JP4020566B2 - プラズマ反応容器及びガスプラズマ分解方法 - Google Patents
プラズマ反応容器及びガスプラズマ分解方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4020566B2 JP4020566B2 JP2000140223A JP2000140223A JP4020566B2 JP 4020566 B2 JP4020566 B2 JP 4020566B2 JP 2000140223 A JP2000140223 A JP 2000140223A JP 2000140223 A JP2000140223 A JP 2000140223A JP 4020566 B2 JP4020566 B2 JP 4020566B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- electrode
- plasma
- electric field
- electrodes
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマ反応容器及びガスプラズマ分解方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来より、放電を利用して環境中の汚染ガス(例えばNOx、VOC(揮発性有機化合物、Volatile Organic Compound )、エチレンなどの有害物質)を浄化する方法として、無声放電によるプラズマ処理を行う方法が知られている。
【0003】
上記無声放電は、対向する平板電極間に絶縁物質である誘電体層を設け、電極間に交流高電圧を印加することにより達成され、常圧付近においても電極間に一様に広がった放電となる。
【0004】
以下、従来のガスのプラズマ分解処理方法について説明する。
【0005】
図10は、従来技術にかかるガスの分解装置の概略構成図である。
【0006】
図10に示すように従来のガス反応装置は、対向する平行金属電極01A,01Bと、一方の電極(図中下面側)01Bの表面に配してなる誘電体02と、上記電極01A,01Bの電極中心(X)で高電圧を印加する高圧電源03とから構成されている。この装置によれば、電極01A,01Bの間に高圧電源03から交流高電圧を印加すると共に、誘電体02と対向する電極01Aとの間の放電空間部04に分解するガス05を供給し、プラズマ分解処理がなされている。
【0007】
ここで、上記無声放電を各種ガス反応に応用するにあたり、それぞれの電極への通電手段をそれぞれの電極01A,01Bの中心Xに設置する方法が一般的であった。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来のような電極への通電手段を電極01A,01Bの電極中心(X)とする場合では、電極01A,01Bの中心近傍の電界強度がその周辺部に対して高くなる傾向にあるので、電極の端部から供給されるガスが先ず低電界部で分解され、その後高電界部に移行するので、分解されたガスが再び結合してしまうという問題がある。
【0009】
また、逆に高電界部で分解したガスが下流側の低電界部で再結合を起こす等があり、プラズマガス分解の反応効率が低下するという問題がある。
【0010】
本発明はこのような事情に鑑み、電極間の電界強度分布を調整して高効率及び高選択性でガス改質可能なプラズマ反応容器及びガスプラズマ分解方法を提供することを課題とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決する本発明の第1の態様は、相対向する第1の平板型電極及び第2の平板型電極と、これら両電極の間に介装される誘電体と、前記両電極間に電位差を付与する電位差付与手段とを備えてなり、前記両電極間に高電圧を印加して導入したガスを分解するプラズマ反応容器において、前記第1の電極及び第2の電極への通電位置が、前記導入ガスの流れ方向の中心より上流側へオフセットして配置され、電界強度分布が上流側で高電界強度、下流側で低電界強度となっていることを特徴とするプラズマ反応容器にある。
【0012】
本発明の第2の態様は、第1の態様において、前記通電位置が第1の電極と第2の電極とで相対向する同位置に配置されていることを特徴とするプラズマ反応容器にある。
【0013】
本発明の第3の態様は、請求項1又は2の態様において、導入するガスが解離エネルギーの高いガスと低いガスとを含むものであることを特徴とするプラズマ反応容器にある。
【0014】
本発明の4の態様は、第3の態様において、導入するガスがCO2 、O 2 、及びN 2 が共存するガスであることを特徴とするプラズマ反応容器にある。
【0015】
本発明の第5の態様は、相対向する第1の平板型電極及び第2の平板型電極と、これら両電極の間に介装される誘電体と、前記両電極間に電位差を付与する電位差付与手段とを備えてなり、前記両電極間に高電圧を印加して導入したガスを分解するプラズマ反応容器を用いたガスプラズマ分解方法において、前記第1の電極及び第2の電極への通電位置を、前記導入ガスの流れ方向の中心より上流側へオフセットした位置に配置して高電圧を印加し、電界強度分布を上流側で高電界強度、下流側で低電界強度とすることを特徴とするガスプラズマ分解方法にある。
【0016】
本発明の第6の態様は、第5の態様において、前記通電位置を前記第1の電極と第2の電極とで相対向する同位置に配置して高電圧を印加することを特徴とするガスプラズマ分解方法にある。
【0017】
本発明の第7の態様は、第5又は6の態様において、導入するガスが解離エネルギーの高いガスと低いガスとを含むものであることを特徴とするガスプラズマ分解方法にある。
【0018】
本発明の第8の態様は、第7の態様において、導入するガスがCO 2 、O 2 、及びN 2 が共存するガスであることを特徴とするガスプラズマ分解方法にある。
【0021】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【0022】
(参考実施形態)
図1に本参考実施形態にかかるガス反応器の概略図を示す。
【0023】
図1に示すように、本参考実施形態にかかるガス反応器は、相対向する第1の金属製平板型電極11A及び第2の金属製平板型電極11Bと、該第2の電極11Bの表面を被覆してなる誘電体12と、上記電極11A及び電極11B間に交流電圧を印加することで放電空間13内にプラズマ放電を生成する電源ユニット14とから構成されており、電圧印加位置を第1の電極11Aではガス流れ方向の下流側の位置とすると共に、誘電体12を被覆した第2の電極11Bではガス15のガス流れ方向の前流側の位置とするようにし、電源ユニット14からの高電圧の印加位置を各々の電極で異なる配置としている。
【0024】
すなわち、本参考実施形態では電極と平行な二次元平面上において異なるような印加配置としたので、電界強度が平均化し、図2の電界強度分布図に示すように、比較的低密度なプラズマが一様に生成されることになる。
【0025】
よって、例えばNOxガスの分解反応のように比較的解離エネルギーが低く、低密度のプラズマでガス分解反応が進行する反応の場合には、ガスの分解効率が良好なものとなる。
【0026】
(第1の実施の形態)
図3に本実施の形態にかかるガス反応器の概略図を示す。
【0027】
図3に示すように、本実施の形態にかかるガス反応器は、相対向する第1の金属製平板型電極11A及び第2の金属製平板型電極11Bと、該第2の電極11Bの表面を被覆してなる誘電体12と、上記第1の電極11A及び第2の電極11B間に交流電圧を印加することで放電空間13内でプラズマ放電を生成する電源ユニット14とから構成されており、第1の金属製平板電極11Aと第2の金属板電極11Bとの通電位置を相対向すると共に、ガス15の流れ方向の前流側の位置へオフセット配置としている。
【0028】
すなわち、本実施の形態では電極と平行な二次元平面上において同位置の印加配置としたので、通電手段の設置位置に近いところが高電界強度となり、遠いところが低電界強度となり、図4の電界強度分布図に示すように、電界強度分布が徐々に広がり、高密度のプラズマがガス上流側に集中して生成されることになる。
【0029】
よって、例えばCO2 ガスの分解反応のように解離エネルギーが高く、高密度のプラズマ部分が存在しないと反応が進行しないような場合には、分解効率が良好なものとなる。
【0030】
また、本実施の形態では電極中心(X)よりガス流入方向の前流側へオフセットした位置に通電位置を設置することが好ましく、これにより、反応に要するエネルギーの異なる反応を一つの反応器で達成することが可能となる。
【0031】
これは、通電位置をガス流れ方向の前流側へ設置した場合、ガスの流れ方向の前流側で高エネルギーを要するガスが反応し、下流側では低エネルギーで十分なガスが反応することになる。
【0032】
例えば、CO2 、O2 、N2共存ガスの反応の場合には、通電位置をガス流れ方向の前流側へ設置した場合、前流側でCO2 の分解反応と同時にNOxの生成反応が生じてしまうが、下流側でNOxの分解反応が進むので、総合した反応では、有害なNOxを生成することなく、CO2 の分解反応のみが進行することになる。
【0033】
よって、分解するガスの種類、組成、目的反応によって、通電位置を適宜選択することにより、高反応効率、高反応選択率を達成することができる。
【0034】
このように、図3のようなガス混合器を用い、種々のガスを混合した場合でも、プラズマ反応器の通電位置を適宜変更することにより、ガス分解が可能となる。
【0035】
以下、本発明の好適な実施例について説明するが、本発明は何らこれらの実施例に限定されるものではない。
【0036】
(実施例1)
図5に示すような装置を用い、電極への通電位置の相違によるガスの分解効率を測定した。
【0037】
本試験装置は、図5に示すように、複数のガス21を混合するガス混合器22と、混合ガスを供給しプラズマ分解処理を施すプラズマ反応器23と、該プラズマ反応器に高電圧を印加する高圧電源24と、分解されたガスを測定するガス分析装置25とから構成されている。
【0038】
通電位置は下記(1)〜(5)に示すように種々変化させ、NOxガスの分解試験を行った。
【0039】
(1) 図6(a)に示すように、電極への通電位置を相対向させ、電極中心からガス流れ方向の上前流側へa=10mm位置だけオフセットしたものである。
【0040】
(2) 図6(b)に示すように、電極への通電位置を相対向させ、電極中心からガス流れ方向の上流側へa=20mm位置だけオフセットしたものである。
【0041】
(3) 図6(c)に示すように、電極への通電位置を相対向位置から若干ずらし、高電圧側電極11Aへの通電位置16Aを上流側へa=20mm、接地側の電極11Bへの通電位置16Bを上流側へa=15mmだけオフセットしとしたものである。
【0042】
(4) 参考実施形態と同様に、図6(d)に示すように、電極への通電位置を相対向位置から若干ずらし、高電圧側電極11Aへの通電位置16Aを異なる位置(中心Xを中心として点対象の位置)とし、電極間をd=40mmとしたものである。
【0043】
(5) 図10に示す従来技術にかかり、電極の通電位置を相対向させ、且つ電極中心(a=0mm)Xとしたものである。
【0044】
以下に本実施例にかかるNOxガス分解条件を以下に示す。
【0045】
ガス組成:NO(500ppm)+O2 (10%)/N2 (バランス)
ガス流量:200cc/分
目的反応:NOの分解反応(NO→N2 +O2 )
電源電圧:2.8kV(ピーク値)
電源周波数:10kHz
誘電体材質:Al2 O3 (接地側電極側へ配設)
誘電体厚さ:0.5mm
電極材質:SUS
電極寸法:50mm×20mm(長手方向がガス流れ方向)
放電間隔:0.5mm
【0046】
各々のガス分解結果を表1及び図7に示す。
【0047】
【表1】
【0048】
表1及び図7に示すように、(1)の同位置オフセットa=10mmの場合には、出口濃度が380ppmであり、分解率は24%であった。また、(2)の同位置オフセットa=20mmの場合には、出口濃度が145ppmであり、分解率は71%であった。また、(3)の異なる位置のオフセットの場合には、図8の電界強度分布に示すように、電界強度が同位置オフセットより低くなり、出口濃度が90ppmであり、分解率が82%であった。また、(4)の異なる位置の場合には、出口濃度が0ppmであり、分解率は100%であった。一方、(5)の同位置で電極中心(a=0mm)Xの場合には、出口濃度が710ppmであり、ガスが分解されず、逆にNOxが生成した。
【0049】
(実施例2)
次に、分解ガスとしてNOxの代わりにCO2 を用いて分解試験を行った。
【0050】
図6(b)〜(d)に示すように、(2)から(5)の通電位置を種々変化させ、CO2 ガスの分解試験を行った。
【0051】
CO2 ガス分解条件を以下に示す。
ガス組成:CO2 (10%)+O2 (10%)/N2 (バランス)
ガス流量:200cc/分
目的反応:CO2 の分解反応(CO2 →CO+1/2O2 )
電源電圧:2.5kV(ピーク値)
電源周波数:10kHz
誘電体材質:Zr2 O3 (接地側電極側へ配設)
誘電体厚さ:0.5mm
電極材質:SUS
電極寸法:50mm×20mm(長手方向がガス流れ方向)
放電間隔:0.5mm
【0052】
この結果を表2及び図9に示す。
【0053】
【表2】
【0054】
表2及び図9に示すように、(2)の同位置オフセットa=20mmの場合には、CO2 分解率が35.3%であり、出口NOx濃度は0ppmであった。また、(3)の上流側オフセットの場合には、図8の電界強度分布に示すように、電界強度が同位置オフセットより低くなり、CO2 分解率が26.5%であり、出口NOx濃度が0ppmであった。また、(4)の異なる位置の場合には、CO2 分解率が3.2%であり、出口濃度が0ppmであり、分解率は100%であった。一方、(5)の同位置で中心(a=0mm)の場合には、CO2 分解率が39.7%であり、出口NOx濃度が220ppmであった。
【0055】
このように、同位置でオフセットした場合には、前流側でNOxが生成するものの、下流側の低電界部で分解され、総反応としてはCO2 の分解反応のみとなり、目的反応が高効率かつ選択的に達成することができる。
【0056】
一方、参考実施形態のように、異なる位置とする場合には、高電界強度部が存在せず、目的反応であるCO2 分解反応がほとんど進行しなかった。
【0057】
また、電極中心の場合では生成したNOxが下流の低電界部で分解しきれず、NOxが残留してしまった。
【0058】
【発明の効果】
本発明によれば、高電圧を通電する位置を流れ方向の中心から上流側へオフセットさせることにより、電極間の電界強度分布を上流側で高密度のプラズマが存在するように変化させ、これにより、上流側で高エネルギーを要するガスを反応させると共に下流側で低エネルギーで十分なガスを反応させて、高効率及び高選択的なガス改質が可能となるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】 参考実施形態のプラズマ反応容器の概略図である。
【図2】図1の装置の電界強度分布図である。
【図3】 第1の実施の形態のプラズマ反応容器の概略図である。
【図4】図3の装置の電界強度分布図である。
【図5】実施例に用いた試験装置の概略図である。
【図6】実施例に用いた通電位置を変化させた反応容器の概略図である。
【図7】実施例1の結果を示し、印加位置とNOxガス分解率との関係図である。
【図8】図6(c)の装置の電界強度分布図である。
【図9】実施例2の結果を示し、印加位置とCO2 ガス分解率との関係図である。
【図10】従来技術にかかる反応容器の概略図である。
【符号の説明】
11A 第1の金属製平板型電極
11B 第2の金属製平板型電極
12 誘電体
13 放電空間
14 電源ユニット
15 ガス
Claims (8)
- 相対向する第1の平板型電極及び第2の平板型電極と、これら両電極の間に介装される誘電体と、前記両電極間に電位差を付与する電位差付与手段とを備えてなり、前記両電極間に高電圧を印加して導入したガスを分解するプラズマ反応容器において、
前記第1の電極及び第2の電極への通電位置が、前記導入ガスの流れ方向の中心より上流側へオフセットして配置され、電界強度分布が上流側で高電界強度、下流側で低電界強度となっていることを特徴とするプラズマ反応容器。 - 請求項1において、前記通電位置が第1の電極と第2の電極とで相対向する同位置に配置されていることを特徴とするプラズマ反応容器。
- 請求項1又は2において、導入するガスが解離エネルギーの高いガスと低いガスとを含むものであることを特徴とするプラズマ反応容器。
- 請求項3において、導入するガスがCO2 、O 2 、及びN 2 が共存するガスであることを特徴とするプラズマ反応容器。
- 相対向する第1の平板型電極及び第2の平板型電極と、これら両電極の間に介装される誘電体と、前記両電極間に電位差を付与する電位差付与手段とを備えてなり、前記両電極間に高電圧を印加して導入したガスを分解するプラズマ反応容器を用いたガスプラズマ分解方法において、
前記第1の電極及び第2の電極への通電位置を、前記導入ガスの流れ方向の中心より上流側へオフセットした位置に配置して高電圧を印加し、電界強度分布を上流側で高電界強度、下流側で低電界強度とすることを特徴とするガスプラズマ分解方法。 - 請求項5において、前記通電位置を前記第1の電極と第2の電極とで相対向する同位置に配置して高電圧を印加することを特徴とするガスプラズマ分解方法。
- 請求項5又は6において、導入するガスが解離エネルギーの高いガスと低いガスとを含むものであることを特徴とするガスプラズマ分解方法。
- 請求項7において、導入するガスがCO 2 、O 2 、及びN 2 が共存するガスであることを特徴とするガスプラズマ分解方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000140223A JP4020566B2 (ja) | 2000-05-12 | 2000-05-12 | プラズマ反応容器及びガスプラズマ分解方法 |
| US09/849,340 US6774335B2 (en) | 2000-05-12 | 2001-05-07 | Plasma reactor and gas modification method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000140223A JP4020566B2 (ja) | 2000-05-12 | 2000-05-12 | プラズマ反応容器及びガスプラズマ分解方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001314750A JP2001314750A (ja) | 2001-11-13 |
| JP4020566B2 true JP4020566B2 (ja) | 2007-12-12 |
Family
ID=18647548
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000140223A Expired - Fee Related JP4020566B2 (ja) | 2000-05-12 | 2000-05-12 | プラズマ反応容器及びガスプラズマ分解方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4020566B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20030065067A (ko) * | 2002-01-29 | 2003-08-06 | 사단법인 고등기술연구원 연구조합 | 유전체장벽구조를 갖는 유해가스처리용 플라즈마반응기 |
| JP5009871B2 (ja) * | 2008-07-23 | 2012-08-22 | 三井造船株式会社 | 高電圧プラズマ発生装置 |
| CN111185049B (zh) * | 2018-11-14 | 2022-07-08 | 中国石油化工股份有限公司 | 一种通过吸附隔网减少低温等离子体处理废气产生气溶胶的方法 |
-
2000
- 2000-05-12 JP JP2000140223A patent/JP4020566B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2001314750A (ja) | 2001-11-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Penetrante et al. | Kinetic analysis of non-thermal plasmas used for pollution control | |
| Lee et al. | Application of pulsed corona induced plasma chemical process to an industrial incinerator | |
| Malik et al. | Coupled surface dielectric barrier discharge reactor-ozone synthesis and nitric oxide conversion from air | |
| EP1638376A1 (en) | Plasma generating electrode, plasma generation device, and exhaust gas purifying apparatus | |
| KR101118203B1 (ko) | 글라이딩 아크 방전과 촉매를 이용한 휘발성 유기화합물 처리장치 및 방법 | |
| EP2960358A1 (en) | Plasma source and surface treatment method | |
| US6451252B1 (en) | Odor removal system and method having ozone and non-thermal plasma treatment | |
| JP2017199685A (ja) | 環状プラズマ除害装置および方法 | |
| JP2006261040A (ja) | プラズマ反応器 | |
| JPWO2007077897A1 (ja) | 集塵電極及び集塵機 | |
| CN104941398A (zh) | 气体处理装置 | |
| US20020111045A1 (en) | Atmospheric pressure plasma enhanced abatement of semiconductor process effluent species | |
| WO2007035182A2 (en) | Field enhanced electrodes for additive-injection non-thermal plasma (ntp) processor | |
| JP4020566B2 (ja) | プラズマ反応容器及びガスプラズマ分解方法 | |
| US8974741B2 (en) | Device for treating gases using surface plasma | |
| US9713241B2 (en) | Reactive-species supply device and surface treatment apparatus | |
| Piferi et al. | A study on propane depletion by surface dielectric barrier discharges | |
| Kim et al. | CF/sub 4/decompositions using streamer-and glow-mode in dielectric barrier discharges | |
| JP3863701B2 (ja) | プラズマリアクタ | |
| US20020005395A1 (en) | Plasma reactor and gas modification method | |
| KR100472751B1 (ko) | 유전체장벽구조를 갖는 혼합일체형 유해가스정화장치 | |
| US20110000432A1 (en) | One atmospheric pressure non-thermal plasma reactor with dual discharging-electrode structure | |
| JP2006247507A (ja) | 排ガス処理装置及びその処理方法 | |
| KR20030092205A (ko) | 저온 플라즈마와 광촉매 필터를 이용한 유해가스 처리장치 | |
| CN2521868Y (zh) | 多重微放电协同一体的放电装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060707 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060726 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060925 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20070511 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070829 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070925 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101005 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |