JP4066911B2 - Semiconductor device manufacturing method and semiconductor element mounting structure forming method - Google Patents
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Description
本発明は、半導体素子を重ねた積層構造に樹脂接着材を介して補強部材を結合して成る半導体装置の製造方法および半導体素子実装構造の形成方法に関するものである。 The present invention relates to a method of forming a manufacturing method and a semiconductor device mounting structure of the binding to adult Ru semiconductors device reinforcing member via a resin adhesive to the laminated structure of repeated semiconductor device.
下面にバンプが形成されたバンプ付きの半導体素子を実装する形態として、バンプ付きのパッケージ基板やバンプ付きのマザーチップなどの上に半導体素子を重ねて積層構造の半導体装置とする方法が知られている(例えば特許文献1)。近年半導体素子の薄型化が急速に進行しており、上述のような構成の半導体装置に薄型の半導体素子を用いる場合には、半導体素子の破損を防止するため半導体素子を上面から封止樹脂して保護する方法が用いられる。
しかしながら上述のように半導体素子を上面から樹脂封止する方法においては、下層のパッケージ基板やマザーチップに反り変形を生じやすく、完成した半導体装置をマザーボードに実装する際にバンプの浮きなどの接合不具合を生じる場合があり、実装信頼性の確保が困難であった。特にマザーチップとして薄型の半導体素子を採用した場合には、この傾向が顕著であった。 However, in the method of sealing the semiconductor element from the upper surface as described above, the lower package substrate and the mother chip are likely to be warped and deformed. In some cases, it was difficult to ensure mounting reliability. This tendency was particularly remarkable when a thin semiconductor element was used as the mother chip.
そこで本発明は、実装信頼性の高い半導体装置の製造方法および半導体素子実装構造の形成方法を提供することを目的とする。 The present invention aims to provide a method of forming a manufacturing method and a semiconductor device mounting structure of the high have semi conductor device mounting reliability.
本発明の半導体装置の製造方法は、一方の面に第1の電極が複数形成され他方の面に第2の電極が複数形成された第1の半導体素子と一方の面に第3の電極が複数形成された半導体素子とを重ねて積層構造とし、第1の半導体素子1の前記他方の面と第2の半導体素子の前記一方の面とを対向させて前記第3の電極を前記第2の電極に接続するとともに、前記第1の半導体素子の他方の面および前記第2の半導体素子の他方の面に樹脂接着材を介して一体の補強部材を結合した構成の半導体装置を製造する半導体装置の製造方法であって、前記積層構造と結合される前記補強部材に前記樹脂接着材を塗布し、前記樹脂接着材が塗布された前記補強部材上に前記積層構造を搭載し、次いで前記補強部材および積層構造を一体化した結合体を加熱して前記樹脂接着材を熱硬化させるものである。
Method of manufacturing a semi-conductor device of the present invention, the third electrode to the first semiconductor element and one surface of the second electrode has a plurality of formed on a surface of the first electrode is formed with a plurality of other on one surface A plurality of semiconductor elements are stacked to form a stacked structure, and the third electrode is disposed in the
本発明の半導体素子実装構造の形成方法は、一方の面に第1の電極が複数形成され他方の面に第2の電極が複数形成された第1の半導体素子1を接続用電極が複数形成された基板に実装して前記第1の電極を前記接続用電極に電気的に接続し、一方の面に第3の電極が複数形成された第2の半導体素子を前記第1の半導体素子の上方に重ねて実装して成る積層構造を有し、前記第1の半導体素子の他方の面および前記第2の半導体素子の他方の面に樹脂接着材を介して一体の補強部材を結合した構成の半導体素子実装構造を形成する半導体素子実装構造の形成方法であって、前記第1の半導体素子を前記基板に実装し、前記第1の半導体素子の裏面に樹脂接着材を塗布し、前記第1の半導体素子の樹脂塗布面に前記第2の半導体素子を搭載し、前記第2の半導体素子の上面に樹脂接着材を塗布し、前記第2の半導体素子の樹脂塗布面に前記補強部材を搭載し、次いで前記基板を加熱して前記樹脂接着材を熱硬化させるものである。
Method of forming a semi-conductor element mounting structure of the present invention, first the
本発明によれば、第1の半導体素子1と第2の半導体素子とを重ねた積層構造において、第1の半導体素子1の他方の面および第2の半導体素子の他方の面に樹脂接着材を介して一体の補強部材を結合する構成を採用することにより、薄型の半導体素子を用いる場合にあっても、補強部材によって半導体素子を外力から保護するとともに半導体素子の反り変形を抑制して、実装信頼性の高い半導体装置の製造方法および半導体素子実装構造の形成方法を実現することができる。
According to the present invention, the resin adhesive is applied to the other surface of the
(実施の形態1)
図1、図2は本発明の実施の形態1の半導体装置の製造方法の工程説明図、図3は本発明の一実施の形態の半導体装置の部分断面図である。
(Embodiment 1)
1 and 2 are process explanatory views of the method for manufacturing a semiconductor device according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a partial cross-sectional view of the semiconductor device according to one embodiment of the present invention.
図1(a)において、第1の半導体素子1の回路形成面1a(一方の面)には、第1の電極2が複数形成されており、裏面1b(他方の面)には第2の電極3a、3bがそれぞれ複数形成されている。第1の半導体素子1は、厚みが100μm以下の薄型の半導体素子である。第2の電極3aは、第1の半導体素子1を貫通して回路形成面1a側に形成された回路電極に電気的に接続されている。
In FIG. 1A, a plurality of
第1の半導体素子1には、図1(b)に示すように、回路形成面4a(一方の面)にバンプ5(第3の電極)が複数形成された第2の半導体素子4が、第1の半導体素子1の裏面1bと第2の半導体素子4の回路形成面4aとを対向させて、搭載ヘッド6によって搭載される。第2の半導体素子4は、第1の半導体素子1と同様に厚みが100μm以下の薄型の半導体素子であり、バンプ5を第2の電極3a、3bと接続することにより、第1の半導体素子1に実装される。これにより、図1(c)に示すように、第1の半導体素子1と第2の半導体素子4とを重ねた積層構造7が形成される。第2の半導体素子4の実装方法としては、超音波接合、熱圧着のいずれを用いてもよい。
As shown in FIG. 1B, the
この後、図1(d)に示すように、積層構造7と結合されるバンパ部材8の上面に、ディスペンサ10によって樹脂接着材9が塗布される。バンパ部材8は、積層構造7と結合されることによって、薄型の第1の半導体素子1,第2の半導体素子4の変形を防止する補強部材としての機能を有するものである。材質としてはセラミックや樹脂または金属のいずれでもよく、積層構造7の変形を防止するのに必要な剛性を確保するのに必要十分な厚さに加工されたものが用いられる。なお、高剛性という点でセラミックまたは金属が望ましい。
Thereafter, as shown in FIG. 1 (d), a resin adhesive 9 is applied by a
樹脂接着材9はエポキシ樹脂などを主剤とする樹脂成分に、無機物もしくは樹脂よりなる粒子状のフィラー成分を含有させた組成となっている。樹脂成分としては、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂のいずれを用いてもよい。ここでフィラー成分は、樹脂接着材9が接着層を形成した状態において接着層に所望の特性(弾性率)を付与するためのフィラー本来の機能以外に、半導体素子2とバンパ部材8との間に介在して接着層の厚みを所定厚みに確保するスペーサとしての機能をも併せ有している。
The resin adhesive 9 has a composition in which a particulate filler component made of an inorganic substance or a resin is contained in a resin component mainly composed of an epoxy resin or the like. As the resin component, either a thermosetting resin or a thermoplastic resin may be used. Here, the filler component has a function between the
このため樹脂接着材9には、以下に説明する第1フィラーおよび第2フィラーの2種類のフィラーを、合計の含有率が30重量%以下となるような含有率で含有させるようにしている。先ず上述のスペーサとしての機能を果たす第1フィラー9aは、半導体装置において接着層の目標とする厚みt(図2(b)、図3参照)と略等しい寸法の直径dを有する粒子であり、直径dは樹脂接着材9中に含まれるフィラー中の最大径となっている。すなわち、第1フィラー9aは樹脂接着材9中に含まれるフィラーの最大径であり且つ接着層の所定厚みと略等しい寸法の直径dを有する。そして第1フィラー9a以外の第2フィラー9bは、直径が第1フィラー9bの直径dよりも小さいフィラーの集合であり、フィラー本来の機能に適した粒径分布のものが選定される。
For this reason, the
次に、図2(a)に示すように、接着材塗布後のバンパ部材8上に、積層構造7が搭載される。このとき、図1(c)に示す状態の積層構造7を反転して、第1の半導体素子1の裏面1b、第2の半導体素子4の裏面4bを樹脂接着材9に向けた姿勢で搭載する。そして図2(b)に示すように、バンパ部材8および積層構造7を一体化した結合体を加熱して樹脂接着材9を熱硬化させることにより、回路形成面1a(一方の面)に第1の電極
2が複数形成され裏面1b(他方の面)に第2の電極3a,3bが複数形成された第1の半導体素子1と、回路形成面(一方の面)にバンプ5(第3の電極)が複数形成された第2の半導体素子4とを重ねて積層構造とした半導体装置11が完成する。
Next, as shown in FIG. 2A, the laminated
そしてこの半導体装置11は、第1の半導体素子1の裏面1bと第2の半導体素子4の回路形成面4aとを対向させて、バンプ5を第2の電極3a,3bに接続するとともに、第1の半導体素子1の裏面1bおよび第2の半導体素子の裏面4bに樹脂接着材9を介して一体のバンパ部材8を結合した構成となっている。
The
積層構造7とバンパ部材8の結合に際し、前述のような第1フィラー9aを含む樹脂接着材9を介して半導体素子2をバンパ部材8に搭載して所定の加圧力でバンパ8に対して押圧すると、図3に示すように、樹脂接着材9中のフィラーのうち最大径の第1フィラー9aは、半導体素子4の裏面に接触するとともにバンパ部材8にも接触した状態で挟まれる。これにより、接着層の厚みtは第1フィラー9aの直径dに等しくなる。
When the laminated
このようにして形成された半導体装置11をバンプ付き部品として使用する場合には、図2(c)に示すように、第1の電極2にボール移載ヘッド13により半田ボール12を搭載し、次いで図2(d)に示すように、リフロー工程において半導体装置11を加熱することにより半田ボール12が溶融し、第1の電極2上に半田バンプ12aが形成される。
When the
このようにして形成された半導体装置11は、半導体素子を2層積層した構造であることから高密度実装が可能になるとともに、積層構造の形成に薄型の第1の半導体素子1、第2の半導体素子4を用いていることから、半導体装置11としての厚みを極力薄くすることが可能となっている。そして、撓みやすく破損しやすい薄型の半導体素子より成る積層構造をバンパ部材8によって補強する構成を採用していることから、積層構造を外力から有効に保護することができる。
Since the
このバンプ付きの半導体装置11を半田バンプ12aを介して基板に実装して成る実装構造において、実装後に基板に何らかの外力により撓み変形が発生した場合には、第1の半導体素子1、第2の半導体素子4はいずれも薄くて撓みやすく、しかも樹脂接着材9は変形しやすいことから、基板の撓み変形に対して第1の半導体素子1、第2の半導体素子4および樹脂接着材9が追従して変形する。したがって、基板の撓み変形によって半田バンプ12aの接合部に生じる応力を低減して、実装後の信頼性を向上させることができる。
In the mounting structure in which the
(実施の形態2)
図4、図5は本発明の実施の形態2の半導体装置の製造方法の工程説明図である。本実施の形態は、実施の形態1に示す構成の半導体装置11を製造するに際し、個片状態の第1の半導体素子1を対象とする替わりに、第1の半導体素子1が多数組み込まれた半導体ウェハを対象とするものである。図4(a)において、半導体ウェハ101の回路形成面101a(第1の面)には、第1の電極102が複数形成されており、裏面101bには第2の電極103a、103bがそれぞれ複数形成されている。半導体ウェハ101は、厚みが100μm以下の薄型の半導体素子が作り込まれた半導体ウェハである。第2の電極103aは、半導体ウェハ101を貫通して回路形成面101a側に形成された回路電極に電気的に接続されている。
(Embodiment 2)
4 and 5 are process explanatory views of the method of manufacturing the semiconductor device according to the second embodiment of the present invention. In the present embodiment, when the
半導体ウェハ101には、図4(b)に示すように、回路形成面4aにバンプ5(第3の電極)が複数形成された第2の半導体素子4が、半導体ウェハ101の裏面101bと第2の半導体素子4の回路形成面4aとを対向させて、搭載ヘッド6によって搭載される
。第2の半導体素子4は、半導体ウェハ101と同様に厚みが100μm以下の薄型の半導体素子であり、バンプ5を第2の電極103a、103bと接続することにより、半導体ウェハ101の各半導体素子に実装される。これにより、図4(c)に示すように、半導体ウェハ101と第2の半導体素子4とを重ねたウェハ状態の積層構造107が形成される。
As shown in FIG. 4B, the
この後、図1(d)に示すように、積層構造107と結合されるバンパ部材108の上面に、ディスペンサ10によって実施の形態1に示す樹脂接着材9が塗布される。なお、樹脂接着材9を塗布する替わりに、同様組成の樹脂接着材を薄膜状に成形した樹脂シートをバンパ部材108に貼付ける方法を用いてもよい。
Thereafter, as shown in FIG. 1 (d), the
次に、図5(a)に示すように、接着剤塗布後のバンパ部材8上に、積層構造107が搭載される。このとき、図4(c)に示す状態の積層構造107を反転して、半導体ウェハ101の裏面101b、第2の半導体素子4の裏面4bを樹脂接着材9に向けた姿勢で搭載する。そして図2(b)に示すように、バンパ部材108および積層構造107を加熱して樹脂接着材9を熱硬化させることにより、半導体装置111が完成する。このとき、第1の半導体素子4とバンパ部材108との間の隙間は実施の形態1と同様に樹脂接着材9中の第1フィラー9aによっての所定の厚みtに保たれる。
Next, as shown in FIG. 5A, the
この後、半導体装置111はダイシング工程に送られ、図5(c)に示すように、半導体装置111をブレード17によって半導体素子の個片毎に切断することにより、図5(d)に示すように、一方の面に第1の電極が複数形成され他方の面に第2の電極が複数形成された第1の半導体素子1と一方の面に第3の電極が複数形成された第2の半導体素子とを重ねて積層構造とした半導体装置111aが完成する。そしてこのようにして形成された半導体装置111aをバンプ付き部品として使用する場合には、実施の形態1の図2(c)、(d)に示すバンプ形成工程を経ることにより、第1の電極2上に半田バンプが形成される。
Thereafter, the semiconductor device 111 is sent to a dicing process, and as shown in FIG. 5C, the semiconductor device 111 is cut into individual pieces of semiconductor elements by the
(実施の形態3)
図6、図7は本発明の実施の形態3の半導体実装構造における実装過程の工程説明図である。本実施の形態3は、実施の形態1に示す半導体装置11を基板に実装した実装構造と同一構成の実装構造を、個片状態の半導体素子を基板に直接実装することによって実現するものである。
(Embodiment 3)
6 and 7 are process explanatory diagrams of the mounting process in the semiconductor mounting structure according to the third embodiment of the present invention. In the third embodiment, a mounting structure having the same configuration as the mounting structure in which the
図6(a)において、基板15の上面には、複数の接続用電極16が形成されている。基板15には、実施の形態に示すものと同様の第1の半導体素子1が実装される。第1の半導体素子1の回路形成面1a(第1の面)には、第1の電極2が複数形成されており、裏面1bには第2の電極3a、第2の電極3bがそれぞれ複数形成されており、さらに第1の電極2には半田バンプ14が形成されている。第1の半導体素子1は、厚みが100μm以下の薄型の半導体素子である。第2の電極3aは、第1の半導体素子1を貫通して回路形成面1a側に形成された回路電極に電気的に接続されている。
In FIG. 6A, a plurality of
図6(b)に示すように、半田バンプ14は接続用電極16と接合され、次いで図6(c)に示すように、第1の半導体素子1の裏面1bには、樹脂接着材9がディスペンサ10によって塗布される。次いで、図6(d)に示すように、第1の半導体素子1の樹脂塗布面には、回路形成面にバンプ5(第3の電極)が複数形成された第2の半導体素子4が搭載され、図7(a)に示すように、バンプ5を第2の電極3a、3bに接続する。
As shown in FIG. 6B, the solder bumps 14 are joined to the
図7(b)この後、第2の半導体素子4の上面を覆って、樹脂接着材9がディスペンサ10により塗布され、次いで図7(c)に示すように、樹脂接着材9の塗布面にはバンパ
部材8が搭載される。そして基板15を加熱して樹脂接着材9を熱硬化させることにより、図7(d)に示すように、半導体素子実装構造が完成する。このとき、第1の半導体素子4とバンパ部材8との間の隙間は、実施の形態1と同様に樹脂接着材9中の第1フィラー9aによって所定の厚みtに保たれる。
7B, after that, the
この半導体素子実装構造は、回路形成面1a(一方の面)に第1の電極2が複数形成され裏面1b(他方の面)に第2の電極3a,3bが複数形成された第1の半導体素子1を、接続用電極16が複数形成された基板15に実装して第1の電極2をバンプ14を介して接続用電極15に電気的に接続し、回路形成面4a(一方の面)にバンプ5(第3の電極)が複数形成された第2の半導体素子を第1の半導体素子1の上方に重ねて実装して成る積層構造となっている。
This semiconductor element mounting structure is a first semiconductor in which a plurality of
この半導体素子実装構造において、第1の半導体素子1の他方の面および第2の半導体素子4の他方の面に、樹脂接着材9を介して一体の補強部材8を結合した形態となっており、実施の形態1において説明したように、実装後の熱サイクル過程における応力を低減して、実装信頼性を向上させることができる。
In this semiconductor element mounting structure, an integral reinforcing
本発明の半導体装置の製造方法および半導体素子実装構造の形成方法は、薄型の半導体素子を用いる場合にあっても補強部材によって半導体素子を外力から保護するとともに半導体素子の反り変形を抑制して、実装信頼性の高い半導体装置および半導体素子実装構造を実現することができるという利点を有し、半導体素子を重ねた積層構造に樹脂接着材を介して補強部材を結合して成る半導体装置および半導体素子実装構造において有用である。 Method of forming a manufacturing method and a semiconductor device mounting structure of the semi-conductor device of the present invention, by suppressing the warping deformation of the semiconductor device to protect the semiconductor element from external force by the reinforcing member in cases of using a thin semiconductor element A semiconductor device and a semiconductor having an advantage that a semiconductor device and a semiconductor element mounting structure with high mounting reliability can be realized, and a reinforcing member is bonded to a laminated structure in which semiconductor elements are stacked via a resin adhesive This is useful in an element mounting structure.
1、101 第1の半導体素子
2、102 第1の電極
3a、3b、103a、103b 第2の電極
4 第2の半導体素子
5 バンプ
7、107 積層構造
8、108 バンパ部材
9 樹脂接着材
11、111 半導体装置
14 半田バンプ
15 基板
16 接続用電極
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,101 1st semiconductor element 2,102
Claims (2)
前記積層構造と結合される前記補強部材に前記樹脂接着材を塗布し、前記樹脂接着材が塗布された前記補強部材上に前記積層構造を搭載し、次いで前記補強部材および積層構造を一体化した結合体を加熱して前記樹脂接着材を熱硬化させることを特徴とする半導体装置の製造方法。 A first semiconductor element in which a plurality of first electrodes are formed on one surface and a plurality of second electrodes are formed on the other surface is overlapped with a semiconductor element in which a plurality of third electrodes are formed on one surface. The third electrode is connected to the second electrode with the other surface of the first semiconductor element 1 and the one surface of the second semiconductor element facing each other, and the first electrode is connected to the second electrode. A semiconductor device manufacturing method for manufacturing a semiconductor device having a configuration in which an integral reinforcing member is coupled to the other surface of the semiconductor element and the other surface of the second semiconductor element via a resin adhesive,
The resin adhesive is applied to the reinforcing member coupled to the laminated structure, the laminated structure is mounted on the reinforcing member to which the resin adhesive is applied, and then the reinforcing member and the laminated structure are integrated. A method for manufacturing a semiconductor device, comprising: heating a bonded body to thermally cure the resin adhesive.
前記第1の半導体素子を前記基板に実装し、前記第1の半導体素子の裏面に樹脂接着材を塗布し、前記第1の半導体素子の樹脂塗布面に前記第2の半導体素子を搭載し、前記第2の半導体素子の上面に樹脂接着材を塗布し、前記第2の半導体素子の樹脂塗布面に前記補強部材を搭載し、次いで前記基板を加熱して前記樹脂接着材を熱硬化させることを特徴とする半導体素子実装構造の形成方法。 A first semiconductor element 1 having a plurality of first electrodes formed on one surface and a plurality of second electrodes formed on the other surface is mounted on a substrate on which a plurality of connection electrodes are formed, and the first electrode is mounted. Is electrically connected to the connection electrode, and has a stacked structure in which a second semiconductor element having a plurality of third electrodes formed on one surface is mounted over the first semiconductor element. A semiconductor element mounting structure for forming a semiconductor element mounting structure in which an integral reinforcing member is coupled to the other surface of the first semiconductor element and the other surface of the second semiconductor element through a resin adhesive. A forming method of
Mounting the first semiconductor element on the substrate, applying a resin adhesive on the back surface of the first semiconductor element, and mounting the second semiconductor element on the resin-coated surface of the first semiconductor element; Applying a resin adhesive on the upper surface of the second semiconductor element, mounting the reinforcing member on the resin application surface of the second semiconductor element, and then heating the substrate to thermally cure the resin adhesive; A method of forming a semiconductor device mounting structure characterized by the above.
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