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JP4091882B2 - Array head of fine conductive ball mounting device - Google Patents
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JP4091882B2 - Array head of fine conductive ball mounting device - Google Patents

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JP4091882B2 JP2003202651A JP2003202651A JP4091882B2 JP 4091882 B2 JP4091882 B2 JP 4091882B2 JP 2003202651 A JP2003202651 A JP 2003202651A JP 2003202651 A JP2003202651 A JP 2003202651A JP 4091882 B2 JP4091882 B2 JP 4091882B2
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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は微細導電性ボール搭載装置の配列ヘッドに関し、特に、導電性ボールの吸引配列治具および配列搭載装置に係り、ボール吸着孔が複数個形成されているボール配列板上に、複数の微細ボールを一括保持して、ウエハやプリント基板、半導体チップ等の電子部品の電極上に一括搭載させるために用いて好適なものである。
【0002】
【従来の技術】
近時においては、半導体チップの電気的接続に微細導電性ボールを用いたボールバンプが用いられるようになっている。ボールバンプを用いることにより、パッケージの小型化、多ピン化等の数々のメリットを得ることができる。このような微細導電性ボールを用いたバンプ形成技術はたとえば、特許文献1に記載されている。
【0003】
前記特許文献1に記載されているバンプ形成方法は、少なくとも半導体チップ1つ分の金属ボール群を吸着保持するようにしている。そして、複数の金属ボール群を吸着保持するために、半導体チップ上のバンプ形成位置に対応した全ての位置に吸着孔が形成されているボール配列板を用いる。このボール配列板に微小金属球を吸着保持した後、前記ボール配列板を接合用ステージまで搬送して被接合部に接合するようにしている。
【0004】
この方法によれば、均一に形成された微細導電性ボールをバンプ形成位置に一括接合することができるので、高い信頼性が得られるボールバンプを容易かつ効率的に形成することができる。ところで最近は、半導体装置の微細化が益々進み、電極の配線ピッチは極めて小さくなってきている。
【0005】
そのため、電極上にボールバンプを形成する場合に用いられる微細導電性ボールは、電極の配線ピッチの微細化に応じて極めて微細になってきている。また、一方で、チップの高性能化のため電極数は増加し、バンプ形成のための一括で吸着配列するボールの数も増加している。
【0006】
このような状況において半導体チップ1つ分の配列を行なうことは、工程が煩雑となりコスト面、時間的にもデメリットが大きい。このため、ウエハを個々のチップ毎に切断する前、すなわちダイシング工程を行なう前に、ウエハ上の複数のチップに相当する全ての電極上にボールバンプを配置することが行われている。
【0007】
【特許文献1】
特開平7−153765号公報
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、複数の半導体チップが形成されたウエハ上の全ての電極上に一括してボールバンプを配置しようとした場合、ボール吸引工程において吸引エリアの外周部にボールが吸着できない吸引不良が発生し、配列板への吸着配列時間が長くかかるという問題が生じていた。
【0009】
この問題の要因としては、いくつかの要因が挙げられる。
第1に、半導体チップ1つ分の導電性ボールを吸着する場合と比較して、吸引面積が大きくなるとともに、吸引孔数が増加するため吸引の風量が極めて大きくなることがある。
【0010】
また、風量が増大し、ボール容器と配列板間の空間が1センチから15センチ程度で狭いため、配列ヘッドと容器との間に流れ込む横風の速度は非常に大きくなることが上げられる。
【0011】
第2に、風量の増大により、配列ヘッドとボール収容容器との間でガスの乱れ(渦流)が発生し易くなっていることが上げられる。この渦流によってボール収容容器上のボール群に粗密が発生し粗の部分ではボールの存在率が低いためになかなかボールが吸着されなかった。
【0012】
本願の発明者等は、ボール吸引時のガス流の解析を行いこれら要因のため、吸引エリアの外周部で吸着を良好に行なうことが難しく、吸引配列に時間を要していたことを見出した。
【0013】
本発明はこのような問題を解決するために成されたものであり、大面積の吸着エリアの全域にわたって吸着に要する時間を短縮するとともに、大面積のウエハに対して安定して一括で大量の導電性ボールを配置することのできる微細導電性ボール搭載装置の配列ヘッドを提供できるようにすることを目的とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】
本発明の微細導電性ボール搭載装置の配列ヘッドは、円形のボール収容容器内の導電性ボールを、前記ボール収容容器の円形サイズより大きいサイズである角型配列ヘッドに装着されたボール配列板に吸引配列した後、前記導電性ボールを複数の半導体チップが形成されたウエハ上の全ての電極に対して一括で搭載する微細導電性ボール搭載装置の配列ヘッドであって、前記ボール配列板が、その周縁部でボール配列板を固定枠である配列板押え治具で支持され、前記ボール配列ヘッドの下部に前記配列板押え治具で脱着可能なように設置され、前記ボール配列板のボール吸着面と前記配列板押え治具との段差を2mm以下にして、ボール吸着面全体を平坦にしたことを特徴としている。また、前記配列ヘッドが、角型配列ヘッドであることを特徴としている。
また、本発明の他の特徴とするところは、円形のボール収容容器内の導電性ボールを、前記ボール収容容器の円形サイズより大きいサイズである角型配列ヘッドに装着されたボール配列板に吸引配列した後、前記導電性ボールを複数の半導体チップが形成されたウエハ上の全ての電極に対して一括で搭載する微細導電性ボール搭載装置の配列ヘッドであって、前記ボール配列板が、その周縁部で配列板固定枠と一体化され、前記一体化された前記配列板と前記配列板固定枠とを前記ボール配列ヘッドに脱着可能とし、前記ボール配列板の吸引孔のない外周部に傾斜を設け、前記ボール配列板のボール吸着面の延長面と、前記ボール収容容器周縁の延長面との間の空間に、吸着過程で発生するガス流に影響を与える障害物を無くして、前記ボール配列板を設置した配列ヘッドが、導電性ボールの収容容器を接近させて導電性ボールを吸着する工程で、前記ガス流の乱れを抑制するようにしたことを特徴としている。また、前記ボール配列板が、その周縁部で配列板固定枠と収縮性樹脂で接合して一体化され、前記一体化された前記配列板と前記配列板固定枠とを前記ボール配列ヘッドに脱着可能としたことを特徴としている。また、上記2つの発明において、前記ボール配列板の材質が磁性材料であり、配列ヘッドの少なくとも一部に磁石が配置されてなることを特徴としている。
【0015】
【発明の実施の形態】
次に、添付図面を参照しながら本発明の微細導電性ボール搭載装置の配列ヘッドの実施の形態について説明する。なお、本実施の形態は、一例でありその範囲を限定するものではない。
【0016】
先ず、一般の微細ボール吸着工程の一例を図1に示す。導電性ボール7をボール収容容器9の振動によって跳躍させた状態で、配列ヘッド1をボール収容容器9に接近させる。配列ヘッド1には図示しない真空発生源がつながれており、減圧空間2を減圧する。
【0017】
配列板支持部4には配列ヘッドの導通穴3があり、配列板支持部4に設置される配列板5の吸引孔6と減圧空間2とをつないでいる。配列板5と配列板支持部4の間に多孔質体やメッシュなどを挿入して通気性を確保してもよい。これらにより、跳躍する導電性ボール7は配列板5の吸引孔6へ吸着される。
【0018】
ボール配列板5を固定するための配列板押え治具10には種々の形状があるが、一般には図1及び図2に示す形状で、配列板押え治具10自身の厚みが5〜10mm程度であった。
【0019】
さらに、図2に示すように、配列板押え治具10の外形は、加工上の容易さから角型が一般に用いられている。しかし、発明者等はこの形状がボール吸引エリアの外周部に吸着しにくい原因であることを発見した。配列板押え治具10の外形が角型である場合は、図2に示すようにボール収容容器9と配列板押え治具10とを結ぶ空間距離が不均一となる(第2の個所B>第1の個所A)。
【0020】
また、配列板押え治具10の肉厚が厚いと第1の個所Aの空間が極端に狭くなる。このためボール7を吸引する際に発生するガス流の流速が距離Aの部分では他の部分、特に第2の個所Bに比べると遅く、そのためにガス流が乱れ、その影響で跳躍するボール群に粗密が発生する。特に、ガス流の流速が早い外周部ではボールが吸着できない傾向があり、ボールを吸着する時間が長くなるなどの不具合となる原因であることを見出した。
【0021】
図3に示すように、本実施の形態の微細導電性ボール搭載装置の配列ヘッドは、ボール配列板の吸着面と配列板押え治具10の段差を2mm以下とし、好ましくは1mm以下とした。これによりボール収容容器9が円形で、配列ヘッドの外形が角型でも段差を極力無くすことによって、ボール吸引によって発生するガス流の乱れを抑制することができる。
【0022】
好適には、ボール収容容器9と配列ヘッドおよび配列板押え治具10の外形を同一形状に統一し、容器周縁部とボール配列ヘッドの周縁部との距離が全周にわたって均一であることが望ましい。配列板押え治具10は配列ヘッド1に対して容易に取外しができ、取り付けた際には毎回の取り付け位置のズレが無いような構造が望ましい。
【0023】
本実施の形態の微細導電性ボール搭載装置の配列ヘッドを用いることでガス流の不均一が解消し、跳躍するボールの粗密が発生するなどの悪影響がなくなり、吸着時間の短縮、歩留を向上させた。最も好適なのはボール配列板の吸着面と配列板押え治具の段差が0mmであるが、現実には僅かな段差が存在し、0mmの加工が困難であるため、その好ましい範囲を解析し実施例に示すように実証した。
【0024】
図5は、本実施の形態の微細導電性ボール搭載装置の配列ヘッドの概略構成を示している。この実施の形態において、半導体基板もしくはウエハWは紙面と垂直方向のウエハ搬送路に沿ってウエハステージ20上に固定された状態で移動し、所定の位置で待機する。
【0025】
ここで、本発明の実施形態では、たとえば4インチ以上のサイズのウエハを対象としている。このウエハWによれば、図6に示されるように形成すべき複数の半導体チップC(個々の正方形部分)を得ることができ、各半導体チップCの電極部には本発明のボール配列板を用いて複数の導電性ボールが搭載される。
【0026】
図6においては、導電性ボールを簡略化して示しているが、これらの半導体チップC全体で使用する導電性ボールは、数十万個になる。本実施の形態の微細導電性ボール搭載装置の配列ヘッドは、このように極めて大量の導電性ボールを一括でウエハWに搭載する工程で用いるボール配列板に関するものである。
【0027】
また、図5に示されるようにウエハ搬送路と直交する方向(X方向)に沿ってガイドもしくはガイドレール21が設置され、このガイドレール21にはX−Z方向に移動可能なボール配列ヘッド1が支持される。ボール配列ヘッド1は、図3に示すように減圧空間2と、ボール配列板5の吸引孔6と減圧空間2とを結ぶ導通穴3を備えており、導通穴3の設置されている下面にボール配列板5を固定し、導電性ボール7をボール配列板に吸引配列する。
【0028】
ボール配列板5と配列板押え治具10とを配列ヘッド1に設置した際は、ボール配列板5のボール吸着面とその延長面上の段差を2mm以下となるようにしなければならない。配列板5の支持方法はテープや樹脂製の接着剤によって配列板押え治具10に接着しても良いし、溶接やろう付けなどによって接合しても良い。
【0029】
あるいは、吸引孔6の存在する配列エリアに掛からないような形状の配列板押え治具であって、配列板の外周部分を覆う部分が、厚みが2mm以下の板バネ状の張力部材によって成ることにより、配列板5をその張力で配列板支持部4に押えつけるようなものであっても良い。
【0030】
あるいは、配列板5と配列板押え治具10との間を収縮性樹脂11で接合することにより、配列板自身に面方向の張力を持たせることもできる。配列板5により張力を加えたい場合は、図4のようにボール配列板の吸引孔6のない外周部に傾斜を設け、面外方向に配列板に張力を持たせることができる。
【0031】
配列板に張力を持たせることによってボール搭載時に減圧空間2を陽圧に切り替えるなどした際に、配列板自身がたわむなどしてボール搭載位置がずれたり、過荷重が加わったりすることを抑制する効果がある。また、配列板を磁性材料で作製し、少なくともその一部に磁石を配設して、磁力によって配列板支持部に接着しても良い。
【0032】
また、吸引孔6が存在するボール配列板のボールを吸着するエリア以外の部分を、ボール吸着する真空系とは独立した真空吸着によって固定しても良いが、この場合でも一度配列板押え治具に仮固定し、配列ヘッドに真空吸着によって配列板を保持した後、配列板押え治具を取り外すようにすると毎回の脱着時にズレがないようにできる。そして、ウエハW上に形成された半導体チップCの電極部に対して、その導電性ボール7を一括で搭載する。
【0033】
ガイドレール21の一端側にてボール配列ヘッド1の下方に位置するようにボール供給装置13が配置される。ボール供給装置13は相当量の導電性ボール7を収容するボール収容容器9と、前記ボール収容容器9を加振させてボール収容容器9内で導電性ボール7を跳躍させる加振機15を含んでいる。
【0034】
ボール配列ヘッド1には、例えば超音波振動子のような図示しない振動発生源を備え、ボール吸着中や、吸着終了時に振動を加えることによって、吸引孔6の周辺や吸引孔以外の部分に付着する余剰ボールの発生を抑制することができる。この場合、振動周波数は数Hz〜1GHz程度が好ましい。振動印加時間、振幅、周波数、印加タイミングは任意に設定できることが望ましい。
【0035】
振動発生源の設置場所は、ボール配列板に振動が伝達されれば特に問わないが、よりボール配列板に近い位置が好ましく、配列ヘッドの壁面か、配列板押え治具10に設置しても良いし、直接ボール配列板に設置しても良い。
【0036】
ボール供給装置13とボール搭載ステージ20の間には、配列不良ボール除去機構16と配列検査用カメラ17が配置される。ボール除去機構16は、ボール配列ヘッド1における配列不良ボールを、吸引またはガス吹付けによって除去する。除去する際に、配列ヘッド1に前述の振動発生源によって振動を加えると、より効果的に除去することができる。また、配列検査カメラ17はボール配列ヘッド1におけるボール配列不良を検査する。
【0037】
ボール配列ヘッド1は、ボール供給装置13とボール搭載ステージ20との間を往復運動するが、減圧空間2は負圧もしくは真空源に接続された図示しない吸引機構に繋がれており、ボール配列板5にて多数の導電性ボール7を吸引配列するようになっている。
【0038】
また、この減圧空間2と吸引機構の間にバルブを設け、ボール搭載過程でバルブを切り替えて吸引機構から加圧ポンプに繋ぎかえることにより、減圧空間を陽圧にすることもできる。ボール配列板5は、ウエハWにおける複数の半導体チップCの電極部に対応する吸引孔6を有する。そして、吸引機構によって、ボール収容容器9内で跳躍する導電性ボール7を各吸引孔6に1つずつ吸着させることができる。
【0039】
前記構成において、ボール配列ヘッド1がボールを吸引し始め、搭載対象物に導電性ボール7を搭載するまでの配列動作について説明する。
ボール供給装置13において、ボール収容容器9内の導電性ボール7は、加振機15によって跳躍している。図5の点線のように、ボール配列ヘッド1をボール収容容器9上の所定の高さまで降下させ、その跳躍する導電性ボール7を吸着する。
【0040】
次に、導電性ボール7を吸着した後、ボール配列ヘッド1は上昇し、ガイドレール21に沿ってボール搭載ステージ20まで移動する。この移動途中に、不良ボールの除去を行なう。この後、配列検査用カメラ17が紙面と垂直方向に移動して、ボール配列板19の配列面全域のボール吸着状態を検査する。
【0041】
検査結果が良好である場合には、ボール搭載ステージ20まで移動する。また、この検査時に配列不良が発見された場合には、ボール除去機構16の位置に戻って不良除去を行なうことも可能である。
【0042】
次に、ボール配列ヘッド1は、ボール搭載ステージ20で待機しているウエハWに対する位置合せが行われる。そして、ボール配列ヘッド1を降下させることにより、ボール配列板5に吸着されている導電性ボール7が、フラックスが塗布されていたウエハWの電極部に搭載される。
【0043】
なお、ボール配列ヘッド1はウエハWに接触する際の搭載荷重が導電性ボールの種類等に応じて制御可能に構成されている。これにより、導電性ボール7をウエハWに対して最適荷重で接触させ、導電性ボール7をつねに適性かつ円滑に搭載することができる。
【0044】
また、前述したようにボール配列ヘッド1には、図示しない振動発生源を備えており、ボール搭載過程で振動を加えることによって、吸引孔6に吸引した導電性ボールを吸引孔から容易に開放することができるようにしている。この場合、振動周波数は数Hz〜1GHz程度が好ましい。振動印加時間、振幅、周波数、印加タイミングは任意に設定できることが望ましい。
【0045】
ウエハW上にボール搭載後、ボール配列板5上に残存するボールがあることを考慮して、ボール除去機構16によって吸引除去動作をすることもできる。
【0046】
【実施例】
以下、実施例を示す。
実施条件:
使用ボールサイズ:100μmφ、ボール材質:Sn63PB共晶
配列板:8インチ(200mm)ウエハ対応、吸引孔数:385000個/ウエハ(625個/チップ)、チップ数:616個/ウエハ
配列板板厚:100μm、吸引孔径:70μmφ、吸引孔ピッチ:200μm
吸引時間:90秒
以下、一回の吸着動作で発生したボール未吸着の吸引孔数を示す。
【0047】
【表1】

Figure 0004091882
【0048】
なお、実施例は一例のみだが、他に60μmφ、80μmφ、150μmφのボールサイズや、PBフリー材(Sn-Ag-Cu系、Sn-Ag系)においても同様の試験を実施し、本発明の配列ヘッドが従来の配列ヘッドでは達し得ない、前記と同等の良好な結果を得ている。但し、ボールサイズが60μmφの場合は配列板の板厚が70μm、吸引孔径が40μmφ、吸引孔ピッチが100μmで実施した。
【0049】
(本発明の他の実施の形態)
本発明は複数の機器から構成されるシステムに適用しても1つの機器からなる装置に適用しても良い。
【0050】
また、前述した実施の形態の機能を実現するように各種のデバイスを動作させるように、前記各種デバイスと接続された装置あるいはシステム内のコンピュータに対し、記憶媒体から、またはインターネット等の伝送媒体を介して前記実施の形態の機能を実現するためのソフトウェアのプログラムコードを供給し、そのシステムあるいは装置のコンピュータ(CPUあるいはMPU)に格納されたプログラムに従って前記各種デバイスを動作させることによって実施したものも、本発明の範疇に含まれる。
【0051】
また、この場合、前記ソフトウェアのプログラムコード自体が前述した実施の形態の機能を実現することになり、そのプログラムコード自体、およびそのプログラムコードをコンピュータに供給するための手段、例えばかかるプログラムコードを格納した記憶媒体は本発明を構成する。かかるプログラムコードを記憶する記憶媒体としては、例えばフレキシブルディスク、ハードディスク、光ディスク、光磁気ディスク、CD−ROM、磁気テープ、不揮発性のメモリカード、ROM等を用いることができる。
【0052】
また、コンピュータが供給されたプログラムコードを実行することにより、前述の実施の形態で説明した機能が実現されるだけでなく、そのプログラムコードがコンピュータにおいて稼働しているOS(オペレーティングシステム)あるいは他のアプリケーションソフト等と共同して前述の実施の形態で示した機能が実現される場合にもかかるプログラムコードは本発明の実施の形態に含まれることは言うまでもない。
【0053】
さらに、供給されたプログラムコードがコンピュータの機能拡張ボードやコンピュータに接続された機能拡張ユニットに備わるメモリに格納された後、そのプログラムコードの指示に基づいてその機能拡張ボードや機能拡張ユニットに備わるCPU等が実際の処理の一部または全部を行い、その処理によって前述した実施の形態の機能が実現される場合にも本発明に含まれる。
【0054】
【発明の効果】
以上説明してきたように、本発明によれば、大面積の搭載エリアであっても確実にボール吸引配列を行なうことができ、ボール搭載歩留を向上させてバンプ形成対象の電極上に高精度で微小導電性バンプを形成するようにすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の微細導電性ボール搭載装置の配列ヘッドの背景技術を示し、ボール吸着時の様子を示す図である。
【図2】配列板押え治具の構成を説明する図である。
【図3】微細導電性ボール搭載装置の配列ヘッドの構成を説明する図である。
【図4】配列板と配列板押え治具との間を収縮性樹脂で接合する例を示す図である。
【図5】本実施の形態を示し、微細導電性ボール搭載装置の配列ヘッドの概略構成を示す図である。
【図6】微細ボールが搭載されるウエハの一例を示す図である。
【符号の説明】
1 配列ヘッド
2 減圧空間
3 配列ヘッドの貫通穴
4 配列板支持部
5 配列板
6 吸引孔
7 導電性ボール
9 ボール収容容器
10 配列板押え治具
11 収縮性樹脂[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an arrangement head of a fine conductive ball mounting device, and more particularly to a conductive ball suction arrangement jig and an arrangement mounting device, and more particularly to a plurality of fine arrangements on a ball arrangement plate on which a plurality of ball suction holes are formed. It is suitable for holding balls in a lump and mounting them on electrodes of electronic parts such as wafers, printed boards and semiconductor chips.
[0002]
[Prior art]
Recently, ball bumps using fine conductive balls have been used for electrical connection of semiconductor chips. By using the ball bumps, it is possible to obtain a number of merits such as downsizing the package and increasing the number of pins. A bump forming technique using such a fine conductive ball is described in Patent Document 1, for example.
[0003]
In the bump forming method described in Patent Document 1, a metal ball group corresponding to at least one semiconductor chip is sucked and held. In order to suck and hold a plurality of metal ball groups, a ball array plate in which suction holes are formed at all positions corresponding to bump formation positions on the semiconductor chip is used. After the fine metal spheres are adsorbed and held on the ball array plate, the ball array plate is transported to the joining stage and joined to the joined portion.
[0004]
According to this method, since the uniformly formed fine conductive balls can be bonded together at the bump forming position, it is possible to easily and efficiently form a ball bump with high reliability. Recently, semiconductor devices have been increasingly miniaturized, and the wiring pitch of electrodes has become extremely small.
[0005]
For this reason, the fine conductive balls used for forming ball bumps on the electrodes have become extremely fine as the wiring pitch of the electrodes becomes finer. On the other hand, the number of electrodes is increasing for higher performance of the chip, and the number of balls that are attracted and arranged at a time for bump formation is also increasing.
[0006]
In such a situation, the arrangement for one semiconductor chip has a complicated process and is disadvantageous in terms of cost and time. For this reason, before the wafer is cut into individual chips, that is, before the dicing process is performed, ball bumps are arranged on all the electrodes corresponding to a plurality of chips on the wafer.
[0007]
[Patent Document 1]
JP-A-7-153765 [0008]
[Problems to be solved by the invention]
However, when trying to place ball bumps collectively on all the electrodes on the wafer on which a plurality of semiconductor chips are formed, a suction failure that prevents the ball from being attracted to the outer periphery of the suction area occurs in the ball suction process, There has been a problem that it takes a long time for the adsorption arrangement to the arrangement plate.
[0009]
There are several factors that may cause this problem.
First, as compared with the case where the conductive ball for one semiconductor chip is adsorbed, the suction area becomes large and the number of suction holes increases, so that the suction air volume may become extremely large.
[0010]
Further, since the air volume is increased and the space between the ball container and the array plate is as narrow as about 1 to 15 centimeters, the speed of the cross wind flowing between the array head and the container is greatly increased.
[0011]
Secondly, the increase in air volume makes it easier for gas turbulence (vortex) to occur between the arrangement head and the ball container. Due to this eddy current, the ball group on the ball container is coarse and dense, and the ball is not adsorbed easily in the rough portion because the existence rate of the ball is low.
[0012]
The inventors of the present application have analyzed the gas flow at the time of sucking the ball and found that, due to these factors, it was difficult to perform good suction on the outer periphery of the suction area, and time was required for the suction arrangement. .
[0013]
The present invention has been made to solve such a problem, and while reducing the time required for adsorption over the entire adsorption area of a large area, a large amount of wafers can be stably and collectively processed. It is an object of the present invention to provide an array head of a fine conductive ball mounting apparatus in which conductive balls can be arranged.
[0014]
[Means for Solving the Problems]
The arrangement head of the fine conductive ball mounting device according to the present invention has a conductive ball in a circular ball container placed on a ball arrangement plate mounted on a square arrangement head having a size larger than the circular size of the ball container. An array head of a fine conductive ball mounting apparatus that mounts the conductive balls on all the electrodes on the wafer on which a plurality of semiconductor chips are formed after the suction array, wherein the ball array plate includes: The ball array plate is supported by an array plate pressing jig which is a fixed frame at its peripheral edge, and is installed at the lower part of the ball array head so as to be detachable by the array plate pressing jig. A step between the surface and the arrangement plate pressing jig is set to 2 mm or less, and the entire ball adsorbing surface is made flat. Further, the arrangement head is a square arrangement head.
Another feature of the present invention is that the conductive balls in the circular ball container are sucked into a ball array plate mounted on a square array head having a size larger than the circular size of the ball container. An array head of a fine conductive ball mounting apparatus for mounting the conductive balls collectively on all the electrodes on the wafer on which a plurality of semiconductor chips are formed, wherein the ball array plate includes: It is integrated with the array plate fixing frame at the periphery, and the integrated array plate and the array plate fixing frame can be attached to and detached from the ball array head, and the ball array plate is inclined to the outer periphery without suction holes. In the space between the extended surface of the ball adsorption surface of the ball array plate and the extended surface of the peripheral edge of the ball container, there is no obstacle affecting the gas flow generated in the adsorption process, and the SEQ head installed an array plate, the container of the conductive ball is brought closer in the step of adsorbing the conductive ball is characterized in that so as to suppress the turbulence of the gas flow. Further, the ball array plate is integrated by joining the array plate fixing frame and the shrinkable resin at a peripheral portion thereof, and the integrated array plate and the array plate fixing frame are attached to and detached from the ball array head. It is characterized by being possible. In the above two inventions, the ball array plate is made of a magnetic material, and a magnet is disposed on at least a part of the array head.
[0015]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Next, an embodiment of the array head of the fine conductive ball mounting apparatus of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. Note that this embodiment is merely an example and does not limit the scope thereof.
[0016]
First, an example of a general fine ball adsorption process is shown in FIG. With the conductive balls 7 jumped by the vibration of the ball container 9, the arrangement head 1 is brought close to the ball container 9. A vacuum generation source (not shown) is connected to the array head 1 to decompress the decompression space 2.
[0017]
The array plate support portion 4 has a conduction hole 3 of the array head, and connects the suction hole 6 of the array plate 5 installed in the array plate support portion 4 to the decompression space 2. A porous body or a mesh may be inserted between the array plate 5 and the array plate support portion 4 to ensure air permeability. As a result, the jumping conductive balls 7 are attracted to the suction holes 6 of the array plate 5.
[0018]
There are various shapes for the array plate pressing jig 10 for fixing the ball array plate 5, but generally the shape shown in FIGS. 1 and 2 and the thickness of the array plate pressing jig 10 itself is about 5 to 10 mm. Met.
[0019]
Further, as shown in FIG. 2, the outer shape of the array plate pressing jig 10 is generally a square shape for ease of processing. However, the inventors have discovered that this shape is a cause of difficulty in adsorbing to the outer periphery of the ball suction area. When the outer shape of the array plate pressing jig 10 is square, the spatial distance connecting the ball container 9 and the array plate pressing jig 10 is not uniform as shown in FIG. 2 (second location B> First location A).
[0020]
Further, when the thickness of the array plate pressing jig 10 is thick, the space of the first portion A becomes extremely narrow. For this reason, the velocity of the gas flow generated when sucking the ball 7 is slower in the portion of the distance A than in other portions, particularly the second location B, and therefore the gas flow is disturbed and a group of balls jumping under the influence. Roughness occurs. In particular, it has been found that there is a tendency that the ball cannot be adsorbed at the outer peripheral portion where the flow rate of the gas flow is high, which causes a problem such as a longer time for adsorbing the ball.
[0021]
As shown in FIG. 3, in the arrangement head of the fine conductive ball mounting apparatus according to the present embodiment, the step between the suction surface of the ball arrangement plate and the arrangement plate holding jig 10 is 2 mm or less, preferably 1 mm or less. Thereby, even if the ball container 9 is circular and the outer shape of the array head is square, the gas flow turbulence generated by the ball suction can be suppressed by eliminating the step as much as possible.
[0022]
Preferably, the outer shapes of the ball container 9, the array head, and the array plate pressing jig 10 are unified to have the same shape, and the distance between the peripheral edge of the container and the peripheral edge of the ball array head is uniform over the entire circumference. . The arrangement plate holding jig 10 can be easily removed from the arrangement head 1, and it is desirable that the arrangement plate holding jig 10 does not have a displacement of the attachment position every time it is attached.
[0023]
By using the arrangement head of the fine conductive ball mounting device of the present embodiment, the gas flow non-uniformity is eliminated, the adverse effects such as the density of the jumping ball are eliminated, the adsorption time is shortened, and the yield is improved. I let you. The most suitable is the step between the adsorption surface of the ball array plate and the array plate holding jig is 0 mm, but in reality there is a slight step and it is difficult to process 0 mm. Demonstrated as shown.
[0024]
FIG. 5 shows a schematic configuration of the array head of the fine conductive ball mounting apparatus according to the present embodiment. In this embodiment, the semiconductor substrate or wafer W moves while being fixed on the wafer stage 20 along a wafer transfer path perpendicular to the paper surface, and waits at a predetermined position.
[0025]
Here, in the embodiment of the present invention, for example, a wafer having a size of 4 inches or more is targeted. According to this wafer W, a plurality of semiconductor chips C (individual square portions) to be formed can be obtained as shown in FIG. 6, and the ball array plate of the present invention is provided on the electrode portion of each semiconductor chip C. A plurality of conductive balls are used.
[0026]
In FIG. 6, although the conductive balls are shown in a simplified manner, the number of conductive balls used in the entire semiconductor chip C is several hundred thousand. The array head of the fine conductive ball mounting apparatus according to the present embodiment relates to a ball array plate used in the process of mounting an extremely large amount of conductive balls on the wafer W at once.
[0027]
Further, as shown in FIG. 5, a guide or guide rail 21 is installed along a direction (X direction) orthogonal to the wafer transfer path, and the ball array head 1 movable in the XZ direction on the guide rail 21. Is supported. As shown in FIG. 3, the ball array head 1 includes a decompression space 2, a conduction hole 3 that connects the suction hole 6 of the ball array plate 5 and the decompression space 2, and the bottom surface on which the conduction hole 3 is installed. The ball array plate 5 is fixed, and the conductive balls 7 are sucked and arranged on the ball array plate.
[0028]
When the ball array plate 5 and the array plate holding jig 10 are installed in the array head 1, the step on the ball adsorption surface of the ball array plate 5 and its extended surface must be 2 mm or less. The array plate 5 may be supported by adhering to the array plate pressing jig 10 with a tape or resin adhesive, or by welding or brazing.
[0029]
Alternatively, the arrangement plate pressing jig is shaped so as not to hang over the arrangement area where the suction holes 6 exist, and the portion covering the outer peripheral portion of the arrangement plate is made of a plate spring-like tension member having a thickness of 2 mm or less. Thus, the arrangement plate 5 may be pressed against the arrangement plate support portion 4 with its tension.
[0030]
Alternatively, by joining the array plate 5 and the array plate pressing jig 10 with the shrinkable resin 11, the array plate itself can be given a tension in the surface direction. When it is desired to apply tension by the array plate 5, as shown in FIG. 4, an inclination can be provided on the outer peripheral portion of the ball array plate without the suction hole 6, so that the array plate has tension in the out-of-plane direction.
[0031]
When the decompression space 2 is switched to a positive pressure at the time of ball mounting by giving tension to the array plate, it is possible to prevent the ball mounting position from being displaced or an overload from being applied due to deflection of the array plate itself. effective. Alternatively, the array plate may be made of a magnetic material, a magnet may be disposed at least at a part thereof, and the array plate may be adhered to the array plate support portion by a magnetic force.
[0032]
Further, the portion other than the area for adsorbing the balls on the ball array plate where the suction holes 6 exist may be fixed by vacuum suction independent of the vacuum system for attracting the balls. If the array plate holding jig is removed after the array plate is temporarily fixed to the array head by vacuum suction on the array head, it is possible to prevent displacement at each attachment / detachment. Then, the conductive balls 7 are collectively mounted on the electrode portions of the semiconductor chip C formed on the wafer W.
[0033]
The ball supply device 13 is disposed on one end side of the guide rail 21 so as to be positioned below the ball arrangement head 1. The ball supply device 13 includes a ball storage container 9 that stores a considerable amount of the conductive balls 7, and a vibrator 15 that vibrates the ball storage container 9 and jumps the conductive balls 7 in the ball storage container 9. It is out.
[0034]
The ball array head 1 is provided with a vibration generation source (not shown) such as an ultrasonic vibrator, and attaches to the periphery of the suction hole 6 or a portion other than the suction hole by applying vibration during the adsorption of the ball or at the end of the adsorption. Generation of excessive balls can be suppressed. In this case, the vibration frequency is preferably about several Hz to 1 GHz. It is desirable that the vibration application time, amplitude, frequency, and application timing can be set arbitrarily.
[0035]
The location of the vibration source is not particularly limited as long as vibration is transmitted to the ball array plate, but a position closer to the ball array plate is preferable, even if it is installed on the wall surface of the array head or the array plate holding jig 10. They can be installed directly on the ball array plate.
[0036]
Between the ball supply device 13 and the ball mounting stage 20, an arrangement defect ball removing mechanism 16 and an arrangement inspection camera 17 are arranged. The ball removing mechanism 16 removes the misaligned balls in the ball arranging head 1 by suction or gas blowing. At the time of removal, if the array head 1 is vibrated by the above-described vibration generation source, it can be removed more effectively. Further, the array inspection camera 17 inspects a ball array defect in the ball array head 1.
[0037]
The ball array head 1 reciprocates between the ball supply device 13 and the ball mounting stage 20, but the decompression space 2 is connected to a suction mechanism (not shown) connected to a negative pressure or a vacuum source. In FIG. 5, a large number of conductive balls 7 are arranged by suction.
[0038]
Further, by providing a valve between the decompression space 2 and the suction mechanism and switching the valve during the ball mounting process and switching the suction mechanism to the pressurization pump, the decompression space can be made positive. The ball array plate 5 has suction holes 6 corresponding to the electrode portions of the plurality of semiconductor chips C on the wafer W. Then, by the suction mechanism, the conductive balls 7 jumping in the ball container 9 can be adsorbed one by one in each suction hole 6.
[0039]
In the above configuration, the arrangement operation from when the ball arrangement head 1 starts sucking the ball until the conductive ball 7 is mounted on the mounting object will be described.
In the ball supply device 13, the conductive ball 7 in the ball container 9 is jumped by the shaker 15. As shown by the dotted line in FIG. 5, the ball array head 1 is lowered to a predetermined height on the ball container 9, and the jumping conductive balls 7 are adsorbed.
[0040]
Next, after attracting the conductive balls 7, the ball array head 1 moves up and moves to the ball mounting stage 20 along the guide rail 21. During this movement, the defective ball is removed. Thereafter, the array inspection camera 17 moves in a direction perpendicular to the paper surface to inspect the ball adsorption state over the entire array surface of the ball array plate 19.
[0041]
If the inspection result is good, the robot moves to the ball mounting stage 20. Further, if an alignment defect is found during this inspection, it is possible to return to the position of the ball removal mechanism 16 and remove the defect.
[0042]
Next, the ball arrangement head 1 is aligned with the wafer W waiting on the ball mounting stage 20. Then, by lowering the ball array head 1, the conductive balls 7 attracted to the ball array plate 5 are mounted on the electrode portion of the wafer W to which the flux has been applied.
[0043]
The ball array head 1 is configured such that the mounting load when contacting the wafer W can be controlled in accordance with the type of conductive balls. Thereby, the conductive ball 7 can be brought into contact with the wafer W with an optimum load, and the conductive ball 7 can always be mounted appropriately and smoothly.
[0044]
Further, as described above, the ball arraying head 1 is provided with a vibration generating source (not shown), and the conductive ball sucked into the suction hole 6 is easily released from the suction hole by applying vibration during the ball mounting process. To be able to. In this case, the vibration frequency is preferably about several Hz to 1 GHz. It is desirable that the vibration application time, amplitude, frequency, and application timing can be set arbitrarily.
[0045]
In consideration of the presence of balls remaining on the ball array plate 5 after the balls are mounted on the wafer W, the suction removal operation can be performed by the ball removal mechanism 16.
[0046]
【Example】
Examples are shown below.
Implementation conditions:
Ball size used: 100 μmφ, ball material: Sn63PB eutectic array plate: 8 inch (200 mm) wafer compatible, number of suction holes: 385000 / wafer (625 / chip), number of chips: 616 / wafer array plate thickness: 100 μm, suction hole diameter: 70 μmφ, suction hole pitch: 200 μm
Suction time: 90 seconds or less, the number of suction holes that have not been attracted to the ball generated by one suction operation.
[0047]
[Table 1]
Figure 0004091882
[0048]
The example is only an example, but the same test was conducted on ball sizes of 60 μmφ, 80 μmφ, 150 μmφ, and PB-free materials (Sn—Ag—Cu type, Sn—Ag type). The head has a good result equivalent to the above, which cannot be achieved by a conventional array head. However, when the ball size was 60 μmφ, the thickness of the array plate was 70 μm, the suction hole diameter was 40 μmφ, and the suction hole pitch was 100 μm.
[0049]
(Another embodiment of the present invention)
The present invention may be applied to a system composed of a plurality of devices or an apparatus composed of a single device.
[0050]
Further, in order to operate various devices so as to realize the functions of the above-described embodiments, a transmission medium such as the Internet is transmitted from a storage medium to an apparatus connected to the various devices or a computer in the system. The program implemented by operating the various devices according to the program stored in the computer (CPU or MPU) of the system or apparatus is supplied via the program code of software for realizing the functions of the embodiment Are included in the scope of the present invention.
[0051]
In this case, the program code of the software itself realizes the functions of the above-described embodiments, and the program code itself and means for supplying the program code to the computer, for example, the program code are stored. This storage medium constitutes the present invention. As a storage medium for storing the program code, for example, a flexible disk, a hard disk, an optical disk, a magneto-optical disk, a CD-ROM, a magnetic tape, a nonvolatile memory card, a ROM, or the like can be used.
[0052]
Further, by executing the program code supplied by the computer, not only the functions described in the above embodiments are realized, but also the OS (operating system) or other operating system in which the program code is running on the computer. It goes without saying that such program code is also included in the embodiment of the present invention even when the functions described in the above-described embodiment are realized in cooperation with application software or the like.
[0053]
Further, after the supplied program code is stored in the memory provided in the function expansion board of the computer or the function expansion unit connected to the computer, the CPU provided in the function expansion board or function expansion unit based on the instruction of the program code The present invention also includes the case where the functions of the above-described embodiment are realized by performing part or all of the actual processing.
[0054]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, it is possible to reliably perform the ball suction arrangement even in a large mounting area, and to improve the ball mounting yield and provide high precision on the electrodes on which bumps are to be formed. Thus, a minute conductive bump can be formed.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a view showing a background art of an array head of a fine conductive ball mounting apparatus according to the present invention and a state at the time of ball adsorption.
FIG. 2 is a diagram illustrating the configuration of an array plate pressing jig.
FIG. 3 is a diagram illustrating a configuration of an array head of a fine conductive ball mounting apparatus.
FIG. 4 is a diagram illustrating an example in which an array plate and an array plate holding jig are joined with a shrinkable resin.
FIG. 5 is a diagram showing a schematic configuration of an arrangement head of a fine conductive ball mounting apparatus according to the present embodiment.
FIG. 6 is a diagram showing an example of a wafer on which fine balls are mounted.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Arrangement head 2 Decompression space 3 Through hole 4 of arrangement head Arrangement board support part 5 Arrangement board 6 Suction hole 7 Conductive ball 9 Ball container 10 Arrangement board holding jig 11 Contractile resin

Claims (4)

円形のボール収容容器内の導電性ボールを、前記ボール収容容器の円形サイズより大きいサイズである角型配列ヘッドに装着されたボール配列板に吸引配列した後、前記導電性ボールを複数の半導体チップが形成されたウエハ上の全ての電極に対して一括で搭載する微細導電性ボール搭載装置の配列ヘッドであって、
前記ボール配列板が、その周縁部でボール配列板を固定枠である配列板押え治具で支持され、前記ボール配列ヘッドの下部に前記配列板押え治具で脱着可能なように設置され、
前記ボール配列板のボール吸着面と前記配列板押え治具との段差を2mm以下にして、ボール吸着面全体を平坦にしたことを特徴とする微細導電性ボール搭載装置の配列ヘッド。
After the conductive balls in the circular ball container are sucked and arranged on a ball arrangement plate mounted on a square arrangement head having a size larger than the circular size of the ball container, the conductive balls are arranged on a plurality of semiconductor chips. An array head of a fine conductive ball mounting device that collectively mounts on all the electrodes on the wafer on which is formed ,
The ball array plate is supported by an array plate presser jig that is a fixed frame at the periphery of the ball array plate, and is installed at the lower part of the ball array head so as to be detachable with the array plate presser jig ,
An array head of a finely conductive ball mounting apparatus, wherein a step between the ball suction surface of the ball array plate and the array plate pressing jig is 2 mm or less, and the entire ball suction surface is flattened.
円形のボール収容容器内の導電性ボールを、前記ボール収容容器の円形サイズより大きいサイズである角型配列ヘッドに装着されたボール配列板に吸引配列した後、前記導電性ボールを複数の半導体チップが形成されたウエハ上の全ての電極に対して一括で搭載する微細導電性ボール搭載装置の配列ヘッドであって、
前記ボール配列板が、その周縁部で配列板固定枠と一体化され、前記一体化された前記配列板と前記配列板固定枠とを前記ボール配列ヘッドに脱着可能となるように設置され、
前記ボール配列板の吸引孔のない外周部に傾斜を設け、
前記ボール配列板のボール吸着面の延長面と、前記ボール収容容器周縁の延長面との間の空間に、吸着過程で発生するガス流に影響を与える障害物を無くして、前記ボール配列板を設置した配列ヘッドが、導電性ボールの収容容器を接近させて導電性ボールを吸着する工程で、前記ガス流の乱れを抑制するようにしたことを特徴とする微細導電性ボール搭載装置の配列ヘッド。
After the conductive balls in the circular ball container are sucked and arranged on a ball arrangement plate mounted on a square arrangement head having a size larger than the circular size of the ball container, the conductive balls are arranged on a plurality of semiconductor chips. An array head of a fine conductive ball mounting device that collectively mounts on all the electrodes on the wafer on which is formed ,
The ball array plate is integrated with an array plate fixing frame at a peripheral portion thereof, and is installed so that the integrated array plate and the array plate fixing frame can be attached to and detached from the ball array head.
An inclination is provided on the outer peripheral portion of the ball array plate without a suction hole,
The space between the extended surface of the ball adsorbing surface of the ball array plate and the extended surface of the peripheral edge of the ball container is free of obstacles affecting the gas flow generated in the adsorbing process, and the ball array plate is The arrangement head of the fine conductive ball mounting apparatus, wherein the arranged arrangement head suppresses the turbulence of the gas flow in the step of adsorbing the conductive ball by bringing the container for containing the conductive ball close to the container. .
前記ボール配列板が、その周縁部で配列板固定枠と収縮性樹脂で接合して一体化され、前記一体化された前記配列板と前記配列板固定枠とを前記ボール配列ヘッドに脱着可能としたことを特徴とする請求項2に記載の微細導電性ボール搭載装置の配列ヘッド。The ball array plate is integrated by joining the array plate fixing frame and the shrinkable resin at a peripheral edge thereof , and the integrated array plate and the array plate fixing frame can be attached to and detached from the ball array head. The arrangement head of the fine conductive ball mounting apparatus according to claim 2, wherein 前記ボール配列板の材質が磁性材料であり、配列ヘッドの少なくとも一部に磁石が配置されてなることを特徴とする請求項1又は2に記載の微細導電性ボール搭載装置の配列ヘッド。 3. The arrangement head of the fine conductive ball mounting apparatus according to claim 1, wherein the ball arrangement plate is made of a magnetic material, and a magnet is arranged on at least a part of the arrangement head.
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