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JP4047841B2 - Shielding material for electromagnetic wave shielding - Google Patents
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Description

本発明はPDPのような平板ディスプレイ製品のEMI(Electromagnetic Interference)遮蔽用シールド材に関するものであり、詳しくは基材上に付着されてパターン化された銅箔メッシュの前面及び側面に無光沢の黒色導電性コーテイング層を形成したEMI遮蔽用シールド材に関する。   The present invention relates to a shield material for shielding EMI (Electromagnetic Interference) of flat display products such as PDP, and more particularly, a matte black on the front and side surfaces of a copper foil mesh that is deposited on a substrate and patterned. The present invention relates to a shield material for EMI shielding in which a conductive coating layer is formed.

本明細書においてパターン化とは、フィルムの上に接着された銅箔を食刻して所定のパターンを形成することを意味し、パターン化された銅箔とは前記パターン化を経て所定パターンが形成された銅箔を意味する。   In the present specification, patterning means etching a copper foil adhered on a film to form a predetermined pattern, and the patterned copper foil means that a predetermined pattern is formed through the patterning. It means the formed copper foil.

本明細書においてメッシュとは、前記パターン化を経た銅箔上で食刻されなかった銅箔の部分を意味する。   In this specification, the mesh means a copper foil portion that has not been etched on the patterned copper foil.

本明細書において前面とは、フィルムの反対側のメッシュ表面を意味する。   In the present specification, the front surface means the mesh surface on the opposite side of the film.

本明細書において背面とは、フィルム側のメッシュ表面を意味する。   In this specification, the back means the mesh surface on the film side.

本明細書において側面とは、前記前面及び背面を除いたメッシュの残り表面を意味する。   In the present specification, the side surface means the remaining surface of the mesh excluding the front surface and the back surface.

近来、自発光で見易く、視野角が広く、大画面化が可能であり、駆動スピードが速いことを特徴とするプラズマディスプレイパネル(PDP:Plasma Display Panel)が幅広く用いられているが、このようなPDPは紫外領域から近赤外領域に至るまで広い波長の線スペクトルを発生させる。従って、これによりPDPの近傍で動作するリモートコントロール装置や光通信機器の誤動作を引き起こす恐れがある。また、これは人体に有害なので、これを防ぐために電磁波シールド材が必要である。   Recently, plasma display panels (PDPs) characterized by being self-luminous, easy to see, wide viewing angles, large screens, and fast driving speeds have been widely used. The PDP generates a line spectrum with a wide wavelength from the ultraviolet region to the near infrared region. Therefore, this may cause a malfunction of a remote control device or an optical communication device that operates in the vicinity of the PDP. Moreover, since this is harmful to the human body, an electromagnetic shielding material is necessary to prevent this.

とこるが、PDPのようなディスプレイ製品に用いられるシールド材は、電磁波遮蔽効果のみならず、イメージ再現部の映像が電磁波シールド材を通して見えるように適切な透光性をも有しなければならない。即ち、電磁波遮蔽と透光性という二つの目的が共に達成される必要がある。   However, the shielding material used for the display product such as PDP must have not only an electromagnetic wave shielding effect but also an appropriate translucency so that the image of the image reproduction portion can be seen through the electromagnetic wave shielding material. That is, the two purposes of electromagnetic shielding and translucency need to be achieved together.

従って、このためにガラスや透明樹脂板上に、導電性金属、例えば銅を用いて開口部を有する微細パターンを形成して、電磁波遮蔽の効果と共に光透過性を確保するようになる。   Therefore, a fine pattern having openings is formed on a glass or transparent resin plate using a conductive metal, for example, copper, thereby ensuring light transmission as well as an electromagnetic shielding effect.

しかし、パターン化された導電性金属層が金属光沢を有する場合、PDP表示画面からの出射光がシールド板で反射され表示画面に戻ったり、PDP表示画面に外部から光が入射するとき、入射光を反射するようになる。   However, when the patterned conductive metal layer has a metallic luster, the incident light is emitted when the light emitted from the PDP display screen is reflected by the shield plate and returns to the display screen or when light enters the PDP display screen from the outside. Will be reflected.

このため、シールド板の光の透過率が下がり、表示画面の視認性が悪化されるという問題点を持つため、これを解決するために、銅箔の表面を黒化処理する方法が用いられてきた。このような銅箔の表面黒化方法を用いて、銅箔の背面のみを黒化した後、必要な所定パターンを形成するために不要な部位を除去する食刻処理を行うことによって、フィルム上には背面のみが黒化処理されたパターン化された銅箔が具現された。   For this reason, the light transmittance of the shield plate is lowered, and the visibility of the display screen is deteriorated. To solve this problem, a method of blackening the surface of the copper foil has been used. It was. Using such a copper foil surface blackening method, only the back surface of the copper foil is blackened, and then an etching process is performed to remove unnecessary portions to form a necessary predetermined pattern on the film. In the figure, a patterned copper foil with only the back surface blackened was realized.

図1は、従来の背面のみが黒化処理されたメッシュを有する銅箔を示す概略図である。   FIG. 1 is a schematic view showing a copper foil having a mesh in which only the conventional back surface is blackened.

図1に示したように、背面のみが黒化処理されたメッシュを有する銅箔は、フィルム基材1上の、既に背面が黒化処理された銅箔2が食刻工程を経てパターン化されることによって、結果的にメッシュの背面3のみが黒化処理され、残りの前面4及び側面5では黒化処理が行われなかった。   As shown in FIG. 1, a copper foil having a mesh that is blackened only on the back surface is patterned on the film base 1 through the etching process on the copper foil 2 that has already been blackened on the back surface. As a result, only the back surface 3 of the mesh was blackened, and the blackening treatment was not performed on the remaining front surface 4 and side surface 5.

しかし、パターン化された銅箔において、背面の黒化処理にもかかわらず依然として存在する光反射による視認性低減を防ぐためには、背面のみならず、前面及び残りの側面全てに黒化処理が適用される必要がある。   However, in the patterned copper foil, blackening treatment is applied not only to the back surface but also to the front surface and all remaining side surfaces in order to prevent visibility reduction due to the light reflection that still exists despite the back surface blackening treatment. Need to be done.

従来にはこのような要求を満たすために、絶縁性または導電性酸化被膜や化成被膜を用いて、背面を除いた残り面の黒化処理を行ったこともあるが、以下の表1でわかるような問題点があった。   In the past, in order to satisfy such a requirement, the remaining surface except the back surface was blackened using an insulating or conductive oxide film or chemical conversion film. There was a problem like this.

次の表1は、各黒化処理方法の主要特性を比べたものである。   Table 1 below compares the main characteristics of each blackening method.

Figure 0004047841
Figure 0004047841

前記表1からわかるように、前記絶縁性酸化被膜の場合は非導電性であるが、前面及び側面の黒化処理においては、特に導電性が保障される必要性が大きいため、絶縁性酸化被膜を前面及び側面の黒化処理に適用することは困難であり、前記導電性酸化被膜の場合は完全黒化が難しいという短所がある。   As can be seen from Table 1, in the case of the insulating oxide film, it is non-conductive. However, in the blackening treatment of the front and side surfaces, it is particularly necessary to ensure the conductivity. Is difficult to apply to the blackening treatment of the front and side surfaces, and in the case of the conductive oxide film, it is difficult to completely blacken.

そして、前記化成被膜の場合も抵抗が高くて導電性が不均一であるため、やはり導電性が保障されなければならない前面及び側面の黒化処理に適用し難く、しかも化成被膜の場合には高温加工が必要であるという短所が知られている。   Also, in the case of the chemical conversion film, since the resistance is high and the conductivity is non-uniform, it is difficult to apply to the blackening treatment of the front surface and the side surface where the conductivity must be ensured. The disadvantage is that processing is necessary.

従って、パターン化以後の黒化処理においては、前面及び側面による光反射を防いで視認性を高める一方、完全黒化を達成し、同時に適切な導電性を保障できるようにしながら、加工においても容易になるように、従来とは異なる黒化処理技術の適用が必要である。   Therefore, in the blackening process after patterning, while improving the visibility by preventing light reflection from the front and side surfaces, it is easy to process while achieving complete blackening and at the same time ensuring proper conductivity. Therefore, it is necessary to apply a blackening technique different from the conventional technique.

従って、本発明は前記のような要求と問題点を解決するために案出されたものであって、本発明の目的は、PDPなどの電磁波遮蔽用シールド材で用いるのに適するように基材の表面に形成される銅箔メッシュの前面と側面に、無光沢の黒色導電性コーテイング層を形成することである。   Accordingly, the present invention has been devised to solve the above-described demands and problems, and the object of the present invention is a base material suitable for use in a shielding material for electromagnetic wave shielding such as PDP. A matte black conductive coating layer is formed on the front and side surfaces of the copper foil mesh formed on the surface of the copper foil.

即ち、本発明は銅箔メッシュの前面及び側面から光が反射されないように完全黒化を達成し、適切な導電性を保障し、加工し易く、黒色粒子が落ち出ない無光沢の黒色導電性コーテイング層を銅箔メッシュの前面及び側面に提供する。   That is, the present invention achieves complete blackening so that light is not reflected from the front and side surfaces of the copper foil mesh, ensures appropriate conductivity, is easy to process, and has a matte black conductivity that does not fall off black particles. A coating layer is provided on the front and side of the copper foil mesh.

前記のような本発明の目的は、透明基材と、該基材の表面にパターン化された状態で付着される銅箔メッシュを含む電磁波遮蔽用シールド材において、前記銅箔メッシュの前面及び側面に、薄くて均一の厚さの導電性コーテイング層を形成することにより達成される。   An object of the present invention as described above is to provide a shielding material for shielding electromagnetic waves including a transparent base material and a copper foil mesh adhered in a patterned state to the surface of the base material. In addition, it is achieved by forming a thin and uniform conductive coating layer.

また、前記コーテイング層は、鉄(Fe)と少なくとも一つ以上の他金属成分とを含む無光沢の黒色電気メッキ層であり、その表面に低粗度を具現するための多数の極微細ノジュールが形成されている。特に、前記コーテイング層は銅-コバルト-鉄-ニッケル(Cu-Co-Fe-Ni)からなることが望ましい。
The coating layer is a matte black electroplating layer containing iron (Fe) and at least one other metal component, and a large number of ultrafine nodules for realizing low roughness on the surface thereof. Is formed. In particular, the coating layer is preferably made of copper-cobalt-iron-nickel (Cu-Co-Fe-Ni).

本発明の導電性物質で前面及び側面が処理されたメッシュを有するパターン化された銅箔によって、メッシュの前面及び側面が表面処理されて、前面及び側面による光反射を防いで好ましい視認性を確保し、完全黒化を達成する一方、加工性と導電性に優れ、しかも無光沢であり、黒色粒子が落ち出なく、耐酸化性、耐熱性及び耐薬品性に優れ、剥離強度が良好になり、さらに厚さが薄くて均一の黒化層が得られる効果を達成するようになる。   The front and side surfaces of the mesh are surface-treated by the patterned copper foil having the front and side surfaces treated with the conductive material of the present invention, thereby preventing light reflection by the front and side surfaces and ensuring favorable visibility. While achieving complete blackening, it has excellent workability and conductivity, is matte, has no black particles, has excellent oxidation resistance, heat resistance, and chemical resistance, and has good peel strength. Further, the effect of obtaining a uniform blackening layer with a thinner thickness can be achieved.

以下、本発明によるパターン化された銅箔メッシュの表面に無光沢の導電性コーテイング層が形成されている電磁波遮蔽用シールド材を詳しく説明する。   Hereinafter, an electromagnetic wave shielding shield material in which a matte conductive coating layer is formed on the surface of a patterned copper foil mesh according to the present invention will be described in detail.

本発明による導電性物質で前面及び側面が処理されたメッシュを有するパターン化された銅箔は、従来の前面及び側面に用いられる黒化処理技術とは異なり、パターン化されたメッシュの前面と側面を全部導電性物質でコーテイング処理し、前記導電性物質のコーテイング層を電気メッキにより形成して、前面及び側面による光反射を防いで望ましい視認性を確保する一方、完全黒化を達成し、適切な導電性を保障するようにしながら、同時に加工もし易くする一方、さらにひいては、前記電気メッキ層を鉄と少なくとも一つ以上の他金属成分とを含んでからなる、特に前記成分が所定含量を持つ、電気メッキ層で形成することによって、黒色粒子が落ち出ない無光沢の黒色電気メッキ層として、耐酸化性、耐熱性及び耐薬品性に優れ、剥離強度も良好で、またその黒色電気メッキ層の厚さが薄くて均一で透過率の低下を防ぐ効果が達成されるという技術的思想に基づく。   According to the present invention, a patterned copper foil having a mesh whose front and side surfaces are treated with a conductive material is different from the conventional blackening technique used for the front and side surfaces. Are coated with a conductive material, and a coating layer of the conductive material is formed by electroplating to prevent light reflection from the front and side surfaces, while ensuring desirable visibility, while achieving complete blackening and appropriate While ensuring easy electrical conductivity while simultaneously facilitating processing, and furthermore, the electroplating layer comprises iron and at least one or more other metal components, in particular the components have a predetermined content. By forming with electroplating layer, it is excellent in oxidation resistance, heat resistance and chemical resistance as a matte black electroplating layer where black particles do not fall off, and peeling Time is good, and also based on the technical idea that the effect of preventing the decrease in transmittance at uniform thin thickness of the black electroplating layer is achieved.

本発明による導電性物質で前面及び側面が処理されたメッシュを有するパターン化された銅箔は、フィルム上に接着された銅箔のパターン化後、導電性物質でメッシュの前面及び側面を処理するようになる。   A patterned copper foil having a front and side treated mesh with a conductive material according to the present invention is obtained by treating the front and side of the mesh with a conductive material after patterning of the copper foil adhered on the film. It becomes like this.

図2は、本発明の一実施例による導電性物質で前面40及び側面50が処理されたメッシュ20を有する電磁波遮蔽用シールド材を示す。   FIG. 2 shows an electromagnetic shielding shield material having a mesh 20 having a front surface 40 and side surfaces 50 treated with a conductive material according to an embodiment of the present invention.

図2に示したように、本発明の一実施例による電磁波遮蔽用シールド材は、基材10と、この基材上に付着されるパターン化された銅箔とから成る。ここで、前記パターン化された銅箔メッシュの前面40及び側面50は、導電性物質60でコーテイングされる。前記基材10は光を通させるための薄い透明板であって、例えば透明プラスチックから成るものが望ましい。   As shown in FIG. 2, the shielding material for electromagnetic wave shielding according to an embodiment of the present invention includes a base material 10 and a patterned copper foil attached on the base material. Here, the front surface 40 and the side surface 50 of the patterned copper foil mesh are coated with a conductive material 60. The substrate 10 is preferably a thin transparent plate for allowing light to pass through, for example, a transparent plastic.

なお、メッシュ20の背面30は既に表面処理されており、その表面処理方法としては、従来の多様な黒化処理技術が用いられることは勿論、ひいては下記する本発明による鉄(Fe)成分を含む電解液を用いた電気メッキによる黒化処理技術も用いられることは言うまでもない。   Note that the back surface 30 of the mesh 20 has already been surface-treated. As a surface treatment method, various conventional blackening treatment techniques are used, and the iron (Fe) component according to the present invention described below is included. Needless to say, a blackening treatment technique by electroplating using an electrolytic solution is also used.

前記導電性物質60によるコーテイング層は、電気メッキによることが望ましい。このように、電気メッキを行う場合、酸化被膜、化成被膜などによる場合とは異なり、完全黒化を達成し、良好な導電性と加工性を保障することができる。   The coating layer made of the conductive material 60 is preferably formed by electroplating. Thus, when electroplating is performed, unlike the case of using an oxide film, a chemical conversion film, etc., complete blackening can be achieved, and good conductivity and workability can be ensured.

一方、前記電気メッキ層は、鉄(Fe)及び鉄(Fe)を除いた少なくとも一つ以上の金属からなる無光沢の黒色電気メッキ層である。前記鉄以外の外金属としては、銅(Cu)、コバルト(Co)、ニッケル(Ni)、亜鉛(Zn)、砒素(As)及びタングステン(W)を含むグループから選択された一つまたはその以上の金属が使用可能である。   Meanwhile, the electroplating layer is a matte black electroplating layer made of at least one metal excluding iron (Fe) and iron (Fe). The outer metal other than iron is one or more selected from the group including copper (Cu), cobalt (Co), nickel (Ni), zinc (Zn), arsenic (As), and tungsten (W). Any metal can be used.

前記メッキ層としては、銅-鉄-コバルトまたは銅-鉄-ニッケルの金属組合が可能であるが、特に銅-コバルト-鉄-ニッケルからなるものが最も望ましい。
また、前記メッキ層は、高密度配線に適するようにその厚さを約1μm以下に制限することが好ましい。
The plating layer may be a copper-iron-cobalt or copper-iron-nickel metal combination, but is most preferably made of copper-cobalt-iron-nickel.
The plating layer preferably has a thickness limited to about 1 μm or less so as to be suitable for high-density wiring.

前記メッキ層30が、銅、コバルト、ニッケル及び鉄から成る場合、銅が1〜4mg/mであり、前記コバルトが1000〜2000mg/mであり、前記鉄が300〜600mg/m2であり、前記ニッケルが7〜15mg/mとなるようにその含量を調節することが望ましい。 The plating layer 30 is copper, the cobalt, if made of nickel and iron, copper is 1 to 4 mg / m 2, wherein the cobalt is 1000~2000mg / m 2, wherein the iron be 300 to 600 mg / m @ 2 The content of nickel is preferably adjusted to 7 to 15 mg / m 2 .

なお、前記銅の含量が1mg/m未満であると、満足するほどの極微細ノジュールの形成が難しくてその表面に金属光沢が出るようになり、4mg/m以上になると、極微細ノジュールが過多に積層されて落ち出る現象が発生する。 Incidentally, the content of the copper is less than 1 mg / m 2, become metallic luster comes into its surface difficult formation of very fine nodules as satisfied is equal to or 4 mg / m 2 or more, very fine nodules Phenomenon that falls due to excessive lamination.

また、前記コバルトの含量が1000mg/m未満であると、茶色の極微細ノジュールが電着されて黒色度が低減され、2000mg/m以上になると、増加されるコストに比べて改善される物性が極めて少ない。 Further, when the cobalt content is less than 1000 mg / m 2 , brown ultrafine nodules are electrodeposited to reduce the blackness, and when it is 2000 mg / m 2 or more, the cost is improved compared to the increased cost. Very few physical properties.

前記鉄の含量が300mg/m未満であると、満足するほどの極微細ノジュールの形成が難しくてその表面に金属光沢が出るようになり、600mg/m以上になると、工程中作業電圧の過多上昇により過多発熱が生じ、それにより電流損失が増加して電力効率が急減する。 If the iron content is less than 300 mg / m 2 , it will be difficult to form a satisfactory ultrafine nodule and the surface will have a metallic luster, and if it exceeds 600 mg / m 2 , Excessive rise causes excessive heat generation, which increases current loss and sharply reduces power efficiency.

前記ニッケルの含量が7mg/m未満であると、極微細ノジュールの黒色度が減少し、黒化処理後基材との剥離現象が発生し、15mg/m以上になると、エッチング性が悪くなる。 When the nickel content is less than 7 mg / m 2 , the blackness of the ultra fine nodules decreases, and a peeling phenomenon occurs from the base material after the blackening treatment. When the nickel content is 15 mg / m 2 or more, the etching property is poor. Become.

即ち、メッキ層が前述した含量範囲を持つとき、黒色粒子が落ち出ない濃い黒色メッキ層の形成が可能であり、無光沢であり、エッチング性、耐薬品性、耐熱性、耐酸化性に優れ、高い剥離強度を有するようになり、望ましい表面粗度などを有するようになる。   That is, when the plating layer has the above-mentioned content range, it is possible to form a dark black plating layer in which black particles do not fall out, it is matte, and it has excellent etching properties, chemical resistance, heat resistance, and oxidation resistance. It has a high peel strength and has a desirable surface roughness.

さらに、前記メッキ層を、その含量が、銅2〜3mg/m、コバルト1100〜1500mg/m、鉄400〜550mg/m及びニッケル10〜13mg/mとなるようにする場合、黒色度や無光沢などの点においてさらに優れるようになる。 Furthermore, the plating layer, if the content is, copper 2-3 mg / m 2, cobalt 1100~1500mg / m 2, so that the iron 400~550mg / m 2 and nickel 10~13mg / m 2, black It becomes more excellent in terms of degree and matteness.

このように、本発明による電気メッキ層が少なくとも鉄を含む金属成分からなる場合、メッキ層上には極微細ノジュール処理効果が達成される。前記極微細ノジュール処理効果は、前記メッキ層内に含まれる鉄によるものであり、これによりメッキされる粒子が均一に分散されるのみならず、低粗度化が達成され、厚さが薄くて均一のメッキ層が得られ、メッキ層の金属光沢が抑制される。   Thus, when the electroplating layer according to the present invention is made of a metal component containing at least iron, an effect of treating ultra fine nodules is achieved on the plating layer. The ultra fine nodule treatment effect is due to the iron contained in the plating layer, whereby not only the particles to be plated are uniformly dispersed, but also low roughness is achieved, and the thickness is thin. A uniform plating layer is obtained, and the metallic luster of the plating layer is suppressed.

このように構成される前記メッキ層により表面粗さRzは、2.0μm以下となる。   With the plating layer configured as described above, the surface roughness Rz becomes 2.0 μm or less.

また、前記メッキ層30内に形成されるノジュールは、約0.1〜2μmの平均断面幅と約0.1〜1μmの平均高さを持つことが望ましい。前記平均断面幅と平均高さの定義及び効果については、米国特許第5、800、930号に詳しく開示されているため、その説明は省略する。   The nodules formed in the plating layer 30 preferably have an average cross-sectional width of about 0.1 to 2 [mu] m and an average height of about 0.1 to 1 [mu] m. Since the definition and effect of the average cross-sectional width and average height are disclosed in detail in US Pat. No. 5,800,930, description thereof is omitted.

前記コーテイング層の形成後、必要に応じては、防錆液にて防錆処理することでクロメート層(図示せず)を形成することもできる。   After forming the coating layer, if necessary, a chromate layer (not shown) can be formed by rust-proofing with a rust-proof solution.

以下、本発明による導電性物質で前面及び側面が処理されたメッシュを有するパターン化された銅箔の製造方法について詳述する。   Hereinafter, a method for manufacturing a patterned copper foil having a mesh whose front and side surfaces are treated with a conductive material according to the present invention will be described in detail.

先ず、フィルム基材上に既に背面が黒化処理された銅箔が用意され、食刻工程を経てパターンが形成された後、前記銅箔の前面及び側面の処理のために、例えば、銅、コバルト、鉄、ニッケルを含む電解液が用意され、これを所定の温度、処理時間、陰極電流密度、電流条件の下でメッシュの前面及び側面を電解メッキする。この場合、電解液と電解メッキの条件を適切に設定することにより厚さを薄くて均一にすることができる。   First, after the copper foil with the back surface already blackened on the film substrate is prepared and a pattern is formed through an etching process, for the treatment of the front and side surfaces of the copper foil, for example, copper, An electrolytic solution containing cobalt, iron, and nickel is prepared, and the front and side surfaces of the mesh are electroplated under a predetermined temperature, processing time, cathode current density, and current conditions. In this case, it is possible to make the thickness thin and uniform by appropriately setting the conditions of the electrolytic solution and the electrolytic plating.

即ち、前記所定の厚さと含量を持つメッキ層を具現するために、電解液は、銅0.1〜2.0g/L、コバルト0.1〜10.0g/L、鉄0.1〜6.0g/L、ニッケル0.02〜2.0g/Lを含み、このとき電解処理のための条件は、液温度が20〜50℃、pHが0.5〜6、処理時間が2〜30秒、陰極電流密度が0.5〜20A/dmとなるようにする。さらに望ましくは、電解液は、銅0.2〜1.0g/L、コバルト3.0〜9.0g/L、鉄1.5〜4.0g/L、ニッケル0.1〜1.5g/Lを含み、このとき電解処理のための条件は、液温度が30〜40℃、pHが1〜3、処理時間が5〜20秒、陰極電流密度が2〜15A/dmとなるようにする。 That is, in order to implement the plating layer having the predetermined thickness and content, the electrolyte is 0.1 to 2.0 g / L of copper, 0.1 to 10.0 g / L of cobalt, 0.1 to 6 of iron. Including 0.0 g / L, nickel 0.02-2.0 g / L, the conditions for the electrolytic treatment at this time are as follows: liquid temperature is 20-50 ° C., pH is 0.5-6, treatment time is 2-30 Second, the cathode current density is set to 0.5 to 20 A / dm 2 . More preferably, the electrolytic solution is 0.2 to 1.0 g / L of copper, 3.0 to 9.0 g / L of cobalt, 1.5 to 4.0 g / L of iron, 0.1 to 1.5 g / L of nickel. In this case, the conditions for the electrolytic treatment are such that the liquid temperature is 30 to 40 ° C., the pH is 1 to 3, the treatment time is 5 to 20 seconds, and the cathode current density is 2 to 15 A / dm 2. To do.

また、前記メッキ層を形成させるための電流としては、一般の直流電流を用いることが可能であり、パルス電流供給が可能なパルス整流器を用いると、均一で微細な粒子からなる電着層の形成に役に立って、黒色粒子が落ち出ない無光沢の黒色メッキ層を形成するのにさらに効果がある。   In addition, as a current for forming the plating layer, a general direct current can be used. When a pulse rectifier capable of supplying a pulse current is used, an electrodeposition layer made of uniform and fine particles is formed. It is useful for forming a matte black plating layer in which black particles do not fall out.

前述したメッキ層の形成後には、製造後ユーザーが使用するまでの時間に応じて、必要時電解クロメート防錆処理を行うことが望ましい。   After the above-described plating layer is formed, it is desirable to perform electrolytic chromate rust prevention treatment as necessary according to the time until the user uses it after manufacture.

このように、導電性物質でメッシュの前面及び側面をコーテイング処理する場合、前面及び側面による光反射を防いで好ましい視認性を確保するようになり、同時に適切な導電性、加工性を達成するようになり、特に電気メッキによる場合、完全黒化を達成するようになる。   As described above, when the front surface and the side surface of the mesh are coated with a conductive material, light reflection by the front surface and the side surface is prevented to ensure favorable visibility, and at the same time, appropriate conductivity and workability are achieved. In particular, in the case of electroplating, complete blackening is achieved.

そして、銅-コバルト-鉄-ニッケルを含む電気メッキ層を形成させると、耐酸化性、耐熱性及び耐薬品性に優れ、高い剥離強度を示すようになる。   When an electroplating layer containing copper-cobalt-iron-nickel is formed, it has excellent oxidation resistance, heat resistance and chemical resistance, and exhibits high peel strength.

また、前記電気メッキ層は無光沢の濃い黒色を帯び、黒色メッキ粒子が落ち出なく、2.0μm以下の低粗度化が具現でき、その黒化層の厚さが薄くて均一で透過率の低下を防ぐことができるため、PDPなどのディスプレイ製品のEMI遮蔽用シールド材などに用いられる銅箔であって、視認性問題を適切に解決することができる。   In addition, the electroplating layer has a matte dark black color, black plating particles do not fall out, and low roughness of 2.0 μm or less can be realized, the thickness of the blackening layer is thin, uniform, and transmittance Therefore, it is a copper foil used for a shield material for EMI shielding of a display product such as a PDP, and the visibility problem can be appropriately solved.

以下、本発明の望ましい実施例を説明することによって、本発明をさらに詳しく説明する。しかし、本発明は下記の実施例に限定されるものではなく、添付された特許請求範囲内で多様な形態の実施例が具現できる。但し、下記の実施例は本発明の開示を完全にすると共に、当業界で通常の知識を有する者に発明の実施を容易にするためのものである。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail by explaining preferred embodiments of the present invention. However, the present invention is not limited to the following embodiments, and various embodiments can be implemented within the scope of the appended claims. However, the following examples are intended to complete the disclosure of the present invention and make it easier for those skilled in the art to practice the invention.

[実施例1]
本実施例1では、下記の電解液組成と電解処理条件で銅-コバルト-鉄-ニッケルを含むメッキ表面処理をメッシュの前面及び側面に施した。
[Example 1]
In Example 1, a plating surface treatment containing copper-cobalt-iron-nickel was applied to the front and side surfaces of the mesh under the following electrolytic solution composition and electrolytic treatment conditions.

電解液の組成は、銅(金属銅)0.4g/L、コバルト(金属コバルト)4.0g/L、鉄(金属鉄)2.0g/L、ニッケル(金属ニッケル)0.2g/Lとした。   The composition of the electrolytic solution is as follows: copper (metal copper) 0.4 g / L, cobalt (metal cobalt) 4.0 g / L, iron (metal iron) 2.0 g / L, nickel (metal nickel) 0.2 g / L did.

電解処理条件は、液温度35℃、処理時間20秒、陰極電流密度10A/dm、pH1.75以下にして、前記のような方法でメッキ処理した。 The electrolytic treatment was performed at a liquid temperature of 35 ° C., a treatment time of 20 seconds, a cathode current density of 10 A / dm 2 , and a pH of 1.75 or less.

このようなメッキ処理によってメッシュの前面または側面に形成されたメッキ層内の成分含量を、5回測定した結果、平均値が、銅2.4mg/m、コバルト1159.7mg/m、鉄418.5mg/m、ニッケル10.5mg/mであった。 The ingredient content of the plating layer formed on the front or side of the mesh by such plating treatment, 5 times the measured results, the average value, copper 2.4 mg / m 2, cobalt 1159.7mg / m 2, iron 418.5mg / m 2, was a nickel 10.5 mg / m 2.

図3は、本実施例1による銅箔の表面を示すSEM写真である。   FIG. 3 is an SEM photograph showing the surface of the copper foil according to Example 1.

[実施例2]
本実施例2では、下記の電解液組成と電解処理条件で銅-コバルト-鉄-ニッケルを含むメッキ表面処理をメッシュの前面及び側面に施した。
[Example 2]
In Example 2, a plating surface treatment containing copper-cobalt-iron-nickel was performed on the front and side surfaces of the mesh under the following electrolytic solution composition and electrolytic treatment conditions.

電解液の組成は、銅(金属銅)0.8g/L、コバルト(金属コバルト)7.0g/L、鉄(金属鉄)3.0g/L、ニッケル(金属ニッケル)1.0g/Lとした。   The composition of the electrolytic solution is as follows: copper (metallic copper) 0.8 g / L, cobalt (metallic cobalt) 7.0 g / L, iron (metallic iron) 3.0 g / L, nickel (metallic nickel) 1.0 g / L did.

電解処理条件は、液温度35℃、処理時間10秒、陰極電流密度15A/dm、pH1.75以下にして、前記のような方法でメッキ処理した。 The electrolytic treatment was performed at a liquid temperature of 35 ° C., a treatment time of 10 seconds, a cathode current density of 15 A / dm 2 , and a pH of 1.75 or less.

このようなメッキ処理によってメッシュの前面または側面に形成されたメッキ層内の成分含量を、5回測定した結果、平均値が、銅2.8mg/m、コバルト1417.6mg/m、鉄511.5mg/m、ニッケル12.9mg/mであった。 The ingredient content of the plating layer formed on the front or side of the mesh by such plating treatment, 5 times the measured results, the average value, copper 2.8 mg / m 2, cobalt 1417.6mg / m 2, iron They were 511.5 mg / m 2 and nickel 12.9 mg / m 2 .

図4は、本実施例2による銅箔の表面を示すSEM写真である。   FIG. 4 is an SEM photograph showing the surface of the copper foil according to the second embodiment.

たとえ本発明が前記言及された望ましい実施例と関連して説明されたが、発明の要旨と範囲から外れずに、多様な修正や変形をすることができる。従って、添付された特許請求の範囲は本発明の要旨に属するこのような修正や変形をも含むべきである。   Although the present invention has been described in connection with the preferred embodiments referred to above, various modifications and variations can be made without departing from the spirit and scope of the invention. Accordingly, the appended claims should include such modifications and variations as falling within the spirit of the invention.

従来の背面のみが黒化されたメッシュを有する銅箔を示す概略図である。It is the schematic which shows the copper foil which has the mesh by which only the conventional back surface was blackened. 本発明の一実施例による導電性物質で前面及び側面が表面処理されたメッシュを有する銅箔の付着された電磁波遮蔽用シールド材を示す概略図である。1 is a schematic view showing an electromagnetic shielding shield material to which a copper foil having a mesh whose front and side surfaces are treated with a conductive material according to an embodiment of the present invention is attached. 本実施例1による処理表面の形状をSEM写真である。It is a SEM photograph about the shape of the processing surface by the present Example 1. FIG. 本実施例2による処理表面の形状をSEM写真である。It is a SEM photograph about the shape of the processing surface by the present Example 2.

符号の説明Explanation of symbols

10 基材
20 メッシュ
30 背面
40 前面
50 側面
60 導電性物質
10 base material 20 mesh 30 back surface 40 front surface 50 side surface 60 conductive substance

Claims (4)

透明基材と、該基材の表面にパターン化された状態で付着される銅箔メッシュを含む電
磁波遮蔽用シールド材であって、
前記銅箔メッシュの前面及び側面に、薄くて均一の厚さの導電性コーテイング層が形成
されており、
前記コーテイング層は、銅‐コバルト‐鉄‐ニッケル(Cu‐Co‐Fe‐Ni)からなり、銅が1mg/m 以上、コバルトが1000mg/m 以上、鉄が300mg/m 以上、ニッケルが7mg/m 以上である無光沢の黒色電気メッキ層であり、その表面に低粗度を具現する為の多数の極微細ノジュールが形成されていることを特徴とする電磁波遮蔽用シールド材。
A shielding material for electromagnetic wave shielding comprising a transparent substrate and a copper foil mesh attached in a patterned state to the surface of the substrate,
A thin and uniform conductive coating layer is formed on the front and side surfaces of the copper foil mesh,
The coating layer is a copper - cobalt - iron - nickel (Cu-Co-Fe-Ni ) Tona is, copper 1 mg / m 2 or more, cobalt 1000 mg / m 2 or more, iron 300 mg / m 2 or more, a nickel There is a matte black electroplating layer of Ru der 7 mg / m 2 or more, the shield member, wherein a plurality of very fine nodules for implementing a low-roughness on the surface thereof is formed .
前記コーテイング層の厚さが1μm以下であり、表面粗度Rzが2μm以下であることを特徴とする請求項1に記載の電磁波遮蔽用シールド材。   2. The electromagnetic shielding material according to claim 1, wherein the coating layer has a thickness of 1 μm or less and a surface roughness Rz of 2 μm or less. 前記コーテイング層は、銅1〜4mg/m、コバルト1000〜2000mg/m、鉄300〜600mg/m及びニッケル7〜15mg/mを含むことを特徴とする請求項1に記載の電磁波遮蔽用シールド材。 The coating layer is an electromagnetic wave according to claim 1, characterized in that it comprises copper 1 to 4 mg / m 2, cobalt 1000~2000mg / m 2, the iron 300 to 600 mg / m 2 and nickel 7~15mg / m 2 Shielding material for shielding. 前記コーテイング層は、銅2〜3mg/m、コバルト1100〜1500mg/m、鉄400〜550mg/m及びニッケル10〜13mg/mを含むことを特徴とする請求項1に記載の電磁波遮蔽用シールド材。 2. The electromagnetic wave according to claim 1, wherein the coating layer includes copper 2 to 3 mg / m 2 , cobalt 1100 to 1500 mg / m 2 , iron 400 to 550 mg / m 2, and nickel 10 to 13 mg / m 2. Shielding material for shielding.
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