JP4062225B2 - 光スキャナおよびそれを備えた画像形成装置 - Google Patents

Description

本発明は、入射した光を反射する反射面とその入射光の入射方向との角度を変化させることにより、その反射面からの反射光の走査を行う光スキャナに関するものであり、特に、その反射光の横断面積を拡大する技術に関するものである。

入射した光を反射する反射面とその入射光の入射方向との角度を変化させることにより、その反射面からの反射光の走査を行う光スキャナが既に知られている（例えば、特許文献１参照。）。この種の光スキャナは、例えば、画像形成の分野や画像読取りの分野において使用される。画像形成の分野においては、網膜上において光束を走査して画像を直接に表示する網膜走査型ディスプレイ装置、プロジェクタ、レーザプリンタ、レーザリソグラフィ等の用途に使用され、一方、画像読取りの分野においては、ファクシミリ、複写機、イメージスキャナ、バーコードリーダ等の用途に使用される。

この種の光スキャナの一例は、反射面を揺動させることにより、光を走査する形式であり、別の例は、反射面を一方向に回転させることにより、光を走査する形式である。

反射面を揺動させる形式の一例は、特許文献１に記載されているように、光を反射するミラーと、そのミラーを捩じり振動させるための振動体とを含む形式の光スキャナである。この例は、振動を利用して反射面を揺動させる形式であるが、振動を利用せずに反射面を揺動させる形式も存在し、その一具体例は、ガルバノミラーを利用する光スキャナである。

これに対し、反射面を一方向に回転させる形式の一例は、反射面が複数枚、互いに隣接して一列に並んだポリゴンミラーを利用する光スキャナである。そのポリゴンミラーを利用する光スキャナは、複数枚の反射面を順次利用して走査を繰り返す点で、同じ反射面を繰返し利用して走査を繰り返す上述の、反射面を揺動させる形式の光スキャナと相違する。

特開平１１−２０３３８３号公報

以上説明した光スキャナにおいては、例えば高解像度を達成すべく、高速走査し、走査振幅を大きく、なおかつ、光スキャナの反射面からの反射光すなわち光スキャナによる走査光の横断面積ができる限り大きいことが要望される場合がある。ここに、「横断面積」は、光が例えば、円形断面を有するビームである場合には、ビーム径によって表わされる円の面積を意味し、ビーム径が大きいほど横断面積も大きいという関係が成立する。

以下、上述の要望を、反射面が形成された反射ミラー部であって弾性はりによって支持されたものを捩じり振動させ、それによって反射面を揺動させて光を走査する形式の光スキャナを例にとり、具体的に説明する。

この例においては、反射面からの反射光の横断面積を拡大するために、その反射面への入射光の横断面積を拡大することが必要である。その入射光の横断面積の拡大は、反射面の面積が広いほど容易である。

しかし、反射面の面積を拡大するに際し、種々の理由によって限界がある。例えば、当該光スキャナによって高解像度を、所望の走査周波数および走査角と共に達成することが必要である場合である。この場合には、それら３者間にトレードオフの関係が存在する可能性がある。

そのトレードオフの関係を具体的に説明するに、高解像度を達成すべく、反射面の面積を拡大しようとすると、その反射面が形成された反射ミラー部の大型化によってその反射ミラー部の重量が増加する。この重量増加は、反射ミラー部の慣性の増加を招来し、ひいては、反射ミラー部の走査周波数の低下を招来する傾向がある。

この傾向にもかかわらず、走査周波数を増加させるためには、前記弾性はりの剛性を増加させることが必要である。しかし、弾性はりの剛性増加は、弾性はりの捩じり難さの増加を意味するため、反射ミラー部の走査角（最大走査範囲）が減少する傾向を生じてしまう。

したがって、この例においては、反射面の面積拡大によって高解像度を達成するのに限界がある。

それにもかかわらず、従来の光スキャナにおいては、反射面に向かって照射される照射光がもれなく反射面に入射するという前提のもと、製造ばらつきや経時変化にもかかわらずそのような入射条件が常に維持されるようにするために、反射面への光の入射領域とその反射面の外縁との間に、光が入射しない非入射領域が存在するように、その反射面に照射される照射光の横断面が設定されていた。

このように、従来の光スキャナにおいては、反射面の面積拡大に駄して厳しい制約が課されているにもかかわらず、そのような限られた広さの反射面の全体を有効に利用して光の走査を行うことができなかった。

以上説明した事情を背景に、本発明は、入射した光を反射する反射面とその入射光の入射方向との角度を変化させることにより、その反射面からの反射光の走査を行う光スキャナにおいて、その反射光の横断面積をその反射面の大きさの割に容易に拡大することを可能にすることを課題としてなされたものである。

本発明に係る光スキャナの一例は、入射した光を反射する反射面とその入射光の入射方向との角度を変化させることにより、その反射面からの反射光の走査を行う光スキャナであって、
前記反射面が形成された反射ミラー部と、
その反射ミラー部を捩じり振動させるために、その反射ミラー部に連結された弾性を有するはり部と
を含み、
前記反射ミラー部は、前記反射面が形成された前面とその前面以外の面である他の面とを有して、前記走査のために前記反射面と一緒に揺動させられる揺動部として機能し、
前記他の面は、前記反射ミラー部のうち、前記前面に隣接した側面であって、前記前面の外縁に鋭角的に交わるものを含み、
前記走査のために前記反射面に向かって照射される照射光は、前記反射面に入射する必要光とその反射面に入射しない不要光とを一緒に発生させる横断面を有し、
当該光スキャナは、さらに、
前記不要光を反射する反射能力が前記必要光を前記反射面が反射する反射能力より低い低反射能力部を含み、
その低反射能力部は、前記反射ミラー部の前記側面のうちの少なくとも一部に形成される。
ところで、反射面が形成された前面とそれに隣接した側面とを有する反射ミラー部を備えた光スキャナにおいては、照射光の一部が、前面に前記必要光として入射すると同時に、同じ照射光の別の一部が、側面に前記不要光として入射しようとする。側面が前面の外縁に直角に交わる場合には、反射ミラー部の揺動中、反射面が正対位置にある状態においては、側面が照射光に平行であるのに対し、反射面がその正対位置から外れた位置にある状態においては、側面が照射光に斜めに対向する。そのため、特別な対策を講じない限り、不要光が側面に入射して外乱反射光が発生する可能性がある。
しかし、この光スキャナにおいては、側面が前面の外縁に鋭角的に交わるように配置されているため、反射面が正対位置から外れた位置にある状態においても、側面が照射光に対向することが抑制される。したがって、この光スキャナによれば、不要光が側面に入射して外乱反射光が発生する可能性も抑制される。
本発明に係る光スキャナの別の例は、入射した光を反射する反射面とその入射光の入射方向との角度を変化させることにより、その反射面からの反射光の走査を行う光スキャナであって、
前記反射面は、前記走査のために、その反射面の全体に入射する必要光とその反射面に入射しない不要光とを一緒に発生させる直径を有する照射光によって照射される。
この光スキャナによれば、不要光の存在を許容して照射光の横断面を設定することが可能となるため、限られた広さの反射面の全体をできる限り有効に光の走査のために利用することが容易となる。
本発明によって下記の各態様が得られる。各態様は、項に区分し、各項には番号を付し、必要に応じて他の項の番号を引用する形式で記載する。これは、本発明が採用し得る技術的特徴の一部およびそれの組合せの理解を容易にするためであり、本発明が採用し得る技術的特徴およびそれの組合せが以下の態様に限定されると解釈されるべきではない。すなわち、下記の態様には記載されていないが本明細書には記載されている技術的特徴を本発明の技術的特徴として適宜抽出して採用することは妨げられないと解釈すべきである。

さらに、各項を他の項の番号を引用する形式で記載することが必ずしも、各項に記載の技術的特徴を他の項に記載の技術的特徴から分離させて独立させることを妨げることを意味するわけではなく、各項に記載の技術的特徴をその性質に応じて適宜独立させることが可能であると解釈されるべきである。

（１） 入射した光を反射する反射面とその入射光の入射方向との角度を変化させることにより、その反射面からの反射光の走査を行う光スキャナであって、
前記走査のために前記反射面に向かって照射される照射光が、前記反射面に入射する必要光とその反射面に入射しない不要光とを一緒に発生させる横断面を有する光スキャナ。

反射面の面積を拡大するのに限界が存在する状況において、走査のために反射面に照射される照射光がもれなく反射面に入射するように照射光の横断面を設定する場合と、照射光の一部が反射面に入射しないことが許容されるように照射光の横断面を設定する場合とが考えられる。それら２つの場合を互いに比較すれば、前者の場合には、限られた広さの反射面の全体をできる限り有効に光の走査のために利用することが後者の場合より困難である。

この事実は、例えば、照射光の横断面が円形断面であるのに対して、反射面の形状が四辺形であるというように、照射光の横断面形状と反射面の形状とが互いに大きく異なる状況において特に顕著である。

さらに、照射光がもれなく反射面に入射するように設計される光スキャナにあっては、製造ばらつきや経時変化にもかかわらずそのような入射条件が常に維持されるようにするために、照射光の横断面が反射面の寸法より小さく設定されるのが通常である。

このことを考慮すれば、例えば、照射光の横断面形状も反射面の形状も共に円形であるというように、照射光の横断面形状と反射面の形状とが互いに近似する状況でさえ、照射光がもれなく反射面に入射するように照射光の横断面を設定する場合には、照射光の一部が反射面に入射しないことが許容されるように照射光の横断面を設定する場合より、限られた広さの反射面の全体をできる限り有効に光の走査のために利用することが困難である。

以上説明した知見に基づき、本項に係る光スキャナにおいては、走査のために反射面に向かって照射される照射光が、その反射面に入射する必要光とその反射面に入射しない不要光とを一緒に発生させる横断面を有するものとされている。すなわち、反射面への照射光が、その反射面に入射する必要光と、その反射面に入射しない不要光とを含むものとされているのである。

したがって、この光スキャナによれば、不要光の存在を許容して照射光の横断面を設定することが可能となるため、限られた広さの反射面の全体をできる限り有効に光の走査のために利用することが容易となる。

本項における「照射光」については、必要光と不要光とを含むものであれば足り、必要光が反射面の全体に入射するようにすることは不可欠ではない。反射面の一部に必要光が入射しない領域が存在するように照射光の横断面を設定してもよいのである。

（２） さらに、前記不要光を反射する反射能力が前記必要光を前記反射面が反射する反射能力より低い低反射能力部を含む（１）項に記載の光スキャナ。

前記（１）項に係る光スキャナにおいては、反射面に入射しない不要光が存在するが、その不要光が入射する不要光入射部が存在するようにこの光スキャナが設計される場合がある。その不要光入射部に不要光が入射すると、特別な対策を講じない限り、その不要光入射部からの反射光が発生してしまう。この反射光は外乱反射光として、反射面からの反射光である正規反射光に悪影響を及ぼす可能性がある。

これに対し、本項に係る光スキャナにおいては、不要光を反射する反射能力が必要光を反射する反射能力より低い低反射能力部を含むものとされている。

この低反射能力部は、不要光が入射し、その入射した不要光を反射面より低い反射率で反射する低反射率部として構成したり、不要光を無反射状態で通過させる光通過部として構成することが可能である。低反射率部は、不要光が入射することを許容する点で、それを許容しない光通過部とは異なるが、不要光が、反射面からの正規反射光にとっての外乱反射光に転換することを抑制する機能を果たす点で、それら低反射率部と光通過部とは互いに共通する。

したがって、本項に係る光スキャナによれば、反射面に向かって照射される照射光の一部が、その反射面に入射しない不要光であるにもかかわらず、その不要光が、反射面からの正規反射光にとっての外乱反射光に転換することが抑制される。

よって、この光スキャナによれば、反射面からの正規反射光に悪影響を及ぼすことなく、その反射面への入射光の横断面積を拡大することが容易となる。

（３） 前記低反射能力部は、前記不要光が入射し、その入射した不要光を前記反射面より低い反射率で反射する低反射率部を含む（２）項に記載の光スキャナ。

ここに、「反射面より低い反射率で反射する」という用語は、反射面に関して発生する光学的な現象のうち光の反射という現象に主に着目して、反射光を散乱させまたは偏向することにより、反射光が入射すべき位置として予め定められた目標入射位置に反射光が入射しないようにするアプローチを含むように解釈することが可能である。

さらに、その用語は、反射面に関して発生する光学的な現鍾のうち光の屈折という現象に主に着目して、反射光（例えば、特定の周波数を有する反射光）の発生自体を防止するアプローチを含むように解釈することも可能である。

このアプローチは、講学上、狭義の反射防止に該当すると思われるが、本明細書においては、反射防止という用語を広義の反射防止を意味する用語として使用する。ここに、「広義の反射防止」という用語は、着目する光学的現象の種類の如何を問わず、入射光が、目標入射位置に入射する反射光に転換することを防止するアプローチを意味する用語として使用する。

（４） 前記低反射率部は、前記不要光の入射面として、前記反射面より粗い表面を有する（３）項に記載の光スキャナ。

この光スキャナによれば、低反射率部の入射面の粗さが反射面より粗くされることにより、主に光の散乱と吸収を利用して低反射能力が達成される。

（５） 前記低反射率部は、前記不要光の入射面として、反射防止膜でコーティングされた表面を有する（３）または（４）項に記載の光スキャナ。

この光スキャナによれば、低反射率部の入射面が反射防止膜でコーティングされることにより、例えば光の屈折（狭義の反射防止）または低反射率化（例えば、後述の黒色化）という現象を利用して低反射能力が達成される。

（６） 前記低反射能力部は、前記不要光を無反射状態で通過させる光通過部を含む（２）ないし（５）項のいずれかに記載の光スキャナ。

この光スキャナによれば、不要光が無反射状態で通過させられるため、不要光は、反射面からの正規反射光に向かって反射する外乱反射光に転換せずに済む。

（７） さらに、前記走査のために前記反射面と一緒に揺動させられる揺動部を含み、その揺動部に前記低反射能力部が形成されている（２）ないし（６）項のいずれかに記載の光スキャナ。

走査のために反射面と一緒に揺動させられる揺動部を含む形式の光スキャナにおいては、不要光が揺動部に入射すると、反射面からの正規反射光に向かう外乱反射光が発生してしまう可能性がある。この場合、正規反射光と外乱反射光とが同じ方向に進行する可能性があるため、正規反射光が外乱反射光によって悪影響を受ける可能性がある。

これに対し、本項に係る光スキャナにおいては、不要光が揺動部に入射しても、その揺動部に低反射能力部が形成されているため、反射面からの正規反射光に向かう外乱反射光が発生することが抑制される。

（８） さらに、
前記反射面が形成された反射ミラー部と、
その反射ミラー部を捩じり振動させるために、その反射ミラー部に連結された弾性を有するはり部と
を含む（７）項に記載の光スキャナ。

（９） 前記はり部は、前記揺動部として機能し、前記低反射能力部は、そのはり部のうち前記反射面に隣接した部分のうちの少なくとも一部に形成される（８）項に記載の光スキャナ。

この光スキャナによれば、照射光の一部が、反射面に前記必要光として入射するのと同時に、同じ照射光の別の一部が、はり部のうちその反射面に隣接した部分に前記不要光として入射しても、その隣接した部分が低反射能力部とされるため、不要光が外乱反射光に転換することが抑制される。

（１０） 前記反射ミラー部は、前記反射面が形成された前面とその前面以外の面である他の面とを有して前記揺動部として機能し、前記低反射能力部は、前記他の面のうちの少なくとも一部に形成される（８）または（９）項に記載の光スキャナ。

この光スキャナによれば、照射光の一部が、反射ミラー部の前面に形成された反射面に前記必要光として入射するのと同時に、同じ照射光の別の一部が、同じ反射ミラー部のうち前面以外の面である他の面に前記不要光として入射しても、その他の面のうちの少なくとも一部が低反射能力部とされるため、不要光が外乱反射光に転換することが抑制される。

（１１） 前記他の面は、前記反射ミラー部のうち、前記前面に隣接した側面であって、前記前面の外縁に鋭角的に交わるものを含む（１０）項に記載の光スキャナ。

反射面が形成された前面とそれに隣接した側面とを有する反射ミラー部を備えた光スキャナにおいては、照射光の一部が、前面に前記必要光として入射すると同時に、同じ照射光の別の一部が、側面に前記不要光として入射しようとする。側面が前面の外縁に直角に交わる場合には、反射ミラー部の揺動中、反射面が正対位置にある状態においては、側面が照射光に平行であるのに対し、反射面がその正対位置から外れた位置にある状態においては、側面が照射光に斜めに対向する。そのため、特別な対策を講じない限り、不要光が側面に入射して外乱反射光が発生する可能性がある。

しかし、本項に係る光スキャナにおいては、側面が前面の外縁に鋭角的に交わるように配置されているため、反射面が正対位置から外れた位置にある状態においても、側面が照射光に対向することが抑制される。したがって、この光スキャナによれば、不要光が側面に入射して外乱反射光が発生する可能性も抑制される。

（１２） さらに、前記反射面の運動中に静止している静止部を含み、前記低反射能力部は、その静止部に形成されている（２）ないし（７）項のいずれかに記載の光スキャナ。

反射面の運動中、すなわち、揺動中または一方向回転中に静止している静止部を備えた光スキャナにおいては、特別な対策を講じないと、前記不要光がその静止部に入射して外乱反射光が発生してしまう可能性がある。不要光は、通常、絶対空間に固定された同じ経路に沿って進行して反射面に入射するようにされる。そのため、このような不要光が静止部に入射して外乱反射光が発生すると、その外乱反射光は、常に同じ向きに発生させられることとなる。

しかし、本項に係る光スキャナにおいては、静止部に低反射能力部が形成されているため、進行方向が変化しない定常的な外乱反射光の発生が抑制される。

（１３） さらに、
前記走査のために前記反射面を揺動させる本体部であって、（ａ）前記反射面が形成された反射ミラー部と、（ｂ）固定部と、（ｃ）前記反射ミラー部を捩じり振動させるために、その反射ミラー部と前記固定部とに両端を支持された弾性を有するはり部とが互いに一体的に形成されたものと、
その本体部が装着されるべきベースと
を含む（１２）項に記載の光スキャナ。

（１４） 前記固定部は、前記静止部として機能し、前記低反射能力部は、その固定部のうちの少なくとも一部に形成されている（１３）項に記載の光スキャナ。

（１５） 前記ベースは、前記静止部として機能し、前記低反射能力部は、そのベースのうちの少なくとも一部に形成されている（１３）または（１４）項に記載の光スキャナ。

（１６） 光束の走査によって画像を形成する画像形成装置であって、
前記光束を出射する光源と、
（１）ないし（１５）項のいずれかに記載の光スキャナを有し、前記光源から出射した光束を走査する走査部と
を含む画像形成装置。

（１７） 前記光源は、前記反射面に入射する必要光とその反射面に入射しない不要光とを一緒に発生させる横断面を前記光束が有する状態でその光束を前記光スキャナにおける前記反射面に向かって出射する（１６）項に記載の画像形成装置。

（１８） 前記走査部は、前記光束を主走査方向に高速で走査する主走査と、その主走査方向と交差する副走査方向に低速で走査する副走査とを行うものであり、前記光スキャナは、前記主走査を行うために使用される（１６）または（１７）項に記載の画像形成装置。

前述のように、高解像度を達成するためには、反射面からの反射光の横断面積を拡大することが必要であり、前記（１６）または（１７）項に係る画像形成装置によれば、前記（１）ないし（１５）項のいずれかに記載の光スキャナを用いることにより、反射面の面積の割に大きな横断面積を反射光に与えることが容易となる。このことは、反射光の横断面積の割に反射面の面積が小さくて済み、ひいては、その反射面が形成される反射ミラー部が軽くて済むことになることを意味する。一方、反射ミラー部が重いほど、反射面の走査周波数が低下する傾向がある。

本項に係る画像形成装置においては、走査部が、光源から出射した光束を主走査方向に高速で走査する主走査と、その主走査方向と交差する副走査方向に低速で走査する副走査とを行うように構成されている。それら主走査と副走査とを、それぞれが達成すべき走査周波数に関して互いに比較すれば、主走査の方が高か、このことは、主走査の方が、目標の走査周波数を達成する困難性も高いことを意味する。

これに対し、前記（１）ないし（１５）項のいずれかに係る光スキャナを使用すれば、上述のように、走査周波数の低下を回避しつつ、高解像度を達成することが容易となる。

そこで、本項に係る画像形成装置においては、前記（１）ないし（１５）項のいずれかに係る光スキャナが、副走査より高速にすなわち高周波数で光束を走査する主走査に使用される。

したがって、この画像形成装置によれば、解像度の向上と走査周波数の増加との両立が副走査より困難である主走査においてその両立を図ることが容易となる。

（１９） さらに、前記走査部によって走査された光束を網膜に向かって誘導する光学系を含む（１５）ないし（１８）項のいずれかに記載の画像形成装置。

以下、本発明のさらに具体的な実施の形態のいくつかを図面に基づいて詳細に説明する。

図１には、本発明の第１実施形態に従う網膜走査型ディスプレイ装置が系統的に表されている。この網膜走査型ディスプレイ装置（以下、「ＲＳＤ」と略称する。）は、レーザビームを、それの波面および強度を適宜変調しつつ、観察者の眼１０の瞳孔１２を経て網膜１４の結像面上に入射させ、その結像面上においてレーザビームを２次元的に走査することにより、その網膜１４上に画像を直接に投影する装置である。

このＲＳＤは、光源ユニット２０を備え、その光源ユニット２０と観察者の眼１０との間において走査装置２４を備えている。

光源ユニット２０は、３原色（ＲＧＢ）を有する３つのレーザ光を１つのレーザ光に結合して任意色のレーザ光を生成するために、赤色のレーザ光を発するＲレーザ３０と、緑色のレーザ光を発するＧレーザ３２と、青色のレーザ光を発するＢレーザ３４とを備えている。各レーザ３０，３２，３４は、例えば、半導体レーザとして構成することが可能である。

各レーザ３０，３２，３４から出射したレーザ光は、それらを結合するために、各コリメート光学系４０，４２，４４によって平行光化された後に、波長依存性を有する各ダイクロイックミラー５０，５２，５４に入射させられ、それにより、各レーザ光が波長に関して選択的に反射・透過させられる。

具体的には、Ｒレーザ３０から出射した赤色レーザ光は、コリメート光学系４０によって平行光化された後に、ダイクロイックミラー５０に入射させられる。Ｇレーザ３２から出射した緑色レーザ光は、コリメート光学系４２を経てダイクロイックミラー５２に入射させられる。Ｂレーザ３４から出射した青色レーザ光は、コリメート光学系４４を経てダイクロイックミラー５４に入射させられる。

それら３つのダイクロイックミラー５０，５２，５４にそれぞれ入射した３原色のレーザ光は、それら３つのダイクロイックミラー５０，５２，５４を代表する１つのダイクロイックミラー５４に最終的に入射して結合され、その後、結合光学系５６によって集光される。

以上、光源ユニット２０のうち光学的な部分を説明したが、以下、電気的な部分を説明する。

光源ユニット２０は、コンピュータを主体とする信号処理回路６０を備えている。信号処理回路６０は、外部から供給された映像信号に基づき、各レーザ３０，３２，３４を駆動するための信号処理と、レーザビームの走査を行うための信号処理とを行うように設計されている。

各レーザ３０，３２，３４を駆動するため、信号処理回路６０は、外部から供給された映像信号に基づき、網膜１４上に投影すべき画像上の各画素ごとに、レーザ光にとって必要な色と強度とを実現するために必要な駆動信号を、各レーザドライバ７０，７２，７４を介して各レーザ３０，３２，３４に供給する。レーザビームの走査を行うための信号処理については後述する。

以上説明した光源ユニット２０は、結合光学系５６においてレーザビームを出射する。そこから出射したレーザビームは、光伝送媒体としての光ファイバ８２と、その光ファイバ８２の後端から放射させられるレーザビームを平行光化するコリメート光学系８４とをそれらの順に経て走査装置２４に入射する。

走査装置２４は、水平走査系１００と垂直走査系１０２とを備えている。

水平走査系１００は、表示すべき画像の１フレームごとに、レーザビームを水平な複数の走査線に沿って水平にラスタ走査する水平走査（これが主走査の一例である。）を行う光学系である。これに対し、垂直走査系１０２は、表示すべき画像の１フレームごとに、レーザビームを最初の走査線から最後の走査線に向かって垂直に走査する垂直走査（これが副走査の一例である。）を行う光学系である。水平走査系１００は、垂直走査系１０２より高速にすなわち高周波数でレーザビームを走査するように設計されている。

具体的に説明するに、水平走査系１００は、本実施形態においては、機械的偏向を行うミラーを備えた弾性体の振動によってそのミラーを揺動させる光スキャナ１０４を備えている。光スキャナ１０４は、信号処理回路６０から供給される水平同期信号に基づいて制御される。

図２には、光スキャナ１０４が組立て状態で、斜視図で示されている。これに対し、図３には、光スキャナ１０４が分解斜視図で示されている。図２および図３に示すように、光スキャナ１０４は、本体部１１０がベース１１２に装着されて構成されている。

本体部１１０は、シリコン等、弾性を有する材料を用いて形成されている。本体部１１０は、図３の上部に示すように、概略的には、光が通過し得る貫通穴１１４を有して薄板長方形状を成している。本体部１１０は、外側には固定枠１１６を備え、一方、内側には、反射面１２０が形成された反射ミラー部１２２を有する振動体１２４を備えている。本実施形態においては、後に詳述するが、光スキャナ１０４のうち選択された構成要素であって反射面１２０を除くものにはそれぞれ反射防止処理が施されている。

このような本体部１１０の構成に対応して、ベース１１２は、図３の下部に示すように、本体部１１０との装着状態において固定枠１１６が装着されるべき支持部１３０と、振動体１２４と対向する凹部１３２とを有するように構成されている。凹部１３２は、本体部１１０をベース１１２に装着した状態において、振動体１２４が振動によって変位してもベース１１２と干渉しない形状を有するために形成されている。

図３に示すように、反射ミラー部１２２の反射面１２０は、それの対称中心線でもある回転中心線１３４を中心として揺動される。振動体１２４は、さらに、その反射ミラー部１２２からそれと同一面上に延びて、その反射ミラー部１２２を固定枠１１６に接合するはり部１４０を備えている。本実施形態においては、反射ミラー部１２２の両側から一対のはり部１４０がそれぞれ互いに逆向きに延び出している。

各はり部１４０は、１個のミラー側板ばね部１４２と、一対の枠側板ばね部１４４と、それらミラー側板ばね部１４２と一対の枠側板ばね部１４４とを互いに接続する接続部１４６とを含むように構成されている。ミラー側板ばね部１４２は、反射ミラー部１２２のうち、回転中心線１３４の方向において互いに対向する一対の縁のそれぞれから、対応する接続部１４６まで、回転中心線１３４上において、回転中心線１３４に沿って延びている。一対の枠側板ばね部１４４は、対応する接続部１４６から、回転中心線１３４に対して互いに逆向きにオフセットする姿勢で、回転中心線１３４に沿って延びている。

各はり部１４０においては、図３に示すように、一対の枠側板ばね部１４４のそれぞれに、固定枠１１６に及ぶ姿勢で、駆動源１５０，１５２，１５４，１５６が取り付けられている。各駆動源１５０，１５２，１５４，１５６は、図４に示すように、圧電体１６０（「圧電振動子」、「圧電素子」ともいう。）を主体として構成されている。圧電体１６０は、薄板状を成して振動体１２４の片面に貼り付けられており、その貼付け面と直角な方向において上部電極１６２と下部電極１６４とによって挟まれている。図３および図４に示すように、上部電極１６２と下部電極１６４とはそれぞれ、各リード線１６６により、固定枠１１６に設置された一対の入力端子１６８に接続されている。

それら上部電極１６２と下部電極１６４とに電圧が印加されれば、その印加方向と直交する向きの変位が圧電体１６０に発生する。この変位により、図５に示すように、はり部１４０に屈曲すなわち反りが発生する。この屈曲は、はり部１４０のうち固定枠１１６との接続部を固定端とする一方、反射ミラー部１２２との接続部を自由端として行われる。その結果、その屈曲の向きが上向きであるか下向きであるかにより、自由端が上向きまたは下向きに変位する。

図５から明らかなように、４個の枠側板ばね１４４にそれぞれ貼り付けられた４個の駆動源１５０，１５２，１５４，１５６のうち、回転中心線１３４に関して一側に位置して反射ミラー部１２２を挟む一対の駆動源１５０および１５２と、他側に位置して反射ミラー部１２２を挟む一対の駆動源１５４および１５６とはそれぞれ、各対に属する２個の圧電体１６０の自由端が互いに同じ向きに変位するように屈曲させられる。

それに対し、反射ミラー部１２２に関して一側に位置して回転中心線１３４を挟む一対の駆動源１５０および１５４と、他側に位置して回転中心線１３４を挟む一対の駆動源１５２および１５６とはそれぞれ、各対に属する２個の圧電体１６０の自由端が互いに逆向きに変位するように屈曲させられる。

その結果、反射ミラー部１２２には、図５に示すように、その反射ミラー部１２２を同じ向きに回転させる変位が、回転中心線１３４に関して一側に位置する一対の駆動源１５０および１５２の一方向の変位と、反対側に位置する一対の駆動源１５４および１５６の逆方向の変位との双方によって発生させられる。

以上要するに、各枠側板ばね部１４４は、それに貼り付けられた圧電体１６０の直線変位（横変位）を屈曲運動（縦変位）に変換する機能を有し、接続部１４６は、各枠側板ばね部１４４の屈曲運動をミラー側板ばね部１４２の回転運動に変換する機能を有しているのである。そのミラー側板ばね部１４２の回転運動によって反射ミラー部１２２が回転させられる。

したがって、本実施形態においては、４個の駆動源１５０，１５２，１５４，１５６を制御するために、回転中心線１３４に関して一側に位置する２個の駆動源１５０，１５２、すなわち、図３において右上の駆動源１５０と左上の駆動源１５２とが第１対を成し、反対側に位置する２個の駆動源１５４，１５６、すなわち、同図において右下の駆動源１５４と左下の駆動源１５６とが第２対を成している。

本実施形態においては、第１対を成す２個の駆動源１５０，１５２と、第２対を成す２個の駆動源１５４，１５６とを互いに逆向きに変位させて、反射ミラー部１２２にそれの回転中心線１３４まわりの往復回転運動すなわち揺動運動を発生させるために、第１対を成す２個の駆動源１５０，１５２に交番電圧が互いに同位相で印加されるのに対し、それとは逆位相の交番電圧が、第２対を成す２個の駆動源１５４，１５６に互いに同位相で印加される。その結果、第１対を成す２個の駆動源１５０，１５２がいずれも、図３において下向きに撓んだ場合には、第２対を成す２個の駆動源１５４，１５６はいずれも、同図において上向きに撓むこととなる。

上述の制御を実現するために、水平走査系１００は、図１に示す水平走査駆動回路１８０を備えている。この水平走査駆動回路１８０においては、図６に示すように、発振器１８２が、信号処理回路６０から入力された水平同期信号に基づき、交番電圧信号を生成する。発振器１８２は、位相シフタ１８４およびアンプ１８６を経た第１経路を経て、第１対を成す２個の駆動源１５０，１５２に接続される一方、位相反転回路１８８、位相シフタ１９０およびアンプ１９２を経た第２経路を経て、第２対を成す２個の駆動源１５４，１５６に接続されている。

位相反転回路１８８は、発振器１８２から入力された交番電圧信号を、それの位相を反転させて位相シフタ１９０に供給する。この位相反転回路１８８は、第２経路のみに設けられるため、第１対を成す２個の駆動源１５０，１５２と、第２対を成す２個の駆動源１５４，１５６とでは、対応するアンプ１８６，１９２から供給される交番電圧信号の位相が互いに逆となる。

いずれの経路においても、位相シフタ１８４，１９０は、前記映像信号と反射ミラー部１２２の振動とが互いに同期するように、駆動源１５０，１５２，１５４，１５６に供給されるべき交番電圧信号の位相を変化させるために設けられている。

以上説明した光スキャナ１０４によって水平走査されたレーザビームは、図１に示すように、リレー光学系１９４によって垂直走査系１０２に伝送される。

このＲＳＤは、ビームディテクタ２００を定位置に備えている。ビームディテクタ２００は、光スキャナ１０４によって偏向されたレーザビーム（すなわち、主走査方向において走査されたレーザビーム）を検出することにより、そのレーザビームの主走査方向における位置を検出するために設けられている。ビームディテクタ２００の一例は、ホトダイオードである。

ビームディテクタ２００は、レーザビームが所定の位置に到達したことを示す信号をＢＤ信号として出力し、その出力されたＢＤ信号は信号処理回路６０に供給される。このビームディテクタ２００から出力されたＢＤ信号に応答し、信号処理回路６０は、ビームディテクタ２００がレーザビームを検出した時期から設定時間が経過するのを待って、必要な駆動信号を各レーザドライバ７０，７２，７４に供給する。これにより、各走査線ごとに、画像表示開始タイミングが決定され、その決定された画像表示開始タイミングで画像表示が開始される。

以上、水平走査系１００を説明したが、垂直走査系１０２は、図１に示すように、機械的偏向を行う揺動ミラーとしてのガルバノミラー２１０を備えている。ガルバノミラー２１０には、水平走査系１００から出射したレーザビームがリレー光学系１９４によって集光されて入射するようになっている。このガルバノミラー２１０は、それに入射したレーザビームの光軸と交差する回転軸線まわりに揺動させられる。このガルバノミラー２１０の起動タイミングおよび回転速度は、信号処理回路６０から供給される垂直同期信号に基づいて制御される。

以上説明した水平走査系１００と垂直走査系１０２との共同により、レーザビームが２次元的に走査され、その走査されたレーザビームによって表現される画像が、リレー光学系２１４を経て観察者の眼１０に照射される。本実施形態においては、リレー光学系２１４が、光路上において複数個の光学素子２１６，２１８を並んで備えている。

図１８に示すように、従来の光スキャナ３００においては、反射面３０２に向かって照射される概して円形断面を有するレーザビームがもれなく反射面３０２に入射するという前提のもと、製造ばらつきや経時変化にもかかわらずそのような入射条件が常に維持されるようにするために、反射面３０２へのレーザビームの入射領域３０４とその反射面３０２の外縁との間に、光が入射しない非入射領域３０６が存在するように、その反射面３０２に照射されるレーザビームのビーム径の寸法が設定されていた。

これに対し、本実施形態の光スキャナ１０４においては、図７に示すように、反射面１２０に向かって照射される概して円形断面を有するレーザビームの一部が反射面１２０に入射しないことが許容されるようにレーザビームのビーム径の寸法が設定されている。具体的には、本実施形態においては、レーザビームが反射面１２０の全体に入射するようにビーム径が設定されており、その結果、ビーム径が反射面１２０の最大寸法より大きくなっている。

このようにビーム径が設定された結果、本実施形態においては、図７に示すように、反射面１２０に向かうレーザビームの横断面２３４が反射面１２０より大きくなる。よって、反射面１２０に向かうレーザビームである全照射光が、反射面１２０に入射する入射光である必要光と、反射面１２０に入射しない不要光とを含むこととなる。

図８には、光スキャナ１０４の本体部１１０に対して反射防止処理が一切施されていない状態において、反射面１２０の最大寸法より大きいビーム径でレーザビームが反射面１２０に照射される一例が比較例として示されている。

この比較例においては、反射面１２０にレーザビームが照射されることにより、反射面１２０の全体にレーザビームが入射し、さらに、本体部１１０のうちその反射面１２０の周辺に位置する周辺部分、すなわち、ミラー側板ばね部１４２の一部と、固定枠１１６の一部とにもレーザビームが入射している。

そのため、この比較例においては、本体部１１０からの反射光が、図８の右上部に示すように、必要光が反射面１２０で反射した正規反射光と、不要光が周辺部分で予定外に反射した外乱反射光とを含むこととなる。

この比較例においては、正規反射光のみならず外乱反射光も、リレー光学系２１２によって垂直走査系１０２に伝送されて網膜１４の結像面上に入射してしまう。そのため、観察者によって視認される画像にノイズが生じてしまう。

このノイズには２種類ある。外乱反射光が、反射面１２０と一緒に揺動する部分としてのミラー側板ばね部１４２からの反射光である場合には、例えば、画像全体においてちらちらするノイズが発生する。また、外乱反射光が、静止している部分としての固定枠１１６からの反射光である場合には、例えば、画像上に部分的に、かつ、定位置にノイズが発生する。

このようなノイズを防止するため、本実施形態においては、図９に黒い領域として示すように、光スキャナ１０４のうち不要光が入射する可能性がある構成要素に無反射膜がコーティングされている。本実施形態においては、光スキャナ１０４のうちはり部１４０と固定枠１１６とが無反射膜のコーティング対象として選定されている。

図９に示すように、無反射膜によるコーティングという処理は、反射光の発生を防止したい面を「処理面」として、その処理面を黒色化することによりその処理面の反射率を低下させるための処理である。

無反射膜の一例として、黒色無電解ニッケルめっきがある。これは、無電解ニッケルめっきが施された処理面を酸化することによって形成される。その処理面には酸化物である黒色の針状結晶が形成され、優れた無反射特性が得られる。その処理面上の皮膜は化学的に安定し、しかも、皮膜の寸法精度と耐食性が非常に優れているため、過酷な条件下（例えば、高温雰囲気等）での使用にも適している。無反射膜の他の例としては、黒クロムめっき、黒ニッケルめっき等がある。

このように、本実施形態においては、光スキャナ１０４のはり部１４０と固定枠１１６とに無反射膜がコーティングされているため、それら部分の反射能力が低下させられる。

したがって、本実施形態によれば、図９に示すように、レーザビームのうちの不要光が光スキャナ１０４のうち反射面１２０以外の部分であるはり部１４０および固定枠１１６に入射しても、それらからの予定外の反射光によって画質が低下せずに済む。

よって、本実施形態によれば、反射面１２０からの正規反射光に悪影響を及ぼすことなく、その反射面１２０に向かって照射されるレーザビームの横断面を拡大して、そのレーザビームが反射面１２０に入射する入射領域の面積を拡大することが容易となり、さらに、入射領域の面積拡大によって高解像度を実現することも容易となる。

以上の説明から明らかなように、本実施形態においては、光スキャナ１０４が前記（１）項に係る「光スキャナ」の一例を構成し、レーザビームが同項における「光」の一例を構成しているのである。

さらに、本実施形態においては、無反射膜がコーティングされたはり部１４０と固定枠１１６とがそれぞれ、前記（２）項における「低反射能力部」の一例を構成し、それらはり部１４０と固定枠１１６とがそれぞれ、前記（３）項における「低反射率部」の一例を構成し、上記無反射膜が前記（５）項における「反射防止膜」の一例を構成し、はり部１４０が前記（７）項における「揺動部」の一例を構成しているのである。

さらに、本実施形態においては、反射ミラー部１２２が前記（８）項における「反射ミラー部」の一例を構成し、はり部１４０が同項における「はり部」の一例を構成しているのである。

さらに、本実施形態においては、はり部１４０が前記（９）項における「揺動部」の一例を構成し、そのはり部１４０のうち反射面１２０に隣接した部分であって無反射膜でコーティングされる部分が同項における「低反射能力部」の一例を構成しているのである。

さらに、本実施形態においては、固定枠１１６が前記（１２）項における「静止部」の一例を構成し、その固定枠１１６のうち無反射膜でコーティングされる部分が同項における「低反射能力部」の一例を構成しているのである。

さらに、本実施形態においては、光源ユニット２０が前記（１６）または（１７）項における「光源」の一例を構成し、走査装置２４が前記（１６）または（１８）項における「走査部」の一例を構成しているのである。

なお付言するに、前述の処理面に無反射膜をコーティングするために、その処理面に特別な前処理を施すことは本発明を実施するために不可欠なことではない。ただし、前処理として、処理面を例えば梨地化するなどして粗面化すれば、処理面の無反射特性がさらに向上する。この場合には、梨地化された処理面が前記（４）項における「粗い表面」の一例を構成することとなる。

さらに付言するに、本実施形態においては、前述の処理面の反射能力の低下が、無反射膜による反射率の低下によって実現されているが、屈折率の異なる膜（例えば、誘電体薄膜）を多層重ねた反射防止膜によって実現してもよい。

次に、本発明の第２実施形態を説明する。ただし、本実施形態は、第１実施形態と共通する要素が多く、異なる要素は無反射膜がコーティングされた構成要素に関するもののみであるため、異なる要素についてのみ詳細に説明し、共通する要素については同一の符号または名称を使用して引用することにより、詳細な説明を省略する。

第１実施形態においては、無反射膜がはり部１４０と固定枠１１６とにコーティングされている。これに対し、本実施形態においては、図１０に黒い領域として示すように、はり部１４０のみに無反射膜がコーティングされている。

光スキャナ１０４は、レーザビームが照射されると、その照射されたレーザビームのうちの不要光がはり部１４０のみに入射し、固定枠１１６には入射しないように設計される場合がある。この場合は、はり部１４０のみコーティングすることで足りる。

そこで、本実施形態においては、光スキャナ１０４のはり部１４０のみに無反射膜がコーティングされることにより、不要光の反射による画質の低下が回避される。したがって、本実施形態によれば、無反射膜のコーティングの無駄を省略することが容易となる。

次に、本発明の第３実施形態を説明する。ただし、本実施形態は、第１実施形態と共通する要素が多く、異なる要素は無反射膜がコーティングされた構成要素に関するもののみであるため、異なる要素についてのみ詳細に説明し、共通する要素については同一の符号または名称を使用して引用することにより、詳細な説明を省略する。

第１実施形態においては、無反射膜がはり部１４０と固定枠１１６との全領域にコーティングされている。これに対し、本実施形態においては、図１１に黒い領域として示すように、無反射膜が固定枠１１６の一部のみにコーティングされている。

前述のように、不要光の反射によって画像に発生するノイズには２種類あり、不要光が固定枠１１６の表面で予定外に反射した外乱反射光は、画像に定常的なノイズを発生させ、場鴻によっては、ちらちらするノイズより強く観察者に画質の低下を感じさせる。

そこで、本実施形態においては、光スキャナ１０４の固定枠１１６に無反射膜がコーティングされている。しかも、固定枠１１６の表面全体にではなく、不要光が入射する領域に限ってコーティングされている。

次に、本発明の第４実施形態を説明する。ただし、本実施形態は、第１実施形態と共通する要素が多く、異なる要素は無反射膜がコーティングされた構成要素に関するもののみであるため、異なる要素についてのみ詳細に説明し、共通する要素については同一の符号または名称を使用して引用することにより、詳細な説明を省略する。

第１実施形態においては、無反射膜が、はり部１４０と固定枠１１６とにコーティングされている。これに対し、本実施形態においては、図１２に黒い領域として示すように、無反射膜がベース１１２の内の凹部１３２の表面２４０にコーティングされている。

本体部１１０においては、前述のように、貫通穴１１４が存在し、その貫通穴１１４は、振動体１２４と固定枠１１６との間に隙間として存在する。そのため、レーザビームは、その貫通穴１１４を通過してベース１１２中の凹部１３２に到達し得る。凹部１３２の表面２４０で不要光が反射した反射光は外乱反射光となって画像に悪影響を及ぼし得る。

そこで、本実施形態においては、凹部１３２の表面２４０に無反射膜がコーティングされることにより、凹部１３２の表面２４０への不要光の入射によって画質が低下することが抑制される。

以上の説明から明らかなように、本実施形態においては、凹部１３２が前記（１２）項における「静止部」の一例を構成し、その凹部１３２の表面２４０が同項における「低反射能力部」の一例を構成しているのである。

次に、本発明の第５実施形態を説明する。ただし、本実施形態は、第１実施形態と共通する要素が多いため、異なる要素についてのみ詳細に説明し、共通する要素については同一の符号または名称を使用して引用することにより、詳細な説明を省略する。

第１実施形態においては、反射ミラー部１２２に対しては反射防止処理が施されていない。これに対し、本実施形態においては、反射ミラー部１２２に対して反射防止処理が施されており、具体的には、反射ミラー部１２２のうち反射面１２０を除く面に反射防止処理が施されている。

さらに具体的には、図１３に黒い領域として示すように、無反射膜が、反射ミラー部１２２のうち反射面１２０に隣接した側面２５０と、反射面１２０とは反対側に位置する裏面２５２とにコーティングされている。側面２５０のうち少なくとも、反射面１２０の揺動により側面２５０と照射光との角度が変化する部分には、無反射膜がコーティングされている。

反射ミラー部１２２は、前述のように、走査のための回転中心線１３４まわりに揺動させられる。そのため、図１４の（ａ）に示すように、反射ミラー部１２２の反射面１２０にレーザビームがまっすぐに入射する正対位置においては、レーザビームは反射面１２０には入射するが側面２５０には入射しない。

これに対し、図１４の（ｂ）に示すように、反射ミラー部１２２が揺動した位置においては、レーザビームが反射面１２０のみならず側面２５０にも入射する。その入射したレーザビームが側面２５０で反射すると、外乱反射光が発生して画像に悪影響を及ぼし得る。

さらに、レーザビームのうちの不要光が反射ミラー部１２２の裏面２５２に入射して反射することがあると、このことによっても画像に悪影響が及び得る。

したがって、本実施形態においては、反射ミラー部１２２の側面２５０と裏面２５２とに無反射膜がコーティングされることにより、不要光による反射ミラー部１２２での予定外の反射が防止される。

なお付言すれば、さらに、例えば、はリ部１４０の側面や固定枠１１６の側面に無反射膜をコーティングする態様で、本発明を実施することが可能である。

以上の説明から明らかなように、本実施形態においては、反射ミラー部１２２が前記（７）項における「揺動部」の一例を構成し、その反射ミラー部１２２のうち側面２５０および裏面２５２が同項における「低反射能力部」の一例を構成しているのである。

次に、本発明の第６実施形態を説明する。ただし、本実施形態は、第５実施形態と共通する要素が多いため、異なる要素についてのみ詳細に説明し、共通する要素については同一の符号または名称を使用して引用することにより、詳細な説明を省略する。

第５実施形態においては、反射ミラー部１２２の側面２５０に無反射膜がコーティングされることにより、反射防止処理が行われる。これに対し、本実施形態においては、図１５の（ａ）に示すように、反射ミラー部１２２において反射面１２０と側面２６０とが交わる角度が鋭角になるように、すなわち、反射ミラー部１２２の側面２６０が傾斜面になるように反射ミラー部１２２の形状が加工されている。

第５実施形態においては、図１４の（ｂ）に示すように、反射面１２０と側面２５０とが交わる角度が直角であるため、反射ミラー部１２２が正対位置から揺動した位置においては、レーザビームが反射ミラー部１２２の側面２５０に入射する。

これに対し、本実施形態においては、図１５の（ｂ）に示すように、反射ミラー部１２２の反射面１２０と側面２６０とが交わる角度が鋭角であるため、反射ミラー部１２２の揺動位置において、レーザビームが側面２６０に入射することなく通過する。そのため、レーザビームのうちの不要光が側面２６０で予定外に反射することはなく、その結果、側面２６０から外乱反射光が発生しない。

ここで、図１６の工程図を参照することにより、反射ミラー部１２２の側面２６０を傾斜面として加工する方法の一例を具体的に説明する。

この方法は、概略的には、ウェットエッチングに伴う結晶面によるエッチング速度の異方性を積極的に利用することにより、反射ミラー部１２２の側面２６０を斜面化する方法である。

具体的には、まず、図１６の（ａ）に示すように、シリコンウェーハ（例えば、厚さ１００μｍ）が反射ミラー部１２２のための被エッチング材２７０として使用される。

次に、図１６の（ｂ）に示すように、被エッチング材２７０の両面にエッチングマスク材２７２がコーティングされる。エッチングマスク材２７６は例えば、被エッチング材２７０を加熱することによってその被エッチング材２７０の両面に形成された酸化皮膜である。

続いて、図１６の（ｃ）に示すように、リソグラフィにより片側のエッチングマスク材２７２（同図の例においては上側のエッチングマスク材２７２）に所定のパターンが形成される。その後、同図の（ｄ）に示すように、被エッチング材２７０とエッチングマスク材２７２との積層体がエッチング槽２７４に、水酸化カリウム溶液（ＫＯＨ）または水酸化テトラメチルアンモニウム溶液（ＴＭＡＨ）をエッチング液として浸漬される。

このウェットエッチング方法においては、エッチングが被エッチング材２７０に異方的に徐々に進行し、そのエッチングにより残る面は（１１１）で表される結晶面であり、その角度は５４．７度である。

図１６の（ｅ）に示すようにエッチングが終了すれば、シリコンウェーハ（積層体）がエッチング槽２７４から取り出される。その後、同図の（ｆ）に示すように、エッチングマスク材２７２が被エッチング材２７０から剥離され、これにより、側面２６０の全周が傾斜面である反射ミラー部１２２が完成する。

上述のように、ウェットエッチングによって加工された反射ミラー部１２２の側面２６０の傾斜角度は５４．７度である。この角度は、図１７に示すように、反射ミラー部１２２が、実線で示す最大傾斜位置に揺動させられた状態においても、レーザビームを側面２６０に入射させないために十分な角度である。

したがって、本実施形態によれば、レーザビームのうちの不要光が反射ミラー部１２２を無反射状態で通過することができるのである。

以上の説明から明らかなように、本実施形態においては、反射ミラー部１２２の側面２６０が前記（２）項における「低反射能力部」の一例を構成し、さらに、前記（６）項における「光通過部」の一例も構成しているのである。

さらに、本実施形態においては、反射ミラー部１２２が前記（７）項における「揺動部」の一例を構成し、側面２６０が同項における「低反射能力部」の一例を構成しているのである。

なお付言すれば、以上説明した第１ないし第６実施形態のうちのいくつかを必要に応じて選択して組み合わせた形態で本発明を実施することが可能である。

以上、本発明の実施の形態のいくつかを図面に基づいて詳細に説明したが、これらは例示であり、前記［課題を解決するための手段］の欄に記載の態様を始めとして、当業者の知識に基づいて種々の変形、改良を施した他の形態で本発明を実施することが可能である。

本発明の第１実施形態に従う光スキャナ１０４を備えた網膜走査型ディスプレイ装置を示す系統図である。 図１における光スキャナ１０４を組立て状態で示す斜視図である。 図１における光スキャナ１０４を示す分解斜視図である。 図２における振動体１２４の一部を示す縦断面図である。 図２における振動体１２４を示す斜視図である。 図１における水平走査駆動回路１８０のハードウェア構成を示すブロック図である。 図２における光スキャナ１０４に使用される照射光のビーム径を説明するための斜視図である。 図２における光スキャナ１０４に対して反射防止処理を施さない状態でレーザビームを照射することに伴って発生する反射光を説明するための斜視図である。 図２における光スキャナ１０４に対して反射防止処理を施した状態でレーザビームを照射することに伴って発生する反射光を説明するための斜視図である。 本発明の第２実施形態に従う光スキャナ１０４のうちの本体部１１０を示す斜視図である。 本発明の第３実施形態に従う光スキャナ１０４のうちの本体部１１０を示す斜視図である。 本発明の第４実施形態に従う光スキャナ１０４を示す分解斜視図である。 本発明の第５実施形態に従う光スキャナ１０４のうちの本体部１１０を示す斜視図である。 図１３に示す振動体１２４のうちの反射ミラー部１２２を正対位置と揺動位置とについて示す側面断面図である。 本発明の第６実施形態に従う光スキャナ１０４のうちの反射ミラー部１２２を正対位置と揺動位置とについて示す側面断面図である。 図１５における反射ミラー部１２２の製造工程を時系列的に説明するための側面断面図である。 図１５における反射ミラー部１２２を最大傾斜位置について示す側面断面図である。 従来の光スキャナ３００に使用される照射光のビーム径を説明するための斜視図である。

符号の説明

２０ 光源ユニット
２４ 走査装置
１００ 水平走査系
１０２ 垂直走査系
１０４ 光スキャナ
１１０ 本体部
１１２ ベース
１１６ 固定枠
１２０ 反射面
１２２ 反射ミラー部
１２４ 振動体
１３２ 凹部
１４０ はり部
２３４ 横断面
２４０ 表面
２５０，２６０ 側面
２５２ 裏面

Claims (6)

1. 入射した光を反射する反射面とその入射光の入射方向との角度を変化させることにより、その反射面からの反射光の走査を行う光スキャナであって、
   前記反射面が形成された反射ミラー部と、
   その反射ミラー部を捩じり振動させるために、その反射ミラー部に連結された弾性を有するはり部と
   を含み、
   前記反射ミラー部は、前記反射面が形成された前面とその前面以外の面である他の面とを有して、前記走査のために前記反射面と一緒に揺動させられる揺動部として機能し、
   前記他の面は、前記反射ミラー部のうち、前記前面に隣接した側面であって、前記前面の外縁に鋭角的に交わるものを含み、
   前記走査のために前記反射面に向かって照射される照射光は、前記反射面に入射する必要光とその反射面に入射しない不要光とを一緒に発生させる横断面を有し、
   当該光スキャナは、さらに、
   前記不要光を反射する反射能力が前記必要光を前記反射面が反射する反射能力より低い低反射能力部を含み、
   その低反射能力部は、前記反射ミラー部の前記側面のうちの少なくとも一部に形成される光スキャナ。
2. 前記側面は、前記反射ミラー部の揺動中、前記反射面がそれに入射する入射光に対して最大角度で傾斜するときに、前記入射光が前記側面に入射しない角度を有するように前記反射ミラー部に形成される請求項１に記載の光スキャナ。
3. 前記はり部は、前記揺動部として機能し、前記低反射能力部は、そのはり部のうち前記反射面に隣接した部分のうちの少なくとも一部に形成される請求項１または２に記載の光スキャナ。
4. 光束の走査によって画像を形成する画像形成装置であって、
   前記光束を出射する光源と、
   請求項１ないし３のいずれかに記載の光スキャナを有し、前記光源から出射した光束を走査する走査部と
   を含む画像形成装置。
5. 前記光源は、前記反射面に入射する必要光とその反射面に入射しない不要光とを一緒に発生させる横断面を前記光束が有する状態でその光束を前記光スキャナにおける前記反射面に向かって出射する請求項４に記載の画像形成装置。
6. 前記走査部は、前記光束を主走査方向に高速で走査する主走査と、その主走査方向と交差する副走査方向に低速で走査する副走査とを行うものであり、前記光スキャナは、前記主走査を行うために使用される請求項４または５に記載の画像形成装置。

Images