズル７４からの現像液の吐出は停止させられる。これは、基板１が液吐出ノズル７４に近づいたため、液吐出ノズル７４からの現像液の吐出を続けると、吐出された現像液の飛沫が基板１にかかって処理むら等の不都合を生じさせる可能性があるためである。そして、さらに基板１が搬送されて検出装置７０の振り子７２を動かすと、搬送ローラ６０の回転駆動が停止され、基板１が搬送ローラ６０上に停止する。そして、その後、前記駆動源が駆動されて、ローラ取付部材６４、６６が上昇して搬送ローラ６０は点Ｏ側が低くなるように傾斜し、その上に乗っている基板１も傾斜姿勢となる。これにより、基板１の上に液盛りされていた現像液の大半は下側に流れ落ちて大まかに液切りされる。そして、液の大部分が流れ落ちると、再び搬送ローラ６０および液切りローラ５２、５４が回転駆動され、基板１は傾斜姿勢のままで下流側に向けて搬送され、この傾斜姿勢の位置にあわせて形成された出口側開口３ｂから搬出されて次工程へ搬送される。このとき、ローラ取付部材６４、６６が上昇していることから、液吐出ノズル７４や検出装置７０の振り子７２は、搬送ローラ６０よりも下方に位置することになり、基板１の搬送の障害となることはなく、また、液吐出ノズル７４から液が不用意に漏れ出てきても、基板１に付着することがない。基板１が出口側開口３ｂから搬出されると、ローラ取付部材６４、６６が下降して次の基板を待つ。
【００４９】
なお、図２ないし図６に示した実施形態における上述した記載においては、現像処理装置について説明したが、この発明は、洗浄、エッチング、剥膜などの処理を行う基板処理装置にも適用することが可能である。
【００５０】
【発明の効果】
請求項１に係る発明の基板処理装置を使用すると、処理槽内において基板を搬送しつつ基板に対し現像液を供給して基板の処理を行う場合に、レジストを含んだ現像液によって搬送ローラが汚染されることを防止することができ、基板の汚染や機器の誤動作などを防ぐことができる。そして、処理槽の内部の清掃作業を頻繁に行う必要も無いので、処理効率の低下や作業の煩雑さを招くことがない。
請求項２および請求項３に係る各発明の基板処理装置を使用すると、処理槽内において基板を搬送しつつ基板に対し処理液を供給して基板の処理を行う場合に、レジストを含んだ現像液のように固化成分を含んだ処理液によって搬送ローラまたは上部ローラおよび搬送ローラが汚染されることを防止することができ、基板の汚染や機器の誤動作などを防ぐことができる。そして、処理槽の内部の清掃作業を頻繁に行う必要も無いので、処理効率の低下や作業の煩雑さを招くことがない。
【００５１】
請求項４に係る発明の基板処理装置では、搬送ローラおよび上部ローラが上方および下方のいずれに位置したときでも、液吐出手段の吐出口から処理液、例えばレジストを含有した現像液がぼた落ちしたとしても現像液が基板上に付着する心配が無い。
【００５２】
請求項５に係る発明の基板処理装置では、搬送ローラおよび上部ローラが鉛直面内で揺動することにより上方位置と下方位置との間を移動し、上方位置においては搬送ローラによって支持される基板が傾斜することにより、基板の表面上から処理液の一部が流れ落ちて除去される。
【００５３】
請求項６に係る発明の基板処理装置では、液切りローラによって基板から処理液、例えばレジストを含んだ現像液が除去された際に液切りローラの周面にレジスト含有現像液が付着しても、液切りローラの周面でレジスト分が固化することを防止することができる。
【００５４】
請求項７に係る発明の基板処理装置では、例えばレジストを含有した現像液を循環させつつ湿潤用液として再利用するような場合に、液吐出手段の吐出口から吐出されたレジスト含有現像液によって基板を汚染する、といった心配を無くすことができる。
【００５５】
請求項８に係る発明の基板処理装置では、液撥ねがより生じにくく、湿潤用液の飛散をより効果的に抑えることができる。
【００５６】
請求項９に係る発明の基板処理装置では、搬送ローラまたは上部ローラおよび搬送ローラが汚染されることを防止しつつ、湿潤用液の使用量を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１の発明の実施形態の１例を示し、現像処理装置の構成要素の１つである搬送ローラの１つを一部断面で示す側面図である。
【図２】第２の発明の実施形態の１例を示し、現像処理装置の構成要素の１つである搬送ローラの１つを示す側面図である。
【図３】第２の発明の別の実施形態を示す搬送ローラの側面図である。
【図４】第３の発明の実施形態の１例を示し、現像処理装置の構成要素の１つである搬送ローラおよび液切りローラを示す側面図である。
【図５】第３の発明の変形例を示し、現像処理装置の構成要素の１つである搬送ローラおよび液切りローラを示す側面断面図である。
【図６】図５に示した液切りローラの正面図である。
【図７】 現像処理装置の概略構成の１例を示す模式図である。
【符号の説明】
１ 基板
２、３２ 処理槽
１０、１６、２４、６０、６２ 搬送ローラ
１２ 液溜めバット
１４ 現像液
２０、２８、３６ 液吐出ノズル
２２、３０、３８ 液吐出ノズルの吐出口
２６ 液切りローラ
３４ 処理槽の内底面
５２、５４ 液切りローラ
６４、６６ ローラ取付部材
７０、７６ 検出装置
７４ 液吐出ノズル
７５ ノズル管
【発明の属する技術分野】
この発明は、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板、半導体ウエハ、プリント基板等の基板を１枚ずつ、並列して設置された複数の搬送ローラによって支持し搬送しながら、基板に対し洗浄、現像、エッチング、剥膜などの処理を施す基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えば基板上に配線パターンを形成するプロセスにおいて、基板の表面に形成されたフォトレジスト膜を現像する場合、基板を１枚ずつ横置きで搬送ローラによって搬送しつつ基板上に現像液を盛り、液盛りしてから所定時間が経過した後に現像反応を停止させる方式のローラ搬送式現像処理装置が使用される。この現像処理装置の概略構成の１例を図７に模式的に示す。
【０００３】
図７に示した現像処理装置は、入口側開口３ａおよび出口側開口３ｂを有する処理槽２を備え、処理槽２の内部には、複数の搬送ローラ４ａ、４ｂ、４ｃが並列して配設されている。そして、基板１は、入口側開口３ａを通って処理槽２内へ搬入され、搬送ローラ４ａ〜４ｃにより支持されて水平方向へ搬送され、処理槽２内から出口側開口３ｂを通って搬出されて、次の水洗処理槽（図示せず）へ送られるようになっている。処理槽２の内部の入口側開口３ａ付近には、現像液吐出ノズル５が配設されている。また、処理槽２の内部の出口側開口３ｂの付近には、搬送ローラ４ｃの直上に搬送ローラ４ｃと対向するように、搬送ローラ４ｃに支持されて搬送される基板１の上面側に接触する液切りローラ６が配設されている。
【０００４】
このような構成の現像処理装置において、表面に露光済みのフォトレジスト膜が形成された基板１は、処理槽２の入口側開口３ａ付近に配設された現像液吐出ノズル５の直下位置を通過する際に、現像液吐出ノズル５下端面のスリット状吐出口から吐出される現像液７が表面上に盛られる。液盛りされた基板１は、搬送ローラ４ａ、４ｂによって搬送されている間にフォトレジスト膜の現像反応が進行する。基板１が処理槽２の出口側開口３ｂの付近まで搬送されてくると、液切りローラ６によって基板１上から現像液７が除去され、その後に、処理槽２内から搬出される。そして、基板１は、次の水洗処理槽へ送られて、フォトレジスト膜の現像反応が完全に停止させられる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上記したような現像処理装置において、基板１の表面上から現像液７、特にレジストを含んだ現像液７がこぼれ落ちると、その現像液が搬送ローラ４ａ〜４ｃの周面や処理槽２の内壁面等に付着することになる。また、液切りローラ６の周面は、レジストを含んだ現像液７が常に付着した状態となっている。それらの部材に付着した現像液が乾くと、レジスト分が固化して部材が汚染される。このため、パーティクルが発生して基板１を汚染したり、センサー等の機器の誤動作を招く原因となったりする、といった問題を生じることになる。一方、それらの問題が起こらないようにするには、処理槽２内部の清掃作業を頻繁に行う必要があるが、処理効率の低下や作業の煩雑さを招くことになる。
【０００６】
なお、上記方式とは異なる方式、すなわち、処理槽内にスプレイノズルを設置し、スプレイノズルから現像液等を、処理槽の内部全体に拡散するようにミスト状に噴出させる現像方式をとる場合には、搬送ローラや処理槽の内壁面、センサーなどの表面が現像液等で常時濡れた状態となるため、固化したレジストによる汚染が起こりにくくなり、上記した問題は生じにくい。しかしながら、現像液等のミストが行き届きにくい個所に搬送ローラなどが設置されている場合には、やはりレジストを含んだ現像液による搬送ローラ等の汚染を生じることになる。また、この方式は、基本的に、ミスト発生を抑制する必要のあるプロセスでは採用することができない。
【０００７】
この発明は、以上のような事情に鑑みてなされたものであり、処理槽内において基板を搬送しつつ基板に対し処理液を供給して基板の処理を行う場合に、固化成分を含んだ処理液によって搬送ローラや処理槽の内壁面などが汚染されることを防止することができ、基板の汚染や機器の誤動作などを防ぐことができる基板処理装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
請求項１に係る発明は、処理槽内において基板を搬送しつつ基板の表面に形成されたレジスト膜を現像液で処理する基板処理装置において、基板の下面側に接触し基板を支持して搬送する搬送ローラの直下に液溜め容器を配設し、その液溜め容器内へ現像液を供給して液溜め容器内を常に現像液で満たす液供給手段を備え、前記液溜め容器内に満たされた現像液中に前記搬送ローラの周面の一部を浸漬させておくことを特徴とする。
【０００９】
請求項２に係る発明は、処理槽内において基板を搬送しつつ基板を処理液で処理する基板処理装置において、基板の下面側に接触し基板を支持して搬送する搬送ローラに近接しかつ搬送ローラによって支持される基板の高さ位置より下方に、吐出口が搬送ローラと対向するように液吐出手段を配設し、その液吐出手段へ湿潤用液を供給する液供給手段を備え、基板を搬送して基板を処理している期間中において、前記搬送ローラが基板の下面側と接触していないときに前記液吐出手段の吐出口から湿潤用液を吐出し搬送ローラが基板の下面側と接触しているときには液吐出手段の吐出口から湿潤用液を吐出しないように、前記液供給手段から液吐出手段へ間欠的に湿潤用液を供給するようにすることを特徴とする。
【００１０】
請求項３に係る発明は、処理槽内において基板を搬送しつつ基板を処理液で処理する基板処理装置において、基板の下面側に接触し基板を支持して搬送する搬送ローラの近傍であって搬送ローラによって支持される基板の高さ位置より下方に、前記搬送ローラの直上に搬送ローラと対向するように配設され搬送ローラに支持されて搬送される基板の上面側に接触する上部ローラと吐出口が対向するように液吐出手段を配設し、その液吐出手段へ湿潤用液を供給する液供給手段を備えたことを特徴とする。
【００１１】
請求項４に係る発明は、請求項３記載の基板処理装置において、前記搬送ローラおよび前記上部ローラを上方位置と下方位置との間で移動可能に支持し、前記液吐出手段は、搬送ローラおよび上部ローラが上方に位置したときに、搬送ローラによって支持される基板の高さ位置より下方に位置するように配設され、搬送ローラおよび上部ローラが下方に位置したときには、前記搬送ローラが、それより基板の搬送方向における上流側に配設された別の搬送ローラと同じ高さに位置するとともに、搬送ローラおよび上部ローラに基板が接触しないように制御されることを特徴とする。
【００１２】
請求項５に係る発明は、請求項４記載の基板処理装置において、前記搬送ローラおよび前記上部ローラを、搬送ローラの軸心線の延長線上の一点を中心として鉛直面内で揺動するように支持して、傾斜姿勢となる上方位置と水平姿勢となる下方位置との間で移動させることを特徴とする。
【００１３】
請求項６に係る発明は、請求項４または請求項５記載の基板処理装置において、前記搬送ローラと前記上部ローラとが液切りローラであり、その液切りローラと前記別の搬送ローラとの間に、液切りローラと一体的に上方位置と下方位置との間を移動するように支持され基板の下面側に接触し基板を支持して搬送する複数の搬送ローラを配設したことを特徴とする。
【００１４】
請求項７に係る発明は、請求項３ないし請求項６のいずれかに記載の基板処理装置において、基板を搬送して基板を処理している期間中において、前記搬送ローラが基板の下面側と接触していないときに前記液吐出手段の吐出口から湿潤用液を吐出し搬送ローラが基板の下面側と接触しているときには液吐出手段の吐出口から湿潤用液を吐出しないように、前記液供給手段から液吐出手段へ間欠的に湿潤用液を供給するようにすることを特徴とする。
【００１５】
請求項８に係る発明は、請求項２ないし請求項７のいずれかに記載の基板処理装置において、前記液供給手段は、その吐出口から前記搬送ローラに向けて吐出された湿潤用液が液撥ねによって飛散しない程度の低圧で前記液吐出手段へ湿潤用液を供給することを特徴とする。
【００１６】
請求項９に係る発明は、請求項２ないし請求項８のいずれかに記載の基板処理装置において、基板を搬送していない期間中において、前記液供給手段から前記液吐出手段へ一定時間ごとに間欠的に湿潤用液を供給するようにすることを特徴とする。
【００１８】
請求項１に係る発明の基板処理装置においては、液供給手段から液溜め容器内へ現像液が供給されて、液溜め容器内が常に現像液で満たされ、その液溜め容器内に満たされた現像液中に搬送ローラの周面の一部が浸漬させられる。これにより、搬送ローラの周面は現像液で常時濡れた状態となる。このため、基板の表面上からレジストを含んだ現像液がこぼれ落ちて搬送ローラの周面に付着しても、現像液は乾くことがないので、レジスト分が固化することはなくなる。したがって、固化したレジストによって搬送ローラが汚染される、といったことが避けられる。また、液溜め容器内に満たされた現像液中に搬送ローラが浸漬させられるだけであるので、液撥ねの起こる心配が無い。したがって、レジストを含有した現像液を循環させつつ再利用するような場合であっても、液撥ねにより、レジスト含有現像液が基板に付着して基板を汚染したり、レジスト含有現像液がセンサー等の機器に付着して誤動作を招いたりする、といったことがない。
【００１９】
請求項２に係る発明の基板処理装置においては、液吐出手段の吐出口から搬送ローラに向かって湿潤用液が吐出されることにより、搬送ローラは湿潤用液で常時濡れた状態となる。このため、基板の表面上から処理液、例えばレジストを含んだ現像液がこぼれ落ちて搬送ローラに付着しても、現像液は乾くことがないので、レジスト分が固化することはなくなる。したがって、固化したレジストによって搬送ローラが汚染される、といったことが避けられる。また、液吐出手段は搬送ローラに近接して配設されているので、液撥ねが生じにくく、湿潤用液が広範囲に飛散することはない。したがって、例えばレジストを含有した現像液を循環させつつ湿潤用液として再利用するような場合であっても、液撥ねにより、レジスト含有現像液が基板に付着して基板を汚染したり、レジスト含有現像液がセンサー等の機器に付着して誤動作を招いたりする、といったことがない。また、液吐出手段が基板の高さ位置より下方に配設されているので、液吐出手段の吐出口からレジスト含有現像液がぼた落ちしたとしても、現像液が基板上に付着することはない。そして、この基板処理装置では、基板を搬送して基板を処理している期間中において、搬送ローラが基板の下面側と接触していないときに液吐出手段の吐出口から湿潤用液が吐出され、搬送ローラが基板の下面側と接触しているときには液吐出手段の吐出口から湿潤用液が吐出されないので、例えばレジストを含有した現像液を循環させつつ湿潤用液として再利用するような場合に、液吐出手段の吐出口から吐出されたレジスト含有現像液が基板に付着して基板を汚染する、といった心配が無い。
【００２０】
請求項３に係る発明の基板処理装置においては、液吐出手段の吐出口から搬送ローラの直上に配設された上部ローラに向かって湿潤用液が吐出されることにより、上部ローラは湿潤用液で常時濡れた状態となるとともに、上部ローラの周面を伝って湿潤用液が搬送ローラの周面へ流下することにより、搬送ローラも湿潤用液で常時濡れた状態となる。このため、基板の上面側に接触する上部ローラに処理液、例えばレジストを含んだ現像液が付着しても、また、基板の表面上から現像液がこぼれ落ちて搬送ローラに付着しても、現像液は乾くことがないので、レジスト分が固化することはなくなる。したがって、固化したレジストによって上部ローラおよび搬送ローラが汚染される、といったことが避けられる。また、液吐出手段は搬送ローラの近傍に配設されているので、液撥ねが生じにくく、湿潤用液が広範囲に飛散することはない。したがって、例えばレジストを含有した現像液を循環させつつ湿潤用液として再利用するような場合であっても、液撥ねにより、レジスト含有現像液が基板に付着して基板を汚染したり、レジスト含有現像液がセンサー等の機器に付着して誤動作を招いたりする、といったことがない。また、液吐出手段が基板の高さ位置より下方に配設されているので、液吐出手段の吐出口からレジスト含有現像液がぼた落ちしたとしても、現像液が基板上に付着することはない。
【００２１】
請求項４に係る発明の基板処理装置では、搬送ローラおよび上部ローラが上方に位置したときに、液吐出手段が基板の高さ位置より下方に位置するので、液吐出手段の吐出口から処理液、例えばレジストを含んだ現像液がぼた落ちしたとしても、現像液が基板上に付着することはない。一方、搬送ローラおよび上部ローラが下方に位置したときには、搬送ローラおよび上部ローラに基板が接触しないので、液吐出手段の吐出口からレジスト含有現像液がぼた落ちしたとしても、現像液が基板上に付着する心配が無い。
【００２２】
請求項５に係る発明の基板処理装置では、搬送ローラおよび上部ローラは、搬送ローラの軸心線の延長線上の一点を中心として鉛直面内で揺動することにより、上方位置と下方位置との間を移動する。そして、上方位置においては搬送ローラおよび上部ローラが傾斜姿勢となるので、搬送ローラによって支持される基板も傾斜し、このため、基板の表面上から処理液が流れ落ちる。
【００２３】
請求項６に係る発明の基板処理装置では、液切りローラにより、搬送ローラによって支持され搬送されてきた基板から処理液、例えばレジストを含んだ現像液が除去され、その際に液切りローラの周面にレジスト含有現像液が付着しても、液切りローラは湿潤用液で常時濡れた状態とされるので、現像液は乾くことがなく、このため、液切りローラの周面でレジスト分が固化することはなくなる。
【００２４】
請求項７に係る発明の基板処理装置では、基板を搬送して基板を処理している期間中において、搬送ローラが基板の下面側と接触していないときに液吐出手段の吐出口から湿潤用液が吐出され、搬送ローラが基板の下面側と接触しているときには液吐出手段の吐出口から湿潤用液が吐出されないので、例えばレジストを含有した現像液を循環させつつ湿潤用液として再利用するような場合に、液吐出手段の吐出口から吐出されたレジスト含有現像液が基板に付着して基板を汚染する、といった心配が無い。
【００２５】
請求項８に係る発明の基板処理装置では、液供給手段から液吐出手段へは、液吐出手段の吐出口から搬送ローラに向けて吐出された湿潤用液が液撥ねによって飛散しない程度の低圧で湿潤用液が供給されるので、液撥ねがより生じにくく、湿潤用液が広範囲に飛散することはない。
【００２６】
請求項９に係る発明の基板処理装置では、基板を搬送していない期間中において、液供給手段から液吐出手段へ一定時間ごとに間欠的に湿潤用液が供給されるので、搬送ローラまたは上部ローラおよび搬送ローラは湿潤用液で濡れた状態に保たれるとともに、湿潤用液の使用量が低減される。
【００２８】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の好適な実施形態について図１ないし図６を参照しながら説明する。
【００２９】
図１は、第１の発明の実施形態の１例を示し、基板処理装置の１つである現像処理装置の構成要素の１つである搬送ローラの１つを一部断面で示す側面図である。現像処理装置の全体の構成については、図７に基づいて上述したので、その説明を省略するが、図１に示す搬送ローラ１０は、図７に示した現像処理装置の複数の搬送ローラ４ａ〜４ｃのうち、処理槽２の中間辺りに配置された搬送ローラ４ｂに対応するものである。
【００３０】
搬送ローラ１０は、その周面が基板１の下面側の幅方向全体にわたって接触する円柱状をなしている。この搬送ローラ１０は、基板１を支持して搬送するとともに、基板１の下面側の幅方向全体にわたって接触しつつ回転することにより基板の下面側を洗浄する機能を有している。搬送ローラ１０の直下には、液溜めバット１２が配設されている。液溜めバット１２内には、液供給源から供給される現像液、例えば基板１の表面上から処理槽底部に流下して回収タンク（図示せず）に回収され回収タンクから送液される現像液１４が収容されている。液溜めバット１２内へは、連続して現像液が供給されており、液溜めバット１２内は常に現像液１４で満たされた状態であり、液溜めバット１２の上部から溢れ出た現像液は回収されて循環使用される。そして、液溜めバット１２内に満たされた現像液１４中に搬送ローラ１０の周面の一部が浸漬させられている。
【００３１】
図１に示した構成を備えた装置では、液溜めバット１２内に満たされた現像液１４中に搬送ローラ１０の周面の一部が浸漬させられるので、搬送ローラ１０の周面は現像液１４で常時濡れた状態となる。このため、基板１の表面上からレジストを含んだ現像液がこぼれ落ちて搬送ローラ１０の周面に付着しても、搬送ローラ１０の周面で現像液が乾いてレジスト分が固化する、といったことはなくなる。したがって、固化したレジストによる搬送ローラ１０の汚染の心配が無くなる。また、液溜めバット１２内に満たされた現像液１４中に搬送ローラ１０が浸漬させられるだけであるので、液撥ねを生じる恐れは無い。したがって、液撥ねにより、レジストを含有した現像液が基板１に付着して基板１を汚染したり、レジスト含有現像液がセンサー等の機器に付着して誤動作を招いたりする、といったことは起こらない。
【００３２】
次に、図２は、第２の発明の実施形態の１例を示し、現像処理装置の構成要素の１つである搬送ローラの１つを示す側面図である。この図２に示す搬送ローラ１６は、図７に示した現像処理装置の複数の搬送ローラ４ａ〜４ｃのうち、処理槽２の中間辺りおよび出口側開口３ｂ付近にそれぞれ配置された搬送ローラ４ｂ、４ｃを除いた大部分の搬送ローラ４ａに対応するものである。
【００３３】
搬送ローラ１６は、円板形であって、回転支軸１８の両端部に一対固着され、あるいは回転支軸１８に複数個、例えば回転支軸１８の両端部および中央部に３個固着されている。そして、この搬送ローラ１６に近接した位置であって搬送ローラ１６で支持される基板１の高さ位置より下方の位置に、吐出口２２が搬送ローラ１６と対向するように液吐出ノズル２０が配設されている。液吐出ノズル２０には、例えば基板１の表面上から処理槽底部に流下して回収タンクに回収された現像液が回収タンクから供給されている。このとき、液吐出ノズル２０へ現像液を供給する圧力は、吐出口２２から搬送ローラ１６に向けて吐出された現像液１４が液撥ねによって飛散しない程度の低圧に設定される。
【００３４】
液吐出ノズル２０の吐出口２２から搬送ローラ１６に向けての現像液１４の吐出は、基板１を搬送しつつ処理している期間中においては、搬送ローラ１６が基板１の下面側と接触しておらず、かつ、基板１がその搬送ローラ１６の近傍にも存在していないときに行い、搬送ローラ１６が基板１の下面側と接触しているときや近傍に基板１が存在しているときには液吐出ノズル２０の吐出口２２から現像液を吐出しないようにする。このように現像液の吐出を間欠的に行うことにより、レジストを含有した現像液を循環させつつ再利用するような場合に、液吐出ノズル２０の吐出口２２から吐出されたレジスト含有現像液やその飛沫が基板１に付着して基板１を汚染する恐れを無くすことができる。一方、基板１を搬送していない期間中においては、液吐出ノズル２０の吐出口２２から搬送ローラ１６に向けての現像液１４の吐出は、一定時間ごとに間欠的に行うようにする。このように現像液の吐出を一定時間ごとに間欠的に行うことにより、基板１の処理を行っていない間も搬送ローラ１６を濡れた状態に保ってレジスト分の固化を防ぐことができるとともに、現像液の使用量を低減することができる。
【００３５】
図２に示した構成を備えた装置では、液吐出ノズル２０の吐出口２２から搬送ローラ１６に向かって現像液１４が吐出されることにより、搬送ローラ１６は現像液１４で常時濡れた状態となる。このため、基板１の表面上から、例えばレジストを含んだ現像液がこぼれ落ちて搬送ローラ１６に付着しても、現像液は乾くことがないので、レジスト分は固化しなくなる。したがって、固化したレジストによって搬送ローラ１６が汚染される、といったことが防止される。また、液吐出ノズル２０の吐出口２２からは現像液１４が低圧で吐出され、かつ、搬送ローラ１６の近接位置から搬送ローラ１６に向かって現像液１４が吐出されるので、液撥ねが生じにくく、現像液１４が広範囲に飛散することはない。したがって、レジストを含有した現像液を循環させつつ再利用するような場合であっても、レジスト含有現像液が液撥ねによって基板１を汚染したりセンサー等の機器に付着して誤動作を招いたりする、といったことがない。また、液吐出ノズル２０は、基板１の高さ位置より下方に配設されているので、吐出口２２からレジスト含有現像液がぼた落ちしたとしても、その現像液が基板１上に付着する心配は無い。
【００３６】
また、図３は、第２の発明の別の実施形態を示す搬送ローラの側面図である。この図３に示した実施形態では、液吐出ノズル２０の吐出口２２が斜め下向きに設置されている。図２に示した実施形態のように、吐出口２２が上向きとなるように液吐出ノズル２０を配置すると、吐出口２２からの液吐出を停止させた時に吐出口２２から液がぼた落ちする心配が無くなるのに対し、図３に示した実施形態では、吐出口２２から液がぼた落ちする可能性がある。ただし、液吐出ノズル２０は、二点鎖線Ｌで示す基板１の高さ位置より下方に配設されているので、吐出口２２からぼた落ちしたレジスト含有現像液が基板１上に付着する心配は無い。
【００３７】
次に、図４は、第３の発明の実施形態の１例を示し、現像処理装置の構成要素の１つである搬送ローラおよび液切りローラを示す側面図である。この図４に示す搬送ローラ２４は、図７に示した現像処理装置の複数の搬送ローラ４ａ〜４ｃのうち、処理槽２の出口側開口３ｂ付近に配置された搬送ローラ４ｃに対応するものである。
【００３８】
搬送ローラ２４の直上に搬送ローラ２４と対向するように配設された液切りローラ２６は、その周面が基板１の上面側の幅方向全体にわたって接触する円柱状をなしており、搬送ローラ２４によって支持され搬送される基板１の上面側の幅方向全体にわたって接触しつつ回転することにより、基板１上に盛られた使用済みの現像液を基板１上から除去する機能を有している。そして、搬送ローラ２４の近傍であって搬送ローラ２４によって支持され搬送される基板１の高さ位置（図４中に二点鎖線Ｌで示す）より下方に、液切りローラ２６と吐出口３０が対向するように液吐出ノズル２８が配設されている。この液吐出ノズル２８には、図２に示した液吐出ノズル２０と同様に、例えば基板１の表面上から処理槽底部に流下して回収タンクに回収された現像液が回収タンクから供給されている。このとき、液吐出ノズル２８へ現像液を供給する圧力は、吐出口３０から液切りローラ２６に向けて吐出された現像液１４が液撥ねによって飛散しない程度の低圧に設定される。
【００３９】
液吐出ノズル２８の吐出口３０から搬送ローラ１６に向けての現像液１４の吐出は、図２に示した液吐出ノズル２０と同様に、基板１を搬送しつつ処理している期間中においては、搬送ローラ２４および液切りローラ２６が基板１と接触しておらず、かつ、基板１がその搬送ローラ１６の近傍にも存在していないときに行い、搬送ローラ２４および液切りローラ２６が基板１と接触しているときや近傍に基板１が存在しているときには液吐出ノズル２８の吐出口３０から現像液が吐出されないようにする。また、基板１を搬送していない期間中においては、液吐出ノズル２８の吐出口３０から液切りローラ２６に向けての現像液１４の吐出は、一定時間ごとに間欠的に行うようにする。
【００４０】
図４に示した構成を備えた装置では、液吐出ノズル２８の吐出口３０から液切りローラ２６に向かって現像液１４が吐出されることにより、液切りローラ２６は現像液で常時濡れた状態となる。また、液切りローラ２６の周面上に吐出された現像液１４は、液切りローラ２６の周面を伝って下方の搬送ローラ２４の周面へ流下することにより、搬送ローラ２４も現像液で常時濡れた状態となる。このため、基板１の上面側に接触する液切りローラ２６に、例えばレジストを含んだ現像液が付着し、また、基板１の表面上からこぼれ落ちたレジスト含有現像液が搬送ローラ２４に付着しても、現像液は乾くことがないので、レジスト分が固化することはなくなる。したがって、固化したレジストによって液切りローラ２６および搬送ローラ２４が汚染されることが防止される。また、液吐出ノズル２８の吐出口３０からは現像液１４が低圧で吐出され、かつ、搬送ローラ２４の近傍位置から液切りローラ２６に向かって現像液１４が吐出されるので、液撥ねが生じにくく、現像液１４が広範囲に飛散することはない。したがって、レジストを含有した現像液を循環させつつ再利用するような場合であっても、レジスト含有現像液が液撥ねによって基板１を汚染したりセンサー等の機器に付着して誤動作を招いたりする、といったことがない。また、液吐出ノズル２８は、基板１の高さ位置より下方に配設されているので、吐出口３０からレジスト含有現像液がぼた落ちしたとしても、その現像液が基板１上に付着する心配は無い。
【００４１】
図５および図６は、第３の発明の変形例を示し、図５は、現像処理装置の構成要素の１つである搬送ローラおよび液切りローラを示す側面断面図であり、図６は同じく正面図である。この図５および図６に示す搬送ローラ６０および液切りローラ５２、５４は、図７に示した現像処理装置の処理槽２の出口側開口３ｂ付近に配置された搬送ローラ４ｃとその近傍のものを示す。
【００４２】
この変形例に係る現像処理装置は、処理槽２内のほとんどの領域では基板１を水平姿勢で搬送し、処理槽２の下流側付近で基板１を傾斜姿勢にして次工程へ搬出するものである。そのため、処理槽２の下流側付近（すなわち出口側開口３ｂに近い位置）を除いた領域では、基板１は、処理槽２内に固定された搬送ローラ６２によって水平姿勢で搬送される。また、それ以外の領域、すなわち出口側開口３ｂに近い領域では、基板１は、搬送ローラ６０および液切りローラ５２、５４によって搬送される。液切りローラ５２、５４は、その間を基板１が通過可能なように微小な隙間を形成するように設けられている。搬送ローラ６０および液切りローラ５２、５４は、ローラ取付部材６４、６６に取り付けられる。ローラ取付部材６４、６６は、図６に示すように、液切りローラ５２の回転軸６８の延長線上の点Ｏを通りかつ基板の搬送方向と平行な直線（図６中で点Ｏを通りかつ紙面に垂直な直線）を中心として、図示しない駆動源の駆動によって上下方向に所定角度（一点鎖線ＡとＡ’とのなす角度）だけ旋回可能に設けられている。
【００４３】
ローラ取付部材６４、６６が最も下の位置にある状態では、図５の（ａ）および図６中の実線で示すように、搬送ローラ６０および液切りローラ５２、５４は水平位置となる。そして、この水平位置の液切りローラ５２と隣接する搬送ローラ６０との間には、基板１が搬送ローラ６０の上に搬送されてきたことを検出する検出装置７０の振り子７２が設けられている。振り子７２の下流側には、水平位置にある液切りローラ５４に対して現像液を吐出する液吐出ノズル７４が設けられている。液吐出ノズル７４は、水平位置の液切りローラ５４と略平行になるように設けられたノズル管７５に、図５の紙面奥行き方向に複数列設されている。検出装置７０およびノズル管７５は、処理槽２に固定して設けられる。また、ローラ取付部材６４、６６に取り付けられた搬送ローラ６０のうち最も上流側のものと搬送ローラ６２との間にも、基板１を検出する検出装置７６が設けられている。
【００４４】
ローラ取付部材６４、６６が最も上の位置にある状態では、図５の（ｂ）および図６中の二点鎖線で示すように、搬送ローラ６０および液切りローラ５２、５４は、点Ｏの側が低くなるように傾斜し、しかもかつ、それら搬送ローラ６０および液切りローラ５２、５４は、その最も低い位置が、ノズル管７５よりも高い位置となる。なお、図５の（ｂ）では、奥行き方向のローラの傾斜は考慮して描いていない。
【００４５】
この現像処理装置の動作は、次のとおりである。現像処理装置において、基板１は、処理槽２の入口側開口（図５には図示せず）から水平姿勢で搬入され、現像液吐出ノズル５から吐出された現像液が基板１上に液盛りされ、その状態で現像処理を行いながら搬送ローラ６２によって水平姿勢のまま下流側に向かって搬送される。このとき、ローラ取付部材６４、６６は最も下の位置にあり、搬送ローラ６０および液切りローラ５２、５４は水平位置となっている。そしてかつ、このとき液吐出ノズル７４から現像液が吐出されており、吐出された現像液は液切りローラ５４にかかり、液切りローラ５４は現像液で濡れた状態に保たれる。また、液切りローラ５４の下側にある液切りローラ５２も、液切りローラ５４から流下した現像液で濡れた状態に保たれる。このため、液切りローラ５２、５４が乾燥してレジスト分が固化することはない。
【００４６】
そして、基板１が搬送されてきて検出装置７６の振り子７８を動かすと、液吐出ノズル７４からの現像液の吐出は停止させられる。これは、基板１が液吐出ノズル７４に近づいたため、液吐出ノズル７４からの現像液の吐出を続けると、吐出された現像液の飛沫が基板１にかかって処理むら等の不都合を生じさせる可能性があるためである。そして、さらに基板１が搬送されて検出装置７０の振り子７２を動かすと、搬送ローラ６０の回転駆動が停止され、基板１が搬送ローラ６０上に停止する。そして、その後、前記駆動源が駆動されて、ローラ取付部材６４、６６が上昇して搬送ローラ６０は点Ｏ側が低くなるように傾斜し、その上に乗っている基板１も傾斜姿勢となる。これにより、基板１の上に液盛りされていた現像液の大半は下側に流れ落ちて大まかに液切りされる。そして、液の大部分が流れ落ちると、再び搬送ローラ６０および液切りローラ５２、５４が回転駆動され、基板１は傾斜姿勢のままで下流側に向けて搬送され、この傾斜姿勢の位置にあわせて形成された出口側開口３ｂから搬出されて次工程へ搬送される。このとき、ローラ取付部材６４、６６が上昇していることから、液吐出ノズル７４や検出装置７０の振り子７２は、搬送ローラ６０よりも下方に位置することになり、基板１の搬送の障害となることはなく、また、液吐出ノズル７４から液が不用意に漏れ出てきても、基板１に付着することがない。基板１が出口側開口３ｂから搬出されると、ローラ取付部材６４、６６が下降して次の基板を待つ。
【００４９】
なお、図２ないし図６に示した実施形態における上述した記載においては、現像処理装置について説明したが、この発明は、洗浄、エッチング、剥膜などの処理を行う基板処理装置にも適用することが可能である。
【００５０】
【発明の効果】
請求項１に係る発明の基板処理装置を使用すると、処理槽内において基板を搬送しつつ基板に対し現像液を供給して基板の処理を行う場合に、レジストを含んだ現像液によって搬送ローラが汚染されることを防止することができ、基板の汚染や機器の誤動作などを防ぐことができる。そして、処理槽の内部の清掃作業を頻繁に行う必要も無いので、処理効率の低下や作業の煩雑さを招くことがない。
請求項２および請求項３に係る各発明の基板処理装置を使用すると、処理槽内において基板を搬送しつつ基板に対し処理液を供給して基板の処理を行う場合に、レジストを含んだ現像液のように固化成分を含んだ処理液によって搬送ローラまたは上部ローラおよび搬送ローラが汚染されることを防止することができ、基板の汚染や機器の誤動作などを防ぐことができる。そして、処理槽の内部の清掃作業を頻繁に行う必要も無いので、処理効率の低下や作業の煩雑さを招くことがない。
【００５１】
請求項４に係る発明の基板処理装置では、搬送ローラおよび上部ローラが上方および下方のいずれに位置したときでも、液吐出手段の吐出口から処理液、例えばレジストを含有した現像液がぼた落ちしたとしても現像液が基板上に付着する心配が無い。
【００５２】
請求項５に係る発明の基板処理装置では、搬送ローラおよび上部ローラが鉛直面内で揺動することにより上方位置と下方位置との間を移動し、上方位置においては搬送ローラによって支持される基板が傾斜することにより、基板の表面上から処理液の一部が流れ落ちて除去される。
【００５３】
請求項６に係る発明の基板処理装置では、液切りローラによって基板から処理液、例えばレジストを含んだ現像液が除去された際に液切りローラの周面にレジスト含有現像液が付着しても、液切りローラの周面でレジスト分が固化することを防止することができる。
【００５４】
請求項７に係る発明の基板処理装置では、例えばレジストを含有した現像液を循環させつつ湿潤用液として再利用するような場合に、液吐出手段の吐出口から吐出されたレジスト含有現像液によって基板を汚染する、といった心配を無くすことができる。
【００５５】
請求項８に係る発明の基板処理装置では、液撥ねがより生じにくく、湿潤用液の飛散をより効果的に抑えることができる。
【００５６】
請求項９に係る発明の基板処理装置では、搬送ローラまたは上部ローラおよび搬送ローラが汚染されることを防止しつつ、湿潤用液の使用量を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１の発明の実施形態の１例を示し、現像処理装置の構成要素の１つである搬送ローラの１つを一部断面で示す側面図である。
【図２】第２の発明の実施形態の１例を示し、現像処理装置の構成要素の１つである搬送ローラの１つを示す側面図である。
【図３】第２の発明の別の実施形態を示す搬送ローラの側面図である。
【図４】第３の発明の実施形態の１例を示し、現像処理装置の構成要素の１つである搬送ローラおよび液切りローラを示す側面図である。
【図５】第３の発明の変形例を示し、現像処理装置の構成要素の１つである搬送ローラおよび液切りローラを示す側面断面図である。
【図６】図５に示した液切りローラの正面図である。
【図７】 現像処理装置の概略構成の１例を示す模式図である。
【符号の説明】
１ 基板
２、３２ 処理槽
１０、１６、２４、６０、６２ 搬送ローラ
１２ 液溜めバット
１４ 現像液
２０、２８、３６ 液吐出ノズル
２２、３０、３８ 液吐出ノズルの吐出口
２６ 液切りローラ
３４ 処理槽の内底面
５２、５４ 液切りローラ
６４、６６ ローラ取付部材
７０、７６ 検出装置
７４ 液吐出ノズル
７５ ノズル管
Claims (9)
- 処理槽内において基板を搬送しつつ基板の表面に形成されたレジスト膜を現像液で処理する基板処理装置において、
基板の下面側に接触し基板を支持して搬送する搬送ローラの直下に液溜め容器を配設し、その液溜め容器内へ現像液を供給して液溜め容器内を常に現像液で満たす液供給手段を備え、前記液溜め容器内に満たされた現像液中に前記搬送ローラの周面の一部を浸漬させておくことを特徴とする基板処理装置。 - 処理槽内において基板を搬送しつつ基板を処理液で処理する基板処理装置において、
基板の下面側に接触し基板を支持して搬送する搬送ローラに近接しかつ搬送ローラによって支持される基板の高さ位置より下方に、吐出口が搬送ローラと対向するように液吐出手段を配設し、その液吐出手段へ湿潤用液を供給する液供給手段を備え、
基板を搬送して基板を処理している期間中において、前記搬送ローラが基板の下面側と接触していないときに前記液吐出手段の吐出口から湿潤用液を吐出し搬送ローラが基板の下面側と接触しているときには液吐出手段の吐出口から湿潤用液を吐出しないように、前記液供給手段から液吐出手段へ間欠的に湿潤用液を供給するようにすることを特徴とする基板処理装置。 - 処理槽内において基板を搬送しつつ基板を処理液で処理する基板処理装置において、
基板の下面側に接触し基板を支持して搬送する搬送ローラの近傍であって搬送ローラによって支持される基板の高さ位置より下方に、前記搬送ローラの直上に搬送ローラと対向するように配設され搬送ローラに支持されて搬送される基板の上面側に接触する上部ローラと吐出口が対向するように液吐出手段を配設し、その液吐出手段へ湿潤用液を供給する液供給手段を備えたことを特徴とする基板処理装置。 - 前記搬送ローラおよび前記上部ローラが上方位置と下方位置との間で移動可能に支持され、前記液吐出手段は、搬送ローラおよび上部ローラが上方に位置したときに、搬送ローラによって支持される基板の高さ位置より下方に位置するように配設され、搬送ローラおよび上部ローラが下方に位置したときには、前記搬送ローラが、それより基板の搬送方向における上流側に配設された別の搬送ローラと同じ高さに位置するとともに、搬送ローラおよび上部ローラに基板が接触しないように制御される請求項３記載の基板処理装置。
- 前記搬送ローラおよび前記上部ローラが、搬送ローラの軸心線の延長線上の一点を中心として鉛直面内で揺動するように支持されて、傾斜姿勢となる上方位置と水平姿勢となる下方位置との間を移動する請求項４記載の基板処理装置。
- 前記搬送ローラと前記上部ローラとが液切りローラであり、その液切りローラと前記別の搬送ローラとの間に、液切りローラと一体的に上方位置と下方位置との間を移動するように支持され基板の下面側に接触し基板を支持して搬送する複数の搬送ローラが配設された請求項４または請求項５記載の基板処理装置。
- 基板を搬送して基板を処理している期間中において、前記搬送ローラが基板の下面側と接触していないときに前記液吐出手段の吐出口から湿潤用液を吐出し搬送ローラが基板の下面側と接触しているときには液吐出手段の吐出口から湿潤用液を吐出しないように、前記液供給手段から液吐出手段へ間欠的に湿潤用液を供給するようにする請求項３ないし請求項６のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記液供給手段は、その吐出口から前記搬送ローラに向けて吐出された湿潤用液が液撥ねによって飛散しない程度の低圧で前記液吐出手段へ湿潤用液を供給する請求項２ないし請求項７のいずれかに記載の基板処理装置。
- 基板を搬送していない期間中において、前記液供給手段から前記液吐出手段へ一定時間ごとに間欠的に湿潤用液を供給するようにする請求項２ないし請求項８のいずれかに記載の基板処理装置。
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