JP3987664B2 - Wiring board - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、 IC、LSI、トランジスタ等の半導体素子が搭載される回路基板の電圧変動及び不要放射ノイズを抑制するための構造に関するものであり、特にディジタル回路を搭載した配線基板に関するものである。
【0002】
【従来技術】
従来より、ICやLSI、トランジスタ等の電子部品を搭載して所定の電子回路を構成する回路基板においては、電子部品の作動時に電源端子とグラウンド端子の間に高周波成分を含む貫通電流が発生し、この高周波電流が電子回路内に伝播し、回路自体の誤動作を引き起こしたり、不要な放射ノイズの原因となったりしていた。
【0003】
これらの対策として従来よりノイズ源となる電子部品の近傍にデカップリングコンデンサを搭載し、高周波電流を閉じ込める方法が取られている。また、電源層とグラウンド層に接続したコンデンサを基板外周全体に配置することにより、配線基板の電源層及びグラウンド層に電播した高周波電流を基板端で吸収することも特開平9−266361号にて提案されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のデカップリングコンデンサを用いる方法ではデカップリングコンデンサの容量と寄生インダクタンスによって決まる特定の周波数においては高周波電流を閉じ込めることができるが、それ以外の周波数で新たに高周波電流を発生させてしまい、これがノイズとなるなどの副作用があった。この問題に対しては、容量の異なる複数個のコンデンサを用いる方法も提案されているが、広い周波数範囲にわたって改善することは困難であった。
【0005】
また、コンデンサを基板外周全体に配置する方法は、特別な形状のコンデンサや多数のチップコンデンサが必要であるために、コンデンサにかかるコストの問題あるいはコンデンサの取付けの手間などにより生産性が低下するなどの問題があった。
【0006】
本発明は、このような課題を解決することを主たる目的とするものであり、即ち、電源層とグラウンド層間で発生する電源圧電及び不要放射ノイズを広い周波数範囲にわたって簡単な構造で容易に抑制することのできる配線基板を提供することを目的とするものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明の配線基板は、絶縁基板の表面に電子部品が搭載される搭載部を有し、且つ前記絶縁基板の裏面または内部に電源層とグラウンド層とが形成されてなる配線基板であって、前記電源層と前記グラウンド層のうち少なくとも一方の層の周縁にその内部領域よりも高いシート抵抗を有するシート抵抗が0.1Ω/sq〜1000Ω/sqの高抵抗領域を前記内部領域と電気的に接続するよう連続的に形成してなるとともに、前記内部領域が、Cu、W、Moのうち少なくとも1種を主成分とする導体材料によって形成されてなることを特徴とするものであり、前記高抵抗領域が、前記内部領域よりも高抵抗の導体材料によって形成されてなるかまたは前記周縁に多数の孔あるいは溝を設けることにより、前記高抵抗領域が形成されてなることを特徴とするものである。
【0008】
【作用】
本発明の配線基板によれば、電源層及び/またはグラウンド層の周縁に高抵抗領域を設けることにより、ICやLSIで発生した高周波電流によるノイズをこの高抵抗領域で減衰、散逸させることができるため、電源層及びグラウンド層間での高周波ノイズによる共振が発生せず、電源層及びグラウンド層内の電圧変動を抑制することができ、同時に放射ノイズも低減できる。
【0009】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の配線基板について、具体的な構造を図面を参照しながら説明する。図1は本発明による配線基板の第一の実施の形態を示す断面図、図2は図1の配線基板において電源層及びグラウンド層だけを取り出した斜視図である。
【0010】
図1の配線基板1においては、絶縁基板2の表面には信号伝達用の配線回路層3が形成されており、電子部品としてICやLSI等の半導体素子4が配線基板1表面に搭載され、表面の配線回路層3と接続されている。
【0011】
また、絶縁基板2の内部には、電源層5とグラウンド層6が形成されており、半導体素子4は、その電源端子4aおよびグラウンド端子4bは、電源層5およびグラウンド層6と絶縁基板2を貫通するように形成されたビア導体7によってそれぞれ電気的に接続されている。
【0012】
電源層5及びグラウンド層6は、低いシート抵抗を有する内部領域aによって主として形成されているが、本発明によれば、この内部領域5a、6aの周縁に、内部領域5a、6a(以下、単に内部領域aと称する)を取り巻くように内部領域aよりも高いシート抵抗を有する高抵抗領域5b、6b(以下、単に高抵抗領域bと称する)が形成されている。この「高いシート抵抗」とは、単位面積当たりにおけるシート抵抗が、内部領域aに対して高抵抗領域bの方が相対的に高いことを意味するものである。特に、内部領域aにおけるシート抵抗R1 と高抵抗領域bにおけるシート抵抗R2 とは、R2 −R1 のシート抵抗差が0.08Ω/sq以上、特に0.48Ω/sq以上であることが望ましい。
【0013】
電源層5及びグラウンド層6の内部領域aは、一般的に配線基板における導体材料として従来から用いられるCu、W、Mo等の導体によって形成され、そのシート抵抗は低い程よく、0.02Ω/sq以下であることが望ましい。
【0014】
一方、高抵抗領域bのシート抵抗としては、内部領域aのシート抵抗よりも大きく、0.1Ω/sq〜1000Ω/sqであることが重要である。これは、このシート抵抗が0.1Ω/sqよりも低いと、ノイズの吸収能力が低く、また1000Ω/sqよりも高いとノイズを反射し吸収しなくなるためである。このシート抵抗は特に0.5Ω/sq〜100Ω/sqの範囲で効果が大きい。
【0015】
かかる構成において、半導体素子4で発生した高周波電流は電流端子4a及びグラウンド端子4bより電源層5の内部領域5a及びグラウンド層6の内部領域6aに電播し、電源層5及びグラウンド層6の高抵抗領域bで吸収される。従って、電源層5及びグラウンド層6内で共振を起こし定在波が発生することがなく、圧電変動を低く抑えることができると同時に、放射ノイズも低減される。
【0016】
本発明において、高抵抗領域を形成する具体的な方法としては、以下の方法が挙げられる。
まず、高抵抗領域bを内部領域aよりも高い抵抗を有す導体材料によって形成する。この高い抵抗を有する導体材料としては、SnO2 、LaB6 のうちの少なくとも1種を主成分とする抵抗体材料によって形成したり、Cu、W、Moから選ばれる少なくとも1種の導体に、Re、Ruや、絶縁物を含有させた導体材料によって形成することによってシート抵抗を高めることができる。
【0017】
また、高抵抗領域bを内部領域aと同一の導体材料によって形成し、それに図3a)に示すように複数の孔8を形成したり、図3b)に示すように、複数の溝9を形成したり、さらには、図3c)に示すように、抵抗体10を点在させることによって、この領域の見掛け上のシート抵抗を高めることができ、その孔8、溝9、抵抗体10の大きさや数によってシート抵抗を任意の値に調整できる。
【0018】
また、高抵抗領域bの幅は、0.3mm以上が望ましい。これは高抵抗領域bの幅が小さすぎると製造上形成が困難であると同時に硬化も小さくなるためである。高抵抗領域bの幅の上限は、内部領域の面積が確保できる範囲内であれば特に定めるものではないが、その幅が30mmを越えてもその効果は実質的に同じである。
【0019】
また、電源層5およびグラウンド層6の内部領域aとその周縁の高抵抗領域bとは電気的に接続するよう連続的に形成されている。
【0020】
電源層5とグラウンド層6の内部領域aと高抵抗領域bの接続部の構造としては、それらが全く異なる導体材料からなる場合、図4のa)に示すように内部領域aと高抵抗領域bの重なりが全くない構造であるよりも、b)c)のように内部領域aを構成する導体材料a1 と高抵抗領域bを構成する導体材料b1 とが重なりあう構造であることが望ましい。また、電源層5、グラウンド層6が配線基板の表面層に形成される場合はd)のように内部領域aと高抵抗領域bを形成する導体材料b1 によって内部領域a全体を覆うように形成しても電流は内部領域aにおける絶縁基板2との接触する側を流れるため問題はない。
【0021】
さらに、電源層5、グラウンド層6が基板の内部に形成される場合、e)のように、電源層5、グラウンド層6の対向面側に内部領域aを形成し、この領域a全体を覆うように高抵抗領域bを形成してもよい。その場合、ビア導体7は、内部領域aと接続することが必要である。
【0022】
図5は、本発明の配線基板における電源層またはグラウンド層の他の具体的な実施形態の示す図である。この図5に示すように、電源層5やグラウンド層6は、図5a)に示されるように、複数の層に分離され、それぞれの内部領域aの周縁に高抵抗領域bを形成してもよく、b)のように、高抵抗領域bは、内部領域aの周縁において一定の間隔xをおいて形成することも可能である。その場合、その間隔xの周縁長さに対する比率が大きくなると、ノイズの吸収量が減るために、上記の間隔xの和が、全周縁長さの1/3以下であることが必要である。
【0023】
さらに、図5c)のように、高抵抗領域bをシート抵抗の異なる領域b1 〜b3 によって構成してもよい。この場合、内側から外側にかけて、即ち、シート抵抗がa<b1 <b2 <b3 となるように構成することが望ましい。また、b1 〜b3 の各領域内も内側から外側にかけて連続的にシート抵抗が変化するようにすることもできる。
【0024】
前記絶縁層4を構成する材料としては、アルミナ(Al2 O3 )を主成分とする絶縁基板から成るものは勿論、窒化アルミニウム(AlN)や窒化珪素(Si3 N4 )、炭化珪素(SiC)、ムライト(3Al2 O3 ・2SiO2 )、ガラスセラミックス等を主成分とするセラミックスのほか、エポキシ樹脂、ガラス−エポキシ複合材料等の有機樹脂を含有する絶縁材料によって形成される。
【0025】
また、前記信号を伝達する配線回路層3及びビア導体7を構成する材料としては、Cu、W、Mo等及びこれらを含む合金が使用可能である。
【0026】
本発明の配線基板は、配線基板表面に半導体素子を搭載し、これを気密に封止する半導体素子収納用パッケージや、半導体素子の他にコンデンサや抵抗体等の各種電子部品が搭載される混成集積配線基板等に適用される。
【0027】
【実施例】
以下に本発明の配線基板の実施例を図6a)、b)に沿って詳細に説明する。この実施例の配線基板では、絶縁基板11としてアルミナ質焼結体を用いた。まず、Al2 O3 粉末に対して、SiO2 、MgO、CaOの焼結助剤を7重量%添加した混合粉末に有機バインダー、可塑剤、溶剤を添加混合して泥漿を調製し、該泥漿を周知のドクターブレード法により厚さ約300μmのセラミックグリーンシートを成形した。次に、励振点となる位置にビア13を形成するために、該セラミックグリーンシートにスルーホールをマイクロドリルによって形成した。
【0028】
そして、タングステン(W)を主成分とする粉末原料に、適当な有機バインダ、可塑剤、溶剤等を添加し、混合して得た金属ペーストを印刷によって前記セラミックグリーンシートのスルーホールに充填するとともに、スルーホール形成部の表面に電源端子14となるように、前記金属ペーストを印刷塗布した。
【0029】
次いで、このグリーンシートを、水素(H2 )/窒素(N2 )の混合ガスからなる還元性雰囲気中、約1600℃の温度で焼成することにより、縦56mm×横80mm×厚さ約250μmのアルミナ基板を得た。
【0030】
次に、このアルミナ基板の表面側にグラウンド層15を、裏面側に電源層12を次の方法によって形成した。なお、高抵抗領域を形成する場合、その幅はすべて4mmとした。
【0031】
試料No.1については、Cuペーストを用いて、グラウンド層15、電源層12を高抵抗領域を形成することなく、印刷塗布し900℃で焼き付け処理した。
【0032】
試料No.2〜11については、Cuペーストを用いてグラウンド層15における内部領域15a、電源層12の内部領域12aを印刷塗布し、900℃で焼き付け処理した。但し、グラウンド層15の内部領域15aについては、図6に示すように、電源端子14の周囲に印刷塗布した。そして、グラウンド層15および電源層12の各内部領域15a、12aの周縁に、Cu−Ni、LaB6 またはSnO2 を含有する金属ペーストを図4c)に示すようにして一部内部領域15a、12aと重なるように印刷し、900℃で焼き付けして高抵抗領域15b、12bを形成した
また、試料No.3、4については、高抵抗領域に直径が500μmの孔を所定の密度で形成した。
【0033】
なお、試料No.10については、電源層(D)のみに形成し、グラウンド層は内部及び周縁ともにCuによって形成し、試料No.11については、グラウンド層(G)のみに高抵抗領域を形成し、電源層は内部及び周縁ともにCuによって形成した。
【0034】
かくして得られた評価用の配線基板の励振点に設けた電源端子14及びグラウンド端子18に、同軸ケーブル17の中心軸17aを電源端子14に、また同軸ケーブルのグラウンド管17bをグラウンド層15内に設けたグラウンド端子18にそれぞれ半田19によって接続固定し、図6に示すような評価用配線基板を作製した。
【0035】
上記のようにして作製した評価用配線基板に対して、同軸ケーブルから30MHz〜1000MHzの正弦波を入力し、電源層12の内部領域12a内で電圧変動が最大となる位置に高インピーダンスの測定用プローブを接触させ、30MHz〜1000MHzの範囲での最大電位差を測定した。表1に、高抵抗領域が無い場合の最大電位差を1とした場合の各評価基板の最大電位差の比を示した。
【0036】
【表1】
【0037】
本発明に従い、所定の高抵抗領域を形成した試料No.3〜7、10、11の配線基板では最大電位差の比が0.5以下と低く抑えられているのに対して、シート抵抗値が本発明の範囲外の試料No.1、2、8、9では大きな電圧変動が生じていることが分かる。
【0038】
【発明の効果】
以上のように、本発明の配線基板によれば、電源層とグラウンド層の少なくとも1層の周縁にその内部領域よりも高いシート抵抗を有する高抵抗領域を設けたことによって、ICやLSIで発生した高周波電流を電源層及びグラウンド層の周縁に設けた高抵抗領域で減衰、散逸させることができるため、電源層及びグラウンド層での高周波ノイズによる共振が発生せず、電源層及びグラウンド層内の電圧変動を抑制することができ、同時に放射ノイズも低減することができ、回路の信頼性を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の配線基板の一実施例を示すが概略断面図である。
【図2】本発明の図1の配線基板における電源層とグラウンド層の構造を説明するための概略斜視図である。
【図3】a)b)c)はいずれも本発明における高抵抗領域の他の構造を説明するための概略図である。
【図4】a)〜d)は本発明の配線基板における内部領域と高抵抗領域との接続部の構造を説明するための概略断面図である。
【図5】a)〜c)は本発明の配線基板における電源層またはグラウンド層における他の構造を説明するための概略斜視図である。
【図6】本発明の実施例における評価用配線基板の構造を説明するためのa)概略斜視図とb)概略断面図である。
【符号の説明】
1 配線基板
2 絶縁基板
3 配線回路層
4 電子部品(半導体素子)
5 電源層
6 グラウンド層
5a、6a、a 内部領域
5b、6b、b 高抵抗領域
7 ビア導体
8 孔
9 溝
10 抵抗体[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a structure for suppressing voltage fluctuation and unnecessary radiation noise of a circuit board on which a semiconductor element such as an IC, LSI, or transistor is mounted, and particularly to a wiring board on which a digital circuit is mounted.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, in a circuit board that constitutes a predetermined electronic circuit by mounting electronic components such as IC, LSI, and transistor, a through current including a high frequency component is generated between the power supply terminal and the ground terminal when the electronic component is operated. This high-frequency current propagates in the electronic circuit, causing malfunction of the circuit itself or causing unnecessary radiation noise.
[0003]
As a countermeasure against these problems, conventionally, a method of mounting a decoupling capacitor in the vicinity of an electronic component that becomes a noise source and confining a high-frequency current is taken. Japanese Patent Laid-Open No. 9-266361 also discloses that a high-frequency current electroplated on the power supply layer and the ground layer of the wiring board is absorbed at the substrate end by arranging capacitors connected to the power supply layer and the ground layer on the entire outer periphery of the substrate. Has been proposed.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the method using the above decoupling capacitor, a high frequency current can be confined at a specific frequency determined by the capacitance and parasitic inductance of the decoupling capacitor, but a high frequency current is newly generated at other frequencies, There were side effects such as noise. To solve this problem, a method using a plurality of capacitors having different capacities has been proposed, but it has been difficult to improve over a wide frequency range.
[0005]
In addition, the method of disposing the capacitor on the entire periphery of the substrate requires a specially shaped capacitor and a large number of chip capacitors, so that the productivity decreases due to the cost of the capacitor or the time and labor of mounting the capacitor. There was a problem.
[0006]
The main object of the present invention is to solve such problems. That is, power piezoelectricity and unwanted radiation noise generated between the power supply layer and the ground layer are easily suppressed with a simple structure over a wide frequency range. An object of the present invention is to provide a wiring board that can be used.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
The wiring board of the present invention is a wiring board having a mounting portion on which an electronic component is mounted on the surface of an insulating substrate, and a power layer and a ground layer formed on the back surface or inside of the insulating substrate, A high resistance region having a sheet resistance higher than that of the internal region at the periphery of at least one of the power supply layer and the ground layer is 0.1 Ω / sq to 1000 Ω / sq electrically with the internal region. together formed by continuously formed so as to connect the inner region is intended to Cu, W, and characterized by being formed by a conductive material mainly composed of at least one of Mo, pre Symbol The high resistance region is formed of a conductive material having a higher resistance than the inner region, or the high resistance region is formed by providing a large number of holes or grooves on the periphery. It is characterized by.
[0008]
[Action]
According to the wiring board of the present invention, by providing a high resistance region at the periphery of the power supply layer and / or the ground layer, it is possible to attenuate and dissipate noise due to the high frequency current generated in the IC or LSI in this high resistance region. Therefore, resonance due to high frequency noise between the power supply layer and the ground layer does not occur, voltage fluctuations in the power supply layer and the ground layer can be suppressed, and radiation noise can be reduced at the same time.
[0009]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, a specific structure of the wiring board of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view showing a first embodiment of a wiring board according to the present invention, and FIG. 2 is a perspective view in which only a power supply layer and a ground layer are taken out from the wiring board of FIG.
[0010]
In the
[0011]
A power source layer 5 and a ground layer 6 are formed inside the insulating substrate 2. The semiconductor element 4 includes a power source terminal 4 a and a ground terminal 4 b that connect the power source layer 5, the ground layer 6, and the insulating substrate 2. They are electrically connected by via conductors 7 formed so as to penetrate therethrough.
[0012]
The power supply layer 5 and the ground layer 6 are mainly formed by the internal region a having a low sheet resistance. However, according to the present invention, the internal regions 5a, 6a (hereinafter simply referred to as the inner regions 5a, 6a) High resistance regions 5b and 6b (hereinafter simply referred to as a high resistance region b) having a sheet resistance higher than that of the inner region a are formed so as to surround the inner region a). The “high sheet resistance” means that the sheet resistance per unit area is relatively higher in the high resistance region b than in the internal region a. In particular, the sheet resistance R 1 in the internal region a and the sheet resistance R 2 in the high resistance region b are such that the sheet resistance difference of R 2 −R 1 is 0.08Ω / sq or more, particularly 0.48Ω / sq or more. Is desirable.
[0013]
The internal region “a” of the power supply layer 5 and the ground layer 6 is generally formed of a conductor such as Cu, W, Mo or the like conventionally used as a conductor material in a wiring board, and the sheet resistance is preferably as low as possible, and is 0.02Ω / sq. The following is desirable.
[0014]
On the other hand, it is important that the sheet resistance of the high resistance region b is 0.1Ω / sq to 1000Ω / sq, which is larger than the sheet resistance of the internal region a. This is because if the sheet resistance is lower than 0.1 Ω / sq, the noise absorption capability is low, and if it is higher than 1000 Ω / sq, the noise is reflected and cannot be absorbed. This sheet resistance is particularly effective in the range of 0.5Ω / sq to 100Ω / sq.
[0015]
In such a configuration, the high-frequency current generated in the semiconductor element 4 is electroplated from the current terminal 4 a and the ground terminal 4 b to the internal region 5 a of the power supply layer 5 and the internal region 6 a of the ground layer 6. Absorbed in the resistance region b. Therefore, resonance does not occur in the power supply layer 5 and the ground layer 6 and no standing wave is generated, so that the piezoelectric fluctuation can be suppressed to a low level and radiation noise is also reduced.
[0016]
In the present invention, specific methods for forming the high resistance region include the following methods.
First, the high resistance region b is formed of a conductive material having a higher resistance than the internal region a. As the conductor material having high resistance, it is formed of a resistor material mainly composed of at least one of SnO 2 and LaB 6 , or at least one kind of conductor selected from Cu, W, and Mo is used as Re The sheet resistance can be increased by forming with Ru or a conductive material containing an insulator.
[0017]
Further, the high resistance region b is formed of the same conductive material as that of the inner region a, and a plurality of
[0018]
The width of the high resistance region b is preferably 0.3 mm or more. This is because if the width of the high-resistance region b is too small, it is difficult to form in manufacturing and at the same time the curing is reduced. The upper limit of the width of the high resistance region b is not particularly defined as long as the area of the internal region can be secured, but the effect is substantially the same even if the width exceeds 30 mm.
[0019]
Further, the internal region a of the power supply layer 5 and the ground layer 6 and the high resistance region b on the periphery thereof are continuously formed so as to be electrically connected.
[0020]
As a structure of the connection portion between the internal region a and the high resistance region b of the power supply layer 5 and the ground layer 6, when they are made of completely different conductive materials, as shown in FIG. 4 a), the internal region a and the high resistance region It is a structure in which the conductor material a 1 constituting the internal region a and the conductor material b 1 constituting the high resistance region b overlap each other as shown in b) c), rather than a structure in which b does not overlap at all. desirable. Further, when the power supply layer 5 and the ground layer 6 are formed on the surface layer of the wiring substrate, the entire internal region a is covered with the conductive material b 1 that forms the internal region a and the high resistance region b as in d). Even if it is formed, there is no problem because the current flows on the side in contact with the insulating substrate 2 in the inner region a.
[0021]
Further, when the power supply layer 5 and the ground layer 6 are formed inside the substrate, as shown in e), an internal region a is formed on the opposite surface side of the power supply layer 5 and the ground layer 6 and covers the entire region a. Thus, the high resistance region b may be formed. In that case, the via conductor 7 needs to be connected to the internal region a.
[0022]
FIG. 5 is a diagram showing another specific embodiment of the power supply layer or the ground layer in the wiring board of the present invention. As shown in FIG. 5, the power supply layer 5 and the ground layer 6 are separated into a plurality of layers as shown in FIG. 5a), and the high resistance region b is formed at the periphery of each internal region a. Often, as shown in b), the high resistance region b can be formed at a certain interval x at the periphery of the inner region a. In that case, if the ratio of the interval x to the peripheral length increases, the amount of noise absorption decreases, so the sum of the intervals x needs to be 1/3 or less of the total peripheral length.
[0023]
Further, as shown in FIG. 5c), the high resistance region b may be constituted by regions b 1 to b 3 having different sheet resistances. In this case, it is desirable that the sheet resistance be a <b 1 <b 2 <b 3 from the inner side to the outer side. Also, the sheet resistance can be changed continuously from the inside to the outside in each of the areas b 1 to b 3 .
[0024]
The material constituting the insulating layer 4 is not only an insulating substrate mainly composed of alumina (Al 2 O 3 ), but also aluminum nitride (AlN), silicon nitride (Si 3 N 4 ), silicon carbide (SiC). ), Mullite (3Al 2 O 3 .2SiO 2 ), ceramics mainly composed of glass ceramics, and the like, and an insulating material containing an organic resin such as epoxy resin and glass-epoxy composite material.
[0025]
Further, as a material constituting the wiring circuit layer 3 and the via conductor 7 for transmitting the signal, Cu, W, Mo and the like and alloys containing them can be used.
[0026]
The wiring board of the present invention has a semiconductor element mounted on the surface of the wiring board and hermetically sealing the package, and a hybrid in which various electronic components such as capacitors and resistors are mounted in addition to the semiconductor element. It is applied to integrated wiring boards.
[0027]
【Example】
Hereinafter, an embodiment of the wiring board of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. In the wiring board of this example, an alumina sintered body was used as the insulating substrate 11. First, a slurry is prepared by adding an organic binder, a plasticizer and a solvent to a mixed powder obtained by adding 7% by weight of a sintering aid of SiO 2 , MgO and CaO to an Al 2 O 3 powder. A ceramic green sheet having a thickness of about 300 μm was formed by a known doctor blade method. Next, in order to form the via 13 at a position to be an excitation point, a through hole was formed in the ceramic green sheet by a micro drill.
[0028]
Then, an appropriate organic binder, a plasticizer, a solvent, etc. are added to the powder raw material containing tungsten (W) as a main component, and the metal paste obtained by mixing is filled into the through hole of the ceramic green sheet by printing. The metal paste was printed and applied on the surface of the through hole forming portion so as to be the power terminal 14.
[0029]
Next, this green sheet is fired at a temperature of about 1600 ° C. in a reducing atmosphere composed of a mixed gas of hydrogen (H 2 ) / nitrogen (N 2 ), so that the length is 56 mm × 80 mm × thickness is about 250 μm. An alumina substrate was obtained.
[0030]
Next, the ground layer 15 was formed on the surface side of the alumina substrate, and the power supply layer 12 was formed on the back side by the following method. In addition, when forming a high resistance area | region, all the widths were 4 mm.
[0031]
Sample No. For No. 1, the Cu layer was used to print and apply the ground layer 15 and the power supply layer 12 without forming a high-resistance region, and baked at 900 ° C.
[0032]
Sample No. As for 2 to 11, the internal region 15a in the ground layer 15 and the internal region 12a of the power supply layer 12 were printed and applied using Cu paste and baked at 900 ° C. However, the inner region 15a of the ground layer 15 was printed and applied around the power supply terminal 14 as shown in FIG. Then, a metal paste containing Cu—Ni, LaB 6 or SnO 2 is formed on the periphery of each of the internal regions 15a and 12a of the ground layer 15 and the power supply layer 12 as shown in FIG. The high resistance regions 15b and 12b were formed by printing at 900 ° C. so as to overlap with each other. For 3 and 4, holes with a diameter of 500 μm were formed at a predetermined density in the high resistance region.
[0033]
Sample No. No. 10 is formed only on the power supply layer (D), and the ground layer is formed of Cu on both the inside and the periphery. For No. 11, the high resistance region was formed only in the ground layer (G), and the power source layer was formed of Cu both inside and around the periphery.
[0034]
The central axis 17a of the coaxial cable 17 is connected to the power supply terminal 14 and the ground pipe 17b of the coaxial cable is connected to the ground layer 15 at the power supply terminal 14 and the ground terminal 18 provided at the excitation point of the wiring board for evaluation thus obtained. Each of the ground terminals 18 provided was connected and fixed by solder 19 to produce an evaluation wiring board as shown in FIG.
[0035]
For the evaluation wiring board produced as described above, a 30 MHz to 1000 MHz sine wave is input from the coaxial cable, and a high impedance measurement is performed at a position where the voltage fluctuation is maximum in the internal region 12 a of the power supply layer 12. The probe was brought into contact, and the maximum potential difference in the range of 30 MHz to 1000 MHz was measured. Table 1 shows the ratio of the maximum potential difference of each evaluation substrate when the maximum potential difference when the high resistance region is not present is 1.
[0036]
[Table 1]
[0037]
In accordance with the present invention, the sample No. In the wiring boards of 3 to 7, 10, and 11, the ratio of the maximum potential difference is suppressed to a low value of 0.5 or less, whereas the sheet resistance value is outside the range of the present invention. It can be seen that large voltage fluctuations occur at 1, 2, 8, and 9.
[0038]
【The invention's effect】
As described above, according to the wiring board of the present invention, a high resistance region having a sheet resistance higher than the inner region is provided at the periphery of at least one layer of the power supply layer and the ground layer, thereby generating in an IC or LSI. The high-frequency current can be attenuated and dissipated in the high resistance region provided at the periphery of the power supply layer and the ground layer, so that resonance due to high-frequency noise in the power supply layer and the ground layer does not occur, and Voltage fluctuation can be suppressed and radiation noise can be reduced at the same time, and the reliability of the circuit can be improved.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic sectional view showing an embodiment of a wiring board according to the present invention.
2 is a schematic perspective view for explaining a structure of a power supply layer and a ground layer in the wiring board of FIG. 1 of the present invention. FIG.
FIGS. 3 (a), 3 (b) and 3 (c) are schematic views for explaining another structure of the high resistance region in the present invention.
FIGS. 4A to 4D are schematic cross-sectional views for explaining the structure of a connection portion between an internal region and a high-resistance region in a wiring board according to the present invention.
FIGS. 5a to 5c are schematic perspective views for explaining another structure of the power supply layer or the ground layer in the wiring board of the present invention. FIGS.
6A is a schematic perspective view and FIG. 6B is a schematic cross-sectional view for explaining the structure of an evaluation wiring board in an example of the present invention.
[Explanation of symbols]
1 Wiring board 2 Insulating board 3 Wiring circuit layer 4 Electronic component (semiconductor element)
5 Power supply layer 6 Ground layers 5a, 6a, a Internal regions 5b, 6b, b High resistance region 7 Via
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