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JP4132354B2 - Novel sulfur-containing atomic group-introducing porous body, method for introducing sulfur-containing atomic group to the entire surface of the porous body, and battery separator - Google Patents
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JP4132354B2 - Novel sulfur-containing atomic group-introducing porous body, method for introducing sulfur-containing atomic group to the entire surface of the porous body, and battery separator - Google Patents

Novel sulfur-containing atomic group-introducing porous body, method for introducing sulfur-containing atomic group to the entire surface of the porous body, and battery separator Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、新規のイオウ含有原子団導入多孔質体、多孔質体の総表面へのイオウ含有原子団導入方法、及び前記のイオウ含有原子団導入多孔質体を利用した電池用セパレータに関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、多孔質体の表面へイオウ含有原子団を導入する方法の1つとして、スルホン化処理が知られており、前記スルホン化処理を行う方法としては、例えば、発煙硫酸を用いる方法、あるいは、処理用ガスと希ガスとの混合ガス雰囲気下で大気圧グロー放電によりプラズマ処理を行う方法などが知られていた。これらの方法を用いて、多孔質体の表面をスルホン化[すなわち、被処理面にスルホン酸基(SO3H)を導入]することにより、前記多孔質体に親水性を付与したり、親水性を向上させることができる。得られた処理体におけるスルホン化の程度は、処理表面における、炭素原子(C)の数に対するイオウ原子(S)の数の比(以下、表面S/C比と称する)に相関しており、スルホン化の程度が高いほど、表面S/C比も高い数値を示す。
【0003】
前記の発煙硫酸を用いる方法によると、高い効率でスルホン酸基を導入することができ、高い表面S/C比を示す処理体を得ることができる。しかし、この方法によりスルホン化された処理体では、カルボキシル基などが導入されたことを示す指標である、処理表面上での炭素原子(C)の数に対する酸素原子(O)の数の比(以下、表面O/C比と称する)が、低くなる傾向がある。表面O/C比は濡れ性と相関があり、表面O/C比が低いものは、濡れ性が劣っている。例えば、この方法によりスルホン化された処理体を電池用セパレータとして使用する場合には、濡れ性を向上させるために、更に別の処理(例えば、界面活性剤の付与)を行う必要があった。
また、発煙硫酸を用いる方法では、未反応の発煙硫酸を洗浄するための大掛かりな装置が必要であり、しかも、高濃度の硫酸を含む廃液を大量に処理するという問題があった。更には、多孔質体の強度の劣化という問題もあった。
【0004】
一方、処理用ガスと希ガスとの混合ガス雰囲気下で大気圧グロー放電によりプラズマ処理を行う方法は、例えば、特開平9−85026号公報に開示されている。前記公報には、対向する一対の電極の少なくとも一方の対向面に固体誘電体を設置し、これらの電極間に3次元網目状多孔体を配置し、処理用ガスと希ガスとの混合ガスの大気圧近傍の圧力下で前記多孔体に放電プラズマ処理を行うことを特徴とする処理方法が開示されている。この方法では、混合ガス中の処理用ガスの濃度が、希ガスの10容量%を越える(すなわち、混合ガス中の処理用ガスの濃度が9.09容量%を越える)と、電圧を印加しても均一な放電プラズマが発生し難くなるので、混合ガス中の処理用ガスの濃度は0.01〜9.09容量%であることが好ましく、二酸化イオウ(処理用ガス)0.5容量%を含む二酸化イオウ/ヘリウム混合ガス中で放電プラズマ処理を実際に行ったことが、前記公報に開示されている。なお、前記公報には、処理用ガスとして、二酸化イオウ、三酸化イオウ、酸素、又は窒素などが例示されている。
【0005】
前記公報における開示から明らかなように、大気圧グロー放電による方法では、均一な放電プラズマを発生させるために、90容量%を越える希ガスの存在下で電圧を印加する必要がある。そのため、混合気体中の処理用ガスの濃度を限界値を越えて高くすることができず、高い表面S/C比と高い表面O/C比とを同時に有するスルホン化体は従来全く知られていなかった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明の課題は、高い表面S/C比と高い表面O/C比とを同時に有する新規のイオウ含有原子団導入多孔質体を提供することにある。また、本発明の別の課題は、大掛かりな装置や、高濃度の硫酸を含む廃液の大量処理が不要で、大気圧下の放電により高い効率で多孔質体の総表面へイオウ含有原子団を導入することができる手段を提供することにある。更に、本発明の別の課題は、高い表面S/C比と高い表面O/C比とを同時に有する電池用セパレータを提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
前記の課題は、本発明による、
有機材料からなる多孔質体の総表面の少なくとも一部にイオウ含有原子団を導入したイオウ含有原子団導入多孔質体であって、
イオウ含有原子団を導入された表面においてX線光電子分光計により測定された炭素原子(C)の数に対するイオウ原子(S)の数の比(S/C)が7×10−4以上であり、
イオウ含有原子団を導入された表面においてX線光電子分光計により測定された炭素原子(C)の数に対する酸素原子(O)の数の比(O/C)が0.2以上であり、
イオウ含有原子団導入多孔質体全体における、炭素原子(C)の数に対するイオウ原子(S)の数の比(S/C)が1×10−3以上である
ことを特徴とする、イオウ含有原子団導入多孔質体によって達成することができる。
【0008】
また、本発明は、有機材料からなる不織布の総表面の少なくとも一部にイオウ含有原子団を導入したイオウ含有原子団導入不織布であって、
イオウ含有原子団を導入された表面においてX線光電子分光計により測定された炭素原子(C)の数に対するイオウ原子(S)の数の比(S/C)が7×10−4以上であり、
イオウ含有原子団を導入された表面においてX線光電子分光計により測定された炭素原子(C)の数に対する酸素原子(O)の数の比(O/C)が0.2以上であり、
イオウ含有原子団導入多孔質体全体における、炭素原子(C)の数に対するイオウ原子(S)の数の比(S/C)が1×10−3以上である
イオウ含有原子団導入不織布からなる電池用セパレータにも関する。
【0009】
更に、本発明は、少なくとも一方の電極の対向表面側に誘電体層を設けて対向して配置した一対の電極の間に、有機材料からなる多孔質体を配置し、表面処理用ガス全体の容量に対して10容積%以上のイオウ含有化合物ガスの存在下で、且つ、大気圧下にて、前記両電極間に電圧を印加して、放電を発生させることを特徴とする、多孔質体の総表面の少なくとも一部へのイオウ含有原子団導入方法にも関する。
【0010】
更にまた、本発明は、少なくとも一方の電極の対向表面側に誘電体層を設けて対向して配置した一対の電極の間に、有機材料からなる多孔質体を配置し、表面処理用ガス全体の容量に対して10容積%以上のイオウ含有化合物ガスの存在下及び酸素ガスの存在下で、且つ、大気圧下にて、前記両電極間に電圧を印加して、放電を発生させることを特徴とする、多孔質体の総表面の少なくとも一部へのイオウ含有原子団導入方法にも関する。
【0011】
更にまた、本発明は、それぞれの対向表面側に誘電体層を設けて対向して配置した一対の電極の間に、前記の一対の電極とはそれぞれ直接に接触しないが前記誘電体層のそれぞれと外側表面が直接に接触するように、有機材料からなる多孔質体を配置し、表面処理用ガス全体の容量に対して10容積%以上のイオウ含有化合物ガスの存在下で、且つ、大気圧下にて、前記両電極間に電圧を印加して、両電極間に挟まれた前記多孔質体の内部空隙で放電を発生させることを特徴とする、多孔質体の総表面の少なくとも一部へのイオウ含有原子団導入方法にも関する。
【0012】
本明細書において、「総表面」とは、処理対象である多孔質体の外側表面と、多孔質体の内側表面との両方を含む概念である。「外側表面」とは、多孔質体に外接する平滑表面を有する仮想立体と接する多孔質体の表面を意味する。また、「内側表面」とは、多孔質体の前記仮想立体の内部に含まれるすべての内部空隙の全表面を意味する。従って、内側表面とは、発泡体型多孔質体においては各気泡(cell)の表面であり、フィルム型多孔質体においては凹部構造(例えば、くぼみ又は溝など)又は貫通孔の表面であり、繊維質型多孔質体においては構成繊維によって形成される内部空間の表面、すなわち、各構成繊維の全表面が含まれる。
【0013】
本明細書において、「イオウ含有原子団」とは、処理対象である多孔質体(以下、被処理体と称することがある)を本発明方法により処理することにより得られる処理体に新たに導入された、イオウ原子を含有する原子団を意味する。前記イオウ含有原子団の存在状態、又は多孔質体との結合状態は、特に限定されるものではなく、イオウ含有原子団には、例えば、多孔質体と化学的及び/又は物理的に結合する原子、官能基、架橋基、又は分子などが含まれる。
処理体(すなわち、イオウ含有原子団導入多孔質体)の表面に導入されたイオウ含有原子団は、X線光電子分光法により決定することができる。
【0014】
【発明の実施の形態】
本発明によるイオウ含有原子団導入多孔質体においては、イオウ含有原子団を導入された表面においてX線光電子分光計により測定された炭素原子(C)の数に対するイオウ原子(S)の数の比(すなわち、表面S/C比)が、7×10-4以上であり、同じくX線光電子分光計により測定された炭素原子(C)の数に対する酸素原子(O)の数の比(すなわち、表面O/C比)が0.2以上である。このように高い表面S/C比と高い表面O/C比とを同時に有するイオウ含有原子団導入多孔質体を得る技術は、従来全く知られておらず、従って、本発明によるイオウ含有原子団導入多孔質体は従来全く知られていない。
【0015】
本発明によるイオウ含有原子団導入多孔質体においては、表面S/C比は、好ましくは6×10-2以上であり、より好ましくは7×10-2以上である。後述する本発明方法を用いると、0.8程度までの表面S/C比を得ることができる。本発明によるイオウ含有原子団導入多孔質体においては、表面O/C比は、好ましくは0.25以上である。なお、発煙硫酸を用いる従来法又はグロー放電を用いる従来法によりスルホン化した場合には、表面O/C比は通常0.2未満である。後述する本発明方法を用いると、3程度までの表面O/C比を得ることができる。
イオウ含有原子団を導入された多孔質体全体におけるS/C比(以下、全体S/C比と称することがある)が1×10-3以上になると、イオウ含有量が多くなるため、例えば、イオン交換能、イオン吸収性、アンモニア吸収性、又は生体適合性等の物性が向上する効果がある。特に全体S/C比が1.5×10-3以上のイオウ含有原子団導入不織布を電池用セパレータとして利用すると、電池の自己放電抑制作用が向上する。また、全体S/C比が2×10-3以上のイオウ含有原子団導入不織布を電池用セパレータとして利用すると、電池の自己放電抑制作用が更に向上する。これに対して、従来法によるグロー放電ではスルホン化体全体のS/C比が1×10-3未満である。
【0016】
本発明によるイオウ含有原子団導入多孔質体が、構成単位中にイオウ原子及び酸素原子を実質的に含有しない有機高分子材料(特に、有機合成高分子材料)から本質的になる多孔質体にイオウ含有原子団を導入したものからなる場合には、前記の全体S/C比は、0.05以下である。
全体S/C比は、例えば、有機元素分析や、酸素燃焼フラスコ法を用いて多孔質体のイオウ含有量を求め、多孔質体の組成と重量から全体S/C比を求めることができる。また、炭素含有量は、有機元素分析によって測定することもできる。
【0017】
また、本発明による好ましいイオウ含有原子団導入多孔質体においては、全体S/C比(B)に対する表面S/C(A)の比(A/B)が15以上、より好ましくは20以上、最も好ましくは25以上である。全体S/C比(B)に対する表面S/C比(A)の比(A/B)が大きいことは、イオウ含有原子団が多孔質体を構成する材料の表面側に局在している傾向が大きいこと、すなわちイオウ含有原子団が多孔質体を構成する材料の深い内部にまで導入されていないことを意味し、従って、イオウ含有原子団導入多孔質体が強度的に優れていることを意味する。これに対して、発煙硫酸を用いる従来法によりスルホン化した場合には、多孔質体を構成する材料の内部に深くイオウ含有原子団が侵入するのでイオウ含有原子団導入多孔質体の強度が低下する。後述する本発明方法を用いると、A/B比が100程度までの処理体を得ることができる。
【0018】
前記の表面S/C比は、X線光電子分光法を用いて、例えば、対象表面における炭素原子のピーク面積と、前記対象表面におけるイオウ原子のピーク面積とをそれぞれ測定し、光イオン化断面積補正を加えることにより、求めることができる。また、前記の表面O/C比も、X線光電子分光法を用いて、対象表面における炭素原子のピーク面積と、前記対象表面における酸素原子のピーク面積とをそれぞれ測定し、光イオン化断面積補正を加えることにより、求めることができる。なお、測定対象の表面に存在し、表面S/C比及び/又は表面O/C比に影響を与える物質(例えば、界面活性剤など)を除去するために、予め測定対象を洗浄してから、前記分析を実施する。
【0019】
本発明によるイオウ含有原子団導入多孔質体は、例えば、親水化処理の検出と、親水化処理が施されていることが明らかになった処理体の処理表面における表面S/C比及び表面O/C比の測定により同定することができる。例えば、親水化処理の検出に、ぬれ指数を用いる場合を以下に示す。
【0020】
(1)或る多孔質体試料を赤外線分析計などの手段を用いて分析し、総表面に属さない部分の構成材料を決定する。総表面に属さない部分としては、試料がフィルム型多孔質体又は発泡型多孔質体である場合には、例えば、充実した緻密(solid)体部分を挙げることができ、試料が繊維質型多孔質体である場合には、例えば、構成繊維の内部部分を挙げることができる。決定した構成材料からなる多孔質体のぬれ指数を、「ポリエチレン及びポリプロピレンフィルムのぬれ試験方法」(JIS K 6768-1977)に従って決定する。複数の構成成分からなる場合には、ぬれ指数の小さい方の構成成分のぬれ指数を決定する。このぬれ指数を有する材料を濡らして着色することのできる指示薬を選択する。
【0021】
(2)前記工程(1)で決定したぬれ指数の指示薬(着色剤含有)の液中に、試料を浸漬した後、引き上げると、試料の表面の状態に応じて、試料の表面の着色状態は、次の状態(a)〜(c)のいずれかに当てはまる:
(a)着色した部分(非処理領域)と着色しない部分とが現われる。着色しない部分は、疎水化処理されていることがわかる。この場合には、この試料には、親水化処理を施していないことがわかる。
(b)試料全体が着色しない。試料の全体が疎水化処理されていることがわかる。この場合には、この試料には、親水化処理を施していないことがわかる。
(c)試料全体が着色する。この試料は、その一部又は全体が親水化処理されている場合と、表面処理を実施していない場合とが考えられ、この場合には、続いて、次の工程(3)を実施する。
【0022】
(3)前記工程(2)で使用した指示薬よりも高いぬれ指数の指示薬の液中に、試料を浸漬した後、引き上げる。なお、指示薬としては、はじめは前記工程(2)で使用した指示薬よりもわずかに高いぬれ指数の指示薬を使用し、順次、更に高いぬれ指数の指示薬を使用し、前記操作を繰り返すことが好ましい。試料の表面の状態は、次の状態(d)〜(f)のいずれかに当てはまる:
(d)前記工程(2)で使用した指示薬よりもわずかに高いぬれ指数の指示薬を使用した場合に、試料全体が着色しない。この試料には、表面処理を全く施していないことがわかる。
(e)前記工程(2)で使用した指示薬よりもわずかに高いぬれ指数の指示薬を使用した場合に、着色しない部分(非処理領域)と着色した部分とが現われる。着色した部分は、親水化処理されていることがわかる。この場合には、続いて、後述する工程(4)を実施する。
(f)前記工程(2)で使用した指示薬よりも高いぬれ指数の指示薬を順次、使用した場合に、或るぬれ指数までは試料全体が着色し、そのぬれ指数よりもわずかに高いぬれ指数の指示薬を使用した場合に、試料全体が着色しない。この試料は全体が親水化処理されていることがわかる。この場合には、続いて、次の工程(4)を実施する。
以上の工程(1)〜工程(3)により、親水化処理の有無を検出することができる。親水化処理が行われている場合には、その処理体が本発明のイオウ含有原子団導入多孔質体であるか否かを決定するために、処理体の処理表面における表面S/C比及び表面O/C比の測定を実施する。
【0023】
(4)処理領域の表面S/C比及び表面O/C比を、前記のX線光電子分光法によって求める。表面S/C比が7×10-4以上であり、表面O/C比が0.2以上であれば、その試料は、本発明によるイオウ含有原子団導入多孔質体である。
【0024】
本発明によるイオウ含有原子団導入多孔質体は、本発明者が見出した種々の方法により、多孔質体にイオウ含有原子団を導入することによって製造することができる。
本発明によるイオウ含有原子団導入方法においては、ガス状のイオウ含有化合物の存在下で、放電を実施する。前記のイオウ含有化合物としては、例えば、酸化イオウ又は硫化水素(H2S)を挙げることができる。前記酸化イオウとしては、例えば、一酸化イオウ(SO)、二酸化イオウ(SO2)、三酸化イオウ(SO3)、三酸化二イオウ(S23)、又は七酸化イオウ(S27)を挙げることができる。本発明方法においては、前記の各化合物を単独で、あるいは、複数を組合わせて使用することができる。安定に放電を発生させることができる点で、式SOx(式中、xは1〜3の整数である)で表わされる酸化イオウを用いることが好ましく、SO2を用いることがより好ましい。
【0025】
本発明によるイオウ含有原子団導入方法では、希ガスの存在下又は不在下で実施することができる。すなわち、従来の大気圧グロー放電において安定に放電を発生させるために必要であった希ガスを必ずしも必要とせず、本発明方法では、希ガスの不在下でも、安定した放電を発生させることが可能である。なお、本明細書において、「希ガス」とは、周期表の0族元素を意味し、具体的には、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、及びラドンの6元素を意味する。
本発明によるイオウ含有原子団導入方法は、大気圧下にて、イオウ含有化合物ガスの存在下である限り、開放系、すなわち、一般的には空気の存在下で実施することもできるし、あるいは、閉鎖系、例えば、気密性の容器中で大気圧下にて実施することもできる。
【0026】
本発明による1つのイオウ含有原子団導入方法では、イオウ含有化合物ガスの濃度が、表面処理用ガス全体の容量に対して、10容量%以上の範囲で、より好ましくは20〜90容量%の範囲で、最も好ましくは25〜80容量%の範囲で放電を実施する。前記イオウ含有化合物ガスの濃度が、表面処理用ガス全体の容量に対して、10容量%未満であると、導入効率が低かったり、あるいは、期待した導入効果が得られないことがある。
【0027】
本発明による別のイオウ含有原子団導入方法では、イオウ含有原子団導入用ガスとしての前記イオウ含有化合物ガスに加え、希釈ガスとして、その他の気体、例えば、空気、窒素、酸素、若しくは希ガス、又はそれらの組合せ(例えば、希ガスと酸素との混合ガス)の共存下で、好ましくは酸素の共存下で、より好ましくは実質的にイオウ含有化合物ガスと酸素のみの組合せの雰囲気下で放電を実施することができる。本明細書において、イオウ含有原子団導入用ガスであるイオウ含有化合物ガスと、希釈ガスとの混合ガスを、「表面処理用ガス」と称することがある。前記希釈ガスの濃度は、イオウ含有化合物ガスの濃度が適当な範囲内にある限り、特に限定されるものではなく、適宜決定することができる。イオウ含有化合物ガスと酸素との共存下で放電を実施する場合にも、イオウ含有化合物ガスの濃度は、表面処理用ガス全体の容量に対して、10容量%以上、より好ましくは20〜90容量%、最も好ましくは25〜80容量%である。イオウ含有化合物ガスと酸素のみとの共存下で放電を実施する場合にも、イオウ含有化合物ガスの濃度は、表面処理用ガス全体の容量に対して、10容量%以上、より好ましくは20〜90容量%、最も好ましくは25〜80容量%である。
【0028】
本発明によるイオウ含有原子団導入方法においては、少なくとも一方の電極の対向表面側に誘電体層を設けて対向して配置した一対の電極の間に、多孔質体を配置する。一対の電極の少なくとも一方が誘電体層を担持するので、本発明によるイオウ含有原子団導入方法において用いる電極には、
(I)一対の電極が、対向表面側に誘電体層を設けた電極と、誘電体層を担持していない電極とからなる態様(以下、I型電極対と称する)、及び
(II)一対の電極が、両方とも、対向表面側に誘電体層を設けた電極である態様(以下、II型電極対と称する)
が含まれる。
【0029】
前記の一対の電極間に配置する多孔質体は、電極の電極表面又は誘電体層と接触していることもできるし、あるいは、接触していないこともできる。従って、一対の電極と多孔質体との配置の態様としては、
(1)一対の各電極(又は誘電体層)と多孔質体とを、非接触状態で配置する態様(以下、非接触型配置と称する)、
(2)多孔質体の一方の外側表面が、一対の電極の一方(すなわち、誘電体層を担持していない電極の電極表面、又は誘電体層)と接触し、しかも、多孔質体のもう一方の外側表面が、もう一方の電極(すなわち、誘電体層を担持していない電極の電極面、又は誘電体層)と接触しない状態で、一対の電極と多孔質体とを配置する態様(以下、片面接触型配置と称する)、又は
(3)多孔質体の両方の外側表面が、一対の電極の両方(すなわち、誘電体層を担持していない電極の電極表面、又は誘電体層)と接触する状態で、一対の電極と多孔質体とを配置する態様(以下、両面接触型配置と称する)
を挙げることができる。前記の各電極対(I)及び(II)と前記各配置(1)〜(3)との組合せによる、多孔質体の配置態様を図1に模式的に示す。
【0030】
図1に示すように、例えば、I型電極対−非接触型配置(1−I)では、対向表面側に誘電体層42を設けた電極22と、誘電体層を担持していない電極21とを対向して配置した一対の電極21,22の間に、前記誘電体層42及び前記電極21,22のいずれとも接触しない状態で、多孔質体11を配置する。
II型電極対−非接触型配置(1−II)では、それぞれの対向表面側に誘電体層41,42を設けて対向して配置した一対の電極21,22の間に、前記誘電体層41,42及び前記電極21,22のいずれとも接触しない状態で、多孔質体11を配置する。
【0031】
また、I型電極対−片面接触型配置(2−I)では、対向表面側に誘電体層42を設けた電極22と、誘電体層を担持していない電極21とを対向して配置した一対の電極21,22の間に、多孔質体11を配置する際に、(a)多孔質体11の一方の外側表面が、対向表面側に誘電体層を設けた電極22の前記誘電体層42と接触し(但し、電極22とは接触しない)、しかも、多孔質体のもう一方の外側表面が、誘電体層を担持していない前記電極21と接触しない状態とするか、あるいは、(b)多孔質体11の一方の外側表面が、誘電体層を担持していない前記電極21と接触し、しかも、多孔質体のもう一方の外側表面が、もう一方の前記電極22上の誘電体層42と接触しない(その電極22とも接触しない)状態とする。
【0032】
また、II型電極対−片面接触型配置(2−II)では、それぞれの対向表面側に誘電体層41,42を設けて対向して配置した一対の電極21,22の間に、多孔質体11の一方の外側表面が、前記誘電体層の一方(図1においては誘電体層42)と接触し、しかも、多孔質体のもう一方の外側表面が、もう一方の誘電体層(図1においては誘電体層41)と接触しない(前記の一対の電極21,22とも接触しない)状態で、多孔質体11を配置する。
【0033】
更には、I型電極対−両面接触型配置(3−I)では、対向表面側に誘電体層42を設けた電極22と、誘電体層を担持していない電極21とを対向して配置した一対の電極21,22の間に、多孔質体11の一方の外側表面が、対向表面側に誘電体層を設けた電極22の前記誘電体層42と接触し、しかも、多孔質体のもう一方の外側表面が、誘電体層を担持していない前記電極21と接触する状態で、多孔質体11を配置する。なお、多孔質体11は、誘電体層42を担持する電極22とは接触させないようにする。
II型電極対−両面接触型配置(3−II)では、それぞれの対向表面側に誘電体層41,42を設けて対向して配置した一対の電極21,22の間に、前記誘電体層41,42のそれぞれと多孔質体11の外側表面が直接に接触する状態で、多孔質体11を配置する。なお、多孔質体11は、前記の一対の電極21,22とはそれぞれ直接に接触させないようにする。
本発明によるイオウ含有原子団導入方法においては、均一な放電を発生させることができる点で、II型電極対を用いて、電極、誘電体、及び被処理体を配置することが好ましい。
【0034】
以下、添付図面に沿って、本発明によるイオウ含有原子団導入方法を説明する。
本発明によるイオウ含有原子団導入方法の基本的原理を図2に示す。図2にはII型電極対−両面接触型配置を示すが、特に断らない限り、以下の説明は、これまで説明したその他の態様(例えば、I型若しくはII型電極対−非接触型配置、I型若しくはII型電極対−片面接触型配置、又はI型電極対−両面接触型配置)にもそのまま当てはまる。
【0035】
II型電極対−両面接触型配置では、図2に示すように、平板状電極などからなる一対の電極21,22を対向するように配置する。電極21は、その対向表面側に面接触する誘電体層41を固定して担持し、電極22も、その対向表面側に面接触する誘電体層42を固定して担持する。更に、両電極21,22のいずれとも接触しないが、誘電体層41,誘電体層42のそれぞれと外側表面が直接接触するように、誘電体層41と誘電体層42との間に、多孔質体11を配置する。この際に、電極21と電極22とを適当な圧力で押圧することにより、誘電体層41と多孔質体11、及び多孔質体11と誘電体層42のそれぞれの間に、実質的に空間が形成しないように面接触させる。なお、誘電体層を固定して担持する電極の代わりに、誘電体層を担持していない電極を用いることもできる。この場合には、電極21と電極22とを適当な圧力で押圧することにより、電極21と誘電体層41、誘電体層41と多孔質体11、多孔質体11と誘電体層42、及び誘電体層42と電極22のそれぞれの間に、実質的に空間が形成しないように面接触させる。両電極間にかける押圧の下限は、電極と誘電体層との間、及び誘電体層と多孔質体との間の面接触を保証し、実質的に空間を形成させない圧力である。また、その上限は、被処理体である多孔質体の形状を破壊することのない圧力である。
【0036】
電極21及び電極22の大きさを、それぞれが接触する誘電体層41及び誘電体層42の大きさよりも小さくなるようにすると、両電極21,22の端部間でスパークが生じないので好ましい。また、電極21又は電極22の大きさが、それぞれが接触する誘電体層41又は誘電体層42の大きさと同じ場合には、電極の周囲に誘電性材料からなる被覆材(例えば、ビニールテープ)などを設けることにより、両電極21,22の端部間のスパークを防ぐことができる。電極21を交流電源51に接続し、電極22をアースする。図2には、電極21に交流電源51を接続し、電極22をアースする態様を示したが、逆に、電極22に交流電源51を接続し、電極21をアースしてもよい。
【0037】
イオウ含有化合物ガスの存在下で、交流電源51から正弦波交流高電圧を印加すると、多孔質体11の内部空隙で放電し、プラズマが生成される。多孔質体11の内部空隙で発生したプラズマの作用により、多孔質体11の内側表面とイオウ含有化合物とが反応し、多孔質体11の内側表面の改質、すなわち、イオウ含有原子団(例えば、SO4又はSO3Hなど)の導入が行われる。このときには、多孔質体11の外側表面は誘電体層41又は誘電体層42と接しているので、多孔質体11の内部空隙で発生したプラズマは、理論的には多孔質体11の外側表面の誘電体層との接触点には作用しない。しかし、実際には、接触点は総表面の面積と比べて非常に小さい面積であるため、実質的にはすべての外側表面が処理されているものと言うことができる。しかも、多孔質体とイオウ含有化合物との反応は、プラズマだけでなくプラズマによって生じた無水硫酸の作用などによっても起こると考えられるので、多孔質体と誘電体層とが分離した際に、プラズマによって生成した無水硫酸と多孔質体との反応が接触点でも起こる。なお、II型電極対−両面接触型配置では、多孔質体の内部空隙で放電が発生するので、スパーク放電等による被処理体の損傷が起こりにくい。
【0038】
図2に示すII型電極対−両面接触型配置では、両電極間21,22の間に電圧を印加すると、多孔質体11の内部空隙で放電し、プラズマが生成されるが、I型電極対−両面接触型配置においても、両電極間の間に電圧を印加すると、多孔質体の内部空隙で放電し、プラズマが生成される。一方、I型若しくはII型電極対−非接触型配置、又はI型若しくはII型電極対−片面接触型配置では、両電極間の間に電圧を印加すると、多孔質体と電極又は誘電体層との間の空間、及び多孔質体の内部空隙で放電し、プラズマが生成される。
【0039】
図2に示す態様の説明では、両電極間21,22の間に正弦波交流高電圧を印加する場合を示したが、本発明のイオウ含有原子団導入方法においては、放電を発生させるために両電極間に印加する電圧は、電圧値が時間とともに変化する電圧、好ましくは実質的に一定の周期で増減を繰り返す連続波形又は断続的波形からなる電圧である限り、特に限定されるものではなく、例えば、正弦波交流電圧、又は繰返しパルス電圧などを挙げることができる。印加電圧の波形は、特に限定されるものではなく、例えば、正弦波、三角波、又は矩形波などを挙げることができる。また、印加電圧の極性も特に限定されるものではなく、単極性電圧を使用することもできるし、両極性電圧を使用することもできるが、処理効率が高い点で、両極性電圧を使用することが好ましい。
【0040】
繰返しパルス波としては、例えば、図3に示す両極性パルス波、図4に示す単極性パルス波、又は図5に示す両極性矩形繰返しパルス波などを挙げることができる。これらの繰返しパルス波においては、電圧波の立ち上がり時間[すなわち、基準電圧から第1のピーク電圧の90%に到達するまでの時間、例えば、図3〜図5における時間t)が、1マイクロ秒以下であることが好ましく、0.2マイクロ秒以下であることがより好ましい。なお、繰返しパルス波を用いる場合の周波数(例えば、図3〜図5における波長λを1周期としたときの周波数)の好適範囲も限定されるものではないが、その上限は、好ましくは100KHz、より好ましくは50KHzであり、その下限は、好ましくは10Hz、より好ましくは50Hz、最も好ましくは100Hzである。
【0041】
繰返しパルス電圧は、例えば、コンデンサに蓄えた電圧を火花放電スイッチにより負荷に瞬時につなぐ方法や、あるいは、半導体スイッチにより変調させたパルス状電圧をトランスを介して昇圧する方法などにより、発生させることができる。
また、繰返しパルス波の立ち上がり時間は、例えば、負荷までの抵抗やインダクタンスを小さくすることにより、短くすることができる。また、磁気スイッチなどを利用して、パルスを圧縮すると共に立ち上がり時間を短くすることができる。
更に、電流パルスの持続時間が1μ秒以下であると、火花放電が発生しにくくなるので好ましい。
【0042】
本発明によるイオウ含有原子団導入方法において、放電を発生させるために印加する電圧として繰返しパルス電圧を使用する場合には、繰返しパルス電圧の下限は、誘電体層を含めた電極間の距離やガスの濃度に依存するので、特に限定されるものではないが、好ましくは0.5KVp以上、より好ましくは2KVp以上である(KVpは、電圧の最大値ピークから0までの電圧差を示す)。電圧が0.5KVp未満になると、実質的に放電が起こらないか、あるいは、放電が起きても均一な放電が生じないことがあるからである。また、繰返しパルス電圧の上限も、多孔質体及び誘電体の損傷が生じることのない電圧である限り、特に限定されるものではないが、好ましくは100KVp以下、より好ましくは50KVp以下である。電圧が100KVpを越えると、絶縁破壊が生じたり、あるいは、パルス波の周波数を高くすることが困難になることがあるからである。電界強度としては、10〜200KVp/cmであることが好ましく、20〜100KVp/cmであることがより好ましい。
【0043】
本発明によるイオウ含有原子団導入方法では、このような繰返しパルス波を使用することにより、火花放電により穴の空きやすい多孔質体(例えば、メルトブロー不織布)であっても、穴をあけることなく総表面処理を実施することができる。また、イオウ含有化合物の濃度が、従来の大気圧グロー放電では実施することができないほど高い場合(例えば、10容量%以上の場合)であっても、このような繰返しパルス波を使用することにより、均一な放電を安定して発生させることができる。
なお、放電を発生させるために印加する電圧に関するこれらの値は、各電極の形状や多孔質体の材質や放電電圧波形、更には処理時間にも大きく依存するので、前記範囲からはずれて使用されることもある。
【0044】
I型若しくはII型電極対−非接触型配置、I型若しくはII型電極対−片面接触型配置、又はI型電極対−両面接触型配置においては、放電を発生させるために両電極間に印加する電圧として、立ち上がりの早い繰返しパルス電圧を用いるのが好ましく、立ち上がり時間が1マイクロ秒以下である繰返しパルス電圧を使用することが好ましい。特に、I型若しくはII型電極対−非接触型配置、又はI型若しくはII型電極対−片面接触型配置の場合には、放電が均一となるように、パルス電圧を用いるのが好ましい。
【0045】
II型電極対−両面接触型配置においては、通常の正弦波交流電圧を使用することもできるし、繰返しパルス電圧を使用することもできるが、均一な処理を行うことができる点で、立ち上がりの早い繰返しパルス電圧を使用することが好ましい。
【0046】
本発明によるイオウ含有原子団導入方法において、放電を発生させるために印加する電圧として正弦波交流電圧を使用する場合には、正弦波交流電圧の下限は、誘電体層を含めた電極間の距離やガスの濃度に依存するので、特に限定されるものではないが、好ましくは0.5KVp以上、より好ましくは2KVp以上である。電圧が0.5KVp未満になると、実質的に放電が起こらないか、あるいは、放電が起きても均一な放電が生じないことがあるからである。また、正弦波交流電圧の上限も、多孔質体及び誘電体層の損傷が生じることのない電圧である限り、特に限定されるものではないが、好ましくは100KVp以下、より好ましくは50KVp以下である。電圧が100KVpを越えると、絶縁破壊が生じることがあるからである。電界強度としては、10〜200KVp/cmであることが好ましく、20〜100KVp/cmであることがより好ましい。
【0047】
本発明によるイオウ含有原子団導入方法において、前記正弦波交流電圧の周波数の上限は、特に限定されるものではないが、好ましくは100KHz、より好ましくは50KHzである。周波数が100KHzを越えると、誘電加熱により多孔質体及び誘電体層が過熱状態になって破壊するおそれが生じることがあるからである。また、周波数を50KHz以下とすると、多孔質体、誘電体及び電極が加熱されにくいので、長時間、安定して処理することができる点でより好ましい。
周波数の下限は、好ましくは10Hz、より好ましくは50Hzである。周波数が10Hz未満になると、放電による処理効率が低下することがあるからである。周波数を50Hz以上とすると、処理効率が高く、処理時間が短くなるので、より好ましい。
【0048】
本発明によるイオウ含有原子団導入方法において、放電を発生させるために印加する正弦波交流の出力は、各電極の形状、又は使用する誘電体層若しくは被処理体の素材又は厚さなどに依存するので特に限定されるものではないが、II型電極対−両面接触型配置において、一対の電極が、多孔質体を一定の領域で挟んで処理する場合(例えば、図2参照)には、0.01〜5W/cm2であることが好ましい。
また、II型電極対−両面接触型配置において、一対のロール状電極により、多孔質体を線状に挟んで処理する場合には、前記正弦波交流の出力は、0.1〜9W/cmであることが好ましく、0.1〜6W/cmであることがより好ましい。なお、多孔質体を線状に挟んで処理する場合であって、複数本のロール状電極を使用する場合には、前記の正弦波交流出力の範囲は、電極一本当たりの値を意味する。
【0049】
II型電極対−両面接触型配置において、正弦波交流の出力が前記範囲より低い場合(すなわち、多孔質体を一定の領域で挟んで処理する場合に0.01W/cm2未満であるか、あるいは、多孔質体を線状に挟んで処理する場合に0.1W/cm未満である場合)には、多孔質体の放電しやすい場所で主に放電が生じるので、総表面を均一に処理することができないことがある。また、正弦波交流の出力が前記範囲より高い場合(すなわち、多孔質体を一定の領域で挟んで処理する場合に5W/cm2を越えるか、あるいは、多孔質体を線状に挟んで処理する場合に9W/cmを越える場合)には、アーク放電により多孔質体に穴があくことがある。
【0050】
本発明によるイオウ含有原子団導入方法においては、ピーク電流密度(J;単位=mA/cm2)と電圧立ち上がり時間(T:単位=ナノ秒)とが、次の関係式(1)又は関係式(2)を満足すると、処理効率が高く、スパーク放電を生じることなく、均一に放電を行うことができる。
電圧立ち上がり時間(T)が150n秒以下の場合:
(150/T)×150≦J≦(1100/T)2×200 (1)
電圧立ち上がり時間(T)が150n秒を越える場合:
150≦J≦(1100/T)2×200 (2)
なお、ピーク電流密度とは、放電電流のピーク値を誘電体面積で除した値をいう。
【0051】
本発明によるイオウ含有原子団導入方法に用いることのできる電極の材質としては、比抵抗が、好ましくは103Ω・cm以下、より好ましくは100Ω・cm以下の導電体を用いることができ、例えば、金属(例えば、ステンレススチール、アルミニウム、若しくはタングステン等)、導電性金属酸化物、カーボン、又は導電体(例えば、金属粉末若しくはカーボン粉末等)とゴムとを複合した導電性ゴムなどを用いることができる。
また、電極の形状としては、例えば、シート状電極、板状電極、又は円柱状電極を用いることができる。ロール電極対の間に多孔質体を通過させる場合のように、多孔質体と電極とが相対的に移動する場合には、多孔質体の表面に傷をつけにくくなるように、多孔質体の平行移動に同期して、その円柱中心軸を回転軸としてそれ自体が回転することのできる円柱状電極が好ましい。
【0052】
本発明によるイオウ含有原子団導入方法に用いることのできる誘電体層は、全体が非多孔質であるか、あるいは、その一部に多孔質部分を含むことができる。なお、誘電体層として、全体が多孔質部分からなる誘電体層のみを用いると、被処理体及び誘電体の多孔質部分の内部で火花放電が発生することがある。従って、本発明では、そのような誘電体層を使用するのは好ましくない。また、同様の理由により、誘電体層として、厚さ方向に連続した多孔質部分を含む誘電体層を用いるのも好ましくない。
被処理体との接触面に多孔質部分を有する誘電体層を用いると、全体が非多孔質からなる誘電体層を用いた場合に比べて、誘電体層と被処理体との接触面が減少するので、被処理体の外側表面をより効率的に処理することができる。
【0053】
本発明によるイオウ含有原子団導入方法に用いることのできる誘電体層の材料としては、例えば、ガラス、セラミック(例えば、アルミナ、酸化チタン、ジルコニア、チタン酸ストロンチウム、又はチタン酸バリウム等)、ゴム(例えば、合成ゴム、例えば、シリコーンゴム、クロロプレンゴム、若しくはブタジエンゴム、又は天然ゴム等)、又は熱可塑性樹脂(例えば、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン若しくはポリエステル等)などを挙げることができる。被処理体である多孔質体と接触する誘電体層、特にはその接触面には、弾性に優れている点でゴム又は熱可塑性樹脂を用いることが好ましく、弾性に優れており、被処理体との密着性に優れている点で、ゴムを使用することがより好ましい。特に、被処理体の表面に傷をつけにくいゴム、又は絶縁破壊に強いポリテトラフルオロエチレンを使用することが好ましい。耐久性の点からガラス、セラミック又はポリテトラフルオロエチレンを使用するのが特に好ましい。
誘電体層の厚さは、特に限定されるものではないが、0.01〜20mmであることが好ましく、0.1〜10mmであることがより好ましい。20mmより厚いと、放電させるのに非常に高い電圧が必要であり、0.01mm未満では機械的強度が低下し、絶縁破壊が生じやすくなるからである。
【0054】
本発明によるイオウ含有原子団導入方法において、対向表面側に誘電体層を設けた電極における前記誘電体層と、被処理体との距離、あるいは、誘電体層を担持していない電極と、被処理体との距離は、特に限定されるものではないが、0(すなわち、接触している状態)〜100mmであることが好ましい。100mmを越えると、放電を発生させるのに高い電圧が必要になり、多孔質体に穴があく場合もあるからである。
【0055】
本発明によるイオウ含有原子団導入方法において、多孔質体の内部空隙、及び/又は多孔質体と電極若しくは誘電体層との間の空間に、表面処理用ガスを供給する手段としては、例えば、多孔質体内部に表面処理用ガスを強制的に送り込む方法、多孔質体及びその近傍に表面処理用ガスを噴き付ける方法、多孔質体の周囲を表面処理用ガスの雰囲気にする方法、あるいは、一対の電極間に配置する前に、多孔質体の内部空隙を予め表面処理用ガスで満たしてから配置する方法などを挙げることができ、これらの方法を単独又は組合わせて、開放系又は閉鎖系で実施することができる。前記手段としては、電極間に配置する前に、多孔質体の内部空隙を予め表面処理用ガスで満たしてから(例えば、多孔質体の内部空隙に表面処理用ガスを通過させてから)配置する方法が好ましい。I型若しくはII型電極対−非接触型配置、又はI型若しくはII型電極対−片面接触型配置の場合には、表面処理用ガスの拡散性に優れるため、均一に放電処理を行うことができる。
【0056】
例えば、ガス供給管などを用いて、表面処理用ガスを多孔質体の内部空隙及び/又は周囲に供給しながら、高電圧を印加させることにより放電を発生させると、多孔質体の内部空隙、及び/又は多孔質体と電極若しくは誘電体層との間の空間に発生したプラズマの作用により、表面処理用ガスに含まれるイオウ含有化合物ガスと、多孔質体の総表面とが反応し、多孔質体の総表面の改質、すなわち、イオウ含有原子団を導入することができる。
【0057】
本発明によるイオウ含有原子団導入方法においては、多孔質体に界面活性剤を付着させた後に放電処理を行うのが好ましい。界面活性剤による前処理により、イオウ含有原子団の導入量が多くなる傾向がある。前記界面活性剤としては、例えば、炭化水素系、シリコーン系、又はフッ素系界面活性剤などを挙げることができる。
【0058】
界面活性剤による前処理では、例えば、界面活性剤を適当な溶媒又は媒質に溶解又は懸濁させ、その溶液又は懸濁液を多孔質体に含浸した後に、あるいは、前記溶液又は懸濁液を多孔質体の被処理面上にスプレー又は塗布した後に、溶媒又は媒質のみを除去することによって、界面活性剤を多孔質体の被処理面上に担持させることができる。
【0059】
本発明によるイオウ含有原子団導入方法においては、多孔質体を静止させた状態で放電を発生させる図2に示す態様に限定されず、多孔質体を移動させながら、連続的に多孔質体の総表面の処理を行うこともできる。この場合には、以下の配置態様に限定されるものではないが、II型電極対−非接触型配置(1−II)又はII型電極対−片面接触型配置(2−II)で、電極、誘電体層、及び被処理体を配置することが好ましい。連続的に処理する本発明方法の態様を図6に示す。図6に示す本発明方法の態様では、電極間に多孔質体を配置する態様として、II型電極対−両面接触型配置を採用するものであるが、特に断らない限り、以下の説明は、これまで説明したその他の態様(例えば、I型若しくはII型電極対−非接触型配置、I型若しくはII型電極対−片面接触型配置、又はI型電極対−両面接触型配置)にもそのまま当てはまる。
【0060】
この態様では、円柱状の電極21と円柱状の電極22とを対向するように配置する。電極21及び電極22は、その表面が誘電体層41及び誘電体層42にそれぞれ覆われている。電極21及び電極22は、その円柱中心軸を回転軸としてそれ自体が回転することができるものであることもできるし、回転せずに固定されているものであることもできる。多孔質体が移動する際に、多孔質体の表面に傷をつけにくくなる点で、その円柱中心軸を回転軸としてそれ自体が回転することができる電極であることが好ましい。
【0061】
電極21を交流電源51に接続し、電極22をアースする。多孔質体11は、両電極21,22の上流に設けた移送手段(例えば、一対の送出ローラー:図示せず)によって、電極21及び電極22の表面上にそれぞれ担持された誘電体層41及び誘電体層42の間に、矢印Aで示す方向に所定速度で連続的に供給され、それらと接触しながら両誘電体層41,42の間を通過する。両誘電体層41,42の間を通過した多孔質体11は、両電極21,22の下流に設けた移送手段(例えば、一対の送出ローラー:図示せず)によって、所定速度で連続的に移送される。多孔質体11を移送する駆動力を供給する駆動手段(例えば、モータ)は、前記の送出ローラー及び/又は回転自在な電極に連結することができる。
【0062】
多孔質体11の前記供給速度及び前記移送速度は、特に制限されず、一定速度、又は周期的若しくは不規則に変化する速度であることができる。これらの速度は、一定速度であって、多孔質体の表面処理時間が0.1秒以上になるような速度であることが好ましい。この速度より速いと十分な総表面処理効果が得られないことがあるからである。
【0063】
多孔質体11が、両誘電体層41,42の間をそれらと接触しながら通過する際に、多孔質体11の両側から、表面処理用ガス供給パイプ61,64の側壁に設けたノズル63,65から表面処理用ガスを処理領域に供給しながら、交流電源51から交流高電圧を印加すると、誘電体層41及び誘電体層42のそれぞれと多孔質体11との接触面の間に挟まれた多孔質体11の内部空隙に放電が発生し、プラズマが生成する。なお、前記の表面処理用ガス供給パイプ61は、連結管62を介してガスボンベ(図示せず)と連絡している。前記の表面処理用ガス供給パイプ64も同様にガスボンベ(図示せず)に連絡している。多孔質体11の内部空隙に発生したプラズマの作用により、多孔質体11の内側表面の改質、すなわち、イオウ含有原子団の導入が行われる。このとき、誘電体層41及び誘電体層42のそれぞれと多孔質体11との接触面には、多孔質体11の内部空隙で発生したプラズマは作用しない。しかし、多孔質体11は所定速度で連続的に移送されているので、前記接触面であった多孔質体11の外側表面は、誘電体層41及び誘電体層42から次々と分離し、分離した直後にプラズマによって生成した無水硫酸と多孔質体の外側表面とが反応し、多孔質体11の外側表面の改質が行われる。
【0064】
多孔質体11は所定速度で連続的に移送されているので、未処理の多孔質体11が両誘電体層41,42の間に連続的に供給される一方、総表面の改質が行われた多孔質体11が両誘電体層41,42の間から連続的に供出され、多孔質体11の総表面処理を連続的に行うことができる。図2に示す前記の態様において、移送手段(例えば、前記の一対の送出ローラー)を設けることにより、多孔質体を連続的に移送して連続処理を実施することができる。
【0065】
図6に示す態様では、その表面に誘電体層41を担持する円柱状の電極21を1個だけ設けるものであるが、電極21の数は特に限定されるものではなく、1個又は複数個設けることができる。多孔質体の外側表面上の任意の一点が、電極の表面に担持される誘電体層と複数回接触することができるように、誘電体層を担持する電極を複数個設けることが、処理効果を高め、処理速度を上げることができる点で好ましい。
【0066】
本発明によるイオウ含有原子団導入方法により総表面を処理することのできる多孔質体としては、任意の有機材料からなる多孔質体を用いることができる。
前記多孔質体として、任意の全体及び表面S/C比並びに表面O/C比を示す有機材料からなる多孔質体を用いることができるが、表面S/C比が7×10-4未満であり、表面O/C比が0.2未満である材料からなる多孔質体を用いることが好ましく、表面S/C比が7×10-4未満であり、表面O/C比が0.2未満、且つ、全体S/C比が1×10-3未満の材料からなる多孔質体を用いるのがより好ましく、イオウ原子及び酸素原子を実質的に含有しない有機材料(特に有機合成高分子化合物)からなる多孔質体を用いることが更に好ましい。
【0067】
有機材料としては、各種の有機高分子化合物、特に各種の有機合成高分子化合物、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、フッ素化エチレンプロピレン共重合体(FEP)、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)、又はフッ化ビニリデン−トリフルオロエチレン共重合体等を挙げることができる。
【0068】
イオウ原子及び酸素原子を含有しない有機材料(特に有機合成高分子化合物)としては、例えば、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテンなどのポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリロニトリル、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、ポリスチレン、又はポリイミド等を挙げることができる。
【0069】
前記各種材料からなる多孔質体としては、例えば、繊維質型多孔質体、フィルム型多孔質体、又は発泡体型多孔質体などを挙げることができる。繊維質多孔体は、例えば、織物、編物、又は不織布からなる。不織布としては、例えば、乾式不織布(例えば、水流絡合不織布、ニードルパンチ不織布、バインダ接着不織布、熱融着不織布、スパンボンド不織布、若しくはメルトブロー不織布)、又は湿式不織布、あるいはこれらの組合せなどを挙げることができる。また、発泡体としては、例えば、ポリオレフィン系、ポリエステル系、又はポリウレタン系などの樹脂からなる開放気泡型発泡体などを挙げることができる。また、フィルム型多孔質体としては、凹凸構造をもつフィルムや穴あきフィルムなどを挙げることができる。
【0070】
本発明によるイオウ含有原子団導入方法は、特に非導電性の有機材料(特に有機合成高分子化合物)からなる繊維質型多孔質体の処理に適用することができ、例えば、不織布シート、好ましくは電池用セパレータ(特には、アルカリ電池用セパレータ)として使用することのできる不織布シートの処理に適用することができる。電池用セパレータとして使用することのできる不織布としては、これに限定されるわけではないが、例えば、ポリオレフィン系繊維、すなわち、ポリエチレン、エチレン系共重合体、ポリプロピレン、プロピレン系共重合体、ポリブテン、ブテン系共重合体、ポリメチルペンテン、又はペンテン系共重合体を樹脂成分として1つ以上含む繊維からなり、例えば、水流絡合、熱融着、若しくはメルトブロー、又はこれらを併用して形成される不織布を使用することができる。電池用セパレータとして用いる不織布は、ポリオレフィン系繊維のみから実質的になることが耐アルカリ性の点から好ましい。
【0071】
本発明の電池用セパレータは、表面S/C比及び表面O/C比が同時に高い数値を示し、初期及び長期の保液性及びぬれ性に優れるため、一次電池用及び二次電池用のセパレータ、特にはアルカリ一次電池用及びアルカリ二次電池用のセパレータとして使用することができる。前記アルカリ一次電池としては、例えば、アルカリマンガン電池、水銀電池、酸化銀電池、又は空気電池などを挙げることができ、前記アルカリ二次電池としては、例えば、ニッケル−カドミウム電池、銀−亜鉛電池、銀−カドミウム電池、ニッケル−亜鉛電池、又はニッケル−水素電池などを挙げることができる。
【0072】
【実施例】
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、これらは本発明の範囲を限定するものではない。
【実施例1】
被処理体としては、ポリエチレン/ポリプロピレン17分割繊維からなる湿式法により形成した繊維ウエブを、水流絡合処理し、更に、融着処理によりポリエチレン極細繊維を融着させた不織布を用いた。
イオウ含有原子団導入処理は、II型電極対−片面接触型配置(2−II)により実施した。電極として平板状ステンレススチール電極(大きさ=150mm×210mm)を使用し、誘電体層としてポリテトラフルオロエチレン(PTFE)膜(厚さ=0.1mm)を用いた。対向表面側にPTFE膜を担持する両電極の間に、一方のPTFE膜と接触し、もう一方のPTFE膜からの距離が0.5mmになるように、前記不織布を配置し、図5に示す波形を有するパルス電圧(電圧=6.8KVp,ピーク電流=400A,周波数=75Hz,立ち上がり時間=0.1マイクロ秒)を電極に印加して放電を発生させた。前記処理は、予め空気を除去(0.1Torr)した後に、二酸化イオウ(SO2)ガスと空気との混合ガス(混合容量比=1:1)を封入し、密封した状態のチャンバー内(大気圧下)で、10分間行った。
【0073】
処理した不織布の表面における表面S/C比及び表面O/C比を、X線光電子分光計[日本電子(株)JPS−9000MX;励起源=Mg−Kα,出力=10KV−10mA]により求め、処理した不織布全体における全体S/C比を、イオンクロマトグラフィーにより求めた。得られた表面及び全体S/C比並びに表面O/C比の結果を表1に示す。また、処理した不織布に導入された原子団の種類を前記X線光電子分光計により求めた。処理した不織布に導入された原子団の種類は、主に、SO4、COOH、SO3H、OH、及びCOであった。
処理した不織布に、水滴を一滴滴下したところ、0.5秒以内に不織布内に吸収された。なお、後述する比較例1により得られた不織布では、滴下した水滴が吸収されるまでに3秒以上を要した。
【0074】
【比較例1】
被処理体としては、実施例1で用いた不織布と同じものを用いた。前記不織布を、濃度15%の発煙硫酸により、温度60℃で2分間処理した。処理後の不織布を実施例1に記載した方法により分析した。得られた表面及び全体S/C比並びに表面O/C比の結果を表1に示す。処理した不織布に導入された原子団の種類は、主に、SO3H及びSO4であった。
【0075】

Figure 0004132354
【0076】
【実施例2〜10】
放電処理の際に存在させる気体の種類を変化させて各種の実験を行った。
(1)被処理体及び処理条件
被処理体としては、ポリエチレン/ポリプロピレン17分割繊維からなる湿式法により形成した繊維ウエブを、水流絡合処理し、更に、融着処理によりポリエチレン極細繊維を融着させた不織布(厚さ=0.25mm)を用いた。
イオウ含有原子団導入処理は、II型電極対−片面接触型配置(2−II)により実施した。電極として平板状ステンレススチール電極(大きさ=150mm×210mm)を使用し、誘電体層としてポリテトラフルオロエチレン(PTFE)膜(厚さ=0.26mm)を用いた。対向表面側にPTFE膜を担持する両電極の間に、一方のPTFE膜と接触し、もう一方のPTFE膜からの距離が0.5mmとなるように、前記不織布を配置した。
印加したパルス電圧は、図5に示す波形を有するパルス電圧(電圧=10KVp,ピーク電流密度=440mA/cm2,周波数=125Hz,立ち上がり時間=200n秒)である。
【0077】
(2)処理手順
具体的な処理手順は以下のとおりである。
真空デシケータ内に電極及び不織布をセットした後、ロータリーポンプで減圧した。ガス混合器で3回、デシケータ内を図7に示す混合ガスで置換した後、図7に示す混合ガスを1気圧まで導入した。前記のパルス電圧を5分間印加して放電処理を実施した。続いて、前記の混合ガスを脱気し、空気を導入した。不織布を取り出し、水洗してから風乾した。
【0078】
【比較例2】
放電処理の際に存在させる気体を、6.5容量%−SO2/93.5容量%−Heガスとすること以外は、前記実施例2〜10と同じ操作を繰り返した。
【0079】
【比較例3】
100%Heガス中で放電処理を行った後、デシケータ内を酸素ガスで置換し、その中に不織布を15分間放置し、その後デシケータ内に6.5容量%−SO2/93.5容量%−Heを1気圧まで導入し、その中に5分間放置したこと以外は、前記実施例2〜10と同じ操作を繰り返した。
【0080】
【比較例4】
被処理体としては、実施例2〜10で用いた不織布と同じものを用いた。前記不織布を、濃度15%の発煙硫酸浴(温度60℃)に2分間浸漬してスルホン化した後、出力1500Wで60秒間(単位面積当たりの負荷エネルギー=10.24J/cm2)コロナ放電処理した。
【0081】
【物性評価】
(1)処理不織布の全体S/C比
処理不織布の全体S/C比を、以下の手順で測定した。
NaHCO3(84mg)を純水(100ml)に溶かし、30%H22水溶液(1ml)を加えて吸収液を調製した。この吸収液(5ml)を、燃焼フラスコ(浜田理科製,FHO−A型,500ml)内に入れ、燃焼フラスコの内壁を前記吸収液でよく濡らした。
処理不織布から試料(約20mg)を精秤し、無灰濾紙に包み、燃焼フラスコ内の白金籠にセットした後、燃焼フラスコ内を酸素で充満させた。白金籠に通電し、試料を燃焼させた。試料が燃焼された後、燃焼フラスコをよく振ってから、10分間放置した。燃焼フラスコの注液部に純水10mlを入れ、この純水により内壁を洗浄し、数分間放置した。燃焼フラスコ内の吸収液をメスフラスコを使用し、純水で50mlに希釈し、試験液とした。
イオンクロマトグラフィー(DIONEX社,2000i/SP)を用い、試験液のSO4 2-の濃度を測定した。なお、SO4 2-標準液を用いて校正を行った。
全体S/Cは次の式から算出した。
Figure 0004132354
なお、前記の式で、Wは試料質量(g)であり、aはSO4 2-濃度(mg/ml)であり、bはSO4 2-の分子量(すなわち96)であり、cはC36の分子量(すなわち42)である。前記の実施例2〜10及び比較例2〜4では、試料がポリオレフィンからなるので、その試料は、すべてC36からなるものと仮定して炭素の原子数を算出した。結果を図7に示す。
【0082】
(2)表面S/C比及び表面O/C比の測定
X線光電子分光計(JPS−9010MX,日本電子社製)を用いて、次の条件にて測定した。
処理不織布から試料を切り出し、純水で洗浄した後乾燥し、サンプルホルダーに固定した。励起源としてMg−Kαを用い、印加電圧値を10KVとし、ビーム電流値を10mAとし、そして光電子の脱出角度を90°として、対象表面における炭素原子(Cis)のピーク面積、イオウ原子(2P3/2)のピーク面積、及び酸素原子(Ois)のピーク面積をそれぞれ測定し、光イオン化断面積補正を行って、S/C比及びO/C比を計算した。結果を図7に示す。
【0083】
(3)電池容量維持率
電極の集電体として、発泡ニッケル基材を用いたペースト式ニッケル正極(幅=33mm,長さ=182mm)と、ペースト式水素吸蔵合金負極(メッシュメタル系合金,幅=33mm,長さ=247mm)とを作成した。次いで、実施例2、実施例3、実施例5、実施例7及び実施例10、並びに比較例2及び3で調製したスルホン化処理不織布から試料片(幅=33mm,長さ=410mm)を裁断し、それぞれ前記正極と前記負極との間に挟み、渦巻き状に巻回して、SC型対応の電極群を作成した。この電極群を外装缶に収納した後、電解液として5N−水酸化カリウム及び1N−水酸化リチウムを外装缶に注液し、封缶して円筒型ニッケル−水素電池(容量2000〜2100mAh)を作成した。次いで、それぞれの円筒型ニッケル−水素電池に対し、20℃の恒温槽中で充電率0.1Cで12時間(120%充電)充電し、終止電圧1ボルトになるまで放電率0.1Cで放電することを1サイクルとする充放電を5サイクル実施して、電池を活性化させた。
そして、20℃の恒温槽中で充電率0.1Cで12時間(120%充電)充電し、終止電圧1ボルトになるまで放電率0.1Cで放電させて、初期容量(A)を測定した。
次いで、20℃の恒温槽中で充電率0.1Cで12時間(120%充電)充電した後、温度65℃の恒温室内に5日間放置した。その後、20℃の恒温槽中で終止電圧が1ボルトになるまで放電率0.1Cで放電させて、残存容量(B)を測定した。これらの結果から、次式により容量維持率を算出した。
容量維持率(%)=(B/A)×100
結果を図7に示す。図7に示すように、全体S/C比が2以上であれば、容量維持率により優れていることがわかった。
【0084】
【発明の効果】
本発明によるイオウ含有原子団導入多孔質体は、高い表面S/C比と高い表面O/C比とを同時に有しており、高度の親水性が新たに付与されたり、親水性が高度に向上しているだけでなく、その親水性の耐久性の面でも優れており、更には、イオン吸収性、アンモニア吸着、又は生体適合性などが新たに付与されたり向上している。
本発明によるイオウ含有原子団導入方法によれば、大掛かりな装置を用いることなく、大気圧下の放電により高い効率で多孔質体の総表面にイオウ含有原子団を導入することができ、しかも、高濃度の硫酸を含む廃液の処理が不要である。また、多孔質体を構成する材料の表面に主としてイオウ含有原子団が導入されるため、多孔質体の強度の劣化がほとんどみられない。本発明方法によれば、高い表面S/C比及び高い表面O/C比を示す新規のイオウ含有原子団導入多孔質体を製造することができる。
【0085】
本発明の電池用セパレータは、表面S/C比及び表面O/C比が同時に高い数値を示すので、以下の種々の優れた効果を有する。すなわち、本発明の電池用セパレータは、濡れ性が優れている。また、本発明の電池用セパレータは、高度の初期及び長期の親水性が新たに付与されたり、親水性が高度に向上しているだけでなく、その親水性の耐久性の面でも優れており、しかも、耐酸化性にも優れているので、セパレータとしての寿命が長い。更には、本発明の電池用セパレータは、容量保持率が優れているので、自己放電抑制作用が高い。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明方法の種々の態様を模式的に示す説明図である。
【図2】本発明方法の基本的原理を模式的に示す断面図である。
【図3】本発明方法において使用することのできる繰返しパルス波の形状を示す説明図である。
【図4】本発明方法において使用することのできる別の繰返しパルス波の形状を示す説明図である。
【図5】本発明方法において使用することのできる更に別の繰返しパルス波の形状を示す説明図である。
【図6】本発明方法の一態様を模式的に示す斜視図である。
【図7】実施例2〜10及び比較例2〜4の結果を示す表である。
【符号の説明】
11・・・多孔質体;21,22・・・電極;
41,42・・・非多孔質誘電体層;51・・・交流電源;
61,64・・・ガス供給パイプ;62・・・連結管;
63,65・・・ノズル。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a novel sulfur-containing atomic group-introduced porous body, a method for introducing a sulfur-containing atomic group to the total surface of the porous body, and a battery separator using the sulfur-containing atomic group-introduced porous body.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, as one of the methods for introducing a sulfur-containing atomic group into the surface of a porous body, sulfonation treatment is known, and as a method for performing the sulfonation treatment, for example, a method using fuming sulfuric acid, or A method of performing plasma processing by atmospheric pressure glow discharge in a mixed gas atmosphere of a processing gas and a rare gas has been known. Using these methods, the surface of the porous body is sulfonated [that is, sulfonic acid groups (SOThreeBy introducing H), it is possible to impart hydrophilicity to the porous body or improve hydrophilicity. The degree of sulfonation in the obtained treated product is correlated with the ratio of the number of sulfur atoms (S) to the number of carbon atoms (C) on the treated surface (hereinafter referred to as surface S / C ratio), The higher the degree of sulfonation, the higher the surface S / C ratio.
[0003]
According to the method using fuming sulfuric acid, a sulfonic acid group can be introduced with high efficiency, and a treated body having a high surface S / C ratio can be obtained. However, in the treated body sulfonated by this method, the ratio of the number of oxygen atoms (O) to the number of carbon atoms (C) on the treated surface, which is an index indicating that a carboxyl group or the like has been introduced ( Hereinafter, the surface O / C ratio) tends to be low. The surface O / C ratio correlates with wettability, and those having a low surface O / C ratio have poor wettability. For example, when a treated body sulfonated by this method is used as a battery separator, it is necessary to perform another treatment (for example, application of a surfactant) in order to improve wettability.
Moreover, the method using fuming sulfuric acid requires a large-scale apparatus for washing unreacted fuming sulfuric acid, and has a problem of treating a large amount of waste liquid containing high-concentration sulfuric acid. Furthermore, there was a problem that the strength of the porous body was deteriorated.
[0004]
On the other hand, a method of performing plasma processing by atmospheric pressure glow discharge in a mixed gas atmosphere of processing gas and rare gas is disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 9-85026. In the publication, a solid dielectric is disposed on at least one facing surface of a pair of electrodes facing each other, a three-dimensional network porous body is disposed between these electrodes, and a mixed gas of a processing gas and a rare gas is formed. Disclosed is a treatment method characterized by performing a discharge plasma treatment on the porous body under a pressure in the vicinity of atmospheric pressure. In this method, when the concentration of the processing gas in the mixed gas exceeds 10% by volume of the rare gas (that is, the concentration of the processing gas in the mixed gas exceeds 9.09% by volume), a voltage is applied. However, since it is difficult to generate uniform discharge plasma, the concentration of the processing gas in the mixed gas is preferably 0.01 to 9.09% by volume, and sulfur dioxide (processing gas) 0.5% by volume. It is disclosed in the above-mentioned publication that the discharge plasma treatment was actually performed in a sulfur dioxide / helium mixed gas containing. In the above publication, sulfur dioxide, sulfur trioxide, oxygen, nitrogen, or the like is exemplified as the processing gas.
[0005]
As apparent from the disclosure in the above publication, in the method using atmospheric pressure glow discharge, it is necessary to apply a voltage in the presence of a rare gas exceeding 90% by volume in order to generate uniform discharge plasma. Therefore, a sulfonated body having a high surface S / C ratio and a high surface O / C ratio at the same time, which cannot increase the concentration of the processing gas in the mixed gas beyond the limit value, has been heretofore known at all. There wasn't.
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
Accordingly, an object of the present invention is to provide a novel sulfur-containing atomic group-introduced porous body having a high surface S / C ratio and a high surface O / C ratio at the same time. In addition, another problem of the present invention is that it does not require a large-scale apparatus or a large amount of waste liquid containing high-concentration sulfuric acid, and sulfur-containing atomic groups are efficiently transferred to the entire surface of the porous body by discharge under atmospheric pressure. It is to provide means that can be introduced. Another object of the present invention is to provide a battery separator having a high surface S / C ratio and a high surface O / C ratio at the same time.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
  The above problem is in accordance with the present invention,
Made of organic materialsA sulfur-containing atomic group-introduced porous body in which a sulfur-containing atomic group is introduced into at least a part of the total surface of the porous body,
The ratio (S / C) of the number of sulfur atoms (S) to the number of carbon atoms (C) measured by an X-ray photoelectron spectrometer on the surface into which the sulfur-containing atomic group was introduced was 7 × 10.-4That's it,
The ratio (O / C) of the number of oxygen atoms (O) to the number of carbon atoms (C) measured by an X-ray photoelectron spectrometer on the surface introduced with the sulfur-containing atomic group is 0.2 or more,
The ratio (S / C) of the number of sulfur atoms (S) to the number of carbon atoms (C) in the entire sulfur-containing atomic group-introduced porous body is 1 × 10-3That's it
This can be achieved by the sulfur-containing atomic group-introduced porous material.
[0008]
  The present invention also provides:Made of organic materialsA sulfur-containing atomic group-introduced nonwoven fabric in which a sulfur-containing atomic group is introduced into at least a part of the total surface of the nonwoven fabric,
The ratio (S / C) of the number of sulfur atoms (S) to the number of carbon atoms (C) measured by an X-ray photoelectron spectrometer on the surface into which the sulfur-containing atomic group was introduced was 7 × 10.-4That's it,
The ratio (O / C) of the number of oxygen atoms (O) to the number of carbon atoms (C) measured by an X-ray photoelectron spectrometer on the surface introduced with the sulfur-containing atomic group is 0.2 or more,
The ratio (S / C) of the number of sulfur atoms (S) to the number of carbon atoms (C) in the entire sulfur-containing atomic group-introduced porous body is 1 × 10-3That's it
The present invention also relates to a battery separator made of a sulfur-containing atomic group-introduced nonwoven fabric.
[0009]
  Furthermore, the present invention provides a dielectric layer on the opposing surface side of at least one of the electrodes, and a pair of electrodes arranged opposite to each other.Made of organic materialsA porous body is disposed, and a voltage is applied between the electrodes in the presence of 10% by volume or more of a sulfur-containing compound gas with respect to the total volume of the surface treatment gas and under atmospheric pressure, The present invention also relates to a method for introducing a sulfur-containing atomic group into at least a part of the total surface of the porous body, which is characterized by generating a discharge.
[0010]
  Furthermore, the present invention provides a dielectric layer on the opposing surface side of at least one of the electrodes between a pair of electrodes arranged opposite to each other.Made of organic materialsA porous body is disposed between the electrodes in the presence of 10% by volume or more of a sulfur-containing compound gas and in the presence of oxygen gas and at atmospheric pressure with respect to the total volume of the surface treatment gas. The present invention also relates to a method for introducing a sulfur-containing atomic group into at least a part of the total surface of a porous body, wherein a voltage is applied to generate a discharge.
[0011]
  Furthermore, according to the present invention, the pair of electrodes are not directly in contact with each other between the pair of electrodes arranged to face each other by providing a dielectric layer on each facing surface side. So that the outer surface is in direct contact withMade of organic materialsA porous body is disposed, and a voltage is applied between the electrodes in the presence of 10% by volume or more of a sulfur-containing compound gas with respect to the total volume of the surface treatment gas and under atmospheric pressure, The present invention also relates to a method for introducing a sulfur-containing atomic group into at least a part of the total surface of the porous body, wherein discharge is generated in the internal space of the porous body sandwiched between both electrodes.
[0012]
In this specification, the “total surface” is a concept including both the outer surface of the porous body to be treated and the inner surface of the porous body. “Outer surface” means the surface of a porous body in contact with a virtual solid body having a smooth surface that circumscribes the porous body. Further, the “inner surface” means the entire surface of all the internal voids included in the virtual solid of the porous body. Therefore, the inner surface is the surface of each cell (cell) in the foam-type porous body, and is the surface of a concave structure (for example, a dent or a groove) or a through-hole in the film-type porous body. In the porous material, the surface of the internal space formed by the constituent fibers, that is, the entire surface of each constituent fiber is included.
[0013]
In the present specification, the “sulfur-containing atomic group” is newly introduced into a treated body obtained by treating a porous body to be treated (hereinafter sometimes referred to as an object to be treated) by the method of the present invention. Means an atomic group containing a sulfur atom. The presence state of the sulfur-containing atomic group or the bonding state with the porous body is not particularly limited. For example, the sulfur-containing atomic group is chemically and / or physically bonded to the porous body. Atoms, functional groups, bridging groups, or molecules are included.
The sulfur-containing atomic group introduced into the surface of the treated body (that is, the sulfur-containing atomic group-introduced porous body) can be determined by X-ray photoelectron spectroscopy.
[0014]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
In the sulfur-containing atomic group-introduced porous material according to the present invention, the ratio of the number of sulfur atoms (S) to the number of carbon atoms (C) measured by an X-ray photoelectron spectrometer on the surface into which the sulfur-containing atomic group has been introduced. (Ie, the surface S / C ratio) is 7 × 10-FourThe ratio of the number of oxygen atoms (O) to the number of carbon atoms (C) (that is, the surface O / C ratio) measured by the X-ray photoelectron spectrometer is 0.2 or more. Thus, no technique for obtaining a sulfur-containing atomic group-introduced porous body having a high surface S / C ratio and a high surface O / C ratio at the same time has been known so far. The introduced porous body is not known at all.
[0015]
In the sulfur-containing atomic group-introduced porous material according to the present invention, the surface S / C ratio is preferably 6 × 10.-2Or more, more preferably 7 × 10.-2That's it. When the method of the present invention described later is used, a surface S / C ratio of up to about 0.8 can be obtained. In the sulfur-containing atomic group-introduced porous material according to the present invention, the surface O / C ratio is preferably 0.25 or more. In the case of sulfonation by a conventional method using fuming sulfuric acid or a conventional method using glow discharge, the surface O / C ratio is usually less than 0.2. When the method of the present invention described later is used, a surface O / C ratio of up to about 3 can be obtained.
The S / C ratio of the entire porous body into which the sulfur-containing atomic group has been introduced (hereinafter sometimes referred to as the total S / C ratio) is 1 × 10-3When it becomes above, since sulfur content increases, there exists an effect which physical properties, such as ion exchange capacity, ion absorptivity, ammonia absorptivity, or biocompatibility, improve, for example. In particular, the overall S / C ratio is 1.5 × 10-3When the above sulfur-containing atomic group-introduced nonwoven fabric is used as a battery separator, the self-discharge suppressing action of the battery is improved. The overall S / C ratio is 2 × 10-3When the above-described sulfur-containing atomic group-introduced nonwoven fabric is used as a battery separator, the self-discharge suppressing action of the battery is further improved. On the other hand, in the glow discharge according to the conventional method, the S / C ratio of the entire sulfonated body is 1 × 10.-3Is less than.
[0016]
The sulfur-containing atomic group-introduced porous body according to the present invention is a porous body consisting essentially of an organic polymer material (especially an organic synthetic polymer material) substantially free of sulfur atoms and oxygen atoms in the structural unit. In the case where the sulfur-containing atomic group is introduced, the overall S / C ratio is 0.05 or less.
The total S / C ratio can be obtained, for example, by determining the sulfur content of the porous body using organic elemental analysis or an oxygen combustion flask method, and determining the total S / C ratio from the composition and weight of the porous body. The carbon content can also be measured by organic elemental analysis.
[0017]
In the preferred sulfur-containing atomic group-introduced porous material according to the present invention, the ratio (A / B) of the surface S / C (A) to the total S / C ratio (B) is 15 or more, more preferably 20 or more. Most preferably, it is 25 or more. The large ratio (A / B) of the surface S / C ratio (A) to the total S / C ratio (B) means that the sulfur-containing atomic groups are localized on the surface side of the material constituting the porous body. It means that the tendency is large, that is, the sulfur-containing atomic group is not introduced deep inside the material constituting the porous body, and therefore the sulfur-containing atomic group-introduced porous body is excellent in strength. Means. In contrast, when sulfonated by a conventional method using fuming sulfuric acid, the sulfur-containing atomic group penetrates deeply into the material constituting the porous body, so the strength of the sulfur-containing atomic group-introduced porous body decreases. To do. When the method of the present invention described later is used, a treated body having an A / B ratio of up to about 100 can be obtained.
[0018]
The surface S / C ratio is measured by, for example, measuring the peak area of carbon atoms on the target surface and the peak area of sulfur atoms on the target surface using X-ray photoelectron spectroscopy, and correcting the photoionization cross section. Can be obtained by adding The surface O / C ratio is also measured by measuring the peak area of carbon atoms on the target surface and the peak area of oxygen atoms on the target surface using X-ray photoelectron spectroscopy, and correcting the photoionization cross section. Can be obtained by adding In order to remove substances (for example, surfactants) existing on the surface of the measurement object and affecting the surface S / C ratio and / or the surface O / C ratio, the measurement object is washed in advance. Perform the analysis.
[0019]
The sulfur-containing atomic group-introduced porous body according to the present invention is, for example, the detection of the hydrophilic treatment, the surface S / C ratio and the surface O on the treated surface of the treated body that has been found to have been subjected to the hydrophilic treatment. It can be identified by measuring the / C ratio. For example, a case where a wetting index is used for detection of a hydrophilic treatment is shown below.
[0020]
(1) A certain porous material sample is analyzed using means such as an infrared analyzer, and the constituent material of the portion not belonging to the total surface is determined. As the portion not belonging to the total surface, when the sample is a film-type porous body or a foam-type porous body, for example, a solid body portion can be mentioned, and the sample is a fiber-type porous body. In the case of a solid body, for example, an internal portion of a constituent fiber can be exemplified. The wetting index of the porous body made of the determined constituent material is expressed as “wetting test method for polyethylene and polypropylene films” (JIS K 6768).-1977) In the case of a plurality of components, the wetting index of the component having the smaller wetting index is determined. An indicator is selected that can wet and color the material having this wetting index.
[0021]
(2) When the sample is dipped in a wet index indicator solution (containing a colorant) determined in the step (1) and then pulled up, depending on the state of the sample surface, the color state of the sample surface is Applies to any of the following states (a) to (c):
(A) A colored portion (non-processed region) and a non-colored portion appear. It can be seen that the non-colored portion has been subjected to a hydrophobic treatment. In this case, it can be seen that this sample has not been subjected to a hydrophilic treatment.
(B) The entire sample is not colored. It can be seen that the entire sample has been hydrophobized. In this case, it can be seen that this sample has not been subjected to a hydrophilic treatment.
(C) The entire sample is colored. This sample can be considered to be partially or wholly hydrophilized and not subjected to surface treatment. In this case, the next step (3) is subsequently performed.
[0022]
(3) The sample is dipped in an indicator solution having a higher wetting index than the indicator used in the step (2) and then pulled up. As the indicator, it is preferable to first use an indicator having a slightly higher wetting index than that used in the step (2), and successively use an indicator having a higher wetting index and repeat the above operation. The surface condition of the sample applies to any of the following states (d) to (f):
(D) When an indicator having a slightly higher wetting index than that used in the step (2) is used, the entire sample is not colored. It can be seen that this sample is not subjected to any surface treatment.
(E) When an indicator having a slightly higher wetting index than the indicator used in the step (2) is used, a non-colored portion (non-treated region) and a colored portion appear. It can be seen that the colored portion is hydrophilized. In this case, subsequently, step (4) described later is performed.
(F) When an indicator having a higher wetting index than the indicator used in the step (2) is sequentially used, the entire sample is colored up to a certain wetting index, and the wetting index is slightly higher than the wetting index. When the indicator is used, the entire sample is not colored. It can be seen that the entire sample is hydrophilized. In this case, the next step (4) is subsequently performed.
The presence or absence of the hydrophilization treatment can be detected by the above steps (1) to (3). When a hydrophilic treatment is performed, in order to determine whether or not the treated body is the sulfur-containing atomic group-introduced porous body of the present invention, the surface S / C ratio on the treated surface of the treated body and The surface O / C ratio is measured.
[0023]
(4) The surface S / C ratio and the surface O / C ratio of the processing region are determined by the X-ray photoelectron spectroscopy. Surface S / C ratio is 7 × 10-FourIf the surface O / C ratio is 0.2 or more, the sample is a sulfur-containing atomic group-introduced porous material according to the present invention.
[0024]
The sulfur-containing atomic group-introduced porous body according to the present invention can be produced by introducing a sulfur-containing atomic group into the porous body by various methods found by the present inventors.
In the method for introducing a sulfur-containing atomic group according to the present invention, discharge is carried out in the presence of a gaseous sulfur-containing compound. Examples of the sulfur-containing compound include sulfur oxide and hydrogen sulfide (H2S). Examples of the sulfur oxide include sulfur monoxide (SO) and sulfur dioxide (SO).2), Sulfur trioxide (SOThree), Disulfur trioxide (S2OThree) Or sulfur heptoxide (S2O7). In the method of the present invention, each of the above compounds can be used alone or in combination. In terms of being able to generate a stable discharge, the formula SOx(Wherein x is an integer of 1 to 3), sulfur oxide represented by2It is more preferable to use
[0025]
The method for introducing a sulfur-containing atomic group according to the present invention can be carried out in the presence or absence of a rare gas. In other words, the rare gas required to stably generate a discharge in the conventional atmospheric pressure glow discharge is not necessarily required, and the method of the present invention can generate a stable discharge even in the absence of the rare gas. It is. In the present specification, “rare gas” means a group 0 element of the periodic table, specifically, six elements of helium, neon, argon, krypton, xenon, and radon.
The method for introducing a sulfur-containing atomic group according to the present invention can be carried out at atmospheric pressure and in the presence of a sulfur-containing compound gas, in an open system, that is, generally in the presence of air, or It can also be carried out at atmospheric pressure in a closed system, for example an airtight container.
[0026]
  In one sulfur-containing atomic group introduction method according to the present invention, the concentration of the sulfur-containing compound gas is relative to the total volume of the surface treatment gas.1The discharge is performed in the range of 0% by volume or more, more preferably in the range of 20 to 90% by volume, and most preferably in the range of 25 to 80% by volume.TheIf the concentration of the sulfur-containing compound gas is less than 10% by volume with respect to the total volume of the surface treatment gas, the introduction efficiency may be low or the expected introduction effect may not be obtained.
[0027]
  In another sulfur-containing atomic group introduction method according to the present invention, in addition to the sulfur-containing compound gas as the sulfur-containing atomic group introduction gas, as a diluent gas, other gases such as air, nitrogen, oxygen, or a rare gas, Or discharge in the presence of a combination thereof (for example, a mixed gas of a rare gas and oxygen), preferably in the presence of oxygen, and more preferably in an atmosphere of substantially a combination of a sulfur-containing compound gas and oxygen alone. Can be implemented. In the present specification, a mixed gas of a sulfur-containing compound gas that is a gas for introducing a sulfur-containing atomic group and a dilution gas may be referred to as a “surface treatment gas”. The concentration of the dilution gas is not particularly limited as long as the concentration of the sulfur-containing compound gas is within an appropriate range, and can be determined as appropriate. Even when discharge is performed in the presence of sulfur-containing compound gas and oxygen, the concentration of the sulfur-containing compound gas is relative to the total capacity of the surface treatment gas.1It is 0 volume% or more, More preferably, it is 20-90 volume%, Most preferably, it is 25-80 volume%. Even when discharge is performed in the coexistence of sulfur-containing compound gas and oxygen alone, the concentration of the sulfur-containing compound gas is relative to the total capacity of the surface treatment gas.1It is 0 volume% or more, More preferably, it is 20-90 volume%, Most preferably, it is 25-80 volume%.
[0028]
In the method for introducing a sulfur-containing atomic group according to the present invention, a porous body is disposed between a pair of electrodes disposed opposite to each other by providing a dielectric layer on the facing surface side of at least one of the electrodes. Since at least one of the pair of electrodes carries the dielectric layer, the electrode used in the method for introducing a sulfur-containing atomic group according to the present invention includes:
(I) a mode in which the pair of electrodes includes an electrode provided with a dielectric layer on the opposing surface side and an electrode not carrying the dielectric layer (hereinafter referred to as an I-type electrode pair);
(II) A mode in which both of the pair of electrodes are electrodes provided with a dielectric layer on the opposite surface side (hereinafter referred to as a type II electrode pair)
Is included.
[0029]
The porous body disposed between the pair of electrodes may be in contact with the electrode surface of the electrode or the dielectric layer, or may not be in contact. Therefore, as an aspect of the arrangement of the pair of electrodes and the porous body,
(1) A mode in which a pair of electrodes (or dielectric layers) and a porous body are arranged in a non-contact state (hereinafter referred to as non-contact type arrangement),
(2) One outer surface of the porous body is in contact with one of the pair of electrodes (that is, the electrode surface of the electrode not carrying the dielectric layer or the dielectric layer), and the porous body A mode in which a pair of electrodes and a porous body are arranged in a state where one outer surface is not in contact with the other electrode (that is, the electrode surface of the electrode not carrying the dielectric layer or the dielectric layer) ( Hereinafter referred to as single-sided contact arrangement), or
(3) A pair of electrodes and a porous material in a state where both outer surfaces of the porous body are in contact with both of the pair of electrodes (that is, the electrode surface of the electrode not carrying the dielectric layer or the dielectric layer). A mode of arranging the material (hereinafter referred to as double-sided contact type arrangement)
Can be mentioned. FIG. 1 schematically shows an arrangement mode of the porous body by a combination of the electrode pairs (I) and (II) and the arrangements (1) to (3).
[0030]
As shown in FIG. 1, for example, in the I-type electrode pair-non-contact arrangement (1-I), the electrode 22 provided with the dielectric layer 42 on the opposite surface side and the electrode 21 not carrying the dielectric layer. The porous body 11 is disposed between the pair of electrodes 21 and 22 disposed so as to face each other in a state where neither the dielectric layer 42 nor the electrodes 21 and 22 are in contact with each other.
In the II-type electrode pair-non-contact type arrangement (1-II), the dielectric layer is disposed between a pair of electrodes 21 and 22 arranged to face each other by providing dielectric layers 41 and 42 on the opposite surface sides. The porous body 11 is disposed in a state where it does not contact any of the electrodes 41 and 42 and the electrodes 21 and 22.
[0031]
In the I-type electrode pair-single-sided contact arrangement (2-I), the electrode 22 provided with the dielectric layer 42 on the opposite surface side and the electrode 21 not carrying the dielectric layer are arranged facing each other. When the porous body 11 is disposed between the pair of electrodes 21 and 22, (a) the dielectric of the electrode 22 in which one outer surface of the porous body 11 is provided with a dielectric layer on the opposite surface side. In contact with the layer 42 (but not in contact with the electrode 22), and the other outer surface of the porous body is not in contact with the electrode 21 not carrying the dielectric layer, or (B) One outer surface of the porous body 11 is in contact with the electrode 21 that does not carry a dielectric layer, and the other outer surface of the porous body is on the other electrode 22. The dielectric layer 42 is not in contact with the electrode 22 (the electrode 22 is not in contact with the dielectric layer 42).
[0032]
Further, in the type II electrode pair-single-side contact type arrangement (2-II), a porous layer is provided between a pair of electrodes 21 and 22 which are arranged to face each other by providing dielectric layers 41 and 42 on the opposite surface sides. One outer surface of the body 11 is in contact with one of the dielectric layers (dielectric layer 42 in FIG. 1), and the other outer surface of the porous body is in contact with the other dielectric layer (FIG. 1, the porous body 11 is disposed in a state where it is not in contact with the dielectric layer 41) (in contact with the pair of electrodes 21 and 22).
[0033]
Further, in the I-type electrode pair-double-sided contact arrangement (3-I), the electrode 22 provided with the dielectric layer 42 on the opposite surface side and the electrode 21 not carrying the dielectric layer are arranged to face each other. Between the pair of electrodes 21 and 22, one outer surface of the porous body 11 is in contact with the dielectric layer 42 of the electrode 22 provided with a dielectric layer on the opposite surface side, and the porous body 11 The porous body 11 is disposed in a state where the other outer surface is in contact with the electrode 21 not carrying the dielectric layer. The porous body 11 is not brought into contact with the electrode 22 carrying the dielectric layer 42.
In the II-type electrode pair-double-sided contact arrangement (3-II), the dielectric layer 41, 42 is disposed between the pair of electrodes 21, 22 arranged opposite to each other on the opposing surface side. The porous body 11 is disposed in a state in which each of 41 and 42 and the outer surface of the porous body 11 are in direct contact with each other. The porous body 11 should not be in direct contact with the pair of electrodes 21 and 22.
In the method for introducing a sulfur-containing atomic group according to the present invention, it is preferable to dispose an electrode, a dielectric, and an object to be processed using a type II electrode pair in that uniform discharge can be generated.
[0034]
The sulfur-containing atomic group introduction method according to the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.
The basic principle of the method for introducing a sulfur-containing atomic group according to the present invention is shown in FIG. Although FIG. 2 shows a type II electrode pair-double-sided contact arrangement, unless otherwise specified, the following description is for other aspects described so far (eg, type I or type II electrode pair-non-contact arrangement, The same applies to an I-type or II-type electrode pair-single-sided contact type arrangement, or an I-type electrode pair-double-sided contact type arrangement.
[0035]
In the type II electrode pair-double-sided contact type arrangement, as shown in FIG. 2, a pair of electrodes 21 and 22 made of flat electrodes or the like are arranged so as to face each other. The electrode 21 fixes and carries the dielectric layer 41 in surface contact with the opposite surface side, and the electrode 22 also carries and holds the dielectric layer 42 in surface contact with the opposite surface side. Furthermore, although neither of the electrodes 21 and 22 is in contact with each other, a porous layer is provided between the dielectric layer 41 and the dielectric layer 42 so that each of the dielectric layer 41 and the dielectric layer 42 is in direct contact with the outer surface. The mass 11 is arranged. At this time, by pressing the electrode 21 and the electrode 22 with an appropriate pressure, a space is substantially formed between the dielectric layer 41 and the porous body 11 and between the porous body 11 and the dielectric layer 42. Surface contact is made so as not to form. An electrode that does not carry a dielectric layer may be used instead of the electrode that carries a dielectric layer fixedly. In this case, by pressing the electrode 21 and the electrode 22 with an appropriate pressure, the electrode 21 and the dielectric layer 41, the dielectric layer 41 and the porous body 11, the porous body 11 and the dielectric layer 42, and A surface contact is made between the dielectric layer 42 and the electrode 22 so that a space is not substantially formed. The lower limit of the pressure applied between the two electrodes is a pressure that ensures a surface contact between the electrode and the dielectric layer and between the dielectric layer and the porous body and does not substantially form a space. The upper limit is a pressure that does not destroy the shape of the porous body that is the object to be processed.
[0036]
It is preferable that the size of the electrode 21 and the electrode 22 be smaller than the size of the dielectric layer 41 and the dielectric layer 42 with which the electrode 21 and the electrode 22 are in contact with each other, because no spark occurs between the ends of the electrodes 21 and 22. Further, when the size of the electrode 21 or the electrode 22 is the same as the size of the dielectric layer 41 or the dielectric layer 42 with which the electrode 21 or the electrode 22 contacts, a covering material made of a dielectric material around the electrode (for example, vinyl tape) Etc. can prevent a spark between the ends of both electrodes 21 and 22. The electrode 21 is connected to the AC power source 51 and the electrode 22 is grounded. Although FIG. 2 shows a mode in which the AC power source 51 is connected to the electrode 21 and the electrode 22 is grounded, conversely, the AC power source 51 may be connected to the electrode 22 and the electrode 21 may be grounded.
[0037]
When a sine wave AC high voltage is applied from the AC power source 51 in the presence of the sulfur-containing compound gas, a discharge is generated in the internal voids of the porous body 11 to generate plasma. Due to the action of the plasma generated in the internal voids of the porous body 11, the inner surface of the porous body 11 and the sulfur-containing compound react to modify the inner surface of the porous body 11, that is, sulfur-containing atomic groups (for example, , SOFourOr SOThreeH) is introduced. At this time, since the outer surface of the porous body 11 is in contact with the dielectric layer 41 or the dielectric layer 42, the plasma generated in the internal space of the porous body 11 is theoretically the outer surface of the porous body 11. It does not act on the contact point with the dielectric layer. However, in practice, the contact point is a very small area compared to the area of the total surface, so it can be said that substantially all of the outer surface has been treated. In addition, the reaction between the porous body and the sulfur-containing compound is considered to occur not only by the plasma but also by the action of sulfuric anhydride generated by the plasma, so when the porous body and the dielectric layer are separated, The reaction between the anhydrous sulfuric acid generated by the porous material and the porous body also occurs at the contact point. In the II type electrode pair-double-sided contact type arrangement, discharge is generated in the internal voids of the porous body, so that the target object is hardly damaged by spark discharge or the like.
[0038]
In the type II electrode pair-double-sided contact type arrangement shown in FIG. 2, when a voltage is applied between the two electrodes 21 and 22, electric discharge is generated in the internal space of the porous body 11, and plasma is generated. Even in the counter-to-double-side contact type arrangement, when a voltage is applied between both electrodes, a discharge is generated in the internal space of the porous body, and plasma is generated. On the other hand, in the case of an I-type or II-type electrode pair-non-contact type arrangement, or in an I-type or II-type electrode pair-one-side contact type arrangement, when a voltage is applied between both electrodes, a porous body and an electrode or dielectric layer Is generated in the space between and the internal space of the porous body, and plasma is generated.
[0039]
In the description of the embodiment shown in FIG. 2, a case where a sinusoidal AC high voltage is applied between the two electrodes 21 and 22 has been shown. In the sulfur-containing atomic group introduction method of the present invention, The voltage applied between the electrodes is not particularly limited as long as it is a voltage whose voltage value changes with time, preferably a voltage consisting of a continuous waveform or an intermittent waveform that repeatedly increases and decreases in a substantially constant cycle. For example, a sinusoidal AC voltage or a repetitive pulse voltage can be used. The waveform of the applied voltage is not particularly limited, and examples thereof include a sine wave, a triangular wave, and a rectangular wave. Also, the polarity of the applied voltage is not particularly limited, and a unipolar voltage can be used, or a bipolar voltage can be used, but the bipolar voltage is used in terms of high processing efficiency. It is preferable.
[0040]
Examples of the repetitive pulse wave include the bipolar pulse wave shown in FIG. 3, the unipolar pulse wave shown in FIG. 4, or the bipolar rectangular repetitive pulse wave shown in FIG. In these repetitive pulse waves, the rise time of the voltage wave [that is, the time from the reference voltage to reach 90% of the first peak voltage, for example, the time t in FIGS. 3 to 5] is 1 microsecond. Or less, more preferably 0.2 microsecond or less. The preferred range of the frequency when using the repetitive pulse wave (for example, the frequency when the wavelength λ in FIGS. 3 to 5 is one period) is not limited, but the upper limit is preferably 100 KHz, More preferably, it is 50 KHz, The lower limit becomes like this. Preferably it is 10 Hz, More preferably, it is 50 Hz, Most preferably, it is 100 Hz.
[0041]
The repetitive pulse voltage is generated by, for example, a method in which a voltage stored in a capacitor is instantaneously connected to a load by a spark discharge switch, or a method in which a pulsed voltage modulated by a semiconductor switch is boosted through a transformer. Can do.
Further, the rise time of the repetitive pulse wave can be shortened, for example, by reducing the resistance and inductance to the load. In addition, using a magnetic switch or the like, the pulse can be compressed and the rise time can be shortened.
Furthermore, it is preferable that the duration of the current pulse is 1 μsec or less because spark discharge hardly occurs.
[0042]
In the method for introducing a sulfur-containing atomic group according to the present invention, when a repetitive pulse voltage is used as a voltage to be applied to generate a discharge, the lower limit of the repetitive pulse voltage is a distance between electrodes including a dielectric layer or a gas. However, it is preferably 0.5 KVp or more, more preferably 2 KVp or more (KVp indicates a voltage difference from the maximum voltage peak to 0). This is because when the voltage is less than 0.5 KVp, the discharge does not substantially occur, or even if the discharge occurs, the uniform discharge may not occur. The upper limit of the repetitive pulse voltage is not particularly limited as long as it is a voltage that does not cause damage to the porous body and the dielectric, but is preferably 100 KVp or less, more preferably 50 KVp or less. This is because if the voltage exceeds 100 KVp, dielectric breakdown may occur or it may be difficult to increase the frequency of the pulse wave. The electric field strength is preferably 10 to 200 KVp / cm, and more preferably 20 to 100 KVp / cm.
[0043]
In the method for introducing a sulfur-containing atomic group according to the present invention, by using such a repetitive pulse wave, even a porous body (for example, a melt blown nonwoven fabric) that is likely to be pierced by spark discharge is used without making a hole. A surface treatment can be performed. Further, even when the concentration of the sulfur-containing compound is so high that it cannot be carried out by a conventional atmospheric pressure glow discharge (for example, when it is 10% by volume or more), by using such a repetitive pulse wave, Uniform discharge can be generated stably.
Note that these values relating to the voltage applied to generate the discharge greatly depend on the shape of each electrode, the material of the porous body, the discharge voltage waveform, and also the processing time, and are used out of the above range. Sometimes.
[0044]
In type I or type II electrode-non-contact arrangement, type I or type II electrode pair-single-sided contact type arrangement, or type I electrode pair-double-sided contact type arrangement, applied between both electrodes to generate a discharge. As the voltage to be used, it is preferable to use a repetitive pulse voltage having a fast rise, and it is preferable to use a repetitive pulse voltage having a rise time of 1 microsecond or less. In particular, in the case of an I-type or II-type electrode pair-non-contact type arrangement, or an I-type or II-type electrode pair-one-side contact type arrangement, it is preferable to use a pulse voltage so that the discharge becomes uniform.
[0045]
In the type II electrode pair-double-sided contact type arrangement, a normal sine wave AC voltage can be used, or a repetitive pulse voltage can be used. It is preferred to use a fast repetitive pulse voltage.
[0046]
In the method for introducing a sulfur-containing atomic group according to the present invention, when a sine wave AC voltage is used as a voltage to be applied to generate a discharge, the lower limit of the sine wave AC voltage is the distance between electrodes including the dielectric layer. However, it is not particularly limited, but is preferably 0.5 KVp or more, more preferably 2 KVp or more. This is because when the voltage is less than 0.5 KVp, the discharge does not substantially occur, or even if the discharge occurs, the uniform discharge may not occur. Further, the upper limit of the sinusoidal AC voltage is not particularly limited as long as it is a voltage that does not cause damage to the porous body and the dielectric layer, but is preferably 100 KVp or less, more preferably 50 KVp or less. . This is because dielectric breakdown may occur when the voltage exceeds 100 KVp. The electric field strength is preferably 10 to 200 KVp / cm, and more preferably 20 to 100 KVp / cm.
[0047]
In the sulfur-containing atomic group introduction method according to the present invention, the upper limit of the frequency of the sinusoidal AC voltage is not particularly limited, but is preferably 100 KHz, more preferably 50 KHz. This is because if the frequency exceeds 100 KHz, the porous body and the dielectric layer may be overheated and destroyed by dielectric heating. Further, when the frequency is 50 KHz or less, the porous body, the dielectric, and the electrode are hardly heated, which is more preferable in that the treatment can be stably performed for a long time.
The lower limit of the frequency is preferably 10 Hz, more preferably 50 Hz. This is because, when the frequency is less than 10 Hz, the processing efficiency due to discharge may be reduced. A frequency of 50 Hz or higher is more preferable because the processing efficiency is high and the processing time is shortened.
[0048]
In the method for introducing a sulfur-containing atomic group according to the present invention, the output of a sinusoidal alternating current applied to generate a discharge depends on the shape of each electrode, the dielectric layer used, the material or thickness of the object to be processed, and the like. Therefore, although not particularly limited, in the case of the II type electrode pair-double-sided contact type arrangement, when the pair of electrodes is processed by sandwiching the porous body in a certain region (for example, see FIG. 2), 0 .01-5W / cm2It is preferable that
In addition, in the case of the type II electrode pair-double-sided contact type arrangement, when the porous body is linearly sandwiched by a pair of roll electrodes, the output of the sinusoidal alternating current is 0.1 to 9 W / cm. It is preferable that it is 0.1-6 W / cm. In addition, when processing a porous body in a linear form and using a plurality of roll electrodes, the range of the sine wave AC output means a value per electrode. .
[0049]
In the type II electrode pair-double-sided contact type arrangement, when the output of the sinusoidal alternating current is lower than the above range (that is, 0.01 W / cm when processing a porous body sandwiched in a certain region)2Or less than 0.1 W / cm when processing the porous body in a linear form), since the discharge mainly occurs at the location where the porous body is easily discharged, The surface may not be treated uniformly. Further, when the output of the sinusoidal alternating current is higher than the above range (that is, 5 W / cm when processing the porous body sandwiched in a certain region)2Or when the porous body is sandwiched in a linear shape and exceeds 9 W / cm), the porous body may have holes due to arc discharge.
[0050]
In the method for introducing a sulfur-containing atomic group according to the present invention, the peak current density (J; unit = mA / cm).2) And the voltage rise time (T: unit = nanosecond) satisfy the following relational expression (1) or relational expression (2), the processing efficiency is high, and discharge is performed uniformly without causing spark discharge. be able to.
When the voltage rise time (T) is 150 ns or less:
(150 / T) × 150 ≦ J ≦ (1100 / T)2× 200 (1)
When the voltage rise time (T) exceeds 150 ns:
150 ≦ J ≦ (1100 / T)2× 200 (2)
The peak current density is a value obtained by dividing the peak value of the discharge current by the dielectric area.
[0051]
The electrode material that can be used in the method for introducing a sulfur-containing atomic group according to the present invention has a specific resistance of preferably 10ThreeΩ · cm or less, more preferably 100A conductor of Ω · cm or less can be used, for example, metal (for example, stainless steel, aluminum, or tungsten), conductive metal oxide, carbon, or conductor (for example, metal powder or carbon powder). Conductive rubber or the like in which rubber and rubber are combined can be used.
Moreover, as a shape of an electrode, a sheet-like electrode, a plate-like electrode, or a columnar electrode can be used, for example. When the porous body and the electrode move relatively as in the case of passing the porous body between the pair of roll electrodes, the porous body is made so that the surface of the porous body is hardly damaged. A cylindrical electrode that can rotate itself with the central axis of the cylinder as a rotation axis in synchronization with the parallel movement of the cylinder is preferable.
[0052]
The dielectric layer that can be used in the method for introducing a sulfur-containing atomic group according to the present invention may be non-porous as a whole or may include a porous portion as a part thereof. If only the dielectric layer composed entirely of a porous portion is used as the dielectric layer, a spark discharge may occur inside the object to be processed and the porous portion of the dielectric. Therefore, it is not preferable to use such a dielectric layer in the present invention. For the same reason, it is not preferable to use a dielectric layer including a porous portion continuous in the thickness direction as the dielectric layer.
When a dielectric layer having a porous portion is used on the contact surface with the object to be processed, the contact surface between the dielectric layer and the object to be processed is smaller than when a dielectric layer made entirely of non-porous material is used. Since it reduces, the outer surface of a to-be-processed object can be processed more efficiently.
[0053]
Examples of the material of the dielectric layer that can be used in the method for introducing a sulfur-containing atomic group according to the present invention include glass, ceramic (for example, alumina, titanium oxide, zirconia, strontium titanate, barium titanate, etc.), rubber ( For example, a synthetic rubber such as silicone rubber, chloroprene rubber, butadiene rubber, or natural rubber), or a thermoplastic resin (such as polytetrafluoroethylene, polyethylene, polypropylene, or polyester) can be used. Rubber or a thermoplastic resin is preferably used for the dielectric layer in contact with the porous body that is the object to be processed, particularly the contact surface, in terms of excellent elasticity. It is more preferable to use rubber from the viewpoint of excellent adhesiveness. In particular, it is preferable to use rubber that does not easily damage the surface of the object to be processed or polytetrafluoroethylene that is resistant to dielectric breakdown. From the viewpoint of durability, it is particularly preferable to use glass, ceramic or polytetrafluoroethylene.
Although the thickness of a dielectric material layer is not specifically limited, It is preferable that it is 0.01-20 mm, and it is more preferable that it is 0.1-10 mm. If it is thicker than 20 mm, a very high voltage is required for discharging, and if it is less than 0.01 mm, the mechanical strength decreases and dielectric breakdown tends to occur.
[0054]
In the method for introducing a sulfur-containing atomic group according to the present invention, the distance between the dielectric layer in the electrode provided with the dielectric layer on the opposite surface side and the object to be processed, or the electrode not carrying the dielectric layer, Although the distance with a process body is not specifically limited, It is preferable that it is 0 (namely, the state which is contacting)-100 mm. This is because if it exceeds 100 mm, a high voltage is required to generate electric discharge, and a hole may be formed in the porous body.
[0055]
In the method for introducing a sulfur-containing atomic group according to the present invention, as means for supplying the surface treatment gas to the internal voids of the porous body and / or the space between the porous body and the electrode or dielectric layer, for example, A method of forcibly sending a surface treatment gas into the porous body, a method of spraying a surface treatment gas in and around the porous body, a method of making the atmosphere of the surface treatment gas around the porous body, or Before placing between the pair of electrodes, a method of placing the porous body after filling the internal voids with the surface treatment gas in advance can be used. These methods can be used alone or in combination, and can be opened or closed. Can be implemented in the system. As the above-mentioned means, the inner space of the porous body is filled with the surface treatment gas in advance before being disposed between the electrodes (for example, after the surface treatment gas is passed through the inner space of the porous body). Is preferred. In the case of an I-type or II-type electrode pair-non-contact type arrangement, or an I-type or II-type electrode pair-single-sided contact type arrangement, the surface treatment gas is excellent in diffusibility, so that the discharge treatment can be performed uniformly. it can.
[0056]
For example, when a discharge is generated by applying a high voltage while supplying a surface treatment gas to the internal voids and / or surroundings of the porous body using a gas supply pipe or the like, the internal voids of the porous body, And / or by the action of the plasma generated in the space between the porous body and the electrode or dielectric layer, the sulfur-containing compound gas contained in the surface treatment gas reacts with the total surface of the porous body, resulting in porosity. It is possible to introduce a modification of the total surface of the mass, ie sulfur-containing atomic groups.
[0057]
In the method for introducing a sulfur-containing atomic group according to the present invention, it is preferable to perform a discharge treatment after attaching a surfactant to the porous body. Pretreatment with a surfactant tends to increase the amount of sulfur-containing atomic groups introduced. Examples of the surfactant include hydrocarbon-based, silicone-based, or fluorine-based surfactants.
[0058]
In the pretreatment with the surfactant, for example, the surfactant is dissolved or suspended in an appropriate solvent or medium, and the solution or suspension is impregnated into the porous body, or the solution or suspension is removed. After spraying or coating on the surface to be treated of the porous body, the surfactant can be supported on the surface to be treated of the porous body by removing only the solvent or medium.
[0059]
The method for introducing a sulfur-containing atomic group according to the present invention is not limited to the embodiment shown in FIG. 2 in which the discharge is generated while the porous body is stationary, and the porous body is continuously moved while moving the porous body. Total surface treatment can also be performed. In this case, the electrode is not limited to the following arrangement mode, but is a type II electrode pair-non-contact type arrangement (1-II) or a type II electrode pair-single-sided contact type arrangement (2-II). It is preferable to dispose a dielectric layer and an object to be processed. An embodiment of the method of the present invention that is continuously processed is shown in FIG. In the embodiment of the method of the present invention shown in FIG. 6, a type II electrode pair-double-sided contact type arrangement is adopted as an embodiment for arranging the porous body between the electrodes. Other aspects described so far (for example, type I or type II electrode pair—non-contact type arrangement, type I or type II electrode pair—single side contact type arrangement, or type I electrode pair—double side contact type arrangement) apply.
[0060]
In this embodiment, the columnar electrode 21 and the columnar electrode 22 are disposed so as to face each other. The surfaces of the electrodes 21 and 22 are covered with a dielectric layer 41 and a dielectric layer 42, respectively. The electrode 21 and the electrode 22 may be capable of rotating themselves with the cylindrical central axis as a rotation axis, or may be fixed without rotating. When the porous body moves, it is preferable that the electrode is capable of rotating itself with the central axis of the cylinder as a rotation axis in that it is difficult to damage the surface of the porous body.
[0061]
The electrode 21 is connected to the AC power source 51 and the electrode 22 is grounded. The porous body 11 includes a dielectric layer 41 and a dielectric layer 41 supported on the surfaces of the electrodes 21 and 22, respectively, by transfer means (for example, a pair of delivery rollers: not shown) provided upstream of the electrodes 21 and 22. The dielectric layer 42 is continuously supplied at a predetermined speed in the direction indicated by the arrow A, and passes between both dielectric layers 41 and 42 while being in contact therewith. The porous body 11 that has passed between the dielectric layers 41 and 42 is continuously transferred at a predetermined speed by a transfer means (for example, a pair of delivery rollers: not shown) provided downstream of the electrodes 21 and 22. Be transported. A driving means (for example, a motor) for supplying a driving force for transferring the porous body 11 can be connected to the feed roller and / or the rotatable electrode.
[0062]
The supply speed and the transfer speed of the porous body 11 are not particularly limited, and may be a constant speed or a speed that changes periodically or irregularly. These speeds are preferably constant speeds such that the surface treatment time of the porous body is 0.1 seconds or more. This is because if the speed is higher than this, a sufficient total surface treatment effect may not be obtained.
[0063]
When the porous body 11 passes between the dielectric layers 41 and 42 while being in contact therewith, the nozzle 63 provided on the side wall of the surface treatment gas supply pipes 61 and 64 from both sides of the porous body 11. , 65, when an AC high voltage is applied from the AC power source 51 while supplying the surface treatment gas to the treatment region, the gas is sandwiched between the contact surfaces of the dielectric layer 41 and the dielectric layer 42 and the porous body 11. Discharge occurs in the internal voids of the porous body 11, and plasma is generated. The surface treatment gas supply pipe 61 communicates with a gas cylinder (not shown) through a connecting pipe 62. Similarly, the surface treatment gas supply pipe 64 communicates with a gas cylinder (not shown). Due to the action of the plasma generated in the internal space of the porous body 11, the inner surface of the porous body 11 is modified, that is, the introduction of sulfur-containing atomic groups is performed. At this time, the plasma generated in the internal voids of the porous body 11 does not act on the contact surfaces between the dielectric layer 41 and the dielectric layer 42 and the porous body 11. However, since the porous body 11 is continuously transferred at a predetermined speed, the outer surface of the porous body 11 that is the contact surface is separated from the dielectric layer 41 and the dielectric layer 42 one after another, and separated. Immediately after this, sulfuric anhydride generated by the plasma reacts with the outer surface of the porous body, and the outer surface of the porous body 11 is modified.
[0064]
Since the porous body 11 is continuously transferred at a predetermined speed, the untreated porous body 11 is continuously supplied between the dielectric layers 41 and 42, while the total surface is modified. The broken porous body 11 is continuously supplied from between both the dielectric layers 41 and 42, and the total surface treatment of the porous body 11 can be performed continuously. In the embodiment shown in FIG. 2, by providing a transfer means (for example, the pair of delivery rollers), the porous body can be continuously transferred to perform continuous processing.
[0065]
In the embodiment shown in FIG. 6, only one cylindrical electrode 21 supporting the dielectric layer 41 is provided on the surface, but the number of electrodes 21 is not particularly limited, and one or a plurality of electrodes 21 are provided. Can be provided. Providing a plurality of electrodes carrying a dielectric layer so that an arbitrary point on the outer surface of the porous body can contact the dielectric layer carried on the surface of the electrode a plurality of times is effective. Is preferable in that it can increase the processing speed.
[0066]
As the porous body whose total surface can be treated by the method for introducing a sulfur-containing atomic group according to the present invention, a porous body made of any organic material can be used.
As the porous body, a porous body made of an organic material having an arbitrary whole and surface S / C ratio and a surface O / C ratio can be used, and the surface S / C ratio is 7 × 10.-FourIt is preferable to use a porous body made of a material having a surface O / C ratio of less than 0.2 and a surface S / C ratio of 7 × 10.-FourThe surface O / C ratio is less than 0.2, and the overall S / C ratio is 1 × 10-3It is more preferable to use a porous body made of a material less than the above, and it is even more preferable to use a porous body made of an organic material (particularly an organic synthetic polymer compound) substantially free of sulfur atoms and oxygen atoms.
[0067]
Examples of the organic material include various organic polymer compounds, particularly various organic synthetic polymer compounds, for example, polyolefins such as polyethylene and polypropylene, polyesters, polycarbonates, polyvinyl chloride, fluorinated ethylene propylene copolymers (FEP), and polypropylene. And vinylidene fluoride (PVDF) or vinylidene fluoride-trifluoroethylene copolymer.
[0068]
Examples of organic materials not containing sulfur atoms and oxygen atoms (especially organic synthetic polymer compounds) include polyolefins such as polypropylene, polyethylene, and polymethylpentene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyacrylonitrile, polytetrafluoroethylene ( PTFE), polystyrene, or polyimide.
[0069]
Examples of the porous body made of various materials include a fiber type porous body, a film type porous body, and a foam type porous body. A fibrous porous body consists of a woven fabric, a knitted fabric, or a nonwoven fabric, for example. Examples of the nonwoven fabric include a dry nonwoven fabric (for example, a hydroentangled nonwoven fabric, a needle punched nonwoven fabric, a binder-bonded nonwoven fabric, a heat-sealed nonwoven fabric, a spunbonded nonwoven fabric, or a melt blown nonwoven fabric), a wet nonwoven fabric, or a combination thereof. Can do. Examples of the foam include an open-cell foam made of a polyolefin-based, polyester-based, or polyurethane-based resin. Examples of the film-type porous body include a film having a concavo-convex structure and a holed film.
[0070]
The method for introducing a sulfur-containing atomic group according to the present invention can be applied particularly to the treatment of a fibrous porous body made of a non-conductive organic material (particularly an organic synthetic polymer compound), for example, a non-woven sheet, preferably The present invention can be applied to the treatment of nonwoven fabric sheets that can be used as battery separators (particularly alkaline battery separators). Non-woven fabrics that can be used as battery separators are not limited to these, but include, for example, polyolefin fibers, that is, polyethylene, ethylene copolymers, polypropylene, propylene copolymers, polybutenes, butenes. Non-woven fabric made of fibers containing at least one of a copolymer, polymethylpentene, or a pentene copolymer as a resin component, for example, water entanglement, thermal fusion, melt blow, or a combination thereof Can be used. It is preferable from the point of alkali resistance that the nonwoven fabric used as a battery separator consists essentially of polyolefin fibers.
[0071]
The battery separator of the present invention has a high surface S / C ratio and a surface O / C ratio at the same time, and is excellent in initial and long-term liquid retention and wettability. Therefore, the separator for primary batteries and secondary batteries In particular, it can be used as a separator for alkaline primary batteries and alkaline secondary batteries. Examples of the alkaline primary battery include an alkaline manganese battery, a mercury battery, a silver oxide battery, and an air battery. Examples of the alkaline secondary battery include a nickel-cadmium battery, a silver-zinc battery, A silver-cadmium battery, a nickel-zinc battery, a nickel-hydrogen battery, or the like can be given.
[0072]
【Example】
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of examples, but these do not limit the scope of the present invention.
[Example 1]
As the object to be treated, a nonwoven fabric obtained by hydroentangling a fiber web formed of polyethylene / polypropylene 17-divided fibers and then fusing polyethylene ultrafine fibers by fusion treatment was used.
The sulfur-containing atomic group introduction treatment was carried out by a type II electrode pair-single-sided contact arrangement (2-II). A flat stainless steel electrode (size = 150 mm × 210 mm) was used as the electrode, and a polytetrafluoroethylene (PTFE) film (thickness = 0.1 mm) was used as the dielectric layer. The non-woven fabric is arranged between the two electrodes carrying the PTFE membrane on the opposite surface side so as to come into contact with one PTFE membrane and the distance from the other PTFE membrane is 0.5 mm, as shown in FIG. A pulse voltage having a waveform (voltage = 6.8 KVp, peak current = 400 A, frequency = 75 Hz, rise time = 0.1 microsecond) was applied to the electrode to generate a discharge. In the treatment, after removing air (0.1 Torr) in advance, sulfur dioxide (SO2) A mixed gas of gas and air (mixing volume ratio = 1: 1) was sealed, and this was performed for 10 minutes in a sealed chamber (under atmospheric pressure).
[0073]
The surface S / C ratio and the surface O / C ratio on the surface of the treated nonwoven fabric were determined by an X-ray photoelectron spectrometer [JEOL Ltd. JPS-9000MX; excitation source = Mg-Kα, output = 10 KV-10 mA] The total S / C ratio in the whole treated nonwoven fabric was determined by ion chromatography. Table 1 shows the results of the obtained surface and overall S / C ratio and the surface O / C ratio. Moreover, the kind of atomic group introduced into the treated nonwoven fabric was determined by the X-ray photoelectron spectrometer. The types of atomic groups introduced into the treated nonwoven fabric are mainly SOFour, COOH, SOThreeH, OH, and CO.
When one drop of water was dropped on the treated nonwoven fabric, it was absorbed into the nonwoven fabric within 0.5 seconds. In addition, in the nonwoven fabric obtained by the comparative example 1 mentioned later, 3 seconds or more were required until the dripped water droplet was absorbed.
[0074]
[Comparative Example 1]
As a to-be-processed object, the same thing as the nonwoven fabric used in Example 1 was used. The nonwoven fabric was treated with fuming sulfuric acid having a concentration of 15% at a temperature of 60 ° C. for 2 minutes. The treated nonwoven fabric was analyzed by the method described in Example 1. Table 1 shows the results of the obtained surface and overall S / C ratio and the surface O / C ratio. The types of atomic groups introduced into the treated nonwoven fabric are mainly SOThreeH and SOFourMet.
[0075]
Figure 0004132354
[0076]
Examples 2 to 10
Various experiments were performed by changing the type of gas present during the discharge treatment.
(1) Object to be processed and processing conditions
As an object to be treated, a non-woven fabric (thickness = 0.0) obtained by hydroentangling a fiber web made of polyethylene / polypropylene 17-divided fibers, and further fusing polyethylene ultrafine fibers by fusion treatment. 25 mm) was used.
The sulfur-containing atomic group introduction treatment was carried out by a type II electrode pair-single-sided contact arrangement (2-II). A flat stainless steel electrode (size = 150 mm × 210 mm) was used as the electrode, and a polytetrafluoroethylene (PTFE) film (thickness = 0.26 mm) was used as the dielectric layer. The non-woven fabric was placed between the two electrodes carrying the PTFE membrane on the opposite surface side so as to come into contact with one PTFE membrane and the distance from the other PTFE membrane was 0.5 mm.
The applied pulse voltage is a pulse voltage having the waveform shown in FIG. 5 (voltage = 10 KVp, peak current density = 440 mA / cm2, Frequency = 125 Hz, rise time = 200 nsec).
[0077]
(2) Processing procedure
The specific processing procedure is as follows.
After setting an electrode and a nonwoven fabric in a vacuum desiccator, the pressure was reduced with a rotary pump. After the inside of the desiccator was replaced with the mixed gas shown in FIG. 7 three times by the gas mixer, the mixed gas shown in FIG. 7 was introduced to 1 atm. The above-mentioned pulse voltage was applied for 5 minutes to carry out a discharge treatment. Subsequently, the mixed gas was degassed and air was introduced. The nonwoven fabric was taken out, washed with water and then air dried.
[0078]
[Comparative Example 2]
The gas to be present during the discharge treatment is 6.5% by volume-SO.2The same operation as in Examples 2 to 10 was repeated except that /93.5% by volume-He gas was used.
[0079]
[Comparative Example 3]
After performing the discharge treatment in 100% He gas, the inside of the desiccator is replaced with oxygen gas, and the non-woven fabric is left for 15 minutes in the desiccator, and then 6.5 vol% -SO in the desiccator.2/93.5% by volume-He was introduced to 1 atm, and the same operations as in Examples 2 to 10 were repeated except that the solution was allowed to stand for 5 minutes.
[0080]
[Comparative Example 4]
As a to-be-processed object, the same thing as the nonwoven fabric used in Examples 2-10 was used. The nonwoven fabric was sulfonated by immersing in a fuming sulfuric acid bath (temperature 60 ° C.) having a concentration of 15% for 2 minutes, and then at an output of 1500 W for 60 seconds (load energy per unit area = 10.24 J / cm).2) Corona discharge treatment.
[0081]
【Evaluation of the physical properties】
(1) Overall S / C ratio of treated nonwoven fabric
The total S / C ratio of the treated nonwoven fabric was measured by the following procedure.
NaHCOThree(84 mg) is dissolved in pure water (100 ml) and 30% H2O2An aqueous solution (1 ml) was added to prepare an absorbing solution. This absorption liquid (5 ml) was put in a combustion flask (manufactured by Rika Hamada, FHO-A type, 500 ml), and the inner wall of the combustion flask was well wetted with the absorption liquid.
A sample (about 20 mg) was precisely weighed from the treated nonwoven fabric, wrapped in ashless filter paper, set in a platinum basket in the combustion flask, and then the combustion flask was filled with oxygen. A current was passed through the platinum soot to burn the sample. After the sample was burned, the combustion flask was shaken well and left for 10 minutes. 10 ml of pure water was put into the injection part of the combustion flask, the inner wall was washed with this pure water, and left for several minutes. The absorption liquid in the combustion flask was diluted to 50 ml with pure water using a measuring flask, and used as a test liquid.
Using ion chromatography (DIONEX, 2000i / SP), test solution SOFour 2-The concentration of was measured. In addition, SOFour 2-Calibration was performed using a standard solution.
The total S / C was calculated from the following formula.
Figure 0004132354
In the above formula, W is the sample mass (g), and a is the SOFour 2-Concentration (mg / ml), b is SOFour 2-Molecular weight (ie 96) and c is CThreeH6The molecular weight of (ie 42). In Examples 2 to 10 and Comparative Examples 2 to 4, the samples are made of polyolefin.ThreeH6The number of carbon atoms was calculated assuming that The results are shown in FIG.
[0082]
(2) Measurement of surface S / C ratio and surface O / C ratio
Measurement was performed under the following conditions using an X-ray photoelectron spectrometer (JPS-9010MX, manufactured by JEOL Ltd.).
A sample was cut out from the treated nonwoven fabric, washed with pure water, dried, and fixed to a sample holder. Using Mg—Kα as an excitation source, an applied voltage value of 10 KV, a beam current value of 10 mA, and a photoelectron escape angle of 90 °, carbon atoms (Cis) Peak area, sulfur atoms (2P3/2) Peak area and oxygen atoms (Ois) Were measured, the photoionization cross-sectional area was corrected, and the S / C ratio and the O / C ratio were calculated. The results are shown in FIG.
[0083]
(3) Battery capacity maintenance rate
As a current collector of the electrode, a paste type nickel positive electrode (width = 33 mm, length = 182 mm) using a foamed nickel base material and a paste type hydrogen storage alloy negative electrode (mesh metal alloy, width = 33 mm, length = 247 mm) ) And created. Next, a sample piece (width = 33 mm, length = 410 mm) was cut from the sulfonated nonwoven fabric prepared in Example 2, Example 3, Example 5, Example 7 and Example 10, and Comparative Examples 2 and 3. Then, each electrode was sandwiched between the positive electrode and the negative electrode and wound in a spiral shape, thereby creating an SC-type electrode group. After this electrode group is housed in an outer can, 5N potassium hydroxide and 1N-lithium hydroxide are injected into the outer can as an electrolytic solution, sealed, and a cylindrical nickel-hydrogen battery (capacity 2000 to 2100 mAh) is obtained. Created. Next, each cylindrical nickel-hydrogen battery was charged in a constant temperature bath at 20 ° C. for 12 hours (120% charge) at a charging rate of 0.1 C, and discharged at a discharging rate of 0.1 C until the final voltage reached 1 volt. The battery was activated by carrying out 5 cycles of charging / discharging in which one cycle was performed.
Then, charging was performed for 12 hours (120% charging) at a charging rate of 0.1 C in a constant temperature bath at 20 ° C., and discharging was performed at a discharging rate of 0.1 C until the final voltage reached 1 volt, and the initial capacity (A) was measured. .
Next, after charging for 12 hours (120% charging) at a charging rate of 0.1 C in a constant temperature bath at 20 ° C., it was left in a constant temperature room at a temperature of 65 ° C. for 5 days. Thereafter, the battery was discharged at a discharge rate of 0.1 C in a constant temperature bath at 20 ° C. until the final voltage reached 1 volt, and the remaining capacity (B) was measured. From these results, the capacity retention rate was calculated by the following formula.
Capacity maintenance rate (%) = (B / A) × 100
The results are shown in FIG. As shown in FIG. 7, it was found that when the overall S / C ratio was 2 or more, the capacity retention ratio was superior.
[0084]
【The invention's effect】
The sulfur-containing atomic group-introduced porous material according to the present invention has a high surface S / C ratio and a high surface O / C ratio at the same time. Not only is it improved, but it is also excellent in terms of its hydrophilic durability, and further, ion absorbability, ammonia adsorption, biocompatibility, etc. are newly imparted or improved.
According to the method for introducing a sulfur-containing atomic group according to the present invention, a sulfur-containing atomic group can be introduced into the total surface of the porous body with high efficiency by discharge under atmospheric pressure without using a large-scale apparatus, Treatment of waste liquid containing high concentration sulfuric acid is unnecessary. Further, since sulfur-containing atomic groups are mainly introduced on the surface of the material constituting the porous body, the strength of the porous body is hardly deteriorated. According to the method of the present invention, a novel sulfur-containing atomic group-introduced porous body exhibiting a high surface S / C ratio and a high surface O / C ratio can be produced.
[0085]
The battery separator of the present invention has the following various excellent effects because the surface S / C ratio and the surface O / C ratio simultaneously show high numerical values. That is, the battery separator of the present invention has excellent wettability. In addition, the battery separator of the present invention is newly imparted with a high degree of initial and long-term hydrophilicity, and is not only highly improved in hydrophilicity but also excellent in terms of durability of the hydrophilicity. Moreover, since it is excellent in oxidation resistance, it has a long life as a separator. Furthermore, since the battery separator of the present invention has an excellent capacity retention, the self-discharge suppressing action is high.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is an explanatory view schematically showing various aspects of the method of the present invention.
FIG. 2 is a sectional view schematically showing the basic principle of the method of the present invention.
FIG. 3 is an explanatory diagram showing the shape of a repetitive pulse wave that can be used in the method of the present invention.
FIG. 4 is an explanatory diagram showing the shape of another repetitive pulse wave that can be used in the method of the present invention.
FIG. 5 is an explanatory diagram showing still another repetitive pulse wave shape that can be used in the method of the present invention.
FIG. 6 is a perspective view schematically showing one embodiment of the method of the present invention.
FIG. 7 is a table showing the results of Examples 2 to 10 and Comparative Examples 2 to 4.
[Explanation of symbols]
11 ... porous body; 21, 22 ... electrode;
41, 42 ... non-porous dielectric layer; 51 ... AC power supply;
61, 64 ... gas supply pipes; 62 ... connecting pipes;
63, 65 ... nozzles.

Claims (9)

有機材料からなる多孔質体の総表面の少なくとも一部にイオウ含有原子団を導入したイオウ含有原子団導入多孔質体であって、
イオウ含有原子団を導入された表面においてX線光電子分光計により測定された炭素原子(C)の数に対するイオウ原子(S)の数の比(S/C)が7×10−4以上であり、
イオウ含有原子団を導入された表面においてX線光電子分光計により測定された炭素原子(C)の数に対する酸素原子(O)の数の比(O/C)が0.2以上であり、
イオウ含有原子団導入多孔質体全体における、炭素原子(C)の数に対するイオウ原子(S)の数の比(S/C)が1×10−3以上である
ことを特徴とする、イオウ含有原子団導入多孔質体。
A sulfur-containing atomic group-introduced porous body in which a sulfur-containing atomic group is introduced into at least a part of the total surface of the porous body made of an organic material ,
The ratio (S / C) of the number of sulfur atoms (S) to the number of carbon atoms (C) measured by an X-ray photoelectron spectrometer on the surface into which the sulfur-containing atomic group is introduced is 7 × 10 −4 or more. ,
The ratio (O / C) of the number of oxygen atoms (O) to the number of carbon atoms (C) measured by an X-ray photoelectron spectrometer on the surface introduced with the sulfur-containing atomic group is 0.2 or more,
The sulfur-containing atomic group-introduced porous body has a sulfur-containing ratio (S / C) of 1 × 10 −3 or more, which is the ratio of the number of sulfur atoms (S) to the number of carbon atoms (C). Atomic group introduction porous body.
イオウ含有原子団導入多孔質体全体における、炭素原子(C)の数に対するイオウ原子(S)の数の比(S/C=B)に対する、イオウ含有原子団を導入された表面においてX線光電子分光計により測定された炭素原子(C)の数に対するイオウ原子(S)の数の比(S/C=A)の比(A/B)が15以上である請求項1に記載のイオウ含有原子団導入多孔質体。  X-ray photoelectrons on the surface into which the sulfur-containing atomic group has been introduced, relative to the ratio (S / C = B) of the number of sulfur atoms (S) to the number of carbon atoms (C) in the entire sulfur-containing atomic group-introduced porous body The sulfur-containing ratio according to claim 1, wherein the ratio (A / B) of the number of sulfur atoms (S) to the number of carbon atoms (C) measured by a spectrometer (S / C = A) is 15 or more. Atomic group introduction porous body. イオウ含有原子団導入処理前の多孔質体がイオウ原子及び酸素原子を実質的に含有しない有機材料からなる、請求項1又は2に記載のイオウ含有原子団導入多孔質体。  The sulfur-containing atomic group-introduced porous material according to claim 1 or 2, wherein the porous material before the sulfur-containing atomic group-introducing treatment is made of an organic material that substantially does not contain sulfur atoms and oxygen atoms. 多孔質体が不織布である、請求項1〜3のいずれか一項に記載のイオウ含有原子団導入多孔質体。  The sulfur-containing atomic group-introduced porous body according to any one of claims 1 to 3, wherein the porous body is a nonwoven fabric. 請求項4に記載のイオウ含有原子団導入多孔質体からなる電池用セパレータ。  A battery separator comprising the sulfur-containing atomic group-introduced porous body according to claim 4. 少なくとも一方の電極の対向表面側に誘電体層を設けて対向して配置した一対の電極の間に、有機材料からなる多孔質体を配置し、表面処理用ガス全体の容量に対して10容積%以上のイオウ含有化合物ガスの存在下で、且つ、大気圧下にて、前記両電極間に電圧を印加して、放電を発生させることを特徴とする、多孔質体の総表面の少なくとも一部へのイオウ含有原子団導入方法。A porous body made of an organic material is disposed between a pair of electrodes disposed opposite to each other by providing a dielectric layer on the opposite surface side of at least one of the electrodes, and the volume of the surface treatment gas is 10 volumes. % Of a sulfur-containing compound gas and at atmospheric pressure, a voltage is applied between the electrodes to generate a discharge, and at least one of the total surface of the porous body is generated. To introduce sulfur-containing atomic groups into the plant. 少なくとも一方の電極の対向表面側に誘電体層を設けて対向して配置した一対の電極の間に、有機材料からなる多孔質体を配置し、表面処理用ガス全体の容量に対して10容積%以上のイオウ含有化合物ガスの存在下及び酸素ガスの存在下で、且つ、大気圧下にて、前記両電極間に電圧を印加して、放電を発生させることを特徴とする、多孔質体の総表面の少なくとも一部へのイオウ含有原子団導入方法。A porous body made of an organic material is disposed between a pair of electrodes disposed opposite to each other by providing a dielectric layer on the opposite surface side of at least one of the electrodes, and the volume of the surface treatment gas is 10 volumes. % Porous material characterized in that a discharge is generated by applying a voltage between the electrodes in the presence of a sulfur-containing compound gas and oxygen gas and at atmospheric pressure. A method for introducing a sulfur-containing atomic group into at least a part of the total surface of the substrate. それぞれの対向表面側に誘電体層を設けて対向して配置した一対の電極の間に、前記の一対の電極とはそれぞれ直接に接触しないが前記誘電体層のそれぞれと外側表面が直接に接触するように、有機材料からなる多孔質体を配置し、表面処理用ガス全体の容量に対して10容積%以上のイオウ含有化合物ガスの存在下で、且つ、大気圧下にて、前記両電極間に電圧を印加して、両電極間に挟まれた前記多孔質体の内部空隙で放電を発生させることを特徴とする、多孔質体の総表面の少なくとも一部へのイオウ含有原子団導入方法。Between the pair of electrodes arranged facing each other with a dielectric layer provided on each facing surface side, the pair of electrodes are not in direct contact with each other, but each of the dielectric layers is in direct contact with the outer surface. The porous body made of an organic material is disposed so that the two electrodes are present in the presence of 10% by volume or more of a sulfur-containing compound gas with respect to the total volume of the surface treatment gas and under atmospheric pressure. Introducing a sulfur-containing atomic group into at least a part of the total surface of the porous body, wherein a voltage is applied between the electrodes to generate an electric discharge in the internal space of the porous body sandwiched between the electrodes Method. 立ち上がり時間が1マイクロ秒以下である繰返しパルス電圧を前記両電極間に印加して、放電を発生させる請求項6〜8のいずれか一項に記載の方法。  The method according to any one of claims 6 to 8, wherein a discharge is generated by applying a repetitive pulse voltage having a rise time of 1 microsecond or less between the electrodes.
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