JP4136679B2 - Photothermographic material - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は熱現像感光材料に関するものである。さらに詳しくは、高感度、低かぶりで、生保存性およびプリントアウトなどの画像保存性に優れた熱現像感光材料に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
近年、医療分野や印刷製版分野において環境保全、省スペースの観点から写真現像処理のドライ化が強く望まれている。これらの分野では、デジタル化が進展し、画像情報をコンピューターに取り込み、保存、そして必要な場合には加工し、通信によって必要な場所で、レーザー・イメージセッターまたはレーザー・イメージャーにより感光材料に出力し、現像して画像をその場で作成するシステムが急速に広がってきている。感光材料としては、高い照度のレーザー露光で記録することができ、高解像度および鮮鋭さを有する鮮明な黒色画像を形成することがが必要とされている。このようなデジタル・イメージング記録材料としては、インクジェットプリンター、電子写真など顔料、染料を利用した各種ハードコピーシステムが一般画像形成システムとして流通しているが、医療用画像のように診断能力を決定する画質(鮮鋭度、粒状性、階調、色調)の点、記録スピード(感度)の点で、不満足であり、従来の湿式現像の医療用銀塩フィルムを代替できるレベルに到達していない。
【0003】
一方、有機銀塩を利用した熱画像形成システムが、知られている(例えば、特許文献1,2、および非特許文献1参照。)。 熱現像感光材料は、一般に、触媒活性量の光触媒(例、ハロゲン化銀)、還元剤、還元可能な銀塩(例、有機銀塩)、必要により銀の色調を制御する色調剤を、バインダーのマトリックス中に分散した感光性層を有している。
【0004】
熱現像感光材料は、画像露光後、高温(例えば80℃以上)に加熱し、ハロゲン化銀あるいは還元可能な銀塩(酸化剤として機能する)と還元剤との間の酸化還元反応により、黒色の銀画像を形成する。酸化還元反応は、露光で発生したハロゲン化銀の潜像の触媒作用により促進される。そのため、黒色の銀画像は、露光領域に形成される(例えば、特許文献3,4参照。)。そして熱現像感光材料による医療用画像形成システムとして富士メディカルドライイメージャーFM−DP Lが発売された。
【0005】
有機銀塩を利用した熱現像感光材料に対して、画像記録スピードを高めるためにより高い感度が求められ、また、医療診断能を高めるためにより低いかぶりが求められている。さらに、このような熱現像感光材料の生保存性および画像保存性を一段と向上させることが、従来の湿式現像の医療用銀塩画像記録材料を代替するために極めて重要である。
【0006】
この様な有機銀塩を利用した画像形成システムは、定着工程がないため現像処理後の画像保存性、特に光が当たったときのプリントアウトの悪化が大きな問題であった。このプリントアウトを改良する手段として有機銀塩をコンバージョンすることによって形成したヨウ化銀を利用する方法が開示されている(例えば、特許文献5.6参照。)。しかしながらここで開示されたような有機銀塩をヨードでコンバージョンする方法では十分な感度を得ることが出来ず現実のシステムを組むことは困難であった。その他ヨウ化銀を利用した感材としてはいくつかの特許文献に記載があるが(例えば、特許文献7〜11参照。)、いずれも十分な感度・かぶりレベルを達成できておらず、レーザー露光感材としての実用に耐えるものではなかった。
【0007】
ヨウ化銀写真乳剤の感度を増加させる手段としては、技術文献上、亜硝酸ナトリウム、ピロガロール、ハイドロキノンなどのハロゲン受容体や硝酸銀水溶液への浸漬や、pAg7.5で硫黄増感することなどにより、増感することが知られていた(例えば、非特許文献2〜4参照。)。しかし、実施例に示した様にこれらのハロゲン受容体の増感効果は、本発明が対象とする熱現像感光材料においてはその効果は非常に小さく極めて不十分であった。そのために、高ヨウ化銀を用いた熱現像感光材料において大幅に感度が増加できる技術の開発が熱望されてきた。
【0008】
液体現像処理のハロゲン化銀感光材料では、1光子で2電子を発生させる化合物を用いて増感する方法が知られている(例えば、特許文献12〜15参照。)。
【0009】
しかしながら、液体現像処理のハロゲン化銀感光材料は、ハロゲン化銀を一般には液体処理液中に含まれている現像薬(還元剤)で還元して銀像を形成するか、あるいは副生する現像薬の酸化体を利用してカラー画像を形成するものであり、基本反応はハロゲン化銀の現像薬による還元である。一方、熱現像感光材料においては、ハロゲン化銀は露光によって潜像を形成するだけであって、ハロゲン化銀自体は還元剤によっては還元されず、還元されるのは非感光性有機銀塩より供給される銀イオンである。還元剤も液体現像処理の場合は、ヒドロキノンやp−フェニレンジアミン類などのイオン性還元剤であるのに対して、熱現像感光材料の場合は、一般にはラジカル反応剤として知られているヒンダードフェノール誘導体である。
【0010】
このように、液体現像処理感光材料と熱現像感光材料では、現像反応(還元反応)の機構は全く異なり、用いられる化合物も全く系統を異にする。従って、液体現像処理で有効であった化合物が、そのまま熱現像感光材料に有効であるとはとても言えない。前述の米国特許群に記載の化合物についても、熱現像感光材料に適用することで、同じ効果が得られるのか、あるいは全く別の効果が期待できるのか、全く予想できない。ましてや高ヨウ化銀乳剤を用いた熱現像感光材料に適用することも全く想起できず、その効果を推測することも不可能であった。
【0011】
【特許文献1】
米国特許3152904号公報
【特許文献2】
米国特許3457075号公報
【特許文献3】
米国特許2910377号公報
【特許文献4】
特公昭43−4924号公報
【特許文献5】
U米国特許第6143488号公報
【特許文献6】
欧州特許第0922995号公報
【特許文献7】
WO97−48014号公報
【特許文献8】
WO97−48015号公報
【特許文献9】
米国特許第6165705号公報
【特許文献10】
特開平8−197345号公報
【特許文献11】
特許第2785129号公報
【特許文献12】
米国特許第5747235号公報
【特許文献13】
米国特許第5747236号公報
【特許文献14】
米国特許第6054260号公報
【特許文献15】
米国特許第5994051号公報
【非特許文献1】
D.H.クロスターベール(Klosterboer) 著、「熱によって処理される銀システム(Thermally Processed Silver Systems)」(イメージング・プロセッシーズ・アンド・マテリアルズ(Imaging Processes and Materials)Neblette 第8版、スタージ(Sturge)、V.ウオールワース(Walworth)、A.シェップ(Shepp) 編集、第9章、第279頁、1989年)
【非特許文献2】
P.B.ギルマン、フォトグラフィック サイエンス アンド エンジニアリング、18巻(5)、475頁(1974年発行)
【非特許文献3】
W.L.ガードナー、フォトグラフィック サイエンス アンド エンジニアリング、18巻(5)、475頁(1974年発行)
【非特許文献4】
T.H.ジェームス、フォトグラフィック サイエンス アンド エンジニアリング、5巻、216頁(1961年発行)
【0012】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、高感度、低かぶりで生保存性および画像のプリントアウト耐性に優れた熱現像感光材料を提供することを課題とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】
本発明の目的は、以下の熱現像感光材料によって達成された。
<1> 支持体の同一面上に感光性ハロゲン化銀、非感光性有機銀塩、還元剤、およびバインダーを含む画像形成層を有する熱現像感光材料であって、下記一般式(I)で表される感光性ハロゲン化銀への吸着基と還元基とを有する化合物またはその前駆体、および下記一般式(1)(2)及び(3)で表される化合物より選ばれる少なくとも1種の現像促進剤を含有することを特徴とする熱現像感光材料:
【化1】
(一般式(1)において、Q1は、炭素原子でNHNH−R1と結合する5〜7員の不飽和環を表し、R1はカルバモイル基を表す。一般式(2)及び(3)において、X2及びX3は、それぞれ独立して水素原子または置換基を表し、R21及びR31〜R32は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表す。但し、一般式(2)の化合物は、OH基に対して2−位にカルバモイル基を有する。m及びpはそれぞれ独立して0〜4の整数、nは0〜2の整数を表す。);
一般式(I)
A−(W)n−B
(式中、Aはハロゲン化銀に吸着可能な基を含む原子群を表し、Wは2価の連結基を表し、nは0または1を表し、Bはフェニドン類より誘導される還元基を表す。)。
【0015】
<2> 前記ハロゲン化銀への吸着基がジメルカプト置換ヘテロ環基であることを特徴とする<1>に記載の熱現像感光材料。
<3> 前記一般式(1)において、R1は−CO−NH−R1'で表される置換カルバモイル基であり、R1'が炭素数1ないし10のアルキル基またはアリール基であることを特徴とする<1>に記載の熱現像感光材料。
【0017】
<4> 前記還元剤が、下記一般式(7)で表されることを特徴とする<1>〜<3>のいずれかに記載の熱現像感光材料。
【0018】
【化4】
【0019】
(一般式(7)において、R71及びR71'は、それぞれ独立に炭素数1〜20のアルキル基を表す。R72及びR72'は、それぞれ独立に水素原子またはベンゼン環に置換可能な基を表す。X71及びX72'は、それぞれ独立に水素原子またはベンゼン環に置換可能な基を表す。Lは−S−基または−CHR73−基を表し、R73は水素原子またはアルキル基を表す。)
<5> 前記感光性ハロゲン化銀のヨウ化銀含量が、5モル%以上100モル%以下であることを特徴とする<1>〜<4>のいずれかに記載の熱現像感光材料。
<6> 前記感光性ハロゲン化銀のヨウ化銀含量が、40モル%以上100モル%以下であることを特徴とする<1>〜<5>のいずれかに記載の熱現像感光材料。
<7> レーザー光源により露光されることを特徴とする<1>〜<6>のいずれかに記載の熱現像感光材料。
<8> 前記レーザー光源が350nm〜450nmの波長のレーザー光源であることを特徴とする<7>に記載の熱現像感光材料。
<9> 前記レーザー光源が青色半導体レーザーであることを特徴とする<7>または<8>に記載の熱現像感光材料。
【0020】
【発明の実施の形態】
以下に本発明を詳細に説明する。
【0021】
(熱現像感光材料)
本発明の熱現像感光材料は、支持体の少なくとも一方面上に感光性ハロゲン化銀、非感光性有機銀塩、還元剤、及びバインダーを含有する画像形成層を有している。画像形成層は単層であっても複数の層より構成されても良い。また、画像形成層の上に中間層や表面保護層、あるいはその反対面にバック層やバック保護層などを有してもよい。
【0022】
これらの各層の構成、およびその好ましい成分について詳しく説明する。
【0023】
(吸着基と還元基を有する化合物)
本発明の熱現像感光材料は、分子内にハロゲン化銀への吸着基と還元基を有する化合物(本願では、吸着性レドックス化合物とも称する)を含有する。
本発明に用いられる吸着性レドックス化合物は、下記一般式(I)で表される化合物である。
【0024】
式(I)
A−(W)n−B
式中、Aはハロゲン化銀に吸着可能な基(以後、吸着基と呼ぶ)を表し、Wは2価の連結基を表し、nは0または1を表し、Bはフェニドン類より誘導される還元基を表す。
【0025】
次に式(I)について詳細に説明する。
式(I)中、Aで表される吸着基とはハロゲン化銀に直接吸着する基、またはハロゲン化銀への吸着を促進する基であり、具体的には、メルカプト基(またはその塩)、チオン基(−C(=S)−)、窒素原子、硫黄原子、セレン原子およびテルル原子から選ばれる少なくとも1つの原子を含むヘテロ環基、スルフィド基、ジスルフィド基、カチオン性基、またはエチニル基等が挙げられる。
【0026】
吸着基としてメルカプト基(またはその塩)とは、メルカプト基(またはその塩)そのものを意味すると同時に、より好ましくは、少なくとも1つのメルカプト基(またはその塩)の置換したヘテロ環基またはアリール基またはアルキル基を表す。ここにヘテロ環基とは、少なくとも5員〜7員の、単環もしくは縮合環の、芳香族または非芳香族のヘテロ環基、例えばイミダゾール環基、チアゾール環基、オキサゾール環基、ベンゾイミダゾール環基、ベンゾチアゾール環基、ベンゾオキサゾール環基、トリアゾール環基、チアジアゾール環基、オキサジアゾール環基、テトラゾール環基、プリン環基、ピリジン環基、キノリン環基、イソキノリン環基、ピリミジン環基、トリアジン環基等が挙げられる。また4級化された窒素原子を含むヘテロ環基でもよく、この場合、置換したメルカプト基が解離してメソイオンとなっていてもよく、この様なヘテロ環基の例としてはイミダゾリウム環基、ピラゾリウム環基、チアゾリウム環基、トリアゾリウム環基、テトラゾリウム環基、チアジアゾリウム環基、ピリジニウム環基、ピリミジニウム環基、トリアジニウム環基などが挙げられ、中でもトリアゾリウム環基(例えば1,2,4−トリアゾリウム−3−チオレート環基)が好ましい。アリール基としてはフェニル基またはナフチル基が挙げられる。アルキル基としては炭素数1〜30の直鎖または分岐または環状のアルキル基が挙げられる。メルカプト基が塩を形成するとき、対イオンとしてはアルカリ金属、アルカリ土類金属、重金属などのカチオン(Li+、Na+、K+、Mg2+、Ag+、Zn2+等)、アンモニウムイオン、4級化された窒素原子を含むヘテロ環基、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。
【0027】
吸着基としてのメルカプト基はさらにまた、互変異性化してチオン基となっていてもよく、具体的にはチオアミド基(ここでは−C(=S)−NH−基)、および該チオアミド基の部分構造を含む基、すなわち、鎖状もしくは環状のチオアミド基、チオウレイド基、チオウレタン基、またはジチオカルバミン酸エステル基などが挙げられる。ここで環状の例としてはチアゾリジン−2−チオン基、オキサゾリジン−2−チオン基、2−チオヒダントイン基、ローダニン基、イソローダニン基、チオバルビツール酸基、2−チオキソ−オキサゾリジン−4−オン基などが挙げられる。
【0028】
吸着基としてチオン基とは、上述のメルカプト基が互変異性化してチオン基となった場合を含め、メルカプト基に互変異性化できない(チオン基のα位に水素原子を持たない) 、鎖状もしくは環状のチオアミド基、チオウレイド基、チオウレタン基、またはジチオカルバミン酸エステル基も含まれる。
【0029】
吸着基として窒素原子、硫黄原子、セレン原子およびテルル原子から選ばれる少なくとも1つの原子を含むヘテロ環基とは、イミノ銀(>NAg)を形成しうる−NH−基をヘテロ環の部分構造として有する含窒素ヘテロ環基、または配位結合で銀イオンに配位し得る、“−S−”基または“−Se−”基または“−Te−”基または“=N−”基をヘテロ環の部分構造として有するヘテロ環基で、前者の例としてはベンゾトリアゾール基、トリアゾール基、インダゾール基、ピラゾール基、テトラゾール基、ベンゾイミダゾール基、イミダゾール基、プリン基などが、後者の例としてはチオフェン基、チアゾール基、オキサゾール基、ベンゾチオフェン基、ベンゾチアゾール基、ベンゾオキサゾール基、チアジアゾール基、オキサジアゾール基、トリアジン基、セレノアゾール基、ベンゾセレノアゾール基、テルルアゾール基、ベンゾテルルアゾール基などが挙げられる。好ましくは前者である。
【0030】
吸着基としてスルフィド基またはジスルフィド基とは、“−S−”または“−S−S−”の部分構造を有する基すべてが挙げられるが、好ましくはアルキル(またはアルキレン)−X−アルキル(またはアルキレン)、アリール(またはアリーレン)−X−アルキル(またはアルキレン)、アリール(またはアリーレン)−X−アリール(またはアリーレン)の部分構造を有する基で、ここにXは−S−基または−S−S−基を表す。さらにこれらのスルフィド基またはジスルフィド基は、環状構造を形成していてもよく、環状構造を形成する場合の具体例としてはチオラン環、1,3−ジチオラン環、1,2−ジチオラン環、チアン環、ジチアン環、チオモルホリン環などを含む基が挙げられる。スルフィド基として特に好ましくはアルキル(またはアルキレン)−S−アルキル(またはアルキレン)の部分構造を有する基が、またジスルフィド基として特に好ましくは1,2−ジチオラン環基が挙げられる。
【0031】
吸着基としてカチオン性基とは、4級化された窒素原子を含む基を意味し、具体的にはアンモニオ基または4級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基を含む基である。ここにアンモニオ基とは、トリアルキルアンモニオ基、ジアルキルアリールアンモニオ基、アルキルジアリールアンモニオ基などで、例えばベンジルジメチルアンモニオ基、トリヘキシルアンモニオ基、フェニルジエチルアンモニオ基などが挙げられる。4級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基とは、例えばピリジニオ基、キノリニオ基、イソキノリニオ基、イミダゾリオ基などが挙げられる。好ましくはピリジニオ基およびイミダゾリオ基であり、特に好ましくはピリジニオ基である。これら4級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基は任意の置換基を有していてもよいが、ピリジニオ基およびイミダゾリオ基の場合、置換基として好ましくはアルキル基、アリール基、アシルアミノ基、クロル原子、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基などが挙げられ、ピリジニオ基の場合、置換基として特に好ましくはフェニル基である。
吸着基としてエチニル基とは、−C≡CH基を意味し、該水素原子は置換されていてもよい。
【0032】
上記の吸着基は任意の置換基を有していてもよい。置換基としては、例えばハロゲン原子(フッ素原子、クロル原子、臭素原子、または沃素原子)、アルキル基(直鎖、分岐、環状のアルキル基で、ビシクロアルキル基や活性メチン基を含む)、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基(置換する位置は問わない)、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロ環オキシカルボニル基、カルバモイル基、N−ヒドロキシカルバモイル基、N−アシルカルバモイル基、N−スルホニルカルバモイル基、N−カルバモイルカルバモイル基、チオカルバモイル基、N−スルファモイルカルバモイル基、カルバゾイル基、カルボキシ基またはその塩、オキサリル基、オキサモイル基、シアノ基、カルボンイミドイル基(Carbonimidoyl基)、ホルミル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基(エチレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基単位を繰り返し含む基を含む)、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、(アルコキシもしくはアリールオキシ)カルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルホニルオキシ基、アミノ基、(アルキル,アリール,またはヘテロ環)アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、N−ヒドロキシウレイド基、イミド基、(アルコキシもしくはアリールオキシ)カルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、セミカルバジド基、チオセミカルバジド基、ヒドラジノ基、アンモニオ基、オキサモイルアミノ基、N−(アルキルもしくはアリール)スルホニルウレイド基、N−アシルウレイド基、N−アシルスルファモイルアミノ基、ヒドロキシアミノ基、ニトロ基、4級化された窒素原子を含むヘテロ環基(例えばピリジニオ基、イミダゾリオ基、キノリニオ基、イソキノリニオ基)、イソシアノ基、イミノ基、メルカプト基、(アルキル,アリール,またはヘテロ環)チオ基、(アルキル,アリール,またはヘテロ環)ジチオ基、(アルキルまたはアリール)スルホニル基、(アルキルまたはアリール)スルフィニル基、スルホ基またはその塩、スルファモイル基、N−アシルスルファモイル基、N−スルホニルスルファモイル基またはその塩、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基等が挙げられる。なおここで活性メチン基とは2つの電子求引性基で置換されたメチン基を意味し、ここに電子求引性基とはアシル基、アルコシキカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基、カルボンイミドイル基(Carbonimidoyl基)を意味する。ここで2つの電子求引性基は互いに結合して環状構造をとっていてもよい。また塩とは、アルカリ金属、アルカリ土類金属、重金属などの陽イオンや、アンモニウムイオン、ホスホニウムイオンなどの有機の陽イオンを意味する。
【0033】
さらに吸着基の具体例としては、さらに特開平11−95355号の明細書p4〜p7に記載されているものが挙げられる。
【0034】
式(I)中、Aで表される吸着基としてより好ましいものは、メルカプト置換ヘテロ環基(例えば2−メルカプトチアジアゾール基、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール基、5−メルカプトテトラゾール基、2−メルカプト−1,3,4−オキサジアゾール基、2−メルカプトベンズチアゾール基、2−メルカプトベンズイミダゾール基、1,5−ジメチル−1,2,4−トリアゾリウム−3−チオレート基など)、ジメルカプト置換ヘテロ環基(例えば2,4−ジメルカプトピリミジン基、2,4−ジメルカプトトリアジン基、3,5−ジメルカプト−1,2,4−トリアゾール基、2,5−ジメルカプト−1,3−チアゾール基など)、またはイミノ銀(>NAg)を形成しうる−NH−基をヘテロ環の部分構造として有する含窒素ヘテロ環基(例えばベンゾトリアゾール基、ベンズイミダゾール基、インダゾール基など)であり、特に好ましいものはジメルカプト置換ヘテロ環基である。
【0035】
式(I)中、Wは2価の連結基を表す。該連結基は写真性に悪影響を与えないものであればどのようなものでも構わない。例えば炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子から構成される2価の連結基が利用できる。具体的には炭素数1〜20のアルキレン基(例えばメチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基等)、炭素数2〜20のアルケニレン基、炭素数2〜20のアルキニレン基、炭素数6〜20のアリーレン基(例えばフェニレン基、ナフチレン基等)、−CO−、−SO2−、−O−、−S−、−NR1−、これらの連結基の組み合わせ等があげられる。ここでR1は水素原子、脂肪族基、アリール基を表わす。R1で表される脂肪族基は好ましくは、炭素数1〜30のものであって特に炭素数1〜20の直鎖、分岐または環状のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基(例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、t−ブチル基、n−オクチルル基、n−デシル基、n−へキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アリル基、2−ブテニル基、3−ペンテニル基、プロパルギル基、3−ペンチニル基、ベンジル基等)が挙げられ、R1で表されるアリール基は好ましくは、炭素数6〜30、さらに好ましくは炭素数6〜20の単環または縮環のアリール基であり、例えばフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。 Wで表される連結基は任意の置換基を有していてもよく、この任意の置換基は前述の吸着基の置換基として説明したものと同義である。
【0036】
式(I)中、Bで表される還元基とは銀イオンを還元可能な基を表し、例えばホルミル基、アミノ基、アセチレン基やプロパルギル基などの3重結合基、メルカプト基、ヒドロキシルアミン類、ヒドロキサム酸類、ヒドロキシウレア類、ヒドロキシウレタン類、ヒドロキシセミカルバジド類、レダクトン類(レダクトン誘導体を含む)、アニリン類、フェノール類(クロマン-6-オール類、2,3-ジヒドロベンゾフラン-5-オール類、アミノフェノール類、スルホンアミドフェノール類、およびハイドロキノン類、カテコール類、レゾルシノール類、ベンゼントリオール類、ビスフェノール類のようなポリフェノール類を含む)、ヒドラジン類、ヒドラジド類、フェニドン類から選ばれる化合物から誘導される残基等が挙げられる。
【0037】
式(I)中、Bで表される好ましい還元基は、下記式B1ないしB13で表される化合物から誘導される残基である。
【0038】
【化5】
【0039】
式(B1)〜(B13)において、Rb1、Rb2、Rb3、Rb4、Rb5、Rb70、Rb71、Rb110、Rb111、Rb112、Rb113、Rb12、Rb13、RN1、RN2、RN3、RN4、RN5は水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基を表し、RH3、RH5、R'H5、RH12、R'H12、RH13は水素原子、アルキル基、アリール基、アシル基、アルキルスルホニル基もしくはアリールスルホニル基を表し、このうちRH3はさらにヒドロキシ基であってもよい。Rb100、Rb101、Rb102、Rb130〜Rb133は水素原子または置換基を表す。Y7、Y8はヒドロキシ基を除く置換基を表し、Y9は置換基を表し、m5は0または1、m7は0〜5の整数、m8は1〜5の整数、m9は0〜4の整数を表す。Y7、Y8、Y9はさらにベンゼン環に縮合するアリール基(例えばベンゼン縮合環)であってもよく、さらにこれが置換基を有していてもよい。Z10は環を形成し得る非金属原子団を表し、X12は水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アミノ基(アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、または環状のアミノ基を含む)、カルバモイル基を表す。
【0040】
式(B6)においてX6、X'6はそれぞれヒドロキシ基、アルコキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アミノ基(アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、または環状のアミノ基を含む)、アシルアミノ基、スルホンアミド基、アルコキシカルボニルアミノ基、ウレイド基、アシルオキシ基、アシルチオ基、アルキルアミノカルボニルオキシ基、またはアリールアミノカルボニルオキシ基を表す。Rb60、Rb61はアルキル基、アリール基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基を表し、Rb60とRb61は互いに結合して環状構造を形成していてもよい。
【0041】
上記の式(B1)〜(B13)の各基の説明の中で、アルキル基とは炭素数1〜30の、直鎖、分岐もしくは環状の、置換もしくは無置換のアルキル基を意味し、アリール基とはフェニル基やナフチル基のような、単環もしくは縮合環の、置換もしくは無置換の芳香族炭化水素環を表し、ヘテロ環基とはヘテロ原子を少なくとも1つ含有する、芳香族もしくは非芳香族の、単環もしくは縮合環の、置換もしくは無置換のヘテロ環基を意味する。
また式(B1)〜(B13)の各基の説明の中で述べられている置換基とは前述の吸着基の置換基と同義である。これら置換基はこれら置換基でさらに置換されていてもよい。
【0042】
式(B1)〜(B5)においてRN1、RN2、RN3、RN4、RN5は、好ましくは水素原子またはアルキル基で、ここにアルキル基として好ましくは炭素数1〜12の、直鎖、分岐もしくは環状の、置換もしくは無置換のアルキル基で、より好ましくは炭素数1〜6の、直鎖もしくは分岐の、置換もしくは無置換のアルキル基であり、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ベンジル基などである。
【0043】
式(B1)においてRb1は好ましくはアルキル基またはヘテロ環基で、ここにアルキル基とは直鎖、分岐もしくは環状の、置換もしくは無置換のアルキル基で、好ましくは炭素数1〜30の、より好ましくは炭素数1〜18のアルキル基である。ヘテロ環基とは5員もしくは6員の単環または縮合環の、芳香族または非芳香族のヘテロ環基で、置換基を有していてもよい。ヘテロ環基として好ましくは芳香族ヘテロ環基で、例えばピリジン環基、ピリミジン環基、トリアジン環基、チアゾール環基、ベンゾチアゾール環基、オキサゾール環基、ベンゾオキサゾール環基、イミダゾール環基、ベンゾイミダゾール環基、ピラゾール環基、インダゾール環基、インドール環基、プリン環基、キノリン環基、イソキノリン環基、キナゾリン環基などが挙げられ、特にトリアジン環基、ベンゾチアゾール環基が好ましい。Rb1で表されるアルキル基またはヘテロ環基が、その置換基として−N(R N1)OH基をさらに1つもしくは2つ以上有する場合もまた式(B1)で表される化合物の好ましい例の一つである。
【0044】
式(B2)においてRb2は好ましくはアルキル基、アリール基、またはヘテロ環基で、より好ましくはアルキル基またはアリール基である。アルキル基の好ましい範囲はRb1における説明と同じである。アリール基として好ましくはフェニル基またはナフチル基で、フェニル基が特に好ましく、置換基を有していてもよい。Rb2で表される基がその置換基として−CON(R N2)OH基をさらに1つもしくは2つ以上有する場合もまた式(B2)で表される化合物の好ましい例の一つである。
【0045】
式(B3)においてRb3は好ましくはアルキル基またはアリール基で、これらの好ましい範囲はRb1およびRb2における説明と同じである。RH3は好ましくは水素原子、アルキル基、またはヒドロキシ基であり、より好ましくは水素原子である。Rb3で表される基がその置換基として−N(RH3)CON(R N3)OH基をさらに1つもしくは2つ以上有する場合もまた式(B3)で表される化合物の好ましい例の一つである。またRb3とRN3とが結合して環構造(好ましくは5員または6員の飽和のヘテロ環)を形成していてもよい。
【0046】
式(B4)においてR b4は好ましくはアルキル基で、その好ましい範囲はRb1における説明と同じである。Rb4で表される基がその置換基として−OCON(R N4)OH基をさらに1つもしくは2つ以上有する場合もまた式(B4)で表される化合物の好ましい例の一つである。
式(B5)においてRb5は好ましくはアルキル基またはアリール基、より好ましくはアリール基で、これらの好ましい範囲はRb1およびRb2における説明と同じである。RH5、R'H5は好ましくは水素原子またはアルキル基で、より好ましくは水素原子である。
【0047】
式(B6)においてRb60、Rb61は、互いに結合して環構造を形成する場合が好ましい。ここで形成される環状構造は、5員〜7員の非芳香族の炭素環もしくはヘテロ環で、単環でも縮合環であってもよい。環構造の好ましい例を具体的に挙げれば、例えば2−シクロペンテン−1−オン環、2,5−ジヒドロフラン−2−オン環、3−ピロリン−2−オン環、4−ピラゾリン−3−オン環、2−シクロヘキセン−1−オン環、5,6−ジヒドロ−2H−ピラン−2−オン環、5,6−ジヒドロ−2−ピリドン環、1,2−ジヒドロナフタレン−2−オン環、クマリン環(ベンゾ−α−ピラン−2−オン環)、2−キノロン環、1,4−ジヒドロナフタレン−1−オン環、クロモン環(ベンゾ−γ−ピラン−4−オン環)、4−キノロン環、インデン−1−オン環、3−ピロリン−2,4−ジオン環、ウラシル環、チオウラシル環、ジチオウラシル環などが挙げられ、より好ましくは2−シクロペンテン−1−オン環、2,5−ジヒドロフラン−2−オン環、3−ピロリン−2−オン環、4−ピラゾリン−3−オン環、1,2−ジヒドロナフタレン−2−オン環、クマリン環(ベンゾ−α−ピラン−2−オン環)、2−キノロン環、1,4−ジヒドロナフタレン−1−オン環、クロモン環(ベンゾ−γ−ピラン−4−オン環)、4−キノロン環、インデン−1−オン環、ジチオウラシル環などであり、さらに好ましくは2−シクロペンテン−1−オン環、2,5−ジヒドロフラン−2−オン環、3−ピロリン−2−オン環、インデン−1−オン環、4−ピラゾリン−3−オン環である。
【0048】
X6、X'6が環状のアミノ基を表す時、環状のアミノ基とは窒素原子で結合する非芳香族の含窒素ヘテロ環基で、例えばピロリジノ基、ピペリジノ基、ピペラジノ基、モルホリノ基、1,4−チアジン−4−イル基、2,3,5,6−テトラヒドロ−1,4−チアジン−4−イル基、インドリル基などである。
X6、X'6として好ましくは、ヒドロキシ基、メルカプト基、アミノ基(アルキルアミノ基、アリールアミノ基、または環状のアミノ基を含む)、アシルアミノ基、スルホンアミド基、またはアシルオキシ基、アシルチオ基であり、より好ましくはヒドロキシ基、メルカプト基、アミノ基、アルキルアミノ基、環状のアミノ基、スルホンアミド基、アシルアミノ基、またはアシルオキシ基であり、特に好ましくはヒドロキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、環状のアミノ基である。さらにX6およびX'6のうち少なくとも1つはヒドロキシ基であることが好ましい。
【0049】
式(B7)においてRb70、Rb71は好ましくは水素原子、アルキル基またはアリール基で、より好ましくはアルキル基である。アルキル基の好ましい範囲はRb1における説明と同じである。Rb70、Rb71は互いに結合して環状構造(例えばピロリジン環、ピペリジン環、モルホリノ環、チオモルホリノ環など)を形成していてもよい。Y7で表される置換基として好ましくはアルキル基(その好ましい範囲はRb1における説明と同じ)、アルコキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、クロル原子、スルホ基またはその塩、カルボキシ基またはその塩などで、m7は好ましくは0〜2を表す。
【0050】
式(B8)においてmは1〜4が好ましく、複数のY8は同じでも異なっていてもよい。m8が1の時のY8、もしくはm8が2以上の時の複数のY8のうち少なくとも1つは、アミノ基(アルキルアミノ基、アリールアミノ基を含む)、スルホンアミド基、もしくはアシルアミノ基であることが好ましい。m8が2以上の時、残るY8はスルホンアミド基、アシルアミノ基、ウレイド基、アルキル基、アルキルチオ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホ基またはその塩、カルボキシ基またはその塩、クロル原子などが好ましい。ここにY8で表される置換基として、ヒドロキシ基のオルト位またはパラ位に、o’−(またはp’−)ヒドロキシフェニルメチル基(さらに置換基を有していてもよい)が置換されている場合には、一般にビスフェノール類と呼ばれる化合物群を表すが、この場合もまた、式(B8)で表される化合物の好ましい例の一つである。さらに、Y8がベンゼン縮合環を表し、その結果式(B8)がナフトール類を表す場合も非常に好ましい。
【0051】
式(B9)において2つのヒドロキシ基の置換位置は、互いにオルト位(カテコール類)、メタ位(レゾルシノール類)またはパラ位(ハイドロキノン類)であってよい。m9は1〜2が好ましく、複数のY9は同じでも異なっていてもよい。Y9で表される置換基として好ましくは、クロル原子、アシルアミノ基、ウレイド基、スルホンアミド基、アルキル基、アルキルチオ基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホ基またはその塩、カルボキシ基またはその塩、ヒドロキシ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基などが挙げられる。Y9がベンゼン縮合環を表し、その結果式(B9)が1,4−ナフトハイドロキノン類を表す場合もまた好ましい。式(B9)がカテコール類を表す時、Y9は特にスルホ基またはその塩、ヒドロキシ基が好ましい。
【0052】
式(B10)においてRb100、Rb101、Rb102が置換基を表す時、置換基の好ましい例は、Y9の好ましい例と同じである。中でもアルキル基(特にメチル基)が好ましい。Z10が形成する環構造として好ましくは、クロマン環、2,3-ジヒドロベンゾフラン環であり、これらの環構造は置換基を有していてもよく、またスピロ環を形成していてもよい。
式(B11)においてRb110、Rb111、Rb112、Rb113として好ましくは、アルキル基、アリール基、またはヘテロ環基で、これらの好ましい範囲はRb1およびRb2における説明と同じである。中でもアルキル基が好ましく、Rb110〜Rb113のうち2つのアルキル基が結合して環状構造を形成していてもよい。ここに環状構造とは5員または6員の非芳香族のヘテロ環で、例えばピロリジン環、ピペリジン環、モルホリノ環、チオモルホリノ環、ヘキサヒドロピリダジン環などが挙げられる。
【0053】
式(B12)においてRb12として好ましくは、アルキル基、アリール基、またはヘテロ環基で、これらの好ましい範囲はRb1およびRb2における説明と同じである。X12は好ましくはアルキル基、アリール基(特にフェニル基)、ヘテロ環基、アルコキシ基、アミノ基(アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、または環状のアミノ基を含む)、カルバモイル基であり、アルキル基(特に炭素数1〜8のアルキル基が好ましい)、アリール基(特にフェニル基が好ましい)、アミノ基(アルキルアミノ基、アリールアミノ基、または環状のアミノ基を含む)がより好ましい。RH12、R'H12は好ましくは水素原子またはアルキル基、より好ましくは水素原子である。
【0054】
式(B13)においてRb13は好ましくはアルキル基またはアリール基であり、これらの好ましい範囲はRb1およびRb2における説明と同じである。Rb130、Rb131、Rb132、Rb133は好ましくは水素原子、アルキル基(特に炭素数1〜8が好ましい)、アリール基(特にフェニル基が好ましい)である。RH13は水素原子またはアシル基が好ましく、水素原子がより好ましい。
【0055】
式(I)中、Bで表される還元基は、フェニドン類より誘導される基である。
【0056】
式(I)中、Bで表される還元基はその酸化電位を、藤嶋昭著「電気化学測定法」(150-208頁、技報堂出版)や日本化学会編著「実験化学講座」第4版(9巻282-344頁、丸善)に記載の測定法を用いて測定することができる。例えば回転ディスクボルタンメトリーの技法で、具体的には試料をメタノール:pH6.5 ブリトン−ロビンソン緩衝液(Britton-Robinson buffer)=10%:90%(容量%)の溶液に溶解し、10分間窒素ガスを通気した後、グラッシーカーボン製の回転ディスク電極(RDE)を作用電極に用い、白金線を対極に用い、飽和カロメル電極を参照電極に用いて、25℃、1000回転/分、20mV/秒のスイープ速度で測定できる。得られたボルタモグラムから半波電位(E1/2)を求めることができる。
本発明のBで表される還元基は上記測定法で測定した場合、その酸化電位が約−0.3V〜約1.0Vの範囲にあることが好ましい。より好ましくは約−0.1V〜約0.8Vの範囲であり、特に好ましくは約0〜約0.7Vの範囲である。
【0057】
本発明のBで表される還元基は写真業界においてその多くが公知の化合物であり、その例は以下の特許にも記載されている。例えば特開2001−42466号、特開平8−114884号、特開平8−314051号、特開平8−333325号、特開平9−133983号、特開平11−282117号、特開平10−246931号、特開平10−90819号、特開平9−54384号、特開平10−171060、特開平7−77783。またフェノール類の一例として米国特許6054260号に記載の化合物も挙げられる。
【0058】
本発明の式(I)の化合物は、その中にカプラー等の不動性写真用添加剤において常用されているバラスト基またはポリマー鎖が組み込まれているものでもよい。またポリマーとしては、例えば特開平1−100530号に記載のものが挙げられる。
【0059】
本発明の式(I)の化合物はビス体、トリス体であっても良い。本発明の式(I)の化合物の分子量は好ましくは100〜10000の間であり、より好ましくは120〜1000の間であり、特に好ましくは150〜500の間である。
【0060】
以下に本発明の式(I)の化合物を例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。また、特開2000−330247号公報、特開2001−42446号公報に例示されている化合物も好ましい例である。
【0061】
【化6】
【0062】
【化7】
【0063】
【化8】
【0064】
【化9】
【0065】
【化10】
【0066】
【化11】
【0067】
【化12】
【0068】
【化13】
【0069】
【化14】
【0070】
本発明の化合物は公知の方法にならって容易に合成することが出来る。
本発明の式(I)の化合物は、一種類の化合物を単独で用いてもよいが、同時に2種以上の化合物を用いることも好ましい。2種類以上の化合物を用いる場合、それらは同一層に添加しても、別層に添加してもよく、またそれぞれ添加方法が異なっていてもよい。
【0071】
本発明の式(I)の化合物は、ハロゲン化銀乳剤と同一層に添加されることが好ましく、ハロゲン化銀乳剤調製時、あるいは塗布液調製時に添加することができる。ハロゲン化銀乳剤調製時に添加することがより好ましい。ハロゲン化銀乳剤調製時に添加する場合、その工程中のいかなる場合に添加することも可能であり、その例を挙げると、ハロゲン化銀の粒子形成工程、脱塩工程の開始前、脱塩工程、化学熟成の開始前、化学熟成の工程、完成乳剤調製前の工程などを挙げることができる。またこれらの工程中の複数回にわけて添加することもできる。またハロゲン化銀乳剤層に使用するのが好ましいが、ハロゲン化銀乳剤層とともに隣接する保護層や中間層に添加しておき、塗布時に拡散させてもよい。
好ましい添加量は、上述した添加法や添加する化合物種に大きく依存するが、一般には感光性ハロゲン化銀1モル当たり、1×10-6〜1モル、好ましくは1×10-5〜5×10-1モルさらに好ましくは1×10-4〜1×10-1モルである。
【0072】
本発明の式(I)の化合物は、水、メタノール、エタノールなどの水可溶性溶媒またはこれらの混合溶媒に溶解して添加することができる。この際、酸または塩基によってpHを適当に調整してもよく、また界面活性剤を共存させてもよい。さらに乳化分散物として高沸点有機溶媒に溶解させて添加することもできる。また、固体分散物として添加することもできる。
【0073】
(現像促進剤)
本発明に用いられる現像促進剤について詳細に説明する。
本発明に用いられる現像促進剤とは、支持体上に少なくとも1層の感光性ハロゲン化銀、非感光性有機銀塩、還元剤及びバインダーを含有する感光性層を有する熱現像感光材料において、該還元剤(主還元剤という)に対してモル比で10%置換したときに、置換しないときに対して濃度=1.0における感度が0.05以上上昇する化合物である。
【0074】
現像促進剤としては、5モル%置換したときの感度上昇が0.05以上の化合物が好ましく、2モル%置換したときの感度上昇が0.05以上の化合物がさらに好ましい。
【0075】
前記現像促進剤としては、熱現像において前記の様に主還元剤に置換したときに感度を上昇させる化合物であればどのような化合物でも用いることができる。いわゆる還元剤を用いることが好ましい。具体的には、アミノフェノール類、p−フェニレンジアミン類、スルホンアミドフェノール類、カルボンアミドフェノール類、1−フェニル−5−ピラゾリドン類、アスコルビン酸、ヒドラジン類、フェノール類、ナフトール類などの化合物を用いることができる。中でも、スルホンアミドフェノール類(たとえば特開平10−221806号記載の一般式(1)で表される化合物、特開2000−267222号に記載の式(A)で表される化合物)、ヒドラジン類が好ましい。
本発明においては、下記一般式(1)〜(3)で表される化合物より選ばれる少なくとも1種の現像促進剤を含有する。
【0076】
【化15】
【0077】
(一般式(1)において、Q1は、炭素原子でNHNH−R1と結合する5〜7員の不飽和環を表し、R1はカルバモイル基を表す。一般式(2)及び(3)において、X2及びX3は、それぞれ独立して水素原子または置換基を表し、R21及びR31〜R32は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表す。但し、一般式(2)の化合物は、OH基に対して2−位にカルバモイル基を有する。m及びpはそれぞれ独立して0〜4の整数、nは0〜2の整数を表す。)。
【0078】
本発明における現像促進剤として最も好ましい化合物は、前記一般式(1)で表される化合物(ヒドラジン誘導体)である。本発明の熱現像感光材料は、支持体上に、感光性ハロゲン化銀及び非感光性銀塩と同一の面に、前記一般式(1)で表される還元性化合物を有することが好ましい。
【0079】
前記一般式(1)で表される還元性化合物は、ヒドラジン系現像主薬と総称される現像主薬である。式中、Q1は、炭素原子でNHNH−R1と結合する5〜7員の不飽和環を表し、R1はカルバモイル基を表す。
【0080】
一般式(1)においてQ1で表される5〜7員の不飽和環の好ましい例としては、ベンゼン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、1,2,4−トリアジン環、1,3,5−トリアジン環、ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、1,2,3−トリアゾール環、1,2,4−トリアゾール環、テトラゾール環、1,3,4−チアジアゾール環、1,2,4−チアジアゾール環、1,2,5−チアジアゾール環、1,3,4−オキサジアゾール環、1,2,4−オキサジアゾール環、1,2,5−オキサジアゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、イソチアゾール環、イソオキサゾール環、チオフェン環等が挙げられ、これらの環が互いに縮合した縮合環も好ましい。
【0081】
これらの環は置換基を有していてもよく、2個以上の置換基を有する場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、カルボンアミド基、アルキルスルホンアミド基、アリールスルホンアミド基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、カルバモイル基、スルファモイル基、シアノ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、及びアシル基を挙げることができる。
【0082】
これらの置換基が置換可能な基である場合、さらに置換基を有してもよく、好ましい置換基の例としては、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、カルボンアミド基、アルキルスルホンアミド基、アリールスルホンアミド基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、シアノ基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、およびアシルオキシ基を挙ることができる。
【0083】
一般式(1)においてR1で表されるカルバモイル基は、炭素数1〜50が好ましく、炭素数6〜40がより好ましい。具体的には、無置換カルバモイル基、メチルカルバモイル基、N−エチルカルバモイル基、N−プロピルカルバモイル基、N−sec−ブチルカルバモイル基、N−オクチルカルバモイル基、N−シクロヘキシルカルバモイル基、N−tert−ブチルカルバモイル基、N−ドデシルカルバモイル基、N−(3−ドデシルオキシプロピル)カルバモイル基、N−オクタデシルカルバモイル基、N−{3−(2,4−tert−ペンチルフェノキシ)プロピル}カルバモイル基、N−(2−ヘキシルデシル)カルバモイル基、N−フェニルカルバモイル基、N−(4−ドデシルオキシフェニル)カルバモイル基、N−(2−クロロ−5−ドデシルオキシカルボニルフェニル)カルバモイル基、N−ナフチルカルバモイル基、N−3−ピリジルカルバモイル基、N−ベンジルカルバモイル基が挙げられる。
【0088】
一般式(1)においてR1で表される基は、さらに、置換可能な位置に前記のQ1で表される5〜7員の不飽和環の置換基の例として挙げた基を有していてもよく、2個以上の置換基を有する場合には、それ等の置換基は同一であっても異なっていてもよい。
【0089】
一般式(1)で表される化合物の中でも、Q1が5または6員の不飽和環であることが好ましく、Q1がベンゼン環、ピリミジン環、1,2,3−トリアゾール環、1,2,4−トリアゾール環、テトラゾール環、1,3,4−チアジアゾール環、1,2,4−チアジアゾール環、1,3,4−オキサジアゾール環、1,2,4−オキサジアゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、イソチアゾール環、イソオキサゾール環、またはこれらの環がベンゼン環もしくは不飽和ヘテロ環と縮合した環であることがより好ましく、Q1がキナゾリン環であることが特に好ましい。また、Q1は電子求引的な置換基を少なくとも一つ有していることが好ましい。好ましい置換基としては、フルオロアルキル基(例えば、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、1,1−ジフルオロエチル基、ジフルオロメチル基、フルオロメチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ペンタフルオロフェニル基)、シアノ基、ハロゲン原子(フルオロ、クロロ、ブロモ、ヨード)、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基を挙げることができ、トリフルオロメチル基が特に好ましい。
【0090】
一般式(1)においてR1は、カルバモイル基であり、特に好ましくはR1が−CO−NH−R1'で表される置換カルバモイル基であり、かつ、R1'が炭素数1ないし10のアルキル基またはアリール基を表すことが特に好ましい。
以下に、一般式(1)で表される還元性化合物の具体例および参考例を示すが、本発明に用いられる化合物はこれらの具体例によって限定されるものではない。
【0091】
【化16】
【0092】
【化17】
【0093】
【化18】
【0094】
【化19】
【0095】
【化20】
【0096】
【化21】
【0097】
【化22】
【0098】
【化23】
【0099】
【化24】
【0100】
【化25】
【0101】
【表1】
【0102】
【表2】
【0103】
【表3】
【0104】
【表4】
【0105】
【化26】
【0106】
【化27】
【0107】
一般式(1)で表される還元性化合物の合成は、特開平9−152702号公報、同8−286340号公報、同9−152700号公報、同9−152701号公報、同9−152703号公報、および同9−152704号公報等に記載の方法に従って実施することができる。
一般式(1)で表される還元性化合物の添加量は範囲が広いが、銀イオンに対して0.01〜100モル倍が好ましく、0.1〜10モル倍がより好ましい。
【0108】
一般式(1)で表される還元性化合物は、溶液、粉末、固体微粒子分散物、乳化物、オイルプロテクト分散物等いかなる方法で塗布液に添加してもよい。特に本発明のラテックスと共に用いる場合は、固体微粒子で添加することが好ましい。固体微粒子分散は公知の微細化手段(例えば、ボールミル、振動ボールミル、サンドミル、コロイドミル、ジェットミル、ローラーミル等)で行われる。また、固体微粒子分散する際に分散助剤を用いてもよい。
【0109】
下記一般式(2)または(3)で表される化合物について説明する。
一般式(2)及び(3)において、X2及びX3はそれぞれ独立して水素原子または置換基を表す。X2及びX3で表わされる置換基の例としては、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、アリール基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは6〜20、さらに好ましくは6〜12であり、例えば、フェニル、p−メチルフェニル、ナフチル等)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは1〜12、さらに好ましくは1〜8であり、例えば、メトキシ、エトキン、ブトキシ等)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは6〜16、さらに好ましくは6〜12であり、例えば、フェニルオキシ、2−ナフチルオキシ等)、アルキルチオ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは1〜16、さらに好ましくは1〜12であり、例えば、メチルチオ、エチルチオ、ブチルチオ等)、アリールチオ基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは6〜16、さらに好ましくは6〜12であり、例えば、フェニルチオ、ナフチルチオ等)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数1〜20、ょり好ましくは2〜16、さらに好ましくは2〜10であり、例えば、アセトキシ、ベンゾイルオキシ等)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは2〜16、さらに好ましくは2〜10であり、例えば、N−メチルアセチルアミノ、ベンゾイルアミノ等)、スルホニルアミノ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは1〜16、さらに好ましくは1〜12であり、例えば、メタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノ等)、カルバモイル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは1〜16、さらに好ましくは1〜12であり、例えば、カルバモイル、N,N−ジエチルカルバモイル、N−フェニルカルバモイル等)、アシル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは2〜16、さらに好ましくは2〜12であり、例えば、アセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイル等)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは2〜16、さらに好ましくは2〜12であり、例えば、メトキシカルボニル等)、スルホ基、スルホニル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは1〜16、さらに好ましくは1〜12であり、例えば、メシル、トシル等)、スルホニルオキシ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは1〜16、さらに好ましくは1〜12であり、例えば、メタンスルホニルオキシ、ベンゼンスルホニルオキシ等)、アゾ基、ヘテロ環基、ヘテロ環メルカプト基、シアノ基等が挙げられる。ここでいうヘテロ環基とは、飽和もしくは不飽和のヘテロ環基を表し、例えばピリジル基、キノリル基、キノキサリニル基、ピラジニル基、ベンゾトリアゾリル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、テトラゾリル基、ヒグントイン−1−イル基、スクシンイミド基、フタルイミド基等が挙げられる。
【0110】
一般式(2)及び(3)においてX2及びX3で表される置換基は、更に好ましくはアルコキシ基、アリールオキシ基である。X2及びX3で表される置換基はさらに別の置換基で置換されていてもよく、写真性能を悪化させないものであれば一般に知られているどのような置換基でもよい。
【0111】
―般式(2)及び(3)においてR2l、R31、R32は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表す。m及びpはそれぞれ独立して0〜4の整数、nは0〜2の整数を表す。R2l、R31、R32で表される置換基としては、写真性へ悪影響のないものであれはどのような置換基を用いてもよい。例えば、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、直鎖、分岐、環状またはそれら組み合わせのアルキル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは1〜16、さらに好ましくは1〜13であり、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、sec−ブチル、tert−ブチル、tert−オクチル、n−アミル、tert−アミル、n−ドデシル、n−トリデシル、シクロへキシル等)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは2〜16、さらに好ましくは2〜12であり、例えば、ビニル、アリル、2−ブテニル、3−ペンテニル等)、アリール基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは6〜20、さらに好ましくは6〜12であり、例えば、フェニル、p−メチルフェニル、ナフチル等)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは1〜16、さらに好ましくは1〜12であり、例えば、メトキシ、エトキン、プロポキシ、ブトキシ等)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは6〜20、さらに好ましくは6〜12であり、例えば、フェニルオキシ、2−ナフチルオキシ等)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは2〜16、さらに好ましくは2〜12であり、例えば、アセトキシ、ベンゾイルオキシ等)、アミノ基(好ましくは炭素数0〜20、より好ましくは1〜16、さらに好ましくは1〜12であり、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジブチルアミノ基、アニリノ基等)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは2〜16、さらに好ましくは2〜13であり、例えば、アセチルアミノ、トリデカノイルアミノ、ベンゾイルアミノ等)、スルホニルアミノ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは1〜16、さらに好ましくは1〜12であり、例えば、メタンスルホニルアミノ、ブタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノ等)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは1〜16、さらに好ましくは1〜12であり、例えば、ウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイド等)、カルバメート基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは2〜16、さらに好ましくは2〜12であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ、フェニルオキシカルボニルアミノ等)、カルボキシル基、カルバモイル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは1〜16、さらに好ましくは1〜12であり、例えば、カルバモイル、N,N−ジエチルカルバモイル、N−ドデシルカルバモイル、N−フェニルカルバモイル等)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは2〜16、さらに好ましくは2〜12であり、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ブトキシカルボニル等)、アシル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは2〜16、さらに好ましくは2〜12であり、例えば、アセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイル等)、スルホ基、スルホニル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは1〜16、さらに好ましくは1〜12であり、例えば、メシル、トシル等)、スルファモイル基(好ましくは炭素数0〜20、より好ましくは0〜16、さらに好ましくは0〜12であり、例えば、スルファモイル、メチルスルフファモイル、ジメチルスルフファモイル、フェニルスルフファモイル等)、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、アルキルチオ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは1〜16、さらに好ましくは1〜12であり、例えば、メチルチオ、ブチルチオ等)、ヘテロ環基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは2〜16、さらに好ましくは2〜12であり、例えば、ピリジル、イミダゾイル、ピロリジル等)等が挙げられる。これらの置換基はさらに他の置換基で置換されていてもよい。
【0112】
―般式(2)及び(3)においてR2l、R31、R32で表される置換基として好ましいものは、上記の中でも、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アニリノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、カルボキシル基、カルバモイル基、アシル基、スルホ基、スルホニル基、スルファモイル基、シアノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、アルキルチオ基、ヘテロ環基である。
【0113】
ここで、一般式(2)で表される化合物は、2−位にカルバモイル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは1〜16、さらに好ましくは1〜12であり、例えば、カルバモイル、N,N−ジエチルカルバモイル、N−ドデシルカルバモイル、N−フェニルカルバモイル、N−(2−クロロフェニル)カルバモイル、N−(4−クロロフェニル)カルバモイルN−(2,4−ジクロロフェニル)カルバモイル、N−(3,4−ジクロロフェニル)カルバモイル等)を有する化合物であり、2−位にアリールカルバモイル基(好ましくは炭素数7〜20、より好ましくは7〜16、さらに好ましくは7〜12であり、例えば、N−フェニルカルバモイル、N−(2−クロロフェニル)カルバモイル、N−(4−クロロフェニル)カルバモイル、N−(2,4−ジクロロフェニル)カルバモイル、N−(3,4−ジクロロフェニル)カルバモイル等)を有することが特に好ましい。
以下に、一般式(3)で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明に用いられる化合物は、これらによって限定されることはない。
【0114】
【化28】
【0115】
【化29】
【0116】
前記一般式(2)及び(3)で表される化合物は写真業界で公知の方法によって容易に合成することができる。
前記一般式(2)及び(3)で表される化合物は、水または適当な有機溶媒、例えばアルコール類(メタノール、エタノール、プロパノール、フッ素化アルコール)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン)、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセロソルブなどに溶解して用いることが出来る。
【0117】
あるいは、既によく知られている乳化分散法によって、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、グリセリルトリアセテート、ジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作製して用いることができる。あるいはよく知られている固体分散法に従って、ボールミル、コロイドミル、サンドグラインダーミル、マントンゴーリン、マイクロフルイダイザーまたは超音波によって、化合物の粉末を水の中に分散し、用いることができる。
【0118】
前記一般式(2)及び(3)で表される化合物は、支持体上、感光性ハロゲン化銀および還元可能な銀塩と同一の面であればいずれの層に添加してもよいが、ハロゲン化銀を含む層またはそれに隣接する層に添加することが好ましい。
前記一般式(2)及び(3)で表される化合物の添加量は、銀1モル当たり0.2〜200ミリモルが好ましく、より好ましくは0.3〜100ミリモルであり、さらに好ましくは0.5〜30ミリモルである。前記一般式(2)及び(3)で表される化合物は1種のみを用いても2種以上を併用してもよい。
特に前記一般式(1)の化合物と、前記一般式(3)の化合物を併用することが好ましい。
【0119】
前記一般式(2)で表される化合物は、下記一般式(4)又は(5)で表される化合物であることが好ましい。
【0120】
【化30】
【0121】
一般式(4)において、R41、R42、R43、X41およびX42はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子もしくはリン原子でベンゼン環に結合する置換基を表す。ただしX41およびX42の少なくとも一方は、−NR44R45で表される基である。R44、R45はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、あるいは−C(=O)−R、−C(=O)−C(=O)−R、−SO2−R、−SO−R、−P(=O)(R)2または−C(=NR′)−Rで表される基である。R、R′はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基から選ばれる基である。これらの置換基はそれぞれ隣接する基同士が結合して環を形成してもよい。
【0122】
一般式(5)において、X51は置換基を表し、X52〜X54はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。ただしX51〜X54はヒドロキシ基であることはなく、X53はスルホンアミド基であることはない。又X51〜X54で表される置換基は、互いに結合して環を形成してもよい。R51は水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アミノ基、アルコキシ基を表す。
【0123】
一般式(4)で表される現像促進剤を説明する。
一般式(4)においてR41〜R43はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、リン原子でベンゼン環に結合する置換基を表す。炭素原子でベンゼン環に結合する置換基の具体例としては、直鎖、分岐または環状のアルキル基(例えば、メチル、エチル、iso−プロピル、tert−ブチル、n−オクチル、tert−アミル、1,3−テトラメチルブチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。)、アルケニル基(例えば、ビニル、アリル、2−ブテニル、3−ペンテニルなどが挙げられる。)、アルキニル基(例えば、プロパルギル基、3−ペンチニル基などが挙げられる。)、アリール基(例えば、フェニル、p−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。)、アシル基(例えば、アセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フェノキシカルボニルなどが挙げられる。)、カルバモイル基(カルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。)、シアノ基、カルボキシル基、ヘテロ環基(例えば、3−ピラゾリル基等が挙げられる)等がある。
【0124】
酸素原子でベンゼン環に結合する置換基の具体例としては、水酸基、アルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる。)、アリールオキシ基(例えば、フェニルオキシ、2−ナフチルオキシなどが挙げられる。)、ヘテロ環オキシ基(例えば、4−ピリジルオキシ基等が挙げられる)、アシルオキシ基(例えば、アセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。)などがある。窒素原子でベンゼン環に結合する置換基の非限定的具体例としては、アミノ基(例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる。)、ニトロ基、ヒドラジノ基、ヘテロ環基(例えば、1−イミダゾリル、モリホリルなどが挙げられる。)、アシルアミノ基(例えば、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。)、アルコキシカルボニルアミノ基(例えば、メトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。)、アリールオキシカルボニルアミノ基(例えば、フェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。)、スルホニルアミノ基(例えば、メタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。)、スルファモイル基(例えば、スルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。)、ウレイド基(例えば、ウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。)、ホスホリルアミノ基(例えば、ジエチルホスホリルアミノ、などが挙げられる。)、イミド基(例えば、スクシンイミド、フタルイミド、トリフルオロメタンスルホンイミドなどが挙げられる)等がある。硫黄原子でベンゼン環に結合する置換基の非限定的具体例としては、メルカプト基、ジスルフィド基、スルホ基、スルフィノ基、スルホニルチオ基、チオスルホニル基、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオなどが挙げられる。)、スルホニル基(例えば、メシル、トシル、フェニルスルホニルなどが挙げられる。)、スルフィニル基(例えば、メタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。)、ヘテロ環チオ基(例えば、2−イミダゾリルチオ基等が挙げられる)等がある。リン原子でベンゼン環に結合する置換基の非限定的具体例としては、燐酸エステル基(例えば、ジエチル燐酸、ジフェニル燐酸などが挙げられる。)等がある。
【0125】
一般式(4)におけるR41〜R43で好ましいものは、水素原子、ハロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、カルボキシル基、ヘテロ環基、水酸基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、アミノ基、ニトロ基、ヘテロ環基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、イミド基、スルファモイル基、カルバモイル基、ウレイド基、メルカプト基、ジスルフィド基、スルホ基、スルフィノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、スルフィニル基、ヘテロ環チオ基等がある。
【0126】
一般式(4)におけるR41〜R43でより好ましいものは水素原子、ハロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、カルボキシル基、ヘテロ環基、水酸基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アミノ基、ニトロ基、ヘテロ環基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、イミド基、カルバモイル基、メルカプト基、スルホ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基である。
【0127】
一般式(4)におけるR41〜R43で特に好ましいものは水素原子、ハロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、カルボキシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、カルバモイル基、スルホ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基である。
【0128】
一般式(4)におけるX41、X42は、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、リン原子でベンゼン環に結合する置換基を表す。炭素原子でベンゼン環に結合する置換基の具体例としては、直鎖、分岐または環状のアルキル基(例えば、メチル、エチル、iso−プロピル、tert−ブチル、n−オクチル、tert−アミル、1,3−テトラメチルブチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。)、アルケニル基(例えば、ビニル、アリル、2−ブテニル、3−ペンテニルなどが挙げられる。)、アルキニル基(例えば、プロパルギル基、3−ペンチニル基などが挙げられる。)、アリール基(例えば、フェニル、p−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。)、アシル基(例えば、アセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フェノキシカルボニルなどが挙げられる。)、シアノ基、カルボキシル基、ヘテロ環基(例えば、3−ピラゾリル基等が挙げられる)、カルバモイル基(カルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。)等がある。
【0129】
一般式(4)における酸素原子でベンゼン環に結合する置換基の非限定的具体例としては、水酸基、アルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる。)、アリールオキシ基(例えば、フェニルオキシ、2−ナフチルオキシなどが挙げられる。)、ヘテロ環オキシ基(例えば、4−ピリジルオキシ基等が挙げられる)、アシルオキシ基(例えば、アセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。)などがある。
【0130】
一般式(4)における窒素原子でベンゼン環に結合する置換基の具体例としては、アミノ基(例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる。)、ニトロ基、ヒドロキサム基、ヒドラジノ基、ヘテロ環基(例えば、1−イミダゾリル、モリホリルなどが挙げられる。)、アシルアミノ基(例えば、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。)、アルコキシカルボニルアミノ基(例えば、メトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。)、アリールオキシカルボニルアミノ基(例えば、フェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。)、スルホニルアミノ基(例えば、メタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。)、スルファモイル基(例えば、スルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。)、ホスホリルアミノ基(例えば、ジエチルホスホリルアミノ、などが挙げられる。)等がある。
【0131】
一般式(4)における硫黄原子でベンゼン環に結合する置換基の具体例としては、メルカプト基、ジスルフィド基、スルホ基、スルフィノ基、スルホニルチオ基、チオスルホニル基、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオなどが挙げられる。)、スルホニル基(例えば、メシル、トシル、フェニルスルホニルなどが挙げられる。)、スルフィニル基(例えば、メタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。)、ヘテロ環チオ基(例えば、2−イミダゾリルチオ基等が挙げられる)等がある。
リン原子でベンゼン環に結合する置換基の非限定的具体例としては、燐酸エステル基(例えば、ジエチル燐酸、ジフェニル燐酸などが挙げられる。)等がある。
【0132】
一般式(4)におけるX41、X42で好ましいものは、水素原子、ハロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、カルボキシル基、ヘテロ環基、水酸基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、アミノ基、ニトロ基、ヘテロ環基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、イミド基、スルファモイル基、カルバモイル基、ウレイド基、メルカプト基、ジスルフィド基、スルホ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、ヘテロ環チオ基等がある。
【0133】
一般式(4)におけるX41、X42でより好ましいものは水素原子、ハロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、カルボキシル基、水酸基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、イミド基、カルバモイル基、スルホ基、アリールスルホニル基である。
【0134】
一般式(4)におけるX41、X42で特に好ましいものは、水素原子、ハロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、カルバモイル基、メルカプト基、アルキルチオ基である。
【0135】
X41、X42の少なくとも一方は、−NR44R45で表される基である。R44、R45はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、または−C(=O)−R、−C(=O)−C(=O)−R、−SO2−R、−SO−R、−P(=O)(R)2、−C(=NR′)−Rで表される基である。R、R′はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基から選ばれる基である。
【0136】
R44、R45が、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基を表す場合には、それらは例えば、直鎖、分岐または環状のアルキル基(例えば、メチル、エチル、iso−プロピル、tert−ブチル、n−オクチル、tert−アミル、1,3−テトラメチルブチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。)、アルケニル基(例えば、ビニル、アリル、2−ブテニル、3−ペンテニルなどが挙げられる。)、アルキニル基(例えば、プロパルギル基、3−ペンテニル基などが挙げられる。)、アリール基(例えば、フェニル、p−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。)、ヘテロ環基(例えば、2−イミダゾリル、1−ピラゾリル基等が挙げられる)等を表す。
【0137】
R44、R45が−C(=O)−R、−C(=O)−C(=O)−R、−SO2−R、−SO−R、−P(=O)(R)2、−C(=NR′)−Rで表される基である場合には、RおよびR’はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基(例えば、メチル、エチル、iso−プロピル、tert−ブチル、n−オクチル、tert−アミル、1,3−テトラメチルブチル、シクロヘキシルなどが挙げられる)、アリール基(例えば、フェニル、p−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる)、ヘテロ環基(例えば、4−ピリジル、2−チエニル、1−メチル−2−ピロリルなどが挙げられる)、アミノ基(例えば、アミノ、ジメチルアミノ、ジフェニルアミノ、フェニルアミノ、2−ピリジルアミノなどが挙げられる)、アルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、シクロヘキシルオキシなどが挙げられる)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ、2−ナフトキシなどが挙げられる)などを表す。
【0138】
一般式(4)におけるR44、R45で好ましいものは、水素原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルファモイル基、カルバモイル基、スルホニル基、スルフィニル基である。R44、R45でより好ましいものは、水素原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、アリール基、アシル基、スルホニル基である。また特に好ましい組み合わせはR44、R45のどちらか一方が水素原子で他方がアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基である。これらの置換基はさらに上記に記したような置換基で置換されていても良い。またこれらの置換基が酸性度の高い水素原子を持つものであれば、そのプロトンが解離して塩を形成していてもよい。その対カチオンとしては、金属イオン、アンモニウムイオン、ホスホニウムイオンが用いられる。このように活性水素を解離させた状態は、化合物の現像時における揮散性が問題となるケースには有効な対処法となりうる。R41、R42、R43、X41およびX42はそれぞれ隣接する基同士が結合して環を形成してもよい。
一般式(4)で表される化合物の具体例を以下に示すが、本発明に用いることが出来る一般式(4)で表される化合物は、これらに限定されない。
【0139】
【化31】
【0140】
【化32】
【0141】
【化33】
【0142】
【化34】
【0143】
【化35】
【0144】
【化36】
【0145】
【化37】
【0146】
【化38】
【0147】
【化39】
【0148】
【化40】
【0149】
一般式(5)で表される現像促進剤を説明する。
一般式(5)において、X51は置換基を表す(ベンゼン環上に置換可能な置換基であり、水素原子であることはない)。ただし、X51はヒドロキシル基であることはない。置換基の具体例としては、ハロゲン原子、アルキル基(シクロアルキル基、ビシクロアルキル基を含む)、アルケニル基(シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む)、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基、アルキル及びアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール及びヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基が例として挙げられる。
【0150】
さらに詳しくは、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、アルキル基〔直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルキル基を表す。それらは、アルキル基(好ましくは炭素数1〜30のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、n−オクチル基、エイコシル基、2−クロロエチル基、2−シアノエチル基、2‐エチルへキシル基)、シクロアルキル基(好ましくは、炭素数3〜30の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロへキシル基、シクロペンチル基、4−n−ドデシルシクロヘキシル基)、ビシクロアルキル基(好ましくは、炭素数5〜30の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数5〜30のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ[1,2,2]へプタン−2−イル基、ビシクロ[2,2,2]オクタン−3−イル基)、さらに環構造が多いトリシクロ構造なども包含するものである。以下に説明する置換基の中のアルキル基(例えばアルキルチオ基のアルキル基)もこのような概念のアルキル基を表す。]、アルケニル基[直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルケニル基を表す。それらは、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜30の置換または無置換のアルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基、プレニル基、ゲラニル基、オレイル基)、シクロアルケニル基(好ましくは、炭素数3〜30の置換もしくは無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数3〜30のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、2−シクロペンテン−1−イル基、2−シクロへキセン−1−イル基)、ビシクロアルケニル基(置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数5〜30の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ[2,2,1]へプト−2−エン−1−イル基、ビシクロ[2,2,2]オクト−2−エン−4−イル基)を包含するものである。]、アルキニル基(好ましくは、炭素数2〜30の置換または無置換のアルキニル基、例えば、エチニル基、プロパルギル基、トリメチルシリルエチニル基)、
【0151】
アリール基(好ましくは炭素数6〜30の置換もしくは無置換のアリール基、例えばフェニル基、p−トリル基、ナフチル基、m−クロロフェニル基、o−ヘキサデカノイルアミノフェニル基)、ヘテロ環基(好ましくは5または6員の置換もしくは無置換の、芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、さらに好ましくは、炭素数3〜30の5もしくは6員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、2−フリル基、2−チエニル基、2−ピリミジニル基、2−ベンゾチアゾリル基)、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基(好ましくは、炭素数1〜30の置換もしくは無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、tert−ブトキシ基、n−オクチルオキシ基、2−メトキシエトキシ基)、アリールオキシ基(好ましくは、炭素数6〜30の置換もしくは無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ基、2−メチルフェノキシ基、4−tert−ブチルフェノキシ基、3−ニトロフェノキシ基、2−テトラデカノイルアミノフェノキシ基)、シリルオキシ基(好ましくは、炭素数3〜20のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ基、tert−ブチルジメチルシリルオキシ基)、ヘテロ環オキシ基(好ましくは、炭素数2〜30の置換もしくは無置換のヘテロ環オキシ基、1−フェニルナトラゾール−5−オキシ基、2−テトラヒドロピラニルオキシ基)、アシルオキシ基(好ましくはホルミルオキシ基、炭素数2〜30の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数6〜30の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、p−メトキシフェニルカルボニルオキシ基)、
【0152】
カルバモイルオキシ基(好ましくは、炭素数1〜30の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、N,N−ジメチルカルバモイルオキシ基、N,N−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、N,N−ジ−n−オクチルアミノカルボニルオキシ基、N−n−オクチルカルバモイルオキシ基)、アルコキシカルボニルオキシ基(好ましくは、炭素教2〜30の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、tert−ブトキシカルボニルオキシ基、n−オクチルカルボニルオキシ基)、アリールオキシカルボニルオキシ基(好ましくは、炭素数7〜30の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、p−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、p−n−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基)、アシルアミノ基(好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数1〜30の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数6〜30の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、3,4,5−トリ−n−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ基)、アミノカルボニルアミノ基(好ましくは、炭素数1〜30の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、N,N−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、N,N−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基)、アルコキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキンカルボニルアミノ基、tert−ブトキシカルボニルアミノ基、n−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、N−メチル−メトキシカルボニルアミノ基)、アリールオキシカルボニルアミノ基(好ましくは、炭素数7〜30の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、p−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、m−n−オクチルオキシフエノキシカルボニルアミノ基)、スルファモイルアミノ基(好ましくは、炭素数0〜30の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ基、N,N−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、N−n−オクチルアミノスルホニルアミノ基)、
【0153】
アルキル及びアリールスルホニルアミノ基(好ましくは炭素数1〜30の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数6〜30の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ基、例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、2,3,5−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、p−メチルフェニルスルホニルアミノ基)、メルカプト基、アルキルチオ基(好ましくは、炭素数1〜30の置換もしくは無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、n−へキサデシルチオ基)、アリールチオ基(好ましくは炭素数6〜30の置換もしくは無置換のアリールチオ基、例えば、フェニルチオ基、p−クロロフェニルチオ基、m−メトキシフェニルチオ基)、ヘテロ環チオ基(好ましくは炭素数2〜30の置換または無置換のヘテロ環チオ基、例えば、2−ベンゾチアゾリルチオ基、1−フェニルテトラゾール−5−イルチオ基)、スルファモイル基(好ましくは炭素数0〜30の置換もしくは無置換のスルファモイル基、例えば、N−エチルスルファモイル基、N−(3−ドデシルオキシプロピル)スルファモイル基、N,N−ジメチルスルファモイル基、N−アセチルスルファモイル基、N−ペンゾイルスルファモイル基、N−(N’−フェニルカルバモイル)スルファモイル基)、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基(好ましくは、炭素数1〜30の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、6〜30の置換または無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、p−メチルフェニルスルフィニル基)、アルキル及びアリールスルホニル基(好ましくは、炭素数1〜30の置換または無置換のアルキルスルホニル基、6〜30の置換または無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、p−メチルフェニルスルホニル基)、アシル基(好ましくはホルミル基、炭素数2〜30の置換または無置換のアルキルカルボニル基、炭素数7〜30の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基、炭素数4〜30の置換もしくは無置換の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニル基、例えば、アセチル基、ピバロイル基、2−クロロアセチル基、ステアロイル基、ベンゾイル基、p−n−オクチルオキシフェニルカルボニル基、2−ピリジルカルボニル基、2−フリルカルボニル基)、
【0154】
アリールオキシカルボニル基(好ましくは、炭素数7〜30の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル基、o−クロロフェノキシカルボニル基、m−ニトロフェノキシカルボニル基、p−tert−ブチルフェノキシカルボニル基)、アルコキシカルボニル基(好ましくは、炭素数2〜30の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、n−オクタデシルオキシカルボニル基)、カルバモイル基(好ましくは、炭素数5〜30の置換もしくは無置換のカルバモイル基、例えば、カルバモイル基、N−メチルカルバモイル基、N,N−ジメチルカルバモイル基、N,N−ジ−n−オクチルカルバモイル基、N−(メチルスルホニル)カルバモイル基)、アリール及びヘテロ環アゾ基(好ましくは炭素教6〜30の置換もしくは無置換のアリールアゾ基、炭素数3〜30の置換もしくは無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ基、p−クロロフェニルアゾ基、5−エチルチオ−1,3,4−チアジアゾール−2−イルアゾ基)、イミド基(好ましくは、N−スクシンイミド基、N−フタルイミド基)、ホスフィノ基(好ましくは、炭素数2〜30の置換もしくは無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基)、ホスフィニル基(好ましくは、炭素数2〜30の置換もしくは無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基)、ホスフィニルオキシ基(好ましくは、炭素数2〜30の置換もしくは無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基)、ホスフィニルアミノ基(好ましくは、炭素数2〜30の置換もしくは無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基)、シリル基(好ましくは、炭素数3〜30の置換もしくは無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル基、tert−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基)が挙げられる。
【0155】
一般式(5)において、X51で表される置換基として好ましいものは、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、好ましくは塩素原子、臭素原子)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜14、特に好ましくは炭素数1〜8、例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基など)、アルキル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜14、特に好ましくは炭素数1〜8、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、シクロへキシル基など)、アリール基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは炭素数6〜14、特に好ましくは炭素数6〜8、例えばフェニル基、ナフチル基、p−メチルフェニル基など)、アルコキシ基(好ましくは炭兼数1〜20、より好ましくは炭素教1〜14、特に好ましくは炭素教1〜8、例えばメトキシ基、エトキシ基など)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは炭素数6〜14、特に好ましくは炭素数6〜8、たとえばフェノキシ基、2−ナフチルオキシ基など)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜14、特に好ましくは炭素数1〜8、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基など)、スルホニルアミノ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素教1〜14、特に好ましくは炭素数1〜8、例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基等)、カルバモイル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜14、特に好ましくは炭素数1〜8、例えばカルバモイル基、N,N−ジメチルカルバモイル基、N−フェニルカルバモイル基など)、アシル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜14、特に好ましくは炭素数1〜8、例えばホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基など)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、さらに好ましくは炭素数2〜12であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキンカルボニル基、ブトキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは炭素教6〜16、さらに好ましくは炭素数6〜12、例えば、フェノキシカルボニル基、2−ナフチルオキシカルボニル基等)、シアノ基、ニトロ基であり、より好ましくは、ハロゲン原子、アシルアミノ基、アルキル基であり、特に好ましくは塩素原子、臭素原子である。
【0156】
一般式(5)において、X53はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。ただし、X53はヒドロキシル基、スルホンアミド基であることはない。置換基の具体例としては、上記一般式(5)におけるX51の例として挙げた置換基が同様に挙げられる(スルホンアミド基を除く)。X53として好ましいものは、水素原子、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、好ましくは塩素原子、臭素原子)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜14、特に好ましくは炭素数1〜8、例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基など)、アルキル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜14、特に好ましくは炭素数1〜8、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、シクロへキシル基など)、アリール基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは炭素数6〜14、特に好ましくは炭素数6〜8、例えばフェニル基、ナフチル基、p−メチルフェニル基など)、アルコキシ基(好ましくは炭素数l〜20、より好ましくは炭素数1〜14、特に好ましくは炭素数1〜8、例えばメトキシ基、エトキシ基など)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは炭素数6〜14、特に好ましくは炭素数6〜8、たとえばフェノキシ基、2−ナフチルオキシ基など)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜14、特に好ましくは炭素教1〜8、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基など)、カルバモイル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数l〜14、特に好ましくは炭素数1〜8、例えばカルバモイル基、N,N−ジメチルカルバモイル基、N−フェニルカルバモイル拳など)、アシル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜14、特に好ましくは炭素数1〜8、例えばホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基など)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、さらに好ましくは炭素数2〜12であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは炭素数6〜16、さらに好ましくは炭素教6〜12、例えば、フェノキシカルボニル基、2−ナフチルオキシカルボニル基等)、シアノ基、ニトロ基であり、より好ましくは、ハロゲン原子、アシルアミノ基、アルキル基であり、特に好ましくは塩素原子または臭素原子である。
【0157】
一般式(5)において、X51、X53で表される置換基は少なくとも一方が電子求引性基であることが好ましい。電子求引性基とは、ハメットの置換基定数σρ値が正である置換基であり、具体例としては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、イミノ基、N原子で置換されたイミノ基、チオカルボニル基、パーフルオロアルキル基、スルホンアミド基、ホルミル基、ホスホリル基、カルボキシル基、、カルバモイル基、アシル基、スルホ基(またはその塩)、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、アシルオキシ基、アシルチオ基、スルホニルオキシ基、ヘテロ環基、またはこれらの電子求引性基で置換されたアリール基などが挙げられる。X51、X53はより好ましくはともに電子求引性基であり、さらに好ましくはともにハロゲン原子であり、特に好ましくはともに塩素原子または臭素原子である。
【0158】
一般式(5)において、X52、X54は水素原子または置換基を表す。ただし、X52、X54はヒドロキシル基であることはない。置換基の具体例としては、一般式(5)におけるX51の例として挙げた置換基が挙げられる。X52、X54として好ましいものは、水素原子、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、好ましくは、塩素原子、臭素原子)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜14、特に好ましくは炭素数1〜8、例えばホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基など)、アルキル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜14、特に好ましくは炭素故1〜8、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、シクロへキシル基等)、アリール基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは炭素数6〜14、特に好ましくは炭秦数6〜8、例えばフェニル基、ナフチル基、p−メチルフェニル基等)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜14、特に好ましくは炭素数1〜8、例えばメトキシ基、エトキシ基等)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは炭素数6〜14、特に好ましくは炭素数6〜8、例えばフェノキシ基、2−ナフチルオキシ基等)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜14、特に好ましくは炭素数1〜8、例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等)、スルホニルアミノ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜14、特に好ましくは炭素数1〜8、例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基等)、カルバモイル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜14、特に好ましくは炭素数1〜8、例えばカルバモイル基、N,N−ジメチルカルバモイル基、N−フェニルカルバモイル基など)、アシル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜14、特に好ましくは炭素数1〜8、例えばホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基など)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、さらに好ましくは炭素数2〜12であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは炭素数6〜16、さらに好ましくは炭素数6〜12、例えば、フェノキシカルボニル基、2−ナフチルオキシカルボニル基等)、シアノ基、ニトロ基である。より好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アシルアミノ基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基、エチル基である。
【0159】
一般式(5)において、X51〜X54はさらに置換されていてもよく、置換基の具体例としては上記一般式(5)におけるX51の例として挙げた置換基が同様に挙げられる。また、X51〜X54は互いに結合して環を形成していてもよい。
【0160】
一般式(5)において、R51は水素原子、アルキル基(好ましくは炭素数1−20、より好ましくは炭素数1〜14、特に好ましくは炭素教1〜7、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、シクロへキシル基等)、アリール基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは炭素数6〜14、特に好ましくは炭素数6〜8、例えばフェニル基、ナフチル基、p−メチルフェニル基等)、ヘテロ環基(例えば、ピリジル基、イミダゾリル基、ピロリジル基)、アミノ基(好ましくは炭素数0〜20、より好ましくは炭素数0〜14、特に好ましくは炭素数0〜8、例えばアミノ基、メチルアミノ基、N,N−ジメチルアミノ基、N−フェニルアミノ基等)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜14、特に好ましくは炭素数1〜8、例えばメトキシ基、エトキシ基等)を表わす。好ましくは、水素原子、アリール基、ヘテロ環基、アミノ基、アルコキシ基、炭素数1〜7のアルキル基であり、さらに好ましくはアリール基または炭素数1〜7のアルキル基であり、特に好ましくはアリール基である。R51はさらに置換されていてもよく、置換基の具体例としては、一般式(5)におけるX51の例として挙げた置換基が挙げられる。
【0161】
一般式(5)において、X51〜X54、R51の組み合わせとして好ましくは、X51、X53の少なくとも1つがハロゲン原子であり、X52、X54は水素原子またはアルキル基であり、R51はアリール基または炭素数1〜7のアルキル基である。さらに好ましい組み合わせは、X51、X53はともに塩素原子または臭素原子であり、X52は水素原子またはアルキル基であり、X54は水素原子であり、R51はアリール基である。
【0162】
一般式(5)で表される化合物の総分子量の好ましい範囲は170〜800であり、より好ましくは220〜650であり、特に好ましくは220〜500である。
【0163】
以下に一般式(5)で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は、これらの具体例に限定されるものではない。
【0164】
【化41】
【0165】
【化42】
【0166】
【化43】
【0167】
【化44】
【0168】
【化45】
【0169】
【化46】
【0170】
【化47】
【0171】
【化48】
【0172】
【化49】
【0173】
【化50】
【0174】
前記一般式(3)で表される化合物は、下記一般式(6)で表される化合物であることがより好ましい。
【0175】
【化51】
【0176】
以下、一般式(6)で表される化合物について説明する。
一般式(6)においてR61は、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基を表し、X61は、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホニル基、スルファモイル基を表す。Y61〜Y65は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表す。
【0177】
一般式(6)においてR61で表されるアルキル基は、好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは1〜16、さらに好ましくは1〜13の、直鎖、分岐、環状またはそれら組み合わせのアルキル基であり、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、sec−ブチル、t−ブチル、n−へキシル、シクロへキシル、n−オクチル、t−オクチル、n−アミル、t−アミル、n−デシル、n−ドデシル、n−トリデシル、ベンジル、フェネチル等を挙げることができる。
【0178】
一般式(6)においてR61で表されるアリール基は、好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは6〜20、さらに好ましくは6〜12であり、例えば、フェニル、4−メチルフェニル、2−クロロフェ二ル、4−クロロフェニル、2,4−ジクロロフェニル、3,4−ジクロロフェニル、2−メトキシフェニル、4−メトキシフェニル、4−ヘキシルオキシフェニル、2‐ドデシルオキシフェニル、ナフチル等を挙げることができる。
【0179】
一般式(6)においてR61で表されるアルケニル基は、好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは2〜20、さらに好ましくは2〜12であり、例えば、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、ブテニル基、シクロヘキセニル基などを挙げることができる。
R61で表されるアルキニル基は、好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは2〜20、さらに好ましくは2〜12であり、例えば、エチニル基、プロピニル基などを挙げることができる。
【0180】
一般式(6)においてR61は更に置換基を有していてもよく、好ましい置換基の例としては、後述の一般式(6)で表される化合物におけるY61〜Y65で表される置換基を挙げることができる。
【0181】
一般式(6)においてR61は、更に好ましくはアルキル基またはアリール基を表し、特に好ましくはアルキル基を表す。
【0182】
一般式(6)においてX61は、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホニル基またはスルファモイル基を表す。
一般式(6)においてX61で表されるアシル基は、好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは2〜16、さらに好ましくは2〜12であり、例えば、アセチル、プロピオニル、ブチリル、バレリル、ヘキサノイル、ミリスチリル、パルミトイル、ステアリル、オレイル、アクリロイル、シクロヘキサンカルボニル、ベンゾイル、ホルミル、ビバロイル等が挙げられる。
【0183】
一般式(6)においてX61で表されるアルコキシカルボニル基は、好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは2〜16、さらに好ましくは2〜12であり、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ブトキシカルボニル、フェノキシカルボニル等が挙げられる。
【0184】
一般式(6)においてX61で表されるカルバモイル基は、好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは1〜16、さらに好ましくは1〜12であり、例えば、カルバモイル、N,N−ジエチルカルバモイル、N−ドデシルカルバモイル、N−デシルカルバモイル、N−ヘキサデシリルカリルバモイル、N−フェニルカルバモイル、N−(2−クロロフェニル)カルバモイル、N−(4−クロロフェニル)カルバモイル、N−(2、4−ジクロロフェニル)カルバモイル、N−(3、4−ジクロロフェニル)カルバモイル、N−ペンタクロロフェニルカルバモイル、N−(2−メトキシフェニル)カルバモイル、N−(4−メトキシフフェニル)カルバモイル,N−(2,4‐ジメトキシフェニル)カルバモイル、N−(2−ドデシルオキシフェニル)カルバモイル、N−(4−ドデシルオキシフフェニル)カルバモイル等が挙げられる。
【0185】
一般式(6)においてX61で表されるスルホニル基は、好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは1〜16、さらに好ましくは1〜12であり、例えば、メシル、エタンスルホニル、シクロヘキサンスルホニル、ベンゼンスルホニル、トシル、4−クロロベンゼンスルホニル等が挙げられる。
一般式(6)においてX61で表されるスルファモイル基は、好ましくは炭素数0〜20、より好ましくは0〜16、さらに好ましくは0〜12であり、例えば、スルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル等が挙げられる。
【0186】
一般式(6)においてX61は更に置換基を有していてもよく、好ましい置換基の例としては、後述の一般式(1)の化合物のY61〜Y65で表される置換基を挙げることができる。
【0187】
一般式(6)においてX61は好ましくはカルバモイル基を表し、更に好ましくは、アルキルカルバモイル基またはアリールカルバモイル基を表し、特に好ましくはアリールカルバモイル基を表す。
【0188】
一般式(6)においてY61〜Y65はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。
Y61〜Y65で表される置換基としては、写真性へ悪影響のないものであればどのような置換基を用いてもよい。例えば、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、直鎖、分岐、環状またはそれら組み合わせのアルキル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは1〜16、さらに好ましくは1〜13であり、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、sec−ブチル、t−ブチル、t−オクチル、n−アミル、t−アミル、n−ドデシル、n−トリデシル、シクロへキシル等)、アルケニル基(好ましくは炭素故2〜20、より好ましくは2〜16、さらに好ましくは2〜12であり、例えば、ビニル、アリル、2−ブテニル、3−ペンテニル等)、アリール基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは6〜20、さらに好ましくは6〜12であり、例えば、フェニル、p−メチルフェニル、ナフチル等)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは1〜16、さらに好ましくは1〜12であり、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは6〜20、さらに好ましくは6〜12であり、例えば、フェニルオキシ、2−ナフチルオキシ等)、アシルオキシ基で好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは2〜16、さらに好ましくは2〜12であり、例えば、アセトキシ、ベンゾイルオキシ等)、アミノ基(好ましくは炭素数0〜20、より好ましくは1〜16、さらに好ましくは1〜12であり、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジブチルアミノ基、アニリノ基等)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは2〜16、さらに好ましくは2〜13であり、例えば、アセチルアミノ、トリデカノイルアミノ、ベンゾイルアミノ等)、
【0189】
スルホニルアミノ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは1〜16、さらに好ましくは1〜12であり、例えば、メタンスルホニルアミノ、ブタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノ等)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは1〜16、さらに好ましくは1〜12であり、例えば、ウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイド等)、カルバメート基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは2〜16、さらに好ましくは2〜12であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ、フェニルオキシカルボニルアミノ等)、カルボキシル基、カルバモイル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは1〜16、さらに好ましくは1〜12であり、例えば、カルバモイル、N,N−ジエチルカルバモイル、N−ドデシルカルバモイル、N−フェニルカルバモイル等)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは2〜16、さらに好ましくは2〜12であり、例えば、メトキシカルボニル、エトキンカルボニル、ブトキシカルボニル等)、アシル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは2〜16、さらに好ましくは2〜12であり、例えば、アセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイル等)、スルホ基、スルホニル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは1〜16、さらに好ましくは1〜12であり、例えば、メシル、トシル等)、スルファモイル基(好ましくは炭素数0〜20、より好ましくは0〜16、さらに好ましくは0〜12であり、例えば、スルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイル等)、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、アルキルチオ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは1〜16、さらに好ましくは1〜12であり、例えば、メチルチオ、ブチルチオ等)、ヘテロ環基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは2〜16、さらに好ましくは2〜12であり、例えば、ピリジル、イミダゾイル、ピロリジル等)等が挙げられる。これらの置換基はさらに他の置換基で置換されていてもよい。
【0190】
一般式(6)においてY61〜Y65で表される置換基として好ましいものは、上記の中でも、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アニリノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、カルボキシル基、カルバモイル基、アシル基、スルホ基、スルホニル基、スルファモイル基、シアノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、アルキルチオ基、ヘテロ環基である。
【0191】
一般式(6)においては、R61がアルキル基、X61がカルバモイル基、Y61〜Y65が水素原子である組み合わせが好ましい。
【0192】
以下、一般式(6)で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は、これらの具体例によって限定されるものではない。
【0193】
【表5】
【0194】
【表6】
【0195】
【表7】
【0196】
【表8】
【0197】
【表9】
【0198】
【表10】
【0199】
【化52】
【0200】
【表11】
【0201】
【表12】
【0202】
【表13】
【0203】
前記一般式(1)〜(6)で表される現像促進剤は、溶液、粉末、固体微粒子分散物、乳化物、オイルプロテクト分散物などいかなる方法で塗布液に添加してもよい。特に本発明のラテックスとともに用いる場合は固体微粒子で添加することが好ましい。固体微粒子分散は公知の微細化手段(例えば、ボールミル、振動ボールミル、サンドミル、コロイドミル、ジェットミル、ローラーミルなど)で行うことができ、中でもサンドミルで微細化することが好ましい。また、固体微粒子分散する際に分散助剤を用いてもよい。
【0204】
<還元剤>
本発明に用いられる還元剤について説明する。
本発明の熱現像感光材料には還元剤を含む。該還元剤は銀イオンを金属銀に還元する任意の物質(好ましくは有機物質)であってよい。このような還元剤は、特開平11−65021号公報の段落番号0043〜0045や、欧州特許公開第0803764A1号の第7ページ第34行〜第18ページ第12行に記載されている。
本発明において、還元剤としてはフェノール性水酸基のオルト位に置換基を有するいわゆるヒンダートフェノール系還元剤、或いはビスフェノール系還元剤が好ましく、下記一般式(7)で表される化合物がより好ましい。
【0205】
【化53】
【0206】
一般式(7)において、R71およびR71'は各々独立に炭素数1〜20のアルキル基を表す。R72およびR72'は各々独立に水素原子またはベンゼン環に置換可能な置換基を表す。Lは−S−基または−CHR73−基を表す。R73は水素原子または炭素数1〜20のアルキル基を表す。X71およびX71'は各々独立に水素原子またはベンゼン環に置換可能な基を表す。
【0207】
一般式(7)について詳細に説明する。
一般式(7)においてR71およびR71'は、置換基を有していてもよい。該置換基は特に限定されることはないが、アリール基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、スルホニル基、ホスホリル基、アシル基、カルバモイル基、エステル基、ウレイド基、ウレタン基、ハロゲン原子等が好ましい。
【0208】
一般式(7)においてR71およびR71'としては、炭素数3〜15の2級または3級のアルキル基が好ましく、炭素数4〜12の3級のアルキル基がより好ましい。具体的にはイソプロピル基、イソブチル基、t−ブチル基、t−アミル基、t−オクチル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、1−メチルシクロヘキシル基、1−メチルシクロプロピル基等が挙げられ、その中でもt−ブチル基、t−アミル基、1−メチルシクロヘキシル基が好ましく、t−ブチル基がより好ましい。
【0209】
一般式(7)においてR72およびR72'は、各々独立に水素原子またはベンゼン環に置換可能な置換基であり、X71およびX71'も各々独立に水素原子またはベンゼン環に置換可能な基を表す。上記、ベンゼン環に置換可能な基としては、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルアミノ基が好ましい。
【0210】
一般式(7)においてR72およびR72'としては、炭素数1〜20のアルキル基が好ましい。具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、t−ブチル基、t−アミル基、シクロヘキシル基、1−メチルシクロヘキシル基、ベンジル基、メトキシメチル基、メトキシエチル基等が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、t−ブチル基がより好ましい。
一般式(7)においてX71およびX71'は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基が好ましく、水素原子がより好ましい。
【0211】
一般式(7)においてLは、−S−基または−CHR73−基を表し、−CHR73−であることが好ましい。
前記R73は、水素原子または炭素数1〜15のアルキル基が好ましい。具体的には、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、2,4,4−トリメチルペンチル基が好ましく、水素原子、メチル基、プロピル基、イソプロピル基がより好ましい。
【0212】
また、R73が、水素原子である場合、R72およびR72'は、炭素数2〜5のアルキル基が好ましく、エチル基、プロピル基がより好ましく、エチル基が最も好ましい。
一方、R73が炭素数1〜8の1級または2級のアルキル基である場合、R72およびR72'はメチル基が好ましい。この場合、R13の炭素数1〜8の1級または2級のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基がより好ましい。
【0213】
R71、R71'、R72、R72'がいずれもメチル基である場合には、R73は2級のアルキル基であることが好ましい。この場合R73の2級アルキル基としてはイソプロピル基、イソブチル基、1−エチルペンチル基が好ましく、イソプロピル基がより好ましい。
前記還元剤は、R71、R71'、R72、R72'及びR73の組み合わせにより、熱現像性、現像銀色調などが異なる。二種以上の還元剤を組み合わせることでこれらを調整することができるため、目的によっては二種以上を組み合わせて使用することが好ましい。
【0214】
以下に本発明の還元剤である一般式(7)で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0215】
【化54】
【0216】
【化55】
【0217】
【化56】
【0218】
【化57】
【0219】
本発明において還元剤の添加量は0.1〜3.0g/m2であることが好ましく、0.2〜1.5g/m2であることがより好ましく、0.3〜1.0g/m2であることが更に好ましい。又画像形成層を有する面の銀1モルに対しては5〜50%モル含まれることが好ましく、8〜30%モル含まれることがより好ましく、10〜20モル%含まれることがさらに好ましい。
また、還元剤は画像形成層に含有させることが好ましい。
【0220】
還元剤は溶液形態、乳化分散形態、固体微粒子分散物形態等、いかなる方法で塗布液に含有せしめ、感光材料に含有させてもよい。
よく知られている乳化分散法としては、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタレート等のオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノン等の補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作製する方法が挙げられる。
【0221】
また、固体微粒子分散法としては、還元剤の粉末を水等の適当な溶媒中にボールミル、コロイドミル、振動ボールミル、サンドミル、ジェットミル、ローラーミルあるいは超音波によって分散し、固体分散物を作成する方法が挙げられる。尚、その際に保護コロイド(例えば、ポリビニルアルコール)、界面活性剤(例えばトリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム(3つのイソプロピル基の置換位置が異なるものの混合物)等のアニオン性界面活性剤)を用いてもよい。
前記ミル類では、分散媒体として、ジルコニア等のビーズが使われるのが普通であり、これらのビーズから溶出するZr等が分散媒中に混入することがある。Zrの分散媒中への混入量は、分散条件にもよるが1ppm〜1000ppmの範囲である。感熱記録材料中へのZrの混入量は、銀1g当り0.5mg以下であれば実用上差し支えない。
水分散物には防腐剤(例えばベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩)を含有させることが好ましい。
【0222】
(有機銀塩の説明)
1)組成
本発明に用いることのできる有機銀塩は、光に対して比較的安定であるが、露光された感光性ハロゲン化銀及び還元剤の存在下で、80℃或いはそれ以上に加熱された場合に銀イオン供給体として機能し、銀画像を形成せしめる銀塩である。有機銀塩は還元剤により還元されうる銀イオンを供給できる任意の有機物質であってよい。このような非感光性の有機銀塩については、特開平10-62899号の段落番号0048〜0049、欧州特許公開第0803764A1号の第18ページ第24行〜第19ページ第37行、欧州特許公開第0962812A1号、特開平11-349591号、特開2000-7683号、同2000-72711号等に記載されている。有機酸の銀塩、特に(炭素数が10〜30、好ましくは15〜28の)長鎖脂肪族カルボン酸の銀塩が好ましい。脂肪酸銀塩の好ましい例としては、リグノセリン酸銀、ベヘン酸銀、アラキジン酸銀、ステアリン酸銀、オレイン酸銀、ラウリン酸銀、カプロン酸銀、ミリスチン酸銀、パルミチン酸銀、エルカ酸銀およびこれらの混合物などを含む。本発明においては、これら脂肪酸銀の中でも、ベヘン酸銀含有率が好ましくは50モル%以上100モル%以下、より好ましくは85モル%以上100モル%以下、さらに好ましくは95モル%以上100モル%以下の脂肪酸銀を用いることが好ましい。更に、エルカ酸銀含有率が2モル%以下、より好ましくは1モル%以下、更に好ましくは0.1モル%以下の脂肪酸銀を用いることが好ましい。
【0223】
また、ステアリン酸銀含有率が1モル%以下であることが好ましい。前記ステアリン酸含有率を1モル%以下とすることにより、Dminが低く、高感度で画像保存性に優れた有機酸の銀塩が得られる。前記ステアリン酸含有率としては、0.5モル%以下が好ましく、実質的に含まないことが特に好ましい。
【0224】
さらに、有機酸の銀塩としてアラキジン酸銀を含む場合は、アラキジン酸銀含有率が6モル%以下であることが、低いDminを得ること及び画像保存性の優れた有機酸の銀塩を得る点で好ましく、3モル%以下であることが更に好ましい。
【0225】
2)形状、サイズ
本発明に用いることができる有機銀塩の形状としては特に制限はなく、針状、棒状、平板状、りん片状いずれでもよい。
本発明においてはりん片状の有機銀塩が好ましい。また、長軸と単軸の長さの比が5以下の短針状、直方体、立方体またはジャガイモ状の不定形粒子も好ましく用いられる。これらの有機銀粒子は長軸と単軸の長さの比が5以上の長針状粒子に比べて熱現像時のカブリが少ないという特徴を有している。特に、長軸と単軸の比が3以下の粒子は塗布膜の機械的安定性が向上し好ましい。本明細書において、りん片状の有機銀塩とは、次のようにして定義する。有機酸銀塩を電子顕微鏡で観察し、有機酸銀塩粒子の形状を直方体と近似し、この直方体の辺を一番短かい方からa、b、cとした(cはbと同じであってもよい。)とき、短い方の数値a、bで計算し、次のようにしてxを求める。
x=b/a
【0226】
このようにして200個程度の粒子についてxを求め、その平均値x(平均)としたとき、x(平均)≧1.5の関係を満たすものをりん片状とする。好ましくは30≧x(平均)≧1.5、より好ましくは15≧x(平均)≧1.5である。因みに針状とは1≦x(平均)<1.5である。
【0227】
りん片状粒子において、aはbとcを辺とする面を主平面とした平板状粒子の厚さとみることができる。aの平均は0.01μ 以上0.3μm 以下が好ましく0.1μm 以上0.23μm 以下がより好ましい。c/bの平均は1以上9以下であることが好ましく、より好ましくは1以上6以下、さらに好ましくは1以上4以下、最も好ましくは1以上3以下である。
【0228】
前記球相当直径を0.05μm以上1μm以下とすることにより、感光材料中で凝集を起こしにくく、画像保存性が良好となる。前記球相当直径としては、0.1μm以上1μm以下が好ましい。本発明において、球相当直径の測定方法は、電子顕微鏡を用いて直接サンプルを撮影し、その後、ネガを画像処理することによって求められる。
前記リン片状粒子において、粒子の球相当直径/aをアスペクト比と定義する。リン片状粒子のアスペクト比としては、感光材料中で凝集を起こしにくく、画像保存性が良好となる観点から、1.1以上30以下であることが好ましく、1.1以上15以下がより好ましい。
【0229】
有機銀塩の粒子サイズ分布は単分散であることが好ましい。単分散とは短軸、長軸それぞれの長さの標準偏差を短軸、長軸それぞれで割った値の100分率が好ましくは100%以下、より好ましくは80%以下、更に好ましくは50%以下である。有機銀塩の形状の測定方法としては有機銀塩分散物の透過型電子顕微鏡像より求めることができる。単分散性を測定する別の方法として、有機銀塩の体積加重平均直径の標準偏差を求める方法があり、体積加重平均直径で割った値の百分率(変動係数)が好ましくは100%以下、より好ましくは80%以下、更に好ましくは50%以下である。測定には、市販のレーザー光散乱型粒子サイズ測定装置を用いることができる。
【0230】
3)調製方法
本発明に用いられる有機酸銀の製造及びその分散法は、公知の方法等を適用することができる。例えば上記の特開平10-62899号、欧州特許公開第0803763A1、欧州特許公開第0962812A1号、特開平11-349591号、特開2000-7683号、同2000-72711号、同2001-163889号、同2001-163890号、同2001-163827号、同2001-33907号、同2001-188313号、同2001-83652号、同2002-6442、同2002-49117号、同2002-31870号、同2002-107868号等を参考にすることができる。
【0231】
平均球相当直径が0.05μm以上1.0μm以下であり、かつ、球相当直径の体積加重平均の変動係数が30%以下となるように該非感光性有機銀塩を調製するには、以下に示す反応温度、および混合方法で反応させ調製することが好ましい。また、有機酸のアルカリ金属塩溶液が有機溶媒に溶解された実質的に透明な溶液を用いる調製方法が好ましい。
(反応温度)
本発明における有機銀塩粒子は、60℃以下の反応温度で調製されることが、Dminが低い粒子を調製するという点で好ましい。添加される薬品例えば、有機酸アルカリ金属水溶液は60℃より温度が高くても構わないが、反応液が添加される反応浴の温度は50℃以下であることが好ましい。更に40℃以下であることがより好ましい。
【0232】
(混合方法)
本発明における有機銀塩粒子は、硝酸銀などの銀イオンを含む溶液と、有機酸アルカリ金属塩溶液もしくは懸濁液とを反応させることによって調製されるが、総添加銀量の50%以上の添加が、有機酸アルカリ金属塩溶液もしくは懸濁液との添加と同時に行われることが好ましい。添加法は、反応浴の液面に添加する方法、液中に添加する方法、更には後述する密閉混合手段中に添加する方法等があるが何れの方法でも構わない。
【0233】
(反応装置例)
密閉混合手段中へ添加して調製する方法の一例を以下に示すが、本発明はこれに限られたものではない。図1は、本発明で用いる非感光性有機銀塩の製造装置の一実施形態である。図中11、12には、それぞれ銀イオン含有溶液(例えば硝酸銀水溶液)と有機アルカリ金属塩溶液を所定の温度に設定して貯蔵する。13および14は、これらの溶液をポンプ15と16を介して密閉かつ液体で充満された混合装置18に添加する際の流量を計測するための流量計である。この実施形態においては、第3の成分として、調製された有機銀塩分散物を混合装置18に再び供給するポンプ17を具備している。混合装置18内で反応終了した液は、熱交換器19へと導入して速やかに冷却される。
(水溶性銀塩溶液)
本発明に用いる銀イオン含有溶液(例えば硝酸銀水溶液)のpHは、好ましくはpH1以上6以下、更に好ましくはpH1.5以上4以下である。更に、pH調節のため、酸およびアルカリを加えることができる。酸およびアルカリの種類は特に制限されない。
本発明に用いる銀イオン含有溶液(例えば硝酸銀水溶液)の銀イオン濃度は、任意に決定されるが、モル濃度として、0.03mol/L以上6.5mol/L以下が好ましく、より好ましくは、0.1mol/L以上5mol/L以下である。
【0234】
(熟成)
本発明における有機銀塩は、銀イオン含有溶液(例えば硝酸銀水溶液)/及び又は有機酸アルカリ金属塩溶液の添加が終了した後、反応温度を上げて熟成をしても構わない。本発明における熟成は、前述した反応温度とは別のものと考える。熟成の際は、硝酸銀、及び有機酸アルカリ金属塩溶液もしくは懸濁液の添加は一切行わない。熟成は、反応温度+1℃以上+20℃以下が好ましく、+1℃以上+10℃以下がより好ましい。なお、熟成時間はトライ・アンド・エラーで決定することが好ましい。
【0235】
(分割添加)
本発明における有機塩塩の調製において、有機酸アルカリ金属塩溶液の添加は2回以上6回以下の回数で分割して行っても構わない。ここで分割添加をすることで、例えば写真性能を良化させる添加と、表面の親水性を変化させる添加等、粒子に様々な機能を付与することができる。分割添加の回数は、好ましくは2回以上4回以下である。ここで、有機酸塩は高温でないと固化してしまうため、分割添加をする際は、分割するための添加ラインを複数もつことあるいは循環方法等工夫をする等、考慮する必要がある。
【0236】
本発明における有機銀塩の調製において、有機酸アルカリ金属塩溶液の総添加モル数の0.5モル%以上30モル%以下が銀イオン含有溶液の添加が終了した後、単独添加されることが好ましい。好ましくは3モル%以上20モル%以上が単独添加されることが好ましい。この添加は、分割された添加の1回として充てられることが好ましい。この添加は密閉混合手段中もしくは、反応漕の何れに添加しても構わないが、反応漕に添加することが好ましい。この添加を実施することで粒子の表面の親水性を上げることができ、その結果感材の造膜性が良化し、膜剥れが改良される。
【0237】
(有機酸のアルカリ金属溶液)
本発明の実施に際して、有機酸粒子を形成させるためには、銀イオン含有溶液、有機酸アルカリ金属塩溶液もしくは懸濁液、及びあらかじめ反応場に準備しておく溶液の少なくとも一つに、有機酸のアルカリ金属塩がひも状会合体やミセルではなく、実質的に透明溶液となり得る量の有機溶剤を含有することが好ましい。溶液は有機溶剤単独でも構わないが、水との混合溶液であることが好ましい。本発明で用いる有機溶剤としては、水溶性で上記性質を有していればその種類は特に制限されないが、写真性能に支障をきたすものは好ましくなく、好ましくは水と混合できるアルコール、アセトン、更に好ましくは炭素数4〜6の第3アルコールが好ましい。
【0238】
本発明に用いる有機酸のアルカリ金属塩のアルカリ金属は、具体的にはNa、Kが好ましい。有機酸のアルカリ金属塩は、有機酸にNaOHもしくはKOHを添加することにより調製される。このとき、アルカリの量を有機酸の当量以下にして、未反応の有機酸を残存させることが好ましい。この場合の、残存有機酸量は全有機酸に対し3mol%以上50mol%以下であり、好ましくは3mol%以上30mol%以下である。また、アルカリを所望の量以上に添加した後に、硝酸、硫酸等の酸を添加し、余剰のアルカリ分を中和させることで調製してもよい。
更に、本発明に用いる銀イオン含有溶液および有機酸アルカリ金属塩溶液、あるいは両液が添加される密閉混合容器の液には、例えば特開昭62−65035号公報の一般式(1)で示されるような化合物、また、特開昭62−150240号公報に記載のような水溶性基含有Nヘテロ環化合物、特開昭50−101019号公報に記載のような無機過酸化物。特開昭51−78319号公報に記載のようなイオウ化合物、特開昭57−643号公報に記載のようなジスルフィド化合物および過酸化水素等を添加することができる。
【0239】
本発明で用いる有機酸アルカリ金属塩溶液は、有機溶媒の量が水分の体積に対し、溶剤体積として3%以上70%以下であることが好ましく、より好ましくは5%以上50%以下である。この際、反応温度で最適な溶媒体積が変化するため、トライアンドエラーで最適量を決定することができる。
本発明に用いる有機酸のアルカリ金属塩の濃度は、5質量%以上50質量%以下であり、好ましくは7質量%以上45質量%以下であり、更に好ましくは10質量%以上40質量%以下である。
【0240】
密閉混合手段中もしくは反応容器に添加する有機酸アルカリ金属塩の第3アルコール水溶液の温度としては、有機酸アルカリ金属塩の結晶化、固化の現象を避けるに必要な温度に保っておく目的で50℃以上90℃以下が好ましく、60℃以上85℃以下がより好ましく、65℃以上85℃以下が最も好ましい。また、反応の温度を一定にコントロールするために上記範囲から選ばれるある温度で一定にコントロールされることが好ましい。
【0241】
これにより、高温の有機酸アルカリ金属塩の第3アルコール水溶液が密閉混合手段中で急冷されて微結晶状に析出する速度と、銀イオン含有溶液との反応で有機銀塩化する速度が好ましく制御され、有機銀塩の結晶形態、結晶サイズ、結晶サイズ分布を好ましく制御することができる。また同時に熱現像材料、特に熱現像感光材料として性能をより向上させることができる。
【0242】
(反応容器の液)
反応容器中には、あらかじめ溶媒を含有させておいてもよく、あらかじめ入れられる溶媒には水が好ましく用いられるが、前記第3アルコールとの混合溶媒も好ましく用いられる。
【0243】
(分散助剤)
有機酸アルカリ金属塩の第3アルコール水溶液、銀イオン含有溶液、あるいは反応液には水性媒体可溶な分散助剤を添加することができる。分散助剤としては、形成した有機銀塩を分散可能なものであればいずれのものでもよい。具体的な例は、後述の有機銀塩の分散助剤の記載に準じる。
【0244】
(脱塩、脱水)
有機銀塩調製法においては、銀塩形成後に脱塩・脱水工程を行うことが好ましい。その方法は特に制限はなく、周知・慣用の手段を用いることができる。例えば、遠心濾過、吸引濾過、限外濾過、凝集法によるフロック形成水洗等の公知の濾過方法、また、遠心分離沈降による上澄み除去等も好ましく用いられる。脱塩・脱水は1回でもよいし、複数繰り返してもよい。水の添加および除去を連続的に行ってもよいし、個別に行ってもよい。脱塩・脱水は最終的に脱水された水の伝導度が好ましくは300μS/cm以下、より好ましくは100μS/cm以下、最も好ましくは60μS/cm以下になる程度に行う。この場合の伝導度の下限に特に制限はないが、通常5μS/cm程度である。
【0245】
限外濾過法は、例えばハロゲン化銀乳剤の脱塩/濃縮に用いられる方法を適用することが出来る。リサーチ・ディスクロージャー(Research Disclosure)No.10 208(1972)、No.13 122(1975)およびNo.16 351(1977)などを参照することができる。操作条件として重要な圧力差や流量は、大矢春彦著「膜利用技術ハンドブック」幸書房出版(1978)、p275に記載の特性曲線を参考に選定することができるが、目的の有機銀塩分散物を処理する上では、粒子の凝集やカブリを抑えるために最適条件を見いだす必要がある。また、膜透過より損失する溶媒を補充する方法においては、連続して溶媒を添加する定容式と断続的に分けて添加する回分式とがあるが、脱塩処理時間が相対的に短い定容式が好ましい。
【0246】
こうして補充する溶媒には、イオン交換または蒸留して得られた純水を用いるが、pHを目的の値に保つために、純水の中にpH調整剤等を混合してもよいし、有機銀塩分散物に直接添加してもよい。
【0247】
限外濾過膜は、すでにモジュールとして組み込まれた平板型、スパイラル型、円筒型、中空糸型、ホローファイバー型などが旭化成(株)、ダイセル化学(株)、(株)東レ、(株)日東電工などから市販されているが、総膜面積や洗浄性の観点より、スパイラル型もしくは中空糸型が好ましい。
また、膜を透過することができる成分のしきい値の指標となる分画分子量は、使用する高分子分散剤の分子量の1/5以下であることが好ましい。
【0248】
本発明における限外濾過による脱塩は、処理に先立って、粒子サイズを最終粒子サイズの堆積加重平均で2倍程度まで、あらかじめ液を分散することが好ましい。分散手段は、後述する、高圧ホモジナイザー、マイクロフルイダイザ−等どのような方法でも構わない。
【0249】
粒子形成後から脱塩操作が進むまでの液温は低く保つことが好ましい。これは、有機酸のアルカリ金属塩を溶解する際に用いる有機溶剤が、生成した有機銀塩粒子内に浸透している状態では、送液操作や限外濾過膜を通過する際の剪断場や圧力場によって銀核が生成しやすいからである。このため、本発明では有機銀塩粒子分散物の温度を1〜30℃、好ましくは5〜25℃に保ちながら限外濾過操作を行う。
【0250】
(再分散)
更に、熱現像材料、特に熱現像感光材料の塗布面状を良好にするためには、脱塩、脱水された有機銀塩を分散剤を添加、分散して微細分散物とすることが好ましい。
【0251】
本発明に用いられる有機銀塩の製造及びその分散法は、公知の方法等を適用することができる。例えば上記の特開平8−234358号、特開平10−62899号、欧州特許公開第0803763A1、欧州特許公開第0962812A1号、特開平11−349591号、特開2000−7683号、同2000−72711号、同2000−53682号、同2000−75437号、同2000−86669号、同2000−143578号、同2000−178278号、同2000−256254号、特願平11−348228〜30号、同11−203413号、同11−115457号、同11−180369号、同11−297964号、同11−157838号、同11−202081号、特願2000−90093号、同2000−195621号、同2000−191226号、同2000−213813号、同2000−214155号、同2000−191226号等を参考にすることができる。
【0252】
有機銀塩を微粒子分散化する方法は、分散助剤の存在下で公知の微細化手段(例えば、高速ミキサー、ホモジナイザー、高速衝撃ミル、バンバリーミキサー、ホモミキサー、ニーダー、ボールミル、振動ボールミル、遊星ボールミル、アトライター、サンドミル、ビーズミル、コロイドミル、ジェットミル、ローラーミル、トロンミル、高速ストーンミル)を用い、機械的に分散することができる。
【0253】
高S/Nで、粒子サイズが小さく、凝集のない均一な脂肪銀塩固体分散物を得るには、画像形成媒体である有機銀塩粒子の破損や高温化を生じさせない範囲で、大きな力を均一に与えることが好ましい。そのためには有機銀塩及び分散剤溶液からなる分散物を高速流に変換した後、圧力降下させる分散法が好ましい。この場合の分散媒は、分散助剤が機能する溶媒であればどのような物でも構わないが、水のみであることが好ましく、20質量%以下であれば有機溶媒を含んでいてもよい。また分散時に、感光性銀塩を共存させると、カブリが上昇し、感度が著しく低下するため、分散時には感光性銀塩を実質的に含まないことがより好ましい。本発明は、分散される分散液中での感光性銀塩量は、その液中の有機銀塩1molに対し0.1mol%以下であり、感光性銀塩の添加は行わないほうが好ましい。
【0254】
上記のような再分散法を実施するのに用いられる分散装置およびその技術については、例えば「分散系レオロジーと分散化技術」(梶内俊夫、薄井洋基著、1991、信山社出版(株)、p357〜403)、「化学工学の進歩 第24集」(社団法人 化学工学会東海支部編、1990、槙書店、p184〜185)、特開昭59−49832号、米国特許4533254号、特開平8−137044号、特開平8−238848号、特開平2−261525号、特開平1−94933号等に詳しいが、本発明での再分散法は、少なくとも有機銀塩を含む分散液を高圧ポンプ等で加圧して配管内に送入した後、配管内に設けられた細いスリットを通過させ、この後に分散液に急激な圧力低下を生じさせることにより微細な分散を行う方法である。
【0255】
高圧ホモジナイザーについては、一般には(a)分散質が狭間隙(75μm〜350μm程度)を高圧、高速で通過する際に生じる「せん断力」、(b)高圧化の狭い空間で液−液衝突、あるいは壁面衝突させるときに生じる衝撃力は変化させずに、その後の圧力降下によるキャビテーション力を更に強くし、均一で効率のよい分散が行われると考えられている。この種の分散装置としては、古くはゴーリンホモジナイザーが挙げられるが、この装置では、高圧で送られた被分散液が円柱面上の狭い間隙で高速流に変換され、その勢いで周囲の壁面に衝突し、その衝撃力で乳化・分散が行われる。上記液−液衝突としては、マイクロフルイダイザーのY型チャンバー、後述の特開平8−103642号に記載のような球形型の逆止弁を利用した球形チャンバーなどが挙げられ、液−壁面衝突としては、マイクロフルイダイザーのZ型チャンバー等が挙げられる。使用圧力は一般には100〜600kg/cm2(1〜6MPa)、流速は数m〜30m/秒の範囲であり、分散効率を上げるために高速流部を鋸刃状にして衝突回数を増やすなどの工夫を施したものも考案されている。このような装置の代表例としてゴーリンホモジナイザー、マイクロフルイデックス・インターナショナル・コーポレーション社製のマイクロフルイダイザー、みづほ工業(株)製のマイクロフルイダイザー、特殊機化工業(株)製のナノマイザー等が挙げられる。特開平8−238848号、同8−103642号、USP4533254号にも記載されている。
【0256】
有機銀塩は、流速、圧力降下時の差圧と処理回数の調節によって、所望の粒子サイズに分散することができるが、写真特性と粒子サイズの点から、流速が200〜600m/秒、圧力降下時の差圧が900〜3000kg/cm2(9〜30MPa)の範囲が好ましく、更に流速が300〜600m/秒、圧力降下時の差圧が1500〜3000kg/cm2(15〜30MPa)の範囲であることがより好ましい。分散処理回数は必要に応じて選択できる。通常は1〜10回の範囲が選ばれるが、生産性の観点で1〜3回程度が選ばれる。高圧下でこのような分散液を高温にすることは、分散性・写真性の観点で好ましくなく、90℃を超えるような高温では粒子サイズが大きくなりやすくなるとともに、カブリが高くなる傾向がある。従って、前記の高圧、高速流に変換する前の工程もしくは、圧力降下させた後の工程、あるいはこれら両工程に冷却装置を含み、このような分散の温度が冷却工程により5〜90℃の範囲に保たれていることが好ましく、更に好ましくは5〜80℃の範囲、特に5〜65℃の範囲に保たれていることが好ましい。特に、1500〜3000kg/cm2(15〜30MPa)の範囲の高圧の分散時には、前記の冷却装置を設置することが有効である。冷却装置は、その所要熱交換量に応じて、2重管や3重管にスタチックミキサーを使用したもの、多管式熱交換器、蛇管式熱交換器等を適宜選択することができる。また、熱交換の効率を上げるために、使用圧力を考慮して、管の太さ、肉厚や材質などの好適なものを選べばよい。冷却器に使用する冷媒は、熱交換量から、20℃の井水や冷凍機で処理した5〜10℃の冷水、また、必要に応じて−30℃のエチレングリコール/水等の冷媒を使用することができる。
【0257】
有機銀塩を分散剤を使用して固体微粒子化する際には、例えば、ポリアクリル酸、アクリル酸の共重合体、マレイン酸共重合体、マレイン酸モノエステル共重合体、アクリロイルメチルプロパンスルホン酸共重合体、などの合成アニオンポリマー、カルボキシメチルデンプン、カルボキシメチルセルロースなどの半合成アニオンポリマー、アルギン酸、ペクチン酸などのアニオン性ポリマー、特開昭52−92716号、WO88/04794号などに記載のアニオン性界面活性剤、特願平7−350753号に記載の化合物、あるいは公知のアニオン性、ノニオン性、カチオン性界面活性剤や、その他ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース等の公知のポリマー、或いはゼラチン等の自然界に存在する高分子化合物を適宜選択して用いることができる。また分散媒として溶剤を用いた場合、ポリビニルブチラール、ブチルエチルセルロース、メタクリレートコポリマー、無水マレイン酸エステルコポリマー、ポリスチレンおよびブタジエン−スチレンコポリマー等が好ましく用いられる。
【0258】
分散助剤は、分散前に有機銀塩の粉末またはウェットケーキ状態の有機銀塩と混合し、スラリーとして分散機に送り込むのは一般的な方法であるが、予め有機銀塩と混ぜ合わせた状態で熱処理や溶媒による処理を施して有機銀塩粉末またはウェットケーキとしてもよい。分散前後または分散中に適当なpH調製剤によりpHコントロールしてもよい。
【0259】
機械的に分散する以外にも、pHコントロールすることで溶媒中に粗分散し、その後、分散助剤の存在下でpHを変化させて微粒子化させてもよい。このとき、粗分散に用いる溶媒として脂肪酸溶媒を使用してもよい。
【0260】
なお、有機銀塩の分散時に、感光性銀塩を共存させると、カブリが上昇し、感度が著しく低下するため、分散時には感光性銀塩を実質的に含まないことがより好ましい。本発明は、分散される水分散液中での感光性銀塩量は、その液中の有機銀塩1molに対し0.1mol%以下であり、積極的な感光性銀塩の添加は行わないものである。
【0261】
5)添加量
本発明の有機銀塩は所望の量で使用できるが、ハロゲン化銀を含めた全塗布銀量として0.1〜5g/m2が好ましく、より好ましくは03〜3.0g/m2、さらに好ましくは0.5〜2.0g/m2である。特に、画像保存性を向上させるためには、全塗布銀量として0.5〜1.8g/m2が好ましく、好ましく0.5〜1.6g/m2である。
【0262】
(感光性ハロゲン化銀)
1)ハロゲン組成
本発明に用いられる感光性ハロゲン化銀は、ハロゲン組成に制限はないが、ヨウ化銀含有率が5モル%以上100モル%以下と高い組成のものであることが好ましい。より好ましくは、40モル%以上100モル%以下、さらに好ましくは、90モル%以上100モル%以下である。残りは特に制限はなく、塩化銀、臭化銀またはチオシアン酸銀や燐酸銀などの有機銀塩から選ぶことができるが、特に臭化銀、塩化銀であることが好ましい。この様なヨウ化銀含有率が高い組成のハロゲン化銀を用いることによって、現像処理後の画像保存性、特に光照射によるカブリの増加が著しく小さい好ましい熱現像感光材料が設計できる。
【0263】
粒子内におけるハロゲン組成の分布は均一であってもよく、ハロゲン組成がステップ状に変化したものでもよく、或いは連続的に変化したものでもよい。また、コア/シェル構造を有するハロゲン化銀粒子を好ましく用いることができる。構造として好ましいものは2〜5重構造であり、より好ましくは2〜4重構造のコア/シェル粒子を用いることができる。また塩化銀、臭化銀または塩臭化銀粒子の表面に臭化銀やヨウ化銀を局在させる技術も好ましく用いることができる。
【0264】
2)粒子サイズ
本発明に用いる高ヨウ化銀の平均粒子サイズは、5nm以上、90nm以下であることが好ましい。ハロゲン化銀のサイズが大きいと、一般には必要な最高濃度を達成するために必要なハロゲン化銀の塗布量が増加し膜の透明度が低下するので好ましくない。
特に、本発明のヨウ化銀含有率の高い組成のハロゲン化銀は、その塗布量が多いと現像が抑制され低感化するとともに現像の時間に対する濃度安定性が悪化する特異的な作用を有することを見出した。そのため一定以上の粒子サイズでは所定の現像時間で最高濃度が得られない。一方、その添加量を一定量以下に制限すればヨウ化銀ながら十分な現像性を有することを発見した。
【0265】
この様に高ヨウ化銀を用いた場合、十分な最高光学濃度を達成するためには、ハロゲン化銀粒子のサイズは従来の臭化銀や低ヨウド含量のヨウ臭化銀に比べて十分に小さいこと、そしてヨウ化銀の添加量を低く押さえることが必要である。好ましいハロゲン化銀の粒子サイズは5nm以上70nm以下であり、さらに5nm以上55nm以下であることが好ましい。特に好ましくは10nm以上40nm以下である。ここでいう粒子サイズとは、電子顕微鏡により観察した投影面積と同面積の円に換算したときの直径の平均をいう。
【0266】
3)粒子形状
本発明におけるハロゲン化銀粒子の形状としては、立方体、八面体、12面体、14面体、平板状粒子、球状粒子、棒状粒子、ジャガイモ状粒子等を挙げることができるが、本発明においては特に12面体、もしくは14面体の形状が好ましい。ここで言う12面体とは、{001}、{1(−1)0}、{101}面を有する粒子である。14面体とは、{110}、{101}、{100}面を有する粒子である。12面体および14面体粒子は、共に任意のβ相およびγ相含有率を取り得るが、少なくともγ相を有することが好ましい。より好ましくは、平均γ相比率が5モル%以上90モル%以下、より好ましくは10モル%以上70モル%以下、更に好ましくは25モル%以上50モル%以下である。
上記のγ相とは、六方晶系のウルツアイト構造を有する高ヨウ化銀構造を指し、β相とは立方晶系のジンクブレンド構造を有する高ヨウ化銀構造を指す。
ここで言う平均γ相比率とは、C.R.Berry(ベリー)により提案された手法を用いて決定されるものである。この手法は、粉末X線回折法のでヨウ化銀β相(100)、(101)、(002)とγ相(111)によるピーク比を元にして決定される。詳細については、例えば、Physical Review, Volume 161, No.3, p.848〜851(1967)に記載されている。
【0267】
4)粒子形成方法
感光性ハロゲン化銀の形成方法は当業界ではよく知られており、例えば、リサーチディスクロージャー1978年6月の第17029号、および米国特許第3,700,458号に記載されている方法を用いることができるが、具体的にはゼラチンあるいは他のポリマー溶液中に銀供給化合物及びハロゲン供給化合物を添加することにより感光性ハロゲン化銀を調製し、その後で有機銀塩と混合する方法を用いる。また、特開平11-119374号公報の段落番号0217〜0224に記載されている方法、特開平11-352627号、特願2000-42336号記載の方法も好ましい。
【0268】
例えば、有機銀塩の一部の銀を有機または無機のハロゲン化物でハロゲン化する、いわゆるハライデーション法も好ましく用いられる。ここで用いる有機ハロゲン化物としては有機銀塩と反応し、ハロゲン化銀を生成する化合物であればいかなるものでもよいが、N−ハロゲノイミド(N−ブロモスクシンイミドなど)、ハロゲン化4級窒素化合物(臭化テトラブチルアンモニウムなど)、ハロゲン化4級窒素塩とハロゲン分子の会合体(過臭化臭化ピリジニウム)などが挙げられる。無機ハロゲン化合物としては有機銀塩と反応しハロゲン化銀を生成する化合物で有ればいかなるものでもよいが、ハロゲン化アルカリ金属またはアンモニウム(塩化ナトリウム、臭化リチウム、ヨウ化カリウム、臭化アンモニウムなど)、ハロゲン化アルカリ土類金属(臭化カルシウム、塩化マグネシウムなど)、ハロゲン化遷移金属(塩化第2鉄、臭化第2銅など)、ハロゲン配位子を有する金属錯体(臭化イリジウム酸ナトリウム、塩化ロジウム酸アンモニウムなど)、ハロゲン分子(臭素、塩素、ヨウ素)などがある。また、所望の有機無機ハロゲン化物を併用しても良い。ハライデーションする際のハロゲン化物の添加量としては有機銀塩1モル当たりハロゲン原子として1ミリモル〜500ミリモルが好ましく、10ミリモル〜250ミリモルがさらに好ましい。
【0269】
感光性ハロゲン化銀粒子はヌードル法、フロキュレーション法等、当業界で知られている方法の水洗により脱塩することができるが、本発明においては脱塩してもしなくてもよい。
【0270】
本発明において特に好ましい感光性ハロゲン化銀粒子の形成方法は、有機銀塩の存在しない状態で粒子形成する方法である。本発明における感光性ハロゲン化銀粒子は、粒子形成後適切な形状の制御や化学増感処理などの高感化や安定化のための処理を施した後に、非感光性有機銀塩と混合するのが好ましい。
【0271】
5)重金属
感光性ハロゲン化銀粒子は、ロジウム、レニウム、ルテニウム、オスニウム、イリジウム、コバルト、水銀または鉄から選ばれる金属の錯体を少なくとも一種含有することが好ましい。これら金属錯体は1種類でもよいし、同種金属及び異種金属の錯体を二種以上併用してもよい。好ましい含有率は銀1モルに対し1ナノモル(nmol)から10ミリモル(mmol)の範囲が好ましく、10ナノモル(nmol)から100マイクロモル(μmol)の範囲がより好ましい。具体的な金属錯体の構造としては特開平7−225449号公報等に記載された構造の金属錯体を用いることができる。コバルト、鉄の化合物については六シアノ金属錯体を好ましく用いることができる。具体例としては、フェリシアン酸イオン、フェロシアン酸イオン、へキサシアノコバルト酸イオンなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。ハロゲン化銀中の金属錯体の含有相は均一でも、コア部に高濃度に含有させてもよく、あるいはシェル部に高濃度に含有させてもよく特に制限はない。
【0272】
6)ゼラチン
本発明に用いる感光性ハロゲン化銀乳剤に含有されるゼラチンとしては、種々のゼラチンが使用することができる。感光性ハロゲン化銀乳剤の有機銀塩含有塗布液中での分散状態を良好に維持するために、分子量は、500〜60,000の低分子量ゼラチンを使用することが好ましい。これらの低分子量ゼラチンは粒子形成時あるいは脱塩処理後の分散時に使用してもよいが、脱塩処理後の分散時に使用することが好ましい。
【0273】
7)化学増感
感光性ハロゲン化銀粒子は化学増感されていることが好ましい。好ましい化学増感法としては当業界でよく知られているように硫黄増感法、セレン増感法、テルル増感法を用いることができる。また金化合物や白金、パラジウム、イリジウム化合物等の貴金属増感法や還元増感法を用いることができる。硫黄増感法、セレン増感法、テルル増感法に好ましく用いられる化合物としては公知の化合物を用いることができるが、特開平7−128768号公報等に記載の化合物を使用することができる。
【0274】
8)増感色素
本発明に適用できる増感色素としてはハロゲン化銀粒子に吸着した際、所望の波長領域でハロゲン化銀粒子を分光増感できるもので、露光光源の分光特性に適した分光感度を有する増感色素を有利に選択することができる。本発明の熱現像感光材料は特に300nm以上500nm以下に分光感度ピークを持つように分光増感されていることが好ましい。増感色素及び添加法については、特開平11-65021号の段落番号0103〜0109、特開平10-186572号一般式(II)で表される化合物、特開平11-119374号の一般式(I) で表される色素及び段落番号0106、米国特許第5,510,236号、同第3,871,887号実施例5に記載の色素、特開平2-96131号、特開昭59-48753号に開示されている色素、欧州特許公開第0803764A1号の第19ページ第38行〜第20ページ第35行、特願2000-86865号、特願2000-102560号、特願2000-205399号等に記載されており、また、特願2002-102319号に記載されている一般式Da〜Ddで示され具体例としてNo.1〜 No.53に挙げられている色素も本発明に用いるのが好ましい。これらの増感色素は単独で用いてもよく、2種以上組合せて用いてもよい。本発明において増感色素をハロゲン化銀乳剤中に添加する時期は、脱塩工程後、塗布までの時期が好ましく、より好ましくは脱塩後から化学熟成の終了前までの時期である。
【0275】
本発明における増感色素の添加量は、感度やカブリの性能に合わせて所望の量にすることができるが、画像形成層のハロゲン化銀1モル当たり10-6〜1モルが好ましく、さらに好ましくは10-4〜10-1モルである。
【0276】
本発明は分光増感効率を向上させるため、強色増感剤を用いることができる。本発明に用いる強色増感剤としては、欧州特許公開第587,338号、米国特許第3,877,943号、同第4,873,184号、特開平5-341432号、同11-109547号、同10-111543号等に記載の化合物が挙げられる。
【0277】
9)ハロゲン化銀の併用
本発明に用いられる熱現像感光材料中の感光性ハロゲン化銀乳剤は、一種だけでもよいし、二種以上(例えば、平均粒子サイズの異なるもの、ハロゲン組成の異なるもの、晶癖の異なるもの、化学増感の条件の異なるもの)併用してもよい。感度の異なる感光性ハロゲン化銀を複数種用いることで階調を調節することができる。これらに関する技術としては特開昭57-119341号、同53-106125号、同47-3929号、同48-55730号、同46-5187号、同50-73627号、同57-150841号などが挙げられる。感度差としてはそれぞれの乳剤で0.2logE以上の差を持たせることが好ましい。
【0278】
10)ハロゲン化銀の塗布液への混合
本発明のハロゲン化銀の画像形成層塗布液中への好ましい添加時期は、塗布する180分前から直前、好ましくは60分前から10秒前であるが、混合方法及び混合条件については本発明の効果が十分に現れる限りにおいては特に制限はない。具体的な混合方法としては添加流量とコーターへの送液量から計算した平均滞留時間を所望の時間となるようにしたタンクでの混合する方法やN.Harnby、M.F.Edwards、A.W.Nienow著、高橋幸司訳"液体混合技術"(日刊工業新聞社刊、1989年)の第8章等に記載されているスタチックミキサーなどを使用する方法がある。
【0279】
11)塗布量
本発明おけるハロゲン化銀粒子の塗布量は、前述の非感光性有機銀塩の銀1モルに対して0.5モル%以上15モル%以下、好ましくは0.5モル%以上12モル%以下である。0.5モル%以上7モル%以下、さらには0.5モル%以上5モル%以下であることが特に好ましい。
【0280】
12)1電子酸化されて生成する1電子酸化体が1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物
本発明における熱現像感光材料は、1電子酸化されて生成する1電子酸化体が1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物を含有することが好ましい。該化合物は、単独、あるいは前記の種々の化学増感剤と併用して用いることにより、ハロゲン化銀の感度増加をもたらすことができる。
【0281】
本発明の熱現像感光材料に含有される1電子酸化されて生成する1電子酸化体が1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物とは以下のタイプ1〜5から選ばれる化合物である。
【0282】
(タイプ1)
1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続く結合開裂反応を伴って、さらに2電子以上の電子を放出し得る化合物。
(タイプ2)
1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続く結合開裂反応を伴って、さらにもう1電子を放出し得る化合物で、かつ同じ分子内にハロゲン化銀への吸着性基を2つ以上有する化合物。
(タイプ3)
1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続く結合形成過程を経た後に、さらに1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物。
(タイプ4)
1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続く分子内の環開裂反応を経た後に、さらに1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物。
(タイプ5)
X−Yで表される化合物においてXは還元性基を、Yは脱離基を表し、Xで表される還元性基が1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続くX−Y結合の開裂反応を伴ってYを脱離してXラジカルを生成し、そこからさらにもう1電子を放出し得る化合物。
【0283】
上記タイプ1およびタイプ3〜5の化合物のうち好ましいものは、「分子内にハロゲン化銀への吸着性基を有する化合物」であるか、または「分子内に、分光増感色素の部分構造を有する化合物」である。より好ましくは「分子内にハロゲン化銀への吸着性基を有する化合物」である。タイプ1〜4の化合物はより好ましくは「2つ以上のメルカプト基で置換された含窒素ヘテロ環基を吸着性基として有する化合物」である。
【0284】
タイプ1〜5の化合物について詳細に説明する。
タイプ1の化合物において「結合開裂反応」とは具体的に炭素−炭素、炭素−ケイ素、炭素−水素、炭素−ホウ素、炭素−スズ、炭素−ゲルマニウムの各元素間の結合の開裂を意味し、炭素−水素結合の開裂がさらにこれらに付随してもよい。タイプ1の化合物は1電子酸化されて1電子酸化体となった後に、初めて結合開裂反応を伴って、さらに2電子以上(好ましくは3電子以上)の電子を放出し得る化合物である。
【0285】
タイプ1の化合物のうち好ましい化合物は一般式(A)、一般式(B)、一般式(1)、一般式(2)または一般式(3)で表される。
【0286】
一般式(A)
【化58】
【0287】
一般式(B)
【化59】
【0288】
一般式(A)においてRED11は1電子酸化され得る還元性基を表し、L11は脱離基を表す。R112は水素原子または置換基を表す。R111は炭素原子(C)およびRED11と共に、5員もしくは6員の芳香族環(芳香族ヘテロ環を含む)のテトラヒドロ体、ヘキサヒドロ体、もしくはオクタヒドロ体に相当する環状構造を形成し得る非金属原子団を表す。
【0289】
一般式(B)においてRED12は1電子酸化され得る還元性基を表し、L12は脱離基を表す。R121およびR122は、それぞれ水素原子または置換基を表す。ED12は電子供与性基を表す。一般式(B)においてR121とRED12、R121とR122、またはED12とRED12とは、互いに結合して環状構造を形成していてもよい。
【0290】
これら一般式(A)または一般式(B)で表される化合物は、RED11またはRED12で表される還元性基が1電子酸化された後、自発的にL11またはL12を結合開裂反応により離脱することで、これに伴いさらに電子を2つ以上、好ましくは3つ以上放出し得る化合物である。
【0291】
一般式(1)、一般式(2)、一般式(3)
【化60】
【0292】
一般式(1)においてZ1は窒素原子およびベンゼン環の2つの炭素原子と共に6員環を形成し得る原子団を表し、R1、R2、RN1はそれぞれ水素原子または置換基を表し、X1はベンゼン環に置換可能な置換基を表し、m1は0〜3の整数を表し、L1は脱離基を表す。一般式(2)においてED21は電子供与性基を表し、R11、R12、RN21、R13、R14はそれぞれ水素原子または置換基を表し、X21はベンゼン環に置換可能な置換基を表し、m21は0〜3の整数を表し、L21は脱離基を表す。RN21、R13、R14、X21およびED21は、互いに結合して環状構造を形成していてもよい。一般式(3)においてR32、R33、R31、RN31、Ra、Rbはそれぞれ水素原子または置換基を表し、L31は脱離基を表す。但しRN31がアリール基以外の基を表す時、RaおよびRbは互いに結合して芳香族環を形成する。
【0293】
これら化合物は1電子酸化された後、自発的にL1、L21、またはL31を結合開裂反応により離脱することで、これに伴いさらに電子を2つ以上、好ましくは3つ以上放出し得る化合物である。
【0294】
以下、先ず一般式(A)で表される化合物について詳しく説明する。
一般式(A)においてRED11で表される1電子酸化され得る還元性基は、後述するR111と結合して特定の環形成をし得る基であり、具体的には次の1価基から環形成をするのに適切な箇所の水素原子1個を除いた2価基が挙げられる。例えば、アルキルアミノ基、アリールアミノ基(アニリノ基、ナフチルアミノ基等)、ヘテロ環アミノ基(ベンズチアゾリルアミノ基、ピロリルアミノ基等)、アルキルチオ基、アリールチオ基(フェニルチオ基等)、ヘテロ環チオ基、アルコキシ基、アリールオキシ基(フェノキシ基等)、ヘテロ環オキシ基、アリール基(フェニル基、ナフチル基、アントラニル基等)、芳香族または非芳香族のヘテロ環基(5員〜7員の、単環もしくは縮合環の、窒素原子、硫黄原子、酸素原子、セレン原子のうち少なくとも1つのヘテロ原子を含むヘテロ環で、その具体例としては、例えばテトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環、テトラヒドロキノキサリン環、テトラヒドロキナゾリン環、インドリン環、インドール環、インダゾール環、カルバゾール環、フェノキサジン環、フェノチアジン環、ベンゾチアゾリン環、ピロール環、イミダゾール環、チアゾリン環、ピペリジン環、ピロリジン環、モルホリン環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾイミダゾリン環、ベンゾオキサゾリン環、メチレンジオキシフェニル環等が挙げられる)である(以後、便宜上RED11は1価基名として記述する)。RED11は置換基を有していてもよい。
【0295】
本発明において置換基とは、特に説明がない限り、以下の基から選ばれる置換基を意味する。ハロゲン原子、アルキル基(アラルキル基、シクロアルキル基、活性メチン基等を含む)、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基(置換する位置は問わない)、4級化された窒素原子を含むヘテロ環基(例えばピリジニオ基、イミダゾリオ基、キノリニオ基、イソキノリニオ基)、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、カルボキシ基またはその塩、スルホニルカルバモイル基、アシルカルバモイル基、スルファモイルカルバモイル基、カルバゾイル基、オキサリル基、オキサモイル基、シアノ基、カルボンイミドイル基、チオカルバモイル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基(エチレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基単位を繰り返し含む基を含む)、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、(アルコキシもしくはアリールオキシ)カルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルホニルオキシ基、アミノ基、(アルキル、アリール、またはヘテロ環)アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、イミド基、(アルコキシもしくはアリールオキシ)カルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、セミカルバジド基、チオセミカルバジド基、ヒドラジノ基、アンモニオ基、オキサモイルアミノ基、(アルキルもしくはアリール)スルホニルウレイド基、アシルウレイド基、アシルスルファモイルアミノ基、ニトロ基、メルカプト基、(アルキル、アリール、またはヘテロ環)チオ基、(アルキルまたはアリール)スルホニル基、(アルキルまたはアリール)スルフィニル基、スルホ基またはその塩、スルファモイル基、アシルスルファモイル基、スルホニルスルファモイル基またはその塩、リン酸アミドもしくはリン酸エステル構造を含む基、等が挙げられる。これら置換基は、これら置換基でさらに置換されていてもよい。
【0296】
RED11として好ましくは、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、アリール基、芳香族または非芳香族のヘテロ環基であり、さらに好ましくはアリールアミノ基(特にアニリノ基)、アリール基(特にフェニル基)である。これらが置換基を有する時、置換基として好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、カルバモイル基、スルファモイル基、アシルアミノ基、スルホンアミド基である。
但しRED11がアリール基を表す時、アリール基は少なくとも1つの「電子供与性基」を有していることが好ましい。ここに「電子供与性基」とは、ヒドロキシ基、アルコキシ基、メルカプト基、スルホンアミド基、アシルアミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、活性メチン基、窒素原子を環内に少なくとも1つ含む5員の、単環もしくは縮合環の、電子過剰な芳香族ヘテロ環基(例えばインドリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ベンズイミダゾリル基、チアゾリル基、ベンズチアゾリル基、インダゾリル基など)、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基(ピロリジニル基、インドリニル基、ピペリジニル基、ピペラジニル基、モルホリノ基などで環状のアミノ基とも呼べる基)である。ここで活性メチン基とは2つの「電子求引性基」で置換されたメチン基を意味し、ここに「電子求引性基」とはアシル基、アルコシキカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基、カルボンイミドイル基を意味する。ここで2つの電子求引性基は互いに結合して環状構造をとっていてもよい。
【0297】
一般式(A)においてL11は、具体的にはカルボキシ基もしくはその塩、シリル基、水素原子、トリアリールホウ素アニオン、トリアルキルスタニル基、トリアルキルゲルミル基、または−CRC1RC2RC3基を表す。ここにシリル基とは具体的にトリアルキルシリル基、アリールジアルキルシリル基、トリアリールシリル基などを表し、任意の置換基を有していてもよい。
【0298】
L11がカルボキシ基の塩を表すとき、塩を形成するカウンターイオンとしてはアルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、重金属イオン、アンモニウムイオン、ホスホニウムイオンなどが挙げられ、好ましくはアルカリ金属イオンまたはアンモニウムイオンであり、アルカリ金属イオン(特にLi+、Na+、K+イオン)が最も好ましい。
【0299】
L11が−CRC1RC2RC3基を表す時、ここにRC1、RC2、RC3はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基を表し、これらが互いに結合して環状構造を形成していてもよく、さらに任意の置換基を有していてもよい。但し、RC1、RC2、RC3のうち1つが水素原子もしくはアルキル基を表す時、残る2つが水素原子もしくはアルキル基を表すことはない。RC1、RC2、RC3として好ましくは、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基(特にフェニル基)、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環基、アルコキシ基、ヒドロキシ基で、具体的にその例を挙げると、フェニル基、p−ジメチルアミノフェニル基、p−メトキシフェニル基、2,4−ジメトキシフェニル基、p−ヒドロキシフェニル基、メチルチオ基、フェニルチオ基、フェノキシ基、メトキシ基、エトキシ基、ジメチルアミノ基、N−メチルアニリノ基、ジフェニルアミノ基、モルホリノ基、チオモルホリノ基、ヒドロキシ基などが挙げられる。またこれらが互いに結合して環状構造を形成する場合の例としては1,3−ジチオラン−2−イル基、1,3−ジチアン−2−イル基、N−メチル−1,3−チアゾリジン−2−イル基、N−ベンジル−ベンゾチアゾリジン−2−イル基などが挙げられる。
−CRC1RC2RC3基が、RC1、RC2、RC3についてそれぞれ上述した範囲内で選択された結果として、一般式(A)からL11を除いた残基と同じ基を表す場合もまた好ましい。
【0300】
一般式(A)においてL11は、好ましくはカルボキシ基またはその塩、および水素原子である。より好ましくはカルボキシ基またはその塩である。
【0301】
L11が水素原子を表す時、一般式(A)で表される化合物は、分子内に内在する塩基部位を有していることが好ましい。この塩基部位の作用により、一般式(A)で表される化合物が酸化された後、L11で表される水素原子が脱プロトン化されて、ここからさらに電子が放出されるのである。
【0302】
ここに塩基とは、具体的に約1〜約10のpKaを示す酸の共役塩基である。例えば含窒素ヘテロ環類(ピリジン類、イミダゾール類、ベンゾイミダゾール類、チアゾール類など)、アニリン類、トリアルキルアミン類、アミノ基、炭素酸類(活性メチレンアニオンなど)、チオ酢酸アニオン、カルボキシレート(−COO-)、サルフェート(−SO3 -)、またはアミンオキシド(>N+(O-)−)などが挙げられる。好ましくは約1〜約8のpKaを示す酸の共役塩基であり、カルボキシレート、サルフェート、またはアミンオキシドがより好ましく、カルボキシレートが特に好ましい。これらの塩基がアニオンを有する時、対カチオンを有していてもよく、その例としてはアルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、重金属イオン、アンモニウムイオン、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。これら塩基は、任意の位置で一般式(A)で表される化合物に連結される。これら塩基部位が結合する位置としては、一般式(A)のRED11、R111、R112の何れでもよく、またこれらの基の置換基に連結していてもよい。
【0303】
一般式(A)においてR112は水素原子または炭素原子に置換可能な置換基を表す。但しR112がL11と同じ基を表すことはない。
R112は好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基(フェニル基など)、アルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基、ベンジルオキシ基など)、ヒドロキシ基、アルキルチオ基(メチルチオ基、ブチルチオ基など)、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、フェニル基、アルキルアミノ基である。
【0304】
一般式(A)においてR111が形成する環状構造とは、5員もしくは6員の芳香族環(芳香族ヘテロ環を含む)のテトラヒドロ体、ヘキサヒドロ体もしくはオクタヒドロ体に相当する環構造で、ここにヒドロ体とは、芳香族環(芳香族ヘテロ環を含む)に内在する炭素−炭素2重結合(または炭素−窒素2重結合)が部分的に水素化された環構造を意味し、テトラヒドロ体とは2つの、ヘキサヒドロ体とは3つの、オクタヒドロ体とは4つの、炭素−炭素2重結合(または炭素−窒素2重結合)が水素化された構造を意味する。水素化されることで芳香族環は、部分的に水素化された非芳香族の環構造となる。
具体的には、ピロリジン環、イミダゾリジン環、チアゾリジン環、ピラゾリジン環およびオキサゾリジン環、ピペリジン環、テトラヒドロピリジン環、テトラヒドロピリミジン環、ピペラジン環、テトラリン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環、テトラヒドロキナゾリン環、およびテトラヒドロキノキサリン環、テトラヒドロカルバゾール環、オクタヒドロフェナントリジン環等が挙げられる。これらの環構造は任意の置換基を有していてもよい。
【0305】
R111が形成する環状構造としてさらに好ましくは、ピロリジン環、イミダゾリジン環、ピペリジン環、テトラヒドロピリジン環、テトラヒドロピリミジン環、ピペラジン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環、テトラヒドロキナゾリン環、テトラヒドロキノキサリン環、テトラヒドロカルバゾール環であり、特に好ましくは、ピロリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環、テトラヒドロピリジン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環、テトラヒドロキナゾリン環、テトラヒドロキノキサリン環であり、最も好ましくはピロリジン環、ピペリジン環、テトラヒドロピリジン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環である。
【0306】
一般式(B)においてRED12、L12は、それぞれ一般式(A)のRED11、L11に同義の基であり、その好ましい範囲もまた同じである。但し、RED12は下記の環状構造を形成する場合以外は1価基であり、具体的にはRED11で記載した1価基名の基が挙げられる。R121およびR122は一般式(A)のR112に同義の基であり、その好ましい範囲もまた同じである。ED12は電子供与性基を表す。R121とRED12、R121とR122、またはED12とRED12とは、互いに結合して環状構造を形成していてもよい。
【0307】
一般式(B)においてED12で表される電子供与性基とは、RED11がアリール基を表すときの置換基として説明した電子供与性基と同じものである。ED12として好ましくはヒドロキシ基、アルコキシ基、メルカプト基、スルホンアミド基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、活性メチン基、窒素原子を環内に少なくとも1つ含む5員の、単環もしくは縮合環の、電子過剰な芳香族ヘテロ環基、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基、およびこれら電子供与性基で置換されたフェニル基であり、さらにヒドロキシ基、メルカプト基、スルホンアミド基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、活性メチン基、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基、およびこれら電子供与性基で置換されたフェニル基(例えばp-ヒドロキシフェニル基、p-ジアルキルアミノフェニル基、o,p-ジアルコキシフェニル基等)がより好ましい。
【0308】
一般式(B)においてR121とRED12、R122とR121、またはED12とRED12とは、互いに結合して環状構造を形成していてもよい。ここで形成される環状構造とは、非芳香族の炭素環もしくはヘテロ環であって、5員〜7員環の単環または縮合環で、置換もしくは無置換の環状構造である。R121とRED12とが環構造を形成するとき、その具体例としては、一般式(A)においてR111が形成する環状構造の例として挙げたものに加えて、ピロリン環、イミダゾリン環、チアゾリン環、ピラゾリン環、オキサゾリン環、インダン環、モルホリン環、インドリン環、テトラヒドロ-1,4-オキサジン環、2,3-ジヒドロベンゾ-1,4-オキサジン環、テトラヒドロ-1,4-チアジン環、2,3-ジヒドロベンゾ-1,4-チアジン環、2,3-ジヒドロベンゾフラン環、2,3-ジヒドロベンゾチオフェン環等が挙げられる。ED12とRED12とが環構造を形成するとき、ED12は好ましくはアミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基を表し、形成される環構造の具体例としては、テトラヒドロピラジン環、ピペラジン環、テトラヒドロキノキサリン環、テトラヒドロイソキノリン環などが挙げられる。R122とR121とが環構造を形成するとき、その具体例としてはシクロヘキサン環、シクロペンタン環などが挙げられる。
【0309】
次に一般式(1)〜(3)について説明する。
一般式(1)〜(3)においてR1、R2、R11、R12、R31は、一般式(A)のR112と同義の基であり、その好ましい範囲もまた同じである。L1、L21、L31は、一般式(A)のL11について説明した中で具体例として挙げた基と同じ脱離基を表し、その好ましい範囲もまた同じである。X1、X21で表される置換基としては、一般式(A)のRED11が置換基を有する時の置換基の例と同じであり、好ましい範囲も同じである。m1、m21は好ましくは0〜2の整数であり、より好ましくは0または1である。
【0310】
RN1、RN21、RN31が置換基を表す時、置換基としてはアルキル基、アリール基、ヘテロ環基が好ましく、これらはさらに任意の置換基を有していてもよい。RN1、RN21、RN31は水素原子、アルキル基またはアリール基が好ましく、水素原子またはアルキル基がより好ましい。
【0311】
R13、R14、R33、Ra、Rbが置換基を表す時、置換基として好ましくは、アルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、シアノ基、アルコキシ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基などである。
【0312】
一般式(1)においてZ1が形成する6員環は、一般式(1)のベンゼン環と縮合した非芳香族のヘテロ環であり、具体的には縮合するベンゼン環も含めた環構造としてテトラヒドロキノリン環、テトラヒドロキノキサリン環、テトラヒドロキナゾリン環であり、好ましくはテトラヒドロキノリン環、テトラヒドロキノキサリン環である。これらは置換基を有していてもよい。
【0313】
一般式(2)においてED21は、一般式(B)のED12と同義の基であり、その好ましい範囲もまた同じである。
【0314】
一般式(2)においてRN21、R13、R14、X21およびED21のいずれか2つは、互いに結合して環状構造を形成していてもよい。ここでRN21とX21が結合して形成される環状構造とは、好ましくはベンゼン環と縮合した5員〜7員の非芳香族の炭素環もしくはヘテロ環であって、その具体例としては、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロキノキサリン環、インドリン環、2,3−ジヒドロ−5,6−ベンゾ−1,4−チアジン環などが挙げられる。好ましくはテトラヒドロキノリン環、テトラヒドロキノキサリン環、インドリン環である。
【0315】
一般式(3)においてRN31がアリール基以外の基を表す時、RaおよびRbは互いに結合して芳香族環を形成する。ここに芳香族環とはアリール基(例えばフェニル基、ナフチル基)および芳香族ヘテロ環基(例えばピリジン環基、ピロール環基、キノリン環基、インドール環基など)であり、アリール基が好ましい。該芳香族環基は任意の置換基を有していてもよい。
一般式(3)においてRaおよびRbは、互いに結合して芳香族環(特にフェニル基)を形成する場合が好ましい。
【0316】
一般式(3)においてR32は好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、メルカプト基、アミノ基などであり、ここにR32がヒドロキシ基を表す時、同時にR33が「電子求引性基」を表す場合も好ましい例の1つである。ここに「電子求引性基」とは、先に説明したものと同じであり、アシル基、アルコシキカルボニル基、カルバモイル基、シアノ基が好ましい。
【0317】
次にタイプ2の化合物について説明する。
タイプ2の化合物において「結合開裂反応」とは炭素−炭素、炭素−ケイ素、炭素−水素、炭素−ホウ素、炭素−スズ、炭素−ゲルマニウムの各元素間の結合の開裂を意味し、炭素−水素結合の開裂がこれに付随してもよい。
【0318】
タイプ2の化合物は分子内にハロゲン化銀への吸着性基を2つ以上(好ましくは2〜6つ、より好ましくは2〜4つ)有する化合物である。より好ましくは2つ以上のメルカプト基で置換された含窒素ヘテロ環基を吸着性基として有する化合物である。吸着性基の数は、好ましくは2〜6、さらに好ましくは2〜4が良い。吸着性基については後述する。
【0319】
タイプ2の化合物のうち好ましい化合物は一般式(C)で表される。
【0320】
一般式(C)
【化61】
【0321】
ここに一般式(C)で表される化合物は、RED2で表される還元性基が1電子酸化された後、自発的にL2を結合開裂反応により離脱することで、これに伴いさらに電子を1つ放出し得る化合物である。
【0322】
一般式(C)においてRED2は一般式(B)のRED12と同義の基を表し、その好ましい範囲も同じである。L2は一般式(A)のL11について説明したのと同義の基を表し、その好ましい範囲も同じである。なおL2がシリル基を表す時、該化合物は分子内に、2つ以上のメルカプト基で置換された含窒素ヘテロ環基を吸着性基として有する化合物である。R21、R22は水素原子または置換基を表し、これらは一般式(A)のR112と同義の基であり、その好ましい範囲も同じである。RED2とR21とは互いに結合して環構造を形成していてもよい。
【0323】
ここで形成される環構造とは、5員〜7員の、単環もしくは縮合環の、非芳香族の炭素環またはヘテロ環であり、置換基を有していてもよい。但し該環構造が、芳香族環または芳香族ヘテロ環のテトラヒドロ体、ヘキサヒドロ体もしくはオクタヒドロ体に相当する環構造であることはない。環構造として好ましくは、芳香族環または芳香族ヘテロ環のジヒドロ体に相当する環構造で、その具体例としては、例えば2−ピロリン環、2−イミダゾリン環、2−チアゾリン環、1,2−ジヒドロピリジン環、1,4−ジヒドロピリジン環、インドリン環、ベンゾイミダゾリン環、ベンゾチアゾリン環、ベンゾオキサゾリン環、2,3−ジヒドロベンゾチオフェン環、2,3−ジヒドロベンゾフラン環、ベンゾ−α−ピラン環、1,2−ジヒドロキノリン環、1,2−ジヒドロキナゾリン環、1,2−ジヒドロキノキサリン環などが挙げられ、好ましくは2−イミダゾリン環、2−チアゾリン環、インドリン環、ベンゾイミダゾリン環、ベンゾチアゾリン環、ベンゾオキサゾリン環、1,2−ジヒドロピリジン環、1,2−ジヒドロキノリン環、1,2−ジヒドロキナゾリン環、1,2−ジヒドロキノキサリン環などであり、インドリン環、ベンゾイミダゾリン環、ベンゾチアゾリン環、1,2−ジヒドロキノリン環がより好ましく、インドリン環が特に好ましい。
【0324】
次にタイプ3の化合物について説明する。
タイプ3の化合物において「結合形成過程」とは炭素−炭素、炭素−窒素、炭素−硫黄、炭素−酸素などの原子間結合の形成を意味する。
【0325】
タイプ3の化合物は好ましくは、1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続いて分子内に共存する反応性基部位(炭素−炭素2重結合部位、炭素−炭素3重結合部位、芳香族基部位、またはベンゾ縮環の非芳香族ヘテロ環基部位)と反応して結合を形成した後に、さらに1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得ることを特徴とする化合物である。
【0326】
さらに詳細に述べるとタイプ3の化合物は、1電子酸化されて生成するその1電子酸化体(カチオンラジカル種、またはそこからプロトンの脱離により生成する中性のラジカル種)が、同じ分子内に共存する上記反応性基と反応し、結合を形成して、分子内に新たに環構造を有するラジカル種を生成する。そしてこのラジカル種から、直接もしくはプロトンの脱離を伴って、2電子目の電子が放出される特徴を有している。
そしてさらにタイプ3の化合物の中には、そうして生成した2電子酸化体がその後、ある場合には加水分解反応を受けた後に、またある場合には直接プロトンの移動を伴なう互変異性化反応を起して、そこからさらに1電子以上、通常2電子以上の電子を放出する場合がある。あるいはまたこうした互変異性化反応を経由せずに直接2電子酸化体から、さらに1電子以上、通常2電子以上の電子を放出する能力を有しているものも含まれる。
【0327】
タイプ3の化合物は好ましくは、一般式(D)で表される。
【0328】
一般式(D)
【化62】
【0329】
一般式(D)においてRED3は1電子酸化され得る還元性基を表し、Y3はRED3が1電子酸化された後に反応する反応性基部位を表し、具体的には炭素−炭素2重結合部位、炭素−炭素3重結合部位、芳香族基部位、またはベンゾ縮環の非芳香族ヘテロ環基部位を含む有機基を表す。L3はRED3とY3とを連結する連結基を表す。
【0330】
RED3は一般式(B)のRED12と同義の基を表し、好ましくはアリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリール基、芳香族または非芳香族のヘテロ環基(特に含窒素ヘテロ環基が好ましい)であり、さらに好ましくはアリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、アリール基、芳香族または非芳香族のヘテロ環基であり、このうちヘテロ環基に関しては、テトラヒドロキノリン環基、テトラヒドロキノキサリン環基、テトラヒドロキナゾリン環基、インドリン環基、インドール環基、カルバゾール環基、フェノキサジン環基、フェノチアジン環基、ベンゾチアゾリン環基、ピロール環基、イミダゾール環基、チアゾール環基、ベンゾイミダゾール環基、ベンゾイミダゾリン環基、ベンゾチアゾリン環基、3,4-メチレンジオキシフェニル-1-イル基などが好ましい。
RED3として特に好ましくはアリールアミノ基(特にアニリノ基)、アリール基(特にフェニル基)、芳香族または非芳香族のヘテロ環基である。
【0331】
ここでRED3がアリール基を表す時、アリール基は少なくとも1つの「電子供与性基」を有していることが好ましい。「電子供与性基」は先に説明したものと同じである。
【0332】
RED3がアリール基を表す時、そのアリール基の置換基としてより好ましくはアルキルアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、メルカプト基、スルホンアミド基、活性メチン基、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基であり、さらに好ましくはアルキルアミノ基、ヒドロキシ基、活性メチン基、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基であり、最も好ましくはアルキルアミノ基、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基である。
【0333】
Y3で表される炭素−炭素2重結合部位を含む有機基(例えばビニル基)が置換基を有するとき、その置換基として好ましくは、アルキル基、フェニル基、アシル基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、電子供与基などであり、ここに電子供与性基として好ましくは、アルコキシ基、ヒドロキシ基(シリル基で保護されていてもよく、例えばトリメチルシリルオキシ基、t-ブチルジメチルシリルオキシ基、トリフェニルシリルオキシ基、トリエチルシリルオキシ基、フェニルジメチルシリルオキシ基などが挙げられる)、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、スルホンアミド基、活性メチン基、メルカプト基、アルキルチオ基、およびこれら電子供与性基を置換基に有するフェニル基である。
【0334】
なおここで炭素−炭素2重結合部位を含む有機基が置換基としてヒドロキシ基を有する時、Y3は右記部分構造:>C1=C2(−OH)−を含むことになるが、これは互変異性化して右記部分構造:>C1H−C2(=O)−となっていても良い。さらにこの場合に、該C1炭素に置換する置換基が電子求引性基である場合もまた好ましく、この場合Y3は「活性メチレン基」または「活性メチン基」の部分構造を有することになる。このような活性メチレン基または活性メチン基の部分構造を与え得る電子求引性基とは、上述の「活性メチン基」の説明の中で説明したものと同じである。
【0335】
Y3で表される炭素−炭素3重結合部位を含む有機基(例えばエチニル基)が置換基を有するとき、その置換基としてはアルキル基、フェニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、電子供与基などが好ましい。
【0336】
Y3が芳香族基部位を含む有機基を表す時、芳香族基として好ましくは電子供与性基を置換基として有するアリール基(特にフェニル基が好ましい)またはインドール環基で、ここに電子供与性基として好ましくは、ヒドロキシ基(シリル基で保護ざれていてもよい)、アルコキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、活性メチン基、スルホンアミド基、メルカプト基である。
【0337】
Y3がベンゾ縮環の非芳香族ヘテロ環基部位を含む有機基を表す時、ベンゾ縮環の非芳香族ヘテロ環基として好ましくはアニリン構造を部分構造として内在するもので、例えば、インドリン環基、1,2,3,4−テトラヒドロキノリン環基、1,2,3,4−テトラヒドロキノキサリン環基、4−キノロン環基などが挙げられる。
【0338】
Y3で表される反応性基としてより好ましくは、炭素−炭素2重結合部位、芳香族基部位、またはベンゾ縮環の非芳香族ヘテロ環基を含む有機基である。さらに好ましくは、炭素−炭素2重結合部位、電子供与性基を置換基として有するフェニル基、インドール環基、アニリン構造を部分構造として内在するベンゾ縮環の非芳香族ヘテロ環基である。ここに炭素−炭素2重結合部位は少なくとも1つの電子供与性基を置換基として有することがより好ましい。
【0339】
Y3で表される反応性基が、これまでに説明した範囲から選択された結果として、RED3で表される還元性基と同じ部分構造を有する場合もまた、一般式(D)で表される化合物の好ましい例である。
【0340】
L3は、RED3とY3とを連結する連結基を表し、具体的には単結合、アルキレン基、アリーレン基、ヘテロ環基、−O−、−S−、−NRN−、−C(=O)−、−SO2−、−SO−、−P(=O)−の各基の単独、またはこれらの基の組み合わせからなる基を表す。ここにRNは水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基を表す。L3で表される連結基は任意の置換基を有していてもよい。L3で表される連結基は、RED3およびY3で表される基の任意の位置で、それぞれの任意の1個の水素原子と置換する形で、連結され得る。
L3の好ましい例としては、単結合、アルキレン基(特にメチレン基、エチレン基、プロピレン基)、アリーレン基(特にフェニレン基)、−C(=O)−基、−O−基、−NH−基、−N(アルキル基)−基、およびこれらの基の組み合わせからなる2価の連結基が挙げられる。
【0341】
L3で表される基は、RED3が酸化されて生成するカチオンラジカル種(X+・)、またはそこからプロトンの脱離を伴って生成するラジカル種(X・)と、Y3で表される反応性基とが反応して結合形成する際、これに関わる原子団が、L3を含めて3〜7員の環状構造を形成しうることが好ましい。この為にはラジカル種(X+・またはX・)、Yで表される反応性基、およびLが、3〜7個の原子団で連結されていることが好ましい。
【0342】
次にタイプ4の化合物について説明する。
タイプ4の化合物は還元性基の置換した環構造を有する化合物であり、該還元性基が1電子酸化された後、環構造の開裂反応を伴ってさらに1電子もしくはそれ以上の電子を放出しうる化合物である。ここで言う環構造の開裂反応とは、下記で表される形式のものを意味する。
【0343】
【化63】
【0344】
式中、化合物aはタイプ4の化合物を表す。化合物a中、Dは還元性基を表し、X、Yは環構造中の1電子酸化後に開裂する結合を形成している原子を表す。まず化合物aが1電子酸化されて 1電子酸化体bを生成する。ここからD−Xの単結合が2重結合になると同時にX−Yの結合が切断され開環体cが生成する。あるいはまた1電子酸化体bからプロトンの脱離を伴ってラジカル中間体dが生成し、ここから同様に開環体eを生成する経路をとる場合もある。このように生成した開環体cまたはeから、引き続きさらに1つ以上の電子が放出される点に本発明の化合物の特徴がある。
【0345】
タイプ4の化合物が有する環構造とは、3〜7員環の炭素環またはヘテロ環であり、単環もしくは縮環の、飽和もしくは不飽和の非芳香族の環を表す。好ましくは飽和の環構造であり、より好ましくは3員環あるいは4員環である。好ましい環構造としてはシクロプロパン環、シクロブタン環、オキシラン環、オキセタン環、アジリジン環、アゼチジン環、エピスルフィド環、チエタン環が挙げられる。より好ましくはシクロプロパン環、シクロブタン環、オキシラン環、オキセタン環、アゼチジン環であり、特に好ましくはシクロプロパン環、シクロブタン環、アゼチジン環である。環構造は任意の置換基を有していても良い。
【0346】
タイプ4の化合物は好ましくは一般式(E)または(F)で表される。
【0347】
一般式(E)
【化64】
【0348】
一般式(F)
【化65】
【0349】
一般式(E)および一般式(F)においてRED41およびRED42は、それぞれ一般式(B)のRED12と同義の基を表し、その好ましい範囲もまた同じである。R40〜R44およびR45〜R49は、それぞれ水素原子または置換基を表す。一般式(F)においてZ42は、−CR420R421−、−NR423−、または−O−を表す。ここにR420、R421は、それぞれ水素原子または置換基を表し、R423は水素原子、アルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。
【0350】
一般式(E)および一般式(F)においてR40およびR45は、好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基を表し、水素原子、アルキル基、アリール基がより好ましい。R41〜R44およびR46〜R49として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アリールチオ基、アルキルチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基である。
【0351】
R41〜R44は、これらのうち少なくとも1つがドナー性基である場合と、R41とR42、あるいはR43とR44がともに電子求引性基である場合が好ましい。より好ましくはR41〜R44の少なくとも1つがドナー性基である場合である。さらに好ましくはR41〜R44の少なくとも1つがドナー性基であり且つ、R41〜R44の中でドナー性基でない基が水素原子またはアルキル基である場合である。
【0352】
ここで言うドナー性基とは、「電子供与性基」、または少なくとも1つの「電子供与性基」で置換されたアリール基である。ドナー性基として好ましくはアルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、窒素原子を環内に少なくとも1つ含む5員の、単環もしくは縮合環の、電子過剰な芳香族ヘテロ環基、窒素原子で置換する非芳香族含窒素ヘテロ環基、少なくとも1つの電子供与性基で置換されたフェニル基が用いられる。より好ましくはアルキルアミノ基、アリールアミノ基、窒素原子を環内に少なくとも1つ含む5員の、単環もしくは縮合環の、電子過剰な芳香族ヘテロ環基(インドール環、ピロール環、カルバゾール環など)、電子供与性基で置換されたフェニル基(3つ以上のアルコキシ基で置換されたフェニル基、ヒドロキシ基またはアルキルアミノ基またはアリールアミノ基で置換されたフェニル基など)が用いられる。 特に好ましくはアリールアミノ基、窒素原子を環内に少なくとも1つ含む5員の、単環もしくは縮合環の、電子過剰な芳香族ヘテロ環基(特に3−インドリル基)、電子供与性基で置換されたフェニル基(特にトリアルコキシフェニル基、アルキルアミノ基またはアリールアミノ基で置換されたフェニル基)が用いられる。
【0353】
Z42として好ましくは−CR420R421−または−NR423−であり、より好ましくは−NR423−である。R420、R421は好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アシルアミノ基、スルホンアミノ基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基である。R423は好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、芳香族ヘテロ環基を表し、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基である。
【0354】
R40〜R49およびR420、R421、R423の各基が置換基である場合にはそれぞれ総炭素数が40以下のものが好ましく、より好ましくは総炭素数30以下で、特に好ましくは総炭素数15以下である。またこれらの置換基は互いに結合して、あるいは分子中の他の部位(RED41、RED42あるいはZ42)と結合して環を形成していても良い。
【0355】
本発明のタイプ1〜4の化合物においてハロゲン化銀への吸着性基とは、ハロゲン化銀に直接吸着する基、またはハロゲン化銀への吸着を促進する基であり、具体的には、メルカプト基(またはその塩)、チオン基(−C(=S)−)、窒素原子、硫黄原子、セレン原子およびテルル原子から選ばれる少なくとも1つの原子を含むヘテロ環基、スルフィド基、カチオン性基、またはエチニル基である。但し、本発明のタイプ2の化合物においては、吸着性基としてスルフィド基は含まれない。
【0356】
吸着性基としてメルカプト基(またはその塩)とは、メルカプト基(またはその塩)そのものを意味すると同時に、より好ましくは、少なくとも1つのメルカプト基(またはその塩)の置換したヘテロ環基またはアリール基またはアルキル基を表す。ここにヘテロ環基は、5員〜7員の、単環もしくは縮合環の、芳香族または非芳香族のヘテロ環基で、例えばイミダゾール環基、チアゾール環基、オキサゾール環基、ベンズイミダゾール環基、ベンズチアゾール環基、ベンズオキサゾール環基、トリアゾール環基、チアジアゾール環基、オキサジアゾール環基、テトラゾール環基、プリン環基、ピリジン環基、キノリン環基、イソキノリン環基、ピリミジン環基、トリアジン環基等が挙げられる。また4級化された窒素原子を含むヘテロ環基でもよく、この場合、置換したメルカプト基が解離してメソイオンとなっていてもよく、この様なヘテロ環基の例としてはイミダゾリウム環基、ピラゾリウム環基、チアゾリウム環基、トリアゾリウム環基、テトラゾリウム環基、チアジアゾリウム環基、ピリジニウム環基、ピリミジニウム環基、トリアジニウム環基などが挙げられ、中でもトリアゾリウム環基(例えば1,2,4−トリアゾリウム−3−チオレート環基)が好ましい。アリール基としてはフェニル基またはナフチル基が挙げられる。アルキル基としては炭素数1〜30の直鎖または分岐または環状のアルキル基が挙げられる。メルカプト基が塩を形成するとき、対イオンとしてはアルカリ金属、アルカリ土類金属、重金属などのカチオン(Li+、Na+、K+、Mg2+、Ag+、Zn2+等)、アンモニウムイオン、4級化された窒素原子を含むヘテロ環基、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。
【0357】
吸着性基としてのメルカプト基はさらにまた、互変異性化してチオン基となっていてもよく、具体的にはチオアミド基(ここでは−C(=S)−NH−基)、および該チオアミド基の部分構造を含む基、すなわち、鎖状もしくは環状のチオアミド基、チオウレイド基、チオウレタン基、またはジチオカルバミン酸エステル基などが挙げられる。ここで環状の例としてはチアゾリジン−2−チオン基、オキサゾリジン−2−チオン基、2−チオヒダントイン基、ローダニン基、イソローダニン基、チオバルビツール酸基、2−チオキソ−オキサゾリジン−4−オン基などが挙げられる。
【0358】
吸着性基としてチオン基とは、上述のメルカプト基が互変異性化してチオン基となった場合を含め、メルカプト基に互変異性化できない(チオン基のα位に水素原子を持たない)、鎖状もしくは環状のチオアミド基、チオウレイド基、チオウレタン基、またはジチオカルバミン酸エステル基も含まれる。
【0359】
吸着性基として窒素原子、硫黄原子、セレン原子およびテルル原子から選ばれる少なくとも1つの原子を含むヘテロ環基とは、イミノ銀(>NAg)を形成しうる−NH−基をヘテロ環の部分構造として有する含窒素ヘテロ環基、または配位結合で銀イオンに配位し得る、"−S−"基または"−Se−"基または"−Te−"基または"=N−"基をヘテロ環の部分構造として有するヘテロ環基で、前者の例としてはベンゾトリアゾール基、トリアゾール基、インダゾール基、ピラゾール基、テトラゾール基、ベンズイミダゾール基、イミダゾール基、プリン基などが、後者の例としてはチオフェン基、チアゾール基、オキサゾール基、ベンゾチアゾール基、ベンゾオキサゾール基、チアジアゾール基、オキサジアゾール基、トリアジン基、セレノアゾール基、ベンズセレノアゾール基、テルルアゾール基、ベンズテルルアゾール基などが挙げられる。好ましくは前者である。
【0360】
吸着性基としてスルフィド基とは、"−S−"の部分構造を有する基すべてが挙げられるが、好ましくはアルキル(またはアルキレン)−S−アルキル(またはアルキレン)、アリール(またはアリーレン)−S−アルキル(またはアルキレン)、アリール(またはアリーレン)−S−アリール(またはアリーレン)の部分構造を有する基である。さらにこれらのスルフィド基は、環状構造を形成していてもよく、また−S−S−基となっていてもよい。環状構造を形成する場合の具体例としてはチオラン環、1,3−ジチオラン環または1,2−ジチオラン環、チアン環、ジチアン環、テトラヒドロ−1,4−チアジン環(チオモルホリン環)などを含む基が挙げられる。スルフィド基として特に好ましくはアルキル(またはアルキレン)−S−アルキル(またはアルキレン)の部分構造を有する基である。
【0361】
吸着性基としてカチオン性基とは、4級化された窒素原子を含む基を意味し、具体的にはアンモニオ基または4級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基を含む基である。但し、該カチオン性基が色素構造を形成する原子団(例えばシアニン発色団)の一部となることはない。ここにアンモニオ基とは、トリアルキルアンモニオ基、ジアルキルアリールアンモニオ基、アルキルジアリールアンモニオ基などで、例えばベンジルジメチルアンモニオ基、トリヘキシルアンモニオ基、フェニルジエチルアンモニオ基などが挙げられる。4級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基とは、例えばピリジニオ基、キノリニオ基、イソキノリニオ基、イミダゾリオ基などが挙げられる。好ましくはピリジニオ基およびイミダゾリオ基であり、特に好ましくはピリジニオ基である。これら4級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基は任意の置換基を有していてもよいが、ピリジニオ基およびイミダゾリオ基の場合、置換基として好ましくはアルキル基、アリール基、アシルアミノ基、クロル原子、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基などが挙げられ、ピリジニオ基の場合、置換基として特に好ましくはフェニル基である。
【0362】
吸着性基としてエチニル基とは、−C≡CH基を意味し、水素原子は置換されていてもよい。
上記の吸着性基は任意の置換基を有していてもよい。
【0363】
なお吸着性基の具体例としては、さらに特開平11−95355号の明細書4〜7頁に記載されているものが挙げられる。
【0364】
本発明において吸着性基として好ましいものは、メルカプト置換含窒素ヘテロ環基(例えば2−メルカプトチアジアゾール基、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール基、5−メルカプトテトラゾール基、2−メルカプト−1,3,4−オキサジアゾール基、2−メルカプトベンズオキサゾール基、2−メルカプトベンズチアゾール基、1,5−ジメチル−1,2,4−トリアゾリウム−3−チオレート基など)、またはイミノ銀(>NAg)を形成しうる−NH−基をヘテロ環の部分構造として有する含窒素ヘテロ環基(例えば、ベンゾトリアゾール基、ベンズイミダゾール基、インダゾール基など)である。特に好ましくは、5−メルカプトテトラゾール基、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール基、およびベンゾトリアゾール基であり、最も好ましいのは、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール基、および5−メルカプトテトラゾール基である。
【0365】
本発明の化合物のうち、分子内に2つ以上のメルカプト基を部分構造として有する化合物もまた特に好ましい化合物である。ここにメルカプト基(−SH)は、互変異性化できる場合にはチオン基となっていてもよい。この様な化合物の例としては、以上述べてきたメルカプト基もしくはチオン基を部分構造として有する吸着性基(例えば環形成チオアミド基、アルキルメルカプト基、アリールメルカプト基、ヘテロ環メルカプト基など)を分子内に2つ以上有する化合物であってもよいし、また吸着性基の中で、2つ以上のメルカプト基またはチオン基を部分構造として有する吸着性基(例えばジメルカプト置換含窒素テロ環基)を、1つ以上有していてもよい。
【0366】
2つ以上のメルカプト基を部分構造として有する吸着性基(ジメルカプト置換含窒素テロ環基など)の例としては、2,4−ジメルカプトピリミジン基、2,4−ジメルカプトトリアジン基、3,5−ジメルカプト−1,2,4−トリアゾール基、2,5−ジメルカプト−1,3−チアゾール基、2,5−ジメルカプト−1,3−オキサゾール基、2,7−ジメルカプト−5−メチル−s−トリアゾロ(1,5−A)−ピリミジン、2,6,8−トリメルカプトプリン、6,8−ジメルカプトプリン、3,5,7−トリメルカプト−s−トリアゾロトリアジン、4,6−ジメルカプトピラゾロピリミジン、2,5−ジメルカプトイミダゾールなどが挙げられ、2,4−ジメルカプトピリミジン基、2,4−ジメルカプトトリアジン基、3,5−ジメルカプト−1,2,4−トリアゾール基が特に好ましい。
【0367】
吸着性基は一般式(A)〜(F)および一般式(1)〜(3)のどこに置換されていてもよいが、一般式(A)〜(D)においてはRED11、RED12、RED2、RED3に、一般式(E)、(F)においてはRED41、R41、RED42、R46〜R48に、一般式(1)〜(3)においてはR1、R2、R11、R12、R31、L1、L21、L31を除く任意の位置に置換されていることが好ましく、さらに一般式(A)〜(F)全てでRED11〜RED42に置換されていることがより好ましい。
【0368】
分光増感色素の部分構造とは分光増感色素の発色団を含む基であり、分光増感色素化合物から任意の水素原子または置換基を除いた残基である。分光増感色素の部分構造は一般式(A)〜(F)および一般式(1)〜(3)のどこに置換されていてもよいが、一般式(A)〜(D)においてはRED11、RED12、RED2、RED3に、一般式(E)、(F)においてはRED41、R41、RED42、R46〜R48に、一般式(1)〜(3)においてはR1、R2、R11、R12、R31、L1、L21、L31を除く任意の位置に置換されていることが好ましく、さらに一般式(A)〜(F)全てでRED11〜RED42に置換されていることがより好ましい。好ましい分光増感色素は、典型的にカラー増感技法で用いられる分光増感色素であり、例えばシアニン色素類、複合シアニン色素類、メロシアニン色素類、複合メロシアニン色素類、同極のシアニン色素類、スチリル色素類、ヘミシアニン色素類を含む。代表的な分光増感色素は、リサーチディスクロージャー、アイテム36544、1994年9月に開示されている。前記リサーチディスクロージャー、もしくはF.M.HamerのThe Cyanine dyes and Related Compounds (Interscience Publishers, New yprk, 1964)に記載される手順によって当業者は、これらの色素を合成することができる。さらに特開平11−95355号(米国特許6,054,260号)の明細書7〜14頁に記載された色素類が全てそのまま当てはまる。
【0369】
本発明のタイプ1〜4の化合物は、その総炭素数が10〜60の範囲のものが好ましい。より好ましくは15〜50、さらに好ましくは18〜40であり、特に好ましくは18〜30である。
【0370】
本発明のタイプ1〜4の化合物は、これを用いたハロゲン化銀写真感光材料が露光されることを引き金に1電子酸化され、引き続く反応の後、さらに1電子、あるいはタイプによっては2電子以上の電子が放出され、酸化されるが、その1電子目の酸化電位は、約1.4V以下が好ましく、さらには1.0V以下が好ましい。この酸化電位は好ましくは0Vより高く、より好ましくは0.3Vより高い。従って酸化電位は好ましくは約0〜約1.4V、より好ましくは約0.3〜約1.0Vの範囲である。
【0371】
ここに酸化電位はサイクリックボルタンメトリーの技法で測定でき、具体的には試料をアセトニトリル:水(0.1Mの過塩素酸リチウムを含む)=80%:20%(容量%)の溶液に溶解し、10分間窒素ガスを通気した後、ガラス状のカーボンディスクを動作電極に用い、プラチナ線を対電極に用い、そしてカロメル電極(SCE)を参照電極に用いて、25℃で、0.1V/秒の電位走査速度で測定したものである。サイクリックボルタンメトリー波のピーク電位の時に酸化電位対SCEをとる。
【0372】
本発明のタイプ1〜4の化合物が1電子酸化され、引き続く反応の後、さらに1電子を放出する化合物である場合には、この後段の酸化電位は好ましくは−0.5V〜−2Vであり、より好ましくは−0.7V〜−2Vであり、さらに好ましくは−0.9V〜−1.6Vである。
【0373】
本発明のタイプ1〜4の化合物が1電子酸化され、引き続く反応の後、さらに2電子以上の電子を放出し、酸化される化合物である場合には、この後段の酸化電位については特に制限はない。2電子目の酸化電位と3電子目以降の酸化電位が明確に区別できない点で、これらを実際に正確に測定し区別することは困難な場合が多いためである。
【0374】
次にタイプ5の化合物について説明する。
タイプ5の化合物はX−Yで表され、ここにXは還元性基を、Yは脱離基を表し、Xで表される還元性基が1電子酸化されて生成する1電子酸化体が、引き続くX−Y結合の開裂反応を伴ってYを脱離してXラジカルを生成し、そこからさらにもう1電子を放出し得る化合物である。この様なタイプ5の化合物が酸化された時の反応は、以下の式で表すことができる。
【0375】
【化66】
【0376】
タイプ5の化合物は好ましくはその酸化電位が0〜1.4Vであり、より好ましくは0.3V〜1.0Vである。また上記反応式において生成するラジカルX・の酸化電位は−0.7V〜−2.0Vであることが好ましく、−0.9V〜−1.6Vがより好ましい。
【0377】
タイプ5の化合物は、好ましくは一般式(G)で表される。
【0378】
一般式(G)
【化67】
【0379】
一般式(G)においてRED0は還元性基を表し、L0は脱離基を表し、R0およびR00は水素原子または置換基を表す。RED0 とR0、およびR0とR00とは互いに結合して環構造を形成していてもよい。RED0は一般式(C)のRED2と同義の基を表し、その好ましい範囲も同じである。R0およびR00は一般式(C)のR21およびR22と同義の基であり、その好ましい範囲も同じである。但しR0およびR00が、水素原子を除いて、L0と同義の基を表すことはない。RED0とR0とは互いに結合して環構造を形成していてもよく、ここに環構造の例としては、一般式(C)のRED2とR21が連結して環構造を形成する場合と同じ例が挙げられ、その好ましい範囲も同じである。R0とR00とが互いに結合して形成される環構造の例としては、シクロペンタン環やテトラヒドロフラン環などが挙げられる。一般式(G)においてL0は、一般式(C)のL2と同義の基であり、その好ましい範囲も同じである。
【0380】
一般式(G)で表される化合物は分子内にハロゲン化銀への吸着性基、もしくは分光増感色素の部分構造を有していることが好ましいが、L0がシリル基以外の基を表す時、分子内に吸着性基を同時に2つ以上有することはない。但しここで吸着性基としてのスルフィド基は、L0に依らず、これを2つ以上有していてもよい。
【0381】
一般式(G)で表される化合物が有するハロゲン化銀への吸着性基としては、本発明のタイプ1〜4の化合物が有していてもよい吸着性基と同じものがその例として挙げられるが、さらに加えて、特開平11−95355号の明細書4〜7頁に「ハロゲン化銀吸着基」として記載されているもの全てが挙げられ、好ましい範囲も同じである。
一般式(G)で表される化合物が有していてもよい分光増感色素の部分構造とは、本発明のタイプ1〜4の化合物が有していてもよい分光増感色素の部分構造と同じであるが、同時に特開平11−95355号の明細書7〜14頁に「光吸収性基」として記載されているもの全てが挙げられ、好ましい範囲も同じである。
【0382】
以下に本発明のタイプ1〜5の化合物の具体例を列挙するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0383】
【化68】
【0384】
【化69】
【0385】
【化70】
【0386】
【化71】
【0387】
本発明のタイプ1〜4の化合物は、それぞれ特願2002−192373号、特願2002−188537号、特願2002−188536号、特願2001−272137号、特願2002−192374号において、詳細に説明した化合物と同じものである。これら特許出願明細書に記載した具体的化合物例もまた、本発明のタイプ1〜4の化合物の具体例として挙げることができる。また本発明のタイプ1〜4の化合物の合成例も、これら特許に記載したものと同じである。
【0388】
本発明のタイプ5の化合物の具体例としては、さらに特開平9−211769号(28〜32頁の表Eおよび表Fに記載の化合物PMT−1〜S−37)、特開平9−211774号、特開平11−95355号(化合物INV1〜36)、特表2001−500996号(化合物1〜74、80〜87、92〜122)、米国特許5,747,235号、米国特許5,747,236号、欧州特許786692A1号(化合物INV1〜35)、欧州特許893732A1号、米国特許6,054,260号、米国特許5,994,051号などの特許に記載の「1光子2電子増感剤」または「脱プロトン化電子供与増感剤」と称される化合物の例が、そのまま挙げられる。
【0389】
本発明のタイプ1〜5の化合物は感光性ハロゲン化銀乳剤調製時、熱現像感光材料製造工程中のいかなる場合にも使用しても良い。例えば感光性ハロゲン化銀粒子形成時、脱塩工程、化学増感時、塗布前などである。またこれらの工程中の複数回に分けて添加することも出来る。添加位置として好ましくは、感光性ハロゲン化銀粒子形成終了時から脱塩工程の前、化学増感時(化学増感開始直前から終了直後)、塗布前であり、より好ましくは化学増感時から非感光性有機銀塩と混合される前までである。
【0390】
本発明のタイプ1〜5の化合物は水、メタノール、エタノールなどの水可溶性溶媒またはこれらの混合溶媒に溶解して添加することが好ましい。水に溶解する場合、pHを高くまたは低くした方が溶解度が上がる化合物については、pHを高くまたは低くして溶解し、これを添加しても良い。
【0391】
本発明のタイプ1〜5の化合物は感光性ハロゲン化銀と非感光性有機銀塩を含有する乳剤層中に使用するのが好ましいが、感光性ハロゲン化銀と非感光性有機銀塩を含有する乳剤層と共に保護層や中間層に添加しておき、塗布時に拡散させてもよい。本発明の化合物の添加時期は増感色素の前後を問わず、それぞれ好ましくはハロゲン化銀1モル当り、1×10-9〜5×10-1モル、更に好ましくは1×10-8〜5×10-2モルの割合でハロゲン化銀乳剤層に含有する。
【0392】
(バインダーの説明)
本発明の有機銀塩含有層のバインダーはいかなるポリマーを使用してもよく、好適なバインダーは透明又は半透明で、一般に無色であり、天然樹脂やポリマー及びコポリマー、合成樹脂やポリマー及びコポリマー、その他フィルムを形成する媒体、例えば、ゼラチン類、ゴム類、ポリ(ビニルアルコール)類、ヒドロキシエチルセルロース類、セルロースアセテート類、セルロースアセテートブチレート類、ポリ(ビニルピロリドン)類、カゼイン、デンプン、ポリ(アクリル酸)類、ポリ(メチルメタクリル酸)類、ポリ(塩化ビニル)類、ポリ(メタクリル酸)類、スチレン−無水マレイン酸共重合体類、スチレン−アクリロニトリル共重合体類、スチレン−ブタジエン共重合体類、ポリ(ビニルアセタール)類(例えば、ポリ(ビニルホルマール)及びポリ(ビニルブチラール))、ポリ(エステル)類、ポリ(ウレタン)類、フェノキシ樹脂、ポリ(塩化ビニリデン)類、ポリ(エポキシド)類、ポリ(カーボネート)類、ポリ(酢酸ビニル)類、ポリ(オレフィン)類、セルロースエステル類、ポリ(アミド)類がある。バインダーは水又は有機溶媒またはエマルションから被覆形成してもよい。
【0393】
本発明では、有機銀塩を含有する層に併用できるバインダーのガラス転移温度は0℃以上80℃以下である(以下、高Tgバインダーということあり)ことが好ましく、10℃〜70℃であることがより好ましく、15℃以上60℃以下であることが更に好ましい。
【0394】
なお、本明細書においてTgは下記の式で計算した。
1/Tg=Σ(Xi/Tgi)
ここでは、ポリマーはi=1からnまでのn個のモノマー成分が共重合しているとする。Xiはi番目のモノマーの重量分率(ΣXi=1)、 Tgiはi番目のモノマーの単独重合体のガラス転移温度(絶対温度)である。ただしΣはi=1からnまでの和をとる。尚、各モノマーの単独重合体ガラス転移温度の値(Tgi)はPolymer Handbook(3rd Edition)(J.Brandrup, E.H.Immergut著(Wiley-Interscience、1989))の値を採用した。
【0395】
バインダーは必要に応じて2種以上を併用しても良い。また、ガラス転移温度が20℃以上のものとガラス転移温度が20℃未満のものを組み合わせて用いてもよい。Tgの異なるポリマーを2種以上ブレンドして使用する場合には、その重量平均Tgが上記の範囲にはいることが好ましい。
【0396】
本発明においては、有機銀塩含有層が溶媒の30質量%以上が水である塗布液を用いて塗布、乾燥して被膜を形成させることが好ましい。
本発明においては、有機銀塩含有層が溶媒の30質量%以上が水である塗布液を用いて塗布し、乾燥して形成される場合に、さらに有機銀塩含有層のバインダーが水系溶媒(水溶媒)に可溶または分散可能である場合に、特に25℃60%RHでの平衡含水率が2質量%以下のポリマーのラテックスからなる場合に性能が向上する。最も好ましい形態は、イオン伝導度が2.5mS/cm以下になるように調製されたものであり、このような調製法としてポリマー合成後分離機能膜を用いて精製処理する方法が挙げられる。
【0397】
ここでいう前記ポリマーが可溶または分散可能である水系溶媒とは、水または水に70質量%以下の水混和性の有機溶媒を混合したものである。水混和性の有機溶媒としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール等のアルコール系、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ系、酢酸エチル、ジメチルホルミアミドなどを挙げることができる。
【0398】
なお、ポリマーが熱力学的に溶解しておらず、いわゆる分散状態で存在している系の場合にも、ここでは水系溶媒という言葉を使用する。
【0399】
また「25℃60%RHにおける平衡含水率」とは、25℃60%RHの雰囲気下で調湿平衡にあるポリマーの重量W1と25℃で絶乾状態にあるポリマーの重量W0を用いて以下のように表すことができる。
25℃60%RHにおける平衡含水率=[(W1-W0)/W0]×100(質量%)
【0400】
含水率の定義と測定法については、例えば高分子工学講座14、高分子材料試験法(高分子学会編、地人書館)を参考にすることができる。
【0401】
本発明のバインダーポリマーの25℃60%RHにおける平衡含水率は2質量%以下であることが好ましいが、より好ましくは0.01質量%以上1.5質量%以下、さらに好ましくは0.02質量%以上1質量%以下が望ましい。
【0402】
本発明においては水系溶媒に分散可能なポリマーが特に好ましい。分散状態の例としては、水不溶な疎水性ポリマーの微粒子が分散しているラテックスやポリマー分子が分子状態またはミセルを形成して分散しているものなどいずれでもよいが、ラテックス分散した粒子がより好ましい。分散粒子の平均粒径は1〜50000nm、好ましくは5〜1000nmの範囲で、より好ましくは10〜500nmの範囲、さらに好ましくは50〜200nmの範囲である。分散粒子の粒径分布に関しては特に制限は無く、広い粒径分布を持つものでも単分散の粒径分布を持つものでもよい。単分散の粒径分布を持つものを2種以上混合して使用することも塗布液の物性を制御する上で好ましい使用法である。
【0403】
本発明において水系溶媒に分散可能なポリマーの好ましい態様としては、アクリル系ポリマー、ポリ(エステル)類、ゴム類(例えばSBR樹脂)、ポリ(ウレタン)類、ポリ(塩化ビニル)類、ポリ(酢酸ビニル)類、ポリ(塩化ビニリデン)類、ポリ(オレフィン)類等の疎水性ポリマーを好ましく用いることができる。これらポリマーとしては直鎖のポリマーでも枝分かれしたポリマーでもまた架橋されたポリマーでもよいし、単一のモノマーが重合したいわゆるホモポリマーでもよいし、2種類以上のモノマーが重合したコポリマーでもよい。コポリマーの場合はランダムコポリマーでも、ブロックコポリマーでもよい。これらポリマーの分子量は数平均分子量で5000〜1000000、好ましくは10000〜200000がよい。分子量が小さすぎるものは乳剤層の力学強度が不十分であり、大きすぎるものは成膜性が悪く好ましくない。また、架橋性のポリマーラッテクスは特に好ましく使用される。
【0404】
(ラテックスの具体例)
好ましいポリマーラテックスの具体例としては以下のものを挙げることができる。以下では原料モノマーを用いて表し、括弧内の数値は質量%、分子量は数平均分子量である。多官能モノマーを使用した場合は架橋構造を作るため分子量の概念が適用できないので架橋性と記載し、分子量の記載を省略した。Tgはガラス転移温度を表す。
【0405】
P-1;-MMA(70)-EA(27)-MAA(3)-のラテックス(分子量37000、Tg61℃)
P-2;-MMA(70)-2EHA(20)-St(5)-AA(5)-のラテックス(分子量40000、Tg59℃)
P-3;-St(50)-Bu(47)-MAA(3)-のラテックス(架橋性、Tg-17℃)
P-4;-St(68)-Bu(29)-AA(3)-のラテックス(架橋性、Tg17℃)
P-5;-St(71)-Bu(26)-AA(3)-のラテックス(架橋性,Tg24℃)
P-6;-St(70)-Bu(27)-IA(3)-のラテックス(架橋性)
P-7;-St(75)-Bu(24)-AA(1)-のラテックス(架橋性、Tg29℃)
P-8;-St(60)-Bu(35)-DVB(3)-MAA(2)-のラテックス(架橋性)
P-9;-St(70)-Bu(25)-DVB(2)-AA(3)-のラテックス(架橋性)
P-10;-VC(50)-MMA(20)-EA(20)-AN(5)-AA(5)-のラテックス(分子量80000)
P-11;-VDC(85)-MMA(5)-EA(5)-MAA(5)-のラテックス(分子量67000)
P-12;-Et(90)-MAA(10)-のラテックス(分子量12000)
P-13;-St(70)-2EHA(27)-AA(3)のラテックス(分子量130000、Tg43℃)
P-14;-MMA(63)-EA(35)- AA(2)のラテックス(分子量33000、Tg47℃)
P-15;-St(70.5)-Bu(26.5)-AA(3)-のラテックス(架橋性,Tg23℃)
P-16;-St(69.5)-Bu(27.5)-AA(3)-のラテックス(架橋性,Tg20.5℃)
【0406】
上記構造の略号は以下のモノマーを表す。MMA;メチルメタクリレート,EA ;エチルアクリレート、MAA;メタクリル酸,2EHA;2-エチルヘキシルアクリレート,St;スチレン,Bu;ブタジエン,AA;アクリル酸,DVB;ジビニルベンゼン,VC;塩化ビニル,AN;アクリロニトリル,VDC;塩化ビニリデン,Et;エチレン,IA;イタコン酸。
【0407】
以上に記載したポリマーラテックスは市販もされていて、以下のようなポリマーが利用できる。アクリル系ポリマーの例としては、セビアンA-4635,4718,4601(以上ダイセル化学工業(株)製)、Nipol Lx811、814、821、820、857(以上日本ゼオン(株)製)など、ポリ(エステル)類の例としては、FINETEX ES650、611、675、850(以上大日本インキ化学(株)製)、WD-size、WMS(以上イーストマンケミカル製)など、ポリ(ウレタン)類の例としては、HYDRAN AP10、20、30、40(以上大日本インキ化学(株)製)など、ゴム類の例としては、LACSTAR 7310K、3307B、4700H、7132C(以 上大日本インキ化学(株)製)、Nipol Lx416、410、438C、2507(以上日本ゼオン(株)製)など、ポリ(塩化ビニル)類の例としては、G351、G576(以上日本ゼオン(株)製)など、ポリ(塩化ビニリデン)類の例としては、L502、L513(以上旭化成工業(株)製)など、ポリ(オレフィン)類の例としては、ケミパールS120、SA100(以上三井石油化学(株)製)などを挙げることができる。
【0408】
これらのポリマーラテックスは単独で用いてもよいし、必要に応じて2種以上ブレンドしてもよい。
【0409】
(好ましいラテックス)
本発明に用いられるポリマーラテックスとしては、特に、スチレン-ブタジエン共重合体のラテックスが好ましい。スチレン-ブタジエン共重合体におけるスチレンのモノマー単位とブタジエンのモノマー単位との重量比は40:60〜95:5であることが好ましい。また、スチレンのモノマー単位とブタジエンのモノマー単位との共重合体に占める割合は60〜99質量%であることが好ましい。また、本発明のポリマーラッテクスはアクリル酸またはメタクリル酸をスチレンとブタジエンの和に対して1〜6質量%含有することが好ましく、より好ましくは2〜5質量%含有する。本発明のポリマーラテックスはアクリル酸を含有することが好ましい。
【0410】
本発明に用いることが好ましいスチレン-ブタジエン酸共重合体のラテックスとしては、前記のP-3〜P-8,15、市販品であるLACSTAR-3307B、7132C、Nipol Lx416等が挙げられる。
【0411】
本発明の感光材料の有機銀塩含有層には必要に応じてゼラチン、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシメチルセルロースなどの親水性ポリマーを添加してもよい。これらの親水性ポリマーの添加量は有機銀塩含有層の全バインダーの30質量%以下、より好ましくは20質量%以下が好ましい。
【0412】
本発明の有機銀塩含有層(即ち、画像形成層)は、ポリマーラテックスを用いて形成されたものが好ましい。有機銀塩含有層のバインダーの量は、全バインダー/有機銀塩の重量比が1/10〜10/1、より好ましくは1/3〜5/1の範囲、さらに好ましくは1/1〜3/1の範囲である。
【0413】
また、このような有機銀塩含有層は、通常、感光性銀塩である感光性ハロゲン化銀が含有された感光性層(乳剤層)でもあり、このような場合の、全バインダー/ハロゲン化銀の重量比は400〜5、より好ましくは200〜10の範囲である。
【0414】
本発明の画像形成層の全バインダー量は好ましくは0.2〜30g/m2、より好ましくは1〜15g/m2、さらに好ましくは2〜10g/m2の範囲である。本発明の画像形成層には架橋のための架橋剤、塗布性改良のための界面活性剤などを添加してもよい。
(好ましい塗布液の溶媒)
【0415】
本発明において感光材料の有機銀塩含有層塗布液の溶媒(ここでは簡単のため、溶媒と分散媒をあわせて溶媒と表す。)は、水を30質量%以上含む水系溶媒が好ましい。水以外の成分としてはメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジメチルホルムアミド、酢酸エチルなど任意の水混和性有機溶媒を用いてよい。塗布液の溶媒の水含有率は50質量%以上、より好ましくは70質量%以上が好ましい。好ましい溶媒組成の例を挙げると、水の他、水/メチルアルコール=90/10、水/メチルアルコール=70/30、水/メチルアルコール/ジメチルホルムアミド=80/15/5、水/メチルアルコール/エチルセロソルブ=85/10/5、水/メチルアルコール/イソプロピルアルコール=85/10/5などがある(数値は質量%)。
【0416】
(水素結合性化合物の説明)
本発明における還元剤が芳香族性の水酸基(−OH)やアミノ基を有する場合、特に前述のビスフェノール類の場合には、これらの基と水素結合を形成することが可能な基を有する非還元性の化合物を併用することが好ましい。水酸基またはアミノ基と水素結合を形成する基としては、ホスホリル基、スルホキシド基、スルホニル基、カルボニル基、アミド基、エステル基、ウレタン基、ウレイド基、3級アミノ基、含窒素芳香族基などが挙げられる。その中でも好ましいのはホスホリル基、スルホキシド基、アミド基(但し、>N−H基を持たず、>N−Ra(RaはH以外の置換基)のようにブロックされている。)、ウレタン基(但し、>N−H基を持たず、>N−Ra(RaはH以外の置換基)のようにブロックされている。)、ウレイド基(但し、>N−H基を持たず、>N−Ra(RaはH以外の置換基)のようにブロックされている。)を有する化合物である。
本発明で、特に好ましい水素結合性の化合物は下記一般式(D)で表される化合物である。
一般式(D)
【0417】
【化72】
【0418】
一般式(D)においてR21ないしR23は各々独立にアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基またはヘテロ環基を表し、これらの基は無置換であっても置換基を有していてもよい。R21ないしR23が置換基を有する場合の置換基としてはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アミノ基、アシル基、アシルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホンアミド基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル基、ホスホリル基などがあげられ、置換基として好ましいのはアルキル基またはアリール基でたとえばメチル基、エチル基、イソプロピル基、t−ブチル基、t−オクチル基、フェニル基、4−アルコキシフェニル基、4−アシルオキシフェニル基などがあげられる。
【0419】
R21ないしR23のアルキル基としては具体的にはメチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、ドデシル基、イソプロピル基、t−ブチル基、t−アミル基、t−オクチル基、シクロヘキシル基、1−メチルシクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、2−フェノキシプロピル基などがあげられる。アリール基としてはフェニル基、クレジル基、キシリル基、ナフチル基、4−t−ブチルフェニル基、4−t−オクチルフェニル基、4−アニシジル基、3,5−ジクロロフェニル基などが挙げられる。アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、3,5,5−トリメチルヘキシルオキシ基、ドデシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、4−メチルシクロヘキシルオキシ基、ベンジルオキシ基等が挙げられる。アリールオキシ基としてはフェノキシ基、クレジルオキシ基、イソプロピルフェノキシ基、4−t−ブチルフェノキシ基、ナフトキシ基、ビフェニルオキシ基等が挙げられる。アミノ基としてはジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジオクチルアミノ基、N−メチル−N−ヘキシルアミノ基、ジシクロヘキシルアミノ基、ジフェニルアミノ基、N−メチル−N−フェニルアミノ基等が挙げられる。
【0420】
R21ないしR23としてはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基が好ましい。本発明の効果の点ではR21ないしR23のうち少なくとも一つ以上がアルキル基またはアリール基であることが好ましく、二つ以上がアルキル基またはアリール基であることがより好ましい。また、安価に入手する事ができるという点ではR21ないしR23が同一の基である場合が好ましい。
以下に本発明における一般式(D)の化合物をはじめとする水素結合性化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0421】
【化73】
【0422】
水素結合性化合物の具体例は上述の他に欧州特許1096310号明細書、特開2002-156727号、特願2001-124796号に記載のものがあげられる。
本発明の一般式(D)の化合物は、還元剤と同様に溶液形態、乳化分散形態、固体分散微粒子分散物形態で塗布液に含有せしめ、感光材料中で使用することができるが、固体分散物として使用することが好ましい。本発明の化合物は、溶液状態でフェノール性水酸基、アミノ基を有する化合物と水素結合性の錯体を形成しており、還元剤と本発明の一般式(D)の化合物との組み合わせによっては錯体として結晶状態で単離することができる。このようにして単離した結晶粉体を固体分散微粒子分散物として使用することは安定した性能を得る上で特に好ましい。また、還元剤と本発明の一般式(D)の化合物を粉体で混合し、適当な分散剤を使って、サンドグラインダーミル等で分散時に錯形成させる方法も好ましく用いることができる。
本発明の一般式(D)の化合物は還元剤に対して、1〜200モル%の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは10〜150モル%の範囲で、さらに好ましくは20〜100モル%の範囲である。
【0423】
(かぶり防止剤の説明)
本発明に用いることのできるカブリ防止剤、安定剤および安定剤前駆体は特開平10-62899号の段落番号0070、欧州特許公開第0803764A1号の第20頁第57行〜第21頁第7行に記載の特許のもの、特開平9-281637号、同9-329864号記載の化合物、米国特許6,083,681号、同6,083,681号、欧州特許1048975号に記載の化合物が挙げられる。また、本発明に好ましく用いられるカブリ防止剤は有機ハロゲン化物であり、これらについては、特開平11-65021号の段落番号0111〜0112に記載の特許に開示されているものが挙げられる。特に特開2000-284399号の式(P)で表される有機ハロゲン化合物、特開平10-339934号の一般式(II)で表される有機ポリハロゲン化合物、特開2001-31644号および特開2001-33911号に記載の有機ポリハロゲン化合物が好ましい。
【0424】
1)ポリハロゲン化合物
以下、本発明で好ましい有機ポリハロゲン化合物について具体的に説明する。本発明の好ましいポリハロゲン化合物は下記一般式(H)で表される化合物である。
一般式(H)
Q−(Y)n−C(Z1)(Z2)X
一般式(H)において、Qはアルキル基、アリール基またはヘテロ環基を表し、Yは2価の連結基を表し、nは0または1を表し、Z1およびZ2はハロゲン原子を表し、Xは水素原子または電子求引性基を表す。
一般式(H)においてQは好ましくはアリール基またはヘテロ環基である。
一般式(H)において、Qがヘテロ環基である場合、窒素原子を1ないし2含有する含窒素ヘテロ環基が好ましく、2−ピリジル基、2−キノリル基が特に好ましい。
【0425】
一般式(H)において、Qがアリール基である場合、Qは好ましくはハメットの置換基定数σpが正の値をとる電子求引性基で置換されたフェニル基を表す。ハメットの置換基定数に関しては、Journal of Medicinal Chemistry,1973,Vol.16,No.11,1207-1216 等を参考にすることができる。このような電子求引性基としては、例えばハロゲン原子(フッ素原子(σp値:0.06)、塩素原子(σp値:0.23)、臭素原子(σp値:0.23)、ヨウ素原子(σp値:0.18))、トリハロメチル基(トリブロモメチル(σp値:0.29)、トリクロロメチル(σp値:0.33)、トリフルオロメチル(σp値:0.54))、シアノ基(σp値:0.66)、ニトロ基(σp値:0.78)、脂肪族・アリールもしくは複素環スルホニル基(例えば、メタンスルホニル(σp値:0.72))、脂肪族・アリールもしくは複素環アシル基(例えば、アセチル(σp値:0.50)、ベンゾイル(σp値:0.43))、アルキニル基(例えば、C≡CH(σp値:0.23))、脂肪族・アリールもしくは複素環オキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル(σp値:0.45)、フェノキシカルボニル(σp値:0.44))、カルバモイル基(σp値:0.36)、スルファモイル基(σp値:0.57)、スルホキシド基、ヘテロ環基、ホスホリル基等があげられる。σp値としては好ましくは0.2〜2.0の範囲で、より好ましくは0.4から1.0の範囲である。電子求引性基として特に好ましいのは、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アルキルホスホリル基で、なかでもカルバモイル基が最も好ましい。
【0426】
Xは、好ましくは電子求引性基であり、より好ましくはハロゲン原子、脂肪族・アリールもしくは複素環スルホニル基、脂肪族・アリールもしくは複素環アシル基、脂肪族・アリールもしくは複素環オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基であり、特に好ましくはハロゲン原子である。ハロゲン原子の中でも、好ましくは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子であり、更に好ましくは塩素原子、臭素原子であり、特に好ましくは臭素原子である。
Yは好ましくは−C(=O)−、−SO−または−SO2 −を表し、より好ましくは−C(=O)−、−SO2 −であり、特に好ましくは−SO2 −である。
nは、0または1を表し、好ましくは1である。
【0427】
以下に本発明の一般式(H)の化合物の具体例を示す。
【0428】
【化74】
【0429】
上記以外の本発明の好ましいポリハロゲン化合物としては特開2001-31644号、同2001-56526号、同2001-209145号に記載の化合物が挙げられる。
本発明の一般式(H)で表される化合物は画像形成層の非感光性銀塩1モルあたり、10-4〜1モルの範囲で使用することが好ましく、より好ましくは10-3〜0.5モルの範囲で、さらに好ましくは1×10-2〜0.2モルの範囲で使用することが好ましい。
本発明において、カブリ防止剤を感光材料に含有せしめる方法としては、前記還元剤の含有方法に記載の方法が挙げられ、有機ポリハロゲン化合物についても固体微粒子分散物で添加することが好ましい。
【0430】
2)その他のかぶり防止剤
その他のカブリ防止剤としては特開平11-65021号段落番号0113の水銀(II)塩、同号段落番号0114の安息香酸類、特開2000-206642号のサリチル酸誘導体、特開2000-221634号の式(S)で表されるホルマリンスカベンジャー化合物、特開平11-352624号の請求項9に係るトリアジン化合物、特開平6-11791号の一般式(III)で表される化合物、4-ヒドロキシ-6-メチル-1,3,3a,7-テトラザインデン等が挙げられる。
【0431】
本発明における熱現像感光材料はカブリ防止を目的としてアゾリウム塩を含有しても良い。アゾリウム塩としては、特開昭59-193447号記載の一般式(XI)で表される化合物、特公昭55-12581号記載の化合物、特開昭60-153039号記載の一般式(II)で表される化合物が挙げられる。アゾリウム塩は感光材料のいかなる部位に添加しても良いが、添加層としては感光性層を有する面の層に添加することが好ましく、有機銀塩含有層に添加することがさらに好ましい。アゾリウム塩の添加時期としては塗布液調製のいかなる工程で行っても良く、有機銀塩含有層に添加する場合は有機銀塩調製時から塗布液調製時のいかなる工程でも良いが有機銀塩調製後から塗布直前が好ましい。アゾリウム塩の添加法としては粉末、溶液、微粒子分散物などいかなる方法で行っても良い。また、増感色素、還元剤、色調剤など他の添加物と混合した溶液として添加しても良い。本発明においてアゾリウム塩の添加量としてはいかなる量でも良いが、銀1モル当たり1×10-6モル以上2モル以下が好ましく、1×10-3モル以上0.5モル以下がさらに好ましい。
【0432】
(その他の添加剤)
1)メルカプト、ジスルフィド、およびチオン類
本発明には現像を抑制あるいは促進させ現像を制御するため、分光増感効率を向上させるため、現像前後の保存性を向上させるためなどにメルカプト化合物、ジスルフィド化合物、チオン化合物を含有させることができ、特開平10-62899号の段落番号0067〜0069、特開平10-186572号の一般式(I)で表される化合物及びその具体例として段落番号0033〜0052、欧州特許公開第0803764A1号の第20ページ第36〜56行に記載されている。その中でも特開平9-297367号、特開平9-304875号、特開2001-100358号、特願2001-104213号、特願2001-104214等に記載されているメルカプト置換複素芳香族化合物が好ましい。
【0433】
2)色調剤
本発明の熱現像感光材料では色調剤の添加が好ましく、色調剤については、特開平10-62899号の段落番号0054〜0055、欧州特許公開第0803764A1号の第21ページ第23〜48行、特開2000-356317号や特開2000-187298号に記載されており、特に、フタラジノン類(フタラジノン、フタラジノン誘導体もしくは金属塩;例えば4-(1-ナフチル)フタラジノン、6-クロロフタラジノン、5,7-ジメトキシフタラジノンおよび2,3-ジヒドロ-1,4-フタラジンジオン);フタラジノン類とフタル酸類(例えば、フタル酸、4-メチルフタル酸、4-ニトロフタル酸、フタル酸二アンモニウム、フタル酸ナトリウム、フタル酸カリウムおよびテトラクロロ無水フタル酸)との組合せ;フタラジン類(フタラジン、フタラジン誘導体もしくは金属塩;例えば4-(1-ナフチル)フタラジン、6-イソプロピルフタラジン、6-t-ブチルフラタジン、6-クロロフタラジン、5,7-ジメトキシフタラジンおよび2,3-ジヒドロフタラジン);フタラジン類とフタル酸類との組合せが好ましく、特にフタラジン類とフタル酸類の組合せが好ましい。そのなかでも特に好ましい組み合わせは6-イソプロピルフタラジンとフタル酸または4メチルフタル酸との組み合わせである。
【0434】
3)可塑剤、潤滑剤
本発明の感光性層に用いることのできる可塑剤および潤滑剤については特開平11-65021号段落番号0117、超硬調画像形成のための超硬調化剤やその添加方法や量については、同号段落番号0118、特開平11-223898号段落番号0136〜0193、特開平2000-284399号の式(H)、式(1)〜(3)、式(A)、(B)の化合物、特願平11-91652号記載の一般式(III)〜(V)の化合物(具体的化合物:化21〜化24)、硬調化促進剤については特開平11-65021号段落番号0102、特開平11-223898号段落番号0194〜0195に記載されている。
【0435】
4)超硬調化剤
印刷製版用途に適した超硬調画像形成のためには、画像形成層に超硬調化剤を添加することが好ましい。超硬調化剤やその添加方法及び添加量については、特開平11-65021号公報段落番号0118、特開平11-223898号公報段落番号0136〜0193、特願平11-87297号明細書の式(H)、式(1)〜(3)、式(A)、(B)の化合物、特願平11-91652号明細書記載の一般式(III)〜(V)の化合物(具体的化合物:化21〜化24)、硬調化促進剤については特開平11-65021号公報段落番号0102、特開平11-223898号公報段落番号0194〜0195に記載されている。
【0436】
蟻酸や蟻酸塩を強いかぶらせ物質として用いるには、感光性ハロゲン化銀を含有する画像形成層を有する側に銀1モル当たり5ミリモル以下、さらには1ミリモル以下で含有することが好ましい。
【0437】
本発明の熱現像感光材料で超硬調化剤を用いる場合には五酸化二リンが水和してできる酸またはその塩を併用して用いることが好ましい。五酸化二リンが水和してできる酸またはその塩としては、メタリン酸(塩)、ピロリン酸(塩)、オルトリン酸(塩)、三リン酸(塩)、四リン酸(塩)、ヘキサメタリン酸(塩)などを挙げることができる。特に好ましく用いられる五酸化二リンが水和してできる酸またはその塩としては、オルトリン酸(塩)、ヘキサメタリン酸(塩)を挙げることができる。具体的な塩としてはオルトリン酸ナトリウム、オルトリン酸二水素ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、ヘキサメタリン酸アンモニウムなどがある。
五酸化二リンが水和してできる酸またはその塩の使用量(感光材料1m2あたりの塗布量)は感度やカブリなどの性能に合わせて所望の量でよいが、0.1〜500mg/m2が好ましく、0.5〜100mg/m2がより好ましい。
本発明の還元剤、水素結合性化合物、現像促進剤およびポリハロゲン化合物は固体分散物として使用することが好ましく、これらの固体分散物の好ましい製造方法は特開2002-55405号に記載されている。
【0438】
(塗布液の調製および塗布)
本発明の画像形成層塗布液の調製温度は30℃以上65℃以下がよく、さらに好ましい温度は35℃以上60℃未満、より好ましい温度は35℃以上55℃以下である。また、ポリマーラテックス添加直後の画像形成層塗布液の温度が30℃以上65℃以下で維持されることが好ましい。
【0439】
(層構成および構成成分)
本発明の画像形成層は、支持体上に一またはそれ以上の層で構成される。一層で構成する場合は有機銀塩、感光性ハロゲン化銀、還元剤およびバインダーよりなり、必要により色調剤、被覆助剤および他の補助剤などの所望による追加の材料を含む。二層以上で構成する場合は、第1画像形成層(通常は支持体に隣接した層)中に有機銀塩および感光性ハロゲン化銀を含み、第2画像形成層または両層中にいくつかの他の成分を含まなければならない。多色感光性熱現像写真材料の構成は、各色についてこれらの二層の組合せを含んでよく、また、米国特許第4,708,928号に記載されているように単一層内に全ての成分を含んでいてもよい。多染料多色感光性熱現像写真材料の場合、各乳剤層は、一般に、米国特許第4,460,681号に記載されているように、各感光性層の間に官能性もしくは非官能性のバリアー層を使用することにより、互いに区別されて保持される。
本発明の熱現像感光材料は、画像形成層に加えて非感光性層を有することができる。非感光性層は、その配置から(a)画像形成層の上(支持体よりも遠い側)に設けられる表面保護層、(b)複数の画像形成層の間や画像形成層と保護層の間に設けられる中間層、(c)画像形成層と支持体との間に設けられる下塗り層、(d)画像形成層の反対側に設けられるバック層に分類できる。
【0440】
また、光学フィルターとして作用する層を設けることができるが、(a)または(b)の層として設けられる。アンチハレーション層は、(c)または(d)の層として感光材料に設けられる。
【0441】
1)表面保護層
本発明における熱現像感光材料は画像形成層の付着防止などの目的で表面保護層を設けることができる。表面保護層は単層でもよいし、複数層であってもよい。
表面保護層については、特開平11-65021号段落番号0119〜0120、特開2000-171936号に記載されている。
本発明の表面保護層のバインダーとしてはゼラチンが好ましいがポリビニルアルコール(PVA)を用いる若しくは併用することも好ましい。ゼラチンとしてはイナートゼラチン(例えば新田ゼラチン750)、フタル化ゼラチン(例えば新田ゼラチン801)など使用することができる。PVAとしては、特開2000-171936号の段落番号0009〜0020に記載のものがあげられ、完全けん化物のPVA−105、部分けん化物のPVA−205,PVA−335、変性ポリビニルアルコールのMP−203(以上、クラレ(株)製の商品名)などが好ましく挙げられる。保護層(1層当たり)のポリビニルアルコール塗布量(支持体1m2当たり)としては0.3〜4.0g/m2が好ましく、0.3〜2.0g/m2がより好ましい。
【0442】
表面保護層(1層当たり)の全バインダー(水溶性ポリマー及びラテックスポリマーを含む)塗布量(支持体1m2当たり)としては0.3〜5.0g/m2が好ましく、0.3〜2.0g/m2がより好ましい。
【0443】
2)ハレーション防止染料
本発明の熱現像感光材料は、露光時のハレーション防止を目的として、感光層および非感光層のうちの少なくとも1層に、露光波長に光吸収のある染料を含有することが好ましい。該非感光層としては、感光層より支持体側にある非感光層(ハレーション防止層、下塗り層でもよい)、支持体に対して感光層と反対側にあるバック面の非感光層である。
ハレーション防止染料は、露光波長が赤外域にある場合には、赤外吸収染料を用いればよく、また露光波長が紫外域にある場合には紫外吸収染料を用いればよく、両者とも可視域の吸収を有しないか、もしくは可視域の吸収が少ない染料が好ましい。
【0444】
露光波長が可視域にある場合には、ハレーション防止染料は、画像形成後には染料の色が実質的に残らないようにすることが好ましく、熱現像の熱により消色する手段を用いることが好ましく、特に非感光性層に熱消色染料と塩基プレカーサーとを添加して熱消色性のハレーション防止層として機能させることが好ましい。これらの技術については特開平11-231457号等に記載されている。
【0445】
ハレーション防止染料の添加量は、染料の用途により決定する。一般には、目的とする波長で測定したときの光学濃度(吸光度)が0.1を越える量で使用することが好ましく、特に0.2〜2であることがより好ましい。このような光学濃度を得るための染料の使用量は、一般に0.001〜1g/m2程度である。
【0446】
露光光源がレーザー光である場合、ハレーション防止層は、その発光ピーク波長に合わせ、狭い波長領域で吸収があればよいので、染料塗布量を少なくすることができ、低コストで感光材料を作製することができる。
また、レーザー光の発光ピーク波長は、短波長ほど高精細の画像記録が可能となる。このため、レーザー光の発光ピーク波長は350〜430nmであることが好ましく、実用的な観点からは、380〜420nmであることがより好ましい。
【0447】
発光ピーク波長が350〜430nmのレーザー光を露光光源とした場合、ハレーション防止染料は、350nm〜430nmの間に吸収極大を有することが好ましい。さらにレーザー光の発光ピーク波長が380〜420nmの場合、前記染料は、380nm〜420nmに吸収極大を有することが好ましい。
350nm〜430nmの間に吸収極大を有する染料を含有する層は、好ましくは、感光層、感光層より支持体側にある非感光層(ハレーション防止層でもよい)、支持体に対して感光層と反対側にあるバック面の非感光層である。
【0448】
前記染料は、350nm〜430nmの間に吸収極大を有するものであればその種類は特に制限されない。350nm〜430nmの間に観測される吸収極大は、主吸収であっても副吸収であってもよい。350nm〜430nmの間に吸収極大を有する染料の具体例としては、アゾ染料、アゾメチン染料、キノン系染料(例えばアントラキノン染料、ナフトキノン染料など)、キノリン染料(例えばキノフタロン染料など)、メチン染料(例えば、シアニン、メロシアニン、オキソノール、スチリル、アリーリデン、アミノブタジエン染料などで、ポリメチン染料も含む。)、カルボニウム染料(例えばジフェニルメタン染料、トリフェニルメタン染料、キサンテン染料、アクリジン染料などのカチオン染料)、アジン染料(例えば、チアジン染料、オキサジン染料、フェナジン染料などのカチオン染料)、アザ[18]π電子系染料(例えばポルフィン染料、テトラアザポルフィン染料、フタロシアニン染料等)、インジゴイド染料(インジゴ、チオインジゴ染料など)、スクアリリウム染料、クロコニウム染料、ピロメテン染料、ニトロ・ニトロソ染料、ベンゾトリアゾール系染料、トリアジン系染料などを挙げることができ、好ましくは、アゾ染料、アゾメチン染料、キノン系染料、キノリン染料、メチン染料、アザ[18]π電子系染料、インジゴイド染料、ピロメテン染料であり、より好ましくはアゾ染料、アゾメチン染料、メチン染料であり、メチン染料が特に好ましい。これらの染料は固体微粒子分散状態、会合状態(液晶状態も含む)であってもよく、2種類以上の染料を併用してもよい。
【0449】
ハレーション防止染料として、露光波長における吸収が大きいものを使用すれば、染料の塗布量を低減することができるために好ましい。したがって、ハレーション防止染料は、半値幅が狭いシャープな吸収スペクトルピークを示す染料であること、あるいはそのような吸収を示す状態で使用することが好ましい。前記染料は、固体微粒子分散状態や会合状態で使用すれば、吸収を大きくし、吸収スペクトルピークをシャープにすることができるので好ましい。前記染料の会合体を形成するためには、イオン性親水性基を有する染料を使用することが好ましい。染料の吸収の半値幅は100nm以下が好ましく、75nm以下がより好ましく、50nm以下がさらに好ましい。
【0450】
ハレーション防止染料は、画像形成後に消色させても、消色させなくてもよい。染料を消色させない場合(以下、これを非消色という)は、視感度的に目立たないことが好ましく、露光波長における吸収を425nmの吸収で徐した比がより大きいことが好ましい。例えば、405nmの波長の半導体レーザーで感光材料を露光記録する場合、405nmの吸収/425nmの吸収比は、好ましくは5以上、より好ましくは10以上、特に好ましくは15以上である。
このような染料の例としては、アミノブタジエン系染料、酸性核と塩基性核が直結したメロシアニン染料、またはポリメチン染料が挙げられる。また、非消色である染料においては、水溶性であれば水溶液として添加することができる。
【0451】
一方、ハレーション防止染料を熱現像処理の過程で消色させることも好ましい。染料の消色方法としては、以下のものが知られており、任意のものを使用することができる。
▲1▼ 特開平9−34077号公報、特開2001−51371号公報に記載されたような、電子供与性呈色性有機化合物と酸性顕色剤からなる着色剤(染料)と、特定の消色剤とを熱現像時に反応させて消色させる方法;
▲2▼ 特開平9−133984号公報、特開2000−29168号公報、同2000−284403号公報、同2000−347341号公報に記載されたような、光照射や加熱によりラジカル発生させる化合物と消色性染料との組合せにより該消色性染料を消色する方法。
▲3▼ 米国特許5135842号明細書、同5258724号明細書、同5314795号明細書、同5324627号明細書、同5384237号明細書、特開平3−26765号公報、同6−222504号公報、同6−222505号公報、同7−36145号公報に記載された、加熱時に塩基もしくは求核剤を発生する化合物と消色性染料との組合せにより該消色性染料を消色する方法。
▲4▼ 米国特許4894358号明細書、特開平2−289856号公報、特開昭59−182436号公報に記載された、染料自身の熱分解により分子内閉環反応を起こして染料を消色する方法。
▲5▼ 特開平6−82948号公報、特開平11−231457号公報、特開2000−112058号公報、同2000−281923号公報、特開2000−169248号公報に記載された、消色性のきわめて良好な分子内閉環消色型染料と、塩基もしくは塩基プレカーサーとの組合せにより染料を消色する方法。
【0452】
上記の中でも、消色剤(ラジカル発生剤、塩基プレカーサー、求核剤発生剤も含む)と消色性染料との組合せは、熱現像時の消色性および未現像時の保存安定性を両立させやすく、好ましい。特に分子内閉環消色型染料と塩基プレカーサーとの組合せが、高い次元で消色性と安定性とを両立できるので、さらに好ましい。
【0453】
分子内閉環消色型染料の中で好ましいものは、ポリメチン発色団を有する染料であり、より好ましくは、ポリメチン部位と反応して5〜7員環を形成できる位置に、塩基の作用により求核部位を生じ得る基を有するポリメチン染料である。特に好ましいものは、下記一般式(1)および(2)で表される染料のような、解離により求核性基となり得る基を、5〜7員環を形成し得る位置に有するポリメチン染料である。
特に、下記一般式(1)または(2)で表される染料を使用することが好ましい。
【0454】
【化75】
【0455】
一般式(1)および(2)において、R1は、水素原子、脂肪族基、芳香族基、−NR21R26、−OR21または−SR21を表し、R21およびR26はそれぞれ独立に水素原子、脂肪族基もしくは芳香族基を表すか、またはR21とR26とが結合して含窒素複素環を形成する。R2は水素原子、脂肪族基または芳香族基を表し、R1とR2とは互いに結合して5または6員環を形成してもよい。L1およびL2はそれぞれ独立に、置換または無置換のメチンを表し、メチンの置換基同士が結合して不飽和脂肪族環または不飽和複素環を形成してもよい。Z1は、5または6員の含窒素複素環を完成するのに必要な原子団であって、含窒素複素環には芳香族環が縮合していてもよく、含窒素複素環およびその縮合環は置換基を有していてもよい。Aは酸性核を表し、Bは芳香族基、不飽和複素環基または下記一般式(3)で表される基を表す。nおよびmは、それぞれ1〜3のいずれかの整数を表す。nおよびmがそれぞれ2以上のとき、2以上のL1およびL2は同一であっても異なっていてもよい。
【0456】
【化76】
【0457】
一般式(3)において、L3は置換または無置換のメチンを表し、L2と結合して不飽和脂肪族環または不飽和複素環を形成してもよい。R3は脂肪族基または芳香族基を表す。Z2は5または6員の含窒素複素環を完成するのに必要な原子団であって、含窒素複素環には芳香族環が縮合していてもよく、含窒素複素環およびその縮合環は置換基を有していてもよい。
【0458】
式中、R1は、水素原子、脂肪族基、芳香族基、−NR21R26、−OR21または−SR21を表し、R21およびR26はそれぞれ独立に水素原子、脂肪族基もしくは芳香族基を表すか、またはR21とR26とが結合して含窒素複素環を形成する。R1は、−NR21R26、−OR21または−SR21であることが好ましい。R21は、脂肪族基または芳香族基であることが好ましく、無置換アルキル基、置換アルキル基、無置換アラルキル基、置換アラルキル基、無置換アリール基または置換アリール基であることがさらに好ましい。R26は、水素原子または脂肪族基であることが好ましく、水素原子、無置換アルキル基または置換アルキル基であることがさらに好ましい。R21とR26とが結合して形成する含窒素複素環は、5員環または6員環であることが好ましい。含窒素複素環は、窒素以外のヘテロ原子(例、酸素原子、硫黄原子)を有していてもよい。
【0459】
本明細書において、「脂肪族基」とは、無置換アルキル基、置換アルキル基、無置換アルケニル基、置換アルケニル基、無置換アルキニル基、置換アルキニル基、無置換アラルキル基または置換アラルキル基を意味する。本発明では、無置換アルキル基、置換アルキル基、無置換アルケニル基、置換アルケニル基、無置換アラルキル基または置換アラルキル基が好ましく、無置換アルキル基、置換アルキル基、無置換アラルキル基または置換アラルキル基がさらに好ましい。また、環状脂肪族基よりも鎖状脂肪族基が好ましい。鎖状脂肪族基は分岐を有していてもよい。無置換アルキル基の炭素原子数は、1〜30であることが好ましく、1〜15であることがより好ましく、1〜10であることがさらに好ましく、1〜8であることが最も好ましい。置換アルキル基のアルキル部分は、無置換アルキル基の好ましい範囲と同様である。
【0460】
無置換アルケニル基および無置換アルキニル基の炭素原子数は、2〜30であることが好ましく、2〜15であることがより好ましく、2〜12であることがさらに好ましく、2〜8であることが最も好ましい。置換アルケニル基のアルケニル部分および置換アルキニル基のアルキニル部分は、それぞれ無置換アルケニル基および無置換アルキニル基の好ましい範囲と同様である。無置換アラルキル基の炭素原子数は、7〜35であることが好ましく、7〜20であることがより好ましく、7〜15であることがさらに好ましく、7〜10であることが最も好ましい。置換アラルキル基のアラルキル部分は、無置換アラルキル基の好ましい範囲と同様である。
【0461】
脂肪族基(置換アルキル基、置換アルケニル基、置換アルキニル基、置換アラルキル基)の置換基の例には、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子)、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、ニトロ基、スルホ基、カルボキシル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルチオカルボニル基、ヘテロ環基、シアノ基、アミノ基(アニリノ基を含む)、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルおよびアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、アルキルおよびアリールスルフィニル基、アルキルおよびアリールスルホニル基、アルコキシカルボニル基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、ホスホノ基およびシリル基が含まれる。カルボキシル基、スルホ基、ホスホノ基は、塩の状態であってもよい。カルボキシル基、ホスホノ基およびスルホ基と塩を形成するカチオンは、アンモニウムやアルカリ金属イオン(例、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン)が好ましい。
【0462】
本明細書において、「芳香族基」とは、無置換アリール基または置換アリール基を意味する。無置換アリール基の炭素原子数は、6〜30であることが好ましく、6〜20であることがより好ましく、6〜15であることがさらに好ましく、6〜12であることが最も好ましい。置換アリール基のアリール部分は、無置換アリール基の好ましい範囲と同様である。芳香族基(置換アリール基)の置換基の例には、脂肪族基および脂肪族基の置換基の例で挙げたものを挙げることができる。
【0463】
前記一般式(1)および(2)中、R2は水素原子、脂肪族基または芳香族基を表し、R1とR2が結合して5または6員環を形成してもよい。脂肪族基と芳香族基の定義は、前述した通りである。R2は、水素原子または脂肪族基であることが好ましく、水素原子またはアルキル基であることがより好ましく、水素原子または炭素原子数が1〜15のアルキル基であることがさらに好ましく、水素原子であることが最も好ましい。
【0464】
前記一般式(1)、(2)および(3)において、L1、L2およびL3はそれぞれ独立に、置換されていてもよいメチンを表す。メチンの置換基同士が結合して不飽和脂肪族環または不飽和複素環を形成してもよい。メチンの置換基の例には、ハロゲン原子、脂肪族基および芳香族基が含まれる。脂肪族基と芳香族基の定義は前述した通りである。メチンの置換基が結合して不飽和脂肪族環または不飽和複素環を形成してもよい。不飽和複素環よりも、不飽和脂肪族環のほうが好ましい。形成する環は、5員環または6員環であることが好ましく、シクロペンテン環またはシクロヘキセン環であることがさらに好ましい。メチンは、無置換であるか、またはメソ位がアルキル基もしくはアリール基で置換されていることが特に好ましい。
【0465】
前記一般式(1)において、nは1〜3のいずれかの整数を表すが、好ましくは1または2である。nが2以上の時、繰り返されるメチンは同一であっても異なっていてもよい。前記一般式(2)において、mは1〜3のいずれかの整数を表すが、好ましくは1または2である。mが2以上の時、繰り返されるメチンは同一であっても異なっていてもよい。
【0466】
前記一般式(1)および(2)中、Z1は、5員または6員の含窒素複素環を完成するのに必要な原子団であって、含窒素複素環には芳香族環が縮合していてもよく、含窒素複素環およびその縮合環は置換基を有していてもよい。前記含窒素複素環の例には、オキサゾール環、チアゾール環、セレナゾール環、ピロール環、ピロリン環、イミダゾール環およびピリジン環が含まれる。6員環よりも5員環の方が好ましい。含窒素複素環には、芳香族環(ベンゼン環、ナフタレン環)が縮合していてもよい。含窒素複素環およびその縮合環は置換基を有していてもよい。置換基の例としては、先述の芳香族基の置換基を挙げる事ができるが、好ましくは、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子)、ヒドロキシル、ニトロ、カルボキシル、スルホ、アルコキシ、アリール基およびアルキル基である。カルボキシルとスルホは、塩の状態であってもよい。カルボキシルおよびスルホと塩を形成するカチオンは、アンモニウム、アルカリ金属イオン(例、ナトリウムイオン、カリウムイオン)が好ましい。
【0467】
一般式(1)において、Bは芳香族基、不飽和ヘテロ環基または下記一般式(3)を表す。芳香族基の定義は、前述した通りである。Bで表される芳香族基としては、置換あるいは無置換のフェニル基が好ましく、置換基としてはハロゲン原子、アミノ基、アシルアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキル基、アルキルチオ基、アリール基を有するものが好ましく、4位にアミノ基、アシルアミノ基、アルコキシ基、アルキル基を有するものが特に好ましい。Bで表される不飽和ヘテロ環基としては、炭素、酸素、窒素、イオウ原子から構成された5または6員のヘテロ環基が好ましい。中でも5員環が特に好ましい。好ましい例としては、置換もしくは無置換の、ピロール、インドール、チオフェンおよびフランが挙げられる。
【0468】
前記一般式(3)中、Z2は、5員または6員の含窒素複素環を形成する原子団であり、Z1と同じであっても異なっていてもよい。前記含窒素複素環の例は、上記Z1で例示したものと同様のものが例示される。前記一般式(3)中、R3は、脂肪族基または芳香族基を表すが、脂肪族基が好ましく、特に前記一般式(1)の窒素原子上の置換基である−CHR2(COR1)である場合が最も好ましい。
【0469】
前記一般式(2)中、Aは酸性核を表す。酸性核としては、環状のケトメチレン化合物または電子求引性基によってはさまれたメチレン基を有する化合物のそれぞれから1以上(通常2つ)の水素原子を除いた基が好ましい。環状のケトメチレン化合物の例としては、2−ピラゾリン−5−オン、ロダニン、ヒダントイン、チオヒダントイン、2,4−オキサゾリジンジオン、イソオキサゾロン、バルビツール酸、チオバルビツール酸、インダンジオン、ジオキソピラゾロピリジン、メルドラム酸、ヒドロキシピリジン、ピラゾリジンジオン、2,5−ジヒドロフラン−2−オン、ピロリン−2−オンを挙げることができる。これらは置換基を有していてもよい。
【0470】
前記電子求引性基によって挟まれたメチレン基を有する化合物はZaCH2Zbと表すことができる。ZaおよびZbは各々独立に、−CN、−SO2Ra1、−CORa1、−COORa2、−CONHRa2、−SO2NHRa2、−C〔=C(CN)2〕Ra1、−C〔=C(CN)2〕NHRa1を表し、Ra1はアルキル基、アリール基または複素環基を表し、Ra2は水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表し、そしてRa1およびRa2はそれぞれ置換基を有していてもよい。これらの酸性核の中でも2−ピラゾリン−5−オン、イソオキサゾロン、バルビツール酸、インダンジオン、ヒドロキシピリジン、ピラゾリジンジオンおよびジオキソピラゾロピリジンがより好ましい。
【0471】
前記一般式(1)で表される染料は、アニオンと塩を形成していることが好ましい。前記一般式(1)で表される染料が置換基として、カルボキシル基やスルホ基のようなアニオン性基を有する場合は、染料は分子内塩を形成することができる。それ以外の場合は、染料は分子外のアニオンと塩を形成するのが好ましい。アニオンは1価または2価であることが好ましく、1価であることがさらに好ましい。アニオンの例には、ハロゲンイオン(Cl-、Br-、I-)、p−トルエンスルホン酸イオン、エチル硫酸イオン、1、5−ジスルホナフタレンジアニオン、PF6 -、BF4 -およびClO4 -が含まれる。
【0472】
前記一般式(1)および(2)で表される染料は、分子分散状態で用いてもよいが、固体微粒子分散状態や会合状態で使用することが好ましい。前記染料が会合体を形成するためには、前記染料はイオン性親水性基を有するのが好ましい。イオン性親水性基には、スルホ基、カルボキシル基、ホスホノ基および4級アンモニウム基等が含まれる。前記イオン性親水性基としては、カルボキシル基、ホスホノ基、およびスルホ基が好ましく、特にカルボキシル基、スルホ基が好ましい。カルボキシル基、ホスホノ基およびスルホ基は塩の状態であってもよく、塩を形成する対イオンの例には、アンモニウムイオン、アルカリ金属イオン(例、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン)および有機カチオン(例、テトラメチルアンモニウムイオン、テトラメチルグアニジウムイオン、テトラメチルホスホニウム)が含まれる。
【0473】
次に、ハレーション防止用の非消色染料として好ましく用いられるアミノブタジエン系染料、メロシアニン染料の一般式を以下に示す。
【0474】
一般式(4)
【化77】
【0475】
式中、R41、R42はそれぞれ独立に、水素原子、脂肪族基、芳香族基、または互いに連結して5または6員環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。また、また、 R41、R42のいずれかが窒素原子の隣のメチン基と結合して、5または6員環を形成しても良い。A41は酸性核を表す。
【0476】
一般式(5)
【化78】
【0477】
式中、R51〜R55はそれぞれ独立に、水素原子、脂肪族基または芳香族基を表し、R51とR54は一緒になって二重結合を形成しても良く、R51とR54が一緒になって二重結合を形成するときは、R52とR53は連結してベンゼン環またはナフタレン環を形成しても良い。R55は脂肪族基または芳香族基を表し、Eは酸素原子、イオウ原子、エチレン基、>N−R56または>C(R57)(R58)を表し、R56は脂肪族基または芳香族基を表し、R57、R58はそれぞれ独立に、水素原子または脂肪族基を表す。A51は酸性核を表す。
【0478】
一般式(6)
【化79】
【0479】
式中、R61は水素原子、脂肪族基、または芳香族基を表す。R62は水素原子、脂肪族基、または芳香族基を表す。Z61は含窒素複素環を形成するために必要な原子群を表す。Z62とZ62'は(N−R62)mと一緒になって複素環、または非環式の酸性末端基を形成するために必要な原子群を表す。但し、Z61、およびZ62とZ62'にはそれぞれ環が縮環していても良い。mは0または1を表す。
【0480】
以下、一般式(4)、(5)および(6)で表される染料について詳細に述べる。
一般式(4)、(5)および(6)における、R41、R42、R51〜R58、R61、およびR62における脂肪族基、芳香族基は、R1で述べた脂肪族基、芳香族基と同様のものが適用でき、置換基の例も同様である。
【0481】
A41、A51で表される酸性核は、一般式(2)中のAで挙げたものと同様のものが適用でき、環状のケトメチレン化合物または電子求引性基によってはさまれたメチレン基を有する化合物のそれぞれから1以上(通常2つ)の水素原子を除いた基が好ましい。より好ましいメチレン化合物の例としては、ZaCH2Zb(一般式(2)中のAの説明で挙げたものと同義)、2−ピラゾリン−5−オン、イソオキサゾロン、バルビツール酸、インダンジオン、メルドラム酸、ヒドロキシピリジン、ピラゾリジンジオンおよびジオキソピラゾロピリジン等を挙げることができる。これらは置換基を有していてもよい
R41とR42が連結して形成される5または6員環としては、ピロリジン環、ピペリジン環、モルホリン環などを好ましい例として挙げることができる。
【0482】
前記一般式(6)中、Z61は、5員または6員の含窒素複素環を完成するのに必要な原子団であって、含窒素複素環には芳香族環が縮合していてもよく、含窒素複素環およびその縮合環は置換基を有していてもよい。前記含窒素複素環の例としては、チアゾリン核、チアゾール核、ベンゾチアゾール核、オキサゾリン核、オキサゾール核、ベンゾオキサゾール核、セレナゾリン核、セレナゾール核、ベンゾセレナゾール核、テルラゾリン核、テルラゾール核、ベンゾテルラゾール核、3,3−ジアルキルインドレニン核(例えば3,3−ジメチルインドレニン)、イミダゾリン核、イミダゾール核、ベンゾイミダゾール核、2−ピリジン核、4−ピリジン核、2−キノリン核、4−キノリン核、1−イソキノリン核、3−イソキノリン核、イミダゾ〔4,5−b〕キノキザリン核、オキサジアゾール核、チアジアゾール核、テトラゾール核、ピリミジン核などを挙げることができるが、好ましくはチアゾリン核、チアゾール核、ベンゾチアゾール核、オキサゾリン核、オキサゾール核、ベンゾオキサゾール核、3,3−ジアルキルインドレニン核(例えば3,3−ジメチルインドレニン)、イミダゾリン核、イミダゾール核、ベンゾイミダゾール核、2−ピリジン核、4−ピリジン核、2−キノリン核、4−キノリン核、1−イソキノリン核、3−イソキノリン核であり、さらに好ましくはチアゾリン核、チアゾール核、ベンゾチアゾール核、オキサゾリン核、オキサゾール核、ベンゾオキサゾール核、3,3−ジアルキルインドレニン核(例えば3,3−ジメチルインドレニン)、イミダゾリン核、イミダゾール核、ベンゾイミダゾール核であり、特に好ましくはチアゾリン核、チアゾール核、ベンゾチアゾール核、オキサゾリン核、オキサゾール核、ベンゾオキサゾール核であり、最も好ましくはチアゾリン核、オキサゾリン核、ベンゾオキサゾール核である。含窒素複素環には、芳香族環(ベンゼン環、ナフタレン環)が縮合していてもよい。含窒素複素環およびその縮合環は置換基を有していてもよい。置換基の例としては、先述の芳香族基の置換基を挙げることができるが、好ましくは、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子)、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、アルコキシ基、アリール基およびアルキル基である。カルボキシル基とスルホ基は、塩の状態であってもよい。カルボキシル基およびスルホ基と塩を形成するカチオンは、アンモニウム、アルカリ金属イオン(例えば、ナトリウムイオン、カリウムイオン)が好ましい。
【0483】
Z62とZ62'と(N−R62)mはそれぞれ一緒になって、複素環、または非環式の酸性末端基を形成するために必要な原子群を表わす。複素環(好ましくは5または6員の複素環)としてはいかなるものでも良いが、酸性核が好ましい。
次に、酸性核および非環式の酸性末端基について説明する。酸性核および非環式の酸性末端基は、いかなる一般のメロシアニン色素の酸性核および非環式の酸性末端基の形をとることもできる。好ましい形においてZ62はチオカルボニル基、カルボニル基、エステル基、アシル基、カルバモイル基、シアノ基、スルホニル基であり、さらに好ましくはチオカルボニル基、カルボニル基である。 Z62'は酸性核および非環式の酸性末端基を形成するために必要な残りの原子群を表す。非環式の酸性末端基を形成する場合は、好ましくはチオカルボニル基、カルボニル基、エステル基、アシル基、カルバモイル基、シアノ基、スルホニル基などである。
mは0または1であるが、好ましくは1である。
【0484】
ここでいう酸性核および非環式の酸性末端基は、例えばジェイムス(James)編「ザ・セオリー・オブ・ザ・フォトグラフィック・プロセス」(The Theory of the Photographic Process)第4版、マクミラン出版社、1977年、197〜200貢に記載されている。ここでは、非環式の酸性末端基とは、酸性すなわち電子受容性の末端基のうち、環を形成しないものを意味することとする。
酸性核および非環式の酸性末端基は、具体的には、米国特許第3、567、719号明細書、第3、575、869号明細書、第3、804、634号明細書、第3、837、862号明細書、第4、002、480号明細書、第4、925、777号明細書、特開平3ー167546号公報、米国特許第5,994,051号明細書、米国特許5,747,236号明細書などに記載されているものが挙げられる。
【0485】
酸性核は、炭素原子、窒素原子、および/またはカルコゲン原子(典型的には酸素原子、硫黄原子、セレン原子、およびテルル原子)からなる複素環(好ましくは5員または6員の含窒素複素環)が好ましく、さらに好ましくは炭素原子、窒素原子、および/またはカルコゲン原子(典型的には酸素原子、硫黄原子、セレン原子、およびテルル原子)からなる5員または6員の含窒素複素環である。具体的には、2−ピラゾリン−5−オン、ピラゾリジン−3,5−ジオン、イミダゾリン−5−オン、ヒダントイン、2または4−チオヒダントイン、2−イミノオキサゾリジン−4−オン、2−オキサゾリン−5−オン、2−チオオキサゾリジン−2,5−ジオン、2−チオオキサゾリン−2,4−ジオン、イソオキサゾリン−5−オン、2−チアゾリン−4−オン、チアゾリジン−4−オン、チアゾリジン−2,4−ジオン、ローダニン、チアゾリジン−2,4−ジチオン、イソローダニン、インダン−1,3−ジオン、チオフェン−3−オン、チオフェン−3−オン−1,1−ジオキシド、インドリン−2−オン、インドリン−3−オン、2−オキソインダゾリニウム、3−オキソインダゾリニウム、5,7−ジオキソ−6,7−ジヒドロチアゾロ[3,2−a]ピリミジン、シクロヘキサン−1,3−ジオン、3,4−ジヒドロイソキノリン−4−オン、1,3−ジオキサン−4,6−ジオン、バルビツール酸、2−チオバルビツール酸、クロマン−2,4−ジオン、インダゾリン−2−オン、ピリド[1,2−a]ピリミジン−1,3−ジオン、ピラゾロ[1,5−b]キナゾロン、ピラゾロ[1,5−a]ベンゾイミダゾール、ピラゾロピリドン、1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−2,4−ジオン、3−オキソ−2,3−ジヒドロベンゾ[d]チオフェン−1,1−ジオキサイド、3−ジシアノメチン−2,3−ジヒドロベンゾ[d]チオフェン−1,1−ジオキサイドの核、これらの核を形成しているカルボニル基もしくはチオカルボニル基を酸性核の活性メチレン位で置換したエキソメチレン構造を有する核、および、非環式の酸性末端基の原料となるケトメチレンやシアノメチレンなどの構造を有する活性メチレン化合物の活性メチレン位で置換したエキソメチレン構造を有する核、およびこれを繰り返した核を挙げることができる。
これらの酸性核、および非環式の酸性末端基には、前述の芳香族基の置換基の例で示した置換基または環が、置換していても、縮環していても良い。
【0486】
Z62とZ62'と(N−R62)mとして好ましくは、ヒダントイン、2または4−チオヒダントイン、2−オキサゾリン−5−オン、2−チオオキサゾリン−2,4−ジオン、チアゾリジン−2,4−ジオン、ローダニン、チアゾリジン−2,4−ジチオン、バルビツール酸、2−チオバルビツール酸であり、さらに好ましくは、ヒダントイン、2または4−チオヒダントイン、2−オキサゾリン−5−オン、ローダニン、バルビツール酸、2−チオバルビツール酸である。 特に好ましくは2または4−チオヒダントイン、2−オキサゾリン−5−オン、ローダニンである。
【0487】
上記一般式一般式(4)〜(6)で表される染料が水溶性である場合には、イオン性親水性基を有することが好ましい。イオン性親水性基の例および好ましい例は、一般式(1)、(2)で記述したものと同様である。
【0488】
以下に、好ましく用いられるハレーション防止染料の具体例を示すが、ハレーション防止染料は以下の具体例に限定されるわけではない。
【0489】
【化80】
【0490】
【化81】
【0491】
【化82】
【0492】
【化83】
【0493】
【化84】
【0494】
【化85】
【0495】
【化86】
【0496】
【化87】
【0497】
【化88】
【0498】
【化89】
【0499】
【化90】
【0500】
【化91】
【0501】
【化92】
【0502】
【化93】
【0503】
【化94】
【0504】
【化95】
【0505】
【化96】
【0506】
【化97】
【0507】
ハレーション防止染料化合物の合成については、一般的な方法が“The Cyanine Dyes and Related Compounds",Frances Hamer,IntersciencePublishers,1964に記されており、具体的には前述の特開平11−231457号公報、特開2000−112058号公報、同2000−86927号公報、同2000−86928号公報に順じた方法で合成できる。
【0508】
ハレーション防止染料を、熱現像の過程で消色させる場合には、加熱条件下で消色剤を作用させることにより消色させることができる。特に、前記一般式(1)および(2)の染料は、塩基の作用により染料中の活性メチレン基が脱プロトン化され、それにより発生する求核種が分子内のメチレン鎖を求核攻撃し、分子内閉環体を形成することにより消色する。従ってこの反応に使用可能な塩基としては、染料中の活性メチレン基を脱プロトン化させることができる塩基であればいかなるものでもよい。分子内閉環反応により新たに形成される環の環員数は特に限定されないが、5〜7員環であることが好ましく、5員環または7員環であることがより好ましい。このようにして形成される実質的に無色の化合物は、安定な化合物であって、元の染料に戻ることがなく、一旦消色された染料が元に戻ることによる着色等の問題はない。
【0509】
前記染料の消色反応における加熱温度は、40〜200℃であることが好ましく、80〜150℃であることがより好ましく、100〜130℃であることがさらに好ましく、115〜125℃であることが最も好ましい。加熱時間は、5〜120秒であることが好ましく、10〜60秒であることがより好ましく、12〜30秒であることがさらに好ましく、14〜25秒であることが最も好ましい。なお、熱現像感光材料では、熱現像のための加熱を利用することもできる。また、後述するように、熱の供与によって塩基を発生する熱応答型塩基プレカーサー(詳細は後述)を使用することが好ましい。そのような場合、実際の加熱温度と加熱時間は、熱現像に要する温度と時間、あるいは熱分解に要する温度と時間も考慮して決定する。
【0510】
消色反応に必要な消色剤は、ラジカル、求核剤、塩基またはそれらのプレカーサーが好ましい。前記一般式(1)または(2)で表される染料を用いる場合には、塩基もしくは塩基プレカーサーを用いて消色させるのが好ましい。消色反応に必要な塩基は、広義の塩基であって、狭義の塩基に加えて、求核剤(ルイス塩基)も含まれる。塩基が染料と共存すると、室温であっても消色反応が若干進行する場合がある。従って、塩基を染料から物理的または化学的に隔離しておき、消色すべき時に、例えば加熱することによって隔離状態を解除し、塩基と染料とを接触(反応)させるのが好ましい。双方を物理的に隔離する手段としては、前記染料および前記塩基の少なくとも一方をマイクロカプセルに内包させる;前記染料および前記塩基の少なくとも一方を熱溶融性物質の微粒子に内包させる;または前記染料および前記塩基を互いに異なる層に含有させる;手段がある。前記マイクロカプセルには、圧力により破裂するものと、加熱により破裂するものとがある。前記消色反応は加熱条件下で容易に進行するので、加熱により破裂する(熱応答性)マイクロカプセルを用いるのが都合がよい。隔離のためには、塩基および染料の少なくとも一方をマイクロカプセルに封入する。双方を別々のマイクロカプセルに内包させることもできる。また、マイクロカプセルの外殻が不透明である場合は、染料をマイクロカプセル外の状態で含有させ、塩基をマイクロカプセルに内包させるのが好ましい。熱応答性マイクロカプセルについては、森賀弘之、入門・特殊紙の化学(昭和50年)や特開平1−150575号公報に記載がある。
【0511】
前記染料と塩基との隔離のために用いられる前記熱溶融性物質として、ワックス等を用いることができる。前記熱溶融性物質の微粒子内に塩基および染料の一方(好ましくは塩基)を添加して隔離することができる。前記熱溶融性物質の融点は、室温と前述した消色反応が進行する際の加熱温度との間であるのが好ましい。染料を含む層と塩基を含む層とを別にして、双方を隔離する場合は、それらの層の間に熱溶融性物質を含むバリアー層を設けることが好ましい。
【0512】
前記染料と前記塩基とを化学的に隔離するのが、実施が容易であるので好ましい。双方を化学的に隔離する手段としては、塩基として、加熱により塩基を生成(放出も含まれる)可能なプレカーサーを用いるのが好ましい。前記塩基プレカーサ−としては、熱分解型の塩基プレカーサーが代表的であり、特に、カルボン酸と塩基との塩からなる熱分解型(脱炭酸型)塩基プレカーサーが代表的である。脱炭酸型塩基プレカーサーを加熱すると、カルボン酸のカルボキシル基が脱炭酸反応し、有機塩基が放出される。前記熱分解方塩基プレカーサ−を構成しているカルボン酸としては、脱炭酸しやすいスルホニル酢酸やプロピオール酸を用いることができる。スルホニル酢酸およびプロピオール酸は、脱炭酸を促進する芳香族性を有する基(アリール基や不飽和複素環基)を置換基として有することが好ましい。スルホニル酢酸塩の塩基プレカーサーについては特開昭59−168441号公報に、プロピオール酸塩の塩基プレカーサーについては特開昭59−180537号公報にそれぞれ記載がある。脱炭酸型塩基プレカーサーの塩基側成分としては、有機塩基が好ましく、アミジン、グアニジンまたはそれらの誘導体であることがさらに好ましい。有機塩基は、二酸塩基、三酸塩基または四酸塩基であることが好ましく、二酸塩基であることがさらに好ましく、アミジン誘導体またはグアニジン誘導体の二酸塩基であることが最も好ましい。
【0513】
アミジン誘導体の二酸塩基、三酸塩基または四酸塩基のプレカーサーについては、特公平7−59545号公報に記載がある。グアニジン誘導体の二酸塩基、三酸塩基または四酸塩基のプレカーサーについては、特公平8−10321号公報に記載がある。アミジン誘導体またはグアニジン誘導体の二酸塩基は、(A)2つのアミジン部分またはグアニジン部分、(B)アミジン部分またはグアニジン部分の置換基および(C)2つのアミジン部分またはグアニジン部分を結合する2価の連結基からなる。(B)の置換基の例には、アルキル基(シクロアルキル基を含む)、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基および複素環残基が含まれる。2個以上の置換基が結合して含窒素複素環を形成してもよい。(C)の連結基は、アルキレン基またはフェニレン基であることが好ましい。アミジン誘導体またはグアニジン誘導体の二酸塩基プレカーサーの例として、特開平11−231457号公報の化55〜化95に記載の塩基プレカーサーを本発明において好ましく用いることができる。
【0514】
前記染料を消色すると、熱現像後の光学濃度を0.1以下に低下させることができる。2種類以上の消色染料を、熱現像感光材料において併用してもよい。同様に、2種類以上の塩基プレカーサーを併用してもよい。このような消色染料と塩基プレカーサーを用いる熱消色においては、特開平11−352626号公報に記載のような塩基プレカーサーと混合すると融点を3℃以上降下させる物質(例えば、ジフェニルスルホン、4−クロロフェニル(フェニル)スルホン)、2−ナフチルベンゾエート等を併用することが熱消色性等の点で好ましい。
【0515】
ハレーション防止染料を含有する層は、前記染料とともにバインダーを含有することが好ましい。バインダーとしては、親水性ポリマー(例、ポリビニルアルコール、ゼラチン)が好ましく用いられる。ハレーション防止染料の添加量は、一般的には、熱現像感光材料では、目的とする波長で測定したときの光学濃度(吸光度)が0.1を超える量で使用するのが好ましく、さらに、0.2〜2.0であることがより好ましい。このような光学濃度を得るための染料の使用量は、会合体を使用することによって少量とすることができ、一般的には0.001〜0.2g/m2程度である。好ましくは、0.001〜0.1g/m2、より好ましくは、0.001〜0.05g/m2である。なお、ハレーション防止染料を消色する態様では、染料を消色することによって、光学濃度を0.1以下に低下させることができる。2種類以上の染料を併用してもよい。同様に、2種類以上の塩基プレカーサーを併用してもよい。塩基プレカーサーの使用量(モル)は、染料の使用量(モル)の1〜100倍であることが好ましく、3〜30倍であることがさらに好ましい。塩基プレカーサーは、固体微粒子状態で熱現像感光材料のいずれかの層に分散含有させるのが好ましい。
【0516】
ハレーション防止染料を非感光層に添加する方法としては、固体微粒子分散物あるいは会合体分散物を非感光層の塗布液に添加する方法が採用できる。この添加方法は、通常の熱現像感光材料に染料を添加する方法と同様である。
【0517】
3)バック層
本発明に適用することのできるバック層については特開平11-65021号段落番号0128〜0130に記載されている。
【0518】
本発明においては、銀色調、画像の経時変化を改良する目的で300〜450nmに吸収極大を有する着色剤を添加することができる。このような着色剤は、特開昭62-210458号、同63-104046号、同63-103235号、同63-208846号、同63-306436号、同63-314535号、特開平01-61745号、特開平2001-100363などに記載されている。このような着色剤は、通常、0.1mg/m2〜1g/m2の範囲で添加され、添加する層としては感光性層の反対側に設けられるバック層が好ましい。
また、ベース色調を調整するために580〜680nmに吸収ピークを有する染料を使用することが好ましい。この目的の染料としては短波長側の吸収強度が小さい特開平4-359967、同4-359968記載のアゾメチン系の油溶性染料、特願2002-96797号記載のフタロシアニン系の水溶性染料が好ましい。この目的の染料はいずれの層に添加してもよいが、乳剤面側の非感光層またはバック面側に添加することがより好ましい。
【0519】
本発明における熱現像感光材料は、支持体の一方の側に少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤を含む感光性層を有し、他方の側にバック層を有する、いわゆる片面感光材料であることが好ましい。
【0520】
4)マット剤
本発明において、搬送性改良のためにマット剤を添加することが好ましく、マット剤については、特開平11-65021号段落番号0126〜0127に記載されている。マット剤は感光材料1m2当たりの塗布量で示した場合、好ましくは1〜400mg/m2、より好ましくは5〜300mg/m2である。
本発明においてマット剤の形状は定型、不定形のいずれでもよいが好ましくは定型で、球形が好ましく用いられる。平均粒径は0.5〜10μmであることが好ましく、より好ましくは1.0〜8.0μm、さらに好ましくは2.0〜6.0μmの範囲である。また、サイズ分布の変動係数としては50%以下であることが好ましく、より好ましくは40%以下、さらに好ましくは、30%以下である。ここで変動係数とは(粒径の標準偏差)/(粒径の平均値)×100で表される値である。また、変動係数が小さいマット剤で平均粒径の比が3より大きいものを2種併用することも好ましい。
また、乳剤面のマット度は星屑故障が生じなければいかようでも良いが、ベック平滑度が30秒以上2000秒以下が好ましく、特に40秒以上1500秒以下が好ましい。ベック平滑度は、日本工業規格(JIS)P8119「紙および板紙のベック試験器による平滑度試験方法」およびTAPPI標準法T479により容易に求めることができる。
【0521】
本発明においてバック層のマット度としてはベック平滑度が1200秒以下10秒以上が好ましく、800秒以下20秒以上が好ましく、さらに好ましくは500秒以下40秒以上である。
【0522】
本発明において、マット剤は感光材料の最外表面層もしくは最外表面層として機能する層、あるいは外表面に近い層に含有されるのが好ましく、またいわゆる保護層として作用する層に含有されることが好ましい。
【0523】
5)ポリマーラテックス
特に寸法変化が問題となる印刷用途に本発明の熱現像感光材料を用いる場合には、表面保護層やバック層にポリマーラテックスを用いることが好ましい。このようなポリマーラテックスについては「合成樹脂エマルジョン(奥田平、稲垣寛編集、高分子刊行会発行(1978))」、「合成ラテックスの応用(杉村孝明、片岡靖男、鈴木聡一、笠原啓司編集、高分子刊行会発行(1993))」、「合成ラテックスの化学(室井宗一著、高分子刊行会発行(1970))」などにも記載され、具体的にはメチルメタクリレート(33.5質量%)/エチルアクリレート(50質量%)/メタクリル酸(16.5質量%)コポリマーのラテックス、メチルメタクリレート(47.5質量%)/ブタジエン(47.5質量%)/イタコン酸(5質量%)コポリマーのラテックス、エチルアクリレート/メタクリル酸のコポリマーのラテックス、メチルメタクリレート(58.9質量%)/2−エチルヘキシルアクリレート(25.4質量%)/スチレン(8.6質量%)/2−ヒドロキシエチルメタクリレート(5.1質量%)/アクリル酸(2.0質量%)コポリマーのラテックス、メチルメタクリレート(64.0質量%)/スチレン(9.0質量%) /ブチルアクリレート(20.0質量%)/2−ヒドロキシエチルメタクリレート(5.0質量%)/アクリル酸(2.0質量%)コポリマーのラテックスなどが挙げられる。さらに、表面保護層用のバインダーとして、特願平11-6872号明細書のポリマーラテックスの組み合わせ、特開2000-267226号明細書の段落番号0021〜0025に記載の技術、特願平11-6872号明細書の段落番号0027〜0028に記載の技術、特開2000-19678号明細書の段落番号0023〜0041に記載の技術を適用してもよい。表面保護層のポリマーラテックスの比率は全バインダーの10質量%以上90質量%以下が好ましく、特に20質量%以上80質量%以下が好ましい。
【0524】
6)膜面pH
本発明の熱現像感光材料は、熱現像処理前の膜面pHが7.0以下であることが好ましく、さらに好ましくは6.6以下である。その下限には特に制限はないが、3程度である。最も好ましいpH範囲は4〜6.2の範囲である。膜面pHの調節はフタル酸誘導体などの有機酸や硫酸などの不揮発性の酸、アンモニアなどの揮発性の塩基を用いることが、膜面pHを低減させるという観点から好ましい。特にアンモニアは揮発しやすく、塗布する工程や熱現像される前に除去できることから低膜面pHを達成する上で好ましい。
また、水酸化ナトリウムや水酸化カリウム、水酸化リチウム等の不揮発性の塩基とアンモニアを併用することも好ましく用いられる。なお、膜面pHの測定方法は、特開2000-284399号明細書の段落番号0123に記載されている。
【0525】
7)硬膜剤
本発明の感光性層、保護層、バック層など各層には硬膜剤を用いても良い。硬膜剤の例としてはT.H.James著“THE THEORY OF THE PHOTOGRAPHIC PROCESS FOURTH EDITION"(Macmillan Publishing Co., Inc.刊、1977年刊)77頁から87頁に記載の各方法があり、クロムみょうばん、2,4-ジクロロ-6-ヒドロキシ-s-トリアジンナトリウム塩、N,N-エチレンビス(ビニルスルホンアセトアミド)、N,N-プロピレンビス(ビニルスルホンアセトアミド)の他、同書78頁など記載の多価金属イオン、米国特許4,281,060号、特開平6-208193号などのポリイソシアネート類、米国特許4,791,042号などのエポキシ化合物類、特開昭62-89048号などのビニルスルホン系化合物類が好ましく用いられる。
【0526】
硬膜剤は溶液として添加され、この溶液の保護層塗布液中への添加時期は、塗布する180分前から直前、好ましくは60分前から10秒前であるが、混合方法及び混合条件については本発明の効果が十分に現れる限りにおいては特に制限はない。具体的な混合方法としては添加流量とコーターへの送液量から計算した平均滞留時間を所望の時間となるようにしたタンクでの混合する方法やN.Harnby、M.F.Edwards、A.W.Nienow著、高橋幸司訳“液体混合技術”(日刊工業新聞社刊、1989年)の第8章等に記載されているスタチックミキサーなどを使用する方法がある。
【0527】
8)界面活性剤
本発明に適用できる界面活性剤については特開平11-65021号段落番号0132、溶剤については同号段落番号0133、支持体については同号段落番号0134、帯電防止又は導電層については同号段落番号0135、カラー画像を得る方法については同号段落番号0136に、滑り剤については特開平11-84573号段落番号0061〜0064や特願平11-106881号段落番号0049〜0062記載されている。
本発明においてはフッ素系の界面活性剤を使用することが好ましい。フッ素系界面活性剤の具体例は特開平10-197985号、特開2000-19680号、特開2000-214554号等に記載された化合物があげられる。また、特開平9-281636号記載の高分子フッ素系界面活性剤も好ましく用いられる。本発明の熱現像感光材料においては特開2002-82411号、特願2001-242357号および特願2001-264110号記載のフッ素系界面活性剤の使用が好ましい。特に特願2001-242357号および特願2001-264110号記載のフッ素系界面活性剤は水系の塗布液で塗布製造を行う場合、帯電調整能力、塗布面状の安定性、スベリ性の点で好ましく、特願2001-264110号記載のフッ素系界面活性剤は帯電調整能力が高く使用量が少なくてすむという点で最も好ましい。
本発明においてフッ素系界面活性剤は乳剤面、バック面のいずれにも使用することができ、両方の面に使用することが好ましい。また、前述の金属酸化物を含む導電層と組み合わせて使用することが特に好ましい。この場合には導電層を有する面のフッ素系界面活性剤の使用量を低減もしくは除去しても十分な性能が得られる。
フッ素系界面活性剤の好ましい使用量は乳剤面、バック面それぞれに0.1mg/m2〜100mg/m2の範囲で、より好ましくは0.3mg/m2〜30mg/m2の範囲、さらに好ましくは1mg/m2〜10mg/m2の範囲である。特に特願2001-264110号記載のフッ素系界面活性剤は効果が大きく、0.01〜10mg/m2の範囲が好ましく、0.1〜5mg/m2の範囲がより好ましい。
【0528】
9)帯電防止剤
本発明においては金属酸化物あるいは導電性ポリマーを含む導電層を有することが好ましい。帯電防止層は下塗り層、バック層表面保護層などと兼ねてもよく、また別途設けてもよい。帯電防止層の導電性材料は金属酸化物中に酸素欠陥、異種金属原子を導入して導電性を高めた金属酸化物が好ましく用いられる。金属酸化物の例としてはZnO、TiO2、SnO2が好ましく、ZnOに対してはAl、Inの添加、SnO2に対してはSb、Nb、P、ハロゲン元素等の添加、TiO2に対してはNb、Ta等の添加が好ましい。特にSbを添加したSnO2が好ましい。異種原子の添加量は0.01〜30mol%の範囲が好ましく、0.1から10mol%の範囲がより好ましい。金属酸化物の形状は球状、針状、板状いずれでもよいが、導電性付与の効果の点で長軸/単軸比が2.0以上、好ましくは3.0〜50の針状粒子がよい。金属酸化物の使用量は好ましくは1mg/m2〜1000mg/m2の範囲で、より好ましくは10mg/m2〜500mg/m2の範囲、さらに好ましくは20mg/m2〜200mg/m2の範囲である。本発明の帯電防止層は乳剤面側、バック面側のいずれに設置してもよいが、支持体とバック層との間に設置することが好ましい。本発明の帯電防止層の具体例は特開平11-65021号段落番号0135、特開昭56-143430号、同56-143431号、同58-62646号、同56-120519号、特開平11-84573号の段落番号0040〜0051、米国特許第5,575,957号、特開平11-223898号の段落番号0078〜0084に記載されている。
【0529】
10)支持体
透明支持体は二軸延伸時にフィルム中に残存する内部歪みを緩和させ、熱現像処理中に発生する熱収縮歪みをなくすために、130〜185℃の温度範囲で熱処理を施したポリエステル、特にポリエチレンテレフタレートが好ましく用いられる。医療用の熱現像感光材料の場合、透明支持体は青色染料(例えば、特開平8-240877号実施例記載の染料-1)で着色されていてもよいし、無着色でもよい。支持体には、特開平11-84574号の水溶性ポリエステル、同10-186565号のスチレンブタジエン共重合体、特開2000-39684号や特願平11-106881号段落番号0063〜0080の塩化ビニリデン共重合体などの下塗り技術を適用することが好ましい。支持体に乳剤層もしくはバック層を塗布するときの、支持体の含水率は0.5wt%以下であることが好ましい。
【0530】
11)その他の添加剤
熱現像感光材料には、さらに、酸化防止剤、安定化剤、可塑剤、紫外線吸収剤あるいは被覆助剤を添加してもよい。各種の添加剤は、感光性層あるいは非感光性層のいずれかに添加する。それらについてWO98/36322号、EP803764A1号、特開平10-186567号、同10-18568号等を参考にすることができる。
【0531】
12)塗布方式
本発明における熱現像感光材料はいかなる方法で塗布されても良い。具体的には、エクストルージョンコーティング、スライドコーティング、カーテンコーティング、浸漬コーティング、ナイフコーティング、フローコーティング、または米国特許第2,681,294号に記載の種類のホッパーを用いる押出コーティングを 含む種々のコーティング操作が用いられ、Stephen F. Kistler、Petert M. Schweizer著“LIQUID FILM COATING"(CHAPMAN & HALL社刊、1997年)399頁から536頁記載のエクストルージョンコーティング、またはスライドコーティング好ましく用いられ、特に好ましくはスライドコーティングが用いられる。スライドコーティングに使用されるスライドコーターの形状の例は同書427頁のFigure 11b.1に ある。また、所望により同書399頁から536頁記載の方法、米国特許第2,761,791 号および英国特許第837,095号に記載の方法により2層またはそれ以上の層を同時に被覆することができる。本発明において特に好ましい塗布方法は特開2001-194748号、同2002-153808号、同2002-153803号、同2002-182333号に記載された方法である。
【0532】
本発明における有機銀塩含有層塗布液は、いわゆるチキソトロピー流体であることが好ましい。この技術については特開平11-52509号を参考にすることができる。本発明における有機銀塩含有層塗布液は剪断速度0.1S-1における粘度は400mPa・s以上100,000 mPa・s以下が好ましく、さらに好ましくは500mPa・s以上20,000 mPa・s以下である。また、剪断速度1000S-1においては1mPa・s以上200 mPa・s以下が好ましく、さらに好ましくは5mPa・s以上80 mPa・s以下である。
【0533】
本発明の塗布液を調合する場合において2種の液を混合する際は公知のインライン混合機、インプラント混合機が好ましく用いられる。本発明の好ましいインライン混合機は特開2002-85948号に、インプラント混合機は特開2002-90940号に記載されている。
本発明における塗布液は塗布面状を良好に保つため脱泡処理をすることが好ましい。本発明の好ましい脱泡処理方法については特開2002-66431号に記載された方法である。
本発明の塗布液を塗布する際には支持体の耐電による塵、ほこり等の付着を防止するために除電を行うことが好ましい。本発明において好ましい除電方法の例は特開2002-143747に記載されている。
本発明においては非セット性の画像形成層塗布液を乾燥するため乾燥風、乾燥温度を精密にコントロールすることが重要である。本発明の好ましい乾燥方法は特開2001-194749号、同2002-139814号に詳しく記載されている。
本発明の熱現像感光材料は成膜性を向上させるために塗布、乾燥直後に加熱処理をすることが好ましい。加熱処理の温度は膜面温度で60℃〜100℃の範囲が好ましく、加熱時間は1秒〜60秒の範囲が好ましい。より好ましい範囲は膜面温度が70〜90℃、加熱時間が2〜10秒の範囲である。本発明の好ましい加熱処理の方法は特開2002-107872号に記載されている。
また、本発明の熱現像感光材料を安定して連続製造するためには特開2002-156728号、同2002-182333号に記載の製造方法が好ましく用いられる。
【0534】
熱現像感光材料は、モノシート型(受像材料のような他のシートを使用せずに、熱現像感光材料上に画像を形成できる型)であることが好ましい。
【0535】
13)包装材料
本発明の感光材料は生保存時の写真性能の変動を押えるため、もしくはカール、巻癖などを改良するために、酸素透過率および/または水分透過率の低い包装材料で包装することが好ましい。酸素透過率は25℃で50ml/atm・m2・day以下であることが好ましく、より好ましくは10ml/atm・m2・day以下、さらに好ましくは1.0ml/atm・m2・day以下である。水分透過率は10g/atm・m2・day以下であることが好ましく、より好ましくは5g/atm・m2・day以下、さらに好ましくは1g/atm・m2・day以下である。
該酸素透過率および/または水分透過率の低い包装材料の具体例としては、たとえば特開平8−254793号。特開2000−206653号明細書に記載されている包装材料である。
【0536】
14)その他の利用できる技術
本発明の熱現像感光材料に用いることのできる技術としては、EP803764A1号、EP883022A1号、WO98/36322号、特開昭56-62648号、同58-62644号、特開平9-43766、同9-281637、同9-297367号、同9-304869号、同9-311405号、同9-329865号、同10-10669号、同10-62899号、同10-69023号、同10-186568号、同10-90823号、同10-171063号、同10-186565号、同10-186567号、同10-186569号〜同10-186572号、同10-197974号、同10-197982号、同10-197983号、同10-197985号〜同10-197987号、同10-207001号、同10-207004号、同10-221807号、同10-282601号、同10-288823号、同10-288824号、同10-307365号、同10-312038号、同10-339934号、同11-7100号、同11-15105号、同11-24200号、同11-24201号、同11-30832号、同11-84574号、同11-65021号、同11-109547号、同11-125880号、同11-129629号、同11-133536号〜同11-133539号、同11-133542号、同11-133543号、同11-223898号、同11-352627号、同11-305377号、同11-305378号、同11-305384号、同11-305380号、同11-316435号、同11-327076号、同11-338096号、同11-338098号、同11-338099号、同11-343420号、特開2000-187298号、同2000-10229号、同2000-47345号、同2000-206642号、同2000-98530号、同2000-98531号、同2000-112059号、同2000-112060号、同2000-112104号、同2000-112064号、同2000-171936号も挙げられる。
【0537】
多色カラー熱現像感光材料の場合、各乳剤層は、一般に、米国特許第4,460,681号に記載されているように、各感光性層の間に官能性もしくは非官能性のバリアー層を使用することにより、互いに区別されて保持される。
多色カラー熱現像感光材料の場合の構成は、各色についてこれらの二層の組合せを含んでよく、また、米国特許第4,708,928号に記載されているように単一層内に全ての成分を含んでいてもよい。
【0538】
(画像形成方法)
1)露光
本発明の感光材料はいかなる方法で露光されても良いが、レーザー光で走査露光するのが好ましい。レーザー光としては、赤〜赤外発光のHe−Neレーザー、赤色半導体レーザー、あるいは青〜緑発光のAr+,He−Ne,He−Cdレーザー、青色半導体レーザーを用いることができる。好ましくは、赤色〜赤外半導体レーザーであり、レーザー光のピーク波長は、600nm〜900nm、好ましくは620nm〜850nmである。 一方、近年、特に、SHG(Second Harmonic Generator)素子と半導体レーザーを一体化したモジュールや青色半導体レーザーが開発されてきて、短波長領域のレーザー出力装置がクローズアップされてきた。青色半導体レーザーは、高精細の画像記録が可能であること、記録密度の増大、かつ長寿命で安定した出力が得られることから、今後需要が拡大していくことが期待されている。
レーザー光の発光ピーク波長は、300nm〜500nm、好ましくは350nm〜450nm、より好ましくは390nm〜430nm、赤〜近赤外の600nm〜900nm、好ましくは620nm〜870nm、より好ましくは640nm〜830nmである。
【0539】
レーザー光は、高周波重畳などの方法によって縦マルチに発振していることも好ましく用いられる。
【0540】
2)熱現像
本発明の熱現像感光材料はいかなる方法で現像されても良いが、通常イメージワイズに露光した熱現像感光材料を昇温して現像される。好ましい現像温度としては80〜250 ℃であり、好ましくは100〜140℃、さらに好ましくは110〜130℃である。現像時間としては1〜60秒が好ましく、より好ましくは3〜30秒、さらに好ましくは5〜25秒、最も好ましくは7〜15秒である。
【0541】
熱現像の方式としてはドラム型ヒーター、プレート型ヒーターのいずれを使用してもよいが、プレート型ヒーター方式がより好ましい。プレート型ヒーター方式による熱現像方式とは特開平11-133572号に記載の方法が好ましく、潜像を形成した熱現像感光材料を熱現像部にて加熱手段に接触させることにより可視像を得る熱現像装置であって、前記加熱手段がプレートヒーターからなり、かつ前記プレートヒーターの一方の面に沿って複数個の押えローラが対向配設され、前記押えローラと前記プレートヒーターとの間に前記熱現像感光材料を通過させて熱現像を行うことを特徴とする熱現像装置である。プレートヒーターを2〜6段に分けて先端部については1〜10℃程度温度を下げることが好ましい。例えば、独立に温度制御できる4組のプレートヒーターを使用し、それぞれ112℃、119℃、121℃、120℃になるように制御する例が挙げられる。
【0542】
このような方法は特開昭54-30032号にも記載されており、熱現像感光材料に含有している水分や有機溶媒を系外に除外させることができ、また、急激に熱現像感光材料が加熱されることでの熱現像感光材料の支持体形状の変化を抑えることもできる。
【0543】
また、別の加熱方法として、米国特許第4,460,681号明細書及び同第4,374,921号明細書に示されるような裏面抵抗性加熱層(backside resistive heating layer)を設け、通電することによって発熱させ、加熱することもできる。
【0544】
3)システム
露光部および熱現像部を備えた医療用レーザーイメージャーとして富士フィルムメディカル(株)の「ドライイメージャー−FM−DPL」を挙げることができる。該システムは、Fuji Medical Review No.8,page39〜55に記載されており、それらの技術を利用することができる。さらに、近年、富士フィルムメディカル(株)の「ドライ・ピックス(DRYPIX)7000システム」も挙げることができる。また、DICOM規格に適合したネットワークシステムとして富士フィルムメディカル(株)が提案した「AD network」の中のレーザーイメージャー用の熱現像感光材料としても適用することができる。
【0545】
(本発明の用途)
【0546】
本発明の高ヨウ化銀写真乳剤を用いた熱現像感光材料は、銀画像による黒白画像を形成し、医療診断用の熱現像感光材料、工業写真用熱現像感光材料、印刷用熱現像感光材料、COM用の熱現像感光材料として使用されることが好ましい。
【0547】
【0548】
【実施例】
以下、本発明を実施例によって具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例1
【0549】
1.PET支持体の作成、および下塗り
1−1.製膜
【0550】
テレフタル酸とエチレングリコ−ルを用い、常法に従い固有粘度IV=0.66 (フェノ−ル/テトラクロルエタン=6/4(重量比)中25℃で測定)のPETを得た。これをペレット化した後130℃で4時間乾燥した。その後T型ダイから押し出して急冷し、熱固定後の膜厚が175μmになるような厚みの未延伸フィルムを作成した。
【0551】
これを、周速の異なるロ−ルを用い3.3倍に縦延伸、ついでテンタ−で4.5倍に横延伸を実施した。この時の温度はそれぞれ、110℃、130℃であった。この後、240℃で20秒間熱固定後これと同じ温度で横方向に4%緩和した。この後テンタ−のチャック部をスリットした後、両端にナ−ル加工を行い、4kg/cm2で巻き取り、厚み175μmのロ−ルを得た。
【0552】
1−2.表面コロナ放電処理
ピラー社製ソリッドステートコロナ放電処理機6KVAモデルを用い、支持体の両面を室温下において20m/分で処理した。この時の電流、電圧の読み取り値から、支持体には0.375kV・A・分/m2の処理がなされていることがわかった。この時の処理周波数は9.6kHz、電極と誘電体ロ−ルのギャップクリアランスは1.6mmであった。
【0553】
1−3.下塗り
1)下塗層塗布液の作成
処方▲1▼(感光層側下塗り層用)
高松油脂(株)製ペスレジンA-520(30質量%溶液) 59g
ポリエチレングリコールモノノニルフェニルエーテル 5.4g
(平均エチレンオキシド数=8.5) 10質量%溶液
綜研化学(株)製 MP-1000(ポリマー微粒子、平均粒径0.4μm) 0.91g
蒸留水 935ml
【0554】
処方▲2▼(バック面第1層用)
スチレン−ブタジエン共重合体ラテックス 158g
(固形分40質量%、スチレン/ブタジエン重量比=68/32)
2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−S−トリアジンナトリウム塩
(8質量%水溶液) 20g
ラウリルベンゼンスルホン酸ナトリウムの1質量%水溶液 10ml
蒸留水 854ml
【0555】
処方▲3▼(バック面側第2層用)
SnO2/SbO (9/1質量比、平均粒径0.038μm、17質量%分散物) 84g
ゼラチン(10質量%水溶液) 89.2g
信越化学(株)製 メトローズTC-5(2質量%水溶液) 8.6g
綜研化学(株)製 MP-1000 0.01g
ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムの1質量%水溶液 10ml
NaOH(1質量%) 6ml
プロキセル(ICI社製) 1ml
蒸留水 805ml
【0556】
2)下塗り
上記厚さ175μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレート支持体の両面それぞれに、上記コロナ放電処理を施した後、片面(感光性層面)に上記下塗り塗布液処方▲1▼をワイヤーバーでウエット塗布量が6.6ml/m2(片面当たり)になるように塗布して180℃で5分間乾燥し、ついでこの裏面(バック面)に上記下塗り塗布液処方▲2▼をワイヤーバーでウエット塗布量が5.7ml/m2になるように塗布して180℃で5分間乾燥し、更に裏面(バック面)に上記下塗り塗布液処方▲3▼をワイヤーバーでウエット塗布量が7.7ml/m2になるように塗布して180℃で6分間乾燥して下塗り支持体を作製した。
【0557】
2.バック層
1)バック層塗布液の調製
(ハレーション防止層塗布液の調製)
ゼラチン60g、ポリアクリルアミド24.5g、1mol/Lの水酸化ナトリウム2.2g、単分散ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒子サイズ8μm、粒径標準偏差0.4)2.4g、ベンゾイソチアゾリノン0.08g、ポリエチレンスルホン酸ナトリウム0.3g、青色染料化合物−1を0.21g、紫外線吸収剤−1を6.8g、アクリル酸/エチルアクリレート共重合体(共重合重量比5/95)8.3gを混合し、水で全体を818mlにして、ハレーション防止層塗布液を調製した。
【0558】
(バック面保護層塗布液の調製)
容器を40℃に保温し、ゼラチン40g、流動パラフィン乳化物を流動パラフィンとして1.5g、ベンゾイソチアゾリノン30mg、1mol/Lの水酸化ナトリウム6.8g、t−オクチルフェノキシエトキシエタンスルホン酸ナトリウム0.5g、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム0.27g、フッ素系界面活性剤(F−1)2質量%水溶液を5.4ml、アクリル酸/エチルアクリレート共重合体(共重合重量比5/95)6.0g、N、N−エチレンビス(ビニルスルホンアセトアミド)2.0gを混合し、水で1000mlにしてバック面保護層塗布液とした。
【0559】
2)バック層の塗布
上記下塗り支持体のバック面側に、ハレーション防止層塗布液をゼラチンの塗布量が1.70g/m2となるように、またバック面保護層塗布液をゼラチン塗布量が0.79g/m2となるように同時重層塗布し、乾燥し、バック層を作成した。
【0560】
3.画像形成層、および表面保護層
3−1.塗布用材料の準備
【0561】
(感光性ハロゲン化銀乳剤)
1)感光性ハロゲン化銀乳剤1の調製
蒸留水1420mlに、1質量%ヨウ化カリウム溶液4.3mlを加え、さらに0.5モル/L硫酸を3.5ml、フタル化ゼラチン88.3gを加えた液をステンレス製反応容器中で攪拌しながら、42℃に液温を保ち、硝酸銀22.22gに蒸留水を加えて195.6mlに希釈した溶液Aとヨウ化カリウム21.8gを蒸留水にて218mlに希釈した溶液Bを一定流量で9分間かけて全量添加した。その後、3.5質量%の過酸化水素水溶液を10ml添加し、さらにベンツイミダゾールの10質量%水溶液を10.8ml添加した。
【0562】
さらに硝酸銀51.86gに蒸留水を加えて317.5mlに希釈した溶液Cとヨウ化カリウム60gを蒸留水にて容量600mlに希釈した溶液Dを、溶液Cは一定流量で120分間かけて全量添加し、溶液DはpAgを8.1に維持しながらコントロールドダブルジェット法で添加した。銀1モル当たり1×10-4モルになるように六塩化イリジウム(III)酸カリウム塩を溶液Cおよび溶液Dを添加し始めてから10分後に全量添加した。また、溶液Cの添加終了の5秒後に六シアン化鉄(II)カリウム水溶液を銀1モル当たり3×10-4モル全量添加した。0.5モル/L硫酸を用いてpHを3.8に調整し、撹拌を止め、沈降、脱塩、水洗工程を行った。1モル/L水酸化ナトリウムを用いてpH5.9に調整し、pAg8.0のハロゲン化銀分散物を作成した。
【0563】
上記ハロゲン化銀分散物を撹拌しながら38℃に維持して、0.34質量%の1,2−ベンゾイソチアゾリン−3−オンのメタノール溶液5mlを加え、47℃に昇温した。昇温の20分後にベンゼンチオスルホン酸ナトリウムをメタノール溶液で銀1モルに対して7.6×10-5モル加え、さらに5分後に下記テルル増感剤Cをメタノール溶液で銀1モルに対して2.9×10-4モル加えて91分間熟成した。N,N'-ジヒドロキシ-N"-ジエチルメラミンの0.8質量%メタノール溶液1.3mlを加え、さらに4分後に、5-メチル-2-メルカプトベンヅイミダゾールをメタノール溶液で銀1モル当たり4.8×10-3モル及び1-フェニル-2-ヘプチル-5-メルカプト-1,3,4-トリアゾールをメタノール溶液で銀1モルに対して5.4×10-3モル添加して、ハロゲン化銀乳剤1を作成した。
【0564】
調製されたハロゲン化銀乳剤1中の粒子は、平均球相当径0.040μm、球相当の径の変動係数18%の純ヨウ化銀粒子であった。粒子サイズ等は電子顕微鏡を用いて1000個の粒子の平均から求めた。また(001)、{100}、{101}面を有する14面体粒子であり、X線粉末回折分析を用いて測定するとそのγ相の比率は30%であった。
【0565】
(ハロゲン化銀乳剤2の調製)
反応溶液の温度を65℃に変更し、2,2‘−(エチレンジチオ)ジエタノールの5%メタノール溶液5mlを溶液AとBの添加後に添加したこと、pAgを10.5に維持しながら溶液Dをコントロールドダブルジェット法で添加したこと、および化学増感時にテルル増感剤の添加3分後に臭化金酸を銀1モル当たり5×10-4モルとチオシアン酸カリウムを銀1モルあたり2×10-3モルを添加したこと以外は乳剤1と同様にしてハロゲン化銀乳剤2を作成した。
【0566】
調製できたハロゲン化銀乳剤中の粒子は、投影面積の平均円相当径0.164μm、粒子厚み0.032μm、平均アスペクト比が5、平均球相当径0.11μm、球相当径の変動係数23%の純ヨウ化銀平板状粒子であった。X線粉末回折分析を用いて測定するとそのγ相の比率は80%であった。
【0567】
(ハロゲン化銀乳剤3の調製)
反応溶液の温度を27℃に変更したこと、pAgを10.2に維持しながら溶液Dをコントロールドダブルジェット法で添加したこと以外はハロゲン化銀乳剤1と全く同様にしてハロゲン化銀乳剤3を作成した。
【0568】
調製できたハロゲン化銀乳剤中の粒子は、平均球相当径0.022μm、球相当径の変動係数17%の純ヨウ化銀粒子であった。また(001)、{1(−1)0}、{101}面を有する12面体粒子であり、X線粉末回折分析を用いて測定するとほぼβ相からなる沃化銀であった。
【0569】
(塗布液用混合乳剤A1〜A3の調製)
ハロゲン化銀乳剤1とハロゲン化銀乳剤2とハロゲン化銀乳剤3を銀モル比として5:2:3になる量を溶解し、ベンゾチアゾリウムヨーダイドを1質量%水溶液にて銀1モル当たり7×10-3モル添加した。さらに塗布液用混合乳剤1kgあたりハロゲン化銀の含有量が銀として38.2gとなるように加水し、塗布液用混合乳剤1kgあたり0.34gとなるように1−(3−メチルウレイドフェニル)−5−メルカプトテトラゾールを添加した。
【0570】
さらに「1電子酸化されて生成する1電子酸化体が1電子もしくはそれ以上の電子を放出し得る化合物」として、化合物2と20と26をそれぞれハロゲン化銀の銀1モル当たり2×10-3モルになる量を添加した。
さらに、表14に示すように本発明の吸着基と還元基を有する化合物を添加した。
混合乳剤A1:吸着基と還元基を有する化合物を添加しない乳剤である。
混合乳剤A2:吸着基と還元基を有する化合物として化合物No.19、49、および71をそれぞれ塗布銀量1モル当たり8×10-3モル添加した乳剤である。
混合乳剤A3:吸着基と還元基を有する化合物として化合物No.19および71をそれぞれ塗布銀量1モル当たり8×10-3モル添加した乳剤である。
【0571】
(ハロゲン化銀乳剤4の調製)
ハロゲン化銀乳剤1の調製と同様にして、但し、ヨウ化カリウムの代わりにヨウ化カリウムと臭化カリウムの混合溶液を用いて、ヨウ化銀70モル%、臭化銀30モル%の均一なハロゲン組成を有するハロゲン化銀乳剤4を調製した。
得られた粒子の粒子サイズは、粒子形成時の温度を調整することにより、ハロゲン化銀乳剤1と同等であった。
【0572】
(ハロゲン化銀乳剤5の調製)
ハロゲン化銀乳剤2の調製と同様にして、但し、ヨウ化カリウムの代わりにヨウ化カリウムと臭化カリウムの混合溶液を用いて、ヨウ化銀70モル%、臭化銀30モル%の均一なハロゲン組成を有するハロゲン化銀乳剤5を調製した。
得られた粒子の粒子サイズは、粒子形成時の温度を調整することにより、ハロゲン化銀乳剤2と同等であった。
【0573】
(ハロゲン化銀乳剤6の調製)
ハロゲン化銀乳剤3の調製と同様にして、但し、ヨウ化カリウムの代わりにヨウ化カリウムと臭化カリウムの混合溶液を用いて、ヨウ化銀70モル%、臭化銀30モル%の均一なハロゲン組成を有するハロゲン化銀乳剤4を調製した。
得られた粒子の粒子サイズは、粒子形成時の温度を調整することにより、ハロゲン化銀乳剤3と同等であった。
【0574】
(塗布液用混合乳剤B1〜B3の調製)
塗布液用混合乳剤A1〜A3において、ハロゲン化銀乳剤1、ハロゲン化銀乳剤2、およびハロゲン化銀乳剤3の代わりに、ハロゲン化銀乳剤4、ハロゲン化銀乳剤5、およびハロゲン化銀乳剤6を銀モル比として5:2:3になる量を用いて塗布液用混合乳剤Bを調製した。
【0575】
(ハロゲン化銀乳剤7の調製)
ハロゲン化銀乳剤1の調製と同様にして、但し、ヨウ化カリウムの代わりにヨウ化カリウムと臭化カリウムの混合溶液を用いて、ヨウ化銀3.5モル%、臭化銀96.5モル%の均一なハロゲン組成を有するハロゲン化銀乳剤7を調製した。
得られた粒子の粒子サイズは、粒子形成時の温度を調整することにより、ハロゲン化銀乳剤1と同等であった。
【0576】
(ハロゲン化銀乳剤8の調製)
ハロゲン化銀乳剤2の調製と同様にして、但し、ヨウ化カリウムの代わりにヨウ化カリウムと臭化カリウムの混合溶液を用いて、ヨウ化銀3.5モル%、臭化銀96.5モル%の均一なハロゲン組成を有するハロゲン化銀乳剤8を調製した。
得られた粒子の粒子サイズは、粒子形成時の温度を調整することにより、ハロゲン化銀乳剤2と同等であった。
【0577】
(ハロゲン化銀乳剤9の調製)
ハロゲン化銀乳剤3の調製と同様にして、但し、ヨウ化カリウムの代わりにヨウ化カリウムと臭化カリウムの混合溶液を用いて、ヨウ化銀3.5モル%、臭化銀96.5モル%の均一なハロゲン組成を有するハロゲン化銀乳剤9を調製した。
得られた粒子の粒子サイズは、粒子形成時の温度を調整することにより、ハロゲン化銀乳剤3と同等であった。
【0578】
(塗布液用混合乳剤C1〜C3の調製)
塗布液用混合乳剤A1〜A3において、ハロゲン化銀乳剤1、ハロゲン化銀乳剤2、およびハロゲン化銀乳剤3の代わりに、ハロゲン化銀乳剤7、ハロゲン化銀乳剤8、およびハロゲン化銀乳剤9を銀モル比として5:2:3になる量を用いて塗布液用混合乳剤Cを調製した。
【0579】
(有機銀塩分散物の調製)
1)有機銀塩分散物の調製
<再結晶ベヘン酸の調製>
ヘンケル社製ベヘン酸(製品名Edenor C22-85R)100Kgを、1200Kgのイソプロピルアルコールにまぜ、50℃で溶解し、10μmのフィルターで濾過した後、30℃まで、冷却し、再結晶を行った。再結晶をする際の、冷却スピードは、2℃/時間にコントロールした。得られた結晶を遠心濾過し、200Kgのイソプルピルアルコールでかけ洗いを実施した後、乾燥を行った。得られた結晶をエステル化してGC-FID測定をしたところ、ベヘン酸含有率は98モル%、それ以外にリグノセリン酸が1.9モル%、アラキジン酸が0.1モル%、エルカ酸0.001モル%含まれていた。
【0580】
<有機銀塩分散物の調製>
再結晶ベヘン酸88Kg、蒸留水422L、5mol/L濃度のNaOH水溶液49.2L、t−ブチルアルコール120Lを混合し、75℃にて1時間攪拌し反応させ、ベヘン酸ナトリウム溶液Bを得た。別に、硝酸銀39.1kgの水溶液206.2L(pH4.0)を用意し、10℃にて保温した。635Lの蒸留水と30Lのt−ブチルアルコールを入れた反応容器を30℃に保温し、十分に撹拌しながら先のベヘン酸ナトリウム溶液の全量と硝酸銀水溶液の全量を流量一定でそれぞれ93分15秒と87分6秒かけて添加した。このとき、硝酸銀水溶液添加開始後11分間は硝酸銀水溶液のみが添加されるようにし、そのあとベヘン酸ナトリウム溶液を添加開始し、硝酸銀水溶液の添加終了後17分9秒間はベヘン酸ナトリウム溶液のみが添加されるようにした。このとき、反応容器内の温度は30℃とし、液温度が一定になるように外温コントロールした。また、ベヘン酸ナトリウム溶液の添加系の配管は、2重管の外側に温水を循環させる事により保温し、添加ノズル先端の出口の液温度が75℃になるよう調製した。また、硝酸銀水溶液の添加系の配管は、2重管の外側に冷水を循環させることにより保温した。ベヘン酸ナトリウム溶液の添加位置と硝酸銀水溶液の添加位置は撹拌軸を中心として対称的な配置とし、また反応液に接触しないような高さに調製した。
【0581】
ベヘン酸ナトリウム溶液を添加終了後、そのままの温度で20分間撹拌放置し、30分かけて35℃に昇温し、その後210分熟成を行った。熟成終了後直ちに、遠心濾過で固形分を濾別し、固形分を濾過水の伝導度が80μS/cmになるまで水洗した。こうして脂肪酸銀塩を得た。得られた固形分は、乾燥させないでウエットケーキとして保管した。
【0582】
得られたベヘン酸銀粒子の形態を電子顕微鏡撮影により評価したところ、平均球相当直径は0.40μm、球相当直径の体積加重平均変動係数11%の結晶であった。
【0583】
乾燥固形分269Kg相当のウエットケーキに対し、ポリビニルアルコール(商品名:PVA-217)19.7Kgおよび水を添加し、全体量を1000Kgとしてからディゾルバー羽根でスラリー化し、更にパイプラインミキサー(みづほ工業製:PM−10型)で予備分散した。
【0584】
次に予備分散済みの原液を分散機(商品名:マイクロフルイダイザーM−610、マイクロフルイデックス・インターナショナル・コーポレーション製、Z型インタラクションチャンバー使用)の圧力を900kg/cm2に調節して、三回処理し、ベヘン酸銀分散物を得た。冷却操作は蛇管式熱交換器をインタラクションチャンバーの前後に各々装着し、冷媒の温度を調節することで10℃の分散温度に設定した。
【0585】
(還元剤分散物の調製)
1)還元剤−1分散物の調製
還元剤―1(2,2'-メチレンビス-(4-エチル-6-tert-ブチルフェノール))10Kgと変性ポリビニルアルコール(クラレ(株)製、ポバールMP203)の10質量%水溶液16Kgに、水10Kgを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル(UVM−2:アイメックス(株)製)にて3時間分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.2gと水を加えて還元剤の濃度が25質量%になるように調製した。この分散液を60℃で5時間加熱処理し、還元剤―1分散物を得た。こうして得た還元剤分散物に含まれる還元剤粒子はメジアン径0.40μm、最大粒子径1.4μm以下であった。得られた還元剤分散物は孔径3.0μmのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
【0586】
2)還元剤−2分散物の調製
還元剤―2(6,6'-ジ-t-ブチル-4,4'-ジメチル-2,2'-ブチリデンジフェノール)10Kgと変性ポリビニルアルコール(クラレ(株)製、ポバールMP203)の10質量%水溶液16Kgに、水10Kgを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル(UVM−2:アイメックス(株)製)にて3時間30分分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.2gと水を加えて還元剤の濃度が25質量%になるように調製した。この分散液を40℃で1時間加熱した後、引き続いてさらに80℃で1時間加熱処理し、還元剤―2分散物を得た。こうして得た還元剤分散物に含まれる還元剤粒子はメジアン径0.50μm、最大粒子径1.6μm以下であった。得られた還元剤分散物は孔径3.0μmのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
【0587】
(水素結合性化合物−1分散物の調製)
水素結合性化合物−1(トリ(4−t−ブチルフェニル)ホスフィンオキシド)10Kgと変性ポリビニルアルコール(クラレ(株)製、ポバールMP203)の10質量%水溶液16Kgに、水10Kgを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル(UVM−2:アイメックス(株)製)にて4時間分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.2gと水を加えて水素結合性化合物の濃度が25質量%になるように調製した。この分散液を40℃で1時間加熱した後、引き続いてさらに80℃で1時間加温し、水素結合性化合物―1分散物を得た。こうして得た水素結合性化合物分散物に含まれる水素結合性化合物粒子はメジアン径0.45μm、最大粒子径1.3μm以下であった。得られた水素結合性化合物分散物は孔径3.0μmのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
【0588】
(現像促進剤の分散物の調製)
1)現像促進剤―1−68)の分散物
現像促進剤No.1−68を10Kgと変性ポリビニルアルコール(クラレ(株)製、ポバールMP203)の10質量%水溶液20Kgに、水10Kgを添加して、良く混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填した横型サンドミル(UVM−2:アイメックス(株)製)にて3時間30分分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.2gと水を加えて現像促進剤の濃度が20質量%になるように調製し、現像促進剤−1分散物を得た。こうして得た現像促進剤分散物に含まれる現像促進剤粒子はメジアン径0.48μm、最大粒子径1.4μm以下であった。得られた現像促進剤分散物は孔径3.0μmのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
【0589】
2)現像促進剤−6−41
現像促進剤−6−41の固体分散物についても現像促進剤−1−68と同様の方法により分散し、それぞれ20質量%の分散液を得た。
【0590】
(色調調整剤−1の固体分散物の調製)
色調調整剤−1の固体分散物についても現像促進剤−1−68と同様の方法により分散し、15質量%の分散液を得た。
【0591】
(有機ポリハロゲン化合物分散物調製)
1)有機ポリハロゲン化合物分散物−1の調製
有機ポリハロゲン化合物−1を10kgと変性ポリビニルアルコールMP203の20質量%水溶液10kgと、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウムの20質量%水溶液0.4kgと、水14kgを添加して、よく混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填した横型サンドミルUVM−2にて5時間分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.2gと水を加えて有機ポリハロゲン化合物の濃度が26質量%になるように調製し、有機ポリハロゲン化合物分散物(a)を得た。こうして得たポリハロゲン化合物分散物に含まれる有機ポリハロゲン化合物粒子はメジアン径0.41μm、最大粒子径2.0μm以下であった。得られた有機ポリハロゲン化合物分散物は孔径10.0μmのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
【0592】
2)有機ポリハロゲン化合物分散物−2の調製
有機ポリハロゲン化合物−2を10kgと変性ポリビニルアルコールMP203の10質量%水溶液20kgと、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウムの20質量%水溶液0.4kgと、水8kgを添加して、よく混合してスラリーとした。このスラリーをダイアフラムポンプで送液し、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを充填した横型サンドミルUVM−2にて5時間分散したのち、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩0.2gと水を加えて有機ポリハロゲン化合物の濃度が25質量%になるように調製した。この分散液を40℃で5時間加温し、有機ポリハロゲン化合物−2分散物を得た。こうして得たポリハロゲン化合物分散物に含まれる有機ポリハロゲン化合物粒子はメジアン径0.36μm、最大粒子径1.5μm以下であった。得られた有機ポリハロゲン化合物分散物は孔径3.0μmのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納した。
【0593】
(フタラジン化合物溶液の調製)
8kgの変性ポリビニルアルコールMP203を水174.57kgに溶解し、次いでトリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウムの20質量%水溶液3.15kgと6-イソプロピルフタラジンの70質量%水溶液14.28kgを添加し、フタラジン化合物−1の5質量%溶液を調製した。
【0594】
(メルカプト化合物の調製)
1)メルカプト化合物−1水溶液
メルカプト化合物―1(1−(3−スルホフェニル)−5−メルカプトテトラゾールナトリウム塩)7gを水993gに溶解し、0.7質量%の水溶液とした。
【0595】
2)メルカプト化合物−2水溶液
メルカプト化合物―2(1−(3−メチルウレイドフェニル)−5−メルカプトテトラゾール)20gを水980gに溶解し、2.0質量%の水溶液とした。
【0596】
(顔料−1分散物の調製)
C.I.Pigment Blue 60を64gと花王(株)製デモールNを6.4gに水250gを添加し良く混合してスラリーとした。平均直径0.5mmのジルコニアビーズ800gを用意してスラリーと一緒にベッセルに入れ、分散機(1/4Gサンドグラインダーミル:アイメックス(株)製)にて25時間分散し、水を加えて顔料の濃度が5質量%になるように調製して顔料−1分散物を得た。こうして得た顔料分散物に含まれる顔料粒子は平均粒径0.21μmであった。
【0597】
(SBRラテックス液の調製)
ガスモノマー反応装置(耐圧硝子工業(株)製TAS−2J型)の重合釜に、蒸留水287g、界面活性剤(パイオニンA−43−S(竹本油脂(株)製):固形分48.5%)7.73g、1mol/リットルNaOH14.06ml、エチレンジアミン4酢酸4ナトリウム塩0.15g、スチレン255g、アクリル酸11.25g、tert−ドデシルメルカプタン3.0gを入れ、反応容器を密閉し撹拌速度200rpmで撹拌した。真空ポンプで脱気し窒素ガス置換を数回繰返した後に、1,3−ブタジエン108.75gを圧入して内温60℃まで昇温した。ここに過硫酸アンモニウム1.875gを水50mlに溶解した液を添加し、そのまま5時間撹拌した。さらに90℃に昇温して3時間撹拌し、反応終了後内温が室温になるまで下げた後、1mol/リットルのNaOHとNH4OHを用いてNa+イオン:NH4 +イオン=1:5.3(モル比)になるように添加処理し、pH8.4に調整した。その後、孔径1.0μmのポリプロピレン製フィルターにてろ過を行い、ゴミ等の異物を除去して収納し、SBRラテックスを774.7g得た。イオンクロマトグラフィーによりハロゲンイオンを測定したところ、塩化物イオン濃度3ppmであった。高速液体クロマトグラフィーによりキレート剤の濃度を測定した結果、145ppmであった。
【0598】
上記ラテックスは平均粒径90nm、Tg=17℃、固形分濃度44質量%、25℃60%RHにおける平衡含水率0.6質量%、イオン伝導度4.80mS/cm(イオン伝導度の測定は東亜電波工業(株)製伝導度計CM-30S使用し、ラテックス原液(44質量%)を25℃にて測定)、pH8.4
【0599】
3−2.塗布液の調製
1)画像形成層の調製
(画像形成層塗布液1〜9の調製)
上記で得た有機銀塩分散物1000g、水276mlに、有機ポリハロゲン化合物分散物−1、有機ポリハロゲン化合物分散物−2、フタラジン溶液、SBRラテックス(Tg:17℃)液、還元剤−1分散物、還元剤−2分散物、水素結合性化合物―1分散物wp加え、表14に示すように、現像促進剤―1−68の分散物と現像促進剤―6−41分散物を加え、さらに色調調整剤―1分散物、メルカプト化合物―1水溶液、メルカプト化合物―2水溶液を順次添加した後、塗布直前に塗布液調製用ハロゲン化銀乳剤Aを添加し、よく混合して、そのままコーティングダイへ送液し、塗布した。
【0600】
(画像形成層塗布液10〜18の調製)
画像形成層塗布液1〜9の調製と同様にして、但し、ハロゲン化銀乳剤A1〜A3の代わりにハロゲン化銀乳剤B1〜B3を用いて、画像形成層塗布液10〜18を調製した。
【0601】
(画像形成層塗布液19〜27の調製)
画像形成層塗布液1〜9の調製と同様にして、但し、ハロゲン化銀乳剤A1〜A3の代わりにハロゲン化銀乳剤C1〜C3を用いて、画像形成層塗布液19〜27を調製した。
【0602】
2)中間層塗布液の調製
ポリビニルアルコールPVA-205(クラレ(株)製)1000g、顔料の5質量%分散物272g、メチルメタクリレート/スチレン/ブチルアクリレート/ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸共重合体(共重合重量比64/9/20/5/2)ラテックス19質量%液4200mlにエアロゾールOT(アメリカンサイアナミド社製)の5質量%水溶液を27ml、フタル酸二アンモニウム塩の20質量%水溶液を135ml、総量10000gになるように水を加え、pHが7.5になるようにNaOHで調整して中間層塗布液とし、9.1ml/m2になるようにコーティングダイへ送液した。
塗布液の粘度はB型粘度計40℃(No.1ローター、60rpm)で58[mPa・s]であった。
【0603】
3)表面保護層第1層塗布液の調製
イナートゼラチン64gを水に溶解し、メチルメタクリレート/スチレン/ブチルアクリレート/ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸共重合体(共重合重量比64/9/20/5/2)ラテックス19.0質量%液112g、フタル酸の15質量%メタノール溶液を30ml、4−メチルフタル酸の10質量%水溶液23ml、0.5mol/L濃度の硫酸を28ml、エアロゾールOT(アメリカンサイアナミド社製)の5質量%水溶液を5ml、フェノキシエタノール0.5g、ベンゾイソチアゾリノン0.1gを加え、総量750gになるように水を加えて塗布液とし、4質量%のクロムみょうばん26mlを塗布直前にスタチックミキサーで混合したものを18.6ml/m2になるようにコーティングダイへ送液した。
塗布液の粘度はB型粘度計40℃(No.1ローター、60rpm)で20[mPa・s]であった。
【0604】
4)表面保護層第2層塗布液の調製
イナートゼラチン80gを水に溶解し、メチルメタクリレート/スチレン/ブチルアクリレート/ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸共重合体(共重合質量比64/9/20/5/2)ラテックス27.5質量%液102g、フッ素系界面活性剤(F−1)の5質量%溶液を3.2ml、フッ素系界面活性剤(F−2)の2質量%水溶液を32ml、エアロゾールOTの5質量%溶液を23ml、ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径0.7μm)4g、ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径4.5μm)21g、4-メチルフタル酸1.6g、フタル酸4.8g、0.5mol/L濃度の硫酸44ml、ベンゾイソチアゾリノン10mgに総量650gとなるよう水を添加して、4質量%のクロムみょうばんと0.67質量%のフタル酸を含有する水溶液445mlを塗布直前にスタチックミキサーで混合したものを表面保護層第2層塗布液とし、8.3ml/m2になるようにコーティングダイへ送液した。
塗布液の粘度はB型粘度計40℃(No.1ローター,60rpm)で19[mPa・s]であった。
【0605】
3−3.塗布
バック面と反対の面に下塗り面から画像形成層、中間層、保護層第1層、保護層第2層の順番でスライドビード塗布方式にて同時重層塗布し、熱現像感光材料の試料1〜36を作成した。このとき、画像形成層と中間層は31℃に、保護層第一層は36℃に、保護層第二層は37℃に温度調整した。
各試料Noとそれに用いた有機銀塩の種類とハロゲン化銀は、表1に示した。
画像形成層の各化合物の塗布量(g/m2)は以下の通りである。
【0606】
有機銀塩(ベヘン酸銀の塗布量として) 5.27
顔料(C.I.Pigment Blue 60) 0.036
ポリハロゲン化合物−1 0.09
ポリハロゲン化合物−2 0.14
フタラジン化合物−1 0.18
SBRラテックス 9.43
還元剤−1 0.55
還元剤−2 0.22
水素結合性化合物−1 0.28
現像促進剤−1−68 (表14に示す)
現像促進剤−6−41 (表14に示す)
色調調整剤−1 0.008
メルカプト化合物−1 0.002
メルカプト化合物−2 0.006
ハロゲン化銀(Agとして) 0.046
【0607】
塗布乾燥条件は以下のとおりである。
塗布はスピード160m/minで行い、コーティングダイ先端と支持体との間隙を0.10〜0.30mmとし、減圧室の圧力を大気圧に対して196〜882Pa低く設定した。支持体は塗布前にイオン風にて除電した。
引き続くチリングゾーンにて、乾球温度10〜20℃の風にて塗布液を冷却した後、無接触型搬送して、つるまき式無接触型乾燥装置にて、乾球温度23〜45℃、湿球温度15〜21℃の乾燥風で乾燥させた。
乾燥後、25℃で湿度40〜60%RHで調湿した後、膜面を70〜90℃になるように加熱した。加熱後、膜面を25℃まで冷却した。
【0608】
作製された熱現像感光材料のマット度はベック平滑度で画像形成層面側が550秒、バック面が130秒であった。また、画像形成層面側の膜面のpHを測定したところ6.0であった。
【0609】
以下に本発明の実施例に用いた化合物の構造を示す。
【0610】
【化98】
【0611】
【化99】
【0612】
【化100】
【0613】
【化101】
【0614】
【化102】
【0615】
【表14】
【0616】
4.性能評価
1)準備
得られた試料は半切サイズに切断し、25℃50%RHの環境下で以下の包装材料に包装し、2週間常温下で保管した。
【0617】
(包装材料)
PET10μm/PE12μm/アルミ箔9μm/Ny15μm/カーボン3質量%を含むポリエチレン50μm、酸素透過率:0.02ml/atm・m2・25℃・day、水分透過率:0.10g/atm・m2・25℃・day。
【0618】
2)露光及び現像処理
富士メディカルドライレーザーイメージャーFM−DPLの光源として日亜化学工業(株9の半導体レーザーNLHV3000Eを実装し、レーザー光量を0および1mW/mm2〜1000mW/mm2の間で変化させて、上記の試料を露光した。レーザーの発振ピーク波長は405nmであった。熱現像は上記装置の4枚のパネルヒーターを112℃、118℃、120℃、120℃に設定し、現像時間は合計で14秒になるように線速度を調整した。
【0619】
3)評価
(感度)
試料1のかぶり+1.0の黒化濃度を与えるのに必要な露光量の逆数を100として相対値で示した。数値が大きいほど感度が高いことを表す。
(かぶり)
未露光部分の濃度で示した。
(生保存性)
前述の包装材料で密封した各試料を45℃7日間の強制保存条件下に保存した後に露光と熱現像処理を行い、冷凍保存した試料と比較で感度変化を調べた。
生保存性(感度変化)=冷凍保存した試料の感度 ― 45℃7日間の強制保存条件下に保存後の感度
【0620】
(プリントアウト耐性)
熱現像した各試料を25℃70%RHの室内で蛍光灯下200ルクスの下に20日間放置した。放置前に対するかぶりの増大値を測定した。
【0621】
得られた結果を表15に示した。本発明による熱現像感光材料は、感度が高く、低かぶりであり、かつ生保存性、プリントアウト耐性も強く、優れた性能を示した。特に、吸着基と還元基を有する化合物と現像促進剤を併用するとそれぞれの単独効果より極めて大きく優れて低かぶりで高感度化効果を発揮する予想外の結果であった。また、この効果は、沃化銀含有率が高いほど顕著であった。
【0622】
【表15】
【0623】
【発明の効果】
本発明によれば、高感度で生保存性、および画像保存性に優れた熱現像感光材料が提供される。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a photothermographic material. More particularly, the present invention relates to a photothermographic material having high sensitivity, low fog, and excellent image storability such as raw storability and printout.
[0002]
[Prior art]
In recent years, in the medical field and the printing plate making field, dry development of photographic development processing is strongly desired from the viewpoint of environmental protection and space saving. In these areas, digitization has progressed, and image information is captured and stored on a computer, stored, and processed if necessary, and output to photosensitive materials by laser image setter or laser imager where necessary by communication. However, systems for developing and creating images on the spot are rapidly spreading. As a photosensitive material, it is necessary to form a clear black image that can be recorded by laser exposure with high illuminance and has high resolution and sharpness. As such digital imaging recording materials, various hard copy systems using pigments and dyes such as inkjet printers and electrophotography are distributed as general image forming systems, but the diagnostic ability is determined like medical images. It is unsatisfactory in terms of image quality (sharpness, graininess, gradation, color tone) and recording speed (sensitivity), and has not yet reached a level that can replace the conventional silver salt film for wet development.
[0003]
On the other hand, thermal image forming systems using organic silver salts are known (see, for example, Patent Documents 1 and 2 and Non-Patent Document 1). Photothermographic materials generally contain a catalytically active amount of a photocatalyst (eg, silver halide), a reducing agent, a reducible silver salt (eg, an organic silver salt), and, if necessary, a toning agent that controls the color tone of silver. A photosensitive layer dispersed in the matrix.
[0004]
The photothermographic material is heated to a high temperature (for example, 80 ° C. or higher) after image exposure, and is blackened by an oxidation-reduction reaction between silver halide or a reducible silver salt (functioning as an oxidizing agent) and a reducing agent. Form a silver image. The oxidation-reduction reaction is promoted by the catalytic action of the latent image of silver halide generated by exposure. Therefore, a black silver image is formed in the exposure region (see, for example, Patent Documents 3 and 4). Fuji Medical Dry Imager FM-DPL was released as a medical image forming system using a photothermographic material.
[0005]
For a photothermographic material using an organic silver salt, higher sensitivity is required to increase the image recording speed, and lower fog is required to improve medical diagnostic ability. Furthermore, it is extremely important to further improve the raw storability and image storability of such a photothermographic material in order to replace the conventional silver salt image recording material for wet development.
[0006]
In such an image forming system using an organic silver salt, since there is no fixing step, image storage stability after development processing, in particular, deterioration of printout when exposed to light has been a serious problem. As a means for improving this printout, a method using silver iodide formed by converting an organic silver salt is disclosed (for example, see Patent Document 5.6). However, the method of converting an organic silver salt as disclosed herein with iodine cannot obtain sufficient sensitivity, and it is difficult to construct an actual system. Other photosensitive materials using silver iodide are described in several patent documents (see, for example, Patent Documents 7 to 11), but none of them achieves sufficient sensitivity and fog level, and laser exposure. It did not endure practical use as a sensitive material.
[0007]
As means for increasing the sensitivity of the silver iodide photographic emulsion, in the technical literature, by immersion in a halogen acceptor such as sodium nitrite, pyrogallol, hydroquinone or an aqueous silver nitrate solution, or by sulfur sensitization with pAg 7.5, It has been known to sensitize (see, for example, Non-Patent Documents 2 to 4). However, as shown in the Examples, the sensitizing effect of these halogen acceptors was very small and extremely insufficient in the photothermographic material targeted by the present invention. Therefore, development of a technique capable of greatly increasing the sensitivity in a photothermographic material using high silver iodide has been eagerly desired.
[0008]
In a silver halide light-sensitive material subjected to liquid development processing, a method of sensitizing using a compound that generates two electrons with one photon is known (for example, see Patent Documents 12 to 15).
[0009]
However, a silver halide light-sensitive material for liquid development processing is a development in which silver halide is generally reduced by a developer (reducing agent) contained in the liquid processing solution to form a silver image or by-product. A color image is formed using an oxidized form of a medicine, and the basic reaction is reduction of silver halide with a developer. On the other hand, in the photothermographic material, the silver halide only forms a latent image by exposure, and the silver halide itself is not reduced by the reducing agent, but is reduced from the non-photosensitive organic silver salt. It is the silver ion supplied. In the case of liquid development processing, the reducing agent is also an ionic reducing agent such as hydroquinone or p-phenylenediamine, whereas in the case of a photothermographic material, a hindered material generally known as a radical reagent is used. It is a phenol derivative.
[0010]
As described above, the mechanism of the development reaction (reduction reaction) is completely different between the liquid development-processed photosensitive material and the heat-developable photosensitive material, and the compounds used are completely different. Therefore, it cannot be said that a compound effective in the liquid development processing is effective as it is in the photothermographic material as it is. It is completely unpredictable whether the compounds described in the above-mentioned U.S. Patents can be applied to a photothermographic material to obtain the same effect or a completely different effect. Furthermore, it was impossible to recall the photothermographic material using a high silver iodide emulsion, and the effect could not be estimated.
[0011]
[Patent Document 1]
U.S. Pat. No. 3,152,904
[Patent Document 2]
U.S. Pat. No. 3,457,075
[Patent Document 3]
US Patent 2,910,377
[Patent Document 4]
Japanese Patent Publication No.43-4924
[Patent Document 5]
U US Pat. No. 6,143,488
[Patent Document 6]
European Patent No. 0922995
[Patent Document 7]
WO97-48014
[Patent Document 8]
WO97-48015
[Patent Document 9]
US Pat. No. 6,165,705
[Patent Document 10]
JP-A-8-197345
[Patent Document 11]
Japanese Patent No. 2785129
[Patent Document 12]
US Pat. No. 5,747,235
[Patent Document 13]
US Pat. No. 5,747,236
[Patent Document 14]
US Pat. No. 6,054,260
[Patent Document 15]
US Pat. No. 5,994,051
[Non-Patent Document 1]
D. H. Klosterboer, “Thermally Processed Silver Systems” (Imaging Processes and Materials Neblette 8th Edition, Sturge, V. (Walworth, A. Shepp, edited, Chapter 9, 279, 1989)
[Non-Patent Document 2]
P.B. Gilman, Photographic Science and Engineering, 18 (5), 475 (issued in 1974)
[Non-Patent Document 3]
W.L. Gardner, Photographic Science and Engineering, 18 (5), 475 (issued in 1974)
[Non-Patent Document 4]
T.H. James, Photographic Science and Engineering, Volume 5, 216 (issued in 1961)
[0012]
[Problems to be solved by the invention]
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a photothermographic material having high sensitivity, low fog, excellent raw storage and image printout resistance.
[0013]
[Means for Solving the Problems]
The object of the present invention has been achieved by the following photothermographic materials.
<1> A photothermographic material having an image forming layer containing a photosensitive silver halide, a non-photosensitive organic silver salt, a reducing agent, and a binder on the same surface of a support,Represented by the following general formula (I)At least one development accelerator selected from a compound having an adsorbing group and a reducing group for photosensitive silver halide or a precursor thereof, and compounds represented by the following general formulas (1), (2) and (3) A photothermographic material comprising:
[Chemical 1]
(In general formula (1), Q1Is a NHNH-R at a carbon atom1Represents a 5- to 7-membered unsaturated ring bonded to R,1Represents a carbamoyl group. In the general formulas (2) and (3), X2And XThreeEach independently represents a hydrogen atom or a substituent;twenty oneAnd R31~ R32Each independently represents a hydrogen atom or a substituent. However, the compound of the general formula (2) has a carbamoyl group at the 2-position with respect to the OH group. m and p each independently represent an integer of 0 to 4, and n represents an integer of 0 to 2. );
Formula (I)
A- (W) n-B
(In the formula, A represents an atomic group containing a group capable of adsorbing to silver halide, W represents a divalent linking group, n represents 0 or 1, and B represents a reducing group derived from phenidones. To express.).
[0015]
<2> The adsorbing group to the silver halide is a dimercapto-substituted heterocyclic group <1The photothermographic material according to the item>.
<3> In the general formula (1), R1Is -CO-NH-R1 'A substituted carbamoyl group represented by1 'Is an alkyl or aryl group having 1 to 10 carbon atoms <1The photothermographic material according to the item>.
[0017]
<4> The reducing agent is represented by the following general formula (7): <1> to <13> The photothermographic material according to any one of the above.
[0018]
[Formula 4]
[0019]
(In the general formula (7), R71And R71'Each independently represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. R72And R72'Represents a hydrogen atom or a group capable of substituting for a benzene ring. X71And X72'Represents a hydrogen atom or a group capable of substituting for a benzene ring. L is a -S- group or -CHR.73-Represents the group R73Represents a hydrogen atom or an alkyl group. )
<5> The silver iodide content of the photosensitive silver halide is 5 mol% or more and 100 mol% or less <1> to <1>4> The photothermographic material according to any one of the above.
<6> The silver iodide content of the photosensitive silver halide is 40 mol% or more and 100 mol% or less <1> to <1>5> The photothermographic material according to any one of the above.
<7<1> to <1, characterized by being exposed by a laser light source6> The photothermographic material according to any one of the above.
<8> The laser light source is a laser light source having a wavelength of 350 nm to 450 nm <7The photothermographic material according to the item>.
<9> The laser light source is a blue semiconductor laser<7>Or <8The photothermographic material according to the item>.
[0020]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
The present invention is described in detail below.
[0021]
(Photothermographic material)
The photothermographic material of the present invention has an image forming layer containing a photosensitive silver halide, a non-photosensitive organic silver salt, a reducing agent, and a binder on at least one surface of a support. The image forming layer may be a single layer or a plurality of layers. Further, an intermediate layer or a surface protective layer may be provided on the image forming layer, or a back layer or a back protective layer may be provided on the opposite surface.
[0022]
The configuration of each layer and preferred components thereof will be described in detail.
[0023]
(Compound having an adsorbing group and a reducing group)
The present inventionPhotothermographic materialContains a compound having an adsorbing group and a reducing group for silver halide in the molecule (also referred to as an adsorbing redox compound in this application).Do.
The adsorptive redox compound used in the present invention is a compound represented by the following general formula (I).The
[0024]
Formula (I)
A- (W) n-B
In the formula, A represents a group capable of adsorbing to silver halide (hereinafter referred to as an adsorbing group), W represents a divalent linking group, n represents 0 or 1, and B representsDerived from phenidonesRepresents a reducing group.
[0025]
Next, Formula (I) will be described in detail.
In the formula (I), the adsorptive group represented by A is a group that directly adsorbs to silver halide or a group that promotes adsorption to silver halide. Specifically, a mercapto group (or a salt thereof) , A thione group (—C (═S) —), a heterocyclic group, a sulfide group, a disulfide group, a cationic group, or an ethynyl group containing at least one atom selected from a nitrogen atom, a sulfur atom, a selenium atom, and a tellurium atom Etc.
[0026]
The mercapto group (or salt thereof) as the adsorptive group means the mercapto group (or salt thereof) itself, and more preferably, a heterocyclic group or aryl group substituted with at least one mercapto group (or salt thereof) or Represents an alkyl group. Here, the heterocyclic group is at least a 5- to 7-membered monocyclic or condensed aromatic or non-aromatic heterocyclic group such as an imidazole ring group, a thiazole ring group, an oxazole ring group, or a benzimidazole ring. Group, benzothiazole ring group, benzoxazole ring group, triazole ring group, thiadiazole ring group, oxadiazole ring group, tetrazole ring group, purine ring group, pyridine ring group, quinoline ring group, isoquinoline ring group, pyrimidine ring group, And triazine ring group. Further, it may be a heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom. In this case, the substituted mercapto group may be dissociated into a meso ion. Examples of such a heterocyclic group include an imidazolium ring group, Examples include a pyrazolium ring group, a thiazolium ring group, a triazolium ring group, a tetrazolium ring group, a thiadiazolium ring group, a pyridinium ring group, a pyrimidinium ring group, and a triazinium ring group. Among them, a triazolium ring group (for example, 1,2,4- Triazolium-3-thiolate ring group) is preferable. Examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group. Examples of the alkyl group include linear, branched or cyclic alkyl groups having 1 to 30 carbon atoms. When the mercapto group forms a salt, the counter ion is a cation such as an alkali metal, alkaline earth metal, or heavy metal (Li+, Na+, K+, Mg2+, Ag+, Zn2+Etc.), ammonium ions, quaternized heterocyclic groups containing nitrogen atoms, phosphonium ions and the like.
[0027]
Further, the mercapto group as the adsorptive group may be tautomerized into a thione group, specifically, a thioamide group (here, —C (═S) —NH— group), and the thioamide group. Examples thereof include a group containing a partial structure, that is, a chain or cyclic thioamide group, thioureido group, thiourethane group, or dithiocarbamate group. Examples of cyclic groups include thiazolidine-2-thione group, oxazolidine-2-thione group, 2-thiohydantoin group, rhodanine group, isorhodanine group, thiobarbituric acid group, 2-thioxo-oxazolidine-4-one group Is mentioned.
[0028]
The thione group as the adsorptive group means that the mercapto group cannot be tautomerized (having no hydrogen atom at the α-position of the thione group), including the case where the above-mentioned mercapto group is tautomerized into a thione group. Also included are cyclic or cyclic thioamide groups, thioureido groups, thiourethane groups, or dithiocarbamate groups.
[0029]
A heterocyclic group containing at least one atom selected from a nitrogen atom, a sulfur atom, a selenium atom and a tellurium atom as an adsorptive group is a -NH- group capable of forming imino silver (> NAg) as a partial structure of the heterocyclic ring. A nitrogen-containing heterocyclic group, or a “—S—” group, a “—Se—” group, a “—Te—” group, or a “═N—” group that can coordinate to a silver ion by a coordination bond A heterocyclic group having a partial structure of benzotriazole group, triazole group, indazole group, pyrazole group, tetrazole group, benzimidazole group, imidazole group, purine group, etc. , Thiazole group, oxazole group, benzothiophene group, benzothiazole group, benzoxazole group, thiadiazole group, oxadiazole , Triazine group, seleno azole group, benzoselenazole group, tellurium azole group, such as benzo tellurium azole group. The former is preferred.
[0030]
The sulfide group or disulfide group as the adsorptive group includes all groups having a partial structure of “—S—” or “—S—S—”, and preferably alkyl (or alkylene) -X-alkyl (or alkylene). ), Aryl (or arylene) -X-alkyl (or alkylene), aryl (or arylene) -X-aryl (or arylene) having a partial structure, wherein X is an —S— group or —SS— -Represents a group. Further, these sulfide groups or disulfide groups may form a cyclic structure. Specific examples of the cyclic structure include a thiolane ring, 1,3-dithiolane ring, 1,2-dithiolane ring, thiane ring. , A group containing a dithiane ring, a thiomorpholine ring, and the like. A group having a partial structure of alkyl (or alkylene) -S-alkyl (or alkylene) is particularly preferred as the sulfide group, and a 1,2-dithiolane ring group is particularly preferred as the disulfide group.
[0031]
The cationic group as the adsorptive group means a group containing a quaternized nitrogen atom, specifically, an ammonio group or a group containing a nitrogen-containing heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom. Here, the ammonio group is a trialkylammonio group, a dialkylarylammonio group, an alkyldiarylammonio group or the like, and examples thereof include a benzyldimethylammonio group, a trihexylammonio group, and a phenyldiethylammonio group. Examples of the nitrogen-containing heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom include a pyridinio group, a quinolinio group, an isoquinolinio group, an imidazolio group, and the like. A pyridinio group and an imidazolio group are preferable, and a pyridinio group is particularly preferable. These nitrogen-containing heterocyclic groups containing a quaternized nitrogen atom may have an arbitrary substituent, but in the case of a pyridinio group and an imidazolio group, the substituent is preferably an alkyl group, an aryl group, an acylamino group , A chloro atom, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group and the like. In the case of a pyridinio group, a phenyl group is particularly preferred as a substituent.
An ethynyl group as an adsorptive group means a —C≡CH group, and the hydrogen atom may be substituted.
[0032]
The adsorbing group may have an arbitrary substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (a fluorine atom, a chloro atom, a bromine atom, or an iodine atom), an alkyl group (a linear, branched, or cyclic alkyl group, including a bicycloalkyl group or an active methine group), an alkenyl group. , Alkynyl group, aryl group, heterocyclic group (regardless of the position of substitution), acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, heterocyclic oxycarbonyl group, carbamoyl group, N-hydroxycarbamoyl group, N-acylcarbamoyl Group, N-sulfonylcarbamoyl group, N-carbamoylcarbamoyl group, thiocarbamoyl group, N-sulfamoylcarbamoyl group, carbazoyl group, carboxy group or a salt thereof, oxalyl group, oxamoyl group, cyano group, carbonimidoyl group (Carbonimidoyl group) Group), formyl group, hydro Xyl group, alkoxy group (including groups containing repeating ethyleneoxy or propyleneoxy group units), aryloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, (alkoxy or aryloxy) carbonyloxy group, carbamoyloxy group, sulfonyloxy Group, amino group, (alkyl, aryl, or heterocyclic) amino group, acylamino group, sulfonamide group, ureido group, thioureido group, N-hydroxyureido group, imide group, (alkoxy or aryloxy) carbonylamino group, sulfo group Famoylamino group, semicarbazide group, thiosemicarbazide group, hydrazino group, ammonio group, oxamoylamino group, N- (alkyl or aryl) sulfonylureido group, N-acylureido group, N-acylsulfamo A ruamino group, a hydroxyamino group, a nitro group, a heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom (eg, pyridinio group, imidazolio group, quinolinio group, isoquinolinio group), isocyano group, imino group, mercapto group, (alkyl, aryl) , Or heterocyclic) thio group, (alkyl, aryl, or heterocyclic) dithio group, (alkyl or aryl) sulfonyl group, (alkyl or aryl) sulfinyl group, sulfo group or a salt thereof, sulfamoyl group, N-acylsulfa Examples include a moyl group, an N-sulfonylsulfamoyl group or a salt thereof, a phosphino group, a phosphinyl group, a phosphinyloxy group, a phosphinylamino group, and a silyl group. Here, the active methine group means a methine group substituted with two electron-withdrawing groups, and the electron-withdrawing group here means an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, An alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfamoyl group, a trifluoromethyl group, a cyano group, a nitro group, and a carbonimidoyl group (Carbonimidoyl group) are meant. Here, the two electron-attracting groups may be bonded to each other to form a cyclic structure. The salt means a cation such as alkali metal, alkaline earth metal or heavy metal, or an organic cation such as ammonium ion or phosphonium ion.
[0033]
Furthermore, specific examples of the adsorbing group include those described in the specifications p4 to p7 of JP-A No. 11-95355.
[0034]
In the formula (I), more preferable as the adsorptive group represented by A is a mercapto-substituted heterocyclic group (for example, 2-mercaptothiadiazole group, 3-mercapto-1,2,4-triazole group, 5-mercaptotetrazole group). 2-mercapto-1,3,4-oxadiazole group, 2-mercaptobenzthiazole group, 2-mercaptobenzimidazole group, 1,5-dimethyl-1,2,4-triazolium-3-thiolate group, etc.) Dimercapto-substituted heterocyclic groups (for example, 2,4-dimercaptopyrimidine group, 2,4-dimercaptotriazine group, 3,5-dimercapto-1,2,4-triazole group, 2,5-dimercapto-1,3 -Thiazole group, etc.) or a nitrogen-containing compound having an -NH- group capable of forming imino silver (> NAg) as a partial structure of a heterocyclic ring A Hajime Tamaki (e.g., a benzotriazole group, benzimidazole group, indazole group), particularly preferred are dimercapto-substituted heterocyclic group.
[0035]
In formula (I), W represents a divalent linking group. Any linking group may be used as long as it does not adversely affect photographic properties. For example, a divalent linking group composed of a carbon atom, a hydrogen atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, or a sulfur atom can be used. Specifically, an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms (for example, a methylene group, an ethylene group, a trimethylene group, a tetramethylene group, a hexamethylene group, etc.), an alkenylene group having 2 to 20 carbon atoms, and an alkynylene group having 2 to 20 carbon atoms. An arylene group having 6 to 20 carbon atoms (for example, a phenylene group, a naphthylene group, etc.), -CO-, -SO2-, -O-, -S-, -NR1-, The combination of these coupling groups, etc. are mention | raise | lifted. Where R1Represents a hydrogen atom, an aliphatic group, or an aryl group. R1Is preferably a linear, branched or cyclic alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aralkyl group (e.g., methyl group) having 1 to 30 carbon atoms and having 1 to 20 carbon atoms. Group, ethyl group, isopropyl group, t-butyl group, n-octyl group, n-decyl group, n-hexadecyl group, cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, allyl group, 2-butenyl group, 3-pentenyl group Group, propargyl group, 3-pentynyl group, benzyl group, etc.), R1Is preferably a monocyclic or condensed aryl group having 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and examples thereof include a phenyl group and a naphthyl group. The linking group represented by W may have an arbitrary substituent, and this arbitrary substituent is synonymous with that described as the substituent of the aforementioned adsorptive group.
[0036]
In formula (I), the reducing group represented by B represents a group capable of reducing silver ions. For example, a triple bond group such as formyl group, amino group, acetylene group or propargyl group, mercapto group, hydroxylamines. , Hydroxamic acids, hydroxyureas, hydroxyurethanes, hydroxysemicarbazides, reductones (including reductone derivatives), anilines, phenols (chroman-6-ols, 2,3-dihydrobenzofuran-5-ols, Derived from compounds selected from aminophenols, sulfonamidophenols, and hydroquinones, catechols, resorcinols, polyphenols such as benzenetriols, bisphenols), hydrazines, hydrazides, and phenidones Examples include residues.
[0037]
In formula (I), a preferred reducing group represented by B is represented by the following formula B1Or B13It is a residue derived from the compound represented by these.
[0038]
[Chemical formula 5]
[0039]
Formula (B1) To (B13), Rb1, Rb2, Rb3, Rb4, Rb5, Rb70, Rb71, Rb110, Rb111, Rb112, Rb113, Rb12, Rb13, RN1, RN2, RN3, RN4, RN5Represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, and RH3, RH5, R 'H5, RH12, R 'H12, RH13Represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an acyl group, an alkylsulfonyl group or an arylsulfonyl group, of which RH3May further be a hydroxy group. Rb100, Rb101, Rb102, Rb130~ Rb133Represents a hydrogen atom or a substituent. Y7, Y8Represents a substituent other than a hydroxy group, Y9Represents a substituent, mFiveIs 0 or 1, m7Is an integer from 0 to 5, m8Is an integer from 1 to 5, m9Represents an integer of 0-4. Y7, Y8, Y9May further be an aryl group condensed with a benzene ring (for example, a benzene condensed ring), which may further have a substituent. ZTenRepresents a nonmetallic atomic group capable of forming a ring, and X12Represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an amino group (including an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic amino group, or a cyclic amino group), or a carbamoyl group.
[0040]
Formula (B6) X6, X '6Are hydroxy group, alkoxy group, mercapto group, alkylthio group, amino group (including alkylamino group, arylamino group, heterocyclic amino group, or cyclic amino group), acylamino group, sulfonamido group, alkoxycarbonylamino group, respectively. Represents a ureido group, an acyloxy group, an acylthio group, an alkylaminocarbonyloxy group, or an arylaminocarbonyloxy group. Rb60, Rb61Represents an alkyl group, an aryl group, an amino group, an alkoxy group, an aryloxy group, and Rb60And Rb61May be bonded to each other to form a cyclic structure.
[0041]
The above formula (B1) To (B13In the description of each group, the alkyl group means a linear, branched or cyclic, substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, and the aryl group means a phenyl group or a naphthyl group. Represents a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon ring which is monocyclic or condensed, and the heterocyclic group is an aromatic or non-aromatic monocyclic or condensed ring containing at least one heteroatom. Means a substituted or unsubstituted heterocyclic group.
Also, the formula (B1) To (B13And the substituents mentioned in the explanation of each group are the same as the substituents of the aforementioned adsorbing group. These substituents may be further substituted with these substituents.
[0042]
Formula (B1) To (BFive) RN1, RN2, RN3, RN4, RN5Is preferably a hydrogen atom or an alkyl group, wherein the alkyl group is preferably a linear, branched or cyclic, substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 6 carbon atoms. A linear or branched, substituted or unsubstituted alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a benzyl group.
[0043]
Formula (B1) Rb1Is preferably an alkyl group or a heterocyclic group, wherein the alkyl group is a linear, branched or cyclic, substituted or unsubstituted alkyl group, preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 1 carbon atoms. 18 alkyl groups. The heterocyclic group is a 5-membered or 6-membered monocyclic or condensed ring aromatic or non-aromatic heterocyclic group which may have a substituent. The heterocyclic group is preferably an aromatic heterocyclic group such as a pyridine ring group, a pyrimidine ring group, a triazine ring group, a thiazole ring group, a benzothiazole ring group, an oxazole ring group, a benzoxazole ring group, an imidazole ring group, or a benzimidazole. Examples thereof include a ring group, a pyrazole ring group, an indazole ring group, an indole ring group, a purine ring group, a quinoline ring group, an isoquinoline ring group, and a quinazoline ring group, and a triazine ring group and a benzothiazole ring group are particularly preferable. Rb1An alkyl group or a heterocyclic group represented by the formula --N (RN1The case where one or more OH groups are further present is also a preferred example of the compound represented by the formula (B1).
[0044]
Formula (B2) Rb2Is preferably an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, more preferably an alkyl group or an aryl group. Preferred range of alkyl group is Rb1This is the same as the description in FIG. The aryl group is preferably a phenyl group or a naphthyl group, and the phenyl group is particularly preferable and may have a substituent. Rb2The group represented by the formula: —CON (RN2The case where there is one or more OH groups is also represented by the formula (B2Is a preferred example of a compound represented by
[0045]
Formula (BThree) Rb3Is preferably an alkyl group or an aryl group, these preferred ranges being Rb1And Rb2This is the same as the description in FIG. RH3Is preferably a hydrogen atom, an alkyl group or a hydroxy group, more preferably a hydrogen atom. Rb3The group represented by the formula is -N (RH3) CON (RN3The case where one or more OH groups are further present is also a preferred example of the compound represented by the formula (B3). Also Rb3And RN3May combine with each other to form a ring structure (preferably a 5- or 6-membered saturated heterocycle).
[0046]
Formula (BFour) Rb4Is preferably an alkyl group, the preferred range of which is Rb1This is the same as the description in FIG. Rb4Is represented by —OCON (RN4The case where there is one or more OH groups is also represented by the formula (BFourIs a preferred example of a compound represented by
Formula (BFive) Rb5Is preferably an alkyl group or an aryl group, more preferably an aryl group, these preferred ranges being Rb1And Rb2This is the same as the description in FIG. RH5, R 'H5Is preferably a hydrogen atom or an alkyl group, more preferably a hydrogen atom.
[0047]
Formula (B6) Rb60, Rb61Are preferably bonded to each other to form a ring structure. The cyclic structure formed here is a 5-membered to 7-membered non-aromatic carbocyclic or heterocyclic ring, which may be a monocyclic ring or a condensed ring. Specific examples of preferred ring structures include, for example, 2-cyclopenten-1-one ring, 2,5-dihydrofuran-2-one ring, 3-pyrrolin-2-one ring, 4-pyrazolin-3-one Ring, 2-cyclohexen-1-one ring, 5,6-dihydro-2H-pyran-2-one ring, 5,6-dihydro-2-pyridone ring, 1,2-dihydronaphthalen-2-one ring, coumarin Ring (benzo-α-pyran-2-one ring), 2-quinolone ring, 1,4-dihydronaphthalen-1-one ring, chromone ring (benzo-γ-pyran-4-one ring), 4-quinolone ring , Indene-1-one ring, 3-pyrroline-2,4-dione ring, uracil ring, thiouracil ring, dithiouracil ring and the like, more preferably 2-cyclopenten-1-one ring, 2,5-dihydro Flan-2-one , 3-pyrrolin-2-one ring, 4-pyrazolin-3-one ring, 1,2-dihydronaphthalen-2-one ring, coumarin ring (benzo-α-pyran-2-one ring), 2-quinolone ring 1,4-dihydronaphthalen-1-one ring, chromone ring (benzo-γ-pyran-4-one ring), 4-quinolone ring, inden-1-one ring, dithiouracil ring, etc., more preferably They are 2-cyclopenten-1-one ring, 2,5-dihydrofuran-2-one ring, 3-pyrrolin-2-one ring, inden-1-one ring and 4-pyrazolin-3-one ring.
[0048]
X6, X '6Represents a cyclic amino group, the cyclic amino group is a non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group bonded with a nitrogen atom, such as a pyrrolidino group, piperidino group, piperazino group, morpholino group, 1,4-thiazine- 4-yl group, 2,3,5,6-tetrahydro-1,4-thiazin-4-yl group, indolyl group and the like.
X6, X '6Preferred are a hydroxy group, a mercapto group, an amino group (including an alkylamino group, an arylamino group, or a cyclic amino group), an acylamino group, a sulfonamide group, an acyloxy group, and an acylthio group, and more preferably a hydroxy group Group, mercapto group, amino group, alkylamino group, cyclic amino group, sulfonamide group, acylamino group or acyloxy group, particularly preferably a hydroxy group, amino group, alkylamino group or cyclic amino group. X6And X '6At least one of them is preferably a hydroxy group.
[0049]
Formula (B7) Rb70, Rb71Is preferably a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, more preferably an alkyl group. Preferred range of alkyl group is Rb1This is the same as the description in FIG. Rb70, Rb71May be bonded to each other to form a cyclic structure (eg, pyrrolidine ring, piperidine ring, morpholino ring, thiomorpholino ring, etc.). Y7Is preferably an alkyl group (its preferred range is Rb1, Alkoxy group, amino group, acylamino group, sulfonamido group, ureido group, acyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, sulfamoyl group, chloro atom, sulfo group or salt thereof, carboxy group or salt thereof, etc. And m7Preferably represents 0-2.
[0050]
Formula (B8) M is preferably 1 to 4, and a plurality of Y8May be the same or different. m8Y when is 18Or m8Multiple Y when is 2 or more8At least one of them is preferably an amino group (including an alkylamino group and an arylamino group), a sulfonamide group, or an acylamino group. m8When Y is 2 or more, Y remains8Is preferably a sulfonamido group, an acylamino group, a ureido group, an alkyl group, an alkylthio group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, a sulfo group or a salt thereof, a carboxy group or a salt thereof, or a chloro atom. Y here8In the case where o ′-(or p ′-) hydroxyphenylmethyl group (which may further have a substituent) is substituted at the ortho-position or para-position of the hydroxy group as a substituent represented by Represents a group of compounds generally called bisphenols, and this case is also one of the preferred examples of the compound represented by the formula (B8). Y8It is also very preferable that represents a benzene condensed ring and as a result, the formula (B8) represents a naphthol.
[0051]
Formula (B9), The substitution positions of the two hydroxy groups may be ortho positions (catechols), meta positions (resorcinols) or para positions (hydroquinones). m9Is preferably 1-2, and a plurality of Y9May be the same or different. Y9Preferably, the substituent represented by chloro atom, acylamino group, ureido group, sulfonamido group, alkyl group, alkylthio group, alkoxy group, acyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, sulfo group or salt thereof, carboxy group Or the salt, a hydroxy group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group etc. are mentioned. Y9Represents a benzene condensed ring, and as a result, the formula (B9It is also preferred if) represents 1,4-naphthohydroquinones. Formula (B9) Represents catechols, Y9Is particularly preferably a sulfo group or a salt thereof, or a hydroxy group.
[0052]
Formula (BTen) Rb100, Rb101, Rb102When represents a substituent, preferred examples of the substituent are Y9This is the same as the preferred example. Of these, an alkyl group (particularly a methyl group) is preferred. ZTenThe ring structure formed by is preferably a chroman ring or a 2,3-dihydrobenzofuran ring, and these ring structures may have a substituent or may form a spiro ring.
Formula (B11) Rb110, Rb111, Rb112, Rb113As an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, these preferred ranges are Rb1And Rb2This is the same as the description in FIG. Of these, an alkyl group is preferred, and Rb110~ Rb113Two of these alkyl groups may be bonded to form a cyclic structure. Here, the cyclic structure is a 5-membered or 6-membered non-aromatic heterocycle, and examples thereof include a pyrrolidine ring, a piperidine ring, a morpholino ring, a thiomorpholino ring, and a hexahydropyridazine ring.
[0053]
Formula (B12) Rb12As an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, these preferred ranges are Rb1And Rb2This is the same as the description in FIG. X12Is preferably an alkyl group, an aryl group (particularly a phenyl group), a heterocyclic group, an alkoxy group, an amino group (including an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic amino group, or a cyclic amino group), or a carbamoyl group. An alkyl group (especially an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is preferred), an aryl group (especially a phenyl group is preferred), and an amino group (including an alkylamino group, an arylamino group, or a cyclic amino group) are more preferred. RH12, R 'H12Is preferably a hydrogen atom or an alkyl group, more preferably a hydrogen atom.
[0054]
Formula (B13) Rb13Is preferably an alkyl group or an aryl group, and preferred ranges thereof are Rb1And Rb2This is the same as the description in FIG. Rb130, Rb131, Rb132, Rb133Is preferably a hydrogen atom, an alkyl group (particularly preferably having 1 to 8 carbon atoms), or an aryl group (particularly preferably a phenyl group). RH13Is preferably a hydrogen atom or an acyl group, more preferably a hydrogen atom.
[0055]
In the formula (I), a reducing group represented by BIsPhenidonesMore derived groupsIt is.
[0056]
In the formula (I), the reducing group represented by B shows its oxidation potential by Akira Fujishima “Electrochemical Measurement” (pages 150-208, published by Gihodo) and the “Chemical Laboratory of Chemistry” 4th edition (edited by the Chemical Society of Japan). Vol. 9, pp. 282-344, Maruzen). For example, by a rotating disk voltammetry technique, specifically, a sample is dissolved in a solution of methanol: pH 6.5 Briton-Robinson buffer = 10%: 90% (volume%), and nitrogen gas is used for 10 minutes. , A glassy rotating disk electrode (RDE) is used as a working electrode, a platinum wire is used as a counter electrode, a saturated calomel electrode is used as a reference electrode, 25 ° C., 1000 rev / min, 20 mV / sec. Can be measured at sweep speed. A half-wave potential (E1 / 2) can be obtained from the obtained voltammogram.
The reducing group represented by B of the present invention preferably has an oxidation potential in the range of about -0.3 V to about 1.0 V when measured by the above-described measurement method. More preferably, it is in the range of about -0.1V to about 0.8V, and particularly preferably in the range of about 0 to about 0.7V.
[0057]
Many of the reducing groups represented by B of the present invention are known compounds in the photographic industry, and examples thereof are also described in the following patents. For example, JP 2001-42466, JP 8-114884, JP 8-314051, JP 8-333325, JP 9-133983, JP 11-282117, JP 10-246931, JP-A-10-90819, JP-A-9-54384, JP-A-10-171060, JP-A-7-77783. Examples of the phenols also include compounds described in US Pat. No. 6,054,260.
[0058]
The compound of the formula (I) of the present invention may be one in which a ballast group or a polymer chain commonly used in an immobile photographic additive such as a coupler is incorporated. Examples of the polymer include those described in JP-A-1-100530.
[0059]
The compound of the formula (I) of the present invention may be a bis form or a tris form. The molecular weight of the compounds of the formula (I) according to the invention is preferably between 100 and 10000, more preferably between 120 and 1000, particularly preferably between 150 and 500.
[0060]
Examples of the compound of formula (I) of the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto. Moreover, the compound illustrated by Unexamined-Japanese-Patent No. 2000-330247 and Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-42446 is also a preferable example.
[0061]
[Chemical 6]
[0062]
[Chemical 7]
[0063]
[Chemical 8]
[0064]
[Chemical 9]
[0065]
[Chemical Formula 10]
[0066]
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[0067]
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[0068]
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[0069]
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[0070]
The compounds of the present invention can be easily synthesized according to known methods.
As the compound of the formula (I) of the present invention, one kind of compound may be used alone, but it is also preferred to use two or more kinds of compounds at the same time. When two or more kinds of compounds are used, they may be added in the same layer or in different layers, and the addition method may be different.
[0071]
The compound of the formula (I) of the present invention is preferably added to the same layer as the silver halide emulsion, and can be added when preparing the silver halide emulsion or preparing the coating solution. It is more preferable to add at the time of preparing the silver halide emulsion. When added at the time of preparing the silver halide emulsion, it can be added at any time during the process. For example, the silver halide grain formation process, before the start of the desalting process, the desalting process, Examples include a step before chemical ripening, a step of chemical ripening, and a step before preparing a finished emulsion. Moreover, it can also add in several steps in these processes. Although it is preferably used for a silver halide emulsion layer, it may be added to the adjacent protective layer or intermediate layer together with the silver halide emulsion layer and diffused during coating.
The preferred addition amount largely depends on the above-mentioned addition method and the kind of compound to be added, but in general, 1 × 10 6 per mole of photosensitive silver halide.-6~ 1 mole, preferably 1 x 10-Five~ 5 × 10-1Mole more preferably 1 × 10-Four~ 1 × 10-1Is a mole.
[0072]
The compound of the formula (I) of the present invention can be added after being dissolved in water, a water-soluble solvent such as methanol or ethanol, or a mixed solvent thereof. At this time, the pH may be appropriately adjusted with an acid or a base, and a surfactant may be allowed to coexist. Furthermore, it can also be dissolved in a high boiling point organic solvent and added as an emulsified dispersion. It can also be added as a solid dispersion.
[0073]
(Development accelerator)
The development accelerator used in the present invention will be described in detail.
The development accelerator used in the present invention is a photothermographic material having a photosensitive layer containing at least one layer of photosensitive silver halide, non-photosensitive organic silver salt, a reducing agent and a binder on a support. When the compound is substituted at a molar ratio of 10% with respect to the reducing agent (referred to as the main reducing agent), it is a compound whose sensitivity at a concentration = 1.0 is increased by 0.05 or more compared with the case where it is not substituted.
[0074]
The development accelerator is preferably a compound having an increase in sensitivity of 0.05 or more when substituted by 5 mol%, and more preferably a compound having an increase of sensitivity of 0.05 or more when substituted by 2 mol%.
[0075]
As the development accelerator, any compound can be used as long as it is a compound that increases the sensitivity when substituted with the main reducing agent as described above in thermal development. It is preferable to use a so-called reducing agent. Specifically, compounds such as aminophenols, p-phenylenediamines, sulfonamidophenols, carbonamidophenols, 1-phenyl-5-pyrazolidones, ascorbic acid, hydrazines, phenols and naphthols are used. be able to. Among them, sulfonamidophenols (for example, compounds represented by the general formula (1) described in JP-A-10-221806, compounds represented by the formula (A) described in JP-A 2000-267222), hydrazines are included. preferable.
In the present inventionIs a compound represented by the following general formulas (1) to (3)Contains at least one development accelerator selected from.
[0076]
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[0077]
(In general formula (1), Q1Is a NHNH-R at a carbon atom1Represents a 5- to 7-membered unsaturated ring bonded to R,1Is carbamoylGroupTo express. In the general formulas (2) and (3), X2And XThreeEach independently represents a hydrogen atom or a substituent;twenty oneAnd R31~ R32Each independently represents a hydrogen atom or a substituent.However, the compound of the general formula (2) has a carbamoyl group at the 2-position with respect to the OH group.m and p each independently represent an integer of 0 to 4, and n represents an integer of 0 to 2. ).
[0078]
The most preferred compound as a development accelerator in the present invention is a compound (hydrazine derivative) represented by the general formula (1). The photothermographic material of the invention preferably has a reducing compound represented by the general formula (1) on the same surface as the photosensitive silver halide and the non-photosensitive silver salt on the support.
[0079]
The reducing compound represented by the general formula (1) is a developing agent collectively referred to as a hydrazine developing agent. Where Q1Is a NHNH-R at a carbon atom1Represents a 5- to 7-membered unsaturated ring bonded to R,1Is carbamoylGroupTo express.
[0080]
Q in general formula (1)1Preferred examples of the 5- to 7-membered unsaturated ring represented by benzene ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyrimidine ring, pyridazine ring, 1,2,4-triazine ring, 1,3,5-triazine ring Pyrrole ring, imidazole ring, pyrazole ring, 1,2,3-triazole ring, 1,2,4-triazole ring, tetrazole ring, 1,3,4-thiadiazole ring, 1,2,4-thiadiazole ring, 1 , 2,5-thiadiazole ring, 1,3,4-oxadiazole ring, 1,2,4-oxadiazole ring, 1,2,5-oxadiazole ring, thiazole ring, oxazole ring, isothiazole ring , Isoxazole rings, thiophene rings and the like, and condensed rings in which these rings are condensed with each other are also preferable.
[0081]
These rings may have a substituent, and when they have two or more substituents, these substituents may be the same or different. Examples of substituents include halogen atoms, alkyl groups, aryl groups, carbonamido groups, alkylsulfonamido groups, arylsulfonamido groups, alkoxy groups, aryloxy groups, alkylthio groups, arylthio groups, carbamoyl groups, sulfamoyl groups, cyano Groups, alkylsulfonyl groups, arylsulfonyl groups, alkoxycarbonyl groups, aryloxycarbonyl groups, and acyl groups.
[0082]
When these substituents are substitutable groups, they may further have substituents. Examples of preferred substituents include halogen atoms, alkyl groups, aryl groups, carbonamido groups, alkylsulfonamido groups, aryls. Sulfonamide group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, cyano group, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, and acyloxy group Can be listed.
[0083]
In the general formula (1), R1The carbamoyl group represented by these has preferable C1-C50, and C6-C40 is more preferable. Specifically, unsubstituted carbamoyl group, methylcarbamoyl group, N-ethylcarbamoyl group, N-propylcarbamoyl group, N-sec-butylcarbamoyl group, N-octylcarbamoyl group, N-cyclohexylcarbamoyl group, N-tert- Butylcarbamoyl group, N-dodecylcarbamoyl group, N- (3-dodecyloxypropyl) carbamoyl group, N-octadecylcarbamoyl group, N- {3- (2,4-tert-pentylphenoxy) propyl} carbamoyl group, N- (2-hexyldecyl) carbamoyl group, N-phenylcarbamoyl group, N- (4-dodecyloxyphenyl) carbamoyl group, N- (2-chloro-5-dodecyloxycarbonylphenyl) carbamoyl group, N-naphthylcarbamoyl group, N-3-pyridylka Bamoiru group, N- benzylcarbamoyl group.
[0088]
oneIn general formula (1), R1In the group represented by1May have the groups mentioned as examples of the substituents of the 5- to 7-membered unsaturated ring represented by the formula (1), and when they have two or more substituents, these substituents are the same. Or different.
[0089]
Among the compounds represented by the general formula (1), Q1Is preferably a 5- or 6-membered unsaturated ring,1Is a benzene ring, pyrimidine ring, 1,2,3-triazole ring, 1,2,4-triazole ring, tetrazole ring, 1,3,4-thiadiazole ring, 1,2,4-thiadiazole ring, 1,3, 4-oxadiazole ring, 1,2,4-oxadiazole ring, thiazole ring, oxazole ring, isothiazole ring, isoxazole ring, or a ring condensed with a benzene ring or an unsaturated heterocycle More preferably, Q1Is particularly preferably a quinazoline ring. Q1Preferably has at least one electron-withdrawing substituent. Preferred substituents include fluoroalkyl groups (for example, trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, 1,1-difluoroethyl group, difluoromethyl group, fluoromethyl group, heptafluoropropyl group, pentafluorophenyl group), cyano Group, halogen atom (fluoro, chloro, bromo, iodo), acyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, and trifluoromethyl group is particularly preferable.
[0090]
In the general formula (1), R1Is a carbamoyl groupYes, Particularly preferably R1-CO-NH-R1 'And a substituted carbamoyl group represented by:1 'Particularly preferably represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an aryl group.
Specific examples of the reducing compound represented by the general formula (1) are as follows:And reference examplesHowever, the compounds used in the present invention are not limited by these specific examples.
[0091]
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[0092]
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[0093]
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[0094]
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[0100]
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[0101]
[Table 1]
[0102]
[Table 2]
[0103]
[Table 3]
[0104]
[Table 4]
[0105]
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[0106]
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[0107]
Synthesis of the reducing compound represented by the general formula (1) is described in JP-A-9-152702, JP-A-8-286340, JP-A-9-152700, JP-A-9-152701, and JP-A-9-152703. It can implement according to the method as described in gazette and the 9-152704 gazette.
Although the addition amount of the reducing compound represented by the general formula (1) is wide, it is preferably 0.01 to 100 mol times, more preferably 0.1 to 10 mol times with respect to silver ions.
[0108]
The reducing compound represented by the general formula (1) may be added to the coating solution by any method such as a solution, powder, solid fine particle dispersion, emulsion, or oil protect dispersion. Particularly when used together with the latex of the present invention, it is preferably added as solid fine particles. The solid fine particle dispersion is performed by a known finer means (for example, ball mill, vibrating ball mill, sand mill, colloid mill, jet mill, roller mill, etc.). A dispersion aid may be used when dispersing the solid fine particles.
[0109]
The compound represented by the following general formula (2) or (3) will be described.
In the general formulas (2) and (3), X2And XThreeEach independently represents a hydrogen atom or a substituent. X2And XThreeAs examples of the substituent represented by formula (1), a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom), an aryl group (preferably having 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, still more preferably 6). -12, for example, phenyl, p-methylphenyl, naphthyl, etc.), an alkoxy group (preferably having a carbon number of 1-20, more preferably 1-12, still more preferably 1-8, for example, methoxy, ethyne , Butoxy, etc.), an aryloxy group (preferably having 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 16, more preferably 6 to 12, such as phenyloxy, 2-naphthyloxy, etc.), an alkylthio group (preferably C1-C20, More preferably, it is 1-16, More preferably, it is 1-12, for example, methylthio, ethylthio, butyl O), an arylthio group (preferably having 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 16 carbon atoms, still more preferably 6 to 12 carbon atoms such as phenylthio, naphthylthio, etc.), an acyloxy group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, More preferably, it is 2 to 16, more preferably 2 to 10, for example, acetoxy, benzoyloxy, etc.), an acylamino group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16, more preferably 2 to 10). For example, N-methylacetylamino, benzoylamino, etc.), sulfonylamino groups (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16, more preferably 1 to 12, such as methanesulfonylamino, Benzenesulfonylamino, etc.), a carbamoyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 6, more preferably 1 to 12, for example, carbamoyl, N, N-diethylcarbamoyl, N-phenylcarbamoyl, etc.), acyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, still more preferably 2 to 12, for example, acetyl, benzoyl, formyl, pivaloyl, etc.), an alkoxycarbonyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16, more preferably 2 to 12, such as methoxycarbonyl Etc.), sulfo group, sulfonyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16, more preferably 1 to 12, such as mesyl, tosyl, etc.), sulfonyloxy group (preferably having 1 carbon atom). To 20, more preferably 1 to 16, still more preferably 1 to 12, for example, methanesulfonylo And azo group, heterocyclic group, heterocyclic mercapto group, cyano group and the like. The heterocyclic group here represents a saturated or unsaturated heterocyclic group, for example, pyridyl group, quinolyl group, quinoxalinyl group, pyrazinyl group, benzotriazolyl group, pyrazolyl group, imidazolyl group, benzoimidazolyl group, tetrazolyl group. , A hyguntoin-1-yl group, a succinimide group, a phthalimide group, and the like.
[0110]
X in general formulas (2) and (3)2And XThreeThe substituent represented by is more preferably an alkoxy group or an aryloxy group. X2And XThreeThe substituent represented by may be further substituted with another substituent, and may be any generally known substituent as long as it does not deteriorate the photographic performance.
[0111]
-R in general formulas (2) and (3)2l, R31, R32Each independently represents a hydrogen atom or a substituent. m and p each independently represent an integer of 0 to 4, and n represents an integer of 0 to 2. R2l, R31, R32Any substituent may be used as long as it does not adversely affect photographic properties. For example, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom), a linear, branched, cyclic or a combination thereof (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, still more preferably Are, for example, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, sec-butyl, tert-butyl, tert-octyl, n-amyl, tert-amyl, n-dodecyl, n-tridecyl, cyclohexyl Etc.), an alkenyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16, more preferably 2 to 12, such as vinyl, allyl, 2-butenyl, 3-pentenyl, etc.), an aryl group (preferably Has 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, still more preferably 6 to 12 carbon atoms such as phenyl, p- Tilphenyl, naphthyl and the like), an alkoxy group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 and further preferably 1 to 12, such as methoxy, ethyne, propoxy, butoxy, etc.), an aryloxy group (preferably Has 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, still more preferably 6 to 12 carbon atoms, such as phenyloxy, 2-naphthyloxy, and the like, and an acyloxy group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 carbon atoms). -16, more preferably 2-12, for example, acetoxy, benzoyloxy, etc.), amino group (preferably 0-20 carbon atoms, more preferably 1-16, still more preferably 1-12, Dimethylamino group, diethylamino group, dibutylamino group, anilino group, etc.), acylamino group (preferably charcoal) The number is 2 to 20, more preferably 2 to 16, and further preferably 2 to 13. For example, acetylamino, tridecanoylamino, benzoylamino, etc.), a sulfonylamino group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably Is 1 to 16, more preferably 1 to 12, for example, methanesulfonylamino, butanesulfonylamino, benzenesulfonylamino and the like, and a ureido group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16, more preferably Are 1-12, for example, ureido, methylureido, phenylureido, etc.), carbamate groups (preferably having 2-20 carbon atoms, more preferably 2-16, still more preferably 2-12, for example, methoxycarbonyl Amino, phenyloxycarbonylamino, etc.), carboxyl group, carbamo An yl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, still more preferably 1 to 12 carbon atoms such as carbamoyl, N, N-diethylcarbamoyl, N-dodecylcarbamoyl, N-phenylcarbamoyl, etc.), An alkoxycarbonyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, still more preferably 2 to 12 carbon atoms such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, butoxycarbonyl, etc.), an acyl group (preferably having 2 to 2 carbon atoms). 20, More preferably, it is 2-16, More preferably, it is 2-12, for example, acetyl, benzoyl, formyl, pivaloyl etc., a sulfo group, a sulfonyl group (preferably C1-C20, more preferably 1-16) And more preferably 1 to 12, for example, mesyl, tosyl, etc.), sulfa Yl group (preferably having 0 to 20 carbon atoms, more preferably 0 to 16 carbon atoms, still more preferably 0 to 12 carbon atoms such as sulfamoyl, methylsulfamoyl, dimethylsulfamoyl, phenylsulfamoyl, etc.) , A cyano group, a nitro group, a hydroxyl group, a mercapto group, an alkylthio group (preferably having a carbon number of 1-20, more preferably 1-16, still more preferably 1-12, such as methylthio, butylthio, etc.), a heterocyclic ring Groups (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, further preferably 2 to 12 carbon atoms such as pyridyl, imidazolyl, pyrrolidyl, etc.). These substituents may be further substituted with other substituents.
[0112]
-R in general formulas (2) and (3)2l, R31, R32Among the above, preferred as the substituent represented by halogen atom, alkyl group, aryl group, alkoxy group, aryloxy group, acyloxy group, anilino group, acylamino group, sulfonylamino group, carboxyl group, carbamoyl group, An acyl group, a sulfo group, a sulfonyl group, a sulfamoyl group, a cyano group, a hydroxyl group, a mercapto group, an alkylthio group, and a heterocyclic group.
[0113]
Here, the compound represented by the general formula (2) is a carbamoyl group (preferably having a carbon number of 1 to 20, more preferably 1 to 16, more preferably 1 to 12, such as carbamoyl, N, N-diethylcarbamoyl, N-dodecylcarbamoyl, N-phenylcarbamoyl, N- (2-chlorophenyl) carbamoyl, N- (4-chlorophenyl) carbamoyl N- (2,4-dichlorophenyl) carbamoyl, N- (3 4-dichlorophenyl) carbamoyl etc.)Is a compound, An arylcarbamoyl group at the 2-position (preferably having 7 to 20 carbon atoms, more preferably 7 to 16 carbon atoms, further preferably 7 to 12 carbon atoms such as N-phenylcarbamoyl, N- (2-chlorophenyl) carbamoyl, N -(4-chlorophenyl) carbamoyl, N- (2,4-dichlorophenyl) carbamoyl, N- (3,4-dichlorophenyl) carbamoyl and the like are particularly preferable.
Although the specific example of a compound represented by General formula (3) below is given, the compound used for this invention is not limited by these.
[0114]
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[0115]
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[0116]
The compounds represented by the general formulas (2) and (3) can be easily synthesized by methods known in the photographic industry.
The compounds represented by the general formulas (2) and (3) are water or an appropriate organic solvent such as alcohols (methanol, ethanol, propanol, fluorinated alcohol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone), dimethylformamide, It can be used by dissolving in dimethyl sulfoxide, methyl cellosolve or the like.
[0117]
Alternatively, the emulsion is dispersed mechanically by using a well-known emulsification dispersion method using an oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, or an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone. An object can be made and used. Alternatively, the compound powder can be dispersed in water and used by a ball mill, colloid mill, sand grinder mill, manton gourin, microfluidizer or ultrasonic wave according to well-known solid dispersion methods.
[0118]
The compounds represented by the general formulas (2) and (3) may be added to any layer on the support as long as the surface is the same as the photosensitive silver halide and the reducible silver salt. It is preferable to add to a layer containing silver halide or a layer adjacent thereto.
The addition amount of the compounds represented by the general formulas (2) and (3) is preferably 0.2 to 200 mmol, more preferably 0.3 to 100 mmol, and still more preferably 0.001 mol per mol of silver. 5-30 mmol. The compounds represented by the general formulas (2) and (3) may be used alone or in combination of two or more.
In particular, it is preferable to use the compound of the general formula (1) and the compound of the general formula (3) in combination.
[0119]
The compound represented by the general formula (2) is preferably a compound represented by the following general formula (4) or (5).
[0120]
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[0121]
In the general formula (4), R41, R42, R43, X41And X42Each independently represents a substituent bonded to the benzene ring by a hydrogen atom, a halogen atom, a carbon atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom or a phosphorus atom. X41And X42At least one of -NR44R45It is group represented by these. R44, R45Each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, or —C (═O) —R, —C (═O) —C (═O) —R, —SO2-R, -SO-R, -P (= O) (R)2Or it is group represented by -C (= NR ')-R. R and R ′ are each independently a group selected from a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an amino group, an alkoxy group, and an aryloxy group. These substituents may be bonded to each other to form a ring.
[0122]
In general formula (5), X51Represents a substituent and X52~ X54Each independently represents a hydrogen atom or a substituent. X51~ X54Is not a hydroxy group and X53Is not a sulfonamide group. Also X51~ X54The substituents represented by may be bonded to each other to form a ring. R51Represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an amino group, or an alkoxy group.
[0123]
The development accelerator represented by the general formula (4) will be described.
In the general formula (4), R41~ R43Each independently represents a substituent bonded to the benzene ring by a hydrogen atom, a halogen atom, a carbon atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, or a phosphorus atom. Specific examples of the substituent bonded to the benzene ring at a carbon atom include linear, branched or cyclic alkyl groups (for example, methyl, ethyl, iso-propyl, tert-butyl, n-octyl, tert-amyl, 1, 3-tetramethylbutyl, cyclohexyl, etc.), alkenyl groups (for example, vinyl, allyl, 2-butenyl, 3-pentenyl, etc.), alkynyl groups (for example, propargyl group, 3-pentynyl group, etc.) An aryl group (for example, phenyl, p-methylphenyl, naphthyl, etc.), an acyl group (for example, acetyl, benzoyl, formyl, pivaloyl, etc.), an alkoxycarbonyl group (for example, , Methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, etc.), ants A ruoxycarbonyl group (for example, phenoxycarbonyl), a carbamoyl group (for example, carbamoyl, diethylcarbamoyl, phenylcarbamoyl, etc.), a cyano group, a carboxyl group, a heterocyclic group (for example, 3-pyrazolyl group, etc.) For example).
[0124]
Specific examples of the substituent bonded to the benzene ring with an oxygen atom include a hydroxyl group, an alkoxy group (for example, methoxy, ethoxy, butoxy and the like), an aryloxy group (for example, phenyloxy, 2-naphthyloxy and the like). ), A heterocyclic oxy group (for example, 4-pyridyloxy group and the like), an acyloxy group (for example, acetoxy, benzoyloxy and the like) and the like. Non-limiting specific examples of the substituent bonded to the benzene ring with a nitrogen atom include an amino group (for example, amino, methylamino, dimethylamino, diethylamino, dibenzylamino, etc.), a nitro group, a hydrazino group, A heterocyclic group (for example, 1-imidazolyl, morpholyl and the like), an acylamino group (for example, acetylamino, benzoylamino and the like), an alkoxycarbonylamino group (for example, methoxycarbonylamino and the like) can be mentioned. ), Aryloxycarbonylamino groups (for example, phenyloxycarbonylamino and the like), sulfonylamino groups (for example, methanesulfonylamino, benzenesulfonylamino and the like), sulfamoyl groups (for example, sulfamoyl, methyl) Sulfamoyl, dimethylsulfamoyl, phenylsulfamoyl, etc.), ureido groups (for example, ureido, methylureido, phenylureido, etc.), phosphorylamino groups (for example, diethylphosphorylamino, etc.) ) And imide groups (for example, succinimide, phthalimide, trifluoromethanesulfonimide, etc.). Non-limiting specific examples of the substituent bonded to the benzene ring with a sulfur atom include a mercapto group, a disulfide group, a sulfo group, a sulfino group, a sulfonylthio group, a thiosulfonyl group, an alkylthio group (for example, methylthio, ethylthio, etc.). ), Arylthio groups (for example, phenylthio and the like), sulfonyl groups (for example, mesyl, tosyl, phenylsulfonyl and the like), sulfinyl groups (for example, methanesulfinyl, benzenesulfinyl and the like). ), A heterocyclic thio group (for example, a 2-imidazolylthio group, etc.). Non-limiting specific examples of the substituent bonded to the benzene ring by a phosphorus atom include a phosphate group (for example, diethyl phosphate, diphenyl phosphate, etc.).
[0125]
R in the general formula (4)41~ R43Preferred are hydrogen atom, halogen atom, linear, branched or cyclic alkyl group, aryl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, cyano group, carboxyl group, heterocyclic group, hydroxyl group, alkoxy group. , Aryloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, amino group, nitro group, heterocyclic group, acylamino group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfonylamino group, imide group, sulfamoyl group, carbamoyl group, Examples include ureido groups, mercapto groups, disulfide groups, sulfo groups, sulfino groups, alkylthio groups, arylthio groups, sulfonyl groups, sulfinyl groups, and heterocyclic thio groups.
[0126]
R in the general formula (4)41~ R43And more preferably a hydrogen atom, a halogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group, aryl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, cyano group, carboxyl group, heterocyclic group, hydroxyl group, alkoxy group , Aryloxy group, acyloxy group, amino group, nitro group, heterocyclic group, acylamino group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfonylamino group, imide group, carbamoyl group, mercapto group, sulfo group, alkylthio group , An arylthio group and a sulfonyl group.
[0127]
R in the general formula (4)41~ R43Particularly preferred are hydrogen atom, halogen atom, linear, branched or cyclic alkyl group, aryl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, cyano group, carboxyl group, acyloxy group, acylamino group, alkoxycarbonyl. An amino group, an aryloxycarbonylamino group, a sulfonylamino group, a carbamoyl group, a sulfo group, an alkylsulfonyl group, and an arylsulfonyl group.
[0128]
X in the general formula (4)41, X42Represents a substituent bonded to the benzene ring by a hydrogen atom, a halogen atom, a carbon atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, or a phosphorus atom. Specific examples of the substituent bonded to the benzene ring at a carbon atom include linear, branched or cyclic alkyl groups (for example, methyl, ethyl, iso-propyl, tert-butyl, n-octyl, tert-amyl, 1, 3-tetramethylbutyl, cyclohexyl, etc.), alkenyl groups (for example, vinyl, allyl, 2-butenyl, 3-pentenyl, etc.), alkynyl groups (for example, propargyl group, 3-pentynyl group, etc.) An aryl group (for example, phenyl, p-methylphenyl, naphthyl, etc.), an acyl group (for example, acetyl, benzoyl, formyl, pivaloyl, etc.), an alkoxycarbonyl group (for example, , Methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, etc.), ants A ruoxycarbonyl group (for example, phenoxycarbonyl), a cyano group, a carboxyl group, a heterocyclic group (for example, 3-pyrazolyl group, etc.), a carbamoyl group (carbamoyl, diethylcarbamoyl, phenylcarbamoyl, etc.). Etc.).
[0129]
Non-limiting specific examples of the substituent bonded to the benzene ring with an oxygen atom in the general formula (4) include a hydroxyl group, an alkoxy group (for example, methoxy, ethoxy, butoxy, etc.), an aryloxy group (for example, Phenyloxy, 2-naphthyloxy, etc.), heterocyclic oxy groups (for example, 4-pyridyloxy group and the like), acyloxy groups (for example, acetoxy, benzoyloxy, etc.) and the like. .
[0130]
Specific examples of the substituent bonded to the benzene ring at the nitrogen atom in the general formula (4) include an amino group (for example, amino, methylamino, dimethylamino, diethylamino, dibenzylamino and the like), a nitro group, Hydroxam group, hydrazino group, heterocyclic group (for example, 1-imidazolyl, morpholyl, etc.), acylamino group (for example, acetylamino, benzoylamino, etc.), alkoxycarbonylamino group (for example, methoxycarbonyl) Amino, etc.), aryloxycarbonylamino group (for example, phenyloxycarbonylamino etc.), sulfonylamino group (for example, methanesulfonylamino, benzenesulfonylamino etc.), sulfamoyl group ( Eg to sulfamoyl, methylsulfamoyl, dimethylsulfamoyl, and the like phenylsulfamoyl.), Phosphorylamino group (e.g., diethyl phosphoryl amino, and the like.), And the like.
[0131]
Specific examples of the substituent bonded to the benzene ring by a sulfur atom in the general formula (4) include a mercapto group, a disulfide group, a sulfo group, a sulfino group, a sulfonylthio group, a thiosulfonyl group, an alkylthio group (for example, methylthio, ethylthio). ), Arylthio groups (for example, phenylthio and the like), sulfonyl groups (for example, mesyl, tosyl, phenylsulfonyl and the like), sulfinyl groups (for example, methanesulfinyl, benzenesulfinyl and the like). And a heterocyclic thio group (for example, a 2-imidazolylthio group and the like).
Non-limiting specific examples of the substituent bonded to the benzene ring by a phosphorus atom include a phosphate group (for example, diethyl phosphate, diphenyl phosphate, etc.).
[0132]
X in the general formula (4)41, X42Preferred are hydrogen atom, halogen atom, linear, branched or cyclic alkyl group, aryl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, cyano group, carboxyl group, heterocyclic group, hydroxyl group, alkoxy group. , Aryloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, amino group, nitro group, heterocyclic group, acylamino group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfonylamino group, imide group, sulfamoyl group, carbamoyl group, Examples include ureido groups, mercapto groups, disulfide groups, sulfo groups, alkylthio groups, arylthio groups, sulfonyl groups, and heterocyclic thio groups.
[0133]
X in the general formula (4)41, X42And more preferably a hydrogen atom, a halogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group, aryl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, cyano group, carboxyl group, hydroxyl group, alkoxy group, aryloxy group An acyloxy group, an amino group, an acylamino group, an alkoxycarbonylamino group, an aryloxycarbonylamino group, a sulfonylamino group, an imide group, a carbamoyl group, a sulfo group, and an arylsulfonyl group.
[0134]
X in the general formula (4)41, X42Particularly preferred are hydrogen atom, halogen atom, linear, branched or cyclic alkyl group, aryl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, cyano group, carboxyl group, alkoxy group, aryloxy group, An acyloxy group, an acylamino group, an alkoxycarbonylamino group, an aryloxycarbonylamino group, a sulfonylamino group, a carbamoyl group, a mercapto group, and an alkylthio group.
[0135]
X41, X42At least one of -NR44R45It is group represented by these. R44, R45Each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, or —C (═O) —R, —C (═O) —C (═O) —R, —SO2-R, -SO-R, -P (= O) (R)2, -C (= NR ')-R. R and R ′ are each independently a group selected from a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an amino group, an alkoxy group, and an aryloxy group.
[0136]
R44, R45Are a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, they are, for example, a linear, branched or cyclic alkyl group (for example, methyl, ethyl, iso-propyl, tert-butyl, n-octyl, tert-amyl, 1,3-tetramethylbutyl, cyclohexyl, etc.), alkenyl groups (for example, vinyl, allyl, 2-butenyl, 3-pentenyl, etc.). , Alkynyl groups (for example, propargyl group, 3-pentenyl group and the like), aryl groups (for example, phenyl, p-methylphenyl, naphthyl and the like), heterocyclic groups (for example, 2-imidazolyl, 1-pyrazolyl group etc. are mentioned).
[0137]
R44, R45-C (= O) -R, -C (= O) -C (= O) -R, -SO2-R, -SO-R, -P (= O) (R)2, —C (═NR ′) — R, R and R ′ are each independently a hydrogen atom, an alkyl group (for example, methyl, ethyl, iso-propyl, tert-butyl, n -Octyl, tert-amyl, 1,3-tetramethylbutyl, cyclohexyl, etc.), aryl groups (eg, phenyl, p-methylphenyl, naphthyl etc.), heterocyclic groups (eg, 4-pyridyl) , 2-thienyl, 1-methyl-2-pyrrolyl and the like), amino group (for example, amino, dimethylamino, diphenylamino, phenylamino, 2-pyridylamino and the like), alkoxy group (for example, methoxy, Ethoxy, cyclohexyloxy and the like), aryloxy groups (for example, phenoxy, 2-naphthyl) Alkoxy, and the like) representing the like.
[0138]
R in the general formula (4)44, R45And preferred are a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group, an aryl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a sulfamoyl group, a carbamoyl group, a sulfonyl group and a sulfinyl group. R44, R45And more preferably a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group, an aryl group, an acyl group, and a sulfonyl group. A particularly preferred combination is R44, R45One of these is a hydrogen atom, and the other is an alkylsulfonyl group or an arylsulfonyl group. These substituents may be further substituted with a substituent as described above. Moreover, if these substituents have a hydrogen atom with high acidity, the proton may dissociate to form a salt. As the counter cation, a metal ion, an ammonium ion, or a phosphonium ion is used. The state in which active hydrogen is dissociated in this way can be an effective countermeasure for cases where volatility during development of the compound becomes a problem. R41, R42, R43, X41And X42May be bonded to each other to form a ring.
Although the specific example of a compound represented by General formula (4) is shown below, the compound represented by General formula (4) which can be used for this invention is not limited to these.
[0139]
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[0140]
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[0149]
The development accelerator represented by the general formula (5) will be described.
In general formula (5), X51Represents a substituent (a substituent that can be substituted on the benzene ring and not a hydrogen atom). However, X51Is not a hydroxyl group. Specific examples of the substituent include a halogen atom, an alkyl group (including a cycloalkyl group and a bicycloalkyl group), an alkenyl group (including a cycloalkenyl group and a bicycloalkenyl group), an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, and a cyano group. Group, nitro group, carboxyl group, alkoxy group, aryloxy group, silyloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, carbamoyloxy group, alkoxycarbonyloxy group, aryloxycarbonyloxy group, acylamino group, aminocarbonylamino group, alkoxy Carbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfamoylamino group, alkyl and arylsulfonylamino group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio group, sulfamoyl group, sulfo group, al And arylsulfinyl groups, alkyl and arylsulfonyl groups, acyl groups, aryloxycarbonyl groups, alkoxycarbonyl groups, carbamoyl groups, aryl and heterocyclic azo groups, imide groups, phosphino groups, phosphinyl groups, phosphinyloxy groups, phosphine groups Examples include a finylamino group and a silyl group.
[0150]
More specifically, a halogen atom (a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom), an alkyl group [represents a linear, branched, or cyclic substituted or unsubstituted alkyl group. They are alkyl groups (preferably alkyl groups having 1 to 30 carbon atoms such as methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, tert-butyl group, n-octyl group, eicosyl group, 2-chloroethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-ethylhexyl group), cycloalkyl group (preferably a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, such as cyclohexyl group, cyclopentyl group, 4-n-dodecyl group) A cyclohexyl group), a bicycloalkyl group (preferably a substituted or unsubstituted bicycloalkyl group having 5 to 30 carbon atoms, that is, a monovalent group obtained by removing one hydrogen atom from a bicycloalkane having 5 to 30 carbon atoms). For example, bicyclo [1,2,2] heptan-2-yl group, bicyclo [2,2,2] octan-3-yl group), It is intended to encompass such tricyclo structure having many cyclic structures into. An alkyl group (for example, an alkyl group of an alkylthio group) in the substituents described below also represents such an alkyl group. ], An alkenyl group [represents a linear, branched or cyclic substituted or unsubstituted alkenyl group. They are an alkenyl group (preferably a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms, such as a vinyl group, an allyl group, a prenyl group, a geranyl group, an oleyl group), a cycloalkenyl group (preferably a carbon number of 3 A substituted or unsubstituted cycloalkenyl group having ˜30, that is, a monovalent group obtained by removing one hydrogen atom of a cycloalkene having 3 to 30 carbon atoms, such as a 2-cyclopenten-1-yl group, 2-cyclo Hexen-1-yl group), bicycloalkenyl group (substituted or unsubstituted bicycloalkenyl group, preferably a substituted or unsubstituted bicycloalkenyl group having 5 to 30 carbon atoms, that is, a bicycloalkene having one double bond. A monovalent group obtained by removing one hydrogen atom, for example, a bicyclo [2,2,1] hept-2-en-1-yl group, It is intended to include cyclo [2,2,2] oct-2-en-4-yl group). ], An alkynyl group (preferably a substituted or unsubstituted alkynyl group having 2 to 30 carbon atoms, such as an ethynyl group, a propargyl group, a trimethylsilylethynyl group),
[0151]
An aryl group (preferably a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 30 carbon atoms, such as a phenyl group, a p-tolyl group, a naphthyl group, an m-chlorophenyl group, an o-hexadecanoylaminophenyl group), a heterocyclic group ( Preferably, it is a monovalent group obtained by removing one hydrogen atom from a 5- or 6-membered substituted or unsubstituted aromatic or non-aromatic heterocyclic compound, and more preferably 5 or 3 having 3 to 30 carbon atoms. 6-membered aromatic heterocyclic group, for example, 2-furyl group, 2-thienyl group, 2-pyrimidinyl group, 2-benzothiazolyl group), cyano group, nitro group, carboxyl group, alkoxy group (preferably C1-C30 substituted or unsubstituted alkoxy group, for example, methoxy group, ethoxy group, isopropoxy group, tert-butoxy group, n- Octyloxy group, 2-methoxyethoxy group), aryloxy group (preferably a substituted or unsubstituted aryloxy group having 6 to 30 carbon atoms, for example, phenoxy group, 2-methylphenoxy group, 4-tert-butylphenoxy group) , 3-nitrophenoxy group, 2-tetradecanoylaminophenoxy group), silyloxy group (preferably a silyloxy group having 3 to 20 carbon atoms, such as trimethylsilyloxy group, tert-butyldimethylsilyloxy group), heterocyclic oxy A group (preferably a substituted or unsubstituted heterocyclic oxy group having 2 to 30 carbon atoms, 1-phenylnaphtholazole-5-oxy group, 2-tetrahydropyranyloxy group), acyloxy group (preferably formyloxy group, C2-C30 substituted or unsubstituted alkylcarboni Oxy group, a substituted or unsubstituted arylcarbonyloxy group having 6 to 30 carbon atoms, e.g., formyloxy group, acetyloxy group, pivaloyloxy group, stearoyloxy group, benzoyloxy group, p- methoxyphenylcarbonyloxy group),
[0152]
A carbamoyloxy group (preferably a substituted or unsubstituted carbamoyloxy group having 1 to 30 carbon atoms such as N, N-dimethylcarbamoyloxy group, N, N-diethylcarbamoyloxy group, morpholinocarbonyloxy group, N, N -Di-n-octylaminocarbonyloxy group, Nn-octylcarbamoyloxy group), alkoxycarbonyloxy group (preferably a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyloxy group having 2 to 30 carbon atoms, such as methoxycarbonyloxy group, Ethoxycarbonyloxy group, tert-butoxycarbonyloxy group, n-octylcarbonyloxy group), aryloxycarbonyloxy group (preferably a substituted or unsubstituted aryloxycarbonyloxy group having 7 to 30 carbon atoms such as pheno Cicarbonyloxy group, p-methoxyphenoxycarbonyloxy group, pn-hexadecyloxyphenoxycarbonyloxy group), acylamino group (preferably formylamino group, substituted or unsubstituted alkylcarbonylamino having 1 to 30 carbon atoms) Group, substituted or unsubstituted arylcarbonylamino group having 6 to 30 carbon atoms, such as formylamino group, acetylamino group, pivaloylamino group, lauroylamino group, benzoylamino group, 3,4,5-tri-n-octyl Oxyphenylcarbonylamino group), aminocarbonylamino group (preferably a substituted or unsubstituted aminocarbonylamino group having 1 to 30 carbon atoms, such as carbamoylamino group, N, N-dimethylaminocarbonylamino group, N, N -Diethylaminocal Nylamino group, morpholinocarbonylamino group), alkoxycarbonylamino group (preferably a substituted or unsubstituted alkoxycarbonylamino group having 2 to 30 carbon atoms, for example, methoxycarbonylamino group, ethynecarbonylamino group, tert-butoxycarbonylamino group) , N-octadecyloxycarbonylamino group, N-methyl-methoxycarbonylamino group), aryloxycarbonylamino group (preferably a substituted or unsubstituted aryloxycarbonylamino group having 7 to 30 carbon atoms, such as phenoxycarbonylamino Group, p-chlorophenoxycarbonylamino group, mn-octyloxyphenoxycarbonylamino group), sulfamoylamino group (preferably substituted or unsubstituted sulfamo having 0 to 30 carbon atoms) Ylamino group, for example, sulfamoylamino group, N, N-dimethylaminosulfonylamino group, Nn-octylaminosulfonylamino group),
[0153]
Alkyl and arylsulfonylamino groups (preferably substituted or unsubstituted alkylsulfonylamino groups having 1 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted arylsulfonylamino groups having 6 to 30 carbon atoms such as methylsulfonylamino group, butylsulfonyl) Amino group, phenylsulfonylamino group, 2,3,5-trichlorophenylsulfonylamino group, p-methylphenylsulfonylamino group), mercapto group, alkylthio group (preferably substituted or unsubstituted alkylthio having 1 to 30 carbon atoms) Group such as methylthio group, ethylthio group, n-hexadecylthio group), arylthio group (preferably substituted or unsubstituted arylthio group having 6 to 30 carbon atoms such as phenylthio group, p-chlorophenylthio group, m-methoxyphenyl) Thio group) Heterocyclic thio group (preferably a substituted or unsubstituted heterocyclic thio group having 2 to 30 carbon atoms, such as 2-benzothiazolylthio group, 1-phenyltetrazol-5-ylthio group), sulfamoyl group (preferably carbon 0-30 substituted or unsubstituted sulfamoyl groups such as N-ethylsulfamoyl group, N- (3-dodecyloxypropyl) sulfamoyl group, N, N-dimethylsulfamoyl group, N-acetylsulfa Moyl group, N-benzoylsulfamoyl group, N- (N′-phenylcarbamoyl) sulfamoyl group), sulfo group, alkyl and arylsulfinyl group (preferably substituted or unsubstituted alkylsulfinyl group having 1 to 30 carbon atoms) 6-30 substituted or unsubstituted arylsulfinyl groups such as methylsulfur Nyl group, ethylsulfinyl group, phenylsulfinyl group, p-methylphenylsulfinyl group), alkyl and arylsulfonyl groups (preferably a substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group having 1 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted 6 to 30 carbon atoms) A substituted arylsulfonyl group, for example, a methylsulfonyl group, an ethylsulfonyl group, a phenylsulfonyl group, a p-methylphenylsulfonyl group), an acyl group (preferably a formyl group, a substituted or unsubstituted alkylcarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms) A substituted or unsubstituted arylcarbonyl group having 7 to 30 carbon atoms, a heterocyclic carbonyl group bonded to a carbonyl group with a substituted or unsubstituted carbon atom having 4 to 30 carbon atoms, such as an acetyl group, a pivaloyl group, 2-chloroacetyl group, stearoyl group, benzoy Group, pn-octyloxyphenylcarbonyl group, 2-pyridylcarbonyl group, 2-furylcarbonyl group),
[0154]
Aryloxycarbonyl group (preferably a substituted or unsubstituted aryloxycarbonyl group having 7 to 30 carbon atoms, such as phenoxycarbonyl group, o-chlorophenoxycarbonyl group, m-nitrophenoxycarbonyl group, p-tert-butylphenoxy Carbonyl group), alkoxycarbonyl group (preferably a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms, such as methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl group, n-octadecyloxycarbonyl group), carbamoyl A group (preferably a substituted or unsubstituted carbamoyl group having 5 to 30 carbon atoms, such as a carbamoyl group, an N-methylcarbamoyl group, an N, N-dimethylcarbamoyl group, an N, N-di-n-octylcarbamoyl group; N- (methylsulfonyl) carbamoyl group), aryl and heterocyclic azo groups (preferably substituted or unsubstituted arylazo groups having 6 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted heterocyclic azo groups having 3 to 30 carbon atoms, such as , Phenylazo group, p-chlorophenylazo group, 5-ethylthio-1,3,4-thiadiazol-2-ylazo group), imide group (preferably N-succinimide group, N-phthalimide group), phosphino group (preferably A substituted or unsubstituted phosphino group having 2 to 30 carbon atoms, such as a dimethylphosphino group, a diphenylphosphino group, a methylphenoxyphosphino group, or a phosphinyl group (preferably a substituted or unsubstituted group having 2 to 30 carbon atoms) Phosphinyl group such as phosphinyl group, dioctyloxyphosphinyl group, Xyphosphinyl group), phosphinyloxy group (preferably a substituted or unsubstituted phosphinyloxy group having 2 to 30 carbon atoms such as diphenoxyphosphinyloxy group, dioctyloxyphosphinyloxy group), Finylamino group (preferably a substituted or unsubstituted phosphinylamino group having 2 to 30 carbon atoms, such as dimethoxyphosphinylamino group, dimethylaminophosphinylamino group), silyl group (preferably carbon Examples thereof include substituted or unsubstituted silyl groups having a number of 3 to 30, such as trimethylsilyl group, tert-butyldimethylsilyl group, and phenyldimethylsilyl group.
[0155]
In general formula (5), X51Preferred examples of the substituent represented by formula (1) include a halogen atom (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom, preferably chlorine atom, bromine atom), acylamino group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably carbon. 1 to 14, particularly preferably 1 to 8, for example, formylamino group, acetylamino group, benzoylamino group, etc., alkyl group (preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 14 carbon atoms, Particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, for example, a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a cyclohexyl group, etc., an aryl group (preferably 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 14 carbon atoms, particularly preferably 6-8 carbon atoms, such as phenyl group, naphthyl group, p-methylphenyl group, etc., alkoxy groups (preferably carbon number 1-20, more preferred) Is carbon 1 to 14, particularly preferably carbon 1 to 8, such as methoxy group, ethoxy group, etc., aryloxy group (preferably 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 14 carbon atoms, particularly preferably carbon 6 to 8, for example, phenoxy group, 2-naphthyloxy group, etc.), acyloxy group (preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 14 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, for example, acetoxy group , A benzoyloxy group), a sulfonylamino group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 14 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, such as a methanesulfonylamino group, a benzenesulfonylamino group, etc.), A carbamoyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 14 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms such as carbamoyl Group, N, N-dimethylcarbamoyl group, N-phenylcarbamoyl group, etc.), acyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 14 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, such as formyl. Group, acetyl group, benzoyl group, etc.), alkoxycarbonyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, still more preferably 2 to 12 carbon atoms, such as methoxycarbonyl group, ethyne group, etc. A carbonyl group, a butoxycarbonyl group, etc.), an aryloxycarbonyl group (preferably having 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 16 carbon atoms, still more preferably 6 to 12 carbon atoms, for example, phenoxycarbonyl group, 2-naphthyloxy group) Carbonyl group, etc.), cyano group, nitro group, more preferably halogen atom, acylamino group An alkyl group, particularly preferably a chlorine atom or a bromine atom.
[0156]
In general formula (5), X53Each independently represents a hydrogen atom or a substituent. However, X53Is not a hydroxyl group or a sulfonamide group. Specific examples of the substituent include X in the general formula (5).51Examples of the substituents mentioned above are the same (excluding the sulfonamide group). X53As preferred, a hydrogen atom, a halogen atom (a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, preferably a chlorine atom or a bromine atom), an acylamino group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 1 carbon atom). 14, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, for example, formylamino group, acetylamino group, benzoylamino group, etc., alkyl group (preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 14 carbon atoms, particularly preferably C1-C8, for example, a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a cyclohexyl group, etc., an aryl group (preferably C6-C20, more preferably C6-C14, especially preferably C6-C6) To 8, for example, phenyl group, naphthyl group, p-methylphenyl group, etc.), alkoxy group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably carbon 1 to 14, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, such as a methoxy group and an ethoxy group, and an aryloxy group (preferably 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 14 carbon atoms, and particularly preferably 6 carbon atoms). -8, such as phenoxy group, 2-naphthyloxy group, etc., acyloxy group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 14 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, for example, acetoxy group, benzoyl Oxy group, etc.), carbamoyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 14 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, such as carbamoyl group, N, N-dimethylcarbamoyl group, N-phenylcarbamoyl group) Fists, etc.), acyl groups (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 14 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, A rumil group, an acetyl group, a benzoyl group, etc.), an alkoxycarbonyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, still more preferably 2 to 12 carbon atoms, such as methoxycarbonyl group, ethoxy A carbonyl group, a butoxycarbonyl group, etc.), an aryloxycarbonyl group (preferably having 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 16 carbon atoms, still more preferably 6 to 12 carbon atoms, for example, a phenoxycarbonyl group, 2-naphthyloxy, etc. A carbonyl group or the like, a cyano group, or a nitro group, more preferably a halogen atom, an acylamino group, or an alkyl group, and particularly preferably a chlorine atom or a bromine atom.
[0157]
In general formula (5), X51, X53It is preferable that at least one of the substituents represented by is an electron withdrawing group. The electron withdrawing group is a substituent having a positive Hammett's substituent constant σρ value. Specific examples thereof include a halogen atom, a cyano group, a nitro group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an imino group, An imino group substituted with an N atom, a thiocarbonyl group, a perfluoroalkyl group, a sulfonamido group, a formyl group, a phosphoryl group, a carboxyl group, a carbamoyl group, an acyl group, a sulfo group (or a salt thereof), an alkylsulfonyl group, Examples thereof include an arylsulfonyl group, a sulfamoyl group, an acyloxy group, an acylthio group, a sulfonyloxy group, a heterocyclic group, or an aryl group substituted with these electron-withdrawing groups. X51, X53Are more preferably both electron-withdrawing groups, more preferably both are halogen atoms, and particularly preferably both are chlorine atoms or bromine atoms.
[0158]
In general formula (5), X52, X54Represents a hydrogen atom or a substituent. However, X52, X54Is not a hydroxyl group. Specific examples of the substituent include X in the general formula (5).51Examples of the substituents are as follows. X52, X54Preferred are hydrogen atom, halogen atom (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom, preferably chlorine atom, bromine atom), acylamino group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 carbon atom). To 14, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, such as formylamino group, acetylamino group, benzoylamino group, etc., alkyl groups (preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 14 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, for example, a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a cyclohexyl group, etc.), an aryl group (preferably having a carbon number of 6 to 20, more preferably a carbon number of 6 to 14, particularly preferably an anthrax number). 6 to 8, for example, phenyl group, naphthyl group, p-methylphenyl group, etc.), alkoxy group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably carbon number) To 14, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, such as a methoxy group and an ethoxy group, and an aryloxy group (preferably 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 14 carbon atoms, and particularly preferably 6 to 8 carbon atoms). For example, phenoxy group, 2-naphthyloxy group, etc.), acyloxy group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 14 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, for example, acetoxy group, benzoyloxy group, etc. ), A sulfonylamino group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 14 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms such as methanesulfonylamino group, benzenesulfonylamino group, etc.), carbamoyl group (preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 14 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, such as a carbamoyl group, N, N-dimethyl. Rucarbamoyl group, N-phenylcarbamoyl group, etc.), acyl group (preferably 1-20 carbon atoms, more preferably 1-14 carbon atoms, particularly preferably 1-8 carbon atoms, such as formyl group, acetyl group, benzoyl group, etc. ), An alkoxycarbonyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, still more preferably 2 to 12 carbon atoms, such as a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a butoxycarbonyl group, etc.), Aryloxycarbonyl group (preferably having 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 16 carbon atoms, still more preferably 6 to 12 carbon atoms, such as phenoxycarbonyl group, 2-naphthyloxycarbonyl group, etc.), cyano group, nitro group It is a group. More preferred are a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, and an acylamino group, and particularly preferred are a hydrogen atom, a methyl group, and an ethyl group.
[0159]
In general formula (5), X51~ X54May be further substituted. Specific examples of the substituent include X in the general formula (5).51The substituents mentioned as examples of are also mentioned. X51~ X54May be bonded to each other to form a ring.
[0160]
In the general formula (5), R51Is a hydrogen atom, an alkyl group (preferably 1-20 carbon atoms, more preferably 1-14 carbon atoms, particularly preferably 1-7 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a cyclohexyl group, etc.) An aryl group (preferably having a carbon number of 6 to 20, more preferably a carbon number of 6 to 14, particularly preferably a carbon number of 6 to 8, such as a phenyl group, a naphthyl group, a p-methylphenyl group, etc.), a heterocyclic group (for example, , Pyridyl group, imidazolyl group, pyrrolidyl group), amino group (preferably having 0 to 20 carbon atoms, more preferably 0 to 14 carbon atoms, particularly preferably 0 to 8 carbon atoms, such as amino group, methylamino group, N, N-dimethylamino group, N-phenylamino group, etc.), alkoxy group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 14 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, Example, if a methoxy group, an ethoxy group, etc.). Preferably, they are a hydrogen atom, an aryl group, a heterocyclic group, an amino group, an alkoxy group, and an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, more preferably an aryl group or an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, particularly preferably. An aryl group. R51May be further substituted. Specific examples of the substituent include X in the general formula (5).51Examples of the substituents are as follows.
[0161]
In general formula (5), X51~ X54, R51The combination of X is preferably X51, X53At least one of is a halogen atom, and X52, X54Is a hydrogen atom or an alkyl group, R51Is an aryl group or an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms. A more preferred combination is X51, X53Are both chlorine or bromine atoms, and X52Is a hydrogen atom or an alkyl group, and X54Is a hydrogen atom and R51Is an aryl group.
[0162]
The preferable range of the total molecular weight of the compound represented by the general formula (5) is 170 to 800, more preferably 220 to 650, and particularly preferably 220 to 500.
[0163]
Specific examples of the compound represented by the general formula (5) are given below, but the present invention is not limited to these specific examples.
[0164]
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[0165]
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[0166]
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[0167]
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[0168]
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[0170]
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[0171]
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[0172]
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[0173]
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[0174]
The compound represented by the general formula (3) is more preferably a compound represented by the following general formula (6).
[0175]
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[0176]
Hereinafter, the compound represented by Formula (6) will be described.
In the general formula (6), R61Represents an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, an alkynyl group, and X61Represents an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, a sulfonyl group, or a sulfamoyl group. Y61~ Y65Each independently represents a hydrogen atom or a substituent.
[0177]
In the general formula (6), R61Is preferably a linear, branched, cyclic or a combination thereof having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, and still more preferably 1 to 13 carbon atoms. For example, methyl, Ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, sec-butyl, t-butyl, n-hexyl, cyclohexyl, n-octyl, t-octyl, n-amyl, t-amyl, n-decyl, n -Dodecyl, n-tridecyl, benzyl, phenethyl and the like can be mentioned.
[0178]
In the general formula (6), R61Is preferably 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, still more preferably 6 to 12 carbon atoms, such as phenyl, 4-methylphenyl, 2-chlorophenyl, 4-chlorophenyl. 2,4-dichlorophenyl, 3,4-dichlorophenyl, 2-methoxyphenyl, 4-methoxyphenyl, 4-hexyloxyphenyl, 2-dodecyloxyphenyl, naphthyl and the like.
[0179]
In the general formula (6), R61Is preferably 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, still more preferably 2 to 12 carbon atoms, such as a vinyl group, an allyl group, an isopropenyl group, a butenyl group, and a cyclohexenyl group. And so on.
R61Is preferably 2-30 carbon atoms, more preferably 2-20 carbon atoms, still more preferably 2-12 carbon atoms, and examples thereof include an ethynyl group and a propynyl group.
[0180]
In the general formula (6), R61May further have a substituent, and examples of a preferable substituent include Y in the compound represented by the general formula (6) described later.61~ Y65The substituent represented by these can be mentioned.
[0181]
In the general formula (6), R61More preferably represents an alkyl group or an aryl group, and particularly preferably represents an alkyl group.
[0182]
X in the general formula (6)61Represents an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, a sulfonyl group or a sulfamoyl group.
X in the general formula (6)61Is preferably 2-20, more preferably 2-16, and even more preferably 2-12, such as acetyl, propionyl, butyryl, valeryl, hexanoyl, myristyl, palmitoyl, stearyl, Examples include oleyl, acryloyl, cyclohexanecarbonyl, benzoyl, formyl, bivaloyl and the like.
[0183]
X in the general formula (6)61Is preferably 2-20 carbon atoms, more preferably 2-16 carbon atoms, still more preferably 2-12 carbon atoms, and examples thereof include methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, butoxycarbonyl, phenoxycarbonyl and the like. .
[0184]
X in the general formula (6)61Is preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, still more preferably 1 to 12 carbon atoms, such as carbamoyl, N, N-diethylcarbamoyl, N-dodecylcarbamoyl, N- Decylcarbamoyl, N-hexadecylcarylvamoyl, N-phenylcarbamoyl, N- (2-chlorophenyl) carbamoyl, N- (4-chlorophenyl) carbamoyl, N- (2,4-dichlorophenyl) carbamoyl, N- (3, 4-dichlorophenyl) carbamoyl, N-pentachlorophenylcarbamoyl, N- (2-methoxyphenyl) carbamoyl, N- (4-methoxyphenyl) carbamoyl, N- (2,4-dimethoxyphenyl) carbamoyl, N- (2- Dodecyloxyphenyl) carbamoyl, N (4-dodecyloxy-off phenyl) carbamoyl, and the like.
[0185]
X in the general formula (6)61Is preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, still more preferably 1 to 12 carbon atoms, such as mesyl, ethanesulfonyl, cyclohexanesulfonyl, benzenesulfonyl, tosyl, 4-chlorobenzene. And sulfonyl.
X in the general formula (6)61Is preferably 0-20, more preferably 0-16, and still more preferably 0-12, and examples thereof include sulfamoyl, methylsulfamoyl, dimethylsulfamoyl and the like.
[0186]
X in the general formula (6)61May further have a substituent. Examples of preferred substituents include Y of the compound of the general formula (1) described later.61~ Y65The substituent represented by these can be mentioned.
[0187]
X in the general formula (6)61Preferably represents a carbamoyl group, more preferably an alkylcarbamoyl group or an arylcarbamoyl group, and particularly preferably an arylcarbamoyl group.
[0188]
In general formula (6), Y61~ Y65Each independently represents a hydrogen atom or a substituent.
Y61~ Y65Any substituent may be used as long as it does not adversely affect photographic properties. For example, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom), a linear, branched, cyclic or a combination thereof (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, still more preferably Are, for example, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, sec-butyl, t-butyl, t-octyl, n-amyl, t-amyl, n-dodecyl, n-tridecyl, cyclohexyl Etc.), an alkenyl group (preferably 2-20, more preferably 2-16, still more preferably 2-12, such as vinyl, allyl, 2-butenyl, 3-pentenyl, etc.), an aryl group (preferably Has 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, still more preferably 6 to 12 carbon atoms such as phenyl, p-methylphenyl, Til, etc.), an alkoxy group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16, more preferably 1 to 12, such as methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, etc.), an aryloxy group (preferably carbon The number is 6-30, more preferably 6-20, and even more preferably 6-12. For example, phenyloxy, 2-naphthyloxy, etc.), preferably an acyloxy group having 2-20 carbon atoms, more preferably 2-16. More preferably, it is 2-12, for example, acetoxy, benzoyloxy, etc.), an amino group (preferably C0-20, more preferably 1-16, still more preferably 1-12, for example, dimethylamino Group, diethylamino group, dibutylamino group, anilino group, etc.), acylamino group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, and more) Mashiku 2 to 16, more preferably from 2 to 13, e.g., acetylamino, tri decanoyl, benzoylamino, etc.),
[0189]
A sulfonylamino group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16, more preferably 1 to 12, such as methanesulfonylamino, butanesulfonylamino, benzenesulfonylamino, etc.), ureido group (preferably carbon The number is 1 to 20, more preferably 1 to 16, and further preferably 1 to 12. For example, ureido, methylureido, phenylureido, etc.), carbamate group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms). More preferably, it is 2-12, for example, methoxycarbonylamino, phenyloxycarbonylamino, etc., a carboxyl group, a carbamoyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16, more preferably 1 to 12). For example, carbamoyl, N, N-diethylcarbamo , N-dodecylcarbamoyl, N-phenylcarbamoyl, etc.), an alkoxycarbonyl group (preferably having a carbon number of 2-20, more preferably 2-16, still more preferably 2-12, such as methoxycarbonyl, ethynecarbonyl, etc. , Butoxycarbonyl, etc.), an acyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16, more preferably 2 to 12, such as acetyl, benzoyl, formyl, pivaloyl, etc.), sulfo group, sulfonyl group (Preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, still more preferably 1 to 12 carbon atoms such as mesyl, tosyl, etc.), sulfamoyl groups (preferably having 0 to 20 carbon atoms, more preferably 0 to 16 carbon atoms). More preferably, it is 0-12, for example, sulfamoyl, methylsulfamoyl Dimethylsulfamoyl, phenylsulfamoyl, etc.), cyano group, nitro group, hydroxyl group, mercapto group, alkylthio group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16, more preferably 1 to 12). , For example, methylthio, butylthio and the like), heterocyclic groups (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, and further preferably 2 to 12 carbon atoms such as pyridyl, imidazolyl, pyrrolidyl and the like). . These substituents may be further substituted with other substituents.
[0190]
In general formula (6), Y61~ Y65Among the above, preferred as the substituent represented by halogen atom, alkyl group, aryl group, alkoxy group, aryloxy group, acyloxy group, anilino group, acylamino group, sulfonylamino group, carboxyl group, carbamoyl group, An acyl group, a sulfo group, a sulfonyl group, a sulfamoyl group, a cyano group, a hydroxyl group, a mercapto group, an alkylthio group, and a heterocyclic group.
[0191]
In the general formula (6), R61Is an alkyl group, X61Is a carbamoyl group, Y61~ Y65A combination in which is a hydrogen atom is preferred.
[0192]
Hereinafter, although the specific example of a compound represented by General formula (6) is given, this invention is not limited by these specific examples.
[0193]
[Table 5]
[0194]
[Table 6]
[0195]
[Table 7]
[0196]
[Table 8]
[0197]
[Table 9]
[0198]
[Table 10]
[0199]
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[0200]
[Table 11]
[0201]
[Table 12]
[0202]
[Table 13]
[0203]
The development accelerators represented by the general formulas (1) to (6) may be added to the coating solution by any method such as a solution, a powder, a solid fine particle dispersion, an emulsion, and an oil protect dispersion. In particular, when used together with the latex of the present invention, it is preferably added as solid fine particles. The solid fine particle dispersion can be performed by a known finer means (for example, a ball mill, a vibrating ball mill, a sand mill, a colloid mill, a jet mill, or a roller mill). A dispersion aid may be used when dispersing the solid fine particles.
[0204]
<Reducing agent>
The reducing agent used in the present invention will be described.
The photothermographic material of the present invention contains a reducing agent. The reducing agent may be any substance (preferably an organic substance) that reduces silver ions to metallic silver. Such reducing agents are described in JP-A No. 11-65021, paragraphs 0043 to 0045, and European Patent Publication No. 0803764A1, page 7, line 34 to page 18, line 12.
In the present invention, as the reducing agent, a so-called hindered phenol reducing agent having a substituent at the ortho position of the phenolic hydroxyl group or a bisphenol reducing agent is preferable, and a compound represented by the following general formula (7) is more preferable.
[0205]
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[0206]
In the general formula (7), R71And R71 'Each independently represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. R72And R72 'Each independently represents a hydrogen atom or a substituent that can be substituted on the benzene ring. L is a -S- group or -CHR.73-Represents a group. R73Represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. X71And X71 'Each independently represents a hydrogen atom or a group capable of substituting for a benzene ring.
[0207]
The general formula (7) will be described in detail.
In general formula (7), R71And R71 'May have a substituent. The substituent is not particularly limited, but aryl group, hydroxy group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, acylamino group, sulfonamido group, sulfonyl group, phosphoryl group, acyl group, carbamoyl group An ester group, a ureido group, a urethane group, a halogen atom and the like are preferable.
[0208]
In general formula (7), R71And R71 'Is preferably a secondary or tertiary alkyl group having 3 to 15 carbon atoms, and more preferably a tertiary alkyl group having 4 to 12 carbon atoms. Specific examples include isopropyl group, isobutyl group, t-butyl group, t-amyl group, t-octyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group, 1-methylcyclohexyl group, 1-methylcyclopropyl group and the like. A t-butyl group, a t-amyl group, and a 1-methylcyclohexyl group are preferable, and a t-butyl group is more preferable.
[0209]
In general formula (7), R72And R72 'Are each independently a hydrogen atom or a substituent that can be substituted on a benzene ring, and X71And X71 'Each independently represents a hydrogen atom or a group capable of substituting for a benzene ring. The group that can be substituted on the benzene ring is preferably an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, an alkoxy group, or an acylamino group.
[0210]
In general formula (7), R72And R72 'As, a C1-C20 alkyl group is preferable. Specifically, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, isopropyl group, t-butyl group, t-amyl group, cyclohexyl group, 1-methylcyclohexyl group, benzyl group, methoxymethyl group, methoxyethyl group, etc. A methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, and a t-butyl group are more preferable.
X in general formula (7)71And X71 'Is preferably a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, more preferably a hydrogen atom.
[0211]
In the general formula (7), L represents an —S— group or —CHR.73-Represents a group, -CHR73-Is preferred.
R73Is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms. Specifically, a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, and a 2,4,4-trimethylpentyl group are preferable, and a hydrogen atom, a methyl group, a propyl group, and an isopropyl group are more preferable.
[0212]
R73Is a hydrogen atom, R72And R72 'Is preferably an alkyl group having 2 to 5 carbon atoms, more preferably an ethyl group or a propyl group, and most preferably an ethyl group.
On the other hand, R73Is a primary or secondary alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, R72And R72 'Is preferably a methyl group. In this case, R13The primary or secondary alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or an isopropyl group, and more preferably a methyl group, an ethyl group, or a propyl group.
[0213]
R71, R71 ', R72, R72 'Are all methyl groups, R73Is preferably a secondary alkyl group. In this case R73As the secondary alkyl group, isopropyl group, isobutyl group, and 1-ethylpentyl group are preferable, and isopropyl group is more preferable.
The reducing agent is R71, R71 ', R72, R72 'And R73Depending on the combination, the heat developability, developed silver color tone and the like are different. Since these can be adjusted by combining two or more kinds of reducing agents, it is preferable to use two or more kinds in combination depending on the purpose.
[0214]
Although the specific example of a compound represented by General formula (7) which is a reducing agent of this invention below is shown, this invention is not limited to these.
[0215]
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[0216]
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[0217]
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[0218]
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[0219]
In the present invention, the reducing agent is added in an amount of 0.1 to 3.0 g / m.2Is preferably 0.2 to 1.5 g / m.2More preferably, 0.3 to 1.0 g / m2More preferably. Further, it is preferably contained in an amount of 5 to 50% by mole, more preferably 8 to 30% by mole, and further preferably 10 to 20% by mole based on 1 mole of silver on the surface having the image forming layer.
The reducing agent is preferably contained in the image forming layer.
[0220]
The reducing agent may be contained in the coating solution by any method such as a solution form, an emulsified dispersion form, or a solid fine particle dispersion form, and may be contained in the photosensitive material.
Well-known emulsification dispersion methods include dissolving oil using an oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, or an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone, and mechanically emulsifying the dispersion. The method of producing is mentioned.
[0221]
Further, as the solid fine particle dispersion method, a reducing agent powder is dispersed in an appropriate solvent such as water by a ball mill, a colloid mill, a vibrating ball mill, a sand mill, a jet mill, a roller mill, or an ultrasonic wave to create a solid dispersion. A method is mentioned. In this case, a protective colloid (for example, polyvinyl alcohol) or a surfactant (for example, an anionic surfactant such as sodium triisopropylnaphthalenesulfonate (a mixture of three isopropyl groups having different substitution positions)) may be used. Good.
In the mills, beads such as zirconia are usually used as a dispersion medium, and Zr and the like eluted from these beads may be mixed in the dispersion medium. The amount of Zr mixed into the dispersion medium is in the range of 1 ppm to 1000 ppm depending on the dispersion conditions. If the amount of Zr mixed in the heat-sensitive recording material is 0.5 mg or less per 1 g of silver, there is no practical problem.
The aqueous dispersion preferably contains a preservative (for example, benzoisothiazolinone sodium salt).
[0222]
(Description of organic silver salt)
1) Composition
Organic silver salts that can be used in the present invention are relatively stable to light, but when heated to 80 ° C. or higher in the presence of exposed photosensitive silver halide and reducing agent. It is a silver salt that functions as a silver ion supplier and forms a silver image. The organic silver salt may be any organic substance that can supply silver ions that can be reduced by a reducing agent. Regarding such non-photosensitive organic silver salt, paragraph numbers 0048 to 0049 of JP-A No. 10-62899, page 18 line 24 to page 19 line 37 of European Patent Publication No. 080864A1, European Patent Publication No. 0962812A1, JP-A-11-349591, JP-A-2000-7683, JP-A-2000-72711, and the like. Silver salts of organic acids, particularly silver salts of long-chain aliphatic carboxylic acids (having 10 to 30, preferably 15 to 28 carbon atoms) are preferred. Preferable examples of the fatty acid silver salt include silver lignocerate, silver behenate, silver arachidate, silver stearate, silver oleate, silver laurate, silver caproate, silver myristate, silver palmitate, silver erucate and the like. Including a mixture of In the present invention, among these fatty acid silvers, the silver behenate content is preferably 50 mol% to 100 mol%, more preferably 85 mol% to 100 mol%, still more preferably 95 mol% to 100 mol%. The following fatty acid silver is preferably used. Furthermore, it is preferable to use fatty acid silver having a silver erucate content of 2 mol% or less, more preferably 1 mol% or less, and still more preferably 0.1 mol% or less.
[0223]
Moreover, it is preferable that silver stearate content rate is 1 mol% or less. By setting the stearic acid content to 1 mol% or less, a silver salt of an organic acid having a low Dmin, high sensitivity and excellent image storage stability can be obtained. As said stearic acid content rate, 0.5 mol% or less is preferable and it is especially preferable not to contain substantially.
[0224]
Furthermore, when silver arachidate is included as the silver salt of the organic acid, the silver arachidate content is 6 mol% or less to obtain a low Dmin and an organic acid silver salt excellent in image storability. It is preferable at a point and it is still more preferable that it is 3 mol% or less.
[0225]
2) Shape and size
The shape of the organic silver salt that can be used in the present invention is not particularly limited, and may be any of a needle shape, a rod shape, a flat plate shape, and a flake shape.
In the present invention, scaly organic silver salts are preferred. Also, short needle-shaped, rectangular parallelepiped, cubic or potato-shaped amorphous particles having a major axis / uniaxial length ratio of 5 or less are preferably used. These organic silver particles have a feature that there is less fog at the time of thermal development than long needle-like particles having a ratio of the major axis to the uniaxial length of 5 or more. In particular, particles having a major axis / uniaxial ratio of 3 or less are preferable because the mechanical stability of the coating film is improved. In the present specification, the scaly organic silver salt is defined as follows. The organic acid silver salt was observed with an electron microscope, the shape of the organic acid silver salt particle was approximated to a rectangular parallelepiped, and the sides of the rectangular parallelepiped were designated a, b, and c from the shortest side (c was the same as b). Then, the shorter numerical values a and b are calculated, and x is obtained as follows.
x = b / a
[0226]
In this way, x is obtained for about 200 particles, and when the average value x (average) is obtained, particles satisfying the relationship of x (average) ≧ 1.5 are defined as flakes. Preferably, 30 ≧ x (average) ≧ 1.5, more preferably 15 ≧ x (average) ≧ 1.5. Incidentally, the needle shape is 1 ≦ x (average) <1.5.
[0227]
In the flake shaped particle, a can be regarded as a thickness of a tabular particle having a main plane with b and c as sides. The average of a is preferably 0.01 μm or more and 0.3 μm or less, and more preferably 0.1 μm or more and 0.23 μm or less. The average c / b is preferably 1 or more and 9 or less, more preferably 1 or more and 6 or less, still more preferably 1 or more and 4 or less, and most preferably 1 or more and 3 or less.
[0228]
By setting the equivalent sphere diameter to 0.05 μm or more and 1 μm or less, aggregation is hardly caused in the photosensitive material, and image storability is improved. The sphere equivalent diameter is preferably 0.1 μm or more and 1 μm or less. In the present invention, the method for measuring the equivalent sphere diameter is obtained by directly photographing a sample using an electron microscope and then image-processing the negative.
In the flake shaped particles, the spherical equivalent diameter / a of the particles is defined as the aspect ratio. The aspect ratio of the flake shaped particles is preferably 1.1 or more and 30 or less, more preferably 1.1 or more and 15 or less, from the viewpoint of preventing aggregation in the photosensitive material and improving the image storage stability. .
[0229]
The particle size distribution of the organic silver salt is preferably monodispersed. Monodispersion is preferably 100% or less, more preferably 80% or less, and even more preferably 50% of the value obtained by dividing the standard deviation of the lengths of the short and long axes by the short and long axes, respectively. It is as follows. The method for measuring the shape of the organic silver salt can be determined from a transmission electron microscope image of the organic silver salt dispersion. As another method for measuring monodispersity, there is a method of obtaining the standard deviation of the volume weighted average diameter of the organic silver salt, and the percentage (variation coefficient) of the value divided by the volume weighted average diameter is preferably 100% or less, more Preferably it is 80% or less, more preferably 50% or less. A commercially available laser light scattering particle size measuring device can be used for the measurement.
[0230]
3) Preparation method
Known methods and the like can be applied to the production and dispersion method of the organic acid silver used in the present invention. For example, the above-mentioned JP-A-10-62899, European Patent Publication No. 0803633A1, European Patent Publication No. 0962812A1, JP-A-11-349591, JP-A-2000-7683, JP-A-2000-72711, JP-A-2001-163889, 2001-163890, 2001-163827, 2001-33907, 2001-188313, 2001-83652, 2002-6442, 2002-49117, 2002-31870, 2002-107868 You can refer to the issue.
[0231]
In order to prepare the non-photosensitive organic silver salt so that the average sphere equivalent diameter is 0.05 μm or more and 1.0 μm or less and the variation coefficient of the volume weighted average of the sphere equivalent diameter is 30% or less, It is preferable to prepare by reacting at the reaction temperature shown and the mixing method. Further, a preparation method using a substantially transparent solution in which an alkali metal salt solution of an organic acid is dissolved in an organic solvent is preferable.
(Reaction temperature)
The organic silver salt particles in the present invention are preferably prepared at a reaction temperature of 60 ° C. or less from the viewpoint of preparing particles having a low Dmin. The chemical added, for example, the organic acid alkali metal aqueous solution may have a temperature higher than 60 ° C., but the temperature of the reaction bath to which the reaction solution is added is preferably 50 ° C. or lower. Furthermore, it is more preferable that it is 40 degrees C or less.
[0232]
(Mixing method)
The organic silver salt particles in the present invention are prepared by reacting a solution containing silver ions such as silver nitrate with an organic acid alkali metal salt solution or suspension, but the addition of 50% or more of the total added silver amount Is preferably performed simultaneously with the addition of the organic acid alkali metal salt solution or suspension. Examples of the addition method include a method of adding to the liquid surface of the reaction bath, a method of adding to the solution, and a method of adding to the closed mixing means described later, and any method may be used.
[0233]
(Example of reactor)
An example of a method of adding and preparing in a closed mixing means is shown below, but the present invention is not limited to this. FIG. 1 is an embodiment of a production apparatus for a non-photosensitive organic silver salt used in the present invention. In FIGS. 11 and 12, a silver ion-containing solution (for example, a silver nitrate aqueous solution) and an organic alkali metal salt solution are stored at a predetermined temperature. Reference numerals 13 and 14 are flow meters for measuring the flow rate when these solutions are added to the mixing device 18 which is sealed and filled with liquid via the pumps 15 and 16. In this embodiment, a pump 17 is provided which again supplies the prepared organic silver salt dispersion to the mixing device 18 as the third component. The liquid that has finished the reaction in the mixing device 18 is introduced into the heat exchanger 19 and quickly cooled.
(Water-soluble silver salt solution)
The pH of the silver ion-containing solution (for example, silver nitrate aqueous solution) used in the present invention is preferably pH 1 or more and 6 or less, more preferably pH 1.5 or more and 4 or less. Furthermore, acids and alkalis can be added for pH adjustment. The type of acid and alkali is not particularly limited.
The silver ion concentration of the silver ion-containing solution (for example, silver nitrate aqueous solution) used in the present invention is arbitrarily determined, but the molar concentration is preferably 0.03 mol / L or more and 6.5 mol / L or less, more preferably 0. It is 1 mol / L or more and 5 mol / L or less.
[0234]
(Aging)
The organic silver salt in the present invention may be ripened by raising the reaction temperature after the addition of the silver ion-containing solution (for example, silver nitrate aqueous solution) / or the organic acid alkali metal salt solution is completed. The aging in the present invention is considered to be different from the reaction temperature described above. During ripening, no addition of silver nitrate and organic acid alkali metal salt solution or suspension is performed. Aging is preferably performed at a reaction temperature of + 1 ° C. or higher and + 20 ° C. or lower, and more preferably + 1 ° C. or higher and + 10 ° C. or lower. The aging time is preferably determined by trial and error.
[0235]
(Split addition)
In the preparation of the organic salt salt in the present invention, the addition of the organic acid alkali metal salt solution may be divided into two or more and six or less times. By adding in a divided manner here, various functions can be imparted to the particles, such as addition for improving photographic performance and addition for changing the hydrophilicity of the surface. The number of divided additions is preferably 2 or more and 4 or less. Here, since the organic acid salt is solidified at a high temperature, it is necessary to take into account, for example, having a plurality of addition lines for dividing, or devising a circulation method, when dividing and adding.
[0236]
In the preparation of the organic silver salt in the present invention, 0.5 mol% or more and 30 mol% or less of the total number of added moles of the organic acid alkali metal salt solution may be added alone after the addition of the silver ion-containing solution is completed. preferable. Preferably, 3 mol% or more and 20 mol% or more are preferably added alone. This addition is preferably applied as a single divided addition. This addition may be added either in the closed mixing means or in the reaction vessel, but is preferably added to the reaction vessel. By carrying out this addition, it is possible to increase the hydrophilicity of the surface of the particles. As a result, the film forming property of the light-sensitive material is improved, and film peeling is improved.
[0237]
(Alkali metal solution of organic acid)
In the practice of the present invention, in order to form organic acid particles, at least one of a silver ion-containing solution, an organic acid alkali metal salt solution or suspension, and a solution prepared in advance in the reaction field, It is preferable that the alkali metal salt contains an organic solvent in an amount capable of forming a substantially transparent solution, not a string-like aggregate or micelle. The solution may be an organic solvent alone, but is preferably a mixed solution with water. The organic solvent used in the present invention is not particularly limited as long as it is water-soluble and has the above-mentioned properties. However, those that impede photographic performance are not preferred, preferably alcohol that can be mixed with water, acetone, A tertiary alcohol having 4 to 6 carbon atoms is preferred.
[0238]
Specifically, the alkali metal of the alkali metal salt of the organic acid used in the present invention is preferably Na or K. The alkali metal salt of the organic acid is prepared by adding NaOH or KOH to the organic acid. At this time, it is preferable that the amount of alkali is set to be equal to or less than the equivalent amount of the organic acid to leave the unreacted organic acid. In this case, the amount of residual organic acid is 3 mol% or more and 50 mol% or less, preferably 3 mol% or more and 30 mol% or less with respect to the total organic acid. Moreover, after adding an alkali more than desired amount, you may prepare by adding acids, such as nitric acid and a sulfuric acid, and neutralizing an excess alkali content.
Furthermore, the silver ion-containing solution and the organic acid alkali metal salt solution used in the present invention, or the liquid in the closed mixing vessel to which both liquids are added, are represented by, for example, general formula (1) in JP-A-62-65035. A water-soluble group-containing N heterocyclic compound as described in JP-A No. 62-150240, and an inorganic peroxide as described in JP-A No. 50-101019. A sulfur compound as described in JP-A-51-78319, a disulfide compound as described in JP-A-57-643, hydrogen peroxide, and the like can be added.
[0239]
In the organic acid alkali metal salt solution used in the present invention, the amount of the organic solvent is preferably 3% or more and 70% or less, more preferably 5% or more and 50% or less as the solvent volume with respect to the water volume. At this time, since the optimum solvent volume varies depending on the reaction temperature, the optimum amount can be determined by trial and error.
The concentration of the alkali metal salt of the organic acid used in the present invention is 5 to 50% by mass, preferably 7 to 45% by mass, more preferably 10 to 40% by mass. is there.
[0240]
The temperature of the third alcohol aqueous solution of the organic acid alkali metal salt added in the closed mixing means or in the reaction vessel is 50 for the purpose of maintaining the temperature necessary to avoid the crystallization and solidification of the organic acid alkali metal salt. The temperature is preferably from 90 ° C to 90 ° C, more preferably from 60 ° C to 85 ° C, most preferably from 65 ° C to 85 ° C. Further, in order to control the temperature of the reaction to be constant, it is preferably controlled to be constant at a certain temperature selected from the above range.
[0241]
As a result, the rate at which the third alcohol aqueous solution of the high-temperature organic acid alkali metal salt is rapidly cooled in the closed mixing means to precipitate in the form of fine crystals and the rate at which the organic silver salt is chlorinated by the reaction with the silver ion-containing solution are preferably controlled. The crystal form, crystal size, and crystal size distribution of the organic silver salt can be preferably controlled. At the same time, the performance can be further improved as a heat-developable material, particularly as a heat-developable photosensitive material.
[0242]
(Reaction vessel liquid)
The reaction vessel may contain a solvent in advance, and water is preferably used as the solvent put in advance, but a mixed solvent with the third alcohol is also preferably used.
[0243]
(Dispersing aid)
A dispersion aid that is soluble in an aqueous medium can be added to a tertiary alcohol aqueous solution of an organic acid alkali metal salt, a silver ion-containing solution, or a reaction solution. Any dispersing aid may be used as long as it can disperse the formed organic silver salt. A specific example is based on the description of the organic silver salt dispersion aid described below.
[0244]
(Desalination, dehydration)
In the method for preparing an organic silver salt, it is preferable to perform a desalting / dehydration step after the formation of the silver salt. The method is not particularly limited, and well-known and conventional means can be used. For example, known filtration methods such as centrifugal filtration, suction filtration, ultrafiltration, and flock-forming water washing by a coagulation method, and supernatant removal by centrifugal sedimentation are preferably used. Desalting / dehydration may be performed once or a plurality of times. Water may be added and removed continuously or separately. The desalting / dehydration is performed so that the conductivity of the finally dehydrated water is preferably 300 μS / cm or less, more preferably 100 μS / cm or less, and most preferably 60 μS / cm or less. The lower limit of conductivity in this case is not particularly limited, but is usually about 5 μS / cm.
[0245]
As the ultrafiltration method, for example, a method used for desalting / concentration of a silver halide emulsion can be applied. Reference can be made to Research Disclosure No. 10 208 (1972), No. 13 122 (1975), No. 16 351 (1977), and the like. The pressure difference and flow rate that are important as operating conditions can be selected by referring to the characteristic curve described in Haruhiko Oya's “Membrane Utilization Technology Handbook”, Koshobo Publishing (1978), p275. In order to suppress the aggregation and fogging of particles, it is necessary to find the optimum conditions. There are two methods for replenishing the solvent that is lost due to membrane permeation: a constant volume method in which the solvent is continuously added and a batch method in which the solvent is intermittently added, but the desalting time is relatively short. The formula is preferred.
[0246]
As the solvent to be replenished, pure water obtained by ion exchange or distillation is used. In order to maintain the pH at a target value, a pH adjusting agent or the like may be mixed in pure water, or organic You may add directly to a silver salt dispersion.
[0247]
As for ultrafiltration membranes, flat plate type, spiral type, cylindrical type, hollow fiber type, hollow fiber type, etc., which are already incorporated as modules, include Asahi Kasei Co., Ltd., Daicel Chemical Co., Ltd., Toray Co., Ltd., and Nitto Co., Ltd. Although it is commercially available from Denko etc., a spiral type or a hollow fiber type is preferred from the viewpoint of the total membrane area and detergency.
Moreover, it is preferable that the fraction molecular weight used as the threshold value parameter | index of the component which can permeate | transmit a film | membrane is 1/5 or less of the molecular weight of the polymer dispersing agent to be used.
[0248]
In the desalting by ultrafiltration in the present invention, prior to the treatment, it is preferable to disperse the liquid in advance until the particle size is about twice the average weight of the final particle size. The dispersing means may be any method such as a high-pressure homogenizer or a microfluidizer described later.
[0249]
It is preferable to keep the liquid temperature low after the grain formation until the desalting operation proceeds. This is because when the organic solvent used for dissolving the alkali metal salt of the organic acid penetrates into the generated organic silver salt particles, the shearing field when passing through the liquid feeding operation or the ultrafiltration membrane, This is because silver nuclei are easily generated by the pressure field. For this reason, in this invention, ultrafiltration operation is performed, keeping the temperature of organic silver salt particle dispersion at 1-30 degreeC, Preferably it is 5-25 degreeC.
[0250]
(Redistribution)
Further, in order to improve the coated surface state of the photothermographic material, particularly the photothermographic material, it is preferable to add and disperse the desalted and dehydrated organic silver salt to form a fine dispersion.
[0251]
Known methods and the like can be applied to the production and dispersion method of the organic silver salt used in the present invention. For example, the above-mentioned JP-A-8-234358, JP-A-10-62899, European Patent Publication No. 0803763A1, European Patent Publication No. 0968212A1, JP-A-11-349591, JP-A-2000-7683, 2000-72711, 2000-53682, 2000-75437, 2000-86669, 2000-143578, 2000-178278, 2000-256254, Japanese Patent Application Nos. 11-348228-30, 11-203413 No. 11-115457, No. 11-180369, No. 11-297964, No. 11-157638, No. 11-202081, Japanese Patent Application Nos. 2000-90093, No. 2000-195621, No. 2000-191226. 2000-213813, No. 2000-214155, the same 2000-191226 Patent or the like can be used as a reference.
[0252]
The method for finely dispersing the organic silver salt is known in the presence of a dispersing aid, such as known finer means (eg, high speed mixer, homogenizer, high speed impact mill, Banbury mixer, homomixer, kneader, ball mill, vibrating ball mill, planetary ball mill). , Attritor, sand mill, bead mill, colloid mill, jet mill, roller mill, tron mill, and high-speed stone mill).
[0253]
In order to obtain a uniform fatty silver salt solid dispersion having a high S / N, a small particle size, and no agglomeration, a large force is used as long as the organic silver salt particles as an image forming medium are not damaged or heated. It is preferable to give uniformly. For this purpose, a dispersion method is preferred in which a dispersion comprising an organic silver salt and a dispersant solution is converted into a high-speed flow and then the pressure is dropped. The dispersion medium in this case may be any solvent as long as the dispersion aid functions, but is preferably only water, and may contain an organic solvent as long as it is 20% by mass or less. Further, when a photosensitive silver salt is allowed to coexist at the time of dispersion, fogging is increased and sensitivity is remarkably lowered. Therefore, it is more preferable that the photosensitive silver salt is not substantially contained at the time of dispersion. In the present invention, the amount of the photosensitive silver salt in the dispersion to be dispersed is 0.1 mol% or less with respect to 1 mol of the organic silver salt in the liquid, and it is preferable not to add the photosensitive silver salt.
[0254]
For example, “dispersion system rheology and dispersion technology” (Toshio Kajiuchi, Hiroki Arai, 1991, Shinyamasha Publishing Co., Ltd.) Pp. 357-403), "Progress of Chemical Engineering, Vol. 24" (Chemical Engineering Society, Tokai Branch, 1990, Tsuji Shoten, p. 184-185), JP 59-49832, US Pat. No. 4,533,254, JP As described in detail in Japanese Patent Laid-Open Nos. 8-137044, 8-238848, 2-261525, and 1-94933, the redispersion method of the present invention uses a high-pressure pump to disperse a dispersion containing at least an organic silver salt. This is a method in which fine dispersion is performed by passing through a narrow slit provided in the pipe after the pressure is applied in the pipe, and then causing a sudden pressure drop in the dispersion. The
[0255]
For high-pressure homogenizers, in general, (a) “shearing force” generated when the dispersoid passes through a narrow gap (about 75 μm to 350 μm) at high pressure and high speed, (b) liquid-liquid collision in a narrow space of high pressure, Alternatively, it is considered that the impact force generated when colliding with the wall surface is not changed, and the cavitation force due to the subsequent pressure drop is further increased, and uniform and efficient dispersion is performed. In the old days, this type of dispersing device includes a gorin homogenizer. In this device, the liquid to be dispersed sent at a high pressure is converted into a high-speed flow in a narrow gap on the cylindrical surface, and this force is applied to the surrounding wall surface. Colliding and emulsifying / dispersing by the impact force. Examples of the liquid-liquid collision include a Y-type chamber of a microfluidizer, a spherical chamber using a spherical check valve as described in JP-A-8-103642, which will be described later, and the like. Includes a Z-type chamber of a microfluidizer. The working pressure is generally 100 to 600 kg / cm2(1-6 MPa), the flow rate is in the range of several m to 30 m / sec, and in order to increase the dispersion efficiency, a high-speed flow part is sawtoothed to increase the number of collisions has been devised. . Typical examples of such devices include a Gorin homogenizer, a microfluidizer manufactured by Microfluidics International Corporation, a microfluidizer manufactured by Mizuho Industry Co., Ltd., and a nanomizer manufactured by Special Machine Industries Co., Ltd. . Also described in JP-A-8-238848, JP-A-8-103642 and USP4533254.
[0256]
The organic silver salt can be dispersed in a desired particle size by adjusting the flow rate, the differential pressure at the time of pressure drop and the number of treatments, but from the viewpoint of photographic characteristics and particle size, the flow rate is 200 to 600 m / second, the pressure The differential pressure when descending is 900-3000kg / cm2The range of (9-30 MPa) is preferable, the flow rate is 300-600 m / sec, and the differential pressure during pressure drop is 1500-3000 kg / cm.2More preferably, it is in the range of (15-30 MPa). The number of distributed processes can be selected as necessary. Usually, a range of 1 to 10 times is selected, but about 1 to 3 times is selected from the viewpoint of productivity. It is not preferable from the viewpoint of dispersibility and photographic properties to increase the temperature of such a dispersion under high pressure. At high temperatures exceeding 90 ° C, the particle size tends to increase and fog tends to increase. . Therefore, a cooling device is included in the process before the conversion to the high-pressure and high-speed flow, the process after the pressure drop, or both of these processes. It is preferable to be kept at a temperature of 5 to 80 ° C., particularly 5 to 65 ° C. In particular, 1500 to 3000 kg / cm2It is effective to install the cooling device when dispersing at a high pressure in the range of (15 to 30 MPa). Depending on the required heat exchange amount, a cooling device using a static mixer in a double tube or triple tube, a multi-tube heat exchanger, a serpentine heat exchanger, or the like can be appropriately selected. In addition, in order to increase the efficiency of heat exchange, a suitable tube thickness, wall thickness, material, or the like may be selected in consideration of the operating pressure. The refrigerant used for the cooler is a heat exchanger such as 20 ° C. well water, 5-10 ° C. cold water treated with a refrigerator, or -30 ° C. ethylene glycol / water refrigerant, etc. can do.
[0257]
When organic silver salt is made into solid fine particles using a dispersant, for example, polyacrylic acid, acrylic acid copolymer, maleic acid copolymer, maleic acid monoester copolymer, acryloylmethylpropane sulfonic acid Synthetic anionic polymers such as copolymers, semi-synthetic anionic polymers such as carboxymethyl starch and carboxymethylcellulose, anionic polymers such as alginic acid and pectic acid, anions described in JP-A-52-92716, WO88 / 04794, etc. Surfactants, compounds described in Japanese Patent Application No. 7-350753, or known anionic, nonionic, cationic surfactants, other polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, carboxymethylcellulose, hydroxypropylcellulose, hydroxypropylmethy Known polymers such as cellulose, or a polymer compound existing in nature such as gelatin can be suitably selected and used. When a solvent is used as the dispersion medium, polyvinyl butyral, butyl ethyl cellulose, methacrylate copolymer, maleic anhydride ester copolymer, polystyrene and butadiene-styrene copolymer are preferably used.
[0258]
Dispersing aid is generally mixed with organic silver salt powder or wet cake organic silver salt before dispersion, and sent to the disperser as a slurry. The organic silver salt powder or wet cake may be obtained by heat treatment or treatment with a solvent. The pH may be controlled with an appropriate pH adjusting agent before or during dispersion.
[0259]
In addition to mechanical dispersion, it may be coarsely dispersed in a solvent by controlling the pH, and then finely divided by changing the pH in the presence of a dispersion aid. At this time, you may use a fatty acid solvent as a solvent used for rough dispersion.
[0260]
In addition, when the photosensitive silver salt is allowed to coexist at the time of dispersion of the organic silver salt, the fog is increased and the sensitivity is remarkably lowered. Therefore, it is more preferable that the photosensitive silver salt is not substantially contained at the time of dispersion. In the present invention, the amount of the photosensitive silver salt in the aqueous dispersion to be dispersed is 0.1 mol% or less with respect to 1 mol of the organic silver salt in the liquid, and no positive addition of the photosensitive silver salt is performed. Is.
[0261]
5) Amount added
The organic silver salt of the present invention can be used in a desired amount, but the total coating silver amount including silver halide is 0.1 to 5 g / m.2Is preferred, more preferably 03-3.0 g / m2More preferably, 0.5 to 2.0 g / m2It is. In particular, in order to improve image storage stability, the total amount of silver applied is 0.5 to 1.8 g / m.2Is preferable, preferably 0.5 to 1.6 g / m2It is.
[0262]
(Photosensitive silver halide)
1) Halogen composition
The photosensitive silver halide used in the present invention is not limited in the halogen composition, but preferably has a high silver iodide content of 5 mol% to 100 mol%. More preferably, they are 40 mol% or more and 100 mol% or less, More preferably, they are 90 mol% or more and 100 mol% or less. The rest is not particularly limited and can be selected from silver chloride, silver bromide, or organic silver salts such as silver thiocyanate and silver phosphate. Silver bromide and silver chloride are particularly preferred. By using such a silver halide having a high silver iodide content, it is possible to design a preferable photothermographic material in which image storage stability after development processing, in particular, an increase in fog due to light irradiation is remarkably small.
[0263]
The distribution of the halogen composition in the grains may be uniform, the halogen composition may be changed stepwise, or may be continuously changed. Further, silver halide grains having a core / shell structure can be preferably used. A preferable structure is a 2- to 5-fold structure, and more preferably 2- to 4-fold core / shell particles can be used. A technique for localizing silver bromide or silver iodide on the surface of silver chloride, silver bromide or silver chlorobromide grains can also be preferably used.
[0264]
2) Particle size
The average grain size of the high silver iodide used in the present invention is preferably 5 nm or more and 90 nm or less. If the size of the silver halide is large, it is generally not preferable because the amount of silver halide applied to achieve the required maximum density increases and the transparency of the film decreases.
In particular, the silver halide composition having a high silver iodide content according to the present invention has a specific action that the development is suppressed and the sensitivity is lowered and the density stability with respect to the development time is deteriorated when the coating amount is large. I found. For this reason, the maximum density cannot be obtained within a predetermined development time when the particle size exceeds a certain level. On the other hand, it has been found that if the amount added is limited to a certain amount or less, silver iodide has sufficient developability.
[0265]
In this way, when using high silver iodide, the size of the silver halide grains is sufficiently larger than that of conventional silver bromide and silver iodide containing low iodine to achieve a sufficient maximum optical density. It is necessary to be small and to keep the addition amount of silver iodide low. The preferred silver halide grain size is 5 nm or more and 70 nm or less, and more preferably 5 nm or more and 55 nm or less. Especially preferably, it is 10 nm or more and 40 nm or less. The term “particle size” as used herein refers to the average diameter when converted to a circle having the same area as the projected area observed with an electron microscope.
[0266]
3) Particle shape
Examples of the shape of the silver halide grains in the present invention include cubes, octahedrons, dodecahedrons, tetrahedrons, tabular grains, spherical grains, rod-shaped grains, and potato-shaped grains. The shape of a plane body or a tetrahedron is preferable. The dodecahedron referred to here is a particle having {001}, {1 (−1) 0}, {101} faces. A tetrahedron is a particle having {110}, {101}, {100} faces. Both the dodecahedron and the dodecahedron particles can have an arbitrary β phase and γ phase content, but preferably have at least a γ phase. More preferably, the average γ phase ratio is 5 mol% or more and 90 mol% or less, more preferably 10 mol% or more and 70 mol% or less, and further preferably 25 mol% or more and 50 mol% or less.
The above γ phase refers to a high silver iodide structure having a hexagonal wurtzite structure, and the β phase refers to a high silver iodide structure having a cubic zinc blend structure.
The average γ phase ratio mentioned here is determined using the method proposed by C.R.Berry. This method is determined based on the peak ratio of the silver iodide β phases (100), (101), (002) and the γ phase (111) by the powder X-ray diffraction method. Details are described in, for example, Physical Review, Volume 161, No. 3, p.848-851 (1967).
[0267]
4) Particle formation method
Methods for forming photosensitive silver halide are well known in the art, for example, the methods described in Research Disclosure June 1978, No. 17029, and US Pat. No. 3,700,458 can be used, Specifically, a method is used in which a photosensitive silver halide is prepared by adding a silver supply compound and a halogen supply compound to gelatin or another polymer solution, and then mixed with an organic silver salt. In addition, the method described in paragraph Nos. 0217 to 0224 of JP-A-11-119374, the method described in JP-A-11-352627, and Japanese Patent Application No. 2000-42336 are also preferable.
[0268]
For example, a so-called hydration method in which a part of the organic silver salt is halogenated with an organic or inorganic halide is also preferably used. The organic halide used here may be any compound that reacts with an organic silver salt to produce silver halide, but N-halogenoimide (N-bromosuccinimide, etc.), halogenated quaternary nitrogen compound (odor) And tetrabutylammonium bromide), and aggregates of halogenated quaternary nitrogen salts and halogen molecules (pyridinium perbromide). Any inorganic halogen compound may be used as long as it is a compound that reacts with an organic silver salt to produce silver halide, but alkali metal halide or ammonium (sodium chloride, lithium bromide, potassium iodide, ammonium bromide, etc.) ), Alkaline earth metal halides (calcium bromide, magnesium chloride, etc.), transition metal halides (ferric chloride, cupric bromide, etc.), metal complexes having a halogen ligand (sodium iridate bromide) , Ammonium rhodate, etc.) and halogen molecules (bromine, chlorine, iodine). Moreover, you may use desired organic inorganic halide together. The amount of halide added at the time of hydrating is preferably 1 to 500 mmol, more preferably 10 to 250 mmol as a halogen atom per mol of the organic silver salt.
[0269]
The photosensitive silver halide grains can be desalted by washing with water known in the art, such as a noodle method or a flocculation method, but in the present invention, it may or may not be desalted.
[0270]
In the present invention, a particularly preferable method for forming photosensitive silver halide grains is a method for forming grains in the absence of an organic silver salt. The photosensitive silver halide grains in the present invention are mixed with a non-photosensitive organic silver salt after being subjected to processing for high sensitivity and stabilization such as control of appropriate shape and chemical sensitization after grain formation. Is preferred.
[0271]
5) Heavy metal
The photosensitive silver halide grains preferably contain at least one metal complex selected from rhodium, rhenium, ruthenium, osnium, iridium, cobalt, mercury or iron. One kind of these metal complexes may be used, or two or more kinds of complexes of the same metal and different metals may be used in combination. The preferred content is in the range of 1 nanomolar (nmol) to 10 millimolar (mmol), and more preferably in the range of 10 nanomolar (nmol) to 100 micromolar (μmol) per mole of silver. As a specific metal complex structure, a metal complex having a structure described in JP-A-7-225449 can be used. For cobalt and iron compounds, hexacyano metal complexes can be preferably used. Specific examples include ferricyanate ion, ferrocyanate ion, hexacyanocobaltate ion and the like, but are not limited thereto. The phase containing the metal complex in the silver halide may be uniform, may be contained in the core part at a high concentration, or may be contained in the shell part at a high concentration, and is not particularly limited.
[0272]
6) Gelatin
Various gelatins can be used as the gelatin contained in the photosensitive silver halide emulsion used in the present invention. In order to maintain a good dispersion state of the photosensitive silver halide emulsion in the organic silver salt-containing coating solution, it is preferable to use a low molecular weight gelatin having a molecular weight of 500 to 60,000. These low molecular weight gelatins may be used at the time of particle formation or dispersion after desalting, but are preferably used at the time of dispersion after desalting.
[0273]
7) Chemical sensitization
The photosensitive silver halide grains are preferably chemically sensitized. As a preferable chemical sensitization method, a sulfur sensitization method, a selenium sensitization method and a tellurium sensitization method can be used as is well known in the art. Further, noble metal sensitization methods such as gold compounds, platinum, palladium, iridium compounds and reduction sensitization methods can be used. As the compound preferably used in the sulfur sensitization method, selenium sensitization method and tellurium sensitization method, known compounds can be used, but compounds described in JP-A-7-128768 can be used.
[0274]
8) Sensitizing dye
As a sensitizing dye applicable to the present invention, it can spectrally sensitize silver halide grains in a desired wavelength region when adsorbed on silver halide grains, and has a spectral sensitivity suitable for the spectral characteristics of the exposure light source. The dye can be advantageously selected. The photothermographic material of the invention is preferably spectrally sensitized so as to have a spectral sensitivity peak particularly in the range of 300 nm to 500 nm. As for the sensitizing dye and the addition method, paragraphs 0103 to 0109 of JP-A-11-65021, compounds represented by general formula (II) of JP-A-10-186572, and general formulas (I) of JP-A-11-119374 ) And a dye described in Paragraph No. 0106, U.S. Pat.Nos. 5,510,236 and 3,871,887, Example 5, a dye disclosed in JP-A-2-96131 and JP-A-59-48753, European Patent Publication No. 074364A1 page 19 line 38 to page 20 line 35, Japanese Patent Application No. 2000-86865, Japanese Patent Application No. 2000-102560, Japanese Patent Application No. 2000-205399, etc. Specific examples shown in Japanese Patent Application No. 2002-102319 are represented by general formulas Da to Dd. 1 to No. The dyes listed in 53 are also preferably used in the present invention. These sensitizing dyes may be used alone or in combination of two or more. In the present invention, the time when the sensitizing dye is added to the silver halide emulsion is preferably the time from the desalting step to the coating, more preferably from the desalting to the end of chemical ripening.
[0275]
The addition amount of the sensitizing dye in the present invention can be set to a desired amount in accordance with the sensitivity and fogging performance, but is 10 per mol of silver halide in the image forming layer.-6~ 1 mol is preferred, more preferably 10-Four~Ten-1Is a mole.
[0276]
In the present invention, a supersensitizer can be used to improve spectral sensitization efficiency. Examples of supersensitizers used in the present invention include European Patent Publication No. 587,338, U.S. Pat.Nos. 3,877,943, 4,873,184, JP-A Nos. 5-341432, 11-109547, and 10-111543. And the compounds described.
[0277]
9) Combined use of silver halide
The photosensitive silver halide emulsion in the photothermographic material used in the present invention may be one kind or two or more kinds (for example, those having different average grain sizes, those having different halogen compositions, those having different crystal habits, Those having different chemical sensitization conditions) may be used in combination. The gradation can be adjusted by using a plurality of types of photosensitive silver halides having different sensitivities. As technologies related to these, JP-A-57-119341, 53-106125, 47-3929, 48-55730, 46-5187, 50-73627, 57-150841, etc. Can be mentioned. As the sensitivity difference, it is preferable that each emulsion has a difference of 0.2 logE or more.
[0278]
10) Mixing silver halide into coating solution
The preferred addition time of the silver halide of the present invention to the image-forming layer coating solution is from 180 minutes before coating to immediately before, preferably from 60 minutes to 10 seconds before coating. There is no particular limitation as long as the effect is sufficiently exhibited. Specific mixing methods include mixing in a tank in which the average residence time calculated from the addition flow rate and the amount of liquid delivered to the coater is the desired time, and by N. Harnby, MFEdwards, AWNienow, Takahashi There is a method of using a static mixer described in Chapter 8 of "Liquid Mixing Technology" (published by Nikkan Kogyo Shimbun, 1989).
[0279]
11) Application amount
The coating amount of the silver halide grains in the present invention is 0.5 mol% or more and 15 mol% or less, preferably 0.5 mol% or more and 12 mol% or less with respect to 1 mol of the silver of the non-photosensitive organic silver salt. It is. It is particularly preferably 0.5 mol% or more and 7 mol% or less, more preferably 0.5 mol% or more and 5 mol% or less.
[0280]
12) A compound in which a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation can emit one electron or more.
In the photothermographic material of the invention, it is preferable that the one-electron oxidant produced by one-electron oxidation contains a compound capable of emitting one electron or more. The compound can be used alone or in combination with the above-described various chemical sensitizers to increase the sensitivity of silver halide.
[0281]
The one-electron oxidant produced by one-electron oxidation contained in the photothermographic material of the present invention is a compound selected from the following types 1 to 5 that can emit one or more electrons.
[0282]
(Type 1)
A compound in which a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation can further emit two or more electrons with a subsequent bond cleavage reaction.
(Type 2)
The one-electron oxidant produced by one-electron oxidation is a compound capable of releasing another electron with subsequent bond cleavage reaction, and has two or more adsorptive groups to silver halide in the same molecule. Compound.
(Type 3)
A compound capable of emitting one or more electrons after a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation undergoes a subsequent bond formation process.
(Type 4)
A compound capable of emitting one or more electrons after a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation undergoes a subsequent intramolecular ring-cleaving reaction.
(Type 5)
In the compound represented by XY, X represents a reducing group, Y represents a leaving group, and a one-electron oxidant formed by one-electron oxidation of the reducing group represented by X is followed by XY A compound capable of releasing Y by releasing Y with a bond cleavage reaction and releasing another electron therefrom.
[0283]
Preferred among the compounds of types 1 and 3 to 5 are “compounds having an adsorbing group for silver halide in the molecule” or “partial structure of spectral sensitizing dye in the molecule”. Compound ". More preferred is a “compound having an adsorptive group to silver halide in the molecule”. The compounds of types 1 to 4 are more preferably “compounds having a nitrogen-containing heterocyclic group substituted with two or more mercapto groups as an adsorptive group”.
[0284]
The compounds of types 1 to 5 will be described in detail.
In the type 1 compound, “bond cleavage reaction” specifically means cleavage of bonds between carbon-carbon, carbon-silicon, carbon-hydrogen, carbon-boron, carbon-tin, and carbon-germanium elements, These may be further accompanied by carbon-hydrogen bond cleavage. A type 1 compound is a compound capable of emitting two or more (preferably three or more) electrons for the first time after a one-electron oxidation to form a one-electron oxidant with a bond cleavage reaction.
[0285]
Among the compounds of type 1, preferred compounds are represented by general formula (A), general formula (B), general formula (1), general formula (2) or general formula (3).
[0286]
Formula (A)
Embedded image
[0287]
General formula (B)
Embedded image
[0288]
In general formula (A), RED11Represents a reducing group which can be oxidized by one electron, and L11Represents a leaving group. R112Represents a hydrogen atom or a substituent. R111Is carbon atom (C) and RED11And a nonmetallic atomic group capable of forming a cyclic structure corresponding to a tetrahydro form, hexahydro form, or octahydro form of a 5-membered or 6-membered aromatic ring (including an aromatic heterocycle).
[0289]
In the general formula (B), RED12Represents a reducing group which can be oxidized by one electron, and L12Represents a leaving group. R121And R122Each represents a hydrogen atom or a substituent. ED12Represents an electron donating group. R in the general formula (B)121And RED12, R121And R122Or ED12And RED12And may be bonded to each other to form a cyclic structure.
[0290]
These compounds represented by general formula (A) or general formula (B) are represented by RED.11Or RED12After the reducing group represented by11Or L12Is a compound that can release two or more electrons, preferably three or more electrons, by releasing them by bond cleavage reaction.
[0291]
General formula (1), general formula (2), general formula (3)
Embedded image
[0292]
In general formula (1), Z1Represents an atomic group capable of forming a 6-membered ring with a nitrogen atom and two carbon atoms of a benzene ring, and R1, R2, RN1Each represents a hydrogen atom or a substituent, and X1Represents a substitutable substituent on the benzene ring, m1Represents an integer of 0 to 3, L1Represents a leaving group. ED in general formula (2)twenty oneRepresents an electron donating group, R11, R12, RN21, R13, R14Each represents a hydrogen atom or a substituent, and Xtwenty oneRepresents a substitutable substituent on the benzene ring, mtwenty oneRepresents an integer of 0 to 3, Ltwenty oneRepresents a leaving group. RN21, R13, R14, Xtwenty oneAnd EDtwenty oneMay be bonded to each other to form a cyclic structure. In the general formula (3), R32, R33, R31, RN31, Ra, RbEach represents a hydrogen atom or a substituent, and L31Represents a leaving group. However, RN31When represents a group other than an aryl group, RaAnd RbCombine with each other to form an aromatic ring.
[0293]
After these compounds are oxidized by one electron,1, Ltwenty oneOr L31Is a compound that can release two or more electrons, preferably three or more electrons, by releasing them by bond cleavage reaction.
[0294]
Hereinafter, the compound represented by formula (A) will be described in detail below.
In general formula (A), RED11A reducing group that can be oxidized by one electron is represented by R described later.111And a divalent group obtained by removing one hydrogen atom at a suitable site for ring formation from the following monovalent group. For example, alkylamino group, arylamino group (anilino group, naphthylamino group etc.), heterocyclic amino group (benzthiazolylamino group, pyrrolylamino group etc.), alkylthio group, arylthio group (phenylthio group etc.), heterocyclic thiol Group, alkoxy group, aryloxy group (phenoxy group etc.), heterocyclic oxy group, aryl group (phenyl group, naphthyl group, anthranyl group etc.), aromatic or non-aromatic heterocyclic group (5-membered to 7-membered) A monocyclic or condensed heterocyclic ring containing at least one heteroatom among nitrogen atom, sulfur atom, oxygen atom and selenium atom. Specific examples thereof include, for example, a tetrahydroquinoline ring, a tetrahydroisoquinoline ring, and a tetrahydroquinoxaline ring. , Tetrahydroquinazoline ring, indoline ring, indole ring, indazole ring, carbazo Ring, phenoxazine ring, phenothiazine ring, benzothiazoline ring, pyrrole ring, imidazole ring, thiazoline ring, piperidine ring, pyrrolidine ring, morpholine ring, benzimidazole ring, benzoimidazoline ring, benzoxazoline ring, methylenedioxyphenyl ring, etc. (Hereinafter referred to as RED for convenience)11Is described as a monovalent radical name). RED11May have a substituent.
[0295]
In the present invention, the substituent means a substituent selected from the following groups unless otherwise specified. Halogen atom, alkyl group (including aralkyl group, cycloalkyl group, active methine group, etc.), alkenyl group, alkynyl group, aryl group, heterocyclic group (regardless of the position of substitution), quaternized nitrogen atom A heterocyclic group (e.g., pyridinio group, imidazolio group, quinolinio group, isoquinolinio group), acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, carboxy group or salt thereof, sulfonylcarbamoyl group, acylcarbamoyl group, sulfa Moylcarbamoyl group, carbazoyl group, oxalyl group, oxamoyl group, cyano group, carboximidoyl group, thiocarbamoyl group, hydroxy group, alkoxy group (including groups containing ethyleneoxy group or propyleneoxy group unit repeatedly), aryloxy group Heterocycle o Si group, acyloxy group, (alkoxy or aryloxy) carbonyloxy group, carbamoyloxy group, sulfonyloxy group, amino group, (alkyl, aryl, or heterocyclic) amino group, acylamino group, sulfonamide group, ureido group, thioureido Group, imide group, (alkoxy or aryloxy) carbonylamino group, sulfamoylamino group, semicarbazide group, thiosemicarbazide group, hydrazino group, ammonio group, oxamoylamino group, (alkyl or aryl) sulfonylureido group, acylureido group , Acylsulfamoylamino group, nitro group, mercapto group, (alkyl, aryl, or heterocyclic) thio group, (alkyl or aryl) sulfonyl group, (alkyl or aryl) sulfinyl group, sulfo group or Salts, sulfamoyl group, sulfonylsulfamoyl group or a salt thereof, phosphoric acid amide or a group containing a phosphoric acid ester structure and so forth. These substituents may be further substituted with these substituents.
[0296]
RED11Are preferably an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic amino group, an aryl group, an aromatic or non-aromatic heterocyclic group, more preferably an arylamino group (particularly an anilino group), an aryl group (particularly a phenyl group). Group). When these have a substituent, the substituent is preferably a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, an acylamino group, or a sulfonamide group.
However, RED11When represents an aryl group, the aryl group preferably has at least one “electron-donating group”. Here, the “electron donating group” means a hydroxy group, an alkoxy group, a mercapto group, a sulfonamide group, an acylamino group, an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic amino group, an active methine group, and a nitrogen atom in the ring. 5-membered, monocyclic or condensed, electron-rich aromatic heterocyclic group (for example, indolyl group, pyrrolyl group, imidazolyl group, benzimidazolyl group, thiazolyl group, benzthiazolyl group, indazolyl group, etc.), nitrogen A non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group (a group that can also be called a cyclic amino group such as a pyrrolidinyl group, an indolinyl group, a piperidinyl group, a piperazinyl group, or a morpholino group) substituted with an atom. Here, the active methine group means a methine group substituted by two “electron-withdrawing groups”, and the “electron-withdrawing group” means an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, It means a carbamoyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfamoyl group, a trifluoromethyl group, a cyano group, a nitro group, or a carbonimidoyl group. Here, the two electron-attracting groups may be bonded to each other to form a cyclic structure.
[0297]
In general formula (A), L11Is specifically a carboxy group or a salt thereof, a silyl group, a hydrogen atom, a triarylboron anion, a trialkylstannyl group, a trialkylgermyl group, or -CRC1RC2RC3Represents a group. Here, the silyl group specifically represents a trialkylsilyl group, an aryldialkylsilyl group, a triarylsilyl group, or the like, and may have an arbitrary substituent.
[0298]
L11When represents a salt of a carboxy group, examples of counter ions that form salts include alkali metal ions, alkaline earth metal ions, heavy metal ions, ammonium ions, phosphonium ions, and the like, preferably alkali metal ions or ammonium ions. Alkali metal ions (especially Li+, Na+, K+Ion) is most preferred.
[0299]
L11-CRC1RC2RC3When representing a group, here RC1, RC2, RC3Each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkylthio group, an arylthio group, an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic amino group, an alkoxy group, an aryloxy group, or a hydroxy group. May be bonded to each other to form a cyclic structure, and may further have an arbitrary substituent. However, RC1, RC2, RC3When one of them represents a hydrogen atom or an alkyl group, the remaining two do not represent a hydrogen atom or an alkyl group. RC1, RC2, RC3Preferably, each independently represents an alkyl group, an aryl group (particularly a phenyl group), an alkylthio group, an arylthio group, an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic group, an alkoxy group, or a hydroxy group. For example, phenyl group, p-dimethylaminophenyl group, p-methoxyphenyl group, 2,4-dimethoxyphenyl group, p-hydroxyphenyl group, methylthio group, phenylthio group, phenoxy group, methoxy group, ethoxy group, dimethylamino Group, N-methylanilino group, diphenylamino group, morpholino group, thiomorpholino group, hydroxy group and the like. Examples of the case where they are bonded to each other to form a cyclic structure include 1,3-dithiolan-2-yl group, 1,3-dithian-2-yl group, N-methyl-1,3-thiazolidine-2 -Yl group, N-benzyl-benzothiazolidin-2-yl group and the like.
-CRC1RC2RC3The group is RC1, RC2, RC3As a result of each selected within the above-mentioned range, the general formula (A) to L11It is also preferred if it represents the same group as the residue excluding.
[0300]
In general formula (A), L11Is preferably a carboxy group or a salt thereof, and a hydrogen atom. More preferably, it is a carboxy group or a salt thereof.
[0301]
L11When represents a hydrogen atom, the compound represented by the general formula (A) preferably has a base moiety inherent in the molecule. After the compound represented by the general formula (A) is oxidized by the action of this base moiety,11Is deprotonated, and further electrons are emitted therefrom.
[0302]
Here, the base is specifically a conjugate base of an acid having a pKa of about 1 to about 10. For example, nitrogen-containing heterocycles (pyridines, imidazoles, benzimidazoles, thiazoles, etc.), anilines, trialkylamines, amino groups, carbon acids (active methylene anions, etc.), thioacetic acid anions, carboxylates (- COO-), Sulfate (-SOThree -), Or amine oxide (> N+(O-)-) And the like. Preferably, it is a conjugate base of an acid exhibiting a pKa of about 1 to about 8, more preferably carboxylate, sulfate or amine oxide, particularly preferably carboxylate. When these bases have anions, they may have counter cations, examples of which include alkali metal ions, alkaline earth metal ions, heavy metal ions, ammonium ions, phosphonium ions and the like. These bases are linked to the compound represented by the general formula (A) at an arbitrary position. The position at which these base sites bind is the RED of general formula (A)11, R111, R112Any of these may be sufficient, and you may connect with the substituent of these groups.
[0303]
R in the general formula (A)112Represents a substituent substitutable on a hydrogen atom or a carbon atom. However, R112Is L11And does not represent the same group.
R112Is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group (such as a phenyl group), an alkoxy group (such as a methoxy group, an ethoxy group, and a benzyloxy group), a hydroxy group, an alkylthio group (such as a methylthio group and a butylthio group), an amino group, and an alkyl group An amino group, an arylamino group and a heterocyclic amino group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a hydroxy group, a phenyl group and an alkylamino group.
[0304]
R in the general formula (A)111Is a ring structure corresponding to a tetrahydro, hexahydro or octahydro form of a 5-membered or 6-membered aromatic ring (including aromatic heterocycle), where the hydro form is an aromatic A ring structure in which a carbon-carbon double bond (or carbon-nitrogen double bond) in a ring (including an aromatic heterocycle) is partially hydrogenated means a tetrahydro form, and two hexahydro forms The three and octahydro forms mean a structure in which four carbon-carbon double bonds (or carbon-nitrogen double bonds) are hydrogenated. By being hydrogenated, the aromatic ring becomes a partially hydrogenated non-aromatic ring structure.
Specifically, pyrrolidine ring, imidazolidine ring, thiazolidine ring, pyrazolidine ring and oxazolidine ring, piperidine ring, tetrahydropyridine ring, tetrahydropyrimidine ring, piperazine ring, tetralin ring, tetrahydroquinoline ring, tetrahydroisoquinoline ring, tetrahydroquinazoline ring, And tetrahydroquinoxaline ring, tetrahydrocarbazole ring, octahydrophenanthridine ring and the like. These ring structures may have an arbitrary substituent.
[0305]
R111More preferably, the cyclic structure formed by pyrrolidine ring, imidazolidine ring, piperidine ring, tetrahydropyridine ring, tetrahydropyrimidine ring, piperazine ring, tetrahydroquinoline ring, tetrahydroisoquinoline ring, tetrahydroquinazoline ring, tetrahydroquinoxaline ring, tetrahydrocarbazole ring Particularly preferred are pyrrolidine ring, piperidine ring, piperazine ring, tetrahydropyridine ring, tetrahydroquinoline ring, tetrahydroisoquinoline ring, tetrahydroquinazoline ring, tetrahydroquinoxaline ring, most preferably pyrrolidine ring, piperidine ring, tetrahydropyridine ring. , Tetrahydroquinoline ring and tetrahydroisoquinoline ring.
[0306]
In general formula (B), RED12, L12Are respectively RED of the general formula (A)11, L11The preferred range is also the same. However, RED12Is a monovalent group except when it forms the following cyclic structure, specifically RED.11And monovalent group names described in the above. R121And R122Is R in the general formula (A)112The preferred range is also the same. ED12Represents an electron donating group. R121And RED12, R121And R122Or ED12And RED12And may be bonded to each other to form a cyclic structure.
[0307]
ED in general formula (B)12The electron donating group represented by RED11Is the same as the electron-donating group described as the substituent for when A represents an aryl group. ED12Preferably a hydroxy group, an alkoxy group, a mercapto group, a sulfonamide group, an alkylamino group, an arylamino group, an active methine group, a 5-membered monocyclic or condensed ring electron containing at least one nitrogen atom in the ring An excess aromatic heterocyclic group, a non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group substituted with a nitrogen atom, and a phenyl group substituted with these electron donating groups, and further a hydroxy group, a mercapto group, a sulfonamide group, an alkylamino group Groups, arylamino groups, active methine groups, non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic groups substituted with nitrogen atoms, and phenyl groups substituted with these electron-donating groups (for example, p-hydroxyphenyl groups, p-dialkylaminophenyl groups) , O, p-dialkoxyphenyl group, etc.) are more preferable.
[0308]
R in the general formula (B)121And RED12, R122And R121Or ED12And RED12And may be bonded to each other to form a cyclic structure. The cyclic structure formed here is a non-aromatic carbocyclic or heterocyclic ring, which is a 5-membered to 7-membered monocyclic or condensed ring, and is a substituted or unsubstituted cyclic structure. R121And RED12When and form a ring structure, specific examples thereof include R in general formula (A).111In addition to those listed as examples of the cyclic structure formed by pyrroline ring, imidazoline ring, thiazoline ring, pyrazoline ring, oxazoline ring, indane ring, morpholine ring, indoline ring, tetrahydro-1,4-oxazine ring, 2, 3-dihydrobenzo-1,4-oxazine ring, tetrahydro-1,4-thiazine ring, 2,3-dihydrobenzo-1,4-thiazine ring, 2,3-dihydrobenzofuran ring, 2,3-dihydrobenzothiophene A ring etc. are mentioned. ED12And RED12And form a ring structure, ED12Preferably represents an amino group, an alkylamino group, or an arylamino group, and specific examples of the ring structure formed include a tetrahydropyrazine ring, a piperazine ring, a tetrahydroquinoxaline ring, and a tetrahydroisoquinoline ring. R122And R121When and form a ring structure, specific examples thereof include a cyclohexane ring and a cyclopentane ring.
[0309]
Next, general formulas (1) to (3) will be described.
In the general formulas (1) to (3), R1, R2, R11, R12, R31Is R in the general formula (A)112The preferred range is also the same. L1, Ltwenty one, L31Is L in the general formula (A)11Represents the same leaving group as the specific examples given in the description, and preferred ranges thereof are also the same. X1, Xtwenty oneAs the substituent represented by the formula (A),11Is the same as the example of the substituent when has a substituent, and the preferred range is also the same. m1, Mtwenty oneIs preferably an integer of 0 to 2, more preferably 0 or 1.
[0310]
RN1, RN21, RN31When represents a substituent, the substituent is preferably an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, and these may further have an arbitrary substituent. RN1, RN21, RN31Is preferably a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group.
[0311]
R13, R14, R33, Ra, RbWhen represents a substituent, the substituent is preferably an alkyl group, aryl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, cyano group, alkoxy group, acylamino group, sulfonamido group, ureido group, thioureido group, alkylthio group. An arylthio group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfamoyl group, and the like.
[0312]
In general formula (1), Z1The 6-membered ring formed by is a non-aromatic heterocycle condensed with the benzene ring of the general formula (1). Specifically, a tetrahydroquinoline ring, a tetrahydroquinoxaline ring as a ring structure including the condensed benzene ring, A tetrahydroquinazoline ring, preferably a tetrahydroquinoline ring or a tetrahydroquinoxaline ring. These may have a substituent.
[0313]
ED in general formula (2)twenty oneIs the ED of the general formula (B)12The preferred range is also the same.
[0314]
In the general formula (2), RN21, R13, R14, Xtwenty oneAnd EDtwenty oneAny two of these may combine with each other to form a cyclic structure. Where RN21And Xtwenty oneThe cyclic structure formed by bonding is preferably a 5- to 7-membered non-aromatic carbocyclic or heterocyclic ring condensed with a benzene ring. Specific examples thereof include a tetrahydroquinoline ring and a tetrahydroquinoxaline. A ring, an indoline ring, a 2,3-dihydro-5,6-benzo-1,4-thiazine ring, and the like. Preferred are a tetrahydroquinoline ring, a tetrahydroquinoxaline ring and an indoline ring.
[0315]
In the general formula (3), RN31When represents a group other than an aryl group, RaAnd RbCombine with each other to form an aromatic ring. Here, the aromatic ring is an aryl group (for example, a phenyl group or a naphthyl group) and an aromatic heterocyclic group (for example, a pyridine ring group, a pyrrole ring group, a quinoline ring group, or an indole ring group), and an aryl group is preferable. The aromatic ring group may have an arbitrary substituent.
In the general formula (3), RaAnd RbAre preferably bonded to each other to form an aromatic ring (particularly a phenyl group).
[0316]
In the general formula (3), R32Is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a hydroxy group, an alkoxy group, a mercapto group, an amino group, etc., where R32When R represents a hydroxy group,33The case where represents an “electron-withdrawing group” is also a preferred example. Here, the “electron withdrawing group” is the same as described above, and an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, and a cyano group are preferable.
[0317]
Next, the type 2 compound will be described.
In the type 2 compound, “bond cleavage reaction” means carbon-carbon, carbon-silicon, carbon-hydrogen, carbon-boron, carbon-tin, carbon-germanium bond cleavage, and carbon-hydrogen. This may be accompanied by cleavage of the bond.
[0318]
The type 2 compound is a compound having two or more (preferably 2 to 6, more preferably 2 to 4) adsorptive groups to silver halide in the molecule. More preferred is a compound having a nitrogen-containing heterocyclic group substituted with two or more mercapto groups as an adsorptive group. The number of adsorptive groups is preferably 2-6, more preferably 2-4. The adsorptive group will be described later.
[0319]
A preferable compound among the compounds of type 2 is represented by the general formula (C).
[0320]
General formula (C)
Embedded image
[0321]
The compound represented by the general formula (C) is RED2After the reducing group represented by2It is a compound that can release one more electron with this by leaving the group by bond cleavage reaction.
[0322]
In general formula (C), RED2Is RED of general formula (B)12Represents the same group, and the preferred range is also the same. L2Is L in the general formula (A)11Represents the same group as described above, and its preferred range is also the same. L2When represents a silyl group, the compound is a compound having, as an adsorptive group, a nitrogen-containing heterocyclic group substituted with two or more mercapto groups in the molecule. Rtwenty one, Rtwenty twoRepresents a hydrogen atom or a substituent, and these are R in the general formula (A)112The preferred range is also the same. RED2And Rtwenty oneAnd may be bonded to each other to form a ring structure.
[0323]
The ring structure formed here is a 5-membered to 7-membered monocyclic or condensed, non-aromatic carbocycle or heterocycle, which may have a substituent. However, the ring structure is not a ring structure corresponding to a tetrahydro, hexahydro or octahydro form of an aromatic ring or an aromatic heterocycle. The ring structure is preferably a ring structure corresponding to a dihydro form of an aromatic ring or an aromatic heterocycle, and specific examples thereof include, for example, a 2-pyrroline ring, a 2-imidazoline ring, a 2-thiazoline ring, 1,2- Dihydropyridine ring, 1,4-dihydropyridine ring, indoline ring, benzimidazoline ring, benzothiazoline ring, benzoxazoline ring, 2,3-dihydrobenzothiophene ring, 2,3-dihydrobenzofuran ring, benzo-α-pyran ring, 1 , 2-dihydroquinoline ring, 1,2-dihydroquinazoline ring, 1,2-dihydroquinoxaline ring and the like, preferably 2-imidazoline ring, 2-thiazoline ring, indoline ring, benzoimidazoline ring, benzothiazoline ring, Benzoxazoline ring, 1,2-dihydropyridine ring, 1,2-dihydroquino Down ring, 1,2-dihydro-quinazoline ring, and the like 1,2-dihydro-quinoxaline ring, indoline ring, benzimidazoline ring, a benzothiazoline ring, 1,2-dihydroquinoline ring is more preferable, indoline ring is particularly preferred.
[0324]
Next, the compound of type 3 will be described.
In the type 3 compound, “bond formation process” means formation of an interatomic bond such as carbon-carbon, carbon-nitrogen, carbon-sulfur, carbon-oxygen and the like.
[0325]
The compound of type 3 is preferably a reactive group site (carbon-carbon double bond site, carbon-carbon triple bond site, fragrance) in which a one-electron oxidant formed by one-electron oxidation coexists in the molecule. And a non-aromatic heterocyclic group part of a benzo-condensed ring) to form a bond and then emit one electron or more electrons.
[0326]
More specifically, a type 3 compound has a one-electron oxidant formed by one-electron oxidation (a cation radical species or a neutral radical species produced by elimination of a proton therefrom) in the same molecule. It reacts with the coexisting reactive group, forms a bond, and generates a radical species having a new ring structure in the molecule. This radical species has a feature that electrons of the second electron are emitted directly or with elimination of protons.
And in some Type 3 compounds, the two-electron oxidant so produced is then subjected to a hydrolysis reaction in some cases, and in some cases tautomerization with direct proton transfer. There is a case in which one or more electrons, usually two or more electrons are emitted from the oxidization reaction. Alternatively, those having the ability to emit one or more electrons, usually two or more electrons, directly from a two-electron oxidant without going through such a tautomerization reaction are also included.
[0327]
The compound of type 3 is preferably represented by the general formula (D).
[0328]
Formula (D)
Embedded image
[0329]
In general formula (D), REDThreeRepresents a reducing group which can be oxidized by one electron, YThreeIs REDThreeRepresents a reactive group site that reacts after one-electron oxidation, specifically a carbon-carbon double bond site, a carbon-carbon triple bond site, an aromatic group site, or a non-aromatic heterocycle of a benzo-fused ring An organic group containing a ring group site is represented. LThreeIs REDThreeAnd YThreeRepresents a linking group for linking.
[0330]
REDThreeIs RED of general formula (B)12And is preferably an arylamino group, a heterocyclic amino group, an aryloxy group, an arylthio group, an aryl group, an aromatic or non-aromatic heterocyclic group (particularly a nitrogen-containing heterocyclic group is preferred). And more preferably an arylamino group, a heterocyclic amino group, an aryl group, an aromatic or non-aromatic heterocyclic group, and among these heterocyclic groups, a tetrahydroquinoline ring group, a tetrahydroquinoxaline ring group, a tetrahydroquinazoline ring Group, indoline ring group, indole ring group, carbazole ring group, phenoxazine ring group, phenothiazine ring group, benzothiazoline ring group, pyrrole ring group, imidazole ring group, thiazole ring group, benzimidazole ring group, benzimidazoline ring group, Benzothiazoline ring group, 3,4-methylenedioxyphenyl-1-yl group Etc. are preferable.
REDThreeParticularly preferred are an arylamino group (particularly anilino group), an aryl group (particularly a phenyl group), and an aromatic or non-aromatic heterocyclic group.
[0331]
Where REDThreeWhen represents an aryl group, the aryl group preferably has at least one “electron-donating group”. The “electron donating group” is the same as described above.
[0332]
REDThreeWhen represents an aryl group, the substituent of the aryl group is more preferably an alkylamino group, a hydroxy group, an alkoxy group, a mercapto group, a sulfonamide group, an active methine group, a non-aromatic nitrogen-containing heterocycle substituted with a nitrogen atom More preferably an alkylamino group, a hydroxy group, an active methine group, and a non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group substituted with a nitrogen atom, and most preferably an alkylamino group and a non-aromatic group substituted with a nitrogen atom. Nitrogen heterocyclic group.
[0333]
YThreeWhen the organic group containing a carbon-carbon double bond site represented by (for example, vinyl group) has a substituent, the substituent is preferably an alkyl group, a phenyl group, an acyl group, a cyano group, an alkoxycarbonyl group, A carbamoyl group, an electron donating group, and the like. The electron donating group is preferably an alkoxy group, a hydroxy group (which may be protected with a silyl group, such as a trimethylsilyloxy group, a t-butyldimethylsilyloxy group, Phenylsilyloxy group, triethylsilyloxy group, phenyldimethylsilyloxy group, etc.), amino group, alkylamino group, arylamino group, sulfonamide group, active methine group, mercapto group, alkylthio group, and these electron donors It is a phenyl group having a functional group as a substituent.
[0334]
Here, when the organic group containing a carbon-carbon double bond site has a hydroxy group as a substituent, YThreeIs the partial structure on the right:> C1= C2(—OH) — is included, but this is tautomerized and the partial structure shown on the right:> C1HC2It may be (= O)-. In this case, the C1It is also preferred that the substituent substituted for carbon is an electron withdrawing group, in which case YThreeHas a partial structure of “active methylene group” or “active methine group”. The electron withdrawing group that can give such a partial structure of the active methylene group or active methine group is the same as that described in the description of the above-mentioned “active methine group”.
[0335]
YThreeWhen the organic group containing a carbon-carbon triple bond site represented by (for example, ethynyl group) has a substituent, examples of the substituent include an alkyl group, a phenyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, and an electron donating group. preferable.
[0336]
YThreeRepresents an organic group containing an aromatic group, an aromatic group is preferably an aryl group having an electron donating group as a substituent (particularly a phenyl group is preferred) or an indole ring group, where the electron donating group is Preferred are a hydroxy group (which may be protected with a silyl group), an alkoxy group, an amino group, an alkylamino group, an active methine group, a sulfonamide group and a mercapto group.
[0337]
YThreeRepresents an organic group containing a non-aromatic heterocyclic group portion of a benzo-fused ring, preferably a benzo-fused non-aromatic heterocyclic group that preferably has an aniline structure as a partial structure, for example, an indoline ring group, 1,2,3,4-tetrahydroquinoline ring group, 1,2,3,4-tetrahydroquinoxaline ring group, 4-quinolone ring group and the like can be mentioned.
[0338]
YThreeMore preferred as the reactive group represented by is an organic group containing a carbon-carbon double bond site, an aromatic group site, or a benzo-fused non-aromatic heterocyclic group. More preferred are a carbon-carbon double bond site, a phenyl group having an electron donating group as a substituent, an indole ring group, and a benzo-fused non-aromatic heterocyclic group having an aniline structure as a partial structure. Here, the carbon-carbon double bond site preferably has at least one electron donating group as a substituent.
[0339]
YThreeAs a result of the selection of the reactive group represented byThreeThe case where it has the same partial structure as the reducing group represented by general formula (D) is also a preferred example of the compound represented by general formula (D).
[0340]
LThreeREDThreeAnd YThreeAnd specifically represents a single bond, an alkylene group, an arylene group, a heterocyclic group, -O-, -S-, -NR.N-, -C (= O)-, -SO2The group which consists of individual group of-, -SO-, -P (= O)-, or a combination of these groups is represented. R hereNRepresents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. LThreeThe linking group represented by may have an arbitrary substituent. LThreeThe linking group represented by REDThreeAnd YThreeIn any position of the group represented by the formula (1), each of the hydrogen atoms may be linked to replace any one hydrogen atom.
LThreePreferred examples of are: a single bond, an alkylene group (particularly a methylene group, an ethylene group, a propylene group), an arylene group (particularly a phenylene group), a —C (═O) — group, an —O— group, an —NH— group, -N (alkyl group)-group, and the bivalent coupling group which consists of a combination of these groups are mentioned.
[0341]
LThreeThe group represented byThreeCation radical species (X+.), Or a radical species (X.) generated from the proton withdrawn therefrom, and YThreeWhen the reactive group represented by the above reacts to form a bond, the atomic group involved in this reaction is LThreeIt is preferable that a 3-7 membered cyclic structure including can be formed. For this purpose, radical species (X+-Or X-), the reactive group represented by Y, and L are preferably connected by 3 to 7 atomic groups.
[0342]
Next, the type 4 compound will be described.
A compound of type 4 is a compound having a ring structure substituted with a reducing group, and after the reducing group is oxidized by one electron, one or more electrons are emitted along with the ring structure cleavage reaction. Compound. The ring structure cleavage reaction referred to here means one having the following form.
[0343]
Embedded image
[0344]
In the formula, compound a represents a type 4 compound. In compound a, D represents a reducing group, and X and Y represent atoms forming a bond that is cleaved after one-electron oxidation in the ring structure. First, one-electron oxidation of the compound a generates a one-electron oxidant b. From this, the single bond of XX becomes a double bond, and at the same time, the bond of XY is cleaved to produce a ring-opened product c. Alternatively, a radical intermediate d may be generated from the one-electron oxidant b with proton desorption, and a ring opening e may be similarly generated therefrom. The compound of the present invention is characterized in that one or more electrons are subsequently released from the ring-opened product c or e thus produced.
[0345]
The ring structure possessed by the type 4 compound is a 3- to 7-membered carbocyclic or heterocyclic ring, and represents a monocyclic or condensed, saturated or unsaturated non-aromatic ring. A saturated ring structure is preferable, and a 3-membered ring or 4-membered ring is more preferable. Preferred examples of the ring structure include a cyclopropane ring, a cyclobutane ring, an oxirane ring, an oxetane ring, an aziridine ring, an azetidine ring, an episulfide ring, and a thietane ring. More preferred are cyclopropane ring, cyclobutane ring, oxirane ring, oxetane ring and azetidine ring, and particularly preferred are cyclopropane ring, cyclobutane ring and azetidine ring. The ring structure may have an arbitrary substituent.
[0346]
The compound of type 4 is preferably represented by the general formula (E) or (F).
[0347]
General formula (E)
Embedded image
[0348]
Formula (F)
Embedded image
[0349]
RED in general formula (E) and general formula (F)41And RED42Are respectively RED of the general formula (B)12Represents a group having the same meaning, and the preferred range thereof is also the same. R40~ R44And R45~ R49Each represents a hydrogen atom or a substituent. In general formula (F), Z42Is -CR420R421-, -NR423-Represents-or -O-. R here420, R421Each represents a hydrogen atom or a substituent, and R423Represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group.
[0350]
R in general formula (E) and general formula (F)40And R45Preferably represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group. R41~ R44And R46~ R49And preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an arylthio group, an alkylthio group, an acylamino group, or a sulfonamide group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. is there.
[0351]
R41~ R44In which at least one of these is a donor group, and R41And R42Or R43And R44Are preferably electron withdrawing groups. More preferably R41~ R44This is a case where at least one of the above is a donor group. More preferably R41~ R44At least one of them is a donor group and R41~ R44In this case, the group that is not a donor group is a hydrogen atom or an alkyl group.
[0352]
The donor group mentioned here is an “electron-donating group” or an aryl group substituted with at least one “electron-donating group”. The donor group is preferably an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic amino group, a 5-membered monocyclic or condensed ring electron-rich aromatic heterocyclic group containing at least one nitrogen atom in the ring, nitrogen A non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic group substituted with an atom or a phenyl group substituted with at least one electron-donating group is used. More preferably, an alkylamino group, an arylamino group, a 5-membered monocyclic or condensed ring-excessive aromatic heterocyclic group containing at least one nitrogen atom in the ring (an indole ring, a pyrrole ring, a carbazole ring, etc.) ), A phenyl group substituted with an electron donating group (such as a phenyl group substituted with three or more alkoxy groups, a phenyl group substituted with a hydroxy group, an alkylamino group, or an arylamino group). Particularly preferably, an arylamino group, a 5-membered monocyclic or condensed ring-containing electron-rich aromatic heterocyclic group (particularly a 3-indolyl group) or an electron-donating group containing at least one nitrogen atom in the ring is substituted. Used phenyl groups (particularly phenyl groups substituted with trialkoxyphenyl groups, alkylamino groups or arylamino groups).
[0353]
Z42Preferably as -CR420R421-Or -NR423-, More preferably -NR423-. R420, R421Is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an acylamino group or a sulfoneamino group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group. R423Preferably represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or an aromatic heterocyclic group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.
[0354]
R40~ R49And R420, R421, R423When each of these groups is a substituent, those having a total carbon number of 40 or less are preferable, more preferably a total carbon number of 30 or less, and particularly preferably a total carbon number of 15 or less. These substituents may be bonded to each other or other sites in the molecule (RED41, RED42Or Z42) To form a ring.
[0355]
In the compounds of types 1 to 4 of the present invention, the adsorptive group to silver halide is a group that directly adsorbs to silver halide or a group that promotes adsorption to silver halide. Specifically, mercapto A heterocyclic group containing at least one atom selected from a group (or a salt thereof), a thione group (—C (═S) —), a nitrogen atom, a sulfur atom, a selenium atom and a tellurium atom, a sulfide group, a cationic group, Or an ethynyl group. However, the type 2 compound of the present invention does not contain a sulfide group as an adsorptive group.
[0356]
The mercapto group (or salt thereof) as the adsorptive group means the mercapto group (or salt thereof) itself, and more preferably a heterocyclic group or aryl group substituted with at least one mercapto group (or salt thereof). Or represents an alkyl group. Here, the heterocyclic group is a 5-membered to 7-membered monocyclic or condensed aromatic or non-aromatic heterocyclic group such as an imidazole ring group, a thiazole ring group, an oxazole ring group, or a benzimidazole ring group. , Benzthiazole ring group, benzoxazole ring group, triazole ring group, thiadiazole ring group, oxadiazole ring group, tetrazole ring group, purine ring group, pyridine ring group, quinoline ring group, isoquinoline ring group, pyrimidine ring group, triazine A cyclic group etc. are mentioned. Further, it may be a heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom. In this case, the substituted mercapto group may be dissociated into a meso ion. Examples of such a heterocyclic group include an imidazolium ring group, Examples include a pyrazolium ring group, a thiazolium ring group, a triazolium ring group, a tetrazolium ring group, a thiadiazolium ring group, a pyridinium ring group, a pyrimidinium ring group, and a triazinium ring group. Among them, a triazolium ring group (for example, 1,2,4- Triazolium-3-thiolate ring group) is preferable. Examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group. Examples of the alkyl group include linear, branched or cyclic alkyl groups having 1 to 30 carbon atoms. When the mercapto group forms a salt, the counter ion is a cation such as an alkali metal, alkaline earth metal, or heavy metal (Li+, Na+, K+, Mg2+, Ag+, Zn2+Etc.), ammonium ions, quaternized heterocyclic groups containing nitrogen atoms, phosphonium ions and the like.
[0357]
Further, the mercapto group as the adsorptive group may be tautomerized into a thione group, specifically, a thioamide group (here, —C (═S) —NH— group), and the thioamide group. A group having a partial structure of, ie, a chain or cyclic thioamide group, a thioureido group, a thiourethane group, or a dithiocarbamate group. Examples of cyclic groups include thiazolidine-2-thione group, oxazolidine-2-thione group, 2-thiohydantoin group, rhodanine group, isorhodanine group, thiobarbituric acid group, 2-thioxo-oxazolidine-4-one group Is mentioned.
[0358]
The thione group as an adsorptive group cannot be tautomerized to a mercapto group (including a hydrogen atom at the α-position of the thione group), including the case where the mercapto group described above is tautomerized into a thione group. A chain or cyclic thioamide group, thioureido group, thiourethane group, or dithiocarbamate group is also included.
[0359]
A heterocyclic group containing at least one atom selected from a nitrogen atom, a sulfur atom, a selenium atom and a tellurium atom as the adsorptive group is a -NH- group capable of forming imino silver (> NAg) and a partial structure of the heterocyclic ring A nitrogen-containing heterocyclic group, or a “—S—” group, a “—Se—” group, a “—Te—” group or a “═N—” group which can coordinate to a silver ion via a coordination bond. A heterocyclic group having a ring partial structure. Examples of the former include benzotriazole group, triazole group, indazole group, pyrazole group, tetrazole group, benzimidazole group, imidazole group, and purine group, and examples of the latter include thiophene. Group, thiazole group, oxazole group, benzothiazole group, benzoxazole group, thiadiazole group, oxadiazole group, triazine group, selenoazo Group, benzselenoazole group, tellurazole group, benztelluazole group and the like. The former is preferred.
[0360]
The sulfide group as the adsorptive group includes all groups having a partial structure of “—S—”, preferably alkyl (or alkylene) -S-alkyl (or alkylene), aryl (or arylene) -S—. A group having a partial structure of alkyl (or alkylene), aryl (or arylene) -S-aryl (or arylene). Furthermore, these sulfide groups may form a cyclic structure or may be an -S-S- group. Specific examples in the case of forming a cyclic structure include a thiolane ring, a 1,3-dithiolane ring or a 1,2-dithiolane ring, a thiane ring, a dithiane ring, a tetrahydro-1,4-thiazine ring (thiomorpholine ring) and the like. Groups. Particularly preferred as the sulfide group is a group having a partial structure of alkyl (or alkylene) -S-alkyl (or alkylene).
[0361]
The cationic group as the adsorptive group means a group containing a quaternized nitrogen atom, specifically, an ammonio group or a group containing a nitrogen-containing heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom. . However, the cationic group does not become a part of an atomic group forming a dye structure (for example, a cyanine chromophore). Here, the ammonio group is a trialkylammonio group, a dialkylarylammonio group, an alkyldiarylammonio group or the like, and examples thereof include a benzyldimethylammonio group, a trihexylammonio group, and a phenyldiethylammonio group. Examples of the nitrogen-containing heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom include a pyridinio group, a quinolinio group, an isoquinolinio group, an imidazolio group, and the like. A pyridinio group and an imidazolio group are preferable, and a pyridinio group is particularly preferable. These nitrogen-containing heterocyclic groups containing a quaternized nitrogen atom may have an arbitrary substituent, but in the case of a pyridinio group and an imidazolio group, the substituent is preferably an alkyl group, an aryl group, an acylamino group , A chloro atom, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group and the like. In the case of a pyridinio group, a phenyl group is particularly preferred as a substituent.
[0362]
An ethynyl group as an adsorptive group means a —C≡CH group, and a hydrogen atom may be substituted.
The above adsorptive group may have an arbitrary substituent.
[0363]
Specific examples of the adsorptive group further include those described in pages 4 to 7 of JP-A No. 11-95355.
[0364]
Preferred as the adsorptive group in the present invention is a mercapto-substituted nitrogen-containing heterocyclic group (for example, 2-mercaptothiadiazole group, 3-mercapto-1,2,4-triazole group, 5-mercaptotetrazole group, 2-mercapto-1). , 3,4-oxadiazole group, 2-mercaptobenzoxazole group, 2-mercaptobenzthiazole group, 1,5-dimethyl-1,2,4-triazolium-3-thiolate group), or imino silver (> A nitrogen-containing heterocyclic group (for example, a benzotriazole group, a benzimidazole group, an indazole group, etc.) having a —NH— group that can form NAg) as a partial structure of the heterocyclic ring. Particularly preferred are 5-mercaptotetrazole group, 3-mercapto-1,2,4-triazole group, and benzotriazole group, most preferred are 3-mercapto-1,2,4-triazole group, and 5 -Mercaptotetrazole group.
[0365]
Of the compounds of the present invention, compounds having two or more mercapto groups as partial structures in the molecule are also particularly preferred compounds. Here, the mercapto group (—SH) may be a thione group if it can be tautomerized. Examples of such compounds include the above-described adsorptive groups having a mercapto group or thione group as a partial structure (for example, a ring-forming thioamide group, an alkyl mercapto group, an aryl mercapto group, a heterocyclic mercapto group, etc.) Or an adsorbing group having two or more mercapto groups or thione groups as a partial structure (for example, a dimercapto-substituted nitrogen-containing telocyclic group). You may have one or more.
[0366]
Examples of the adsorptive group having two or more mercapto groups as a partial structure (such as a dimercapto-substituted nitrogen-containing telocyclic group) include 2,4-dimercaptopyrimidine group, 2,4-dimercaptotriazine group, 3,5 -Dimercapto-1,2,4-triazole group, 2,5-dimercapto-1,3-thiazole group, 2,5-dimercapto-1,3-oxazole group, 2,7-dimercapto-5-methyl-s- Triazolo (1,5-A) -pyrimidine, 2,6,8-trimercaptopurine, 6,8-dimercaptopurine, 3,5,7-trimercapto-s-triazolotriazine, 4,6-dimercapto Examples include pyrazolopyrimidine, 2,5-dimercaptoimidazole, 2,4-dimercaptopyrimidine group, 2,4-dimercaptotriazine group, 3,5. Dimercapto-1,2,4-triazole group are particularly preferred.
[0367]
The adsorptive group may be substituted anywhere in the general formulas (A) to (F) and the general formulas (1) to (3), but in the general formulas (A) to (D), RED11, RED12, RED2, REDThreeIn the general formulas (E) and (F), RED41, R41, RED42, R46~ R48In the general formulas (1) to (3), R1, R2, R11, R12, R31, L1, Ltwenty one, L31It is preferably substituted at any position except for RED, and RED in all of the general formulas (A) to (F)11~ RED42More preferably, it is substituted.
[0368]
The partial structure of the spectral sensitizing dye is a group containing a chromophore of the spectral sensitizing dye, and is a residue obtained by removing any hydrogen atom or substituent from the spectral sensitizing dye compound. The partial structure of the spectral sensitizing dye may be substituted anywhere in the general formulas (A) to (F) and the general formulas (1) to (3), but in the general formulas (A) to (D), RED11, RED12, RED2, REDThreeIn the general formulas (E) and (F), RED41, R41, RED42, R46~ R48In the general formulas (1) to (3), R1, R2, R11, R12, R31, L1, Ltwenty one, L31It is preferably substituted at any position except for RED, and RED in all of the general formulas (A) to (F)11~ RED42More preferably, it is substituted. Preferred spectral sensitizing dyes are spectral sensitizing dyes typically used in color sensitization techniques such as cyanine dyes, complex cyanine dyes, merocyanine dyes, complex merocyanine dyes, homopolar cyanine dyes, Contains styryl dyes and hemicyanine dyes. Exemplary spectral sensitizing dyes are disclosed in Research Disclosure, Item 36544, September 1994. Those skilled in the art can synthesize these dyes by the procedures described in the Research Disclosure or F.M. Hamer's The Cyanine dyes and Related Compounds (Interscience Publishers, New yprk, 1964). Further, all the dyes described in JP-A-11-95355 (US Pat. No. 6,054,260), pages 7 to 14 are applied as they are.
[0369]
The compounds of types 1 to 4 of the present invention preferably have a total carbon number of 10 to 60. More preferably, it is 15-50, More preferably, it is 18-40, Most preferably, it is 18-30.
[0370]
The compounds of types 1 to 4 of the present invention are subjected to 1-electron oxidation triggered by exposure of the silver halide photographic light-sensitive material using the compound, and after the subsequent reaction, further 1 electron, or 2 electrons or more depending on the type. Electrons are emitted and oxidized, and the oxidation potential of the first electron is preferably about 1.4 V or less, and more preferably 1.0 V or less. This oxidation potential is preferably higher than 0V, more preferably higher than 0.3V. Accordingly, the oxidation potential is preferably in the range of about 0 to about 1.4V, more preferably about 0.3 to about 1.0V.
[0371]
Here, the oxidation potential can be measured by a cyclic voltammetry technique. Specifically, a sample is dissolved in a solution of acetonitrile: water (including 0.1 M lithium perchlorate) = 80%: 20% (volume%). After bubbling nitrogen gas for 10 minutes, a glassy carbon disk was used as the working electrode, a platinum wire was used as the counter electrode, and a calomel electrode (SCE) was used as the reference electrode at 25 ° C. and 0.1 V / Measured at a potential scanning speed of seconds. The oxidation potential versus SCE is taken at the peak potential of the cyclic voltammetry wave.
[0372]
In the case where the compounds of types 1 to 4 of the present invention are one-electron oxidized and further emit one electron after the subsequent reaction, the subsequent oxidation potential is preferably −0.5 V to −2 V. More preferably, it is -0.7V--2V, More preferably, it is -0.9V--1.6V.
[0373]
In the case where the compound of types 1 to 4 of the present invention is a compound that is oxidized by one electron and emits two or more electrons after the subsequent reaction and is oxidized, there is no particular limitation on the oxidation potential of this latter stage. Absent. This is because the oxidation potential of the second electron and the oxidation potential of the third and subsequent electrons cannot be clearly distinguished, and it is often difficult to accurately measure and distinguish these actually.
[0374]
Next, the compound of type 5 will be described.
A compound of type 5 is represented by XY, where X represents a reducing group, Y represents a leaving group, and a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation of the reducing group represented by X is This is a compound capable of releasing X by further elimination of Y with subsequent XY bond cleavage reaction to generate an X radical, from which another electron is emitted. The reaction when such a type 5 compound is oxidized can be represented by the following formula.
[0375]
Embedded image
[0376]
The compound of type 5 preferably has an oxidation potential of 0 to 1.4V, more preferably 0.3V to 1.0V. The oxidation potential of the radical X · generated in the above reaction formula is preferably −0.7 V to −2.0 V, more preferably −0.9 V to −1.6 V.
[0377]
The compound of type 5 is preferably represented by the general formula (G).
[0378]
General formula (G)
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[0379]
In general formula (G), RED0Represents a reducing group, L0Represents a leaving group, R0And R00Represents a hydrogen atom or a substituent. RED0 And R0And R0And R00And may be bonded to each other to form a ring structure. RED0Is RED of general formula (C)2Represents the same group, and the preferred range is also the same. R0And R00Is R in the general formula (C)twenty oneAnd Rtwenty twoThe preferred range is also the same. However, R0And R00Except for the hydrogen atom, L0Does not represent the same group. RED0And R0May be bonded to each other to form a ring structure, and examples of the ring structure include RED of the general formula (C).2And Rtwenty oneExamples are the same as in the case of linking to form a ring structure, and the preferred range is also the same. R0And R00Examples of the ring structure formed by bonding to each other include a cyclopentane ring and a tetrahydrofuran ring. In general formula (G), L0Is L in the general formula (C)2The preferred range is also the same.
[0380]
The compound represented by the general formula (G) preferably has an adsorptive group to silver halide or a partial structure of spectral sensitizing dye in the molecule.0When represents a group other than a silyl group, it does not have two or more adsorptive groups in the molecule at the same time. However, the sulfide group as the adsorptive group here is L0You may have two or more regardless of this.
[0381]
Examples of the adsorptive group to the silver halide of the compound represented by the general formula (G) include the same adsorptive groups that the compounds of types 1 to 4 of the present invention may have. In addition, all those described as “silver halide adsorbing groups” on pages 4 to 7 of JP-A No. 11-95355 can be mentioned, and preferred ranges are also the same.
The partial structure of the spectral sensitizing dye that the compound represented by the general formula (G) may have is the partial structure of the spectral sensitizing dye that the compounds of types 1 to 4 of the present invention may have. However, at the same time, all those described as “light-absorbing groups” on pages 7 to 14 of JP-A-11-95355 can be mentioned, and the preferred ranges are also the same.
[0382]
Specific examples of the compounds of types 1 to 5 of the present invention are listed below, but the present invention is not limited thereto.
[0383]
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[0384]
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[0385]
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[0386]
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[0387]
The compounds of types 1 to 4 of the present invention are described in detail in Japanese Patent Application No. 2002-192373, Japanese Patent Application No. 2002-188537, Japanese Patent Application No. 2002-188536, Japanese Patent Application No. 2001-272137, and Japanese Patent Application No. 2002-192374, respectively. Same as described compound. Specific compound examples described in these patent application specifications can also be given as specific examples of the compounds of types 1 to 4 of the present invention. The synthesis examples of the compounds of types 1 to 4 of the present invention are also the same as those described in these patents.
[0388]
Specific examples of the compound of type 5 according to the present invention are further described in JP-A-9-211769 (compounds PMT-1 to S-37 described in Table E and Table F on pages 28 to 32), JP-A-9-211774. JP-A-11-95355 (compounds INV1-36), JP-T-2001-500996 (compounds 1-74, 80-87, 92-122), US Pat. No. 5,747,235, US Pat. No. 5,747, No. 236, European Patent No. 786692A1 (compounds INV1 to 35), European Patent No. 893732A1, US Pat. No. 6,054,260, US Pat. No. 5,994,051, etc. Examples of compounds referred to as “deprotonated electron donating sensitizers” are mentioned as they are.
[0389]
The compounds of types 1 to 5 of the present invention may be used at any time during the process of producing a photothermographic material when preparing a photosensitive silver halide emulsion. For example, at the time of photosensitive silver halide grain formation, desalting step, chemical sensitization, before coating. Moreover, it can also add in several steps in these processes. The addition position is preferably from the end of formation of the photosensitive silver halide grains to before the desalting step, at the time of chemical sensitization (immediately after the start of chemical sensitization to immediately after completion), and before application, more preferably from the time of chemical sensitization. Until before mixing with the non-photosensitive organic silver salt.
[0390]
The compounds of types 1 to 5 of the present invention are preferably added after being dissolved in water, a water-soluble solvent such as methanol or ethanol, or a mixed solvent thereof. When the compound is dissolved in water, the compound having higher solubility when the pH is increased or decreased may be dissolved at a higher or lower pH and added.
[0390]
The compounds of types 1 to 5 of the present invention are preferably used in emulsion layers containing a photosensitive silver halide and a non-photosensitive organic silver salt, but contain a photosensitive silver halide and a non-photosensitive organic silver salt. It may be added to the protective layer or intermediate layer together with the emulsion layer to be diffused during coating. The timing of addition of the compound of the present invention is preferably before or after the sensitizing dye, and preferably 1 × 10 5 per mole of silver halide.-9~ 5x10-1Mole, more preferably 1 × 10-8~ 5x10-2It is contained in the silver halide emulsion layer in a molar ratio.
[0392]
(Description of binder)
Any polymer may be used as the binder of the organic silver salt-containing layer of the present invention, and suitable binders are transparent or translucent and generally colorless, and include natural resins, polymers and copolymers, synthetic resins, polymers and copolymers, etc. Film-forming media such as gelatins, rubbers, poly (vinyl alcohol) s, hydroxyethyl celluloses, cellulose acetates, cellulose acetate butyrates, poly (vinyl pyrrolidone) s, casein, starch, poly (acrylic acid) ), Poly (methyl methacrylic acid), poly (vinyl chloride), poly (methacrylic acid), styrene-maleic anhydride copolymers, styrene-acrylonitrile copolymers, styrene-butadiene copolymers , Poly (vinyl acetal) s (eg, poly (vinyl Lumar) and poly (vinyl butyral)), poly (esters), poly (urethane) s, phenoxy resins, poly (vinylidene chloride) s, poly (epoxides), poly (carbonates), poly (vinyl acetate) s , Poly (olefin) s, cellulose esters, and poly (amides). The binder may be coated from water or an organic solvent or emulsion.
[0393]
In the present invention, the glass transition temperature of the binder that can be used in combination with the layer containing the organic silver salt is preferably 0 ° C. or higher and 80 ° C. or lower (hereinafter sometimes referred to as a high Tg binder), and preferably 10 ° C. to 70 ° C. Is more preferable, and it is still more preferable that it is 15 degreeC or more and 60 degrees C or less.
[0394]
In this specification, Tg was calculated by the following formula.
1 / Tg = Σ (Xi / Tgi)
Here, it is assumed that n monomer components from i = 1 to n are copolymerized in the polymer. Xi is the weight fraction of the i-th monomer (ΣXi = 1), and Tgi is the glass transition temperature (absolute temperature) of the homopolymer of the i-th monomer. However, Σ is the sum from i = 1 to n. The homopolymer glass transition temperature (Tgi) of each monomer was the value of Polymer Handbook (3rd Edition) (by J. Brandrup, E.H. Immergut (Wiley-Interscience, 1989)).
[0395]
Two or more binders may be used in combination as required. Further, a glass transition temperature of 20 ° C. or higher and a glass transition temperature of less than 20 ° C. may be used in combination. When two or more kinds of polymers having different Tg are blended, the weight average Tg is preferably within the above range.
[0396]
In the present invention, the organic silver salt-containing layer is preferably applied and dried using a coating solution in which 30% by mass or more of the solvent is water to form a film.
In the present invention, when the organic silver salt-containing layer is formed using a coating solution in which 30% by mass or more of the solvent is water and dried, the binder of the organic silver salt-containing layer is further an aqueous solvent ( When it is soluble or dispersible in an aqueous solvent), the performance is improved particularly when it is made of a latex of a polymer having an equilibrium water content of 2% by mass or less at 25 ° C. and 60% RH. The most preferable form is one prepared so that the ionic conductivity is 2.5 mS / cm or less, and as such a preparation method, there is a method of purifying using a separation functional membrane after polymer synthesis.
[0397]
The aqueous solvent in which the polymer is soluble or dispersible here is a mixture of water or water with 70% by mass or less of a water-miscible organic solvent. Examples of the water-miscible organic solvent include alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol and propyl alcohol, cellosolvs such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve and butyl cellosolve, ethyl acetate and dimethylformamide.
[0398]
In the case of a system in which the polymer is not dissolved thermodynamically and exists in a so-called dispersed state, the term aqueous solvent is used here.
[0399]
“Equilibrium moisture content at 25 ° C. and 60% RH” means the weight W1 of the polymer in the humidity-controlled equilibrium under the atmosphere of 25 ° C. and 60% RH and the weight W0 of the polymer in the absolutely dry state at 25 ° C. It can be expressed as
Equilibrium moisture content at 25 ℃ 60% RH = [(W1-W0) / W0] x 100 (mass%)
[0400]
For the definition and measurement method of the moisture content, for example, Polymer Engineering Course 14, Polymer Material Testing Method (Edited by Polymer Society, Jinshokan) can be referred to.
[0401]
The equilibrium moisture content of the binder polymer of the present invention at 25 ° C. and 60% RH is preferably 2% by mass or less, more preferably 0.01% by mass to 1.5% by mass, and still more preferably 0.02% by mass to 1% by mass. Is desirable.
[0402]
In the present invention, a polymer dispersible in an aqueous solvent is particularly preferred. Examples of the dispersion state may be latex in which fine particles of water-insoluble hydrophobic polymer are dispersed or polymer molecules in which the polymer molecule is dispersed in a molecular state or forming micelles. preferable. The average particle size of the dispersed particles is 1 to 50000 nm, preferably 5 to 1000 nm, more preferably 10 to 500 nm, and still more preferably 50 to 200 nm. The particle size distribution of the dispersed particles is not particularly limited, and may have a wide particle size distribution or a monodispersed particle size distribution. Mixing two or more types having a monodispersed particle size distribution is also a preferable method for controlling the physical properties of the coating solution.
[0403]
In the present invention, preferred embodiments of the polymer that can be dispersed in an aqueous solvent include acrylic polymers, poly (esters), rubbers (for example, SBR resin), poly (urethanes), poly (vinyl chloride) s, poly (acetic acid). Hydrophobic polymers such as vinyl), poly (vinylidene chloride) and poly (olefin) can be preferably used. These polymers may be linear polymers, branched polymers, crosslinked polymers, so-called homopolymers obtained by polymerizing a single monomer, or copolymers obtained by polymerizing two or more types of monomers. In the case of a copolymer, it may be a random copolymer or a block copolymer. The molecular weight of these polymers is 5,000 to 100,000, preferably 10,000 to 200,000 in number average molecular weight. When the molecular weight is too small, the mechanical strength of the emulsion layer is insufficient, and when the molecular weight is too large, the film formability is poor, which is not preferable. A crosslinkable polymer latex is particularly preferably used.
[0404]
(Specific examples of latex)
Specific examples of preferable polymer latex include the following. Below, it represents using a raw material monomer, the numerical value in a parenthesis is mass%, and molecular weight is a number average molecular weight. When a polyfunctional monomer was used, the concept of molecular weight was not applicable because a crosslinked structure was formed, so it was described as crosslinkability, and the description of molecular weight was omitted. Tg represents the glass transition temperature.
[0405]
Latex of P-1; -MMA (70) -EA (27) -MAA (3)-(molecular weight 37000, Tg61 ℃)
Latex of P-2; -MMA (70) -2EHA (20) -St (5) -AA (5)-(molecular weight 40000, Tg59 ° C)
Latex of P-3; -St (50) -Bu (47) -MAA (3)-(crosslinkability, Tg-17 ° C)
Latex of P-4; -St (68) -Bu (29) -AA (3)-(crosslinkability, Tg17 ° C)
Latex of P-5; -St (71) -Bu (26) -AA (3)-(crosslinkability, Tg24 ℃)
Latex of P-6; -St (70) -Bu (27) -IA (3)-(crosslinkability)
Latex of P-7; -St (75) -Bu (24) -AA (1)-(crosslinkability, Tg29 ° C)
Latex of P-8; -St (60) -Bu (35) -DVB (3) -MAA (2)-(crosslinkability)
P-9; -St (70) -Bu (25) -DVB (2) -AA (3)-latex (crosslinkable)
Latex of P-10; -VC (50) -MMA (20) -EA (20) -AN (5) -AA (5)-(molecular weight 80000)
P-11; -VDC (85) -MMA (5) -EA (5) -MAA (5)-latex (molecular weight 67000)
Latex of P-12; -Et (90) -MAA (10)-(molecular weight 12000)
P-13; -St (70) -2EHA (27) -AA (3) latex (molecular weight 130000, Tg43 ℃)
P-14; -MMA (63) -EA (35)-AA (2) latex (molecular weight 33000, Tg47 ℃)
Latex of P-15; -St (70.5) -Bu (26.5) -AA (3)-(crosslinkability, Tg23 ° C)
Latex of P-16; -St (69.5) -Bu (27.5) -AA (3)-(crosslinkability, Tg20.5 ℃)
[0406]
The abbreviations for the above structures represent the following monomers. MMA; methyl methacrylate, EA; ethyl acrylate, MAA; methacrylic acid, 2EHA; 2-ethylhexyl acrylate, St; styrene, Bu; butadiene, AA; acrylic acid, DVB; divinylbenzene, VC; vinyl chloride, AN; Vinylidene chloride, Et; ethylene, IA; itaconic acid.
[0407]
The polymer latex described above is also commercially available, and the following polymers can be used. Examples of acrylic polymers include Sebian A-4635, 4718, 4601 (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), Nipol Lx811, 814, 821, 820, 857 (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.), poly ( Examples of esters include polynet (urethanes) such as FINETEX ES650, 611, 675, 850 (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.), WD-size, WMS (Eastman Chemical). Are HYDRAN AP10, 20, 30, 40 (above Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.) and examples of rubbers include LACSTAR 7310K, 3307B, 4700H, 7132C (above Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.) , Nipol Lx416, 410, 438C, 2507 (made by Nippon Zeon Co., Ltd.) and other examples of poly (vinyl chloride) such as G351, G576 (made by Nippon Zeon Co., Ltd.), poly (vinylidene chloride) Examples of such as L502, L513 (manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd.) and other examples of poly (olefin), such as Chemipearl S120, SA100 (above Mitsui Petrochemical ( And the like).
[0408]
These polymer latexes may be used alone or in combination of two or more as required.
[0409]
(Preferred latex)
The polymer latex used in the present invention is particularly preferably a styrene-butadiene copolymer latex. The weight ratio of the styrene monomer unit to the butadiene monomer unit in the styrene-butadiene copolymer is preferably 40:60 to 95: 5. The proportion of the styrene monomer unit and the butadiene monomer unit in the copolymer is preferably 60 to 99% by mass. Moreover, it is preferable that the polymer latex of this invention contains 1-6 mass% of acrylic acid or methacrylic acid with respect to the sum of styrene and butadiene, More preferably, it contains 2-5 mass%. The polymer latex of the present invention preferably contains acrylic acid.
[0410]
Examples of the latex of styrene-butadiene acid copolymer preferably used in the present invention include P-3 to P-8,15 described above, LACSTAR-3307B, 7132C, and Nipol Lx416, which are commercially available products.
[0411]
If necessary, a hydrophilic polymer such as gelatin, polyvinyl alcohol, methylcellulose, hydroxypropylcellulose, carboxymethylcellulose may be added to the organic silver salt-containing layer of the light-sensitive material of the present invention. The amount of these hydrophilic polymers added is preferably 30% by mass or less, more preferably 20% by mass or less, based on the total binder of the organic silver salt-containing layer.
[0412]
The organic silver salt-containing layer (that is, the image forming layer) of the present invention is preferably formed using a polymer latex. The amount of binder in the organic silver salt-containing layer is such that the weight ratio of the total binder / organic silver salt is in the range of 1/110 to 10, more preferably in the range of 1/3 to 5/1, more preferably in the range of 1/1 to 3. The range is / 1.
[0413]
Further, such an organic silver salt-containing layer is usually a photosensitive layer (emulsion layer) containing a photosensitive silver halide which is a photosensitive silver salt. The weight ratio of silver is 400-5, more preferably 200-10.
[0414]
The total binder amount of the image forming layer of the present invention is preferably 0.2 to 30 g / m.2, More preferably 1-15 g / m2More preferably 2-10 g / m2Range. The image forming layer of the present invention may contain a crosslinking agent for crosslinking, a surfactant for improving coating properties, and the like.
(Preferable solvent for coating solution)
[0415]
In the present invention, the solvent of the organic silver salt-containing layer coating solution of the photosensitive material (here, for simplicity, the solvent and the dispersion medium are collectively referred to as a solvent) is preferably an aqueous solvent containing 30% by mass or more of water. As a component other than water, any water-miscible organic solvent such as methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, dimethylformamide, ethyl acetate may be used. The water content of the solvent of the coating solution is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more. Examples of preferred solvent compositions include water, water / methyl alcohol = 90/10, water / methyl alcohol = 70/30, water / methyl alcohol / dimethylformamide = 80/15/5, water / methyl alcohol / Ethyl cellosolve = 85/10/5, water / methyl alcohol / isopropyl alcohol = 85/10/5, etc. (numerical value is mass%).
[0416]
(Description of hydrogen bonding compound)
When the reducing agent in the present invention has an aromatic hydroxyl group (—OH) or an amino group, particularly in the case of the aforementioned bisphenols, non-reducing having a group capable of forming a hydrogen bond with these groups. It is preferable to use a sexual compound in combination. Examples of the group that forms a hydrogen bond with a hydroxyl group or an amino group include a phosphoryl group, a sulfoxide group, a sulfonyl group, a carbonyl group, an amide group, an ester group, a urethane group, a ureido group, a tertiary amino group, and a nitrogen-containing aromatic group. Can be mentioned. Among them, preferred are a phosphoryl group, a sulfoxide group, an amide group (however, it does not have a> N—H group and is blocked like> N—Ra (Ra is a substituent other than H)), a urethane group. (However, it has no> N—H group and is blocked like> N—Ra (Ra is a substituent other than H)), a ureido group (however, it has no> N—H group,> N-Ra (Ra is a substituent other than H).)
In the present invention, a particularly preferred hydrogen bonding compound is a compound represented by the following general formula (D).
Formula (D)
[0417]
Embedded image
[0418]
R in general formula (D)twenty oneOr Rtwenty threeEach independently represents an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group or a heterocyclic group, and these groups may be unsubstituted or may have a substituent. Rtwenty oneOr Rtwenty threeIn the case where has a substituent, the substituent is a halogen atom, alkyl group, aryl group, alkoxy group, amino group, acyl group, acylamino group, alkylthio group, arylthio group, sulfonamido group, acyloxy group, oxycarbonyl group, carbamoyl Group, sulfamoyl group, sulfonyl group, phosphoryl group and the like. Preferred as substituents are alkyl groups or aryl groups such as methyl group, ethyl group, isopropyl group, t-butyl group, t-octyl group, phenyl group, 4-alkoxyphenyl group, 4-acyloxyphenyl group and the like can be mentioned.
[0419]
Rtwenty oneOr Rtwenty threeSpecific examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, butyl group, octyl group, dodecyl group, isopropyl group, t-butyl group, t-amyl group, t-octyl group, cyclohexyl group, and 1-methylcyclohexyl group. Benzyl group, phenethyl group, 2-phenoxypropyl group, and the like. Examples of the aryl group include phenyl group, cresyl group, xylyl group, naphthyl group, 4-t-butylphenyl group, 4-t-octylphenyl group, 4-anisidyl group, and 3,5-dichlorophenyl group. Alkoxy groups include methoxy, ethoxy, butoxy, octyloxy, 2-ethylhexyloxy, 3,5,5-trimethylhexyloxy, dodecyloxy, cyclohexyloxy, 4-methylcyclohexyloxy, benzyl An oxy group etc. are mentioned. Examples of the aryloxy group include a phenoxy group, a cresyloxy group, an isopropylphenoxy group, a 4-t-butylphenoxy group, a naphthoxy group, and a biphenyloxy group. Examples of the amino group include a dimethylamino group, a diethylamino group, a dibutylamino group, a dioctylamino group, an N-methyl-N-hexylamino group, a dicyclohexylamino group, a diphenylamino group, and an N-methyl-N-phenylamino group. .
[0420]
Rtwenty oneOr Rtwenty threeAre preferably an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, or an aryloxy group. In terms of the effect of the present invention, Rtwenty oneOr Rtwenty threeOf these, at least one is preferably an alkyl group or an aryl group, and more preferably two or more are an alkyl group or an aryl group. In addition, R can be obtained at low cost.twenty oneOr Rtwenty threeAre preferably the same group.
Specific examples of the hydrogen bonding compound including the compound of the general formula (D) in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.
[0421]
Embedded image
[0422]
Specific examples of the hydrogen bonding compound include those described in European Patent No. 1096310, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-156727, and Japanese Patent Application No. 2001-124796 in addition to the above.
The compound of the general formula (D) of the present invention can be used in a light-sensitive material by being incorporated in a coating solution in the form of a solution, an emulsified dispersion, or a solid dispersion fine particle dispersion in the same manner as the reducing agent. It is preferable to use it as a product. The compound of the present invention forms a hydrogen-bonding complex with a compound having a phenolic hydroxyl group or an amino group in a solution state, and depending on the combination of the reducing agent and the compound of the general formula (D) of the present invention, It can be isolated in the crystalline state. The use of the crystal powder isolated in this way as a solid dispersed fine particle dispersion is particularly preferable for obtaining stable performance. In addition, a method in which a reducing agent and the compound of the general formula (D) of the present invention are mixed in a powder and complexed at the time of dispersion with a sand grinder mill or the like using an appropriate dispersant can be preferably used.
The compound of the general formula (D) of the present invention is preferably used in the range of 1 to 200 mol%, more preferably in the range of 10 to 150 mol%, still more preferably 20 to 100 mol, based on the reducing agent. % Range.
[0423]
(Description of antifogging agent)
Antifoggants, stabilizers and stabilizer precursors which can be used in the present invention are disclosed in paragraph No. 0070 of JP-A-10-62899, page 20 line 57 to page 21 line 7 of EP 080364A1. And the compounds described in JP-A-9-281637 and 9-329864, US Pat. Nos. 6,083,681, 6,083,681, and EP 1048975. Antifoggants preferably used in the present invention are organic halides, and examples thereof include those disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-65021, paragraphs 0111 to 0112. In particular, an organic halogen compound represented by formula (P) in JP-A-2000-284399, an organic polyhalogen compound represented by formula (II) in JP-A-10-339934, JP-A-2001-31644 and JP The organic polyhalogen compounds described in 2001-33911 are preferred.
[0424]
1) Polyhalogen compounds
Hereinafter, the organic polyhalogen compound preferable in the present invention will be specifically described. A preferred polyhalogen compound of the present invention is a compound represented by the following general formula (H).
General formula (H)
Q- (Y) n-C (Z1) (Z2) X
In the general formula (H), Q represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, Y represents a divalent linking group, n represents 0 or 1, Z1And Z2Represents a halogen atom, and X represents a hydrogen atom or an electron withdrawing group.
In general formula (H), Q is preferably an aryl group or a heterocyclic group.
In the general formula (H), when Q is a heterocyclic group, a nitrogen-containing heterocyclic group containing 1 to 2 nitrogen atoms is preferable, and a 2-pyridyl group and a 2-quinolyl group are particularly preferable.
[0425]
In the general formula (H), when Q is an aryl group, Q preferably represents a phenyl group substituted with an electron-withdrawing group having a positive Hammett's substituent constant σp. Regarding the Hammett's substituent constant, Journal of Medicinal Chemistry, 1973, Vol. 16, No. 11, 1207-1216, etc. can be referred to. Examples of such an electron withdrawing group include a halogen atom (fluorine atom (σp value: 0.06), chlorine atom (σp value: 0.23), bromine atom (σp value: 0.23), iodine atom. (Σp value: 0.18)), trihalomethyl group (tribromomethyl (σp value: 0.29), trichloromethyl (σp value: 0.33), trifluoromethyl (σp value: 0.54)), Cyano group (σp value: 0.66), nitro group (σp value: 0.78), aliphatic / aryl or heterocyclic sulfonyl group (for example, methanesulfonyl (σp value: 0.72)), aliphatic / aryl Or a heterocyclic acyl group (for example, acetyl (σp value: 0.50), benzoyl (σp value: 0.43)), alkynyl group (for example, C≡CH (σp value: 0.23)), aliphatic Aryl or heterocyclic oxycarbo Group (for example, methoxycarbonyl (σp value: 0.45), phenoxycarbonyl (σp value: 0.44)), carbamoyl group (σp value: 0.36), sulfamoyl group (σp value: 0.57), Examples thereof include a sulfoxide group, a heterocyclic group, and a phosphoryl group. The σp value is preferably in the range of 0.2 to 2.0, more preferably in the range of 0.4 to 1.0. Particularly preferred as the electron withdrawing group is a carbamoyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkylsulfonyl group or an alkylphosphoryl group, and among them, a carbamoyl group is most preferred.
[0426]
X is preferably an electron-withdrawing group, more preferably a halogen atom, aliphatic / aryl or heterocyclic sulfonyl group, aliphatic / aryl or heterocyclic acyl group, aliphatic / aryl or heterocyclic oxycarbonyl group, A carbamoyl group and a sulfamoyl group, particularly preferably a halogen atom. Among the halogen atoms, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom are preferable, a chlorine atom and a bromine atom are more preferable, and a bromine atom is particularly preferable.
Y is preferably -C (= O)-, -SO- or -SO.2 -, More preferably -C (= O)-, -SO2 -, Particularly preferably -SO2 -.
n represents 0 or 1, and is preferably 1.
[0427]
Specific examples of the compound of the general formula (H) of the present invention are shown below.
[0428]
Embedded image
[0429]
Other preferred polyhalogen compounds of the invention include those described in JP-A Nos. 2001-31644, 2001-56526, and 2001-209145.
The compound represented by the general formula (H) of the present invention is 10 per mole of the non-photosensitive silver salt of the image forming layer.-FourIt is preferably used in the range of ˜1 mol, more preferably 10-3In the range of ~ 0.5 mol, more preferably 1 × 10-2It is preferable to use in the range of ~ 0.2 mol.
In the present invention, the antifoggant is added to the light-sensitive material by the method described in the method for containing a reducing agent, and the organic polyhalogen compound is also preferably added as a solid fine particle dispersion.
[0430]
2) Other antifogging agents
Examples of other antifoggants include mercury (II) salts described in JP-A No. 11-65021, paragraph No. 0113, benzoic acids listed in paragraph No. 0114, salicylic acid derivatives of JP-A No. 2000-206642, and formulas of JP-A No. 2000-221634 A formalin scavenger compound represented by (S), a triazine compound according to claim 9 of JP-A-11-352624, a compound represented by formula (III) of JP-A-61-11791, 4-hydroxy-6- And methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene.
[0431]
The photothermographic material in the invention may contain an azolium salt for the purpose of fog prevention. Examples of the azolium salt include compounds represented by general formula (XI) described in JP-A-59-193447, compounds described in JP-B-55-12581, and general formula (II) described in JP-A-60-153039. And the compounds represented. The azolium salt may be added to any part of the photosensitive material, but the addition layer is preferably added to the layer having the photosensitive layer, and more preferably to the organic silver salt-containing layer. The azolium salt may be added in any step of preparing the coating solution. When added to the organic silver salt-containing layer, any step from the preparation of the organic silver salt to the preparation of the coating solution may be performed. To immediately before coating. The azolium salt may be added by any method such as powder, solution, fine particle dispersion. Moreover, you may add as a solution mixed with other additives, such as a sensitizing dye, a reducing agent, and a color toning agent. In the present invention, the addition amount of the azolium salt may be any amount, but is 1 × 10 10 per mole of silver.-6Moles to 2 moles, preferably 1 × 10-3More preferably, it is more than mol and less than 0.5 mol.
[0432]
(Other additives)
1) Mercapto, disulfide, and thiones
In the present invention, a mercapto compound, a disulfide compound, and a thione compound can be contained in order to suppress or promote development to control development, to improve spectral sensitization efficiency, and to improve storage stability before and after development. JP-A-10-62899, paragraphs 0067 to 0069, JP-A-10-186572, the compound represented by the general formula (I) and specific examples thereof, paragraphs 0033 to 0052, and EP 080364A1. 20 pages, lines 36-56. Of these, mercapto-substituted heteroaromatic compounds described in JP-A-9-297367, JP-A-9-304875, JP-A-2001-100358, Japanese Patent Application 2001-104213, Japanese Patent Application 2001-104214, and the like are preferable.
[0433]
2) Color preparation
In the photothermographic material of the present invention, it is preferable to add a color toning agent. For the color toning agent, paragraph numbers 0054 to 0055 of JP-A-10-62899, page 21 lines 23 to 48 of European Patent Publication No. 0803684A1, No. 2000-356317 and JP-A 2000-187298. In particular, phthalazinones (phthalazinone, phthalazinone derivatives or metal salts; for example, 4- (1-naphthyl) phthalazinone, 6-chlorophthalazinone, 5,7 -Dimethoxyphthalazinone and 2,3-dihydro-1,4-phthalazinedione); phthalazinones and phthalic acids (eg phthalic acid, 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid, diammonium phthalate, sodium phthalate) , Potassium phthalate and tetrachlorophthalic anhydride); phthalazines (phthalazine, phthalazine derivatives or metal salts; eg 4- (1-naphthyl) phthalazine, 6-isopropyl (Thalazine, 6-t-butyl phthalazine, 6-chlorophthalazine, 5,7-dimethoxyphthalazine and 2,3-dihydrophthalazine); a combination of phthalazines and phthalic acids is preferred, especially phthalazines and phthalic acids The combination of is preferable. Of these, a particularly preferred combination is a combination of 6-isopropylphthalazine and phthalic acid or 4-methylphthalic acid.
[0434]
3) Plasticizer, lubricant
Regarding the plasticizer and lubricant that can be used in the photosensitive layer of the present invention, paragraph No. 0117 of JP-A No. 11-65021, the ultrahigh contrast agent for ultrahigh contrast image formation, and the addition method and amount thereof are the same. Paragraph No. 0118, Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-223898, Paragraph Nos. 0136 to 0193, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-284399, compounds of Formula (H), Formulas (1) to (3), Formulas (A) and (B), and Japanese Patent Application JP-A-11-65021, paragraph No. 0102, JP-A-11-65021, compounds of general formulas (III) to (V) described in JP-A-11-91652 (specific compounds: Chemical formulas 21 to 24), No. 223898, paragraph numbers 0194 to 0195.
[0435]
4) Ultra-high contrast agent
In order to form an ultrahigh contrast image suitable for printing plate making applications, it is preferable to add an ultrahigh contrast agent to the image forming layer. As for the ultra-high contrast agent and its addition method and addition amount, the formulas of JP-A No. 11-65021, paragraph No. 0118, JP-A No. 11-223898, paragraph Nos. 0136 to 0193, and Japanese Patent Application No. 11-87297 ( H), compounds of formulas (1) to (3), formulas (A) and (B), compounds of general formulas (III) to (V) described in Japanese Patent Application No. 11-91652 (specific compounds: 21 to 24), and the contrast accelerators are described in JP-A-11-65021, paragraph number 0102, and JP-A-11-223898, paragraph number 0194-0195.
[0436]
In order to use formic acid or formate as a strong fogging substance, it is preferably contained at 5 mmol or less, more preferably 1 mmol or less, per mol of silver on the side having the image forming layer containing photosensitive silver halide.
[0437]
When the ultrahigh contrast agent is used in the photothermographic material of the present invention, it is preferable to use an acid formed by hydrating diphosphorus pentoxide or a salt thereof in combination. Acids or salts thereof formed by hydration of diphosphorus pentoxide include metaphosphoric acid (salt), pyrophosphoric acid (salt), orthophosphoric acid (salt), triphosphoric acid (salt), tetraphosphoric acid (salt), hexametalin An acid (salt) etc. can be mentioned. Examples of the acid or salt thereof formed by hydrating diphosphorus pentoxide particularly preferably include orthophosphoric acid (salt) and hexametaphosphoric acid (salt). Specific examples of the salt include sodium orthophosphate, sodium dihydrogen orthophosphate, sodium hexametaphosphate, and ammonium hexametaphosphate.
Amount of acid or salt thereof formed by hydration of diphosphorus pentoxide (1m photosensitive material)2The coating amount per unit) may be a desired amount according to the performance such as sensitivity and fog, but 0.1 to 500 mg / m2Is preferred, 0.5-100 mg / m2Is more preferable.
The reducing agent, hydrogen bonding compound, development accelerator and polyhalogen compound of the present invention are preferably used as solid dispersions, and a preferred method for producing these solid dispersions is described in JP-A-2002-55405. .
[0438]
(Preparation and application of coating solution)
The preparation temperature of the image forming layer coating solution of the present invention is preferably from 30 ° C. to 65 ° C., more preferably from 35 ° C. to less than 60 ° C., and more preferably from 35 ° C. to 55 ° C. Further, it is preferable that the temperature of the image forming layer coating solution immediately after the addition of the polymer latex is maintained at 30 ° C. or more and 65 ° C. or less.
[0439]
(Layer structure and components)
The image forming layer of the present invention is composed of one or more layers on a support. In the case of a single layer, it consists of an organic silver salt, a photosensitive silver halide, a reducing agent and a binder, and optionally contains additional materials such as toning agents, coating aids and other auxiliary agents. In the case of two or more layers, the first image forming layer (usually the layer adjacent to the support) contains an organic silver salt and a light-sensitive silver halide, and some of the second image forming layer or both layers include Must contain other ingredients. The construction of a multicolor photosensitive photothermographic material may include a combination of these two layers for each color and includes all components in a single layer as described in US Pat. No. 4,708,928. Also good. In the case of a multi-dye multicolor photosensitive photothermographic material, each emulsion layer generally has a functional or non-functional barrier layer between each photosensitive layer as described in U.S. Pat.No. 4,460,681. By using, they are kept distinguished from each other.
The photothermographic material of the present invention can have a non-photosensitive layer in addition to the image forming layer. The non-photosensitive layer consists of (a) a surface protective layer provided on the image forming layer (on the side farther from the support), (b) between the plurality of image forming layers and between the image forming layer and the protective layer. An intermediate layer provided between them, (c) an undercoat layer provided between the image forming layer and the support, and (d) a back layer provided on the opposite side of the image forming layer.
[0440]
In addition, although a layer acting as an optical filter can be provided, it is provided as the layer (a) or (b). The antihalation layer is provided on the photosensitive material as the layer (c) or (d).
[0441]
1) Surface protective layer
In the photothermographic material of the invention, a surface protective layer can be provided for the purpose of preventing adhesion of the image forming layer. The surface protective layer may be a single layer or a plurality of layers.
The surface protective layer is described in JP-A No. 11-65021, paragraph numbers 0119 to 0120 and JP-A No. 2000-171936.
As the binder for the surface protective layer of the present invention, gelatin is preferable, but it is also preferable to use polyvinyl alcohol (PVA) or a combination thereof. As gelatin, inert gelatin (for example, Nitta gelatin 750), phthalated gelatin (for example, Nitta gelatin 801), and the like can be used. Examples of PVA include those described in JP-A No. 2000-171936, paragraphs 0009 to 0020, which are completely saponified PVA-105, partially saponified PVA-205, PVA-335, and modified polyvinyl alcohol MP-. Preferred is 203 (trade name, manufactured by Kuraray Co., Ltd.). Polyvinyl alcohol coating amount of protective layer (per layer) (support 1m2As per) 0.3-4.0g / m2Is preferably 0.3 to 2.0 g / m2Is more preferable.
[0442]
Total binder (including water-soluble polymer and latex polymer) coating amount of surface protective layer (per layer) (support 1m2As per) 0.3-5.0g / m2Is preferably 0.3 to 2.0 g / m2Is more preferable.
[0443]
2) Antihalation dye
The photothermographic material of the present invention preferably contains a dye having light absorption at the exposure wavelength in at least one of the photosensitive layer and the non-photosensitive layer for the purpose of preventing halation during exposure. Examples of the non-photosensitive layer include a non-photosensitive layer (an antihalation layer or an undercoat layer) on the support side of the photosensitive layer, and a non-photosensitive layer on the back surface on the opposite side of the support from the photosensitive layer.
The antihalation dye may be an infrared absorbing dye when the exposure wavelength is in the infrared region, and may be an ultraviolet absorbing dye when the exposure wavelength is in the ultraviolet region, both of which absorb in the visible region. Dyes that do not have or have low absorption in the visible range are preferred.
[0444]
When the exposure wavelength is in the visible range, it is preferable that the antihalation dye does not substantially retain the dye color after image formation, and it is preferable to use a means for decoloring by the heat of heat development. In particular, it is preferable to add a thermally decolorable dye and a base precursor to the non-photosensitive layer to function as a thermally decolorable antihalation layer. These techniques are described in JP-A-11-231457 and the like.
[0445]
The amount of antihalation dye added is determined by the use of the dye. In general, the optical density (absorbance) when measured at the target wavelength is preferably used in an amount exceeding 0.1, and more preferably 0.2 to 2. The amount of dye used to obtain such an optical density is generally 0.001 to 1 g / m.2Degree.
[0446]
When the exposure light source is laser light, the antihalation layer only needs to absorb light in a narrow wavelength region in accordance with the emission peak wavelength, so that the amount of dye applied can be reduced, and a photosensitive material is produced at low cost. be able to.
In addition, as the emission peak wavelength of laser light becomes shorter, higher-definition image recording becomes possible. For this reason, it is preferable that the light emission peak wavelength of a laser beam is 350-430 nm, and it is more preferable that it is 380-420 nm from a practical viewpoint.
[0447]
When laser light having an emission peak wavelength of 350 to 430 nm is used as an exposure light source, the antihalation dye preferably has an absorption maximum between 350 nm and 430 nm. Furthermore, when the emission peak wavelength of laser light is 380 to 420 nm, the dye preferably has an absorption maximum at 380 nm to 420 nm.
The layer containing a dye having an absorption maximum between 350 nm and 430 nm is preferably a photosensitive layer, a non-photosensitive layer on the support side of the photosensitive layer (which may be an antihalation layer), and opposite to the photosensitive layer with respect to the support This is a non-photosensitive layer on the back surface on the side.
[0448]
The type of the dye is not particularly limited as long as it has an absorption maximum between 350 nm and 430 nm. The absorption maximum observed between 350 nm and 430 nm may be main absorption or secondary absorption. Specific examples of dyes having an absorption maximum between 350 nm and 430 nm include azo dyes, azomethine dyes, quinone dyes (such as anthraquinone dyes and naphthoquinone dyes), quinoline dyes (such as quinophthalone dyes), and methine dyes (for example, Cyanine, merocyanine, oxonol, styryl, arylidene, aminobutadiene dyes, including polymethine dyes), carbonium dyes (eg, cationic dyes such as diphenylmethane dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, acridine dyes), azine dyes (eg. , Thiazine dyes, oxazine dyes, cation dyes such as phenazine dyes), aza [18] π electron dyes (for example, porphine dyes, tetraazaporphine dyes, phthalocyanine dyes, etc.), indigoid dyes (indigo, Indigo dyes), squarylium dyes, croconium dyes, pyromethene dyes, nitro / nitroso dyes, benzotriazole dyes, triazine dyes, etc., preferably azo dyes, azomethine dyes, quinone dyes, quinoline dyes, A methine dye, an aza [18] π electron dye, an indigoid dye, and a pyromethene dye, more preferably an azo dye, an azomethine dye, and a methine dye, with a methine dye being particularly preferred. These dyes may be in a solid fine particle dispersed state, an associated state (including a liquid crystal state), or two or more kinds of dyes may be used in combination.
[0449]
It is preferable to use an antihalation dye having a large absorption at the exposure wavelength because the amount of the dye applied can be reduced. Therefore, it is preferable that the antihalation dye is a dye exhibiting a sharp absorption spectrum peak with a narrow half width, or used in a state exhibiting such absorption. It is preferable to use the dye in a solid fine particle dispersed state or an associated state since the absorption can be increased and the absorption spectrum peak can be sharpened. In order to form the dye aggregate, it is preferable to use a dye having an ionic hydrophilic group. The full width at half maximum of dye absorption is preferably 100 nm or less, more preferably 75 nm or less, and even more preferably 50 nm or less.
[0450]
The antihalation dye may or may not be decolored after image formation. When the dye is not decolored (hereinafter referred to as “non-decoloring”), it is preferable that the dye is not noticeable, and it is preferable that the ratio obtained by slowing the absorption at the exposure wavelength by the absorption at 425 nm is larger. For example, when the photosensitive material is exposed and recorded with a semiconductor laser having a wavelength of 405 nm, the absorption ratio of 405 nm / 425 nm is preferably 5 or more, more preferably 10 or more, and particularly preferably 15 or more.
Examples of such dyes include aminobutadiene dyes, merocyanine dyes in which an acidic nucleus and a basic nucleus are directly connected, or polymethine dyes. In addition, a non-decolorable dye can be added as an aqueous solution if it is water-soluble.
[0451]
On the other hand, it is also preferable to decolorize the antihalation dye during the heat development process. As the dye decoloring method, the following are known, and any method can be used.
(1) A colorant (dye) comprising an electron-donating color developing organic compound and an acidic developer, as described in JP-A-9-34077 and JP-A-2001-51371, and a specific erasing agent. A method of decoloring by reacting with a colorant during heat development;
(2) Compounds that generate radicals by light irradiation or heating, such as those described in JP-A-9-133984, JP-A-2000-29168, 2000-284403, and 2000-347341. A method of erasing the decolorizable dye in combination with a chromatic dye.
(3) U.S. Pat. Nos. 5,135,842, 5,258,724, 5,314,795, 5,324,627, 5,384,237, JP-A-3-26765, 6-222504, A method of decolorizing the decolorizable dye by a combination of a compound capable of generating a base or a nucleophilic agent upon heating and a decolorizable dye described in JP-A-6-222505 and 7-36145.
(4) A method for decolorizing a dye by causing an intramolecular cyclization reaction by thermal decomposition of the dye itself, as described in US Pat. No. 4,894,358, JP-A-2-289856, and JP-A-59-182436 .
(5) Decolorizing properties described in JP-A-6-82948, JP-A-11-231457, JP-A-2000-112058, JP-A-2000-281923, JP-A-2000-169248 A method of decolorizing a dye by combining a very good intramolecular ring-closing decoloring dye and a base or a base precursor.
[0452]
Among the above, the combination of the decolorizer (including radical generator, base precursor, nucleophile generator) and decolorizable dye achieves both decolorization during heat development and storage stability when not developed. It is easy to make it preferable. In particular, a combination of an intramolecular ring-closing decoloring dye and a base precursor is more preferable because it can achieve both decoloring properties and stability at a high level.
[0453]
Among the intramolecular ring-closing decoloring dyes, preferred are dyes having a polymethine chromophore, more preferably nucleophilicity by the action of a base at a position capable of reacting with a polymethine moiety to form a 5- to 7-membered ring. A polymethine dye having a group capable of generating a site. Particularly preferred is a polymethine dye having a group capable of forming a nucleophilic group by dissociation at a position capable of forming a 5- to 7-membered ring, such as a dye represented by the following general formulas (1) and (2). is there.
In particular, it is preferable to use a dye represented by the following general formula (1) or (2).
[0454]
Embedded image
[0455]
In the general formulas (1) and (2), R1Is a hydrogen atom, aliphatic group, aromatic group, -NRtwenty oneR26, -ORtwenty oneOr -SRtwenty oneRepresents Rtwenty oneAnd R26Each independently represents a hydrogen atom, an aliphatic group or an aromatic group, or Rtwenty oneAnd R26And combine to form a nitrogen-containing heterocycle. R2Represents a hydrogen atom, an aliphatic group or an aromatic group, and R1And R2And may combine with each other to form a 5- or 6-membered ring. L1And L2Each independently represents a substituted or unsubstituted methine, and the substituents of methine may be bonded to each other to form an unsaturated aliphatic ring or an unsaturated heterocyclic ring. Z1Is an atomic group necessary to complete a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic ring, and the nitrogen-containing heterocyclic ring may be condensed with an aromatic ring, and the nitrogen-containing heterocyclic ring and the condensed ring are It may have a substituent. A represents an acidic nucleus, and B represents an aromatic group, an unsaturated heterocyclic group, or a group represented by the following general formula (3). n and m each represent an integer of 1 to 3. When n and m are each 2 or more, L is 2 or more1And L2May be the same or different.
[0456]
Embedded image
[0457]
In general formula (3), LThreeRepresents substituted or unsubstituted methine, L2To form an unsaturated aliphatic ring or an unsaturated heterocyclic ring. RThreeRepresents an aliphatic group or an aromatic group. Z2Is an atomic group necessary for completing a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic ring, and the nitrogen-containing heterocyclic ring may be condensed with an aromatic ring, and the nitrogen-containing heterocyclic ring and the condensed ring are substituted. It may have a group.
[0458]
Where R1Is a hydrogen atom, aliphatic group, aromatic group, -NRtwenty oneR26, -ORtwenty oneOr -SRtwenty oneRepresents Rtwenty oneAnd R26Each independently represents a hydrogen atom, an aliphatic group or an aromatic group, or Rtwenty oneAnd R26And combine to form a nitrogen-containing heterocycle. R1Is -NRtwenty oneR26, -ORtwenty oneOr -SRtwenty oneIt is preferable that Rtwenty oneIs preferably an aliphatic group or an aromatic group, more preferably an unsubstituted alkyl group, a substituted alkyl group, an unsubstituted aralkyl group, a substituted aralkyl group, an unsubstituted aryl group or a substituted aryl group. R26Is preferably a hydrogen atom or an aliphatic group, more preferably a hydrogen atom, an unsubstituted alkyl group or a substituted alkyl group. Rtwenty oneAnd R26The nitrogen-containing heterocyclic ring formed by combining with each other is preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring. The nitrogen-containing heterocycle may have a hetero atom other than nitrogen (eg, oxygen atom, sulfur atom).
[0459]
In this specification, “aliphatic group” means an unsubstituted alkyl group, a substituted alkyl group, an unsubstituted alkenyl group, a substituted alkenyl group, an unsubstituted alkynyl group, a substituted alkynyl group, an unsubstituted aralkyl group or a substituted aralkyl group. To do. In the present invention, an unsubstituted alkyl group, a substituted alkyl group, an unsubstituted alkenyl group, a substituted alkenyl group, an unsubstituted aralkyl group or a substituted aralkyl group is preferred, and an unsubstituted alkyl group, a substituted alkyl group, an unsubstituted aralkyl group or a substituted aralkyl group Is more preferable. A chain aliphatic group is preferred to a cyclic aliphatic group. The chain aliphatic group may have a branch. The number of carbon atoms of the unsubstituted alkyl group is preferably 1-30, more preferably 1-15, still more preferably 1-10, and most preferably 1-8. The alkyl part of the substituted alkyl group is the same as the preferred range of the unsubstituted alkyl group.
[0460]
The number of carbon atoms of the unsubstituted alkenyl group and the unsubstituted alkynyl group is preferably 2 to 30, more preferably 2 to 15, further preferably 2 to 12, and 2 to 8. Is most preferred. The alkenyl part of the substituted alkenyl group and the alkynyl part of the substituted alkynyl group are the same as the preferred ranges of the unsubstituted alkenyl group and the unsubstituted alkynyl group, respectively. The number of carbon atoms in the unsubstituted aralkyl group is preferably 7 to 35, more preferably 7 to 20, still more preferably 7 to 15, and most preferably 7 to 10. The aralkyl part of the substituted aralkyl group is the same as the preferred range of the unsubstituted aralkyl group.
[0461]
Examples of substituents for aliphatic groups (substituted alkyl groups, substituted alkenyl groups, substituted alkynyl groups, substituted aralkyl groups) include halogen atoms (fluorine atoms, chlorine atoms, bromine atoms), hydroxyl groups, alkoxy groups, aryloxy groups Silyloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, carbamoyloxy group, alkoxycarbonyloxy group, aryloxycarbonyloxy group, nitro group, sulfo group, carboxyl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group Alkylthiocarbonyl group, heterocyclic group, cyano group, amino group (including anilino group), acylamino group, aminocarbonylamino group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfamoylamino group, alkyl and Reelsulfonylamino group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio group, sulfamoyl group, alkyl and arylsulfinyl group, alkyl and arylsulfonyl group, alkoxycarbonyl group, imide group, phosphino group, phosphinyl group, phosphinyl group An oxy group, a phosphinylamino group, a phosphono group and a silyl group are included. The carboxyl group, sulfo group, and phosphono group may be in a salt state. The cation that forms a salt with the carboxyl group, phosphono group, or sulfo group is preferably ammonium or an alkali metal ion (eg, lithium ion, sodium ion, potassium ion).
[0462]
In the present specification, the “aromatic group” means an unsubstituted aryl group or a substituted aryl group. The number of carbon atoms of the unsubstituted aryl group is preferably 6-30, more preferably 6-20, still more preferably 6-15, and most preferably 6-12. The aryl part of the substituted aryl group is the same as the preferred range of the unsubstituted aryl group. Examples of the substituent of the aromatic group (substituted aryl group) include the aliphatic group and those exemplified in the examples of the substituent of the aliphatic group.
[0463]
In the general formulas (1) and (2), R2Represents a hydrogen atom, an aliphatic group or an aromatic group, and R1And R2May combine to form a 5- or 6-membered ring. The definition of the aliphatic group and the aromatic group is as described above. R2Is preferably a hydrogen atom or an aliphatic group, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group, further preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, and more preferably a hydrogen atom. Most preferred.
[0464]
In the general formulas (1), (2) and (3), L1, L2And LThreeEach independently represents an optionally substituted methine. Methine substituents may be bonded to each other to form an unsaturated aliphatic ring or an unsaturated heterocyclic ring. Examples of the methine substituent include a halogen atom, an aliphatic group, and an aromatic group. The definition of the aliphatic group and the aromatic group is as described above. A methine substituent may be bonded to form an unsaturated aliphatic ring or an unsaturated heterocyclic ring. An unsaturated aliphatic ring is preferred over an unsaturated heterocyclic ring. The ring to be formed is preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring, and more preferably a cyclopentene ring or a cyclohexene ring. It is particularly preferred that the methine is unsubstituted or substituted at the meso position with an alkyl group or an aryl group.
[0465]
In the general formula (1), n represents an integer of 1 to 3, and is preferably 1 or 2. When n is 2 or more, the repeated methine may be the same or different. In the general formula (2), m represents an integer of 1 to 3, and is preferably 1 or 2. When m is 2 or more, the repeated methine may be the same or different.
[0466]
In the general formulas (1) and (2), Z1Is an atomic group necessary to complete a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocycle, and the nitrogen-containing heterocycle may be condensed with an aromatic ring, and the nitrogen-containing heterocycle and its condensed ring May have a substituent. Examples of the nitrogen-containing heterocycle include oxazole ring, thiazole ring, selenazole ring, pyrrole ring, pyrroline ring, imidazole ring and pyridine ring. A 5-membered ring is preferred over a 6-membered ring. The nitrogen-containing heterocycle may be condensed with an aromatic ring (benzene ring or naphthalene ring). The nitrogen-containing heterocycle and its condensed ring may have a substituent. Examples of the substituent include the substituents of the above-mentioned aromatic group, preferably a halogen atom (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom), hydroxyl, nitro, carboxyl, sulfo, alkoxy, aryl group And an alkyl group. Carboxyl and sulfo may be in a salt state. The cation that forms a salt with carboxyl and sulfo is preferably ammonium or an alkali metal ion (eg, sodium ion, potassium ion).
[0467]
In the general formula (1), B represents an aromatic group, an unsaturated heterocyclic group, or the following general formula (3). The definition of the aromatic group is as described above. The aromatic group represented by B is preferably a substituted or unsubstituted phenyl group, and the substituent includes a halogen atom, an amino group, an acylamino group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkyl group, an alkylthio group, and an aryl group. Those having an amino group, acylamino group, alkoxy group or alkyl group at the 4-position are particularly preferred. The unsaturated heterocyclic group represented by B is preferably a 5- or 6-membered heterocyclic group composed of carbon, oxygen, nitrogen, or sulfur atoms. Of these, a 5-membered ring is particularly preferred. Preferred examples include substituted or unsubstituted pyrrole, indole, thiophene and furan.
[0468]
In the general formula (3), Z2Is an atomic group forming a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocycle, and Z1May be the same or different. Examples of the nitrogen-containing heterocycle are the above Z1The thing similar to what was illustrated in (5) is illustrated. In the general formula (3), RThreeRepresents an aliphatic group or an aromatic group, and is preferably an aliphatic group, particularly —CHR which is a substituent on the nitrogen atom of the general formula (1)2(COR1) Is most preferable.
[0469]
In the general formula (2), A represents an acidic nucleus. The acidic nucleus is preferably a group obtained by removing one or more (usually two) hydrogen atoms from each of a cyclic ketomethylene compound or a compound having a methylene group sandwiched between electron-withdrawing groups. Examples of cyclic ketomethylene compounds include 2-pyrazolin-5-one, rhodanine, hydantoin, thiohydantoin, 2,4-oxazolidinedione, isoxazolone, barbituric acid, thiobarbituric acid, indandione, dioxopyrazolo Examples include pyridine, meldrum acid, hydroxypyridine, pyrazolidinedione, 2,5-dihydrofuran-2-one, and pyrrolin-2-one. These may have a substituent.
[0470]
The compound having a methylene group sandwiched between the electron withdrawing groups is ZaCH2ZbIt can be expressed as. ZaAnd ZbAre each independently -CN, -SO2Ra1, -CORa1, -COORa2, -CONHRa2, -SO2NHRa2, -C [= C (CN)2] Ra1, -C [= C (CN)2NHRa1Represents Ra1Represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, and Ra2Represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, and Ra1And Ra2Each may have a substituent. Among these acidic nuclei, 2-pyrazolin-5-one, isoxazolone, barbituric acid, indandione, hydroxypyridine, pyrazolidinedione and dioxopyrazolopyridine are more preferable.
[0471]
The dye represented by the general formula (1) preferably forms a salt with an anion. When the dye represented by formula (1) has an anionic group such as a carboxyl group or a sulfo group as a substituent, the dye can form an inner salt. In other cases, the dye preferably forms a salt with the extramolecular anion. The anion is preferably monovalent or divalent, and more preferably monovalent. Examples of anions include halogen ions (Cl-, Br-, I-), P-toluenesulfonic acid ion, ethyl sulfate ion, 1,5-disulfonaphthalene dianion, PF6 -, BFFour -And ClOFour -Is included.
[0472]
The dyes represented by the general formulas (1) and (2) may be used in a molecular dispersion state, but are preferably used in a solid fine particle dispersion state or an association state. In order for the dye to form an aggregate, the dye preferably has an ionic hydrophilic group. Examples of the ionic hydrophilic group include a sulfo group, a carboxyl group, a phosphono group, and a quaternary ammonium group. As the ionic hydrophilic group, a carboxyl group, a phosphono group, and a sulfo group are preferable, and a carboxyl group and a sulfo group are particularly preferable. The carboxyl group, phosphono group, and sulfo group may be in the form of a salt. Examples of counter ions that form a salt include ammonium ions, alkali metal ions (eg, lithium ions, sodium ions, potassium ions), and organic cations. (Eg, tetramethylammonium ion, tetramethylguanidinium ion, tetramethylphosphonium).
[0473]
Next, general formulas of aminobutadiene dyes and merocyanine dyes preferably used as non-decoloring dyes for preventing halation are shown below.
[0474]
General formula (4)
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[0475]
Where R41, R42Each independently represents a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, or a group of nonmetallic atoms necessary to form a 5- or 6-membered ring by linking each other. Also, R41, R42May be bonded to a methine group adjacent to the nitrogen atom to form a 5- or 6-membered ring. A41Represents an acidic nucleus.
[0476]
General formula (5)
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[0477]
Where R51~ R55Each independently represents a hydrogen atom, an aliphatic group or an aromatic group;51And R54Together may form a double bond, R51And R54Together form a double bond, R52And R53May be linked to form a benzene ring or a naphthalene ring. R55Represents an aliphatic group or an aromatic group, E represents an oxygen atom, a sulfur atom, an ethylene group,> N—R56Or> C (R57) (R58) And R56Represents an aliphatic group or an aromatic group, R57, R58Each independently represents a hydrogen atom or an aliphatic group. A51Represents an acidic nucleus.
[0478]
General formula (6)
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[0479]
Where R61Represents a hydrogen atom, an aliphatic group, or an aromatic group. R62Represents a hydrogen atom, an aliphatic group, or an aromatic group. Z61Represents an atomic group necessary for forming a nitrogen-containing heterocycle. Z62And Z62 'Is (N-R62) Represents a group of atoms necessary for forming a heterocyclic or acyclic acidic terminal group together with m). However, Z61, And Z62And Z62 'Each may have a condensed ring. m represents 0 or 1;
[0480]
Hereinafter, the dyes represented by the general formulas (4), (5) and (6) will be described in detail.
R in the general formulas (4), (5) and (6)41, R42, R51~ R58, R61And R62An aliphatic group and an aromatic group in R are R1The same aliphatic groups and aromatic groups described in the above can be applied, and examples of substituents are also the same.
[0481]
A41, A51As the acidic nucleus represented by the formula (2), those similar to those exemplified in A can be applied, each of a cyclic ketomethylene compound or a compound having a methylene group sandwiched between electron withdrawing groups. A group in which one or more (usually two) hydrogen atoms have been removed is preferred. Examples of more preferred methylene compounds include ZaCH2Zb(Synonymous with those described in the description of A in the general formula (2)), 2-pyrazolin-5-one, isoxazolone, barbituric acid, indandione, meldrum acid, hydroxypyridine, pyrazolidinedione and dioxo And pyrazolopyridine. These may have a substituent.
R41And R42Preferred examples of the 5- or 6-membered ring formed by linking pyrrolidine ring, piperidine ring, morpholine ring and the like.
[0482]
In the general formula (6), Z61Is an atomic group necessary to complete a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocycle, and the nitrogen-containing heterocycle may be condensed with an aromatic ring, and the nitrogen-containing heterocycle and its condensed ring May have a substituent. Examples of the nitrogen-containing heterocycle include thiazoline nucleus, thiazole nucleus, benzothiazole nucleus, oxazoline nucleus, oxazole nucleus, benzoxazole nucleus, selenazoline nucleus, selenazole nucleus, benzoselenazole nucleus, tellurazoline nucleus, tellurazole nucleus, benzotelrazole Nucleus, 3,3-dialkylindolenine nucleus (eg 3,3-dimethylindolenine), imidazoline nucleus, imidazole nucleus, benzimidazole nucleus, 2-pyridine nucleus, 4-pyridine nucleus, 2-quinoline nucleus, 4-quinoline nucleus 1-isoquinoline nucleus, 3-isoquinoline nucleus, imidazo [4,5-b] quinoxaline nucleus, oxadiazole nucleus, thiadiazole nucleus, tetrazole nucleus, pyrimidine nucleus, etc., preferably thiazoline nucleus, thiazole nucleus Benzothiazole nucleus, oxa Phosphorus nucleus, oxazole nucleus, benzoxazole nucleus, 3,3-dialkylindolenine nucleus (for example, 3,3-dimethylindolenine), imidazoline nucleus, imidazole nucleus, benzimidazole nucleus, 2-pyridine nucleus, 4-pyridine nucleus, 2 -Quinoline nucleus, 4-quinoline nucleus, 1-isoquinoline nucleus, 3-isoquinoline nucleus, more preferably thiazoline nucleus, thiazole nucleus, benzothiazole nucleus, oxazoline nucleus, oxazole nucleus, benzoxazole nucleus, 3,3-dialkylindo A renin nucleus (for example, 3,3-dimethylindolenine), an imidazoline nucleus, an imidazole nucleus, a benzimidazole nucleus, particularly preferably a thiazoline nucleus, a thiazole nucleus, a benzothiazole nucleus, an oxazoline nucleus, an oxazole nucleus, a benzoxazole nucleus, Most preferred It is a thiazoline nucleus, an oxazoline nucleus, a benzoxazole nucleus. The nitrogen-containing heterocycle may be condensed with an aromatic ring (benzene ring or naphthalene ring). The nitrogen-containing heterocycle and its condensed ring may have a substituent. Examples of the substituent include the above-mentioned aromatic substituents, preferably a halogen atom (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom), hydroxyl group, nitro group, carboxyl group, sulfo group, An alkoxy group, an aryl group and an alkyl group; The carboxyl group and the sulfo group may be in a salt state. The cation that forms a salt with the carboxyl group and the sulfo group is preferably ammonium or an alkali metal ion (for example, sodium ion or potassium ion).
[0483]
Z62And Z62 'And (N-R62) M together represent a group of atoms necessary to form a heterocyclic or acyclic acidic end group. The heterocyclic ring (preferably a 5- or 6-membered heterocyclic ring) may be any, but an acidic nucleus is preferable.
Next, the acidic nucleus and the acyclic acidic end group will be described. The acidic nuclei and acyclic acidic end groups can take the form of the acidic nuclei and acyclic acidic end groups of any common merocyanine dye. Z in the preferred form62Is a thiocarbonyl group, a carbonyl group, an ester group, an acyl group, a carbamoyl group, a cyano group or a sulfonyl group, more preferably a thiocarbonyl group or a carbonyl group. Z62 'Represents the remaining atomic groups necessary to form an acidic nucleus and an acyclic acidic end group. In the case of forming an acyclic acidic terminal group, a thiocarbonyl group, a carbonyl group, an ester group, an acyl group, a carbamoyl group, a cyano group, a sulfonyl group and the like are preferable.
m is 0 or 1, but is preferably 1.
[0484]
The acidic nuclei and acyclic acidic end groups mentioned here are, for example, “The Theory of the Photographic Process”, 4th edition, edited by James, Macmillan Publishing Co., Ltd. 1977, 197-200 Mitsugu. Here, an acyclic acidic terminal group means an acidic or electron-accepting terminal group that does not form a ring.
Acid nuclei and acyclic acidic end groups are specifically described in U.S. Pat. Nos. 3,567,719, 3,575,869, 3,804,634, No. 3,837,862, No. 4,002,480, No. 4,925,777, JP-A-3-167546, U.S. Pat. No. 5,994,051, U.S. Pat. Examples thereof include those described in Japanese Patent No. 5,747,236.
[0485]
The acidic nucleus is a heterocyclic ring (preferably a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic ring) composed of a carbon atom, a nitrogen atom, and / or a chalcogen atom (typically an oxygen atom, a sulfur atom, a selenium atom, and a tellurium atom). And more preferably a 5-membered or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic ring consisting of a carbon atom, a nitrogen atom, and / or a chalcogen atom (typically an oxygen atom, a sulfur atom, a selenium atom, and a tellurium atom). . Specifically, 2-pyrazolin-5-one, pyrazolidine-3,5-dione, imidazolin-5-one, hydantoin, 2 or 4-thiohydantoin, 2-iminooxazolidine-4-one, 2-oxazoline-5 -One, 2-thiooxazolidine-2,5-dione, 2-thiooxazoline-2,4-dione, isoxazolin-5-one, 2-thiazoline-4-one, thiazolidine-4-one, thiazolidine-2, 4-dione, rhodanine, thiazolidine-2,4-dithione, isorhodanine, indan-1,3-dione, thiophen-3-one, thiophen-3-one-1,1-dioxide, indoline-2-one, indoline- 3-one, 2-oxoindazolinium, 3-oxoindazolinium, 5,7-dioxo-6,7-dihi Rothiazolo [3,2-a] pyrimidine, cyclohexane-1,3-dione, 3,4-dihydroisoquinolin-4-one, 1,3-dioxane-4,6-dione, barbituric acid, 2-thiobarbitur Acid, chroman-2,4-dione, indazolin-2-one, pyrido [1,2-a] pyrimidine-1,3-dione, pyrazolo [1,5-b] quinazolone, pyrazolo [1,5-a] Benzimidazole, pyrazolopyridone, 1,2,3,4-tetrahydroquinoline-2,4-dione, 3-oxo-2,3-dihydrobenzo [d] thiophene-1,1-dioxide, 3-dicyanomethine-2, 3-Dihydrobenzo [d] thiophene-1,1-dioxide nuclei, carbonyl groups or thiocarbonyl groups forming these nuclei are active in acidic nuclei Nuclei having an exomethylene structure substituted at the tylene position, and nuclei having an exomethylene structure substituted at the active methylene position of an active methylene compound having a structure such as ketomethylene or cyanomethylene as a raw material for an acyclic acidic end group , And nuclei in which this is repeated.
These acidic nuclei and acyclic acidic terminal groups may be substituted or condensed with the substituents or rings shown in the examples of the substituents of the aromatic group.
[0486]
Z62And Z62 'And (N-R62) M is preferably hydantoin, 2 or 4-thiohydantoin, 2-oxazoline-5-one, 2-thiooxazoline-2,4-dione, thiazolidine-2,4-dione, rhodanine, thiazolidine-2,4- Dithione, barbituric acid, 2-thiobarbituric acid, more preferably hydantoin, 2 or 4-thiohydantoin, 2-oxazolin-5-one, rhodanine, barbituric acid, 2-thiobarbituric acid . Particularly preferred are 2 or 4-thiohydantoin, 2-oxazolin-5-one and rhodanine.
[0487]
When the dye represented by the general formulas (4) to (6) is water-soluble, it preferably has an ionic hydrophilic group. Examples and preferred examples of the ionic hydrophilic group are the same as those described in the general formulas (1) and (2).
[0488]
Specific examples of preferably used antihalation dyes are shown below, but the antihalation dyes are not limited to the following specific examples.
[0489]
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[0490]
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[0491]
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[0492]
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[0495]
[Chemical Formula 86]
[0496]
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[0497]
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[0498]
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[0499]
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[0500]
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[0501]
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[0503]
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[0504]
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[0505]
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[0506]
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[0507]
Regarding the synthesis of antihalation dye compounds, a general method is described in “The Cyanine Dyes and Related Compounds”, Frances Hamer, Interscience Publishers, 1964. It can be synthesized by a method in conformity with Japanese Unexamined Patent Publication Nos. 2000-112058, 2000-86927 and 2000-86928.
[0508]
When the antihalation dye is decolored in the process of heat development, it can be decolored by applying a decoloring agent under heating conditions. Particularly, in the dyes of the general formulas (1) and (2), the active methylene group in the dye is deprotonated by the action of the base, and the nucleophilic species generated thereby nucleophilically attacks the methylene chain in the molecule, Discolors by forming an intramolecular ring closure. Accordingly, any base that can be used for this reaction can deprotonate the active methylene group in the dye. The number of ring members newly formed by the intramolecular ring-closing reaction is not particularly limited, but is preferably a 5- to 7-membered ring, and more preferably a 5-membered ring or a 7-membered ring. The substantially colorless compound formed in this way is a stable compound and does not return to the original dye, and there is no problem such as coloring due to the once decolored dye returning to its original state.
[0509]
The heating temperature in the decoloring reaction of the dye is preferably 40 to 200 ° C, more preferably 80 to 150 ° C, still more preferably 100 to 130 ° C, and 115 to 125 ° C. Is most preferred. The heating time is preferably 5 to 120 seconds, more preferably 10 to 60 seconds, further preferably 12 to 30 seconds, and most preferably 14 to 25 seconds. In the photothermographic material, heating for heat development can be used. As will be described later, it is preferable to use a heat-responsive base precursor (details will be described later) that generates a base by supplying heat. In such a case, the actual heating temperature and heating time are determined in consideration of the temperature and time required for thermal development or the temperature and time required for thermal decomposition.
[0510]
The decoloring agent necessary for the decoloring reaction is preferably a radical, a nucleophile, a base or a precursor thereof. When using the dye represented by the general formula (1) or (2), it is preferable to decolorize using a base or a base precursor. The base necessary for the decoloring reaction is a broad base, and includes a nucleophile (Lewis base) in addition to a narrow base. When the base coexists with the dye, the decoloring reaction may proceed slightly even at room temperature. Accordingly, it is preferable that the base is physically or chemically isolated from the dye, and when the color is to be erased, the isolated state is released by heating, for example, and the base and the dye are brought into contact (reaction). As a means for physically separating both, at least one of the dye and the base is encapsulated in a microcapsule; at least one of the dye and the base is encapsulated in a fine particle of a hot-melt material; or Bases are included in different layers; there is a means. The microcapsules include those that burst by pressure and those that burst by heating. Since the decoloring reaction proceeds easily under heating conditions, it is convenient to use microcapsules that burst (thermally responsive) upon heating. For sequestration, at least one of base and dye is encapsulated in microcapsules. Both can be encapsulated in separate microcapsules. When the outer shell of the microcapsule is opaque, it is preferable that the dye is contained outside the microcapsule and the base is encapsulated in the microcapsule. The thermo-responsive microcapsules are described in Hiroyuki Moriga, Introductory / Special Paper Chemistry (Showa 50), and JP-A-1-150575.
[0511]
Wax or the like can be used as the hot-melt material used for separating the dye from the base. One of a base and a dye (preferably a base) can be added to the fine particles of the heat-meltable substance for isolation. The melting point of the hot-melt material is preferably between room temperature and the heating temperature when the decoloring reaction proceeds. When the layer containing the dye and the layer containing the base are separated and separated from each other, it is preferable to provide a barrier layer containing a hot-melt material between these layers.
[0512]
It is preferable to chemically separate the dye and the base because they are easy to implement. As a means for chemically isolating both, it is preferable to use a precursor that can generate (including release) a base by heating. As the base precursor, a thermal decomposition type base precursor is representative, and in particular, a thermal decomposition type (decarboxylation type) base precursor composed of a salt of a carboxylic acid and a base is representative. When the decarboxylated base precursor is heated, the carboxyl group of the carboxylic acid undergoes a decarboxylation reaction, and the organic base is released. As the carboxylic acid constituting the thermal decomposition method base precursor, sulfonylacetic acid or propiolic acid which is easily decarboxylated can be used. The sulfonylacetic acid and propiolic acid preferably have, as a substituent, a group having an aromaticity that promotes decarboxylation (an aryl group or an unsaturated heterocyclic group). The base precursor of sulfonyl acetate is described in JP-A-59-168441, and the base precursor of propiolate is described in JP-A-59-180537. The base component of the decarboxylation type base precursor is preferably an organic base, more preferably amidine, guanidine or a derivative thereof. The organic base is preferably a diacid base, a triacid base or a tetraacid base, more preferably a diacid base, and most preferably a diacid base of an amidine derivative or a guanidine derivative.
[0513]
The diacid base, triacid base or tetraacid base precursor of the amidine derivative is described in JP-B-7-59545. The diacid base, triacid base or tetraacid base precursor of the guanidine derivative is described in JP-B-8-10321. The diacid base of the amidine derivative or guanidine derivative comprises (A) two amidine or guanidine moieties, (B) a substituent of the amidine or guanidine moiety and (C) a divalent linking two amidine or guanidine moieties. Consists of a linking group. Examples of the substituent of (B) include an alkyl group (including a cycloalkyl group), an alkenyl group, an alkynyl group, an aralkyl group, and a heterocyclic residue. Two or more substituents may combine to form a nitrogen-containing heterocycle. The linking group (C) is preferably an alkylene group or a phenylene group. As an example of a diacid base precursor of an amidine derivative or a guanidine derivative, a base precursor described in Chemical formula 55 to Chemical formula 95 of JP-A No. 11-231457 can be preferably used in the present invention.
[0514]
When the dye is decolored, the optical density after heat development can be reduced to 0.1 or less. Two or more decoloring dyes may be used in combination in the photothermographic material. Similarly, two or more kinds of base precursors may be used in combination. In thermal decoloration using such decoloring dyes and base precursors, substances that lower the melting point by 3 ° C. or more when mixed with a base precursor as described in JP-A-11-352626 (for example, diphenylsulfone, 4- Use of chlorophenyl (phenyl) sulfone), 2-naphthyl benzoate, or the like is preferable from the viewpoint of thermal decoloring property and the like.
[0515]
The layer containing the antihalation dye preferably contains a binder together with the dye. As the binder, a hydrophilic polymer (eg, polyvinyl alcohol, gelatin) is preferably used. In general, in the photothermographic material, the addition amount of the antihalation dye is preferably used in such an amount that the optical density (absorbance) exceeds 0.1 when measured at a target wavelength. More preferably, it is 2 to 2.0. The amount of the dye used to obtain such an optical density can be reduced by using an aggregate, and is generally 0.001 to 0.2 g / m.2Degree. Preferably, 0.001 to 0.1 g / m2More preferably, 0.001 to 0.05 g / m2It is. In the mode of decolorizing the antihalation dye, the optical density can be lowered to 0.1 or less by decoloring the dye. Two or more dyes may be used in combination. Similarly, two or more kinds of base precursors may be used in combination. The use amount (mol) of the base precursor is preferably 1 to 100 times, more preferably 3 to 30 times the use amount (mol) of the dye. The base precursor is preferably dispersed and contained in any layer of the photothermographic material in the form of solid fine particles.
[0516]
As a method for adding the antihalation dye to the non-photosensitive layer, a method of adding a solid fine particle dispersion or an aggregate dispersion to the coating solution for the non-photosensitive layer can be employed. This addition method is the same as the method of adding a dye to an ordinary photothermographic material.
[0517]
3) Back layer
The back layer applicable to the present invention is described in paragraph numbers 0128 to 0130 of JP-A No. 11-65021.
[0518]
In the present invention, a colorant having an absorption maximum at 300 to 450 nm can be added for the purpose of improving silver tone and aging of the image. Such colorants are disclosed in JP-A Nos. 62-210458, 63-104046, 63-103235, 63-208846, 63-306436, 63-314535, and JP-A-01-61745. No. 1, Japanese Patent Laid-Open No. 2001-100363, and the like. Such colorants are usually 0.1 mg / m2~ 1g / m2The back layer provided on the opposite side of the photosensitive layer is preferable as the layer to be added in the range of.
In order to adjust the base color tone, it is preferable to use a dye having an absorption peak at 580 to 680 nm. As the dye for this purpose, an azomethine oil-soluble dye described in JP-A-4-359967 and JP-A-4-359968 having a small absorption intensity on the short wavelength side, and a phthalocyanine water-soluble dye described in Japanese Patent Application No. 2002-96797 are preferable. The dye for this purpose may be added to any layer, but is more preferably added to the non-photosensitive layer on the emulsion surface side or the back surface side.
[0519]
The photothermographic material of the present invention is a so-called single-sided photosensitive material having a photosensitive layer containing at least one silver halide emulsion on one side of the support and a back layer on the other side. preferable.
[0520]
4) Matting agent
In the present invention, it is preferable to add a matting agent for improving transportability, and the matting agent is described in paragraph Nos. 0126 to 0127 of JP-A No. 11-65021. Matting agent is photosensitive material 1m2When expressed in terms of coating amount per unit, preferably 1 to 400 mg / m2, More preferably 5 to 300 mg / m2It is.
In the present invention, the shape of the matting agent may be either a regular shape or an irregular shape, but is preferably a regular shape, and a spherical shape is preferably used. The average particle size is preferably 0.5 to 10 μm, more preferably 1.0 to 8.0 μm, and still more preferably 2.0 to 6.0 μm. The variation coefficient of the size distribution is preferably 50% or less, more preferably 40% or less, and still more preferably 30% or less. Here, the coefficient of variation is a value represented by (standard deviation of particle size) / (average value of particle size) × 100. It is also preferable to use two types of matting agents having a small variation coefficient and having an average particle size ratio larger than 3.
The emulsion surface may have any matte degree as long as no stardust failure occurs, but the Beck smoothness is preferably 30 seconds or more and 2000 seconds or less, particularly preferably 40 seconds or more and 1500 seconds or less. The Beck smoothness can be easily obtained by Japanese Industrial Standard (JIS) P8119 “Smoothness test method using Beck tester for paper and paperboard” and TAPPI standard method T479.
[0521]
In the present invention, the matte degree of the back layer is preferably a Beck smoothness of 1200 seconds or less and 10 seconds or more, preferably 800 seconds or less and 20 seconds or more, and more preferably 500 seconds or less and 40 seconds or more.
[0522]
In the present invention, the matting agent is preferably contained in the outermost surface layer of the photosensitive material, the layer functioning as the outermost surface layer, or a layer close to the outer surface, and is contained in a layer acting as a so-called protective layer. It is preferable.
[0523]
5) Polymer latex
In particular, when the photothermographic material of the present invention is used for printing applications in which dimensional change is a problem, it is preferable to use a polymer latex for the surface protective layer or the back layer. For such polymer latex, “Synthetic resin emulsion (Hiraku Okuda, Hiroshi Inagaki, published by Kobunshi Publishing (1978))”, “Application of synthetic latex (Takaaki Sugimura, Ikuo Kataoka, Junichi Suzuki, Keiji Kasahara, Takashi "Molecular Publications (1993))" and "Synthetic Latex Chemistry (Souichi Muroi, published by High Polymers Publication (1970))", specifically, methyl methacrylate (33.5% by mass) / ethyl Latex of acrylate (50% by mass) / methacrylic acid (16.5% by mass) copolymer, latex of methyl methacrylate (47.5% by mass) / butadiene (47.5% by mass) / itaconic acid (5% by mass), ethyl acrylate / methacrylic acid Copolymer latex, methyl methacrylate (58.9% by mass) / 2-ethylhexyl acrylate (25.4% by mass) / styrene (8.6% by mass) / 2-hydro Latex of methyl methacrylate (5.1 mass%) / acrylic acid (2.0 mass%) copolymer, methyl methacrylate (64.0 mass%) / styrene (9.0 mass%) / butyl acrylate (20.0 mass%) / 2-hydroxyethyl methacrylate (5.0 Mass%) / acrylic acid (2.0 mass%) copolymer latex and the like. Further, as a binder for the surface protective layer, a combination of polymer latex described in Japanese Patent Application No. 11-6872 and the technique described in Paragraph Nos. 0021 to 0025 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-267226, Japanese Patent Application No. 11-6872 The technology described in paragraph numbers 0027 to 0028 of the specification and the technology described in paragraph numbers 0023 to 0041 of JP 2000-19678 may be applied. The ratio of the polymer latex in the surface protective layer is preferably 10% by mass or more and 90% by mass or less, and particularly preferably 20% by mass or more and 80% by mass or less of the total binder.
[0524]
6) Membrane pH
The photothermographic material of the present invention preferably has a film surface pH of 7.0 or less, more preferably 6.6 or less before heat development. The lower limit is not particularly limited, but is about 3. The most preferred pH range is in the range of 4 to 6.2. The film surface pH is preferably adjusted using an organic acid such as a phthalic acid derivative, a non-volatile acid such as sulfuric acid, or a volatile base such as ammonia from the viewpoint of reducing the film surface pH. In particular, ammonia is volatile and is preferable for achieving a low film surface pH because it can be removed before the coating process or heat development.
In addition, it is also preferable to use ammonia in combination with a nonvolatile base such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, or lithium hydroxide. A method for measuring the film surface pH is described in paragraph No. 0123 of JP-A-2000-284399.
[0525]
7) Hardener
A hardener may be used for each layer such as the photosensitive layer, protective layer, and back layer of the present invention. Examples of hardeners are THJames' “THE THEORY OF THE PHOTOGRAPHIC PROCESS FOURTH EDITION” (Macmillan Publishing Co., Inc., published in 1977), each of the methods described on pages 77 to 87, Chrome Alum, 2 , 4-Dichloro-6-hydroxy-s-triazine sodium salt, N, N-ethylenebis (vinylsulfoneacetamide), N, N-propylenebis (vinylsulfoneacetamide) and polyvalent metals described on page 78 Ions, polyisocyanates such as US Pat. No. 4,281,060 and JP-A-6-208193, epoxy compounds such as US Pat. No. 4,791,042, and vinyl sulfone compounds such as JP-A 62-89048 are preferably used.
[0526]
The hardener is added as a solution, and the addition time of this solution into the protective layer coating solution is from 180 minutes before to immediately before application, preferably from 60 minutes to 10 seconds before application. As long as the effects of the present invention are sufficiently exhibited, there is no particular limitation. Specific mixing methods include mixing in a tank in which the average residence time calculated from the addition flow rate and the amount of liquid delivered to the coater is the desired time, and by N. Harnby, MFEdwards, AWNienow, Takahashi There is a method of using a static mixer or the like described in Chapter 8 of the translation of Koji “Liquid Mixing Technology” (published by Nikkan Kogyo Shimbun, 1989).
[0527]
8) Surfactant
JP-A-11-65021 paragraph number 0132 for surfactants applicable to the present invention, paragraph number 0133 for solvents, paragraph number 0134 for supports, paragraph number for antistatic or conductive layers The method for obtaining a color image is described in paragraph No. 0136 of the same publication, and the slip agent is described in paragraph Nos. 0061 to 0064 of JP-A No. 11-84573 and paragraph Nos. 0049 to 0062 of Japanese Patent Application No. 11-106881.
In the present invention, it is preferable to use a fluorosurfactant. Specific examples of the fluorosurfactant include compounds described in JP-A-10-197985, JP-A-2000-19680, JP-A-2000-214554, and the like. In addition, polymeric fluorine-based surfactants described in JP-A-9-281636 are also preferably used. In the photothermographic material of the present invention, it is preferable to use a fluorosurfactant described in JP-A No. 2002-82411, Japanese Patent Application Nos. 2001-242357 and 2001-264110. In particular, the fluorosurfactants described in Japanese Patent Application Nos. 2001-242357 and 2001-264110 are preferable in terms of charge adjustment ability, stability of the coated surface, and smoothness when coating and manufacturing with an aqueous coating solution. The fluorine-based surfactant described in Japanese Patent Application No. 2001-264110 is most preferable in that it has a high charge control capability and requires a small amount of use.
In the present invention, the fluorosurfactant can be used on either the emulsion surface or the back surface, and is preferably used on both surfaces. Further, it is particularly preferable to use in combination with a conductive layer containing the above-described metal oxide. In this case, sufficient performance can be obtained even if the amount of the fluorosurfactant used on the surface having the conductive layer is reduced or removed.
The preferred amount of fluorosurfactant used is 0.1 mg / m for each of the emulsion surface and back surface2~ 100mg / m2In the range, more preferably 0.3 mg / m2~ 30mg / m2Range, more preferably 1 mg / m2~ 10mg / m2Range. In particular, the fluorosurfactant described in Japanese Patent Application No. 2001-264110 has a large effect and is 0.01 to 10 mg / m.2Is preferably in the range of 0.1 to 5 mg / m2The range of is more preferable.
[0528]
9) Antistatic agent
In the present invention, it is preferable to have a conductive layer containing a metal oxide or a conductive polymer. The antistatic layer may serve as an undercoat layer, a back layer surface protective layer, or the like, or may be provided separately. As the conductive material for the antistatic layer, a metal oxide in which conductivity is improved by introducing oxygen defects or different metal atoms into the metal oxide is preferably used. Examples of metal oxides are ZnO, TiO2, SnO2And for ZnO, addition of Al and In, SnO2For Sb, Nb, P, halogen elements, etc., TiO2In contrast, addition of Nb, Ta or the like is preferable. Especially SnO with Sb added2Is preferred. The amount of different atoms added is preferably in the range of 0.01 to 30 mol%, more preferably in the range of 0.1 to 10 mol%. The shape of the metal oxide may be spherical, needle-like, or plate-like, but needle-like particles having a long axis / uniaxial ratio of 2.0 or more, preferably 3.0 to 50 are preferable from the viewpoint of providing conductivity. The amount of metal oxide used is preferably 1 mg / m2~ 1000mg / m2In the range, more preferably 10 mg / m2~ 500mg / m2Range, more preferably 20 mg / m2~ 200mg / m2Range. The antistatic layer of the present invention may be disposed on either the emulsion surface side or the back surface side, but is preferably disposed between the support and the back layer. Specific examples of the antistatic layer of the present invention are disclosed in paragraph No. 0135 of JP-A-11-65021, JP-A-56-143430, JP-A-56-143431, JP-A-58-62646, JP-A-56-120519, JP-A-11- No. 84573, paragraph numbers 0040 to 0051, US Pat. No. 5,575,957, and JP-A No. 11-223898, paragraph numbers 0078 to 0084.
[0529]
10) Support
The transparent support is a polyester, particularly polyethylene, which has been heat-treated in a temperature range of 130 to 185 ° C. in order to relieve internal strain remaining in the film during biaxial stretching and to eliminate thermal shrinkage strain generated during heat development. Terephthalate is preferably used. In the case of a photothermographic material for medical use, the transparent support may be colored with a blue dye (for example, dye-1 described in Examples of JP-A-8-240877) or may be uncolored. Examples of the support include water-soluble polyesters disclosed in JP-A-11-84574, styrene-butadiene copolymers described in JP-A-10-186565, and vinylidene chloride described in JP-A-2000-39684 and JP-A-11-106881, paragraphs 0063 to 0080. It is preferable to apply an undercoating technique such as a copolymer. When the emulsion layer or the back layer is coated on the support, the water content of the support is preferably 0.5 wt% or less.
[0530]
11) Other additives
An antioxidant, a stabilizer, a plasticizer, an ultraviolet absorber, or a coating aid may be further added to the photothermographic material. Various additives are added to either the photosensitive layer or the non-photosensitive layer. For these, reference can be made to WO98 / 36322, EP803764A1, JP-A-10-186567, 10-18568 and the like.
[0531]
12) Application method
The photothermographic material in the invention may be applied by any method. Specifically, various coating operations are used, including extrusion coating, slide coating, curtain coating, dip coating, knife coating, flow coating, or extrusion coating using a hopper of the type described in U.S. Pat. Stephen F. Kistler and Petert M. Schweizer “LIQUID FILM COATING” (CHAPMAN & HALL, 1997) pages 399 to 536, preferably used for extrusion coating or slide coating, particularly preferably for slide coating It is done. An example of the shape of the slide coater used for slide coating is shown in Figure 11b.1 on page 427 of the same book. If desired, two or more layers can be coated simultaneously by the method described in pages 399 to 536 of the same document, the method described in US Pat. No. 2,761,791 and British Patent No. 837,095. Particularly preferred coating methods in the present invention are those described in JP-A Nos. 2001-194748, 2002-153808, 2002-153803, and 2002-182333.
[0532]
The organic silver salt-containing layer coating solution in the present invention is preferably a so-called thixotropic fluid. Regarding this technique, JP-A-11-52509 can be referred to. The organic silver salt-containing layer coating solution in the present invention has a shear rate of 0.1 S.-1The viscosity in is preferably 400 mPa · s or more and 100,000 mPa · s or less, and more preferably 500 mPa · s or more and 20,000 mPa · s or less. Also, shear rate 1000S-1Is preferably 1 mPa · s or more and 200 mPa · s or less, and more preferably 5 mPa · s or more and 80 mPa · s or less.
[0533]
In the case of preparing the coating liquid of the present invention, a known in-line mixer or implant mixer is preferably used when mixing two kinds of liquids. A preferred in-line mixer of the present invention is described in JP-A-2002-85948, and an implant mixer is described in JP-A-2002-90940.
The coating solution in the present invention is preferably subjected to defoaming treatment in order to keep the coated surface state good. A preferred defoaming treatment method of the present invention is the method described in JP-A-2002-66431.
When applying the coating solution of the present invention, it is preferable to perform static elimination in order to prevent adhesion of dust, dust, and the like due to electric resistance of the support. An example of a preferable static elimination method in the present invention is described in JP-A-2002-143747.
In the present invention, it is important to precisely control the drying air and the drying temperature in order to dry the non-setting image forming layer coating solution. The preferred drying method of the present invention is described in detail in JP-A Nos. 2001-194749 and 2002-139814.
The photothermographic material of the present invention is preferably subjected to a heat treatment immediately after coating and drying in order to improve film formability. The temperature of the heat treatment is preferably in the range of 60 ° C. to 100 ° C. as the film surface temperature, and the heating time is preferably in the range of 1 second to 60 seconds. A more preferable range is a film surface temperature of 70 to 90 ° C. and a heating time of 2 to 10 seconds. A preferred heat treatment method of the present invention is described in JP-A No. 2002-107872.
In order to stably and continuously produce the photothermographic material of the present invention, the production methods described in JP-A Nos. 2002-156728 and 2002-182333 are preferably used.
[0534]
The photothermographic material is preferably a mono-sheet type (a type capable of forming an image on the photothermographic material without using another sheet such as an image receiving material).
[0535]
13) Packaging materials
The light-sensitive material of the present invention is preferably packaged with a packaging material having a low oxygen permeability and / or moisture permeability in order to suppress fluctuations in photographic performance during raw storage or to improve curling, curling, etc. Oxygen permeability is 50ml / atm ・ m at 25 ℃2・ It is preferably less than day, more preferably 10 ml / atm · m2・ Day or less, more preferably 1.0ml / atm ・ m2・ It is less than day. Moisture permeability is 10g / atm · m2・ It is preferably less than day, more preferably 5g / atm · m2・ Day or less, more preferably 1g / atm ・ m2・ It is less than day.
Specific examples of the packaging material having a low oxygen permeability and / or moisture permeability are disclosed in, for example, JP-A-8-254793. This is a packaging material described in JP-A-2000-206653.
[0536]
14) Other available technologies
Techniques that can be used for the photothermographic material of the present invention include EP803764A1, EP883022A1, WO98 / 36322, JP 56-62648, 58-62644, JP 9-43766, and 9- 281637, 9-297367, 9-304869, 9-311405, 9-329865, 10-10669, 10-62899, 10-69023, 10-186568, 10-90823, 10-171063, 10-186565, 10-186567, 10-186569 to 10-186572, 10-197974, 10-197982, 10 -197983, 10-197985 to 10-197987, 10-207001, 10-207004, 10-221807, 10-282601, 10-288823, 10-288823, 10-288824 10-307365, 10-312038, 10-339934, 11-7100, 11-15105, 11-24200, 11-24201, 11-30832, 11-84574, 11-65021, 11-109547, 11-125880, 11-129629, 11-133536 to 11-133539, 11-133542, 11 -133543, 11-223898, 11-352627, 11-305377, 11-305378, 11-305384, 11-305380, 11-316435, 11-327076, 11-338096, 11-338098, 11-338099, 11- 343420, JP 2000-187298, 2000-10229, 2000-47345, 2000-206642, 2000-98530, 2000-98531, 2000-112059, 2000-112060 No., 2000-112104, 2000-112064, 2000-171936.
[0537]
In the case of a multicolor color photothermographic material, each emulsion layer generally uses a functional or non-functional barrier layer between each photosensitive layer, as described in US Pat. No. 4,460,681. Thus, they are kept distinguished from each other.
The construction in the case of a multicolor color photothermographic material may include a combination of these two layers for each color, and includes all components in a single layer as described in US Pat. No. 4,708,928. May be.
[0538]
(Image forming method)
1) Exposure
The light-sensitive material of the present invention may be exposed by any method, but scanning exposure with a laser beam is preferred. Laser light can be red to infrared light emitting He-Ne laser, red semiconductor laser, or blue to green light emitting Ar.+, He—Ne, He—Cd laser, and blue semiconductor laser can be used. Preferred is a red to infrared semiconductor laser, and the peak wavelength of the laser light is 600 nm to 900 nm, preferably 620 nm to 850 nm. On the other hand, in particular, in particular, a module in which an SHG (Second Harmonic Generator) element and a semiconductor laser are integrated and a blue semiconductor laser have been developed, and a laser output device in a short wavelength region has been closed up. The blue semiconductor laser is expected to increase in demand in the future because high-definition image recording is possible, the recording density is increased, and a stable output is obtained with a long lifetime.
The emission peak wavelength of the laser light is 300 nm to 500 nm, preferably 350 nm to 450 nm, more preferably 390 nm to 430 nm, red to near infrared 600 nm to 900 nm, preferably 620 nm to 870 nm, more preferably 640 nm to 830 nm.
[0539]
It is also preferable that the laser light is oscillated in a vertical multi by a method such as high frequency superposition.
[0540]
2) Thermal development
The photothermographic material of the present invention may be developed by any method, but is usually developed by raising the temperature of the photothermographic material exposed imagewise. A preferred development temperature is 80 to 250 ° C, preferably 100 to 140 ° C, more preferably 110 to 130 ° C. The development time is preferably 1 to 60 seconds, more preferably 3 to 30 seconds, still more preferably 5 to 25 seconds, and most preferably 7 to 15 seconds.
[0541]
Either a drum type heater or a plate type heater may be used as the thermal development method, but the plate type heater method is more preferable. The plate-type heater-based heat development method is preferably the method described in JP-A-11-133572, and a visible image is obtained by bringing the heat-developable photosensitive material on which the latent image has been formed into contact with the heating means in the heat developing section. In the heat development apparatus, the heating unit includes a plate heater, and a plurality of press rollers are disposed to face each other along one surface of the plate heater, and the press roller is disposed between the press roller and the plate heater. A heat development apparatus characterized in that heat development is performed by passing a photothermographic material. It is preferable to divide the plate heater into 2 to 6 stages and lower the temperature about 1 to 10 ° C. at the tip. For example, there are examples in which four sets of plate heaters that can be independently controlled are used and controlled so as to be 112 ° C., 119 ° C., 121 ° C., and 120 ° C.
[0542]
Such a method is also described in JP-A-54-30032, which can exclude moisture and organic solvents contained in the photothermographic material out of the system, and can be rapidly developed in the photothermographic material. It is also possible to suppress a change in the shape of the support of the photothermographic material due to the heating.
[0543]
As another heating method, a backside resistive heating layer as shown in U.S. Pat. Nos. 4,460,681 and 4,374,921 is provided for energization. It is possible to generate heat and heat it.
[0544]
3) System
As a medical laser imager provided with an exposure part and a heat development part, “Dry Imager-FM-DPL” of Fuji Film Medical Co., Ltd. can be mentioned. The system is Fuji Medical Review No. 8, pages 39 to 55, and these techniques can be used. In addition, “Dry Picks (7000) System” of Fuji Film Medical Co., Ltd. can be mentioned in recent years. Further, it can be applied as a photothermographic material for a laser imager in “AD network” proposed by Fuji Film Medical Co., Ltd. as a network system conforming to the DICOM standard.
[0545]
(Use of the present invention)
[0546]
The photothermographic material using the high silver iodide photographic emulsion of the present invention forms a black-and-white image with a silver image, and is a photothermographic material for medical diagnosis, a photothermographic material for industrial photography, and a photothermographic material for printing. It is preferably used as a photothermographic material for COM.
[0547]
[0548]
【Example】
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
Example 1
[0549]
1. Preparation of PET support and undercoating
1-1. Film formation
[0550]
Using terephthalic acid and ethylene glycol, PET having an intrinsic viscosity of IV = 0.66 (measured in phenol / tetrachloroethane = 6/4 (weight ratio) at 25 ° C.) was obtained according to a conventional method. This was pelletized and dried at 130 ° C. for 4 hours. Thereafter, the film was extruded from a T-die and quenched to prepare an unstretched film having a thickness such that the film thickness after heat setting was 175 μm.
[0551]
This was longitudinally stretched 3.3 times using rolls with different peripheral speeds, and then stretched 4.5 times with a tenter. The temperatures at this time were 110 ° C. and 130 ° C., respectively. Thereafter, after heat setting at 240 ° C. for 20 seconds, the film was relaxed by 4% in the lateral direction at the same temperature. After slitting the chuck part of the tenter, knurling is performed on both ends and 4 kg / cm.2And a roll having a thickness of 175 μm was obtained.
[0552]
1-2. Surface corona discharge treatment
Using a solid state corona discharge treatment machine 6KVA model manufactured by Pillar, both surfaces of the support were treated at room temperature at 20 m / min. From the current and voltage readings at this time, the support is 0.375 kV · A · min / m.2It was found that the process was done. The treatment frequency at this time was 9.6 kHz, and the gap clearance between the electrode and the dielectric roll was 1.6 mm.
[0553]
1-3. undercoat
1) Preparation of undercoat layer coating solution
Formulation (1) (for the undercoat layer on the photosensitive layer side)
59g pesresin A-520 (30% by mass solution) manufactured by Takamatsu Yushi Co., Ltd.
Polyethylene glycol monononyl phenyl ether 5.4g
(Average number of ethylene oxide = 8.5) 10% by mass solution
MP-1000 (polymer fine particles, average particle size 0.4μm) 0.91g by Soken Chemical Co., Ltd.
935ml distilled water
[0554]
Formulation (2) (for back layer 1st layer)
Styrene-butadiene copolymer latex 158g
(Solid content 40% by mass, styrene / butadiene weight ratio = 68/32)
2,4-Dichloro-6-hydroxy-S-triazine sodium salt
(8% by weight aqueous solution) 20g
10% 1% by weight aqueous solution of sodium laurylbenzenesulfonate
Distilled water 854ml
[0555]
Formula (3) (Back side 2nd layer)
SnO2/ SbO (9/1 mass ratio, average particle size 0.038μm, 17 mass% dispersion) 84g
Gelatin (10 mass% aqueous solution) 89.2g
Metrows TC-5 (2% by weight aqueous solution) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.8.6g
MP-1000 0.01g manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.
10% 1% by weight aqueous solution of sodium dodecylbenzenesulfonate
NaOH (1% by mass) 6ml
Proxel (made by ICI) 1ml
805ml of distilled water
[0556]
2) Undercoat
After both surfaces of the biaxially stretched polyethylene terephthalate support having a thickness of 175 μm are subjected to the corona discharge treatment, the undercoat coating solution formulation {circle around (1)} is applied to one surface (photosensitive layer surface) with a wire bar. .6ml / m2(Per side) and dried at 180 ° C. for 5 minutes, and then the undercoat coating liquid formulation (2) is applied to the back side (back side) with a wire bar at a wet coating amount of 5.7 ml / m.2And then dried at 180 ° C. for 5 minutes. Further, the undercoat coating liquid formulation (3) is applied to the back surface (back surface) with a wire bar so that the wet coating amount is 7.7 ml / m.2And then dried at 180 ° C. for 6 minutes to prepare an undercoat support.
[0557]
2. Back layer
1) Preparation of back layer coating solution
(Preparation of antihalation layer coating solution)
Gelatin 60 g, polyacrylamide 24.5 g, 1 mol / L sodium hydroxide 2.2 g, monodisperse polymethyl methacrylate fine particles (average particle size 8 μm, particle size standard deviation 0.4) 2.4 g, benzoisothiazolinone 08 g, 0.3 g of sodium polyethylene sulfonate, 0.21 g of blue dye compound-1, 6.8 g of UV absorber-1, 8.3 g of acrylic acid / ethyl acrylate copolymer (copolymerization weight ratio 5/95) And the whole was made up to 818 ml with water to prepare an antihalation layer coating solution.
[0558]
(Preparation of back surface protective layer coating solution)
The container was kept at 40 ° C., gelatin 40 g, liquid paraffin emulsion as liquid paraffin 1.5 g, benzoisothiazolinone 30 mg, 1 mol / L sodium hydroxide 6.8 g, sodium t-octylphenoxyethoxyethane sulfonate 0 0.5 g, polystyrene sulfonate 0.27 g, fluorosurfactant (F-1) 2% by mass aqueous solution 5.4 ml, acrylic acid / ethyl acrylate copolymer (copolymerization weight ratio 5/95) 6.0 g , N, N-ethylenebis (vinylsulfone acetamide) 2.0 g was mixed and made up to 1000 ml with water to obtain a back surface protective layer coating solution.
[0559]
2) Application of back layer
The coating amount of the antihalation layer coating solution on the back surface side of the undercoat support is 1.70 g / m.2In addition, the coating amount of the back surface protective layer was 0.79 g / m for the gelatin coating amount.2Then, a simultaneous multilayer coating was applied and dried to form a back layer.
[0560]
3. Image forming layer and surface protective layer
3-1. Preparation of coating materials
[0561]
(Photosensitive silver halide emulsion)
1) Preparation of photosensitive silver halide emulsion 1
To 1420 ml of distilled water, 4.3 ml of a 1% by mass potassium iodide solution was added, and a solution obtained by adding 3.5 ml of 0.5 mol / L sulfuric acid and 88.3 g of phthalated gelatin was stirred in a stainless steel reaction vessel. While maintaining the liquid temperature at 42 ° C., the solution A in which distilled water was diluted to 22.56 g of silver nitrate and diluted to 195.6 ml and the solution B in which 21.8 g of potassium iodide was diluted to 218 ml with distilled water were added at a constant flow rate. The whole amount was added over 9 minutes. Thereafter, 10 ml of a 3.5% by mass aqueous hydrogen peroxide solution was added, and further 10.8 ml of a 10% by mass aqueous solution of benzimidazole was added.
[0562]
Further, Solution C diluted with 51.86 g of silver nitrate and diluted to 317.5 ml and Solution D obtained by diluting 60 g of potassium iodide to a volume of 600 ml with distilled water were added to Solution C over 120 minutes at a constant flow rate. Solution D was added by the controlled double jet method while maintaining pAg at 8.1. 1 x 10 per mole of silver-FourThe total amount of iridium (III) hexachloride potassium salt was added in a molar amount 10 minutes after the start of addition of Solution C and Solution D. In addition, 5 seconds after the completion of the addition of the solution C, an aqueous solution of potassium iron (II) hexacyanide was added at 3 × 10 5-FourThe whole molar amount was added. The pH was adjusted to 3.8 using 0.5 mol / L sulfuric acid, stirring was stopped, and precipitation, desalting, and washing steps were performed. The pH was adjusted to 5.9 with 1 mol / L sodium hydroxide to prepare a silver halide dispersion having a pAg of 8.0.
[0563]
The silver halide dispersion was maintained at 38 ° C. with stirring, 5 ml of a methanol solution of 0.34% by mass of 1,2-benzisothiazolin-3-one was added, and the temperature was raised to 47 ° C. 20 minutes after the temperature rise, sodium benzenethiosulfonate was 7.6 × 10 6 in 1 mol of silver with a methanol solution.-Five5 minutes later, the following tellurium sensitizer C was added in a methanol solution to give 2.9 × 10 6 per mol of silver.-FourMole was added and aged for 91 minutes. 1.3 ml of a 0.8% by weight methanol solution of N, N'-dihydroxy-N "-diethylmelamine was added, and after another 4 minutes, 5-methyl-2-mercaptobenzimidazole was added to the solution in methanol solution at 4.8 × 10 6 per mole of silver.-3Mole and 1-Phenyl-2-heptyl-5-mercapto-1,3,4-triazole in methanol solution to 5.4 × 10 5 per mol of silver-3A silver halide emulsion 1 was prepared by adding a molar amount.
[0564]
The grains in the prepared silver halide emulsion 1 were pure silver iodide grains having an average sphere equivalent diameter of 0.040 μm and a sphere equivalent diameter variation coefficient of 18%. The particle size and the like were determined from an average of 1000 particles using an electron microscope. Moreover, it is a tetrahedral particle | grain which has (001), {100}, {101} face, The ratio of the (gamma) phase was 30% when measured using the X-ray powder diffraction analysis.
[0565]
(Preparation of silver halide emulsion 2)
The temperature of the reaction solution was changed to 65 ° C., 5 ml of a 5% methanol solution of 2,2 ′-(ethylenedithio) diethanol was added after the addition of solutions A and B, and solution D while maintaining pAg at 10.5. Was added by a controlled double jet method, and 3 minutes after the addition of tellurium sensitizer during chemical sensitization, bromoauric acid was added at 5 × 10 5 per mole of silver.-FourMoles and potassium thiocyanate 2 x 10 per mole of silver-3A silver halide emulsion 2 was prepared in the same manner as Emulsion 1 except that mol was added.
[0566]
Grains in the prepared silver halide emulsion have an average equivalent circle diameter of projected area of 0.164 μm, a grain thickness of 0.032 μm, an average aspect ratio of 5, an average sphere equivalent diameter of 0.11 μm, and a coefficient of variation of the equivalent sphere diameter of 23. % Pure silver iodide tabular grains. When measured using X-ray powder diffraction analysis, the proportion of the γ phase was 80%.
[0567]
(Preparation of silver halide emulsion 3)
Silver halide emulsion 3 in exactly the same manner as silver halide emulsion 1 except that the temperature of the reaction solution was changed to 27 ° C. and solution D was added by the controlled double jet method while maintaining pAg at 10.2. It was created.
[0568]
Grains in the prepared silver halide emulsion were pure silver iodide grains having an average sphere equivalent diameter of 0.022 μm and a sphere equivalent diameter variation coefficient of 17%. Further, they were dodecahedron grains having (001), {1 (-1) 0}, and {101} planes, and were silver iodide substantially consisting of a β phase as measured by X-ray powder diffraction analysis.
[0569]
(Preparation of mixed emulsions A1 to A3 for coating solutions)
Silver halide emulsion 1, silver halide emulsion 2 and silver halide emulsion 3 are dissolved in a molar ratio of 5: 2: 3, and 1 mol of benzothiazolium iodide is added in a 1% by mass aqueous solution. 7 × 10 per-3Mole was added. Further, water is added so that the content of silver halide per 1 kg of the mixed emulsion for coating solution is 38.2 g as silver, and 1- (3-methylureidophenyl)-is obtained so that the amount is 0.34 g per 1 kg of the mixed emulsion for coating solution. 5-mercaptotetrazole was added.
[0570]
Further, as “a compound in which a one-electron oxidant produced by one-electron oxidation can emit one electron or more”, compounds 2 and 20 and 26 are each 2 × 10 2 per mole of silver halide silver.-3Molar amounts were added.
Furthermore, as shown in Table 14, the compound having an adsorbing group and a reducing group of the present invention was added.
Mixed emulsion A1: An emulsion to which no compound having an adsorbing group and a reducing group is added.
Mixed emulsion A2: Compound No. 1 as a compound having an adsorbing group and a reducing group. 19, 49, and 71 are each 8 × 10 4 per mole of silver applied-3It is an emulsion with a molar addition.
Mixed emulsion A3: Compound No. 1 as a compound having an adsorbing group and a reducing group. 19 and 71 are each 8 × 10 4 per mole of silver applied-3It is an emulsion with a molar addition.
[0571]
(Preparation of silver halide emulsion 4)
Similar to the preparation of silver halide emulsion 1, except that a mixed solution of potassium iodide and potassium bromide was used instead of potassium iodide, and 70 mol% of silver iodide and 30 mol% of silver bromide were uniformly formed. A silver halide emulsion 4 having a halogen composition was prepared.
The grain size of the obtained grains was equivalent to that of the silver halide emulsion 1 by adjusting the temperature during grain formation.
[0572]
(Preparation of silver halide emulsion 5)
Similar to the preparation of silver halide emulsion 2, except that a mixed solution of potassium iodide and potassium bromide was used instead of potassium iodide, and 70 mol% of silver iodide and 30 mol% of silver bromide were homogeneous. A silver halide emulsion 5 having a halogen composition was prepared.
The grain size of the obtained grains was equivalent to that of the silver halide emulsion 2 by adjusting the temperature at the grain formation.
[0573]
(Preparation of silver halide emulsion 6)
Similar to the preparation of silver halide emulsion 3, except that a mixed solution of potassium iodide and potassium bromide was used instead of potassium iodide, and 70 mol% of silver iodide and 30 mol% of silver bromide were uniformly formed. A silver halide emulsion 4 having a halogen composition was prepared.
The grain size of the obtained grains was equivalent to that of the silver halide emulsion 3 by adjusting the temperature during grain formation.
[0574]
(Preparation of mixed emulsions B1 to B3 for coating solution)
In the mixed emulsions A1 to A3 for coating solution, instead of the silver halide emulsion 1, the silver halide emulsion 2, and the silver halide emulsion 3, the silver halide emulsion 4, the silver halide emulsion 5, and the silver halide emulsion 6 are used. A mixed emulsion B for coating solution was prepared using a silver molar ratio of 5: 2: 3.
[0575]
(Preparation of silver halide emulsion 7)
Similar to the preparation of silver halide emulsion 1, except that a mixed solution of potassium iodide and potassium bromide was used instead of potassium iodide, and 3.5 mol% of silver iodide and 96.5 mol of silver bromide. A silver halide emulsion 7 having a uniform halogen composition of% was prepared.
The grain size of the obtained grains was equivalent to that of the silver halide emulsion 1 by adjusting the temperature during grain formation.
[0576]
(Preparation of silver halide emulsion 8)
Similar to the preparation of silver halide emulsion 2, except that a mixed solution of potassium iodide and potassium bromide was used instead of potassium iodide, and 3.5 mol% of silver iodide and 96.5 mol of silver bromide. A silver halide emulsion 8 having a uniform halogen composition of% was prepared.
The grain size of the obtained grains was equivalent to that of the silver halide emulsion 2 by adjusting the temperature at the grain formation.
[0577]
(Preparation of silver halide emulsion 9)
Similar to the preparation of silver halide emulsion 3, except that a mixed solution of potassium iodide and potassium bromide was used instead of potassium iodide, and 3.5 mol% silver iodide and 96.5 mol silver bromide. A silver halide emulsion 9 having a uniform halogen composition of% was prepared.
The grain size of the obtained grains was equivalent to that of the silver halide emulsion 3 by adjusting the temperature during grain formation.
[0578]
(Preparation of mixed emulsions C1 to C3 for coating solution)
In the mixed emulsions A1 to A3 for coating solution, instead of silver halide emulsion 1, silver halide emulsion 2, and silver halide emulsion 3, silver halide emulsion 7, silver halide emulsion 8, and silver halide emulsion 9 are used. A mixed emulsion C for coating solution was prepared using a silver molar ratio of 5: 2: 3.
[0579]
(Preparation of organic silver salt dispersion)
1) Preparation of organic silver salt dispersion
<Preparation of recrystallized behenic acid>
100 kg of behenic acid (product name Edenor C22-85R) manufactured by Henkel was mixed in 1200 kg of isopropyl alcohol, dissolved at 50 ° C., filtered through a 10 μm filter, cooled to 30 ° C., and recrystallized. The cooling speed during recrystallization was controlled at 2 ° C./hour. The obtained crystals were centrifugally filtered, washed with 200 kg of isopropyl alcohol, and then dried. When the obtained crystals were esterified and subjected to GC-FID measurement, the behenic acid content was 98 mol%, in addition, lignoceric acid 1.9 mol%, arachidic acid 0.1 mol%, and erucic acid 0.001 mol% It was.
[0580]
<Preparation of organic silver salt dispersion>
Recrystallized behenic acid 88 kg, distilled water 422 L, 5 mol / L NaOH aqueous solution 49.2 L and t-butyl alcohol 120 L were mixed and stirred at 75 ° C. for 1 hour to react to obtain sodium behenate solution B. Separately, 206.2 L (pH 4.0) of an aqueous solution containing 39.1 kg of silver nitrate was prepared and kept warm at 10 ° C. Keep the reaction vessel containing 635L distilled water and 30L t-butyl alcohol at 30 ° C, and with sufficient agitation, the total amount of the previous sodium behenate solution and the total amount of silver nitrate aqueous solution are 93 minutes and 15 seconds respectively at a constant flow rate. And added over 87 minutes and 6 seconds. At this time, only the silver nitrate aqueous solution is added for 11 minutes after the start of the addition of the aqueous silver nitrate solution, and then the addition of the sodium behenate solution is started. After the addition of the aqueous silver nitrate solution, only the sodium behenate solution is added for 17 minutes and 9 seconds. It was made to be. At this time, the temperature in the reaction vessel was 30 ° C., and the external temperature was controlled so that the liquid temperature was constant. The pipe of the addition system for the sodium behenate solution was kept warm by circulating hot water outside the double pipe so that the liquid temperature at the outlet at the tip of the addition nozzle was 75 ° C. Moreover, the piping of the addition system of the silver nitrate aqueous solution was kept warm by circulating cold water outside the double pipe. The addition position of the sodium behenate solution and the addition position of the aqueous silver nitrate solution were arranged symmetrically around the stirring axis, and were adjusted so as not to contact the reaction solution.
[0581]
After completion of the addition of the sodium behenate solution, the mixture was left stirring for 20 minutes at the same temperature, heated to 35 ° C. over 30 minutes, and then aged for 210 minutes. Immediately after completion of aging, the solid content was separated by centrifugal filtration, and the solid content was washed with water until the conductivity of filtered water reached 80 μS / cm. Thus, a fatty acid silver salt was obtained. The obtained solid content was stored as a wet cake without drying.
[0582]
When the morphology of the obtained silver behenate particles was evaluated by electron micrograph, the average sphere equivalent diameter was 0.40 μm, and the sphere equivalent diameter was a crystal having a volume weighted average variation coefficient of 11%.
[0583]
Add 19.7 kg of polyvinyl alcohol (trade name: PVA-217) and water to a wet cake equivalent to 269 kg dry solids, make the total amount 1000 kg, and then slurry with a dissolver blade. PM-10 type).
[0584]
Next, the pre-dispersed stock solution is subjected to a dispersion machine (trade name: Microfluidizer M-610, manufactured by Microfluidics International Corporation, using a Z-type interaction chamber) with a pressure of 900 kg / cm.2And was treated three times to obtain a silver behenate dispersion. The cooling operation was set at a dispersion temperature of 10 ° C. by installing a serpentine heat exchanger before and after the interaction chamber and adjusting the temperature of the refrigerant.
[0585]
(Preparation of reducing agent dispersion)
1) Preparation of reducing agent-1 dispersion
Reducing agent-1 (2,2'-methylenebis- (4-ethyl-6-tert-butylphenol)) 10 kg and denatured polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., POVAL MP203) 10 mass% aqueous solution 16 kg, water 10 kg Add and mix well to make a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump and dispersed in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm for 3 hours, and then 0.2 g of benzoisothiazolinone sodium salt Water was added to prepare a reducing agent concentration of 25% by mass. This dispersion was heat-treated at 60 ° C. for 5 hours to obtain a reducing agent-1 dispersion. The reducing agent particles contained in the reducing agent dispersion thus obtained had a median diameter of 0.40 μm and a maximum particle diameter of 1.4 μm or less. The obtained reducing agent dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.
[0586]
2) Preparation of reducing agent-2 dispersion
10 mass of reducing agent-2 (6,6'-di-t-butyl-4,4'-dimethyl-2,2'-butylidenediphenol) and modified polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., Poval MP203) 10 kg of water was added to 16 kg of% aqueous solution and mixed well to form a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump and dispersed for 3 hours 30 minutes in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm, and then benzoisothiazolinone sodium salt 0.2 g and water were added to prepare a reducing agent concentration of 25% by mass. This dispersion was heated at 40 ° C. for 1 hour, and then further heated at 80 ° C. for 1 hour to obtain a reducing agent-2 dispersion. The reducing agent particles contained in the reducing agent dispersion thus obtained had a median diameter of 0.50 μm and a maximum particle diameter of 1.6 μm or less. The obtained reducing agent dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.
[0587]
(Preparation of hydrogen bonding compound-1 dispersion)
Add 10 kg of water to 10 kg of 10% aqueous solution of hydrogen bonding compound-1 (tri (4-t-butylphenyl) phosphine oxide) and denatured polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., Poval MP203). Mix to make a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump and dispersed in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm for 4 hours, and then 0.2 g of benzoisothiazolinone sodium salt Water was added to prepare a hydrogen bonding compound concentration of 25% by mass. This dispersion was heated at 40 ° C. for 1 hour and then further heated at 80 ° C. for 1 hour to obtain a hydrogen bonding compound-1 dispersion. The hydrogen bonding compound particles contained in the hydrogen bonding compound dispersion thus obtained had a median diameter of 0.45 μm and a maximum particle diameter of 1.3 μm or less. The obtained hydrogen bonding compound dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.
[0588]
(Preparation of dispersion of development accelerator)
1) Dispersion of development accelerator 1-68)
Development accelerator No. 10 kg of 1-68 and 20 kg of a 10% by weight aqueous solution of modified polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., Poval MP203) were added with 10 kg of water and mixed well to obtain a slurry. This slurry was fed with a diaphragm pump and dispersed for 3 hours 30 minutes in a horizontal sand mill (UVM-2: manufactured by Imex Co., Ltd.) filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm, and then benzoisothiazolinone sodium salt 0.2 g and water were added so that the concentration of the development accelerator was 20% by mass to obtain a development accelerator-1 dispersion. The development accelerator particles contained in the development accelerator dispersion thus obtained had a median diameter of 0.48 μm and a maximum particle diameter of 1.4 μm or less. The obtained development accelerator dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.
[0589]
2) Development accelerator-6-41
The solid dispersion of Development Accelerator-6-41 was also dispersed by the same method as Development Accelerator-1-68 to obtain a 20 mass% dispersion.
[0590]
(Preparation of solid dispersion of color tone modifier-1)
The solid dispersion of the color tone modifier-1 was also dispersed by the same method as for the development accelerator-1-68 to obtain a 15% by mass dispersion.
[0591]
(Preparation of organic polyhalogen compound dispersion)
1) Preparation of organic polyhalogen compound dispersion-1
Add 10 kg of organic polyhalogen compound-1 and 10 kg of 20 wt% aqueous solution of modified polyvinyl alcohol MP203, 0.4 kg of 20 wt% aqueous solution of sodium triisopropylnaphthalenesulfonate and 14 kg of water, and mix well to form a slurry. . This slurry was fed with a diaphragm pump, dispersed in a horizontal sand mill UVM-2 filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm for 5 hours, and then 0.2 g of benzoisothiazolinone sodium salt and water were added to form an organic polyhalogen compound. The organic polyhalogen compound dispersion (a) was obtained so that the concentration of The organic polyhalogen compound particles contained in the polyhalogen compound dispersion thus obtained had a median diameter of 0.41 μm and a maximum particle diameter of 2.0 μm or less. The obtained organic polyhalogen compound dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 10.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.
[0592]
2) Preparation of organic polyhalogen compound dispersion-2
Add 10 kg of organic polyhalogen compound-2, 20 kg of 10 wt% aqueous solution of modified polyvinyl alcohol MP203, 0.4 kg of 20 wt% aqueous solution of sodium triisopropylnaphthalenesulfonate, and 8 kg of water, and mix well to form a slurry. . This slurry was fed with a diaphragm pump, dispersed in a horizontal sand mill UVM-2 filled with zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm for 5 hours, and then 0.2 g of benzoisothiazolinone sodium salt and water were added to form an organic polyhalogen compound. The concentration of was adjusted to 25% by mass. This dispersion was heated at 40 ° C. for 5 hours to obtain an organic polyhalogen compound-2 dispersion. The organic polyhalogen compound particles contained in the polyhalogen compound dispersion thus obtained had a median diameter of 0.36 μm and a maximum particle diameter of 1.5 μm or less. The obtained organic polyhalogen compound dispersion was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored.
[0593]
(Preparation of phthalazine compound solution)
8 kg of modified polyvinyl alcohol MP203 was dissolved in 174.57 kg of water, then 3.15 kg of a 20% by weight aqueous solution of sodium triisopropylnaphthalenesulfonate and 14.28 kg of a 70% by weight aqueous solution of 6-isopropylphthalazine were added, and phthalazine compound-1 A 5 wt% solution was prepared.
[0594]
(Preparation of mercapto compound)
1) Mercapto compound-1 aqueous solution
7 g of mercapto compound-1 (1- (3-sulfophenyl) -5-mercaptotetrazole sodium salt) was dissolved in 993 g of water to obtain a 0.7% by mass aqueous solution.
[0595]
2) Mercapto compound-2 aqueous solution
20 g of mercapto compound-2 (1- (3-methylureidophenyl) -5-mercaptotetrazole) was dissolved in 980 g of water to obtain a 2.0 mass% aqueous solution.
[0596]
(Preparation of pigment-1 dispersion)
C.I. Pigment Blue 60 (64 g) and Kao Co., Ltd. (Demol N) 6.4 g were mixed with 250 g of water and mixed well to form a slurry. Prepare 800 g of zirconia beads with an average diameter of 0.5 mm, put them in a vessel together with the slurry, disperse with a disperser (1 / 4G sand grinder mill: manufactured by IMEX Co., Ltd.) for 25 hours, add water to add pigment concentration Was prepared so as to be 5% by mass to obtain a pigment-1 dispersion. The pigment particles contained in the pigment dispersion thus obtained had an average particle size of 0.21 μm.
[0597]
(Preparation of SBR latex solution)
In a polymerization kettle of a gas monomer reactor (TAS-2J type manufactured by Pressure Glass Industrial Co., Ltd.), 287 g of distilled water and a surfactant (Pionin A-43-S (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.)): solid content 48.5 %) 7.73 g, 1 mol / liter NaOH 14.06 ml, ethylenediaminetetraacetic acid tetrasodium salt 0.15 g, styrene 255 g, acrylic acid 11.25 g, tert-dodecyl mercaptan 3.0 g, the reaction vessel was sealed and the stirring speed was 200 rpm. Stir with. After degassing with a vacuum pump and repeating nitrogen gas replacement several times, 108.75 g of 1,3-butadiene was injected to raise the internal temperature to 60 ° C. A solution obtained by dissolving 1.875 g of ammonium persulfate in 50 ml of water was added thereto, and the mixture was stirred as it was for 5 hours. The mixture was further heated to 90 ° C. and stirred for 3 hours. After the reaction was completed, the internal temperature was lowered to room temperature, and then 1 mol / liter NaOH and NH.FourNa with OH+Ion: NHFour +The addition treatment was performed so that the ion was 1: 5.3 (molar ratio), and the pH was adjusted to 8.4. Thereafter, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1.0 μm to remove foreign substances such as dust and stored to obtain 774.7 g of SBR latex. When the halogen ions were measured by ion chromatography, the chloride ion concentration was 3 ppm. As a result of measuring the concentration of the chelating agent by high performance liquid chromatography, it was 145 ppm.
[0598]
The latex has an average particle size of 90 nm, Tg = 17 ° C., solid content concentration of 44% by mass, equilibrium water content of 0.6% by mass at 25 ° C. and 60% RH, and ionic conductivity of 4.80 mS / cm. Using a conductivity meter CM-30S manufactured by Kogyo Co., Ltd., measuring latex stock solution (44% by mass) at 25 ° C.), pH 8.4
[0599]
3-2. Preparation of coating solution
1) Preparation of image forming layer
(Preparation of image forming layer coating solutions 1 to 9)
To 1000 g of the organic silver salt dispersion obtained above and 276 ml of water, organic polyhalogen compound dispersion-1, organic polyhalogen compound dispersion-2, phthalazine solution, SBR latex (Tg: 17 ° C.) liquid, reducing agent-1 Add dispersion, reducing agent-2 dispersion, hydrogen bonding compound-1 dispersion wp, and add dispersion of development accelerator-1-68 and development accelerator-6-41 dispersion as shown in Table 14. In addition, after adding the color tone adjusting agent-1 dispersion, the mercapto compound-1 aqueous solution, and the mercapto compound-2 aqueous solution in sequence, the silver halide emulsion A for coating solution preparation is added immediately before coating, and mixed well and coated as it is. The solution was fed to the die and applied.
[0600]
(Preparation of image forming layer coating solutions 10 to 18)
Image forming layer coating solutions 10 to 18 were prepared in the same manner as the image forming layer coating solutions 1 to 9, except that silver halide emulsions B1 to B3 were used instead of silver halide emulsions A1 to A3.
[0601]
(Preparation of image forming layer coating solutions 19 to 27)
Image forming layer coating solutions 19 to 27 were prepared in the same manner as the image forming layer coating solutions 1 to 9 except that silver halide emulsions C1 to C3 were used instead of silver halide emulsions A1 to A3.
[0602]
2) Preparation of intermediate layer coating solution
Polyvinyl alcohol PVA-205 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.) 1000 g, pigment 5 mass% dispersion 272 g, methyl methacrylate / styrene / butyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid copolymer (copolymer weight ratio 64/9/20 / 5/2) 27% 5% aqueous solution of aerosol OT (American Cyanamid Co., Ltd.) in 4200 ml of 19% latex solution, 135 ml of 20% aqueous solution of diammonium phthalate, total amount 10000g Add water and adjust with NaOH so that the pH is 7.5 to obtain an intermediate layer coating solution, 9.1 ml / m2Then, the solution was fed to the coating die.
The viscosity of the coating solution was 58 [mPa · s] when measured with a B-type viscometer at 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm).
[0603]
3) Preparation of surface protective layer first layer coating solution
64 g of inert gelatin dissolved in water, 112 g of 19.0% by weight latex of methyl methacrylate / styrene / butyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid copolymer (copolymerization weight ratio 64/9/20/5/2), phthalic acid 30 ml of 15 mass% methanol solution, 23 ml of 10 mass% aqueous solution of 4-methylphthalic acid, 28 ml of 0.5 mol / L sulfuric acid, 5 ml of 5 mass% aqueous solution of Aerosol OT (American Cyanamid), phenoxyethanol Add 0.5g and 0.1g of benzoisothiazolinone, add water to make a total amount of 750g to make a coating solution, and mix 18.6ml / m of 26% 4% chromium alum mixed with static mixer just before coating.2Then, the solution was fed to the coating die.
The viscosity of the coating solution was 20 [mPa · s] at a B-type viscometer of 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm).
[0604]
4) Preparation of surface protective layer second layer coating solution
Inert gelatin 80g dissolved in water, methyl methacrylate / styrene / butyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid copolymer (copolymerization mass ratio 64/9/20/5/2) latex 27.5 mass% liquid 102g, fluorine-based 3.2 ml of 5% by weight surfactant (F-1) solution, 32 ml of 2% by weight aqueous solution of fluorosurfactant (F-2), 23 ml of 5% by weight aerosol OT solution, polymethylmethacrylate microparticles (Average particle size 0.7μm) 4g, polymethyl methacrylate fine particles (average particle size 4.5μm) 21g, 4-methylphthalic acid 1.6g, phthalic acid 4.8g, 0.5mol / L sulfuric acid 44ml, benzoisothiazolinone 10mg Add water to make 650g, and mix 445ml of an aqueous solution containing 4% by weight of chromium alum and 0.67% by weight of phthalic acid with a static mixer just before coating to make the surface protective layer second layer coating solution, 8.3ml / m2Then, the solution was fed to the coating die.
The viscosity of the coating solution was 19 [mPa · s] at a B-type viscometer of 40 ° C. (No. 1 rotor, 60 rpm).
[0605]
3-3. Coating
Samples 1 to 1 of the photothermographic material were coated simultaneously on the surface opposite to the back surface by the slide bead coating method in the order of the image forming layer, intermediate layer, protective layer first layer and protective layer second layer from the undercoat surface. 36 was created. At this time, the image forming layer and the intermediate layer were adjusted to 31 ° C., the protective layer first layer was adjusted to 36 ° C., and the protective layer second layer was adjusted to 37 ° C.
Table 1 shows each sample No., types of organic silver salts used therein and silver halide.
Coating amount of each compound in the image forming layer (g / m2) Is as follows.
[0606]
Organic silver salt (as silver behenate coating amount) 5.27
Pigment (C.I.Pigment Blue 60) 0.036
Polyhalogen compound-1 0.09
Polyhalogen compound-2 0.14
Phthalazine Compound-1 0.18
SBR latex 9.43
Reducing agent-1 0.55
Reducing agent-2 0.22
Hydrogen bonding compound-1 0.28
Development accelerator 1-68 (shown in Table 14)
Development accelerator-6-41 (shown in Table 14)
Color tone adjusting agent-1 0.008
Mercapto Compound-1 0.002
Mercapto compound-2 0.006
Silver halide (as Ag) 0.046
[0607]
The coating and drying conditions are as follows.
The coating was performed at a speed of 160 m / min, the gap between the coating die tip and the support was set to 0.10 to 0.30 mm, and the pressure in the decompression chamber was set to 196 to 882 Pa lower than the atmospheric pressure. The support was neutralized with an ion wind before coating.
In the subsequent chilling zone, after cooling the coating liquid with wind at a dry bulb temperature of 10 to 20 ° C., it is transported in a non-contact type, and in a helical contactless dryer, the dry bulb temperature is 23 to 45 ° C., It dried with the dry wind of the wet bulb temperature 15-21 degreeC.
After drying, the humidity was adjusted at 25 ° C. and a humidity of 40-60% RH, and then the film surface was heated to 70-90 ° C. After heating, the film surface was cooled to 25 ° C.
[0608]
The photothermographic material thus prepared had a Beck smoothness of 550 seconds on the image forming layer surface side and 130 seconds on the back surface. Further, the pH of the film surface on the image forming layer surface side was measured and found to be 6.0.
[0609]
The structures of the compounds used in the examples of the present invention are shown below.
[0610]
Embedded image
[0611]
Embedded image
[0612]
Embedded image
[0613]
Embedded image
[0614]
Embedded image
[0615]
[Table 14]
[0616]
4). Performance evaluation
1) Preparation
The obtained sample was cut into half-cut sizes, packaged in the following packaging materials in an environment of 25 ° C. and 50% RH, and stored at room temperature for 2 weeks.
[0617]
(Packaging material)
PET 10 μm / PE 12 μm / Aluminum foil 9 μm / Ny 15 μm / Polyethylene 50 μm containing 3% by mass of carbon, oxygen permeability: 0.02 ml / atm · m2・ 25 ℃ ・ day, moisture permeability: 0.10g / atm ・ m2・ 25 ℃ ・ day.
[0618]
2) Exposure and development processing
Nichia Corporation (semiconductor laser NLHV3000E from 9) was mounted as a light source for Fuji Medical Dry Laser Imager FM-DPL, and the laser light intensity was 0 and 1 mW / mm2~ 1000mW / mm2The above samples were exposed with varying between. The oscillation peak wavelength of the laser was 405 nm. For thermal development, the four panel heaters of the above apparatus were set at 112 ° C., 118 ° C., 120 ° C., and 120 ° C., and the linear velocity was adjusted so that the development time was 14 seconds in total.
[0619]
3) Evaluation
(sensitivity)
The reciprocal of the exposure amount necessary to give the fog of Sample 1 + blackening density of 1.0 is shown as a relative value, where 100 is 100. The larger the value, the higher the sensitivity.
(Cover)
The density is shown in the unexposed area.
(Raw preservation)
Each sample sealed with the packaging material described above was stored under forced storage conditions at 45 ° C. for 7 days, and then subjected to exposure and heat development treatment, and changes in sensitivity were examined in comparison with samples stored frozen.
Raw storage stability (sensitivity change) = sensitivity of samples stored frozen-Sensitivity after storage under forced storage conditions at 45 ° C for 7 days
[0620]
(Printout resistance)
Each heat-developed sample was left in a room at 25 ° C. and 70% RH under 200 lux under a fluorescent lamp for 20 days. The increase in fogging before standing was measured.
[0621]
The results obtained are shown in Table 15. The photothermographic material according to the present invention has high sensitivity, low fog, strong raw storage and printout resistance, and exhibits excellent performance. In particular, when a compound having an adsorbing group and a reducing group and a development accelerator are used in combination, the result is an unexpected result in which the effect of increasing the sensitivity with a low fog is significantly greater than the individual effects. Further, this effect was more remarkable as the silver iodide content was higher.
[0622]
[Table 15]
[0623]
【The invention's effect】
According to the present invention, there is provided a photothermographic material having high sensitivity, excellent raw storability and excellent image storability.
Claims (9)
一般式(I)
A−(W)n−B
(式中、Aはハロゲン化銀に吸着可能な基を含む原子群を表し、Wは2価の連結基を表し、nは0または1を表し、Bはフェニドン類より誘導される還元基を表す。)。A photothermographic material having an image forming layer containing a photosensitive silver halide, a non-photosensitive organic silver salt, a reducing agent, and a binder on the same surface of a support , represented by the following general formula (I) At least one development accelerator selected from a compound having an adsorbing group and a reducing group for photosensitive silver halide or a precursor thereof, and compounds represented by the following general formulas (1), (2) and (3) A photothermographic material comprising:
Formula (I)
A- (W) n-B
(In the formula, A represents an atomic group containing a group capable of adsorbing to silver halide, W represents a divalent linking group, n represents 0 or 1, and B represents a reducing group derived from phenidones. Represents.)
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