JP4103243B2 - 紫外線の偏光方法 - Google Patents
紫外線の偏光方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4103243B2 JP4103243B2 JP13659899A JP13659899A JP4103243B2 JP 4103243 B2 JP4103243 B2 JP 4103243B2 JP 13659899 A JP13659899 A JP 13659899A JP 13659899 A JP13659899 A JP 13659899A JP 4103243 B2 JP4103243 B2 JP 4103243B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- single crystal
- lithium tetraborate
- crystal
- ultraviolet
- lotion prism
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Polarising Elements (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、紫外線を四ほう酸リチウム単結晶からなるローションプリズムを用いて偏光させる紫外線の偏光方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
情報および通信の発展に伴い、光アイソレ−タ、スイッチ等の受動部品が必要になり、これら部品を構成する素子として偏光子が必要となる。更に、最近短波長の紫外線領域で使用される偏光子の必要性が注目されて来ており、その特性には、厳しい要求がされている。
現在、紫外線用偏光子として用いられ、また用いようとしている材料としては、高温型BaB2O4結晶(BBO)、LiB3O5結晶、MgF2結晶がある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上述の材料である高温型BaB2O4結晶(BBO)は、190nmから透明で、複屈折率は約0.12と高いが、しかし、結晶品質が悪く、大きな結晶が育成出来ないし、紫外線の吸収があり結晶温度が上昇し、特性に影響し、更に寿命も短く成る問題があった。LiB3O5結晶は、160nmから透明であるが、複屈折率は約0.045と小さい。また育成法が溶液成長なので、大きな結晶が育成できず、複屈折率の小ささを結晶の大きさで保証することが出来ない問題を抱えている。MgF2結晶は、130nmから透明であり、現在の紫外線用偏光子の主力である。しかし、複屈折率が0.013程度であり、また大きな高品質結晶も育成出来ない。更に、長時間の紫外線の照射により、透過率の低下をもたらすとの問題があった。
【0004】
四ほう酸リチウム単結晶(Li2B4O7単結晶)は、従来SAW(弾性表面波)デバイス用の基板材料に用いられており、また可視、赤外線領域での偏光子としての使用が可能とされている(特願平08−165516号公報)。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は、上記事情に鑑み、紫外線領域下でも偏光子として使用可能な材料を、鋭意開発すべく研究を進めたところ、上述の高品質の四ほう酸リチウム単結晶が、紫外線用の偏光子としても優れた特性を有し、短波長の紫外線領域でも十分に使用に耐え得る材料であるとの知見を得たのである。
【0006】
本発明は、上述の知見に基づいて得られたものであって、請求項1に記載の発明は、紫外線を、紫外線ローションプリズムを用いて偏光させる紫外線の偏光方法であって、上記ローションプリズムとして、波長193nm〜266nmの範囲内の紫外線を12.4〜14.7degの範囲内の分離角を有するように偏光させる四ほう酸リチウム単結晶を用いたことを特徴とするものである。
また、請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の紫外線の偏光方法において、結晶内の格子変動が5×10-5以下で、かつエッチピット密度(EPD)が100/cm2以下であることを特徴とするものである。
さらに、請求項3に記載の発明は、請求項1または2に記載の紫外線の偏光方法において、上記ローションプリズムとしての四ほう酸リチウム単結晶は、チョコラルスキ−法により、四ほう酸リチウム多結晶体を坩堝内に充填して、ヒータで融解した後に、引き上げる際に、融液表面と融液直上1cmの間の雰囲気の温度勾配を30℃/cm〜200℃/cmとし、それより上部の雰囲気の温度勾配を10℃/cm〜50℃/cmとし、引き上げ速度を0.1mm/時間〜2mm/時間として得られることを特徴とするものである。
【0007】
結晶内の格子変動は、例えばボンド法により測定される。EPDは、例えばエッチング法により測定される。結晶内の格子変動が5×10-5より大きい場合には、屈折率変動が10-5より大きくなる傾向にありあまり好ましくない。また、EPDが100/cm2より大きい場合は、上と同様の傾向にありあまり好ましくない。
【0008】
本発明に係わる偏光子としての四ほう酸リチウム単結晶からなるローションプリズムは、コノスコ−プ像干渉縞の変形のような光学的不均一性が見られない再現性に富む精密なものである。また、本発明に係わるローションプリズムは、消光比も高く、優秀な偏光子である。さらに、本発明に係わる四ほう酸リチウム単結晶を、請求項3に記載の発明のように、チョコラルスキ−法によって製造することにより、結晶欠陥の少ないローションプリズムを容易に量産的に製造することが出来る。
【0009】
【本発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について説明する。
図1は、本発明で用いる偏光子材料である四ほう酸リチウム単結晶を作製する単結晶の引き上げ装置10である。この引き上げ装置10は、四ほう酸リチウム材料が融解される白金坩堝1を有している。この白金坩堝1の周囲には、断熱材2、3を介して、坩堝内の四ほう酸リチウムを融解させるためのヒ−タ4(例えば、抵抗加熱ヒ−タ)が設けられている。一方、白金坩堝1の上部には、断熱壁5、6が二重に設けられており、種結晶が取り付けられる引き上げ軸7が、この断熱壁5、6を貫通するようになっている。
【0010】
このような引き上げ装置10を用いて、四ほう酸リチウム単結晶を育成する。すなわち、所定モル比の四ほう酸リチウム多結晶体を白金坩堝内に充填し、ヒ−タで融解した後、引き上げ方位<110>で単結晶を引き上げる。
このとき、融液表面と融液直上1cmの間の温度勾配を50〜150℃/cm、それより上部の温度勾配を5〜10℃/cmとし、単結晶の直胴部を引き上げる際の引き上げ速度を0.3〜1mm/時間とすることが好ましい。
【0011】
この様にして引き上げられた四ほう酸リチウム単結晶から成るウェ−ハを切断し、図2に示す形状の偏光子としてのローションプリズムを作製する。入射面と出射面と両側面は、ラッピング、ポリッシングなどの研磨手段で研磨される。
【0012】
本実施形態に係わるローションプリズムは、コノスコ−プ像干渉縞の変形のような光学的不均一が見られない再現性に富む精密な偏光子である。また、本実施形態に係わるローションプリズムは、屈折率が高く、優秀な偏光子である。なお、本発明は、上述した実施形態に限定されるものでなく、本発明の範囲内で種々に改変することが出来る。
【0013】
【実施例】
次に、本発明にかかる波長193nm〜266nmの範囲内の紫外線を12.4〜14.7degの範囲内の分離角を有するように偏光させる四ほう酸リチウム単結晶を用いたローションプリズムについて、詳細な実施例を具体的に説明するが、本発明は、この実施例に限定されるものではない。図1に示す引き上げ装置10を用いて、四ほう酸リチウム単結晶を作製した。白金坩堝1としては、直径90mm、高さ100mmのものを用いた。
【0014】
まず、所定モル比の純度99.99%の四ほう酸リチウム多結晶体1300gを白金坩堝内に充填し、ヒ−タで融解した後、引き上げ方位<110>で直径2インチの単結晶を引き上げた。
この時、融液表面と融液直上10mmの間の温度勾配を80℃/cm、それより上部の温度勾配を8℃/cmとし、単結晶の直胴部を引き上げる際の補記上げ速度を0.5mm/時間とした。
【0015】
この単結晶の結晶内の格子変動をボンド法により調べたところ、1×10-6であった。また、エッチピット密度(EPD)をエッチング法により調べたところ、10/cm2程度であった。
この単結晶を図2に示す形状に切断して偏光子としてのロ−ションプリズムを得た。プリズムの光入射面は、四ほう酸リチウム単結晶の(010)面に対して、0の角度で傾いており、プリズムの光出射面は、入射面に垂直な底面に対して、θ=70±0.3°傾いていた。入射面と出射面と両側面は、ラッピングにより光学研磨した。
【0016】
作製したロ−ションプリズムの分離角を測定した(測定方法は図3を参照)。結果を表1に示した。
表1からわかるように、このローションプリズムは、波長193nm〜266nmの範囲内の紫外線を12.4〜14.7degの範囲内の分離角を有するよう偏光させる特性を有することが確認された。
【0017】
[比較例]
図2に示すロ−ションプリズムとして、MgF2を用いた以外は、前記実施例と同様にして、分離角を求め、これらの結果を同様に表1に示した。
【0018】
【表1】
【0019】
また、上記実施例のロ−ションプリズムを用いて、常光および異常光の消光比を求め(測定方法は図4を参照のこと)、これらの結果を表2に示した。その値はすべて35dB以上であり、十分にプリズムとして用いられることが判った。
【0020】
【表2】
表2に示すように、本発明に用いた四ほう酸リチウム単結晶が、紫外線偏光子として優れた特性を持っていることが確認された。また、直線偏光を四ほう酸リチウム単結晶に通した時の出力光の形の観察から、旋光能がないかどうかを調べたところ、旋光能はないことが確認された。
【0021】
さらに、本実施例に使用されたプリズムは、四ほう酸リチウム単結晶から成るので、化学的に安定であると共に、結晶欠陥が少ない。なお、結晶欠陥の測定は、前述したように、格子変動とEPDとを測定することにより行った。
【0022】
【発明の効果】
以上、説明してきた様に、本発明によれば、紫外線を偏光させることができる複屈折率が大きく、旋光能がなく、結晶欠陥が少なく、化学的に安定した優れた特性のローションプリズムができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態に使用される四ほう酸リチウム単結晶の製造装置の一例を示す概略断面図。
【図2】本発明の実施形態に使用されるプリズムの正面図および側面図。
【図3】本発明の実施形態における分離角測定方法の概略図。
【図4】本発明の実施形態における消光比測定方法の概略図。
【符号の説明】
7 単結晶引き上げ装置
10 引き上げ軸
Claims (3)
- 紫外線を、ローションプリズムを用いて偏光させる紫外線の偏光方法であって、
上記ローションプリズムとして、波長193nm〜266nmの範囲内の紫外線を12.4〜14.7degの範囲内の分離角を有するように偏光させる四ほう酸リチウム単結晶を用いたことを特徴とする紫外線の偏光方法。 - 結晶内の格子変動が5×10-5以下で、かつエッチピット密度(EPD)が100/cm2以下であることを特徴とする請求項1に記載の紫外線の偏光方法。
- 上記ローションプリズムとしての四ほう酸リチウム単結晶は、チョコラルスキ−法により、四ほう酸リチウム多結晶体を坩堝内に充填して、ヒータで融解した後に、引き上げる際に、融液表面と融液直上1cmの間の雰囲気の温度勾配を30℃/cm〜200℃/cmとし、それより上部の雰囲気の温度勾配を10℃/cm〜50℃/cmとし、引き上げ速度を0.1mm/時間〜2mm/時間として得られることを特徴する請求項1または2に記載の紫外線の偏光方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13659899A JP4103243B2 (ja) | 1999-05-18 | 1999-05-18 | 紫外線の偏光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13659899A JP4103243B2 (ja) | 1999-05-18 | 1999-05-18 | 紫外線の偏光方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000329937A JP2000329937A (ja) | 2000-11-30 |
| JP4103243B2 true JP4103243B2 (ja) | 2008-06-18 |
Family
ID=15179053
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13659899A Expired - Fee Related JP4103243B2 (ja) | 1999-05-18 | 1999-05-18 | 紫外線の偏光方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4103243B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106968016B (zh) * | 2017-03-10 | 2020-07-31 | 河南理工大学 | 一种绿色发光材料多硼酸铽铅的制备和性能及用途 |
| CN109471214A (zh) * | 2018-12-18 | 2019-03-15 | 福建福晶科技股份有限公司 | 一种深紫外耦合偏振棱镜 |
-
1999
- 1999-05-18 JP JP13659899A patent/JP4103243B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2000329937A (ja) | 2000-11-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH04204525A (ja) | ニオブ酸リチウム単結晶薄膜 | |
| WO2019174105A1 (zh) | 偏硼酸钙双折射晶体及制备方法和用途 | |
| CN103849932B (zh) | 一种氟硼酸钡钠紫外双折射晶体及生长方法和用途 | |
| JP4103243B2 (ja) | 紫外線の偏光方法 | |
| Yamamoto et al. | Noncritical phase matching and photorefractive damage in Sc2O3: LiNbO3 | |
| JP3335184B2 (ja) | KTiOPO4 を含む組成を有する単結晶材料およびこれを含む電気光学装置 | |
| JP3025982B2 (ja) | 導波路型光方向性結合器 | |
| CN115504480B (zh) | 化合物硼酸锌钡和硼酸锌钡双折射晶体及其制备方法和用途 | |
| CN108425152B (zh) | 偏硼酸锶双折射晶体及制备方法和用途 | |
| JP3858776B2 (ja) | 偏光子とそれを用いたプリズム | |
| JP3346176B2 (ja) | 偏光子の製造方法 | |
| JP4211811B2 (ja) | プリズム | |
| CN114481321B (zh) | 一种电光晶体硼铌酸钾及其应用 | |
| JP2001287999A (ja) | タンタル酸リチウム単結晶、およびその光素子、およびその製造方法 | |
| JPH09258283A (ja) | 光波長変換方法および光波長変換装置 | |
| JP3649207B2 (ja) | 単結晶四ほう酸リチウムの製造方法 | |
| JP2862840B2 (ja) | 光導波路型偏光子及びその製造方法 | |
| JPH1048679A (ja) | 非線形光学結晶ファイバ及びその製法並びにこれを用いた光学デバイス | |
| Gottlieb et al. | Noncollinear acousto-optic tunable filter: thallium phosphorus selenide system | |
| CN121629515A (zh) | 硼铌酸钾电光晶体及其制备方法和用途 | |
| JPH0664996A (ja) | ニオブ酸リチウム単結晶薄膜の製造方法 | |
| JP3261649B2 (ja) | 光学用四ほう酸リチウム単結晶の育成方法 | |
| WO1991016658A1 (en) | Laminated organic nonlinear optical crystal and production thereof | |
| JP2001091738A (ja) | 複屈折板及びそれを用いた光アイソレータ | |
| JPH06191996A (ja) | ニオブ酸リチウム単結晶の製造方法および光素子 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040929 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070731 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070814 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071011 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071024 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20071024 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080304 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080317 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110404 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110404 Year of fee payment: 3 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110404 Year of fee payment: 3 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120404 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120404 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130404 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130404 Year of fee payment: 5 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |